DE10341767A1 - Halbleitervorrichtung, bei der eine nicht korrekte Bestimmung des Durchschmelzzustandes einer Sicherung unwahrscheinlich ist - Google Patents

Halbleitervorrichtung, bei der eine nicht korrekte Bestimmung des Durchschmelzzustandes einer Sicherung unwahrscheinlich ist Download PDF

Info

Publication number
DE10341767A1
DE10341767A1 DE10341767A DE10341767A DE10341767A1 DE 10341767 A1 DE10341767 A1 DE 10341767A1 DE 10341767 A DE10341767 A DE 10341767A DE 10341767 A DE10341767 A DE 10341767A DE 10341767 A1 DE10341767 A1 DE 10341767A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
circuit
node
power supply
signal
internal node
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE10341767A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsunori Tsujino
Takeo Miki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp filed Critical Renesas Technology Corp
Publication of DE10341767A1 publication Critical patent/DE10341767A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
    • G11C29/027Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters in fuses
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/14Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
    • G11C17/18Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

Durch Schalten eines Modussignals (TMSIG) kann die Fähigkeit einer Treiberschaltung (56, 96) in einer Verriegelungsschaltung (50, 84) gegenüber einem normalen Modus verbessert werden. Selbst wenn ein kleiner Verlust in einem Durchschmelzbereich eines Sicherungselements (FUSESCE, FUSECA1-FUSECA7) auftritt, kann ein Durchtrennen korrekt identifiziert werden. In dieser Weise kann eine fehlerhafte Bestimmung eines Sicherungsdurchbrennzustandes verhindert werden, indem die Treibfähigkeit der Verriegelungsschaltung (50, 84) verbessert wird. Folglich ist eine Halbleitervorrichtung weniger anfällig für eine fehlerhafte Bestimmung eines Sicherungsdurchbrennzustandes.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung, und insbesondere eine Halbleitervorrichtung, die ein Sicherungselement aufweist, welches verwendet wird, um eine Anweisung zu geben, eine defekte Speicherzelle durch eine Ersatzzelle zu ersetzen, beispielsweise in einem DRAM (Dynamic Random Access Memory) mit großer Kapazität.
  • In einer DRAM-Zelle mit großer Kapazität ist es extrem schwierig in allen Speicherzellen keine Fehlerhaftigkeit zu erhalten. Folglich wird im Allgemeinen ein redundanter Aufbau verwendet, bei dem Ersatzspeicherzellen in einer Speicherzellenanordnung gebildet sind, um einen defekten Bereich zu ersetzen.
  • Die Japanische Patentoffenlegung 2001-210093 offenbart eine Reparatursignalerzeugungsschaltung, die in einem Laserschneideprogramm verwendet wird, bei der eine Sicherungseinheit, die einer Adresse eines defekten Bereichs entspricht, mittels eines Laserstrahls durchschmolzen wird, um eine Schaltung in dem defekten Bereich abzukoppeln, und statt dessen einen Ersatzbereich zu betreiben.
  • In einigen Fällen kann mittels eines Laserstrahls das Durchschmelzen einer Sicherung nicht vollständig erreicht werden, was Probleme verursacht. Eine interne Schaltung kann also bestimmen, dass die Sicherung nicht durchtrennt worden ist, und dass ein Ersetzen mit einem Ersatzbereich nicht durchgeführt worden ist. Alternativ kann eine Speicherzelle, die einer völlig irrelevanten Adresse entspricht, ersetzt werden.
  • Ein Chip, in dem eine Sicherung nicht vollständig durchschmolzen worden ist, und in dem ein Strom fliegt, der größer als ein vorbestimmter Wert ist, weist stabil immer eine Fehlfunktion auf. Folglich kann der Chip vor der Auslieferung in einem Test leicht entfernt werden. Wenn dagegen ein kleiner verbleibender Bereich in einem Durchschmelzbereich vorhanden ist, kann ein instabiler Betrieb hervorgerufen werden, da die Sicherung manchmal als durchschmolzen und manchmal als nicht durchschmolzen bestimmt wird, unter dem Einfluss von komplexen Betriebsfaktoren, beispielsweise einer Betriebszeitgebung oder einer Betriebstemperatur. Es ist schwierig einen Chip, der in einer derartigen instabilen Weise arbeitet, zu entfernen, und Testbedingungen müssen wohlüberlegt sein.
  • Ferner reduziert sich die Herstellungsausbeute, da ein Fehler beim Ersetzen vorliegt, aufgrund des Vorhandenseins eines kleinen verbleibenden Bereichs.
  • Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung einer Halbleitervorrichtung, bei der eine fehlerhafte Bestimmung eines Sicherungsdurchschmelzzustandes unwahrscheinlich ist.
  • Gemäß der Erfindung weist eine Halbleitervorrichtung eine erste Verbindungsschaltung, ein erstes Sicherungselement und eine erste Verriegelungsschaltung auf. Die erste Verbindungsschaltung verbindet einen ersten internen Knoten mit einem ersten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem ersten Leistungsversorgungspotential versehen ist, in Antwort auf ein erstes Steuersignal. Das erste Sicherungselement ist auf einem Pfad zwischen einem zweiten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem zweiten Leistungsversorgungspotential versehen ist, welches sich von dem ersten Leistungsversorgungspotential unterscheidet, und dem ersten internen Knoten gebildet, und speichert einen Leitend-Zustand in nichtflüchtiger Weise. Die erste Verriegelungsschaltung verriegelt (speichert) einen Logikwert, der einem Potential des ersten internen Knotens entspricht. Die erste Verriegelungsschaltung weist eine erste Inverterschaltung auf, die einen Eingang aufweist, der mit dem ersten internen Knoten verbunden ist, und eine erste Treiberschaltung, die den ersten internen Knoten auf das erste Leistungsversorgungspotential gemäß einem Ausgangssignal der ersten Inverterschaltung steuert (treibt). Die erste Treiberschaltung hat ein variables Ansteuerverhalten gemäß einem zweiten Steuersignal.
  • Gemäß einem anderen Aspekt der Erfindung weist eine Halbleitervorrichtung eine erste Verbindungsschaltung, eine erste Verriegelungsschaltung, ein erstes Sicherungselement und eine zweite Verbindungsschaltung auf. Die erste Verbindungsschaltung verbindet einen ersten internen Knoten mit einem ersten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem ersten Leistungsversorgungspotential versehen ist, in Antwort auf ein erstes Steuersignal. Die erste Verriegelungsschaltung hält (verriegelt) einen Logikwert, der einem Potential des ersten internen Knotens entspricht. Das erste Sicherungselement ist auf einem Pfad zwischen einem zweiten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem zweiten Leistungsversorgungspotential versehen ist, welches von dem ersten Leistungsversorgungspotential verschieden ist, und dem ersten internen Knoten gebildet und speichert einen Leitend-Zustand in nichtflüchtiger Weise. Die zweite Verbindungsschaltung ist in Reihe mit dem ersten Sicherungselement zwischen dem ersten internen Knoten und dem zweiten Leistungsversorgungsknoten gebildet, und hat einen Widerstandswert, der gemäß einem zweiten Steuersignal variabel ist.
  • Gemäß einem noch anderen Aspekt der Erfindung weist eine Halbleitervorrichtung eine Verriegelungsschaltung, ein Sicherungselement, eine Verbindungsschaltung und eine Pulserzeugungsschaltung auf. Die Verriegelungsschaltung hält (speichert) einen Logikwert, der einem Potential eines Eingangsknotens entspricht, welches am Anfang auf ein erstes Leistungsversorgungspotential gesetzt ist. Das Sicherungselement ist auf einem Pfad zwischen einem zweiten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem zweiten Leistungsversorgungspotential versehen ist, welches von dem ersten Leistungsversorgungspotential verschieden ist, und einem internen Knoten gebildet und speichert einen Leitend-Zustand in nichtflüchtiger Weise. Die Verbindungsschaltung verbindet den internen Knoten mit dem Eingangsknoten während einer Zeitperiode, die durch einen Fensterimpuls bestimmt ist. Die Pulserzeugungsschaltung variiert eine Impulsbreite des Fensterimpulses in Antwort auf ein Steuersignal.
  • Ein Hauptvorteil der Erfindung liegt darin, dass ein Schärfegrad bei der Bestimmung des Sicherungsdurchschmelzzustandes eingestellt werden kann, wenn ein Sicherungselement nicht vollständig durchgeschmolzen (durchtrennt) ist. Selbst wenn ein Fehlerstrom in einem Durchschmelzbereich des Sicherungselements fließt, kann folglich eine nicht korrekte Bestimmung des Durchschmelzzustandes verhindert werden.
  • Die oben genannten und andere Aufgaben, Merkmale, Aspekte und Vorteile der Erfindung werden im Folgenden unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen im einzelnen erklärt. Es zeigen:
  • 1 ein schematisches Blockdiagramm eines Aufbaus einer Halbleitervorrichtung 2 gemäß der Erfindung;
  • 2 ein Blockdiagramm, das einen Aufbau einer Programm & Komparator-Schaltung gemäß 1 zeigt;
  • 3 ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau einer Programmeinheit gemäß 2 zeigt;
  • 4 ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau eines Komparators gemäß 2 zeigt;
  • 5 ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Vorgang zum Detektieren des Durchschmelzens einer Sicherung verdeutlicht, entsprechend CA1-CA7 in einem normalen Betriebsmodus der Halbleitervorrichtung gemäß der Erfindung;
  • 6 ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Vorgang zum Detektieren des Durchschmelzens einer Sicherung entsprechend einer Blockauswahl in dem normalen Betriebsmodus der Halbleitervorrichtung gemäß der Erfindung verdeutlicht;
  • 7 ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Vorgang zum Detektieren des Durchschmelzens einer Sicherung entsprechend einer Blockauswahl in einem Reparaturmodus der Halbleitervorrichtung gemäß der Erfindung verdeutlicht;
  • 8 ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau einer Modussignalerzeugungsschaltung zeigt, die ein Modussignal TMSIG in Antwort auf ein Sicherungsdurchschmelzen modifiziert;
  • 9 ein Schaltungsdiagramm, das ein anderes Beispiel einer Blockprogrammschaltung zeigt;
  • 10 ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb der Blockprogrammschaltung gemäß 9 verdeutlicht;
  • 11 ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau der Blockprogrammschaltung verdeutlicht, die in dem Ausführungsbeispiel 3 verwendet wird;
  • 12 ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau einer Blockprogrammschaltung 342 zeigt, die in dem Ausführungsbeispiel 4 verwendet wird;
  • 13 ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau einer Sicherungsschaltungseinheit gemäß dem Ausführungsbeispiel 5 zeigt;
  • 14 ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau der Sicherungsschaltungseinheit zeigt, die in dem Ausführungsbeispiel 6 verwendet wird;
  • 15 ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau der Sicherungsschaltungseinheit zeigt, die in dem Ausführungsbeispiel 7 verwendet wird;
  • 16 ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb der in 15 gezeigten Schaltung verdeutlicht;
  • 17 ein Schaltungsdiagramm, das eine Abweichung des in 15 gezeigten Aufbaus zeigt; und
  • 18 ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb der in 17 gezeigten Schaltung verdeutlicht.
  • Im Folgenden werden unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen Ausführungsbeispiele der Erfindung im einzelnen beschrieben. Gleiche Bezugszeichen beziehen sich dabei auf gleiche oder entsprechende Komponenten in den Figuren.
  • (Ausführungsbeispiel 1)
  • 1 zeigt ein schematisches Blockdiagramm eines Aufbaus einer Halbleitervorrichtung 2 gemäß der Erfindung. In der vorliegenden Beschreibung wird als Beispiel der Halbleitervorrichtung gemäß der Erfindung eine Halbleiterspeichervorrichtung beschrieben, die eine Speicheranordnung (Speicher Array) aufweist.
