DE112014003928T5

DE112014003928T5 - Anzeigevorrichtung

Info

Publication number: DE112014003928T5
Application number: DE112014003928.4T
Authority: DE
Inventors: Yoshiharu Hirakata
Original assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Current assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date: 2013-08-30
Filing date: 2014-08-21
Publication date: 2016-05-12
Also published as: CN105493169B; JP6972072B2; KR20160046874A; JP2015064570A; CN112185259B; US20230019784A1; KR102445507B1; TWI724714B; US20170227807A1; TW201932931A; KR20230014843A; TW202328773A; CN105493169A; TW202127115A; TW202210914A; KR102190539B1; JP6587791B2; TWI747772B; US10139660B2; US20200292872A1

Abstract

Eine neuartige zusammenklappbare Anzeigevorrichtung oder ein elektronisches Gerät, das diese verwendet, z. B. ein tragbarer Informationsprozessor oder eine tragbare Informationskommunikationsvorrichtung, wird bereitgestellt. Eine zusammenklappbare Anzeigevorrichtung, deren Anzeigefeld bei einem Krümmungsradius von größer als oder gleich 1 mm und kleiner als oder gleich 100 mm n-mal (n ≥ 1, und n ist eine natürliche Zahl) zusammengeklappt werden kann, wird erhalten. Die Anzeigevorrichtung kann miniaturisiert werden, indem sie zusammenklappbar ist. Außerdem ist in dem Zustand, in dem das flexible Anzeigefeld geöffnet ist, eine Anzeige möglich, die über eine Vielzahl von Gehäusen hinweg ununterbrochen und durchgehend ist. Je nach Bedarf kann im Innern der Vielzahl von Gehäusen eine Schaltung, eine elektronische Komponente, eine Batterie und dergleichen untergebracht werden, und die Dicke jedes Gehäuses kann klein sein.

Description

Anzeigevorrichtung
Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Gegenstand, ein Verfahren oder ein Herstellungsverfahren. Des Weiteren betrifft die vorliegende Erfindung einen Prozess, eine Maschine, eine Fertigung oder eine Materialzusammensetzung. Im Besonderen betrifft eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Halbleitervorrichtung, eine Anzeigevorrichtung, eine Licht emittierende Vorrichtung, eine Beleuchtungsvorrichtung, Betriebsverfahren dafür oder Herstellungsverfahren dafür. Im Besonderen betrifft eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein elektronisches Gerät, einen Informationsprozessor und eine Informationskommunikationsvorrichtung, die jeweils eine Anzeigevorrichtung aufweisen, oder Herstellungsverfahren dafür.
Stand der Technik
Die sozialen Infrastrukturen haben in Bezug auf die Mittel zur Informationsübertragung Fortschritte gemacht. Dies ermöglichte es, nicht nur zu Hause oder im Büro, sondern auch an anderen Orten, die man aufsucht, viele Informationen und unterschiedliche Informationsarten mittels eines Informationsprozessors zu erhalten, zu verarbeiten und zu versenden.
Unter diesen Umständen werden tragbare Informationsprozessoren, wie z. B. ein Smartphone, ein Tablet und ein Phablet, aktiv entwickelt. Beispielsweise ist ein elektronisches Gerät, bei dem ein flexibles Anzeigefeld verwendet wird, bekannt (Patentdokument 1). Außerdem ist ein elektronisches Gerät mit mehreren Bildschirmen bekannt (Patentdokument 2).
[Patentdokument]

[Patentdokument 1] Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2012-190794
[Patentdokument 2] Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2012-502372

Offenbarung der Erfindung
Eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, eine neuartige zusammenklappbare Anzeigevorrichtung oder ein elektronisches Gerät, bei dem eine derartige Anzeigevorrichtung verwendet wird, wie z. B. einen tragbaren Informationsprozessor oder eine tragbare Informationskommunikationsvorrichtung, bereitzustellen. Eine weitere Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, eine miniaturisierte Anzeigevorrichtung bereitzustellen. Eine weitere Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, eine Anzeigevorrichtung bereitzustellen, die für eine ununterbrochene, durchgehende Anzeige geeignet ist. Eine weitere Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, eine dünne Anzeigevorrichtung bereitzustellen. Eine weitere Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, eine neuartige Anzeigevorrichtung bereitzustellen.
Es sei angemerkt, dass die Beschreibungen dieser Aufgaben das Vorhandensein weiterer Aufgaben nicht beeinträchtigen. Bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist es unnötig, sämtliche Aufgaben zu erfüllen. Weitere Aufgaben sind aus der Erläuterung der Beschreibung, der Zeichnungen, der Patentansprüche und dergleichen ersichtlich und können davon abgeleitet werden.
Bei einer Ausführungsform wird eine zusammenklappbare Anzeigevorrichtung, deren Anzeigefeld bei einem Krümmungsradius von größer als oder gleich 1 mm und kleiner als oder gleich 100 mm n-mal (n ≥ 1, und n ist eine natürliche Zahl) zusammengeklappt werden kann, bereitgestellt.
Bei einer Ausführungsform beinhaltet ein flexibles Anzeigefeld einen ersten Abschnitt, der durch ein erstes Gehäuse gestützt wird, einen zweiten Abschnitt, der durch ein zweites Gehäuse gestützt wird, und einen Biegeabschnitt zwischen dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt. Eine erste Schaltung (oder elektronische Komponente) ist in dem ersten Gehäuse, das den ersten Abschnitt stützt, bereitgestellt. Eine zweite Schaltung (oder elektronische Komponente) ist in dem zweiten Gehäuse, das den zweiten Abschnitt stützt, bereitgestellt. Wenn das flexible Anzeigefeld an dem Biegeabschnitt zusammengeklappt (oder gebogen) wird, überlappen das erste Gehäuse und das zweite Gehäuse einander. Die erste Schaltung (oder elektronische Komponente) und die zweite Schaltung (oder elektronische Komponente) können sich voneinander unterscheidende Funktionen aufweisen. Alternativ können die erste Schaltung (oder elektronische Komponente) und die zweite Schaltung (oder elektronische Komponente) die gleichen Funktionen aufweisen.
Bei einer Ausführungsform beinhaltet ein flexibles Anzeigefeld erste bis dritte Abschnitte, die durch die jeweiligen ersten bis dritten Gehäuse gestützt werden, einen ersten Biegeabschnitt zwischen dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt und einen zweiten Biegeabschnitt zwischen dem zweiten Abschnitt und dem dritten Abschnitt. Wenn das flexible Anzeigefeld zusammengeklappt ist, überlappen die ersten bis dritten Abschnitte einander. In diesem Zustand befindet sich einer der ersten bis dritten Abschnitte an der obersten Seite, und ein Betriebsmodus ist möglich, bei dem die Anzeige von mindestens dem Abschnitt selektiv an ist, der sich oben befindet, und eine Anzeige der anderen Abschnitte aus ist. Eine erste Schaltung (oder elektronische Komponente) ist in einem der ersten bis dritten Gehäuse, die die jeweiligen ersten bis dritten Abschnitte stützen, bereitgestellt, und eine zweite Schaltung (oder elektronische Komponente) ist in einem anderen der ersten bis dritten Gehäuse, die die jeweiligen ersten bis dritten Abschnitte stützen, bereitgestellt. Obwohl ferner eine dritte Schaltung (oder elektronische Komponente) in einem weiteren Gehäuse bereitgestellt sein kann, muss eine Schaltung (oder elektronische Komponente) nicht notwendigerweise in diesem Gehäuse bereitgestellt sein. In dem Zustand, in dem das flexible Anzeigefeld zusammengeklappt ist, kann nicht nur die Anzeige des ersten Abschnitts an der obersten Seite, sondern auch die Anzeige des Biegeabschnitts, der mit dem ersten Abschnitt verbunden ist, selektiv an sein.
Bei jeder der vorstehenden Ausführungsformen können die erste Schaltung (oder elektronische Komponente) und die zweite Schaltung (oder elektronische Komponente) über eine Leitung miteinander verbunden sein. Diese Leitung kann direkt in oder an dem flexiblen Anzeigefeld bereitgestellt sein. Als Alternative kann diese Leitung in einem flexiblen Substrat oder Blatt, das bereitgestellt ist, um das flexible Anzeigefeld zu überlappen, bereitgestellt sein. Als weitere Alternative können die erste Schaltung (oder elektronische Komponente) und die zweite Schaltung (oder elektronische Komponente) drahtlos Signale übertragen.
Die Anzeigevorrichtung kann miniaturisiert werden, indem sie zusammenklappbar ist. Außerdem ist in dem Zustand, in dem das flexible Anzeigefeld geöffnet ist, eine Anzeige möglich, die über eine Vielzahl von Gehäusen hinweg ununterbrochen und durchgehend ist. Je nach Bedarf kann im Innern der Vielzahl von Gehäusen eine Schaltung, eine elektronische Komponente, eine Batterie und dergleichen untergebracht werden, und die Dicke jedes Gehäuses kann klein sein. Es sei angemerkt, dass eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung nicht auf diese Effekte beschränkt ist. Beispielsweise kann eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung je nach Umständen oder Bedingungen einen weiteren Effekt hervorrufen. Des Weiteren kann eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung je nach Umständen oder Bedingungen keinen der vorstehenden Effekte hervorrufen.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
In den beiliegenden Zeichnungen:
1A bis 1C stellen eine Anzeigevorrichtung dar;
2 stellt eine Anzeigevorrichtung dar;
3A und 3B stellen eine Anzeigevorrichtung dar;
4A und 4B stellen eine Anzeigevorrichtung dar;
5A und 5B stellen eine Anzeigevorrichtung dar;
6 stellt ein Smartphone dar;
7A und 7B stellen ein Anzeigefeld dar;
8A und 8B stellen ein Anzeigefeld dar;
9A und 9B stellen ein Anzeigefeld dar;
10A und 10B stellen ein Anzeigefeld dar;
11A bis 11C stellen ein Verfahren zum Herstellen eines Anzeigefelds dar;
12A bis 12C stellen ein Verfahren zum Herstellen eines Anzeigefelds dar; und
13A bis 13C stellen ein Beispiel für ein elektronisches Gerät dar.
Beste Methode zum Durchführen der Erfindung
Ausführungsformen werden anhand der Zeichnungen detailliert beschrieben. Es sei angemerkt, dass die vorliegende Erfindung nicht auf die nachfolgende Beschreibung beschränkt ist, und es erschließt sich einem Fachmann ohne Weiteres, dass verschiedene Änderungen und Modifikationen vorgenommen werden können, ohne dabei von dem Gedanken und Schutzbereich der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Daher wird die vorliegende Erfindung nicht als auf den Inhalt der folgenden Ausführungsformen beschränkt angesehen. Es sei angemerkt, dass bei den Strukturen der Erfindung, die nachfolgend beschrieben wird, gleiche Abschnitte oder Abschnitte, die ähnliche Funktionen aufweisen, in unterschiedlichen Zeichnungen mit den gleichen Bezugszeichen versehen sind und dass die Beschreibung solcher Abschnitte nicht wiederholt wird.
(Ausführungsform 1)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur einer Anzeigevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anhand von 1A bis 1C, 2, 3A und 3B beschrieben. Bei dieser Ausführungsform wird eine Anzeigevorrichtung beschrieben, die dreifach zusammengeklappt werden kann, das heißt eine Anzeigevorrichtung mit zwei Biegeabschnitten. Es sei angemerkt, dass eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung nicht auf eine dreifach zusammenklappbare Anzeigevorrichtung beschränkt sein muss und dass auch eine zweifach, vierfach, fünffach oder häufiger zusammenklappbare Anzeigevorrichtung möglich ist. Außerdem ist die Art, wie ein Anzeigefeld zusammengeklappt wird, nicht auf die Ausführungsform beschränkt. Beispielsweise kann ein Anzeigefeld derart zusammengeklappt werden, dass nicht der äußerste linke Abschnitt, sondern der äußerste rechte Abschnitt zur Oberfläche wird oder der mittlere Abschnitt zur Oberfläche wird.
1A bis 1C sind konzeptionelle Darstellungen einer Anzeigevorrichtung dieser Ausführungsform. 1A zeigt einen Zustand, in dem ein flexibles Anzeigefeld geöffnet ist. 1B zeigt einen Zustand, in dem das flexible Anzeigefeld geöffnet oder zusammengeklappt wird. 1C zeigt einen Zustand, in dem das flexible Anzeigefeld zusammengeklappt ist. In 1A bis 1C ist die Anzeigeoberfläche nach oben gerichtet. 2 zeigt die Anzeigevorrichtung in einem Zustand, in dem das Anzeigefeld offen ist. 3A und 3B sind Querschnittsansichten, die entlang der Strichpunktlinie C-D aus 1C entnommen wurden und einen Zustand zeigen, in dem das flexible Feld zusammengeklappt ist (im Folgenden kann ein derartiger Zustand auch als geschlossener Zustand bezeichnet werden).
Eine Komponente, wie z. B. ein Schalter (nicht gezeigt), zum Erfassen eines geöffneten/geschlossenen Zustands des Anzeigefelds, kann in mindestens einem der Gehäuse bereitgestellt sein.
In 3A, die einen Zustand zeigt, in dem das Anzeigefeld zusammengeklappt ist, kann der folgende Betrieb durchgeführt werden: Ein Bereich der Oberfläche des Anzeigefelds und ein Bereich der Seitenfläche des Anzeigefelds, der mit dem Oberflächenbereich (d. h. ein Bereich an der rechten Seite des Oberflächenanzeigebereichs) verbunden ist, werden selektiv als Anzeigebereich verwendet, und die anderen Abschnitte werden nicht als Anzeigebereich verwendet. Auf diese Weise kann in dem Zustand, in dem das Anzeigefeld zusammengeklappt ist, unnötiger Stromverbrauch verhindert werden.
