JPH03164431A - 高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜形成用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上のｆｉｌ川分野） 本帛明は、高耐訣性高屈折率複合力交化物薄膜形［戊川
■戒物に係り、さらに詳しくは，、Ｓｉ，　Ｓｎ，　Ｓ
ｂむよびＴａよりなる群から選ばれた少なくともｌ種の
念属を含ｆ丁させたＴｉｌｔ系複合酸化吻薄膜をディ，
・ビング広等に、１り形収するための徂威物に関する。

１二宛明の徂戊吻を用いて形威される高耐熱性高１：’
ｊｉ折憂複合酸化物薄膜は、透明な金属酸化物薄膜から
なる低屈折率γＸｎ９と高屈折率薄膜とを交互に積′ζ
４（一た多１５膜からなる光干渉膜の高屈折率薄膜翁ど
して好適に使用される。

またこの光干渉腺は、光源ランプ、境、太陽執集決鏡、
光学フィルター　コールド・ミラー、太陽電池等の光反
射膜または光反射防ＩＬ膜として使用．される。

〔従来の持術〕

耐熱性基材表面に形威される高屈折率薄膜、特に光干渉
膜の低屈折率薄膜層上に形威される高屈折率薄膜層とし
て、高屈折率を有し遇光性の優れた酸化チタン（ＴｉＪ
）　ｙｉ膜が、一般に使用されている。また、本出願人
は、特に光干渉膜の高屈折率薄膜層として好適な高遇光
性かつ高屈折率を有するＴｉＯｔ　　ＧｅＯｚ系複合酸
化物ｙＩ．膜を提案した（特開昭６２−１７７５０１号
公報等参照）一方、耐熱性基材表面に金属酸化物薄膜を
形成する方法として、金属化合物の有機溶媒溶液を基材
表面に塗布し、加熱焼戒する方法が広く採用されている
． 前記方法により耐熱性基材表面に、これらのＴｉＯよ薄
膜を形底する場合の塗布液として、テ）・ラアルコキシ
チタン・モノマーの有機溶媒溶液が、般に採用されるが
、テトラアルコキシチタン・モノマーの加水分解縮金物
（テトラアルコキシチタン・ボリマー）をアセチルアセ
トン等のキレート化剤を含有する混合有ｉ溶媒に溶解し
た溶液（特？１）昭５■４　−　０４３２４１号公報等
参照）なども知られている。

また、本願出願人は、光干渉脱の高屈折率′３膜層とし
てのＴｉｌｔ薄膜層形成用ｍＪ戊吻として、テトラアル
コキンチタン・モノマーおよびテトラアル−Ｊキンチタ
ン　ボリマーのそれぞれを、キレート化剤と反応させ混
合して有機溶媒に｝容解した耕戒ｔＩグ（特開昭６０−
ｏ４ｏｘ７ｔ３公報等参照）、および前Ｂｅ　Ｔ　Ｉ０
　１−Ｇ　ｅ　Ｏ　ｔ系複■酸化物薄膜形威用徂戒物と
して、有機溶７ｆｌＩｉ８解性のチタン化合物とゲルマ
ニウム化合物との混合物または反応生成物を含有するイ
１゛四溶剤溶液（特開昭６２−１７７５０２号公報参照
〉　を提案した． Ｃ発明が解決しようとする問題点〕 酎熱性基材表面に形威される高屈折率薄膜として、前記
したようにＴｉＯアｙＪ膜、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ
ｘ）薄股およびこれらの複合酸化物薄膜が採用されるが
、低屈折率薄膜と高屈折＄ａ校とを交互に積層した光干
渉膜においては、低屈折率膜層との高屈折率薄膜層との
屈折率差が大きく、両雇共に透光性の優れた、均質かつ
均一な膜厚を有し、両層間の密着性の優れた材質の薄膜
が両肩に要求され、一般に低屈折：４＝層として酸化ケ
イ素（Ｓｉｎｇ）薄膜が、高屈折率層としてＴｉＯｘ薄
膜が採用される。

特に、近年、光干渉膜の用途拡大に伴い、前記性能に加
え高温条件下において安定性の優れた光干渉膜が要求さ
れるようになった． 一般的なＴ１０ｔ薄膜の形成に使用されるテトラアルコ
キシチタン・モノマーの有ＩＩＡ溶媒溶液は、テトラア
ルコキシチタン・モノマー自体加水分解され易く、大気
中の水分を吸収して容易にゲル化し、極めて安定性に欠
けることから、光干渉膜の形戊用への適用は困難である
。

