CN1832643A - 有机发光设备及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

公开了一种具有适用于前发射型的透明吸湿层和改进对比度的有机发光设备,以及所提供的有机发光设备的制造方法。该有机发光设备包括:基板;密封基板;置于所述基板和密封基板之间的有机发光单元以及透明吸湿层,该透明吸湿层包括:具有约100nm或者更小平均粒径的金属氧化物和金属盐中的至少一种、粘合剂以及吸收可见波长范围内的光的光吸收材料。

Description

有机发光设备及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种有机发光设备及其制造方法,更具体地说,涉及包括适用于前发射型设备的透明吸湿层并具有改进对比度的有机发光设备,以及该有机电致发光设备的制造方法。
背景技术
有机电致发光设备极易因湿气渗入而降低质量。因此,为确保有机发光显示设备的稳定性并延长其寿命,有必要采用密封结构。
通常,嵌入到具有凹槽的盖中的金属罐或者玻璃基板被用作密封设备。根据该方法,为了湿气的吸收,可在凹槽内置入干燥剂粉或者通过双面胶将干燥剂膜粘接到凹槽上。
日本专利未审公开No.平9-148066公开了一种有机电致发光设备,该设备包括:具有一对相互面对的电极的叠层,其中由有机化合物制成的有机发光材料层置于两电极之间;用于防止该叠层暴露在空气中的密封容器;布置在该密封容器内的干燥剂化合物,例如碱金属氧化物。但是,密封容器的巨大结构增加了有机电致发光设备的总厚度。并且,干燥剂的不透明还加大了前发射型有机电致发光设备的制造难度,即便干燥剂吸收湿气之后仍能保持固态。
美国专利No.6,226,890描述了一种包括由干燥剂和粘合剂制成吸湿层的有机电致发光设备,其中干燥剂包含粒子尺寸为0.1~200μm的固体粒子。
但是,该有机电致发光设备是半透明或者不透明的,因此无法用作前发射型设备,同时其吸湿能力较差。
此外,该有机电致发光设备包括位于密封基板外侧的透光率约为50%的偏振片,以便提高对比度并防止玻璃基板受到外部碰撞。但是,偏振片价格昂贵,增加了有机电致发光设备的单位制造成本。因此,需要替代技术来克服这些缺点。本发明的实施方式即可实现该目标,并提供进一步的好处。
发明内容
本发明的实施方式提供了具有改进的对比度、包括具有良好的吸湿特性、并适用于前发射型设备的透明吸湿层的有机发光设备,以及该有机发光设备的制造方法。
根据本发明实施方式的一个方面,提供一种有机发光设备包括:基板;密封基板;置于该基板和该密封基板之间的有机发光单元以及透明吸湿层,该吸湿层包括:具有平均粒径约为100nm或者更小的金属氧化物和金属盐中的至少一种、粘合剂以及能够吸收可见光波长范围内的光的光吸收材料。
根据本发明实施方式的另一个方面,提供一种有机发光设备的制造方法,该方法包括:制备具有有机发光单元的基板,该有机发光单元包括在该基板上顺序成层的第一电极、有机层和第二电极;在该基板和密封基板之间的内部空间涂覆用于形成透明吸湿层的组合物,并固化该组合物以获得透明吸湿层,该组合物包括具有平均粒径约为100nm或更小的金属氧化物和金属盐中的至少一种、粘合剂、能吸收可见波长范围内的光的光吸收材料以及溶剂;在该有机发光单元的外部区域上,在所述基板和密封基板中的至少一个涂覆密封剂;以及结合所述基板和密封基板。
附图说明
通过参照附图详细描述示例性实施方式,本发明实施方式的上述和其他特征及优点将变得更加清晰,其中:
图1A到1D是根据一些实施方式的有机电致发光设备的示意性剖视图;
图2A和2B示出了根据本发明实施方式形成在密封基板中的透明吸湿层的结构;
图3示出了根据实施例1~3以及对比例1形成的透明吸湿层的透光率的谱图;以及
图4示出了根据实施例1以及对比例1和2的有机发光设备的寿命。
具体实施方式
以下详述某些实施方式。
根据一个实施方式的有机发光设备包括适用于前发射型设备的透明吸湿层。该透明吸湿层通过涂覆和固化一种组合物而获得,该组合物包括:具有100nm或者更小粒径的金属氧化物和金属盐中的至少一种化合物、粘合剂、能够选择性吸收可见波长范围之内的光的光吸收材料(特别地,从大约380nm到大约780nm)以及溶剂。内部光几乎没有减少,而大约50%的外部光被吸收,使得对比度提高。当透明吸湿层含有光吸收材料时,透明吸湿层的透光率被控制在大约40%到60%的范围内,例如50%。
该光吸收层可包括至少一种选自由无机颜料、无机染料和金属纳米胶体所组成的组中的材料。
无机颜料的例子包括钛黑、碳黑、铝酸钴及其任意组合。无机染料的例子包括黑色染料、Levanyl Black、苯胺黑(Nigrosin Black)(Aldrich公司,威斯康星州,密尔沃基),苏丹黑(Suden Black)及其组合。金属纳米胶体的例子包括银纳米胶、金纳米胶、金-银纳米胶、金-钌纳米胶及其组合。金属纳米胶体指的是一种包含分散在诸如乙醇之类的溶剂中具有平均粒径约为5nm到50nm金属粒子的溶液。
光吸收材料的量可以在0.1~10重量份的范围,基于100重量份具有100nm或者更小粒径的金属氧化物和金属盐中的至少一种物质。如果光吸收材料少于0.1重量份,则透光率增至90%或者更高,因此对比度的改进可以忽略。如果光吸收材料高于10重量份,则透光率降至30%或者更低,因此导致亮度大幅降低。
光吸收材料可具有约为100nm或者更小的平均粒径,例如约20nm到约80nm。如果光吸收材料的平均粒径大于100nm,光将发生散射,从而导致模糊。
根据本发明实施方式的有机发光设备可进一步包括在密封基板外表面上用于防止镜面反射的抗反射层。该抗反射层是透明的,具有90%或者更高的透光率,例如95%到98%,并且制造成本低廉。该抗反射层的一个例子是具有双层的膜,例如涂覆在PET上的高反射层和低反射层。抗反射层的厚度范围约为100μm到125μm。
在根据本实施方式的透明吸湿层中,金属氧化物与水反应,破坏金属-氧-金属键以形成金属氢氧化物,并由此去除水。当透明吸湿层包含金属盐时,水分子与中间金属的空余结合位点相配合而形成稳定的化合物,并由此去除水。
根据本发明的实施方式,利用物理或者化学方法将金属氧化物或者金属盐精细研磨至平均粒径约为100nm或者更小。随后,该金属氧化物或者金属盐粒子与粘合剂和光吸收材料混合,并且该混合物被涂覆和固化。
金属氧化物或者金属盐粒子可具有100nm或者更小的平均粒径,例如约50nm到约90nm。如果金属氧化物或者金属盐粒子的平均粒径大于约100nm,则散射将发生在利用这些粒子获得的吸湿层的可见光范围内,导致模糊(一种层看起来浑浊的现象)并降低透光率。
本发明实施方式中所用的粘合剂可以是有机粘合剂、无机粘合剂、有机/无机复合粘合剂或者它们的混合物。有机粘合剂具有低分子量或者高分子量。有机粘合剂应与金属氧化物或者金属盐粒子高度相容,并具有优良成层能力。有机粘合剂可包括选自如下组中的至少一种化合物:丙烯酸树脂、甲基丙酸烯树脂、聚异戊二烯、乙烯基树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂以及纤维素树脂。丙烯酸树脂的例子包括丙烯酸丁基酯、丙烯酸乙基己基酯等。甲基丙酸烯树脂例子包括甲基丙烯酸丙二醇酯、甲基丙烯酸四氢化糠基酯等。乙烯基树脂的例子包括醋酸乙烯酯、N-乙烯吡咯烷酮等。环氧树脂的例子包括脂环族的环氧化物等。聚氨酯树脂包括聚氨酯丙烯酸酯等。纤维素树脂的例子包括纤维素硝酸盐等。
