CN1655263A - 光信息记录介质的制造方法、制造装置和光信息记录介质 - Google Patents

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Abstract

伴随着光盘的高密度化，如果透光层的厚度变薄达到0.3mm以下，就不能通过注射成型基板形成透光层。因此，难以形成信号记录层，难于使光盘成为多层结构。在光盘的制造方法中，包括：将一个主面上具有形成了薄膜的凹凸槽的树脂原模和厚度在0.3mm以下的第2基板，以凹凸槽作为内侧，用辐射固化性树脂胶合(S1)，固化辐射固化性树脂后，通过剥离树脂原模，在第2基板上形成凹凸槽(S2)，在第2基板的凹凸槽上形成金属膜，在第2基板上形成信息记录层(S3)，以信息记录层作为内侧，胶合形成了信息记录层的第1基板和形成了信息记录层的第2基板(S4)。

Description

光信息记录介质的制造方法、制造装置和光信息记录介质
本申请是申请日为2001年9月12日，申请号为01142107.X，发明名称为“光信息记录介质的制造方法、制造装置和光信息记录介质”的分案申请。
技术领域
本发明涉及光信息记录介质的制造方法和光信息记录介质，特别是涉及例如多层式光信息记录介质的制造方法和多层式光信息记录介质。
背景技术
近年来，信息记录领域中涉及各种光信息记录的研究不断进行。这种光信息记录可以高密度化，而且可以通过非接触进行记录·再生，作为能够廉价实现这种光信息记录的方式，在广范围内的应用正在不断实现。作为这种光信息记录的介质，有光盘。该光盘可以大致分为再生专用型、补写型、改写型。再生专用型作为记录音乐信息的称为小型激光唱片(CD，compact disk)的磁盘以及记录图像信息的称为激光唱片(LD，laser disk)的磁盘，另外补写型作为文本文件和静态画块文件等，此外改写型作为个人计算机用的数据文件，已被商品化，在世界范围内普及。这些光盘具有在厚度为1.2mm的透明树脂基板上设置信息层，用保护膜保护该信息层的结构，或者在1.2mm的透明树脂基板的一面或两面设置信息层，将2张这样的基板胶合的结构。
另外，为了不仅将声音还有电影等动画作为信息进行记录，更大容量的光盘——数字多功能唱片(DVD)得到了开发和商品化，已经普及。由于DVD这种高密度光盘的实现，能够采取使用激光波长短且数值孔径(NA)大的物镜的方式。但是，短波长化和高NA化使相对于激光投射方向的磁盘倾斜角度(倾斜)的许可值变小。为了倾斜的许可值增大，使基板厚度变薄是有效的，例如，DVD中，激光波长为650nm，NA为0.60，使基板厚度达到0.6mm。厚度为0.6mm的树脂基板其单体的机械强度弱会产生倾斜，因此DVD采用以信息记录面作为内侧，胶合2个基板的结构。
而且，还提出过如下方案，即利用胶合的结构，胶合的2个基板中，分别在一个信息记录面上形成金、硅等透光性反射层，在另一个信息记录面上形成现有的铝等构成的反射层，分别成膜，以这些信息记录面为内侧进行胶合，由设有透光性反射层的基板侧再生双方信息记录面的单面再生2层DVD也已商品化。而且提出了由同样的两层构成，信息记录面不设置金属反射层，而是设置可改写的薄膜记录层的改写型DVD。
近年来，以高清晰度电视播放等为代表，信息的容量进一步变大，随之对于记录介质也要求更高密度的记录。作为进一步增加光盘记录密度的方法，研究了实现3层以上的多层化，将物镜NA变大，利用蓝紫色激光的方法。作为形成多层结构的方法，众所周知利用金属原模的信号复制方法(2P法)。
但是，多层的场合，形成通过注射成型形成的沟或凹凸槽构成的信息记录层以外的信息记录层比较困难。另外如上所述，记录·再生侧基板的厚度薄，可以增大倾斜的许可值，所以提出了进一步使记录和再生侧基板的厚度变薄，NA达到0.85程度、激光波长达到400nm程度。使记录和再生侧基板薄型化，达到不能注射成型的0.3mm以下的厚度时，制造2层结构也变得困难。在使用金属原模的实例中，由于用于复制信号的辐射固化性树脂厚度难以实现不均匀，不易透过辐射线，因而存在辐射固化性树脂不固化，装置变大，复制需要时间等问题。
发明内容
因此，本发明的目的在于提供具有多层结构的光信息记录介质的制造方法和光信息记录介质，特别是提供相应于记录和再生侧基板薄型化的多层光信息记录介质的制造方法和光信息记录介质。
本发明的第1种制造方法是将一个主面上具有形成了薄膜的沟或凹凸槽且具有透光性的原模和厚度在0.3mm以下的第2基板，以沟或凹凸槽作为内侧，用辐射固化性树脂胶合，使辐射固化性树脂固化后，通过剥离原模，在上述第2基板上形成沟或凹凸槽，在第2基板的上述沟或凹凸槽上形成金属膜或记录膜，在第2基板上形成第2信息记录层，以信息记录层作为内侧，胶合第1基板和形成了第2信息记录层的第2基板。
这样，在以往通过注射成型不能形成的0.3mm以下的基板上也能够形成信息记录层，而且，如果在第1基板上设置信息记录层，能够制造2层结构的光盘。
在上述第1种制造方法中，优选通过注射成型形成原模。这样，能够采用目前光盘中使用的设备低成本地进行制造。
而且，原模的材料优选树脂材料，特别优选现有光盘中主要使用的聚碳酸酯。这样，能够利用廉价且质轻的物质作为原模。从而，通过辐射固化性树脂将原模与第2基板胶合后，通过旋转延展能够均匀地延展辐射固化性树脂。
在上述第1种制造方法中，优选在原模的信息记录层上形成金属膜或准金属膜。这样，易于从第2基板剥离原模。
原模信息记录层的金属膜优选形成Al或以Al为主要成分的金属膜。采用上述结构，原模的剥离变得容易，且能够低成本地进行。此外，原模信息记录层的准金属膜如果为Si或以Si为主要成分，则能够更低成本地制造。
上述第1种制造方法中，优选在原模上形成的薄膜上涂覆脱膜剂。采用上述结构，原模的剥离变得更容易。
在上述第1种制造方法中，优选第2基板的厚度为约0.1mm。采用上述结构，特别是相对于传感器物镜的N.A.大的、高密度的光盘，能够保持与现有DVD同样的倾斜界限。
在上述第1种制造方法中，优选将第1基板和第2基板胶合后压板部分的厚度为约1.2mm。采用上述结构，能够使CD和DVD的压板部分的厚度互换。
在上述第1种制造方法中，优选原模的厚度与第1基板大体相等。采用上述结构，能够用几乎同样的设备制造原模和第1基板。
在上述第1种制造方法中，优选原模与第2基板中心孔的孔径不同。采用上述结构，容易进行原模和第2基板的剥离。
在上述第1种制造方法中，优选原模与第2基板外径不同。采用上述结构，容易进行原模和第2基板的剥离。
在上述第1种制造方法中，优选在具有信息记录层的第2基板的、与具有信息记录层的面相对的一面上胶合支持基板，在信息记录层上形成反射膜或记录膜。采用上述结构，能够提高在0.3mm以下刚性变低的原模的刚性，易于操作和成膜。
第2基板和支持基板的总厚度优选与原模或第1基板的厚度大致相同。采用上述结构，能够通过与使原模或第1基板成膜时使用的成膜装置同样的装置进行制造。
本发明的第2种制造方法是将一个主面上有沟或凹凸槽且由树脂材料构成的原模和具有第1信息记录层的第1基板用辐射固化性树脂胶合，使沟或凹凸槽与第1信息记录层相对，固化辐射固化性树脂后，通过剥离原模，在第1基板的第1信息记录层上形成沟或凹凸槽，然后通过在第1基板的沟或凹凸槽上形成金属膜或记录膜，从而在第1基板上形成第2信息记录层，并在第2信息记录层上形成透光层。这样，能够制造具有多层信息记录层的光盘。由于使用树脂原模，与金属材料的原模相比更轻，具有柔性。因而，使用旋转涂层等方法，通过使之旋转容易使辐射固化性树脂均匀，而且操作也容易。另外，也比金属原模便宜，能够大量制造。
在上述第2种制造方法中，优选透光层的厚度在0.3mm以下。这样，容易增大记录和再生光学体系的N.A.，从而能够提高光盘的记录密度。
在上述第2种制造方法中，优选透光层的厚度为约0.1mm。这样，即使将记录和再生光学体系的N.A.增大至0.9的程度，也能够保持与DVD同样的倾斜界限。
在上述第2种制造方法中，优选用辐射固化性树脂形成透光层。这样，能够低成本地进行制造。
在上述第2种制造方法中，优选通过在第1基板上胶合第2基板形成透光层。这样，能够将透光层的厚度不均匀抑制到较小。
在上述第2种制造方法中，优选通过注射成型形成原模。这样，能够采用目前光盘中使用的设备低成本地进行制造。
而且，原模的材料优选现有光盘中主要使用的聚碳酸酯。
通过使用树脂材料作为原模，从而能够利用廉价、质轻的物质作为原模。这样，通过辐射固化性树脂胶合原模和第1基板后，通过旋转延展，能够使辐射固化性树脂均匀地延展。
而且，通过在真空中胶合第1和第2基板，就不用担心混入气泡。
在上述第2种制造方法中，优选在原模的上述凹凸槽上涂覆脱膜剂。这样，易于从第1基板剥离原模，而且沟或凹凸槽的复制也变得良好。
在上述第2种制造方法中，优选在原模的上述沟或凹凸槽上形成薄膜。这样，易于从第1基板剥离原模。
而且，为了易于进行辐射固化性树脂的剥离，优选将上述薄膜制成金属或电介质膜。特别是使用Si作为金属，能够低成本地进行制造。而且，通过在薄膜上涂覆脱膜剂能够使剥离更容易地进行。
在上述第2种制造方法中，通过辐射固化性树脂使原模和第1基板成为一体后，使辐射固化性树脂固化时，优选沿着与原模的主面大致平行的方向照射辐射线。这样，即使在原模和第1基板主面辐射线透过率低的场合，也能使辐射固化性树脂固化。
在上述第2种制造方法中，优选压板部分的厚度为约1.2mm。采用上述结构，CD与DVD压板部分的厚度能够互换。
在上述第2种制造方法中，优选原模的厚度与第1基板大致相等。采用上述结构，能够用几乎同样的设备制造原模和第1基板。
在上述第2种制造方法中，优选原模与第1基板中心孔的直径大致相等。这样，通过使中心孔重合，能够使原模的沟或凹凸槽和第1基板的信号记录层的芯重合。
在上述第2种制造方法中，优选原模与第1基板的外径不同。采用上述结构，容易剥离原模和第1基板。
本发明的第3种制造方法的特征在于，包括下述步骤：第1步，在一个主面上有沟或凹凸槽的原模的沟或凹凸槽上设置第1辐射固化性树脂LA，然后固化第1辐射固化性树脂LA；第2步，用第2辐射固化性树脂LB胶合原模和一个主面上具有第1信息记录层SA的第1基板，使第1辐射固化性树脂LA和第1信息记录层SA相对，然后固化第2辐射固化性树脂LB；第3步，剥离原模，然后在第1基板上形成由第1辐射固化性树脂LA构成的沟或凹凸槽；第4步，在第1基板的沟或凹凸槽上形成反射膜或记录膜，从而形成第2信息记录层SB。采用上述本发明的光信息记录介质的制造方法，能够制造具有多层信息记录层的光信息记录介质。由于与原模的密合性·复制性·剥离的难易性以及粘着力的强度分别由第1和第2辐射固化性树脂LA和LB承担，因此辐射固化性树脂的开发容易。