Gehäuse (oder Rahmen) 111-1, 112-1 und 113-1, die das Anzeigefeld stützen, sind an der Unterseite (Rückseite) eines flexiblen Anzeigefelds 101 bereitgestellt. Im Innern dieser Gehäuse können eine Schaltung, eine elektronische Komponente, eine Batterie und dergleichen untergebracht sein. Die Gehäuse können unter Verwendung eines Metalls, eines Harzes, eines Gummis oder einer Kombination davon ausgebildet werden, um eine Funktion zum Schützen des Anzeigefelds oder einer darin untergebrachten Schaltung oder elektronischen Komponente vor den Auswirkungen eines Schlages oder Fallenlassens aufzuweisen.
Rahmenteile 111-2, 112-2 und 113-2 sind an einer Oberseite (Seite der Anzeigeoberfläche) einer Peripherie des flexiblen Anzeigefelds 101 bereitgestellt. Das flexible Anzeigefeld ist zwischen den Gehäusen an der Unterseite und den entsprechenden Rahmenteilen an der Oberseite eingelassen, wodurch es gestützt wird. Das Material für die Rahmenteile kann dem Material der Gehäuse gleichen.
Jedes der Rahmenteile und das entsprechende Gehäuse können mit einem Klebemittel, einer Schraube oder dergleichen aneinander befestigt sein. Alternativ können jedes der Rahmenteile und das entsprechende Gehäuse unter Verwendung des gleichen Materials als eine Komponente ausgebildet werden. In diesem Fall kann eine derartige Komponente eine Nut aufweisen, in der das Anzeigefeld eingesetzt wird, wodurch das Anzeigefeld gehalten wird. Bei dieser Ausführungsform sind Seitenrahmenteile 128 und 129 bereitgestellt. Die Seitenrahmenteile können unter Verwendung eines Materials, wie z. B. eines Metalls, eines Harzes oder eines Gummis, ausgebildet werden.
Der Krümmungsradius an dem Biegeabschnitt kann größer als oder gleich 1 mm und kleiner als oder gleich 100 mm sein.
Eine Schaltung oder elektronische Komponente (121 oder 122), wie z. B. eine Steuereinheit, eine Stromversorgungseinheit, eine Speicherbatterie oder eine Antenne, ist in mindestens einem der Gehäuse 111-1, 112-1 und 113-3 untergebracht. Eine FPC 125 (flexible printed circuit, flexibles gedrucktes Schaltungssubstrat) kann für die Verbindung zwischen der Schaltung oder elektronischen Komponente und dem Anzeigefeld verwendet werden.
Die Gehäuse 111-1, 112-1 und 113-1 können mit einem Klebemittel oder dergleichen direkt an dem Anzeigefeld befestigt sein. Als Alternative kann ein flexibles Substrat, das das Anzeigefeld schützt oder eine Funktion zum Anschließen einer Leitung aufweist, zwischen dem Anzeigefeld und den Gehäusen bereitgestellt sein.
Bei dieser Ausführungsform wird ein Beispiel gezeigt, bei dem ein flexibles Substrat 102-1 zwischen dem Anzeigefeld und den Gehäusen bereitgestellt ist. Das flexible Substrat 102-1 weist ungefähr die gleiche Größe wie das Anzeigefeld auf und weist ebenfalls eine Funktion zum Verbinden der Gehäuse auf. Um die FPC, die sich von dem Anzeigefeld aus erstreckt, mit dem Gehäuse zu verbinden, kann ein Teil des flexiblen Substrats abgeschnitten werden oder die Größe des flexiblen Substrats kann etwas kleiner sein als diejenige des Anzeigefelds. Das Material für das flexible Substrat 102-1 kann ein Harz, ein Gummi oder dergleichen sein, wobei in diesem Fall die mechanische Festigkeit des Biegeabschnitts verbessert werden kann. Des Weiteren ist eine Leitung zum Verbinden der Schaltungen oder elektronischen Komponenten, die in den Gehäusen bereitgestellt sind, in dem flexiblen Substrat 102-1 bereitgestellt.
Ein flexibles Substrat 102-2 kann zwischen dem Anzeigefeld und den Rahmenteilen an der Oberseite bereitgestellt sein. Herkömmliche FPC-Substrate können als flexible Substrate 102-1 und 102-2 verwendet werden. Es sei angemerkt, dass beide oder eines der flexiblen Substrate 102-1 und 102-2 weggelassen werden können/kann.
Die FPC 125 ist an dem flexiblen Anzeigefeld 101 bereitgestellt und mit einer Treiberschaltung des Anzeigefelds oder dergleichen verbunden, die in dem Gehäuse bereitgestellt ist. Die FPC 125 kann mit der Treiberschaltung, die in dem Gehäuse bereitgestellt ist, über eine Öffnung 133 des Gehäuses verbunden sein, sie ist jedoch nicht darauf beschränkt.
3B zeigt ein Modifikationsbeispiel dieser Ausführungsform, bei dem ein Gehäuse 112-1 dünner ist als die Gehäuse 111-1 und 113-1. Diese Ausführungsform kann je nach Bedarf mit einer beliebigen der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 2)
Bei dieser Ausführungsform werden Konfigurationen von Anzeigevorrichtungen, bei denen es sich jeweils um eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung handelt, anhand von 4A, 4B, 5A und 5B beschrieben. Es sei angemerkt, dass einige Komponenten, die denjenigen der bei der Ausführungsform 1 beschriebenen Anzeigevorrichtung ähnlich sind, ebenfalls bei dieser Ausführungsform verwendet werden können. Für derartige Komponenten wird auf die Beschreibung der Ausführungsform 1 verwiesen.
Bei dieser Ausführungsform ist beispielsweise eine Batterieeinheit 121 in einem Gehäuse 111-1 untergebracht, und ein Hauptsubstrat, das eine Steuereinheit zum Steuern eines Anzeigefelds und eines kompletten elektronischen Geräts enthält, ist in einem Gehäuse 113-1 untergebracht. Ein Gehäuse 112-1 kann ein Dummy-Gehäuse sein, in dem weder eine Schaltung noch eine elektronische Komponente untergebracht ist. Das Unterbringen einer Vielzahl von Komponenten in einer Vielzahl von unterschiedlichen Gehäusen kann, wie bei dieser Ausführungsform, dafür sorgen, dass die Dicken der Gehäuse gleichmäßig dünn sind. Bei dieser Ausführungsform sind die Dicken sämtlicher Gehäuse gleich, wobei in diesem Fall eine Anzeigeoberfläche leicht flach sein kann, wenn das Anzeigefeld geöffnet ist.
Leitungen (bei dieser Ausführungsform schließt dies auch eine Leitung zur Stromversorgung mit ein) sind in einem flexiblen Substrat 102-1 bereitgestellt, und Strom wird der Steuereinheit 122 in dem Gehäuse 113-1 von der Batterieeinheit 121 in dem Gehäuse 111-1 zugeführt. Ein Beispiel für das flexible Substrat 102-1, bei dem die Leitungen bereitgestellt sind, wird in 4A und 4B gezeigt. In 4A kennzeichnet ein Bezugszeichen 130 eine Leitung, und ein Bezugszeichen 131 kennzeichnet einen Anschlussabschnitt. Die Leitung 130 ist mit der Batterie oder der Steuereinheit, die in dem Gehäuse untergebracht ist, über eine Öffnung 132 des Gehäuses verbunden. Es sei angemerkt, dass ein Anzeigefeld an der Oberseite des flexiblen Substrats 102-1 und darüber liegende Komponenten in 4 für eine Erklärung nicht gezeigt werden. Obwohl in 4A ein Beispiel gezeigt wird, bei dem sich eine lange Öffnung erstreckt, sind die Form und die Anzahl der Öffnungen nicht darauf beschränkt. Eine Vielzahl von Öffnungen kann, wie in 2 gezeigt, bereitgestellt sein.
5A und 5B zeigen ein Modifikationsbeispiel von 4A und 4B, bei dem das flexible Substrat 102-1 weggelassen wurde und eine Leitung 134 direkt in oder an einem flexiblen Anzeigefeld 101 bereitgestellt ist. Beispielsweise kann die Leitung 134 auf dem gleichen Substrat wie das Anzeigefeld ausgebildet werden, indem eine Leitungsschicht, die Gate-Elektroden oder Source/Drain-Elektroden von Transistoren bildet, die in dem Anzeigefeld enthalten sind, und/oder einige andere Leitungsschichten verwendet werden, die auf dem gleichen Substrat wie die Transistoren ausgebildet werden, und kann die Leitung 134 durch eine FPC 135 mit einer Schaltung in einem Gehäuse verbunden sein. Als weiteres Modifikationsbeispiel kann eine Batterieeinheit sowohl in dem Gehäuse 112-1 als auch in dem Gehäuse 111-1 in 4A, 4B, 5A und 5B untergebracht sein. In einem derartigen Fall kann die Anzeigevorrichtung, selbst ohne Aufladen einer Speicherbatterie, für einen längeren Zeitraum verwendet werden.
Diese Ausführungsform kann je nach Bedarf mit einer beliebigen der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 3)
Bei dieser Ausführungsform wird ein Beispiel für ein tragbares Kommunikationsgerät, wie z. B. ein Smartphone (Mobiltelefon mit erweiterten Funktionen), ein Tablet mit einer Telefonfunktion oder ein Phablet, beschrieben. 6 zeigt eine allgemeine Konfiguration eines Smartphones. Im Allgemeinen enthält das Smartphone ein Hauptsubstrat 600, einen Lautsprecher 601, eine Kamera 602, ein Anzeigefeld 603, eine Batterieeinheit 604, eine Antenne 605 für mobile Kommunikation, eine NFC-Antenne 606 und dergleichen. Auf dem Hauptsubstrat 600 sind verschiedene ICs und elektronische Komponenten, wie z. B. ein Passivelement, montiert. Beispielsweise sind eine Quarz-Einheit 611, ein DRAM 612, ein Anwendungsprozessor 613, ein Basisbandprozessor 614, ein elektronischer Kompass 615, eine Quarz-Einheit 616, eine HF-Transceiver-IC 617, eine Touchscreen-Steuer-IC 618, ein Beschleunigungssensor 619, ein drahtloses LAN/Bluetooth-(eingetragenes Warenzeichen)Modul 620, eine Stromversorgungssteuer-IC 621, ein Leistungsverstärker für W-CDMA 622, ein Flash-Speicher 623, ein Filter 624 und dergleichen montiert. Der Einfachheit halber werden diese Komponenten im Folgenden kollektiv als Steuereinheit bezeichnet. Es sei angemerkt, dass nicht alle dieser Schaltungen oder elektronischen Komponenten auf dem Hauptsubstrat montiert sein müssen, und einige Komponenten oder Schaltungen können je nach Bedarf auf einem anderen Substrat montiert sein. Das Anzeigefeld ist flexibel und kann zusammengeklappt werden.
Das Hauptsubstrat und diverse elektronische Komponenten sind je nach Bedarf in einer Vielzahl von unterschiedlichen Gehäusen untergebracht. Bei der Anzeigevorrichtung der Ausführungsform 2 sind die Batterieeinheit 604 und die NFC-Antenne 606 beispielsweise in dem Gehäuse 113-1 untergebracht, und das Hauptsubstrat 600 und die Antenne 605 für tragbare Kommunikation sind in dem Gehäuse 111-1 untergebracht. Demzufolge weist das Gehäuse, in dem die Batterieeinheit 604 untergebracht ist, Raum zur Erhöhung der Kapazität einer Sekundärbatterie auf. Obwohl es unnötig ist, die Verwendungsart der Kamera 602 einzuschränken, kann sie auf die folgende Weise verwendet werden: Die Kamera ist an dem Gehäuse 113-1 montiert, und wenn sich die Anzeigevorrichtung in einem geschlossenen Zustand befindet, macht ein Benutzer mit der Kamera ein Foto, während er ein zu fotografierendes Objekt sieht, das auf dem Anzeigefeld über dem Gehäuse 111-1 angezeigt wird, d. h. dem Anzeigefeld, das sich auf der der Kamera entgegengesetzten Seite der Anzeigevorrichtung befindet.
(Ausführungsform 4)
Bei dieser Ausführungsform wird ein Anzeigefeld, bei dem eine Elektrolumineszenz-(EL-)Aktivmatrix-Anzeigevorrichtung verwendet wird, anhand von 7A, 7B, 8A, 8B, 9A, 9B, 10A, 10B, 11A bis 11C und 12A bis 12C als Beispiel für ein flexibles Anzeigefeld einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben. Es sei angemerkt, dass das Anzeigefeld nicht auf eine EL-Anzeigevorrichtung beschränkt ist und andere Anzeigevorrichtungsarten, wie z. B. eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung und eine Elektrophoreseanzeigevorrichtung, ebenfalls verwendet werden können.
<Spezifisches Beispiel 1>
7A zeigt eine Draufsicht auf ein flexibles Anzeigefeld 101, und 7B zeigt ein Beispiel für eine Querschnittsansicht, die entlang der Strichpunktlinie A1–A2 aus 7A entnommen wurde.
Das Anzeigefeld, das in 7B gezeigt wird, beinhaltet eine Elementschicht 1101, eine Klebeschicht 1105 und ein Substrat 1103. Die Elementschicht 1101 beinhaltet ein Substrat 1201, eine Klebeschicht 1203, eine Isolierschicht 1205, eine Vielzahl von Transistoren 1240, eine leitende Schicht 1157, eine Isolierschicht 1207, eine Isolierschicht 1209, eine Vielzahl von Licht emittierenden Elementen 1230, eine Isolierschicht 1211, eine Dichtungsschicht 1213, eine Isolierschicht 1261, eine Farbschicht 1259, eine lichtundurchlässige Schicht 1257 und eine Isolierschicht 1255.