无机粘合剂是诸如硅、铝、钛或锆的金属或非金属。无机粘合剂应与金属氧化物或者金属盐粒子高度相容并具有优异的成层能力。无机粘合剂可包括选自由二氧化钛、硅氧化物、氧化锆、氧化铝、及其前体所组成组中的至少一种材料。
有机/无机复合粘合剂包括通过共价键与金属或非金属,如硅、铝、钛或锆连接的有机材料。有机/无机复合粘合剂应与金属氧化物或者金属盐粒子高度相容并能够成层。有机/无机复合粘合剂可包括至少一种选自由环氧硅烷或其衍生物、乙烯基硅烷或其衍生物、胺硅烷或其衍生物、甲基丙烯酸酯硅烷或其衍生物,及上述化合物的部分固化产物所组成组中的化合物。部分固化产物用于控制组合物的特性,例如粘性。
环氧硅烷或其衍生物的具体例子包括3-缩水甘油氧代丙基三甲氧基硅烷及其聚合物。
乙烯基硅烷或其衍生物的具体例子包括乙烯基三乙氧基硅烷及其聚合物。
胺硅烷或其衍生物的具体例子包括3-氨基丙基三乙氧基硅烷及其聚合物。
甲基丙烯酸酯硅烷或其衍生物的具体例子包括3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基丙烯酸酯及其聚合物。
用于一个实施例中的粘合剂可表现出允许印刷的实质触变性,以及均化特性。
根据本发明实施方式的透明吸湿层可进一步含有分散剂。当分散体与粘合剂混合时,它能够提高干燥剂分散的分散性。分散剂的例子包括高分子量有机分散剂、高分子量有机/无机复合分散剂、有机酸、无机酸等。当使用分散剂时,在透明吸湿层中的诸如CaO的金属氧化物粒子的直径可以在例如约60nm到80nm之间。如果未使用分散剂,则金属氧化物粒子在处理中会发生诸如聚集的情况,并因此而无法以约60nm到80nm的粒径存在于最终的透明吸湿层中,即便该金属氧化物粒径最初是纳米级的。为在溶剂中分散细小的粒子而使其不聚集和沉淀,可采用两种方法。在第一种方法中,粒子的表面带正电或者负电,带电粒子间的静电排斥力可防止粒子聚集。这种方法中,粒子能够很容易地分散在溶剂中,并且如果要求粒子具有电学特性,则在不改变粒子的电学特性的情况下而分散粒子。但是,静电排斥力是微弱的,并在很大程度上受溶液的pH值影响,因此,分散性极易降低。在第二种方法中,粒子被高分子量分散剂所环绕,它们之间的空间位阻导致粒子不会聚集。在这种方法中,能够采用多种溶剂,而不用考虑溶剂的极性和分散稳定性。但是,具有电学特性的粒子无法用于该方法中,并且所采用的分散剂价格昂贵。在一个实施例中采用的干燥剂分散体的分散剂具有高分子量,故而当分散剂与粘合剂混合时,分散性能够被保持,并且溶液能够被均匀地混合。
透明吸湿层能够形成在使用上述粘合剂和分散剂的厚层中,并且所吸收的湿气的量能够随注入到该层中纳米尺寸干燥剂量的增加而增加。当选择合适种类的粘合剂时,能够获得厚度约为100μm或者更厚的高度透明的层。可利用粘合剂来控制用于形成该透明吸湿层的组合物的粘度,从而能够利用印刷工艺形成该透明吸湿层。
根据本发明实施方式的有机电致发光设备,透明吸湿层可设置在基板和密封基板之间的内部空间。尤其,透明吸湿层可在如图1A和1D所示的密封基板的内表面上形成,或在如图1B所示的密封剂层的侧壁上形成,或者在基板和密封基板中至少一个的一部分上形成(例如,如图1C所示的基板的凹槽部分)。
图1A是根据一个实施方式的有机发光设备的示意性剖视图。
参见图1A,该有机发光设备包括:由玻璃或者透明绝缘材料形成的基板10;设置在基板10的表面上并包括顺序成层的第一电极、有机层和第二电极的有机发光单元12;与基板10结合的密封基板11,以在基板10和其自身之间密封形成一个内部空间,其中有机发光单元12被包含在其中从而与外界密封;以及形成在密封基板11内表面上的透明吸湿层13。该透明吸湿层13包括纳米尺寸的和多孔的氧化物粒子以及纳米尺寸的孔。
基板10和绝缘基板11通过涂覆在有机发光单元12的外部的密封剂层14而结合在一起。绝缘基板11将有机发光单元12和基板10密封在一起,并可具有如图1B所示的形状。
参见图1B,根据另一实施方式的有机发光设备包括:由玻璃或者透明绝缘材料形成的基板20;设置在基板20的表面上并包括顺序成层的第一电极、有机层和第二电极的有机发光单元22;与基板20结合的密封基板22,以在基板20和其自身之间密封形成一个内部空间,其中有机发光单元22被包含在其中从而与外界密封;和设置在密封剂层24侧壁上的纳米-多孔氧化物吸湿层23。
参见图1C,根据另一实施方式的有机发光设备包括:基板30;有机发光单元32;当与基板30结合时定义一个内部空间并具有位于其表面上的凹槽部分35的密封基板31;密封剂层34;以及设置在凹槽部分35中的透明吸湿层33。
参见图1D,根据另一实施方式的有机发光设备包括:基板40;绝缘基板41,其为蚀刻的玻璃基板;有机发光单元42;密封剂层44;设置在蚀刻的玻璃基板的蚀刻部分中的透明吸湿层43;以及位于密封基板41外表面上的抗反射层45。尽管未在图1A到1C中示出,但是抗反射层45可形成在密封基板11、21和31中每一个的外表面上,就如图1D所示的有机发光设备。
蚀刻的玻璃基板的蚀刻深度(h)可为约100到约300μm,但是并不限于此。透明吸湿层43的厚度可为约0.1μm到约300μm,但是并不限于此。
抗反射层45的厚度可为约100μm到约125μm。
在某些实施方式中,透明吸湿层13、23、33和43可以是厚的透明纳米CaO层。
图2A和2B示出了能够在密封基板41上形成的透明吸湿层43的结构,该密封基板是图1D中的有机发光设备的蚀刻的玻璃基板41。
有机发光设备12、22、32和42可通过沉积形成,并且其中每一个都包括顺序沉积的第一电极、有机层和第二电极。第一电极可以是阴极,而第二电极可以是阳极。有机层可包括空穴注入层、空穴传输层、发光层和电子注入层、和/或电子传输层。
密封基板11、21、31和41可包括例如玻璃或者透明塑料的绝缘材料。用于防止湿气渗入的保护层可形成在塑料基板的内表面上。保护层可耐热、耐化学品、耐潮湿。当密封基板11、21、31和41由透明塑料组成时,它们可以用于前发射型设备。
对用于后发射型设备的情况,有机发光单元12、22、32和42中每一个的第一电极可以是透明电极,而有机发光单元12、22、32和42中每一个的第二电极可以是反射电极。另一方面,对用于前发射型设备的情况,有机发光单元12、22、32和42中每一个的第一电极可以是反射电极,而有机发光单元12、22、32和42中每一个的第二电极可以是透明电极。第一电极分别装配在接近密封基板11、21、31和41的一侧,而第二电极分别装配在接近基板10、20、30和40的一侧。
可进一步在第二电极的上表面上形成保护层,以便使有机发光单元12、22、32和42平坦化,并提供耐热、耐化学品和耐潮湿的性能。保护层可由诸如金属氧化物或者金属氮化物之类的无机材料组成。
