DE112018007099T5

DE112018007099T5 - Magnetaufzeichnungsband und verfahren zur herstellung von selbigem und magnetaufzeichnungsband-cartridge

Info

Publication number: DE112018007099T5
Application number: DE112018007099.9T
Authority: DE
Inventors: Minoru Yamaga; Takanobu Iwama; Jun Takahashi
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2018-02-16
Filing date: 2018-11-19
Publication date: 2021-01-21
Also published as: JP6737415B2; CN110494917B; JP2020170580A; US11443767B2; CN110494917A; JPWO2019159465A1; WO2019159465A1; JP7184065B2; US20210125634A1

Abstract

Der Zweck der vorliegenden Technologie ist es, ein Magnetaufzeichnungsband oder dergleichen bereitzustellen, wobei das Band stabil mit hoher Geschwindigkeit laufen kann, während der Abstand zwischen einem Magnetkopf und dem Band klein gehalten wird. Die vorliegende Technologie stellt ein Magnetaufzeichnungsband bereit, das ein Band ist, das mit einer mehrschichtigen Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht versehen ist, wobei: die Gesamtdicke des Bandes 5,6 µm oder weniger beträgt; mehrere vertiefte Abschnitte auf der Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind; ein Wert, der durch Teilen der Tiefe D1 der vertieften Abschnitte durch die Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt: die magnetische Schicht vertikal ausgerichtet ist und der Grad der vertikalen Ausrichtung ohne Entmagnetisierungsfeldkorrektur 65 % oder mehr beträgt; mehrere vertiefte Abschnitte mit einer Tiefe größer als oder gleich 20 % der Dicke der magnetischen Schicht in der magnetischen Schicht gebildet sind, und die Anzahl der vertieften Abschnitte 55 oder mehr pro Oberflächenbereich von 6400 µm2der magnetischen Schicht beträgt. Die vorliegende Technologie stellt auch ein Verfahren zum Herstellen des Magnetaufzeichnungsbandes

Description

[Technisches Gebiet]
Diese Technologie betrifft ein Magnetaufzeichnungsband und dergleichen und spezieller ein Magnetaufzeichnungsband, das zum stabilen Laufen relativ zu einem Magnetkopf in der Lage ist, ein Cartridge mit dem darin untergebrachten Band und ein Herstellungsverfahren für das Band.
[Stand der Technik]
In den letzten Jahren hat die Menge an langzeitig zu speichernden Informationen aufgrund der weiten Verbreitung des Internets und der Cloud-Berechnung und der zunehmenden Ansammlung and Analyse großer Daten explosionsartig zugenommen. Es gibt entsprechend eine außerordentliche Nachfrage für eine höhere Aufzeichnungskapazität auf Aufzeichnungsmedien, die zum Sichern oder Archivieren einer großen Menge von Informationen als Daten zu verwenden sind. Unter solchen Medien haben „Magnetaufzeichnungsbänder“ (die in gewissen Fällen als „Bänder“ abgekürzt werden können) unter den Gesichtspunkten von Kosten, Energieeinsparung, Langlebigkeit, Zuverlässigkeit, Kapazität und so weiter Aufmerksamkeit auf sich gezogen.
Ein solches Magnetaufzeichnungsband ist in einer Hülle mit einem länglichen Band enthalten, das eine magnetische Schicht enthält und um eine Rolle gewickelt ist. Mit einem Magnetwiderstandskopf (nachfolgend der „Magnetkopf“) wird eine Aufzeichnung oder Wiedergabe auf dieses oder von diesem Magnetaufzeichnungsband in einer Richtung durchgeführt, in der das Band läuft. 2000 erschien LTO (Linear-Tape-Open) mit offenem Standard und seine Generationenaktualisierung hat sich dann bis heute entwickelt.
Die Aufzeichnungskapazität eines magnetischen Aufzeichnungsbandes hängt von dem Oberflächenbereich (Bandlänge × Bandbreite) des Magnetaufzeichnungsbandes und der Aufzeichnungsdichte pro Einheitsfläche des Bandes ab. Die Aufzeichnungsdichte wiederum hängt von der Spurdichte in der Bandrichtung und der linearen Aufzeichnungsdichte (der Aufzeichnungsdichte in der Bandlängenrichtung) ab. Daher hängt die Zunahme der Aufzeichnungskapazität eines Magnetaufzeichnungsbandes davon ab, wie die Bandlänge, die Spurdichte und die lineare Aufzeichnungsdichte erhöht werden können. Es ist anzumerken, dass die Bandbreite in Bezug auf die Standards kaum geändert werden kann.
Falls die Spurdichte erhöht wird, wird das Verhindern des Off-Tracking(Spurverlassen)-Phänomens während eines Hochgeschwindigkeitslaufs des Magnetaufzeichnungsbandes ein wichtigeres Problem. Dieses Off-Tracking-Phänomen bedeutet ein Phänomen, dass keine Zielspur bei einer Spurposition, wo ein Magnetkopf ein Lesen durchführen sollte, existiert oder es passiert, dass der Magnetkopf eine falsche Spurposition liest.
Falls nun ein Band zur höheren Aufzeichnungskapazität verlängert wird, wird die Banddicke dünner. Andererseits kann das Hochgeschwindigkeitslaufen eines Bandes zukünftig immer weiter verbessert werden. Dann kann das Laufen des Bandes während eines Hochgeschwindigkeitslaufens instabil werden, wodurch das Off-Tracking-Phänomen tendenziell auftritt. Insbesondere wenn ein Hochgeschwindigkeitslaufen eines Bandes für eine lange Zeit durchgeführt wird oder viele Male wiederholt wird, kann das Band aufgrund des Auftretens einer übermäßigen Entfernung (Beabstandung) oder einer erhöhten Reibung zwischen einem Magnetkopf und dem laufenden Band verformt werden. Infolgedessen ist kein aufrechterhaltbarer Kontaktzustand des Bandes mit dem Magnetkopf verfügbar, was potentiell zu einer Verschlechterung von Charakteristiken des der magnetischen Aufzeichnung oder Wiedergabe von dem Band führt.
Um solche Schwierigkeiten zu überwinden, offenbart PTL 1 eine Technologie zum Reduzieren einer Beabstandung, die zwischen einem Magnetkopf und einem Magnetaufzeichnungsband auftreten kann, durch Anordnen einer Gleitschicht auf einer Oberfläche einer magnetischen Schicht und auch eine Technologie zum Beurteilen der Dicke der Gleitschicht. PTL 2 offenbart ein Magnetaufzeichnungsband, bei dem die Anzahl an Ausbuchtungen/die Anzahl an Teilchen auf einer Seite gegenüber einer magnetischen Oberfläche begrenzt wird, um die Bandzwischenschichtreibung zu steuern. Das Band ist als eine Zunahme seines dynamischen Reibungskoeffizienten nach wiederholtem Laufen im Vergleich zu seinem anfänglichen dynamischen Reibungskoeffizienten reduzierend beschrieben, so dass ein Mäandern des Bandes während des Laufens unterdrückt werden kann.
[Zitatliste]
[Patentliteratur]

[PTL 1] Japanisches Patent, Offenlegungs-Nr. 2017-41293 .
[PTL 2] Japanisches Patent, Offenlegungs-Nr. Hei 6-325349 .

[Kurzdarstellung]
[Technisches Problem]
Diese Technologie reduziert die Kontaktfläche eines Bandes mit einem Magnetkopf, wodurch Reibung verringert wird und eine Beabstandung unterdrückt wird. Folglich weist diese Technologie als Hauptziele davon die Bereitstellung eines Magnetaufzeichnungsbandes und dergleichen bereit, die ermöglichen, dass das Band stabil mit hoher Geschwindigkeit läuft, während ein Zustand beibehalten wird, in dem der Abstand zwischen dem Magnetkopf und dem Band eng gehalten wird.
[Lösung des Problems]
Als Ergebnis sorgfältiger Forschung haben die vorliegenden Erfinder zum ersten Mal herausgefunden, dass Luft, die in einem Luftansammlungsraum existiert, der zwischen einem Band und einem Magnetkopf auftreten kann, eine Beabstandung zwischen dem Band und dem Magnetkopf verursacht und auch als eine Ursache für eine Zunahme der Reibung wirkt, und haben mit einem auf diesem Phänomen platzierten Schwerpunkt zu der Bereitstellung dieser Technologie geführt. Insbesondere weist gemäß dieser Technologie ein Band eine mehrschichtige Struktur auf, die wenigstens eine magnetische Schicht beinhaltet, wobei das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist, mit anderen Worten ein dünnes Band, das für eine höhere Aufzeichnungskapazität geplant ist, und beinhaltet mehrere Vertiefungen in einer Oberfläche der magnetischen Schicht. Die vorliegenden Erfinder haben auch erfolgreich angemessene Bereiche mit Bezug auf die Tiefen der Vertiefungen in der magnetischen Schicht und die Anzahl solcher Vertiefungen pro Einheitsfläche spezifiziert. Diese Technologie ist besonders effektiv, falls das Band eine magnetische Schicht aufweist, die eine starke senkrechte Orientierung aufweist und dazu neigt, eine Zunahme der Reibung zu verursachen, und/oder falls das Band mit hoher Geschwindigkeit läuft. Diese Technologie stellt auch ein Herstellungsverfahren eines Magnetaufzeichnungsbandes bereit, das einen Transferschritt des Pressens, während ein Magnetaufzeichnungsband aus einer mehrschichtigen Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht und einer Trägerschicht aufgerollt wird, von Ausbuchtungen, die auf einer Oberfläche der Trägerschicht gebildet sind, gegen eine Oberfläche des magnetischen Schicht, wodurch Vertiefungen in der magnetischen Schicht gebildet werden.
[Vorteilhafter Effekt der Erfindung]
Diese Technologie kann eine Reibung und das Beabstandungsphänomen, die zwischen einem Magnetaufzeichnungsband und einem Magnetkopf auftreten, effektiv unterdrücken, so dass ermöglicht wird, dass das Band stabil mit hoher Geschwindigkeit läuft. Das Magnetaufzeichnungsband gemäß dieser Technologie kann eine Zunahme der Reibung verhindern oder anderweitig steuern, die durch wiederholtes Laufen mit hoher Geschwindigkeit verursacht wird, und kann daher eine Aufzeichnung und Wiedergabe mit Genauigkeit durch einen Magnetkopf durchführen.
Figurenliste

[1] 1 ist eine Ansicht, die eine Basisschichtstruktur eines Magnetaufzeichnungsbandes (T) gemäß dieser Technologie veranschaulicht.
[2] 2 ist eine Ansicht, die eine Querschnittsschichtstruktur eines Querschnitts des Magnetaufzeichnungsbandes (T) darstellt.
[3] 3 ist eine Ansicht, die einen Zustand veranschaulicht, in dem ein allgemeines Magnetaufzeichnungsband (T) sich ideal auf einem Magnetkopf (H) bewegt.
[4] 4 ist eine schematische Ansicht zum Beschreiben einer Schwierigkeit (eines Problems), die entsteht, wenn ein herkömmliches allgemeines Magnetaufzeichnungsband auf dem Magnetkopf (H) läuft.
[5] 5 ist eine vereinfachte schematische Ansicht zum Beschreiben eines Konzepts von Vertiefungen (11) in einer Oberfläche einer magnetischen Schicht (1) des Magnetaufzeichnungsbandes (T).
[6] 6 ist eine vereinfachte schematische vergrößerte Ansicht, die veranschaulicht, wie die Vertiefungen (11) von Ausbuchtungen (41) auf einer Trägerschicht (4) zu einer Oberfläche einer magnetischen Schicht (1) des Bandes (T) transferiert werden und dort gebildet werden.
[7] 7 ist ein grundlegendes Flussdiagramm eines Bandherstellungsprozesses gemäß dieser Technologie.
[8] 8 ist eine Ansicht, die eine Ausführungsform eines Band-Cartridge (5) mit dem Magnetaufzeichnungsband (T) gemäß dieser Technologie veranschaulicht, das in einer Hülle (51) enthalten ist.
[9] 9 ist eine Konzeptansicht eines bevorzugten Beispiels für einen Transferschritt für das Magnetaufzeichnungsband (T).
[10] 10 ist eine Ansicht, die veranschaulicht, wie das Band (T) progressiv auf eine Rolle (R1) aufgerollt wird und Ausbuchtungen 41 auf der Trägerschicht 4 in dem Transferschritt in Kontakt mit der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 gebracht werden.
[11] 11 ist eine Ansicht, die ein Konzept eines zweitmaligen Transferschrittes veranschaulicht.
[12] 12 präsentiert Beispiele für Atomkraftmikrofotografien

1

[Beschreibung der Ausführungsformen]
Unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen wird eine Beschreibung bezüglich bevorzugter Ausführungsformen zum Umsetzen dieser Technologie vorgenommen. Es versteht sich, dass die nachfolgend zu beschreibenden Ausführungsformen die bevorzugten Ausführungsformen dieser Technologie exemplarisch nennen und daher sollte diese Technologie nicht als durch die bevorzugten Ausführungsformen eingeschränkt interpretiert werden. Die Beschreibung erfolgt in der folgenden Reihenfolge.

(1) Über die grundlegende Schichtstruktur und dergleichen des Magnetaufzeichnungsbandes gemäß dieser Technologie
(2) Über Konfigurationen und Rollen einzelner Schichten
- (2-1) Magnetische Schicht
- (2-2) Nichtmagnetische Schicht
- (2-3) Basisfilmschicht
- (2-4) Trägerschicht
(3) Über das grundlegende Herstellungsverfahren des Magnetaufzeichnungsbandes gemäß dieser Technologie
(4) Über ein bevorzugtes Beispiel des Transferschrittes zum Bilden von Vertiefungen in einer Oberfläche der magnetischen Schicht

