JP6927405B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

本開示は、磁気記録媒体に関する。

電子データの保存のために、テープ状の磁気記録媒体が幅広く利用されている。特許文献１では、磁気記録媒体の電磁変換特性を向上するために、磁性層の表面を平滑化することが記載されている。また、同文献では、磁気記録媒体とヘッドの接触による摩擦を抑えるために、磁性層に潤滑剤を添加することが記載されている。

特開２００６−６５９５３号公報

しかしながら、磁性層の表面を平滑化すると、繰り返し記録または再生を行った後に、磁気記録媒体とヘッドの間に潤滑剤を安定して供給することが困難になり、動摩擦係数の増加を招く虞がある。

本開示の目的は、繰り返し記録または再生を行った後にも、動摩擦係数の増加を抑制することができる磁気記録媒体を提供することにある。

上述の課題を解決するために、本開示は、テープ状の磁気記録媒体であって、基体と、基体上に設けられた下地層と、下地層上に設けられ、六方晶フェライトを含む磁性粉を含む磁性層とを備え、下地層および磁性層は、潤滑剤を含み、磁性層は、多数の孔部が設けられた表面を有し、表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、潤滑剤を除去した状態における磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上であり、垂直方向における角形比は、６５％以上であり、磁性層の平均厚みは、９０ｎｍ以下であり、磁気記録媒体の平均厚みは、５．６μｍ以下である磁気記録媒体である。

本開示によれば、繰り返し記録または再生を行った後にも、動摩擦係数の増加を抑制することができる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果またはそれらと異質な効果であってもよい。

一実施形態に係る磁気記録媒体の断面図である。 図２Ａは、データバンドおよびサーボバンドのレイアウトの概略図である。図２Ｂは、データバンドの拡大図である。 磁性粒子の断面図である。 ＳＦＤ曲線の一例を示すグラフである。 記録再生装置の概略図である。 変形例における磁性粒子の断面図である。 変形例における磁気記録媒体の断面図である。

本技術の実施形態について以下の順序で説明する。
１ 磁気記録媒体の構成
２ 磁気記録媒体の製造方法
３ 記録再生装置の構成
４ 効果
５ 変形例

［１ 磁気記録媒体の構成］
まず、図１を参照して、一実施形態に係る磁気記録媒体１０の構成について説明する。磁気記録媒体１０は、長尺状の基体１１と、基体１１の一方の主面上に設けられた下地層１２と、下地層１２上に設けられた磁性層１３と、基体１１の他方の主面上に設けられたバック層１４とを備える。磁性層１３の表面が、磁気ヘッドが走行される表面となる。なお、下地層１２およびバック層１４は、必要に応じて備えられるものであり、無くてもよい。

磁気記録媒体１０は長尺のテープ状を有し、記録再生の際には長手方向に走行される。磁気記録媒体１０は、記録用ヘッドとしてリング型ヘッドを備える記録再生装置に用いられるものであることが好ましい。

（基体）
基体１１は、下地層１２および磁性層１３を支持する非磁性支持体である。基体１１は、長尺のフィルム状を有する。基体１１の平均厚みの上限値は、好ましくは４．２μｍ以下、より好ましくは３．８μｍ以下、さらにより好ましくは３．４μｍ以下である。基体１１の平均厚みの上限値が４．２μｍ以下であると、１データカートリッジ内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体よりも高めることができる。基体１１の平均厚みの下限値は、好ましくは３μｍ以上、より好ましくは３．２μｍ以上である。基体１１の平均厚みの下限値が３μｍ以上であると、基体１１の強度低下を抑制することができる。

基体１１の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気記録媒体１０を準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプルを作製する。続いて、サンプルの基体１１以外の層（すなわち下地層１２、磁性層１３およびバック層１４）をＭＥＫ（メチルエチルケトン）または希塩酸等の溶剤で除去する。次に、測定装置としてMitsutoyo社製レーザーホロゲージを用いて、サンプル（基体１１）の厚みを５点以上の位置で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、基体１１の平均厚みを算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。

基体１１は、例えば、ポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロース誘導体、ビニル系樹脂、およびその他の高分子樹脂のうちの少なくとも１種を含む。基体１１が上記材料のうちの２種以上を含む場合、それらの２種以上の材料は混合されていてもよいし、共重合されていてもよいし、積層されていてもよい。

ポリエステル類は、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＣＴ（ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ＰＥＢ（ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート）およびポリエチレンビスフェノキシカルボキシレートのうちの少なくとも１種を含む。

ポリオレフィン類は、例えば、ＰＥ（ポリエチレン）およびＰＰ（ポリプロピレン）のうちの少なくとも１種を含む。セルロース誘導体は、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ＣＡＢ（セルロースアセテートブチレート）およびＣＡＰ（セルロースアセテートプロピオネート）のうちの少なくとも１種を含む。ビニル系樹脂は、例えば、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）およびＰＶＤＣ（ポリ塩化ビニリデン）のうちの少なくとも１種を含む。

その他の高分子樹脂は、例えば、ＰＡ（ポリアミド、ナイロン）、芳香族ＰＡ（芳香族ポリアミド、アラミド）、ＰＩ（ポリイミド）、芳香族ＰＩ（芳香族ポリイミド）、ＰＡＩ（ポリアミドイミド）、芳香族ＰＡＩ（芳香族ポリアミドイミド）、ＰＢＯ（ポリベンゾオキサゾール、例えばザイロン（登録商標））、ポリエーテル、ＰＥＫ（ポリエーテルケトン）、ポリエーテルエステル、ＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）、ＰＥＩ（ポリエーテルイミド）、ＰＳＦ（ポリスルフォン）、ＰＰＳ（ポリフェニレンスルフィド）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＡＲ（ポリアリレート）およびＰＵ（ポリウレタン）のうちの少なくとも１種を含む。

（磁性層）
磁性層１３は、信号を記録するための記録層である。磁性層１３は、例えば、磁性粉、結着剤および潤滑剤を含む。磁性層１３が、必要に応じて、導電性粒子、研磨剤、防錆剤等の添加剤をさらに含んでいてもよい。

磁性層１３は、多数の孔部１３Ａが設けられた表面を有している。これらの多数の孔部１３Ａには、潤滑剤が蓄えられている。多数の孔部１３Ａは、磁性層１３の表面に対して垂直方向に延設されていることが好ましい。磁性層１３の表面に対する潤滑剤の供給性を向上することができるからである。なお、多数の孔部１３Ａの一部が垂直方向に延設されていてもよい。

磁性層１３の表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下、好ましくは２．２ｎｍ以下、より好ましくは１．９ｎｍ以下である。算術平均粗さＲａが２．５ｎｍ以下であると、優れた電磁変換特性を得ることができる。磁性層１３の表面の算術平均粗さＲａの下限値は、好ましくは１．０ｎｍ以上、より好ましくは１．２ｎｍ以上、さらにより好ましくは１．４ｎｍ以上である。磁性層１３の表面の算術平均粗さＲａの下限値が１．０ｎｍ以上であると、摩擦の増大による走行性の低下を抑制することができる。

上記の算術平均粗さＲａは以下のようにして求められる。まず、ＡＦＭ（Atomic Force Microscope）（ブルカー製、Dimension Icon）を用いて磁性層１３の表面を観察して、断面プロファイルを取得する。次に、取得した断面プロファイルから、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に準拠して算術平均粗さＲａを求める。

潤滑剤を除去した状態における磁気記録媒体１０の全体のＢＥＴ比表面積の下限値は、３．５ｍ²／ｍｇ以上、好ましくは４ｍ²／ｍｇ以上、より好ましくは４．５ｍ²／ｍｇ以上、さらにより好ましくは５ｍ²／ｍｇ以上である。ＢＥＴ比表面積の下限値が３．５ｍ²／ｍｇ以上であると、繰り返し記録または再生を行った後にも（すなわち磁気ヘッドを磁気記録媒体１０の表面に接触させて繰り返し走行を行った後にも）、磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間に対する潤滑剤の供給量の低下を抑制することができる。したがって、動摩擦係数の増加を抑制することができる。

潤滑剤を除去した状態における磁気記録媒体１０の全体のＢＥＴ比表面積の上限値は、好ましくは７ｍ²／ｍｇ以下、より好ましくは６ｍ²／ｍｇ以下、さらにより好ましくは５．５ｍ²／ｍｇ以下である。ＢＥＴ比表面積の上限値が７ｍ²／ｍｇ以下であると、多数回走行後にも潤滑剤を枯渇することなく十分に供給できる。したがって、動摩擦係数の増加を抑制することができる。

ＢＪＨ法により求められる磁気記録媒体１０の全体の平均細孔直径は、６ｎｍ以上１１ｎｍ以下、好ましくは７ｎｍ以上１０ｎｍ以下、より好ましくは７．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。平均細孔直径が６ｎｍ以上１１ｎｍ以下であると、上述した動摩擦係数の増加を抑制する効果をさらに向上することができる。

ＢＥＴ比表面積および細孔分布（細孔容積、脱着時最大細孔容積の細孔直径）は以下のようにして求められる。まず、磁気記録媒体１０をヘキサンで２４時間洗浄したのち、面積０．１２６５ｍ²のサイズに切り出すことにより、測定サンプルを作製する。次に、比表面積・細孔分布測定装置を用いて、ＢＥＴ比表面積を求める。また、ＢＪＨ法により細孔分布（細孔容積、脱着時最大細孔容積の細孔直径）を求める。以下に、測定装置および測定条件を示す。
測定装置：Micromeritics社製 3FLEX
測定吸着質：Ｎ₂ガス
測定圧力範囲（ｐ／ｐ０）：０〜０．９９５

磁性層１３は、図２Ａに示すように、複数のサーボバンドＳＢと複数のデータバンドＤＢとを予め有していることが好ましい。複数のサーボバンドＳＢは、磁気記録媒体１０の幅方向に等間隔で設けられている。隣り合うサーボバンドＳＢの間には、データバンドＤＢが設けられている。サーボバンドＳＢには、磁気ヘッドのトラッキング制御をするためのサーボ信号が予め書き込まれている。データバンドＤＢには、ユーザデータが記録される。

磁性層１３の表面の面積Ｓに対するサーボバンドＳＢの総面積Ｓ_SBの割合Ｒ_S（＝（Ｓ_SB／Ｓ）×１００）の上限値は、高記録容量を確保する観点から、好ましくは４．０％以下、より好ましくは３．０％以下、さらにより好ましくは２．０％以下である。一方、磁性層１３の表面の面積Ｓに対するサーボバンドＳＢの総面積Ｓ_SBの割合Ｒ_Sの下限値は、５以上のサーボトラックを確保する観点から、好ましくは０．８％以上である。