本发明的第4种制造方法的特征在于，包括下述步骤：第1步，在一个主面上有第1信息记录层SA的第1基板的第1信息记录层SA上设置第2辐射固化性树脂LB，然后固化第2辐射固化性树脂LB；第2步，用第1辐射固化性树脂LA胶合一个主面上有沟或凹凸槽的原模和第1基板，使沟或凹凸槽与第2辐射固化性树脂LB相对，然后固化第1辐射固化性树脂LA；第3步，剥离原模，然后在第1基板上形成由第1辐射固化性树脂LA构成的沟或凹凸槽；第4步，在第1基板的沟或凹凸槽上形成反射膜或记录膜，从而形成第2信息记录层SB。采用上述本发明的光信息记录介质的制造方法，能够得到与上述第1种制造方法中叙述的同样的效果。
本发明的第5种制造方法的特征在于，包括下述步骤：第1步，在一个主面上有沟或凹凸槽的原模的沟或凹凸槽上设置第1辐射固化性树脂LA；第2步，在一个主面上有第1信息记录层SA的第1基板的第1信息记录层SA上设置第2辐射固化性树脂LB；第3步，使第1辐射固化性树脂LA和第2辐射固化性树脂LB相对，胶合原模和第1基板，然后固化第1辐射固化性树脂LA和上述第2辐射固化性树脂LB；第4步，剥离原模，然后在第1基板上形成由第1辐射固化性树脂LA构成的沟或凹凸槽；第5步，在第1基板的沟或凹凸槽上形成反射膜或记录膜，从而形成第2信息记录层SB。采用上述本发明的光信息记录介质的制造方法，能够得到与上述第1种制造方法中叙述的同样的效果。
本发明的第6种制造方法的特征在于，包括下述步骤：第1步，在一个主面上有沟或凹凸槽的原模的沟或凹凸槽上形成由1层或多层组成的第1薄膜FA；第2步，在第1薄膜FA上形成由1层或多层组成的第2薄膜FB；第3步，用辐射固化性树脂胶合原模和一个主面上有第1信息记录层SA的第1基板，使第2薄膜FB与第1信息记录层SA相对；第4步，在第1薄膜FA与第2薄膜FB的界面剥离原模和第1基板，从而在第1基板上形成由第2薄膜FB构成的沟或凹凸槽；第5步，在第1基板的沟或凹凸槽上形成反射膜或记录膜，从而形成第2信息记录层SB。采用上述本发明的光信息记录介质的制造方法，可以形成复制性高的信息记录层，利用了在第1薄膜FA和第2薄膜FB的界面剥离的容易性。
上述第3至第6种制造方法中，优选预先在第1信息记录层SA上设置第3辐射固化性树脂HC，固化第3辐射固化性树脂HC的方法。这样，能够减少在剥离原模时第1信息记录层SA受到损伤。特别是在第1信息记录层SA为由多层薄膜组成的可改写型记录层时，由于薄膜强度低，因而是有效的。也有防止第1信息记录层SA发生腐蚀等劣化的效果。
而且，优选第3辐射固化性树脂HC的铅笔硬度在B以上。这样，能够减少第1信息记录层SA受到损伤。另外，优选第3辐射固化性树脂HC至少设置在第1信息记录层SA的内周端至外周端。这样，设置第3辐射固化性树脂HC有效。
上述第3至第6种制造方法中，优选在第2信息记录层SB上形成透光层。这样，能够保护第2信息记录层SB。另外，上述透光层的厚度优选0.3mm以下。这样，容易使记录和再生光学体系的波长变短，N.A.变大，从而能够提高光盘的记录密度。另外，透光层达到0.3mm以下，形成透光层的基板就不能通过注射成型形成，因此上述制造方法进一步发挥效果。
而且，透光层的厚度优选约0.1mm。这样，即使记录和再生光学体系的波长短至400nm，N.A.大至0.9的程度，也能够保持与DVD同样的倾斜界限。优选用辐射固化性树脂形成上述透光层。这样，能够低成本地进行制造。上述透光层优选由辐射固化性树脂和树脂基板构成。这样，能够将透光层的厚度不均匀抑制到较小，制造也容易。
上述第3至第5种制造方法中，特征在于，原模透过至少一部分使第1辐射固化性树脂LA或第2辐射固化性树脂LB固化的波长的辐射线。另外，在上述第4种制造方法中，特征在于，原模、第1薄膜FA和第2薄膜FB透过至少一部分使辐射固化性树脂固化的波长的辐射线。这样，即使在第1基板或信息记录层SA不透过辐射线的场合，也能够固化第1辐射固化性树脂LA、第2辐射固化性树脂LB或辐射固化性树脂。
上述第3至第5种制造方法中，原模优选由树脂材料构成。树脂原模与使用金属材料的原模比较，质轻，具有柔性。因而，不象采用金属材料原模2P进行的复制那样需要施加高压，也不需要花费时间，使用生产DVD时使用的旋转涂层等方法，使之旋转，容易使辐射固化性树脂均匀，而且操作也容易。另外，也比金属原模便宜，能够采用注射成型大量制造。由金属材料等构成的原模难以大量储备，在生产光信息记录介质的过程中，出现不够的情况时，不容易进行交易。
上述由树脂材料构成的原模优选通过注射成型形成。这样，能够采用目前光盘生产中使用的设备，低成本地进行生产。而且，树脂原模的材料优选目前光盘中主要使用的聚碳酸酯。这样，能够利用与生产现有光盘同样的设备。
上述第3、第4和第6种制造方法中，为了均匀延展辐射固化性树脂，优选在通过辐射固化性树脂胶合原模和第1基板后，通过旋转延展。而且，使用树脂材料作为原模，能够利用廉价、质轻的物质作原模，能够利用与DVD的胶合同样的方法、设备。而且，通过在真空中进行粘贴，不用担心混入气泡。而且，辐射固化性树脂和原模的密合性进一步提高，复制性上升。
上述第3种制造方法中，优选第1辐射固化性树脂LA的内径比第2辐射固化性树脂LB的内径小。这样，第2辐射固化性树脂LB不会在内周部与原模粘结，能够使原模和第1基板的剥离容易进行。
上述第3和第5种制造方法中，优选第1辐射固化性树脂LA设置于原模的外周端之内。这样，第2辐射固化性树脂LB不会在外周部与原模粘结，能够使原模和第1基板的剥离容易进行。
上述第4种制造方法中，优选第2辐射固化性树脂LB的内径比第1辐射固化性树脂LA的内径小。这样，第1辐射固化性树脂LA不会在内周部与第1基板粘结，能够使原模和第1基板的剥离容易进行。
上述第4和第5种制造方法中，优选第2辐射固化性树脂LB被设置于第1基板的外周端之内。这样，第1辐射固化性树脂LA不会在外周部与第1基板粘结，能够使原模和第1基板的剥离容易进行。
上述第6种制造方法中，其特征在于第1薄膜FA和第2薄膜FB的内径比辐射固化性树脂的内径小。这样，辐射固化性树脂不会在内周部与原模粘结，能够使原模和第1基板的剥离容易进行。
上述第6种制造方法中，优选第1薄膜FA和第2薄膜FB于原模的外周端之内成膜。这样，辐射固化性树脂不会在外周部与原模粘结，能够使原模和第1基板的剥离容易进行。
上述第3至第5种制造方法中，优选对原模的沟或凹凸槽进行使之易于脱膜的处理。这样，能够使原模的剥离容易进行，也能够提高复制性。而且，优选在原模的沟或凹凸槽上涂覆脱膜剂。这样，能够使原模的剥离容易进行，也能够提高复制性。而且，优选在原模的沟或凹凸槽上形成以金属为主要成分的膜。这样，能够使原模的剥离容易进行，也能够提高复制性。
上述第6种制造方法中，优选第1薄膜FA为Au，且第2薄膜FB为SiO2。这样，能够使原模的剥离容易进行。
上述第3至第6种制造方法中，优选原模和第1基板同时具有中心孔，且原模的中心孔与第1基板的中心孔大致相同。这样，易于将第1基板上形成的多个信息记录层的中心重合。采用按照上述第3至第6种制造方法制造的光信息记录介质，可以通过多个信息记录层实现高密度化。
为了解决上述课题，本发明第1种光信息记录介质的特征在于，在具有信息记录层的基板上叠置1个以上保护层、中间层、记录层组成的基本层，在其上具有透光层。采用上述本发明的光信息记录介质，可以通过多个信息记录层实现高密度化。另外，通过保护层和透光层，能够保护各信息记录层，能够稳定地进行生产。另外，采用上述第1、第2、第3和第4种制造方法容易进行制造。
本发明第2种光信息记录介质的特征在于，在具有信息记录层的基板上叠置1个以上中间层、记录层组成的基本层，在其上具有透光层。采用上述本发明的光信息记录介质，可以通过多个信息记录层实现高密度化。另外，容易通过上述第1、第2、第3和第4种制造方法进行制造。
上述第1和第2光信息记录介质中，透光层的厚度优选在0.3mm以下。这样，易于使记录和再生光学体系的波长变短，N.A.变大，从而能够提高光信息记录介质的记录密度。而且，透光层的厚度优选约0.1mm。这样，即使记录和再生光学体系的波长短至400nm，N.A.大至0.9的程度，也能够保持与DVD相同的倾斜界限。如上所述，在透光层的厚度为约0.1mm的时候，基本层的厚度优选15μm以上45μm以下。这样，能够减少多个光信息记录介质间再生信号的干涉、记录光的影响，另外，在用高N.A.物镜记录再生时，能够简单回避球面象差的影响。
上述第1和第2光信息记录介质中，优选透光层由辐射固化性树脂构成。这样，能够稳定、低成本地进行生产，而且，能够将透光层的厚度制造得大致均匀。上述第1和第2光信息介质中，优选透光层由辐射固化性树脂和树脂基板构成。这样，能够将透光层的厚度不均匀抑制到较小，制造也容易进行。
上述第1和第2光信息记录介质中，优选记录层由具有沟或凹凸槽的辐射固化性树脂和在沟或凹凸槽上形成的反射膜或记录膜构成。这样，容易通过多个信息记录层实现高密度化。通过使用辐射固化性树脂，能够廉价且容易地进行生产。
上述第1和第2光信息记录介质中，优选中间层具有粘接功能。这样，光信息记录介质变得稳定。上述第1和第2光信息记录介质中，优选中间层由辐射固化性树脂构成。这样，能够低成本地进行制造，而且在生产上也简便。
上述第1光信息记录介质中，优选保护层的铅笔硬度在B以上。这样，能够防止与保护层连接的信息记录层被腐蚀或冲击。另外，也能够减轻生产时对信息记录层的损伤。上述第1光信息记录介质中，优选保护层由辐射固化性树脂构成。这样，能够低成本地进行生产，而且生产也简便。
上述第1光信息记录介质中，优选上述保护层与上述中间层的折射率大致相同。这样，记录再生光不会受到球面象差等的光学影响，能够进行稳定的记录再生。上述第1光信息记录介质中，优选保护层和中间层对记录再生光大致透明。这样，记录再生光不会受到吸收和散射等影响，能够进行稳定的记录再生。
上述第2光信息记录介质中，优选中间层对记录再生光大致透明。这样，记录再生光不会受到吸收和散射等光学的影响，能够进行稳定的记录再生。
本发明的第3种光信息记录介质由第1基板和比第1基板薄的第2基板组成，在第1基板和第2基板之间设置2个信息记录层。
附图说明
图1是说明本发明实施例1的光盘制造方法全部流程的图。
图2(a)是表示通过本发明的光盘制造方法制造的光盘结构的图，(b)是表示通过本发明的光盘制造方法制造的光盘尺寸的图。
图3是说明实施例1的光盘制造方法工序的图(1)。
图4是说明实施例1的光盘制造方法工序的图(2)。