テトラアルコキシチタン・ボリマーをキレート化剤を含
有する混合溶媒に溶解した紐戒物は、安定性に優れ、か
つ耐熱性基材表面に↑ｉＪ薄膜を単独で形成する場合の
或膜性に優れるが、光干渉膜の高屈折率膜層としてのＴ
ｉＯｘ薄膜の形成に用いた？合、低屈折率層としてのｓ
ｔｏｚ′ｉＲ膜との眉間密着性が不足し、良好な光干渉
膜が得られない．テトラアルコキシチタン・モノマーお
よびポリマーのそれぞれをキレート化剤と反応させ混合
して有機溶媒に溶解した組戒物は、安定性および↑ｌＯ
８薄膜の或膜性に優れ、また低屈折率との眉間密着性に
も優れており、光干渉膜の高屈折率薄膜層形成用として
好適なものであった．しかしながら、この組戒物では、
欠陥のないＴｉＯｇ薄膜を一回の塗布焼戒で形威可能な
ｙａ厚が約８００人と限界があり、それ以上の膜厚が要
求される場合には、塗布焼戒を繰り返す必要があり、ま
たこの組７ｉ！物を用いて形成したＴｉＯｔ薄膜は、高
温、たとえば９００℃以上の温度における熱安定性が不
足し、薄膜形成後の再加熱により可視光の透過率が著し
く低下する場合があった。

一方、ＴｉＯ■−ＧｅＯ　ｚ系複合酸化物薄膜は、高屈
折率を有し、可視光透過率が大きく、異種金属酸化物薄
膜との層間密着性に優れているが、熱安定性については
、さらに改善する必要があった．本発明は、熱安定性に
優れた高屈折率複合酸化物薄膜形成用組底物を提供する
ことをその目的とする． （問題点を解決するための手段） 本発明者等は、前記目的を達戒すべく鋭意検討した結果
、Ｓｉ，　Ｓｎ，　ＳｂおよびＴａよりなる群から選ば
れた少なくとも１種の金属を添加したＴｉＯｚ系複合酸
化物薄膜が、熱安定性に極めて優れることを見出し本発
明を完威した． 本発明は、対Ｔｉ原子比が０．　０　０　１≦Ｍ　／　
Ｔ　ｉ≦０，３　（ここに、Ｍは、Ｓｉ．．Ｓｎ，　Ｓ
ｂおよびＴａよりなる群から選ばれた少なくとも１種の
金属を表す）の有機溶剤可溶性のチタン化合物と有Ｉａ
？ｇ剤可溶性のＳｉ，　Ｓｎ，　ＳｂおよびＴａよりな
る群から選ばれた少なくともｌ種の金属化合物との混合
物および／またはそれらの間の反応生成物を含有し、有
機溶剤可溶性のリン化合物および／またはホウ素化合物
を酸化物に換算して前記金属化合物の酸化物基準で１０
重量％以下を含有していてもよい有機溶剤溶液からなる
ことを特徴とする高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜形成
用組底物である． 本発明において、高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜は、
対Ｔｉ原子比がＯ．　Ｏ　Ｏ　１≦Ｍ／Ｔｉ≦０．３〈
ここに、Ｍは、Ｓｉ，　Ｓｎ，　ＳｂおよびＴａよりな
る群から選ばれた少なくともｔＮの金属を表す）の添加
金属を含有し、対金属酸化物比で１０重量％以下のリン
酸化物および／またはホウ素酸化物を含有していてもよ
いＴｉｌｔ系複合酸化物薄膜である．前記有機溶剤可溶
性のチタン化合物として、たとえば、一般式二↑ｉ　（
ＯＲ）　ａで表され、式中のＲが炭素数１〜Ｉ８の１価
の炭化水素基の同種または異種であるテトラメトキシチ
タン．テトラエトキシチタン，テトライソブロボキシチ
タン．テトラブトキシチタン，ジエトキシジイソブロポ
キシチタン．ジメトキシジプトキシチタン１　テトラ（
２エチルヘキソキシ）チタン．テトラフエノキシチタン
等のチタンアルコキシド・モノマー、前記チタンアルコ
キシド・モノマーの加水分解縮金物（チタンアルコキシ
ド・ポリマー）および前記チタンアルコキシド・モノマ
ーとチタンアルコキシド・ポリマーとの混合物が使用さ
れる．また、前記チタンアルコキシド・モノマー、チタ
ンアルコキシド・ポリマーおよびそれらの混合物と、酢
酸プロピオン酸，酪酸，高級脂肪酸等の有機カルボン酸
などのアシル化剤および／またはアセチルアセトン．ペ
ンゾイルアセトン等のβ−ジケトン類、アセト酢酸，プ
ロピオニル酪酸等のケト酸類、ケト酸の低級アルキルエ
ステル類、エチレングリコール，ジエチレングリコール
．トリエチレングリコール．ポリエチレングリコール，
プロピレングリコール，ポリブロビレングリコール，オ
クチレングリコール等のジオール類、グリコール酸，乳
酸等のオキシ酸類およびそれらの低級エステル類、ジエ
タノールアミン．トリエタノールアξン等のアミノアル
コール類などのＴｉ原子とキレート環を形成し得るキレ
ート化剤とを反応させて得られるチタン化名物類等が使
用される。