(1) Über die grundlegende Schichtstruktur und dergleichen des Magnetaufzeichnungsbandes gemäß dieser Technologie
1 ist eine Ansicht, die eine Basisschichtstruktur eines Magnetaufzeichnungsbandes gemäß dieser Technologie veranschaulicht, und 2 ist eine Ansicht, die eine Schichtstruktur eines Querschnitts des Magnetaufzeichnungsbandes darstellt. Als erstes gibt das Zeichen T, das in diesen 1 und 2 dargestellt ist, das Magnetaufzeichnungsband (nachfolgend als das „Band T“ bezeichnet) an.
Dieses Band T weist eine längliche bandförmige Form auf und läuft beim Aufzeichnen oder bei der Wiedergabe in einer Longitudinalrichtung. Das Band T ist dazu konfiguriert, das Aufzeichnen von Signalen mit einer minimalen Wellenlänge von bevorzugt 96 nm oder kürzer, weiter bevorzugt 75 nm oder kürzer, noch weiter bevorzugt 60 nm oder kürzer und besonders bevorzugt 50 nm oder kürzer, zu ermöglichen. Bevorzugt ist das Band T zur Verwendung in einer Aufzeichnung-und-WiedergabeEinrichtung einschließlich eines Kopfes vom Ringtyp als ein Aufzeichnungskopf.
Dieses Band T ist aus einer magnetischen Schicht 1, die Magnetismus aufweist, einer nichtmagnetischen Schicht 2, die sich unterhalb der magnetischen Schicht befindet, einer Basisfilmschicht 3, die sich unterhalb der nichtmagnetischen Schicht 2 befindet, und einer Trägerschicht 4 als eine unterste Schicht in dieser Reihenfolge von oben (von einer Seite, die gegenüber einem Magnetkopf zu platzieren ist) konfiguriert. Daher weist das Band T eine grundlegende Schichtstruktur aus insgesamt vier Schichten auf. Es steht frei, nach Bedarf eine oder mehrere andere Schichten zusätzlich zu diesen 4 Schichten einzubinden. Das Band T weist von dem Gesichtspunkt einer höheren Aufzeichnungskapazität als Vorrausetzung eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger auf. Die Gesamtdicke des Bandes T beträgt weiter bevorzugt 5,0 µm oder weniger, noch weiter bevorzugt 4,8 µm oder weniger und besonders bevorzugt 4,6 µm oder weniger.
Außerdem weist das Band T gemäß dieser Technologie zum Beispiel eine Konfiguration, die eine Bandgeschwindigkeit von 4 m/s oder mehr erfüllt, und bevorzugt so viele wie 5+4n (n: positive ganze Zahl) Servospuren in einem 5-Kanal oder mehr und eine Konfiguration, bei der jede Servospur eine Breite von 95 µm oder weniger, eine Bitlänge von 48 nm oder weniger und eine Spurbreite von 3,0 µm oder weniger aufweist, auf. Mit anderen Worten kann das Band T gemäß dieser Technologie zum Aufzeichnen oder Wiedergeben mit einer Bandgeschwindigkeit von 4 m/s oder mehr verwendet werden.
Die obere Grenze der durchschnittlichen Dicke (durchschnittliche Gesamtdicke) des Bandes T beträgt bevorzugt 5,6 µm oder weniger, weiter bevorzugt 5,0 µm oder weniger und noch weiter bevorzugt 4,4 µm oder weniger. Falls das Band T eine durchschnittliche Dicke t_T von 5,6 µm oder weniger aufweist, kann die Speicherkapazität, bis zu der eine Aufzeichnung in einem einzigen Daten-Cartridge möglich ist, bezüglich jenen von allgemeinen Magnetaufzeichnungsbändern erhöht werden. Die untere Grenze der durchschnittlichen Dicke des Bandes T beträgt zum Beispiel 3,5 µm oder mehr, obwohl keine spezielle Beschränkung für diese auftritt.
Die durchschnittliche Dicke des Bandes T wird durch anschließend zu beschreibende Prozeduren in einem Verfahren für die Bestimmung der durchschnittlichen Dicke der Trägerschicht 4 bestimmt. Für eine Koerzitivkraft Hc beträgt die obere Grenze der Koerzitivkraft Hc des Bandes T in seiner Longitudinalrichtung bevorzugt 2000 Oe oder weniger, weiter bevorzugt 1900 Oe oder weniger und weiter bevorzugt 1800 Oe oder weniger.
Falls die untere Grenze der in der Longitudinalrichtung des Bandes T gemessenen Koerzitivkraft bevorzugt 1000 Oe oder mehr beträgt, ist es möglich, eine Entmagnetisierung zu unterdrücken, die durch einen magnetischen Leckfluss von dem Aufzeichnungskopf stattfindet. Diese Koerzitivkraft Hc wird so bestimmt, wie nachfolgend beschrieben ist.
Zuerst wird eine Messprobe aus dem länglichen Band T geschnitten und wird die M-H-Schleife der gesamten Messprobe in der Longitudinalrichtung der Messprobe (der Laufrichtung des Bandes T) durch ein Vibrationsprobenmagnetometer (VSM) gemessen. Als Nächstes werden die Beschichtungsfilme (die nichtmagnetische Schicht 2, die magnetische Schicht 1, die Trägerschicht 4 und dergleichen) vollständig mit Aceton, Ethanol oder dergleichen entfernt, um die Basisfilmschicht 3 alleine übrig zu lassen. Unter Verwendung der Basisfilmschicht 3 als eine Probe zur Hintergrundkorrektur wird die M-H-Schleife der Basisfilmschicht 3 durch das VSM in der Longitudinalrichtung der Basisfilmschicht 3 (der Laufrichtung des Bandes T) gemessen. Anschließend wird die M-H-Schleife der Basisfilmschicht 3 von der M-H-Schleife der gesamten Messprobe subtrahiert, um eine hintergrundkorrigierte M-H-Schleife zu erhalten. Aus der so erhaltenen M-H-Schleife wird die Koerzitivkraft Hc bestimmt. Es wird angemerkt, dass die M-H-Schleife-Messungen beide bei 25 °C durchzuführen sind. Ferner sollte keine „Entmagnetisierungskorrektur“ bei der Messung der M-H-Schleife in der Longitudinalrichtung des Bandes T durchgeführt werden.
Über das Rechteckigkeitsverhältnis
Das Rechteckigkeitsverhältnis (auch als „Orientierung“ bezeichnet) S1 des Bandes T in der senkrechten Richtung (Dickenrichtung) davon ist 65 % oder mehr, bevorzugt 70 % oder mehr und weiter bevorzugt 75 % oder mehr. Falls das Rechteckigkeitsverhältnis S1 in der senkrechten Richtung (nachfolgend als die „senkrechte Orientierung“ bezeichnet) 65 % oder mehr beträgt, wird das magnetische Pulver mit einem ausreichend hohen Rechteckigkeitsverhältnis versorgt, so dass ein noch besseres SNR erhalten werden kann.
Das Rechteckigkeitsverhältnis S1 in der senkrechten Richtung wird wie nachfolgend beschrieben bestimmt. Eine Messprobe wird aus dem länglichen Band T geschnitten und die M-H-Schleife der gesamten Messprobe wird in der senkrechten Richtung (Dickenrichtung) des Bandes T durch das VSM gemessen. Als Nächstes werden die Beschichtungsfilme (die nichtmagnetische Schicht 2, die magnetische Schicht 1, die Trägerschicht 4 und dergleichen) vollständig mit Aceton, Ethanol oder dergleichen entfernt, um die Basisfilmschicht 3 alleine übrig zu lassen. Unter Verwendung der Basisfilmschicht 3 als eine Probe zur Hintergrundkorrektur wird die M-H-Schleife der Basisfilmschicht 3 durch das VSM in der senkrechten Richtung der Basisfilmschicht 3 (der senkrechten Richtung des Bandes T) gemessen. Anschließend wird die M-H-Schleife der Basisfilmschicht 3 von der M-H-Schleife der gesamten Messprobe subtrahiert, um eine hintergrundkorrigierte M-H-Schleife zu erhalten. Durch Einsetzen der Sättigungsmagnetisierung Ms (emu) und der Restmagnetisierung Mr (emu) der resultierenden M-H-Schleife in die folgende Formel wird das Rechteckigkeitsverhältnis S1 (%) in der senkrechten Richtung berechnet. Es wird angemerkt, dass die M-H-Schleife-Messungen beide bei 25 °C durchzuführen sind. Ferner ist keine „Entmagnetisierungskorrektur“ bei der Messung der M-H-Schleife in der senkrechten Richtung des Bandes T durchzuführen.
Das Rechteckigkeitsverhältnis S1 (%) in der senkrechten Richtung = (Mr/Ms) × 100.
Das Rechteckigkeitsverhältnis S2 des Bandes T in der Longitudinalrichtung (Laufrichtung) davon ist bevorzugt 35 % oder weniger, weiter bevorzugt 30 % oder weniger und noch weiter bevorzugt 25 % oder weniger. Falls das Rechteckigkeitsverhältnis S2 35 % oder weniger beträgt, wird das magnetische Pulver mit einem ausreichend hohen Rechteckigkeitsverhältnis in der senkrechten Richtung versorgt, so dass ein noch besseres SNR erhalten werden kann. Das Rechteckigkeitsverhältnis S2 wird wie das Rechteckigkeitsverhältnis S1 in der senkrechten Richtung gemessen, mit der Ausnahme, dass die Messung der M-H-Schleife der gesamten Messprobe und die Messung der M-H-Schleife des Basisfilms 3 in den Longitudinalrichtungen (Laufrichtung) des Bandes T und der Basisfilmschicht 3 durchgeführt werden.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform dieser Technologie beträgt das Verhältnis des Rechteckigkeitsverhältnisses der magnetischen Schicht in der senkrechten Richtung davon zu dem Rechteckigkeitsverhältnis der magnetischen Schicht in der Longitudinalrichtung bevorzugt 1,8 oder mehr, weiter bevorzugt 2 oder mehr und noch weiter bevorzugt 2,05 oder mehr. Ein Verhältnis gleich oder größer als dieser Wert wird von dem Gesichtspunkt der Aufzeichnungs- und Wiedergabecharakteristiken bevorzugt.
(2) Über Konfigurationen und Rollen einzelner Schichten (magnetische Schicht, nichtmagnetische Schicht, Basisfilmschicht und Trägerschicht)
(2-1) Magnetische Schicht
In dem Band T mit einer solchen grundlegenden Schichtkonfiguration, wie oben beschrieben, fungiert die magnetische Schicht 1, die als eine äußerste Oberflächenschicht existiert, als eine Signalaufzeichnungsschicht. In den letzten Jahren ist es ein bedeutendes Problem geworden, die Informationsaufzeichnungskapazität für das Band T zu erhöhen. Entsprechend ist es notwendig, die Aufzeichnungsfläche (Aufzeichnungskapazität) zu erhöhen, zum Beispiel indem das Band T dünner gemacht wird und die Bandlänge pro Cartridge erhöht wird.
Die magnetische Schicht 1 ist eine longitudinale Aufzeichnungsschicht oder eine senkrechte Aufzeichnungsschicht und beinhaltet zum Beispiel ein magnetisches Pulver, ein Bindemittel und ein Gleitmittel. Die magnetische Schicht 1 kann ferner Additive, wie etwa nach Bedarf leitfähige Teilchen, einen Abrasivstoff und ein Rostschutzmittel, beinhalten. Die magnetische Schicht 1 kann mit einer Reihe von (nicht dargestellten) Poren versehen sein, um das Gleitmittel darin zu speichern. Diese zahlreichen Poren können bevorzugt sich in einer Richtung senkrecht zu der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 erstreckend angeordnet sein.
Hier liegt die Dicke der magnetischen Schicht 1 bevorzugt in einem Bereich von 20 bis 100 nm. Die untere Grenzdicke von 20 nm ist eine von dem Gesichtspunkt des Durchführens einer gleichmäßigen und stabilen Beschichtung der magnetischen Schicht 1 minimale Dicke und eine Dicke größer als die obere Grenzdicke von 100 nm ist von dem Gesichtspunkt des Festlegens einer Bitlänge für ein Band mit hoher Aufzeichnungsdichte nachteilig.
Die magnetische Schicht 1 kann im Voraus bevorzugt mehrere Servostreifen SB und mehrere Datenstreifen DB aufweisen. Die mehreren Servostreifen SB sind bei gleichen Intervallen in der Breitenrichtung des Bandes T angeordnet. Zwischen den angrenzenden Servostreifen SB sind jeweils die Datenstreifen DB angeordnet. In den Servostreifen SB werden Servosignale im Voraus geschrieben, um eine Spursteuerung des Magnetkopfes durchzuführen. In den Datenbändern DB werden Benutzerdaten aufgezeichnet. Die Anzahl der Servobänder SB ist bevorzugt 5 oder mehr und weiter bevorzugt 5+4n (wobei n eine positive ganze Zahl ist) oder mehr. Falls die Anzahl der Servobänder SB 5 oder mehr ist, können Effekte auf die Servosignale aufgrund von Abmessungsvariationen in der Breitenrichtung des Bandes T unterdrückt werden, so dass stabile Aufzeichnungs- und Wiedergabecharakteristiken mit reduziertem Off-Tracking sichergestellt werden können.
Die durchschnittliche Dicke der magnetischen Schicht 1 kann so bestimmt werden, wie nachfolgend beschrieben wird. Zuerst wird das Band T dünn senkrecht zu den Hauptoberflächen von diesem maschinell verarbeitet, um ein Teststück vorzubereiten, und das Teststück wird durch ein Transmissionselektronenmikroskop (TEM) in einem Querschnitt von diesem beobachtet. System- und Beobachtungszustände werden nachfolgend beschrieben.

System: TEM (H9000NAR hergestellt von Hitachi, Ltd.)
Beschleunigungsspannung: 300 kV
Vergrößerung: 100.000-mal

