JP2017203007A - トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液 - Google Patents

トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液 Download PDF

Info

Publication number
JP2017203007A
JP2017203007A JP2016096266A JP2016096266A JP2017203007A JP 2017203007 A JP2017203007 A JP 2017203007A JP 2016096266 A JP2016096266 A JP 2016096266A JP 2016096266 A JP2016096266 A JP 2016096266A JP 2017203007 A JP2017203007 A JP 2017203007A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sol solution
parts
solvent
prepared
except
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016096266A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017203007A5 (ja
JP6818433B2 (ja
Inventor
大地 渡部
Daichi Watabe
大地 渡部
恵理香 植松
Erika Uematsu
恵理香 植松
春奈 今井
Haruna Imai
春奈 今井
淳子 千頭和
Junko Chizuwa
淳子 千頭和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Finetech Nisca Inc
Original Assignee
Canon Finetech Nisca Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Finetech Nisca Inc filed Critical Canon Finetech Nisca Inc
Priority to JP2016096266A priority Critical patent/JP6818433B2/ja
Publication of JP2017203007A publication Critical patent/JP2017203007A/ja
Publication of JP2017203007A5 publication Critical patent/JP2017203007A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6818433B2 publication Critical patent/JP6818433B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

【課題】本発明は、極小粒子径を有するトリフルオロ酢酸マグネシウムゾルを提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、特定のハンセンパラメ−タを持つ有機溶媒中で、安定化剤としてのα置換βジケトン存在下で、マグネシウムジエトキシドとトリフルオロ酢酸を反応させることで、極小粒子径を持つトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液を提供することができる。【選択図】なし