由密封基板11、21、31和41以及基板10、20、30和40定义的内部空间可保持在真空状态或者填充惰性气体。
只要可获得足够的透光率,透明吸湿层13、23、33和43可尽可能的厚。例如,透明吸湿层13、23、33和43的厚度可为约0.1μm到约300μm。如果厚度小于0.1μm,则对水分的吸收被降低。如果厚度大于约300μm,则将大于密封剂中的密封条的尺寸,透明吸湿层13、23、33和43与阴极接触,能够渗入湿气的区域将增大。
当密封基板11、21、31和41由如图1D所示的蚀刻的玻璃基板形成时,透明吸湿层13、23、33和43的厚度为约0.1μm到约300μm。如果透明吸湿层13、23、33和43的厚度小于0.1μm,则对水分的吸收被降低。如果透明吸湿层13、23、33和43的厚度大于约300μm,则将大于蚀刻玻璃基板的蚀刻深度(h),透明吸湿层13、23、33和43将与阴极接触。
当密封基板11、21、31和41是平板玻璃基板时,透明吸湿层13、23和33的厚度为约0.1到约70μm。
透明吸湿层13、23、33和43可为选自如下的化合物:例如锂或者钠的碱金属的氧化物、例如钙或者钡的碱土金属的氧化物、金属卤化物,金属硫酸盐、金属高氯酸盐、五氧化二磷(P2O5),所以这些化合物具有平均粒径为约100nm或者更小,尤其是20nm到100nm。
碱金属氧化物可以是氧化锂(Li2O)、氧化钠(Na2O)或者氧化钾(K2O)。碱土金属氧化物可以是氧化钡(BaO)、氧化钙(CaO)或者氧化镁(MgO)。金属硫酸盐可以是硫酸锂(Li2SO4)、硫酸钠(Na2SO4)、硫酸钙(CaSO4)、硫酸镁(MgSO4)、硫酸钴(CoSO4)、硫酸镓(Ga2(SO4)3)、硫酸钛(Ti(SO4)2)或者硫酸镍(NiSO4)。金属卤化物可以是氯化钙(CaCl2)、氯化镁(MgCl2)、氯化锶(SrCl2)、氯化钇(YCl2)、氯化铜(CuCl2)、氟化铯(CsF)、氟化钽(TaF5)、氟化铌(NbF5)、溴化锂(LiBr)、溴化钙(CaBr2)、溴化铈(CeBr4)、溴化硒(SeBr2)、溴化钒(VBr2)、溴化镁(MgBr2)、碘化钡(BaI2)、或者碘化镁(MgI2)。金属高氯酸盐可以是高氯酸钡(Ba(ClO4)2)或者高氯酸镁(Mg(ClO4)2)。
以下详细描述根据上述一个实施方式的具有透明吸湿层的有机发光设备的制造方法。
首先,具有包括顺序成层的第一电极、有机层和第二电极的有机发光单元形成在基板上。随后,粒子形式的金属氧化物和金属盐中的至少一种与溶剂、光吸收材料和粘合剂混合以获得可形成透明吸湿层的组合物。该组合物可进一步含有分散剂。
用于形成透明吸湿层的组合物可根据下述方法制备。
首先,作为干燥剂的金属氧化物和金属盐中的至少一种和光吸收材料与溶剂混合。如有需要,分散剂可进一步添加到混合物中。该混合物被物理研磨以获取含有纳米尺寸的干燥剂的分散体。随后,该分散体与粘合剂混合以制备用于形成透明吸湿层的组合物。
用于形成透明吸湿层的组合物中固体含量为基于组合物总重量的约2wt%到约25wt%。如果溶液中的固体含量低于约2wt%,则透明吸湿层的吸湿能力低。如果溶液中的固体含量高于约25wt%,则透光率降低而模糊增加,导致所产生的吸湿层不透明或者半透明。
制备了用于形成透明吸湿层的组合物之后,该组合物被涂覆到密封基板的内表面上,干燥,随后固化获得透明吸湿层。
涂覆可利用浸涂、旋涂、喷涂、分配或者丝网印刷实现。但是,从可用性角度来看优选丝网印刷。
当利用丝网印刷形成透明吸湿层时,组合物中的粘合剂和溶剂起到保持待印刷的组合物的流动性的载体的作用。用于印刷的组合物可具有约500到约20000cps的粘度。如果组合物的粘度不在上述范围内,则印刷的可用性降低。
固化可利用热固化或者UV固化实现。热固化可在约100℃到250℃下进行。如果热固化的温度高于250℃,则由于粒子的预烧结将导致粒子的比表面积减少,因此减少了对水分的吸收,并且粘合剂也由于加热而分解。如果热固化的温度低于100℃,则溶剂保留在透明吸湿层中或者透明吸湿层不被固化,导致设备在密封之后可能被损坏。
组合物中的粘合剂的量在约10到约5000重量份的范围内,基于100重量份的金属氧化物和金属盐中的至少一种。如果粘合剂的量低于约10重量份,则无法容易地获得透明吸湿层。如果粘合剂的量大于约5000重量份,则吸湿能力降低。
溶液中的分散剂的量在约1到约100重量份的范围内,基于100重量份的金属氧化物和金属盐中的至少一种。如果分散剂的量低于约1重量份,则无法容易地获得透明吸湿层。如果分散剂的量大于约100重量份,则吸湿能力降低。
溶剂可以是能够在其中分散金属氧化物或者金属盐粒子的任何溶剂。溶剂的特定例子包括:乙醇、甲醇、丙醇、丁醇、异丙醇、甲基乙基酮、丙二醇、1-单甲基醚(PGM)、异丙基纤维素(IPC)、甲基溶纤剂TM(2-乙氧基乙醇)(得克萨斯州,米德兰Dow化学公司)(MC),以及乙基溶纤剂TM(EC)。溶剂的量为约100到1900重量份,基于100重量份的金属氧化物和金属盐中的至少一种。
根据上述方法形成的透明吸湿层是厚度为约0.1μm到约300μm的薄层或者厚层,并具有优良的吸湿和氧吸收特性。
根据本发明实施方式的透明吸湿层具有约95%到约98%的透光率,以及约30%到约50%的吸湿率。
当透明吸湿层的厚度为约100μm到约300μm时,其透光率为约95%或者更高,典型地是约96%到约98%,吸湿率为约30%到约40%,雾度(haze)为约1.0或者更少,典型地是约0.2到约0.8。
在密封基板上制备了具有透明吸湿层的密封基板之后,将密封剂利用丝网印刷或分配器涂覆在有机发光单元的外部的基板和密封基板中的至少一个上。随后,基板与密封基板相结合以获得根据本发明实施方式的有机发光设备。
当基板与密封基板结合之后,抗反射层形成在密封基板的外表面上时,该抗反射层利用层压技术形成在密封基板上。
进一步,通过上述方法所制造的有机发光设备的内部空间抽真空或者填充惰性气体,并且在基板与密封基板结合之后,利用例如UV光、可见光或者加热固化密封剂。
利用该方法形成的透明吸湿层在吸收水分之前和之后都是透明的。
根据本发明实施方式的有机发光设备可以是前发射型、后发射型或者双发射型。
根据本发明实施方式的有机发光设备的驱动方法没有特殊限制;无源矩阵(PM)驱动和主动式矩阵(AM)驱动都可采用。
根据本发明的实施方式,通过适当地控制透明吸湿层中的光吸收材料的量,透明吸湿层的透光率能够控制在约40%到60%的范围内。此外,透明吸湿层基本上是光滑的且不会引起所显示图像失真,因此可以用于前发射型显示器。因此,附着在密封层的外表面上,以提高对比度并保护玻璃基板免遭外部碰撞的具有约50%的透光率的偏振膜,可以替换为具有约90%的透光率的抗反射膜。
以下,将参照下述实施例更加详细地描述本发明的实施方式。但是,这些实施例例仅用于说明的目的,而非用于限制实施方式的范围。
                            实施例1
