DE102004027842A1 - Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat - Google Patents

Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat Download PDF

Info

Publication number
DE102004027842A1
DE102004027842A1 DE102004027842A DE102004027842A DE102004027842A1 DE 102004027842 A1 DE102004027842 A1 DE 102004027842A1 DE 102004027842 A DE102004027842 A DE 102004027842A DE 102004027842 A DE102004027842 A DE 102004027842A DE 102004027842 A1 DE102004027842 A1 DE 102004027842A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
metal
coating
precursor
magnesium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102004027842A
Other languages
English (en)
Inventor
Heike Arndt
Mohammad Jilavi
Martin Mennig
Peter W. Oliveira
Helmut Schmidt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Leibniz-Institut fur Neue Materialien Gemeinn De
Original Assignee
Leibniz Institut fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leibniz Institut fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige GmbH filed Critical Leibniz Institut fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige GmbH
Priority to DE102004027842A priority Critical patent/DE102004027842A1/de
Priority to JP2007526279A priority patent/JP2008501557A/ja
Priority to US11/570,112 priority patent/US20080261053A1/en
Priority to EP05752553A priority patent/EP1778598A2/de
Priority to PCT/EP2005/006113 priority patent/WO2005120154A2/de
Publication of DE102004027842A1 publication Critical patent/DE102004027842A1/de
Priority to US14/029,971 priority patent/US20140017399A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/105—
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/28—Other inorganic materials
    • C03C2217/284—Halides
    • C03C2217/285—Fluorides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/29—Mixtures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