  • Wie in 1 gezeigt, weist die Halbleitervorrichtung 2 Speicherblöcke 16.0 bis 16.3 auf, die eine Mehrzahl von Speicherzellen MC aufweisen, die in einer Matrixform angeordnet sind. Die Speicherblöcke 16.0 bis 16.3 repräsentieren vier Teilregionen der Speicherzellenanordnung. Vorgeschriebene 2 Bit, die höherwertig sind als RA0-RA8 von Reihenadressen wählen einen der Speicherblöcke aus.
  • Zur Vereinfachung ist in 1 ein Aufbau gezeigt, bei dem eine Ersatzspeicherzellenspalte zur Verbesserung der Ausbeute in jedem der Speicherblöcke 16.0 bis 16.3 zusätzlich zu den normalen Speicherzellen, die in 512 Reihen und 128 Spalten angeordnet sind, enthalten ist. Die normalen Speicherzellen sind jedoch eigentlich mit einer größeren Anzahl an Reihen und Spalten angeordnet, und in vielen Fällen sind mehrere Ersatzspeicherzellenspalten bereitgestellt. Obwohl in 1 nur ein Eingabe/Ausgabe-Anschluss gezeigt ist, sind tatsächlich entweder 4, 8 oder 16 Eingabe/Ausgabe-Anschlüsse gebildet. Der gezeigte Aufbau ist für jeden Eingabe/Ausgabe-Anschluss gebildet.
  • Die Halbleitervorrichtung 2 enthält ferner eine Steuerschaltung 8, die ein Adressensignal ADD, ein Taktsignal CLK und Steuersignale EXTZRAS, EXTZCAS, /WE, /CS, CKE empfängt, und interne Steuersignale CDE, LADE, Spaltenadressen CA0-CA7, Reihenadressen RA0-RA8, ein Signal RASORX und ein Modussignal TMSIG ausgibt. Die Steuerschaltung 8 weist ein Modusregister 9 auf, welches einen Betriebsmodus der Halbleitervorrichtung 2 speichert. Im vorliegenden Fall kennzeichnen "Z" und "/", die der Signalnamen hinzugefügt sind, eine Inversion.
  • Jeder der Speicherblöcke 16.0 bis 16.3 weist Speicherzellen MC auf, die in einer Matrix angeordnet sind, Wortleitungen WL0 bis WL511, die entsprechend den Reihen der Speicherzellen MC gebildet sind, und Spaltenleitungspaare CSL0 bis CSL 127, die entsprechend den Spalten der Speicherzellen MC gebildet sind.
  • Die Halbleitervorrichtung 2 enthält ferner eine X-Dekoder 10, der Reihenadressensignale RA0 bis RA8, die von der Steuerschaltung 8 geliefert werden, dekodiert, und die Wortleitungen WL0 bis WL511 selektiv ansteuert. Der X-Dekoder 10 weist einen nicht gezeigten Worttreiber auf, um eine Reihe (eine Wortleitung), die intern in Speicherblöcken 16.0 bis 16.3 adressiert ist, in einen ausgewählten Zustand zu steuern (zu treiben).
  • Die Halbleitervorrichtung 2 enthält ferner eine Programm & Komparator-Schaltung 24, die ein Signal SCHIT ausgibt, welches anzeigt, ob eine Ersatzspeicherzellenreihe auszuwählen ist, in Übereinstimmung mit einem Signal RASORX, welches in Antwort auf eines Adressensignals und Spaltenadressen CA1-CA7 aktiviert wird, einen Y-Dekoder 12, der in Antwort auf ein Steuersignal CDE und das Signal SCHIT aktiviert wird, um Spaltenadressen CA0-CA7 zu dekodieren und irgendeine der Spaltenauswahlleitungen OSLO bis CSL 127 auszuwählen, und einen Y-Ersatzdekoder 28, der eine Ersatzspaltenauswahlleitung SCSL in Antwort auf das Signal SCHIT auswählt.
  • Die Halbleitervorrichtung 2 enthält ferner einen Multiplexer 18, der ein Bitleitungspaar auswählt, das durch die Spaltenauswahlleitungen CSL0 bis CSL 127 und eine Ersatzspaltenauswahlleitung SCSL bestimmt ist, um Daten nach außen zu liefern (oder Daten von außen zu empfangen), eine Eingabeschaltung 22, die ein Signal DQ, das von einem Anschluss bereitgestellt wird, empfängt und selbiges an den Multiplexer 18 sendet, und eine Ausgabeschaltung 20, die über den Multiplexer 18 von den Speicherblöcken 16.0 bis 16.3 gelesene Daten als Signal DQ an den Anschluss ausgibt.
  • Der Betrieb wird im Folgenden grob beschrieben.
  • Wenn auf eine defekte Speicherzelle unter normalen Speicherzellen zugegriffen wird, wird anstatt auf die defekte Speicherzelle zuzugreifen, auf eine Ersatzspeicherzelle zugegriffen.
  • Der X-Dekoder 10 wählt eine der 512 Reihen in Antwort auf ein 9-Bit Adressensignal aus. Der Y-Dekoder 12 wählt eine der 127 Spalten in Antwort auf 7-Bit Adressensignal CA1-CA7 aus. Eine Adresse einer defekten Spalte wird in der Programm & Komparator-Schaltung 24 programmiert, die das Eingangsadressensignal mit der programmierten Adresse der defekten Spalte vergleicht. Wenn das Eingangsadressensignal mit der Adresse der defekten Spalte übereinstimmt, nimmt das Signal SCHIT den H-Pegel an, der Betrieb des Y-Dekoders 12 wird untersagt, und der Y-Ersatzdekoder 28 aktiviert eine Ersatzspaltenauswahlleitung SCSL.
  • Wenn dagegen das Eingangsadressensignal nicht mit der Adresse der defekten Spalte übereinstimmt, wählt der Y-Dekoder 12 eine Spalte gemäß dem Adressensignal CA0-CA7 aus. Der Betrieb des Y-Ersatzdekoders 28 wird in diesem Fall untersagt.
  • 2 zeigt ein Blockdiagramm, das einen Aufbau der Programm & Komparator-Schaltung gemäß 1 verdeutlicht.
  • Wie in 2 gezeigt, weist die Programm & Komparator-Schaltung 24 Programm & Komparator-Schaltungen 30 bis 33 auf. Die Programm & Komparator-Schaltungen 30 bis 33 sind jeweils entsprechend den Speicherblöcken 16.0 bis 16.3 gemäß 1 gebildet.
  • Die Programm & Komparator-Schaltungen 30 weisen eine Programmeinheit 40 und einen Komparator 45 auf. Die Programmeinheit 40 liest enthaltenen Einstellungsinformationen (Information für das Setzen) für die Sicherung als ein Signal FCA<7:1>, in Antwort auf das Signal RASORX. Das Signal RASORX wird aktiviert, indem ein ACT-Befehl erkannt wird, der eine Reihenaktivierung und die Eingangsadresse anweist, und die Aktivierung wird für eine Zeitperiode von der Eingabe des Befehls ACT bis zur Eingabe eines Befehls PRE (Vorladen) aufrechterhalten.
  • Die Programmeinheit 40 weist eine Blockprogrammschaltung 42 auf, die ein Sicherungselement FUSESCE enthält, welches durchschmolzen wird, wenn eine Ersatzspalte in einem entsprechenden Speicherblock verwendet wird, und die ein Blockauswahlsignal SCL<0> ausgibt, und einen Adressenprogrammschaltung 44, die Sicherungselemente FUSECA1 bis FUSECA1 aufweist, um eine Adresse einer defekten Spalte, die durch die Ersatzspalte zu ersetzen ist, zu bestimmen, und die Adressensignale FCA<7:1> entsprechend der defekten Spalte auszugeben.
  • Der Komparator 45 vergleicht das Adressensignal FCA<7:1>, das der defekten Spalte entspricht, mit einem Eingangsspaltenadressensignal CA<7:1> für jedes Bit, und aktiviert das Signal SCHIT<0> zum Auswählen der Ersatzspalte, wenn die Adressen miteinander übereinstimmen.
  • Die Programm & Komparator-Schaltungen 31 bis 33 unterscheiden sich von der Programm & Komparator-Schaltung 30 dadurch, dass sie jeweils Signale SCHIT<1> bis SCHIT<3> entsprechend den Speicherblöcken 16.1 bis 16.3 ausgeben. Ein interner Aufbau der Programm & Komparator-Schaltungen 31 bis 33 ist jedoch ähnlich dem Aufbau der Programm & Komparator-Schaltung 30. Eine Beschreibung davon wird folglich nicht wiederholt.
  • 3 zeigt ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau der Programmeinheit gemäß 2 zeigt.
  • Wie in 3 gezeigt, enthält die Programmeinheit 40 eine Blockprogrammschaltung 42, die ein Sicherungselement FUSESCE aufweist, welches durchschmolzen ist, wenn eine Ersatzspalte in dem entsprechenden Speicherblock verwendet wird, und die ein Blockauswahlsignal SCL<0> ausgibt, und eine Adressenprogrammschaltung 44, die Sicherungselemente FUSECA1 bis FUSECA7 aufweist, um die Adresse der defekten Spalte, die durch die Ersatzspalte zu ersetzen ist, zu bestimmen, und Adressensignale FCA<1> bis <7> auszugeben, die der defekten Spalten entsprechen.
  • Die Blockprogrammschaltung 42 enthält einen P-Kanal MOS-Transistor 46, der zwischen einen Leistungsversorgungsknoten und einen Knoten N1 geschaltet ist, und der an seinem Gateanschluss das Signal RASORX empfängt, ein Sicherungselement FUSESCE, das mit einem Ende mit einem Masseknoten verbunden ist, und einen N-Kanal MOS-Transistor 48, der zwischen das andere Ende des Sicherungselement FUSESCE und den Knoten N1 geschaltet ist und an seinem Gateanschluss das Signal RASORX empfängt.
  • Die Blockprogrammschaltung 42 enthält ferner eine Verriegelungsschaltung 50, die Information speichert, die einem Potential am Knoten N1 entspricht, und eine NOR-Schaltung 52, die ein Ausgangssignal der Verriegelungsschaltung 50 und ein Signal ZRAD<0> empfängt und das Signal SCL<0> ausgibt.
  • Die Verriegelungsschaltung 50 enthält einen Inverter 58, der einen Eingang aufweist, der mit dem Knoten N1 verbunden ist, eine Treiberschaltung 56, die den Knoten N1 auf das Leistungsversorgungspotential gemäß einer Ausgabe des Inverters 58 steuert, und eine NAND-Schaltung 54, die das Signal RASORX und das Modussignal TMSIG empfängt. Ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 54 variiert die Ansteuerfähigkeit der Treiberschaltung 56 (also das Ansteuerverhalten).
  • Die Treiberschaltung 56 enthält einen P-Kanal MOS-Transistor 60, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N1 geschaltet ist, und der das Ausgangssignal des Inverters 58 an seinem Gateanschluss empfängt, und P-Kanal MOS-Transistoren 62, 64, die in Reihe zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N1 geschaltet sind. Die P-Kanal MOS-Transistoren 62, 64 empfangen jeweils das Ausgangssignal der NAND-Schaltung 54 und das Ausgangssignal des Inverters 58 an ihren Gateanschlüssen.
  • Die Adressenprogrammschaltung 44 enthält Bitprogrammschaltungen 71 bis 77. Die Bitprogrammschaltungen 71 bis 77 weisen Sicherungselemente FUSECA1 bis FUSECA7 auf. Die Sicherungselemente FUSECA1 bis FUSECA7 entsprechen jeweils den Adressenbits CA1 bis CA7.
  • Die Bitprogrammschaltung 71 enthält eine Verbindungsschaltung 82, die einen Knoten N2 mit dem Leistungsversorgungsknoten in Antwort auf ein Signal RASORX verbindet, ein Sicherungselement FUSECA1, das ein Ende aufweist, welches mit dem Masseknoten verbunden ist, und einen N-Kanal MOS-Transistor 86, der zwischen das andere Ende des Sicherungselement FUSECA1 und den Knoten N2 geschaltet ist und an seinem Gateanschluss das Signal SCL<0> empfängt.