Als Nächstes wird die Dicke der magnetischen Schicht 1 unter Verwendung des resultierenden TEM-Bildes bei wenigstens 10 Punkten oder mehr in der Longitudinalrichtung des Bandes T gemessen und die Messwerte werden einfach gemittelt (einem arithmetischem Mittel unterzogen), um die durchschnittliche Dicke der magnetischen Schicht 1 zu bestimmen. Es ist anzumerken, dass die Mespunkte zufällig aus dem Teststück auszuwählen sind.
Diese magnetische Schicht 1 ist als eine Schicht mit wenigstens einem darin hinzugefügten magnetischen Pulver (magnetische Teilchen in einer Pulverform) gebildet. Auf dieser magnetischen Schicht 1 wird eine Aufzeichnung von Signalen durch Ändern ihres Magnetismus unter einem magnetischen Feld gemäß einem bekannten ebeneninternen magnetischen Aufzeichnungsverfahren oder einem bekannten senkrechten magnetischen Aufzeichnungsverfahren durchgeführt. In dem erstgenannten, ebeneninternen magnetischen Aufzeichnungsverfahren werden Signale in der magnetischen Schicht 1, zu der zum Beispiel ein magnetisches Metallpulver hinzugefügt ist, das eine Magnetisierungsfunktion aufzeigt, in einer Richtung longitudinal zu dem Band aufgezeichnet. In dem letzteren senkrechten magnetischen Aufzeichnungsverfahren wird eine magnetische Aufzeichnung in die magnetische Schicht 1, zu der zum Beispiel ein magnetisches BaFe(Bariumferrit)-Pulver oder dergleichen hinzugefügt ist, das eine Magnetisierungsfunktion aufzeigt, in einer Richtung senkrecht zu dem Band 1 durchgeführt. Welches Verfahren auch immer verwendet wird, das Aufzeichnen von Signalen wird durch Magnetisierung der magnetischen Teilchen in der magnetischen Schicht 1 unter einem Magnetfeld, das von dem Magnetkopf H angelegt wird, durchgeführt.
Beispiele für die magnetischen Teilchen, die das magnetische Pulver in der magnetischen Schicht 1 darstellen, beinhalten Gamma-Hämatit, Magnetit, Chromdioxid, mit Kobalt beschichtetes Eisenoxid, hexagonales Ferrit, Bariumferrit (BaFe), Co-Ferrit, Strontiumferrit, Metall (Metall), Epsilon-Eisenoxid (ε-Eisenoxid) und dergleichen und dies ist nicht speziell beschränkt. Es ist anzumerken, dass ε-Eisenoxid Ga oder Al enthalten kann. Diese magnetischen Teilchen werden basierend auf dem Herstellungsverfahren der magnetischen Schicht 1, den Bandstandards und -funktionen und so weiter frei gewählt.
Die Form der magnetischen Teilchen hängt von ihrer kristallinen Struktur ab. Zum Beispiel ist BaFe ein hexagonales Plättchen, ist ε-Eisenoxid sphärisch, ist Kobaltferrit kubisch und ist Metall spindelförmig. In der magnetischen Schicht 1 werden diese magnetischen Teilchen in dem Herstellungsprozess des Bandes T orientiert. Es ist anzumerken, dass BaFe aufgrund seiner hohen Datenaufzeichnungszuverlässigkeit, wie etwa eines geringen Abfalls der Koerzitivkraft, selbst in einer Umgebung mit hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit, in dieser Technologie auch als ein geeignetes magnetisches Material verwendbar ist.
Das magnetische Pulver enthält zum Beispiel ein Pulver aus Nanoteilchen, die ε-Eisenoxid enthalten (nachfolgend als „ε-Eisenoxidteilchen“ bezeichnet). ε-Eisenoxidteilchen können selbst als feine Teilchen eine hohe Koerzitivkraft bereitstellen. Bevorzugt kann (sich) das in ε-Eisenoxidteilchen enthaltene ε-Eisenoxid bevorzugt in der Dickenrichtung (senkrechten Richtung) des Bandes T kristallisieren und orientieren.
ε-Eisenoxidteilchen weisen eine sphärische oder im Wesentlichen sphärische Form auf oder weisen eine kubische oder im Wesentlichen kubische Form auf. Da ε-Eisenoxidteilchen eine wie oben beschriebene Form aufweisen, kann die Verwendung von ε-Eisenoxidteilchen als magnetische Teilchen die Kontaktfläche zwischen den Teilchen selbst in der Dickenrichtung des Bandes T im Vergleich zu der Verwendung hexagonaler Plättchen-Bariumferrit-Teilchen als magnetische Teilchen reduzieren und kann daher eine Aggregation der Teilchen selbst unterdrücken. Es ist entsprechend möglich, die Dispergierbarkeit des magnetischen Pulvers zu erhöhen und ein noch besseres SNR (Signal-to-Noise Ratio - Signal-Rausch-Verhältnis) zu erhalten.
ε-Eisenoxidteilchen weisen eine Kern-Hülle(Core-Shell)-Typ-Struktur auf. Insbesondere beinhalten ε-Eisenoxidteilchen jeweils einen Kernteil und einen Hüllenteil, der um den Kernteil angeordnet ist und eine zweischichtige Struktur aufweist. Der Hüllenteil der zweischichtigen Struktur beinhaltet einen ersten Hüllenteil, der auf dem Kernteil angeordnet ist, und einen zweiten Hüllenteil, der auf dem ersten Hüllenteil angeordnet ist. Der Kernteil enthält ε-Eisenoxid. Das in dem Kernteil enthaltene ε-Eisenoxid ist bevorzugt eines, das ε-Fe₂O₃-Kristalle als eine Hauptphase enthält, wobei eines mehr bevorzugt wird, das ε-Fe₂O₃ als eine einzige Schicht enthält.
Der erste Hüllenteil bedeckt wenigstens einen Teil des Umfangs des Kernteils. Insbesondere kann der erste Hüllenteil den Umfang des Kernteils teilweise bedecken oder kann den gesamten Umfang des Kernteils bedecken. Von den Gesichtspunkten des Bereitstellens einer ausreichenden Austauschkopplung mit dem Kernteil und des Verbesserns der magnetischen Charakteristiken bedeckt der Hüllenteil bevorzugt die gesamte Oberfläche des Kernteils.
Der erste Hüllenteil ist eine sogenannte weichmagnetische Schicht und enthält ein weichmagnetisches Material, wie etwa zum Beispiel α-Fe, eine Ni-Fe-Legierung oder eine Fe-Si-Al-Legierung. α-Fe kann eines sein, das aus einer Reduktion von in dem Kernteil 21 enthaltenem ε-Eisenoxid verfügbar ist. Der zweite Hüllenteil ist ein Oxidfilm als eine Antioxidationsschicht. Der zweite Hüllenteil enthält α-Eisenoxid, Aluminiumoxid oder Siliciumoxid. α-Eisenoxid enthält wenigstens ein Eisenoxid von zum Beispiel Fe₃O₄, Fe₂O₃ und FeO. Falls der erste Hüllenteil α-Fe (weichmagnetisches Material) enthält, kann das α-Eisenoxid eines sein, das aus einer Oxidation von in dem ersten Hüllenteil enthaltenem α-Fe verfügbar ist.
Aufgrund des Aufnehmens der ersten Hüllenteile in den ε-Eisenoxidteilchen, wie oben erwähnt, kann die Koerzitivkraft der gesamten ε-Eisenoxidteilchen (Kern-Hülle-Teilchen) auf ein Niveau, das zum Aufzeichnen geeignet ist, angepasst werden, während die Koerzitivkraft der Kernteile allein bei einem sehr großen Wert gehalten wird, um eine thermische Stabilität sicherzustellen. Da die ε-Eisenoxidteilchen die zweiten Hüllenteile aufweisen, wie oben erwähnt ist, sind die ε-Eisenoxidteilchen in Luft freigelegt, so dass das Auftreten von Rost oder dergleichen auf den Oberflächen der Teilchen während und vor dem Herstellungsprozess des magnetischen Bandes T resultiert, so dass eine Reduzierung der Charakteristiken der ε-Eisenoxidteilchen unterdrückt werden kann. Es ist entsprechend möglich, eine Verschlechterung der Charakteristiken des Bandes T zu unterdrücken.
Die Beschreibung erfolgte für den Fall, dass die ε-Eisenoxidteilchen jeweils den Hüllenteil der zweischichtigen Struktur aufweisen, aber die ε-Eisenoxidteilchen können jeweils einen Hüllenteil einer einschichtigen Struktur aufweisen. In diesem Fall weist der Hüllenteil eine ähnliche Konfiguration wie der erste Hüllenteil auf. Von dem Gesichtspunkt des Unterdrückens einer Verschlechterung der Charakteristiken der ε-Eisenoxidteilchen können die ε-Eisenoxidteilchen jedoch bevorzugt einen Hüllenteil einer zweischichtigen Struktur, wie bei der oben erwähnten ersten Ausführungsform, aufweisen.
Bei der vorhergehenden Ausführungsform erfolgte die Beschreibung für den Fall, dass die ε-Eisenoxidteilchen jeweils die Kern-Hülle-Struktur aufweisen, aber die ε-Eisenoxidteilchen können anstelle der Kern-Hülle-Struktur ein Additiv enthalten oder können zusätzlich zu der Kern-Hülle-Struktur ein Additiv enthalten. In diesem Fall werden Teile des Fe in den ε-Eisenoxidteilchen mit dem Additiv ersetzt. Das Aufnehmen des Additivs in den ε-Eisenoxidteilchen kann auch die Koerzitivkraft Hc der gesamten ε-Eisenoxidteilchen auf eine Koerzitivkraft Hc anpassen, die zum Aufzeichnen geeignet ist, und kann daher die Aufzeichnungsbereitschaft verbessern. Das Additiv ist ein Metallelement außer Eisen, bevorzugt ein dreiwertiges Metallelement, weiter bevorzugt wenigstens eines von Al, Ga und In und noch weiter bevorzugt wenigstens eines von Al und Ga.
Insbesondere beinhaltet ε-Eisenoxid mit einem darin enthaltenen Additiv ε-Fe_2-xM_xO₃-Kristalle, in denen M ein Metallelement außer Eisen ist, bevorzugt ein dreiwertiges Metallelement, weiter bevorzugt wenigstens eines von Al, Ga und In und noch weiter bevorzugt wenigstens eines von Al und Ga, und x zum Beispiel 0<x<1 erfüllt.
Als das magnetische Pulver kann ein Pulver aus Nanoteilchen verwendet werden, die hexagonales Ferrit enthalten (nachfolgend als „hexagonale Ferritteilchen“ bezeichnet). Hexagonale Ferritteilchen weisen zum Beispiel eine hexagonale Plättchenform oder eine im Wesentlichen hexagonale Plättchenform auf. Hexagonale Ferritteilchen enthalten bevorzugt wenigstens eines von Ba, Sr, Pb und Ca und weiter bevorzugt wenigstens eines von Ba oder Sr. Insbesondere können hexagonale Ferritteilchen zum Beispiel Bariumferrit oder Strontiumferrit sein. Bariumferrit kann zusätzlich zu Ba ferner wenigstens eines von Sr, Pb und Ca enthalten. Strontiumferrit kann zusätzlich zu Sr ferner wenigstens eines von Ba, Pb und Ca enthalten.
Insbesondere weist hexagonales Ferrit eine durchschnittliche Zusammensetzung auf, die durch die allgemeine Formel MFe₁₂O₁₉ repräsentiert wird. In der Formel ist M zum Beispiel wenigstens ein Metall aus Ba, Sr, Pb und Ca und bevorzugt wenigstens ein Metall aus Ba und Sr. M kann auch eine Kombination aus Ba und einem oder mehreren Metallen sein, das/die aus der Gruppe ausgewählt ist/sind, die aus Sr, Pb und Ca besteht. Als eine weitere Alternative kann M auch eine Kombination aus Sr und wenigstens einem Metall sein, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Ba, Pb und Ca besteht. Bei der oben beschriebenen allgemeinen Formel kann ein Teil von Fe mit einem anderen Metallelement substituiert werden.
Falls das magnetische Pulver ein Pulver aus hexagonalen Ferritteilchen enthält, ist die durchschnittliche Teilchengröße des magnetischen Pulvers bevorzugt 50 nm oder kleiner, weiter bevorzugt 10 nm oder größer, aber 40 nm oder kleiner und noch weiter bevorzugt 15 nm oder mehr, aber 30 nm oder weniger. Falls das magnetische Pulver das Pulver aus hexagonalen Ferritteilchen enthält, ist das durchschnittliche Aspektverhältnis des magnetischen Pulvers ähnlich jenem bei der oben erwähnten Ausführungsform.
Die durchschnittliche Teilchengröße und das durchschnittliche Aspektverhältnis des magnetischen Pulvers werden so bestimmt, wie nachfolgend beschrieben ist.
Zuerst wird das Band T als ein Messobjekt durch ein FIB(Focused Ion Beam - fokussierter Ionenstrahl)-Verfahren oder dergleichen maschinell bearbeitet, um eine Scheibe vorzubereiten, und die Scheibe wird durch TEM in einem Querschnitt davon beobachtet. Aus dem resultierenden TEM-Bild werden 50 magnetische Pulverteilchen zufällig ausgewählt und jedes Teilchen wird bezüglich seiner Hauptachsenlänge DL gemessen. Der Ausdruck „Hauptachsenlänge DL“, wie hier verwendet, bedeutet das Maximum unter den Abständen zwischen jeweils zwei parallelen Linien, die unter allen Winkeln gezeichnet werden, so dass sich die Linien in Kontakt mit dem Umriss des Teilchens erstrecken (der sogenannte maximale Feret-Durchmesser). Anschließend werden die gemessenen DLs der 50 Teilchen einfach gemittelt (einem arithmetischen Mittel unterzogen), um die durchschnittliche Hauptachsenlänge DLdurchschn zu bestimmen. Die durchschnittliche Hauptachsenlänge DLdurchschn, die wie oben beschrieben bestimmt ist, wird als die durchschnittliche Teilchengröße des magnetischen Pulvers verwendet. Andererseits wird der minimale Abstand gleichermaßen gemessen und als Nebenachsenlänge verwendet. Die Nebenachsenlängen DSs der 50 Teilchen werden einfach gemittelt (einem arithmetischen Mittel unterzogen), um die durchschnittliche Nebenachsenlänge DSdurchschn bestimmen. Aus der durchschnittlichen Hauptachsenlänge DLdurchschn und der durchschnittlichen Nebenachsenlänge DSdurchschn wird dann das durchschnittliche Aspektverhältnis (DLdurchschn/DSdurchschn) des magnetischen Pulvers bestimmt.
Falls Teilchen Plättchen sind, wird die Plattendicke durch DS repräsentiert, werden 50 Teilchen, die nicht bei Plattenoberflächen von dieser in einer Messrichtung freigelegt sind, zufällig wie zuvor ausgewählt, wird die minimale Nebenachse durch DSdurchschn repräsentiert und wird das durchschnittliche Volumen durch die folgende Formel bestimmt. $\begin{array}{l} Durchschnittliches Volumen = 3 \sqrt 3 / 8 \times DLdurchschn \times \\ DLdurchschn \times DLdurchschn \end{array}$
Falls Teilchen sphärisch sind, werden die DLs von 50 Teilchen bestimmt und wird das durchschnittliche Volumen durch die folgende Formel bestimmt. $Durchschnittliches Volumen = π / 6 \times {DLdurchschn}^{3}$
Falls Teilchen Würfel sind, werden die Längen DLs der Seiten von 50 Teilchen bestimmt und wird das durchschnittliche Volumen durch die folgende Formel bestimmt.
Durchschnittliches Volumen = DLdurchschn³
Als das magnetische Pulver kann ein Pulver aus Nanoteilchen verwendet werden, die Co-haltiges Spinell-Ferrit enthalten (nachfolgend als „Kobaltferritteilchen“ bezeichnet). Bevorzugt weisen Kobaltferritteilchen eine uniaxiale Anisotropie auf. Kobaltferritteilchen weisen zum Beispiel eine kubische Form oder eine im Wesentlichen kubische Form auf. Co-haltiges Spinell-Ferrit kann ferner zusätzlich zu Co wenigstens eines von Ni, Mn, Al, Cu und Zn enthalten.
Co-haltiges Spinell-Ferrit weist eine durchschnittliche Zusammensetzung auf, die zum Beispiel durch die folgende Formel (1) repräsentiert wird. ${CO}_{x} M_{y} {Fe}_{2} O_{z}$
(wobei M wenigstens ein Metall ist, zum Beispiel aus Ni, Mn, Al, Cu und Zn, x ein Wert in einem Bereich von 0,4≤x≤1,0 ist und y ein Wert in einem Bereich von 0≤y≤0,3 ist, unter einer Bedingung, dass x und y eine Beziehung von (x+y)≤1,0 erfüllen, und z ein Wert in einem Bereich von 3≤z≤4 ist und ein Teil von Fe durch ein anderes Metallelement substituiert sein kann).
Falls das magnetische Pulver ein Pulver aus Kobaltferritteilchen enthält, ist die durchschnittliche Teilchengröße des magnetischen Pulvers bevorzugt 25 nm oder kleiner und weiter bevorzugt 23 nm oder weniger. Falls das magnetische Pulver das Pulver aus Kobaltferritteilchen enthält, ist das durchschnittliche Aspektverhältnis des magnetischen Pulvers ähnlich jenem bei der oben erwähnten Ausführungsform. Ferner wird das durchschnittliche Aspektverhältnis des magnetischen Pulvers auch wie vorhergehend bestimmt.
Die durchschnittliche Teilchengröße (durchschnittliche maximale Teilchengröße) des magnetischen Pulvers beträgt bevorzugt 22 nm oder weniger, weiter bevorzugt 8 nm oder mehr, aber 22 nm oder weniger und noch weiter bevorzugt 12 nm oder mehr, aber 22 nm oder weniger. Das durchschnittliche Aspektverhältnis des magnetischen Pulvers beträgt bevorzugt 1 oder mehr, aber 2,5 oder weniger, weiter bevorzugt 1 oder mehr, aber 2,1 oder weniger und noch weiter bevorzugt 1 oder mehr, aber 1,8 oder weniger. Ein Aspektverhältnis des magnetischen Pulvers in einem Bereich von 1 oder mehr, aber 2,5 oder weniger kann eine Aggregation des magnetischen Pulvers unterdrücken und kann auch eine Widerstandskraft unterdrücken, die auf das magnetische Pulver beim senkrechten Orientieren des magnetischen Pulvers in einem Schritt des Bildens der magnetischen Schicht 1 auszuüben ist. Es ist entsprechend möglich, die senkrechte Orientierung des magnetischen Pulvers zu verbessern.
In dieser magnetischen Schicht 1 sind die nichtmagnetischen Additive allgemein enthalten, um die Festigkeit und Haltbarkeit der magnetischen Schicht 1 zu verbessern. Zum Beispiel werden ein Bindemittel, ein Dispergiermittel, ein Abrasivstoff und dergleichen nach Bedarf in die magnetische Schicht 1 gemischt. Diese magnetische Schicht 1 wird durch Bereitstellen einer magnetischen Beschichtungsformulierung, bei der das magnetische Pulver und ausgewählte dieser Additive hinzugefügt werden, und Aufbringen der magnetischen Beschichtungsformulierung auf eine darunterliegende Schicht gebildet.
Als das in der magnetischen Schicht 1 hinzuzufügende Bindemittel wird ein Harz einer Struktur bevorzugt, in der Quervernetzungsreaktionen zu einem Polyurethanharz, einem Vinylchloridharz oder dergleichen vermittelt wurden. Jedoch ist das Bindemittel nicht auf solche Harze beschränkt und andere Harze können in Abhängigkeit von den physikalischen Eigenschaften, die für das Band T erforderlich sind, ebenfalls nach Bedarf hinzugefügt werden. Allgemein ist das Harz oder sind die Harze, das/die hinzuzufügen ist/sind, nicht speziell beschränkt, insofern sie üblicherweise in Bändern T vom Beschichtungstyp verwendet werden.
Beispiele beinhalten Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat, Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymer, Vinylchlorid-Vinylidenchlorid-Copolymer, Vinylchlorid-Acrylnitril-Copolymer, Acrylat-Acrylnitril-Copolymere, Acrylat-Vinylchlorid-Vinylidenchlorid-Copolymere, Vinylchlorid-Acrylnitril-Copolymer, Acrylat-Acrylnitril-Copolymere, Acrylat-Vinylidenchlorid-Copolymere, Methacrylat-Vinylidenchlorid-Copolymere, Methacrylat-Vinylchlorid-Copolymere, Methacrylat-Ethylen-Copolymere, Polyvinylfluorid, Vinylidenchlorid-Acrylnitril-Copolymer, Acrylnitril-Butadien-Copolymer, Polyamidharze, Polyvinylbutyral, Cellulosederivate (Celluloseacetatbutyrat, Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Nitrocellulose), Styrolbutadien-Copolymer, Polyesterharze, Aminoharze, synthetische Gummis und so weiter. Außerdem beinhalten Beispiele für duroplastische Harze oder reaktive Harze Phenolharze, Epoxidharze, Harnstoffharze, Melaminharze, Alkydharze, Siliconharze, Polyaminharze, Harnstoffformaldehydharze und so weiter.
In jedem oben erwähnten Bindemittel können polare funktionale Gruppen, wie etwa -SO₃M, -OSO₃M, -COOM oder P=O(OM)₂, ebenfalls eingeführt werden, um die Dispergierbarkeit des magnetischen Pulvers zu verbessern. In diesen Formeln ist „M“ ein Wasserstoffatom oder ein Alkalimetall, wie etwa Lithium, Kalium oder Natrium. Ferner beinhalten polare funktionale Gruppen jene des Seitenkettentyps, die Endgruppen aus -NR1R2 oder - NR1R2R3⁺X^- aufweisen, und jene des Hauptkettentyps mit >NR1NR2⁺X^-. In diesen Formeln sind „R1“, „R2“ und „R3“ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe und ist X^- ein Ion eines Halogenelementions, wie etwa Fluor, Chlor, Brom oder Iod, oder ein anorganisches oder organisches Ion. Noch weitere polare funktionale Gruppen beinhalten -OH, -SH, -CN, Epoxid und ähnliche Gruppen.
Das Gleitmittel für die magnetische Schicht 1 enthält bevorzugt eine Verbindung, die durch die folgende allgemeine Formel (1) repräsentiert wird, und eine Verbindung, die durch die folgende allgemeine Formel (2) repräsentiert wird. Das Aufnehmen dieser Verbindungen in dem Gleitmittel kann den dynamischen Reibungskoeffizienten der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 merklich reduzieren und kann daher die Laufleistungsfähigkeit des Bandes T weiter verbessern. CH₃ (CH₂) _nCOOH (1) (in der allgemeinen Formel (1) ist n eine ganze Zahl, die aus einem Bereich von 14 und größer, aber 22 oder kleiner ausgewählt ist.) CH₃ (CH₂) _pCOO (CH₂) _qCH₃ (2) (in der allgemeinen Formel (2) ist p eine ganze Zahl, die aus einem Bereich von 14 und größer, aber 22 oder kleiner ausgewählt ist, und ist q eine ganze Zahl, die aus einem Bereich von 2 und größer, aber 5 oder kleiner ausgewählt ist.)
Als noch ein weiteres Additiv kann die magnetische Schicht 1 auch Aluminiumoxid (α-, β- oder γ-Aluminiumoxid), Chromoxid, Siliciumoxid, Diamant, Granat, Schmirgel, Bornitrid, Titancarbid, Siliciumcarbid, Titancarbid, Titanoxid (Rutil- oder Anatas-Titanoxid) oder dergleichen als nichtmagnetische Verstärkungsteilchen enthalten.
Bei dieser Technologie ist eine fein vertiefte Struktur auf Nanoskala in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 gebildet. Insbesondere weist diese Technologie als eines ihrer charakteristischen Merkmale, auf, dass Vertiefungen, von denen jede eine vorbestimmte Tiefe oder tiefere Tiefe aufweist, so positiv oder beabsichtigt angeordnet sind, dass eine vorbestimmte Anzahl oder eine größere Anzahl an Vertiefungen pro Einheitsfläche enthalten ist. Diese Vertiefungen 11 weisen eine Größe auf, die es ermöglicht, die fein vertiefte Struktur klar von einer extremer feinen rauen Oberflächenstruktur zu unterscheiden, die auf der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 aufgrund ihrer Zusammensetzung und/oder Materialien gebildet ist.
Bezüglich dieser Technologie ist hier ein Beispiel offenbart, bei dem die magnetische Schicht 1 durch einen Beschichtungsauftrag (Beschichtung) gebildet ist. Es ist jedoch anzumerken, dass die Vertiefungen 11 auch in der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 gebildet sein können, selbst wenn die magnetische Schicht 1 durch ein Vakuumfilmabscheidungsverfahren, wie etwa ein Aufdamfpungs- oder ein anderes Bildungsverfahren, gebildet ist.
Nun unter Bezugnahme auf 3 und 4 erfolgt eine Beschreibung von Gründen und Zwecken für die Bildung der Vertiefungen 11 in der magnetischen Schicht 1. 3 ist eine Ansicht, die einen Zustand veranschaulicht, in dem ein allgemeines Magnetaufzeichnungsband ideal auf einem Magnetkopf läuft. 4 ist eine schematische Ansicht zum Beschreiben einer Schwierigkeit (eines Problems), die entsteht, wenn das allgemeine Magnetaufzeichnungsband auf dem Magnetkopf läuft.
Als erstes ist, wie in 3 veranschaulicht, eine magnetische Schicht 1, die als eine oberste Schicht des Bandes T lokalisiert ist, eine Schicht, die dem Magnetkopf H gegenüberliegt, der in einer (nicht veranschaulichten) Magnetaufzeichnungseinrichtung angeordnet ist. Unter dem Magnetfeld von dem Magnetkopf H wird der Magnetismus der magnetischen Schicht 1 geändert, um eine Aufzeichnung von Signalen durchzuführen, und andererseits liest der Magnetkopf H die Änderungen des Magnetismus, um eine Wiedergabe der aufgezeichneten Signale durchzuführen. Es ist anzumerken, dass die Art des Magnetkopfes H in dieser Technologie nicht besonders eng beschränkt sein soll.
Ideales Laufen des Bandes T bedeutet, dass, selbst wenn es wiederholt läuft, das Band T stabil mit hoher Geschwindigkeit läuft, während ein Zustand beibehalten wird, in dem der Abstand von dem Magnetkopf H so eng wie möglich ist. Falls ein übermäßig großer Abstand zwischen dem Magnetkopf H und dem Band T auftritt, entsteht ein sogenanntes Beabstandungs(Spacing)-Phänomen, so dass der angemessene Kontaktzustand des Bandes T mit dem Magnetband H nicht mehr beibehalten werden kann, so dass eine Verschlechterung der magnetischen Aufzeichnungs- und Wiedergabecharakteristiken des Bandes durch das Off-Tracking-Phänomen oder dergleichen resultiert.
Falls der Kontakt des Bandes T mit dem Magnetkopf H übermäßig stark ist, nimmt andererseits eine Reibung durch wiederholte Verwendung graduell zu und infolgedessen entsteht ein Problem, wie etwa eine Verformung des Bandes T. Aufgrund dieses Problems werden die magnetischen Aufzeichnungs- oder Wiedergabecharakteristiken verschlechtert.
4 ist eine schematische Ansicht zum Beschreiben eines neuen technischen Problems, das von den vorliegenden Erfindern gefunden wurde. Wie in 4 veranschaulicht, kommt das Band T in einem Gebiet, unmittelbar nachdem sich das Band T zu dem Magnetkopf H weiterbewegt hat, in einen geringfügig schwebenden Zustand und kann ein Phänomen auftreten, in dem ein „Luftansammlungsraum“ (mit dem Zeichen A bezeichnet) gebildet wird.
Der Luftansammlungsraum A und die Luft, die in dem Luftansammlungsraum A eingeschlossen ist, neigen dazu, kontinuierlich auf dem Magnetkopf H zu verbleiben, während das Band T läuft. Ferner induziert die in dem Luftansammlungsraum A eingeschlossene Luft das Auftreten des Beabstandungsphänomens zwischen dem Magnetkopf H und dem Band T. Ansonsten wird das Laufen des Bandes T auf dem Magnetkopf H durch den Luftansammlungsraum A destabilisiert, so dass der Luftansammlungsraum A eine Ursache einer Zunahme der Reibung durch stärkeren Kontakt mit dem Magnetkopf H wird.
Bei dieser Technologie sind die zahlreichen Vertiefungen 11, die breitflächig und gleichmäßig in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 verteilt sind, so angeordnet, dass sie die Luft Aufnehmen, die in dem Luftansammlungsraum A vorhanden ist. 5 ist eine vereinfachte schematische Ansicht zum Beschreiben eines Konzepts der Vertiefungen 11 in der Oberfläche der magnetischen Schicht 1.
Wie in 5 und auch in 2 beschrieben, sind die feinen Vertiefungen 11, die jeweils eine zu einer unteren Seite hin (zu der nichtmagnetischen Schicht 2 hin) vertiefte Form aufweisen, breitflächig und gleichmäßig in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 gebildet. Diese Vertiefungen 11 fungieren einzeln als ein Raum zum Empfangen der Luft in dem Luftansammlungsraum A (siehe 4). Ferner stehen das Volumen jeder Vertiefung 11 und das Gesamtvolumen der Vertiefungen 11, die in der Oberfläche des Bandes existieren, insbesondere das Gesamtvolumen der Vertiefungen 11, die in einer Kontaktebene zwischen dem Band T und dem Magnetkopf H zu einem gegebenen Zeitpunkt existieren, in einem Zusammenhang mit der Luftempfangskapazität der Vertiefungen 11.
Das Band T mit den zahlreichen in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 gebildeten feinen Vertiefungen 11 kann laufen, während es Luft von dem Luftansammlungsraum (siehe wieder 3) in die Vertiefungen 11 empfangen kann. Mit anderen Worten fungieren die Vertiefungen 11, die in der magnetischen Schicht 1 angeordnet sind, als ein Luftverdrängungsraum. Dies bedeutet, dass die Vertiefungen 11 auch einen negativen Druck steuern, der auf den Magnetkopf H und das Band T wirkt. Als eine Folge unterdrücken die Vertiefungen 11 das Beabstandungsphänomen, das durch den Luftansammlungsraum A verursacht wird, und unterdrücken auch eine Zunahme der Reibung, die auftritt, wenn das Band A wiederholt auf dem Magnetkopf läuft, und können folglich die S/N-Charakteristiken des Bandes T aufrechterhalten oder verbessern.
Nun weisen die Vertiefungen 11 (bei dem tiefsten Teil davon) jeweils eine Tiefe D1 auf (siehe 5), die basierend auf einer Verifizierung bezüglich dieser Technologie geeignet 7,8 nm oder mehr und besser geeignet 10 nm oder mehr beträgt, weil eine Tiefe jeder Vertiefung 11 geringer als 7,8 nm kaum ermöglicht, dass die Vertiefung 11 als ein Raum zum Empfangen der Luft fungiert, die in dem Luftansammlungsraum A vorhanden ist.
In Bezug auf die Gesamtdicke D2 der magnetischen Schicht 1 ist es auch wichtig, wie tief jede Vertiefung 11 relativ zu der Gesamtdicke D2 ist. Insbesondere kann die Tiefe jeder Vertiefung 11 in relativer Relation zu der Gesamtdicke D2 (siehe 5) der magnetischen Schicht 1 wünschenswerterweise so sein, dass die Proportion, die durch Teilen des Verhältnisses der Tiefe D1 der Vertiefung 11 durch den Wert der Gesamtdicke D2 der magnetischen Schicht 1, das heißt der Wert D1/D2, wenigstens 15 % oder mehr beträgt, wobei ein D1/D2-Wert von 20 % oder mehr besser geeignet ist.
Falls das Verhältnis der Tiefe D1 jeder Vertiefung 11 zu der Gesamtdicke D2 der magnetischen Schicht 1 kleiner als 15 % ist, wird die Funktion zum Empfangen der Luft, die in dem Luftansammlungsraum A vorhanden ist, verringert. Falls das Verhältnis 50 % überschreitet, wird die Dicke der magnetischen Schicht 1 bei gewissen Stellen andererseits übermäßig dünn und es ist nicht wünschenswert, dass nachteilige Effekte auf die Funktion der magnetischen Schicht 1 selbst auftreten.
Die Anzahl an Vertiefungen 11 in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 ist ebenfalls wichtig in Bezug auf das Gesamtvolumen der Vertiefungen 11, die zum Empfangen der oben beschriebenen Luft angeordnet sind. In einem Fall, in dem eine vorbestimmte Fläche: 80 µm × 80 µm = 6400 µm² des Bandes T, als eine Einheitsfläche (die äquivalent zu einer Kontaktfläche des Bandes T mit dem Magnetkopf H ist, wenn das Band T ruht) spezifiziert ist, sind 120 oder mehr Vertiefungen 11 pro Einheitsfläche gewünscht, falls die Tiefe jeder Vertiefung 11 basierend auf der Gesamtdicke D2 der magnetischen Schicht 1 15 % beträgt. Falls die Tiefe jeder Vertiefung 11 basierend auf der Gesamtdicke D2 der magnetischen Schicht 1 20 % beträgt, sind ferner 60 oder mehr Vertiefungen 11 pro Einheitsfläche geeignet. Falls es diese Anzahlen der Vertiefungen 11, wie oben beschrieben, gibt, können die Vertiefungen 11 ein ausreichendes Volumen zum Empfangen der Luft sicherstellen, die in dem Luftansammlungsraum A vorhanden ist.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform dieser Technologie können mehrere Vertiefungen, die so tief wie 20 % oder mehr der Dicke einer magnetischen Schicht sind, in der magnetischen Schicht gebildet sein und die Anzahl der Vertiefungen kann bevorzugt 55 oder mehr und weiter bevorzugt 60 oder mehr pro 6400 µm² des Oberflächenbereichs der magnetischen Schicht betragen. Das Aufnehmen von so vielen Vertiefungen wie oben beschrieben oder mehr trägt zu der Unterdrückung des dynamischen Reibungskoeffizienten des Kopfes bei.
In der magnetischen Schicht 1 können die magnetischen Teilchen senkrecht orientiert sein. In der senkrechten Orientierung neigt die Reibung zwischen dem Band T und dem Magnetkopf H allgemein dazu, zuzunehmen, weil sich die magnetischen Teilchen durch die senkrechte Orientierung in einer Richtung orientieren, und die Oberflächenform auf der Ebene der magnetischen Teilen daher geglättet wird. Durch das breitflächige und gleichmäßige Bilden der Vertiefungen 11 in der magnetischen Schicht 1, wie bei dieser Technologie, kann eine Zunahme der Reibung selbst dann unterdrückt werden, wenn die magnetische Schicht 1 senkrecht orientiert ist oder wenn das Band T viele Male wiederholt verwendet wird. Selbst mit einem Band, das eine magnetische Schicht 1 aufweist, deren senkrechte Orientierung zum Beispiel 65 % oder mehr ohne Entmagnetisierungskorrektur beträgt, können die vorteilhaften Effekte dieser Technologie erhalten werden.
Dynamischer Reibungskoeffizient des Bandes T. Falls das Verhältnis (µ_B/µ_A) des dynamischen Reibungskoeffizienten µ_B zwischen der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 und dem Magnetkopf H, wenn die Zugspannung, die während des Laufens auf das Band T ausgeübt wird, 0,4 N beträgt, zu dem dynamischen Spannungskoeffizienten µ_A zwischen der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 und dem Magnetkopf H, wenn die Zugspannung, die auf das Band T während des Laufens angelegt wird, 1,2 N beträgt, 1,0 oder mehr, aber 2,0 oder weniger beträgt, können Variationen des dynamischen Reibungskoeffizienten aufgrund von Variationen der Zugspannung während des Laufens reduziert werden, so dass das Laufen des Bandes stabilisiert werden kann. Falls das Verhältnis (µ₁₀₀₀/µ₅) des Wertes µ₁₀₀₀ im Lauf 1000 zu dem Wert µ₅ im Lauf 5 des dynamischen Reibungskoeffizienten µ_A zwischen der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 und dem Magnetkopf, wenn die Zugspannung, die auf das Band T ausgeübt wird, 0,6 N beträgt, bevorzugt 1,0 oder mehr, aber 2,0 oder weniger und weiter bevorzugt 1,0 oder mehr, aber 1,7 oder weniger beträgt. Falls das Verhältnis (µ_B/µ_A) 1,0 oder mehr, aber 2,0 oder weniger beträgt, können Variationen des dynamischen Reibungskoeffizienten durch vielmaliges Laufen reduziert werden, so dass das Laufen des Bandes stabilisiert werden kann.
Bei einem Magnetaufzeichnungsband gemäß einer anderen bevorzugten Ausführungsform dieser Technologie sind mehrere Vertiefungen in einer Oberfläche einer magnetischen Schicht angeordnet, die in dem Band enthalten ist, ist der Wert, der durch Teilen der Tiefe D1 jeder Vertiefung durch die Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr, ist die magnetische Schicht senkrecht orientiert, beträgt die senkrechte Orientierung unter einer Bedingung keiner Entmagnetisierungskorrektur 65 % oder mehr, weisen die Vertiefungen jeweils eine Tiefe gleich oder größer als 20 % der Dicke der magnetischen Schicht auf und kann die Anzahl der Vertiefungen 55 oder mehr pro 6400 µm² des Oberflächenbereichs der magnetischen Schicht sein. Mit dieser magnetischen Schicht können ein niedriger dynamischer Reibungskoeffizient auf dem Kopf und ein gutes SN-Verhältnis für das Magnetaufzeichnungsband vermittelt werden. Das Magnetaufzeichnungsband mit der magnetischen Schicht ist besonders zum Aufzeichnen oder Wiedergeben durch Laufen mit 4 m/s oder schneller geeignet.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform dieser Technologie weist das Magnetaufzeichnungsband eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht auf, weist das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger auf und beinhaltet mehrere Vertiefungen, die in der Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind, beträgt der Wert, der durch Teilen der Tiefe D1 jeder Vertiefung durch die Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr und ist die magnetische Schicht senkrecht orientiert und weist eine senkrechte Orientierung von 65 % oder mehr unter einer Bedingung keiner Entmagnetisierungskorrektur auf.
Gemäß noch einer weiteren Ausführungsform dieser Technologie weist das Magnetaufzeichnungsband eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht auf, weist das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger auf und beinhaltet mehrere Vertiefungen, die in der Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind, beträgt der Wert, der durch Teilen der Tiefe D1 jeder Vertiefung durch die Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr, ist die magnetische Schicht senkrecht orientiert und weist eine senkrechte Orientierung von 65 % oder mehr unter einer Bedingung keiner Entmagnetisierungskorrektur auf und kann das Verhältnis der Orientierung der magnetischen Schicht in der senkrechten Richtung zu der Orientierung der magnetischen Schicht in der Longitudinalrichtung 2 oder mehr betragen.
Gemäß noch einer weiteren Ausführungsform dieser Technologie weist das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger auf und beinhaltet mehrere Vertiefungen, die in der Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind, beträgt der Wert, der durch Teilen der Tiefe D1 jeder Vertiefung durch die Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr und ist die magnetische Schicht senkrecht orientiert, weist eine senkrechte Orientierung von 65 % oder mehr unter einer Bedingung keiner Entmagnetisierungskorrektur auf und beträgt die Tiefe D1 jeder Vertiefung 7,8 µm oder mehr.
Mit den Magnetaufzeichnungsbändern mit solchen Konfigurationen, wie oben beschrieben, können niedrige dynamische Kopfreibungskoeffizienten und gute SNR-Verhältnisse erreicht werden.
(2-2) Nichtmagnetische Schicht
Als Nächstes kann die nichtmagnetische Schicht 2 (siehe 1), die unterhalb der magnetischen Schicht 1 angeordnet ist, auch als eine „Zwischenschicht“ oder in manchen Fällen eine „Unterschicht“ bezeichnet werden. Diese nichtmagnetische Schicht 2 ist eine Schicht, die zum Begrenzen der Effekte einer magnetischen Kraft auf die magnetische Schicht 1 innerhalb der magnetischen Schicht 1 und auch zum Sicherstellen einer Ebenheit, die für die magnetische Schicht 1 notwendig ist, angeordnet ist. Außerdem spielt diese nichtmagnetische Schicht 2 auch eine Rolle, um das in der magnetischen Schicht hinzugefügte Gleitmittel und das in der nichtmagnetischen Schicht 2 selbst hinzugefügte Gleitmittel zu halten.
Diese nichtmagnetische Schicht 2 ist eine nichtmagnetische Schicht, die ein nichtmagnetisches Pulver und ein Bindemittel enthält. Die nichtmagnetische Schicht 2 kann ferner wenigstens ein Additiv aus einem Gleitmittel, leitfähigen Teilchen, einem Aushärtungsmittel, einem Rostschutzmittel und dergleichen enthalten. Das nichtmagnetische Pulver enthält zum Beispiel ein Pulver aus anorganischen Teilchen und/oder ein Pulver aus organischen Teilchen. Ferner kann das nichtmagnetische Pulver auch ein Kohlenstoffmaterial, wie etwa Industrieruß, enthalten. Es ist anzumerken, dass ein einziges nichtmagnetisches Pulver allein verwendet werden kann oder zwei oder mehr nichtmagnetische Pulver in Kombination verwendet werden können. Die anorganischen Teilchen enthalten zum Beispiel Metalle, Metalloxide, Metallcarbonate, Metallsulfate, Metallnitride, Metallcarbide, Metallsulfide oder dergleichen. Als die Form des nichtmagnetischen Pulvers beinhalten Beispiele zum Beispiel unter anderem verschiedene Formen, wie etwa nadelförmig, sphärisch, kubisch und Plättchen. Das Bindemittel ist jenem in der oben erwähnten magnetischen Schicht 1 ähnlich.