图5是说明实施例1的光盘制造方法工序的图(3)。
图6是说明实施例1的光盘制造方法工序的图(4)。
图7是说明实施例1的光盘制造方法工序的图(5)。
图8是说明实施例1的光盘制造方法工序的图(6)。
图9是说明本发明实施例2的光盘制造方法全部流程的图。
图10是说明实施例2的光盘制造方法工序的图(1)。
图11是说明实施例2的光盘制造方法工序的图(2)。
图12是说明实施例2的光盘制造方法工序的图(3)。
图13是说明实施例2的光盘制造方法工序的图(4)。
图14是说明实施例2的光盘制造方法工序的图(5)。
图15是说明实施例2的光盘制造方法工序的图(6)。
图16是说明实施例2的光盘制造方法工序的图(7)。
图17是说明本发明实施例3的光盘制造方法全部流程的图。
图18是说明实施例3的光盘制造方法工序的图(1)。
图19是说明实施例3的光盘制造方法工序的图(2)。
图20是说明本发明实施例4的光盘制造方法全部流程的图。
图21是说明实施例4的光盘制造方法工序的图(1)。
图22是说明实施例4的光盘制造方法工序的图(2)。
图23是说明实施例4的光盘制造方法工序的图(3)。
图24是说明实施例4的光盘制造方法工序的图(4)。
图25是说明实施例4的光盘制造方法工序的图(5)。
图26是说明实施例4的光盘制造方法工序的图(6)。
图27是说明实施例4的光盘制造方法工序的图(7)。
图28是说明本发明实施例5的光盘制造方法全部流程的图。
图29是说明实施例5的光盘制造方法工序的图。
图30是说明本发明实施例6的光盘制造方法全部流程的图。
图31是说明实施例6的光盘制造方法工序的图。
图32是说明本发明实施例7的光盘制造方法全部流程的图。
图33是说明实施例7的光盘制造方法工序的图(1)。
图34是说明实施例7的光盘制造方法工序的图(2)。
图35是说明实施例7的光盘制造方法工序的图(3)。
图36是说明实施例8的具有多层结构光盘的结构图。
在图中，101，401，501，801——树脂原模；103，113，403，503，513，803，813——凹凸槽；104，404，504——辐射固化性树脂(LA)；108——凹凸槽被复制的辐射固化性树脂(LA)；111，411，511，811——第1基板；114，414，514——辐射固化性树脂(LB)；115，415，515，815——Al反射膜；116，416，516，816——信息记录层(SA)；118，818——Ag半透明膜；119，819——信息记录层(SB)；121，821——第2基板；124，823——辐射固化性树脂(LC)；204——辐射固化性树脂(HC)。
具体实施方式
下面参照附图，说明本发明光信息记录介质的制造方法的实施例。
(实施例1)
图1表示实施例1中光信息记录介质的制造方法的全部流程。
图2是表示本发明制造的光信息记录介质——光盘的结构和尺寸的图。如图2所示，光盘1由第1基板111和比第1基板111薄的第2基板121组成，在这些基板之间具有第1信息记录层116和第2信息记录层119。由光盘1记录再生侧的表面至信息记录层119的距离A为10～300μm，优选60～100μm。另外，第1信息记录层116与第2信息记录层119之间的距离B为5～60μm，优选10～40μm。磁道宽C为0.16～0.20μm。磁道间距D为0.1～1μm，优选0.2～0.4μm。间距的高度E为10～100nm，优选50～80nm。第2基板121的厚度优选在0.3mm以下。更优选第2基板121的厚度为约0.1mm或0.1mm以下。光盘数据的写入、读取通过从薄的一侧的基板即第2基板照射激光进行。
图3(a)的树脂原模101是通过注射成型形成的厚度为1.1mm、直径为120mm、中心孔径为15mm的聚碳酸酯基板，在一个主面上设置有凹凸槽103。树脂原模101除为聚碳酸酯以外，也可以是例如丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂等树脂材料。在凹凸槽上溅射以Al为主要成分的金属115约100nm。其中，为了更低成本地进行生产，也可以在凹凸槽上溅射以Si为主要成分的金属。通过形成该金属膜115，树脂原模101和第2基板121的剥离就能够容易地进行。另外，这里使树脂原模的厚度为1.1mm，也可以使用更薄的，例如约0.6mm的原模。通过使之变薄，能够使材料成本更低。
图3(b)的第2基板121是厚度为80μm，外径为119.5mm，中心孔径为22mm的聚碳酸酯制或丙烯酸制的片状基板，没有信息记录层且平坦。第2基板121是由通过铸塑法制成的片材上切取的物质。第2基板121也可以由丙烯酸类或降冰片烯类树脂材料构成。
最初，如图3(c)所示，在第2基板121上通过喷管201涂覆辐射固化性树脂202成半径约为27mm的圆环形。此时，放置有第2基板121的旋转台203或喷管201以低速(20～120rpm)旋转。
其次，如图4(a)所示，将树脂原模101与第2基板121相对成同心圆，叠合。另外，也可以在树脂原模101上涂覆辐射固化性树脂202成圆环状，与第2基板121叠合。其中，所谓辐射固化性树脂是通过辐射固化的树脂，所谓辐射线包括所有的电磁波和粒子波。具体而言，辐射固化性树脂包括通过紫外线照射固化的紫外线固化树脂和通过电子射线照射固化的树脂等。
叠合后，如图4(b)所示，通过旋转旋转台203，使基板高速(1000～10000rpm)旋转，使辐射固化性树脂202扩散至外周部分。这样就很难在粘接部分混入气泡，另外，剩余的辐射固化性树脂被甩掉。本发明中，原模使用比金属更轻的树脂材料，这样，旋转时的操作容易，而且也容易通过旋转使辐射固化性树脂202均匀。另外，高速旋转的场合，使用金属材料时，容易出现原模的弯曲和变形，但在树脂材料中就很难出现。而且，能够直接利用目前生产DVD时使用的胶合工艺、装置进行这种操作。
而且，如图4(c)所示，通过照射光(UV光)205、206使辐射固化性树脂202固化。此时光的照射可以由树脂原模侧照射205或由第1基板侧照射206，从任意一侧进行，也可以从两侧进行。优选根据树脂原模101上形成的薄膜的光透过率选择最适当的照射方法。
如图5(a)或图5(b)所示，剥离树脂原模101和第2基板121。其中，通过用钩状的钩301使树脂原模101的一部分外周端或内周端浮起，然后用鼓风209向其中吹入空气，进行剥离。树脂原模101的内径或外径也可以与第2基板121的大致相同，但通过改变树脂原模101与第2基板121的内径或外径，易于在剥离时插入钩301，能够有效地进行剥离。内径或外径的大小也可以是第2基板121和树脂原模101中的任意一个较大。通过预先在树脂101上形成Al或Si膜，能够容易地进行剥离，也可以形成金属以外的膜，例如电介质膜等薄膜。而且，也可以在树脂原模101的薄膜上涂覆脱膜剂。脱膜剂例如硅氧烷、氟元素单分子膜等。
如图6(b)所示，在凹凸槽被复制的第2基板121(参照图6(a))上形成半透明的反射膜118(这里使以Ag为主要成分的金属形成约20nm的膜)。该反射膜118也可以是Rh或Au或Si等金属或分别以它们为主要成分的金属。而且，也可以形成电介质反射膜。此时，第2基板121非常薄，为80μm，刚性低。因此有时会在操作、成膜的过程中出现困难。
这时，如图6(b)所示，在第2基板121的与凹凸槽被复制的主面相对的一面上胶合支持基板131。这样，刚性变高，易于操作、成膜。其中，作为支持基板131使用厚度为1.0mm，直径为120mm，中心孔径为15mm的聚碳酸酯基板。作为支持基板也可以再次利用信号复制中已不能使用的树脂原模。其中，第2基板121和支持基板131的胶合使用粘合力微弱的辐射固化性树脂，但也可以利用除此以外的粘合剂或静电。为了均匀地形成膜，优选在与支持基板131胶合后，保持第2基板121大致平坦。也可以在第2基板121和支持基板131成膜后进行剥离，在胶合第1基板111和第2基板121时，通过支持基板13 1的中心孔134和第1基板的中心孔112也可以偏芯。
优选剥离支持基板131后，与第2基板121的支持基板131胶合的主面上不残留粘合剂，没有损伤。第2基板与支持基板131的剥离，可以按照与剥离上述树脂原模101和第2基板121同样的方法进行。通过改变第2基板121和支持基板131的内径或外径大小，使剥离变得容易。如果可以直接用第2基板121进行操作、成膜，那么就没有必要与支持基板胶合。
图6(c)的第1基板111是厚度为1.1mm，直径为120mm，中心孔径为15mm的聚碳酸酯基板，在一个主面上设置凹凸槽113。第1基板111也可以是聚碳酸酯以外的树脂材料，例如丙烯酸类树脂或聚烯烃类树脂。在凹凸槽113上溅射以Al为主要成分的反射膜115约100nm。反射膜115也可以是Al以外的金属，例如Ag。第1基板111通过注射成型形成。由于第1基板111与树脂原模101的厚度大致相同，因而能够用同样的设备进行原模101和第2基板121的注射成型或成膜。另外，由于第1基板不是记录和再生侧基板，所以也可以使用光透过率低的不透明树脂。
如图7所示，用辐射固化性树脂210胶合该第2基板121和形成信息记录层的第1基板111，使各自的信息记录层119、116相对。这时的胶合与上述胶合第1基板111和树脂原模101的方法相同。在一个基板上涂覆辐射固化性树脂210大致成圆环状，叠合两基板后使之旋转，使辐射固化性树脂210大致均匀地延展。然后，照射UV光，固化辐射固化性树脂210。通过使第1基板111和第2基板121胶合后的压板部分厚度为约1.2mm，能够保持与CD或DVD的压板厚度互换。
另外，树脂原模101与第1基板111，或第1基板111与第2基板121的胶合也可以在真空中进行。此时，在胶合的一个或两个基板或者树脂原模的胶合面上，如图8(a)所示，旋转涂覆辐射固化性树脂211，然后，如图8(b)所示在真空中叠合，通过辐射线照射使辐射固化性树脂固化。由于在真空中进行胶合，就不用担心气泡的混入。由于作为原模使用质轻的树脂材料，因而在原模上旋转涂覆辐射固化性树脂时，容易使原模旋转。另外，高速旋转时，不容易引起使用金属材料时的弯曲、变形。
因而，采用上述制造方法，能够制造不能注射成型的0.3mm以下的基板上具有信息记录层的光盘，能够制造高密度化的光盘。
另外，不言而喻，本实施例的制造方法，除上述例子以外，还能够适用于矩形或多边形等角状记录介质，以及变形、切割圆盘状记录介质得到的记录介质等基于本发明技术思想的其它实施例。
(实施例2)
用图9至图16说明本发明的光盘制造方法的其它例子。图9表示本实施例的光盘制造方法的全部流程。
图10(a)的树脂原模101是通过注射成型形成的厚度为1.1mm，直径为120mm，中心孔径为15mm的聚碳酸酯基板，在一个主面上设置凹凸槽103。树脂原模101也可以是聚碳酸酯以外的树脂材料，例如丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂等。在凹凸槽上溅射以Si为主要成分的金属105约20nm。
图10(b)的第1基板111是通过注射成型形成的厚度为1.1mm，外径为120mm，中心孔径为15mm的聚碳酸酯基板，在一个主面上设置由凹凸槽113和Al反射膜115组成的信息记录层SA116。第1基板111也可以是聚碳酸酯以外的树脂材料，例如丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂。另外，由于第1基板不是记录和再生侧基板，因而也可以使用光透过率低的不透明树脂。
准备如图10(a)、(b)所示的树脂原模101和第1基板111后，如图10(c)所示，在第1基板111上用喷管201涂覆辐射固化性树脂202成半径大致为27mm的圆环形。此时，以低速(20～120rpm)旋转放置第1基板111的旋转台203或喷管201。
接着，如图11(a)所示，将树脂原模101与第1基板111相对成同心圆，叠合。另外，也可以在树脂原模101上将辐射固化性树脂202涂覆成圆环形，与第1基板111叠合。
叠合后，如图11(b)所示，通过使旋转台203旋转，高速(例如1000～10000rpm)旋转基板111，使辐射固化性树脂202扩散至外周部。这样就很难在粘接部分混入气泡，另外剩余的辐射固化性树脂被甩掉。
通过使树脂原模101与第1基板111的内径大致相同，从而能够使第1基板111的信息记录层116的中心与树脂原模101的沟或凹凸槽的中心重合。通过在旋转台203上设置与中心孔102、112直径大小大致相同的中轴，从而能够容易进行。在欲使偏心更小时，也可以在延展辐射固化性树脂后且使之固化前，设置使中心重合的部件。
而且，如图12(a)所示，通过照射辐射线205、206使辐射固化性树脂202固化。此时辐射线的照射，可以由树脂原模侧照射205或从第1基板侧照射206，由任意一侧进行，也可以从两侧进行。但是，由于树脂原模和第1基板的材料以及成膜物质，辐射线透过率变低，采用与树脂原模和第1基板的主面垂直方向的辐射线，会出现难于固化辐射固化性树脂的情况。因此，如图12(b)所示，照射与主面平行方向的辐射线208，使辐射线由端面入射，可有效使之固化。而且，用透镜209聚集辐射线，使之有效地从端面射入是有效的。为了确实进行固化，优选使辐射线由多个位置从端面射入。
如图13(a)或13(b)所示，剥离树脂原模101和第1基板111。这样，通过用钩状的钩301使树脂原模101的一部分外周端或内周端浮起，然后用鼓风302向其中吹入空气，进行剥离。树脂原模101的外径也可以与第1基板111的大致相同，但通过改变树脂原模101与第1基板111的外径，易于在剥离时插入钩301，能够有效地进行剥离。
辐射固化性树脂202优选复制性好，且与原模101的粘合力弱，与第1基板111的信息记录层116的粘合力强的物质。其中使用与Al的粘合力强，与Si的粘合力弱的物质。因此，通过预先在树脂原模101上形成Si膜，能够容易地进行剥离。根据辐射固化性树脂202，在原模101上也可以形成其它金属膜，例如Ag、Au或Al，或者金属以外的膜，例如电介质膜等薄膜。只要与形成树脂原模101的树脂材料的粘合力微弱，就不必形成金属膜等薄膜。而且也可以在树脂原模的凹凸槽上或树脂原模上形成的薄膜上涂覆脱膜剂。
在凹凸槽被复制的图14(a)的第1基板111上，如图14(b)所示，制造半透明的反射膜118(这里使以Ag为主要成分的金属形成约20nm的膜)，形成信息记录层119。该反射膜118也可以是以Rh为主要成分的金属，也可以形成电介质反射膜。
图15(a)的第2基板121是厚度为80μm，直径为119.5mm，中心孔径为22mm的聚碳酸酯制成的片状基板，没有信息记录层且平坦。第2基板121是由通过铸塑法制成的片材上切取的物质。第2基板121也可以由丙烯酸类或降冰片烯类树脂材料构成。
如图15(b)所示，用辐射固化性树脂210胶合该第2基板121和形成了信息记录层116及信息记录层119的第1基板111，其中以具有信息记录层116、119信息记录层的主面作为内侧。此时的胶合，与上述胶合第1基板111和树脂原模101的方法相同，在一个基板上涂覆辐射固化性树脂210大致成圆环状，叠合后，使通过辐射固化性树脂210成为一体的第1基板111和第2基板121旋转，大致均匀地延展辐射固化性树脂210。然后，照射UV光，固化辐射固化性树脂210。作为透光层，通过使用片状的第2基板121，易于使透光层的厚度大致均一。透光层的厚度优选在0.3mm以下。更优选透光层的厚度为0.1mm或0.1mm以下。
另外，树脂原模101与第1基板111，或第1基板111与第2基板121的胶合也可以在真空中进行。此时，在胶合的一个或两个基板或者树脂原模的胶合面上，如图16(a)所示旋转涂覆辐射固化性树脂211，然后如图16(b)所示在真空中叠合，通过辐射线照射使辐射固化性树脂211固化。由于在真空中进行胶合，能够防止气泡的混入。
这样，采用本实施例的制造方法，能够制造高密度化的光盘。
(实施例3)
用图17至图19说明本发明的光盘制造方法的其它例子。另外，对于与上述实施例中已说明的部分相同的部分，不再重复说明。
图17表示本实施例的光盘制造方法的全部流程。
直到形成图18(a)所示的具有第1信息记录层517和第2信息记录层518的第1基板511之前，与实施例2相同。
特别是在本实施例中，在第1基板511的信息记录层518上形成透光层时，通过辐射固化性树脂进行。
如图18(b)所示，在第1基板511的信息记录层518上用喷管601涂覆辐射固化性树脂602成半径约为24mm的圆环形。此时，以低速(20～120rpm)旋转放置第1基板511的旋转台603或喷管601。
接着，如图19(a)所示，通过使旋转台603旋转，高速(200～10000rpm)旋转第1基板111，使辐射固化性树脂602被大致均匀地设置在信息记录层518上。根据辐射固化性树脂602的粘度改变旋转台603的转数和旋转时间等，从而能够在第1基板111上大致均匀地涂覆辐射固化性树脂602。
然后，如图19(b)所示，照射辐射线605，使辐射固化性树脂602固化。其中形成约0.1mm厚的辐射固化性树脂602的透光层。辐射固化性树脂大多具有如果与氧接触就难以固化的性质。因此，在氮气环境612中照射辐射线605，使辐射固化性树脂602固化。这样，通过使用辐射固化性树脂形成透光层，能够更廉价地制造光盘。
如上所述，采用上述实施例2、3的光盘制造方法，即使是使记录和再生侧基板薄型化的光盘，也能够容易地制造多层光盘。具体而言，通过使用树脂原模，由于原模质轻且具有柔性，从而使原模的操作变得容易。另外，通过使用与胶合DVD的设备几乎相同的装置使之旋转，能够使用于复制的辐射固化性树脂大致均匀地延展。而且，即使在原模的剥离不顺利，必须更换原模的场合，由于是树脂原模，能够通过注射成型大量且廉价地进行生产。
(实施例4)
用图20至图27说明本发明的光盘制造方法的其它例子。图20表示本实施例的光盘制造方法的全部流程。
图21(a)的树脂原模101是通过注射成型形成的厚度为1.1mm，直径为120mm，中心孔径为15mm的聚碳酸酯基板，在一个主面上设置凹凸槽103。树脂原模101也可以是聚碳酸酯以外的树脂材料，例如丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂等。另外，这里使用树脂原模101的厚度为1.1mm的原模，也可以使用更薄的，例如约0.6mm的物质。通过使之变薄，能够降低材料成本。如图21(b)所示在树脂原模101的凹凸槽103上，用喷管201滴加第1辐射固化性树脂(下面称为“辐射固化性树脂LA”)104大致成圆环状，如图21(c)所示，旋转树脂原模101，甩掉剩余的树脂，使树脂大致均匀地设置。
然后，如图22(a)所示照射辐射线202，使辐射固化性树脂LA104固化。上述场合优选在真空中进行树脂原模101的旋转。这样，树脂可以浸透至比沟深的深度。而且，此时更优选在空气中即大气压下进行随后的辐射线照射使树脂固化。这是由于这样树脂与原模的密合程度进一步加强。即，优选与随后进行的通过照射辐射线使辐射线固化树脂104固化的步骤时相比，在较低的压力下进行旋转树脂原模101，在树脂原模101上设置辐射线固化树脂104的步骤，这样，能够提高辐射线树脂对树脂原模101的填充性、复制性。另外，可以看出，以上内容也能够适用于其它实施例中所示的制造方法。
图22(b)的第1基板111是通过注射成型形成的厚度为1.1mm，外径为120mm，中心孔112直径为15mm的聚碳酸酯基板，在一个主面上设置由凹凸槽113和Al反射膜115构成的信息记录层SA116。第1基板也可以是聚碳酸酯以外的树脂材料，例如丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂。另外，由于第1基板不是记录·再生侧基板，因而也可以使用光透过率低的不透明树脂。如图22(c)所示，在第1基板上用喷管211涂覆第2辐射固化性树脂(下面称为“辐射固化性树脂LB”)114大致成半径为约27mm的圆环状。
接着，如图23(a)所示，将树脂原模101与第1基板111相对大致成同心圆，叠合。另外，也可以在树脂原模101的辐射固化性树脂LA104上涂覆辐射固化性树脂LB114大致成圆环形，与第1基板111叠合。叠合后，如图23(b)所示，高速(例如1000～10000rpm)旋转，使辐射固化性树脂LB114扩散至外周部。这样就很难在粘接部分混入气泡，另外剩余的辐射固化性树脂LB117被甩掉。
通过使树脂原模101与第1基板111的内径大致相同，从而能够使第1基板的信息记录层SA的中心与树脂原模的凹凸槽的中心重合。在通过旋转延展辐射固化性树脂LB时，通过在旋转台上设置与中心孔102、112直径大致相同的中轴，从而使其能够容易地进行。为了进一步减小偏心，也可以在延展辐射固化性树脂LB后且使之固化前，设置使中心重合的部件。
而且，如图23(c)所示，通过照射辐射线212使辐射固化性树脂LB114固化。由于第1基板111上有信息记录层116，通过照射来源于第1基板111侧的辐射线难于使辐射固化性树脂LB114固化。因此，原模101的辐射线透过量必须足以使辐射固化性树脂固化。本实施例中，通过使用由透明的聚碳酸酯材料构成的原模，能够容易地实现。另外，只要辐射线的透过量充分，也可以使用其它材料。
如图24(a)或24(b)所示，在树脂原模101与辐射固化性树脂LA108(复制凹凸槽后的辐射固化性树脂LA)的界面剥离树脂原模101。这样，能够在第1基板111的信息记录层116上形成复制了凹凸槽的辐射固化性树脂LA108。其中，通过用钩状的钩301使树脂原模101的一部分外周端或内周端浮起，然后用鼓风302向其中吹入空气，进行剥离。树脂原模101的外径也可以与第1基板111的大致相同，但在图24(a)的场合，通过改变树脂原模101与第1基板111的外径，易于在剥离时插入钩301，能够有效地进行剥离。例如，将树脂原模的直径增大至0.5～1mm的程度。另外，为了使钩301易于插入，也可以将原模101的外周端加工成外周部冲头侧的厚度薄至0.1～0.3mm的程度等。辐射固化性树脂LA108优选密合性、复制性好，与原模101的粘合力弱的物质。
辐射固化性树脂LB114特别优选对第1基板111的信息记录层116和辐射固化性树脂LA108的粘合力高的物质。另外，辐射固化性树脂LA104优选对树脂原模101的粘合力低的物质。这样，通过使用对树脂原模101粘合力低的树脂LA和对第1基板111的信息记录层116和树脂LA粘合力高的树脂LB，能够提高树脂原模101与树脂LA之间的剥离性。另外，此时，为了避免由于辐射固化性树脂LA108(104)和树脂原模101粘结，使剥离变得困难，将辐射固化性树脂LA108设置于树脂原模101的外周端之内，使辐射固化性树脂LA108的内周端比辐射固化性树脂LB114的内周端小。另外，优选粘接于树脂原模101上，用于复制凹凸槽的树脂LA的硬度优选比用于粘接树脂LA和信息记录层的树脂LB的硬度高，另外，树脂LA的玻璃化点也比树脂LB的高。这样，通过利用2种辐射固化性树脂，能够将复制性和粘合性的效果分别分配给不同的辐射固化性树脂，易于开发辐射固化性树脂。
另外，考虑到与辐射固化性树脂LA的剥离难易程度，也可以对原模101实施易于脱膜的处理。可以形成以金属为主要成分的膜，如Si、Ag、Au或金属以外的膜，例如电介质膜等薄膜。而且，也可以在树脂原模101的凹凸槽103上或者树脂原模101上形成的薄膜上涂覆脱膜剂。其中脱膜剂有硅氧烷、氟单分子膜等。而且，也可以用玻璃或金属硅等对紫外线具有一定透光性的材料代替树脂构成原模101。
在信息记录层16对于牵引力的强度低的场合，剥离树脂原模101时，可能使信息记录层116受到损伤。因此，如图25所示，通过预先在信息记录层116上设置用于保护的第3辐射固化性树脂204(下面成为“辐射固化性树脂HC”)，能够防止损伤。此时，优选将辐射固化性树脂HC设置成至少由信息记录层16的内周端覆盖至外周端。而且，优选设置成内周覆盖第1基板111的压板领域的一部分或全部，外周覆盖至第1基板的外周端。此时，优选辐射固化性树脂HC的铅笔硬度在B以上。
如图26(a)所示，在复制了凹凸槽的第1基板111上，形成半透明的反射膜118(这里是以Ag为主要成分的金属膜)约20nm，形成第2信息记录层119。另外，该反射膜也可以是以Rh为主要成分的金属，也可以形成电介质反射膜。图26(b)的第2基板121是厚度为80μm，直径为119.5mm，中心孔122直径为22mm的聚碳酸酯制成的片状基板，没有信息记录层且平坦。第2基板121是由通过铸塑法制成的片材上切取的物质。第2基板121也可以由丙烯酸类或降冰片烯类树脂材料构成。
如图26(c)所示，用第4辐射固化性树脂(下面称为“辐射固化性树脂LC”)124胶合该第2基板122和形成了第1和第2信息记录层116和119的第1基板111，其中以具有信息记录层116、119的主面作为内侧。此时的胶合，与上述胶合第1基板111和树脂原模101的方法相同，在一个基板上涂覆辐射固化性树脂LC大致成圆环状，叠合后，使通过辐射固化性树脂LC成为一体的第1基板111和第2基板121旋转，大致均匀地延展辐射固化性树脂LC。然后，照射辐射线，使辐射固化性树脂LC固化。
如上所述，作为透光层，通过使用片状的第2基板，容易使透光层的厚度大致均匀。辐射固化性树脂LB和辐射固化性树脂LC也可以是同一物质。通过使形成透光层后的信息记录层的厚度为1.2mm，能够确保与CD或DVD厚度的互换性。
另外，树脂原模101与第1基板111，或第1基板111与第2基板121的胶合也可以在真空中进行。下面，作为一个实例说明胶合第1基板111和第2基板121的场合。如图27(a)所示，在胶合的一个或两个基板111、121上，旋转涂覆辐射固化性树脂，然后，如图27(b)所示在真空室303中叠合，通过辐射线照射使辐射固化性树脂固化。这样，由于在真空中进行胶合，不用担心气泡的混入。而且，也提高了基板或树脂原模与辐射固化性树脂的密合性。从而也具有提高凹凸槽复制性的效果。
如果用辐射固化性树脂形成透光层，能够降低成本。在本实施例中，设置了用于保护第2信息记录层的透光层，但是即使没有透光层，只要光信息记录层稳定，也可以不设置透光层。
(实施例5)
用图28至图29说明本发明的光盘制造方法的其它例子。图28表示本实施例的光盘制造方法的全部流程。另外，对于与上述实施例中已说明的制造方法相同的部分，有时不再重复说明。树脂原模101和第1基板111是与上述实施例中所述的相同物质。
如图29(a)所示，在第1基板411的信号记录层416上设置辐射固化性树脂LB414，照射辐射线，使辐射固化性树脂LB固化。与实施例4的图21(b)、(c)同样，通过旋转使之设置成大致均匀。然后，通过与实施例4的图23(c)、图24(a)同样的方法，如图29(b)所示，用辐射固化性树脂LA404胶合使用树脂材料的原模401和第1基板411，照射辐射线，使辐射固化性树脂LA固化。
由于使树脂原模401与第1基板411的内径大致相等，从而能够使第1基板的信息记录层SA的中心和树脂原模凹凸槽403的中心重合。在通过旋转延展辐射固化性树脂LA时，通过在旋转台上设置与中心孔402、412直径大致相同的中轴，可以使该操作容易进行。在欲使偏心更小时，也可以在延展辐射固化性树脂后且使之固化前，设置使中心重合的部件。通过照射辐射线使辐射固化性树脂LA固化。与实施例1中所述的同样，由于第1基板上有信息记录层SA，所以通过从第1基板侧照射辐射线难于使辐射固化性树脂LA固化。因此，原模的辐射线透过量必须能够足以使辐射固化性树脂固化。在本实施例中，使用由透明的聚碳酸酯材料构成的原模，从而使该操作容易进行。只要辐射线的透过量充分，也可以使用其他材料。
如实施例4所述，也可以在真空中进行树脂原模401与基板411的胶合。由于在真空中进行胶合，不用担心气泡的混入。而且，也提高了基板或树脂原模与辐射固化性树脂的密合性。从而也具有提高凹凸槽复制到辐射固化性树脂LA上的复制性的效果。
与实施例4的图24(a)或(b)同样，从辐射固化性树脂LA108剥离树脂原模401。此时，辐射固化性树脂LA优选密合性、复制性好，对原模401粘合力弱的物质。此时，为了防止由于辐射固化性树脂LA与第1基板411粘合而引起的剥离困难，将辐射固化性树脂LB设置于第1基板411的外周端之内，使辐射固化性树脂LB的内周端比辐射固化性树脂LA的内周端小。这样，通过利用2种辐射固化性树脂，能够将复制性和粘合性的效果分配给不同的辐射固化性树脂，易于开发辐射固化性树脂。
另外，考虑到与辐射固化性树脂LA剥离的难易程度，也可以对原模401实施易于脱膜的处理。可以形成例如以Si、Ag、Au等金属为主要成分的膜或电介质薄膜等金属以外的膜。而且，也可以在树脂原模401的凹凸槽或者树脂原模401上形成的薄膜上涂覆脱膜剂。
在信息记录层416对牵引力的强度低的场合，剥离树脂原模401时，会使信息记录层416受到损伤。因此，与实施例4的图25相同，通过预先在信息记录层416上设置用于保护的辐射固化性树脂HC，可以避免损伤。此时，优选将辐射固化性树脂设置成至少由信息记录层416的内周端覆盖至外周端。而且，优选设置成内周覆盖第1基板411的压板领域的一部分或全部，外周覆盖至第1基板411的外周端。此时，优选辐射固化性树脂HC的铅笔硬度在B以上。
以下的在复制了凹凸槽的第1基板上形成半透明的反射膜，形成透光层等步骤与实施例4相同。这样，能够得到与实施例4图26(c)同样的光信息记录介质。
(实施例6)
用图30至31说明本发明的光盘制造方法的其它例子。图30表示本实施例的光盘制造方法的全部流程。另外，对于与上述实施例中已说明的制造方法相同的部分，说明从略。树脂原模101和第1基板111是与上述实施例中所述的相同物质。
如图31(a)所示，在树脂原模501的凹凸槽503上设置辐射固化性树脂LA504，如图31(b)所示，在第1基板511的信号记录层SA516上设置辐射固化性树脂LB514。然后，与实施例4的图21(b)、(c)同样，通过旋转使之设置成大致均匀。
然后，与图21(c)的场合同样，使辐射固化性树脂LA与辐射固化性树脂LB相对，将树脂原模501和第1基板511叠合(参照图31(c))。此时的叠合为了防止混入气泡，在真空中进行。叠合后照射辐射线，使辐射固化性树脂LA和辐射固化性树脂LB固化。由于第1基板511上有信息记录层516，所以通过从第1基板511侧照射辐射线难以使辐射固化性树脂LA固化。因此，原模501的辐射线透过量必须能够足以使辐射固化性树脂固化。在本实施例中，使用由透明的聚碳酸酯材料构成的原模，从而使该操作容易进行。只要辐射线的透过量充分，也可以使用其他材料。
通过使树脂原模501与第1基板511的内径大致相等，能够使第1基板的信息记录层SA的中心和树脂原模凹凸槽503的中心重合。在通过旋转延展辐射固化性树脂LA时，通过在旋转台上设置与中心孔502、512直径大致相同的中轴，可以使该操作容易进行。在欲使偏心更小时，也可以在延展辐射固化性树脂后且使之固化前，设置使中心重合的部件。
与实施例4的图24(a)或(b)同样，剥离树脂原模。辐射固化性树脂LA优选密合性、复制性好，与原模的粘合力弱的物质。另外，辐射固化性树脂LB优选与第1基板的信息记录层和辐射固化性树脂LA的粘合力高的物质。此时，由于辐射固化性树脂LA与第1基板，或者辐射固化性树脂LB与树脂原模粘合而引起剥离困难，将辐射固化性树脂LB设置于第1基板的外周端以内，辐射固化性树脂LA设置于树脂原模的外周端以内。通过利用2种辐射固化性树脂，能够将复制性和粘合性的效果分配给不同的辐射固化性树脂，易于开发辐射固化性树脂。
另外，与实施例4的场合同样，考虑到与辐射固化性树脂LA剥离的难易程度，也可以对原模501实施易于脱膜的处理。