磁性層１３の表面の面積Ｓに対するサーボバンドＳＢの総面積Ｓ_SBの割合Ｒ_Sは以下のようにして求められる。まず、磁性層１３の表面を磁気力顕微鏡（Magnetic Force Microscope：ＭＦＭ）を用いて観察し、ＭＦＭ像を取得する。続いて、取得されたＭＦＭ像を用いて、サーボバンド幅Ｗ_SBおよびサーボバンドＳＢの本数を測定する。次に、以下の式から割合Ｒ_Sを求める。
割合Ｒ_S［％］＝（（（サーボバンド幅Ｗ_SB）×（サーボバンド本数））／（磁気記録媒体１０の幅））×１００

サーボバンドＳＢの数は、好ましくは５以上、より好ましくは５＋４ｎ（但し、ｎは正の整数である。）以上である。サーボバンドＳＢの数が５以上であると、磁気記録媒体１０の幅方向の寸法変化によるサーボ信号への影響を抑制し、オフトラックが少ない安定した記録再生特性を確保できる。

サーボバンド幅Ｗ_SBの上限値は、高記録容量を確保する観点から、好ましくは９５μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下、さらにより好ましくは３０μｍ以下である。サーボバンド幅Ｗ_SBの下限値は、記録ヘッド製造の観点から、好ましくは１０μｍ以上である。サーボバンド幅Ｗ_SBの幅は以下のようにして求められる。まず、磁性層１３の表面を磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）を用いて観察し、ＭＦＭ像を取得する。次に、ＭＦＭ像を用いてサーボバンド幅Ｗ_SBの幅を測定する。

磁性層１３は、図２Ｂに示すように、データバンドＤＢに複数のデータトラックＴｋを形成可能に構成されている。この場合、データトラック幅Ｗ_Tkの上限値は、高記録容量を確保する観点から、好ましくは２．０μｍ以下、より好ましくは１．５μｍ以下、さらにより好ましくは１．０μｍ以下である。データトラック幅Ｗ_Tkの下限値は、磁性粒子サイズの観点から、好ましくは０．０２μｍ以上である。

磁性層１３は、高記録容量を確保する観点から、磁化反転間距離Ｌの最小値が好ましくは４８ｎｍ以下、より好ましくは４４ｎｍ以下、さらにより好ましくは４０ｎｍ以下となるように、データを記録可能に構成されている。磁化反転間距離Ｌの最小値の下限値は、磁性粒子サイズの観点から、好ましくは２０ｎｍ以上である。

磁性層１３の平均厚みの上限値は、好ましくは９０ｎｍ以下、特に好ましくは８０ｎｍ以下、より好ましくは７０ｎｍ以下、さらにより好ましくは５０ｎｍ以下である。磁性層１３の平均厚みの上限値が９０ｎｍ以下であると、記録ヘッドとしてはリング型ヘッドを用いた場合に、磁性層１３の厚み方向に均一に磁化を記録できるため、電磁変換特性を向上することができる。

磁性層１３の平均厚みの下限値は、好ましくは３５ｎｍ以上である。磁性層１３の平均厚みの上限値が３５ｎｍ以上であると、再生ヘッドとしてはＭＲ型ヘッドを用いた場合に、出力を確保できるため、電磁変換特性を向上することができる。

磁性層１３の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、磁気記録媒体１０を、その主面に対して垂直に薄く加工して試料片を作製し、その試験片の断面を透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscope：ＴＥＭ）により観察を行う。以下に、装置および観察条件を示す。
装置：ＴＥＭ（日立製作所製Ｈ９０００ＮＡＲ）
加速電圧：３００ｋＶ
倍率：１００，０００倍
次に、得られたＴＥＭ像を用い、磁気記録媒体１０の長手方向に少なくとも１０点以上の位置で磁性層１３の厚みを測定した後、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して磁性層１３の平均厚みを求める。なお、測定位置は、試験片から無作為に選ばれるものとする。

（磁性粉）
磁性粉は、ε酸化鉄を含有するナノ粒子（以下「ε酸化鉄粒子」という。）の粉末を含む。ε酸化鉄粒子は微粒子でも高保磁力を得ることができる。ε酸化鉄粒子に含まれるε酸化鉄は、磁気記録媒体１０の厚み方向（垂直方向）に優先的に結晶配向していることが好ましい。

ε酸化鉄粒子は、球状もしくはほぼ球状を有しているか、または立方体状もしくはほぼ立方体状を有している。ε酸化鉄粒子が上記のような形状を有しているため、磁性粒子としてε酸化鉄粒子を用いた場合、磁性粒子として六角板状のバリウムフェライト粒子を用いた場合に比べて、磁気記録媒体１０の厚み方向における粒子同士の接触面積を低減し、粒子同士の凝集を抑制することができる。したがって、磁性粉の分散性を高め、より良好なＳＮＲ（Signal-to-Noise Ratio）を得ることができる。

ε酸化鉄粒子は、コアシェル型構造を有する。具体的には、ε酸化鉄粒子は、図３に示すように、コア部２１と、このコア部２１の周囲に設けられた２層構造のシェル部２２とを備える。２層構造のシェル部２２は、コア部２１上に設けられた第１シェル部２２ａと、第１シェル部２２ａ上に設けられた第２シェル部２２ｂとを備える。

コア部２１は、ε酸化鉄を含む。コア部２１に含まれるε酸化鉄は、ε−Ｆｅ₂Ｏ₃結晶を主相とするものが好ましく、単相のε−Ｆｅ₂Ｏ₃からなるものがより好ましい。

第１シェル部２２ａは、コア部２１の周囲のうちの少なくとも一部を覆っている。具体的には、第１シェル部２２ａは、コア部２１の周囲を部分的に覆っていてもよいし、コア部２１の周囲全体を覆っていてもよい。コア部２１と第１シェル部２２ａの交換結合を十分なものとし、磁気特性を向上する観点からすると、コア部２１の表面全体を覆っていることが好ましい。

第１シェル部２２ａは、いわゆる軟磁性層であり、例えば、α−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｆｅ合金またはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金等の軟磁性体を含む。α−Ｆｅは、コア部２１に含まれるε酸化鉄を還元することにより得られるものであってもよい。

第２シェル部２２ｂは、酸化防止層としての酸化被膜である。第２シェル部２２ｂは、α酸化鉄、酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素を含む。α酸化鉄は、例えばＦｅ₃Ｏ₄、Ｆｅ₂Ｏ₃およびＦｅＯのうちの少なくとも１種の酸化鉄を含む。第１シェル部２２ａがα−Ｆｅ（軟磁性体）を含む場合には、α酸化鉄は、第１シェル部２２ａに含まれるα−Ｆｅを酸化することにより得られるものであってもよい。

ε酸化鉄粒子が、上述のように第１シェル部２２ａを有することで、熱安定性を確保するためにコア部２１単体の保磁力Ｈｃを大きな値に保ちつつ、ε酸化鉄粒子（コアシェル粒子）全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できる。また、ε酸化鉄粒子が、上述のように第２シェル部２２ｂを有することで、磁気記録媒体１０の製造工程およびその工程前において、ε酸化鉄粒子が空気中に暴露されて、粒子表面に錆び等が発生することにより、ε酸化鉄粒子の特性が低下することを抑制することができる。したがって、磁気記録媒体１０の特性劣化を抑制することができる。

磁性粉の平均粒子サイズ（平均最大粒子サイズ）は、好ましくは２２ｎｍ以下、より好ましくは８ｎｍ以上２２ｎｍ以下、さらにより好ましくは１２ｎｍ以上２２ｎｍ以下である。磁気記録媒体１０では、記録波長の１／２のサイズの領域が実際の磁化領域となる。このため、磁性粉の平均粒子サイズを最短記録波長の半分以下に設定することで、良好なＳ／Ｎを得ることができる。したがって、磁性粉の平均粒子サイズが２２ｎｍ以下であると、高記録密度の磁気記録媒体１０（例えば４４ｎｍ以下の最短記録波長で信号を記録可能に構成された磁気記録媒体１０）において、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。一方、磁性粉の平均粒子サイズが８ｎｍ以上であると、磁性粉の分散性がより向上し、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。

磁性粉の平均アスペクト比が、好ましくは１以上２．５以下、より好ましくは１以上２．１以下、さらにより好ましくは１以上１．８以下である。磁性粉の平均アスペクト比が１以上２．５以下の範囲内であると、磁性粉の凝集を抑制することができると共に、磁性層１３の形成工程において磁性粉を垂直配向させる際に、磁性粉に加わる抵抗を抑制することができる。したがって、磁性粉の垂直配向性を向上することができる。

上記の磁性粉の平均粒子サイズおよび平均アスペクト比は、以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体１０をＦＩＢ（Focused Ion Beam）法等により加工して薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。次に、撮影したＴＥＭ写真から５０個のε酸化鉄粒子を無作為に選び出し、各ε酸化鉄粒子の長軸長ＤＬと短軸長ＤＳを測定する。ここで、長軸長ＤＬとは、ε酸化鉄粒子の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大のもの（いわゆる最大フェレ径）を意味する。一方、短軸長ＤＳとは、ε酸化鉄粒子の長軸と直交する方向におけるε酸化鉄粒子の長さのうち最大のものを意味する。

続いて、測定した５０個のε酸化鉄粒子の長軸長ＤＬを単純に平均（算術平均）して平均長軸長ＤＬaveを求める。このようにして求めた平均長軸長ＤＬaveを磁性粉の平均粒子サイズとする。また、測定した１０個のε酸化鉄粒子の短軸長ＤＳを単純に平均（算術平均）して平均短軸長ＤＳaveを求める。そして、平均長軸長ＤＬaveおよび平均短軸長ＤＳaveからε酸化鉄粒子の平均アスペクト比（ＤＬave／ＤＳave）を求める。

磁性粉の平均粒子体積は、好ましくは５５００ｎｍ³以下、より好ましくは２７０ｎｍ³以上５５００ｎｍ³以下、さらにより好ましくは９００ｎｍ³以上５５００ｎｍ³以下である。磁性粉の平均粒子体積が５５００ｎｍ³以下であると、磁性粉の平均粒子サイズを２２ｎｍ以下とする場合と同様の効果が得られる。一方、磁性粉の平均粒子体積が２７０ｎｍ³以上であると、磁性粉の平均粒子サイズを８ｎｍ以上とする場合と同様の効果が得られる。