Die leitende Schicht 1157 ist über einen Verbinder 1215 elektrisch mit einer FPC 1108 verbunden.
Ein Licht emittierendes Element 1230 beinhaltet eine untere Elektrode 1231, eine EL-Schicht 1233 und eine obere Elektrode 1235. Die EL-Schicht wird aus einem organischen Licht emittierenden Material ausgebildet. Die untere Elektrode 1231 ist elektrisch mit einer Source-Elektrode oder einer Drain-Elektrode des Transistors 1240 verbunden. Ein Endabschnitt der unteren Elektrode 1231 ist mit der Isolierschicht 1211 bedeckt. Das Licht emittierende Element 1230 weist eine Top-Emission-Struktur auf. Die obere Elektrode 1235 weist eine Lichtdurchlässigkeitseigenschaft auf und lässt Licht durch, das von der EL-Schicht 1233 emittiert wird.
Die Farbschicht 1259 ist derart angeordnet, dass sie das Licht emittierende Element 1230 überlappt, und die lichtundurchlässige Schicht 1257 ist derart angeordnet, dass sie die Isolierschicht 1211 überlappt. Die Farbschicht 1259 und die lichtundurchlässige Schicht 1257 sind mit der Isolierschicht 1261 bedeckt. Der Raum zwischen dem Licht emittierenden Element 1230 und der Isolierschicht 1261 ist mit der Dichtungsschicht 1213 gefüllt.
Das Anzeigefeld beinhaltet eine Vielzahl von Transistoren in einem Lichtextraktionsabschnitt 1104 und einem Treiberschaltungsabschnitt 1106. Der Transistor 1240 ist über der Isolierschicht 1205 bereitgestellt. Die Isolierschicht 1205 und das Substrat 1201 sind mit der Klebeschicht 1203 aneinander befestigt. Die Isolierschicht 1255 und das Substrat 1103 sind mit der Klebeschicht 1105 aneinander befestigt. Vorzugsweise werden Filme mit geringer Wasserdurchlässigkeit für die Isolierschicht 1205 und die Isolierschicht 1255 verwendet, wobei in diesem Fall verhindert werden kann, dass eine Verunreinigung, wie z. B. Wasser, in das Licht emittierende Element 1230 oder den Transistor 1240 eindringt, was die Zuverlässigkeit des Anzeigefelds verbessert. Die Klebeschicht 1203 kann unter Verwendung eines Materials, das demjenigen der Klebeschicht 1105 ähnlich ist, ausgebildet werden.
Das Anzeigefeld des spezifischen Beispiels 1 kann auf die folgende Weise hergestellt werden: Die Isolierschicht 1205, der Transistor 1240 und das Licht emittierende Element 1230 werden über einem Ausbildungssubstrat mit hoher Wärmebeständigkeit ausgebildet; das Ausbildungssubstrat wird abgetrennt; und die Isolierschicht 1205, der Transistor 1240 und das Licht emittierende Element 1230 werden auf das Substrat 1201 übertragen und mit der Klebeschicht 1203 daran befestigt. Ferner kann das Anzeigefeld des spezifischen Beispiels 1 auf die folgende Weise hergestellt werden: Die Isolierschicht 1255, die Farbschicht 1259 und die lichtundurchlässige Schicht 1257 werden über einem Ausbildungssubstrat mit hoher Wärmebeständigkeit ausgebildet; das Ausbildungssubstrat wird abgetrennt; und die Isolierschicht 1255, die Farbschicht 1259 und die lichtundurchlässige Schicht 1257 werden auf das Substrat 1103 übertragen und mit der Klebeschicht 1105 daran befestigt.
In dem Fall, in dem ein Material mit hoher Wasserdurchlässigkeit und geringer Wärmebeständigkeit (z. B. ein Harz) für ein Substrat verwendet wird, ist es unmöglich, während des Herstellungsprozesses das Substrat einer hohen Temperatur auszusetzen. Deswegen gibt es eine Beschränkung hinsichtlich der Bedingungen, unter denen ein Transistor und ein Isolierfilm über dem Substrat ausgebildet werden. Bei dem Herstellungsverfahren dieser Ausführungsform können ein Transistor und dergleichen über einem Ausbildungssubstrat mit hoher Wärmebeständigkeit ausgebildet werden; demzufolge können ein hochzuverlässiger Transistor und ein Isolierfilm mit ausreichend geringer Wasserdurchlässigkeit ausgebildet werden. Danach werden der Transistor und der Isolierfilm auf das Substrat 1103 und das Substrat 1201 übertragen, wodurch ein hochzuverlässiges Anzeigefeld hergestellt werden kann. Demzufolge kann bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine dünne oder/und leichtgewichtige Licht emittierende Aktivmatrix-Vorrichtung bereitgestellt werden, die eine hohe Zuverlässigkeit aufweist. Die Einzelheiten des Herstellungsverfahrens dafür werden später beschrieben.
Das Substrat 1103 und das Substrat 1201 werden vorzugsweise jeweils unter Verwendung eines Materials mit hoher Festigkeit ausgebildet. In diesem Fall kann eine Anzeigevorrichtung bereitgestellt werden, die eine hohe Stoßbeständigkeit aufweist und mit geringerer Wahrscheinlichkeit beschädigt wird. Wenn es sich bei dem Substrat 1103 beispielsweise um ein organisches Harzsubstrat und bei dem Substrat 1201 um ein Substrat handelt, das unter Verwendung eines dünnen Metallmaterials oder eines dünnen Legierungsmaterials ausgebildet wird, kann das Anzeigefeld leichtgewichtig sein und mit geringerer Wahrscheinlichkeit beschädigt werden als in dem Fall, in dem ein Glassubstrat verwendet wird.
Ein Metallmaterial und ein Legierungsmaterial, die eine hohe Wärmeleitfähigkeit aufweisen, werden bevorzugt, da sie Wärme leicht in das ganze Substrat leiten und somit einen lokalen Temperaturanstieg in dem Anzeigefeld verhindern können. Die Dicke eines Substrats, das ein Metallmaterial oder ein Legierungsmaterial verwendet, ist bevorzugt größer als oder gleich 10 μm und kleiner als oder gleich 200 μm, stärker bevorzugt größer als oder gleich 20 μm und kleiner als oder gleich 50 μm.
Des Weiteren kann dann, wenn ein Material mit hohem Wärmeemissionsgrad für das Substrat 1201 verwendet wird, verhindert werden, dass die Oberflächentemperatur des Anzeigefelds ansteigt, was eine Beschädigung oder eine Abnahme der Zuverlässigkeit des Anzeigefelds verhindert. Das Substrat 1201 kann beispielsweise eine mehrschichtige Struktur aus einem Metallsubstrat und einer Schicht mit hohem Wärmeemissionsgrad aufweisen (die Schicht kann beispielsweise unter Verwendung eines Metalloxids oder eines Keramikmaterials ausgebildet werden). Bei den folgenden spezifischen Beispielen wird die Beschreibung von Komponenten, die denjenigen des spezifischen Beispiels 1 ähnlich sind, weggelassen.
<Spezifisches Beispiel 2>
8A zeigt ein weiteres Beispiel für einen Lichtextraktionsabschnitt 1104 in einem Anzeigefeld. Das Anzeigefeld, das in 8A gezeigt wird, ist zur Touch-Bedienung geeignet.
Das Anzeigefeld, das in 8A gezeigt wird, beinhaltet eine Elementschicht 1101, eine Klebeschicht 1105 und ein Substrat 1103. Die Elementschicht 1101 beinhaltet ein Substrat 1201, eine Klebeschicht 1203, eine Isolierschicht 1205, eine Vielzahl von Transistoren, eine Isolierschicht 1207, eine Isolierschicht 1209, eine Vielzahl von Licht emittierenden Elementen, eine Isolierschicht 1211, eine Isolierschicht 1217, eine Dichtungsschicht 1213, eine Isolierschicht 1261, eine Farbschicht 1259, eine lichtundurchlässige Schicht 1257, eine Vielzahl von Licht empfangenden Elementen, eine leitende Schicht 1281, eine leitende Schicht 1283, eine Isolierschicht 1291, eine Isolierschicht 1293, eine Isolierschicht 1295 und eine Isolierschicht 1255.
Bei dem spezifischen Beispiel 2 ist die Isolierschicht 1217 über der Isolierschicht 1211 bereitgestellt. Der Zwischenraum zwischen dem Substrat 1103 und dem Substrat 1201 kann durch das Bereitstellen der Isolierschicht 1217 reguliert werden.
8A zeigt ein Beispiel, bei dem das Licht empfangende Element zwischen der Isolierschicht 1255 und der Dichtungsschicht 1213 bereitgestellt ist.
Da das Licht empfangende Element derart platziert werden kann, dass es einen kein Licht emittierenden Bereich (z. B. einen Bereich, in dem ein Transistor 1240 oder eine Leitung bereitgestellt ist) auf der Seite des Substrats 1201 überlappt, kann das Anzeigefeld mit einem Berührungssensor bereitgestellt sein, ohne dass das Öffnungsverhältnis eines Pixels (eines Licht emittierenden Elements) verringert wird.
Als Licht empfangendes Element, das in dem Anzeigefeld enthalten ist, kann beispielsweise eine PN-Photodiode oder eine PIN-Photodiode verwendet werden. Bei dieser Ausführungsform wird als Licht empfangendes Element eine PIN-Photodiode verwendet, die eine p-Typ-Halbleiterschicht 1271, eine i-Typ-Halbleiterschicht 1273 und eine n-Typ-Halbleiterschicht 1275 beinhaltet.
Es sei angemerkt, dass es sich bei der i-Typ-Halbleiterschicht 1273 um einen Halbleiter handelt, bei dem sowohl die Konzentration einer Verunreinigung, die p-Typ-Leitfähigkeit verleiht, als auch die Konzentration einer Verunreinigung, die n-Typ-Leitfähigkeit verleiht, 1 × 10²⁰ cm^–3 oder weniger betragen und dessen Photoleitfähigkeit hundertmal oder mehr so hoch ist wie die Dunkelleitfähigkeit. Die i-Typ-Halbleiterschicht 1273 umfasst in ihrer Kategorie ebenfalls einen Halbleiter, der ein Verunreinigungselement enthält, das zur Gruppe 13 oder Gruppe 15 des Periodensystems gehört. Mit anderen Worten: Da ein i-Typ-Halbleiter eine schwache elektrische n-Typ-Leitfähigkeit aufweist, wenn ein Verunreinigungselement zum Steuern von Valenzelektronen bewusst nicht zugesetzt wird, umfasst die i-Typ-Halbleiterschicht 1273 in ihrer Kategorie einen Halbleiter, dem bei der Abscheidung oder nach der Abscheidung ein p-Typ-Leitfähigkeit verleihendes Verunreinigungselement bewusst oder unbewusst zugesetzt wird.
Die lichtundurchlässige Schicht 1257 überlappt das Licht empfangende Element auf der Seite des Substrats 1103. Die lichtundurchlässige Schicht 1257 zwischen dem Licht empfangenden Element und der Dichtungsschicht 1213 kann verhindern, dass das Licht empfangende Element mit Licht, das von dem Licht emittierenden Element 1230 emittiert wird, bestrahlt wird.
Die leitende Schicht 1281 und die leitende Schicht 1283 sind jeweils elektrisch mit dem Licht empfangenden Element verbunden. Für die leitende Schicht 1281 wird vorzugsweise eine leitende Schicht verwendet, die das auf das Licht empfangende Element einfallende Licht durchlässt. Für die leitende Schicht 1283 wird vorzugsweise eine leitende Schicht verwendet, die das auf das Licht empfangende Element einfallende Licht blockiert.
Vorzugsweise wird ein optischer Berührungssensor zwischen dem Substrat 1103 und der Dichtungsschicht 1213 bereitgestellt, da der optische Berührungssensor mit geringerer Wahrscheinlichkeit von dem Licht, das von dem Licht emittierenden Element 1230 emittiert wird, beeinflusst wird und ein verbessertes S/N-Verhältnis aufweisen kann.
<Spezifisches Beispiel 3>
8B zeigt ein weiteres Beispiel für einen Lichtextraktionsabschnitt 1104 in einem Anzeigefeld. Das Anzeigefeld, das in 8B gezeigt wird, ist zur Touch-Bedienung geeignet.
Das Anzeigefeld, das in 8B gezeigt wird, beinhaltet eine Elementschicht 1101, eine Klebeschicht 1105 und ein Substrat 1103. Die Elementschicht 1101 beinhaltet ein Substrat 1201, eine Klebeschicht 1203, eine Isolierschicht 1205, eine Vielzahl von Transistoren, eine Isolierschicht 1207, eine Isolierschicht 1209a, eine Isolierschicht 1209b, eine Vielzahl von Licht emittierenden Elementen, eine Isolierschicht 1211, eine Isolierschicht 1217, eine Dichtungsschicht 1213, eine Farbschicht 1259, eine lichtundurchlässige Schicht 1257, eine Vielzahl von Licht empfangenden Elementen, eine leitende Schicht 1280, eine leitende Schicht 1281 und eine Isolierschicht 1255.
8B zeigt ein Beispiel, bei dem ein Licht empfangendes Element zwischen der Isolierschicht 1205 und der Dichtungsschicht 1213 bereitgestellt ist.