Beschrieben wird ein Substrat mit einer abrieb- und kratzfesten Beschichtung mit niedriger Brechzahl, umfassend Magnesiumfluorid und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid. Die Beschichtung kann durch Aufbringen einer Beschichtungszusammensetzung, umfassend Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon, und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon, auf ein Substrat und anschließende Wärmebehandlung erhalten werden. DOLLAR A Die Beschichtung eignet sich für optische Schichten insbesondere auf lichtdurchlässigen Substraten. Beispiele für geeignete Anwendungen sind Antireflexschichten und Interferenzschichtpakete.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Substrat mit einer abrieb- und kratzfesten Beschichtung mit niedriger Brechzahl, umfassend Magnesiumfluorid und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid, ein Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung sowie die für das Verfahren verwendete Beschichtungszusammensetzung und deren Herstellung.
  • Viele Fluoride von Erdalkalimetallen, insbesondere Magnesiumfluorid (MgF2), zeichnen sich durch einen niedrigen Brechungsindex aus und sind daher als Materialien für dielektrische Mehrfachbeschichtungen und besonders für Antireflexbeschichtungen von großem Interesse. Diese Materialien werden sowohl als Komponenten in Mehrschichtsystemen als auch als Einzelschichten eingesetzt. Als λ/4-Anitreflex-Einzelschicht wird insbesondere Magnesiumfluorid verwendet.
  • Im Allgemeinen werden dünne MgF2-Schichten über aufwendige und teure PVD- und CVD-Verfahren oder Sputtern erzeugt. Nachteil dieser Verfahren ist, dass die Beschichtung von großen Substraten sehr mühsam und kostspielig wird und gekrümmte Substrate nicht homogen beschichtet werden können. Außerdem kann keine gute Abriebfestigkeit erzielt werden. Ein weiterer Nachteil der so erzeugten Schichten ist, dass diese im Allgemeinen sehr dicht sind und daher näherungsweise einen dem Bulkmaterial entsprechenden Brechungsindex (n = 1,38) aufweisen. Dieser Brechungsindex ist ausreichend niedrig, um in Mehrschichtsystemen eingesetzt zu werden. Um jedoch optimale Antireflexeigenschaften auf gängigen Substraten mit einem Brechungsindex von ca. 1,5 (z.B. Glas) erzielen zu können, muss eine Antireflex-Einzelschicht idealerweise einen Brechungsindex von n = 1,22
    Figure 00010001
    aufweisen.
  • Eine Möglichkeit, um den Brechungsindex einer Schicht zu erniedrigen, besteht in der Erhöhung ihrer Porosität. Dies kann erreicht werden, indem die MgF2-Schichten nasschemisch appliziert werden.
  • EP-A-0641739 beschreibt die Synthese von Natrium-Magnesiumfluorid-Solen (NaF·MgF2). Dabei werden wässrige Natriumfluorid- und Magnesiumsalzlösungen gemischt und die gebildeten Nebenprodukt-Salze werden dann durch aufwendige Filtrationsverfahren abgetrennt. Die erhaltenen Aggregate der kolloidalen Partikel werden schließlich nass gemahlen. Um Antireflex-Beschichtungsmaterialien zu erhalten, werden nach einem Lösemittelaustausch die NaF·MgF2-Sole mit Filmbildnern gemischt und auf Glas appliziert. Die Transmission der beschichteten Gläser liegt jedoch nur bei 94,05% (550 nm) gegenüber 91,61 % (550 nm) für das unbeschichtete Glas. Neben der aufwendigen Synthese des Beschichtungsmaterials ist vor allem die unzureichende Antireflexwirkung dieser Schichten als Nachteil zu werten.
  • In ähnlicher Weise werden in JP-A-2026824 Magnesiumfluorid-Sole hergestellt. Auch hier werden wässrige Magnesiumsalzlösungen mit wässrigen Fluorid-Lösungen gemischt und erhitzt. Auch hier müssen Nebenprodukt-Salze mittels Ultrafiltration entfernt werden.
  • Dünne Schichten mit einem Brechungsindex von n = 1,16 (193 nm) auf optischen Substraten führen gemäß EP-A-1 315 005 zu einem Transmissionsverlust von weniger als 0,5 %. Die Schichten werden durch Applikation eines MgF2-Sols erzeugt. Das MgF2-Sol wird dabei durch Umsetzung von Magnesiumacetat mit Flusssäure in Methanol erhalten und anschließend autoklaviert.
  • Auch I. M. Thomas, Applied Optics 27 (1988) 3356-3358, beschreibt die Erzeugung von Magnesiumfluorid-Solen durch Umsetzung von Magnesiumacetattetrahydrat oder Magnesiummethanolat mit Flusssäure in trockenem Methanol. Quarzglas, das mit diesen Solen beschichtet ist, zeigt eine Transmission von annähernd 100 (~350 nm), d.h. der Brechungsindex dieser Schichten beträgt ca. 1,2. Somit sind Antireflexschichten mit den gewünschten optischen Eigenschaften zwar zugänglich, ein immenser Nachteil dieser Methode ist jedoch die Verwendung von Flusssäure (HF), da Flusssäure hochtoxisch ist.
  • Eine Sol-Gel-Route zur Herstellung von Magnesiumfluorid mit nicht-toxischen Ausgangstoffen wird in EP-A-071348 beschrieben. Dabei wird beispielsweise Magnesium in einem wasserfreien Lösungsmittel gelöst und mit fluorierten Alkoholen zum Fluoralkoxid umgesetzt. Nach Filtration der Lösung erfolgt die Hydrolyse der Mg-Alkoxide. Dieses Verfahren hat zwar den Vorteil, dass von nicht-toxischen, ungefährlichen Edukten ausgegangen wird, allerdings sind Edukte wie wasserfreie Lösungsmittel und fluorierte Alkohole kostspielig. Des Weiteren finden sich in dieser Patentanmeldung keinerlei Angaben über die optischen oder mechanischen Eigenschaften von Schichten, welche durch Tauchapplikation z.B. auf Glas der oben beschriebenen Sole erhältlich sind.
  • Eine weitere Methode zur Erzeugung von Magnesiumfluorid-Schichten, bei welchen von nicht-toxischen Edukten ausgegangen wird, wird in US-A-44932721 beschrieben. Dort werden Magnesiumfluorid-Schichten durch die thermische Disproportionierung von fluorhaltigen Magnesiumverbindungen wie Magnesiumtrifluoracetat, Magnesiumtrifluoracetylacetonat oder Magnesiumhexafluoracetylacetonat erzeugt. Die genannten Verbindungen werden in organischen Lösungsmitteln wie Butylacetat oder Ethylenglycolmonoethylether gelöst, mittels Schleudern, Sprühen oder Tauchen auf Substrate (Glas, Quarzglas) aufgebracht und bei mindestens 300°C für mindestens 1 min ausgehärtet. Die so erhaltenen Schichten besitzen einen Brechungsindex von 1,36 bis 1,38 und liegen damit im Bereich des Bulkmaterials. Dennoch zeigen so beschichtete Glassubstrate eine Restreflexion von 0,5%.
  • Auf ähnliche Weise werden nach S. Fujihara et al., Journal of Sol-Gel-Science and Technology 19 (2000) 311-314, Magnesiumfluorid-Schichten erzeugt. Eine Route beinhaltet die Umsetzung von Magnesiumacetat mit Trifluoressigsäure (TFA) und Wasser in 2-Propanol. Die Applikation dieser Sole auf Quarzglas mittels Schleudern und anschließendes Härten der Schichten bei 400°C bis 500°C ergeben Schichten, deren Brechungsindex im gewünschten Bereich (n = 1,2) liegt. Eigene Untersuchungen haben jedoch gezeigt, dass bei der Applikation der nach dieser Vorschrift hergestellten Sole schwerwiegende Benetzungsprobleme auftreten.
  • Wird hingegen Magnesiumethanolat (Mg(OEt)2) mit Trifluoressigsäure (TFA) in 2-Propanol zu Magnesiumtrifluoroacetat umgesetzt (S. Fujihara et al., Thin Solid Films 304 (1997) 252-255), zeigen sich nach eigenen Untersuchungen bei der Applikation selten Benetzungsprobleme. Die auf diese Weise hergestellten Sole wurden nach dieser Literaturstelle mittels Schleudern auf Quarzglas appliziert und bei Temperaturen von 300°C bis 600°C für 10 min gehärtet. Die so beschichteten Substrate zeigen eine relativ geringe Transmission von maximal ca. 96,6%. Angaben zum Brechungsindex dieser Schichten fehlen.
  • Es ist bekannt, dass Sole von Metall- oder Halbmetalloxiden für Schichten aus Metall- oder Halbmetalloxiden, wie ZrO2-, Al2O3-, TiO2-, Ta2O5- oder SiO2-Schichten, Beschichtungen mit guter optischer Qualität ergeben können, ihre Brechzahl liegt aber deutlich höher (1,46 bis 2,3) als die von MgF2-Schichten.
    •
  • Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, unter Verwendung von nicht oder nur wenig toxischen Ausgangsstoffen eine nasschemische Syntheseroute für niedrigbrechende optische Schichten bereitzustellen, die sich durch eine gute optische Qualität und insbesondere einen geringen Brechungsindex auszeichnen. Überdies sollte eine über den Stand der Technik hinausgehende Abriebfestigkeit dieser Schichten erreicht werden.
  • Die Aufgabe konnte überraschenderweise durch eine Beschichtungszusammensetzung gelöst werden, die Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon umfasst. Die erfindungsgemäße Beschichtungszusammensetzung kann in einfacher Weise nasschemisch auf ein Substrat aufgebracht und durch Wärmebehandlung gehärtet bzw. verdichtet werden. Die Erfindung stellt somit auch ein Substrat mit einer abrieb- und kratzfesten Beschichtung mit niedriger Brechzahl, umfassend Magnesiumfluorid und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid, bereit.