また、添力１）金属化合物として、イ■機溶媒可溶性の
＆属化合物、たとえば前記チタン化合物と同様の置換隻
をイ１゛ずるアルコートシド類、アルコキシド類と目；
１記アシル化剤および／または添加金属原子とキｌ．＝
−ト環を形ｈεし得るキレ−１・化剤とを反応ざせて得
られる金滅化合物が使用される。

ｆ一タン化合物と添加金属化合吻との間の反応生「戊％
　ｔｆ、チタンアルコヰシド・モノマーおよび／または
チタンアルコキンド・ボリマーと添カロ金属の了ルコキ
シドとを加水分解、共縮合して得られるコボυマーであ
り、このコボリマーもアシル化および／またはキレーＩ
・化されていてもよい。

溶剤として、前記した金属化合物類を溶解し得るちのが
、待に制限なく使用される。たとえば、低級アルコール
類、エステル類、ケ１・ン類、脂肪族炭化水素類、芳香
侯炭化水素頚、ハロゲン化炭化水素類およびそれらの混
合溶媒が使用され、好ましくは沸点が１８０℃以下の単
独溶媒または混合溶媒が使用される。

本発明の高耐熱性高屈折率袂合酸化物薄膜形成川組威物
（以下、単に「塗布液」という）は、金属原子比が、０
．　０　０　１　ＳＭ／Ｔ：Ｓ　０．　３　（ここに、
Ｍは、ｎｉｌ記と同じ意味を表す）の前記チタン化合物
と添加金属化合物占の混合物および／またはそれらの間
の反応生成物を、前記有機溶剤に溶解した複合金属酸化
′＃に換算した濃度として１〜３０重量％含有する溶液
である。

前記塗布液は、有機溶剤可溶性の無機または有機のリン
化合物および／またはホウ素化合物を含有していてもよ
い．これらのリン化合物および／またはホウ素化合物は
、酸化物基準で複合金属酸化物に換算した合計に対して
１０乗景％以下、好ましくは１〜５重量％の範囲で添加
される。

高耐熟性高屈折率複合酸化物薄膜は、耐熱性基材シこ前
記塗布液を均一な厚さに塗布して乾燥し、４５０℃以上
の温度下でｌ秒〜３時間加熱して有機物を黙分解するこ
とにより、耐熱性基材表面に形成される。

また、４５０℃以上に加熱した耐熱性基材表面に学布液
をスプレーして熱分解する方法によっても形成すること
ができる。

耐悲性基材として、常温から最高焼成温度までの温度範
囲において、変形や相変化のない表面の平滑な基材が使
用される。たとえば、石英ガラスホウケイ酸ガラス等の
耐熱性ガラス、アルミナ等のセラミノクス、金．白金等
の金属などが使用でき、多くの場合耐熱性ガラスが使用
される．６；１記塗布液の耐熱性基材への塗布方法とし
て、均−な模厚の塗膜を形成可能な方法が、特に制限な
くｔ采用される．たとえば、浸漬引き上げ法、スプレー
法、スビンナー法、ロールコー１・法、カレンダーコー
１・法、ドクターブレード法、印刷法などが採用でき、
特に脱淳の均一性がＶ求される場合ζこは、罎清引き上
げ法が好ま１−＜採用される。

