DE1031130B - Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckformen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von ReliefdruckformenInfo
- Publication number
- DE1031130B DE1031130B DEP8215A DEP0008215A DE1031130B DE 1031130 B DE1031130 B DE 1031130B DE P8215 A DEP8215 A DE P8215A DE P0008215 A DEP0008215 A DE P0008215A DE 1031130 B DE1031130 B DE 1031130B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- parts
- composition
- photopolymerizable
- relief
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/156—Precursor compound
- Y10S430/16—Blocked developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
DEUTSCHES
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckformen mittels einer durch eine Kopiervorlage
gesteuerten Additionsphotopolymerisation einer ein- oder mehrfach äthylenisch ungesättigten, auf einem
bleibenden Träger befindlichen Zusammensetzung sowie das zur Herstellung solcher Druckformen verwendete
lichtempfindliche Material.
Es ist dem Fachmann bekannt (s. USA.-Patentschrift 2 475 980), mit sehr dünnen Schichten von photosensibilisierten
Zusammensetzungen überzogene Metalle Licht auszusetzen, und zwar durch eine ein Bild tragende
transparente Schicht. Dabei erhält man in der photosensibilisierten
Schicht eine Kopie des auf der transparenten Schicht befindlichen Bildes. Es ist ebenfalls bekannt,
die nicht dem Licht ausgesetzten Flächen einer solchen photosensibilisierten Schicht selektiv wegzuwaschen, wobei
das gewünschte Bild auf der metallischen Grundschicht erscheint. Indessen sind die so erhaltenen Bilder
sehr dünn, und die Reliefs sind sehr flach. Diese Reliefbilder können nicht unmittelbar als Druckplatten Verwendung
finden. Sie wurden bisher lediglich als Säureschutz bei normalen Metallätzverfahren verwendet, die
die Druckfarbe aufnehmenden Flächen für lithographische
Platten liefern.
Die Verwendung von Reliefbildern als Druckplatten ist dem Fachmann bekannt. Es wurde bereits vorgeschlagen,
Reliefdruckformen so herzustellen (deutsche Patentschrift 807 894), daß man eine Schicht aus einer
flüssigen, polymerisierbaren, äthylenischen Zusammensetzung Wärme- und/oder Lichtstrahlen aussetzt, welche
durch eine das zu reproduzierende Bild tragende Kopiervorlage hindurchgehen, so daß die äthylenische Zusammensetzung
unter Bildung einer starren Schicht oder Platte polymerisiert. Die erhaltene Platte wird dann zur
Entwicklung des latenten Reliefbildes einer Wärme- oder Lösungsmittelbehandlung unterworfen.
Zur Erzielung einer solchen starren, ein latentes Reliefbild tragenden Schicht darf die Polymerisation nicht nur
in den direkt bestrahlten Flächen, sondern muß auch, obwohl in schwächerem Grad, in den unbestrahlten
Flächen erfolgen. In diesen Flächen kann die Polymerisation durch gestreutes oder reflektiertes Licht, durch
Wärmestrahlen (für welche in der Regel Kopiervorlagen nicht undurchlässig sind) oder durch die bei der Photopolymerisation
benachbarter Flächen entwickelte Wärme in Gang gesetzt werden. Bei diesem Verfahren werden
daher auch Mischungen von Wärme- und Photoinitiatoren zweckmäßig verwendet.
Obwohl Reliefs für dekorative Zwecke und möglicherweise auch die flachen Intagliobilder für Rastertiefdruckverfahren
nach solchen Verfahren hergestellt werden können, so bestehen doch praktische Nachteile, welche
die beschriebene Methode für die Herstellung scharf definierter Reliefbilder mit gleichmäßiger Oberfläche, wie
Verfahren zur Herstellung
von Reliefdruckformen
von Reliefdruckformen
Anmelder:
E. I. du Pont de Nemours and Company,
Wilmington, Del. (V. St. A.)
Wilmington, Del. (V. St. A.)
Vertreter: Dipl.-Ing. E. Prinz, Patentanwalt,
München-Pasing, Bodenseestr. 3 a
München-Pasing, Bodenseestr. 3 a
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 20. August 1951
V. St. v. Amerika vom 20. August 1951
Louis Plambeck jun., Wilmington, Del. (V. St. A.),
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
sie als Druckplatten für den Buchdruck benötigt werden, ungeeignet macht. So sind die angegebenen Belichtungszeiten
sehr lang, nämlich z. B. 4 Stunden. Die Entwicklung des latenten Bildes durch eine Wärmebehandlung,
wobei das Relief durch Schrumpfung erhalten wird, erfordert, daß die polymerisierbare Schicht sehr dick ist.
Eine Entwicklung durch Lösungsmittelbehandlung des starren Gebildes ist zeitraubend und erfordert eine
äußerst sorgfältige Handhabung des weichen, gequollenen Reliefs, welches dann unter genau geregelten Bedingungen
getrocknet werden muß, um eine Beschädigung des polymeren Gels während der Abgabe des Lösungsmittels zu
vermeiden.
Die gemäß den in der deutschen Patentschrift 807 894 beschriebenen Methoden an polymerisierten Flächen
befinden sich auf der Unterseite der starren polymerisierten Schicht, da die Photopolymerisation an der der
Lichtquelle zunächst befindlichen Oberfläche beginnt. Bei den Entwicklungsmethoden entsprechend der genannten
deutschen Patentschrift erfolgt daher eine Schrumpfung und ein teilweises Zusammenfallen der
Schicht bei der Erzeugung des Reliefbildes, so daß dieses ungleichmäßige Höhen aufweist.
Gemäß der Erfindung werden die vorstehenden Nachteile vermieden, und man erhält äußerst scharfe Reliefbilder
mit vollständig ebenen Oberflächen, wenn unterhalb der photopolymerisierbaren Schicht z. B. auf oder in
dem Träger oder in einer unmittelbar auf dem Träger befindlichen Zwischenschicht aktinisches Licht absorbierende
Stoffe zugegen sind und die Photopolymerisation
809 523/289
3 4
unter Verwendung von Photoinitiatoren in der Schicht Harze oder Polymerisate sind unter anderem diejenigen,
durchgeführt wird, die bei Temperaturen unterhalb 850C welche als Trägerstoffe bei der Herstellung von Anstrichnicht
thermisch aktiv sind, wie Benzoin, α-Methylbenzoin, farben und anderen Schutzüberzügen verwendet werden.
Benzoinmethyläther, ct-Allylbenzoin, Diacetyl, 1,1 '-Azodi- Geeignet sind solche, welche durch eine geregelte Vercyclohexancarbonitril,
und derart kurz exponiert wird, 5 zweigung mittels Hitze allein oder in Anwesenheit eines
daß eine 0,075 bis 6,25 mm dicke Schicht nur an den Katalysators oder mit einem Katalysator allein unlöslich
belichteten Stellen, jedoch nicht an den unbelichteten gemacht oder ausgehärtet werden können. Die aus den
Stellen vollständig polymerisiert wird, worauf die unbe- nachstehend beschriebenen, in der photopolymerisierlichtete
Substanz vollständig entfernt wird. Da die ver- baren Schicht verwendeten Monomeren erhaltenen Harze
wendeten Initiatoren innerhalb des während der Beiich- io oder Polymerisate können in der verankernden Schicht
tung sich einstellenden Temperaturbereichs nicht ther- verwendet werden und besitzen den Vorteil einer guten
misch aktiv sind, erfolgt außerhalb der belichteten Haftfestigkeit. Weitere geeignete Polymerisate sind unter
Flächen keine durch Wärme angeregte Polymerisation anderem die hydrophoben Poly vinylacetat. Wie sich aus
und somit keine Störung der Bildschärfe. Durch Beiich- dem vorstehend Gesagten ergibt, sollen die Polymerisate
tung bei erhöhten Temperaturen von z.B. 60 bis 7O0C 15 sowohl mit den lichtabsorbierenden Stoffen, welche an der
kann auch die Polymerisation beschleunigt werden, ohne Grundplatte oder dem Träger haften, als auch mit der
daß dabei Einzelheiten des Bildes verlorengehen. photosensibilisierten Monomeren-Initiatorschicht nicht
Verwendet man eine an dem Träger festhaftende, reagieren. Die lichtabsorbierende, verankernde Zwischengegebenenfalls
die aktinisches Licht absorbierende Stoffe schicht soll weniger als 35 °/0 des einfallenden Lichts zur
bildende Unterlage- oder Zwischenschicht für die photo- 20 Erzielung scharfer, klarer Reliefbilder, wie sie für einen
polymerisierbare Schicht, so ermöglicht das erfindungsge- guten Druck erforderlich sind, reflektieren,
mäße Verfahren die Verwendung von polymerisierbaren Da die Mehrzahl der Photoinitiatoren eine maximale
Schichten, welche nur so dick siid wie die gewünschte Empfindlichkeit im Ultraviolettbereich (UV) zeigt, soll
Reliefhöhe innerhalb des Bereichs von 0,075 bis 6,25 mm, die Lichtquelle eine wesentliche Menge Ultraviolettwodurch
die Materialkosten und die erforderlichen Beiich- 25 strahlen liefern. Solche Lichtquellen sind unter anderem
tungszeiten wesentlich erniedrigt werden. Kohlebogenlampen, Quecksilberdampflampen, Fluo-
Der Träger besteht vorzugsweise aus Metall. Die Dicke reszenzlampen mit speziell UV aussendenden Leuchtder
photopolymerisierbaren Schicht hängt von dem zu massen, Argonglühlampen und photographische Flutreproduzierenden
Gegenstand und insbesondere von der lichtlampen. Unter diesen sind die Quecksilberdampf-Größe
der nicht druckenden Flächen ab. So wird z. B. bei 30 lampen, insbesondere von der Art der Jupiterlampen, und
Verwendung eines Rasternegativs als Kopiervorlage die die Fluoreszenzlampen mit Spezialleuchtmassen, wie z. B.
Schicht 0,075 bis 0,75 mm dick gehalten und besitzt bei Fluoreszenz-Jupiterlampen, am geeignetsten. Diese
Verwendung eines Liniennegativs als Kopiervorlage eine Lampen können leicht in dichten Reihen angeordnet
Dicke von 0,25 bis 1,50 mm. werden, um so die zur Erzielung eines kegelförmigen
Zur Erzielung genügend fester Reliefbilder bei den 35 Reliefbildes mit guter mechanischer Festigkeit benötigten
erforderlichen kurzen Belichtungszeiten wird eine breite, breiten Lichtquellen zu liefern. Die Jupiter-Quecksilberziemlich nahe an der Kopiervorlage befindliche Licht- dampflampen werden für gewöhnlich in einem Abstand
quelle verwendet. Die Kopiervorlage wird während der von etwa 17,5 bis 25 cm von der photosensibilisierten
Belichtung mit der photopolymerisierbaren Schicht in Schicht verwendet. Andererseits kann bei einer gleich-Berührung
gehalten. Unter diesen Bedingungen besitzen 40 mäßiger ausgebreiteten Lichtquelle mit geringer Eigendie
polymeren Teile des so erhaltenen photopolymeri- brillanz, wie z. B. einer Reihe von nahe beieinander
sierten Reliefbildes einen keilförmigen Querschnitt, wobei befindlichen Fluoreszenzlampen mit besonderen Leuchtder
breitere Teil des Keils auf den Träger zu gerichtet ist. massen, die Platte in einem Abstand von etwa 2,5 cm von
Reliefbilder mit einem solchen Querschnitt sind wegen den Lampen belichtet werden.
ihrer größeren Festigkeit für ■ Druckplatten besonders 45 Die bevorzugten Monomeren für die photopolymerisiergeeignet.