  • Erstaunlicherweise wurde gefunden, dass durch den erfindungsgemäßen Herstellungsweg keine signifikante Erhöhung der Brechzahl der Magnesiumfluorid-Halb metall-/Metalloxid-Schichten gegenüber reinen Magnesiumfluoridschichten zu verzeichnen ist, sich ihre Kratzfestigkeit aber deutlich erhöht.
  • Die Beschichtungszusammensetzung umfasst Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon. Bevorzugt liegt das mindestens eine Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon in der Beschichtungszusammensetzung als Sol vor, d.h. die Beschichtungszusammensetzung ist bevorzugt ein Beschichtungssol. Das Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon können in Form eines Sols oder als Lösung vorliegen. Die Beschichtungszusammensetzung wird bevorzugt hergestellt, indem ein Sol oder eine Lösung von Magnesiumfluorid oder einer Vorstufe davon und ein Sol von mindestens einem Metall- oder Halbmetalloxid oder einer Vorstufe davon miteinander gemischt werden.
  • Das Sol oder die Lösung von Magnesiumfluorid oder einer Vorstufe davon kann auf jede nach dem Stand der Technik bekannte Weise hergestellt werden, die zum Teil vorstehend aufgeführt wurden. Bevorzugt wird das Sol oder die Lösung aus der Umsetzung einer Magnesiumverbindung, bevorzugt einer hydrolysierbaren Magnesiumverbindung, mit einer fluorierten organischen Verbindung erhalten, wobei die Reaktion gewöhnlich in einem organischen Lösungsmittel durchgeführt wird. Unter hydrolysierbar wird hier auch die Hydratisierbarkeit der Mg-Verbindung verstanden.
  • Unter einer Vorstufe sind hierbei insbesondere Verbindungen von Magnesium gemeint, die in MgF2 überführt werden können, insbesondere bei den Bedingungen zur Herstellung des erfindungsgemäßen Substrats, wie bei der Wärmebehandlung. So können z.B. Magnesiumverbindungen oder -komplexe von fluorierten organischen Verbindungen durch eine thermische Disproportionierungsreaktion in Magnesiumfluorid überführt werden. Gegebenenfalls erfolgen Disproportionierungsreaktionen bzw. die Überführung in MgF2 bereits bei Raumtemperatur, so dass in dem Sol oder der Lösung bereits MgF2 enthalten sein kann. Natürlich kann gegebenenfalls das Gemisch von Magnesiumverbindung und fluorierter Verbindung auch erwärmt werden, etwa um die Umwandlung in MgF2 in dem Sol bzw. der Lösung zu fördern.
  • Als Magnesiumverbindung eignen sich alle Verbindungen, die mit einer fluorierten organischen Verbindung umgesetzt werden können, insbesondere hydrolysierbare Magnesiumverbindungen. Beispiele sind Magnesiumalkoxide. Die Alkoxygruppe des Magnesiumalkoxid hat bevorzugt 1 bis 12 Kohlenstoffatome, wobei Magnesiummethanolat, Magnesiumethanolat, Magnesiumpropanolat und Magnesiumbutanolat bevorzugt sind. Die am meisten bevorzugte Verbindung ist Magnesiumethanolat (Mg(OEt)2). Das Alkoxid kann linear oder verzweigt sein, z.B. n-Propanolat oder Isopropanolat.
  • Als fluorierte organische Verbindung wird bevorzugt eine organische Verbindung mit einer CF3-Gruppe verwendet. Bevorzugt eingesetzte organische Verbindungen sind Ketone, insbesondere β-Diketone, und Carbonsäuren. Beispiele sind Trifluoracetylaceton, Hexafluoracetylaceton und Trifluoressigsäure, wobei Trifluoressigsäure besonders bevorzugt ist.
  • Als Lösungsmittel kann jedes geeignete Lösungsmittel verwendet werden, z.B. eines der nachstehend für die Herstellung der Metall- oder Halbmetalloxide aufgeführten. Zweckmäßig sind z.B. Alkohole. Beispiele sind Ethanol, n-Propanol, 2-Propanol oder Butanol.
  • Ein bevorzugter Herstellungsweg für das Sol oder die Lösung mit Magnesiumfluorid oder einer Vorstufe davon kann wie folgt beschrieben werden. Es wird eine hydrolysierbare Magnesiumverbindung, bevorzugt Magnesiumalkoholat, besonders bevorzugt Magnesiumethylat, in einem organischen Lösungsmittel, bevorzugt einem Alkohol, besonders bevorzugt 2-Propanol, dispergiert und anschließend mit einer organischen Verbindung, die mindestens eine CF3-Gruppe enthält, umgesetzt. Bevorzugt werden dafür CF3-Gruppen enthaltende Ketone und Carbonsäuren, insbesondere Trifluoressigsäure, verwendet. Anschließend werden eventuell vorhandene nicht gelöste Bestandteile abfiltriert.
  • Als Metall- oder Halbmetalloxide können alle Oxide von Metallen oder Halbmetallen (im Folgenden auch gemeinsam als M abgekürzt) eingesetzt werden. Insbesondere werden Oxide von Metallen oder Halbmetallen der Hauptgruppen III bis VI, insbe sondere der Hauptgruppen III und IV, und/oder der Nebengruppen, bevorzugt der Nebengruppen II bis V, des Periodensystems der Elemente sowie Lanthaniden und Actiniden oder Mischoxide davon eingesetzt. Bevorzugte Metalle oder Halbmetalle M für die Metall- oder Halbmetalloxide sind z.B. B, Al, Ga, In, Si, Ge, Sn, Pb, Y, Ti, Zr, V, Nb, Ta, Mo, W, Fe, Cu, Ag, Zn, Cd, Ce und La oder Mischoxide davon. Es kann eine Art von Oxid oder eine Mischung von Oxiden eingesetzt werden.
  • Beispiele für Oxide, die gegebenenfalls hydratisiert sein können, sind ZnO, CdO, SiO2, GeO2, TiO2, ZrO2, CeO2, SnO2, Al2O3 (Böhmit, AlO(OH), auch als Aluminiumhydroxid), B2O3, In2O3, La2O3, Fe2O3, Fe3O4, Cu2O, Ta2O5, Nb2O5, V2O5, MoO3 oder WO3. Auch Silicate, Zirconate, Aluminate, Stannate von Metallen oder Halbmetallen, und Mischoxide, wie Indium-Zinn-Oxid (ITO), Antimon-Zinn-Oxid (ATO), Fluor-dotiertes Zinnoxid (FTO), Leuchtpigmente mit Y- oder Eu-haltigen Verbindungen, Spinelle, Ferrite oder Mischoxide mit Perowskitstruktur wie BaTiO3 und PbTiO3 können verwendet werden.
  • Bevorzugt sind Halbmetall- oder Metalloxide, die gegebenenfalls hydratisiert sind (Oxidhydrat), von Si, Ge, Al, B, Zn, Cd, Ti, Zr, Ce, Sn, In, La, Fe, Cu, Ta, Nb, V, Mo oder W. Besonders bevorzugt sind SiO2, Al2O3, Ta2O5, ZrO2 und TiO2, wobei ZrO2 am meisten bevorzugt ist.
  • Das Sol von mindestens einem Halbmetall- oder Metalloxid kann durch Dispergieren von hergestellten Teilchen, insbesondere nanoskaligen Teilchen, in einem Lösungsmittel oder in situ hergestellt werden. Die Teilchen können gewöhnlich auf verschiedene Weise hergestellt werden, z.B. durch Flammpyrolyse, Plasmaverfahren, Kolloidtechniken, Sol-Gel-Prozesse, kontrollierte Keim- und Wachstumsprozesse, MOCVD-Verfahren und Emulsionsverfahren. Diese Verfahren sind in der Literatur ausführlich beschrieben.
  • Das Sol von mindestens einem Halbmetall- oder Metalloxid wird vorzugsweise durch ein Sol-Gel-Verfahren hergestellt. Beim Sol-Gel-Verfahren werden gewöhnlich hydrolysierbare Verbindungen mit Wasser, gegebenenfalls unter saurer oder basischer Katalyse, hydrolysiert und gegebenenfalls zumindest teilweise kondensiert. Die Hydrolyse- und/oder Kondensationsreaktionen führen zur Bildung von Verbindungen oder Kondensaten mit Hydroxy-, Oxogruppen und/oder Oxobrücken, die als Vorstufen dienen. Durch geeignete Einstellung der Parameter, z.B. Kondensationsgrad, Lösungsmittel, Temperatur, Wasserkonzentration, Dauer oder pH-Wert, kann das die Oxide oder Vorstufen enthaltende Sol erhalten werden. Unter den Vorstufen der Oxide werden insbesondere die genannten Kondensationsprodukte verstanden. Weitere Einzelheiten des Sol-Gel-Verfahrens sind z.B. bei C.J. Brinker, G.W. Scherer: "Sol-Gel Science – The Physics and Chemistry of Sol-Gel-Processing", Academic Press, Boston, San Diego, New York, Sydney (1990) beschrieben.
  • Die Hydrolyse und Kondensation können in einem Lösungsmittel durchgeführt werden, sie können aber auch ohne Lösungsmittel durchgeführt werden, wobei bei der Hydrolyse Lösungsmittel oder andere flüssige Bestandteile gebildet werden können.
  • Als einsetzbare Lösungsmittel kommen sowohl Wasser als auch organische Lösungsmittel oder Mischungen in Betracht. Dabei handelt es sich um die üblichen, auf dem Gebiet der Beschichtung eingesetzten Lösungsmittel. Beispiele für geeignete organische Lösungsmittel sind Alkohole, vorzugsweise niedere aliphatische Alkohole (C1-C8-Alkohole), wie Methanol, Ethanol, 1-Propanol, Isopropanol und 1-Butanol, Ketone, vorzugsweise niedere Dialkylketone, wie Aceton und Methylisobutylketon, Ether, vorzugsweise niedere Dialkylether, wie Diethylether, oder Diolmonoether, Amide, wie Dimethylformamid, Tetrahydrofuran, Dioxan, Sulfoxide, Sulfone oder Butylglycol und deren Gemische. Bevorzugt werden Alkohole verwendet. Es können auch hochsiedende Lösungsmittel verwendet werden. Beim Sol-Gel-Verfahren kann das Lösungsmittel gegebenenfalls ein bei der Hydrolyse gebildeter Alkohol aus den Alkoholatverbindungen sein.
  • Als hydrolysierbare Verbindungen eignen sich prinzipiell alle hydrolysierbaren Metall- oder Halbmetallverbindungen, z.B. der vorstehend aufgeführten Metalle und Halbmetalle M. Es können eine oder mehrere hydrolysierbare Verbindungen eingesetzt werden.