  • Die Verbindungsschaltung 82 enthält eine NOR-Schaltung 88, die einen Eingang aufweist, der auf L-Pegel fixiert ist, und die ein Signal RASORX an dem anderen Eingang empfängt, einen Inverter 90, der ein Ausgangssignal der NOR-Schaltung 88 empfängt und invertiert, und einen P-Kanal MOS-Transistor 92, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N2 geschaltet ist, und der an seinem Gateanschluss ein Ausgangssignal des Inverters 90 empfängt.
  • Die Bitprogrammschaltung 71 enthält ferner eine Verriegelungsschaltung 84, die Information speichert, die dem Potential am Knoten N2 entspricht, und einen Inverter 106, der ein Ausgangssignal der Verriegelungsschaltung 84 empfängt und invertiert, und das Signal FCA<1> ausgibt.
  • Die Verriegelungsschaltung 84 enthält einen Inverter 98, der einen Eingang aufweist, der mit dem Knoten N2 verbunden ist, eine Treiberschaltung 96, die den Knoten N2 auf das Leistungsversorgungspotential in Antwort auf ein Ausgangssignal des Inverters 98 treibt, und eine NAND-Schaltung 94, die das Signal RASORX und das Modussignal TMSIG empfängt. Ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 94 variiert die Treibfähigkeit der Treiberschaltung 96.
  • Die Treiberschaltung 96 enthält einen P-Kanal MOS-Transistor 100, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N2 geschaltet ist, und der das Ausgangssignal des Inverters 98 an seinem Gateanschluss empfängt, und P-Kanal MOS-Transistoren 102, 104, die in Reihe zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N2 geschaltet sind. Die P-Kanal MOS-Transistoren 102, 104 empfangen das Ausgangssignal der NAND-Schaltung 94 und das Ausgangssignal des Inverters 98 jeweils an ihren Gates (Gateanschlüssen).
  • Die Bitprogrammschaltungen 72 bis 77 unterscheiden sich von der Bitprogrammschaltung 71 dadurch, dass sie anstelle des Sicherungselements FUSECA1 jeweils das Sicherungselement FUSECA2 bis FUSECA7 aufweisen, und jeweils entsprechende Signale FCA<2> bis FCA<7> ausgeben. Der interner Aufbau der Bitprogrammschaltungen 72 bis 77 ist im übrigen gleich dem der Bitprogrammschaltung 71. Eine Beschreibung davon wird folglich nicht wiederholt.
  • Im Folgenden wird ein Betrieb kurz beschrieben. Wenn eine redundante Schaltung in dem entsprechenden Speicherblock verwendet wird, wird, ein Sicherungselement FUSESCE durchgeschmolzen (durchtrennt). Das Sicherungselement wird beispielsweise mittels eines Laserstrahls durchtrennt. Darüber hinaus werden einige der Sicherungselemente FUSECA1 bis FUSECA7 durchgeschmolzen, entsprechend der zu ersetzenden Adresse. Wenn ein entsprechendes Bit der Adresse, die zu ersetzen ist, auf "H"-Pegel ist, wird das Sicherungselement durchgeschmolzen.
  • Wenn das Sicherungselement FUSESCE durchschmolzen ist, ist der Knoten N1 durch die Verriegelungsschaltung 50 auf den H-Pegel verriegelt. Als Ergebnis erreicht das Signal SCL<0> den H-Pegel. In der Bitprogrammschaltung 71 wird dann der N-Kanal MOS-Transistor 86 leitend, und in die Verriegelungsschaltung 84 eingelesen, egal ob das Sicherungselement FUSECA1 durchschmolzen worden ist. Das Signal FCA<1> wird gemäß einem Ergebnis der Verriegelung durch die Verriegelungsschaltung 84 ausgegeben.
  • Ein durchgebrannter Zustand des Sicherungselements wird in ähnlicher Weise ebenso in den anderen Bitprogrammschaltungen 72 bis 77 detektiert, und es werden Signale FCA<2> bis FCA<7> ausgegeben.
  • 4 zeigt ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau des Komparators gemäß 2 verdeutlicht.
  • Wie in 4 gezeigt, enthält der Komparator 45 Bitkomparatorschaltungen 111 bis 117, die Adressensignalen CA<1> bis CA<7> jeweils entsprechen, eine 7 Eingänge aufweisende NAND-Schaltung 130, die Ausgangssignale von den Bitkomparatorschaltungen 111 bis 117 empfängt, und einen Inverter 132, der ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 130 empfängt, invertiert und das Signal SCHIT<0> ausgibt.
  • Die Bitkomparatorschaltung 111 enthält einen Inverter 122, der das Signal SCL<0> empfängt und invertiert, einen Inverter 124, der ein Ausgangssignal des Inverters 122 empfängt, invertiert und ein Signal SCEA ausgibt, eine NAND-Schaltung 126, die das Signal SCEA und das Adressensignal CA<1> empfängt, einen getakteten Inverter 128, der aktiviert wird, wenn das Signal FCA<1> den H-Pegel annimmt, ein Ausgangssignal von der NAND-Schaltung 126 empfängt und invertiert, und ein Signal SCSF<1> ausgibt, und einen getakteten Inverter 120, der aktiviert wird, wenn das Signal FCA<1> den L-Pegel annimmt, das Adressensignal CA<1> empfängt, invertiert und das Signal SCSF<1> ausgibt.
  • Da die Bitkomparatorschaltungen 112 bis 117 in ähnlicher Weise aufgebaut sind, wie die Bitkomparatorschaltung 111, erfolgt von diesen keine wiederholte Beschreibung.
  • Ein Betrieb der Bitkomparatorschaltung 111 wird im Folgenden kurz beschrieben.
  • Wenn die Ersatzspeicherzellenspalte in einem Block 0 nicht verwendet ist, also wenn das Signal SCL<0> auf L-Pegel ist, erreicht das Signal SCEA den L-Pegel, und das Ausgangssignal der NAND-Schaltung 126 nimmt den H-Pegel an.
  • Der N-Kanal MOS-Transistor 86 gemäß 3 hält einen nichtleitenden Zustand. Folglich erreichen alle Signale FCA<1> bis FCA<7> den H-Pegel, egal ob das Sicherungselement durchschmolzen worden ist oder nicht.
  • In der Bitkomparatorschaltung 111 wird der getaktete Inverter 120 deaktiviert, während der getaktete Inverter 128 aktiviert ist. Der getaktete Inverter 128 invertiert den H-Pegel des Ausgangssignals der NAND-Schaltung 126, und das Signal SCSF<1> nimmt den L-Pegel an.
  • Da die Signale SCSF<2> bis SCSF<7> ebenfalls den L-Pegel annehmen, gibt die NAND-Schaltung 130 den H-Pegel aus, und folglich nimmt das Signal SCHIT<0> den L-Pegel an. Es wird folglich keine Ersetzungsoperation in dem Speicherblock 16.0 ausgeführt.
  • Wenn die Ersatzspeicherzellenspalte in Block 0 verwendet wird, also wenn das Signal SCL<0> auf H-Pegel ist, nimmt als nächstes das Signal SCEA den H-Pegel an, und das Ausgangssignal der NAND-Schaltung 126 nimmt einen invertierten Wert des Signals CA<1> an.
  • Der N-Kanal MOS-Transistor 86 gemäß 3 wird folglich leitend. Wenn das Sicherungselement durchschmolzen worden ist, nimmt das Signal FCA<1> den H-Pegel an. Wenn dagegen das Sicherungselement nicht durchschmolzen worden ist, nimmt das Signal FCA<1> den L-Pegel an. Wenn ein entsprechendes Bit der defekten Adresse gleich "1" ist, ist die Sicherung durchschmolzen. Entsprechend nimmt das Signal FCA<1> den H-Pegel an, falls das entsprechende Bit CA der defekten Adresse gleich "1" ist, während es den L-Pegel annimmt, wenn das entsprechende Bit gleich "0" ist.
  • Wenn das entsprechende Bit der defekten Adresse gleich "1" ist, und das Signal FCA<1> den H-Pegel annimmt, wird der getaktete Inverter 128 aktiviert. Wenn das Signal CA<1> dann den H-Pegel annimmt, nimmt das Signal SCSF<1> den H-Pegel an. Wenn dagegen das Signal CA<1> den L-Pegel annimmt, nimmt das Signal SCSF<1> den L-Pegel an. Mit anderen Worten, wenn das Signal CA<1> mit dem entsprechenden Bit "1" der defekten Adresse übereinstimmt, nimmt das Signal SCSF<1> den H-Pegel an. Das Signal SCSF<1> nimmt im übrigen den L-Pegel an.
  • Wenn hingegen das entsprechende Bit der defekten Adresse gleich "0" ist, und das Signal FCA<1> den L-Pegel annimmt, wird der getaktete Inverter 120 aktiviert. Wenn das Signal CA<1> den H-Pegel annimmt, nimmt das Signal SCSF<1> den L-Pegel an. Wenn dagegen das Signal CA<1> den L-Pegel annimmt, nimmt das Signal SCSF<1> den H-Pegel an. Wenn das Signal CA<1> mit dem entsprechenden Bit "0" der defekten Adresse übereinstimmt, nimmt mit anderen Worten das Signal SCSF<1> den H-Pegel. Im übrigen nimmt das Signal SCSF<1> den L-Pegel an.
  • In ähnlicher Weise wird auch in den Bitkomparatorschaltungen 112 bis 117 das entsprechende Bit der Eingangsadresse mit dem entsprechenden Bit der defekten Adresse verglichen, und Signale SCSF<2> bis SCSF<7> werden ausgegeben.
  • Wenn alle Eingangsadressenbits mit den defekten Adressenbits übereinstimmen, wird das Signal SCHIT<0> durch die NAND-Schaltung 130 und den Inverter 132 auf H-Pegel aktiviert, und die defekte Spalte wird mit der Ersatzspalte ersetzt.
  • 5 zeigt ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb zum Detektieren des Durchschmelzens einer Sicherung entsprechend CA1 bis CA7 in einem normalen Betriebsmodus der Halbleitervorrichtung gemäß der Erfindung verdeutlicht.
  • Wie in den 3 und 5 gezeigt, wird zu einem Zeitpunkt t0 ein Befehl ACT eingegeben und eine Reihe aktiviert. In dem normalen Betriebsmodus wird das Modussignal TMSIG auf den L- Pegel gesetzt. Obwohl das Sicherungselement FUSECA1 von dem Laserstrahl durchschmolzen worden ist, sei angenommen, dass das Durchschmelzen unvollständig ist, und dass ein kleiner verbleibender nicht durchgeschmolzener Bereich existiert.
  • Es sei beispielsweise angenommen, dass ein Schreibbefehl WT zu einem Zeitpunkt t1 eingegeben wird, und das Spaltenadressensignal CA<1> den H-Pegel zu diesem Zeitpunkt erreicht. Wenn die Sicherung durchschmolzen worden ist, wird der Knoten N2 gemäß 3 auf H-Pegel gehalten, und das Signal FCA<1> nimmt ebenfalls den H-Pegel an. Da das Signal CA<1> mit dem Signal FCA<1> übereinstimmt, wird die Ersatzspaltenauswahlleitung SCSL aktiviert, so dass die Ersatzspalte ausgewählt wird, wenn alle anderen Bits übereinstimmen.
  • Darüber hinaus sei angenommen, dass der Schreibbefehl WT eingegeben wird, wie zum Zeitpunkt t2 oder später gezeigt, und dass das Spaltenadressensignal CA<1> zu diesem Zeitpunkt auf L-Pegel ist. Wenn die Sicherung durchtrennt worden ist, wird der Knoten N2 gemäß 3 auf H-Pegel gehalten und das Signal FCA<1> nimmt den H-Pegel an. Da das Signal CA<1> nicht mit dem Signal FCA<1> übereinstimmt, wird die Ersatzspalte nicht ausgewählt, sondern eine normale Spaltenauswahlleitung NCSL wird aktiviert.
