JP3510845B2 - 反射防止膜を有する光学部材 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜を有す
る光学部材に関し、特に、プラスチック基材と反射防止
膜との密着性、耐摩耗性、耐熱性及び耐衝撃性が優れた
反射防止膜を有する光学部材に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、プラスチック基材に、反射防
止膜を設けた光学部材が知られている。また、プラスチ
ック基材と反射防止膜との密着性を向上するためプラス
チック基材の表面に金属薄膜層を設けた光学部材が知ら
れている。例えば、特開昭６２−１８６２０２号公報に
は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎ
ｉ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、パラジウム（Ｐ
ｄ）及びスズ（Ｓｎ）からなる金属薄膜層をプラスチッ
ク基材表面に設けた光学部材が開示されている。しかし
ながら、このような反射防止膜を有する光学部材は、耐
熱性及び耐衝撃性が十分ではなく、これらの物性を向上
した反射防止膜を有する光学部材が求められていた。ま
た従来、プラスチックレンズには、膜強度を向上させる
為、ＳｉＯ₂ からなる下地層を設けることが一般的であ
る。しかしながら、ＳｉＯ₂ からなる下地層は、耐熱性
を低下させるという欠点を持っている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためになされたもので、プラスチック基材と反
射防止膜の密着性が高く、耐熱性及び耐衝撃性が優れた
反射防止膜を有する光学部材を提供することを目的とす
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、プラスチック基
材と反射防止膜との間に、ニオブ（Ｎｂ）からなる層を
設けることにより、プラスチック基材と反射防止膜の密
着性、耐熱性及び耐衝撃性が向上することを見出し、本
発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、プラス
チック基材と、プラスチック基材上に設けられた反射防
止膜とを有する光学部材であって、該プラスチック基材
と該反射防止膜との間に、Ｎｂからなる下地層を有する
ことを特徴とする反射防止膜を有する光学部材を提供す
るものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、詳細に本発明について説明
する。本発明の光学部材は、Ｎｂからなる下地層を有
し、プラスチック基材と反射防止膜の密着性、耐熱性及
び耐衝撃性のみならず耐摩耗性、金属特有の吸収率が少
ないこと等においても優れている。このＮｂからなる下
地層は、Ｎｂを１００重量％含有することが好ましい。
前記反射防止膜が複数の層からなり、少なくとも一層が
イオンアシスト法で形成されてなることが好ましい。ま
た、前記Ｎｂからなる下地層は、イオンアシスト法で形
成されてなることが好ましい。前記イオンアシスト法を
実施する際によるイオン化ガスは、成膜中の酸化防止の
点からアルゴン（Ａｒ）を用いるのが好ましい。これに
より膜質の安定と、光学式膜厚計での制御が可能とな
る。また、プラスチック基材と下地層との密着性確保及
び蒸着物質の初期膜形成状態の均一化を図るために、下
地層を形成する前にイオン銃前処理を行なっても良い。
イオン銃前処理におけるイオン化ガスは 酸素、Ａｒな
どを用いることができ、出力で好ましい範囲は、加速電
圧が５０Ｖ〜２００Ｖ、加速電流が５０ｍＡ〜１５０ｍ
Ａである。加速電圧５０Ｖ未満又は加速電流５０ｍＡ未
満であると、密着性向上効果が十分で無い可能性があ
り、加速電圧２００Ｖ超又は加速電流１５０超である
と、プラスチック基材及び硬化被膜、ハードコート層が
黄変したり、耐摩耗性の低下が生じる可能性がある。

【０００６】本発明においては、Ｎｂからなる下地層を
形成した後、反射防止膜の機能膜を形成する。機能膜
は、特に限定されず、例えば蒸着法により形成されれば
よい。前記反射防止膜は、低屈折率層であるＳｉＯ₂ 層
と、高屈折率層であるＴｉＯ ₂ 層とを有することが好ま
しい。また、前記反射防止膜は、Ｎｂからなる金属層を
有していてもよい。ＳｉＯ₂ 層等の低屈折率層内の応力
を除去するため、ＳｉＯ₂ 蒸着時に、イオン化ガスにＡ
ｒを用いて、イオンアシスト法で蒸着すると、耐摩耗性
を向上させることが可能である。この効果を得るための
好ましいイオンアシスト条件は、蒸着装置のドーム面上
のイオン電流密度１５〜３５μＡ、加速電圧４００〜７
００Ｖである。イオン電流密度１５μＡ未満又は加速電
圧４００Ｖ未満では、応力除去効果、耐摩耗性向上効果
が共に得にくく、イオン電流密度３５μＡ超又は加速電
圧７００Ｖ超では、プラスチック基材に黄変を生じさせ
たり、光学性能の低下を招くことがある。