Tatsächlich wird dieser Querschnitt für gewöhn- bare Schicht sind die äthylenisch einfach ungesättigten
lieh bei den üblichen, aus Metall gegossenen Typen ver- Monomeren, in denen die einzige Äthylendoppelbindung
wendet. Der aktinisches Licht absorbierende Stoff wird endständig ist, d. h. diejenigen Monomeren mit der
zweckmäßig gleichmäßig durch die ganze verankernde , ,,-,·■, ~TT ^ ' ^ ^-
Zwischenschicht verteilt. ^charakteristischen CH2 = C -Gruppe. Geeignete Ver-
Bei Verwendung eines aktinisches Licht absorbierenden bindungen werden durch die folgende Formel dargestellt:
Stoffes wird dieser zweckmäßig gleichmäßig durch die
ganze verankernde Zwischenschicht verteilt. Gegebenen- .
falls kann diese in zwei Stufen hergestellt werden, indem CH2 = C
man zuerst das lichtabsorbierende Material direkt auf einen 55 γ
Metallträger aufbringt, z. B. durch Anfärben einer positiv
geladenen Aluminiumplatte und anschließend den Träger wobei R Wasserstoff, ein Alkyl, ζ. B. ein Methylradikal,
und die lichtabsorbierende Zusammensetzung mit dem oder ein Halogen bzw. Chlor, Brom oder Fluor und X ein
klaren, verankernden Harz überzieht, das dann ausge- Kohlenwasserstoffradikal, z. B. Methyl-, Äthyl- oder
härtet, d. h. unlöslich gemacht wird. Die Gesamtresultate 60 Phenyl-, oder eine negative Gruppe, z. B. ein Halogen wie
sind dabei in der Regel jedoch weniger zufriedenstellend, Chlorid, Bromid oder Fluorid, —CN, —COOH,
und zwar deshalb, weil das verankernde Harz im allge- -CONH2, — CONHR', -CONRi2,
meinen an der lichtabsorbierenden Zusammensetzung
wesentlich schlechter haftet als an der lichtreflektierenden
wesentlich schlechter haftet als an der lichtreflektierenden
OO O
Grundplatte allein. Infolgedessen wird der lichtabsor- 65 Ii II Ii j?
bierende Stoff zweckmäßig in einer dichten Dispersion in — C — R' — C — O — R', — C — H, — O — C.
der verankernden Schicht aufgebracht. ^ r
Die Verankerungsschicht kann aus einem beliebigen
synthetischen Harz oder Polymerisat bestehen, das einen oder Ätherradikale, z. B. — OR", bedeutet und R und R'
glatten, harten, harzigen Film bilden kann. Geeignete 70 ein Alkylradikal und R" ein Alkyl- oder Arylradikal sind.
5 6
Es sei bemerkt, daß nur diejenigen Monomeren oder und 16,4 Teilen Isopropanol auf die gewünschte Visko-
Monomerenmischungen, welche oberhalb Raumtempe- sität verdünnt. Die verdünnte Mischung wurde auf
ratur sieden und zusammenhängende, mechanisch feste, gereinigte Aluminiumplatten aufgebürstet, worauf man
polymere Produkte ergeben, zur Herstellung von als sie mindestens 24 Stunden an der Luft trocknen ließ.
Druckplatte geeigneten Reliefbildern verwendet werden 5 Während dieser Zeit verursacht die Säureeinwirkung auf
können. das Butyral eine Verzweigung und ein Unlöslichwerden
Wegen ihrer verhältnismäßig hohen Polymerisations- der Schicht. Je nach der Viskosität der Mischung und der
geschwindigkeiten bei der Photopolymerisation sind die aufgebürsteten Schichtdicke änderte sich der Überzug
Ester der Acrylsäure und der α-substituierten Acrylsäure, von halbdurchsichtig und graugelb zu nahezu durch-
und zwar zweckmäßig Ester mit nur Kohlenwasserstoff- io sichtig.
Monoalkoholen mit nicht mehr als 6 Kohlenstoffatomen Eine photopolymerisierbare viskose Flüssigkeit wurde
und davon wiederum mit den niedrigeren Alkoholen, be- durch Mischung von 55 Teilen monomerem Methyl-
vorzugt. Die α-substituierten Acrylsäuren sind zweckmäßig methacrylsäuremethylester, 25 Teilen Polymethacryl-
Alkylkohlenwasserstoffsubstituierte, wobei die Alkyl- säuremethylester, 20 Teilen einer Mischung der mono-
gruppe 1 bis 4 Kohlenstoffatome enthält. Die kürzeren 15 merenPolyäthylenglycol-Dimethacrylsäureester (beschrie-
Photopolymerisationszeiten dieser Ester sind bei einem ben im Beispiel 1 der USA.-Patentschrift 2 468 094) und
solchen Verfahren natürlich wichtig, da die Verfahrens- 1 Teil Benzoin hergestellt.
zeiten und daher die Arbeitskosten, welche die Haupt- Etwa 0,75 mm dicke Abstandshalter wurden an den
kosten des Verfahrens ausmachen, wesentlich verringert Kanten einer, wie vorstehend beschrieben, grundierten
sind. 20 Aluminiumplatte, welche die Polyvinyl-n-butyralharz-
Um die Abtrennung der Kopiervorlage von der photo- schicht trägt, angeordnet. Eine Schicht der vorstehenden
polymerisierten Schicht zu erleichtern, verwendet man photopolymerisierbaren viskosen Flüssigkeit wurde auf
zweckmäßig eine Trennschicht beliebiger Art. So kann die grundierte Platte gegossen, welche einen Reflexionsz.
B. die Seite der Kopiervorlage, welche sich in Beruh- wert von etwa 32°/0 zeigte, worauf ein photographisches
rung mit der photopolymerisierbaren Schicht befindet, 25 Schriftnegativ auf Glas (geschützt durch eine Cellophanmit
einer dünnen Siliconöl- oder Fettschicht überzogen membran) auf die Flüssigkeit gesenkt und aufgepreßt
werden, damit ein Ankleben der Polymerisations- wurde, bis es auf den Abstandhaltern auflag. Ubermischung
an der Kopiervorlage verhindert wird. Eine schüssige Flüssigkeit lief an den Kanten ab. Das Ganze
weitere praktische Möglichkeit besteht in der Verwendung wurde dann auf einen waagerechten Drehtisch unterhalb
einer Cellophanmembran, welche durch Überziehen der 30 von zwei transformatorlosen Quecksilberdampf-Jupiter-Kopiervorlage
mit einer dünnen Vaselinschicht und an- lampen angeordnet. Eine Lampe war etwa 30 cm von
schließendes Aufquetschen der Membran auf die fettige dem unmittelbar darunter befindlichen Kopiermaterial
Schicht mittels eines Gummiquetschers aufgebracht entfernt, und die andere Lampe hatte einen Abstand von
werden kann. Nach der Belichtung kann die Kopiervor- etwa 20 cm mit einem Winkel von 45° zur senkrechten
lage ohne Beschädigung leicht entfernt und wieder ver- 35 Achse. Der Drehtisch lief mit 4 bis 5 Umdrehungen/
wendet werden. Minute. Nach einer Belichtungsdauer von 10 Minuten
Die Dicke des zuletzt erhaltenen Reliefs kann dadurch wurde das Negativ abgezogen und die nichtpolymerisierte
geregelt werden, daß man »Abstandhalter« der ge- Flüssigkeit durch Waschen der Platte in einer Mischung
wünschten Stärke zwischen der Kopiervorlage und dem von Äthylacetat und Äthanol (85/15) entfernt. Man
Träger bzw. der Verankerung mit einer lichtabsorbieren- 40 erhielt ein scharfes Reliefbild des auf dem Negativ befindden
Schicht anordnet. Solche Abstandhalter können so lieben Textes. Die Platte wurde dann in den Formklein wie möglich sein, da das Hauptgewicht der Kopier- rahmen einer Druckpresse eingespannt und auf die
vorlage auf der lichtempfindlichen Monomeren-Initiator- gleiche Weise wie die üblichen metallischen geätzten
schicht ruht. Platten zum Druck verwendet.
Die photoempfindliche, polymerisierbare Schicht soll 45 Wenn eine der eine sehr dünne Schicht des Grundiereine
solche Viskosität von z.B. 0,25 bis 150 Poises besitzen, Überzugs tragenden Aluminiumplatten auf gleiche Weise
daß sie unter dem Gewicht der Kopiervorlage nur langsam als Grundplatte für die Herstellung eines polymeren
fließt. Zu diesem Zweck können dem photopolymerisier- Reliefs verwendet wurde, war das erhaltene Bild unscharf,
baren Monomeren 5 bis 25 °/0 eines vorher gebildeten da sich an nicht primär belichteten Stellen, wo Licht von
Polymerisats aus diesem oder einem gleichartigen Mono- 50 der Grundplatte hin reflektiert wurde, und durch Wärmemeren
einverleibt werden. einwirkung ein Polymerisat bildete. Diese Platte gab bei
Als aktinisches Licht absorbierende Stoffe kommen vor der Verwendung in der Druckpresse nur schlechte Abzüge,
allem Farbstoffe und Pigmente in Frage, wobei die Die Reflexionswerte für die mit dieser dünnen Grundie-
letzteren bevorzugt sind, da sie nicht in die photopoly- rungsschicht überzogene metallische Grundplatte be-
merisierbare Schicht eindringen. In den folgenden Bei- 55 trugen im Durchschnitt etwa 63%.
spielen, in denen alle Teile als Gewichtsteile angegeben .
sind, sind die angegebenen Reflexionswerte mit einem Beispiel
Universalreflektometer bestimmt. Zu Vergleichszwecken Eine Überzugszusammensetzung wurde durch Lösen
wird das Instrument zuerst so eingestellt, daß es mit der von 10 Teilen eines Vinylchlorid/Allylglycidyläther-
Standard-Schwarzglasplatte 0 % Reflexion und mit der 60 Mischpolymerisats (80/20 Gewichtsteile) (s. USÄ.-Patent-
Standard-Weißplatte 100 % Reflexion anzeigt. schrift 2 470 324) in 15 Teilen einer 1:1-Mischung aus
. . Xvlol und Methyl-isobutylketon hergestellt. Zu dieser
Beispiel I Lösung wurden 0,07 Teile Zitronensäuremonohydrat, die
Eine Überzugszusammensetzung wurde durch Ver- in einer Mindestmenge von 2-Methoxyäthanol gelöst
mahlen von 9 Teilen Polyvinyl-n-butyral, 8,6 Teilen 65 waren, 0,038 Teile Zinnchloriddihydrat, gelöst in der
Bleichromat, 1,4 Teilen gemahlenem Magnesiumsilikat, Mindestmenge 2-Äthoxyäthylacetat, und so viel einer
53 Teilen Isopropanol und 13 Teilen Methyl-isobutylketon gesättigten Xylollösung eines roten Ölfarbstoffes mit dem
hergestellt. Kurz vor ihrer Verwendung wurde diese Farbindex 248 zugegeben, daß die Mischung eine tiefrote
Zusammensetzung mit 15 bis 25 Teilen einer Mischung Farbe erhielt. Die Lösung wurde auf gereinigte Alumi-
aus 4,3 Teilen Phosphorsäure (85°/0ig) 4,3 Teilen Wasser 70 niumplatten aufgebürstet, worauf man sie an der Luft
trocknen ließ und dann 1 Stunde in einem Ofen bei 145 bis 155° C erhitzte. Obwohl der zusammengebackene
FiIm in monomerem Methacrylsäuremethylester oder Aceton unlöslich war, schien die Schicht doch so weit zu
quellen, daß der Farbstoff rasch mit diesen Lösungsmitteln extrahiert werden konnte, wobei im wesentlichen
eine farblose Schicht zurückblieb. Man bemerkte indessen, daß bestimmte kleine Flächen, welche zweimal überbürstet
worden waren, um kleine Löcher in dem Überzug
mischung und die Bildung eines unlöslichen vernetzten Polymerisats, welches das lineare Vinylchloridmischpolymerisat
enthält. Diese Schicht des vernetzten Polymerisats war im wesentlichen in den Monomeren unlöslich,
jedoch ermöglichte der Gehalt an linearem Mischpolymerisat eine Durchdringung und Quellung, die für eine
gute Haftfestigkeit notwendig ist. Da das Rußpigment wirksam aktinisches Licht absorbierte, fiel die störende
Reflexion an der Metalloberfläche vollständig weg, und hil h d i Bii
g g
zu überdecken, nach der Acetonbehandlung hellrot io man erhielt nach dem im Beispiel I beschriebenen Photoi
b Sll d liif
blieben. Reflexionswerte für diese gefärbten Stellen der behandelten metallischen Grundplatte zeigten eine durchschnittliche
Reflexion von etwa 22%. Eine solche mit Aceton gewaschene Platte, welche sowohl klare als auch
gefärbte Stellen enthielt, wurde zur Entfernung des gesamten Acetons noch einmal kurz erhitzt und dann als
Trägerplatte für die Herstellung eines photopolymerisierten Reliefbildes verwendet. Eine etwa 0,45 mm dicke
Schicht der photopolymerisierbaren monomeren Zusam-
A d
polymerisationsverfahren scharfe, klare, polymere Reliefbilder. Die Reflexionswerte für die mit der schwarzen
Überzugszusammensetzung überzogene metallische Grundplatte betrugen durchschnittlich 6 bis 7 °/0.
