JP2008501557A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008501557A5
JP2008501557A5 JP2007526279A JP2007526279A JP2008501557A5 JP 2008501557 A5 JP2008501557 A5 JP 2008501557A5 JP 2007526279 A JP2007526279 A JP 2007526279A JP 2007526279 A JP2007526279 A JP 2007526279A JP 2008501557 A5 JP2008501557 A5 JP 2008501557A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
support
coating
oxide
precursor
metal oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP2007526279A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008501557A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102004027842A external-priority patent/DE102004027842A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2008501557A publication Critical patent/JP2008501557A/ja
Publication of JP2008501557A5 publication Critical patent/JP2008501557A5/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Description

後に、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体のゾルは、フッ化マグネシウム又はその前駆体の溶液又はゾルと混合される。比率は、幅広い範囲で変化し得る。しかし一般的に、量は、コーティング組成物中の少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体における金属もしくは半金属(M)に対するフッ化マグネシウム又はその前駆体におけるマグネシウム(Mg)の量比(モル比)Mg/Mが、1:0.01〜1:1.8の範囲、より好ましくは1:0.05〜1:0.5又は1:0.1〜1:0.5の範囲、特に好ましくは1:0.1〜1:0.2であるように選択される。
完成した層における金属もしくは半金属に対するMgの比率は、コーティング組成物中の比率に少なくとも概ね一致する。その場合、比率は幅広い範囲で変化し得る。一般的に、コーティング中の少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物における金属もしくは半金属(M)に対するフッ化マグネシウム中のマグネシウム(Mg)の量的比率(モル比)は、1:0.01〜1:1.8、より好ましくは、1:0.05〜1:0.5又は1:0.1〜1:0.5、特に好ましくは1:0.1〜1:0.2の範囲である。
本発明のコーティングは、個別(単一)の層の形態、又は多層アセンブリの一つの層の形態で使用され得る。他の層は、必要に応じて異なる比率を有する同一の層、又は他の一般的に同様の光学層であり得る。このように、更なる層が、通常の様式において、コーティングの前及び/又は後に支持体に適用され得る。

Claims (23)

  1. フッ化マグネシウムと、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物を含有し、耐磨耗性且つ耐引掻性のコーティングを有する支持体であって、
    前記少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物が、ZrO である、
    支持体
  2. フッ化マグネシウムと、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物が、該コーティングの少なくとも80重量%を占めることを特徴とする、請求項1に記載の支持体。
  3. 該コーティング中の該少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物中の金属もしくは半金属(M)に対するフッ化マグネシウム中のマグネシウム(Mg)の量の量的比率(モル比)Mg/Mが1:0.01〜1:1.8の範囲であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の支持体。
  4. フッ化マグネシウムと、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物を含有する該コーティングが、単一の層又は多層系のコンポーネントであることを特徴とする、請求項1〜3の1項に記載の支持体。
  5. 該支持体が、UV光〜IR光の波長範囲の少なくとも1つの領域において光を透過することを特徴とする、請求項1〜の1項に記載の支持体。
  6. 該支持体が、透明なプラスチック、ガラス、又は結晶支持体であることを特徴とする、請求項1〜の1項に記載の支持体。
  7. フッ化マグネシウムが該コーティングの少なくとも10重量%を占めることを特徴とする、請求項1〜の1項に記載の支持体。
  8. 該支持体が、板ガラス、ウォッチガラス、インストゥルメントカバー、レンズ又は他の光学素子、ポリマーフィルム又は透明容器(transparent vessel)であることを特徴とする、請求項1〜の1項に記載の支持体。
  9. フッ化マグネシウムもしくはその前駆体と、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体を含むコーティング組成物が支持体に適用され、熱処理されることを特徴とする、請求項1〜の1項に記載の耐磨耗性且つ耐引掻性のコーティングを有する支持体を製造するための方法。
  10. 該コーティング組成物が、コーティング又は印刷プロセスによって該支持体に適用されることを特徴とする、請求項に記載の方法。
  11. 該熱処理が100〜600℃の温度で実施されることを特徴とする、請求項又は10に記載の方法。
  12. 該支持体が、該コーティングの前及び/又は後に1つ以上の同一又は異なる層を備えることを特徴とする、請求項11の1項に記載の方法。
  13. 透明支持体上の干渉層アセンブリとしての、又は透明支持体上の単一反射防止層としての、請求項1〜の1項に記載の耐磨耗性且つ耐引掻性のコーティングを有する支持体の使用。
  14. フッ化マグネシウム又はその前駆体と、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体を含む、耐磨耗性且つ耐引掻性のコーティング用のコーティング組成物であって、
    前記少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物が、ZrO である、
    コーティング組成物
  15. ゾルとして又は溶液中のフッ化マグネシウム又はその前駆体と、ゾルとしての少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体を含有することを特徴とする、請求項14に記載のコーティング組成物。
  16. フッ化マグネシウム又はその前駆体と、該少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体が、該コーティング組成物の固形分の少なくとも80重量%を占めることを特徴とする、請求項14又は15に記載のコーティング組成物。
  17. フッ化マグネシウム又はその前駆体のゾル又は溶液と、少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体のゾルが互いに混合される、請求項1416の1項に記載のコーティング組成物を調製するための方法。
  18. フッ化マグネシウム又はその前駆体の該ゾル又は溶液が、有機溶媒中でマグネシウム化合物とフッ素化有機化合物を反応させることによって得られることを特徴とする、請求項17に記載の方法。
  19. 該フッ素化有機化合物が、CF 基を有する化合物であることを特徴とする、請求項18に記載の方法。
  20. 該マグネシウム化合物が、マグネシウムアルコキシドであることを特徴とする、請求項18又は19に記載の方法。
  21. 該有機溶媒が、アルコールであることを特徴とする、請求項1820の1項に記載の方法。
  22. 該少なくとも1つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体のゾルが、加水分解性金属化合物又は半金属化合物を加水分解することによって得られることを特徴とする、請求項1821の1項に記載の方法。
  23. 錯化剤及び/又は定着剤が該コーティング組成物に添加されることを特徴とする、請求項22に記載の方法。
JP2007526279A 2004-06-08 2005-06-07 支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング Ceased JP2008501557A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004027842A DE102004027842A1 (de) 2004-06-08 2004-06-08 Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat
PCT/EP2005/006113 WO2005120154A2 (de) 2004-06-08 2005-06-07 Abrieb- und kratzfeste beschichtungen mit niedriger brechzahl auf einem substrat