ε酸化鉄粒子が球状またはほぼ球状を有している場合には、磁性粉の平均粒子体積は以下のようにして求められる。まず、上記の磁性粉の平均粒子サイズの算出方法と同様にして、平均長軸長ＤＬaveを求める。次に、以下の式により、磁性粉の平均体積Ｖを求める。
Ｖ＝（π/６）×ＤＬave³

ε酸化鉄粒子が立方体状またはほぼ立方体状を有している場合には、磁性粉の平均体積は以下のようにして求められる。まず、上記の磁性粉の平均粒子サイズの算出方法と同様にして、平均長軸長ＤＬaveを求める。次に、以下の式により、磁性粉の平均体積Ｖを求める。
Ｖ＝ＤＬave³

（結着剤）
結着剤としては、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂等に架橋反応を付与した構造の樹脂が好ましい。しかしながら結着剤はこれらに限定されるものではなく、磁気記録媒体１０に対して要求される物性等に応じて、その他の樹脂を適宜配合してもよい。配合する樹脂としては、通常、塗布型の磁気記録媒体１０において一般的に用いられる樹脂であれば、特に限定されない。

例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、合成ゴム等が挙げられる。

また、熱硬化性樹脂、または反応型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。

また、上述した各結着剤には、磁性粉の分散性を向上させる目的で、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＣＯＯＭ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂等の極性官能基が導入されていてもよい。ここで、式中Ｍは、水素原子、またはリチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属である。

さらに、極性官能基としては、−ＮＲ１Ｒ２、−ＮＲ１Ｒ２Ｒ３⁺Ｘ^-の末端基を有する側鎖型のもの、＞ＮＲ１Ｒ２⁺Ｘ^-の主鎖型のものが挙げられる。ここで、式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素原子、または炭化水素基であり、Ｘ^-は弗素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン元素イオン、または無機もしくは有機イオンである。また、極性官能基としては、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、エポキシ基等も挙げられる。

（潤滑剤）
潤滑剤は、下記の一般式（１）で示される化合物、および下記の一般式（２）で示される化合物を含むことが好ましい。潤滑剤がこれらの化合物を含むことで、磁性層１３の表面の動摩擦係数を特に低減することができる。したがって、磁気記録媒体１０の走行性をさらに向上することができる。
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_nＣＯＯＨ ・・・（１）
（但し、一般式（１）において、ｎは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数である。）
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_pＣＯＯ（ＣＨ₂）_qＣＨ₃ ・・・（２）
（但し、一般式（２）において、ｐは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数であり、ｑは２以上５以下の範囲から選ばれる整数である。）

（添加剤）
磁性層１３は、非磁性補強粒子として、酸化アルミニウム（α、βまたはγアルミナ）、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン（ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン）等をさらに含んでいてもよい。

（下地層）
下地層１２は、非磁性粉および結着剤を含む非磁性層である。下地層１２が、必要に応じて、潤滑剤、導電性粒子、硬化剤および防錆剤等のうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。

下地層１２の平均厚みは、好ましくは０．６μｍ以上２．０μｍ以下、より好ましくは０．８μｍ以上１．４μｍ以下である。なお、下地層１２の平均厚みは、磁性層１３の平均厚みと同様にして求められる。但し、ＴＥＭ像の倍率は、下地層１２の厚みに応じて適宜調整される。

下地層１２は、多数の孔部を有していることが好ましい。これらの多数の孔部に潤滑剤が蓄えられることで、繰り返し記録または再生を行った後にも（すなわち磁気ヘッドを磁気記録媒体１０の表面に接触させて繰り返し走行を行った後にも）、磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間に対する潤滑剤の供給量の低下をさらに抑制することができる。したがって、動摩擦係数の増加をさらに抑制することができる。

繰り返し記録または再生後における動摩擦係数の低下を抑制する観点からすると、下地層１２の孔部と磁性層１２の孔部１３Ａとがつながっていることが好ましい。ここで、下地層１２の孔部と磁性層１２の孔部１３Ａとがつながっているとは、下地層１２の多数の孔部のうちの一部のものと、磁性層１２の多数の孔部１３Ａのうちの一部のものとがつながっている状態を含むものとする。

磁性層１３の表面に対する潤滑剤の供給性を向上する観点からすると、多数の孔部は、磁性層１３の表面に対して垂直方向に延設されているものを含んでいることが好ましい。また、磁性層１３の表面に対する潤滑剤の供給性を向上する観点からすると、磁性層１３の表面に対して垂直方向に延設された下地層１２の孔部と、磁性層１３の表面に対して垂直方向に延設された磁性層１３の孔部１３Ａとがつながっていることが好ましい。

（非磁性粉）
非磁性粉は、例えば無機粒子粉または有機粒子粉の少なくとも１種を含む。また、非磁性粉は、カーボンブラック等の炭素粉を含んでいてもよい。なお、１種の非磁性粉を単独で用いてもよいし、２種以上の非磁性粉を組み合わせて用いてもよい。無機粒子は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物または金属硫化物等を含む。非磁性粉の形状としては、例えば、針状、球状、立方体状、板状等の各種形状が挙げられるが、これに限定されるものではない。

（結着剤）
結着剤は、上述の磁性層１３と同様である。

（バック層）
バック層１４は、結着剤および非磁性粉を含む。バック層１４が、必要に応じて潤滑剤、硬化剤および帯電防止剤等のうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。結着剤および非磁性粉は、上述の下地層１２と同様である。

非磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以上１１０ｎｍ以下である。非磁性粉の平均粒子サイズは、上記の磁性粉の平均粒子サイズと同様にして求められる。非磁性粉が、２以上の粒度分布を有する非磁性粉を含んでいてもよい。

バック層１４の平均厚みの上限値は、好ましくは０．６μｍ以下である。バック層１４の平均厚みの上限値が０．６μｍ以下であると、磁気記録媒体１０の平均厚みが５．６μｍ以下である場合でも、下地層１２や基体１１の厚みを厚く保つことができるので、磁気記録媒体１０の記録再生装置内での走行安定性を保つことができる。バック層１４の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば０．２μｍ以上である。

バック層１４の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気記録媒体１０を準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプルを作製する。次に、測定装置としてMitsutoyo社製レーザーホロゲージを用いて、サンプルの厚みを５点以上で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、磁気記録媒体１０の平均厚みｔ_T［μｍ］を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。続いて、サンプルのバック層１４をＭＥＫ（メチルエチルケトン）または希塩酸等の溶剤で除去する。その後、再び上記のレーザーホロゲージを用いてサンプルの厚みを５点以上で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、バック層１４を除去した磁気記録媒体１０の平均厚みｔ_B［μｍ］を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。その後、以下の式よりバック層１４の平均厚みｔ_b［μｍ］を求める。
ｔ_b［μｍ］＝ｔ_T［μｍ］−ｔ_B［μｍ］

バック層１４は、多数の突部１４Ａが設けられた表面を有している。多数の突部１４Ａは、磁気記録媒体１０をロール状に巻き取った状態において、磁性層１３の表面に多数の孔部１３Ａを形成するためのものである。多数の孔部１３Ａは、例えば、バック層１４の表面から突出された多数の非磁性粒子により構成されている。

（磁気記録媒体の平均厚み）
磁気記録媒体１０の平均厚み（平均全厚）の上限値が、好ましくは５．６μｍ以下、より好ましくは５．０μｍ以下、特に好ましくは４．６μｍ以下、さらにより好ましくは４．４μｍ以下である。磁気記録媒体１０の平均厚みが５．６μｍ以下であると、１データカートリッジ内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体よりも高めることができる。磁気記録媒体１０の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば３．５μｍ以上である。

磁気記録媒体１０の平均厚みは、上述のバック層１４の平均厚みの求め方において説明した手順により求められる。

（保磁力Ｈｃ）
磁気記録媒体１０の長手方向における保磁力Ｈｃの上限値が、好ましくは２０００Ｏｅ以下、より好ましくは１９００Ｏｅ以下、さらにより好ましくは１８００Ｏｅ以下である。長手方向における保磁力Ｈｃ２が２０００Ｏｅ以下であると、記録ヘッドからの垂直方向の磁界により感度良く磁化が反応するため、良好な記録パターンを形成することができる。

磁気記録媒体１０の長手方向に測定した保磁力Ｈｃの下限値が、好ましくは１０００Ｏｅ以上である。長手方向にける保磁力Ｈｃの下限値が１０００Ｏｅ以上であると、記録ヘッドからの漏れ磁束による減磁を抑制することができる。

上記の保磁力Ｈｃは以下のようにして求められる。まず、長尺状の磁気記録媒体１０から測定サンプルを切り出し、振動試料型磁力計（Vibrating Sample Magnetometer：ＶＳＭ）を用いて測定サンプルの長手方向（磁気記録媒体１０の走行方向）に測定サンプル全体のＭ−Ｈループを測定する。次に、アセトンまたはエタノール等を用いて塗膜（下地層１２、磁性層１３およびバック層１４等）を払拭し、基体１１のみを残してバックグラウンド補正用のサンプルとし、ＶＳＭを用いて基体１１の長手方向（磁気記録媒体１０の走行方向）に基体１１のＭ−Ｈループを測定する。その後、測定サンプル全体のＭ−Ｈループから基体１１のＭ−Ｈループを引き算して、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループを得る。得られたＭ−Ｈループから保磁力Ｈｃを求める。なお、上記のＭ−Ｈループの測定はいずれも、２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ−Ｈループを磁気記録媒体１０の長手方向に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。

（角形比）
磁気記録媒体１０の垂直方向（厚み方向）における角形比Ｓ１が、６５％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上、さらにより好ましくは８０％以上、特に好ましくは８５％以上である。角形比Ｓ１が６５％以上であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れたＳＮＲを得ることができる。

角形比Ｓ１は以下のようにして求められる。まず、長尺状の磁気記録媒体１０から測定サンプルを切り出し、ＶＳＭを用いて磁気記録媒体１０の垂直方向（厚み方向）に対応する測定サンプル全体のＭ−Ｈループを測定する。次に、アセトンまたはエタノール等を用いて塗膜（下地層１２、磁性層１３およびバック層１４等）を払拭し、基体１１のみを残して、バックグラウンド補正用のサンプルとし、ＶＳＭを用いて基体１１の垂直方向（磁気記録媒体１０の垂直方向）に対応する基体１１のＭ−Ｈループを測定する。その後、測定サンプル全体のＭ−Ｈループから基体１１のＭ−Ｈループを引き算して、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループを得る。得られたＭ−Ｈループの飽和磁化Ｍｓ（ｅｍｕ）および残留磁化Ｍｒ（ｅｍｕ）を以下の式に代入して、角形比Ｓ１（％）を計算する。なお、上記のＭ−Ｈループの測定はいずれも、２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ−Ｈループを磁気記録媒体１０の垂直方向に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。
角形比Ｓ１（％）＝（Ｍｒ／Ｍｓ）×１００