g , /og pp
säure in 98,6 Teilen Aceton hergestellt. Zu dieser Acetonlösung waren 4,65 Teile in 9,3 Teilen Wasser gelöstes
Chromtrioxyd zugegeben worden. Die Mischung wurde 25 Minuten auf 45 bis 50° C gehalten, dann abgekühlt,
und es wurden 145 Teile Butanol zugegeben. Ein Pigmentkonzentrat wurde durch Vermählen von 228 Teilen
des vorstehenden Grundüberzugs mit 4,5 Teilen gemahlenem Magnesium silikat, 7,5 Teilen Ruß und 60 Teilea
Ein nicht mit Pigment versetzter Standardgrundüberzug wurde durch Lösen von 109,5 Teilen Polyvinyl-n-
ppy butyral mit niedrigem Molekulargewicht in 622 Teilen
mensetzung der im Beispiel I genannten Art wurde unter 20 vergälltem Äthylalkohol, Erwärmen auf 50° C und Zugabe
einem Negativ photopolymerisiert, welches einen Text einer Lösung von 10,95 Teilen 85°/oiger Orthophosphor»
enthielt, dessen Buchstaben etwa die Größe von acht typo- i 986
graphischen Punkten hatten. Nach der Belichtung und
dem Auswaschen des nichtpolymerisierten Monomeren
befand sich auf der Grundplatte ein Reliefbild des Textes. 35
Eine Untersuchung ergab, daß das auf den nichtgefärbten
Flächen der Grundplatte entstandene Reliefbild etwas
unscharf war und daß die Hohlräume der Buchstaben a, ο, ρ
usw. zum Teil ausgefüllt waren, während an den gefärbten
Stellen der Harzschicht das Bild schärfer war und die 30 n-Butanol in einer Kugelmühle hergestellt. 20 Volumteile Hohlräume viel tiefer waren und im allgemeinen sogar dieses Pigmentkonzentrats wurden mit 80 Volumteilen bis zur Grundplatte selbst reichten. des nicht mit Pigment versetzten Grundüberzugs ver-
dem Auswaschen des nichtpolymerisierten Monomeren
befand sich auf der Grundplatte ein Reliefbild des Textes. 35
Eine Untersuchung ergab, daß das auf den nichtgefärbten
Flächen der Grundplatte entstandene Reliefbild etwas
unscharf war und daß die Hohlräume der Buchstaben a, ο, ρ
usw. zum Teil ausgefüllt waren, während an den gefärbten
Stellen der Harzschicht das Bild schärfer war und die 30 n-Butanol in einer Kugelmühle hergestellt. 20 Volumteile Hohlräume viel tiefer waren und im allgemeinen sogar dieses Pigmentkonzentrats wurden mit 80 Volumteilen bis zur Grundplatte selbst reichten. des nicht mit Pigment versetzten Grundüberzugs ver-
_ . . TTT dünnt, wobei man eine Uberzugszusammensetzung er-
Beispiel ill Melt, welche auf entfettete Stahlplatten aufgebürstet
Platten, welche mit einer klaren Überzugsmischung aus 35 wurde; die Reflexionswerte waren annähernd dieselben
einem Vinylchlorid/Allylglycidyläther-Mischpolymerisat wie für die Platte von Beispiel IV.
auf die im Beispiel II beschriebene Weise überzogen Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde
waren, nur mit der Ausnahme, daß kein Farbstoff züge- durch Mischen von 50 Teilen des monomeren Diesters
geben wurde, wurden mehrere Tage in einem Ofen von von Methacrylsäure und Polyäthylenglycol, 50 Teilen
15O0C erhitzt. Diese lange Erhitzung ergab die typische 40 Acrylsäurenitril und 1 Teil Benzoin hergestellt. Erne
dunkelbraune Verfärbung, welche für vinylchloridhaltige etwa 0,25 mm dicke Schicht dieser Zusammensetzung
Ü d i wurde auf eine mit dem, wie vorstehend beschrieben, her-
gestellten Grundüberzug versehene Platte aufgegossen, mit einem Negativ, wie im Beispiel I beschrieben, bedeckt
und mit einer Quecksilberdampflampe, aus einem Abstand von etwa 20 cm, 15 Minuten lang belichtet. Nach
der Belichtung wurde das Negativ entfernt und der nichtpolymerisierte Anteil der Zusammensetzung durch Bürsten
mit einer Lösungsmittelmischung aus Äthylacetat ^0 ^11^ Äthanol (85/15) entfernt. Diese Behandlung ließ auf
einer gereinigten Metallgrundlage ein scharfes Reliefbild entstehen, da die photopolymerisierbare Zusammen-Setzung
den Grundüberzug so weit aufweichte, daß durch
yg
Harze charakteristisch ist. Dieser Überzug (der einen Reflexionswert von 26 % zeigte) absorbierte genug Licht,
um als wirksame reflexionsverhindernde Schicht zu wirken, so daß man leicht scharfe Reliefbilder erhielt.
Die Haftfestigkeit des Bildes an der unteren Schicht war ausreichend, jedoch nicht so gut wie bei den Schichten,
weiche nur die übliche Hitzebehandlung durchgemacht hatten.
Beisüiel IV
2 Teile Ruß wurden auf einem Gummiwalzwerk in 18 Teile eines mit Maleinsäure modifizierten Vinylchlorid/
Vinylacetat-Mischpolymerisats eingearbeitet, das im allgemeinen etwa 1 °/0 Maleinsäure und im übrigen Vinylchlorid
und Vinylacetat in einem Gewichtsverhältnis von 86:13 enthalt. Die erhaltene Pigment/Polymeren-Mischung
wurde in einer Mischung aus 40 Teilen Xylol und 40 Teilen Methyl-Isobutylketon dispergiert. Zu dieser
Mischung wurden 20 Teile der Mischung aus monomeren 60 Diestern von Methacrylsäure mit Polyäthylenglycol (beschrieben
im Beispiel I der USA.-Patentschrift 2 468 094), 0,4 Teile l.l'-Azodicyclohexancarbonitril und 0,1 Teile
Kobaltnitrat-Hexahydrat (als eine 10°/0ige Gewichts-
die mechanische Einwirkung während der Entfernung der nichtpolymerisierten monomeren Mischung die harzige
Grundschicht an den nicht durch das Bild geschützten Stellen entfernt wurde.
Eine Grundplatte wurde durch Überziehen einer Stahlplatte mit der schwarzen Zusammensetzung von Beispiel
V und Photopolymerisation einer etwa 0,075 mm dicken Schicht der photopolymerisierbaren Zusammensetzung
von Beispiel I auf diesem Überzug hergestellt. Volumlösung in Aceton) zugegeben. Die auf diese Weise 65 Die auf diese Weise erhaltene polymere Schicht ist beerhaltene
schwarze Überzugszusammensetzung wurde sonders geeignet, das bei einer anschließenden Photopolyauf
gereinigte Aluminiumplatten aufgebürstet, worauf merisation erzeugte Bild festzuhalten,
man sie an der Luft trocknen ließ und dann 20 Stunden 40 Teile einer 50°/oigen Lösung von Vinylpolysiloxan
auf 1500C erhitzte. Diese Behandlung bewirkte eine in Toluol wurden zur Verdampfung der Hauptmenge
Polymerisation der monomeren Dimethacrylsäureester- 70 Toluol erwärmt, wobei 23 Teile einer dickflüssigen Zu-
sammensetzung zurückblieben. Dann wurden 55 Teile monomerer Methacrylsäuremethylester, 25 Teile polymerer
Methacrylsäuremethylester und 1 Teil Benzoin zugegeben. Eine etwa 0,5 mm dicke Schicht wurde auf
die vorstehend erwähnte Grundplatte aufgezogen und, wie im Beispiel I beschrieben, mit einem Negativ bedeckt.
Nach einer 15minütigen Belichtung mittels einer Quecksilberdampflampe, die sich in einem Abstand von etwa
20 cm befand, wurde das Negativ entfernt und die Platte mit einer Lösungsmittelmischung aus 85 Teilen Äthylacetat
und 15 Teilen Äthylalkohol gewaschen. Man erhielt ein scharfes Reliefbild.
Um die Zweckmäßigkeit der nichtreflektierenden Grundplatte zur Bildung schärferer Reliefbilder aus
photopolymerisierbaren Zusammensetzungen, welche ver-"schiedene
Photoinitiatoren enthalten, zu zeigen, wurde eine Versuchsreihe unter Verwendung von Aluminiumplatten,
die mit der im Beispiel IV beschriebenen schwarzen Zusammensetzung überzogen waren, durchgeführt.
Die photopolymerisierbare Zusammensetzung enthielt 68,8 Teile monomeren Methacrylsäuremethylester,
31,2 Teile polymeren Methacrylsäuremethylester, 20 Teile monomeren Diester von Methacrylsäure und Polyäthylenglycol
und 1 Teil Photoinitiator (s. die folgende Tabelle). Eine etwa 0,37 bis 0,5 mm dicke Schicht des zwischen
einem Negativ und der Grundplatte befindlichen photopolymerisierbaren Sirups wurde stufenweise mit einer
Quecksilberdampflampe aus einer Entfernung von etwa 20 cm belichtet. Die belichtete Platte wurde in einer
85/15-Lösungsmittelmischung aus Äthylacetat und Äthanol
gewaschen und die optimale Belichtungszeit aufgezeichnet (s. nachstehende Tabelle). Bei den optimalen
Belichtungszeiten gaben alle verwendeten Initiatoren gleich scharfe Reliefbilder.
40
Initiatoren | Optimale Belichtung (Min.) |
Benzoin α-Methylbenzoin Benzoinmethyläther a-Allylbenzoin Diacetyl l.l'-Azodicyclohexancarbonitril ... |
14 15 7 11 20 21 |
45
Die Photopolymerisations-Initiatoren werden in Mengen
zwischen 0,05 und 5% und zweckmäßig 0,1 und 2,0 %, bezogen auf die gesamte lichtempfindliche Zusammen-.
Setzung, verwendet.
Zur Erzielung der gewünschten Ausgangsviskosität der photopolymerisierbaren Schicht kann diese vor der Belichtung
anpolymerisiert werden, und zwar durch Wärmeoder Lichteinwirkung. Diese Metboden besitzen jedoch
gewisse Nachteile, weshalb man zweckmäßig die Viskositat durch Beimischung von vorgebildetem Polymerisat
auf den jeweils gewünschten Wert einstellt. Das zugesetzte Polymerisat soll dabei in dem Monomeren löslich sein.