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008501557A JP2008501557A (ja) 2008-01-24
JP2008501557A5 true JP2008501557A5 (ja) 2011-07-28

Family

ID=35457359

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007526279A Ceased JP2008501557A (ja) 2004-06-08 2005-06-07 支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング

Country Status (5)

Country Link
US (2) US20080261053A1 (ja)
EP (1) EP1778598A2 (ja)
JP (1) JP2008501557A (ja)
DE (1) DE102004027842A1 (ja)
WO (1) WO2005120154A2 (ja)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6262828A (ja) * 1985-09-13 1987-03-19 Toray Ind Inc 被覆エポキシ系球状微粒子
KR101399273B1 (ko) * 2004-09-16 2014-05-27 가부시키가이샤 니콘 비정질 산화 규소 바인더를 갖는 MgF2 광학 박막, 및 그것을 구비하는 광학 소자, 그리고 그 MgF2 광학 박막의 제조 방법
FR2893320B1 (fr) 2005-11-17 2009-05-29 Univ Paris Curie Oxyfluorure poreux nanostructure
WO2007060816A1 (ja) * 2005-11-25 2007-05-31 Murata Manufacturing Co., Ltd. 透光性セラミックおよびその製造方法、ならびに光学部品および光学装置
JPWO2008001675A1 (ja) 2006-06-27 2009-11-26 株式会社ニコン 光学多層薄膜、光学素子、及び光学多層薄膜の製造方法
DE102006040200B4 (de) * 2006-08-28 2008-09-04 Webasto Ag Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils
FR2907112B1 (fr) * 2006-10-16 2009-10-02 Eurokera S N C Sa Plaque vitroceramique et son procede de fabrication
JP5029818B2 (ja) * 2007-04-24 2012-09-19 日産化学工業株式会社 コーティング組成物及び光学部材
DE102007025590A1 (de) 2007-05-31 2008-12-04 Ferro Gmbh Einbrennbare siebdruckfähige Antireflexbeschichtung für Glas
US8636845B2 (en) 2008-06-25 2014-01-28 L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude Metal heterocyclic compounds for deposition of thin films
US20100180939A1 (en) * 2009-01-22 2010-07-22 Sharma Pramod K Heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, coated articles including heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, and methods of making the same
EP2325675A2 (en) 2009-07-30 2011-05-25 Canon Kabushiki Kaisha Method for producing optical film, optical film, and optical component
DE102009056933A1 (de) * 2009-12-04 2011-06-09 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit Farbfilter, Wertdokument mit so einem solchen Sicherheitselement sowie Herstellungsverfahren eines solchen Sicherheitselementes
JP5683146B2 (ja) * 2010-06-24 2015-03-11 キヤノン株式会社 光学膜の製造方法および光学素子の製造方法
JP5641851B2 (ja) 2010-09-30 2014-12-17 キヤノン株式会社 光学膜製造用塗布液、その製造方法および光学膜の製造方法
JP2012230968A (ja) * 2011-04-25 2012-11-22 Hitachi Chem Co Ltd 封止材シート及び太陽電池モジュール
JP6097754B2 (ja) 2011-09-27 2017-03-15 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード ニッケル含有膜を堆積させる方法、及びニッケルケイ化物膜を堆積させるald方法
WO2014154875A1 (de) 2013-03-28 2014-10-02 Ceramtec-Etec Gmbh Keramik mit funktionsbeschichtung
DE102013010105A1 (de) 2013-06-18 2014-12-18 Ferro Gmbh Verfahren zur Herstellung einer wässrigen Zusammensetzung umfassend ein Kondensat auf Basis von Silicium-Verbindungen zur Herstellung von Antireflexionsbeschichtungen
AR100953A1 (es) 2014-02-19 2016-11-16 Tenaris Connections Bv Empalme roscado para una tubería de pozo de petróleo