磁気記録媒体１０の長手方向（走行方向）における角形比Ｓ２が、好ましくは３５％以下、より好ましくは３０％以下、さらにより好ましくは２５％以下、特に好ましくは２０％以下、最も好ましくは１５％以下である。角形比Ｓ２が３５％以下であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れたＳＮＲを得ることができる。

角形比Ｓ２は、Ｍ−Ｈループを磁気記録媒体１０および基体１１の長手方向（走行方向）に測定すること以外は角形比Ｓ１と同様にして求められる。

（ＳＦＤ）
磁気記録媒体１０のＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとのピーク比Ｘ／Ｙが、好ましくは３．０以上、より好ましくは５．０以上、さらにより好ましくは７．０以上、特に好ましくは１０．０以上、最も好ましくは２０．０以上である（図４参照）。ピーク比Ｘ／Ｙが３．０以上であると、実際の記録に寄与するε酸化鉄粒子の他にε酸化鉄特有の低保磁力成分（例えば軟磁性粒子や超常磁性粒子等）が磁性粉中に多く含まれることを抑制できる。したがって、記録ヘッドからの漏れ磁界により、隣接するトラックに記録された磁化信号が劣化することを抑制できるので、より優れたＳＮＲを得ることができる。ピーク比Ｘ／Ｙの上限値は特に限定されるものではないが、例えば１００以下である。

上記のピーク比Ｘ／Ｙは、以下のようにして求められる。まず、上記の角形比Ｓ１の測定方法と同様にして、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループを得る。次に、得られたＭ−ＨループからＳＦＤカーブを算出する。ＳＦＤカーブの算出には測定機に付属のプログラムを用いてもよいし、その他のプログラムを用いてもよい。算出したＳＦＤカーブがＹ軸（ｄＭ／ｄＨ）を横切る点の絶対値を「Ｙ」とし、Ｍ−Ｈループで言うところの保磁力Ｈｃ近傍に見られるメインピークの高さを「Ｘ」として、ピーク比Ｘ／Ｙを算出する。なお、Ｍ−Ｈループの測定は、上記の保磁力Ｈｃの測定方法と同様に２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ−Ｈループを磁気記録媒体１０の厚み方向（垂直方向）に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。

（活性化体積Ｖ_act）
活性化体積Ｖ_actが、好ましくは８０００ｎｍ³以下、より好ましくは６０００ｎｍ³以下、さらにより好ましくは５０００ｎｍ³以下、特に好ましくは４０００ｎｍ³以下、最も好ましくは３０００ｎｍ³以下である。活性化体積Ｖ_actが８０００ｎｍ³以下であると、磁性粉の分散状態が良好になるため、ビット反転領域を急峻にすることができ、記録ヘッドからの漏れ磁界により、隣接するトラックに記録された磁化信号が劣化することを抑制できる。したがって、より優れたＳＮＲが得られなくなる虞がある。

上記の活性化体積Ｖ_actは、Ｓｔｒｅｅｔ＆Ｗｏｏｌｌｅｙにより導出された下記の式により求められる。
Ｖ_act（ｎｍ³）＝ｋ_B×Ｔ×Χ_irr／（μ₀×Ｍｓ×Ｓ）
（但し、ｋ_B：ボルツマン定数（１．３８×１０^-23Ｊ／Ｋ）、Ｔ：温度（Ｋ）、Χ_irr：非可逆磁化率、μ₀：真空の透磁率、Ｓ：磁気粘性係数、Ｍｓ：飽和磁化（ｅｍｕ／ｃｍ³））

上記式に代入される非可逆磁化率Χ_irr、飽和磁化Ｍｓおよび磁気粘性係数Ｓは、ＶＳＭを用いて以下のようにして求められる。なお、ＶＳＭによる測定方向は、磁気記録媒体１０の厚み方向（垂直方向）とする。また、ＶＳＭによる測定は、長尺状の磁気記録媒体１０から切り出された測定サンプルに対して２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ−Ｈループを磁気記録媒体１０の厚み方向（垂直方向）に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。

（非可逆磁化率Χ_irr）
非可逆磁化率Χ_irrは、残留磁化曲線（ＤＣＤ曲線）の傾きにおいて、残留保磁力Ｈｒ付近における傾きと定義される。まず、磁気記録媒体１０全体に−１１９３ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の磁界を印加し、磁界をゼロに戻し残留磁化状態とする。その後、反対方向に約１５．９ｋＡ／ｍ（２００Ｏｅ）の磁界を印加し再びゼロに戻し残留磁化量を測定する。その後も同様に、先ほどの印加磁界よりもさらに１５．９ｋＡ／ｍ大きい磁界を印加しゼロに戻す測定を繰り返し行い、印加磁界に対して残留磁化量をプロットしＤＣＤ曲線を測定する。得られたＤＣＤ曲線から、磁化量ゼロとなる点を残留保磁力Ｈｒとし、さらにＤＣＤ曲線を微分し、各磁界におけるＤＣＤ曲線の傾きを求める。このＤＣＤ曲線の傾きにおいて、残留保磁力Ｈｒ付近の傾きがΧ_irrとなる。

（飽和磁化Ｍｓ）
まず、上記の角形比Ｓ１の測定方法と同様にして、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループを得る。次に、得られたＭ−Ｈループの飽和磁化Ｍｓ（ｅｍｕ）の値と、測定サンプル中の磁性層１３の体積（ｃｍ³）から、Ｍｓ（ｅｍｕ／ｃｍ³）を算出する。なお、磁性層１３の体積は測定サンプルの面積に磁性層１３の平均厚みを乗ずることにより求められる。磁性層１３の体積の算出に必要な磁性層１３の平均厚みの算出方法は、上述した通りである。

（磁気粘性係数Ｓ）
まず、磁気記録媒体１０（測定サンプル）全体に−１１９３ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の磁界を印加し、磁界をゼロに戻し残留磁化状態とする。その後、反対方向に、ＤＣＤ曲線より得られた残留保磁力Ｈｒの値と同等の磁界を印加する。磁界を印加した状態で１０００秒間、磁化量を一定の時間間隔で継続的に測定する。このようにして得られた、時間ｔと磁化量Ｍ（ｔ）の関係を以下の式に照らし合わせて、磁気粘性係数Ｓを算出する。
Ｍ（ｔ）＝Ｍ０＋Ｓ×ｌｎ（ｔ）
（但し、Ｍ（ｔ）：時間ｔの磁化量、Ｍ０：初期の磁化量、Ｓ：磁気粘性係数、ｌｎ（ｔ）：時間の自然対数）

（動摩擦係数）
磁気記録媒体１０に加わる張力が１．２Ｎであるときの磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Aと、磁気記録媒体１０に加わる張力が０．４Ｎであるときの磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Bとの摩擦係数比（μ_B／μ_A）が、好ましくは１．０以上で２．１以下、より好ましくは１．０以上で２．０以下である。摩擦係数比（μ_B／μ_A）が１．０以上で２．１以下であると、走行時の張力変動による動摩擦係数の変化を小さくできるため、磁気記録媒体１０の走行を安定させることができる。

磁気記録媒体１０に加わる張力が０．６Ｎであるときの磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数をμ_Cとした場合、走行５回目の動摩擦係数μ_C（５）と走行１０００回目の動摩擦係数μ_C（１０００）との摩擦係数比（μ_C（１０００）／μ_C（５））が、好ましくは１．０以上２．０以下、より好ましくは１．０以上１．５以下である。摩擦係数比（μ_C（１０００）／μ_C（５））が１．０以上で２．０以下であると、多数回走行による動摩擦係数の変化を小さくできるため、磁気記録媒体１０の走行を安定させることができる。ここで、磁気ヘッドとしては磁気記録媒体１０に対応したドライブのものを用いるものとする。

［２ 磁気記録媒体の製造方法］
次に、上述の構成を有する磁気記録媒体１０の製造方法について説明する。まず、非磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより、下地層形成用塗料を調製する。次に、磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより、磁性層形成用塗料を調製する。次に、結着剤および非磁性粉等を溶剤に混練、分散させることにより、バック層形成用塗料を調製する。磁性層形成用塗料、下地層形成用塗料およびバック層形成用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、分散装置および混練装置を用いることができる。

上述の塗料調製に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、適宜混合して用いてもよい。

上述の塗料調製に用いられる混練装置としては、例えば、連続二軸混練機、多段階で希釈可能な連続二軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダー等の混練装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。また、上述の塗料調製に用いられる分散装置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、タワーミル、パールミル（例えばアイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、ホモジナイザー、超音波分散機等の分散装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。

次に、下地層形成用塗料を基体１１の一方の主面に塗布して乾燥させることにより、下地層１２を形成する。続いて、この下地層１２上に磁性層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、磁性層１３を下地層１２上に形成する。なお、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉を基体１１の厚み方向に磁場配向させることが好ましい。また、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉を基体１１の走行方向（長手方向）に磁場配向させたのちに、基体１１の厚み方向に磁場配向させるようにしてもよい。このような磁場配向処理をすることで、磁性粉の垂直配向度（すなわち角形比Ｓ１）を向上することができる。磁性層１３の形成後、バック層形成用塗料を基体１１の他方の主面に塗布して乾燥させることにより、バック層１４を形成する。これにより、磁気記録媒体１０が得られる。

角形比Ｓ１、Ｓ２は、例えば、磁性層形成用塗料の塗膜に印加される磁場の強度、磁性層形成用塗料中における固形分の濃度、磁性層形成用塗料の塗膜の乾燥条件（乾燥温度および乾燥時間）を調整することにより所望の値に設定される。塗膜に印加される磁場の強度は、磁性粉の保磁力の２倍以上３倍以下であることが好ましい。角形比Ｓ１をさらに高めるためには（すなわち角形比Ｓ２をさらに低めるためには）、磁性層形成用塗料中における磁性粉の分散状態を向上させることが好ましい。また、角形比Ｓ１をさらに高めるためには、磁性粉を磁場配向させるための配向装置に磁性層形成用塗料が入る前の段階で、磁性粉を磁化させておくことも有効である。なお、上記の角形比Ｓ１、Ｓ２の調整方法は単独で使用されてもよいし、２以上組み合わされて使用されてもよい。