【０００７】さらに、ＴｉＯ₂ 層等の高屈折率層を形成
する際にもイオンアシスト法を採用することも可能であ
る。特にイオンアシスト法において、イオン化ガスとし
てＯ ₂ 及びＡｒガスの混合ガスを使用した場合、高屈折
率層の屈折率の向上と、耐摩耗性向上を促進させること
が可能となる。対象となる高屈折率の金属酸化物として
は、ＴｉＯ₂ 以外にＮｂ₂ Ｏ₅ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ 又はそれら
の混合物が挙げられる。金属酸化物としてＴｉＯ₂ 、Ｎ
ｂ₂ Ｏ₅ 又はそれらの混合物を用いた場合の好ましいイ
オンアシスト条件は、蒸着装置のドーム面上のイオン電
流密度８〜１５μＡ、加速電圧３００〜７００Ｖであ
る。また、イオン化ガス量の比は、Ｏ₂ ガスを１とした
場合、Ａｒガス０．７〜１．０の範囲である。これらイ
オン電流密度、加速電圧及びイオン化ガス比の範囲外の
場合、所望の屈折率が得られず、膜の吸収率が上がり、
耐摩耗性が低下することがある。金属酸化物としてＴａ
₂ Ｏ₅ 又はそれらの混合物を用いた場合の好ましいイオ
ンアシスト条件は、蒸着装置のドーム面上のイオン電流
密度１２〜２０μＡ、加速電圧４００〜７００Ｖであ
る。また、イオン化ガス量の比は、Ｏ₂ ガスを１とした
場合、Ａｒガス０．５〜２．０の範囲である。これらイ
オン電流密度、加速電圧及びイオン化ガス比の範囲外の
場合、所望の屈折率が得られず、膜の吸収率が上がり、
耐摩耗性が低下することがある。

【０００８】本発明における前記下地層の厚さは、１．
０〜５．０ｎｍであることが好ましく、この範囲外の場
合、膜内吸収が出ることがある。プラスチック基材上に
形成された下地層及び反射防止膜の構成としては、例え
ば以下のようなものが好ましい。ここで、反射防止膜
は、第１層〜第７層を積層してなるものである。 下地層：Ｎｂ層（膜厚 １〜５ｎｍ） 第１層：ＳｉＯ₂ 層（膜厚 ５〜５０ｎｍ） 第２層：ＴｉＯ₂ 層（膜厚 １〜１５ｎｍ） 第３層：ＳｉＯ₂ 層（膜厚 ２０〜３６０ｎｍ） 第４層：ＴｉＯ₂ 層（膜厚 ５〜５５ｎｍ） 第５層：ＳｉＯ₂ 層（膜厚 ５〜５０ｎｍ） 第６層：ＴｉＯ₂ 層（膜厚 ５〜１３０ｎｍ） 第７層：ＳｉＯ₂ 層（膜厚 ７０〜１００ｎｍ） 上記膜厚範囲は、プラスチック基材と反射防止膜との密
着性、光学部材の耐熱性及び耐衝撃性において最も好ま
しい範囲である。

【０００９】また、以下のような下地層及び反射防止膜
の構成も好ましい。ここで、反射防止膜は、第１層〜第
７層を積層してなるものである。 下地層：Ｎｂ層（膜厚 １〜５ｎｍ） 第１層：ＳｉＯ₂ 層（膜厚 ２０〜１００ｎｍ） 第２層：Ｎｂ層（膜厚 １〜５ｎｍ） 第３層：ＳｉＯ₂ 層（膜厚 ２０〜１００ｎｍ） 第４層：ＴｉＯ₂ 層（膜厚 ５〜５５ｎｍ） 第５層：ＳｉＯ₂ 層（膜厚 ５〜５０ｎｍ） 第６層：ＴｉＯ₂ 層（膜厚 ５〜１３０ｎｍ） 第７層：ＳｉＯ₂ 層（膜厚 ７０〜１００ｎｍ） 上記膜厚範囲は、プラスチック基材と反射防止膜との密
着性、光学部材の耐熱性及び耐衝撃性において最も好ま
しい範囲である。