  • Bei der hydrolysierbaren Metall- oder Halbmetallverbindung handelt es sich bevorzugt um Verbindungen der allgemeinen Formel MXn (I), worin M das vorstehend definierte Metall oder Halbmetall ist, X eine hydrolysierbare Gruppe ist, die gleich oder verschieden sein kann, wobei zwei Gruppen X durch eine zweizähnige hydrolysierbare Gruppe oder eine Oxogruppe ersetzt sein können oder drei Gruppen X durch eine dreizähnige hydrolysierbare Gruppe ersetzt sein können, und n der Wertigkeit des Elements entspricht, wenn X ein Ladung von 1 aufweist, und häufig 3 oder 4 ist. Gegebenenfalls kann die hydrolysierbare Verbindung auch nicht hydrolysierbare Gruppen aufweisen, die die hydrolysierbaren Gruppen teilweise ersetzen.
  • Beispiele für die hydrolysierbaren Gruppen X, die gleich oder voneinander verschieden sein können, sind Wasserstoff, Halogen (F, Cl, Br oder I, insbesondere Cl oder Br), Alkoxy (z.B. C1-6-Alkoxy, wie z.B. Methoxy, Ethoxy, n-Propoxy, i-Propoxy und n-, i-, sek.- oder tert.-Butoxy), Aryloxy (vorzugsweise C6-10-Aryloxy, wie z.B. Phenoxy), Alkaryloxy, z.B. Benzoyloxy, Acyloxy (z.B. C1-6-Acyloxy, vorzugsweise C1-4-Acyloxy, wie z.B. Acetoxy oder Propionyloxy), Amino und Alkylcarbonyl (z.B. C2-7-Alkylcarbonyl wie Acetyl) oder Komplexbildner wie β-Dicarbonyle (z.B. Acetylacetonato). Die genannten Gruppen können gegebenenfalls Substituenten, wie Halogen oder Alkoxy, enthalten. Bevorzugte hydrolysierbare Reste X sind Halogen, Alkoxygruppen und Acyloxygruppen, wobei Alkoholate besonders bevorzugt sind. Die Verbindungen können auch mit zusätzlichen komplexierenden Verbindungen stabilisiert sein.
  • Beispiele für Titanverbindungen der Formel TiX4 sind TiCl4, Ti(OCH3)4, Ti(OC2H5)4 Ti(pentoxy)4, Ti(hexoxy)4, Ti(2-ethylhexoxy)4, Ti(n-OC3H7)4 oder Ti(i-OC3H7)4. Weitere Beispiele für einsetzbare hydrolysierbare Verbindungen von Elementen M sind Al(OCH3)3, Al(OC2H5)3, Al(O-n-C3H7)3, Al(O-i-C3H7)3, Al(O-n-C4H9)3, Al(O-sek.-C4H9)3, AlCl3, AlCl(OH)2, Al(O2H4OC4H9)3, ZrCl4, Zr(OC2H5)4, Zr(O-n-C3H7)4, Zr(O-i-C3H7)4, Zr(OC4H9)4, ZrOCl2, Zr(pentoxy)4, Zr(hexoxy)4, Zr(2-ethylhexoxy)4, sowie Zr-Verbindungen, die komplexierende Reste aufweisen, wie z.B, β-Diketon- und (Meth)acrylreste, Borsäure, BCl3, B(OCH3)3, B(OC2H5)3, SnCl4, Sn(OCH3)4, Sn(OC2H5)4, VOCl3 und VO(OCH3)3. Beispiele für Silane der Formel SiX4 sind Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(O-n- oder -i-C3H7)4, Si(OC4H9)4, SiCl4, HSiCl3, Si(OOCCH3)4. Von diesen Silanen sind Tetraalkoxysilane bevorzugt, wobei solche mit C1-C4-Alkoxy besonders bevorzugt sind, insbesondere Tetramethoxysilan und Tetraethoxysilan (TEOS).
  • Gegebenenfalls können die Halbmetall- oder Metalloxide auch in Anwesenheit eines Komplexbildners hergestellt werden. Beispiele für geeignete Komplexbildner sind z.B. ungesättigte Carbonsäuren und β-Dicarbonyl-Verbindungen, wie z.B. (Meth)acrylsäure, Acetylaceton und Acetessigsäureethylester.
  • Ferner kann gegebenenfalls ein Haftvermittler eingesetzt werden, der gewöhnlich mit dem Teilchen von Halbmetall- oder Metalloxid oder der Vorstufe davon wechselwirkt oder gebunden bzw. komplexiert wird und dadurch das Teilchen oberflächenmodifiziert und dadurch die Haftung an dem Substrat fördert. Neben der Gruppe für die Anbindung an das Halbmetall- oder Metalloxid oder der Vorstufe davon besitzt der Haftvermittler bevorzugt eine weitere funktionelle Gruppe. Auch Komplexbildner können sich als Haftvermittler eignen.
  • Beispiele für einen Haftvermittler sind ungesättigte Carbonsäuren wie (Meth)acrylsäure und ein hydrolysierbares Silan mit mindestens einer nicht hydrolysierbaren Gruppe, wobei sich das Silan insbesondere für Sole von SiO2 eignet.
  • Beispiel für hydrolysierbare Silane mit mindestens einer nicht hydrolysierbaren Gruppe als Haftvermittler sind Verbindungen der Formel RSiX3 (II), worin X wie in Formel (I) definiert ist. Bei dem nicht hydrolysierbaren Rest R kann es sich um nicht hydrolysierbare Reste R ohne eine funktionelle Gruppe oder bevorzugt mit einer funktionellen Gruppe handeln.
  • Der nicht hydrolysierbare Rest R ist beispielsweise Alkyl (vorzugsweise C1-8-Alkyl), Alkenyl (vorzugsweise C2-6-Alkenyl), Alkinyl (vorzugsweise C2-6-Alkinyl) und Aryl (vorzugsweise C6-10-Aryl). Die Reste R und X können gegebenenfalls einen oder mehrere übliche Substituenten, wie z.B. Halogen oder Alkoxy, aufweisen. Spezielle Beispiele für die funktionellen Gruppen des Restes R sind die Epoxy-, Hydroxy-, Ether-, Amino-, Monoalkylamino-, Dialkylamino-, Amid-, Carboxy-, Vinyl-, Acryloxy-, Methacryloxy-, Cyano-, Halogen-, Aldehyd-, Alkylcarbonyl-, und Phosphorsäuregruppe. Diese funktionellen Gruppen sind über Alkylen-, Alkenylen- oder Arylen-Brückengruppen, die durch Sauerstoff- oder -NH-Gruppen unterbrochen sein können, an das Siliciumatom gebunden. Die genannten Brückengruppen leiten sich z.B. von den oben genannten Alkyl-, Alkenyl- oder Arylresten ab. Die Reste R mit einer funktionellen Gruppe enthalten vorzugsweise 1 bis 18, insbesondere 1 bis 8 Kohlenstoffatome.
  • Beispiele für Silane der Formel (II) sind hydrolysierbare Silane mit einer Glycidyloxygruppe, Aminogruppe oder (Meth)acryloxygruppen, wie γ-Glycidyloxypropyltrimethoxysilan, γ-Glycidyloxypropyltriethoxysilan, 3-(Meth)acryloxypropyltri(m)ethoxysilan, 3-(Meth)acryloxypropyltrimethoxysilan, 3-Aminopropyltriethoxysilan, N-2-Aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilan, Trimethoxysilylpropyldiethylentriamin. (Meth)acryl steht für Methacryl oder Acryl. Weitere konkrete Beispiele für hydrolysierbare Silane mit nicht hydrolysierbaren Gruppen können z.B. der EP-A-195493 entnommen werden. Bei der Oberflächenmodifizierung von nanoskaligen Teilchen handelt es sich um ein bekanntes Verfahren, wie es von der Anmelderin z.B. in WO 93/21127 ( DE 4212633 ) oder WO 96/31572 beschrieben wurde.
  • Das Halbmetall- oder Metalloxid-Sol wird somit bevorzugt aus der entsprechenden hydrolysierbaren Verbindung, bevorzugt aus dem Metallalkoxid, durch Hydrolyse, gegebenenfalls in Gegenwart eines Katalysators und/oder Komplexbildners synthetisiert. Bevorzugt werden ZrO2-Sole verwendet, die z. B. aus Zirconium-tetra-n-propylat durch Reaktion mit Salzsäure in Gegenwart von Acetylaceton hergestellt werden können.
  • Anschließend werden das Sol von dem mindestens einen Metall- oder Halbmetalloxid oder dessen Vorstufen mit der Lösung oder dem Sol von Magnesiumfluorid oder dessen Vorstufen gemischt. Das Verhältnis kann in weiten Bereichen variieren. Im allgemeinen werden die Mengen aber so gewählt, dass das Stoffmengenverhältnis der Menge an Magnesium (Mg) in Magnesiumfluorid oder dessen Vorstufen zu Metall oder Halbmetall (M) in dem mindestens einen Metall- oder Halbmetalloxid oder dessen Vorstufen Mg/M in der Beschichtungszusammensetzung im Bereich von 1:0,01 bis 1:1,8, bevorzugter im Bereich von 1:0,05 bis 1:0,5 oder 1:0,1 bis 1:0,5 und besonders bevorzugt von 1:0,1 bis 1:0,2 liegt.
  • Die Beschichtungszusammensetzung umfasst neben Magnesiumfluorid oder dessen Vorstufen und dem mindestens einen Metall- oder Halbmetalloxid oder dessen Vorstufen, dem oder den Lösungsmitteln und gegebenenfalls Komplexbildnern bzw. Haftvermittlern bevorzugt im wesentlichen keine weiteren Komponenten. Es ist aber denkbar, andere Additive zuzugeben.
  • Daher machen Magnesiumfluorid oder dessen Vorstufen und das mindestens eine Metall- oder Halbmetalloxid oder dessen Vorstufen bevorzugt mindestens 80 Gew.-%, bevorzugter mindestens 90 Gew.-% und besonders bevorzugt mindestens 95 Gew.-% des Feststoffgehalts der Beschichtungszusammensetzung aus. Der Anteil an Magnesiumfluorid oder dessen Vorstufen beträgt bevorzugt mindestens 10 Gew.-%, bevorzugter mindestens 20 Gew.-% und besonders bevorzugt mindestens 30 Gew.-%, bezogen auf den Feststoffgehalt der Beschichtungszusammensetzung.
  • Die Beschichtungszusammensetzung wird auf ein Substrat aufgebracht. Prinzipiell kommen alle Substrate in Betracht. Beispiele für ein geeignetes Substrat sind Substrate aus Metall, Halbleiter, Glas, Keramik, Glaskeramik, Kunststoff, kristallinen Substraten oder anorganisch-organischen Kompositmaterialien. Bevorzugt werden Substrate verwendet, die gegenüber einer thermischen Behandlung der Beschichtung stabil sind. Die Substrate können vorbehandelt werden, z.B. zur Reinigung, durch eine Coronabehandlung oder mit einer Vorbeschichtung (z.B. einer Lackierung oder einer metallisierten Oberfläche).
  • Die erhaltenen Schichten werden insbesondere für optische Beschichtungen bzw. optische oder optoelektronische Anwendungen verwendet. Als Substrate sind insbesondere solche bevorzugt, die zumindest in einem bestimmten Bereich oder in bestimmten Bereichen des Lichtspektrums von UV-Licht über sichtbares Licht bis Infrarot-Licht lichtdurchlässig sind. Transparente Substrate mit Lichtdurchlässigkeit im Bereich des sichtbaren Lichts sind besonders zweckmäßig.
  • Beispiele für Kunststoffsubstrate sind Polycarbonat, Polymethylmethacrylat, Polyacrylate, Polyethylenterephthalat. Bevorzugt sind transparente Kunststoffe, Gläser (z. B. silicatische Gläser, wie Fensterglas oder optische Gläser, Kieselglas, Quarzglas, Borosilicatglas oder Kalknatronsilicatglas, Chalcogenid- und Halogenidgläser usw.) sowie kristalline Substrate (z. B. Saphir, Silicium oder Lithiumniobat).