Zweckmäßig verwendet man ein solches, welches dem zu verwendenden polymerisierbaren Monomeren entspricht.
Die notwendigen Mengen liegen dabei für gewöhnlich bei etwa 5 bis etwa 25%, bezogen auf die Endzusammensetzung.
Die gleichen allgemeinen Löslichkeitseigenschaften von Polymeren gegenüber Monomeren gelten in
der Regel auch für vorgebildete Additionspolymerisate, welche nicht notwendigerweise aus demselben Monomeren
wie das zu verwendende, jedoch aus einem solchen der gleichen allgemeinen Art bestehen. Typische Beispiele
für vorgebildete Polymerisate, welche einer photoempfindlichen Monomeren-Initiatorzusammensetzung einverleibt
werden können, sind unter anderem die folgenden: Polymere und Mischpolymere von Methacryl- und
Acrylsäureestern, wie z. B. Methacrylsäuremethylester, Acrylsäureäthylester usw; Polyvinylacetat; Polystyrol
und Mischpolymerisate aus Vinylchlorid und Vinylacetat usw.
Die Wirksamkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens hängt von dem Löslichkeitsunterschied zwischen den
polymerisierten Stellen in der photopolymerisierten Monomeren-Initiatorschicht und den unpolymerisiert gebliebenen
Stellen dieser Schicht ab. Die polymerisierten Stellen sind natürlich diejenigen, auf welche nach Durchtritt
durch die bildtragende transparente Schicht das aktinische Licht auftraf. Um das Verfahren noch wirksamer
zu gestalten, ist es zweckmäßig, die photopolymerisierten Flächen innerhalb kürzester Zeit so unlöslich
als möglich zu machen, d. h. möglichst kurze Belichtungszeiten anzuwenden. Die relative Löslichkeit eines Polymerisats
hängt nicht nur von seinem Polymerisationsgrad, sondern auch von seinem Vernetzungsgrad ab. Die
Einführung von Vernetzungen in dem Polymerisat erhöht dessen Unlöslichkeit in bestimmten Lösungsmitteln viel
schneller als eine bloße Erhöhung des Polymerisationsgrades bei linearen Polymeren. Außerdem verursacht
eine Vernetzung eine frühe Entstehung einer Gelstruktur in der zu polymerisierenden Masse, was eine Erhöhung
der Polymerisationsgeschwindigkeit zur Folge hat, und zwar wahrscheinlich durch eine Herabsetzung der Geschwindigkeit
der Kettenabbruchsreaktion. Aus diesem Grunde werden der als Ausgangsmaterial verwendeten
Monomeren-Initiatorzusammensetzung 5 bis 50%, bezogen auf die gesamte photoempfindliche Zusammensetzung,
eines Vernetzungen ergebenden Stoffes einverleibt. Eine geeignete Gruppe solcher Stoffe sind die polymerisierbaren
Monomeren mit zwei Äthylendoppelbindungen, die zweckmäßig endständig, konjugiert oder
nicht sind, wie z. B. die Diester der Methacrylsäure und der Acrylsäure mit Äthylenglycol und den Polyäthylenglycolen,
z. B. Diäthylenglycol, Triäthylenglycol, Tetraäthylenglycol
usw. oder mit Mischungen dieser Ätheralkohole; Diester von Methacrylsäure und Acrylsäure mit
Polymethylenglycolen, wiez. B. Trimethylenglycol, Hexamethylenglycol
usw.; Divinylacetylen, Divinylbenzol, Diisopropenyldiphenyl, Methacrylsäurecrotylester usw.
Außer den vorstehend genannten monomeren Verbindungen können natürlich auch Polymerisate verwendet
werden, welche mehrere polymerisierbare, additionsfähige Doppelbindungen besitzen. Eine geeignete Gruppe solcher
Verbindungen sind die Polyester ungesättigter zweibasischer Carbonsäuren, z. B. die Glycolester solcher
Säuren wie die Polyester von Malein- oder Fumarsäure mit Äthylenglycol; oder die Äther/Glycolester dieser
Säuren, z. B. Ester von Malein- und Fumarsäure mit Polydi-, tri-, tetra- usw. Äthylenglycol. Diese Vernetzungen
ergebenden Polyester dienen jedoch nicht nur zur Vernetzung der photopolymerisierbaren Zusammensetzungen,
sondern erhöhen auch die Viskosität der lichtempfindlichen Ausgangsmischungen auf einen solchen
Wert, daß die photoempfindliche Zusammensetzung die Kopiervorlage tragen kann. Wie nachstehend beschrieben
wird, kann die Viskosität dadurch auch so weit erhöht werden, wie sie für eine Herstellung der mehrschichtigen,
photoempfindlichen Platte in einem erforderlich ist.
Wegen ihrer verhältnismäßig hohen, durch einen lichtempfindlichen Initiator angeregten Polymerisationsgeschwindigkeit
sind die Ester der Acrylsäure und der α-substituierten (zweckmäßig kohlenwasserstoffsubstituierten)
Acrylsäuren mit dem Polymethylenglycolen und mit Äther alkoholen, wobei die Alkylgruppe 1 bis 4 Kohlenstoffatome
enthält, bevorzugt. Mischungen solcher
809 528/289
Glycolester können ebenfalls verwendet werden. Geeignete Mischungen sind in der USA.-Patentschrift 2 468 094 beschrieben.
Die Geschwindigkeit, mit der die Photopolymerisation verläuft, ist für das erfindungsgemäße Verfahren
wichtig und soll so hoch wie möglich sein.
Geeignete, aktinisches Licht absorbierende anorganische Pigmente, welche bei Verwendung einer verankernden
Zwischenschicht dieser gegebenenfalls einverleibt werden können, sind unter anderem Eisenoxyd in seinen verschiedenen
Formen, wie z. B. Indischrot, Venezianischrot, Ocker, Umbra, Sienna, Eisenschwarz usw.; Bleichromat,
Bleimolybdat (Chromgelb und Molybdänorange); Cadmiumgelb, Cadmiumrot, Chromgrün, Eisenblau, Manganschwarz, verschiedene Rußsorten, wie z. B. Lampenruß,
Ofenruß, Kaminruß usw. Organische Farbstoffe, welche in den für gewöhnlich zur Aufbringung der lichtabsorbierenden
Schicht verwendeten Trägerstoffen löslich sind, laufen oft in die photoempfindliche monomere Schicht
aus. Indessen können bei Anwendung einer einen doppelten Überzug ergebenden Technik bestimmte Farbstoffe,
wie z. B. rote Ölfarben mit dem Farbindex 258, bestimmte alkohollösliche Farbstoffe, z. B. violette Farbstoffe mit
dem Farbindex 680 und 681, grüne Farbstoffe mit dem Farbindex 657, gelbe Farbstoffe mit dem Farbindex 655
und 800 und braune Farbstoffe mit dem Farbindex 332 usw., mit befriedigendem Ergebnis verwendet werden.
Organische Farbstoffe kommen am besten als Pigmente in Form von Lacken zur Anwendung, welche durch Ausfällen
eines unlöslichen Farbsalzes auf einem inerten anorganischen Substrat erhalten werden. Eine ausführliche
Aufzählung solcher Lacke und ähnlicher organischer Pigmente findet sich auf S. 124 bis 173 von PRINTING
AND LITHO INKS (Ausgabe von H. J. Wolfe, MacNair-Dorland und Company, New York [1949]).
Die mehrschichtige, lichtempfindliche Platte kann auch als Ganzes vor ihrer Verwendung hergestellt und wie
photographische Filme unter geregelten Licht-, Temperatur- und/oder Feuchtigkeitsbedingungen aufbewahrt
werden, wenn die photopolymerisierbare Schicht viskos genug ist, daß sie unter diesen geregelten Temperatur-
und Feuchtigkeitsbedingungen nicht fließt. Vorstehend wurden ausführlich mehrere Verfahren zur Regelung der
Viskosität dieser Schicht besprochen. Bei der Herstellung der vollständigen photoempfindlichen, erfindungsgemäß
verwendeten, vielschichtigen, noch nicht belichteten Platten wird die notwendige Viskosität der photopolymerisierbaren
Schicht am einfachsten durch Zugabe verhältnismäßig großer prozentualer Mengen eines vorgebildeten Polymerisats erzielt. Für gewöhnlich werden
etwa 60 bis 80 °/0 vorgebildetes Polymerisat, bezogen auf
die gesamte photoempfindliche Zusammensetzung, zur Herstellung dieser Schichten verwendet, welche genauer
als gequollene Gele des vorgebildeten Polymerisats in dem Monomeren bezeichnet werden. Werden Relief höhen über
etwa 0,25 mm gewünscht, fügt man zweckmäßig nicht mehr als 60 °/0 des Polymerisats, bezogen auf die gesamte
photoempfindliche Schicht, zu.
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckformen'
mittels einer durch eine Kopiervorlage mit durchsichtigen Flächen von überall gleicher optischer Dichte
und undurchsichtigen Flächen von ebenfalls überall gleicher optischer Dichte gesteuerten Additionspolymerisation
einer ein- oder mehrfach äthylenisch ungesättigten, auf einem bleibenden Träger befindlichen
Zusammensetzung, dadurch gekennzeichnet, daß unterhalb der Schicht aus der photopolymerisierbaren
Zusammensetzung aktinisches Licht absorbierende Stoffe zugegen sind und unter Verwendung von
Photoinitiatoren, die bei Temperaturen unterhalb 850C nicht thermisch aktiv sind, wie Benzoin, α-Methylbenzoin,
Benzoinmethyläther, a-Allylbenzoin, Diacetyl,
!,l'-Azodicyclohexancarbonitril, derart kurz
exponiert wird, daß eine 0,075 bis 6,25 mm dicke Schicht nur an den belichteten Stellen, jedoch nicht
an den unbelichteten Stellen vollständig polymerisiert wird, worauf die unbelichtete Substanz vollständig
entfernt wird.
2. Lichtempfindliches Material zur Herstellung einer Druckform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die photopolymerisierbare Schicht auf einen lichtreflektierenden plattenförmigen Träger, auf welchem
sich eine aktinisches Licht absorbierende Verankerungsschicht befindet, aufgebracht ist.