その後、得られた磁気記録媒体１０にカレンダー処理を行い、磁性層１３の表面を平滑化する。次に、カレンダー処理が施された磁気記録媒体１０をロール状に巻き取ったのち、この状態で磁気記録媒体１０に加熱処理を行うことにより、バック層１４の表面の多数の突部１４Ａを磁性層１３の表面に転写する。これにより、磁性層１３の表面に多数の孔部１３Ａが形成される。

加熱処理の温度は、５５℃以上７５℃以下であることが好ましい。加熱処理の温度が５５℃以上であると、良好な転写性を得ることができる。一方、加熱処理の温度が７５℃以上であると、細孔量が多くなりすぎ、磁性層１３の表面の潤滑剤が過多になってしまう虞がある。ここで、加熱処理の温度は、磁気記録媒体１０を保持する雰囲気の温度である。

加熱処理の時間は、１５時間以上４０時間以下であることが好ましい。加熱処理の時間が１５時間以上であると、良好な転写性を得ることができる。一方、加熱処理の時間が４０時間以下であると、生産性の低下を抑制することができる。

最後に、磁気記録媒体１０を所定の幅（例えば１／２インチ幅）に裁断する。以上により、目的とする磁気記録媒体１０が得られる。

［３ 記録再生装置の構成］
次に、図５を参照して、上述の構成を有する磁気記録媒体１０の記録および再生を行う記録再生装置３０の構成について説明する。

記録再生装置３０は、磁気記録媒体カートリッジ１０Ａを装填可能な構成を有している。ここでは、説明を容易とするために、記録再生装置３０が、１つの磁気記録媒体カートリッジ１０Ａを装填可能な構成を有している場合について説明するが、記録再生装置３０が、複数の磁気記録媒体カートリッジ１０Ａを装填可能な構成を有していてもよい。

記録再生装置３０は、ネットワーク４３を介してサーバ４１およびパーソナルコンピュータ（以下「ＰＣ」という。）４２等の情報処理装置に接続されており、これらの情報処理装置から供給されたデータを磁気記録媒体カートリッジ１０Ａに記録可能に構成されている。

記録再生装置３０は、図５に示すように、スピンドル３１と、記録再生装置３０側のリール３２と、スピンドル駆動装置３３と、リール駆動装置３４と、複数のガイドローラ３５と、ヘッドユニット３６と、通信インターフェース（以下、Ｉ／Ｆ）３７と、制御装置３８とを備える。

スピンドル３１は、磁気記録媒体カートリッジ１０Ａを装着可能に構成されている。磁気記録媒体カートリッジ１０Ａは、ＬＴＯ（Linear Tape Open）規格に準拠しており、カートリッジケース１０Ｂに磁気記録媒体１０を巻装した単一のリール１０Ｃを回転可能に収容している。磁気記録媒体１０には、サーボ信号としてハの字状のサーボパターンが予め記録されている。リール３２は、磁気記録媒体カートリッジ１０Ａから引き出された磁気記録媒体１０の先端を固定可能に構成されている。

スピンドル駆動装置３３は、スピンドル３１を回転駆動させる装置である。リール駆動装置３４は、リール３２を回転駆動させる装置である。磁気記録媒体１０に対してデータの記録または再生を行う際には、スピンドル駆動装置３３とリール駆動装置３４とが、スピンドル３１とリール３２とを回転駆動させることによって、磁気記録媒体１０を走行させる。ガイドローラ３５は、磁気記録媒体１０の走行をガイドするためのローラである。

ヘッドユニット３６は、磁気記録媒体１０にデータ信号を記録するための複数の記録ヘッドと、磁気記録媒体１０に記録されているデータ信号を再生するための複数の再生ヘッドと、磁気記録媒体１０に記録されているサーボ信号を再生するための複数のサーボヘッドとを備える。記録ヘッドとしては例えばリング型ヘッドを用いることができるが、記録ヘッドの種類はこれに限定されるものではない。

通信Ｉ／Ｆ３７は、サーバ４１およびＰＣ４２等の情報処理装置と通信するためのものであり、ネットワーク４３に対して接続される。

制御装置３８は、記録再生装置３０の全体を制御する。例えば、制御装置３８は、サーバ４１およびＰＣ４２等の情報処理装置の要求に応じて、情報処理装置から供給されるデータ信号をヘッドユニット３６により磁気記録媒体１０に記録する。また、制御装置３８は、サーバ４１およびＰＣ４２等の情報処理装置の要求に応じて、ヘッドユニット３６により、磁気記録媒体１０に記録されたデータ信号を再生し、情報処理装置に供給する。

［４ 効果］
一実施形態に係る磁気記録媒体１０は、基体１１と、基体１１上に設けられた下地層１２と、下地層１２上に設けられ、潤滑剤を含む磁性層１３とを備える。磁性層１３は、多数の孔部１３Ａが設けられた表面を有する。磁性層１３の表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、潤滑剤を除去した状態における磁気記録媒体１０の全体のＢＥＴ比表面積は、４ｍ²／ｍｇ以上である。これにより、磁性層１３の表面の算術平均粗さＲａが２．５ｎｍ以下である磁気記録媒体１０において、繰り返し記録または再生を行った後にも、磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間に対する潤滑剤の供給の低下を抑制することができる。したがって、優れた電磁変換特性を得ることができると共に、動摩擦係数の増加を抑制することができる。また、潤滑剤の枯渇を抑制することができるので、ヘッドロックにより記録再生が困難となることを抑制することもできる。

［５ 変形例］
（変形例１）
上述の一実施形態では、ε酸化鉄粒子が２層構造のシェル部２２を有している場合について説明したが、図６に示すように、ε酸化鉄粒子が単層構造のシェル部２３を有していてもよい。この場合、シェル部２３は、第１シェル部２２ａと同様の構成を有する。但し、ε酸化鉄粒子の特性劣化を抑制する観点からすると、上述した一実施形態におけるように、ε酸化鉄粒子が２層構造のシェル部２２を有していることが好ましい。

（変形例２）
上述の一実施形態では、ε酸化鉄粒子がコアシェル構造を有している場合について説明したが、ε酸化鉄粒子が、コアシェル構造に代えて添加剤を含んでいてもよいし、コアシェル構造を有すると共に添加剤を含んでいてもよい。この場合、ε酸化鉄粒子のＦｅの一部が添加剤で置換される。ε酸化鉄粒子が添加剤を含むことによっても、ε酸化鉄粒子全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できるため、記録容易性を向上することができる。添加剤は、鉄以外の金属元素、好ましくは３価の金属元素、より好ましくはＡｌ、ＧａおよびＩｎのうちの少なくとも１種、さらにより好ましくはＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種である。

具体的には、添加剤を含むε酸化鉄は、ε−Ｆｅ_2-xＭ_xＯ₃結晶（但し、Ｍは鉄以外の金属元素、好ましくは３価の金属元素、より好ましくはＡｌ、ＧａおよびＩｎのうちの少なくとも１種、さらにより好ましくはＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種である。ｘは、例えば０＜ｘ＜１である。）である。

（変形例３）
磁性粉は、ε酸化鉄粒子の粉末に代えて、六方晶フェライトを含有するナノ粒子（以下「六方晶フェライト粒子」という。）の粉末を含むようにしてもよい。六方晶フェライト粒子は、例えば、六角板状またはほぼ六角板状を有する。六方晶フェライトは、好ましくはＢａ、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種、より好ましくはＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含む。六方晶フェライトは、具体的には例えばバリウムフェライトまたはストロンチウムフェライトであってもよい。バリウムフェライトは、Ｂａ以外にＳｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。ストロンチウムフェライトは、Ｓｒ以外にＢａ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。

より具体的には、六方晶フェライトは、一般式ＭＦｅ₁₂Ｏ₁₉で表される平均組成を有する。但し、Ｍは、例えばＢａ、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種の金属、好ましくはＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種の金属である。Ｍが、Ｂａと、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上の金属との組み合わせであってもよい。また、Ｍが、Ｓｒと、Ｂａ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上の金属との組み合わせであってもよい。上記一般式においてＦｅの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。

磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは３０ｎｍ以下、より好ましくは１２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、さらにより好ましくは１５ｎｍ以上２２ｎｍ以下である。磁性粉の平均粒子サイズが３０ｎｍ以下であると、高記録密度の磁気記録媒体１０において、良好な電磁変換特性（例えばＣ／Ｎ）を得ることができる。一方、磁性粉の平均粒子サイズが１２ｎｍ以上であると、磁性粉の分散性がより向上し、より優れた電磁変換特性（例えばＣ／Ｎ）を得ることができる。磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均アスペクト比は上述の一実施形態と同様である。

なお、磁性粉の平均粒子サイズおよび平均アスペクト比は以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体１０をＦＩＢ法等により加工して薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。次に、撮影したＴＥＭ写真から、水平方向に対して７５度以上の角度で配向した磁性粉を５０個無作為に選び出し、各磁性粉の最大板厚ＤＡを測定する。続いて、測定した５０個の磁性粉の最大板厚ＤＡを単純に平均（算術平均）して平均最大板厚ＤＡaveを求める。

次に、磁気記録媒体１０の磁性層１３の表面をＴＥＭにより観察を行う。次に、撮影したＴＥＭ写真から５０個の磁性粉を無作為に選び出し、各磁性粉の最大板径ＤＢを測定する。ここで、最大板径ＤＢとは、磁性粉の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大のもの（いわゆる最大フェレ径）を意味する。続いて、測定した５０個の磁性粉の最大板径ＤＢを単純に平均（算術平均）して平均最大板径ＤＢaveを求める。このようにして求めた平均長軸長ＤＢaveを磁性粉の平均粒子サイズとする。次に、平均最大板厚ＤＡaveおよび平均最大板径ＤＢaveから磁性粉の平均アスペクト比（ＤＢave／ＤＡave）を求める。

磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子体積は、好ましくは５９００ｎｍ³以下、より好ましくは５００ｎｍ³以上３４００ｎｍ³以下、さらにより好ましくは１０００ｎｍ³以上２５００ｎｍ³以下である。磁性粉の平均粒子体積が５９００ｎｍ³以下であると、磁性粉の平均粒子サイズを３０ｎｍ以下とする場合と同様の効果が得られる。一方、磁性粉の平均粒子体積が５００ｎｍ³以上であると、磁性粉の平均粒子サイズを１２ｎｍ以上とする場合と同様の効果が得られる。

なお、磁性粉の平均粒子体積は以下のようにして求められる。まず、上記の磁性粉の平均粒子サイズの算出方法により、平均長軸長ＤＡaveおよび平均最大板径ＤＢaveを求める。次に、以下の式により、ε酸化鉄粒子の平均体積Ｖを求める。
Ｖ＝３√３/８×ＤＡave×ＤＢave×ＤＢave²