100重量份的无水氧化钙(CaO)(平均粒径70nm),10重量份的有机/无机复合硅氧烷,环氧环己基三甲氧基硅烷作为分散剂,以及5重量份的钛黑(TiO)与400重量份的无水乙醇混合,并研磨24小时,以获取具有平均粒径70nm的粒子的分散体。所获取的分散体与3000重量份的有机粘合剂,聚氨酯丙烯酸酯混合,以制备用于形成透明吸湿层的组合物。分散在溶液中的钛黑的平均粒径为0.1μm或者更少。
该组合物被印刷在蚀刻的钠玻璃基板的内表面上,并在随后在100℃热处理并UV固化,以形成透明吸湿层。
作为密封剂的环氧树脂涂覆在形成有透明吸湿层的钠玻璃基板的至少一部分上,以及形成有第一电极、有机层和第二电极的玻璃基板的至少一部分上。随后,结合这两个基板,完成有机发光设备的制造。
                            实施例2
采用与实施例1中相同的方法制造有机发光设备,区别在于采用2重量份的钛黑以形成透明吸湿层。
                            实施例3
采用与实施例1中相同的方法制造有机发光设备,区别在于采用碳黑代替钛黑以形成透明吸湿层。
                            实施例4
采用与实施例1中相同的方法制造有机发光设备,区别在于采用铝酸钴代替钛黑以形成透明吸湿层。
                            实施例5
采用与实施例1中相同的方法制造有机发光设备,区别在于采用银胶代替钛黑以形成透明吸湿层。
                            实施例6
采用与实施例1中相同的方法制造有机发光设备,区别在于采用金-钌胶代替钛黑以形成透明吸湿层。
                            实施例7
采用与实施例1中相同的方法制造有机发光设备,区别在于采用黑色染料代替钛黑以形成透明吸湿层。
实施例1到7中形成的透明吸湿层相对于其自身重量具有30%的最大吸湿率,以及95%或者更大的透光率。
                            对比例1
采用与实施例1中相同的方法制造有机发光设备,区别在于没有透明吸湿层形成在钠玻璃基板的顶面上。
                            对比例2
常见的吸气剂(HD-204,日本东京的Dynic公司)在soda玻璃基板上形成。作为密封剂的环氧树脂应用到钠玻璃基板的至少一部分上,以及形成有第一电极、有机层和第二电极的玻璃基板的至少一部分上。随后,两个基板通过压制而结合,以此完成有机发光设备的制造。
实施例1~3以及对比例1中获得的透明吸湿层的透光率被测量。结果如图3所示。
参见图3,实施例1和实施例3中获得的透明吸湿层的透光率几乎与透光率约50%的偏振膜相等。其中光吸收材料的量被减少的根据实施例2的透明吸湿层的透光率为约75%。换句话说,根据本发明的实施方式,通过调整光吸收材料的量,透明吸湿层的透光率能够在40%~90%的范围内调整。
实施例1以及对比例1和2中获得的有机发光设备贮存在70℃和90%RH条件下,利用透镜随时间推移观测其图像。结果如图4所示。
实施例1~5以及对比例1和2中获取的有机发光设备贮存在70℃和90%RH,透镜观测亮度随时间的变化。
结果,在70℃和90%RH的条件下,亮度的降低被加速,当转换成时间时,对应于20,000到30,000小时,90%的初始亮度可维持到500小时。初始亮度水平等于或者大于当采用常规不透明干燥剂(对比例2)的情况。
根据本发明的实施方式,与利用常规吸气剂的发光设备相比,具有较大的吸湿率以及较长的寿命的前发射型有机发光设备可采用透明吸湿层来制备。根据本发明的实施方式,透明吸湿层具有优良的吸湿特性和氧吸收特性,以及延长的寿命。此外,通过添加诸如黑色颜料、黑色染料、金属纳米胶体等具有30nm及以下粒径的光吸收材料,透明吸湿层的透光率能够控制在40%到90%的范围之内,以此降低外部的光反射并提高对比度。此外,透明吸湿层具有40%到60%的透光率,能够提高对比度,并且透明的抗反射膜能够以较低的成本替代透光率为50%的常规吸湿层和偏振膜。被进一步处理的蚀刻的玻璃基板或者未蚀刻的玻璃基板能够用作前基板。因此,当采用蚀刻玻璃基板时出现的结构性缺点(破碎特点)能够被克服。
尽管本发明的实施方式已经被具体地显示并参考示例性实施方式进行了描述,本领域的普通技术人员应能理解在不背离由权利要求所限定的本发明实施方式的精神和范围的前提下,可以在形式和细节上做出各种改变。

Claims (24)

1、一种有机发光设备,包括:
基板;
密封基板;
置于所述基板和密封基板之间的有机发光单元;以及
置于所述基板和密封基板之间的透明吸湿层,该透明吸湿层包括:具有约100nm或者更小平均粒径的金属氧化物和金属盐中的至少一种、粘合剂以及能够吸收可见波长范围内的光的光吸收材料。
2、如权利要求1所述的有机发光设备,其中所述光吸收材料是选自由无机颜料、无机染料和金属纳米胶体所组成组中的至少一种。
3、如权利要求2所述的有机发光设备,其中所述无机颜料是选自由钛黑、碳黑和铝酸钴所组成组中的至少一种;无机染料是选自由黑色染料、LevanylBlack、苯胺黑和苏丹黑所组成组中的至少一种;并且金属纳米胶体是选自由银纳米胶、金纳米胶、金-银纳米胶、金-钌纳米胶所组成组中的至少一种。
4、如权利要求1所述的有机发光设备,其中基于100重量份具有约100nm或者更小平均粒径的金属氧化物和金属盐中的至少一种,所述光吸收材料的量在约0.1重量份到约10重量份的范围内。
5、如权利要求1所述的有机发光设备,其中所述光吸收材料的平均粒径为约100nm或者更小。
6、如权利要求1所述的有机发光设备,进一步包括在密封基板外表面上的抗反射层。
7、如权利要求6所述的有机发光设备,其中该抗反射层具有约95%到约98%的透光率。
8、如权利要求1所述的有机发光设备,其中该透明吸湿层在密封基板的内表面上,在使基板和密封基板结合的密封剂层的侧壁上,或者在基板和密封基板中的至少一个的一部分上形成。
9、如权利要求1所述的有机发光设备,其中所述金属氧化物和金属盐中的至少一种是选自由碱金属氧化物、碱土金属氧化物、金属卤化物、金属硫酸盐和金属高氯酸盐所组成组中的物质。
10、如权利要求9所述的有机发光设备,其中所述碱金属氧化物选自由氧化锂Li2O、氧化钠Na2O和氧化钾K2O所组成的组中;
所述碱土金属氧化物选自由氧化钡BaO、氧化钙CaO和氧化镁MgO所组成的组中;
所述金属硫酸盐选自由硫酸锂Li2SO4、硫酸钠Na2SO4、硫酸钙CaSO4、硫酸镁MgSO4、硫酸钴CoSO4、硫酸镓Ga2(SO4)3、硫酸钛Ti(SO4)2和硫酸镍NiSO4所组成的组中;
所述金属卤化物选自由氯化钙CaCl2、氯化镁MgCl2、氯化锶SrCl2、氯化钇YCl2、氯化铜CuCl2、氟化铯CsF、氟化钽TaF5、氟化铌NbF5、溴化锂LiBr、溴化钙CaBr2、溴化铈CeBr4、溴化硒SeBr2、溴化钒VBr2、溴化镁MgBr2、碘化钡BaI2和碘化镁MgI2所组成的组中;以及
金属高氯酸盐选自由高氯酸钡Ba(ClO4)2和高氯酸镁Mg(ClO4)2所组成的组中。
11、如权利要求1所述的有机发光设备,其中所述金属氧化物是无水氧化钙CaO。
12、如权利要求1所述的有机发光设备,透明吸湿层进一步包括约1重量份到约100重量份的分散剂,基于100重量份金属氧化物和金属盐中的至少一种。