Description

本発明は、添加剤および反応条件を最適化することで得た、極小粒子径を持つトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液に関する。
フッ化マグネシウムは、広い透過波長範囲を持ち、かつ最も低い屈折率を持つ材料であるため、光学用途の反射防止膜用の材料として広く使用されている。
フッ化マグネシウムを反射防止膜として使用する場合には、主として数種類の材料からなる多層膜の一層として用いられることが多い。この場合、多層膜の反射防止膜の原理としては、多層膜の層間での反射光同士の干渉によって反射を低減させるため、各層の屈折率を制御することが必須となっている。
フッ化マグネシウムの成膜は、一般的に真空蒸着等の乾式プロセスで行われ(特許文献1)、緻密な膜を形成することができる。しかし、乾式プロセスでは、大きい面積や曲率半径の小さいものに対して、均一塗布が困難であることや、生産コストが高いなどの問題があった(特許文献2)。
一方、湿式プロセスによるフッ化マグネシウムの成膜では、大きい面積や曲率半径の小さいものに対しても、均一塗布が可能であり、安価に成膜できるというメリットがある。
しかし、湿式プロセスでは、多孔質の膜が得られやすくなるため、真空蒸着のような乾式プロセスで得られるような、材料固有の屈折率を有する緻密な膜が得られないという問題があった。湿式プロセスに関しては、緻密な膜が得られる方法の報告(特許文献3)があるが、フッ化マグネシウムの原料の合成等に関する情報は不明である。
特開2011−257677号公報 特開平11−223707号公報 特開昭59−213643号公報
本発明は、粒子径が極めて小さいMgF2前駆体(トリフルオロ酢酸マグネシウム)を含むゾル溶液を提供することである。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液を用いて湿式プロセスにより、フッ化マグネシウムを成膜する場合に、ゾル溶液中で粒子径が小さいトリフルオロ酢酸マグネシウムを用いることで、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、平均粒子径が5〜50nmの範囲のトリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子と、溶媒と、α置換βジケトンとを含むことを特徴とするトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液である。また、α置換βジケトンは、3−メチル−2,4−ペンタンジオンであることが好ましい。また、溶媒は、下記式で表されるハンセンパラメ−タ(δdpH)を有することが、好ましい。
15.0[MPa1/2] ≦δd ≦16.5[MPa1/2] (I)
4.0[MPa1/2] ≦δp ≦8.0[MPa1/2] (II)
9.0[MPa1/2] ≦δH ≦14.0[MPa1/2] (III)
更に、溶媒は、2−エチル1−ブタノ−ル、ブチルカルビト−ル、または1−ブトキシ−2−プロパノ−ルであることが好ましい。
また、本発明では、ゾル溶液中のトリフルオロ酢酸マグネシウムの含有量a[%]と、α置換βジケトンの含有量b[%]の関係が、下記式で表されることが好ましい。
8.0≦a≦27.0 (IV)
2.0≦b≦6.0 (V)
a/b≧2 (VI)
上記本発明の構成とすることで、溶媒中で分散性の安定したトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液が提供できる。また、本発明のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾルを使用して塗工し、成膜されたフッ化マグネシウム膜は、塗工時の膜厚制御が容易であり、かつ緻密な膜になる。
以下、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。
1.トリフルオロ酢酸マグネシウム
トリフルオロ酢酸マグネシウムは、湿式プロセスでフッ化マグネシウムを形成させるための前駆体であり、例えば下記反応式(1)の反応で得られる。
<トリフルオロ酢酸マグネシウムの粒子径>
トリフルオロ酢酸マグネシウムの平均粒子径は、5nm以上50nm以下が好ましく、5nm以上30nm以下が、さらに好ましい。この粒子径が5nm以下の場合は、成膜する際に所望の膜厚を形成させることが難しくなる。また、この粒子径が50nmを超える場合は、粒子間の隙間が大きくなり、緻密な膜が形成されなくなる。
本明細書において、「平均粒子径」とは、メディアン径(D50)を意味し、動的光散乱式の粒度分布測定装置を用いて測定した値である。
2.溶媒
トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液は、トリフルオロ酢酸マグネシウムを溶媒に分散させて作成する。溶媒は、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、アルコール系溶媒、脂肪族系もしくは脂環族系の炭化水素系溶媒、各種の芳香族炭化水素系、各種のエステル系、各種のケトン系、各種のエーテル系、非プロトン性極性溶剤等が挙げられる。
<溶媒のハンセンパラメ−タ>
トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液を合成する際には、特定のハンセンパラメ−タ(δdpH)を有する溶媒を使用することが好ましい。分散項δdは15.0以上16.5以下が好ましく、極性項δpは4.0以上8.0以下が好ましく、水素結合項δHは9.0以上14.0以下が好ましい。
分散項δdが15.0未満の場合は、トリフルオロ酢酸マグネシウムが分散状態を保てずに析出してしまい、16.5より大きいと粒子径が大きくなり緻密な膜を形成することが難しい。極性項δpが4.0未満または8.0より大きい場合は、粒子径が大きくなり緻密な膜を形成することが難しい。同様に、水素結合項δHが9.0未満または14.0より大きい場合には、粒子径が大きくなり緻密な膜を形成することが難しい。
好ましい溶媒として、単独溶媒としては2−エチルブタノ−ル、1−ブトキシ−2−プロパノ−ル、ブチルカルビトール等を例示できる。なお、これらの有機溶媒は、一種単独でまたは二種以上を組合せて用いることができる。また、二種以上の溶媒を組合せて、上記ハンセンパラメ−タ(δdpH)を有する溶媒を適宜調製しても良い。
3.α置換βジケトン
トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液は、トリフルオロ酢酸マグネシウムを溶液中で安定に分散させるために、α置換βジケトンを加えることが好ましい。
α置換βジケトンは、下記一般式(1)で表される化合物である。
[式中R1、R2、R3は、それぞれ、同一または異なる炭素数1〜3のアルキル基である]
上記式(1)中において、R1、R2、R3の炭素鎖が長くなると、α置換βジケトンが成膜後の膜中に残留するため、光学特性が低下する。また、R1、R2、R3のアルキル基が存在しない場合は、液中での安定化効果が不十分になるため、粒子径が大きくなり、同様に光学特性が低下する。α置換βジケトンとしては、特に、3−メチル−2,4−ペンタンジオンを使用することが好ましい。
4.ゾル溶液
トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液は、トリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子と、溶媒と、α置換βジケトンとを含む。ゾル溶液中の各成分の比率は、以下の範囲であることが好ましい。
(1)トリフルオロ酢酸マグネシウムの含有量
ゾル溶液中のトリフルオロ酢酸マグネシウムの含有量a[%]は、5.0〜35.0%が好ましく、8.0%以上27.0%以下がより好ましい。含有量a[%]が5.0%未満の場合は、トリフルオロ酢酸マグネシウムの割合が少なすぎるため成膜性が低下してしまう。また、含有量a[%]が35.0%を超える場合は、溶液中のトリフルオロ酢酸マグネシウム量が過剰になるため、粒子同士の凝集が激しくなり溶液中での分散状態の安定性が低下する。
(2)α置換βジケトンの含有量
ゾル溶液中のα置換βジケトンの含有量b[%]は、0.7〜15.0%が好ましく、2.0%以上6.0%以下がより好ましい。含有量b[%]が0.7%未満の場合は、トリフルオロ酢酸マグネシウムに対してα置換βジケトンの割合が少なすぎるため、粒子同士の凝集が激しくなり溶液中で分散状態の安定性が低下する。また、含有量b[%]が15.0%を超える場合は、α置換βジケトンの含有量が過剰になるため、成膜後の膜中への残留により光学特性が低下する。
(3)トリフルオロ酢酸マグネシウムとα置換βジケトンの割合
上記a[%]とb[%]の割合、a/bは、0.7以上が好ましく、2.0以上がより好ましい。a/bが0.7未満の場合は、トリフルオロ酢酸マグネシウムに対するα置換βジケトンの割合が少なすぎるため、ゾル粒子同士の凝集が激しくなり溶液中で分散状態の安定性が低下する。また、分散状態の安定性のためには、a/bは、30.0以下が好ましく、10.0以下がより好ましい。
5.本発明のゾル溶液の評価
ゾル溶液は、以下の2つの評価方法(評価1および2)により、評価した。
(1)初期粒子径[評価1]
得られたゾルの粒度分布測定(商品名「UPA−EX250」、日機装株式会社製)を行い、得られたメディアン径(D50[nm])を以下の基準に従って評価した。
◎ :5nm≦D50≦30
○ :30<D50≦50
△ :50<D50≦80
△× :80<D50≦150
× :150<D50
(2)粒子径変化[評価2]
前述の評価1と同様に、6ヶ月経過後のゾルの粒度分布測定を行い、初期粒子径との差を以下の基準に従って評価した。
◎:6ヶ月後粒子径が150nm未満かつ初期からの変化が10nm未満
○:6ヶ月後粒子径が150nm未満かつ初期からの変化が10nm以上20nm未満