  • Obwohl ein minimaler Wert für eine Zeitperiode tRCD von der Aktivierung der Reihe durch den Befehl ACT bis zur Eingabe des Schreibbefehls WT definiert ist, ist kein maximaler Wert definiert. Der Schreibbefehl WT wird folglich nicht immer mit der gleichen Zeitgebung eingegeben. In einigen Fällen kann entsprechend eine Leseoperation oder eine Schreiboperation mit langer Zeitperiode tRCD ausgeführt werden.
  • Wenn die Sicherung durchtrennt worden ist, sollte der Knoten N2 gemäß 3 auf H-Pegel gehalten werden. Wenn das Durchschmelzen des Sicherungselements unvollständig ist, wird jedoch das Potential am Knoten N2 reduziert. Die Ladungen der parasitären Kapazität am Knoten N2, der durch den Vorladetransistor 92 einmal aufgeladen worden ist, fließen allmählich in Richtung Massepotential, und das Potential am Knoten N2 nimmt ein spannungsgeteiltes Potential an, welches durch ein Verhältnis des Leitungswiderstandes des P-Kanal MOS-Transistors 100 zu einem kombinierten Widerstand des N-Kanal MOS-Transistor 86 und eines verbleibenden Bereichs des Sicherungselements FUSECA1 bestimmt ist.
  • Wenn das Potential des Knotens N2 kleiner, als eine Schwellenwertspannung des Inverters 98 ist, wird das Ausgangssignal des Inverters 98 invertiert, und der P-Kanal MOS-Transistor 100 geht in einen "Aus"-Zustand über. Das Potential des Knoten N2 erreicht letztendlich das Massepotential durch den N-Kanal MOS-Transistor 86 und den verbleibenden Bereich des Sicherungselements FUSECA1. In diesem Fall ist das Signal FCA<1>, das auf H-Pegel sein sollte, auf L-Pegel gesetzt.
  • Zum Zeitpunkt t5 ist ein Zustand gezeigt, bei dem das Eingangsspaltenadressensignal CA<1> den H-Pegel annimmt, wenn die Schreiboperation mit langer Zeitperiode tRCD ausgeführt wird. Das Signal FCA<1>, das ein defektes Adressenbit anzeigt, das im Wesentlichen auf H-Pegel sein sollte, ist auf L-Pegel gesetzt. Wenn das Signal CA<1> nicht mit dem Signal FCA<1> übereinstimmt, wird die Ersatzspalte nicht ausgewählt und die normale Spaltenauswahlleitung NCSL wird aktiviert.
  • Zum Zeitpunkt t6 ist ein Zustand gezeigt, bei dem das Eingangsspaltenadressensignal CA<1> zusätzlich den L-Pegel annimmt, wenn die Schreiboperation mit langer Zeitperiode tRCD ausgeführt wird. Das Signal FCA<1>, das das defekte Adressenbit anzeigt, das tatsächlich auf H-Pegel sein sollte, ist auf L-Pegel gesetzt. Wenn das Signal CA<1> mit dem Signal FCA<1> übereinstimmt, wird die Ersatzspaltenauswahlleitung SCSL aktiviert, so dass die Ersatzspalte ausgewählt wird, wenn alle anderen Bits übereinstimmen.
  • 6 zeigt ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb zum Detektieren des Durchschmelzens einer Sicherung entsprechend einer Blockauswahl in dem normalen Betriebsmodus der Halbleitervorrichtung gemäß der Erfindung verdeutlicht.
  • Wie in den 3 und 6 gezeigt, wird zu einem Zeitpunkt t0 der Befehl ACT eingegeben und eine Reihe aktiviert. In dem normalen Betriebsmodus wird das Modussignal TMSIG auf L-Pegel gesetzt. Obwohl das Sicherungselement FUSESCE durch den Laserstrahl durchtrennt (durchschmolzen) worden ist, sei angenommen, dass das Durchschmelzen unvollständig ist und ein kleiner verbleibender nicht durchgeschmolzener Bereich existiert.
  • Es sei beispielsweise angenommen, dass der Schreibbefehl WT zum Zeitpunkt t1 eingegeben wird. Wenn die Sicherung durchtrennt worden ist, wird der Knoten N1 gemäß 3 auf H-Pegel gehalten und das Signal SCL<0> nimmt ebenfalls den H-Pegel an, unter der Voraussetzung, dass das Signal ZRAD<0> auf L-Pegel ist. Die Ersatzspaltenauswahlleitung SCSL wird aktiviert, so dass die Ersatzspalte ausgewählt wird, wenn die Signale CA<1> bis CA<7> mit den Signalen FCA<1> bis FCA<7> jeweils übereinstimmen.
  • Obwohl ein minimaler Wert für eine Zeitperiode tRCD von der Aktivierung der Reihe durch den Befehl ACT bis zur Eingabe des Schreibbefehls WT definiert ist, ist kein maximaler Wert definiert. Folglich wird der Schreibbefehl WT nicht immer mit der gleichen Zeitgebung eingegeben. Entsprechend kann in einigen Fällen eine Leseoperation oder eine Schreiboperation mit langer Zeitperiode tRCD ausgeführt werden.
  • Wenn die Sicherung durchschmolzen (durchgebrannt) worden ist, sollte ein Knoten N1 gemäß 3 auf H-Pegel gehalten werden. Wenn das Durchtrennen des Sicherungselements unvollständig ist; wird jedoch das Potential am Knoten N1 reduziert. Die Ladungen der parasitären Kapazität am Knoten N1, der einmal durch den Vorladetransistor 46 vorgeladen worden ist, fließt allmählich in Richtung des Massepotentials ab, und das Potential am Knoten N1 nimmt ein spannungsgeteiltes Potential an, welches durch ein Verhältnis eines Leitwiderstandes des P-Kanal MOS-Transistors 60 zu einem kombinierten Widerstand des N-Kanal MOS-Transistors 48 und eines verbleibenden Bereichs des Sicherungselements FUSESCE bestimmt ist.
  • Wenn das Potential am Knoten N1 kleiner als eine Schwellenwertspannung des Inverters 58 ist, wird das Ausgangssignal des Inverters 58 invertiert, und der P-Kanal MOS-Transistor 60 nimmt den "Aus"-Zustand an. Das Potential am Knoten N1 nimmt letztendlich durch den N-Kanal MOS-Transistor 48 und den verbleibenden Bereich des Sicherungselements FUSESCE das Massepotential an. In diesem Fall ist das Signal SCL<0>, das den H-Pegel annehmen soll, auf L-Pegel gesetzt.
  • Zum Zeitpunkt t4 ist ein Zustand gezeigt, bei dem die Schreiboperation mit langer Zeitperiode tRCD ausgeführt wird. Wenn der Schreibbefehl WT zum Zeitpunkt t4 eingegeben wird, ist das Signal SCL<0>, das tatsächlich den H-Pegel annehmen sollte, auf L-Pegel gesetzt. Wenn das Signal SCL<0> auf L-Pegel ist, wird der Zustand des Sicherungselements nicht in den Bitprogrammschaltungen 71 bis 77 gemäß 3 gelesen, und die Signale FCA<1> bis FCA<7> nehmen alle den H-Pegel an.
  • Wenn das Signal SCL<0> auf L-Pegel ist und die Signale FCA<1> bis FCA<7> alle den H-Pegel annehmen, setzt folglich der Komparator 45 in 4 das Signal SCHIT<0> auf L-Pegel. Die Ersatzspalte wird folglich nicht ausgewählt, sondern die normale Spaltenauswahlleitung NCSL wird aktiviert.
  • 7 zeigt ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb zum Detektieren des Durchtrennzustandes bzw. des Durchtrennens einer Sicherung entsprechend einer Blockauswahl in einem Reparaturmodus der Halbleitervorrichtung gemäß der Erfindung verdeutlicht.
  • Wie in den 3 und 7 gezeigt, wird zum Zeitpunkt t0 ein Befehl ACT eingegeben und eine Reihe aktiviert. In dem Reparaturmodus ist das Modussignal TMSIG auf H-Pegel gesetzt. Obwohl das Sicherungselement FUSESCE durch den Laserstrahl durchtrennt worden ist, sei angenommen, dass das Durchtrennen unvollständig ist und das ein kleiner verbleibender nicht durchgeschmolzener Bereich existiert.
  • Es sei beispielsweise angenommen, dass ein Schreibbefehl WT zum Zeitpunkt t1 eingegeben wird. Wenn die Sicherung durchtrennt worden ist, wird der Knoten N1 gemäß 3 auf H-Pegel gehalten, und das Signal SCL<0> nimmt ebenfalls den H-Pegel an, unter der Voraussetzung, dass das Signal ZRAD<0> auf L-Pegel ist. Die Ersatzspaltenauswahlleitung SCSL ist in diesem Fall aktiviert, so dass die Ersatzspalte ausgewählt wird, wenn die Signale CA<1> bis CA<7> jeweils zu den Signalen FCA<1> bis FCA<7> passen.
  • Ein Beispiel, bei dem die Schreiboperation mit langer Zeitperiode tRCD ausgeführt wird, wird im folgenden unter Bezugnahme auf den Zeitpunkt t3 und einen späteren Zeitpunkt beschrieben.
  • Wenn die Sicherung durchtrennt worden ist, sollte der Knoten N1 gemäß 3 auf H-Pegel bleiben. In 6 ist ein Beispiel beschrieben, bei dem, wenn das Durchschmelzen des Sicherungselements unvollständig ist, das Potential am Knoten N1 reduziert ist, und das Signal SCE<0> nimmt den L-Pegel an. Im Gegensatz dazu ist im Reparaturmodus das Signal TMSIG auf H-Pegel gesetzt.
  • Die Ladungen der parasitären Kapazität am Knoten N1, der einmal durch den Vorladetransistor 46 vorgeladen worden ist, fließen allmählich in Richtung das Massepotentials ab, und das Potential des Knotens N1 nimmt ein spannungsgeteiltes Potential an. Wenn dagegen die P-Kanal MOS-Transistoren 62, 64 leitend werden, kann das spannungsgeteilte Potential einen ausreichend hohen Wert annehmen, verglichen mit der Schwellenwertspannung des Inverters 58. Da das Ausgangssignal des Inverters 58 nicht invertiert ist, bleibt das Signal SCL<0> auf H-Pegel, ohne in den L-Pegel invertiert zu werden.
  • Selbst wenn der Schreibbefehl WT zum Zeitpunkt t4 eingegeben wird, bleibt folglich das Signal SCL<0> auf H-Pegel. Eine Ersetzungsschaltung, die eine Fehlfunktion aufweist, wie durch eine gestrichelte Linie gezeigt, aufgrund eines kleinen Verluststroms am durchschmolzenen Bereich erreicht im normalen Betriebsmodus einen normalen Betrieb, wie durch eine durchgezogene Linie gezeigt, und die Ersatzspalte wird zum Zeitpunkt t4 ausgewählt.
  • Durch das Schaltmodussignal TMSIG wird der Betrieb des Detektierens des Durchtrennens von Sicherungen entsprechend CA1 bis CA7, wie unter Bezugnahme auf 5 beschrieben, in ähnlicher Weise ausgeführt, wie das Detektieren eines Durchschmelzens der Sicherung entsprechend einer Blockauswahl. Durch Schalten des Modussignals TMSIG wird mit anderen Worten die Treiberfähigkeit der Verriegelungsschaltung verbessert, und ein Sicherungsdurchtrennen (Durchschmelzen) kann korrekt bestimmt werden, selbst wenn ein kleiner Verluststrom in dem Sicherungsdurchtrennbereich auftritt. Der Fehler kann entfernt oder identifiziert werden, indem die Treiberfähigkeit der Verriegelungsschaltung verbessert wird.
  • In der oben gegebenen Beschreibung wird das Modussignal TMSIG von der Steuerschaltung 8 basierend auf einer Einstellung des Registers 9 gemäß 1 geliefert. Alternativ kann das Modussignal TMSIG modifiziert werden, indem das Sicherungselement durchtrennt wird. Dadurch kann ein als defekt bestimmter Chip zu einem späteren Zeitpunkt repariert werden, ohne die Maske auswechseln zu müssen, wenn die Ausbeute schlecht ist.