13、如权利要求12所述的有机发光设备,其中所述分散剂包括基于100重量份金属氧化物和金属盐中的至少一种,具有约1重量份到约100重量份的选自由低分子量有机分散剂、高分子量有机分散剂、高分子量有机/无机复合分散剂、低分子量有机/无机复合分散剂和有机酸所组成的组中的物质。
14、如权利要求1所述的有机发光设备,其中所述粘合剂包括至少一种选自由有机粘合剂、无机粘合剂和有机/无机复合粘合剂所组成组中的物质,并且
基于100重量份金属氧化物和金属盐中的至少一种,所述粘合剂的量为约10重量份到约5000重量份。
15、如权利要求14所述的有机发光设备,其中所述有机粘合剂包括选自由丙烯酸树脂、甲基丙酸烯树脂、聚异戊二烯、乙烯基树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂和纤维素树脂所组成组中的至少一种树脂;
所述无机粘合剂包括选自由二氧化钛、硅氧化物、氧化锆、氧化铝、及其前体所组成的组中的至少一种材料;以及
所述有机/无机复合粘合剂包括选自由环氧硅烷或其衍生物、乙烯基硅烷或其衍生物、胺硅烷或其衍生物、甲基丙烯酸酯硅烷或其衍生物、以及上述化合物的部分固化产物所组成的组中的至少一种化合物。
16、如权利要求1所述的有机发光设备,其中透明吸湿层的厚度为约0.1μm到约300μm。
17、如权利要求1所述的有机发光设备,其中透明吸湿层具有约95%到约98%的透光率,并且吸湿率是约30%到约50%。
18、一种有机发光设备的制造方法,包括:
制备具有有机发光单元的基板,该有机发光单元包括在所述基板上顺序成层的第一电极、有机层和第二电极;
将用于在所述基板和密封基板之间的内部空间中形成透明吸湿层的组合物涂覆在密封基板、密封剂层、蚀刻玻璃基板的凹槽部分和蚀刻玻璃基板的蚀刻部分的至少一个上,并固化该组合物以获得透明吸湿层,该组合物包括选自具有约100nm或者更小平均粒径的金属氧化物和金属盐中的至少一种材料、粘合剂、吸收可见波长范围内的光的光吸收材料以及溶剂;
在有机发光单元的外部区域,在所述基板和密封基板中的至少一个上涂覆密封剂;以及
结合所述基板和密封基板。
19、如权利要求18所述的方法,其中基于100重量份金属氧化物和金属盐中的至少一种,所述组合物中的光吸收材料的量在约0.1重量份到约10重量份的范围内,并且基于100重量份金属氧化物和金属盐中的至少一种,所述组合物中的粘合剂的量在约10重量份到约5000重量份的范围内。
20、如权利要求18所述的方法,其中所述组合物中采用的溶剂包括选自由乙醇、甲醇、丙醇、丁醇、异丙醇、甲基乙基酮、纯水、丙二醇(单)甲基醚PGM、异丙基纤维素IPC、甲基(2-乙氧基乙醇)MC和乙基(2-乙氧基乙醇)EC所组成组中的至少一种,并且
基于100重量份金属氧化物和金属盐中的至少一种,所述溶剂的量在约100重量份到约1900重量份的范围内。
21、如权利要求18所述的方法,其中形成透明吸湿层的组合物进一步包括约1重量份到约100重量份的分散剂,基于100重量份金属氧化物和金属盐中的至少一种。
22、如权利要求18所述的方法,其中所述组合物的涂覆用浸涂、喷涂、分配或者丝网印刷的方法实施。
23、如权利要求18所述的方法,其中所述组合物的固化用热固化或UV固化的方法实施。
24、如权利要求23所述的方法,其中所述热固化在约100℃到约250℃的温度下实施。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103500753A (zh) * 2013-09-24 2014-01-08 青岛海信电器股份有限公司 一种oled显示面板
CN103779508A (zh) * 2014-01-26 2014-05-07 江苏天楹之光光电科技有限公司 一种电致发光二极管的封装方法
CN106030846A (zh) * 2014-02-18 2016-10-12 株式会社Lg化学 封装膜及包括该封装膜的有机电子装置
CN106415875A (zh) * 2014-03-27 2017-02-15 株式会社Lg化学 封装膜及包括该封装膜的有机电子装置
US20170084867A1 (en) * 2015-09-21 2017-03-23 Lg Display Co., Ltd. Display device
CN107779818A (zh) * 2017-10-25 2018-03-09 信利半导体有限公司 一种掩膜板及使用该掩膜板的oled显示屏的制造方法
TWI649382B (zh) * 2016-12-27 2019-02-01 日商双葉電子工業股份有限公司 Desiccant composition, sealing structure and organic electroluminescent element
CN110496751A (zh) * 2019-08-12 2019-11-26 贵州天义电器有限责任公司 一种延时继电器的灌胶夹具及方法
CN114141847A (zh) * 2021-11-30 2022-03-04 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100544131B1 (ko) * 2003-09-03 2006-01-23 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 소자 및 그 제조방법
JP5021998B2 (ja) * 2006-05-15 2012-09-12 ペンタックスリコーイメージング株式会社 ファインダー装置
KR100831517B1 (ko) * 2006-07-24 2008-05-22 주식회사 에이스 디지텍 방현필름 제조방법
US20080049431A1 (en) * 2006-08-24 2008-02-28 Heather Debra Boek Light emitting device including anti-reflection layer(s)
JP2008066126A (ja) * 2006-09-07 2008-03-21 Pentax Corp 封止部材、及び有機エレクトロルミネセンス素子
US20080143248A1 (en) * 2006-12-15 2008-06-19 Canon Kabushiki Kaisha Organic light emitting apparatus and method of producing the same
JP2009129556A (ja) * 2007-11-20 2009-06-11 Seiko Epson Corp 発光装置及び電子機器
KR100918402B1 (ko) * 2008-02-01 2009-09-24 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 디스플레이 장치 및 그 제조 방법