Die durchschnittliche Dicke der nichtmagnetischen Schicht 2 beträgt bevorzugt 0,6 µm oder mehr, aber 2,0 µm oder weniger und weiter bevorzugt 0,8 µm oder mehr, aber 1,4 µm oder weniger. Es ist anzumerken, dass die durchschnittliche Dicke der nichtmagnetischen Schicht 2 wie die durchschnittliche Dicke der magnetischen Schicht 1 bestimmt wird. Jedoch wird die Vergrößerung eines TEM-Bildes in Abhängigkeit von der Dicke der nichtmagnetischen Schicht 2 nach Bedarf angepasst. Eine Dicke geringer als 0,6 µm führt zu einem Verlust der Haltefunktion für Additive (zum Beispiel das Gleitmittel), die in der magnetischen Schicht und der nichtmagnetischen Schicht 2 selbst hinzugefügt sind. Andererseits führt eine Dicke von mehr als 2,0 µm zu einer übermäßigen Zunahme der Gesamtdicke des Bandes T und geht gegen den Trend des Verfolgens einer höheren Aufzeichnungskapazität, indem das Band T dünner gebildet wird.
Diese nichtmagnetische Schicht 2 kann durch Durchführen einer Beschichtung auf der „Basisfilmschicht 3“, die als Nächstes beschrieben wird, gebildet werden. Diese nichtmagnetische Schicht 2 kann in Abhängigkeit von dem Zweck und Bedarf eine mehrschichtige Struktur annehmen. Es ist wichtig, dass für die nichtmagnetische Schicht 2 ein nichtmagnetisches Material verwendet wird, weil eine Magnetisierung irgendeiner anderen Schicht außer der magnetischen Schicht 1 zu einer Erzeugungsquelle von Rauschen führt.
Das nichtmagnetische Material zur Verwendung in der nichtmagnetischen Schicht 2 kann ein anorganisches Material oder ein organisches Material sein. Verwendbare Beispiele für das anorganische Material beinhalten Eisenoxyhydroxide, Hämatit, Titanoxid, Industrieruß, Metallnitride, Metallsulfide und dergleichen. Zusätzlich zu einem solchen nichtmagnetischen Material können in manchen Fällen ein oder mehrere Additive ebenfalls hinzugefügt werden. Als die Form des nichtmagnetischen Materials (nichtmagnetischen Pulvers) beinhalten Beispiele zum Beispiel unter anderem verschiedene Formen, wie etwa nadelförmig, sphärisch, kubisch und Plättchen.
(2-3) Basisfilmschicht
Als Nächstes spielt die in 1 und 2 dargestellte Basisfilmschicht 3 hauptsächlich eine Rolle als eine Schicht, die als eine Basis in dem Band T dient. Die Basisfilmschicht 3 wird auch einfach als eine „Basisschicht“ oder ein „nichtmagnetisches Substrat“ bezeichnet. Die Basisfilmschicht 3 ist ein nichtmagnetisches Substrat, das die nichtmagnetische Schicht 2 und die magnetische Schicht 1 als die obere Schicht der nichtmagnetischen Schicht 2 stützt. Die Basisfilmschicht 3 liegt in der Form eines länglichen Films vor. Die obere Grenze der durchschnittlichen Dicke der Basisfilmschicht 3 beträgt 4,5 µm oder weniger, weiter bevorzugt 4,2 µm oder weniger, weiter bevorzugt 3,8 µm oder weniger und noch weiter bevorzugt 3,4 µm oder weniger. Falls die obere Grenze der durchschnittlichen Dicke der Basisfilmschicht 4,2 µm oder weniger beträgt, kann die Aufzeichnungskapazität, bis zu der eine Aufzeichnung in einem einzigen Daten-Cartridge möglich ist, bezüglich jenen von allgemeinen Magnetaufzeichnungsmedien erhöht werden. Es ist anzumerken, dass die untere Grenzdicke der Basisfilmschicht 3 aus den Gesichtspunkten von Beschränkungen für eine Filmbildung und die Funktionen der Basisfilmschicht 3 bestimmt wird.
Die durchschnittliche Dicke der Basisfilmschicht 3 kann so bestimmt werden, wie nachfolgend beschrieben wird. Zuerst wird ein Band T mit einer Breite von 1/2 Zoll bereitgestellt und wird bei einer Länge von 250 mm geschnitten, um eine Probe vorzubereiten. Anschließend werden die Schichten außer der Basisfilmschicht 3 in der Probe (insbesondere die nichtmagnetische Schicht 12, die magnetische Schicht 1 und die Trägerschicht 4) mit einem Lösungsmittel, wie etwa MEK (Methylethylketon) oder verdünnter Salzsäure entfernt. Unter Verwendung eines LASER-HOLOGAGE-Detektors, der von der Mitsutoyo Corporation hergestellt wird, als Messinstrument wird als Nächstes die Dicke der Probe (der Basisfilmschicht 3) bei 5 Punkten oder mehr gemessen, wobei die Messwerte einfach gemittelt (einem arithmetischen Mittel unterzogen) werden, um die durchschnittliche Dicke der Basisfilmschicht 3 zu berechnen. Es ist anzumerken, dass die Messpunkte zufällig aus der Probe auszuwählen sind.
Die Basisfilmschicht 3 enthält wenigstens eines von zum Beispiel Polyestern, Polyolefinen, Cellulosederivaten, Vinylharzen und anderen Polymerharzen. Falls die Basisfilmschicht 3 zwei oder mehr der oben beschriebenen Materialien enthält, wurden solche zwei oder mehr Materialien möglicherweise vermengt, copolymerisiert oder zusammenlaminiert. Die Polyester beinhalten zum Beispiel PET (Polyethylenterephthalat), PEN (Polyethylennaphthalat), PBT (Polybutylenterephthalat), PEN (Polybutylennaphthalat), PCT (Polycyclohexylendimethylenterephthalat), PEB (Polyethylen-p-oxybenzoat) und Polyethylenbisphenoxycarboxylat. Die Polyolefine beinhalten zum Beispiel PE (Polyethylen) und PP (Polypropylen). Die Cellulosederivate beinhalten zum Beispiel Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, CAB (Celluloseacetatbutyrat) und CAP (Celluloseacetatpropionat). Die Vinylharze beinhalten zum Beispiel PVC (Polyvinylchlorid) und PVDC (Polyvinylidenchlorid). Die anderen Polymerharze beinhalten zum Beispiel PAs (Polyamide, Nylon), aromatische PAs (aromatische Polyamide, Aramide), PAIs (Polyamidimide), aromatische PAIs (aromatische Polyamidimide), PBOs (Polybenzoxazole, zum Beispiel ZYLON (eingetragenes Markenzeichen)), Polyether, PEKs (Polyetherketone), Polyetherester, PESs (Polyethersulfone), PEIs (Polyetherimide), PSFs (Polysulfone), PPSs (Polyphenylensulfide), PCs (Polycarbonate), PARs (Polyarylate) und PUs (Polyurethane). Das Material der Basisfilmschicht 3 ist nicht speziell eng beschränkt, und kann gemäß Bandstandards bestimmt werden. In den LTO-Standards ist zum Beispiel PEN spezifiziert.
(2-4) Trägerschicht
Die in 1 und 2 dargestellte Trägerschicht 4 spielt beim Steuern der Reibung eine Rolle, die auftritt, wenn das Band T mit hoher Geschwindigkeit läuft, während es dem Magnetkopf gegenüberliegt, eine Rolle beim Verhindern von Wicklungsstörungen und dergleichen. Mit anderen Worten spielt die Trägerschicht 4 eine fundamentale Rollen dabei, zu ermöglichen, dass das Band T stabil mit hoher Geschwindigkeit läuft.
Die Trägerschicht 4 enthält ein Bindemittel und ein nichtmagnetisches Pulver. Die Trägerschicht 4 kann ferner nach Bedarf wenigstens ein Additiv aus einem Gleitmittel, einem Aushärtungsmittel, einem Antistatikmittel oder dergleichen enthalten. Das Bindemittel und nichtmagnetische Pulver sind jenen in der oben erwähnten nichtmagnetischen Schicht 12 ähnlich.
Die durchschnittliche Teilchengröße des nichtmagnetischen Pulvers beträgt bevorzugt 10 nm oder mehr, aber 150 nm oder weniger, und weiter bevorzugt 15 nm oder mehr, aber 110 nm oder weniger. Die durchschnittliche Teilchengröße des nichtmagnetischen Pulvers wird wie die oben beschriebene durchschnittliche Teilchengröße des magnetischen Pulvers beschrieben. Das nichtmagnetische Pulver kann ein nichtmagnetisches Pulver mit zwei oder mehr Teilchengrößenverteilungen aufweisen.
Die obere Grenze der durchschnittlichen Dicke der Trägerschicht 4 beträgt bevorzugt 0,6 µm oder weniger. Wenn die obere Grenze der durchschnittlichen Dicke der Trägerschicht 4 0,6 µm oder weniger beträgt, können die nichtmagnetische Schicht 2 und die Basisfilmschicht 3 selbst dann dick gehalten werden, wenn die durchschnittliche Dicke des Bandes T 5,6 µm beträgt. Folglich kann die Laufstabilität des Bandes T in der Aufzeichnung-und-Wiedergabe-Einrichtung hoch beibehalten werden. Die untere Grenze der durchschnittlichen Dicke der Trägerschicht 4 beträgt zum Beispiel 0,2 µm oder mehr, obwohl keine spezielle Beschränkung auf diese auferlegt ist.
Die durchschnittliche Dicke der Trägerschicht 4 kann so bestimmt werden, wie nachfolgend beschrieben wird. Zuerst wird ein Band T mit einer Breite von 1/2 Zoll bereitgestellt und wird bei einer Länge von 250 mm geschnitten, um eine Probe vorzubereiten. Unter Verwendung des LASER-HOLOGAGE-Detektors, der von der Mitsutoyo Corporation hergestellt wird, als Messinstrument wird als Nächstes die Dicke der Probe bei 5 Punkten oder mehr gemessen und werden die Messwerte einfach gemittelt (einem arithmetischen Mittel unterzogen), um den durchschnittliche Wert t_T [µm] der Dicke des Bandes T zu berechnen. Es ist anzumerken, dass die Messpunkte zufällig aus der Probe auszuwählen sind. Anschließend wird die Trägerschicht 4 in der Probe mit einem Lösungsmittel, wie etwa MEK (Methylethylketon) oder verdünnter Salzsäure, entfernt. Wieder unter Verwendung des oben beschriebenen LASER-HOLOGAGE-Detektors wird dann die Dicke der Probe bei 5 Punkten oder mehr gemessen und werden die Messwerte einfach gemittelt (einem arithmetischen Mittel unterzogen), um den durchschnittliche Wert t_B [µm] der Dicke des Bandes T zu berechnen, von dem die Trägerschicht 4 entfernt worden ist. Es ist anzumerken, dass die Messpunkte zufällig aus der Probe auszuwählen sind. Dann wird die durchschnittliche Dicke t_b [µm] der Trägerschicht 4 durch die folgende Formel bestimmt. $t_{b} [μ m] = t_{T} [μ m] - t_{B} [μ m]$
Die Dicke der Trägerschicht 4 beträgt wünschenswerterweise 100 nm oder mehr. Eine Dicke von weniger als 100 nm führt zu einem höheren elektrischen Widerstand und daher zu dem Auftreten eines Problems einer verschlechterten Kompatibilität mit dem Magnetkopf H. Bezüglich der oberen Grenzdicke ist es ausreichend, falls eine minimale Dicke, die zum Aufzeigen der Funktionen der Trägerschicht 3 in der Lage ist, insbesondere eine Dicke, die für das Hochgeschwindigkeits- und stabile Laufen des Bandes T in der Aufzeichnung-und-Wiedergabe-Einrichtung notwendig und ausreichend ist, sichergestellt wird. In dieser Hinsicht ist eine Dicke von mehr als 1 µm nicht speziell notwendig.
Die Trägerschicht 4 wird mit einer Zusammensetzung gebildet, die ein Bindemittel und ein nichtmagnetisches Pulver enthält, und ein Gleitmittel und ein Aushärtungsmittel können ebenfalls nach Bedarf hinzugefügt werden. Ferner kann ein Antistatikmittel ebenfalls hinzugefügt werden, um die Trägerschicht 4 mit einer Antistatikfunktion zu versehen, sodass eine Haftung von Staub und Schmutz verhindert wird.
Bei dieser Technologie wird eine Reihe von feinen Ausbuchtungen (Ausbuchtungsteilen) 41 in Nanogrößenordnung zuvor auf einer Oberfläche 4a der Trägerschicht 4 angeordnet (siehe 2). Die Ausbuchtungen 41 werden verwendet, um die oben erwähnten Vertiefungen 11 in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 zu bilden. Um dieses Ziel zu erreichen, müssen die Ausbuchtungen 41 eine vorbestimmte Höhe oder mehr aufweisen und müssen so viele sein, wie pro Einheitsfläche des Bandes benötigt werden (eine Beschreibung erfolgt hier nachfolgend).
6 ist eine vereinfachte schematische vergrößerte Ansicht, die veranschaulicht, wie die Vertiefungen 11 in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 durch Transferieren der Ausbuchtungen 41, die auf der Trägerschicht 4 existieren, gebildet werden. Wie in 6 veranschaulicht, wird die Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 des Bandes T gegenüber platziert und gegen die Oberfläche 1a der Trägerschicht 4 gepresst (siehe 6(a)). Wenn die magnetische Schicht 1 von der Trägerschicht 4 weggezogen wird, nachdem sie für eine vorbestimmte Zeit aneinander gepresst wurden, werden die Vertiefungen 11 in die Oberfläche der magnetischen Schicht 1 transferiert und verbleiben dort (siehe 6(b)). Mit anderen Worten können bei dieser Technologie die Vertiefungen, die in der magnetischen Schicht als die oberste Schicht angeordnet sind, jene sein, die durch Pressen der Ausbuchtungen, die auf der Oberfläche der Trägerschicht gebildet sind, die als die unterste Schicht angeordnet ist, gebildet werden.
Zum Beispiel wird das Band T einschließlich der magnetischen Schicht 1, die sich immer noch in einem nicht getrockneten Zustand befindet, nach dem Aufbringen der magnetischen Schicht 1 auf eine Rolle aufgerollt (Aufrollkern). Dann wird die Oberfläche 4a mit den darauf enthaltenen Ausbuchtungen 41 der Trägerschicht 4 des Bandes T, das fortschreitend um eine Wicklung außen aufgerollt wurde, natürlich gegen die Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 gepresst (festgezogen). Unter Verwendung eines Pressdrucks zu dieser Zeit können die Vertiefungen 11 in die Oberfläche 1a der magnetischen Schicht transferiert werden.
Die Ausbuchtungen 41 auf der Trägerschicht 4 können zum Beispiel durch Vermischen von Kohlenstoffteilchen einer kleinen Teilchengröße (nachfolgend „kleine Teilchen“) und Kohlenstoffteilchen einer Teilchengröße, die relativ größer als die kleine Teilchengröße ist (nachfolgend „große Teilchen“), in einem vorbestimmten Verhältnis gebildet werden. Eine raue Struktur wird auf der Oberfläche der Trägerschicht 4 gebildet und die Teile der Ausbuchtungen 41 in der Struktur werden verwendet, um die Vertiefungen 11 in der magnetischen Schicht 1 zu bilden. Es ist anzumerken, dass ein Material, wie etwa Aluminiumoxid, Siliciumoxid oder Titanoxid, als die großen Teilchen verwendet werden kann.
Hier sind die kleinen Teilchen Teilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße in einem Bereich von 15 bis 30 nm und als die großen Teilchen ist dagegen eine Auswahl von Teilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße in einem Bereich von 200 bis 350 nm geeignet. Als die Differenz der Teilchengröße zwischen den kleinen Teilchen und den großen Teilchen wird ein Bereich von 170 bis 335 nm benötigt. Falls die Differenz der Teilchengröße zwischen den kleinen Teilchen und den großen Teilchen zu gering ist, wird die Rauheit auf der Trägerschicht 4 abgeflacht, was zu einer Schwierigkeit beim Bilden der Vertiefungen 11 in der magnetischen Schicht 1 führt. Falls die Differenz der Teilchengröße zwischen den kleinen Teilchen und den großen Teilchen zu groß ist, wird dagegen die raue Struktur extrem heftiger, wobei ein solches Problem verursacht wird, dass die Tiefe der Vertiefungen 11 übermäßig groß wird.
Ferner sind die Proportionen der großen Teilchen und kleinen Teilchen ebenfalls wichtig, wenn sie vermischt werden. Es ist wünschenswert, 80 bis 90 Massen-% der kleinen Teilchen relativ zu 10 bis 20 Massen-% der großen Teilchen hinzuzufügen. Falls die großen Teilchen auf unterhalb von 10 Massen-% abfallen, werden die Ausbuchtungen 41 nicht ausreichend gebildet. Falls die großen Teilchen 20 Massen-% überschreiten, werden andererseits die Ausbuchtungen 41 zu viele (Talteile werden zu wenige), was zu einer Schwierigkeit beim Bilden der Vertiefungen 11 in der magnetischen Schicht 1 führt.
Die Ausbuchtungen 41 können eine beliebige Höhe aufweisen, insofern die Ausbuchtungen 11 mit einer Tiefe einer beabsichtigten Abmessung der magnetischen Schicht 1 gebildet werden können, und es wird keine einengende Beschränkung für die Höhe der Ausbuchtungen 41 auferlegt. Jedoch ist eine Höhe von zum Beispiel 40 nm oder mehr, geeigneter 60 nm oder mehr gewünscht. Eine Höhe von weniger als 40 nm erschwert es, dass die Ausbuchtungen 41 in die Oberfläche der magnetischen Schicht 1 eindringen, sodass die Vertiefungen 11 kaum gebildet werden. Es ist anzumerken, dass es keine spezielle Notwendigkeit gibt, die Oberfläche der Trägerschicht 4 nach dem Transferschritt einer Glättung zu unterziehen, falls die Ausbuchtungen 41 eine Höhe einer solchen Abmessung aufweisen.
Falls ferner die Anzahl der Ausbuchtungen 41 mit einer Höhe von 60 nm oder mehr zum Beispiel 30 oder mehr bei einer Spezifikation pro Einheitsfläche von 80 µm × 80 µm = 6400 µm² der Trägerschicht 4 beträgt, können die Vertiefungen 11 breitflächig und gleichmäßig in der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 gebildet werden, sodass diese Bedingung gewünscht ist.
(3) Über das grundlegende Herstellungsverfahren des Bandes T gemäß dieser Technologie
Als Nächstes erfolgt eine Beschreibung bezüglich eines Herstellungsprozesses des Bandes T mit den oben erwähnten Konfigurationen (siehe 7).
(Beschichtungsformulierungsvorbereitungsschritt)
Zuerst werden ein nichtmagnetisches Pulver, ein Bindemittel, ein Gleitmittel und dergleichen verknetet und/oder in einem Lösungsmittel dispergiert, um eine Beschichtungsformulierung zum Bilden einer nichtmagnetischen Schicht vorzubereiten. Als Nächstes werden ein magnetisches Pulver, ein Bindemittel, ein Gleitmittel und dergleichen verknetet und/oder in einem Lösungsmittel dispergiert, um eine Beschichtungsformulierung zum Bilden einer magnetischen Schicht vorzubereiten. Dann werden ein Bindemittel, ein nichtmagnetisches Pulver und dergleichen verknetet und/oder in einem Lösungsmittel dispergiert, um eine Beschichtungsformulierung zum Bilden einer Trägerschicht vorzubereiten. Für die Vorbereitung der Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht, der Beschichtungsformulierung zum Bilden der nichtmagnetischen Schicht und der Beschichtungsformulierung zum Bilden der Trägerschicht können die folgenden Lösungsmittel, Dispergierungsmaschinen und Knetmaschinen verwendet werden.
Als die Lösungsmittel zur Verwendung bei der oben erwähnten Vorbereitung der Beschichtungsformulierungen beinhalten Beispiele Ketonlösungsmittel, wie etwa Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohollösungsmittel, wie etwa Methanol, Ethanol und Propanol, Esterlösungsmittel, wie etwa Methylacetat, Ethylacetat, Butylacetat, Propylacetat, Ethyllactat und Ethylenglycolacetat, Etherlösungsmittel, wie etwa Diethylenglycoldimethylether, 2-Ethoxyethanol, Tetrahydrofuran und Dioxan, aromatische Kohlenwasserstofflösungsmittel, wie etwa Benzol, Toluol und Xylol, halogenierte Kohlenwasserstofflösungsmittel, wie etwa Methylenchlorid, Ethylenchlorid, Kohlenstofftetrachlorid, Chloroform und Chlorobenzol, und dergleichen. Diese Lösungsmittel können entweder alleine oder in einer geeigneten Kombination verwendet werden.
Die Knetmaschinen zur Verwendung bei der oben erwähnten Vorbereitung der Beschichtungsformulierungen beinhalten zum Beispiel unter anderem Knetmaschinen, wie etwa kontinuierliche Zweiachsen-Schraubenknetmaschinen, kontinuierliche Zweiachsen-Schraubenknetmaschinen, die zur mehrstufigen Verdünnung in der Lage sind, Kneter, Druckkneter und Walzenkneter. Die Dispergierungsmaschinen zur Verwendung bei der oben erwähnten Vorbereitung der Beschichtungsformulierungen beinhalten zum Beispiel unter anderem Dispergierungsmaschinen, wie etwa Walzenmühlen, Kugelmühlen, horizontale Sandmühlen, vertikale Sandmühlen, Spitzenmühlen, Stiftmühlen, Turmmühlen, Perlenmühlen (zum Beispiel eine „DCP-Mühle“, hergestellt von Maschinen Fabrik Gustav Eirich GmbH & Co KG, und dergleichen), Homogenisierer und Ultraschalldispergierungsmaschinen.
Zum Beispiel wird die Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht wie nachfolgend beschrieben vorbereitet. Zuerst wird eine erste Zusammensetzung des unten beschriebenen Rezepts in einem Extruder verknetet. Als Nächstes werden die verknetete erste Zusammensetzung und eine zweite Zusammensetzung des unten beschriebenen Rezepts zu einem ein Emulsionsmischgerät aufweisenden Rührtank hinzugefügt, gefolgt von einem Vormischen. Anschließend wird das Mischen in einer Sandmühle durchgeführt, gefolgt von Filtern, um die Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht vorzubereiten.
(Erste Zusammensetzung)
Pulver (hexagonales Plättchen, Aspektverhältnis 2, 8, Teilchenvolumen 1950 nm³) aus Bariumferrit (BaFe₁₂O₁₉) - Teilchen: 100 Massenteile
Vinylchloridharz (Lösung mit 30 Massen-% in Cyclohexanon): 10 Massenteile (Polymerisationsgrad 300, Mn = 10.000, enthält als polare Gruppen OSO₃K mit 0,07 mmol/g und sekundär OH mit 0,3 mmol/g)
Aluminiumoxidpulver: 5 Massenteile (α-Al₂O₃, durchschnittliche Teilchengröße 0,2 µm)
Industrieruß: 2 Massenteile (Produkt von Tokai Carbon Co., Ltd., Handelsname: SEAST TA).
(Zweite Zusammensetzung)
Vinylchloridharz: 1,1 Massenteile (Harzlösung: Harzanteil 30 Massen-%, Cyclohexanon 70 Massen-%)
n-Butylstearat: 2 Massenteile
Methylethylketon: 121,3 Massenteile
Toluol: 121,3 Massenteile
Cyclohexanon: 60,7 Massenteile
Schließlich werden zu der Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht, die wie oben vorbereitet wurde, 4 Massenteile von Polyisocyanat (Handelsname: CORONATE L, Produkt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) und 2 Massenteile Myristinsäure als Aushärtungsmittel hinzugefügt.
Als Nächstes kann die Beschichtungsformulierung zum Bilden der nichtmagnetischen Schicht so vorbereitet werden, wie nachfolgend beschrieben ist.
Zuerst wird eine dritte Zusammensetzung des unten beschriebenen Rezepts in einem Extruder verknetet. Als Nächstes werden die verknetete dritte Zusammensetzung und eine vierte Zusammensetzung des unten beschriebenen Rezepts zu einem ein Emulsionsmischgerät aufweisenden Rührtank hinzugefügt, gefolgt von einem Vormischen. Anschließend wird das Mischen in einer Sandmühle durchgeführt, gefolgt von Filtern, um die Beschichtungsformulierung zum Bilden der nichtmagnetischen Schicht vorzubereiten.
(Dritte Zusammensetzung)
nadelförmiges Eisenoxidpulver: 100 Massenteile (α-Fe₂O₃, durchschnittliche Hauptachsenlänge 0,15 µm)
Vinylchloridharz: 55,6 Massenteile (Harzlösung: Harzanteil 30 Massen-%, Cyclohexanon 70 Massen-%)
Industrieruß: 10 Massenteile (durchschnittliche Teilchengröße 20 nm)
(Vierte Zusammensetzung)
Polyurethanharz UR8200 (Produkt von Toyobo Co., Ltd.): 18,5 Massenteile
n-Butylstearat: 2 Massenteile
Methylethylketon: 108,2 Massenteile
Toluol: 108,2 Massenteile
Cyclohexanon: 18,5 Massenteile
Schließlich werden zu der Beschichtungsformulierung zum Bilden der nichtmagnetischen Schicht, die wie oben vorbereitet wurde, 4 Massenteile des Polyisocyanats (Handelsname: „CORONATE L“, Produkt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) und 2 Massenteile Myristinsäure als Aushärtungsmittel hinzugefügt.
(Vorbereitungsschritt der Beschichtungsformulierung zum Bilden der Trägerschicht)
Die Beschichtungsformulierung zum Bilden der Trägerschicht wird wie nachfolgend beschrieben vorbereitet. Die unten beschriebenen Materialien werden Mischen in einem ein Emulsionsmischgerät aufweisenden Rührtank unterzogen, gefolgt von Filtern, um die Beschichtungsformulierung zum Bilden der Trägerschicht vorzubereiten.
Pulver aus Industrierußteilchen (durchschnittliche Teilchengröße 20 nm): 90 Massenteile
Pulver aus Industrierußteilchen (durchschnittliche Teilchengröße 270 nm): 10 Massenteile
Polyesterpolyurethan: 100 Massenteile (Produkt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Handelsname: N-2304)
Methylethylketon: 500 Massenteile
Toluol: 400 Massenteile
Cyclohexanon: 100 Massenteile
Es ist anzumerken, dass die Menge des Pulvers aus Industrierußteilchen (durchschnittliche Teilchengröße 20 nm) zu 80 Masseteilen geändert werden kann und die Menge des Pulvers aus Industrierußteilchen (durchschnittliche Teilchengröße 270 nm) zu 20 Masseteilen geändert werden kann. Von dem Gesichtspunkt der Bildung von Ausbuchtungen auf der Trägerschicht 4 wird es nicht bevorzugt, die Menge des Pulvers aus Industrierußteilchen (durchschnittliche Teilchengröße 270 nm) auf 100 Masseteile zu ändern.
(Beschichtungsschritt)
Als Nächstes wird die Beschichtungsformulierung zum Bilden der nichtmagnetischen Schicht auf eine von Hauptoberflächen einer Basisfilmschicht 3 aufgebracht und wird getrocknet (ausgehärtet), um eine nichtmagnetische Schicht 2 zu bilden. Anschließend wird die Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht auf die nichtmagnetische Schicht 2 aufgebracht und getrocknet, um eine magnetische Schicht 1 auf der nichtmagnetischen Schicht 2 zu bilden. Hier kann das magnetische Pulver beim Trocknen bevorzugt einer Magnetfeldorientierung in der Dickenrichtung der Basisfilmschicht 3 zum Beispiel durch eine Solenoidspule ausgesetzt werden. Als eine Alternative dazu kann das magnetische Pulver beim Trocken einer Magnetfeldorientierung in der Laufrichtung (Longitudinalrichtung) der Basisfilmschicht 3 ausgesetzt werden und kann dann einer Magnetfeldorientierung in der Dickenrichtung des Basisfilms 3 ausgesetzt werden, beides durch zum Beispiel eine Solenoidspule. Nach der Bildung der magnetischen Schicht 1 wird die Beschichtungsformulierung zum Bilden der Trägerschicht auf die andere Hauptoberfläche des Basisfilms 3 aufgebracht und getrocknet, um eine Trägerschicht 4 zu bilden. Infolgedessen wird ein Band T erhalten.
Unter Verwendung der Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht und der Beschichtungsformulierung zum Bilden der nichtmagnetischen Schicht, die wie oben erwähnt vorbereitet wurden, werden eine nichtmagnetische Schicht 2 mit einer durchschnittlichen Dicke von 1,0 bis 1,1 µm und eine magnetische Schicht 1 mit einer durchschnittlichen Dicke von 40 bis 100 nm auf einer von Hauptoberflächen eines länglichen Polyethylennaphtalatfilms (nachfolgend „PEN-Film“) als eine Basisfilmschicht gebildet, wie nachfolgend beschrieben ist. Zuerst wird die Beschichtungsformulierung zum Bilden der nichtmagnetischen Schicht auf die eine Hauptoberfläche des PEN-Films aufgebracht und wird getrocknet, um die nichtmagnetische Schicht 2 zu bilden. Als Nächstes wird die Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht auf die nichtmagnetische Schicht 2 aufgebracht und getrocknet, um die magnetische Schicht 1 zu bilden.
Hier wird das magnetische Pulver beim Trocken der Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht einer Magnetfeldorientierung in der Dickenrichtung des Films durch eine Solenoidspule ausgesetzt. Das Rechteckigkeitsverhältnis (Orientierung) kann zum Beispiel durch Anpassen der Intensität eines Magnetfeldes, das von der Solenoidspule zu erzeugen ist, (zum Beispiel auf zwei- bis dreimal die Koerzitivkraft des magnetischen Pulvers), durch Anpassen der festen Inhaltsstoffe der Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht oder durch Anpassen der Trocknungsbedingungen (Trocknungstemperatur und Trocknungszeit) oder durch eine Kombination dieser Anpassungen gesteuert werden. Als eine Alternative dazu kann das Rechteckigkeitsverhältnis auch durch Anpassen der Zeit gesteuert werden, die benötigt wird, um zu ermöglichen, dass sich das magnetische Pulver in einem Magnetfeld orientiert. Um das Rechteckigkeitsverhältnis zu erhöhen, wird zum Beispiel bevorzugt, den Dispergierungszustand des magnetischen Pulvers in der Beschichtungsformulierung zu verbessern. Zur Orientierung in der senkrechten Richtung ist andererseits eine vorhergehende Magnetisierung des magnetischen Pulvers vor dem Eintreten in eine Orientierungsvorrichtung auch ein effektives Verfahren und daher kann dieses Verfahren verwendet werden. Durch das Durchführen solcher Anpassungen kann das Rechteckigkeitsverhältnis in der senkrechten Richtung (in der Dickenrichtung des magnetischen Bandes) und/oder in der Longitudinalrichtung (in der Longitudinalrichtung des magnetischen Bandes) auf einen gewünschten Wert eingestellt werden. Anschließend wird die Beschichtungsformulierung zum Bilden der Trägerschicht auf die andere Hauptoberfläche des PEN-Films aufgebracht und wird getrocknet, um die nichtmagnetische Schicht 2 zu bilden. Durch das oben beschriebene veranschaulichende Verfahren wird das Band T erhalten.
(Kalandrierschritt)
Eine Kalandrierbehandlung wird als Nächstes angewandt, um die Oberfläche der magnetischen Schicht zu glätten. Dieser Kalandrierschritt ist ein Schritt, bei dem ein Hochglanz unter Verwendung Maschine aufgebracht wird, die als ein „Kalander“ bezeichnet wird, und ist bei dieser Technologie als ein Vorbehandlungsschritt vor einem Transferschritt enthalten. Der Kalandrierschritt ist ein Schritt, bei dem, während das Band T zugeführt und zwischen gegenüberliegenden aus Metall gefertigten Rollen ergriffen wird, die Oberfläche der magnetischen Schicht 1 durch Anwenden von Temperatur und Druck nach Bedarf glatt bearbeitet wird. Der Transferschritt wird nach diesem Kalandrierschritt durchgeführt.
(Transferschritt)
Nachdem das kalandrierte Band T in einer Rollenform aufgerollt wurde, wird das Band T in diesem Zustand einer Wärmebehandlung unterzogen, so dass die zahlreichen Ausbuchtungen 41 auf der Oberfläche der Trägerschicht 4 in die Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 transferiert werden. Anschließend wird die magnetische Schicht 1 ausgehärtet. Infolgedessen werden zahlreiche Vertiefungen 11 in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 gebildet. Daher können die zahlreichen Vertiefungen 11 durch Transferieren der zahlreichen Ausbuchtungen 41, die auf der Oberfläche der Trägerschicht 4 angeordnet sind, in die Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 geeignet in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 gebildet werden. Trotzdem ist die Bildung der zahlreichen Vertiefungen 11 nicht auf dieses Verfahren beschränkt. Zum Beispiel können die zahlreichen Vertiefungen 11 durch angemessenes Wählen der Art eines Lösungsmittels, das in der Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht enthalten sein soll, der Trocknungsbedingungen für die Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht und so weiter auch in der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 gebildet werden.
(Schlitzschritt)
Das magnetische Band, das wie oben erwähnt erhalten wurde, wird zum Beispiel in Breiten von 1/2 Zoll (12,65 mm) geschlitzt. Infolgedessen kann das längliche Zielband T erhalten werden.
Beispiel für den Transferschritt für die Bildung von Vertiefungen in der Oberfläche der magnetischen Schicht
Für die Herstellung des Bandes T gemäß dieser Technologie werden die jeweiligen Beschichtungsformulierungen für die magnetische Schicht 1, die nichtmagnetische Schicht 2 und die Trägerschicht 4, die auf die Basisfilmschicht 3 aufzubringen sind, im Voraus (Beschichtungsformulierungsvorbereitungsschritt) vorbereitet und diese Beschichtungsformulierungen werden auf den Basisfilm 3 in einer vorbestimmten Reihenfolge aufgebracht, während die Dicke jeder Schicht überwacht wird (Beschichtungsschritt). Anschließend wird das resultierende Band durch den Orientierungsschritt (den Schritt, in dem das magnetische Pulver, das die magnetische Schicht bildet, in einer Richtung ausgerichtet wird), den Kalandrierschritt, den Transferschritt und den Aushärtungsschritt in dieser Reihenfolge verarbeitet und auf eine Trommel aufgerollt.
Dann wird das resultierende Band mit Bandbreiten, die dem Produkttyp entsprechen, geschlitzt (Schlitzschritt) und die resultierenden geschlitzten Bänder werden in Bandlängen gemäß den Produktstandards geschnitten (Schneideschritt). Schließlich werden die resultierenden geschnittenen Bänder in Cartridge-Hüllen eingesetzt, die den Zielprodukten entsprechen, um Magnetaufzeichnungsband-Cartridges zu erhalten (Zusammenbauschritt), und nach einem vorbestimmten Inspektionsschritt werden die Magnetaufzeichnungsband-Cartridges versandt. 7 ist ein grundlegendes Flussdiagramm eines Bandherstellungsprozesses gemäß dieser Technologie.
8 veranschaulicht eine Ausführungsform eines Band-Cartridge 5 mit dem Magnetaufzeichnungsband T gemäß dieser Technologie, das in einer Hülle 51 enthalten ist. Die Hülle 51 wird in Abhängigkeit von der Verwendung und dem Zweck des Magnetaufzeichnungsbandes gewählt. Das Band T wird über eine vorbestimmte Länge auf eine Bandrolle 52, die in der Hülle 51 angeordnet ist, aufgewickelt und beim Aufzeichnen auf dem oder Wiedergeben von dem Band T wird es aus der Hülle 51 entnommen und verwendet. Daher stellt diese Technologie auch ein Magnetaufzeichnungsband-Cartridge einer Konfiguration bereit, bei der das Magnetaufzeichnungsband gemäß dieser Technologie in der Hülle enthalten ist, wobei das Magnetaufzeichnungsband auf der Bandtrommel aufgewickelt ist.
Hier ist 9 eine Basiskonzeptansicht zum Beschreiben eines Beispiels für das Herstellungsverfahren des Bandes T. Bei dieser Technologie wird der Transferschritt, bei dem die Vertiefungen 11 in der Oberfläche 1a der magnetischen Schicht 1 gebildet werden, in einer Phase nach dem Bilden der magnetischen Schicht 1 durch Beschichtung, aber vor dem Aushärten der magnetischen Schicht 1 durchgeführt.
Nachdem die Oberfläche der beschichteten magnetischen Schicht 1 einer Glättung (Kalandrierschritt) unterzogen wird, wird insbesondere das Band T in einen Zustand gebracht, in dem es auf eine Rolle R1 aufgewickelt ist, und wird der Transferschritt (der Schritt des Pressens der Ausbuchtungen 41 auf der Trägerschicht 4 gegen die magnetische Schicht 1) unter einer atmosphärischen Temperaturbedingung (Umgebungstemperaturbedingung um das Band herum) von 60 °C bis 70 °C durchgeführt. 10 ist eine Ansicht, die veranschaulicht, wie das Band T progressiv auf die Rolle R1 aufgerollt wird und die Ausbuchtungen 41 auf der Trägerschicht 4 in dem Transferschritt in Kontakt mit der Oberfläche der magnetischen Schicht 1 gebracht werden.
Die Temperatur der Wärmebehandlung in dem Transferschritt beträgt bevorzugt 55 °C oder mehr, aber 75 °C oder niedriger. Falls die Temperatur der Wärmebehandlung 55 °C oder mehr beträgt, kann eine gute Transferleistungsfähigkeit erhalten werden. Falls die Temperatur der Wärmebehandlung 75 °C oder mehr beträgt, wird andererseits die Anzahl an Poren übermäßig groß, so dass das Gleitmittel auf der Oberfläche zu viel wird. Hier bedeutet die Temperatur der Wärmebehandlung die Temperatur einer Atmosphäre, in der das Band T gehalten wird. Als eine andere Temperaturbedingung für den Transferschritt kann eine Temperatur gerade unterhalb der Temperatur, bei der eine Haftung zwischen der magnetischen Schicht 1 und der Trägerschicht 4 aufzutreten beginnt, als eine obere Grenze festgelegt werden.
Die Zeit der Wärmebehandlung beträgt bevorzugt 15 Stunden oder länger, aber 40 Stunden oder kürzer. Falls die Zeit der Wärmebehandlung 15 Stunden oder länger beträgt, kann eine gute Transferleistungsfähigkeit erhalten werden. Falls die Zeit der Wärmebehandlung 40 Stunden oder weniger beträgt, ist es andererseits möglich, eine Verringerung der Produktivität zu unterdrücken.
Falls der Transferschritt nur einmal durchgeführt wird, können gute Ergebnisse erhalten werden, wenn der Transferschritt zum Beispiel unter einer Temperaturbedingung von 60 °C als die Atmosphärentemperatur für 20 Stunden oder länger, bevorzugt 25 Stunden oder länger, durchgeführt wird. Eine Transferzeit kürzer als 15 Stunden wird daher nicht als eine ausreichende Transferverarbeitungszeit erachtet.
Falls der Transferschritt nur einmal durchgeführt wird, entsteht eine Differenz der Festziehkraft zwischen einem Gebiet T1 auf einer Außenseite der Rolle R1 und einem Gebiet T2 in einer Nähe der Rolle R1, wobei ein Trend verursacht wird, dass die Bildung der Vertiefungen 11 in dem Gebiet T1 auf der Außenseite nicht ausreicht.
Bei dieser Technologie ist es daher konfiguriert, dass, wie in 11 veranschaulicht, das Band T, das auf die Rolle R1 aufgewickelt ist und vollständig durch den erstmaligen Transferschritt verarbeitet wurde, in einer entgegengesetzten Richtung abgerollt wird und auf eine andere Rolle R2 aufgerollt wird und der Transferschritt wieder durchgeführt wird. Mit anderen Worten wird das Band T wieder aufgerollt, so dass das Band T1, das sich in dem erstmaligen Transferschritt in dem Gebiet auf der Außenseite der Rolle R1 befindet, in einem Gebiet nahe der Rolle R2 positioniert ist und das Band T2, das sich in dem erstmaligen Transferschritt in dem Gebiet im Inneren der Rolle R1 befindet, in einem Gebiet auf einer Außenseite der Rolle R2 positioniert ist (siehe 9 und 11). Infolgedessen kann die Festziehungskraft über die gesamte Länge des Bandes ausgeglichen werden und kann die Bildung der Vertiefungen gleichmäßig durchgeführt werden.
Bei dem doppelten Transferschritt werden gute Ergebnisse erhalten, wenn die erstmalige und zweitmalige Transferzeit unter der Bedingung einer Atmosphärentemperatur von 55 °C bis 75 °C jeweils auf 10 Stunden eingestellt wurden. Bei einem einmaligen Transfer ist es daher besser geeignet, den Transfer unter der Bedingung einer Atmosphärentemperatur von 55 °C oder mehr und bevorzugt 60 °C oder mehr für 25 Stunden oder länger durchzuführen. Falls ein zweitmaliger Transfer durchgeführt wird, ist es besser geeignet, den Transfer unter einer ähnlichen Temperaturbedingung wie in dem erstmaligen Transfer für 10 Stunden oder länger durchzuführen. Es ist anzumerken, dass die Bedingungen der Temperatur und Behandlungszeit für den erstmaligen Transferschritt und jene für den zweitmaligen Transferschritt die gleichen sein können, die Bedingung eines stärkeren Transfers für das zweite Mal angenommen werden kann oder die Bedingung eines schwächeren Transfers für das zweite Mal angenommen werden kann. Der Transferschritt kann auch dreimal oder öfter durchgeführt werden.
Diese Technologie kann auch die folgenden Konfigurationen annehmen.