Da das Licht empfangende Element zwischen der Isolierschicht 1205 und der Dichtungsschicht 1213 bereitgestellt ist, können eine leitende Schicht, mit der das Licht empfangende Element elektrisch verbunden ist, und eine photoelektrische Umwandlungsschicht, die in dem Licht empfangenden Element enthalten ist, durch dieselben Schritte und unter Verwendung der gleichen Materialien wie eine leitende Schicht und eine Halbleiterschicht ausgebildet werden, die in dem Transistor 1240 enthalten sind. Daher kann das Anzeigefeld, das zur Touch-Bedienung geeignet ist, ohne wesentlichen Anstieg der Anzahl der Herstellungsschritte hergestellt werden.
<Spezifisches Beispiel 4>
9A zeigt ein weiteres Beispiel für ein Anzeigefeld. Das Anzeigefeld, das in 9A gezeigt wird, ist zur Touch-Bedienung geeignet.
Das Anzeigefeld, das in 9A gezeigt wird, beinhaltet eine Elementschicht 1101, eine Klebeschicht 1105 und ein Substrat 1103. Die Elementschicht 1101 beinhaltet ein Substrat 1201, eine Klebeschicht 1203, eine Isolierschicht 1205, eine Vielzahl von Transistoren, eine leitende Schicht 1156, eine leitende Schicht 1157, eine Isolierschicht 1207, eine Isolierschicht 1209, eine Vielzahl von Licht emittierenden Elementen, eine Isolierschicht 1211, eine Isolierschicht 1217, eine Dichtungsschicht 1213, eine Farbschicht 1259, eine lichtundurchlässige Schicht 1257, eine Isolierschicht 1255, eine leitende Schicht 1272, eine leitende Schicht 1274, eine Isolierschicht 1276, eine Isolierschicht 1278, eine leitende Schicht 1294 und eine leitende Schicht 1296.
9A zeigt ein Beispiel, bei dem ein kapazitiver Berührungssensor zwischen der Isolierschicht 1255 und der Dichtungsschicht 1213 bereitgestellt ist. Der kapazitive Berührungssensor beinhaltet die leitende Schicht 1272 und die leitende Schicht 1274.
Die leitende Schicht 1156 und die leitende Schicht 1157 sind über einen Verbinder 1215 elektrisch mit einer FPC 1108 verbunden. Die leitende Schicht 1294 und die leitende Schicht 1296 sind über leitfähige Partikel 1292 elektrisch mit der leitenden Schicht 1274 verbunden. Daher kann der kapazitive Berührungssensor über die FPC 1108 betrieben werden.
<Spezifisches Beispiel 5>
9B zeigt ein weiteres Beispiel für ein Anzeigefeld. Das Anzeigefeld, das in 9B gezeigt wird, ist zur Touch-Bedienung geeignet.
Das Anzeigefeld, das in 9B gezeigt wird, beinhaltet eine Elementschicht 1101, eine Klebeschicht 1105 und ein Substrat 1103. Die Elementschicht 1101 beinhaltet ein Substrat 1201, eine Klebeschicht 1203, eine Isolierschicht 1205, eine Vielzahl von Transistoren, eine leitende Schicht 1156, eine leitende Schicht 1157, eine Isolierschicht 1207, eine Isolierschicht 1209, eine Vielzahl von Licht emittierenden Elementen, eine Isolierschicht 1211, eine Isolierschicht 1217, eine Dichtungsschicht 1213, eine Farbschicht 1259, eine lichtundurchlässige Schicht 1257, eine Isolierschicht 1255, eine leitende Schicht 1270, eine leitende Schicht 1272, eine leitende Schicht 1274, eine Isolierschicht 1276 und eine Isolierschicht 1278.
9B zeigt ein Beispiel, bei dem ein kapazitiver Berührungssensor zwischen der Isolierschicht 1255 und der Dichtungsschicht 1213 bereitgestellt ist. Der kapazitive Berührungssensor beinhaltet die leitende Schicht 1272 und die leitende Schicht 1274.
Die leitende Schicht 1156 und die leitende Schicht 1157 sind über einen Verbinder 1215a elektrisch mit einer FPC 1108a verbunden. Die leitende Schicht 1270 ist über einen Verbinder 1215b elektrisch mit einer FPC 1108b verbunden. Daher können ein Licht emittierendes Element 1230 und ein Transistor 1240 über die FPC 1108a betrieben werden, und der kapazitive Berührungssensor kann über die FPC 1108b betrieben werden.
<Spezifisches Beispiel 6>
10A zeigt ein weiteres Beispiel für einen Lichtextraktionsabschnitt 104 in einem Anzeigefeld.
Der Lichtextraktionsabschnitt 1104 in 10A beinhaltet ein Substrat 1103, eine Klebeschicht 1105, ein Substrat 1202, eine Isolierschicht 1205, eine Vielzahl von Transistoren, eine Isolierschicht 1207, eine leitende Schicht 1208, eine Isolierschicht 1209a, eine Isolierschicht 1209b, eine Vielzahl von Licht emittierenden Elementen, eine Isolierschicht 1211, eine Dichtungsschicht 1213 und eine Farbschicht 1259.
Ein Licht emittierendes Element 1230 beinhaltet eine untere Elektrode 1231, eine EL-Schicht 1233 und eine obere Elektrode 1235. Die untere Elektrode 1231 ist über die leitende Schicht 1208 elektrisch mit einer Source-Elektrode oder einer Drain-Elektrode eines Transistors 1240 verbunden. Ein Endabschnitt der unteren Elektrode 1231 ist mit der Isolierschicht 1211 bedeckt. Das Licht emittierende Element 1230 weist eine Bottom-Emission-Struktur auf. Die untere Elektrode 1231 weist eine Lichtdurchlässigkeitseigenschaft auf und lässt Licht durch, das von der EL-Schicht 1233 emittiert wird.
Eine Farbschicht 1259 ist an einer Stelle bereitgestellt, die das Licht emittierende Element 1230 überlappt, und Licht, das von dem Licht emittierenden Element 1230 emittiert wird, wird von der Seite des Substrats 1103 durch die Farbschicht 1259 extrahiert. Der Raum zwischen dem Licht emittierenden Element 1230 und dem Substrat 1202 ist mit der Dichtungsschicht 1213 gefüllt. Das Substrat 1202 kann unter Verwendung eines Materials, das demjenigen des Substrats 1201 ähnlich ist, ausgebildet werden.
<Spezifisches Beispiel 7>
10B zeigt ein weiteres Beispiel für ein Anzeigefeld.
Das Anzeigefeld, das in 10B gezeigt wird, beinhaltet eine Elementschicht 1101, eine Klebeschicht 1105 und ein Substrat 1103. Die Elementschicht 1101 beinhaltet ein Substrat 1202, eine Isolierschicht 1205, eine leitende Schicht 1310a, eine leitende Schicht 1310b, eine Vielzahl von Licht emittierenden Elementen, eine Isolierschicht 1211, eine leitende Schicht 1212 und eine Dichtungsschicht 1213.
Die leitende Schicht 1310a und die leitende Schicht 1310b, die externe Verbindungselektroden des Anzeigefelds sind, können jeweils mit einer FPC oder dergleichen elektrisch verbunden sein.
Ein Licht emittierendes Element 1230 beinhaltet eine untere Elektrode 1231, eine EL-Schicht 1233 und eine obere Elektrode 1235. Ein Endabschnitt der unteren Elektrode 1231 ist mit der Isolierschicht 1211 bedeckt. Das Licht emittierende Element 1230 weist eine Bottom-Emission-Struktur auf. Die untere Elektrode 1231 weist eine Lichtdurchlässigkeitseigenschaft auf und lässt Licht durch, das von der EL-Schicht 1233 emittiert wird. Die leitende Schicht 1212 ist elektrisch mit der unteren Elektrode 1231 verbunden.
Das Substrat 1103 kann als Lichtextraktionsstruktur eine halbkugelförmige Linse, ein Mikrolinsenarray, einen Film mit einer unebenen Oberflächenstruktur, eine Diffusionsfolie oder dergleichen aufweisen. Zum Beispiel kann das Substrat 1103 mit einer Lichtextraktionsstruktur ausgebildet werden, indem die vorstehende Linse oder der vorstehende Film mit einem Klebemittel oder dergleichen, das im Wesentlichen den gleichen Brechungsindex wie das Substrat oder die Linse bzw. der Film aufweist, an einem Harzsubstrat befestigt wird.
Die leitende Schicht 1212 ist vorzugsweise, jedoch nicht notwendigerweise, bereitgestellt, da ein durch den Widerstand der unteren Elektrode 1231 bedingter Spannungsabfall verhindert werden kann. Für einen ähnlichen Zweck kann zusätzlich eine leitende Schicht, die elektrisch mit der oberen Elektrode 1235 verbunden ist, über der Isolierschicht 1211 bereitgestellt werden.
Die leitende Schicht 1212 kann eine Einzelschicht oder eine Schichtanordnung sein, die unter Verwendung eines Materials, das aus Kupfer, Titan, Tantal, Wolfram, Molybdän, Chrom, Neodym, Scandium, Nickel oder Aluminium ausgewählt wird, oder eines Legierungsmaterials, das ein beliebiges dieser Materialien als seine Hauptkomponente enthält, ausgebildet wird. Die Dicke der leitenden Schicht 1212 kann größer als oder gleich 0,1 μm und kleiner als oder gleich 3 μm, bevorzugt größer als oder gleich 0,1 μm und kleiner als oder gleich 0,5 μm sein.
Wenn eine Paste (z. B. eine Silberpaste) als Material für die leitende Schicht, die elektrisch mit der oberen Elektrode 1235 verbunden ist, verwendet wird, aggregieren Metallpartikel, die die leitende Schicht bilden; die Oberfläche der leitenden Schicht ist demzufolge rau und weist viele Lücken auf. Deshalb ist es für die EL-Schicht 1233 schwierig, die Oberfläche der leitenden Schicht vollständig zu bedecken; dementsprechend werden die obere Elektrode und eine Hilfsleitung leicht elektrisch miteinander verbunden, was bevorzugt wird.
<Beispiele für Materialien>
Als Nächstes werden Materialien und dergleichen beschrieben, die für ein Anzeigefeld einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet werden können. Es sei angemerkt, dass die Beschreibung der Komponenten, die bereits bei dieser Ausführungsform beschrieben worden sind, weggelassen wird.
Die Elementschicht 1101 beinhaltet mindestens ein Licht emittierendes Element. Als Licht emittierendes Element kann ein selbstleuchtendes Element verwendet werden, und ein Element, dessen Leuchtdichte durch Strom oder Spannung gesteuert wird, ist in der Kategorie des Licht emittierenden Elements enthalten. Beispielsweise kann eine Leuchtdiode (LED), ein organisches EL-Element, ein anorganisches EL-Element oder dergleichen verwendet werden.
Die Elementschicht 1101 kann ferner einen Transistor zum Betreiben des Licht emittierenden Elements, einen Berührungssensor oder dergleichen beinhalten.
Die Struktur der Transistoren in dem Anzeigefeld ist nicht besonders beschränkt. Beispielsweise kann ein Forward-Staggered-Transistor oder ein Inverted-Staggered-Transistor verwendet werden. Es kann ein Top-Gate-Transistor oder ein Bottom-Gate-Transistor verwendet werden. Ein Halbleitermaterial, das für die Transistoren verwendet wird, ist nicht besonders beschränkt, und beispielsweise kann Silizium oder Germanium verwendet werden. Alternativ kann ein Oxidhalbleiter, der mindestens Indium, Gallium oder Zink enthält, wie z. B. ein Metalloxid auf In-Ga-Zn-Basis, verwendet werden.
Es gibt keine besondere Beschränkung hinsichtlich der Kristallinität eines Halbleitermaterials, das für die Transistoren verwendet wird, und ein amorpher Halbleiter oder ein Halbleiter mit Kristallinität (ein mikrokristalliner Halbleiter, ein polykristalliner Halbleiter, ein einkristalliner Halbleiter oder ein Halbleiter, der teilweise Kristallbereiche enthält) kann verwendet werden. Vorzugsweise wird ein Halbleiter mit Kristallinität verwendet, wobei in diesem Fall eine Verschlechterung der Transistoreigenschaften unterdrückt werden kann.
Das Licht emittierende Element, das in dem Anzeigefeld enthalten ist, beinhaltet ein Paar von Elektroden (die untere Elektrode 1231 und die obere Elektrode 1235) und die EL-Schicht 1233 zwischen dem Paar von Elektroden. Eine des Paars von Elektroden dient als Anode, und die andere dient als Kathode.
Das Licht emittierende Element kann entweder eine Top-Emission-Struktur, eine Bottom-Emission-Struktur oder eine Dual-Emission-Struktur aufweisen. Ein leitender Film, der sichtbares Licht durchlässt, wird als Elektrode verwendet, durch die Licht extrahiert wird. Ein leitender Film, der sichtbares Licht reflektiert, wird vorzugsweise als Elektrode verwendet, durch die kein Licht extrahiert wird.
Der leitende Film, der sichtbares Licht durchlässt, kann beispielsweise unter Verwendung von Indiumoxid, Indiumzinnoxid (indium tin oxide, ITO), Indiumzinkoxid, Zinkoxid oder Zinkoxid, dem Gallium zugesetzt worden ist, ausgebildet werden. Alternativ kann ein Film aus einem Metallmaterial, wie z. B. Gold, Silber, Platin, Magnesium, Nickel, Wolfram, Chrom, Molybdän, Eisen, Kobalt, Kupfer, Palladium oder Titan, einer Legierung, die ein beliebiges dieser Metallmaterialien enthält, oder einem Nitrid eines beliebigen dieser Metallmaterialien (z. B. Titannitrid) dünn ausgebildet werden, um eine Lichtdurchlässigkeitseigenschaft aufzuweisen. Alternativ kann als leitende Schicht auch eine Schichtanordnung aus beliebigen der vorstehenden Materialien verwendet werden. Zum Beispiel wird vorzugsweise ein mehrschichtiger Film, der ITO und eine Legierung aus Silber und Magnesium enthält, verwendet, wobei in diesem Fall die Leitfähigkeit erhöht werden kann. Als weitere Alternative kann Graphen oder dergleichen verwendet werden.