【００１０】本発明で使用するプラスチック基材の材質
は、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレ−ト単
独重合体、メチルメタクリレ−トと１種以上の他のモノ
マ−との共重合体、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ
−ボネ−ト単独重合体、ジエチレングリコ−ルビスアリ
ルカ−ボネ−トと１種以上の他のモノマ−との共重合
体、イオウ含有共重合体、ハロゲン共重合体、ポリカ−
ボネ−ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリ
エステル、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリウレタ
ン、ポリチオウレタンなどが挙げられる。

【００１１】本発明の光学部材は、前記プラスチック基
材と前記下地層との間に、硬化被膜を有しても良い。硬
化被膜としては、通常、金属酸化物コロイド粒子と下記
一般式（１） （Ｒ¹) _a (Ｒ²) _bＳｉ（ＯＲ³)_4-(a+b) ・・・（１） （ここで、Ｒ¹ 及びＲ² は、それぞれ独立に、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、ハロゲン
基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル
基、メルカプト基、メタクリロキシ基及びシアノ基の中
から選ばれる有機基を示し、Ｒ³ は炭素数１〜８のアル
キル基、アルコキシ基、アシル基及びフェニル基の中か
ら選ばれる有機基を示し、ａ及びｂは、それぞれ独立に
０又は１の整数である）で表される有機ケイ素化合物と
からなる組成物が使用される。

【００１２】前記金属酸化物コロイド粒子としては、例
えば、酸化タングステン（ＷＯ₃ ）、酸化亜鉛（Ｚｎ
Ｏ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ₂ ）、酸化アルミニウム（Ａ
ｌ₂ Ｏ ₃ ）、酸化チタニウム（ＴｉＯ₂ ）、酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯ₂ ）、酸化スズ（ＳｎＯ₂ ）、酸化ベリ
リウム（ＢｅＯ）又は酸化アンチモン（Ｓｂ₂ Ｏ₅ ）等
が挙げられ、単独又は２種以上を併用することができ
る。

【００１３】前記一般式（１）で示される有機ケイ素化
合物としては、例えば、メチルシリケート、エチルシリ
ケート、ｎ−プロピルシリケート、ｉ−プロピルシリケ
ート、ｎ−ブチルシリケート、ｓｅｃ−ブチルシリケー
ト、ｔ−ブチルシリケーテトラアセトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メ
チルトリプロポキシシラン、メチルトリアセトキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシ
シラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェ
ノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチ
ルトリフェネチルオキシシラン、グリシドキシメチルト
リメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシ
ラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β
−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシ
ドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシド
キシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチ
ルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リフェノキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラ
ン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルト
リメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチル
メチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジ
エトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメト
キシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシ
シラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラ
ン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、
α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラβ−グリ
シドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシ
ドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
ビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフ
ェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフ
ェニルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
エチルトリエトキシシラビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセト
キシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−
シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメ
トキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、Ｎ−
（β−アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、Ｎ−（β−アミノエチル）γ−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチ
ル）γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメ
チルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエト
キシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメ
チルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチ
ルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、
メチルビニルジエトキシシラン等が挙げられる。