(1) Ein Magnetaufzeichnungsband, das Folgendes aufweist:
- eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht, wobei:
  - das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist und mehrere Vertiefungen beinhaltet, die in einer Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind,
  - ein Wert, der durch Teilen einer Tiefe D1 der Vertiefungen durch eine Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt,
  - die magnetische Schicht senkrecht orientiert ist und eine senkrechte Orientierung von 65 % oder mehr unter einer Bedingung von keiner Entmagnetisierungskorrektur aufweist, und
  - die magnetische Schicht mehrere darin gebildete Vertiefungen beinhaltet, mehrere der Vertiefungen eine Tiefe von 20 % oder mehr der Dicke der magnetischen Schicht aufweisen und die Anzahl der Vertiefungen 55 oder mehr pro 6400 µm² eines Oberflächenbereichs der magnetischen Schicht beträgt.
(2) Das Magnetaufzeichnungsband nach (1), wobei ein Verhältnis einer Orientierung der magnetischen Schicht in einer senkrechten Richtung zu einer Orientierung der magnetischen Schicht in einer Longitudinalrichtung 2 oder mehr beträgt.
(3) Das Magnetaufzeichnungsband nach (1) oder (2), wobei die Anzahl der Vertiefungen pro 6400 µm² des Oberflächenbereichs der magnetischen Schicht 120 oder mehr beträgt.
(4) Das Magnetaufzeichnungsband nach einem von (1) bis (3), wobei die Oberfläche der magnetischen Schicht einen Minus-Ssk-Wert aufweist, wie er durch eine kontaktlose optische interferometrische Rauheitsmessung bestimmt wird.
(5) Das Magnetaufzeichnungsband nach einem von (1) bis (4), wobei das Band ein Band ist, das während einer Aufzeichnung oder Wiedergabe mit 4 Meter/Sekunde oder schneller über einen Magnetkopf läuft.
(6) Das Magnetaufzeichnungsband nach einem von (1) bis (5), wobei die Vertiefungen, die in der magnetischen Schicht als eine oberste Schicht angeordnet sind, durch Pressen von Ausbuchtungen gebildet wurden, die auf einer Oberfläche einer Trägerschicht gebildet sind, die als eine unterste Schicht angeordnet ist.
(7) Das Magnetaufzeichnungsband nach einem von (1) bis (6), wobei das Band die magnetische Schicht, eine nichtmagnetische Schicht, eine Basisfilmschicht und die Trägerschicht in dieser Reihenfolge von einer Seite aufweist, wo das Band während eines Laufens des Bandes einem Magnetaufzeichnungskopf gegenüberliegt.
(8) Das Magnetaufzeichnungsband nach einem von (1) bis (7), wobei die Gesamtdicke 4,6 µm oder weniger beträgt.
(9) Ein Magnetaufzeichnungsband, das Folgendes aufweist:
- eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht, wobei
- das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist und mehrere Vertiefungen beinhaltet, die in einer Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind,
- ein Wert, der durch Teilen einer Tiefe D1 der Vertiefungen durch eine Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt, und
- die magnetische Schicht senkrecht orientiert ist und eine senkrechte Orientierung von 65 % oder mehr unter einer Bedingung von keiner Entmagnetisierungskorrektur aufweist.
(10) Ein Magnetaufzeichnungsband, das Folgendes aufweist:
- eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht, wobei:
  - das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist und mehrere Vertiefungen beinhaltet, die in einer Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind,
  - ein Wert, der durch Teilen einer Tiefe D1 der Vertiefungen durch eine Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt, und
  - die Tiefe D1 der Vertiefungen 7,8 µm oder mehr beträgt.
(11) Ein Magnetaufzeichnungsband, das Folgendes aufweist:
- eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht, wobei:
  - das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist und mehrere Vertiefungen beinhaltet, die in einer Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind,
  - ein Wert, der durch Teilen einer Tiefe D1 der Vertiefungen durch eine Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt, und
  - ein Verhältnis einer Orientierung der magnetischen Schicht in einer senkrechten Richtung zu einer Orientierung der magnetischen Schicht in einer Longitudinalrichtung 2 oder mehr beträgt.
(12) Ein Magnetaufzeichnungsband-Cartridge, das Folgendes aufweist:
- eine Konfiguration, dass das Magnetaufzeichnungsband nach einem von (1) bis (11) in einem Zustand, in dem das Magnetaufzeichnungsband auf eine Bandtrommel aufgewickelt ist, in einer Hülle enthalten ist.
(13) Ein Herstellungsverfahren eines Magnetaufzeichnungsbandes, das Folgendes beinhaltet:
- einen Transferschritt des Pressens, während ein Magnetaufzeichnungsband aus einer mehrschichtigen Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht und einer Trägerschicht auf einer Rolle aufgerollt wird, von Ausbuchtungen, die auf einer Oberfläche der Trägerschicht gebildet sind, gegen eine Oberfläche der magnetischen Schicht, wodurch Vertiefungen in der magnetischen Schicht gebildet werden.
(14) Das Herstellungsverfahren nach (13), wobei der Transferschritt ferner durchgeführt wird, indem das Band, das zuvor aufgerollt wurde, in einer entgegengesetzten Richtung abgerollt wird und das Band auf eine andere Rolle aufgerollt wird.
(15) Das Herstellungsverfahren nach (13) oder (14), wobei der Transferschritt eine Wärmebehandlung beinhaltet, die bei einer Temperatur von 55 °C oder mehr und 75 °C oder weniger durchzuführen ist, wobei die Ausbuchtungen gegen die Oberfläche der magnetischen Schicht gepresst werden.