US10295707B2 (en) 2014-02-27 2019-05-21 Corning Incorporated Durability coating for oxide films for metal fluoride optics
CN106537190B (zh) * 2014-05-23 2019-08-16 康宁股份有限公司 具有减少的划痕与指纹可见性的低反差减反射制品
CN104118995B (zh) * 2014-08-07 2016-06-22 威海金太阳光热发电设备有限公司 一种适用于集热管的自清洁减反射膜制备方法
DE102015200948A1 (de) 2015-01-21 2016-07-21 Automotive Lighting Reutlingen Gmbh Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils mit einem Lack, Lackieranlage zur Ausführung des Verfahrens und Abdeckscheibe einer Kraftfahrzeugbeleuchtungseinrichtung, die nach dem Verfahren beschichtet worden ist
CN104927416B (zh) * 2015-06-09 2017-08-29 中国南玻集团股份有限公司 硅镁铝溶胶和掺杂核壳二氧化硅微球镀膜液及制备应用
CN105198235B (zh) * 2015-10-28 2018-06-26 浙江鼎昇新材料科技股份有限公司 一种憎水疏油自洁玻璃的制备方法
JP6961775B2 (ja) * 2016-05-12 2021-11-05 キヤノン株式会社 光学膜
JP6818433B2 (ja) * 2016-05-12 2021-01-20 キヤノン株式会社 トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液
JP6768346B2 (ja) * 2016-05-12 2020-10-14 キヤノン株式会社 光学膜
JP2018049074A (ja) * 2016-09-20 2018-03-29 キヤノンファインテックニスカ株式会社 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス
JP7153638B2 (ja) * 2017-04-27 2022-10-14 日本板硝子株式会社 低反射コーティング付きガラス物品
CN108648883B (zh) * 2018-05-15 2020-08-25 华东师范大学 一种双层减反结构与石墨烯复合的透明导电薄膜制备方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2869227A (en) * 1955-07-01 1959-01-20 Armour Res Found Process of coating and hot working of metals
US3356523A (en) * 1964-02-10 1967-12-05 Mc Donnell Douglas Corp Polystyrene film containing an antireflection coating
US3775161A (en) * 1971-12-23 1973-11-27 Gen Electric Electric lamp envelope having clear protective coating and method of making
JPS58118602A (ja) * 1982-01-08 1983-07-14 Asahi Optical Co Ltd プラスチツク製光学素材
JPS58208711A (ja) * 1982-05-31 1983-12-05 Shigeo Kubo 多層膜反射鏡
NL8301652A (nl) * 1983-05-10 1984-12-03 Philips Nv Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze.
JPH0642003B2 (ja) * 1983-09-20 1994-06-01 オリンパス光学工業株式会社 光学部品の反射防止膜とその形成方法
EP0195493B1 (en) * 1985-03-22 1993-03-24 Toray Industries, Inc. Transparent article and process for preparation thereof
KR920700408A (ko) * 1989-02-23 1992-02-19 원본미기재 MgF₂박막 및 저반사막의 형성 방법
US5135808A (en) * 1990-09-27 1992-08-04 Diamonex, Incorporated Abrasion wear resistant coated substrate product
DE4212633A1 (de) * 1992-04-15 1993-10-21 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter nanoskaliger keramischer Pulver
JP3343377B2 (ja) * 1992-11-30 2002-11-11 ダイセル化学工業株式会社 酸化物薄膜の作製方法
JPH0769620A (ja) * 1993-08-31 1995-03-14 Nissan Chem Ind Ltd フッ化ナトリウムマグネシウムゾル、微粉末及びその製造法
US5688608A (en) * 1994-02-10 1997-11-18 Industrial Technology Research Institute High refractive-index IR transparent window with hard, durable and antireflective coating
FR2727103B1 (fr) * 1994-11-23 1996-12-27 Kodak Pathe Procede de preparation des halogenures metalliques par voie sol-gel
ATE326513T1 (de) * 1995-03-20 2006-06-15 Toto Ltd Verwendung eines materials mit ultrahydrophiler und photokatalytischer oberfläche