  • 8 zeigt ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau einer Modussignalerzeugungsschaltung zeigt, die das Modussignal TMSIG in Antwort auf ein Sicherungsdurchbrennen modifiziert.
  • Wie in 8 gezeigt, enthält eine Modussignalerzeugungsschaltung 140 einen P-Kanal MOS-Transistor 142, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und einen Knoten N4 geschaltet ist, und der ein Signal /POR an seinem Gateanschluss empfängt, ein Sicherungselement FUSETM, welches ein Ende aufweist, das mit dem Masseknoten verbunden ist, und einen N-Kanal MOS-Transistor 144, der zwischen das andere Ende des Sicherungselements FUSETM und den Knoten N4 geschaltet ist, und das Signal /POR an seinem Gateanschluss empfängt.
  • Die Modussignalerzeugungsschaltung 140 enthält ferner eine Verriegelungsschaltung 146, die Information entsprechend dem Potential des Knotens N4 speichert (verriegelt).
  • Die Verriegelungsschaltung 146 enthält einen Inverter 148, der einen Eingang aufweist, der mit dem Knoten N4 verbunden ist, einen P-Kanal MOS-Transistor 150, der zwischen den Knoten N4 und den Leistungsversorgungsknoten geschaltet ist, und der ein Ausgangssignal des Inverters 148 an seinem Gateanschluss empfängt, und einen Inverter 152, der das Ausgangssignal des Inverters 148 empfängt und invertiert, und das Modussignal TMSIG ausgibt.
  • Eine nicht gezeigte Power-on-Reset Schaltung hält das Signal /POR auf L-Pegel für eine gewisse Zeit, wenn die Halbleitervorrichtung eingeschaltet wird, und beseitigt nachfolgend ein Zurücksetzen, indem das Signal auf H-Pegel angehoben wird.
  • Wenn das Sicherungselement FUSETM nicht durchtrennt worden ist, nimmt der Knoten N4 den L-Pegel an, nachdem das Zurücksetzen (Reset) abgebrochen ist, und das Signal TMSIG nimmt ebenfalls den L-Pegel an.
  • Wenn dagegen das Sicherungselement FUSETM durchtrennt worden ist, nimmt der Knoten N4 den H-Pegel an, nachdem das Zurücksetzen (Reset) abgebrochen ist, und das Signal TMSIG nimmt ebenfalls den H-Pegel an.
  • Eine Schaltung gemäß 8 erlaubt das Reparieren eines Chips zu einem späteren Zeitpunkt, wenn die Ausbeute schlecht ist.
  • In dem oben beschriebenen ersten Ausführungsbeispiel kann durch Einstellen eines vorgeschriebenen Modus die Fähigkeit des Treibers in der Verriegelungsschaltung verbessert werden, gegenüber dem normalen Betriebsmodus, und der Widerstand, der für ein Sicherungsdurchbrennen bestimmt wird, kann verringert werden. Es wird folglich möglich zu überprüfen, ob eine fehlerhafte Bestimmung des Sicherungsdurchtrennzustandes verhindert wird, wenn die Fähigkeit des Treibers in der Verriegelungsschaltung im Reparaturmodus verbessert ist. Darüber hinaus kann der Chip, bei dem der Sicherungsdurchtrennzustand fehlerhaft bestimmt worden ist, zu einem späteren Zeitpunkt repariert werden.
  • (Ausführungsbeispiel 2)
  • Im ersten Ausführungsbeispiel ist ein Beispiel beschrieben worden, bei dem die Treiberfähigkeit verbessert wird, indem ein zusätzlicher P-Kanal MOS-Transistor in einer Rückkopplungsschleife innerhalb der Verriegelungsschaltung gebildet wird, die den Zustand des Sicherungselements in einem Test verriegelt. Die zwei P-Kanal MOS-Transistoren in der Rückkopplungsschleife innerhalb der Verriegelungsschaltung können für eine Verwendung geschaltet werden.
  • 9 zeigt ein Schaltungsdiagramm eines anderen Beispiels einer Blockprogrammschaltung.
  • Wie in 9 gezeigt, enthält eine Blockprogrammschaltung 202 eine Verriegelungsschaltung 50A anstelle der Verriegelungsschaltung 50 in dem Aufbau der Blockprogrammschaltung 42 gemäß 3. Die Verriegelungsschaltung 50A hat einen Knoten N1A als einen Eingangsknoten, und enthält eine Treiberschaltung 56A anstelle der Treiberschaltung 56 in dem Aufbau der Verriegelungsschaltung 50 gemäß 3. Da der Aufbau der Blockprogrammschaltung 202 im übrigen gleich dem der Blockprogrammschaltung 42 gemäß 3 ist, wird eine Beschreibung davon nicht wiederholt.
  • Die Treiberschaltung 56A enthält eine NAND-Schaltung 204, die einen Eingang aufweist, der mit dem Knoten N1A verbunden ist, und empfängt ein Signal ZTMSIG an dem anderen Eingang, einen P-Kanal MOS-Transistor 206, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N1A geschaltet ist und ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 204 an seinem Gateanschluss empfängt, eine NAND-Schaltung 208, die einen Eingang aufweist, der mit dem Knoten N1A verbunden ist und an dem anderen Eingang das Modussignal TMSIG empfängt, und einen P- Kanal MOS-Transistor 210, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten N1A geschaltet ist und an seinem Gateanschluss ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 208 empfängt.
  • Das Signal ZTMSIG hat einen invertierten Wert des Modussignals TMSIG und ist auf H-Pegel in dem normalen Betriebsmodus gesetzt. Folglich treibt der P-Kanal MOS-Transistor 206 in der Treiberschaltung 56A den Knoten N1A auf das Leistungsversorgungspotential in dem normalen Betriebsmodus, während der P-Kanal MOS-Transistor 210 den Knoten N1A in dem Reparaturmodus auf das Leistungsversorgungspotential treibt.
  • Wenn der P-Kanal MOS-Transistor 210 eine Treibfähigkeit aufweist, die größer als die des P-Kanal MOS-Transistors 206 ist, kann eine fehlerhafte Bestimmung des Sicherungszustandes in dem Reparaturmodus verhindert werden.
  • 10 zeigt ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb der in 9 gezeigten Blockprogrammschaltung verdeutlicht.
  • Wie in den 9 und 10 gezeigt, wird das Signal TMSIG von L-Pegel auf H-Pegel geschaltet. Entsprechend kann bei einem Schreiben zu einem Zeitpunkt t4, bei dem tRCD lang ist, die Wellenform des Knotens N1A von W1 auf W2 geschaltet werden. Eine fehlerhafte Bestimmung des Sicherungszustands in dem Reparaturmodus kann folglich verhindert werden.
  • Wenn der P-Kanal MOS-Transistor 210 eine Treiberfähigkeit aufweist, die kleiner als die des P-Kanal MOS-Transistors 206 ist, kann die Wellenform des Knoten N1A von W2 auf W1 geschaltet werden, indem das Schaltsignal TMSIG von L-Pegel auf H-Pegel beim Schreiben zum Zeitpunkt t4 geschaltet wird, wobei tRCD lang ist.
  • Obwohl ein Beispiel für die Blockprogrammschaltung beschrieben worden ist, die das Signal SCL<0> erzeugt, kann ein Aufbau für die Bitprogrammschaltungen 71 bis 77 gemäß 3 verwendet werden, bei dem die Treiber geschaltet werden.
  • Durch das Erlauben des Schaltens der Treiber in der Verriegelungsschaltung, neben dem Hinzufügen eines Treibers, kann die Bestimmung eines Widerstandswertes in dem Sicherungsdurchbrennbereich in jede Richtung geschaltet werden. Folglich kann eine optimale Einstellung der Treibergröße mit einer entsprechenden Toleranz erreicht werden, um keine falsche Bestimmung des Sicherungsdurchtrennzustandes zu verursachen.
  • (Ausführungsbeispiel 3)
  • 11 zeigt ein Schaltungsdiagramm, das einen Aufbau der Blockprogrammschaltung zeigt, die in Ausführungsbeispiel 3 verwendet wird.
  • Wie in 11 gezeigt, enthält eine Blockprogrammschaltung 302 einen P-Kanal MOS-Transistor 316, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und einen Knoten N5 geschaltet ist, und der an seinem Gateanschluss das Signal RASORX empfängt, einen N-Kanal MOS-Transistor 318, der zwischen den Knoten N5 und einen Knoten N6 geschaltet ist, und an seinem Gateanschluss das Signal RASORX empfängt, ein Sicherungselement FUSESCEA, das zwischen den Knoten N6 und einen Knoten N7 geschaltet ist, und eine Verbindungsschaltung 330, die den Knoten N7 mit dem Masseknoten in Antwort auf die Signal TMSIG0 bis TMSIG2 verbindet.
  • Die Blockprogrammschaltung 302 enthält ferner eine Verriegelungsschaltung 320, die das Potential des Knotens N5 hält, und eine NOR-Schaltung 322, die ein Ausgangssignal der Verriegelungsschaltung 320 und ein Signal ZRAD<0> empfängt, und das Signal SCL<0> ausgibt.
  • Die Verbindungsschaltung 330 enthält N-Kanal Transistoren 332, 334, 336, die parallel zwischen den Knoten N7 und den Masseknoten geschaltet sind. Der N-Kanal MOS-Transistor 332 empfängt das Signal TMSIG0 an seinem Gateanschluss und hat einen Widerstandswert R0, wenn er leitend ist. Der N-Kanal MOS-Transistor 334 empfängt das Signal TMSIG1 an seinem Gateanschluss und hat einen Widerstandswert von R1, wenn er leitend ist. Der N-Kanal MOS-Transistor 336 empfängt das Signal TMSIG2 an seinem Gateanschluss und hat einen Widerstandswert von R2, wenn er leitend ist. Eine Beziehung von R0 < R1 < R2 wird in diesem Fall zwischen den Widerstandswerten R0 bis R2 gebildet.
  • Was die Einstellung der Signale TMSIG0 bis TMSIG2, beispielsweise im Normalbetriebsmodus betrifft, ist das Signal TMSIG1 auf H-Pegel gesetzt, während die Signal TMSIG0, TMSIG2 auf L-Pegel gesetzt sind. Wenn die Signale TMSIG0 bis TMSIG2 in einer unterschiedlichen Kombination aktiviert werden, indem der Betriebsmodus ausgewählt wird, kann der Grad der Schärfe der Bestimmung des Widerstandswerts am Sicherungsdurchtrennbereich eingestellt werden.
  • Wenn beispielsweise das Signal TMSIG0 aktiviert ist und die Signale TMSIG1, TMSIG2 nicht aktiviert sind, wird der Knoten N7 durch den N-Kanal MOS-Transistor 332, der einen geringen Widerstand aufweist, mit dem Masseknoten verbunden. Da der Stromfluss in der Verbindungsschaltung 330 größer als in dem normalen Betriebsmodus ist, wird der Knoten N5 auf L-Pegel reduziert. Das Sicherungsdurchtrennen kann strenger überprüft werden.
  • Wenn das Signal TMSIG2 dagegen aktiviert ist und die Signale TMSIG0, TMSIG1 inaktiv sind, wird der Knoten N7 durch den N-Kanal MOS-Transistor 336, der einen hohen Widerstand aufweist, mit dem Masseknoten verbunden. In diesem Fall ist der Stromfluss in der Verbindungsschaltung 330 kleiner als im normalen Betriebsmodus. Folglich kann das Sicherungsdurchtrennen weniger streng überprüft werden.