  • Als Substrate für optische Anwendungen eignen sich z.B. Flachgläser, Uhrgläser, Instrumentenabdeckungen, Linsen und andere optische Elemente, Kunststofffolien oder transparente Behälter.
  • Als Beschichtungsverfahren können alle gängigen nasschemischen Methoden zur Herstellung optischer Schichten, wie z. B. Tauch-, Schleuder-, Sprühverfahren, Walzenbeschichtungstechniken oder Kombinationen aus diesen, sowie gängige Druckverfahren, z. B. Siebdruck, Flexodruck oder Tampondruck, eingesetzt werden. Weitere Beschichtungsverfahren sind Rakeln, Gießen, Streichen, Flutbeschichten, Slotcoating, Meniskus-Coating oder Curtain-Coating.
  • Nach Trocknen der aufgetragenen Beschichtungszusammensetzung erfolgt eine thermische Nachbehandlung der Beschichtung, z.B. über 50°C. Die eingesetzte Temperatur kann in weiten Bereichen variieren, bevorzugt erfolgt eine Wärmebehandlung im Temperaturbereich von 100 °C und 600 °C, bevorzugter von 300 bis 500 °C, besonders bevorzugt von 400 bis 450 °C. Durch die Wahl der Temperatur können die optischen Eigenschaften (z.B. Reflexion, Brechzahl) und die mechanischen Eigenschaften gesteuert werden. Sie richten sich nach den optischen Eigenschaften des Substrats (Brechzahl), nach dem beabsichtigten optischen Zweck (Antireflexbeschichtung, Interferenzschichtpaket), nach der thermischen Beständigkeit des Substrats und nach der gewünschten Anwendung (Außenanwendung, Innenanwendung). Durch die Wärmebehandlung kann z.B. eine Härtung bzw. Verdichtung und/oder eine Überführung der Vorstufen in MgF2 bzw. das Oxid erfolgen.
  • Das Verhältnis von Mg zu Metall oder Halbmetall in der fertigen Sicht entspricht zumindest in etwa dem Verhältnis in der Beschichtungszusammensetzung. Wie dort kann das Verhältnis in weiten Bereichen variieren. Im allgemeinen liegt das Stoff mengenverhältnis an Magnesium (Mg) in Magnesiumfluorid zu Metall oder Halbmetall (M) in dem mindestens einen Metall- oder Halbmetalloxid in der Beschichtung im Bereich von 1:0,01 bis 1:1,8, bevorzugter im Bereich von 1:0,05 bis 1:0,5 oder 1:0,1 bis 1:0,5 und besonders bevorzugt von 1:0,1 bis 1:0,2.
  • Die Schichten bestehen bevorzugt im Wesentlichen aus MgF2 und dem mindestens einen Halbmetall- oder Metalloxid. Gegebenenfalls können z.B. die vorstehend genannten Komplexbildner oder Haftvermittler oder andere Additive in relativ geringen Mengen in der fertigen Beschichtung enthalten sein. Eingesetzte organische Komponenten wie Komplexbildner oder vom Haftvermittler können gegebenenfalls bei der Wärmebehandlung flüchtig sein oder ausgebrannt werden. Es handelt sich daher gewöhnlich um größtenteils oder im Wesentlichen anorganische Schichten.
  • Magnesiumfluorid und das mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid machen bevorzugt mindestens 80 Gew.-%, bevorzugter mindestens 90 Gew.-% und besonders bevorzugt mindestens 95 Gew.-% der Beschichtung aus. Der Anteil an Magnesiumfluorid in der Beschichtung beträgt bevorzugt mindestens 10 Gew.-%, bevorzugter mindestens 20 Gew.-% und besonders bevorzugt mindestens 30 Gew.-%.
  • Die Schichtdicke kann in weiten Bereichen variieren, liegt aber gewöhnlich im Bereich von 20 nm bis 1 μm, bevorzugt 30 bis 500 nm und besonders bevorzugt 50 bis 250 nm.
  • Die erfindungsgemäße Beschichtung kann als Einzelschicht oder als eine Schicht von einem Mehrschichtpaket verwendet werden. Bei den anderen Schichten kann es sich um gleiche, gegebenenfalls mit anderen Verhältnissen, oder um andere, gewöhnlich ebenfalls optische Schichten handeln. Dementsprechend können vor und/oder nach der Beschichtung weitere Schichten auf übliche Weise auf das Substrat aufgebracht werden.
  • In der Regel wird die Beschichtung als optische Beschichtung verwendet. Die Beschichtung eignet sich insbesondere für Antireflexbeschichtungen, insbesondere als Einzelschicht, und für Interferenzschichtpakete. Diese Antireflex- und Interfe renzschichten werden bevorzugt auf transparenten Substraten oder Substraten, die in mindestens einem Bereich des Wellenlängenbereichs vom UV-Licht bis IR-Licht lichtdurchlässig sind, verwendet.
  • Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung weiter, ohne sie einzuschränken. Die Lösung oder das Sol mit MgF2 oder dessen Vorstufen wird dabei vereinfacht als MgF2-Sol bezeichnet, auch wenn es sich um eine Lösung von MgF2-Vorstufen handeln sollte.
    •
  • A) Herstellung der Sole
  • MgF2-Sol: Bei Raumtemperatur werden 25,396 g (0,22 mol) Magnesiumthylat in 522,810 g 2-Propanol gegeben. Zu der gerührten Dispersion werden 51,016 g (0,35 mol) Trifluoressigsäure (TFA) gegeben und bei Raumtemperatur gerührt. Zu Beginn der Reaktion ist eine leichte Erwärmung des Reaktionsgemisches zu beobachten. Mit Fortschreiten der Reaktion ist ein zunehmendes Aufklaren des Reaktionsgemisches zu beobachten. Nach 2 h werden eventuell vorhandene unlösliche Bestandteile mittels eines Spritzenfilters (1,2 μm) abgetrennt und dann wird die Reaktionsmischung bei Raumtemeratur stehen gelassen. Über Nacht bildet sich ein farbloser Niederschlag, welcher über einen Faltenfilter abgetrennt wird. Das Filtrat wird erneut über ein 1,2 μm-Spritzenfilter filtriert und es resultiert eine gelbe Lösung. Die Beschichtungszusammensetzung ist bei Raumtemperatur mindesten 4 Wochen lagerstabil.
  • SiO2-Sol: Bei Raumtemperatur werden 13,29 g (87,3 mmol) Tetramethoxysilan (TMOS) in 11,80 g Ethanol gelöst. Unter Rühren wird eine Mischung von 13,40 g (744,4 mmol) Wasser, 0,30 g Salzsäure (37%) und 11,80 g Ethanol zugegeben. Es wird mindestens 2 h bei Raumtemperatur gerührt (kurzeitige Erwärmung des Reaktionsgemisches nach Zugabe) und mit 130 g 2-Propanol verdünnt. Unmittelbar nach der Verdünnung werden unter Rühren 0,30 g (1,52 mmol) 3-Glycidyloxypropyltrimethoxysilan (GPTS) und 18 mg (0,08 mmol) 3-Aminopropyltriethoxysilan in 26 g 2-Propanol zugegeben. Das Gemisch wird 1 h bei Raumtemperatur gerührt und es resultiert ein farbloses, klares Sol, welches bei 4°C mindestens 4 Wochen lagerstabil ist.
  • Al2O3-Sol: 40 g (0,16 mol) Aluminium-tri-sek.-butylat werden bei Raumtemperatur unter Rühren in 240 g 2-Propanol gelöst. Unter Rühren werden 8 g (0,08 mol) Acetylaceton und 3,2 g (0,18 mol) Wasser zugegeben. Es wird 1 h bei Raumtemperatur gerührt und über ein 0,45 μm-Spritzenfilter filtriert. Es resultiert ein gelbes, klares Sol.
  • ZrO2-Sol: 24 g (51,3 mmol) Zirconium-tetra-n-propylat (70 Gew.-% in 1-Propanol) werden bei Raumtemperatur in 240 g 2-Propanol gelöst. Unter Rühren werden 2,553 g (25,5 mmol) Acetylaceton zugegeben und 10 min gerührt. Anschließend werden 1,8 g konzentrierte Salsäure zugegeben und es wird 1 h bei Raumtemperatur gerührt. Nach Filtration über ein 5 μm-Spritzenfilter resultiert ein gelbes, klares Sol.
  • B) Herstellung der MgF2-Komposite
  • Durch einfaches Mischen des MgF2-Sols mit den entsprechenden Mengen an SiO2-, Al2O3- bzw. ZrO2-Sol werden MgF2-Komposit-Sole hergestellt.
  • C) Beschichtungsvorgang
  • Kalknatronsilicat-Glasscheiben werden durch Abreiben mit Ethanol gereinigt und im Tauchverfahren (3,5 mm/s) mit dem jeweiligen Sol beschichtet. Die Aushärtung der Beschichtung erfolgt bei 450°C für 30 min.
  • D) Charakterisierung
  • Die Kratzfestigkeit wird mit einem Stahlwolletest (Stahlwolle 0000, 250 g/1 cm2, 10 Zyklen) getestet. Die Schädigung (Anzahl der erzeugten Kratzer) wird lichtmikroskopisch beurteilt. Das Reflexionsvermögen wird spektroskopisch bestimmt.
  • Beispiel 1 MgF2/SiO2-Komposite
    Figure 00170001
  • Das Verhalten der erhaltenen Schichten bezüglich der Transmission wurde untersucht und ist in 1 wiedergegeben.
  • Eine deutliche Verbesserung der Kratzfestigkeit wird bereits bei einem Mischungsverhältnis von MgF2-Sol/SiO2-Sol von 50/60 erreicht. Die Transmission ist höher als im Fall des unbeschichteten Glases und ebenfalls höher als bei einer reinen SiO2-Schicht.
  • Beispiel 2 MgF2/Al2O3-Komposite
    Figure 00170002
  • Das Verhalten der erhaltenen Schichten bezüglich der Transmission wurde untersucht und ist in 2 wiedergegeben.
  • Die Kratzfestigkeit von MgF2-Schichten wird durch das Beimischen von Al2O3-Solen verbessert. Die beste Performance zeigen MgF2/Al2O3-Mischungen von 80/20 mit einer verbesserten Kratzfestigkeit bei einer Transmission von maximal ca. 99%.
  • Beispiel 3: MgF2/ZrO2-Komposite
    Figure 00180001
  • Das Verhalten der erhaltenen Schichten bezüglich der Transmission wurde untersucht und ist in 3 wiedergegeben.
  • Die deutliche Verbesserung der Kratzfestigkeit wird bei einem Mischungsverhältnis von MgF2-Sol/ZrO2-Sol von 80/20 erreicht. Die Transmission ist dabei mit maximal ca. 98% noch sehr gut.
  • Bestimmung der Brechzahlen und Schichtdicken durch Ellipsometrie für die Beispiele 2 und 3
    Figure 00180002
  • Figure 00190001

Claims (24)

  1. Substrat mit einer abrieb- und kratzfesten Beschichtung mit niedriger Brechzahl, umfassend Magnesiumfluorid und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid.
  2. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass Magnesiumfluorid und das mindestens eine Metall- oder Halbmetalloxid mindestens 80 Gew.-% der Beschichtung ausmachen.
  3. Substrat nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Stoffmengenverhältnis der Menge an Magnesium (Mg) in Magnesiumfluorid zu Metall oder Halbmetall (M) in dem mindestens einen Metall- oder Halbmetalloxid Mg/M in der Beschichtung im Bereich von 1:0,01 bis 1:1,8 liegt.
  4. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung, umfassend Magnesiumfluorid und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid, eine Einzelschicht oder eine Komponente eines Mehrschichtsystems ist.
  5. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Metall- oder Halbmetalloxid ZrO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5 und/oder SiO2 ist.
  6. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat in mindestens einem Bereich des Wellenlängenbereichs vom UV-Licht bis IR-Licht lichtdurchlässig ist.
  7. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat ein transparenter Kunststoff, ein Glas oder ein kristallines Substrat ist.
  8. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass Magnesiumfluorid mindestens 10 Gew.-% der Beschichtung ausmacht.
  9. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat ein Flachglas, ein Uhrglas, eine Instrumentenabdeckung, eine Linse oder ein anderes optisches Element, eine Kunststofffolie oder ein transparenter Behälter ist.
  10. Verfahren zur Herstellung eines Substrats mit einer abrieb- und kratzfesten Beschichtung mit niedriger Brechzahl nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass man eine Beschichtungszusammensetzung, die Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon enthält, auf das Substrat aufbringt und wärmebehandelt.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtungszusammensetzung durch ein Beschichtungs- oder Druckverfahren auf das Substrat aufgebracht wird.
  12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 100 bis 600°C durchgeführt wird.
  13. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat vor und/oder nach der Beschichtung mit einer oder mehreren gleichen oder anderen Schichten versehen wird.
  14. Verwendung eines Substrats mit einer abrieb- und kratzfesten Beschichtung mit niedriger Brechzahl nach einem der Ansprüche 1 bis 9 als Interferenzschichtpaket auf einem transparenten Substrat oder als Einfachentspiegelungsschicht auf einem transparenten Substrat.
  15. Beschichtungszusammensetzung für eine abrieb- und kratzfeste Beschichtung mit niedriger Brechzahl, die Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon umfasst.
  16. Beschichtungszusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass sie Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon als Sol oder in Lösung und das mindestens eine Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon als Sol umfasst.
  17. Beschichtungszusammensetzung nach Anspruch 15 oder Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon und das mindestens eine Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon mindestens 80 Gew.-% des Feststoffgehalts der Beschichtungszusammensetzung ausmachen.
  18. Verfahren zur Herstellung einer Beschichtungszusammensetzung nach einem der Ansprüche 15 bis 17, bei dem ein Sol oder eine Lösung von Magnesiumfluorid oder einer Vorstufe davon und ein Sol von mindestens einem Metall- oder Halbmetalloxid oder einer Vorstufe davon miteinander gemischt werden.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass das Sol oder die Lösung von Magnesiumfluorid oder einer Vorstufe davon durch Umsetzung einer Magnesiumverbindung mit einer fluorierten organischen Verbindung in einem organischen Lösungsmittel erhalten wird.
  20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass die fluorierte organische Verbindung eine Verbindung mit einer CF3-Gruppe ist, bevorzugt ein Keton oder eine Carbonsäure, besonders bevorzugt Trifluoressigsäure.
  21. Verfahren nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnesiumverbindung ein Magnesiumalkoholat, bevorzugt Magnesiumethylat, ist.
  22. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 21, dadurch gekennzeichnet, dass das organische Lösungsmittel ein Alkohol ist.
  23. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass das Sol von mindestens einem Metall- oder Halbmetalloxid oder einer Vorstufe davon durch Hydrolyse einer hydrolysierbaren Metall- oder Halbmetallverbindung, bevorzugt eines Metall- oder Halbmetallalkoholats, erhalten wird.
  24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass der Beschichtungszusammensetzung ein Komplexbildner und/oder ein Haftvermittler zugesetzt wird.
DE102004027842A 2004-06-08 2004-06-08 Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat Withdrawn DE102004027842A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004027842A DE102004027842A1 (de) 2004-06-08 2004-06-08 Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat
JP2007526279A JP2008501557A (ja) 2004-06-08 2005-06-07 支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング
US11/570,112 US20080261053A1 (en) 2004-06-08 2005-06-07 Abrasion-Resistant and Scratch-Resistant Coatings Having a Low Index of Refraction on a Substrate
EP05752553A EP1778598A2 (de) 2004-06-08 2005-06-07 Abrieb- und kratzfeste beschichtungen mit niedriger brechzahl auf einem substrat
PCT/EP2005/006113 WO2005120154A2 (de) 2004-06-08 2005-06-07 Abrieb- und kratzfeste beschichtungen mit niedriger brechzahl auf einem substrat
US14/029,971 US20140017399A1 (en) 2004-06-08 2013-09-18 Abrasion-resistant and scratch-resistant coatings having a low index of refraction on a substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004027842A DE102004027842A1 (de) 2004-06-08 2004-06-08 Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102004027842A1 true DE102004027842A1 (de) 2006-01-12

Family

ID=35457359

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102004027842A Withdrawn DE102004027842A1 (de) 2004-06-08 2004-06-08 Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat

Country Status (5)

Country Link
US (2) US20080261053A1 (de)
EP (1) EP1778598A2 (de)
JP (1) JP2008501557A (de)
DE (1) DE102004027842A1 (de)
WO (1) WO2005120154A2 (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008025311A1 (de) * 2006-08-28 2008-03-06 Webasto Ag Verfahren zum beschichten eines kunststoffteils
DE102007025590A1 (de) 2007-05-31 2008-12-04 Ferro Gmbh Einbrennbare siebdruckfähige Antireflexbeschichtung für Glas
DE102014205867A1 (de) 2013-03-28 2014-10-02 Ceramtec-Etec Gmbh Transparente Keramik mit Funktionsbeschichtung
DE102013010105A1 (de) 2013-06-18 2014-12-18 Ferro Gmbh Verfahren zur Herstellung einer wässrigen Zusammensetzung umfassend ein Kondensat auf Basis von Silicium-Verbindungen zur Herstellung von Antireflexionsbeschichtungen
DE102015200948A1 (de) 2015-01-21 2016-07-21 Automotive Lighting Reutlingen Gmbh Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils mit einem Lack, Lackieranlage zur Ausführung des Verfahrens und Abdeckscheibe einer Kraftfahrzeugbeleuchtungseinrichtung, die nach dem Verfahren beschichtet worden ist

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6262828A (ja) * 1985-09-13 1987-03-19 Toray Ind Inc 被覆エポキシ系球状微粒子
JP4858170B2 (ja) 2004-09-16 2012-01-18 株式会社ニコン 非晶質酸化珪素バインダを有するＭｇＦ２光学薄膜の製造方法
FR2893320B1 (fr) * 2005-11-17 2009-05-29 Univ Paris Curie Oxyfluorure poreux nanostructure
CN101312926B (zh) * 2005-11-25 2013-03-27 株式会社村田制作所 透光性陶瓷及其制造方法、以及光学零件及光学装置
JPWO2008001675A1 (ja) * 2006-06-27 2009-11-26 株式会社ニコン 光学多層薄膜、光学素子、及び光学多層薄膜の製造方法
FR2907112B1 (fr) 2006-10-16 2009-10-02 Eurokera S N C Sa Plaque vitroceramique et son procede de fabrication
JP5029818B2 (ja) * 2007-04-24 2012-09-19 日産化学工業株式会社 コーティング組成物及び光学部材
US8636845B2 (en) 2008-06-25 2014-01-28 L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude Metal heterocyclic compounds for deposition of thin films
US20100180939A1 (en) * 2009-01-22 2010-07-22 Sharma Pramod K Heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, coated articles including heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, and methods of making the same
EP2325675A2 (de) * 2009-07-30 2011-05-25 Canon Kabushiki Kaisha Verfahren zur Herstellung eines optischen Films, optischer Film und optische Komponente
DE102009056933A1 (de) * 2009-12-04 2011-06-09 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit Farbfilter, Wertdokument mit so einem solchen Sicherheitselement sowie Herstellungsverfahren eines solchen Sicherheitselementes
JP5683146B2 (ja) * 2010-06-24 2015-03-11 キヤノン株式会社 光学膜の製造方法および光学素子の製造方法
JP5641851B2 (ja) 2010-09-30 2014-12-17 キヤノン株式会社 光学膜製造用塗布液、その製造方法および光学膜の製造方法
JP2012230968A (ja) * 2011-04-25 2012-11-22 Hitachi Chem Co Ltd 封止材シート及び太陽電池モジュール
WO2013046157A1 (en) 2011-09-27 2013-04-04 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Nickel bis diazabutadiene precursors, their synthesis, and their use for nickel containing film depositions
AR100953A1 (es) 2014-02-19 2016-11-16 Tenaris Connections Bv Empalme roscado para una tubería de pozo de petróleo
US10295707B2 (en) 2014-02-27 2019-05-21 Corning Incorporated Durability coating for oxide films for metal fluoride optics
JP6746502B2 (ja) * 2014-05-23 2020-08-26 コーニング インコーポレイテッド 引っ掻き傷および指紋の視認性が低下した低コントラストの反射防止物品
CN104118995B (zh) * 2014-08-07 2016-06-22 威海金太阳光热发电设备有限公司 一种适用于集热管的自清洁减反射膜制备方法
CN104927416B (zh) * 2015-06-09 2017-08-29 中国南玻集团股份有限公司 硅镁铝溶胶和掺杂核壳二氧化硅微球镀膜液及制备应用
CN105198235B (zh) * 2015-10-28 2018-06-26 浙江鼎昇新材料科技股份有限公司 一种憎水疏油自洁玻璃的制备方法
JP6818433B2 (ja) * 2016-05-12 2021-01-20 キヤノン株式会社 トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液
JP6961775B2 (ja) * 2016-05-12 2021-11-05 キヤノン株式会社 光学膜
JP6768346B2 (ja) * 2016-05-12 2020-10-14 キヤノン株式会社 光学膜
JP2018049074A (ja) * 2016-09-20 2018-03-29 キヤノンファインテックニスカ株式会社 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス
WO2018198935A1 (ja) * 2017-04-27 2018-11-01 日本板硝子株式会社 低反射コーティング付きガラス物品
CN108648883B (zh) * 2018-05-15 2020-08-25 华东师范大学 一种双层减反结构与石墨烯复合的透明导电薄膜制备方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2869227A (en) * 1955-07-01 1959-01-20 Armour Res Found Process of coating and hot working of metals
US3356523A (en) * 1964-02-10 1967-12-05 Mc Donnell Douglas Corp Polystyrene film containing an antireflection coating
US3775161A (en) * 1971-12-23 1973-11-27 Gen Electric Electric lamp envelope having clear protective coating and method of making
JPS58118602A (ja) * 1982-01-08 1983-07-14 Asahi Optical Co Ltd プラスチツク製光学素材
JPS58208711A (ja) * 1982-05-31 1983-12-05 Shigeo Kubo 多層膜反射鏡
NL8301652A (nl) * 1983-05-10 1984-12-03 Philips Nv Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze.
JPH0642003B2 (ja) * 1983-09-20 1994-06-01 オリンパス光学工業株式会社 光学部品の反射防止膜とその形成方法
EP0195493B1 (de) * 1985-03-22 1993-03-24 Toray Industries, Inc. Durchsichtiger Gegenstand und Verfahren zu seiner Herstellung
EP0416119A4 (en) * 1989-02-23 1992-08-12 Asahi Glass Company Ltd. Formation of thin magnesium fluoride film and low-reflection film
US5135808A (en) * 1990-09-27 1992-08-04 Diamonex, Incorporated Abrasion wear resistant coated substrate product
DE4212633A1 (de) * 1992-04-15 1993-10-21 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter nanoskaliger keramischer Pulver
JP3343377B2 (ja) * 1992-11-30 2002-11-11 ダイセル化学工業株式会社 酸化物薄膜の作製方法
JPH0769620A (ja) * 1993-08-31 1995-03-14 Nissan Chem Ind Ltd フッ化ナトリウムマグネシウムゾル、微粉末及びその製造法
US5688608A (en) * 1994-02-10 1997-11-18 Industrial Technology Research Institute High refractive-index IR transparent window with hard, durable and antireflective coating
FR2727103B1 (fr) * 1994-11-23 1996-12-27 Kodak Pathe Procede de preparation des halogenures metalliques par voie sol-gel
ES2538807T3 (es) * 1995-03-20 2015-06-24 Toto Ltd. Procedimiento de limpieza de un sustrato que tiene una superficie ultrahidrófila y fotocatalítica
DE19512427A1 (de) * 1995-04-03 1996-10-10 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Kompositklebstoff für optische und optoelektronische Anwendungen
JPH0959042A (ja) * 1995-06-14 1997-03-04 Toto Ltd 防曇性コーティングを備えた透明基材
US5948481A (en) * 1996-11-12 1999-09-07 Yazaki Corporation Process for making a optical transparency having a diffuse antireflection coating
CN1235985C (zh) * 1998-12-09 2006-01-11 日本化药株式会社 硬涂覆材料以及用该材料获得的膜
JP3729687B2 (ja) * 1999-08-04 2005-12-21 株式会社巴川製紙所 反射防止材料
JP2001141901A (ja) * 1999-11-12 2001-05-25 Seiko Epson Corp 反射防止膜付き光学部品
DE60130901T2 (de) * 2000-08-30 2008-08-14 Nikon Corp. Herstellungsverfahren für optische dünnschicht
CN1190716C (zh) * 2000-09-01 2005-02-23 皇家菲利浦电子有限公司 电流镜像电路,集成电路及用于再现光学记录载体的装置
TWI249164B (en) * 2001-11-22 2006-02-11 Tdk Corp Optical recording medium
US6703343B2 (en) * 2001-12-18 2004-03-09 Caterpillar Inc Method of preparing doped oxide catalysts for lean NOx exhaust
JP4000448B2 (ja) * 2002-02-19 2007-10-31 Ｊｓｒ株式会社 摺動部材用コーティング組成物および摺動部材
DE10208280A1 (de) * 2002-02-26 2003-09-04 Creavis Tech & Innovation Gmbh Keramische Membran auf Basis eines Polymer-oder Naturfasern ausweisenden Substrates, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE10208208B4 (de) * 2002-02-26 2012-03-08 Eaton Industries Gmbh Bausatz aus mehreren Bausatzelementen und einer Welle
US20040006249A1 (en) * 2002-07-08 2004-01-08 Showa Denko K.K., Nikon Corporation Fluorination treatment apparatus, process for producing fluorination treated substance, and fluorination treated substance
CN100376646C (zh) * 2002-08-21 2008-03-26 捷时雅株式会社 涂料组合物
JP2004099879A (ja) * 2002-08-21 2004-04-02 Jsr Corp コーティング用組成物