？発明の＆Ｉｌ戒物を用い前記高耐熱性高屈折率複合酸
化物ｙＪ膜と低痛折率の金属酸化物薄膜、たとえばｓｉ
ｏｓＩＩＩＪとを、交互にそれぞれ所定の厚さに積層し
て多層膜とすることにより、光干渉膜を製造することが
できる．たとえば、耐熱性ガラス基材表面に、Ｓｂ含有
ＴｉＯｚ／　ＳｉＯｚ／　Ｓｂ含有Ｔｉｅ．三層膜、Ｓ
ｂ含有ＴｉＯ＊　／　ＳｉＪ　／　Ｓｂ含有ＴｉＯ■／
Ｓｉｆｔ／Ｓｂ含有ＴｉＯ，五層膜等またはＳｂ含有Ｔ
ｉＯ■薄膜層に代えてＳｎ，Ｓｉ，　Ｔａの単独または
Ｓｂを含めた前記添加金属の２種以上を含有するＴｉＯ
■薄膜をを形成することにより、光反射膜が得られる． ＳｉＯｘｌｌｌ’Ｊは、有機ケイ素化合物、たとえばテ
トラメトキシシラン．テトラエトキシシラン，テトライ
ソブロボキシシラン．テトラブトキシシラン．ジエトキ
ソジイソブロボキシシラン，ジクロルジメトキシンラン
等のシランアルコキシドおよび／またはそれらの加水分
解縮合体を含有する溶液を用い、前記高耐熱性高屈折率
複合酸化物薄膜の形成と同様の方法で耐熱性基材または
高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜上に形戊することがで
きる．〔作　　　用〕 本発明の組戒物を用いて形威される高耐熱性高屈折率薄
膜は、前記したようにＴｉ０１をベースとし、Ｓｂ．　
Ｓｎ，　ＳｉおよびＴａよりなる群から選ばれた少なく
ともｌ種の添加金属を含有することを特徴とする． ？ｍに、チタン化合物を高温熱分解することにより、ア
モルファスＴｉＯ！、アナターゼ型および／またはルチ
ル型のＴｉｅ．結晶が生成する。アモルファスＴｉｅｔ
およびアナターゼ型丁ｉ０■は、高可視光透過率を示す
がルチル型ＴｉＪに比較して屈折率が低く、また高温下
に長時間加熱することにより高温安定型であるルチル型
ＴｉＯ■に相変換する．ルチル型ＴｉＯ■薄膜は、アナ
ターゼ型Ｔｉ（ｈ薄膜に比較して熱的に安定であり、か
つ高い屈折率を示すが薄膜？でアモルファス相およびア
ナターゼ型結晶相から相変換すると、薄膜の可視光の透
過率が低下する．したがって、高屈折率かつ高可視光透
過率の要求される系、たとえば光干渉膜の高屈折率膜層
においては、アナターゼ型ＴｉＯ！とルチル型ＴｉＯ■
との混合比のバランスをとること、およびルチル型Ｔｉ
Ｏ■への相変換を抑制することによりその目的が達成さ
れる． ？発明においては、Ｔｉ（ｈに前記添加金属を含有させ
ることにより、アモルファスＴｉ（ｈおよびアナターゼ
型Ｔｉｌｔの高温加熱時におけるルチル型ＴｉＯ■への
相変換および結晶粒の戒長が抑制される結果、可視光透
過率の低下が抑制され高耐熱性の高屈折率複合酸化物薄
膜が得られる．これらの効果は、前記添加金属の含有率
が高い程大きくなるが、過剰となると複合酸化物薄膜の
屈折率が低下するので、それらの含有率は、金属原子比
として０．００１≦Ｍ　／　Ｔ　ｉ≦０．３（ここに、
Ｍは前記と同し意味を表す）の範囲とすることが好まし
い．一方、リン酸化物および／またはホウ素酸化物は、
前記複合酸化物薄膜の平滑性および可視光透過率の向上
させる．また低屈折率膜、特に本質的にアモルファスで
あるＳｉＪ薄膜と交互積層した光干渉膜においては、低
屈折率薄膜と高屈折率薄膜との眉間密着性を向上させる
． リン酸化物および／またはホウ素酸化物の過剰添加も、
複合酸化物薄膜の屈折率を低下させるので、それらの酸
化物基準の添加量は、金属戊分を酸化物に換算した合計
に対して１０重量％以下、好ましくは１〜５重量％の範
囲である．本発明の高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜形
成用組或物（塗布液）は、有機溶剤溶解性の各原料を用
いた均一溶液であることを特徴とする．これら塗布液は
、組威が均一であることから、これらを用いることによ
り、組戊の均一な、すなわち特性の均一な高耐熱性高屈
折率複合酸化物薄膜を耐熱性基材上に形成することがで
きる．特に、各原料としてキレート化した金属アルコキ
シド原料を用いることにより、金属アルコキシドの加水
分解安定性が向上するだけでなく、一回の塗布焼成で形
威可能な複合酸化物薄膜の膜厚を７００人以上、１．５
０Ｑ人のレベルまで向上することができる． 〔実　施　例〕 本発明を、実施例および比較例により、さらに詳細に説
明する。