  • Durch Einführen einer Verbindungsschaltung zur Einstellung eines Stromwertes zwischen der Sicherungseinheit und dem Masseknoten, wie oben beschrieben, kann der Schärfegrad der Bestimmung des Sicherungsdurchtrennzustandes, wenn das Sicherungselement unvollständig durchgetrennt ist, eingestellt werden. In Abhängigkeit von einer unterschiedlichen Kombination der Signale TMSIG0 bis TMSIG2, die zu aktivieren sind, kann der Einstellungsbereich erweitert werden. Beispielsweise kann eine Mehrzahl von Signalen von den Signalen TMSIG0 bis TMSIG2 in einem bestimmten Modus aktiviert werden.
  • (Ausführungsbeispiel 4)
  • 12 zeigt ein Schaltungsdiagramm eines Aufbaus einer Blockprogrammschaltung 342, die in dem Ausführungsbeispiel 4 verwendet wird.
  • Wie in 12 gezeigt, enthält die Blockprogrammschaltung 342 eine Verbindungsschaltung 330A anstelle der Verbindungsschaltung 330 in dem Aufbau der Blockprogrammschaltung 302, wie unter Bezugnahme auf 11 beschrieben. Da der Aufbau in der Blockprogrammschaltung 342 im übrigen gleich dem der Blockprogrammschaltung 302 gemäß 11 ist, erfolgt davon keine erneute Beschreibung.
  • Die Verbindungsschaltung 330A enthält eine Spannungserzeugungsschaltung 344, die eine Zwischenspannung an einen Knoten N8 ausgibt, und einen N-Kanal MOS-Transistor 346, der zwischen den Knoten N7 und den Massenknoten geschaltet und dessen Gate mit dem Knoten N8 verbunden ist.
  • Die Spannungserzeugungsschaltung 344 weist einen N-Kanal MOS-Transistor 348 auf, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N8 geschaltet ist, und an seinem Gateanschluss das Signal TMSIG0 empfängt, einen N-Kanal MOS-Transistor 350, der zwischen den Knoten N8 und einen Knoten N9 geschaltet ist und an seinem Gateanschluss das Signal TMSIG1 empfängt, und einen N-Kanal MOS-Transistor 352, der zwischen den Knoten N9 und den Masseknoten geschaltet ist und an seinem Gateanschluss das Signal TMSIG2 empfängt.
  • Die Spannungserzeugungsschaltung 344 enthält ferner ein Widerstandselement 354, das zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N8 geschaltet ist, ein Widerstandselement 356, das zwischen den Knoten N8 und den Knoten N9 geschaltet ist, und ein Widerstandselement 358, das zwischen den Knoten N9 und dem Masseknoten geschaltet ist.
  • In der Spannungserzeugungsschaltung 344 kann das spannungsgeteilte Potential des Knotens N8 geändert werden, indem selektiv die N-Kanal MOS-Transistoren 348, 350, 352 leitend werden. Das Gatepotential des N-Kanal MOS-Transistors 346 kann folglich gesteuert werden, und die Fähigkeit den Knoten N5 auf das Massepotential zu treiben, kann eingestellt werden.
  • Es sei beispielsweise angenommen, dass die Signale TMSIG0 bis TMSIG2 in dem normalen Betriebsmodus alle auf L-Pegel deaktiviert sind. Die Zwischenspannung, die durch Widerstandselemente 354 bis 358 spannungsgeteilt ist, wird dann an das Gate des N-Kanal MOS-Transistors 346 angelegt.
  • Wenn das Signal TMSIG0 aktiviert ist und die Signale TMSIG1, TMSIG2 deaktiviert sind, wird der Knoten N8 mit dem Leistungsversorgungspotential durch den N-Kanal MOS-Transistor 348 verbunden. Da der Stromfluss in dem N-Kanal MOS-Transistor 346 groß ist, wird der Knoten N5 auf L-Pegel reduziert. Das Sicherungsdurchbrennen kann folglich schwer überprüft werden.
  • Wenn dagegen das Signal TMSIG1 aktiviert ist und die Signale TMSIG0, TMSIG2 deaktiviert sind, werden gegenüberliegende Enden des Widerstandselements 356 verbunden, und ein Spannungsteilungsverhältnis durch das Widerstandselement ändert sich, und das Zwischenpotential am Knoten N8 wird kleiner als in dem normalen Betriebsmodus. Der Stromfluss in dem N-Kanal MOS-Transistor 346 wird in diesem Fall kleiner als in dem normalen Betriebsmodus, und folglich kann ein Sicherungsdurchtrennen einfach überprüft werden.
  • In dem Aufbau gemäß dem Ausführungsbeispiel 4 kann die gleiche Wirkung erhalten werden, wie bei dem Ausführungsbeispiel 3.
  • (Ausführungsbeispiel 5)
  • Die Verbindungsschaltung zum Einstellen des Stroms, wie gemäß dem Ausführungsbeispiel 3 beschrieben, kann von einer Mehrzahl von Sicherungsschaltungseinheiten gemeinsam verwendet werden.
  • 13 zeigt ein Schaltungsdiagramm eines Aufbaus der Sicherungsschaltungseinheit in dem Ausführungsbeispiel 5.
  • Wie in 13 gezeigt, sind die Sicherungsschaltungen 402, 404, 406, 408, 410 mit einem gemeinsamen Knoten N10 verbunden. Die Verbindungsschaltung 412 ist zwischen den Knoten N10 und den Masseknoten geschaltet.
  • Die Verbindungsschaltung 412 weist N-Kanal Transistoren 432; 434, 436 auf, die parallel zwischen den Knoten N10 und den Massenknoten geschaltet sind. Der N-Kanal MOS-Transistor 432 empfängt das Signal TMSIG0 an einem Gateanschluss, und hat einen Widerstandswert R0, wenn er leitend ist. N-Kanal MOS-Transistor 434 empfängt das Signal TMSIG1 an seinem Gateanschluss und hat einen Widerstandswert R1, wenn er leitend ist. Der N-Kanal MOS-Transistor 436 empfängt das Signal TMSIG2 an seinem Gateanschluss und hat einen Widerstandswert R2, wenn er leitend ist. Eine Beziehung von R0 < R1 < R2 wird zwischen den Widerstandswerten R0 bis R2 gebildet.
  • Die Sicherungsschaltung 402 enthält einen P-Kanal MOS-Transistor 416, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und einen Knoten N11 geschaltet ist, und der das Signal RASORX an seinem Gateanschluss empfängt, einen N-Kanal MOS-Transistor 418, der zwischen den Knoten N11 und einem Knoten N12 geschaltet ist, und der an seinem Gateanschluss das Signal RASORX empfängt, ein Sicherungselement FUSESCEB, das zwischen den Knoten N12 und den Knoten N10 geschaltet ist, eine Verriegelungsschaltung 420, die das Potential am Knoten N11 verriegelt, und eine NOR-Schaltung 422, die ein Ausgangssignal der Verriegelungsschaltung 420 und das Signal ZRAD<0> empfängt, und das Signal SCL<0> ausgibt. Die Verriegelungsschaltung 420 enthält einen Inverter 424, der einen Eingang aufweist, der mit dem Knoten N11 verbunden ist, und einen P-Kanal MOS-Transistor 426, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N11 geschaltet ist und der ein Ausgangssignal von dem Inverter 424 an seinem Gateanschluss empfängt.
  • Die Sicherungsschaltung 402 enthält ein erstes Sicherungselement. Die Sicherungsschaltungen 404, 406, 408, 410 enthalten jeweils ein zweites, drittes, viertes und N-tes Sicherungselement. Die Sicherungselemente FUSECA1 bis FUSECA7 gemäß 3 oder ein völlig irrelevantes Sicherungselement können als Sicherungselemente verwendet werden, die in den Sicherungsschaltungen 404, 406, 408, 410 enthalten sind.
  • Mit einem derartigen Verfahren kann eine redundante Schaltung einen kompakten Gesamtaufbau aufweisen.
  • (Ausführungsbeispiel 6)
  • 14 zeigt ein Schaltungsdiagramm eines Aufbaus der Sicherungsschaltungseinheit, die in dem Ausführungsbeispiel 6 verwendet wird.
  • Wie in 14 gezeigt, weist die Sicherungsschaltungseinheit gemäß dem Ausführungsbeispiel 6 eine NAND-Schaltung 502 auf, die Signale RASORX und TMSIG empfängt, einen P-Kanal MOS-Transistor 500, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N12 geschaltet ist und ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 502 an seinem Gateanschluss empfängt, und Sicherungsschaltungen 504, 506, 508, 510, 512, die gemeinsam mit dem Knoten N12 verbunden sind.
  • Die Sicherungsschaltung 504 enthält einen P-Kanal MOS-Transistor 546, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und einen Knoten N13 geschaltet ist, und der an seinem Gateanschluss das Signal RASORX empfängt, ein Sicherungselement FUSESCEC, das ein Ende aufweist, welches mit dem Masseknoten verbunden ist, einen N-Kanal MOS-Transistor 548, der zwischen das andere Ende des Sicherungselements FUSESCEC und den Knoten N13 geschaltet ist, und der an seinem Gateanschluss das Signal RASORX empfängt, eine Verriegelungsschaltung 550, die das Potential des Knotens N13 verriegelt, und eine NOR-Schaltung 552, die ein Ausgangssignal der Verriegelungsschaltung 550 und das Signal ZRAD<0> empfängt und das Signal SCL<0> ausgibt. Die Verriegelungsschaltung 550 enthält einen P-Kanal MOS-Transistor 560, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und einen Knoten N13 geschaltet ist, und der ein Ausgangssignal eines Inverters 558 an seinem Gateanschluss empfängt, und einen P-Kanal MOS-Transistor 564, der zwischen den Knoten N12 und den Knoten N13 geschaltet ist, und das Ausgangssignal des Inverters 558 an seinem Gateanschluss empfängt. Das Ausgangssignal des Inverters 558 wird an die NOR-Schaltung 552 als Ausgangssignal der Verriegelungsschaltung 550 geliefert.
  • Die Sicherungselemente FUSECA1 bis FUSECA7 gemäß 3 oder ein völlig irrelevantes Sicherungselement können in den Sicherungsschaltungen 506 bis 512 verwendet werden.
  • Mit einem derartigen Aufbau kann ebenfalls die gesamte redundante Schaltung kleiner ausgebildet werden.
  • (Ausführungsbeispiel 7)
  • Der Schärfegrad bei der Bestimmung des Sicherungsdurchbrennzustandes kann eingestellt werden, indem die Dauer der Bestimmungszeitperiode variiert wird.
  • 15 zeigt ein Schaltungsdiagramm eines Aufbaus der Sicherungsschaltungseinheit, die in dem Ausführungsbeispiel 7 verwendet wird.
  • Wie in 15 gezeigt, enthält die Sicherungsschaltung gemäß dem siebenten Ausführungsbeispiel eine Pulserzeugungsschaltung 600, die eine Pulsbreite eines Signals WINDOW variiert, das eine vorbestimmte Zeitperiode anzeigt, in Antwort auf Steuersignale TM1 bis TM3, und eine Sicherungsschaltung 602, die den Sicherungselementdurchbrennzustand während einer Zeitperiode bestimmt, die durch das Signal WINDOW bestimmt ist.
  • Die Sicherungsschaltung 602 enthält einen P-Kanal MOS-Transistor 602, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und einen Knoten N14 geschaltet ist, und der das Signal RASORX an seinem Gateanschluss empfängt, ein Sicherungselement FUSESCED, das ein Ende aufweist, das mit dem Masseknoten verbunden ist, und einen N-Kanal MOS-Transistor 608, der zwischen das andere Ende des Sicherungselements FUSESCED und den Knoten N14 geschaltet ist und an seinem Gateanschluss das Signal RASORX empfängt.
  • Die Sicherungsschaltung 602 enthält ferner eine Verbindungsschaltung 609, die den Knoten N14 mit einem Knoten N15 in Antwort auf das Signal WINDOW verbindet, eine Verriegelungsschaltung 610, die das Potential des Knotens N15 verriegelt, und eine NOR-Schaltung 612, die ein Ausgangssignal der Verriegelungsschaltung 610 und das Signal ZRAD<0> empfängt, und das Signal SCL<0> ausgibt.