JP2009199858A (ja) * 2008-02-21 2009-09-03 Seiko Epson Corp 発光装置の製造方法
JP5184323B2 (ja) * 2008-12-09 2013-04-17 トヨタホーム株式会社 警備システム
KR20110007654A (ko) * 2009-07-17 2011-01-25 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자 및 그 제조 방법
KR20110064670A (ko) 2009-12-08 2011-06-15 삼성모바일디스플레이주식회사 게터 조성물 및 상기 게터 조성물을 포함하는 유기 발광 장치
KR101125637B1 (ko) 2009-12-18 2012-03-27 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 장치
KR101135857B1 (ko) 2010-02-16 2012-04-16 조선대학교산학협력단 반사방지막 제조방법 및 그로 인해 제조된 유기발광다이오드용 반사방지막
KR101117751B1 (ko) * 2010-03-08 2012-03-20 웅진케미칼 주식회사 디스플레이 장치용 명실명암 향상 필름 및 이를 활용한 유기전계 발광장치
KR20110110595A (ko) 2010-04-01 2011-10-07 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 표시 장치 및 그 평판 표시 장치용 봉지기판
KR20120008359A (ko) * 2010-07-16 2012-01-30 삼성모바일디스플레이주식회사 봉지 기판 및 유기 발광부 사이에 uv 차단 성능 등을 가지는 층을 포함하는 유기 발광 소자
KR101751043B1 (ko) 2010-09-01 2017-06-27 삼성디스플레이 주식회사 평판 표시 패널 및 그 제조방법
KR101210066B1 (ko) 2011-01-31 2012-12-07 엘지이노텍 주식회사 광 변환 부재 및 이를 포함하는 표시장치
KR101232217B1 (ko) * 2011-04-20 2013-02-12 한국생산기술연구원 고투과성 및 고방열성을 갖는 oled 소자의 봉지구조 및 이의 제조방법
KR20130009020A (ko) 2011-07-14 2013-01-23 엘지이노텍 주식회사 광학 부재, 이를 포함하는 표시장치 및 이의 제조방법
KR101305696B1 (ko) 2011-07-14 2013-09-09 엘지이노텍 주식회사 표시장치 및 광학 부재
KR101893494B1 (ko) 2011-07-18 2018-08-30 엘지이노텍 주식회사 광학 부재 및 이를 포함하는 표시장치
KR101262520B1 (ko) 2011-07-18 2013-05-08 엘지이노텍 주식회사 광학 부재 및 이를 포함하는 표시장치
KR101241549B1 (ko) 2011-07-18 2013-03-11 엘지이노텍 주식회사 광학 부재, 이를 포함하는 표시장치 및 이의 제조방법
KR101251815B1 (ko) 2011-11-07 2013-04-09 엘지이노텍 주식회사 광학 시트 및 이를 포함하는 표시장치
KR101330064B1 (ko) * 2012-03-14 2013-11-14 에스케이씨 주식회사 전도성 고분자 막용 에칭 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 전도성 고분자 막을 패터닝하는 방법
KR101954220B1 (ko) 2012-09-14 2019-03-06 삼성디스플레이 주식회사 박막 봉지 유닛, 이를 포함하는 유기 발광 표시 장치 및 그의 제조 방법
KR101990851B1 (ko) * 2012-12-31 2019-06-19 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시장치
WO2015126176A1 (ko) * 2014-02-18 2015-08-27 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
WO2015147600A1 (ko) * 2014-03-27 2015-10-01 주식회사 엘지화학 봉지 필름 및 이를 포함하는 유기전자장치
JP2015199014A (ja) * 2014-04-07 2015-11-12 三菱瓦斯化学株式会社 液状酸素吸収性組成物及びそれを有する有機電子デバイス
KR102254851B1 (ko) * 2014-08-25 2021-05-21 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
TWI641478B (zh) * 2016-03-11 2018-11-21 Lg化學股份有限公司 包封膜
KR102040456B1 (ko) * 2016-06-24 2019-11-05 주식회사 엘지화학 가상 현실 디스플레이용 유기전자장치
US10222256B2 (en) 2016-09-22 2019-03-05 Apple Inc. Ambient light sensor system having light-scattering desiccant
KR101958396B1 (ko) 2016-10-25 2019-03-14 한국생산기술연구원 유기전계발광소자
KR102373443B1 (ko) * 2017-09-14 2022-03-14 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
CN107799664B (zh) * 2017-10-20 2020-11-10 京东方科技集团股份有限公司 一种封装胶、封装结构及涂胶装置
KR102373629B1 (ko) * 2019-04-08 2022-03-11 삼성에스디아이 주식회사 광학 부재 및 이를 포함하는 광학표시장치
US20220315782A1 (en) * 2019-06-14 2022-10-06 Zeon Corporation Resin solution for printing
KR20230104692A (ko) * 2020-11-13 2023-07-10 아지노모토 가부시키가이샤 밀봉용 시트

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4511626A (en) * 1982-09-09 1985-04-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company One-part moisture-curable polyurethane adhesive, coating, and sealant compositions