（変形例４）
磁性粉は、ε酸化鉄粒子の粉末に代えて、Ｃｏ含有スピネルフェライトを含有するナノ粒子（以下「コバルトフェライト粒子」という。）の粉末を含むようにしてもよい。コバルトフェライト粒子は、一軸異方性を有することが好ましい。コバルトフェライト粒子は、例えば、立方体状またはほぼ立方体状を有している。Ｃｏ含有スピネルフェライトが、Ｃｏ以外にＮｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。

Ｃｏ含有スピネルフェライトは、例えば以下の式（１）で表される平均組成を有する。
Ｃｏ_xＭ_yＦｅ₂Ｏ_Z ・・・（１）
（但し、式（１）中、Ｍは、例えば、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎのうちの少なくとも１種の金属である。ｘは、０．４≦ｘ≦１．０の範囲内の値である。ｙは、０≦ｙ≦０．３の範囲内の値である。但し、ｘ、ｙは（ｘ＋ｙ）≦１．０の関係を満たす。ｚは３≦ｚ≦４の範囲内の値である。Ｆｅの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。）

磁性粉がコバルトフェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは２５ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上２３ｎｍ以下である。磁性粉の平均粒子サイズが２５ｎｍ以下であると、高記録密度の磁気記録媒体１０において、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。一方、磁性粉の平均粒子サイズが１０ｎｍ以上であると、磁性粉の分散性がより向上し、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。磁性粉がコバルトフェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均アスペクト比は上述の一実施形態と同様である。また、磁性粉の平均粒子サイズおよび平均アスペクト比も上述の一実施形態の算出方法と同様にして求められる。

磁性粉の平均粒子体積は、好ましくは１５０００ｎｍ³以下、より好ましくは１０００ｎｍ³以上１２０００ｎｍ³以下である。磁性粉の平均粒子体積が１５０００ｎｍ³以下であると、磁性粉の平均粒子サイズを２５ｎｍ以下とする場合と同様の効果が得られる。一方、磁性粉の平均粒子体積が１０００ｎｍ³以上であると、磁性粉の平均粒子サイズを１０ｎｍ以上とする場合と同様の効果が得られる。なお、磁性粉の平均粒子体積は、上述の一実施形態における磁性粉の平均粒子体積の算出方法（ε酸化鉄粒子が立方体状またはほぼ立方体状を有している場合の平均粒子体積の算出方法）と同様である。

（変形例５）
磁気記録媒体１０が、図７に示すように、基体１１の少なくとも一方の表面に設けられたバリア層１５をさらに備えるようにしてもよい。バリア層１５は、基体１１が有する環境に応じた寸法変化を抑制するための層である。例えば、その寸法変化を及ぼす原因の一例として、基体１１の吸湿性があるが、バリア層１５を設けることにより基体１１への水分の侵入速度を低減することができる。バリア層１５は、例えば、金属または金属酸化物を含む。金属としては、例えば、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｂａ、Ｐｔ、ＡｕおよびＴａのうちの少なくとも１種を用いることができる。金属酸化物としては、例えば、上記金属を１種または２種以上含む金属酸化物を用いることができる。より具体的には例えば、Ａｌ₂Ｏ₃、ＣｕＯ、ＣｏＯ、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅およびＺｒＯ₂のうちの少なくとも１種を用いることができる。また、バリア層１５が、ダイヤモンド状炭素（Diamond-Like Carbon：ＤＬＣ）またはダイヤモンド等を含むようにしてもよい。

バリア層１５の平均厚みは、好ましくは２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。バリア層１５の平均厚みは、磁性層１３の平均厚みと同様にして求められる。但し、ＴＥＭ像の倍率は、バリア層１５の厚みに応じて適宜調整される。

（変形例６）
上述の一実施形態では、バック層１４の表面に設けられた多数の突部１４Ａを、磁性層１３の表面に転写することにより、磁性層１３の表面に多数の孔部１３Ａを形成する場合について説明したが、多数の孔部１３Ａの形成方法はこれに限定されるものではない。例えば、磁性層形成用塗料に含まれる溶剤の種類および磁性層形成用塗料の乾燥条件等を調整することで、磁性層１３の表面に多数の孔部１３Ａを形成するようにしてもよい。

（変形例７）
上述の一実施形態に係る磁気記録媒体１０をライブラリ装置に用いるようにしてもよい。この場合、ライブラリ装置は、上述の一実施形態における記録再生装置３０を複数備えるものであってもよい。

以下、実施例により本開示を具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

以下の実施例および比較例において、垂直方向における角形比Ｓ１、長手方向における角形比Ｓ２、ＢＥＴ比表面積、細孔分布（細孔容積、脱着時最大細孔容積の細孔直径）、平均アスペクト比、磁性粉の平均粒子体積、磁性粉の平均粒子サイズ、磁性層の平均厚み、下地層の平均厚み、バック層の平均厚みおよび磁性層の表面の算術平均粗さは、上述の一実施形態にて説明した測定方法により求められた値である。

［実施例１〜４、１４、１５］
（磁性層形成用塗料の調製工程）
磁性層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第１組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第１組成物と、下記配合の第２組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、磁性層形成用塗料を調製した。

（第１組成物）
バリウムフェライト（ＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉）粒子の粉末（六角板状、平均アスペクト比２．８、平均粒子体積１９５０ｎｍ³）：１００質量部
塩化ビニル系樹脂（シクロヘキサノン溶液３０質量％）：１０質量部
（重合度３００、Ｍｎ＝１００００、極性基としてＯＳＯ₃Ｋ＝０．０７ｍｍｏｌ／ｇ、２級ＯＨ＝０．３ｍｍｏｌ／ｇを含有する。）
酸化アルミニウム粉末：５質量部
（α−Ａｌ₂Ｏ₃、平均粒径０．２μｍ）
カーボンブラック：２質量部
（東海カーボン社製、商品名：シーストＴＡ）

（第２組成物）
塩化ビニル系樹脂：１．１質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
ｎ−ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１２１．３質量部
トルエン：１２１．３質量部
シクロヘキサノン：６０．７質量部

最後に、上述のようにして調製した磁性層形成用塗料に、硬化剤としてポリイソシアネート（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）：４質量部と、潤滑剤としてステアリン酸：２質量部とを添加した。

（下地層形成用塗料の調製工程）
下地層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第３組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第３組成物と、下記配合の第４組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、下地層形成用塗料を調製した。

（第３組成物）
針状酸化鉄粉末：１００質量部
（α−Ｆｅ₂Ｏ₃、平均長軸長０．１５μｍ）
塩化ビニル系樹脂：５５．６質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
カーボンブラック：１０質量部
（平均粒径２０ｎｍ）

（第４組成物）
ポリウレタン系樹脂ＵＲ８２００（東洋紡績製）：１８．５質量部
ｎ−ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１０８．２質量部
トルエン：１０８．２質量部
シクロヘキサノン：１８．５質量部

最後に、上述のようにして調製した下地層形成用塗料に、硬化剤としてポリイソシアネート（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）：４質量部と、潤滑剤としてステアリン酸：２質量部とを添加した。

（バック層形成用塗料の調製工程）
バック層形成用塗料を以下のようにして調製した。下記原料を、ディスパーを備えた攪拌タンクで混合を行い、フィルター処理を行うことで、バック層形成用塗料を調製した。
小粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２０ｎｍ）：９０質量部
大粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２７０ｎｍ）：１０質量部
ポリエステルポリウレタン：１００質量部
（日本ポリウレタン社製、商品名：Ｎ−２３０４）
メチルエチルケトン：５００質量部
トルエン：４００質量部
シクロヘキサノン：１００質量部

（塗布工程）
上述のようにして調製した磁性層形成用塗料および下地層形成用塗料を用いて、非磁性支持体である、平均厚み４．１２μｍ、長尺のポレエチレンナフタレートフィルム（以下「ＰＥＮフィルム」という。）の一方の主面上に平均厚み１．０μｍの下地層、および平均厚み８０ｎｍの磁性層を以下のようにして形成した。まず、ＰＥＮフィルムの一方の主面上に下地層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、下地層を形成した。次に、下地層上に磁性層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、磁性層を形成した。なお、磁性層形成用塗料の乾燥の際に、ソレノイドコイルにより、磁性粉をフィルムの厚み方向に磁場配向させた。また、磁性層形成用塗料の乾燥条件（乾燥温度および乾燥時間）を調整し、磁気テープの厚み方向（垂直方向）における角形比Ｓ１および長手方向における角形比Ｓ２を表２に示す値に設定した。続いて、ＰＥＮフィルムの他方の主面上にバック層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、平均厚み０．４μｍのバック層を形成した。これにより、磁気テープが得られた。

（カレンダー工程、転写工程）
続いて、カレンダー処理を行い、磁性層の表面を平滑化した。次に、得られた磁気テープをロール状に巻き取ったのち、この状態で磁気テープに６０℃、１０時間の加熱処理を行った。そして、内周側に位置している端部が反対に外周側に位置するように、磁気テープをロール状に巻き直したのち、この状態で磁気テープに６０℃、１０時間の加熱処理を再度行った。これにより、バック層の表面の多数の突部が磁性層の表面に転写され、磁性層の表面に多数の孔部が形成された。

（裁断工程）
上述のようにして得られた磁気テープを１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅に裁断した。これにより、目的とする長尺状の磁気テープ（平均厚み５．６μｍ）が得られた。

［実施例５］
転写工程において、磁気テープに６０℃、２０時間の加熱処理を行ったこと以外は実施例２と同様にして磁気テープを得た。

［実施例６］
転写工程において、磁気テープに７０℃、２０時間の加熱処理を行ったこと以外は実施例２と同様にして磁気テープを得た。

［実施例７］
磁性層形成用塗料の調製工程において、磁性粉としてストロンチウムフェライト粒子の粉末（六角板状、アスペクト比３．０、粒子体積２０００ｎｍ³）を用いたこと以外は実施例２と同様にして磁気テープを得た。