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008025311A1 (de) * 2006-08-28 2008-03-06 Webasto Ag Verfahren zum beschichten eines kunststoffteils
DE102006040200A1 (de) * 2006-08-28 2008-03-20 Webasto Ag Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils
DE102006040200B4 (de) * 2006-08-28 2008-09-04 Webasto Ag Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils
DE102007025590A1 (de) 2007-05-31 2008-12-04 Ferro Gmbh Einbrennbare siebdruckfähige Antireflexbeschichtung für Glas
DE102014205867A1 (de) 2013-03-28 2014-10-02 Ceramtec-Etec Gmbh Transparente Keramik mit Funktionsbeschichtung
WO2014154875A1 (de) 2013-03-28 2014-10-02 Ceramtec-Etec Gmbh Keramik mit funktionsbeschichtung
DE102013010105A1 (de) 2013-06-18 2014-12-18 Ferro Gmbh Verfahren zur Herstellung einer wässrigen Zusammensetzung umfassend ein Kondensat auf Basis von Silicium-Verbindungen zur Herstellung von Antireflexionsbeschichtungen
DE102015200948A1 (de) 2015-01-21 2016-07-21 Automotive Lighting Reutlingen Gmbh Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils mit einem Lack, Lackieranlage zur Ausführung des Verfahrens und Abdeckscheibe einer Kraftfahrzeugbeleuchtungseinrichtung, die nach dem Verfahren beschichtet worden ist
EP3047916A1 (de) 2015-01-21 2016-07-27 Automotive Lighting Reutlingen GmbH Verfahren zum beschichten eines kunststoffteils mit einem lack, lackieranlage zur ausführung des verfahrens und abdeckscheibe einer kraftfahrzeugbeleuchtungseinrichtung, die nach dem verfahren beschichtet worden ist
US10046358B2 (en) 2015-01-21 2018-08-14 Automotive Lighting Reutlingen Gmbh Method of coating a plastic component with paint and method of coating a cover panel of a motor vehicle lighting device

Also Published As

Publication number Publication date
WO2005120154A2 (de) 2005-12-22
US20140017399A1 (en) 2014-01-16
EP1778598A2 (de) 2007-05-02
JP2008501557A (ja) 2008-01-24
US20080261053A1 (en) 2008-10-23
WO2005120154A3 (de) 2006-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102004027842A1 (de) Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat
DE69611618T3 (de) Substrat mit einer photokatalytischen beschichtung auf basis titandioxyd
EP1681370B1 (de) Verfahren zur Herstellung von photokatalytisch aktiven TiO2-Teilchen und von Substraten mit photokatalytischer TiO2-Schicht
DE69930399T2 (de) Photokatalysatorartikel mit verhinderung von verstopfungen und ablagerungen, verfahren zur herstellung des artikels
EP1971446B1 (de) Keramische wandverkleidungsverbände mit ir-strahlung reflektierenden eigenschaften
DE102008056792B4 (de) Verfahren zum Aufbringen einer porösen selbstreinigenden Entspiegelungsschicht sowie Glas mit dieser Entspiegelungsschicht und Verwendung einer selbstreinigenden porösen Entspiegelungsschicht
DE69305255T2 (de) Beschichtungszusammensetzungen
TWI411580B (zh) 氧化鋯一氧化錫之複合物溶膠、塗佈組成物及光學構件
DE69816273T2 (de) Anorganisches polymermaterial auf der basis von tantaloxyd , insbesondere mit erhöhtem brechungsindex , mechanisch verschleissfest , sein verfahren zur herstellung
DE4217432A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Glas mit verbesserter Langzeitstandfähigkeit bei erhöhten Temperaturen
KR20100016493A (ko) 표면 피복된 이산화티탄졸, 그 제조법 및 그것을 포함한 코팅 조성물
EP0897898A2 (de) Verfahren zur Abscheidung optischer Schichten
CN110809561A (zh) 含铁金红石型氧化钛微粒分散液的制造方法、含铁金红石型氧化钛微粒及其用途
DE102010009999A1 (de) Verfahren zur Mehrfachbeschichtung sowie mehrlagig beschichtetes Glas-Substrat
WO2021200135A1 (ja) ジルコニア被覆酸化チタン微粒子の製造方法、ジルコニア被覆酸化チタン微粒子およびその用途
EP1230187B1 (de) Beschichtungszusammensetzung auf basis organisch modifizierter anorganischer kondensate
DE19828231C2 (de) Verfahren zur Abscheidung poröser optischer Schichten
DE102010012841A1 (de) Verfahren zum Aufbringen einer Entspiegelungsschicht sowie Glas mit einer Entspiegelungsschicht
Gálvez-Barboza et al. Effect of Ce doping on the structure and optical properties of HfO 2 films by the Pechini-type sol–gel method
EP2257497A2 (de) Alkalimetall und/oder erdalkalimetall dotierte titanoxid-nano-partikel
DE10223531A1 (de) Substrat mit einer Titanoxid/Ceroxid-Schutzschicht
JPH1160281A (ja) 光触媒ガラス及びその製造方法
KR102680899B1 (ko) 질소함유환을 포함하는 실란 화합물을 포함하는 코팅 조성물
JP4020602B2 (ja) 浴室用防曇鏡およびその製造方法
WO2023274610A1 (de) Scheibe mit einer sol-gel-beschichtung mit nano-einlagerungen

Legal Events

Date Code Title Description
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER NEUE MATERIALIEN GEMEINN, DE

R005 Application deemed withdrawn due to failure to request examination

Effective date: 20110608