另外，与实施例4的图25同样，通过预先在信息记录层SA上设置用于保护的辐射固化性树脂HC，能够使信息记录层SA避免损伤。此时，优选将辐射固化性树脂设置成至少由信息记录层SA的内周端覆盖至外周端。而且，优选设置成内周覆盖第1基板的压板领域的一部分或全部，外周覆盖至第1基板的外周端。此时，优选辐射固化性树脂HC的铅笔硬度在B以上。
以下的在复制了凹凸槽的第1基板上形成半透明的反射膜，形成透光层等步骤与实施例4相同。这样，能够得到与实施例4图26(c)同样的光信息记录介质。
(实施例7)
用图32至35说明本发明的光盘制造方法的其它例子。图32表示本实施例的光盘制造方法的全部流程。另外，对于与上述实施例中已说明的制造方法相同的部分，说明从略。树脂原模101和第1基板111是与上述实施例中所述的相同物质。
图33(a)的树脂原模801是通过注射成型形成的厚度为1.1mm，外径为120mm，中心孔802直径为15mm的聚碳酸酯基板，在一个主面上设置凹凸槽803。树脂原模801也可以是聚碳酸酯以外的树脂材料，例如丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂等。另外，其中树脂原模的厚度为1.1mm，也可以使用更薄的，例如约0.6mm的物质。通过使之变薄，能够降低材料成本。
如图33(b)所示，在树脂原模801的凹凸槽803上形成第1薄膜(下面称为“薄膜FA”)804。其中，薄膜FA通过溅射Au约20nm形成。然后，如图33(c)所示，在薄膜FA804上形成第2薄膜(下面称为“薄膜FB”)814。其中，薄膜FB通过溅射SiO2约20nm形成。
图34(a)的第1基板811是通过注射成型形成的厚度为1.1mm，外径为120mm，中心孔812直径为15mm的聚碳酸酯基板，在一个主面上设置由凹凸槽813和Al反射膜815构成的信息记录层816。第1基板811也可以是聚碳酸酯以外的树脂材料，例如丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂。另外，由于第1基板不是记录和再生侧基板，所以也可以使用透光率低的不透明树脂。
与实施例4的图22(c)至图23(c)所示相同，如图34(b)所示，用辐射固化性树脂LD824胶合树脂原模801和第1基板811。通过使树脂原模801与第1基板811的内径大致相同，能够使第1基板811的信息记录层816的中心与树脂原模801的凹凸槽803的中心重合。在通过旋转延展辐射固化性树脂LD824时，在旋转台上设置与中心孔802、812直径大致相同的中轴，从而使其能够容易进行。欲进一步减小偏心时，也可以在延展辐射固化性树脂后且使之固化前，设置使中心重合的部件。
按照与实施例4的图24(a)或24(b)同样的方法，在薄膜FA804和薄膜FB814的界面剥离树脂原模801。这样，能够在第1基板811上形成图34(c)所示的由SiO2构成的凹凸槽808。由于Au与SiO2的粘合力弱，因而剥离变得非常容易。考虑到剥离和复制性，也可以改变薄膜的组合。薄膜FA和薄膜FB也可以分别由多种材料构成。但是，为了使记录再生光透过薄膜FB，优选是透明的。由于薄膜FB与树脂原模粘合而引起剥离困难，优选使薄膜FA的外周端比薄膜FB的外周端大，而且薄膜FA的内周端比薄膜FB的内周端小。
另外，如图25所示，通过预先在信息记录层SA上设置用于保护的辐射固化性树脂HC，能够避免损伤。此时，优选将辐射固化性树脂HC设置成至少由信息记录层SA的内周端覆盖至外周端。而且，优选设置成内周覆盖第1基板的压板领域的一部分或全部，外周覆盖至第1基板的外周端。此时，优选辐射固化性树脂HC的铅笔硬度在B以上。
在复制了凹凸槽的第1基板811上，如图35所示形成半透明的反射膜(这里是以Ag为主要成分的金属膜)818约20nm，形成第2信息记录层819。以下的形成透光层等步骤与实施例4相同。这样，能够得到图35(b)所示的光信息记录介质。
(实施例8)
通过上述实施例4至7中的任意一种制造方法已经叙述了，能够容易地在第1基板的第1信息记录层上形成第2信息记录层。实施例1至7中，说明了如图26(c)和图35(b)所示的具有2层结构的信息记录介质，但也可以通过使用与实施例4至7中所述的同样方法反复操作，制造在第1基板的第1信息记录层上具有如图36(a)、(b)所示的3层结构或4层结构、甚至4层以上的多层结构的信息记录介质。
其中，将辐射固化性树脂HC作为保护层，将辐射固化性树脂LB或辐射固化性树脂LD作为中间层，将包括辐射固化性树脂LA或薄膜FB以及其上的信息记录层作为记录层。如实施例4至7所述，只要在剥离原模时不会使信息记录层发生损伤或腐蚀等劣化，也可以没有保护层。如上述实施例所述，也可以没有透光层，但为了保护信息记录层优选形成透光层。记录再生的光学体系可以使N.A.达到0.9的程度，波长达到400nm的程度。为了保持与DVD相同程度的倾斜界限，使透光层的厚度为约0.1mm。
这样，只要是具有1个以上由保护层和中间层及记录层或中间层和记录层组成的基本层的重复结构的信息记录层，即可通过上述实施例4至7中所述的方法，成为具有多个信息记录层的高密度化的信息记录介质，而且容易生产。考虑到各信息记录层记录再生时的串音、互相抹除、球面象差的影响，基本层的厚度为15μm以上，45μm以下。而且优选20μm以上，40μm以下。
考虑到记录再生光的劣化等影响，使用保护层与中间层的折射率大致相同的物质。另外，考虑到吸收引起的光劣化，使用保护层或中间层为大致透明的物质。各信息记录层以及记录层可以是再生专用型，也可以是可记录型。而且，也可以在一个信息记录层中同时存在上述两种。
采用实施例3至8，容易制造多层光信息记录介质。特别是对记录和再生侧基板薄型化的光信息记录介质，也能够容易地制造多层光信息记录介质。另外，由于使用由透过一部分特定波长辐射线的硬质材料构成的原模，特别是由树脂材料构成的原模，因而原模质轻，而且具有柔性，因此容易操作。
另外，使用与胶合DVD等光盘的设备大致相同的装置，使之旋转，能够大致均匀地延展用于复制的辐射固化性树脂。而且，即使在不能剥离原模，必须更换原模的场合，由于是树脂原模，能够通过注射成型大量且廉价地进行生产。按照本发明，能够得到上述有益的效果。
以上说明的各实施例中，为了复制凹凸槽而剥离的树脂原模可以直接再次利用，如果由于反复利用使信号复制的效率变差也可以废弃。由于利用廉价的树脂材料作为原模，因而即使是废弃的场合，与准备几个金属材料的原模相比，成本要低。而且，能够通过注射成型大量生产原模。
另外，上述各实施例中，作为信息记录层将信息信号作为凹凸槽进行记录并且设置了反射层的所谓再生专用型记录介质进行了说明。但是，本发明并不只限于此，也可适用于由制成磁盘后可进行信号记录再生的薄膜层构成的可记录型记录介质。
另外，对于上述各实施例，也可以在树脂原模上设置沟代替凹凸槽，然后将其进行复制。
本发明对特定的实施例进行了说明，但本领域技术人员可以进行大量的变形、修改以及其他利用。因而，本发明并不只限于这里的特定公开，可以仅根据权利要求的范围进行限定。
按照本发明，能够容易地制造在不能注射成型的0.3mm以下的基板上具有信息记录层的高密度化光盘。

Claims (37)

1、一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于，将一个主面上具有形成了薄膜的沟或凹凸槽且具有透光性的原模和厚度在0.3mm以下的第2基板，以上述沟或凹凸槽作为内侧，用辐射固化性树脂胶合，
固化上述辐射固化性树脂，通过剥离上述原模，在上述第2基板上形成上述沟或凹凸槽，
在上述第2基板的、与具有沟或者槽的面相反的面上，胶合最终被剥离的支持基板，
在上述第2基板的上述沟或凹凸槽上形成金属膜或记录膜，在上述第2基板上形成第2信息记录层，
以上述信息记录层作为内侧，胶合第1基板和形成了上述第2信息记录层的上述第2基板。
2、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，在上述第1基板与上述第2基板胶合的面上具有第1信息记录层。
3、一种如权利要求1或2所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，由上述第2基板侧照射用于记录或再生的光线。
4、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述原模通过注射成型形成。
5、一种如权利要求1或4所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述原模由树脂材料构成。
6、一种如权利要求5所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述树脂材料为聚碳酸酯。
7、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，用上述辐射固化性树脂胶合上述原模和上述第2基板时，使通过上述辐射固化性树脂成为一体的上述原模和上述第2基板旋转，大致均匀地延展上述辐射固化性树脂。
8、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，用上述辐射固化性树脂胶合上述原模和上述第2基板时，对上述原模与上述第2基板中至少一个，在一部分或全部胶合面上大致均匀地设置上述辐射固化性树脂，然后在真空中胶合上述原模和上述第2基板。
9、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述薄膜为金属膜或准金属膜。
10、一种如权利要求9所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述金属膜或准金属膜为Al或以Al为主要成分的金属。
11、一种如权利要求9所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述金属膜或准金属膜为Si或以Si为主要成分的金属。
12、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，在上述薄膜上涂覆脱膜剂。
13、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述第2基板的厚度为约0.1mm。
14、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，将上述第1基板和上述第2基板胶合后压板部分的厚度为约1.2mm。
