JP4673735B2 - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4673735B2 JP4673735B2 JP2005356575A JP2005356575A JP4673735B2 JP 4673735 B2 JP4673735 B2 JP 4673735B2 JP 2005356575 A JP2005356575 A JP 2005356575A JP 2005356575 A JP2005356575 A JP 2005356575A JP 4673735 B2 JP4673735 B2 JP 4673735B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- layer
- iron
- underlayer
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
Claims (3)
- 基板上に下地層と前記下地層の上に形成された鉄と白金を主成分とする合金磁性層を備え、
前記下地層は、鉄と酸素を主成分とする粒子からなる凹部と、前記凹部を取り囲む非晶質酸化物を主成分とする凸部とを有し、
前記合金磁性層の結晶粒子は前記下地層の凹部の上に優先的に形成されている磁気記録媒体であって、
前記下地層における非晶質酸化物は、酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化亜鉛からなる群から選ばれた少なくとも1種類の酸化物から構成されており、
前記合金磁性層の結晶粒子はL 10 相に規則合金化しており、そのc軸が垂直方向に優先配向していることを特徴とする磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体において、前記磁性層の結晶粒子の平均粒径が3nm以上、8nm以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
- 基板上に直接あるいは他の層を形成した上に、鉄と、酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル及び酸化亜鉛からなる群から選ばれた少なくとも1種類の酸化物とを含む下地層を形成し、前記下地層をスパッタエッチング処理することによって鉄粒子を選択的にエッチングして凹部を形成し、次に前記下地層を酸化処理することによって鉄粒子の表面又は全体を酸化し、その上に鉄を主成分とする層と白金を主成分とする層をこの順に積層した後に、前記積層膜を所定温度に加熱して、鉄を主成分とする層及び白金を主成分とする層の間で相互拡散を生じさせて鉄と白金を合金化させると同時に、前記凹部の鉄と白金の合金結晶粒子を鉄酸化物を主成分とする粒子の上にL 10 相に規則合金化しc軸が垂直方向に優先配向した結晶粒子として優先的に凝集させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005356575A JP4673735B2 (ja) | 2005-12-09 | 2005-12-09 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005356575A JP4673735B2 (ja) | 2005-12-09 | 2005-12-09 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007164845A JP2007164845A (ja) | 2007-06-28 |
JP4673735B2 true JP4673735B2 (ja) | 2011-04-20 |
Family
ID=38247599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005356575A Expired - Fee Related JP4673735B2 (ja) | 2005-12-09 | 2005-12-09 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4673735B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009158053A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 傾斜記録用磁気記録媒体及びその製造方法 |
CN104911555A (zh) * | 2015-04-28 | 2015-09-16 | 山西师范大学 | 一种具有垂直取向的磁性纳米反点阵列膜及其制备方法 |
WO2018203468A1 (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-08 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002163189A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Nippon Telegraph & Telephone East Corp | ドキュメント転送サーバ |
JP2002260220A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-13 | Hitachi Maxell Ltd | 情報記録媒体及びその製造方法並びに情報記録装置 |
JP2004014013A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Nihon University | 情報記録媒体及びその製造方法 |
JP2004178753A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体 |
JP2004237429A (ja) * | 2002-03-15 | 2004-08-26 | Canon Inc | 機能デバイスとその製造方法、垂直磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び情報処理装置 |
JP2005226156A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-08-25 | Canon Inc | めっき液、めっき液を用いた構造体の製造方法、めっき液を用いた装置 |
JP2006073157A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2006236486A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2006294121A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
2005
- 2005-12-09 JP JP2005356575A patent/JP4673735B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002163189A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Nippon Telegraph & Telephone East Corp | ドキュメント転送サーバ |
JP2002260220A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-13 | Hitachi Maxell Ltd | 情報記録媒体及びその製造方法並びに情報記録装置 |
JP2004237429A (ja) * | 2002-03-15 | 2004-08-26 | Canon Inc | 機能デバイスとその製造方法、垂直磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び情報処理装置 |
JP2004014013A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Nihon University | 情報記録媒体及びその製造方法 |
JP2004178753A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体 |
JP2005226156A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-08-25 | Canon Inc | めっき液、めっき液を用いた構造体の製造方法、めっき液を用いた装置 |
JP2006073157A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2006236486A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2006294121A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007164845A (ja) | 2007-06-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9899050B2 (en) | Multiple layer FePt structure | |
JP5145437B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
US6846583B2 (en) | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus | |
JP3730518B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2005190517A (ja) | 垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
US20120171519A1 (en) | MULTILAYER STRUCTURE WITH HIGH ORDERED FePt LAYER | |
JP5575172B2 (ja) | 磁気記録媒体,磁気記録再生装置,および磁気記録媒体の製造方法 | |
CN100510190C (zh) | c轴垂直取向的L10相FePt磁记录薄膜的制备方法 | |
JP6873506B2 (ja) | 垂直磁化膜の前駆体構造、垂直磁化膜構造、およびその製造方法、これらを用いた垂直磁化型トンネル磁気抵抗接合膜およびその製造方法、ならびにこれらを用いた垂直磁化型トンネル磁気抵抗接合素子 | |
JP4673735B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
CN100578626C (zh) | 制造垂直磁记录介质的方法、垂直磁记录介质、以及垂直磁记录/再现装置 | |
JP4642705B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP4491768B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JP5981564B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP2006236486A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JPH1097707A (ja) | 軟磁性薄膜の製造方法 | |
JP2006294121A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JP3730820B2 (ja) | 下地層付き基板、磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
JP2006344336A (ja) | 記録媒体、記録媒体製造方法 | |
JP2006073157A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JPH03265105A (ja) | 軟磁性積層膜 | |
JP2006202451A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP5344433B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の作製方法 | |
JP2006004460A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2005044428A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100824 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101020 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110118 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140128 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140128 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |