JP2008501557A - 支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング - Google Patents
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Abstract
Description
MgF2ゾル:25.396g(0.22モル)のマグネシウムエトキシドが室温で522.810gの2−プロパノールに添加される。51.016g(0.35モル)のトリフルオロ酢酸(TFA)が撹拌された分散液に添加され、室温で撹拌される。反応の初めに、反応混合物の僅かな加熱が見られる。反応が進むにつれて、反応混合物の増大した透明化が見られる。2時間後、存在する全ての不溶性成分がシリンジフィルター(1.2μm)によって除去され、次いで反応混合物は、室温で静置される。透明の析出物が終夜形成し、ひだ付きフィルターによって除去される。濾液は、1.2μmのシリンジフィルターを通して再度濾過され、黄色の溶液を結果生じる。コーティング組成物は、室温で少なくとも4週間保存安定である。
MgF2コンポジットゾルは、MgF2ゾルと適切な量のSiO2ゾル、Al2O3ゾル又はZrO2ゾルを単純に混合することによって調製される。
ソータ石灰シリケートガラス板(pane)は、エタノールで拭くことによって清浄化され、浸漬工程(3.5mm/s)において特定のゾルでコーティングされる。コーティングは、450℃で30分間硬化される。
耐引掻性は、スチールウール試験(0000スチールウール、250g/1cm2、10サイクル)を用いて試験される。ダメージ(得られた引掻きの数)は、光学顕微鏡によって評価される。反射率は、分光学的に測定される。
Claims (24)
- フッ化マグネシウムと、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物を含有し、低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性のコーティングを有する支持体。
- フッ化マグネシウムと、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物が、該コーティングの少なくとも80重量%を占めることを特徴とする、請求項1に記載の支持体。
- 該コーティング中の該少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物中の金属もしくは半金属(M)に対するフッ化マグネシウム中のマグネシウム(Mg)の量の量的比率Mg/Mが1:0.01〜1:1.8の範囲であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の支持体。
- フッ化マグネシウムと、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物を含有する該コーティングが、個別の層又は多層系のコンポーネントであることを特徴とする、請求項1〜3の1項に記載の支持体。
- 該少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物が、ZrO2、TiO2、Al2O3、Ta2O5及び/又はSiO2であることを特徴とする、請求項1〜4の1項に記載の支持体。
- 該支持体が、UV光〜IR光の波長範囲の少なくとも1つの領域において光を透過することを特徴とする、請求項1〜5の1項に記載の支持体。
- 該支持体が、透明なプラスチック、ガラス、又は結晶支持体であることを特徴とする、請求項1〜6の1項に記載の支持体。
- フッ化マグネシウムが該コーティングの少なくとも10重量%を占めることを特徴とする、請求項1〜7の1項に記載の支持体。
- 該支持体が、板ガラス、ウォッチガラス、インストゥルメントカバー、レンズ又は他の光学素子、ポリマーフィルム又は透明容器(transparent vessel)であることを特徴とする、請求項1〜8の1項に記載の支持体。
- フッ化マグネシウムもしくはその前駆体と、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体を含むコーティング組成物が支持体に適用され、熱処理されることを特徴とする、請求項1〜9の1項に記載の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性のコーティングを有する支持体を製造するための方法。
- 該コーティング組成物が、コーティング又は印刷プロセスによって該支持体に適用されることを特徴とする、請求項10に記載の方法。
- 該熱処理が100〜600℃の温度で実施されることを特徴とする、請求項10又は11に記載の方法。
- 該支持体が、該コーティングの前及び/又は後に1つ以上の同一又は異なる層を備えることを特徴とする、請求項10〜12の1項に記載の方法。
- 透明支持体上の干渉層アセンブリとしての、又は透明支持体上の単一反射防止層としての、請求項1〜9の1項に記載の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性のコーティングを有する支持体の使用。
- フッ化マグネシウム又はその前駆体と、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体を含む、低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性のコーティング用のコーティング組成物。
- ゾルとして又は溶液中のフッ化マグネシウム又はその前駆体と、ゾルとしての少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体を含有することを特徴とする、請求項15に記載のコーティング組成物。
- フッ化マグネシウム又はその前駆体と、該少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体が、該コーティング組成物の固形分の少なくとも80重量%を占めることを特徴とする、請求項15又は16に記載のコーティング組成物。
- フッ化マグネシウム又はその前駆体のゾル又は溶液と、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体のゾルが互いに混合される、請求項15〜17の1項に記載のコーティング組成物を調製するための方法。
- フッ化マグネシウム又はその前駆体の該ゾル又は溶液が、有機溶媒中でマグネシウム化合物とフッ素化有機化合物を反応させることによって得られることを特徴とする、請求項18に記載の方法。
- 該フッ素化有機化合物が、CF3基、好ましくは、ケトン又はカルボン酸を有する化合物、より好ましくはトリフルオロ酢酸であることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
- 該マグネシウム化合物が、マグネシウムアルコキシド、好ましくはマグネシウムエトキシドであることを特徴とする、請求項19又は20に記載の方法。
- 該有機溶媒が、アルコールであることを特徴とする、請求項19〜21の1項に記載の方法。
- 該少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体のゾルが、加水分解性金属化合物又は半金属化合物、好ましくは金属アルコキシド又は半金属アルコキシドを加水分解することによって得られることを特徴とする、請求項19〜22の1項に記載の方法。
- 錯化剤及び/又は定着剤が該コーティング組成物に添加されることを特徴とする、請求項23に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004027842A DE102004027842A1 (de) | 2004-06-08 | 2004-06-08 | Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat |
PCT/EP2005/006113 WO2005120154A2 (de) | 2004-06-08 | 2005-06-07 | Abrieb- und kratzfeste beschichtungen mit niedriger brechzahl auf einem substrat |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008501557A true JP2008501557A (ja) | 2008-01-24 |
JP2008501557A5 JP2008501557A5 (ja) | 2011-07-28 |
Family
ID=35457359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007526279A Ceased JP2008501557A (ja) | 2004-06-08 | 2005-06-07 | 支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20080261053A1 (ja) |
EP (1) | EP1778598A2 (ja) |
JP (1) | JP2008501557A (ja) |
DE (1) | DE102004027842A1 (ja) |
WO (1) | WO2005120154A2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6262828A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-19 | Toray Ind Inc | 被覆エポキシ系球状微粒子 |
JP2011048356A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-03-10 | Canon Inc | 光学膜の製造方法、光学膜および光学部品 |
WO2012043425A1 (en) | 2010-09-30 | 2012-04-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating solution for producing optical film, method for producing the coating solution, method for manufacturing optical component, and imaging optical system |
JP2017001934A (ja) * | 2015-06-09 | 2017-01-05 | 中国南玻集団股▲ふん▼有限公司 | Si−Mg−Alゾル、それにコアシェル微細球をドープさせた複合塗膜液及びその作製適用 |
JP2017203007A (ja) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液 |
JP2017203910A (ja) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | 光学膜 |
WO2018198935A1 (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-01 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング付きガラス物品 |
JP2021012379A (ja) * | 2016-05-12 | 2021-02-04 | キヤノン株式会社 | 光学膜 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080002259A1 (en) * | 2004-09-16 | 2008-01-03 | Hitoshi Ishizawa | Mgf2 Optical Thin Film Including Amorphous Silicon Oxide Binder, Optical Element Provided With the Same, and Method for Producing Mgf2 Optical Thin Film |
FR2893320B1 (fr) | 2005-11-17 | 2009-05-29 | Univ Paris Curie | Oxyfluorure poreux nanostructure |
CN101312926B (zh) * | 2005-11-25 | 2013-03-27 | 株式会社村田制作所 | 透光性陶瓷及其制造方法、以及光学零件及光学装置 |
JPWO2008001675A1 (ja) | 2006-06-27 | 2009-11-26 | 株式会社ニコン | 光学多層薄膜、光学素子、及び光学多層薄膜の製造方法 |
DE102006040200B4 (de) * | 2006-08-28 | 2008-09-04 | Webasto Ag | Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils |
FR2907112B1 (fr) * | 2006-10-16 | 2009-10-02 | Eurokera S N C Sa | Plaque vitroceramique et son procede de fabrication |
JP5029818B2 (ja) * | 2007-04-24 | 2012-09-19 | 日産化学工業株式会社 | コーティング組成物及び光学部材 |
DE102007025590A1 (de) | 2007-05-31 | 2008-12-04 | Ferro Gmbh | Einbrennbare siebdruckfähige Antireflexbeschichtung für Glas |
US8636845B2 (en) | 2008-06-25 | 2014-01-28 | L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Metal heterocyclic compounds for deposition of thin films |
US20100180939A1 (en) * | 2009-01-22 | 2010-07-22 | Sharma Pramod K | Heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, coated articles including heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, and methods of making the same |
DE102009056933A1 (de) * | 2009-12-04 | 2011-06-09 | Giesecke & Devrient Gmbh | Sicherheitselement mit Farbfilter, Wertdokument mit so einem solchen Sicherheitselement sowie Herstellungsverfahren eines solchen Sicherheitselementes |
JP5683146B2 (ja) * | 2010-06-24 | 2015-03-11 | キヤノン株式会社 | 光学膜の製造方法および光学素子の製造方法 |
JP2012230968A (ja) * | 2011-04-25 | 2012-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止材シート及び太陽電池モジュール |
KR20140085461A (ko) | 2011-09-27 | 2014-07-07 | 레르 리키드 쏘시에떼 아노님 뿌르 레?드 에렉스뿔라따시옹 데 프로세데 조르즈 클로드 | 니켈 비스 디아자부타디엔 전구체, 그들의 합성, 및 니켈 함유 필름 침착을 위한 그들의 용도 |
CN105517976A (zh) | 2013-03-28 | 2016-04-20 | 陶瓷技术-Etec有限责任公司 | 具有功能涂层的陶瓷 |
DE102013010105A1 (de) | 2013-06-18 | 2014-12-18 | Ferro Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer wässrigen Zusammensetzung umfassend ein Kondensat auf Basis von Silicium-Verbindungen zur Herstellung von Antireflexionsbeschichtungen |
AR100953A1 (es) | 2014-02-19 | 2016-11-16 | Tenaris Connections Bv | Empalme roscado para una tubería de pozo de petróleo |
US10295707B2 (en) | 2014-02-27 | 2019-05-21 | Corning Incorporated | Durability coating for oxide films for metal fluoride optics |
WO2015179739A1 (en) * | 2014-05-23 | 2015-11-26 | Corning Incorporated | Low contrast anti-reflection articles with reduced scratch and fingerprint visibility |
CN104118995B (zh) * | 2014-08-07 | 2016-06-22 | 威海金太阳光热发电设备有限公司 | 一种适用于集热管的自清洁减反射膜制备方法 |
DE102015200948A1 (de) | 2015-01-21 | 2016-07-21 | Automotive Lighting Reutlingen Gmbh | Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils mit einem Lack, Lackieranlage zur Ausführung des Verfahrens und Abdeckscheibe einer Kraftfahrzeugbeleuchtungseinrichtung, die nach dem Verfahren beschichtet worden ist |
CN105198235B (zh) * | 2015-10-28 | 2018-06-26 | 浙江鼎昇新材料科技股份有限公司 | 一种憎水疏油自洁玻璃的制备方法 |
JP2018049074A (ja) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス |
CN108648883B (zh) * | 2018-05-15 | 2020-08-25 | 华东师范大学 | 一种双层减反结构与石墨烯复合的透明导电薄膜制备方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3775161A (en) * | 1971-12-23 | 1973-11-27 | Gen Electric | Electric lamp envelope having clear protective coating and method of making |
JPS59213643A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-12-03 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | 弗化マグネシウム層を基体上に設ける方法 |
JPH06166501A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Daicel Chem Ind Ltd | 酸化物薄膜の作製方法 |
JPH0769620A (ja) * | 1993-08-31 | 1995-03-14 | Nissan Chem Ind Ltd | フッ化ナトリウムマグネシウムゾル、微粉末及びその製造法 |
JPH0959042A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-04 | Toto Ltd | 防曇性コーティングを備えた透明基材 |
JP2000509844A (ja) * | 1996-11-12 | 2000-08-02 | 矢崎総業株式会社 | 拡散反射防止被覆を有する光学透明体及びその製法 |
JP2001048590A (ja) * | 1999-08-04 | 2001-02-20 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 反射防止材料 |
JP2001141901A (ja) * | 1999-11-12 | 2001-05-25 | Seiko Epson Corp | 反射防止膜付き光学部品 |
JP2003190818A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-08 | Caterpillar Inc | 希薄NOx排気ガス後処理システムに高脱硝選択性を有する金属または金属酸化物をドープされた酸化物触媒の作成方法 |
JP2003238894A (ja) * | 2002-02-19 | 2003-08-27 | Jsr Corp | 摺動部材用コーティング組成物および摺動部材 |
JP2004099879A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-04-02 | Jsr Corp | コーティング用組成物 |
JP2005518272A (ja) * | 2002-02-26 | 2005-06-23 | クレアヴィス ゲゼルシャフト フュア テヒノロギー ウント イノヴェイション ミット ベシュレンクテル ハフツング | ポリマー繊維又は天然繊維を有する支持体をベースとするセラミック膜、その製造方法及び使用 |
JP4457557B2 (ja) * | 2000-08-30 | 2010-04-28 | 株式会社ニコン | 光学薄膜の形成方法及び光学薄膜を備えた光学素子 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2869227A (en) * | 1955-07-01 | 1959-01-20 | Armour Res Found | Process of coating and hot working of metals |
US3356523A (en) * | 1964-02-10 | 1967-12-05 | Mc Donnell Douglas Corp | Polystyrene film containing an antireflection coating |
JPS58118602A (ja) * | 1982-01-08 | 1983-07-14 | Asahi Optical Co Ltd | プラスチツク製光学素材 |
JPS58208711A (ja) * | 1982-05-31 | 1983-12-05 | Shigeo Kubo | 多層膜反射鏡 |
JPH0642003B2 (ja) * | 1983-09-20 | 1994-06-01 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学部品の反射防止膜とその形成方法 |
EP0195493B1 (en) * | 1985-03-22 | 1993-03-24 | Toray Industries, Inc. | Transparent article and process for preparation thereof |
KR920700408A (ko) * | 1989-02-23 | 1992-02-19 | 원본미기재 | MgF₂박막 및 저반사막의 형성 방법 |
US5135808A (en) * | 1990-09-27 | 1992-08-04 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
DE4212633A1 (de) * | 1992-04-15 | 1993-10-21 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter nanoskaliger keramischer Pulver |
US5688608A (en) * | 1994-02-10 | 1997-11-18 | Industrial Technology Research Institute | High refractive-index IR transparent window with hard, durable and antireflective coating |
FR2727103B1 (fr) * | 1994-11-23 | 1996-12-27 | Kodak Pathe | Procede de preparation des halogenures metalliques par voie sol-gel |
EP1304366B2 (en) * | 1995-03-20 | 2012-10-03 | Toto Ltd. | Use of a photocatalytically rendered superhydrophilic surface with antifogging properties |
DE19512427A1 (de) * | 1995-04-03 | 1996-10-10 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Kompositklebstoff für optische und optoelektronische Anwendungen |
CN1235985C (zh) * | 1998-12-09 | 2006-01-11 | 日本化药株式会社 | 硬涂覆材料以及用该材料获得的膜 |
KR100818813B1 (ko) * | 2000-09-01 | 2008-04-01 | 엔엑스피 비 브이 | 전류미러회로, 집적 회로 및 광학 기록 매체 재생 장치 |
TWI249164B (en) * | 2001-11-22 | 2006-02-11 | Tdk Corp | Optical recording medium |
DE10208208B4 (de) * | 2002-02-26 | 2012-03-08 | Eaton Industries Gmbh | Bausatz aus mehreren Bausatzelementen und einer Welle |
US20040006249A1 (en) * | 2002-07-08 | 2004-01-08 | Showa Denko K.K., Nikon Corporation | Fluorination treatment apparatus, process for producing fluorination treated substance, and fluorination treated substance |
CN100376646C (zh) * | 2002-08-21 | 2008-03-26 | 捷时雅株式会社 | 涂料组合物 |
-
2004
- 2004-06-08 DE DE102004027842A patent/DE102004027842A1/de not_active Withdrawn
-
2005
- 2005-06-07 US US11/570,112 patent/US20080261053A1/en not_active Abandoned
- 2005-06-07 EP EP05752553A patent/EP1778598A2/de not_active Withdrawn
- 2005-06-07 JP JP2007526279A patent/JP2008501557A/ja not_active Ceased
- 2005-06-07 WO PCT/EP2005/006113 patent/WO2005120154A2/de active Application Filing
-
2013
- 2013-09-18 US US14/029,971 patent/US20140017399A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3775161A (en) * | 1971-12-23 | 1973-11-27 | Gen Electric | Electric lamp envelope having clear protective coating and method of making |