△:6ヶ月後粒子径が150nm未満かつ初期からの変化が20nm以上30nm未満
△×:6ヶ月後粒子径が150nm未満かつ初期からの変化が30nm以上50nm未満
×:6ヶ月後粒子径が150nm以上、または初期からの変化が50nm以上の場合
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、文中の「部」および「%」は、特に断りのない限り、質量基準である。
<α置換βジケトンの合成>
α置換βジケトンとして、3−メチル−2,4−ペンタンジオンを合成した。
温度計、還流管、滴下ろうと及び攪拌装置を備えた反応容器に、炭酸カリウム100部(塩基触媒)、アセトン200部(溶媒)を加えて攪拌を行った。続いて、攪拌しながらアセチルアセトン100部(基質)を加えて、その後ヨ−ドメタン200部(反応物)を滴下して水浴で55〜60℃に保ちながら6時間反応させた。その後、吸引ろ過を行い不溶成分を除去して得たろ液を、ロ−タリ−エバポレ−タ−を用いて濃縮し、得られた濃縮液を減圧蒸留することによって3−メチル−2,4−ペンタンジオンを得た。
[実施例1]
<トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液の調製>
滴下ろうと及び攪拌装置を備えた反応容器に、マグネシウムジエトキシド5部(基質)、2−エチル1−ブタノ−ル119部(溶剤)、3−メチル−2,4−ペンタンジオン9部(安定化剤)を加えて100rpmで攪拌を行った。続いて、攪拌しながらトリフルオロ酢酸(反応物)11部を85分かけて滴下した後、水浴で25℃に保ちながら反応を行った。粒子径の分析は粒度分布測定装置を用いて行った。
[実施例2]
仕込み量を、マグネシウムジエトキシド17部、2−エチル1−ブタノール82部、3−メチル−2,4−ペンタンジオン9部、トリフルオロ酢酸(反応物)36部に変更した以外は、実施例1と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例3]
仕込み量を、マグネシウムジエトキシド4部、2−エチル1−ブタノール123部、3−メチル−2,4−ペンタンジオン9部、トリフルオロ酢酸(反応物)8部に変更した以外は、実施例1と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例4]
仕込み量を、マグネシウムジエトキシド20部、2−エチル1−ブタノール74部、3−メチル−2,4−ペンタンジオン9部、トリフルオロ酢酸(反応物)41部に変更した以外は、実施例1と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例5]
溶剤を2−エチル1−ブタノール88部、安定化剤を3−メチル−2,4−ペンタンジオン3部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例6]
溶剤を2−エチル1−ブタノール85部、安定化剤を3−メチル−2,4−ペンタンジオン6部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例7]
溶剤を2−エチル1−ブタノール90部、安定化剤を3−メチル−2,4−ペンタンジオン1部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例8]
溶剤を2−エチル1−ブタノール77部、安定化剤を3−メチル−2,4−ペンタンジオン14部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例9]
安定化剤の3−メチル−2,4−ペンタンジオンを、5−メチルヘキサン−2,4−ジオンに変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例10]
溶剤をブチルカルビトール82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例11]
溶剤を1−ブトキシ−2−プロパノール82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例12]
溶剤をメチルカルビトール82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例13]
溶剤をn−ペンタノ−ル25部、酢酸58部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例14]
溶剤をn−ペンタノ−ル41部、シクロヘキサノン41部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例15]
溶剤をn−ペンタノ−ル4部、酢酸78部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例16]
溶剤をメチルカルビトール82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例17]
溶剤をn−ヘキサノ−ル82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例18]
溶剤をN,N−ジメチルホルムアミド33部、1−ブトキシ−2−プロパノ−ル49部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例19]
溶剤をメチルイソブチルカルビト−ル82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例20]
溶剤をn−ペンタノ−ル82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例21]
溶剤をn−ペンタノ−ル41部、メチルイソブチルケトン41部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例22]
溶剤を1−メトキシ−2−プロパノ−ル82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例23]
溶剤をメチルイソブチルケトン82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例24]
溶剤をエチレングリコ−ル82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例25]
溶剤をヘキサン82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例26]
溶剤をエチレングリコ−ル49部、トルエン33部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例27]
溶剤をエチレングリコ−ル12部、イソオクチルアルコ−ル70部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例28]
溶剤をイソオクチルアルコ−ル49部、ジエチルエ−テル33部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例29]
溶剤をエタノ−ル82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例30]
溶剤を酢酸ブチル82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例31]
溶剤をN,N−ジメチルホルムアミド82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例32]
溶剤をトルエン41部、2−プロパノ−ル41部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例33]
溶剤をシクロオクタノン82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例34]
溶剤をシクロヘキサノン82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例35]
溶剤をイソオクチルアルコ−ル54部、ヘキサン29部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例36]
溶剤をメチルエチルケトン82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例37]
溶剤をブチルセロソルブ54部、キシレン29部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例38]
溶剤をイソオクチルアルコ−ル49部、アセトン33部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例39]
溶剤をイソオクチルアルコ−ル66部、メタノ−ル16部からなる混合溶媒に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[実施例40]
溶剤をトルエン82部に変更した以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[比較例1]
安定化剤の3−メチル−2,4−ペンタンジオンを加えないこと以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
[比較例2]
安定化剤の3−メチル−2,4−ペンタンジオンを無水酢酸に変更したこと以外は、実施例2と同様にしてゾル溶液を調製した。
ゾル溶液の処方と評価結果を、以下の表1〜3に示す。
本発明によって、極小粒子径を有するトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液を提供できる。また、本発明のマグネシウムゾル溶液を使用してフッ化マグネシウム膜を製造することで、蒸着法と同等の緻密なフッ化マグネシウム膜を提供することができる。