JPS6196695A (ja) * 1984-10-18 1986-05-15 松下電器産業株式会社 Elパネル
JP3262248B2 (ja) * 1993-08-31 2002-03-04 住友大阪セメント株式会社 反射防止膜
JPH0831572A (ja) * 1994-07-19 1996-02-02 Nec Kansai Ltd 電界発光表示素子
US5990373A (en) * 1996-08-20 1999-11-23 Kansas State University Research Foundation Nanometer sized metal oxide particles for ambient temperature adsorption of toxic chemicals
JPH10275682A (ja) * 1997-02-03 1998-10-13 Nec Corp 有機el素子
TW379513B (en) * 1997-04-17 2000-01-11 Kureha Chemical Ind Co Ltd Moisture-proof film and electro-luminescent element
US6704133B2 (en) * 1998-03-18 2004-03-09 E-Ink Corporation Electro-optic display overlays and systems for addressing such displays
US7091605B2 (en) * 2001-09-21 2006-08-15 Eastman Kodak Company Highly moisture-sensitive electronic device element and method for fabrication
JP4942867B2 (ja) * 1999-09-17 2012-05-30 株式会社半導体エネルギー研究所 El表示装置及び電子装置
JP3409764B2 (ja) * 1999-12-28 2003-05-26 日本電気株式会社 有機el表示パネルの製造方法
KR20010085420A (ko) * 2000-02-23 2001-09-07 기타지마 요시토시 전계발광소자와 그 제조방법
US6819042B2 (en) * 2000-05-17 2004-11-16 Dynic Corporation Organic EL device and method for its manufacture
US6465953B1 (en) * 2000-06-12 2002-10-15 General Electric Company Plastic substrates with improved barrier properties for devices sensitive to water and/or oxygen, such as organic electroluminescent devices
JP3510845B2 (ja) * 2000-08-29 2004-03-29 Hoya株式会社 反射防止膜を有する光学部材
JP2002108250A (ja) * 2000-09-29 2002-04-10 Sharp Corp アクティブマトリックス駆動型自発光表示装置及びその製造方法
KR100786854B1 (ko) * 2001-02-06 2007-12-20 삼성에스디아이 주식회사 디스플레용 필터막, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
JP2003017264A (ja) * 2001-04-27 2003-01-17 Canon Inc 電界発光素子及び画像表示装置
WO2002096160A1 (en) * 2001-05-18 2002-11-28 Koninklijke Philips Electronics N.V. Moisture-absorption sheet
US6839177B2 (en) * 2002-02-14 2005-01-04 Imation Corp. Anti-reflective coating for holographic data storage media
JP2003249374A (ja) * 2002-02-25 2003-09-05 Tdk Corp 薄膜el素子
JP4098536B2 (ja) * 2002-03-07 2008-06-11 大日本印刷株式会社 パターン転写層を設けた有機el転写体、有機el被転写体および有機el素子の製造方法
US6770502B2 (en) * 2002-04-04 2004-08-03 Eastman Kodak Company Method of manufacturing a top-emitting OLED display device with desiccant structures
JP2003303682A (ja) * 2002-04-09 2003-10-24 Pioneer Electronic Corp エレクトロルミネッセンス表示装置
JP2003303679A (ja) * 2002-04-09 2003-10-24 Canon Inc 有機発光素子パッケージ
JP2004079208A (ja) * 2002-08-09 2004-03-11 Senyo Shoji Kk 有機el素子封止用ガラス部材及び前記ガラス部材を用いた有機elパネル
CN100499086C (zh) * 2002-09-23 2009-06-10 伊斯曼柯达公司 高度湿敏电子器件元件及其制造方法
JP2004119317A (ja) * 2002-09-27 2004-04-15 Toshiba Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP4400458B2 (ja) * 2002-10-02 2010-01-20 株式会社ブリヂストン 反射防止フィルム
JP2004186100A (ja) * 2002-12-06 2004-07-02 Sanyo Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法
JP2004295055A (ja) * 2003-02-07 2004-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd 医療用ディスプレイおよび医療用ディスプレイシステム
JP2004311345A (ja) * 2003-04-10 2004-11-04 Mitsubishi Materials Corp 有機elディスプレイ吸湿膜用コーティング液および製造方法と吸湿膜