Für den leitenden Film, der sichtbares Licht reflektiert, kann beispielsweise ein Metallmaterial, wie z. B. Aluminium, Gold, Platin, Silber, Nickel, Wolfram, Chrom, Molybdän, Eisen, Kobalt, Kupfer oder Palladium, oder eine Legierung, die ein beliebiges dieser Metallmaterialien enthält, verwendet werden. Lanthan, Neodym, Germanium oder dergleichen können dem Metallmaterial oder der Legierung zugesetzt werden. Zudem kann eine Aluminium enthaltende Legierung (eine Aluminiumlegierung), wie z. B. eine Legierung aus Aluminium und Titan, eine Legierung aus Aluminium und Nickel oder eine Legierung aus Aluminium und Neodym, oder eine Silber enthaltende Legierung, wie z. B. eine Legierung aus Silber und Kupfer, eine Legierung aus Silber, Kupfer und Palladium oder eine Legierung aus Silber und Magnesium, für den leitenden Film verwendet werden. Eine Legierung aus Silber und Kupfer wird aufgrund ihrer hohen Wärmebeständigkeit bevorzugt. Des Weiteren wird ein Metallfilm oder ein Metalloxidfilm über einem Aluminiumlegierungsfilm angeordnet, wodurch eine Oxidation des Aluminiumlegierungsfilms unterdrückt werden kann. Beispiele für ein Material für den Metallfilm oder den Metalloxidfilm sind Titan und Titanoxid. Alternativ können der leitende Film, der eine Eigenschaft zum Durchlassen von sichtbarem Licht aufweist, und ein Film, der ein beliebiges der vorstehenden Metallmaterialien enthält, übereinander angeordnet werden. Zum Beispiel kann ein mehrschichtiger Film aus Silber und ITO oder ein mehrschichtiger Film, der eine Legierung aus Silber und Magnesium und ITO enthält, verwendet werden.
Jede der Elektroden kann durch ein Verdampfungsverfahren oder ein Sputterverfahren ausgebildet werden. Alternativ kann ein Ausstoßverfahren, wie z. B. ein Tintenstrahlverfahren, ein Druckverfahren, wie z. B. ein Siebdruckverfahren, oder ein Plattierungsverfahren verwendet werden.
Wenn eine Spannung, die höher ist als die Schwellenspannung des Licht emittierenden Elements, zwischen der unteren Elektrode 1231 und der oberen Elektrode 1235 angelegt wird, werden Löcher von der Anodenseite und Elektronen von der Kathodenseite in die EL-Schicht 1233 injiziert. Die injizierten Elektronen und Löcher rekombinieren in der EL-Schicht 1233, und eine Licht emittierende Substanz, die in der EL-Schicht 1233 enthalten ist, emittiert Licht.
Die EL-Schicht 1233 beinhaltet mindestens eine Licht emittierende Schicht. Zusätzlich zu der Licht emittierenden Schicht kann die EL-Schicht 1233 ferner eine oder mehrere Schicht/en beinhalten, die ein beliebiges der folgenden Materialien enthält/enthalten: ein Material mit einer hohen Lochinjektionseigenschaft, ein Material mit einer hohen Lochtransporteigenschaft, ein lochblockierendes Material, ein Material mit einer hohen Elektronentransporteigenschaft, ein Material mit einer hohen Elektroneninjektionseigenschaft, ein Material mit einer bipolaren Eigenschaft (ein Material mit einer hohen Elektronen- und Lochtransporteigenschaft) und dergleichen.
Für die EL-Schicht 1233 kann entweder eine niedermolekulare Verbindung oder eine hochmolekulare Verbindung verwendet werden, und eine anorganische Verbindung kann ebenfalls enthalten sein. Jede der vorstehend beschriebenen Schichten, die in der EL-Schicht 1233 enthalten sind, kann durch ein beliebiges der folgenden Verfahren ausgebildet werden: ein Verdampfungsverfahren (einschließlich eines Vakuumverdampfungsverfahrens), ein Transferverfahren, ein Druckverfahren, ein Tintenstrahlverfahren, ein Beschichtungsverfahren und dergleichen.
In der Elementschicht 1101 ist das Licht emittierende Element vorzugsweise zwischen einem Paar von Isolierfilmen mit geringer Wasserdurchlässigkeit bereitgestellt. Demzufolge kann verhindert werden, dass eine Verunreinigung, wie z. B. Wasser, in das Licht emittierende Element eindringt, wodurch eine Abnahme der Zuverlässigkeit der Licht emittierenden Vorrichtung verhindert wird.
Als Isolierfilm mit geringer Wasserdurchlässigkeit kann ein Film, der Stickstoff und Silizium enthält (z. B. ein Siliziumnitridfilm oder ein Siliziumnitridoxidfilm), ein Film, der Stickstoff und Aluminium enthält (z. B. ein Aluminiumnitridfilm), oder dergleichen verwendet werden. Als Alternative kann ein Siliziumoxidfilm, ein Siliziumoxynitridfilm, ein Aluminiumoxidfilm oder dergleichen verwendet werden.
Der Wasserdampfdurchlässigkeitsgrad des Isolierfilms mit geringer Wasserdurchlässigkeit ist beispielsweise niedriger als oder gleich 1 × 10^–5 [g/m²·Tag], bevorzugt niedriger als oder gleich 1 × 10^–6 [g/m²·Tag], stärker bevorzugt niedriger als oder gleich 1 × 10^–7 [g/m²·Tag], noch stärker bevorzugt niedriger als oder gleich 1 × 10^–8 [g/m²·Tag].
Das Substrat 1103 weist eine Lichtdurchlässigkeitseigenschaft auf und lässt mindestens Licht durch, das von dem in der Elementschicht 1101 enthaltenen Licht emittierenden Element emittiert wird. Das Substrat 1103 kann ein flexibles Substrat sein. Des Weiteren ist der Brechungsindex des Substrats 1103 höher als derjenige der Luft.
Ein organisches Harz, das leichter ist als Glas, wird vorzugsweise für das Substrat 1103 verwendet, wobei in diesem Fall die Licht emittierende Vorrichtung, im Gegensatz zu dem Fall, in dem Glas verwendet wird, leichtgewichtig sein kann.
Beispiele für ein Material, das Flexibilität und eine Eigenschaft zum Durchlassen von sichtbarem Licht aufweist, umfassen ein Glasmaterial, das dünn genug ist, um Flexibilität aufzuweisen, Polyesterharze, wie z. B. Polyethylenterephthalat (PET) und Polyethylennaphthalat (PEN), ein Polyacrylnitrilharz, ein Polyimidharz, ein Polymethylmethacrylatharz, ein Polycarbonat-(PC-)Harz, ein Polyethersulfon-(PES-)Harz, ein Polyamidharz, ein Cycloolefinharz, ein Polystyrolharz, ein Polyamidimidharz und ein Polyvinylchloridharz. Im Besonderen wird ein Material bevorzugt, dessen Wärmeausdehnungskoeffizient gering ist, und beispielsweise kann ein Polyamidimidharz, ein Polyimidharz oder PET in geeigneter Weise verwendet werden. Ein Substrat, bei dem eine Glasfaser mit einem organischen Harz imprägniert ist, oder ein Substrat, dessen Wärmeausdehnungskoeffizient durch Mischen eines organischen Harzes mit einem anorganischen Füllmaterial verringert worden ist, kann ebenfalls verwendet werden.
Das Substrat 1103 kann eine mehrschichtige Struktur aufweisen, bei der eine Hartschicht (wie z. B. eine Siliziumnitridschicht), durch die eine Oberfläche einer Licht emittierenden Vorrichtung vor Schäden geschützt wird, eine Schicht (wie z. B. eine Aramidharzschicht), die Druck verteilen kann, oder dergleichen über einer Schicht aus einem beliebigen der vorstehend genannten Materialen angeordnet ist. Um eine Verkürzung der Lebensdauer des Licht emittierenden Elements aufgrund von Feuchtigkeit und dergleichen zu unterdrücken, kann der Isolierfilm mit geringer Wasserdurchlässigkeit ferner in der mehrschichtigen Struktur enthalten sein.
Die Klebeschicht 1105 weist eine Lichtdurchlässigkeitseigenschaft auf und lässt mindestens Licht durch, das von dem in der Elementschicht 1101 enthaltenen Licht emittierenden Element emittiert wird. Der Brechungsindex der Klebeschicht 1105 ist höher als derjenige der Luft.
Für die Klebeschicht 1105 kann ein Harz, das bei Raumtemperatur aushärtet, wie z. B. ein zwei Komponenten enthaltendes Harz, ein lichthärtendes Harz, ein wärmehärtendes Harz oder dergleichen, verwendet werden. Die Beispiele umfassen ein Epoxidharz, ein Acrylharz, ein Silikonharz, ein Phenolharz und dergleichen. Im Besonderen wird ein Material mit geringer Feuchtigkeitsdurchlässigkeit, wie z. B. ein Epoxidharz, bevorzugt.
Außerdem kann das Harz ein Trocknungsmittel enthalten. Beispielsweise kann eine Substanz, die durch chemische Adsorption Feuchtigkeit absorbiert, wie z. B. ein Oxid eines Erdalkalimetalls (z. B. Calciumoxid oder Bariumoxid), verwendet werden. Alternativ kann eine Substanz, die durch physikalische Adsorption Feuchtigkeit adsorbiert, wie z. B. Zeolith oder Kieselgel, verwendet werden. Das Trocknungsmittel ist vorzugsweise enthalten, da es verhindern kann, dass eine Verunreinigung, wie z. B. Feuchtigkeit, in das Licht emittierende Element eindringt, wodurch die Zuverlässigkeit der Licht emittierenden Vorrichtung verbessert wird.
Außerdem wird dem Harz vorzugsweise ein Füllmaterial mit einem hohen Brechungsindex (z. B. Titanoxid) beigemischt, wobei in diesem Fall die Effizienz der Lichtextraktion von dem Licht emittierenden Element verbessert werden kann.
Die Klebeschicht 1105 kann ebenfalls einen streuenden Teil zur Lichtstreuung beinhalten. Es kann sich bei der Klebeschicht 1105 beispielsweise um eine Mischung aus dem vorstehenden Harz und Partikeln mit einem Brechungsindex handeln, der sich von demjenigen des Harzes unterscheidet. Die Partikel dienen als streuender Teil zur Lichtstreuung.
Die Differenz zwischen dem Brechungsindex des Harzes und dem Brechungsindex der Partikel, der sich von demjenigen des Harzes unterscheidet, ist bevorzugt 0,1 oder mehr, stärker bevorzugt 0,3 oder mehr. Insbesondere kann ein Epoxidharz, ein Acrylharz, ein Imidharz, Silikon oder dergleichen als Harz verwendet werden, und als Partikel können Titanoxid, Bariumoxid, Zeolith oder dergleichen verwendet werden.
Titanoxid- oder Bariumoxidpartikel werden bevorzugt, da sie Licht sehr gut streuen. Wenn Zeolith verwendet wird, kann es Wasser, das in dem Harz und dergleichen enthalten ist, adsorbieren, wodurch die Zuverlässigkeit des Licht emittierenden Elements verbessert wird.
Die Isolierschicht 1205 und die Isolierschicht 1255 können jeweils unter Verwendung eines anorganischen Isoliermaterials ausgebildet werden. Insbesondere wird vorzugsweise der Isolierfilm mit geringer Wasserdurchlässigkeit verwendet, wobei in diesem Fall ein hochzuverlässiges Anzeigefeld bereitgestellt werden kann.
Die Isolierschicht 1207 weist einen Effekt zum Verhindern einer Diffusion von Verunreinigungen in einen Halbleiter auf, der in dem Transistor enthalten ist. Als Isolierschicht 1207 kann ein anorganischer Isolierfilm, wie z. B. ein Siliziumoxidfilm, ein Siliziumoxynitridfilm oder ein Aluminiumoxidfilm, verwendet werden.
Als jede der Isolierschichten 1209, 1209a und 1209b wird vorzugsweise ein Isolierfilm mit einer Planarisierungsfunktion gewählt, um eine durch den Transistor oder dergleichen bedingte Oberflächenunebenheit zu verringern.
Beispielsweise kann ein organisches Material, wie z. B. ein Polyimidharz, ein Acrylharz oder ein Harz auf Benzocyclobuten-Basis, verwendet werden. Als Alternative zu einem derartigen organischen Material kann ein Material mit niedriger Dielektrizitätskonstante (ein Material mit niedrigem k) oder dergleichen verwendet werden. Es sei angemerkt, dass mehrere Isolierfilme, die aus diesen Materialien ausgebildet werden, oder anorganische Isolierfilme übereinander angeordnet werden können.
Die Isolierschicht 1211 ist derart angeordnet, dass sie einen Endabschnitt der unteren Elektrode 1231 bedeckt. Damit die Isolierschicht 1211 vorteilhaft mit der EL-Schicht 1233 und der darüber ausgebildeten oberen Elektrode 1235 bedeckt sein kann, weist eine Seitenwand der Isolierschicht 1211 vorzugsweise eine geneigte Oberfläche mit einer kontinuierlichen Krümmung auf.