15、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述原模的厚度与上述第1基板的厚度大体相等。
16、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述原模和上述第2基板同时具有中心孔，而且上述原模的中心孔与上述第2基板的中心孔的孔径不同。
17、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述原模与上述第2基板的外径不同。
18、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，上述第2基板和上述支持基板的总厚度与上述原模或上述第1基板的厚度大致相同。
19、一种如权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其特征在于，具有用辐射固化性树脂胶合上述树脂原模和上述第2基板时，使上述树脂原模旋转，大致均匀地延展上述辐射树脂的步骤，且在比上述固化步骤低的压力下进行上述延展步骤。
20、一种光信息记录介质，由权利要求1所述的制造方法制造。
21、一种光信息记录介质，其特征在于，在具有信息记录层的基板上叠置1个以上由中间层、记录层组成的基本层，在其上具有透光层，上述中间层由2种辐射固化性树脂形成。
22、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述基本层还可以具有保护层。
23、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述透光层的厚度在0.3mm以下。
24、一种如权利要求23所述的光信息记录介质，其特征在于，上述透光层的厚度为约0.1mm。
25、一种如权利要求24所述的光信息记录介质，其特征在于，上述基本层的厚度在15μm以上45μm以下。
26、一种如权利要求25所述的光信息记录介质，其特征在于，上述透光层由辐射固化性树脂构成。
27、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述透光层由辐射固化性树脂和树脂基板构成。
28、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述记录层由具有沟或凹凸槽的辐射固化性树脂和在上述沟或凹凸槽上形成的反射膜或记录膜构成。
29、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述中间层具有粘接功能。
30、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述中间层由辐射固化性树脂构成。
31、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述保护层的铅笔硬度在B以上。
32、一种如权利要求22所述的光信息记录介质，其特征在于，上述保护层由辐射固化性树脂构成。
33、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述保护层与上述中间层的折射率大致相同。
34、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述保护层和上述中间层对记录再生光大致透明。
35、一种如权利要求21所述的光信息记录介质，其特征在于，上述中间层对记录再生光大致透明。
36、一种光信息记录介质，其特征在于，由第1基板和比该第1基板薄的第2基板组成，在第1基板和第2基板之间设置2个信息记录层，进一步，在上述2个信息记录层之间，设置由2种辐射固化性树脂形成的中间层。
37、一种光信息记录介质，其特征在于，由第1基板和透光层组成，在第1基板和透光层之间设置2个信息记录层，其中上述透光层设置在上述第1基板上且由辐射固化性树脂构成，在上述2个信息记录层之间，设置由2种辐射固化性树脂形成的中间层。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101681653B (zh) * 2008-03-10 2012-08-29 松下电器产业株式会社 光信息记录介质的制造方法及光信息记录介质

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003196885A (ja) * 2001-12-27 2003-07-11 Tdk Corp 多層光記録媒体および多層光記録媒体の製造方法
JP4080741B2 (ja) * 2001-12-27 2008-04-23 Ｔｄｋ株式会社 多層光記録媒体の製造方法および多層光記録媒体
DE60336050D1 (de) * 2002-03-27 2011-03-31 Panasonic Corp Herstellungsverfahren für ein mehrschichtiges optisches informationsaufzeichnungsmedium
JP2003303422A (ja) * 2002-04-09 2003-10-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学的情報記録媒体の製造方法および光学的情報記録媒体
JP4503217B2 (ja) * 2002-05-09 2010-07-14 Ｔｄｋ株式会社 多層記録媒体の形成方法および装置、ならびに多層記録媒体
US7460463B2 (en) 2002-05-10 2008-12-02 Panasonic Corporation Method of and apparatus for manufacturing multi-layer optical information recording medium
JP4215497B2 (ja) * 2002-12-27 2009-01-28 Ｔｄｋ株式会社 光記録媒体
US7859983B2 (en) * 2003-07-15 2010-12-28 Sharp Kabushiki Kaisha Optical disk and optical disk recording and reproducing device
TW200519925A (en) * 2003-08-05 2005-06-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical disc and the manufacturing method thereof
JP2005085403A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Tdk Corp ディスク状記録媒体の製造方法及びディスク状記録媒体の製造方法に使用可能なスタンパ部材
JP2005085402A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Tdk Corp スピンコート法及びディスク状記録媒体の製造方法
JP2005108375A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Tdk Corp ディスク状記録媒体の製造方法
US20050077298A1 (en) * 2003-10-14 2005-04-14 Sonoco Development, Inc. Easy-opening container and closure with radiation-weakened bond and method therefor
TWI348695B (en) 2003-12-08 2011-09-11 Panasonic Corp Optical information recording medium and method for manufacturing the medium
EP1730737B1 (en) * 2004-03-22 2013-01-16 Singulus Technologies AG Method and apparatus for separating disc-shaped substrates
JP4276116B2 (ja) * 2004-03-29 2009-06-10 パイオニア株式会社 多層光情報記録媒体の製造方法および多層光情報記録媒体
FR2871614B1 (fr) * 2004-06-10 2007-01-12 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation d'un support d'enregistrement optique a plusieurs etages et support obtenu
KR100766764B1 (ko) * 2004-07-16 2007-10-17 미츠비시 가가쿠 메디아 가부시키가이샤 광기록 매체 및 광기록 매체의 광기록 방법
TWI385661B (zh) * 2004-07-21 2013-02-11 Panasonic Corp 多層資訊記錄媒體及其製造方法
US20090028039A1 (en) * 2004-09-08 2009-01-29 Kazuya Hisada Method for producing optical information recording medium and optical information recording medium
JP4516414B2 (ja) * 2004-11-22 2010-08-04 株式会社ソニー・ディスクアンドデジタルソリューションズ 光ディスクの製造方法および光ディスク
JP2006245072A (ja) * 2005-02-28 2006-09-14 Canon Inc パターン転写用モールドおよび転写装置
JP2006351057A (ja) * 2005-06-13 2006-12-28 Canon Inc 光記録媒体およびその製造方法
JP4571551B2 (ja) * 2005-07-21 2010-10-27 住友重機械工業株式会社 成形機制御装置