ただし、本発明の範囲は、以下の実施例により何等の制
限を受けるものではない。

（１）　　複合酸化物薄膜形成用組或物の調製反応容器
に、チタンアルコキシド、アルミニウムアルコキシドと
Ｓｂ，　Ｓｎ，　ＳｉおよびＴａよりなる群から選ばれ
た少なくとも１種の添加金属のアルコキシドを仕込み、
エタノールを加えて均一に混合した後、室温下に攪拌し
ながらアシル化剤またはキレート化剤を添加し、加温し
て還流下に１時間保持して反応を行った．得られた反応
液に、ガラス賓形成剤およびエタノールを添加し、複合
酸化物に挨１ｒシた濃度が４．５重壇％の複合酸化物３
膜形成用組或物：Ａ−１〜Ａ−１０を調製した。

また、金屈或分としてヂタンアルコキシドのみを使用し
、他は１ｉ１記と同様に処理し、比較試ｊｉＪ　Ｃ　Ａ
ｌを、また各種添加金属化合物の過剰量と過少糾を添加
してＩｔ較試料ＣＡ−２−ＣＡ−９を調製した，調製し
た各試ギ１の諸仕様を、第１表に示す。

なお、第１表中の絡号は、Ｆ記を表す。

］〕［尺Ｇ　　ジエチレングリコール ＡＣＡＣ：アセチルアセ｝・ン ｉ”　Ｅ　Ａ　　：　ｌ−リエタノールアミンＬＡ　　
　−乳酸 Ｐｒ：イソブＩＩＩビル基 Ｂ　ＩＪ　：ノルマルブチル基 （２）　　複合酸化物薄膜の形成 良く洗浄、乾燥した２０帥Ｘ５０ｍ＋ｍＸｌロの石英ガ
ラス基板を、前記第４１）項で調製した各試村に浸清し
、約４０ｃｍ／分の一定速度で引き上げ室温下で乾燥し
た． ついで、この基板を９００℃に保持した電気炉中に５分
間保持して焼成し、石英ガラス基板表面に複合酸化物薄
膜を形威した． （３）　　複合酸化物３膜の評価試験 前記第（２）項で！Ｊｉｌ製した複合酸化物薄膜を形成
した石英ガラス基板の可視光透過率Ｔ　ｍ　（％）を自
記分光光度計を用いて測定し、可視光透過率Ｔ　ｍ　（
％〉の極小値から算出した反射率Ｒ（％）より、複合酸
化物薄膜の屈折率ｎおよび膜厚ｔ　（入）を算出し　ノ
こ　． また、複合酸化物薄膜を形威した石英ガラス基板を９０
０℃の温度に再加熱し、１時間保持および５００時間保
持後に、前記と同様にして各特性を測定した． これ乙の測定結果および再加黙後の３膜状昧（白濁、ビ
ンホール、微細クラフク等の有無）を第１表中に示す． 第１表に示したように、本発明の組戒物を用いることに
より、１回の塗布、焼成で１，０００人前後の比較的に
膜厚の厚い欠陥のない、再加熱時の高温熱安定性に優れ
た複合酸化物薄膜が形成される（実施例参照）　これに
対し、添加金属を含有しない酸化物￥！ｉ膜は、再加熱
により白濁し高温熱安定性が欠如している（比較例参照
）．？５）　　光干渉膜の製造 良く洗浄、乾燥した２０＋＋■×５０一■×ｌ＠ｌ一の
石英ガラス基板を、前記第（１）項で調製した試料Ａ−
ＩおよびＡ−３のそれぞれに浸漬し、約４０ｃｍ／分の
一定速度で引き上げ室温下で乾燥した，ついで、この基
板を９００℃に保持した電気炉中に５分間保持して焼成
を行い、石英ガラス基板表面にそれぞれ膜厚１，０２０
人および１，０００人、屈折率２．１２および２．　２
　６　、可視光透過率９２．０％および９１．４％の複
合酸化物薄膜を形成した．ついで、この基板を、ＳｉＯ
■に換算した濃度が５．０重量％の有機ケイ素化合物を
含有する有Ｉ９７８剤溶液〈主戒分：シリケートボリマ
ー、主溶剤：酢酸エステル、商品名：アトロンＮＳｉ−
５００　（日本曹達■製））に浸漬して引き上げ、電気
炉中で９００℃の温度に１０分間加熱して焼戊し、膜Ｉ
ｃＪ．ｌ，　８００人、屈折率１．４６のＳｉＪ薄膜を
、複合酸化物薄膜上に形威した。