© 809 528/289 5.58
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US24279051A | 1951-08-20 | 1951-08-20 | |
US326841A US2760863A (en) | 1951-08-20 | 1952-12-19 | Photographic preparation of relief images |
US541723A US2791504A (en) | 1951-08-20 | 1955-10-20 | Photopolymerizable elements |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1031130B true DE1031130B (de) | 1958-05-29 |
Family
ID=27399606
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEP8215A Pending DE1031130B (de) | 1951-08-20 | 1952-08-20 | Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckformen |
DEP10709A Pending DE1093209B (de) | 1951-08-20 | 1953-10-27 | Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern fuer Druckzwecke |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEP10709A Pending DE1093209B (de) | 1951-08-20 | 1953-10-27 | Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern fuer Druckzwecke |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US2760863A (de) |
BE (1) | BE525225A (de) |
CH (1) | CH332842A (de) |
DE (2) | DE1031130B (de) |
FR (1) | FR1072322A (de) |
GB (3) | GB741294A (de) |
NL (2) | NL87862C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1109226B (de) * | 1958-12-17 | 1961-06-22 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen und/oder gedruckter Schaltungselemente |
Families Citing this family (313)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB574244A (en) * | 1958-07-25 | 1945-12-28 | Sparklets Ltd | Improvements in or relating to means for producing a spray of atomised liquid |
CH330160A (de) * | 1953-06-26 | 1958-05-31 | Freundorfer Kg | Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
BE566942A (de) * | 1954-03-26 | |||
US2892712A (en) * | 1954-04-23 | 1959-06-30 | Du Pont | Process for preparing relief images |
US2929710A (en) * | 1954-10-08 | 1960-03-22 | Du Pont | Polyvinyl acetal with terminal vinylidene groups |
US2875047A (en) * | 1955-01-19 | 1959-02-24 | Oster Gerald | Photopolymerization with the formation of coherent plastic masses |
US2872316A (en) * | 1955-06-20 | 1959-02-03 | Sylvania Electric Prod | Method of producing patterns |
US2893868A (en) * | 1955-08-22 | 1959-07-07 | Du Pont | Polymerizable compositions |
US2892716A (en) * | 1955-10-03 | 1959-06-30 | Du Pont | Photopolymerizable composition comprising an unsaturated vinyl polymer and a sheet support coated therewith |
US3014799A (en) * | 1955-12-20 | 1961-12-26 | Gerald Oster | Cross-linking of hydrocarbons |
US3047422A (en) * | 1956-01-09 | 1962-07-31 | Miehle Goss Dexter Inc | Coating material and method of drying same |
US3026648A (en) * | 1956-01-16 | 1962-03-27 | Jerome H Lemelson | Inflatable display |
US3050413A (en) * | 1956-02-01 | 1962-08-21 | Miehle Goss Dexter Inc | Quick drying printing ink for coating materials and method of drying same |
US3016297A (en) * | 1956-02-13 | 1962-01-09 | Du Pont | Photopolymerizable compositions comprising polymeric chelates and their use in the preparation of reliefs |
GB826272A (en) * | 1956-04-12 | 1959-12-31 | Du Pont | Improvements in or relating to photopolymerisable compositions and their uses |
NL218803A (de) * | 1956-07-09 | |||
US2949361A (en) * | 1956-08-13 | 1960-08-16 | Gen Electric | Photosensitive compositions |
NL219906A (de) * | 1956-08-14 | |||
US2927023A (en) * | 1956-08-27 | 1960-03-01 | Du Pont | Photopolymerizable compositions |
US2956878A (en) * | 1956-11-13 | 1960-10-18 | Eastman Kodak Co | Photosensitive polymers and their applications in photography |
US3066117A (en) * | 1957-02-08 | 1962-11-27 | Bayer Ag | Light-sensitive water soluble compounds |
US2964401A (en) * | 1957-02-18 | 1960-12-13 | Du Pont | Photopolymerizable elements and processes |
US2997391A (en) * | 1957-04-22 | 1961-08-22 | Time Inc | Photosensitive polyamide resins containing stilbene units in the molecule |
NL227834A (de) * | 1957-05-17 | |||
US2996381A (en) * | 1957-07-02 | 1961-08-15 | Kalvar Corp | Photographic materials and procedures for using same |
US3046127A (en) * | 1957-10-07 | 1962-07-24 | Du Pont | Photopolymerizable compositions, elements and processes |
US2948611A (en) * | 1957-10-30 | 1960-08-09 | Du Pont | Photopolymerizable compositions, elements, and processes |
US3019104A (en) * | 1957-12-11 | 1962-01-30 | Polaroid Corp | Photographic products, processes, and compositions |
US3055758A (en) * | 1958-01-16 | 1962-09-25 | Du Pont | Production of direct positive images and light sensitive element therefor |
BE579710A (de) * | 1958-06-16 | |||
US3070442A (en) * | 1958-07-18 | 1962-12-25 | Du Pont | Process for producing colored polymeric relief images and elements therefor |
BE620097A (de) * | 1958-11-26 | |||
BE588780A (de) * | 1959-03-17 | |||
US3031301A (en) * | 1959-03-30 | 1962-04-24 | Gen Electric | Photosensitive resin compositions |
BE589373A (de) * | 1959-04-08 | |||
BE590192A (de) * | 1959-04-27 | |||
NL287134A (de) * | 1959-08-05 | |||
US3024180A (en) * | 1959-08-17 | 1962-03-06 | Du Pont | Photopolymerizable elements |
BE594253A (de) * | 1959-08-19 | |||
BE594285A (de) * | 1959-08-27 | |||
US3159488A (en) * | 1959-09-28 | 1964-12-01 | Keuffel & Essen Company | Stable photographic material and method of making same |
BE596694A (de) * | 1959-11-03 | |||
NL263797A (de) * | 1960-04-19 | |||
BE601856A (de) * | 1960-04-28 | |||
DE1115926B (de) * | 1960-05-20 | 1961-10-26 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von farbigen, vernetzten Emulsionspolymerisaten |
BE604100A (de) * | 1960-06-03 | |||
BE606744A (de) * | 1960-08-10 | |||
NL273285A (de) * | 1961-01-09 | |||
NL273451A (de) * | 1961-01-13 | |||
US3163534A (en) * | 1961-03-13 | 1964-12-29 | Harris Intertype Corp | Lithographic plate including a hydrophilic barrier layer comprising a silane, an acrylic compound, and an organic metal ester |
NL278078A (de) * | 1961-05-04 | |||
US3178283A (en) * | 1961-05-04 | 1965-04-13 | Gen Aniline & Film Corp | Production of photographic polymeric images by heat development |
NL280914A (de) * | 1961-07-13 | |||
US3222178A (en) * | 1961-10-09 | 1965-12-07 | Eastman Kodak Co | Composite film element |
BE623613A (de) * | 1961-10-16 | |||
BE626528A (de) * | 1961-10-23 | |||
US3214273A (en) * | 1961-10-25 | 1965-10-26 | Buckbee Mears Co | Process for making vacuum fixtures for miniature magnetic memory cores |
US3198633A (en) * | 1961-12-01 | 1965-08-03 | Du Pont | Photopolymerizable elements and transfer processes |
US3395014A (en) * | 1963-06-07 | 1968-07-30 | Du Pont | Preparation of printing plates by heat plus a pressure gradient |
BE635636A (de) * | 1962-08-01 | |||
US3380827A (en) * | 1962-08-24 | 1968-04-30 | Bowles Eng Corp | Optical maching process |
USB322986I5 (de) * | 1963-01-04 | |||
US3294889A (en) * | 1963-02-26 | 1966-12-27 | American Can Co | Method of making a printing cylinder |
US3255006A (en) * | 1963-03-04 | 1966-06-07 | Purex Corp Ltd | Photosensitive masking for chemical etching |
NL289927A (de) * | 1963-03-07 | |||
GB1054982A (de) * | 1963-04-22 | |||
US3204557A (en) * | 1963-06-06 | 1965-09-07 | American Can Co | Dry offset printing method |
US3217643A (en) * | 1963-11-19 | 1965-11-16 | Plastron Inc | Credit card bearing printable signature indicia |
US3195458A (en) * | 1963-12-03 | 1965-07-20 | Paper Converting Machine Co | Printing apparatus and method |
US3376138A (en) * | 1963-12-09 | 1968-04-02 | Gilano Michael Nicholas | Photosensitive prepolymer composition and method |
US3450613A (en) * | 1964-03-09 | 1969-06-17 | Bausch & Lomb | Epoxy adhesive containing acrylic acid-epoxy reaction products and photosensitizers |
BE663380A (de) * | 1964-05-04 | |||
US3353955A (en) * | 1964-06-16 | 1967-11-21 | Du Pont | Stratum transfer process based on adhesive properties of photopolymerizable layer |
US3440047A (en) * | 1964-08-10 | 1969-04-22 | Gen Aniline & Film Corp | Photopolymer offset printing plates of the etch type |
US3408191A (en) * | 1964-10-28 | 1968-10-29 | Du Pont | Process of double exposing a photo-polymerizable stratum laminated between two supports, said double exposure determining the support which retains the positive image |
US3259499A (en) * | 1965-01-18 | 1966-07-05 | Du Pont | Polymerizable elements |
US3469983A (en) * | 1965-07-06 | 1969-09-30 | Gaf Corp | Preparation of photopolymer lithographic offset paper plates |
DE1522515C2 (de) * | 1965-08-03 | 1980-10-09 | Du Pont | Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen |
US3376139A (en) * | 1966-02-01 | 1968-04-02 | Gilano Michael Nicholas | Photosensitive prepolymer composition and method |
US3360367A (en) * | 1966-03-15 | 1967-12-26 | Minnesota Mining & Mfg | Copying of graphic images |
US3474719A (en) * | 1966-04-15 | 1969-10-28 | Gaf Corp | Offset printing plates |
US3458311A (en) * | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
US3526504A (en) * | 1966-07-07 | 1970-09-01 | Du Pont | Photocrosslinkable elements and processes |
US3645204A (en) * | 1967-09-15 | 1972-02-29 | Burroughs Corp | Methods of preparing and composing relief printing member |
DE1669723A1 (de) * | 1967-09-22 | 1971-06-09 | Basf Ag | Indigoide Farbstoffe enthaltende Platten,Folien oder Filme aus photopolymerisierbaren Massen |
JPS5137320B1 (de) * | 1967-11-09 | 1976-10-14 | ||
US3580657A (en) * | 1968-05-14 | 1971-05-25 | Xerox Corp | Blazed surface hologram |
US3663222A (en) * | 1968-06-06 | 1972-05-16 | Asahi Chemical Ind | Process for preparing steric block with liquid photopolymerizable composition |
US3469982A (en) * | 1968-09-11 | 1969-09-30 | Jack Richard Celeste | Process for making photoresists |
US3944417A (en) * | 1968-11-27 | 1976-03-16 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the electrophotographic production of printing plates |
JPS5017882B1 (de) * | 1970-02-10 | 1975-06-25 | ||
JPS4818323B1 (de) * | 1970-02-14 | 1973-06-05 | ||
US3647446A (en) * | 1970-03-05 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Process for preparing high-relief printing plates |
US3852074A (en) * | 1970-04-02 | 1974-12-03 | Du Pont | Photopolymerizable compositions containing organic noble metal compounds |
CA943803A (en) * | 1970-04-02 | 1974-03-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions and process of applying same |
US3658531A (en) * | 1970-10-29 | 1972-04-25 | Goodrich Co B F | Method of making flexible printing plates |
US3703864A (en) * | 1970-11-02 | 1972-11-28 | Magnacheck Corp | Micr imprinting photo-etched credit card |
DE2123702C3 (de) * | 1971-05-13 | 1988-05-26 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes |
US3859091A (en) * | 1971-09-08 | 1975-01-07 | Grace W R & Co | Preparation of printing or pattern plates |
BE789476A (fr) * | 1971-10-01 | 1973-03-29 | Basf Ag | Procede de preparation de cliches |
US3787213A (en) * | 1972-01-19 | 1974-01-22 | J Gervay | Process for modifying surfaces using photopolymerizable elements comprising hydrophilic colloids and polymerizable monomers |
JPS5426923B2 (de) * | 1972-03-21 | 1979-09-06 | ||
US3770433A (en) * | 1972-03-22 | 1973-11-06 | Bell Telephone Labor Inc | High sensitivity negative electron resist |
US3950569A (en) * | 1972-05-05 | 1976-04-13 | W. R. Grace & Co. | Method for preparing coatings with solid curable compositions containing styrene-allyl alcohol copolymer based polythiols |
JPS5343285B2 (de) * | 1972-07-26 | 1978-11-18 | ||
JPS5040043B2 (de) * | 1972-08-18 | 1975-12-22 | ||
GB1389548A (en) * | 1972-11-22 | 1975-04-03 | Ilford Ltd | Photographic colloid layers in silver halide materials |
JPS4983501A (de) * | 1972-12-18 | 1974-08-12 | ||
US3865589A (en) * | 1973-01-11 | 1975-02-11 | Du Pont | Photohardenable layer with integral support of fabric or mesh |
US3861921A (en) * | 1973-01-12 | 1975-01-21 | Horst Hoffmann | Subbing layers comprising polyamide and phenolic resin for metal bases of photopolymerizable elements |
US3951657A (en) * | 1973-07-27 | 1976-04-20 | The Upjohn Company | Process for making a relief printing plate |