Die Beschreibung erfolgte zuvor insbesondere für die hier offenbarte Ausführungsform und ihre Modifikationen. Jedoch ist diese Technologie nicht auf die oben erwähnte(n) Ausführungsform und Modifikationen beschränkt, sondern eine Vielzahl an Modifikationen ist basierend auf dem technischen Konzept dieser Technologie möglich. Zum Beispiel sind die Konfigurationen, Verfahren, Schritte, Formen, Materialien, numerischen Werte und dergleichen, die in der/den oben erwähnten Ausführungsform und Modifikationen erwähnt wurden, lediglich veranschaulichend und unterschiedliche Konfigurationen, Verfahren, Schritte, Formen, Materialien, numerische Werte und dergleichen können nach Bedarf verwendet werden. Ferner sind die chemischen Formeln der Verbindungen und dergleichen repräsentative und sind nicht auf die beschriebenen Valenzzahlen und dergleichen beschränkt, sofern sie übliche Namen für die gleichen Verbindungen sind. Des Weiteren können die Konfigurationen, Verfahren, Schritte, Formen, Materialien, numerischen Werte und dergleichen in der oben erwähnten Ausführungsform und ihren Modifikationen miteinander kombiniert werden, sofern sie nicht von dem Wesen dieser Offenbarung abweichen.
BEISPIELE
(Experiment 1)
Die vorliegenden Erfinder führten eine Auswertung jedes Magnetaufzeichnungsbandes primär basierend auf der Beziehung zwischen der Tiefe und Anzahl an Vertiefungen in der magnetischen Schicht, zwischen der Höhe und der Anzahl an Ausbuchtungen auf der Trägerschicht und dergleichen durch.
Magnetische Aufzeichnungsbänder der Beispiele 1 bis 14 und der Vergleichsbeispiele 1 bis 8, die unten in Tabelle 1 präsentiert sind, wurden jeweils produziert. Eine Anpassung der Orientierung der Magnetaufzeichnungsbänder wurde so durchgeführt, wie nachfolgend beschrieben ist. Insbesondere wurde ein PEN-Film, der eine längliche Form und eine durchschnittliche Dicke von 4,0 µm aufwies, als eine Basisfilmschicht bereitgestellt. Eine Beschichtungsformulierung zum Bilden einer nichtmagnetischen Schicht (Unterschicht) wurde auf den PEN-Film aufgebracht, gefolgt von Trocknen zum Bilden einer nichtmagnetischen Schicht mit einer durchschnittlichen Dicke von 1,0 bis 1,1 µm auf dem PEN-Film. Eine Beschichtungsformulierung zum Bilden einer magnetischen Schicht wurde auf die nichtmagnetische Schicht aufgebracht, gefolgt von Trocknen, um eine magnetische Schicht der durchschnittlichen Dicke, die unten in Tabelle 1 präsentiert ist, auf der nichtmagnetischen Schicht zu bilden. Beim Trocken der Beschichtungsformulierung zum Bilden der magnetischen Schicht wurde das magnetische Pulver einer Magnetfeldorientierung in der Dickenrichtung des PEN-Films durch eine Solenoid-Spule unterzogen, so dass die Orientierung des resultierenden Magnetaufzeichnungsbandes auf den unten in Tabelle 1 präsentierten Wert angepasst wurde.
Die Magnetaufzeichnungsbänder der Beispiele und Vergleichsbeispiele, die unten in Tabelle 1 präsentiert sind, wiesen alle eine Dicke von 5,6 µm auf.
Merkmale (die Dicke der magnetischen Schicht, die senkrechte Orientierung, die Longitudinalorientierung, die Form des magnetischen Pulvers, die Art eines enthaltenen Elements außer Ferrit) und Auswertungsergebnisse des Bandes von jedem Beispiel oder Vergleichsbeispiel sind in Tabelle 1 tabellarisiert.
Die Auswertung der Charakteristiken jedes Bandes in diesem Experiment wurde durch Messen des dynamischen Reibungskoeffizienten auf dem Kopf in Lauf 1000 relativ zu dem dynamischen Reibungskoeffizienten auf dem Kopf in Lauf 5 und Bestimmen, um wie viel der erstere dynamische Reibungskoeffizient relativ zu dem letzteren dynamischen Reibungskoeffizient zugenommen hat, durchgeführt. Es ist anzumerken, dass ein kleinerer Wert die Reibung des Bandes besser unterdrücken kann und daher besser ist. Die Messung der Reibung wurde unter einer Last von 60 gf, über eine Gleitentfernung von 60 mm und mit einer Bandlaufgeschwindigkeit von 10 mm/s durchgeführt, wobei der Kontaktwinkel des Bandes (Bandfortschrittwinkel) zu einem Kopf der LTO-Standards auf 5,6 ° eingestellt wurde.
Die Auswertung eines SNR wurde mit einem Schleifentestgerät(hergestellt von MicroPhysics, Inc.) durch Erfassen von Signalen durchgeführt, die von dem Magnetaufzeichnungsband jedes Beispiels oder Vergleichsbeispiels wiedergegeben wurden. Die folgenden Signalerfassungsbedingungen wurden Angenommen: Kopf: MGR-Kopf, Geschwindigkeit: 2 m/s, Signale: Einzelaufzeichnungsfrequenz (10 MHz), und Aufzeichnungsstrom: optimaler Aufzeichnungsstrom. Die wiedergegebenen Signale wurden durch einen Spektrumanalysator über eine Spanne (SPAN) von 0 bis 20 MHz (Auflösungsbandbreite = 100 kHz, VWB = 30 kHz) erfasst. Als Nächstes wurde das Verhältnis der Signalintensität S zu der Rauschintensität N als ein SNR (Signal-to-Noise-Ratio - Signal-Rausch-Verhältnis) bestimmt, wobei die Intensität des Signals, das in der Form eines Spektrums erfasst wird, durch S repräsentiert wird und das Grundrauschen ohne Spitzen integriert wird, um die Rauschintensität N zu erhalten.
Das so bestimmte SNR wurde als Nächstes in einen relativen Wert (dB) basierend auf dem SNR aus Beispiel 1 als eine Kontrolle umgewandelt. Unter Verwendung des SNR (dB), das wie oben erwähnt bestimmt wird, wurden die elektromagnetischen Umwandlungscharakteristiken als gut oder schlecht bestimmt. Eine Auswertung erfolgte, indem Werte von 0,5 dB oder mehr als Bestanden eingestuft wurden, 0,5 bis kleiner als 1,0 dB als Rang B bestimmt wurde, 1,0 dB oder mehr als Rang A eingestuft wurde und kleiner als 0,5 dB als Durchgefallen (Rang C) eingestuft wurde.
Bei diesem Experiment 1 wurde herausgefunden, dass die Tiefe der Vertiefungen in einer magnetischen Schicht, insbesondere das Verhältnis der Tiefe der Vertiefungen zu der Dicke der magnetischen Schicht, ein wichtiger Faktor ist. Insbesondere wurde herausgefunden, dass Vertiefungen mit einer Tiefe gleich 15 % oder mehr basierend auf der Dicke einer magnetischen Schicht einen großen Beitrag zu der Unterdrückung einer Zunahme der Reibungskraft erbringen und ferner Vertiefungen mit einer Tiefe gleich 20 % oder mehr basierend auf der Dicke der magnetischen Schicht einen größeren Beitrag zu der Unterdrückung einer Zunahme der Reibungskraft erbringen. Insbesondere wurde herausgefunden, dass die letzteren Vertiefungen, deren Tiefen gleich 20 % oder mehr betragen, einen signifikanten Beitrag erbringen. Es wurde auch herausgefunden, dass Ausbuchtungen, die auf einer zur Verwendung in einem Transfer bestimmten Trägerschicht gebildet wurden, geeigneterweise 30 oder mehr sind, falls ihre Höhen 60 nm oder mehr betragen. Die Anzahl an Vertiefungen, deren Tiefen 15 % oder mehr betragen, ist jeweils pro 6400 µm² bevorzugt 100 oder mehr, bevorzugt 110 oder mehr und besonders bevorzugt 120 oder mehr ist. Ferner ist die Anzahl an Vertiefungen, deren Tiefen 20 % oder mehr betragen, jeweils pro 6400 µm² bevorzugt 30 oder mehr, bevorzugt 55 oder mehr und besonders bevorzugt 60 oder mehr.
Falls die magnetischen Schichten senkrecht orientiert wurden, insbesondere in allen der Beispiele 1 bis 14, in denen die senkrechte Orientierung 60 % oder mehr (ohne Entmagnetisierungskorrektur) betrug und die Longitudinalorientierung 25 % oder mehr betrug, wurde die Zunahme des dynamischen Reibungskoeffizienten auf dem Kopf erfolgreich unterdrückt und war die Auswertung oder Einstufung der SNR-Charakteristiken gut (ausgewertet als „B“ oder besser).
(Experiment 2)
Unter Verwendung eines kontaktlosen optischen interferometrischen Rauheitsmessgerätes (hergestellt von Ryoka Systems, Inc., Produktname: VertScan) wurde als Nächstes ein Messungsexperiment bezüglich der Oberflächen magnetischer Schichten durchgeführt. Die Vergrößerung einer Objektlinse wurde in den Messungen auf 50-fach eingestellt. Bandproben, die in den Messungen verwendet wurden, waren jene der Beispiele 1, 5 und 8 und der Vergleichsbeispiele 6, 7 und 8 (zwei Bandproben für unterschiedliche Messorte, Vergleichsbeispiele 8-1 und 8-2) .