Als Material für die Isolierschicht 1211 kann ein Harz oder ein anorganisches Isoliermaterial verwendet werden. Als Harz kann beispielsweise ein Polyimidharz, ein Polyamidharz, ein Acrylharz, ein Siloxanharz, ein Epoxidharz oder ein Phenolharz verwendet werden. Im Besonderen wird zur leichten Ausbildung der Isolierschicht 1211 vorzugsweise entweder ein negatives lichtempfindliches Harz oder ein positives lichtempfindliches Harz verwendet.
Es gibt keine besondere Beschränkung hinsichtlich des Verfahrens zum Ausbilden der Isolierschicht 1211; es kann ein Photolithographieverfahren, ein Sputterverfahren, ein Verdampfungsverfahren, ein Tröpfchenausstoßverfahren (z. B. ein Tintenstrahlverfahren), ein Druckverfahren (z. B. ein Siebdruckverfahren oder ein Offsetdruckverfahren) oder dergleichen verwendet werden.
Die Isolierschicht 1217 kann unter Verwendung eines anorganischen Isoliermaterials, eines organischen Isoliermaterials, eines Metallmaterials oder dergleichen ausgebildet werden. Als organisches Isoliermaterial kann beispielsweise ein negatives oder positives lichtempfindliches Harz, ein nicht-lichtempfindliches Harz oder dergleichen verwendet werden. Als Metallmaterial kann Titan, Aluminium oder dergleichen verwendet werden. Wenn ein leitendes Material für die Isolierschicht 1217 verwendet wird und die Isolierschicht 1217 elektrisch mit der oberen Elektrode 1235 verbunden ist, kann ein durch den Widerstand der oberen Elektrode 1235 bedingter Spannungsabfall verhindert werden. Die Isolierschicht 1217 kann entweder eine sich verjüngende Form oder eine sich nach unten verjüngende Form aufweisen.
Jede der Isolierschichten 1276, 1278, 1291, 1293 und 1295 kann unter Verwendung eines anorganischen Isoliermaterials oder eines organischen Isoliermaterials ausgebildet werden. Im Besonderen wird vorzugsweise ein Isolierfilm mit einer Planarisierungsfunktion für jede der Isolierschichten 1278 und 1295 verwendet, um eine durch ein Sensorelement bedingte Oberflächenunebenheit zu verringern.
Für die Dichtungsschicht 1213 kann ein Harz, das bei Raumtemperatur aushärtet, wie z. B. ein zwei Komponenten enthaltendes Harz, ein lichthärtendes Harz, ein wärmehärtendes Harz oder dergleichen verwendet werden. Beispielsweise kann ein Polyvinylchlorid-(PVC-)Harz, ein Acrylharz, ein Polyimidharz, ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Polyvinylbutyral-(PVB-)Harz, ein Ethylenvinylacetat-(EVA-)Harz oder dergleichen verwendet werden. Ein Trocknungsmittel kann in der Dichtungsschicht 1213 enthalten sein. In dem Fall, in dem Licht, das von dem Licht emittierenden Element 1230 emittiert wird, durch die Dichtungsschicht 1213 nach außen extrahiert wird, enthält die Dichtungsschicht 1213 vorzugsweise ein Füllmaterial mit einem hohen Brechungsindex oder einen streuenden Teil. Materialien für das Trocknungsmittel, das Füllmaterial mit einem hohen Brechungsindex und den streuenden Teil sind denjenigen ähnlich, die für die Klebeschicht 1105 verwendet werden können.
Jede der leitenden Schichten 1156, 1157, 1294 und 1296 kann unter Verwendung des gleichen Materials und desselben Schritts wie eine leitende Schicht ausgebildet werden, die in dem Transistor oder dem Licht emittierenden Element enthalten ist. Die leitende Schicht 1280 kann unter Verwendung des gleichen Materials und desselben Schritts wie eine leitende Schicht ausgebildet werden, die in dem Transistor enthalten ist.
Beispielsweise kann jede der leitenden Schichten derart ausgebildet werden, dass sie eine einschichtige Struktur oder eine mehrschichtige Struktur aufweist, indem ein beliebiges Metallmaterial, wie z. B. Molybdän, Titan, Chrom, Tantal, Wolfram, Aluminium, Kupfer, Neodym oder Scandium, oder ein Legierungsmaterial, das ein beliebiges dieser Elemente enthält, verwendet wird. Jede der leitenden Schichten kann unter Verwendung eines leitenden Metalloxids ausgebildet werden. Als leitendes Metalloxid kann Indiumoxid (z. B. In₂O₃), Zinnoxid (z. B. SnO₂), Zinkoxid (z. B. ZnO), ITO, Indiumzinkoxid (z. B. In₂O₃-ZnO) oder ein beliebiges dieser Metalloxidmaterialien, das Siliziumoxid enthält, verwendet werden.
Jede der leitenden Schichten 1208, 1212, 1310a und 1310b kann ebenfalls unter Verwendung eines beliebigen der vorstehenden Metallmaterialien, Legierungsmaterialien und leitenden Metalloxide ausgebildet werden.
Es handelt sich bei jeder der leitenden Schichten 1272, 1274, 1281 und 1283 um eine leitende Schicht mit einer Lichtdurchlässigkeitseigenschaft. Jede dieser leitenden Schichten kann beispielsweise unter Verwendung von Indiumoxid, ITO, Indiumzinkoxid, Zinkoxid, Zinkoxid, dem Gallium zugesetzt worden ist, oder dergleichen ausgebildet werden. Die leitende Schicht 1270 kann unter Verwendung des gleichen Materials und desselben Schritts wie die leitende Schicht 1272 ausgebildet werden.
Als leitfähige Partikel 1292 werden Partikel eines organischen Harzes, Silica-Partikel oder dergleichen verwendet, die mit einem Metallmaterial beschichtet sind. Vorzugsweise wird Nickel oder Gold als Metallmaterial verwendet, da der Kontaktwiderstand verringert werden kann. Es wird ebenfalls bevorzugt, Partikel zu verwenden, die jeweils mit Schichten aus zwei oder mehr Arten von Metallmaterialien beschichtet sind, wie z. B. Partikel, die mit Nickel und ferner mit Gold beschichtet sind.
Für den Verbinder 1215 kann ein pastöses oder blattförmiges Material verwendet werden, bei dem ein wärmehärtendes Harz mit Metallpartikeln gemischt worden ist und dem durch Thermokompressionsbonden eine anisotrope elektrische Leitfähigkeit verliehen worden ist. Als Metallpartikel werden vorzugsweise Partikel verwendet, bei denen zwei oder mehr Arten von Metallen übereinander geschichtet sind, wie z. B. Nickelpartikel, die mit Gold beschichtet sind.
Es handelt sich bei der Farbschicht 1259 um eine gefärbte Schicht, die Licht in einem spezifischen Wellenlängenbereich durchlässt. Beispielsweise kann ein roter (R) Farbfilter zum Durchlassen von Licht in einem roten Wellenlängenbereich, ein grüner (G) Farbfilter zum Durchlassen von Licht in einem grünen Wellenlängenbereich, ein blauer (B) Farbfilter zum Durchlassen von Licht in einem blauen Wellenlängenbereich oder dergleichen verwendet werden. Jede Farbschicht wird mittels eines beliebigen verschiedener Materialien durch ein Druckverfahren, ein Tintenstrahlverfahren, ein Ätzverfahren, bei dem ein Photolithographieverfahren angewandt wird, oder dergleichen in einer gewünschten Position ausgebildet.
Die lichtundurchlässige Schicht 1257 ist zwischen den benachbarten Farbschichten 1259 bereitgestellt. Die lichtundurchlässige Schicht 1257 blockiert Licht, das von dem benachbarten Licht emittierenden Element emittiert wird, wodurch eine Vermischung der Farben von benachbarten Pixeln verhindert wird. Dabei ist die Farbschicht 1259 derart angeordnet, dass ihr Endabschnitt die lichtundurchlässige Schicht 1257 überlappt, wodurch eine Lichtleckage verringert werden kann. Die lichtundurchlässige Schicht 1257 kann unter Verwendung eines Materials ausgebildet werden, das Licht blockiert, das von dem Licht emittierenden Element emittiert wird, z. B. eines Metallmaterials, eines Harzmaterials, das ein Pigment oder einen Farbstoff enthält, oder dergleichen. Es sei angemerkt, dass die lichtundurchlässige Schicht 1257, wie in 7A dargestellt, vorzugsweise in einem anderem Bereich als dem Lichtextraktionsabschnitt 1104 bereitgestellt ist, z. B. in dem Treiberschaltungsabschnitt 1106, wobei in diesem Fall eine unerwünschte Leckage von geleitetem Licht oder dergleichen verhindert werden kann.
Vorzugsweise ist die Isolierschicht 1261, die die Farbschicht 1259 und die lichtundurchlässige Schicht 1257 bedeckt, bereitgestellt, da sie verhindern kann, dass eine Verunreinigung, wie z. B. ein in der Farbschicht 1259 oder der lichtundurchlässigen Schicht 1257 enthaltenes Pigment, in das Licht emittierende Element oder dergleichen diffundiert. Für die Isolierschicht 1261 wird ein lichtdurchlässiges Material verwendet, und ein anorganisches Isoliermaterial oder ein organisches Isoliermaterial kann verwendet werden. Der Isolierfilm mit geringer Wasserdurchlässigkeit kann für die Isolierschicht 1261 verwendet werden.
<Beispiel für ein Herstellungsverfahren>
Als Nächstes wird ein Beispiel für ein Verfahren zum Herstellen eines Anzeigefelds anhand von 11A bis 11C und 12A bis 12C beschrieben. Hier wird das Herstellungsverfahren unter Verwendung des Anzeigefelds des spezifischen Beispiels 1 (7B) als Beispiel beschrieben.
Als Erstes wird eine Trennschicht 1303 über einem Ausbildungssubstrat 1301 ausgebildet, und die Isolierschicht 1205 wird über der Trennschicht 1303 ausgebildet. Anschließend werden die Vielzahl von Transistoren, die leitende Schicht 1157, die Isolierschicht 1207, die Isolierschicht 1209, die Vielzahl von Licht emittierenden Elementen und die Isolierschicht 1211 über der Isolierschicht 1205 ausgebildet. Eine Öffnung wird in den Isolierschichten 1211, 1209 und 1207 ausgebildet, um die leitende Schicht 1157 freizulegen (11A).
Eine Trennschicht 1307 wird über einem Ausbildungssubstrat 1305 ausgebildet, und die Isolierschicht 1255 wird über der Trennschicht 1307 ausgebildet. Anschließend werden die lichtundurchlässige Schicht 1257, die Farbschicht 1259 und die Isolierschicht 1261 über der Isolierschicht 1255 ausgebildet (11B).
Das Ausbildungssubstrat 1301 und das Ausbildungssubstrat 1305 können jeweils ein Glassubstrat, ein Quarzsubstrat, ein Saphirsubstrat, ein Keramiksubstrat, ein Metallsubstrat oder dergleichen sein.
Für das Glassubstrat kann beispielsweise ein Glasmaterial, wie z. B. Aluminosilikatglas, Aluminoborosilikatglas oder Bariumborosilikatglas, verwendet werden. In dem Fall, in dem die Temperatur einer später durchgeführten Wärmebehandlung hoch ist, kann ein Substrat verwendet werden, das eine untere Entspannungsgrenze (strain point) von 730°C oder höher aufweist.
In dem Fall, in dem ein Glassubstrat als Ausbildungssubstrat verwendet wird, wird zwischen dem Ausbildungssubstrat und der Trennschicht vorzugsweise ein Isolierfilm, wie z. B. ein Siliziumoxidfilm, ein Siliziumoxynitridfilm, ein Siliziumnitridfilm oder ein Siliziumnitridoxidfilm, ausgebildet, wobei in diesem Fall eine Kontamination durch das Glassubstrat verhindert werden kann.
Die Trennschicht 1303 und die Trennschicht 1307 weisen jeweils eine einschichtige oder mehrschichtige Struktur auf, die ein Element, das aus Wolfram, Molybdän, Titan, Tantal, Niob, Nickel, Kobalt, Zirconium, Zink, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Osmium, Iridium und Silizium ausgewählt wird, ein Legierungsmaterial, das ein beliebiges der Elemente enthält, oder ein Verbindungsmaterial, das ein beliebiges der Elemente enthält, beinhaltet. Eine Kristallstruktur einer Silizium enthaltenden Schicht kann amorph, mikrokristallin oder polykristallin sein.
Die Trennschicht kann durch ein Sputterverfahren, ein Plasma-CVD-Verfahren, ein Beschichtungsverfahren, ein Druckverfahren oder dergleichen ausgebildet werden. Es sei angemerkt, dass ein Beschichtungsverfahren ein Rotationsbeschichtungsverfahren, ein Tröpfchenausstoßverfahren und ein Dispenserverfahren umfasst.
In dem Fall, in dem die Trennschicht eine einschichtige Struktur aufweist, wird vorzugsweise eine Wolframschicht, eine Molybdänschicht oder eine Schicht, die eine Mischung aus Wolfram und Molybdän enthält, ausgebildet. Alternativ kann eine Schicht, die ein Oxid oder ein Oxynitrid von Wolfram enthält, eine Schicht, die ein Oxid oder ein Oxynitrid von Molybdän enthält, oder eine Schicht, die ein Oxid oder ein Oxynitrid einer Mischung aus Wolfram und Molybdän enthält, ausgebildet werden. Es sei angemerkt, dass eine Mischung aus Wolfram und Molybdän beispielsweise einer Legierung aus Wolfram und Molybdän entspricht.