Claims (5)

  1. 平均粒子径が5〜50nmの範囲のトリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子と、溶媒と、α置換βジケトンとを含むことを特徴とするトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
  2. 前記α置換βジケトンが、3−メチル−2,4−ペンタンジオンである請求項1に記載のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
  3. 前記溶媒が、下記式で表されるハンセンパラメ−タ(δdpH)を有することを特徴とする請求項1または2に記載のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
    15.0[MPa1/2] ≦δd ≦16.5[MPa1/2] (I)
    4.0[MPa1/2] ≦δp ≦8.0[MPa1/2] (II)
    9.0[MPa1/2] ≦δH ≦14.0[MPa1/2] (III)
  4. 前記溶媒が、2−エチル1−ブタノ−ル、ブチルカルビト−ル、または1−ブトキシ−2−プロパノ−ルである請求項1〜3の何れか一項に記載のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
  5. 前記ゾル溶液中のトリフルオロ酢酸マグネシウムの含有量a[%]と、α置換βジケトンの含有量b[%]の関係が、下記式で表されることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
    8.0≦a≦27.0 (IV)
    2.0≦b≦6.0 (V)
    a/b≧2 (VI)
JP2016096266A 2016-05-12 2016-05-12 トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液 Active JP6818433B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016096266A JP6818433B2 (ja) 2016-05-12 2016-05-12 トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016096266A JP6818433B2 (ja) 2016-05-12 2016-05-12 トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017203007A true JP2017203007A (ja) 2017-11-16
JP2017203007A5 JP2017203007A5 (ja) 2019-06-13
JP6818433B2 JP6818433B2 (ja) 2021-01-20