Bei diesem Experiment 2 wurde die Oberflächenrauheit jeder magnetischen Schicht in Bezug auf einen Ssk-Wert (Skewness - Schiefe) und einen Sku-Wert (Kurtosis - Steilheit) erfasst. Ein SSk-Wert ist ein Wert, der den Symmetriegrad einer Höhenverteilung repräsentiert und ein Ssk-Wert = 0 gibt an, dass die Höhenverteilung vertikal symmetrisch ist, ein Ssk-Wert > 0 gibt eine Oberfläche mit vielen feinen Spitzen an und ein Ssk-Wert < 0 gibt eine Oberfläche mit vielen feinen Tälern an. Bezüglich eines Sku-Wertes gibt andererseits ein Sku-Wert = 3 an, dass die Höhenverteilung eine Normalverteilung ist, gibt ein Sku-Wert > 3 eine Oberfläche mit scharfen Spitzen und Tälern an und gibt ein Sku-Wert < 3 eine ebene Oberfläche an. Messergebnisse in diesem Experiment 2 sind unten in Tabelle 2 präsentiert. Experiment bezüglich Oberfläche magnetischer Schichten durch kontaktloses optisches interferometrisches Rauheitsmessgerät

Experiment-Nr.	Vergrößerung der Objektlinse	oberflächenrauheit der magnetischen Schicht
Experiment-Nr.	Vergrößerung der Objektlinse	Ssk-Wert	Sku-Wert
Bsp. 1	50	-0,53	4,45
Bsp. 1	50	-0,32	4,10
Bsp. 5	50	-0,48	4,15
Bsp. 5	50	-0,55	4,32
Bsp. 8	50	-0,32	4,10
Bsp. 8	50	-0,28	4,42
Vgl.-Bsp. 6	50	-0,05	3,34
Vgl.-Bsp. 6	50	0,02	3,34
Vgl. -Bsp. 7	50	0,01	3,08
Vgl. -Bsp. 7	50	-0,02	3,01
Vgl.-Bsp. 8-1	50	0,38	4,16
Vgl.-Bsp. 8-1	50	0,39	4,20
Vgl.-Bsp. 8-2	50	0,09	3,30
Vgl.-Bsp. 8-2	50	0,29	4,20