  • Die Verbindungsschaltung 609 enthält einen Inverter 624, der das Signal WINDOW empfängt und invertiert, einen P-Kanal MOS-Transistor 628, der zwischen den Knoten N14 und den Knoten N15 geschaltet ist, und ein Ausgangssignal des Inverters 624 an seinem Gateanschluss empfängt, und einen N-Kanal MOS-Transistor 626, der zwischen den Knoten N14 und den Knoten N15 geschaltet ist und an seinem Gateanschluss das Signal WINDOW empfängt.
  • Die Verriegelungsschaltung 610 enthält einen Inverter 630, der einen Eingang aufweist, der mit dem Knoten N15 verbunden ist, und einen P-Kanal MOS-Transistor 632, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und den Knoten N15 geschaltet ist, und der ein Ausgangssignal des Inverters 630 an seinem Gateanschluss empfängt.
  • Die Pulserzeugungsschaltung 600 enthält eine Inversionsverzögerungsschaltung 614, die in Antwort auf das Signal TM1 aktiviert wird, und die ein Signal WINDOW_ORG in einer vorgeschriebenen kurzen Verzögerungszeitperiode invertiert und verzögert, um ein Signal auszugeben, eine Inversionsverzögerungsschaltung 616, die in Antwort auf das Signal TM2 aktiviert wird, und die das Signal WINDOW_ORG invertiert und verzögert, in einer Inversionszeitperiode, mit einer Zwischenzeitdauer, die länger als die der Inversionsverzögerungsschaltung 614 ist, um das Signal auszugeben, und eine Inversionsverzögerungsschaltung 618, die in Antwort auf das Signal TM3 aktiviert wird, und die das Signal WINDOW_ORG in einer Verzögerungszeitperiode invertiert und verzögert, mit einer Dauer, die noch länger als die der Inversionsverzögerungsschaltung 616 ist, um das Signal auszugeben.
  • Die Pulserzeugungsschaltung 600 enthält ferner eine NAND-Schaltung 620, einen Inverter 622, der ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 620 empfängt und invertiert und das Signal WINDOW ausgibt. Das Signal WINDOW_ORG wird an einen Eingang der NAND-Schaltung 620 geliefert. Der andere Eingang der NAND-Schaltung 620 ist mit einem Knoten N19 verbunden, mit dem die Ausgänge von den Inversionsverzögerungsschaltungen 614, 616, 618 verbunden sind. Die Eingänge der Verzögerungsschaltungen 614, 616, 618 sind alle mit einem Knoten N16 verbunden, an den das Signal WINDOW_ORG geliefert wird.
  • Die Inversionsverzögerungsschaltung 614 enthält einen Inverter 634, der das Steuersignal TM1 empfängt und invertiert, einen P-Kanal MOS-Transistor 636, der zwischen den Knoten N16 und einen Knoten N17 geschaltet ist und ein Ausgangssignal des Inverters 634 an seinem Gateanschluss empfängt, einen N-Kanal MOS-Transistor 638, der zwischen den Knoten N16 und den Knoten N17 geschaltet ist und das Steuersignal TM1 an seinem Gateanschluss empfängt, und einen N-Kanal MOS-Transistor 640, der zwischen den Knoten N17 und dem Masseknoten geschaltet ist und das Ausgangssignal des Inverters 634 an seinem Gateanschluss empfängt.
  • Die Inversionsverzögerungsschaltung 614 enthält ferner eine Inverterkette 642, die eine ungerade Anzahl an Stufen aufweist, die einen Eingang der ersten Stufe aufweist, der mit dem Knoten N17 verbunden ist, und einen Ausgang der letzten Stufe, der mit einem Knoten N18 verbunden ist, einen P-Kanal MOS-Transistor 644, der zwischen den Knoten N18 und den Knoten N19 geschaltet ist und das Ausgangssignal des Inverters 634 an seinem Gateanschluss empfängt, und einen N-Kanal MOS-Transistor 646, der zwischen den Knoten N18 und den Knoten N19 geschaltet ist und das Steuersignal TM1 an seinem Gateanschluss empfängt.
  • In den Inversionsverzögerungsschaltungen 616, 618 werden jeweils die Steuersignale TM2, TM3 anstelle des Steuersignals TM1 geliefert. Darüber hinaus ist die Länge der Inverterkette 642 derart eingestellt, dass die Länge der Inversionsverzögerungsschaltungen in der Reihenfolge der Inversionsverzögerungsschaltungen 614, 616, 618 erhöht wird. Da der Aufbau der Inversionsverzögerungsschaltungen 616, 618 im übrigen gleich dem der Inversionsverzögerungsschaltung 614 ist, wird eine Beschreibung davon nicht wiederholt.
  • 16 zeigt ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb der in 15 gezeigten Schaltung verdeutlicht.
  • Wie in den 15 und 16 gezeigt, wenn der Befehl ACT zum Zeitpunkt t0 eingegeben wird, steigt entsprechend das Signal WINDOW_ORG an. In Abhängigkeit von einer Verzögerungszeit seit dem Anstieg unterscheidet sich die Pulsbreite des Signals WINDOW, wenn die Steuersignale TM1, TM2, TM3 aktiviert sind, wie in der Figur gezeigt. Eine Zeitperiode, während der der Knoten N14 mit dem Knoten N15 verbunden ist, kann folglich variiert werden.
  • Selbst wenn eine Vorrichtung vorhanden ist, die unterschiedliche Zeitgebungen für eine Potentialänderung des Knotens N14 aufweist, beispielsweise FALL A, FALL B, in Abhängigkeit von dem Sicherungsdurchbrennzustand, kann der Defekt identifiziert werden, indem die Fensterpulsbreite mittels der Steuersignale TM1 bis TM3 gesteuert wird. Umgekehrt kann ein nicht defekter Zustand mittels des Steuersignal TM1 identifiziert werden.
  • 17 zeigt. ein Schaltungsdiagramm, das eine Abweichung des in 15 gezeigten Aufbaus zeigt.
  • In 17 ist eine Pulserzeugungsschaltung 600A vorhanden, anstelle der Pulserzeugungsschaltung 600 in dem Aufbau gemäß 15. Die Pulserzeugungsschaltung 600A enthält eine NAND-Schaltung 652, die das Signal WINDOW_ORG und das Signal RAS empfängt, eine P-Kanal MOS-Transistor 654, der zwischen den Leistungsversorgungsknoten und einen Knoten N20 geschaltet ist und ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 652 an seinem Gateanschluss empfängt, eine NAND-Schaltung 656, die das Signal RASORX und ein Signal EXTWIN, das von einem externen Anschluss eingegeben worden ist, empfängt, einen Inverter 658, der ein Ausgangssignal der NAND-Schaltung 656 empfängt, und einen N-Kanal MOS-Transistor 660, der zwischen den Knoten N20 und den Masseknoten geschaltet ist, und der ein Ausgangssignal des Inverters 658 empfängt.
  • Die Pulserzeugungsschaltung 600A enthält ferner einen Inverter 661, der einen Eingang aufweist, der mit dem Knoten N20 verbunden ist, einen Inverter 662, der ein Ausgangssignal des Inverters 661 invertiert und selbiges an den Knoten N20 ausgibt, und einen Inverter 663, der das Ausgangssignal des Inverters 661 invertiert und das Signal WINDOW ausgibt. Die Inverter 661, 662 bilden eine Verriegelungsschaltung, die das Potential des Knoten N20 hält.
  • 18 zeigt ein Betriebswellenformdiagramm, das einen Betrieb der Schaltung, wie in 17 gezeigt, verdeutlicht.
  • Wie in den 17 und 18 gezeigt, wird ein Befehl ACT zu einem Zeitpunkt t0 eingegeben, und entsprechend ein Signal WINDOW_ORG in gepulster Weise aktiviert. Das Signal EXTWIN, das von dem externen Anschluss geliefert wird, ist auf L-Pegel gesetzt, wenn der Befehl ACT geliefert wird. In Antwort auf das Ansteigen des Signals WINDOW_ORG wird das Signal WINDOW von dem L-Pegel auf H-Pegel aktiviert.
  • Wenn das Signal EXTWIN von L-Pegel auf H-Pegel während t4–t5 ansteigt, fällt entsprechend das Signal WINDOW von H-Pegel auf L-Pegel. Durch Ändern der Zeitgebung des Anstieg des Signals EXTWIN kann eine Zeitperiode, während der das Signal WINDOW aktiv ist, gesteuert werden.
  • Wie oben beschrieben kann mit dem Aufbau gemäß dem Ausführungsbeispiel 7 ebenfalls der Schärfegrad der Bestimmung des Sicherungsdurchtrennzustandes eingestellt werden, in Bezug auf einen Fall, bei dem das Sicherungselement unvollständig durchtrennt ist.
  • Obwohl die Erfindung im Vorangegangenen im einzelnen beschrieben und dargestellt worden ist, ist es selbstverständlich, dass dies nur beispielhaft geschehen ist, und der Schutzbereich der Erfindung dadurch nicht eingeschränkt wird.

Claims (10)

  1. Halbleitervorrichtung mit einer ersten Verbindungsschaltung (46, 546), die einen internen Knoten (N1, N1A, N13) mit einem ersten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem ersten Leistungsversorgungspotential versehen ist, in Antwort auf ein erstes Steuersignal verbindet; einem ersten Sicherungselement (FUSESCE, FUSESCEC), das auf einem Pfad zwischen einem zweiten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem zweiten Leistungsversorgungspotential versehen ist, welches von dem ersten Leistungsversorgungspotential verschieden ist, und dem ersten internen Knoten gebildet ist, und einen Leitendzustand in einer nichtflüchtigen Weise speichert; und einer ersten Verriegelungsschaltung (50, 50A, 550), die einen Logikwert entsprechend einem Potential des ersten internen Knotens hält; wobei die erste Verriegelungsschaltung aufweist: eine erste Inverterschaltung (58, 204, 208, 558), die einen Eingang aufweist, der mit dem ersten internen Knoten verbunden ist, und eine erste Treiberschaltung (56, 206, 210, 560, 564), die den ersten internen Knoten auf das erste Leistungsversorgungspotential in Übereinstimmung mit einem Ausgangssignal der ersten Inverterschaltung steuert, und wobei die erste Treiberschaltung eine Treiberfähigkeit aufweist, die in Antwort auf ein zweites Steuersignal variabel ist.
  2. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, bei der die erste Treiberschaltung (56) aufweist: einen ersten Feldeffekttransistor (60), der den ersten internen Knoten mit dem ersten Leistungsversorgungspotential gemäß dem Ausgangssignal der ersten Inverterschaltung koppelt, und eine zusätzliche Verbindungsschaltung (62, 64), die den ersten internen Knoten mit dem ersten Leistungsversorgungspotential koppelt, wenn das zweite Steuersignal aktiviert und der erste Feldeffekttransistor leitend wird.
  3. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, bei der die erste Treiberschaltung aufweist: einen ersten Feldeffekttransistor (210), der in Antwort auf das zweite Steuersignal ausgewählt ist, und den ersten internen Knoten mit dem ersten Leistungsversorgungspotential gemäß einem Ausgangssignal der ersten Inverterschaltung koppelt, und einen zweiten Feldeffekttransistor (206), der in einer zu dem ersten Feldeffekttransistor komplementären Weise ausgewählt ist, in Antwort auf das zweite Steuersignal, und der den ersten internen Knoten mit dem ersten Leistungsversorgungspotential gemäß dem Ausgangssignal der ersten Inverterschaltung koppelt.