［実施例８］
磁性層形成用塗料の調製工程において、磁性粉としてε酸化鉄粒子の粉末（球状、アスペクト比１．１、粒子体積２１５０ｎｍ³）を用いた。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気テープの厚み方向（垂直方向）における角形比Ｓ１および長手方向における角形比Ｓ２を表２に示す値に設定した。これら以外のことは実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例９］
磁性層形成用塗料の調製工程において、磁性粉としてＧａを含有するε酸化鉄粒子の粉末（球状、アスペクト比１．１、粒子体積２１５０ｎｍ³）を用いたこと以外は実施例８と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１０］
磁性層形成用塗料の調製工程において、磁性粉としてＡｌを含有するε酸化鉄粒子の粉末（球状、アスペクト比１、粒子体積２１５０ｎｍ³）を用いたこと以外は実施例８と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１１］
磁性層形成用塗料の調製工程において、磁性粉としてコバルトフェライトの粉末（立方体状、アスペクト比１．７、粒子体積２２００ｎｍ³）を用いた。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気テープの厚み方向（垂直方向）における角形比Ｓ１および長手方向における角形比Ｓ２を表２に示す値に設定した。これら以外のことは実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１２］
バック層形成用塗料の調製工程において、無機粒子の種類および配合量を以下のように変更したこと以外は実施例２と同様にして磁気テープを得た。
小粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２０ｎｍ）：８０質量部
大粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２７０ｎｍ）：２０質量部

［実施例１３］
塗布工程において、バック層の平均厚みが０．５μｍとなるように、バック層形成用塗料の塗布量を調整したこと以外は実施例２と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１６］
バック層形成用塗料の調製工程において、無機粒子の種類および配合量を以下のように変更した。
小粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）５０ｎｍ）：７０質量部
大粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２７０ｎｍ）：３０質量部
また、転写工程において、磁気テープに８０℃、２０時間の加熱処理を行った。これら以外のことは実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１７］
磁性塗料の配向工程において、垂直配向用ソレノイドの磁束密度を上げ、かつ、乾燥時間を調整することにより、角形比Ｓ１、Ｓ２を表２に示す値に設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１８］
磁性塗料のサンドミルでの分散時間を伸ばし塗料分散状態を特に良好にしたものを用い、かつ、磁性塗料の配向工程において垂直配向用ソレノイドの磁束密度を上げることにより、角形比Ｓ１、Ｓ２を表２に示す値に設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１９］
磁性塗料のサンドミルでの分散時間を伸ばし塗料分散状態を特に良好にしたものを用い、磁性塗料の配向工程において垂直配向用ソレノイドの磁束密度を上げ、さらに乾燥時間を調整することにより、角形比Ｓ１、Ｓ２を表２に示す値に設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例２０］
六角板状バリウムフェライト（ＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉）粒子の粉末を平均アスペクト比２．８、平均粒子体積１９５０ｎｍ³のものから、平均アスペクト比２．５、平均粒子体積１６００ｎｍ³に変えたこと以外は、実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例２１］
六角板状バリウムフェライト（ＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉）粒子の粉末を平均アスペクト比２．８、平均粒子体積１９５０ｎｍ³のものから、平均アスペクト比２．３、平均粒子体積１３００ｎｍ³に変えたこと以外は、実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例２２］
磁性層の平均厚みを６０ｎｍに変更すると共に、ＰＥＮフィルムの平均厚みおよび下地層の平均厚みを変更したこと以外は実施例１７と同様にして、平均厚み４．３μｍの磁気テープを得た。

［実施例２３］
磁性層の平均厚みを４０ｎｍに変更すると共に、ＰＥＮフィルムの平均厚みおよび下地層の平均厚みを変更したこと以外は実施例１８と同様にして、平均厚み４．３μｍの磁気テープを得た。

［実施例２４］
六角板状バリウムフェライト（ＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉）粒子の粉末を平均アスペクト比２．８、平均粒子体積１９５０ｎｍ³のものから、平均アスペクト比２．８、平均粒子体積２８００ｎｍ³に変えたこと以外は、実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例２５］
六角板状バリウムフェライト（ＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉）粒子の粉末を平均アスペクト比２．８、平均粒子体積１９５０ｎｍ³のものから、平均アスペクト比２．８、平均粒子体積２５００ｎｍ³に変えたこと以外は、実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［比較例１］
転写工程において、磁気テープに６０℃、１０時間の加熱処理を行ったこと以外は実施例１６と同様にして磁気テープを得た。

［比較例２］
転写工程において、磁気テープに５０℃、２０時間の加熱処理を行ったこと以外は実施例１６と同様にして磁気テープを得た。

［比較例３］
バック層形成用塗料の調製工程において、無機粒子の種類および配合量を以下のように変更したこと以外は比較例１と同様にして磁気テープを得た。
小粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）５０ｎｍ）：８０質量部
大粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２７０ｎｍ）：２０質量部

［比較例４］
バック層形成用塗料の調製工程において、無機粒子の種類および配合量を以下のように変更したこと以外は比較例３と同様にして磁気テープを得た。
小粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）５０ｎｍ）：９０質量部
大粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２７０ｎｍ）：１０質量部

［比較例５］
バック層形成用塗料の調製工程において、無機粒子の種類および配合量を以下のように変更したこと以外は比較例３と同様にして磁気テープを得た。
大粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２７０ｎｍ）：１００質量部

［評価］
上述のようにして得られた実施例１〜２５、比較例１〜５の磁気テープについて以下の評価を行った。

（摩擦係数比）
磁気テープに加わる張力が１．２Ｎであるときの磁性層の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Aと、磁気テープに加わる張力が０．４Ｎであるときの磁性層の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Bとの摩擦係数比（μ_B／μ_A）を求めた。また、磁気テープに加わる張力が０．６Ｎであるときの磁性層の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Cに関して、走行５回目の動摩擦係数μ_C（５）と走行１０００回目の値μ_C（１０００）との摩擦係数比（μ_C（１０００）／μ_C（５））を求めた。
なお、動摩擦係数μ_A、μ_B、μ_C（５）、μ_C（１０００）は以下の条件により測定された。
荷重：６０ｇｆ
ヘッドあたり角度：５．６°
ヘッド：ＬＴＯ５ヘッド
摺動距離：６０ｍｍ
摺動速度：１０ｍｍ／ｓｅｃ

（ＳＮＲ）
記録／再生ヘッドおよび記録／再生アンプを取り付けた１／２インチテープ走行装置（Mountain Engineering II社製、MTS Transport）を用いて、２５℃環境における磁気テープのＳＮＲ（電磁変換特性）を測定した。記録ヘッドにはギャップ長０．２μｍのリングヘッドを用い、再生ヘッドにはシールド間距離０．１μｍのＧＭＲヘッドを用いた。相対速度は６ｍ／ｓ、記録クロック周波数は１６０ＭＨｚ、記録トラック幅は２．０μｍとした。また、ＳＮＲは、下記の文献に記載の方法に基づき算出した。その結果を、実施例１のＳＮＲを１ｄＢとする相対値で表２に示した。
Y.Okazaki: ”An Error Rate Emulation System.”,IEEE Trans. Man., 31,pp.3093-3095(1995)

表１は、バック層形成用塗料に含まれる無機粒子粉の種類および配合量と、転写処理の条件とを示す。

表２は、磁気テープの構成および評価結果を示す。

表１、２から以下のことがわかる。
実施例１〜２５では、ＢＥＴ比表面積が３．５ｍ²／ｍｇ以上であるため、磁性層の表面が平滑化された磁気テープにおいて繰り返し記録または再生を行った後にも、摩擦係数比の増加を抑制することができる。一方、比較例１〜５では、ＢＥＴ比表面積が３．５ｍ²／ｍｇ以下であるため、磁性層の表面が平滑化された磁気テープにおいて繰り返し記録または再生を行った後に、摩擦係数比の増加を抑制することが困難である。

実施例１〜１３、１６〜２３では、磁気テープの垂直方向（厚み方向）における角形比Ｓ１が６５％以上であるため、良好なＳＮＲが得られている。

実施例１６では、ＢＥＴ比表面積が６ｍ²／ｍｇとやや高いため、摩擦係数比が実施例１等に比べて多少増加する傾向が見られる。これは、磁気テープの表面に潤滑剤が過剰に供給されると共に、この過剰供給によりヘッド面にも潤滑剤が余分に付いてしまうため、５０回程度の走行で摩擦係数が多少上昇したためと考えられる。

以上、本開示の実施形態およびその変形例について具体的に説明したが、本開示は、上述の実施形態およびその変形例に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

例えば、上述の実施形態およびその変形例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値等はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値等を用いてもよい。また、化合物等の化学式は代表的なものであって、同じ化合物の一般名称であれば、記載された価数等に限定されない。

また、上述の実施形態およびその変形例の構成、方法、工程、形状、材料および数値等は、本開示の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

また、本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載された数値をそれぞれ最小値および最大値として含む範囲を示す。本明細書に段階的に記載された数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値または下限値は、他の段階の数値範囲の上限値または下限値に置き換えてもよい。本明細書に例示した材料は、特に断らない限り、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

また、本開示は以下の構成を採用することもできる。
（１）
テープ状の磁気記録媒体であって、
基体と、
前記基体上に設けられ、潤滑剤を含む磁性層と
を備え、
前記磁性層は、多数の孔部が設けられた表面を有し、
前記表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、
前記潤滑剤を除去した状態における前記磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上である磁気記録媒体。
（２）
前記ＢＥＴ比表面積は、４ｍ²／ｍｇ以上である（１）に記載の磁気記録媒体。
（３）
前記ＢＥＴ比表面積は、６ｍ²／ｍｇ以下である（１）または（２）に記載の磁気記録媒体。
（４）
ＢＪＨ法により求められる前記磁気記録媒体の全体の平均細孔直径は、６ｎｍ以上１１ｎｍ以下である（１）から（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（５）
垂直方向における角形比は、６５％以上である（１）から（４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（６）
長手方向における角形比が、３５％以下である（１）から（５）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（７）
長手方向における保磁力Ｈｃが、２０００Ｏｅ以下である（１）から（６）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（８）
前記磁性層は、５以上のサーボバンドを有する（１）から（７）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（９）
前記表面の面積に対する前記サーボバンドの総面積の割合が、４．０％以下である（８）に記載の磁気記録媒体。
（１０）
前記サーボバンドの幅は、９５μｍ以下である（８）または（９）に記載の磁気記録媒体。
（１１）
前記磁性層は、複数のデータトラックを形成可能に構成され、
前記データトラックの幅が、２．０μｍ以下である（１）から（１０）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１２）
前記磁性層は、磁化反転間距離Ｌの最小値が４８ｎｍ以下となるようにデータを記録可能に構成されている（１）から（１１）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１３）
前記磁性層の平均厚みは、９０ｎｍ以下であり、
前記磁気記録媒体の平均厚みは、５．６μｍ以下である（１）から（１２）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１４）
前記基体の平均厚みは、４．２μｍ以下である（１）から（１３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１５）
前記磁気記録媒体に加わる張力が１．２Ｎであるときの前記表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Aと、前記磁気記録媒体に加わる張力が０．４Ｎであるときの前記表面と前記磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Bとの摩擦係数比（μ_B／μ_A）が、１．０以上２．０以下である（１）から（１４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１６）
前記磁性層は、磁性粉を含み、
前記磁性粉は、六方晶フェライト、ε酸化鉄またはＣｏ含有スピネルフェライトを含む（１）から（１５）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１７）
前記磁性粉の平均アスペクト比が、１以上２．５以下である（１６）に記載の磁気記録媒体。
（１８）
前記六方晶フェライトは、ＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含み、
前記ε酸化鉄は、ＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種を含む（１６）または（１７）に記載の磁気記録媒体。
（１９）
前記潤滑剤は、下記の一般式（１）で示される化合物、および下記の一般式（２）で示される化合物を含む（１）から（１８）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_nＣＯＯＨ ・・・（１）
（但し、前記一般式（１）において、ｎは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数である。）
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_pＣＯＯ（ＣＨ₂）_qＣＨ₃ ・・・（２）
（但し、前記一般式（２）において、ｐは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数であり、ｑは２以上５以下の範囲から選ばれる整数である。）
（２０）
テープ状の磁気記録媒体であって、
磁気ヘッドが走行される表面を有し、
前記表面は、多数の孔部を有し、かつ潤滑剤を含み、
前記表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、
前記潤滑剤を除去した状態における前記磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上である磁気記録媒体。