In dem Fall, in dem die Trennschicht derart ausgebildet wird, dass sie eine mehrschichtige Struktur aufweist, die eine Wolfram enthaltende Schicht und eine ein Oxid von Wolfram enthaltende Schicht umfasst, kann die ein Oxid von Wolfram enthaltende Schicht wie folgt ausgebildet werden: Zuerst wird die Wolfram enthaltende Schicht ausgebildet, und ein Isolierfilm, der aus einem Oxid ausgebildet wird, wird darüber ausgebildet, so dass die ein Oxid von Wolfram enthaltende Schicht an der Grenzfläche zwischen der Wolframschicht und dem Isolierfilm ausgebildet wird. Alternativ kann die ein Oxid von Wolfram enthaltende Schicht ausgebildet werden, indem eine thermische Oxidationsbehandlung, eine Sauerstoffplasmabehandlung, eine Distickstoffoxid(N₂O-)Plasmabehandlung, eine Behandlung mit einer stark oxidierenden Lösung, wie z. B. Ozonwasser, oder dergleichen an der Oberfläche der Wolfram enthaltenden Schicht durchgeführt wird. Eine Plasmabehandlung oder eine Wärmebehandlung kann in einer Atmosphäre von Sauerstoff, Stickstoff oder Distickstoffoxid selbst oder in einem Gasgemisch aus einem beliebigen dieser Gase und einem weiteren Gas durchgeführt werden. Der Oberflächenzustand der Trennschicht wird durch die Plasmabehandlung oder die Wärmebehandlung verändert, wodurch die Adhäsion zwischen der Trennschicht und dem später ausgebildeten Isolierfilm gesteuert werden kann.
Jede der Isolierschichten kann durch ein Sputterverfahren, ein Plasma-CVD-Verfahren, ein Beschichtungsverfahren, ein Druckverfahren oder dergleichen ausgebildet werden. Zum Beispiel wird die Isolierschicht durch ein Plasma-CVD-Verfahren bei einer Temperatur von höher als oder gleich 250°C und niedriger als oder gleich 400°C ausgebildet, wodurch es sich bei der Isolierschicht um einen dichten Film mit sehr geringer Wasserdurchlässigkeit handeln kann.
Anschließend wird ein Material für die Dichtungsschicht 1213 auf eine Oberfläche des Ausbildungssubstrats 1305, über dem die Farbschicht 1259 und dergleichen ausgebildet sind, oder eine Oberfläche des Ausbildungssubstrats 1301 aufgebracht, über dem das Licht emittierende Element 1230 und dergleichen ausgebildet sind; das Ausbildungssubstrat 1301 und das Ausbildungssubstrat 1305 werden derart befestigt, dass diese beiden Oberflächen einander zugewandt sind, wobei die Dichtungsschicht 1213 dazwischen positioniert ist (11C).
Anschließend wird das Ausbildungssubstrat 1301 abgetrennt, und die freiliegende Isolierschicht 1205 und das Substrat 1201 werden mit der Klebeschicht 1203 aneinander befestigt. Des Weiteren wird das Ausbildungssubstrat 1305 abgetrennt, und die freiliegende Isolierschicht 1255 und das Substrat 1103 werden mit der Klebeschicht 1105 aneinander befestigt. Obwohl in 12A das Substrat 1103 die leitende Schicht 1157 nicht überlappt, kann das Substrat 1103 die leitende Schicht 1157 überlappen.
Verschiedene Verfahren können je nach Bedarf für den Trennungsprozess verwendet werden. Wenn beispielsweise eine Schicht, die einen Metalloxidfilm umfasst, derart als Trennschicht ausgebildet wird, dass sie in Kontakt mit der abzutrennenden Schicht ist, wird der Metalloxidfilm durch Kristallisation brüchig, wodurch die abzutrennende Schicht von dem Ausbildungssubstrat abgetrennt werden kann. Alternativ wird dann, wenn ein Wasserstoff enthaltender amorpher Siliziumfilm als Trennschicht zwischen einem Ausbildungssubstrat mit hoher Wärmebeständigkeit und einer abzutrennenden Schicht ausgebildet wird, der amorphe Siliziumfilm durch eine Bestrahlung mit Laserlicht oder Ätzen entfernt, wodurch die abzutrennende Schicht von dem Ausbildungssubstrat abgetrennt werden kann. Alternativ wird, nachdem eine Schicht, die einen Metalloxidfilm umfasst, der in Kontakt mit der abzutrennenden Schicht ist, ausgebildet worden ist, der Metalloxidfilm durch Kristallisation brüchig, und ein Teil der Trennschicht wird durch Ätzen unter Verwendung einer Lösung oder eines Fluoridgases, wie z. B. NF₃, BrF₃ oder ClF₃, entfernt, wodurch die Trennung an dem brüchigen Metalloxidfilm durchgeführt werden kann. Alternativ kann ein Verfahren, das wie folgt durchgeführt wird, angewandt werden: Ein Film, der Stickstoff, Sauerstoff, Wasserstoff oder dergleichen enthält (z. B. ein Wasserstoff enthaltender amorpher Siliziumfilm, ein Wasserstoff enthaltender Legierungsfilm, ein Sauerstoff enthaltender Legierungsfilm oder dergleichen), wird als Trennschicht verwendet, und die Trennschicht wird mit Laserlicht bestrahlt, um den in der Trennschicht enthaltenen Stickstoff, Sauerstoff oder Wasserstoff als Gas freizusetzen, wodurch die Trennung zwischen der abzutrennenden Schicht und dem Ausbildungssubstrat gefördert wird. Alternativ kann ein Verfahren, bei dem das Ausbildungssubstrat, das mit der abzutrennenden Schicht bereitgestellt ist, mechanisch oder durch Ätzen unter Verwendung einer Lösung oder eines Fluoridgases, wie z. B. NF₃, BrF₃ oder ClF₃, entfernt wird, oder dergleichen verwendet werden. In diesem Fall wird die Trennschicht nicht notwendigerweise bereitgestellt.
Wenn mehrere der oben beschriebenen Trennverfahren kombiniert werden, kann der Trennungsprozess leicht durchgeführt werden. Mit anderen Worten: Die Trennung kann mit physikalischer Kraft (durch eine Maschine oder dergleichen) durchgeführt werden, nachdem die Trennschicht einer Bestrahlung mit Laserlicht, einem Ätzen mit einem Gas, einer Lösung oder dergleichen oder einer mechanischen Entfernung mit einem scharfen Messer, Skalpell oder dergleichen unterzogen worden ist, so dass die Trennschicht und die abzutrennende Schicht leicht voneinander abgetrennt werden können.
Die abzutrennende Schicht kann von dem Ausbildungssubstrat abgetrennt werden, indem die Grenzfläche zwischen der Trennschicht und der abzutrennenden Schicht mit einer Flüssigkeit getränkt wird. Ferner kann die Trennung durchgeführt werden, während eine Flüssigkeit, wie z. B. Wasser, gegossen wird.
Als weiteres Trennverfahren wird in dem Fall, in dem die Trennschicht unter Verwendung von Wolfram ausgebildet wird, die Trennung vorzugsweise durchgeführt, während die Trennschicht unter Verwendung eines Lösungsgemisches aus Ammoniakwasser und einer Wasserstoffperoxidlösung geätzt wird.
Es sei angemerkt, dass die Trennschicht nicht notwendigerweise in dem Fall bereitgestellt wird, in dem die Trennung an einer Grenzfläche zwischen dem Ausbildungssubstrat und der abzutrennenden Schicht möglich ist. Zum Beispiel wird Glas als Ausbildungssubstrat verwendet, ein organisches Harz, wie z. B. Polyimid, wird in Kontakt mit dem Glas ausgebildet, und ein Isolierfilm, ein Transistor und dergleichen werden über dem organischen Harz ausgebildet. In diesem Fall ermöglicht eine Erwärmung des organischen Harzes die Trennung an der Grenzfläche zwischen dem Ausbildungssubstrat und dem organischen Harz. Alternativ kann die Trennung auch an der Grenzfläche zwischen einer Metallschicht und dem organischen Harz auf die folgende Weise durchgeführt werden: Die Metallschicht wird zwischen dem Ausbildungssubstrat und dem organischen Harz bereitgestellt, und es wird dafür gesorgt, dass ein Strom in der Metallschicht fließt, so dass die Metallschicht erwärmt wird.
Schließlich wird eine Öffnung in der Isolierschicht 1255 und der Dichtungsschicht 1213 ausgebildet, um die leitende Schicht 1157 freizulegen (12B). In dem Fall, in dem das Substrat 1103 die leitende Schicht 1157 überlappt, wird die Öffnung ebenfalls in dem Substrat 1103 und der Klebeschicht 1105 ausgebildet (12C). Das Verfahren zum Ausbilden der Öffnung ist nicht besonders beschränkt und kann beispielsweise ein Laserabscheidungsverfahren, ein Ätzverfahren, ein Ionenstrahlsputterverfahren oder dergleichen sein. Bei einem weiteren Verfahren kann ein Schlitz mit einem scharfen Messer oder dergleichen in einen Film über der leitenden Schicht 1157 geschnitten werden und kann ein Teil des Films durch physikalische Kraft abgetrennt werden.
Auf die vorstehend beschriebene Weise kann das Anzeigefeld einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung hergestellt werden.
Wie vorstehend beschrieben, beinhaltet das Anzeigefeld dieser Ausführungsform zwei Substrate; eines ist das Substrat 1103, und das andere ist das Substrat 1201 oder das Substrat 1202. Das Anzeigefeld kann selbst dann mit zwei Substraten ausgebildet werden, wenn es einen Berührungssensor beinhaltet. Da eine minimale Anzahl von Substraten verwendet wird, können eine Verbesserung der Lichtextraktionseffizienz und eine Verbesserung der Bildschärfe leicht erzielt werden.
Diese Ausführungsform kann je nach Bedarf mit einer beliebigen der anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
(Ausführungsform 5)
Bei dieser Ausführungsform werden Beispiele für ein elektronisches Gerät, bei dem die Anzeigevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet wird, anhand der Zeichnungen beschrieben.
Als Beispiele für elektronische Geräte, bei denen eine flexible Anzeigevorrichtung verwendet wird, kann das Folgende angegeben werden: Fernsehgeräte (auch als Fernseher oder Fernsehempfänger bezeichnet), Monitore von Computern oder dergleichen, Digitalkameras, digitale Videokameras, digitale Fotorahmen, Mobiltelefone (auch als Funktelefone oder Mobiltelefonvorrichtungen bezeichnet), tragbare Spielkonsolen, tragbare Informationsendgeräte, Audiowiedergabegeräte, große Spielautomaten und dergleichen.
13A und 13B stellen einen Tablet-Computer 9600 dar, der zweifach zusammengeklappt werden kann. Es sei angemerkt, dass, obwohl hier ein Beispiel gezeigt wird, bei dem der Tablet-Computer zweifach zusammengeklappt werden kann, ein Tablet-Computer, der dreifach, vierfach oder mehrfach zusammengeklappt werden kann, ebenfalls hergestellt werden kann. In 13A ist der Tablet-Computer 9600 geöffnet und beinhaltet ein Gehäuse 9630, einen Anzeigeabschnitt 9631, einen Schalter 9626 zum Wechseln der Anzeigemodi, einen Stromschalter 9627, einen Schalter 9625 zum Wechseln in den Stromsparmodus, eine Halterung 9629 und einen Bedienungsschalter 9628.
Das Gehäuse 9630 beinhaltet ein Gehäuse 9630a und ein Gehäuse 9630b, die durch einen Klammerabschnitt 9639 miteinander verbunden sind. Das Gehäuse 9630 kann an dem Klammerabschnitt 9639 zweifach zusammengeklappt werden.
Ein Anzeigeabschnitt 9631 ist über dem Gehäuse 9630a, dem Gehäuse 9630b und dem Klammerabschnitt 9639 ausgebildet. Wenn das flexible Anzeigefeld, das in dieser Beschreibung und dergleichen offenbart ist, für den Anzeigeabschnitt 9631 verwendet wird, kann ein hochzuverlässiger Tablet-Computer mit dem zusammenklappbaren Anzeigeabschnitt 9631 erhalten werden.
Ein Teil des Anzeigeabschnitts 9631 kann ein Touchscreen-Bereich 9632 sein, und Daten können eingegeben werden, wenn ein angezeigtes Bedienungstastenfeld 9638 berührt wird. Der Anzeigeabschnitt 9631 kann eine Struktur aufweisen, bei der eine Hälfte der Fläche lediglich eine Anzeigefunktion aufweist und die andere Hälfte der Fläche eine Touchscreen-Funktion aufweist. Alternativ kann die gesamte Fläche des Anzeigeabschnitts 9631 eine Touchscreen-Funktion aufweisen. Beispielsweise können auf der gesamten Fläche des Anzeigeabschnitts 9631 Tastaturschaltflächen angezeigt werden, so dass der Tablet-Computer als Dateneingabegerät verwendet wird.
Der Schalter 9626 zum Wechseln eines Anzeigemodus ermöglicht das Wechseln zwischen einem Hochformat und einem Querformat, das Wechseln zwischen einer Farbanzeige und einer Schwarz-Weiß-Anzeige und dergleichen. Der Schalter 9625 zum Wechseln in den Stromsparmodus kann die Anzeigeleuchtdichte entsprechend der Menge des Außenlichts optimal steuern, das von einem optischen Sensor in dem Tablet-Computer beim Verwenden des Tablet-Computers erfasst wird. Zusätzlich zu dem optischen Sensor können weitere Erfassungsvorrichtungen, wie z. B. Sensoren zum Bestimmen der Neigung, wie z. B. ein Gyroskop oder ein Beschleunigungssensor, in dem Tablet-Computer eingebaut sein.
In 13B ist der Tablet-Computer 9600 zusammengeklappt und beinhaltet das Gehäuse 9630, eine Solarbatterie 9633 und eine Lade- und Entladesteuerschaltung 9634. Es sei angemerkt, dass 13B ein Beispiel zeigt, bei dem die Lade- und Entladesteuerschaltung 9634 eine Batterie 9635 und einen Gleichspannungswandler 9636 beinhaltet.