Über eine Oberfläche der magnetischen Schicht
Wie in Tabelle 2 präsentiert, sind die Ssk-Werte in Beispielen 1, 5 und 8 alle Minuswerte, was erfolgreich einen Zustand von vielen feinen Tälern verifiziert. Die Oberflächenkonfiguration einer magnetischen Schicht mit einer Oberfläche, deren Ssk-Wert Minus (< 0) ist, wie oben erwähnt, kann als ein charakteristisches Merkmal in dieser Technologie betrachtet werden. Mit anderen Worten kann der Ssk-Wert der Oberfläche einer magnetischen Schicht durch eine kontaktlose optische interferometrische Rauheitsmessung in dieser Technologie ein Minuswert sein. Ein solcher Minuswert kann als Daten betrachtet werden, die angeben, dass feine Täler gleichmäßig in der Oberfläche der magnetischen Schicht gebildet wurden. In den Vergleichsbeispielen 6, 7, 8-1 und 8-2 sind die Ssk-Werte andererseits hauptsächlich Werte auf der Plusseite. Es wurde daher herausgefunden, dass die Bildung von Vertiefungen nicht gut war.
Falls sie basierend auf den Sku-Werten analysiert wurden, sind andererseits Werte größer als 4 in Beispielen 1, 5 und 8 präsentiert. Es wird daher aus einem Vergleich mit den numerischen Werten in den Vergleichsbeispielen erkannt, dass es viele scharfe Spitzen und Täler auf den Oberflächen gab. Daher kann die Auswertung basierend auf den Sku-Werten auch bestimmen, dass der Bildungszustand von Vertiefungen in jeder magnetischen Oberfläche in den Beispielen besser war.
(Experiment 3)
Unter Verwendung eines Atomkraftmikroskops (Abkürzung AFM (Atomic Force Microscope), hergestellt von Degital Instruments, NanoScpe IIIa) wurden die Oberflächen magnetischer Schichten mit Vergrößerung beobachtet.
12 präsentiert Zeichnungssubstitutionsfotografien, in denen die Fotografie (a) eine Atomkraftmikrofotografie der Oberfläche einer magnetischen Schicht in einem Fall, in dem kein Transferschritt durchgeführt wurde, ist und die Fotografie (b) eine Atomkraftmikrofotografie der Oberfläche einer anderen magnetischen Schicht in einem Fall, in dem ein Transferschritt durchgeführt wurde, ist. Bei diesem Experiment wurde der Transferschritt mit Ausbuchtungen durchgeführt, die auf jeder Trägerschicht aus 80 Massen-% von kleinen Kohlenstoffteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 20 nm und 20 Massen-% von großen Kohlenstoffteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 270 nm gebildet wurden.
Aus einem Vergleich zwischen diesen zwei Fotografien wurde erfolgreich bestätigt, dass selbst durch nur einmaliges Durchführen eines Transferschrittes viele Vertiefungen effektiv in der Oberfläche einer magnetischen Schicht gebildet wurden und die Vertiefungen breitflächiger und gleichmäßiger in der Oberfläche der magnetischen Schicht gebildet sind (siehe die Fotografie aus 12 (b)).
In der Fotografie (b) entsprechen kleine dunkle Flecken den Vertiefungen. Das Zählen der Anzahl an Vertiefungen in der Oberfläche der magnetischen Schicht, die dem Transfer einmal unterzogen wurde, ergab die folgenden Ergebnisse: 219 Vertiefungen mit Tiefen von 13 nm und mehr, 152 Vertiefungen mit Tiefen von 15 nm und mehr und 106 Vertiefungen mit Tiefen von 17 nm und mehr (jeweils pro Fläche von 80 µm × 80 µm = 6400 µm²). Da die Dicke der magnetischen Schicht in dem Band, das in diesem Experiment verwendet wurde, 85 nm betrug, entspricht die Tiefe von 13 nm 15,9 % basierend auf der Dicke der magnetischen Schicht, entspricht die Dicke von 15 nm 17,6 % basierend auf der Dicke der magnetischen Schicht und entspricht die Dicke von 17 nm 20 % basierend auf der Dicke der magnetischen Schicht.
(Experiment 4)
Magnetaufzeichnungsbänder der Beispiele 2-1 bis 2-14, die jeweils den Beispielen 1 bis 14 entsprechen, wurden auf dieselbe Weise wie in dem oben beschriebenen Experiment 1 vorbereitet, mit Ausnahme der Verwendung einer Basisschicht, die dünner als die in Experiment 1 verwendete Basisschicht war. Die Magnetaufzeichnungsbänder der Beispiele 2-1 bis 2-14 wiesen alle eine Gesamtdicke von 4,6 µm auf.
An diesen Magnetaufzeichnungsbändern wurde die gleiche Auswertung wie jene in Experiment 1 beschriebene durchgeführt. Infolgedessen wurden ähnliche Ergebnisse wie in Experiment 1 erhalten. Insbesondere waren die dynamischen Reibungskoeffizienten der Magnetaufzeichnungsbänder aus Beispielen 2-1 bis 2-14 auf dem Kopf alle niedrig, bei ähnlichen Niveaus wie in Beispielen 1 bis 14 und wurden die SNRs der Magnetaufzeichnungsbänder der Beispiele 2-1 bis 2-14 alle als A eingestuft. Es versteht sich daher, dass die vorteilhaften Effekte dieser Technologie selbst dann herbeigeführt werden können, wenn ein Magnetaufzeichnungsband eine Gesamtdicke von 4,6 µm aufweist.
(Experiment 5)
Magnetische Aufzeichnungsbänder der Beispiele 3-1 bis 3-9, wie unten in Tabelle 3 präsentiert, wurden produziert. Produktionsverfahren jener Magnetaufzeichnungsbänder werden nachfolgend beschrieben.
[Beispiel 3-1]
Ein Magnetaufzeichnungsband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die magnetische Flussdichte eines senkrecht orientierenden Solenoids in dem Orientierungsschritt der magnetischen Beschichtungsformulierung erhöht wurde und die Trocknungszeit angepasst wurde.
[Beispiel 3-2]
Ein Magnetaufzeichnungsband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die magnetische Beschichtungsformulierung in einem Dispergierungszustand verwendet wurde, der aufgrund einer erweiterten Dispergierungszeit in einer Sandmühle verbessert wurde, und dass die magnetische Flussdichte des senkrecht orientierenden Solenoids in dem Orientierungsschritt der magnetischen Beschichtungsformulierung erhöht wurde.
[Beispiel 3-3]
Ein Magnetband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die magnetische Beschichtungsformulierung in einem Dispergierungszustand verwendet wurde, der aufgrund einer erweiterten Dispergierungszeit in der Sandmühle verbessert wurde, und dass die magnetische Flussdichte des senkrecht orientierenden Solenoids in dem Orientierungsschritt der magnetischen Beschichtungsformulierung erhöht wurde und die Trocknungszeit angepasst wurde.
[Beispiel 3-4]
Ein Magnetband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass das Pulver aus hexagonalen Plättchen-Bariumferrit(BaFe₁₂O₁₉)-Teilchen von dem Pulver mit dem Teilchenvolumen von 1950 nm³ zu einem Pulver mit einem Teilchenvolumen von 1600 nm³ geändert wurde.
[Beispiel 3-5]
Ein Magnetband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass das Pulver aus hexagonalen Plättchen-Bariumferrit(BaFe₁₂O₁₉)-Teilchen von dem Pulver mit dem Teilchenvolumen von 1950 nm³ zu einem Pulver mit einem Teilchenvolumen von 1300 nm³ geändert wurde.
[Beispiel 3-6]
Ein Magnetband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die durchschnittliche Dicke der magnetischen Schicht von 80 zu 60 nm geändert wurde.
[Beispiel 3-7]
Ein Magnetband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die durchschnittliche Dicke der magnetischen Schicht von 80 zu 40 nm geändert wurde.
[Beispiel 3-8]
Ein Magnetband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass das Pulver aus hexagonalen Plättchen-Bariumferrit(BaFe₁₂O₁₉)-Teilchen von dem Pulver mit dem Teilchenvolumen von 1950 nm³ zu einem Pulver mit einem Teilchenvolumen von 2800 nm³ geändert wurde.
[Beispiel 3-9]
Ein Magnetband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass das Pulver aus hexagonalen Plättchen-Bariumferrit(BaFe₁₂O₁₉)-Teilchen von dem Pulver mit dem Teilchenvolumen von 1950 nm³ zu einem Pulver mit einem Teilchenvolumen von 2500 nm³ geändert wurde.
An diesen Magnetaufzeichnungsbändern wurde die gleiche Auswertung wie jene in Experiment 1 beschriebene durchgeführt. Auswertungsergebnisse sind unten in Tabelle 3 präsentiert. Wie in Tabelle 3 präsentiert, wurden ähnliche Ergebnisse wie in Experiment 1 in sämtlichen Beispielen erhalten. Insbesondere waren die dynamischen Reibungskoeffizienten der Magnetaufzeichnungsbänder aus Beispielen 3-1 bis 3-9 auf dem Kopf alle niedrig, bei ähnlichen Niveaus wie in Beispiel 1 und wurden die SNRs der Magnetaufzeichnungsbänder der Beispiele 3-1 bis 3-9 alle als A eingestuft.
Ferner versteht es sich, dass wie in Tabelle 3 präsentiert, gute Ergebnisse selbst dann erhalten werden, wenn das Teilchenvolumen des magnetischen Pulvers wie in Tabelle 3 präsentiert geändert wird. Das Teilchenvolumen des magnetischen Pulvers kann bevorzugt 1000 nm³ bis 3000 nm³ und weiter bevorzugt 1200 nm³ bis 2800 nm³ betragen.
Bezugszeichenliste

T: Magnetaufzeichnungsband
1: Magnetische Schicht
1a: Oberfläche der magnetischen Schicht
2: Nichtmagnetische Schicht (Zwischenschicht oder Unterschicht)
3: Basisfilmschicht
4: Trägerschicht
5: Band-Cartridge
4a: Oberfläche der Trägerschicht
11: Vertiefung (in der magnetischen Schicht)
41: Ausbuchtung (hervorstehender Teil) (auf der Trägerschicht)
51: Cartridge-Hülle
R1, R2: Rolle

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

JP 201741293 [0007]
JP 6325349 [0007]

Claims

Magnetisches Aufzeichnungsband, das Folgendes umfasst: eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht, wobei das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist und mehrere Vertiefungen beinhaltet, die in einer Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind, ein Wert, der durch Teilen einer Tiefe D1 der Vertiefungen durch eine Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt, die magnetische Schicht senkrecht orientiert ist und eine senkrechte Orientierung von 65 % oder mehr unter einer Bedingung von keiner Entmagnetisierungskorrektur aufweist, und die magnetische Schicht mehrere darin gebildete Vertiefungen beinhaltet, mehrere der Vertiefungen eine Tiefe von 20 % oder mehr der Dicke der magnetischen Schicht aufweisen und die Anzahl der Vertiefungen 55 oder mehr pro 6400 µm² eines Oberflächenbereichs der magnetischen Schicht beträgt.
Magnetisches Aufzeichnungsband nach Anspruch 1, wobei ein Verhältnis einer Orientierung der magnetischen Schicht in einer senkrechten Richtung zu einer Orientierung der magnetischen Schicht in einer Longitudinalrichtung 2 oder mehr beträgt.
Magnetisches Aufzeichnungsband nach Anspruch 2, wobei die Anzahl der Vertiefungen pro 6400 µm² des Oberflächenbereichs der magnetischen Schicht 120 oder mehr beträgt.
Magnetisches Aufzeichnungsband nach Anspruch 1, wobei die Oberfläche der magnetischen Schicht einen Minus-Ssk-Wert aufweist, wie er durch eine kontaktlose optische interferometrische Rauheitsmessung bestimmt wird.
Magnetisches Aufzeichnungsband nach Anspruch 1, wobei das Band ein Band ist, das während einer Aufzeichnung oder Wiedergabe mit 4 m/s oder schneller über einen Magnetkopf läuft.
Magnetisches Aufzeichnungsband nach Anspruch 1, wobei die Vertiefungen, die in der magnetischen Schicht als eine oberste Schicht angeordnet sind, durch Pressen von Ausbuchtungen gebildet wurden, die auf einer Oberfläche einer Trägerschicht gebildet sind, die als eine unterste Schicht angeordnet ist.
Magnetisches Aufzeichnungsband nach Anspruch 1, wobei das Band die magnetische Schicht, eine nichtmagnetische Schicht, eine Basisfilmschicht und die Trägerschicht in dieser Reihenfolge von einer Seite aufweist, wo das Band während eines Laufens des Bandes einem Magnetaufzeichnungskopf gegenüberliegt.
Magnetisches Aufzeichnungsband nach Anspruch 1, wobei die Gesamtdicke 4,6 µm oder weniger beträgt.
Magnetisches Aufzeichnungsband, das Folgendes umfasst: eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht, wobei das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist und mehrere Vertiefungen beinhaltet, die in einer Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind, ein Wert, der durch Teilen einer Tiefe D1 der Vertiefungen durch eine Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt, und die magnetische Schicht senkrecht orientiert ist und eine senkrechte Orientierung von 65 % oder mehr unter einer Bedingung von keiner Entmagnetisierungskorrektur aufweist.
Magnetisches Aufzeichnungsband, das Folgendes umfasst: eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht, wobei das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist und mehrere Vertiefungen beinhaltet, die in einer Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind, ein Wert, der durch Teilen einer Tiefe D1 der Vertiefungen durch eine Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt, und die Tiefe D1 der Vertiefungen 7,8 µm oder mehr beträgt.
Magnetisches Aufzeichnungsband, das Folgendes umfasst: eine mehrschichtige Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht, wobei das Band eine Gesamtdicke von 5,6 µm oder weniger aufweist und mehrere Vertiefungen beinhaltet, die in einer Oberfläche der magnetischen Schicht angeordnet sind, ein Wert, der durch Teilen einer Tiefe D1 der Vertiefungen durch eine Dicke D2 der magnetischen Schicht erhalten wird, 15 % oder mehr beträgt, und ein Verhältnis einer Orientierung der magnetischen Schicht in einer senkrechten Richtung zu einer Orientierung der magnetischen Schicht in einer Longitudinalrichtung 2 oder mehr beträgt.
Magnetaufzeichnungsband-Cartridge, das Folgendes aufweist: eine Konfiguration, dass das Magnetaufzeichnungsband nach Anspruch 1 in einem Zustand, in dem das Magnetaufzeichnungsband auf eine Bandtrommel aufgewickelt ist, in einer Hülle enthalten ist.
Herstellungsverfahren eines Magnetaufzeichnungsbandes, das Folgendes umfasst: einen Transferschritt des Pressens, während ein Magnetaufzeichnungsband aus einer mehrschichtigen Struktur einschließlich wenigstens einer magnetischen Schicht und einer Trägerschicht auf einer Rolle aufgerollt wird, von Ausbuchtungen, die auf einer Oberfläche der Trägerschicht gebildet sind, gegen eine Oberfläche der magnetischen Schicht, wodurch Vertiefungen in der magnetischen Schicht gebildet werden.
Herstellungsverfahren nach Anspruch 14, wobei: der Transferschritt ferner durchgeführt wird, indem das Band, das zuvor aufgerollt wurde, in einer entgegengesetzten Richtung abgerollt wird und das Band auf eine andere Rolle aufgerollt wird.
Herstellungsverfahren nach Anspruch 13, wobei: der Transferschritt eine Wärmebehandlung beinhaltet, die bei einer Temperatur von 55 °C oder mehr und 75 °C oder weniger durchzuführen ist, wobei die Ausbuchtungen gegen die Oberfläche der magnetischen Schicht gepresst werden.