  4. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, ferner mit einer zweiten Verbindungsschaltung, die temporär einen zweiten internen Knoten mit dem ersten Leistungsversorgungsknoten verbindet; einem zweiten Sicherungselement, das auf einem Pfad zwischen dem zweiten Leistungsversorgungsknoten und dem zweiten internen Knoten gebildet ist und den Leitendzustand in nichtflüchtiger Weise speichert; einer zweiten Verriegelungsschaltung, die einen Logikwert hält, entsprechend einem Potential des zweiten internen Knotens, wobei die zweite Verriegelungsschaltung eine zweite Inverterschaltung aufweist, die einen Eingang aufweist, der mit dem zweiten internen Knoten verbunden ist, und die zweite Treiberschaltung den zweiten internen Knoten auf das erste Leistungsversorgungspotential gemäß einem Ausgangssignal der zweiten Inverterschaltung steuert, wobei die zweite Treiberschaltung eine Treibfähigkeit aufweist, die gemäß dem zweiten Steuersignal variabel ist; und einer Stromlieferschaltung (500), die zusätzlich einen Treiberstrom an die erste und zweite Treiberschaltung in Antwort auf das zweite Steuersignal liefert.
  5. Halbleitervorrichtung mit einer ersten Verbindungsschaltung (316, 416), die einen ersten internen Knoten (N5, N11) mit einem ersten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem ersten Leistungsversorgungspotential versehen ist, in Antwort auf ein erstes Steuersignal verbindet; einer ersten Verriegelungsschaltung (320, 420), die einen Logikwert entsprechend einem Potential des ersten internen Knotens hält; einem ersten Sicherungselement (FUSESCEA, FUSESCEB), das auf einem Pfad zwischen einem zweiten Leistungsversorgungsknoten, der mit einem zweiten Leistungsversorgungspotential versehen ist, welches von dem ersten Leistungsversorgungspotential verschieden ist, und dem ersten internen Knoten gebildet ist, und einen Leitendzustand in einer nichtflüchtigen Weise speichert; und einer zweiten Verbindungsschaltung (330, 330A, 412), die in Reihe mit dem ersten Sicherungselement zwischen dem ersten internen Knoten und dem zweiten Leistungsversorgungsknoten geschaltet ist, und einen Widerstandswert aufweist, der gemäß einem zweiten Steuersignal variabel ist.
  6. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 5, bei der die zweite Verbindungsschaltung eine Mehrzahl von Feldeffekttransistoren (332, 334, 336) aufweist, die parallel miteinander verbunden sind, und ein Gate von mindestens einem der Mehrzahl von Feldeffekttransistoren gesteuert ist, um ein Potential anzunehmen, das von dem eines Gates eines anderen der Mehrzahl der Feldeffekttransistoren verschieden ist, in Antwort auf das zweite Steuersignal.
  7. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, bei der die zweite Verbindungsschaltung eine Spannungserzeugungsschaltung (344) aufweist, die eine Ausgangsspannung aufweist, die gemäß dem zweiten Steuersignal variabel ist, und einen Feldeffekttransistor (346), der ein Ausgangssignal der Spannungserzeugungsschaltung an einem Gate empfängt, und in Reihe mit dem ersten Sicherungselement zwischen dem ersten internen Knoten und dem zweiten Leistungsversorgungsknoten gebildet ist.
  8. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 7, bei der die zweite Verbindungsschaltung (412) zwischen einen zweiten internen Knoten und den zweiten Leistungsversorgungsknoten geschaltet ist, und die Halbleitervorrichtung ferner eine dritte Verbindungsschaltung aufweist, die vorübergehend einen dritten internen Knoten mit dem ersten Leistungsversorgungsknoten verbindet, eine zweite Verriegelungsschaltung, die einen Logikwert entsprechend einem Potential des dritten internen Knotens hält, und ein zweites Sicherungselement, das auf einem Pfad zwischen dem zweiten internen Knoten und dem dritten internen Knoten gebildet ist und den Leitend-Zustand in einer nichtflüchtigen Weise speichert.
  9. Halbleitervorrichtung, mit einer Verriegelungsschaltung (610), die einen Logikwert entsprechend einem Potential eines Eingangsknotens (N14) hält, der anfänglich auf ein erstes Leistungsversorgungspotential gesetzt ist; einem Sicherungselement (FUSESCED), das auf einem Pfad zwischen einem Leistungsversorgungsknoten, der mit einem zweiten Leistungsversorgungspotential versehen ist, welches von dem ersten Leistungsversorgungspotential verschieden ist, und einem internen Knoten (N15) gebildet ist, und einen Leitendzustand in einer nichtflüchtigen Weise speichert; einer Verbindungsschaltung (609), die den internen Knoten mit dem Eingangsknoten während einer Zeitperiode verbindet, die durch einen Fensterimpuls (WINDOW) bestimmt ist; und einer Pulserzeugungsschaltung, die eine Pulsbreite des Fensterimpulses gemäß einem Steuersignal variiert.
  10. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 9, ferner mit einem Anschluss, in den das Steuersignal (EXTWIN) eingegeben wird.
DE10341767A 2003-03-03 2003-09-10 Halbleitervorrichtung, bei der eine nicht korrekte Bestimmung des Durchschmelzzustandes einer Sicherung unwahrscheinlich ist Withdrawn DE10341767A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003-055262 2003-03-03
JP2003055262A JP2004265523A (ja) 2003-03-03 2003-03-03 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10341767A1 true DE10341767A1 (de) 2004-09-23

Family

ID=32905882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10341767A Withdrawn DE10341767A1 (de) 2003-03-03 2003-09-10 Halbleitervorrichtung, bei der eine nicht korrekte Bestimmung des Durchschmelzzustandes einer Sicherung unwahrscheinlich ist

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6949986B2 (de)
JP (1) JP2004265523A (de)
KR (1) KR100518394B1 (de)
CN (1) CN100380528C (de)
DE (1) DE10341767A1 (de)
TW (1) TWI234165B (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4545416B2 (ja) * 2003-11-04 2010-09-15 パナソニック株式会社 Prom回路
US7190629B2 (en) * 2005-02-08 2007-03-13 Micron Technology, Inc. Circuit and method for reading an antifuse
KR100739927B1 (ko) * 2005-06-29 2007-07-16 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치의 리페어 입출력 퓨즈 회로
KR100660899B1 (ko) * 2005-12-15 2006-12-26 삼성전자주식회사 누설 전류 패스를 제거할 수 있는 퓨즈 회로
JP4871031B2 (ja) 2006-06-06 2012-02-08 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびヒューズの判定方法
KR101110794B1 (ko) * 2009-05-13 2012-02-24 주식회사 하이닉스반도체 퓨즈 회로 및 리던던시 회로
KR101046726B1 (ko) * 2009-05-19 2011-07-05 주식회사 하이닉스반도체 반도체 장치의 퓨즈회로 및 퓨즈상태 모니터링 방법
JP2012109403A (ja) * 2010-11-17 2012-06-07 Elpida Memory Inc 半導体装置及びその制御方法
KR102031147B1 (ko) * 2013-04-04 2019-10-14 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치, 메모리 장치 및 메모리 시스템의 동작방법

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6015946A (ja) * 1983-07-08 1985-01-26 Hitachi Ltd 集積回路
JP2595271B2 (ja) * 1987-12-21 1997-04-02 株式会社日立製作所 プログラム回路
JPH0364062A (ja) * 1989-08-01 1991-03-19 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
JPH04290458A (ja) * 1991-03-19 1992-10-15 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH07226439A (ja) * 1994-02-09 1995-08-22 Hitachi Ltd 半導体集積回路
JP2727978B2 (ja) * 1994-08-24 1998-03-18 日本電気株式会社 ビットスライスレイアウトセル
US5566107A (en) * 1995-05-05 1996-10-15 Micron Technology, Inc. Programmable circuit for enabling an associated circuit
JPH09266282A (ja) * 1996-03-29 1997-10-07 Fujitsu Ltd ゲートアレイ装置
KR100220555B1 (ko) * 1996-10-30 1999-09-15 윤종용 디코딩 어드레스 페일을 방지하기 위한 리던던시 디코딩 회로
JP2859234B2 (ja) * 1996-12-26 1999-02-17 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 半導体集積回路装置
JPH11185495A (ja) * 1997-12-22 1999-07-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US6144591A (en) * 1997-12-30 2000-11-07 Mosaid Technologies Incorporated Redundancy selection circuit for semiconductor memories
US6084803A (en) * 1998-10-23 2000-07-04 Mosel Vitelic, Inc. Initialization of non-volatile programmable latches in circuits in which an initialization operation is performed
JP3940513B2 (ja) * 1999-01-11 2007-07-04 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP3642555B2 (ja) * 1999-06-29 2005-04-27 株式会社東芝 半導体装置及びそのテスト方法
JP2001210093A (ja) * 2000-01-25 2001-08-03 Mitsubishi Electric Corp リペア信号発生回路
DE10005618A1 (de) * 2000-02-09 2001-08-30 Infineon Technologies Ag Integrierter Halbleiterspeicher mit redundanter Einheit von Speicherzellen
JP3636965B2 (ja) * 2000-05-10 2005-04-06 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置
JP2002074979A (ja) * 2000-08-31 2002-03-15 Mitsubishi Electric Corp プログラム回路およびそれを用いた半導体記憶装置
JP2002300023A (ja) * 2001-04-02 2002-10-11 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
JP2003263900A (ja) * 2002-03-12 2003-09-19 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
KR101110794B1 (ko) * 2009-05-13 2012-02-24 주식회사 하이닉스반도체 퓨즈 회로 및 리던던시 회로

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040078875A (ko) 2004-09-13
KR100518394B1 (ko) 2005-09-29
US6949986B2 (en) 2005-09-27
JP2004265523A (ja) 2004-09-24
US20040174204A1 (en) 2004-09-09
TW200418040A (en) 2004-09-16
CN100380528C (zh) 2008-04-09
TWI234165B (en) 2005-06-11
CN1527325A (zh) 2004-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69628196T2 (de) Einrichtung und verfahren zum einschalten einer funktion in einem vielspeichermodul
DE102004025977B4 (de) Flash-Speicherbaustein
DE19753423B4 (de) Automatische Leistungsabsenkschaltung für Halbleiterspeichervorrichtung
DE19513789C2 (de) Redundanter Blockdekoder für eine Halbleiterspeichervorrichtung
DE19543834B4 (de) Defektzellen-Reparaturschaltkreis und Defektzellen-Reparaturverfahren für eine Halbleiterspeichervorrichtung
DE19612407B4 (de) Halbleiterspeichereinrichtung
DE4132116C2 (de)
DE10043397B4 (de) Flash-Speicherbauelement mit Programmierungszustandsfeststellungsschaltung und das Verfahren dafür
DE102008002237B4 (de) Verfahren zum Prüfen einer nichtflüchtigen Speichervorrichtung
DE19520979B4 (de) Spaltenredundanzvorrichtung für einen Halbleiterspeicher
DE4226070C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung und Verfahren zum Bestimmen der Benutzung eines Ersatzspeicherzellenfeldes
DE102005026636A1 (de) Nichtflüchtiges Speicherbauelement
DE4341692A1 (de) Halbleiter-Speichervorrichtung mit verbesserter Redundanz Effizienz
DE69907997T2 (de) Halbleiterspeicherschaltung mit Redundanz
DE3534356C2 (de) Halbleiter-Speichervorrichtung
DE602004001623T2 (de) TCAM Speicher und Betriebsverfahren
DE102005063049A1 (de) NAND-Flashspeicherbauelement und Programmierverfahren
EP0327861B1 (de) Redundanzdekoder eines integrierten Halbleiterspeichers
DE102004020875B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Maskieren bekannter Ausfälle während Speichertestauslesungen
DE3441473A1 (de) Halbleiterspeicher
DE10341767A1 (de) Halbleitervorrichtung, bei der eine nicht korrekte Bestimmung des Durchschmelzzustandes einer Sicherung unwahrscheinlich ist
DE10300715B4 (de) Halbleiterspeicherbauelement mit Signalverzögerung
DE10126878B4 (de) Halbleitervorrichtung
DE10063688A1 (de) Schaltungsanordnung zur Ansteuerung einer programmierbaren Verbindung
DE10248065B4 (de) Inhaltsadressierbares Speicherbauelement

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8130 Withdrawal