【００１４】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。なお、実施例及び比較例において得られた光学
部材の物性評価は以下のようにして行った。 （１）視感透過率 プラスチックレンズの視感透過率Ｙは、両面に反射防止
膜を有するプラスチックレンズをサンプルとして、日立
分光光度計Ｕ−３４１０を用い測定した。 （２）視感反射率 プラスチックレンズの視感反射率Ｙは、両面に反射防止
膜を有するプラスチックレンズをサンプルとして、日立
分光光度計Ｕ−３４１０を用い測定した。 （３）密着性 プラスチックレンズの表面に剃刀にて１ｍｍ×１ｍｍの
升目を１００個作成し、升目上にセロハンテープを貼
り、一気にテープをはがし、残った升目の数で評価し
た。表中、残った升目の数／１００で記載した。 （４）耐摩耗性 プラスチックレンズの表面にスチールウールにて１ｋｇ
ｆ／ｃｍ² の荷重をかけ、２０ストローク擦り、表面状
態により以下の基準で評価した。 ＵＡ：殆ど傷なし Ａ：細い傷数本あり Ｂ：細い傷多数、太い傷数本あり Ｃ：細い傷多数、太い傷多数あり Ｄ：殆ど膜はげ状態

【００１５】（５）耐熱性 プラスチックレンズをドライオーブンで１時間加熱し、
クラックの発生温度を測定した。 （６）耐アルカリ性 プラスチックレンズをＮａＯＨ水溶液１０％に１時間浸
漬し、表面状態により以下の基準で評価した。 ＵＡ：殆ど変化なし Ａ：点状の膜はげ数個あり Ｂ：点状の膜はげが全面にあり Ｃ：点状のはげが全面、面状のはげ数個あり Ｄ：殆ど全面膜はげ （７）耐衝撃性 中心厚２．０ｍｍで、レンズ度数０．００のレンズを作
製してＦＤＡで定められているドロップボールテストを
行い、○：合格、×：不合格とした。

【００１６】実施例１〜１２ ガラス製容器に、コロイダルシリカ（スノ−テックス−
４０、日産化学）９０重量部、有機ケイ素化合物のメチ
ルトリメトキシシラン８１．６重量部、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン１７６重量部、０．５Ｎ
塩酸２．０重量部、酢酸２０重量部、水９０重量を加え
た液を、室温にて８時間攪拌後、室温にて１６時間放置
して加水分解溶液を得た。この溶液に、イソプロピルア
ルコ−ル１２０重量部、ｎ−ブチルアルコ−ル１２０重
量部、アルミニウムアセチルアセトン１６重量部、シリ
コ−ン系界面活性剤０．２重量部、紫外線吸収剤０．１
重量部を加え、室温にて８時間攪拌後、室温にて２４時
間熟成させコ−ティング液を得た。アルカリ水溶液で前
処理したプラスチックレンズ基板（素材：ジエチレング
リコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、屈折率１．５０、中
心厚２．０ｍｍ、レンズ度数０．００）を、前記コーテ
ィング液の中に浸漬させ、浸漬終了後、引き上げ速度２
０ｃｍ／分で引き上げたプラスチックレンズを１２０℃
で２時間加熱して硬化膜を形成した。その後、表１〜６
に記載したイオン加速電圧、照射時間の条件でＡｒガス
を用いて、イオン銃処理を行いイオンアシスト法にて硬
化被膜としてハードコート層（Ａ層とする）を形成し
た。次に、ハードコートＡ層の上に、表１〜６に示した
条件のイオンアシスト法にて、表１〜６に示した下地層
及び第１層〜第７層からなる機能膜を形成し、プラスチ
ックレンズを得た。得られたプラスチックレンズについ
て上記（１）〜（７）を評価し、それらの結果を表１〜
６に示した。尚、表中、λは照射光の波長で、λ＝５０
０ｎｍを示す。

【００１７】比較例１〜４ 実施例１〜１２において、下地層を形成せず、ハードコ
ート層及び第１層〜第７層からなる機能膜をイオンアシ
スト法で形成しなかった以外は同様にして、蒸着により
ハードコート層及び第１層〜第７層を形成し、プラスチ
ックレンズを得た。得られたプラスチックレンズについ
て上記（１）〜（７）を評価し、それらの結果を表７〜
８に示した。

【００１８】

【表１】

【００１９】

【表２】

【００２０】

【表３】

【００２１】

【表４】

【００２２】

【表５】

【００２３】

【表６】

【００２４】

【表７】

【００２５】

【表８】

【００２６】表１〜６に示したように、実施例１〜１２
のプラスチックレンズは、視感反射率が０．６８〜０．
８２％と極めて小さく、視感透過率は９９．０〜９９．
３％と高かった。さらに、密着性、耐摩耗性、耐熱性、
耐アルカリ性及び耐衝撃性も良好であった。これに対
し、表７及び表８に示したように、比較例１〜４のプラ
スチックレンズは、視感反射率が１．１〜１．２％と高
く、視感透過率は９８．６〜９８．７％と低かった。さ
らに、密着性、耐摩耗性、耐熱性、耐アルカリ性及び耐
衝撃性も実施例１〜１２に比べ劣っていた。