US3912516A (en) * | 1973-07-27 | 1975-10-14 | Upjohn Co | Photopolyer composition containing a polyurethane binding agent |
FR2284654A1 (fr) * | 1973-08-31 | 1976-04-09 | Ford France | Peinture polymerisable sous l'effet d'un rayonnement et ses applications |
US3901705A (en) * | 1973-09-06 | 1975-08-26 | Du Pont | Method of using variable depth photopolymerization imaging systems |
GB1488709A (en) * | 1973-10-10 | 1977-10-12 | Hercules Inc | Photo-oxidizable compositions and elements |
JPS5614976B2 (de) * | 1973-10-17 | 1981-04-07 | ||
US3900323A (en) * | 1973-10-23 | 1975-08-19 | Polaroid Corp | Photographic element comprising an opaque backcoat |
JPS5342248B2 (de) * | 1973-12-25 | 1978-11-10 | ||
US3981856A (en) * | 1974-03-07 | 1976-09-21 | Princeton Polymer Laboratories, Incorporated | Degradable hydrocarbon polymers containing a metal compound and a benzotriazole |
US3953214A (en) * | 1974-05-24 | 1976-04-27 | Dynachem Corporation | Photopolymerizable screen printing inks and use thereof |
US4126466A (en) * | 1974-07-22 | 1978-11-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Composite, mask-forming, photohardenable elements |
DE2444118C2 (de) * | 1974-09-14 | 1987-02-12 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Mehrschichtige Druckplatte sowie mehrschichtige Reliefdruckform für den Flexodruck |
JPS5340537B2 (de) * | 1974-12-27 | 1978-10-27 | ||
JPS592018B2 (ja) * | 1975-03-26 | 1984-01-17 | 住友化学工業株式会社 | カイリヨウサレタカンコウセイジユシソセイブツカラナルゲンケイ |
JPS528303A (en) * | 1975-04-11 | 1977-01-22 | Hitachi Chemical Co Ltd | Filmmlike laminated body |
JPS51123140A (en) * | 1975-04-19 | 1976-10-27 | Nippon Paint Co Ltd | Photosensitive compositions and processing method thereof |
US4197132A (en) * | 1975-06-24 | 1980-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymer photoresist composition containing rosin tackifier adhesion improver and chlorinated polyolefin |
JPS5217901A (en) * | 1975-07-31 | 1977-02-10 | Mitsubishi Chem Ind | Developer for lithographic press plate |
JPS5232704A (en) * | 1975-09-08 | 1977-03-12 | Nippon Paint Co Ltd | Photoosensitive resin intaglio press plate |
AU507014B2 (en) * | 1975-11-05 | 1980-01-31 | Hercules Inc. | Photopolymer compositions |
DE2660921C3 (de) * | 1975-11-17 | 1987-07-30 | E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington, Del. | Verfahren zur Herstellung von punktgeätzten Masken |
JPS5944615B2 (ja) * | 1976-02-16 | 1984-10-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた金属画像形成材料 |
GB1581435A (en) * | 1976-05-07 | 1980-12-17 | Letraset International Ltd | Production of dry transfer materials |
US4148654A (en) * | 1976-07-22 | 1979-04-10 | Oddi Michael J | Positive acting photoresist comprising diazide ester, novolak resin and rosin |
JPS5313696A (en) * | 1976-07-23 | 1978-02-07 | Hitachi Chem Co Ltd | Solventless and curable composition |
US4050941A (en) * | 1976-12-20 | 1977-09-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | High resolution photohardenable coating compositions containing tetracyanoethane compounds |
US4268634A (en) * | 1977-01-17 | 1981-05-19 | Mitsubishi Paper Mills, Ltd. | Desensitizer for no-carbon copy paper |
DE2805680C2 (de) * | 1977-03-01 | 1982-05-27 | Bexford Ltd., London | Aufzeichnungsmaterialien für das Vesikularverfahren und Verfahren zur Erhöhung der Lichtempfindlichkeit solcher Aufzeichnungsmaterialien |
FR2390760A1 (fr) * | 1977-05-12 | 1978-12-08 | Rhone Poulenc Graphic | Nouvelles plaques lithographiques a base de photopolymeres et procedes de mise en oeuvre |
GB2000874B (en) * | 1977-07-12 | 1982-02-17 | Asahi Chemical Ind | Process for producing image and photosensitive element therefor and method of producing printed circuit board |
US4291116A (en) * | 1977-10-28 | 1981-09-22 | Tibbetts Charles C | Method of image reproduction and materials therefor |
US4148934A (en) * | 1977-12-02 | 1979-04-10 | W. R. Grace Ltd. | Secondary photocuring of photocured printing plate, apparatus and method |
CA1100148A (en) * | 1978-01-04 | 1981-04-28 | Rudolph L. Pohl | Photopolymer compositions for printing plates |
US4518677A (en) * | 1978-01-04 | 1985-05-21 | Hercules Incorporated | Process for making printing plates |
US4407862A (en) * | 1978-03-31 | 1983-10-04 | W. R. Grace & Co. | Method of making letterpress printing plates |
US4311784A (en) * | 1978-05-09 | 1982-01-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Multilayer photosensitive solvent-processable litho element |
US4266007A (en) * | 1978-06-22 | 1981-05-05 | Hercules Incorporated | Multilayer printing plates and process for making same |
US4198238A (en) * | 1978-06-22 | 1980-04-15 | Hercules Incorporated | Photopolymerizable composition |
US4270985A (en) * | 1978-07-21 | 1981-06-02 | Dynachem Corporation | Screen printing of photopolymerizable inks |
DE2844426C2 (de) * | 1978-10-12 | 1989-01-12 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren zur Kantenverbindung von lichthärtbaren, thermoplastischen, elastomeren Druckplatten |
DE2926235A1 (de) * | 1979-06-29 | 1981-01-08 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares kopiermaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
US4303485A (en) * | 1979-08-20 | 1981-12-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ultraviolet polymerization of acrylate monomers using oxidizable tin compounds |
US4421822A (en) * | 1979-08-20 | 1983-12-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Ultraviolet polymerization of acrylate monomers using oxidizable tin compounds |
US4332873A (en) * | 1979-08-22 | 1982-06-01 | Hercules Incorporated | Multilayer printing plates and process for making same |
US4291115A (en) * | 1979-09-18 | 1981-09-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Elements and method which use photopolymerizable compositions based on salt-forming polymers and polyhydroxy polyethers |
US4245031A (en) * | 1979-09-18 | 1981-01-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions based on salt-forming polymers and polyhydroxy polyethers |
US4265986A (en) * | 1979-11-21 | 1981-05-05 | Uniroyal, Inc. | Photopolymerizable composition containing chlorosulfonated polyethylene |
US4560639A (en) * | 1980-05-08 | 1985-12-24 | Sullivan Donald F | Reusable phototransparency image forming tools for direct contact printing |
US4888270A (en) * | 1980-05-08 | 1989-12-19 | M & T Chemicals Inc. | Photoprinting process and apparatus for exposing paste consistency photopolymers |
BR8103183A (pt) * | 1980-05-27 | 1982-02-09 | Du Pont | Camada foto-sensivel fina;elemento foto-resistor;substrato com uma camada foto-sensivel fina laminada;e processo para aparacao de camada foto-sensivel e de um material polimerico fino |
DE3047126A1 (de) * | 1980-12-13 | 1982-07-29 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefformen mittels dieses aufzeichnungsmaterials |
US4431724A (en) * | 1981-01-07 | 1984-02-14 | Ovchinnikov Jury M | Offset printing plate and process for making same |
US4460427A (en) * | 1981-09-21 | 1984-07-17 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Process for the preparation of flexible circuits |
US4657839A (en) * | 1981-10-21 | 1987-04-14 | Sullivan Donald F | Photoprinting process and apparatus for exposing paste-consistency photopolymers |
US4599293A (en) * | 1981-12-04 | 1986-07-08 | Basf Aktiengesellschaft | Toner transfer process for transferring and fixing a toner image by means of film |
US4752553A (en) * | 1982-04-01 | 1988-06-21 | M&T Chemicals Inc. | High resolution solder mask photopolymers for screen coating over circuit traces |
US4500629A (en) * | 1982-04-08 | 1985-02-19 | Ciba-Geigy Corporation | Method of forming images from liquid masses |
DE3367683D1 (en) * | 1982-06-21 | 1987-01-02 | Hoechst Ag | Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material produced therewith |
JPS596540A (ja) * | 1982-07-05 | 1984-01-13 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
DE3380640D1 (en) * | 1982-08-11 | 1989-11-02 | Ici Plc | Assembly for use in making a printing plate |
US4822718A (en) * | 1982-09-30 | 1989-04-18 | Brewer Science, Inc. | Light absorbing coating |
DE3315665A1 (de) * | 1983-04-29 | 1984-10-31 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Herstellung von galvanoplastischen flachteilen mit totationsunsymmetrischen, kegelfoermigen strukturen |
US4610951A (en) * | 1983-06-06 | 1986-09-09 | Dynachem Corporation | Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition |
US4539286A (en) * | 1983-06-06 | 1985-09-03 | Dynachem Corporation | Flexible, fast processing, photopolymerizable composition |
US4592816A (en) | 1984-09-26 | 1986-06-03 | Rohm And Haas Company | Electrophoretic deposition process |
EP0210637B1 (de) | 1985-07-31 | 1991-09-11 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Optische Beschichtungszusammensetzung |
US4717643A (en) * | 1985-08-06 | 1988-01-05 | Hercules Incorporated | No thermal cure dry film solder mask |
US4659648A (en) * | 1985-10-21 | 1987-04-21 | Hercules Incorporated | Plasma developable photoresist compositions containing N-substituted 3-vinylcarbazoles |
DE3600116A1 (de) * | 1986-01-04 | 1987-07-09 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von durch photopolymerisation vernetzten reliefformen |
DE3606266A1 (de) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3618373A1 (de) * | 1986-05-31 | 1987-12-03 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3785277D1 (de) * | 1986-09-11 | 1993-05-13 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung waermebestaendiger strukturierter schichten. |
EP0259727A3 (de) * | 1986-09-11 | 1989-02-08 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung wärmebeständiger strukturierter Schichten auf Epoxidharzbasis |
US4698294A (en) * | 1986-09-12 | 1987-10-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Lamination of photopolymerizable film onto a substrate employing an intermediate nonphotosensitive liquid layer |
US4761435A (en) * | 1986-10-03 | 1988-08-02 | Desoto, Inc. | Polyamine-polyene ultraviolet coatings |
DE3635303A1 (de) | 1986-10-17 | 1988-04-28 | Hoechst Ag | Verfahren zur abtragenden modifizierung von mehrstufig aufgerauhten traegermaterialien aus aluminium oder dessen legierungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplatten |
US5213949A (en) * | 1986-11-12 | 1993-05-25 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
US4910117A (en) * | 1987-07-27 | 1990-03-20 | The Mead Corporation | Microencapsulated imaging system employing a metallized backing |
US4810619A (en) * | 1987-08-12 | 1989-03-07 | General Electric Co. | Photolithography over reflective substrates comprising a titanium nitride layer |
DE3735088A1 (de) * | 1987-10-16 | 1989-04-27 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE3827245A1 (de) * | 1988-08-11 | 1990-02-15 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US5110697A (en) * | 1988-09-28 | 1992-05-05 | Brewer Science Inc. | Multifunctional photolithographic compositions |
WO1990003598A1 (en) * | 1988-09-28 | 1990-04-05 | Brewer Science, Inc. | Multifunctional photolithographic compositions |
US5312719A (en) * | 1988-10-26 | 1994-05-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Developing solvent for layers which are crosslinkable by photopolymerization and process for the production of relief forms |
DE3836403A1 (de) * | 1988-10-26 | 1990-05-03 | Hoechst Ag | Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen |
US5045435A (en) * | 1988-11-25 | 1991-09-03 | Armstrong World Industries, Inc. | Water-borne, alkali-developable, photoresist coating compositions and their preparation |
US5174843A (en) * | 1989-02-17 | 1992-12-29 | Honatech, Inc. | Matrix support article shaping system and method |
DE3904780A1 (de) * | 1989-02-17 | 1990-08-23 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von photopolymerisierten reliefdruckplatten mit klebfreier oberflaeche |
US5137800A (en) * | 1989-02-24 | 1992-08-11 | Stereographics Limited Partnership | Production of three dimensional bodies by photopolymerization |