また、本開示は以下の構成を採用することもできる。
（２１）
テープ状の磁気記録媒体であって、
基体と、
前記基体上に設けられた下地層と、
前記下地層上に設けられ、六方晶フェライトを含む磁性粉を含む磁性層と
を備え、
前記下地層および前記磁性層は、潤滑剤を含み、
前記磁性層は、多数の孔部が設けられた表面を有し、
前記表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、
前記潤滑剤を除去した状態における前記磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上であり、
垂直方向における角形比は、６５％以上であり、
前記磁性層の平均厚みは、９０ｎｍ以下であり、
前記磁気記録媒体の平均厚みは、５．６μｍ以下である磁気記録媒体。
（２２）
前記ＢＥＴ比表面積は、４ｍ²／ｍｇ以上である（２１）に記載の磁気記録媒体。
（２３）
前記ＢＥＴ比表面積は、６ｍ²／ｍｇ以下である（２１）または（２２）に記載の磁気記録媒体。
（２４）
ＢＪＨ法により求められる前記磁気記録媒体の全体の平均細孔直径は、６ｎｍ以上１１ｎｍ以下である（２１）から（２３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２５）
長手方向における角形比が、３５％以下である（２１）から（２４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２６）
垂直方向における角形比は、７５％以上である（２１）から（２５）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２７）
長手方向における保磁力Ｈｃが、２０００Ｏｅ以下である（２１）から（２６）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２８）
前記磁性層は、５以上のサーボバンドを有する（２１）から（２７）のいずれか記載の磁気記録媒体。
（２９）
前記表面の面積に対する前記サーボバンドの総面積の割合が、４．０％以下である（２８）に記載の磁気記録媒体。
（３０）
前記サーボバンドの幅は、９５μｍ以下である（２８）または（２９）に記載の磁気記録媒体。
（３１）
前記磁性層は、複数のデータトラックを形成可能に構成され、
前記データトラックの幅が、２．０μｍ以下である（２１）から（３１）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（３２）
前記磁性層は、磁化反転間距離Ｌの最小値が４８ｎｍ以下となるようにデータを記録可能に構成されている（２１）から（３１）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（３３）
前記基体の平均厚みは、４．２μｍ以下である（２１）から（３２）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（３４）
前記磁気記録媒体に加わる張力が１．２Ｎであるときの前記表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Aと、前記磁気記録媒体に加わる張力が０．４Ｎであるときの前記表面と前記磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Bとの摩擦係数比（μ_B／μ_A）が、１．０以上２．０以下である（２１）から（３３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（３５）
前記磁性粉の平均アスペクト比が、１以上２．５以下である（２１）から（３４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（３６）
前記六方晶フェライトは、ＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含む（２１）から（３５）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（３７）
前記磁性粉の平均粒子サイズは、５０ｎｍ以下である（２１）から（３６）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（３８）
前記潤滑剤は、下記の一般式（１）で示される化合物、および下記の一般式（２）で示される化合物を含む（２１）から（３７）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_nＣＯＯＨ ・・・（１）
（但し、前記一般式（１）において、ｎは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数である。）
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_pＣＯＯ（ＣＨ₂）_qＣＨ₃ ・・・（２）
（但し、前記一般式（２）において、ｐは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数であり、ｑは２以上５以下の範囲から選ばれる整数である。）
（３９）
前記下地層が、多数の孔部を有し、
前記磁性層の孔部と前記下地層の孔部とがつながっている（２１）から（３８）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（４０）
テープ状の磁気記録媒体であって、
基体と、
前記基体上に設けられ、潤滑剤を含む磁性層と
を備え、
前記磁性層は、多数の孔部が設けられた表面を有し、
前記表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、
前記潤滑剤を除去した状態における前記磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上である磁気記録媒体。
（４１）
前記磁性層は、磁性粉を含み、
前記磁性粉は、六方晶フェライト、ε酸化鉄またはＣｏ含有スピネルフェライトを含む（４０）に記載の磁気記録媒体。
（４２）
前記六方晶フェライトは、ＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含み、
前記ε酸化鉄は、ＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種を含む（４１）に記載の磁気記録媒体。
（４３）
テープ状の磁気記録媒体であって、
磁気ヘッドが走行される表面を有し、
前記表面は、多数の孔部を有し、かつ潤滑剤を含み、
前記表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、
前記潤滑剤を除去した状態における前記磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上である磁気記録媒体。

１０ 磁気記録媒体
１０Ａ 磁気記録媒体カートリッジ
１０Ｂ カートリッジケース
１０Ｃ リール
１１ 基体
１２ 下地層
１３ 磁性層
１３Ａ 孔部
１４ バック層
１４Ａ 突部
１５ バリア層
２１ コア部
２２ シェル部
２２ａ 第１シェル部
２２ｂ 第２シェル部
３０ 記録再生装置
３１ スピンドル
３２ リール
３３ スピンドル駆動装置
３４ リール駆動装置
３５ ガイドローラ
３６ ヘッドユニット
３７ 通信インターフェース
３８ 制御装置
４１ サーバ
４２ パーソナルコンピュータ
４３ ネットワーク

Claims (23)

1. テープ状の磁気記録媒体であって、
   基体と、
   前記基体上に設けられた下地層と、
   前記下地層上に設けられ、六方晶フェライトを含む磁性粉を含む磁性層と
   を備え、
   前記下地層および前記磁性層は、潤滑剤を含み、
   前記磁性層は、多数の孔部が設けられた表面を有し、
   前記表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、
   前記潤滑剤を除去した状態における前記磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上であり、
   垂直方向における角形比は、６５％以上であり、
   前記磁性層の平均厚みは、９０ｎｍ以下であり、
   前記磁気記録媒体の平均厚みは、５．６μｍ以下である磁気記録媒体。
2. 前記ＢＥＴ比表面積は、４ｍ²／ｍｇ以上である請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 前記ＢＥＴ比表面積は、６ｍ²／ｍｇ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
4. ＢＪＨ法により求められる前記磁気記録媒体の全体の平均細孔直径は、６ｎｍ以上１１ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
5. 長手方向における角形比が、３５％以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
6. 垂直方向における角形比は、７５％以上である請求項１に記載の磁気記録媒体。
7. 長手方向における保磁力Ｈｃが、２０００Ｏｅ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
8. 前記磁性層は、５以上のサーボバンドを有する請求項１に記載の磁気記録媒体。
9. 前記表面の面積に対する前記サーボバンドの総面積の割合が、４．０％以下である請求項８に記載の磁気記録媒体。
10. 前記サーボバンドの幅は、９５μｍ以下である請求項８に記載の磁気記録媒体。
11. 前記磁性層は、複数のデータトラックを形成可能に構成され、
    前記データトラックの幅が、２．０μｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
12. 前記磁性層は、磁化反転間距離Ｌの最小値が４８ｎｍ以下となるようにデータを記録可能に構成されている請求項１に記載の磁気記録媒体。
13. 前記基体の平均厚みは、４．２μｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
14. 前記磁気記録媒体に加わる張力が１．２Ｎであるときの前記表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Aと、前記磁気記録媒体に加わる張力が０．４Ｎであるときの前記表面と前記磁気ヘッドの間の動摩擦係数μ_Bとの摩擦係数比（μ_B／μ_A）が、１．０以上２．０以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
15. 前記磁性粉の平均アスペクト比が、１以上２．５以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
16. 前記六方晶フェライトは、ＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含む請求項１に記載の磁気記録媒体。
17. 前記磁性粉の平均粒子サイズは、５０ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
18. 前記潤滑剤は、下記の一般式（１）で示される化合物、および下記の一般式（２）で示される化合物を含む請求項１に記載の磁気記録媒体。
    ＣＨ₃（ＣＨ₂）_nＣＯＯＨ ・・・（１）
    （但し、前記一般式（１）において、ｎは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数である。）
    ＣＨ₃（ＣＨ₂）_pＣＯＯ（ＣＨ₂）_qＣＨ₃ ・・・（２）
    （但し、前記一般式（２）において、ｐは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数であり、ｑは２以上５以下の範囲から選ばれる整数である。）
19. 前記下地層が、多数の孔部を有し、
    前記磁性層の孔部と前記下地層の孔部とがつながっている請求項１に記載の磁気記録媒体。
20. テープ状の磁気記録媒体であって、
    基体と、
    前記基体上に設けられ、潤滑剤を含む磁性層と
    を備え、
    前記磁性層は、多数の孔部が設けられた表面を有し、
    前記表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、
    前記潤滑剤を除去した状態における前記磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上である磁気記録媒体。
21. 前記磁性層は、磁性粉を含み、
    前記磁性粉は、六方晶フェライト、ε酸化鉄またはＣｏ含有スピネルフェライトを含む請求項２０に記載の磁気記録媒体。
22. 前記六方晶フェライトは、ＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含み、
    前記ε酸化鉄は、ＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種を含む請求項２１に記載の磁気記録媒体。
23. テープ状の磁気記録媒体であって、
    磁気ヘッドが走行される表面を有し、
    前記表面は、多数の孔部を有し、かつ潤滑剤を含み、
    前記表面の算術平均粗さＲａは、２．５ｎｍ以下であり、
    前記潤滑剤を除去した状態における前記磁気記録媒体の全体のＢＥＴ比表面積は、３．５ｍ²／ｍｇ以上である磁気記録媒体。

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