Family

ID=60321970

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016096266A Active JP6818433B2 (ja) 2016-05-12 2016-05-12 トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6818433B2 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59213643A (ja) * 1983-05-10 1984-12-03 エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン 弗化マグネシウム層を基体上に設ける方法
JPH06509054A (ja) * 1991-07-29 1994-10-13 フオード モーター カンパニー フッ化マグネシウム膜の付着法
WO2006030848A1 (ja) * 2004-09-16 2006-03-23 Nikon Corporation 非晶質酸化珪素バインダを有するMgF2光学薄膜、及びそれを備える光学素子、並びにそのMgF2光学薄膜の製造方法
JP2008501557A (ja) * 2004-06-08 2008-01-24 ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク 支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング
JP2012025937A (ja) * 2010-06-24 2012-02-09 Canon Inc 塗布液、光学部品の製造方法および撮影光学系
JP2012076932A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Canon Inc 光学膜製造用塗布液、その製造方法および光学膜の製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59213643A (ja) * 1983-05-10 1984-12-03 エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン 弗化マグネシウム層を基体上に設ける方法
JPH06509054A (ja) * 1991-07-29 1994-10-13 フオード モーター カンパニー フッ化マグネシウム膜の付着法
JP2008501557A (ja) * 2004-06-08 2008-01-24 ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク 支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング
WO2006030848A1 (ja) * 2004-09-16 2006-03-23 Nikon Corporation 非晶質酸化珪素バインダを有するMgF2光学薄膜、及びそれを備える光学素子、並びにそのMgF2光学薄膜の製造方法
JP2012025937A (ja) * 2010-06-24 2012-02-09 Canon Inc 塗布液、光学部品の製造方法および撮影光学系
JP2012076932A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Canon Inc 光学膜製造用塗布液、その製造方法および光学膜の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
SHINOBU FUJIHARA, MUNEHIRO TADA, TOSHIO KIMURA: "Preparation and characterization of MgF2 thin film by a trifluoroacetic acid method", THIN SOLID FILMS, vol. 304, JPN6020017407, 1997, pages 252 - 255, ISSN: 0004271733 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP6818433B2 (ja) 2021-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3521242B1 (en) Zirconium nitride powder and method for producing same
TWI682901B (zh) 氧化鋯粒子之有機溶媒分散體及其製造方法
KR20150100817A (ko) 규소 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체 및 그의 제조 방법, 및 그 복합체를 사용하여 제조한 복합 재료
US20120141780A1 (en) High-Refractive Index Powder and Production Method and Application of Same
JPS6377940A (ja) 真球状ポリメチルシルセスキオキサン粉末およびその製造方法
JP6004418B2 (ja) Vo2含有組成物及びvo2分散樹脂層の製造方法
CN103415576B (zh) 氧化锌系膜形成用组合物、氧化锌系膜的制造方法及锌化合物
WO2014189025A1 (ja) 銀粒子の製造方法
JP2007197296A (ja) 金属酸化物微粒子の分散液およびその製造方法
TWI586771B (zh) A paste composition for a solar cell electrode
JP6818433B2 (ja) トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液
FR2950894A1 (fr) Utilisation d'acetals de glycerol comme agents de coalescence pour laques, peintures ou vernis et compositions les comprenant
JP7224767B2 (ja) チタニアナノ粒子及びそれを用いた紫外線遮蔽材
CN114350260B (zh) 一种具有耐磨损与高稳定度的氟素离型涂料及其制备方法
JP2024512878A (ja) シェル付き発光クリスタル
WO2015137344A1 (ja) 樹脂-含フッ素ホウ酸コンポジット粒子複合体
JP2006124264A (ja) 酸化カルシウム分散液およびその製造方法
JP2016132676A (ja) 塗工液及びその製造方法
US20240002572A1 (en) Sol liquid, mixed liquid, coating film, method of producing sol liquid, and method of producing coating film
JP7209609B2 (ja) 球状ポリメチルシルセスオキサンからなる液晶用スペーサー
JP7206056B2 (ja) 光触媒
JP2004123418A (ja) 酸化インジウム微粒子の製造方法
JP2024006967A (ja) ゾル液、混合液、コーティング膜、ゾル液の製造方法及びコーティング膜の製造方法
TWI832929B (zh) 經表面處理之紅外線吸收微粒子分散液及其製造方法
JP6768346B2 (ja) 光学膜

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20180424

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190509

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190509

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200424

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200602

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200728

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20201201

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201228

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6818433

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151