DE19512427A1 (de) * 1995-04-03 1996-10-10 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Kompositklebstoff für optische und optoelektronische Anwendungen
JPH0959042A (ja) * 1995-06-14 1997-03-04 Toto Ltd 防曇性コーティングを備えた透明基材
US5948481A (en) * 1996-11-12 1999-09-07 Yazaki Corporation Process for making a optical transparency having a diffuse antireflection coating
JP4569938B2 (ja) * 1998-12-09 2010-10-27 日産化学工業株式会社 ハードコート剤及びこれを用いたフィルム
JP3729687B2 (ja) * 1999-08-04 2005-12-21 株式会社巴川製紙所 反射防止材料
JP2001141901A (ja) * 1999-11-12 2001-05-25 Seiko Epson Corp 反射防止膜付き光学部品
WO2002018982A1 (fr) * 2000-08-30 2002-03-07 Nikon Corporation Formation d'un film optique mince et element optique dote d'un tel film
CN1190716C (zh) * 2000-09-01 2005-02-23 皇家菲利浦电子有限公司 电流镜像电路,集成电路及用于再现光学记录载体的装置
TWI249164B (en) * 2001-11-22 2006-02-11 Tdk Corp Optical recording medium
US6703343B2 (en) * 2001-12-18 2004-03-09 Caterpillar Inc Method of preparing doped oxide catalysts for lean NOx exhaust
JP4000448B2 (ja) * 2002-02-19 2007-10-31 Jsr株式会社 摺動部材用コーティング組成物および摺動部材
DE10208280A1 (de) * 2002-02-26 2003-09-04 Creavis Tech & Innovation Gmbh Keramische Membran auf Basis eines Polymer-oder Naturfasern ausweisenden Substrates, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE10208208B4 (de) * 2002-02-26 2012-03-08 Eaton Industries Gmbh Bausatz aus mehreren Bausatzelementen und einer Welle
US20040006249A1 (en) * 2002-07-08 2004-01-08 Showa Denko K.K., Nikon Corporation Fluorination treatment apparatus, process for producing fluorination treated substance, and fluorination treated substance
JP2004099879A (ja) * 2002-08-21 2004-04-02 Jsr Corp コーティング用組成物
WO2004018579A1 (ja) * 2002-08-21 2004-03-04 Jsr Corporation コーティング用組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008501557A5 (ja)
EP1261557B1 (fr) Substrat transparent revetu d'une couche polymere
CN102782012B (zh) 光学部件、聚酰亚胺、光学部件的制造方法和聚酰亚胺的制备方法
CN101092288B (zh) 用于光学涂层的保护层
RU2430042C2 (ru) Подложка с покрытием и способ изготовления подложки с покрытием
TW400392B (en) Method of preparing water-repellent coatings on optical substrates
JP4224646B2 (ja) 紫外線に対する露光による架橋結合/高密度化を使用して多層光材料を製造する方法と当該方法で製造された光材料
CN101631745B (zh) 二氧化硅多孔质体、光学用途层积体和组合物、以及二氧化硅多孔质体的制造方法
JPS59213643A (ja) 弗化マグネシウム層を基体上に設ける方法
KR20140098178A (ko) 광학 코팅 및 etc 코팅을 가진 유리 물품 제조 방법
CN1168980A (zh) 不起雾抗反射膜和光学元件及其制造方法
KR20090038363A (ko) 광학 막의 형성방법 및 이러한 막을 갖는 광학 소자
CN102471146B (zh) 光催化材料
JP2014532118A (ja) 大気圧化学蒸着法によるケイ素酸化物の蒸着
JPH0798414A (ja) 偏光板および偏光板の製造方法
JP2011084819A (ja) 高屈折率光学層を製造するための蒸着材料
JP6627828B2 (ja) 薄膜の製造方法、薄膜形成材料、光学薄膜、及び光学部材
JP2018003118A (ja) 薄膜の製造方法、薄膜形成材料、光学薄膜、及び光学部材
CN1122127A (zh) 玻璃的涂层
US20120305071A1 (en) Substrate having a metal film for producing photovoltaic cells
JP2012020937A (ja) ガラス基材上への酸化鉄コーティングの蒸着
JP6910774B2 (ja) 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス
JPH07104102A (ja) ガラス製光学部品の撥水製反射防止膜およびその製造 方法
JP3712103B2 (ja) プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ
FR2690454A1 (fr) Matière résistante aux taches du type polysilazane ou polysiloxazane, et son procédé de fabrication.