？らに、これらの複合酸化物薄膜とＳｉＯ■′ｙｔ膜と
を積層した石英ガラス基板を、前記各試料に浸漬し、以
下前記と同一の条件で複合酸化物薄膜の形威を行い、さ
らにＳｉ（ｈ薄膜および複合酸化物薄膜の形成を繰り返
して、複合酸化物／　Ｓ　ｉ　Ｏ　ｔ　／複合酸化物／
　Ｓ　ｉ　Ｏ　ｔ　／複合酸化物の五層膜を石英ガラス
基板表面に形威した． 得られた五層膜付き石英ガラス基板の可視光の最大透過
率は、９０％以上であり、近赤外部の反射率も高いクラ
ンク、剥離等の薄膜欠陥のない良好な光干渉性を示した
． また、これらの光干渉膜を形成した基板を９００℃に５
００時間再加熱しても、その可視光の最大透過率は、９
０％以上が確保され、クラブク、自７蜀、 失透写の薄膜欠陶の発生は認められなかった。

（発明の効果〕 本発明は、前記したようにＳｂ．　Ｓｎ，　Ｓｉおよび
Ｔａよりなる群から選ばれた少なくともｌ１！の添加金
？を含自ずる高耐熱性高屈折率を有するＴｉＯ■系複合
酸化物薄膜を耐熱性基材上に形成するための均一溶液か
らなる組成物であることを特徴とする。

本発明の組威物を用いて形威されるＴｉ０２系複合酸化
物簿膜は、前記実施例に示したように高温熱安定性の優
れた高屈折率および高可視光透過率を有する複合酸化物
薄膜であり、特に光干渉膵の高屈折率膜暦として好適で
ある． ｔ発明は、高温熱安定性の優れた高屈折率および高可視
光ｉ！ｉ！率を有ずる複合酸化物薄膜、特に光干渉脱の
高屈折率膜層として好適な複合酸化物薄膜の形成用Ｍｉ
戒物を提供するものであり、その産業上の意義は極めて
大きい。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）対Ｔｉ原子比が０．００１≦Ｍ／Ｔｉ≦０．３（
   ここに、Ｍは、Ｓｉ、Ｓｎ、ＳｂおよびＴａよりなる群
   から選ばれた少なくとも１種の金属を表す）の有機溶剤
   可溶性のチタン化合物と有機溶剤可溶性のＳｉ、Ｓｎ、
   ＳｂおよびＴａよりなる群から選ばれた少なくとも１種
   の金属化合物との混合物および／またはそれらの間の反
   応生成物を含有し、有機溶剤可溶性のリン化合物および
   ／またはホウ素化合物を酸化物に換算して前記金属化合
   物の酸化物基準で１０重量％以下を含有していてもよい
   有機溶剤溶液からなることを特徴とする高耐熱性高屈折
   率複合酸化物薄膜形成用組成物
2. （２）請求項第（１）項において、チタン化合物と添加
   金属化合物との混合または反応比が、金属原子比として
   ０．００１≦Ｍ／Ｔｉ≦０．３であることを特徴とする
   高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜形成用組成物
3. （３）請求項第（１）項または第（２）項において、チ
   タン化合物が、チタンアルコキシド・モノマー、チタン
   アルコキシド・モノマーの加水分解縮合物（チタンアル
   コキシド・ポリマー）または前記チタンアルコキシド・
   モノマーとチタンアルコキシド・ポリマーとの混合物で
   あることを特徴とする高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜
   形成用組成物
4. （４）請求項第（１）項または第（２）項において、チ
   タン化合物と添加金属化合物との反応生成物が、チタン
   アルコキシド、添加金属のアルコキシド、アシル化剤お
   よびＴｉ原子ならびに／もしくは添加金属原子とキレー
   ト環を形成し得るキレート化剤よりなる群から選ばれた
   １種または２種以上との反応生成物であることを特徴と
   する高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜形成用組成物