Wenn die Anzeigevorrichtung, die in dieser Beschreibung und dergleichen offenbart ist, für den Anzeigeabschnitt 9631 verwendet wird, ist der Anzeigeabschnitt 9631 zusammenklappbar. Da der Tablet-Computer 9600 beispielsweise zweifach zusammengeklappt werden kann, kann das Gehäuse 9630 geschlossen werden, wenn der Tablet-Computer nicht verwendet wird. Demzufolge ist der Tablet-Computer sehr gut tragbar und sehr beständig, da der Anzeigeabschnitt 9631 geschützt werden kann, wenn das Gehäuse 9630 geschlossen ist; deshalb ist der Tablet-Computer in Bezug auf die Langzeitnutzung sehr zuverlässig.
Der Tablet-Computer, der in 13A und 13B dargestellt ist, kann weitere Funktionen aufweisen, wie z. B. eine Funktion zum Anzeigen verschiedener Arten von Daten (z. B. eines Standbildes, eines Bewegtbildes und eines Textbildes), eine Funktion zum Anzeigen eines Kalenders, eines Datums, der Zeit oder dergleichen auf dem Anzeigeabschnitt, eine Berührungseingabe-Funktion zum Verarbeiten oder Modifizieren der Daten, die auf dem Anzeigeabschnitt angezeigt werden, durch Berührungseingabe und eine Funktion zum Steuern der Verarbeitung mittels verschiedener Arten von Software (Programmen).
Die Solarbatterie 9633, die an der Oberfläche des Tablet-Computers angeordnet ist, kann dem Touchscreen, dem Anzeigeabschnitt, einem Bildsignalprozessor und dergleichen elektrische Energie zuführen. Es sei angemerkt, dass die Solarbatterie 9633 an einer oder beiden Oberflächen des Gehäuses 9630 bereitgestellt sein kann, so dass die Batterie 9635 effizient aufgeladen werden kann. Wenn eine Lithium-Ionen-Batterie als Batterie 9635 verwendet wird, gibt es einen Vorteil des Verkleinerns oder dergleichen.
Die Struktur und die Arbeitsweise der Lade- und Entladesteuerschaltung 9634, die in 13B dargestellt wird, werden anhand eines Blockschemas in 13C beschrieben. 13C zeigt die Solarbatterie 9633, die Batterie 9635, den Gleichspannungswandler 9636, einen Wandler 9637, Schalter SW1 bis SW3 und den Anzeigeabschnitt 9631. Die Batterie 9635, der Gleichspannungswandler 9636, der Wandler 9637 und die Schalter SW1 bis SW3 entsprechen der Lade- und Entladesteuerschaltung 9634 aus 13B.
Als Erstes wird ein Beispiel für die Arbeitsweise in dem Fall, in dem Energie von der Solarbatterie 9633 unter Verwendung von Außenlicht erzeugt wird, beschrieben. Die Spannung der von der Solarzelle erzeugten Energie wird durch den Gleichspannungswandler 9636 erhöht oder verringert, so dass eine Spannung zum Aufladen der Batterie 9635 erhalten wird. Wenn der Anzeigeabschnitt 9631 mit der Energie aus der Solarbatterie 9633 bedient wird, wird der Schalter SW1 eingeschaltet, und die Spannung der Energie wird von dem Wandler 9637 auf eine Spannung, die für die Bedienung des Anzeigeabschnitts 9631 erforderlich ist, erhöht oder verringert. Wenn ferner keine Anzeige auf dem Anzeigeabschnitt 9631 durchgeführt wird, wird der Schalter SW1 ausgeschaltet und ein Schalter SW2 wird eingeschaltet, so dass das Aufladen der Batterie 9635 durchgeführt werden kann.
Hier wird die Solarbatterie 9633 als Beispiel für ein Mittel zur Energieerzeugung gezeigt; jedoch gibt es keine besondere Beschränkung hinsichtlich der Art und Weise wie man die Batterie 9635 auflädt, und die Batterie 9635 kann auch durch ein anderes Mittel zur Energieerzeugung, wie z. B. eines piezoelektrischen Elements oder eines thermoelektrischen Wandlerelements (Peltier-Elements), aufgeladen werden. Die Batterie 9635 kann beispielsweise mittels eines kontaktfreien Energieübertragungsmoduls, das Energie drahtlos (kontaktlos) überträgt und empfängt, um die Batterie aufzuladen, oder mittels einer Kombination von anderen Mitteln zur Energieerzeugung aufgeladen werden.
Es ist unnötig zu erwähnen, dass eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung nicht auf die vorstehend beschriebenen elektronischen Geräte beschränkt ist, solange die Anzeigevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eingebaut ist.
Diese Ausführungsform kann in einer geeigneten Kombination mit einer beliebigen der bei den anderen Ausführungsformen beschriebenen Strukturen implementiert werden.
Bezugszeichen

101: flexibles Anzeigefeld, 102-1: flexibles Substrat, 102-2: flexibles Substrat, 111-1: Gehäuse, 111-2: Rahmenteil, 112-1: Gehäuse, 112-2: Rahmenteil, 113-1: Gehäuse, 113-2: Rahmenteil, 121: Batterieeinheit, 122: Steuereinheit, 125: FPC, 128: Seitenrahmenteil, 130: Leitung, 132: Öffnung, 133: Öffnung, 134: Leitung, 1212: leitende Schicht, 1271: p-Typ-Halbleiterschicht, 1273: i-Typ-Halbleiterschicht, 1275: n-Typ-Halbleiterschicht, 1280: leitende Schicht, 600: Hauptsubstrat, 601: Lautsprecher, 602: Kamera, 603: Anzeigefeld, 604: Batterieeinheit, 605: Antenne für tragbare Kommunikation, 606: NFC-Antenne, 611: Quarz-Einheit, 612: DRAM, 613: Anwendungsprozessor, 614: Basisbandprozessor, 615: elektronischer Kompass, 616: Quarz-Einheit, 617: HF-Transceiver-IC, 618: Touchscreen-Steuer-IC, 619: Beschleunigungssensor, 620: Modul, 621: Stromversorgungssteuer-IC, 622: Leistungsverstärker für W-CDMA, 623: Flash-Speicher, 624: Filter, 1101: Elementschicht, 1103: Substrat, 1104: Lichtextraktionsabschnitt, 1105: Klebeschicht, 1106: Treiberschaltungsabschnitt, 1108: FPC, 1108a: FPC, 1108b: FPC, 1156: leitende Schicht, 1157: leitende Schicht, 1201: Substrat, 1202: Substrat, 1203: Klebeschicht, 1205: Isolierschicht, 1207: Isolierschicht, 1208: leitende Schicht, 1209: Isolierschicht, 1209a: Isolierschicht, 1209b: Isolierschicht, 1211: Isolierschicht, 1213: Dichtungsschicht, 1215: Verbinder, 1215a: Verbinder, 1215b: Verbinder, 1217: Isolierschicht, 1230: Licht emittierendes Element, 1231: untere Elektrode, 1233: EL-Schicht, 1235: obere Elektrode, 1240: Transistor, 1255: Isolierschicht, 1257: lichtundurchlässige Schicht, 1259: Farbschicht, 1261: Isolierschicht, 1270: leitende Schicht, 1272: leitende Schicht, 1274: leitende Schicht, 1276: Isolierschicht, 1278: Isolierschicht, 1281: leitende Schicht, 1283: leitende Schicht, 1291: Isolierschicht, 1292: leitfähiges Partikel, 1293: Isolierschicht, 1294: leitende Schicht, 1295: Isolierschicht, 1296: leitende Schicht, 1301: Ausbildungssubstrat, 1303: Trennschicht, 1305: Ausbildungssubstrat, 1307: Trennschicht, 1310a: leitende Schicht, 1310b: leitende Schicht, 9600: Tablet-Computer, 9625: Schalter, 9626: Schalter, 9627: Stromschalter, 9628: Bedienungsschalter, 9629: Halterung, 9630: Gehäuse, 9631: Anzeigeabschnitt, 9632: Bereich, 9633: Solarbatterie, 9634: Lade- und Entladesteuerschaltung, 9635: Batterie, 9636: Gleichspannungswandler, 9637: Wandler, 9638: Bedienungstaste, 9639: Klammerabschnitt, 9630a: Gehäuse, 9630b: Gehäuse

Diese Anmeldung basiert auf der japanischen Patentanmeldung mit der Seriennr. 2013-179069 , eingereicht beim japanischen Patentamt am 30. August 2013, deren gesamter Inhalt hiermit zum Gegenstand der vorliegenden Offenlegung gemacht wird.

Claims

Anzeigevorrichtung, die umfasst: ein flexibles Anzeigefeld; ein erstes Gehäuse, das einen ersten Abschnitt des flexiblen Anzeigefelds stützt; ein zweites Gehäuse, das einen zweiten Abschnitt des flexiblen Anzeigefelds stützt; eine erste Schaltung in dem ersten Gehäuse; und eine zweite Schaltung in dem zweiten Gehäuse, wobei das flexible Anzeigefeld mit mindestens einer der ersten Schaltung und der zweiten Schaltung verbunden ist, und wobei das flexible Anzeigefeld einen Biegeabschnitt zwischen dem ersten Gehäuse und dem zweiten Gehäuse umfasst, und das erste Gehäuse und das zweite Gehäuse einander überlappen, wenn das flexible Anzeigefeld zusammengeklappt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, die ferner eine Leitung umfasst, wobei die erste Schaltung und die zweite Schaltung elektrisch über die Leitung miteinander verbunden sind.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 2, die ferner ein flexibles Substrat über dem ersten und zweiten Gehäuse umfasst, wobei sich das flexible Substrat zwischen dem flexiblen Anzeigefeld und jeweils dem ersten und zweiten Gehäuse befindet, wobei die Leitung in dem flexiblen Substrat bereitgestellt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 2, wobei die Leitung in oder an dem flexiblen Anzeigefeld bereitgestellt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, wobei das flexible Anzeigefeld eine Licht emittierende Aktivmatrix-Vorrichtung ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, wobei das flexible Anzeigefeld eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung ist.
Anzeigevorrichtung, die umfasst: ein flexibles Anzeigefeld; ein erstes Gehäuse, das einen ersten Abschnitt des flexiblen Anzeigefelds stützt; ein zweites Gehäuse, das einen zweiten Abschnitt des flexiblen Anzeigefelds stützt; ein drittes Gehäuse, das einen dritten Abschnitt des flexiblen Anzeigefelds stützt; eine erste Schaltung in einem der ersten bis dritten Gehäuse; und eine zweite Schaltung in einem anderen der ersten bis dritten Gehäuse, wobei der zweite Abschnitt zwischen dem ersten Abschnitt und dem dritten Abschnitt positioniert ist, wobei das flexible Anzeigefeld mit mindestens einer der ersten Schaltung und der zweiten Schaltung verbunden ist, wobei das flexible Anzeigefeld einen ersten Biegeabschnitt zwischen dem ersten Gehäuse und dem zweiten Gehäuse und einen zweiten Biegeabschnitt zwischen dem zweiten Gehäuse und dem dritten Gehäuse umfasst, und wobei das erste bis dritte Gehäuse einander überlappen, wenn das flexible Anzeigefeld durch Biegen des ersten Biegeabschnitts und des zweiten Biegeabschnitts zusammengeklappt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 7, die ferner eine Leitung umfasst, wobei die erste Schaltung und die zweite Schaltung elektrisch über die Leitung miteinander verbunden sind.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 8, die ferner ein flexibles Substrat über dem ersten, zweiten und dritten Gehäuse umfasst, wobei sich das flexible Substrat zwischen dem flexiblen Anzeigefeld und jedem der ersten, zweiten und dritten Gehäuse befindet, wobei die Leitung in dem flexiblen Substrat bereitgestellt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 8, wobei die Leitung in oder an dem flexiblen Anzeigefeld bereitgestellt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 7, wobei das flexible Anzeigefeld eine Licht emittierende Aktivmatrix-Vorrichtung ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 7, wobei das flexible Anzeigefeld eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung ist.
Anzeigevorrichtung, die umfasst: ein flexibles Anzeigefeld; ein erstes Gehäuse, das einen ersten Abschnitt des flexiblen Anzeigefelds stützt; ein zweites Gehäuse, das einen zweiten Abschnitt des flexiblen Anzeigefelds stützt; eine Batterieeinheit in dem ersten Gehäuse; und eine Steuereinheit in dem zweiten Gehäuse, wobei die Steuereinheit konfiguriert ist, die Anzeigevorrichtung zu steuern, wobei das flexible Anzeigefeld einen Biegeabschnitt zwischen dem ersten Gehäuse und dem zweiten Gehäuse umfasst, und das erste Gehäuse und das zweite Gehäuse einander überlappen, wenn das flexible Anzeigefeld zusammengeklappt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 13, die ferner eine Leitung umfasst, wobei die Batterieeinheit und die Steuereinheit elektrisch über die Leitung miteinander verbunden sind.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 14, die ferner ein flexibles Substrat über dem ersten und zweiten Gehäuse umfasst, wobei sich das flexible Substrat zwischen dem flexiblen Anzeigefeld und jeweils dem ersten und zweiten Gehäuse befindet, wobei die Leitung in dem flexiblen Substrat bereitgestellt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 14, wobei die Leitung in oder an dem flexiblen Anzeigefeld bereitgestellt ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 13, wobei das flexible Anzeigefeld eine Licht emittierende Aktivmatrix-Vorrichtung ist.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 13, wobei das flexible Anzeigefeld eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung ist.