JP2004347915A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
US7180089B2 (en) * 2003-08-19 2007-02-20 National Taiwan University Reconfigurable organic light-emitting device and display apparatus employing the same
JP2005078941A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Fuji Photo Film Co Ltd 有機電界発光素子の製造方法及び有機電界発光素子
DE102004031109B4 (de) * 2003-12-30 2016-03-31 Lg Display Co., Ltd. Organisches Lumineszenzdisplay vom Doppeltafeltyp sowie Verfahren zum Herstellen desselben
US7342356B2 (en) * 2004-09-23 2008-03-11 3M Innovative Properties Company Organic electroluminescent device having protective structure with boron oxide layer and inorganic barrier layer
US20060068128A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Eastman Kodak Company Optical films and process for making them
US20060087230A1 (en) * 2004-10-22 2006-04-27 Eastman Kodak Company Desiccant film in top-emitting OLED

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103500753A (zh) * 2013-09-24 2014-01-08 青岛海信电器股份有限公司 一种oled显示面板
CN103500753B (zh) * 2013-09-24 2016-08-17 青岛海信电器股份有限公司 一种oled显示面板
CN103779508A (zh) * 2014-01-26 2014-05-07 江苏天楹之光光电科技有限公司 一种电致发光二极管的封装方法
CN103779508B (zh) * 2014-01-26 2015-10-14 江苏天楹之光光电科技有限公司 一种电致发光二极管的封装方法
US10096797B2 (en) 2014-02-18 2018-10-09 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and organic electronic device comprising the same
TWI647259B (zh) * 2014-02-18 2019-01-11 Lg化學股份有限公司 封裝膜及包含彼之有機電子裝置
US10720600B2 (en) 2014-02-18 2020-07-21 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and organic electronic device including the same
TWI666240B (zh) * 2014-02-18 2019-07-21 南韓商Lg化學股份有限公司 封裝膜及包含彼之有機電子裝置
US10181577B1 (en) 2014-02-18 2019-01-15 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and organic electronic device comprising the same
CN106030846B (zh) * 2014-02-18 2018-09-04 株式会社Lg化学 封装膜及包括该封装膜的有机电子装置
CN106030846A (zh) * 2014-02-18 2016-10-12 株式会社Lg化学 封装膜及包括该封装膜的有机电子装置
CN106030844A (zh) * 2014-02-18 2016-10-12 株式会社Lg化学 包封薄膜以及含有该包封薄膜的有机电子器件
TWI639260B (zh) 2014-02-18 2018-10-21 Lg化學股份有限公司 封裝膜及包含彼之有機電子裝置
US10103353B2 (en) 2014-03-27 2018-10-16 Lg Chem, Ltd. Encapsulation film and organic electronic device comprising the same
CN106415875A (zh) * 2014-03-27 2017-02-15 株式会社Lg化学 封装膜及包括该封装膜的有机电子装置
US10224515B2 (en) * 2015-09-21 2019-03-05 Lg Display Co., Ltd. Display device having transmittance adjusting layer
US20170084867A1 (en) * 2015-09-21 2017-03-23 Lg Display Co., Ltd. Display device
TWI649382B (zh) * 2016-12-27 2019-02-01 日商双葉電子工業股份有限公司 Desiccant composition, sealing structure and organic electroluminescent element
CN107779818A (zh) * 2017-10-25 2018-03-09 信利半导体有限公司 一种掩膜板及使用该掩膜板的oled显示屏的制造方法
CN110496751A (zh) * 2019-08-12 2019-11-26 贵州天义电器有限责任公司 一种延时继电器的灌胶夹具及方法
CN114141847A (zh) * 2021-11-30 2022-03-04 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置
CN114141847B (zh) * 2021-11-30 2024-04-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置

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