JPS59213643A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-12-03 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | 弗化マグネシウム層を基体上に設ける方法 |
JPH06166501A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Daicel Chem Ind Ltd | 酸化物薄膜の作製方法 |
JPH0769620A (ja) * | 1993-08-31 | 1995-03-14 | Nissan Chem Ind Ltd | フッ化ナトリウムマグネシウムゾル、微粉末及びその製造法 |
JPH0959042A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-04 | Toto Ltd | 防曇性コーティングを備えた透明基材 |
JP2000509844A (ja) * | 1996-11-12 | 2000-08-02 | 矢崎総業株式会社 | 拡散反射防止被覆を有する光学透明体及びその製法 |
JP2001048590A (ja) * | 1999-08-04 | 2001-02-20 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 反射防止材料 |
JP2001141901A (ja) * | 1999-11-12 | 2001-05-25 | Seiko Epson Corp | 反射防止膜付き光学部品 |
JP4457557B2 (ja) * | 2000-08-30 | 2010-04-28 | 株式会社ニコン | 光学薄膜の形成方法及び光学薄膜を備えた光学素子 |
JP2003190818A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-08 | Caterpillar Inc | 希薄NOx排気ガス後処理システムに高脱硝選択性を有する金属または金属酸化物をドープされた酸化物触媒の作成方法 |
JP2003238894A (ja) * | 2002-02-19 | 2003-08-27 | Jsr Corp | 摺動部材用コーティング組成物および摺動部材 |
JP2005518272A (ja) * | 2002-02-26 | 2005-06-23 | クレアヴィス ゲゼルシャフト フュア テヒノロギー ウント イノヴェイション ミット ベシュレンクテル ハフツング | ポリマー繊維又は天然繊維を有する支持体をベースとするセラミック膜、その製造方法及び使用 |
JP2004099879A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-04-02 | Jsr Corp | コーティング用組成物 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
IAN M.THOMAS, APPLIED OPTICS, vol. V27 N16, JPN5007013997, 15 August 1998 (1998-08-15), pages 3356 - 3358, ISSN: 0001791393 * |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6262828A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-19 | Toray Ind Inc | 被覆エポキシ系球状微粒子 |
JP2011048356A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-03-10 | Canon Inc | 光学膜の製造方法、光学膜および光学部品 |
WO2012043425A1 (en) | 2010-09-30 | 2012-04-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating solution for producing optical film, method for producing the coating solution, method for manufacturing optical component, and imaging optical system |
US9359511B2 (en) | 2010-09-30 | 2016-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating solution for producing optical film, method for producing the coating solution, method for manufacturing optical component, and imaging optical system |
JP2017001934A (ja) * | 2015-06-09 | 2017-01-05 | 中国南玻集団股▲ふん▼有限公司 | Si−Mg−Alゾル、それにコアシェル微細球をドープさせた複合塗膜液及びその作製適用 |
JP2017203007A (ja) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液 |
JP2017203910A (ja) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | 光学膜 |
JP2021012379A (ja) * | 2016-05-12 | 2021-02-04 | キヤノン株式会社 | 光学膜 |
WO2018198935A1 (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-01 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング付きガラス物品 |
JPWO2018198935A1 (ja) * | 2017-04-27 | 2020-03-12 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング付きガラス物品 |
JP7153638B2 (ja) | 2017-04-27 | 2022-10-14 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング付きガラス物品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140017399A1 (en) | 2014-01-16 |
WO2005120154A3 (de) | 2006-03-16 |
WO2005120154A2 (de) | 2005-12-22 |
DE102004027842A1 (de) | 2006-01-12 |
EP1778598A2 (de) | 2007-05-02 |
US20080261053A1 (en) | 2008-10-23 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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