JP4148278B2 (ja) * 2005-08-30 2008-09-10 ソニー株式会社 光ディスクの製造方法およびその製造装置
JP4827848B2 (ja) * 2005-08-30 2011-11-30 パナソニック株式会社 多層情報記録媒体の製造方法、並びに多層情報記録媒体の製造装置とこの製造装置を構成する多層情報記録媒体製造用スクリーン
US20070045883A1 (en) * 2005-08-30 2007-03-01 Imation Corp. Spin replicated flexible and concentrically registered stamper and stamped optical disk
JP2007133970A (ja) * 2005-11-10 2007-05-31 Canon Inc 光記録媒体およびその製造方法
WO2007071094A1 (en) * 2005-12-22 2007-06-28 Singulus Technologies Ag Method for producing a space layer in between two disks with high uniformity
JP2007265515A (ja) 2006-03-28 2007-10-11 Canon Inc 光記録媒体及びその製造方法
JP2007294076A (ja) * 2006-03-31 2007-11-08 Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd 光記録媒体の製造方法及び光記録媒体の製造装置
JP4616914B2 (ja) * 2006-05-18 2011-01-19 パナソニック株式会社 多層光記録媒体の製造方法
JP4247696B2 (ja) * 2006-08-11 2009-04-02 Ｄｉｃ株式会社 光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物、光ディスクおよび光ディスクの製造方法
FR2906925A1 (fr) * 2006-10-05 2008-04-11 Commissariat Energie Atomique Substrat pour support d'enregistrement optique comportant au moins une partie inorganique et procede de fabrication.
JPWO2008111312A1 (ja) * 2007-03-14 2010-06-24 パナソニック株式会社 多層情報記録媒体の製造方法、並びに、信号転写基板及びその製造方法
CN101589433A (zh) * 2007-03-23 2009-11-25 Dic株式会社 光盘中间层用紫外线固化型组合物以及光盘
JP2008269720A (ja) * 2007-04-23 2008-11-06 Canon Inc 透光性スタンパ、透光性スタンパの製造方法及び多層光記録媒体の製造方法
JP5337365B2 (ja) * 2007-10-18 2013-11-06 出光興産株式会社 樹脂スタンパ用芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、樹脂スタンパの製造方法および樹脂スタンパ
JP4631901B2 (ja) * 2007-12-11 2011-02-16 ソニー株式会社 再生専用型光ディスク媒体の製造方法、再生専用型光ディスク媒体
JP4482047B2 (ja) * 2008-03-28 2010-06-16 株式会社東芝 インプリント方法
WO2009157203A1 (ja) * 2008-06-26 2009-12-30 パナソニック株式会社 多層情報記録媒体の製造方法
JP5353091B2 (ja) * 2008-07-02 2013-11-27 株式会社リコー 転写基板、及び基板の製造方法
US8524347B2 (en) * 2008-10-22 2013-09-03 Nec Corporation Optical information recording medium and method of manufacturing the same
JP2010244625A (ja) * 2009-04-07 2010-10-28 Taiyo Yuden Co Ltd 多層型光情報記録媒体
JP5515516B2 (ja) * 2009-08-27 2014-06-11 大日本印刷株式会社 ナノインプリント方法、パターン形成体、及びナノインプリント装置
KR101840852B1 (ko) 2011-10-10 2018-03-22 삼성전자주식회사 모바일 장치의 표면 온도 관리 방법 및 멀티칩 패키지의 메모리 열관리 방법
WO2013118289A1 (ja) * 2012-02-10 2013-08-15 パイオニア株式会社 パターン転写方法
CN107831941B (zh) * 2017-11-22 2021-09-07 杨晓艳 一种柔性触摸基板的制备方法和柔性触摸基板

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8702493A (nl) * 1986-10-31 1988-05-16 Seiko Epson Corp Optisch opnamemedium en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
JPH01285040A (ja) * 1988-05-11 1989-11-16 Tdk Corp 光ディスク用基板の製造方法
US5171392A (en) * 1988-11-08 1992-12-15 Pioneer Electronic Corporation Method of producing an optical information record carrier
JPH0823941B2 (ja) * 1988-11-08 1996-03-06 パイオニア株式会社 光学式情報記録担体及びその製造方法
JPH0354742A (ja) * 1989-07-21 1991-03-08 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 光ディスク、その製造方法および読み取り方法
JP3558306B2 (ja) * 1994-07-26 2004-08-25 パイオニア株式会社 多層記録ディスク及びこれを用いた記録／再生システム
JP3375478B2 (ja) * 1995-02-15 2003-02-10 松下電器産業株式会社 光情報媒体および光情報媒体製造方法
JP3241560B2 (ja) * 1995-02-24 2001-12-25 ソニー株式会社 光学記録媒体及びその製造方法
JPH10326435A (ja) * 1997-03-25 1998-12-08 Sony Corp 光学記録媒体及び光学ディスク装置
DE19715779A1 (de) * 1997-04-16 1998-10-22 Fairchild Technologies Gmbh Ge Verfahren und Einrichtung zum Verkleben scheibenförmiger Kunststoffsubstrate
JPH10302310A (ja) * 1997-04-25 1998-11-13 Sony Corp 光学記録媒体及び光学ディスク装置
US6353592B1 (en) * 1997-06-27 2002-03-05 Sony Corporation Optical recording medium and optical disk device
JP3581246B2 (ja) * 1997-12-17 2004-10-27 パイオニア株式会社 貼り合わせ型光ディスクの製造方法
JP2000036135A (ja) * 1998-05-15 2000-02-02 Sony Corp 多層情報記録媒体の製造方法
DE60016820T2 (de) * 1999-02-24 2005-12-15 Sharp K.K. Optisches Informationsaufzeichnungsmedium
US6309496B1 (en) * 1999-03-04 2001-10-30 Wea Manfacturing Inc. Method and apparatus for making dual layer DVD discs
JP2000268417A (ja) * 1999-03-18 2000-09-29 Pioneer Electronic Corp 光ディスクの製造方法
US6599385B1 (en) * 2000-10-31 2003-07-29 Industrial Technology Research Institute Manufacturing method of a multi-layer optical information recording carrier

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101681653B (zh) * 2008-03-10 2012-08-29 松下电器产业株式会社 光信息记录介质的制造方法及光信息记录介质

Also Published As

Publication number Publication date
KR20020021064A (ko) 2002-03-18
CN1343977A (zh) 2002-04-10
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KR100758076B1 (ko) 2007-09-11
US6743320B2 (en) 2004-06-01
JP3763763B2 (ja) 2006-04-05
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TWI256045B (en) 2006-06-01
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