WO1990010254A1 (en) * | 1989-02-24 | 1990-09-07 | Bowling Green State University | Production of three dimensional bodies by photopolymerization |
DE3908764C2 (de) * | 1989-03-17 | 1994-08-11 | Basf Ag | Entwickler für die Herstellung photopolymerisierter flexographischer Reliefdruckformen |
WO1991011031A1 (en) * | 1990-01-16 | 1991-07-25 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Processes for making thin films and circuit elements of high temperature superconductors |
US5407784A (en) * | 1990-04-26 | 1995-04-18 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photocurable composition comprising maleic anhydride adduct of polybutadiene or butadiene copolymers |
US5290663A (en) * | 1991-03-01 | 1994-03-01 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photocurable polyurethane-acrylate ionomer compositions for aqueous developable printing plates |
GB9122577D0 (en) * | 1991-10-24 | 1991-12-04 | Hercules Inc | Improved moulding resin with quick-release properties |
WO1994003840A1 (en) * | 1992-07-31 | 1994-02-17 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method and product for particle mounting |
US5607814A (en) * | 1992-08-07 | 1997-03-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process and element for making a relief image using an IR sensitive layer |
US5328805A (en) * | 1992-08-28 | 1994-07-12 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Aqueous developable photosensitive polyurethane-(meth)acrylate |
US5362806A (en) * | 1993-01-07 | 1994-11-08 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Toughened photocurable polymer composition for processible flexographic printing plates |
US5362605A (en) * | 1993-05-10 | 1994-11-08 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photosensitive polymer composition for flexographic printing plates processable in aqueous media |
US6756181B2 (en) | 1993-06-25 | 2004-06-29 | Polyfibron Technologies, Inc. | Laser imaged printing plates |
GB9326150D0 (en) * | 1993-12-22 | 1994-02-23 | Alcan Int Ltd | Electrochemical roughening method |
DE4418645C1 (de) | 1994-05-27 | 1995-12-14 | Sun Chemical Corp | Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial |
KR960008405A (ko) | 1994-08-10 | 1996-03-22 | 알베르투스 빌헬무스·요아네스 째스트라텐 | 광경화가능한 탄성중합체 조성물로부터의 플렉서 인쇄판 |
DE69524589D1 (de) | 1995-08-08 | 2002-01-24 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Bildung von metallischen Bildern |
US5753414A (en) * | 1995-10-02 | 1998-05-19 | Macdermid Imaging Technology, Inc. | Photopolymer plate having a peelable substrate |
DE19548623A1 (de) | 1995-12-23 | 1997-06-26 | Hoechst Ag | 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische |
DE69703505T2 (de) | 1996-02-26 | 2001-06-13 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Bildaufzeichnungselement, das eine Zweiphasenbeschichtung mit einer dispergierten hydrophoben photopolymerisierbaren Phase enthält |
JPH09327899A (ja) * | 1996-06-10 | 1997-12-22 | Riso Kagaku Corp | 感熱孔版原紙の製版方法 |
JP3567402B2 (ja) * | 1996-06-12 | 2004-09-22 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 平版印刷版用支持体の製造方法、その製造方法で得られる平版印刷版用支持体及びその支持体を用いた感光性平版印刷版 |
US6037085A (en) * | 1996-06-19 | 2000-03-14 | Printing Development Inc. | Photoresists and method for making printing plates |
US5750315A (en) * | 1996-08-13 | 1998-05-12 | Macdermid Imaging Technology, Inc. | Compressible printing plates and manufacturing process therefor |
US5874197A (en) * | 1997-09-18 | 1999-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thermal assisted photosensitive composition and method thereof |
US6007967A (en) * | 1997-12-11 | 1999-12-28 | Polyfibron Technologies, Inc. | Methods for off-contact imaging solid printing plates |
US6103355A (en) * | 1998-06-25 | 2000-08-15 | The Standard Register Company | Cellulose substrates with transparentized area and method of making same |
US6143120A (en) * | 1998-06-25 | 2000-11-07 | The Standard Register Company | Cellulose substrates with transparentized area and method of making |
WO2000002091A1 (fr) * | 1998-07-07 | 2000-01-13 | Kansai Paint Co., Ltd. | Composition de resist de soudage a base d'eau |
EP0989172A1 (de) * | 1998-09-24 | 2000-03-29 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Kleber für metallische Folien, mit diesem Kleber überzogene metallische Folie, mit der metallischen Folie überzogene Schichtplatte und daraus hergestellte Erzeugnisse |
US6358596B1 (en) | 1999-04-27 | 2002-03-19 | The Standard Register Company | Multi-functional transparent secure marks |
US6808865B1 (en) * | 1999-06-07 | 2004-10-26 | Goo Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition of aqueous emulsion type |
US6413699B1 (en) * | 1999-10-11 | 2002-07-02 | Macdermid Graphic Arts, Inc. | UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same |
JP4458389B2 (ja) | 2000-05-01 | 2010-04-28 | コダック株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
US6607813B2 (en) | 2001-08-23 | 2003-08-19 | The Standard Register Company | Simulated security thread by cellulose transparentization |
US6861203B2 (en) * | 2001-12-13 | 2005-03-01 | Creo Inc. | Non-permanent inkjetted flexographic mask |
US6911263B2 (en) * | 2002-01-30 | 2005-06-28 | Awi Licensing Company | PET wear layer/sol gel top coat layer composites |
US20050142480A1 (en) * | 2002-03-14 | 2005-06-30 | Bode Udo D. | Photosensitive element for use as flexographic printing plate |
US7344970B2 (en) | 2002-04-11 | 2008-03-18 | Shipley Company, L.L.C. | Plating method |
US6984478B2 (en) | 2002-09-16 | 2006-01-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Print control for flexographic printing |
US7303854B2 (en) * | 2003-02-14 | 2007-12-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode-forming composition for field emission type of display device, and method using such a composition |
JP2005049608A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 体積型ホログラム記録用感光性組成物及びそれを用いた体積型ホログラム記録媒体 |
US20050037278A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-17 | Jun Koishikawa | Photosensitive thick-film paste materials for forming light-transmitting electromagnetic shields, light-transmitting electromagnetic shields formed using the same, and method of manufacture thereof |
US7105588B2 (en) * | 2003-10-10 | 2006-09-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Screen printable hydrogel for medical applications |
US20050170287A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-04 | Kanga Rustom S. | Photosensitive printing sleeves and method of forming the same |
US20050176246A1 (en) | 2004-02-09 | 2005-08-11 | Haixin Yang | Ink jet printable thick film ink compositions and processes |
US7683107B2 (en) * | 2004-02-09 | 2010-03-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet printable thick film compositions and processes |
US20050173680A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-08-11 | Haixin Yang | Ink jet printable thick film ink compositions and processes |
US7682775B2 (en) * | 2004-03-05 | 2010-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a flexographic printing plate |
US7217756B2 (en) * | 2004-03-22 | 2007-05-15 | Napp Systems, Inc. | High performance water-based primer |
JP4471101B2 (ja) * | 2004-07-30 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
US20060027307A1 (en) * | 2004-08-03 | 2006-02-09 | Bidwell Larry A | Method of application of a dielectric sheet and photosensitive dielectric composition(s) and tape(s) used therein |
US7135267B2 (en) * | 2004-08-06 | 2006-11-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable photoimageable compositions for use in photo-patterning methods |
US7309550B2 (en) * | 2004-09-20 | 2007-12-18 | Chemence, Inc. | Photosensitive composition with low yellowing under UV-light and sunlight exposure |
US7371335B2 (en) * | 2004-10-21 | 2008-05-13 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Curable thick film compositions for use in moisture control |
US20060154180A1 (en) | 2005-01-07 | 2006-07-13 | Kannurpatti Anandkumar R | Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element |
JP4469741B2 (ja) * | 2005-03-03 | 2010-05-26 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
US7381353B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-06-03 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7384577B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-06-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7569165B2 (en) * | 2005-03-09 | 2009-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7326370B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-02-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US20060223690A1 (en) * | 2005-04-01 | 2006-10-05 | Tsutomu Mutoh | Photosensitive thick-film dielectric paste composition and method for making an insulating layer using same |
EP1739688A1 (de) | 2005-06-29 | 2007-01-03 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Verfahren zur Herstellung einer leitfähigen Zusammensetzung und eines rückseitigen Trägers einer Plasmaanzeige |
JP2007012371A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | E I Du Pont De Nemours & Co | 導電組成物およびプラズマディスプレイの背面基板の製造方法 |
US20070023388A1 (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-01 | Nair Kumaran M | Conductor composition for use in LTCC photosensitive tape on substrate applications |
US7291292B2 (en) * | 2005-08-26 | 2007-11-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of silver particles using thermomorphic polymers |
US20070059459A1 (en) * | 2005-09-12 | 2007-03-15 | Haixin Yang | Ink jet printable hydrogel for sensor electrode applications |
JP2007079152A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Nippon Paint Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
US7666328B2 (en) * | 2005-11-22 | 2010-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thick film conductor composition(s) and processing technology thereof for use in multilayer electronic circuits and devices |
US7645564B2 (en) * | 2006-03-03 | 2010-01-12 | Haixin Yang | Polymer solutions, aqueous developable thick film compositions, processes of making and electrodes formed thereof |
US20070238036A1 (en) * | 2006-03-22 | 2007-10-11 | Keiichiro Hayakawa | Dielectric, display equipped with dielectric, and method for manufacturing said dielectric |
US7678457B2 (en) * | 2006-03-23 | 2010-03-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Dielectric and display device having a dielectric and dielectric manufacturing method |
US20070246662A1 (en) * | 2006-04-20 | 2007-10-25 | Jean-Pierre Tahon | Radiation image phosphor or scintillator panel |
US7678296B2 (en) * | 2006-05-04 | 2010-03-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US20070269750A1 (en) * | 2006-05-19 | 2007-11-22 | Eastman Kodak Company | Colored masking for forming transparent structures |
US7608784B2 (en) * | 2006-07-13 | 2009-10-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive conductive paste for electrode formation and electrode |
US7655864B2 (en) * | 2006-07-13 | 2010-02-02 | E.I Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive conductive paste for electrode formation and electrode |
US8858681B2 (en) * | 2007-04-23 | 2014-10-14 | W. L. Gore & Associates, Inc. | Patterned porous venting materials |
US7691550B2 (en) * | 2007-06-20 | 2010-04-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making a relief printing form |
US20090039781A1 (en) * | 2007-08-08 | 2009-02-12 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Electrode paste for plasma display panel and black bus electrode for plasma display panel |
US8470518B2 (en) | 2007-09-14 | 2013-06-25 | E I Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element |
WO2009143094A2 (en) * | 2008-05-19 | 2009-11-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Co-processable photoimageable silver and carbon nanotube compositions and method for field emission devices |