【００２７】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の光
学部材は、反射率小さく、透過率が高いという優れた反
射防止膜を有するだけでなく、プラスチック基材と反射
防止膜の密着性が高く、耐摩耗性、耐熱性、耐アルカリ
性及び耐衝撃性にも優れている。

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平９−156964（ＪＰ，Ａ) 特開2000−162405（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−52873（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−96801（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−26703（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−258004（ＪＰ，Ａ) 特表 平５−502310（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 1/11 C23C 14/00 - 14/58

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラスチック基材と、プラスチック基材
   上に設けられた反射防止膜とを有する光学部材であっ
   て、該プラスチック基材と該反射防止膜との間に、ニオ
   ブ（Ｎｂ）からなる下地層を有することを特徴とする反
   射防止膜を有する光学部材。
2. 【請求項２】 前記反射防止膜が複数の層からなり、少
   なくとも一層がイオンアシスト法で形成されてなること
   を特徴とする請求項１に記載の反射防止膜を有する光学
   部材。
3. 【請求項３】 前記Ｎｂからなる下地層が、イオンアシ
   スト法で形成されてなることを特徴とする請求項１又は
   ２に記載の反射防止膜を有する光学部材。
4. 【請求項４】 前記反射防止膜が、低屈折率層であるＳ
   ｉＯ₂ 層と、高屈折率層であるＴｉＯ₂ 層とを有するこ
   とを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防
   止膜を有する光学部材。
5. 【請求項５】 前記反射防止膜が、Ｎｂからなる金属層
   を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記
   載の反射防止膜を有する光学部材。
6. 【請求項６】 前記下地層の厚さが１．０〜５．０ｎｍ
   であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載
   の反射防止膜を有する光学部材。
7. 【請求項７】 前記反射防止膜が、プラスチック基材側
   から順に、 第１層：ＳｉＯ₂ 層、 第２層：ＴｉＯ₂ 層、 第３層：ＳｉＯ₂ 層、 第４層：ＴｉＯ₂ 層、 第５層：ＳｉＯ₂ 層、 第６層：ＴｉＯ₂ 層及び 第７層：ＳｉＯ₂ 層 が積層されたものであることを特徴とする請求項１〜４
   及び６のいずれかに記載の反射防止膜を有する光学部
   材。
8. 【請求項８】 前記反射防止膜が、プラスチック基材側
   から順に、 第１層：ＳｉＯ₂ 層、 第２層：Ｎｂ層、 第３層：ＳｉＯ₂ 層、 第４層：ＴｉＯ₂ 層、 第５層：ＳｉＯ₂ 層、 第６層：ＴｉＯ₂ 層及び 第７層：ＳｉＯ₂ 層 が積層されたものであることを特徴とする請求項１〜６
   のいずれかに記載の反射防止膜を有する光学部材。
9. 【請求項９】 前記プラスチック基材と前記下地層との
   間に、硬化被膜を有し、前記硬化被膜として、金属酸化
   物コロイド粒子と下記一般式（１） （Ｒ ¹ ） _a （Ｒ ² ） _b Ｓｉ（ＯＲ ³ ） _4-(a+b) ・・・（１） （ここで、Ｒ ¹ 及びＲ ² は、それぞれ独立に、アルキル
   基、アルケニル基、アリール基、アシル基、ハロゲン
   基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル
   基、メルカプト基、メタクリロキシ基及びシアノ基の中
   から選ばれる有機基を示し、Ｒ ³ は炭素数１〜８のアル
   キル基、アルコキシ基、アシル基及びフェニル基の中か
   ら選ばれる有機基を示し、 ａ及びｂは、それぞれ独立に０又は１の整数である）で
   表される有機ケイ素化合物とからなる組成物を用いる こ
   とを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防
   止膜を有する光学部材。