EP2154572B1 (de) | 2008-08-15 | 2017-05-03 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Verfahren zur Herstellung eines zylinderförmigen lichtempfindlichen Elements zur Verwendung als Druckform |
US8465904B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-06-18 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a printing form from a photopolymerizable element |
JP5021046B2 (ja) * | 2009-02-26 | 2012-09-05 | エルジー ケム. エルティーディ. | 感光性樹脂組成物 |
US8129088B2 (en) | 2009-07-02 | 2012-03-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode and method for manufacturing the same |
EP2448764B1 (de) | 2009-07-02 | 2016-03-02 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Verfahren zur herstellung einer reliefdruckform und deren verwendung zum drucken eines materials auf ein substrat |
US20110083874A1 (en) | 2009-10-09 | 2011-04-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode and method for manufacturing the same |
US8476000B2 (en) * | 2010-06-04 | 2013-07-02 | Ryan Vest | Method of producing a relief image from a liquid photopolymer resin |
BRPI1100786A2 (pt) * | 2011-01-19 | 2015-08-18 | André Jacobovitz | Fotopolímero para gravação de holograma de volume e processo para produzi-lo |
US9069252B2 (en) | 2011-08-26 | 2015-06-30 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a relief printing form |
JP5503615B2 (ja) * | 2011-09-26 | 2014-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 凸版印刷版 |
US9134612B2 (en) | 2012-03-27 | 2015-09-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor having elastomeric cap layer and a method of preparing a printing form from the precursor |
US9096090B2 (en) * | 2012-05-09 | 2015-08-04 | Ryan W. Vest | Liquid platemaking with laser engraving |
US9097974B2 (en) | 2012-08-23 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a relief printing form |
US9477152B2 (en) | 2012-09-27 | 2016-10-25 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor having indicia and a method for preparing a printing form from the precursor |
US20140313493A1 (en) | 2013-04-18 | 2014-10-23 | E I Du Pont De Nemours And Company | Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element |
US9063420B2 (en) | 2013-07-16 | 2015-06-23 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoresist composition, coated substrate, and method of forming electronic device |
US9410016B2 (en) | 2013-07-16 | 2016-08-09 | Dow Global Technologies Llc | Aromatic polyacetals and articles comprising them |
US8933239B1 (en) | 2013-07-16 | 2015-01-13 | Dow Global Technologies Llc | Bis(aryl)acetal compounds |
US8962779B2 (en) | 2013-07-16 | 2015-02-24 | Dow Global Technologies Llc | Method of forming polyaryl polymers |
US9182669B2 (en) | 2013-12-19 | 2015-11-10 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Copolymer with acid-labile group, photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device |
US9229319B2 (en) | 2013-12-19 | 2016-01-05 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating copolymer and associated photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device |
US9581901B2 (en) | 2013-12-19 | 2017-02-28 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating copolymer and associated photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device |
US10668711B2 (en) | 2015-06-02 | 2020-06-02 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor, a process for making the precursor, and a method for preparing a printing form from the precursor |
US9957339B2 (en) | 2015-08-07 | 2018-05-01 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Copolymer and associated layered article, and device-forming method |
US9815930B2 (en) | 2015-08-07 | 2017-11-14 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Block copolymer and associated photoresist composition and method of forming an electronic device |
US9758610B2 (en) | 2015-12-18 | 2017-09-12 | Dow Global Technologies Llc | Acid-labile hyperbranched copolymer and associated photoresist composition and method of forming an electronic device |
US11613519B2 (en) | 2016-02-29 | 2023-03-28 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating monomer, polymer derived therefrom, photoresist composition including the polymer, and method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition |
US9921475B1 (en) | 2016-08-31 | 2018-03-20 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating compound, polymer derived therefrom, photoresist composition including the photoacid-generating compound or polymer, and method of forming a photoresist relief image |
US10088749B2 (en) | 2016-09-30 | 2018-10-02 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating compound and associated polymer, photoresist composition, and method of forming a photoresist relief image |
US10625334B2 (en) | 2017-04-11 | 2020-04-21 | Macdermid Graphics Solutions, Llc | Method of producing a relief image from a liquid photopolymer resin |
US20200207142A1 (en) | 2019-01-02 | 2020-07-02 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Liquid Photopolymer Resin Compositions for Flexographic Printing |
US11046092B2 (en) | 2019-02-13 | 2021-06-29 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Photopolymer film with UV filtering |
CN109867365B (zh) * | 2019-03-11 | 2021-09-28 | 河海大学 | 一种双三角管阀控可再生的生态修复系统 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1134381A (en) * | 1912-10-30 | 1915-04-06 | Joseph Arthur Henry Hatt | Process for producing printing-plates. |
US1574357A (en) * | 1922-03-08 | 1926-02-23 | Wadsworth Watch Case Co | Photographic media and process |
US1655127A (en) * | 1925-08-28 | 1928-01-03 | Wadsworth Watch Case Co | Photographic and etching process and product |
GB310820A (en) * | 1927-10-29 | 1929-04-29 | Karl Dulik | Process and apparatus for the production of half tone transparencies by contact printing |
US1965710A (en) * | 1931-01-21 | 1934-07-10 | Eastman Kodak Co | Photomechanical resist |
US1957900A (en) * | 1931-01-21 | 1934-05-08 | Eastman Kodak Co | Photo-mechanical resist |
US2080965A (en) * | 1932-02-25 | 1937-05-18 | Funck Harry | Process of photoengraving |
US1981102A (en) * | 1932-08-10 | 1934-11-20 | Agfa Ansco Corp | Photographic material and process of making the same |
BE398098A (de) * | 1932-08-20 | |||
US2115198A (en) * | 1933-02-22 | 1938-04-26 | Ig Farbenindustrie Ag | Engraving roller for the manufacture of lenticular film |
US2100358A (en) * | 1935-10-28 | 1937-11-30 | Thomson Symon Co | Paperboard printing plate and process of making same |
US2108822A (en) * | 1935-11-11 | 1938-02-22 | Wells A Lippincott | Printing plate and formation thereof |
US2215128A (en) * | 1939-06-07 | 1940-09-17 | Meulendyke Charles Edmund | Material and process for obtaining metal printing plates with silver halide emulsions |
US2367670A (en) * | 1941-12-31 | 1945-01-23 | Du Pont | Cementing process |
US2367420A (en) * | 1942-06-22 | 1945-01-16 | Lithomat Corp | Photogravure printing plate and method of making same |
US2397616A (en) * | 1942-06-22 | 1946-04-02 | Lithomat Corp | Photogravure printing plate |
GB566795A (en) * | 1943-04-14 | 1945-01-15 | William Elliott Frew Gates | Improvements in and relating to the production of relief images |
US2417238A (en) * | 1943-08-26 | 1947-03-11 | Du Pont | Polymerization of alpha-methylene monocarboxylic acid esters |
US2544237A (en) * | 1944-07-01 | 1951-03-06 | Noc Company Di | Photosensitive transfer |
US2475980A (en) * | 1946-04-15 | 1949-07-12 | Eastman Kodak Co | Light-sensitive piperine compositions |
US2480749A (en) * | 1947-08-27 | 1949-08-30 | Du Pont | Process for preparing cast synthetic resin having integral patterned effects |
US2480751A (en) * | 1948-01-22 | 1949-08-30 | Du Pont | Preparation of cast synthetic resin having integral sheen |
US2480752A (en) * | 1948-03-09 | 1949-08-30 | Du Pont | Cast synthetic resin with integral sheen |
US2544905A (en) * | 1948-10-23 | 1951-03-13 | Eastman Kodak Co | Method of making photographic relief images |
US2596713A (en) * | 1949-02-09 | 1952-05-13 | Eastman Kodak Co | Antihalation layer for cellulose ester lithographic printing plates |
US2639995A (en) * | 1949-02-28 | 1953-05-26 | Jr John H Perry | Process and apparatus for preparing a printing plate |
FR65803E (de) * | 1950-03-09 | 1956-03-21 | ||
GB681212A (en) * | 1950-03-24 | 1952-10-22 | Mccorquodale & Company Ltd | Improvements in or relating to photomechanical reproduction |
US2670287A (en) * | 1951-01-20 | 1954-02-23 | Eastman Kodak Co | Photosensitization of polymeric cinnamic acid esters |
US2673151A (en) * | 1952-03-13 | 1954-03-23 | Pittsburgh Plate Glass Co | Photosensitive resin composition |
-
0
- NL NL101499D patent/NL101499C/xx active
- NL NL87862D patent/NL87862C/xx active
- BE BE525225D patent/BE525225A/xx unknown
-
1952
- 1952-08-20 FR FR1072322D patent/FR1072322A/fr not_active Expired
- 1952-08-20 DE DEP8215A patent/DE1031130B/de active Pending
- 1952-08-20 GB GB20946/52A patent/GB741294A/en not_active Expired
- 1952-12-19 US US326841A patent/US2760863A/en not_active Expired - Lifetime
-
1953
- 1953-05-01 GB GB12197/53A patent/GB741441A/en not_active Expired
- 1953-05-01 GB GB20708/54A patent/GB741470A/en not_active Expired
- 1953-10-27 DE DEP10709A patent/DE1093209B/de active Pending
- 1953-12-15 CH CH332842D patent/CH332842A/de unknown
-
1955
- 1955-10-20 US US541723A patent/US2791504A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1109226B (de) * | 1958-12-17 | 1961-06-22 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen und/oder gedruckter Schaltungselemente |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL87862C (de) | |
BE525225A (de) | |
GB741470A (en) | 1955-12-07 |
DE1093209B (de) | 1960-11-17 |
GB741441A (en) | 1955-12-07 |
FR1072322A (fr) | 1954-09-10 |
US2791504A (en) | 1957-05-07 |
US2760863A (en) | 1956-08-28 |
CH332842A (de) | 1958-09-30 |
NL101499C (de) | |
GB741294A (en) | 1955-11-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1031130B (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckformen | |
DE1906668C3 (de) | Fotografisches Aufzeichnungsmaterial für Bildreproduktionen und Verfahren zu seiner Herstellung sowie ein Reproduktionsverfahren | |
DE1140080B (de) | Platte zur Erzeugung von Reliefdruckformen durch Photopolymerisation | |
DE1138320B (de) | Platte zur Herstellung von Reliefformen fuer Druckzwecke durch Photopolymerisation | |
DE1622298B2 (de) | Vorbeschichtete Offset-Druckplatte | |
DE1924317A1 (de) | Fotopolymerisierbare Masse | |
DE2617124C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern | |
DE2362005A1 (de) | Verfahren zum wasserfestmachen von photopolymeren druckplatten | |
EP0295547B1 (de) | Durch Photopolymerisation vernetzbares Gemisch | |
DE2725730A1 (de) | Photomaterial | |
DE1902639A1 (de) | Photopolymerisierbare Harzzubereitungen,wasserwaschbare Photopolymerisat-Druckplatten und ihre Herstellung | |
DE1905012C3 (de) | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zum Herstellen von Reliefs | |
DE69811033T2 (de) | Siebdruckschablone | |
DE2407033A1 (de) | Lichtvernetzbare polymere und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE1572062C3 (de) | Lichtempfindliche Kopierschicht | |
DE2816774A1 (de) | Photopolymerisierbares material | |
DE2629883A1 (de) | Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial | |
DE1298414B (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
DE1471687A1 (de) | Verfahren zur Bilduebertragung auf thermischem Wege | |
DE1282447B (de) | Feste, fotopolymerisierbare Schicht zur Erzeugung von Bildern oder Druckplatten | |
DE1262775B (de) | Photopolymerisierbare Masse zur Herstellung von Druckklischees | |
DE1772662B1 (de) | Verfahren zur photographischen Herstellung einer Reliefplatte,die ein photopolymerisates raeumliches Bild traegt | |
DE2341734A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer reliefstruktur | |
DE1815457A1 (de) | Verfahren zur Herstellung polymerer Reliefdruckplatten | |
DE4311738C1 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzungen und Verwendung derselben für Druckplatten |