CN1185644C - 光信息介质及其制造、检查方法 - Google Patents

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在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层照射记录或重放用的激光的光信息介质中，减小激光光斑直径并且提高在线速度大时的记录/重放特性。作为一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，所述透光层由树脂构成。拉伸破坏强度为5～40MPa，拉伸破坏伸长率为15～100%，拉伸弹性系数为40～1000MPa。

Description

光信息介质及其制造、检查方法
一、技术领域
本发明涉及只读光盘、光记录盘等的光信息介质、制造该光信息介质的方法、对该光信息介质进行记录或重放的方法、检查该光信息介质的方法。
二、背景技术
近年来，为在只读光盘、光记录盘等的光信息介质中记录或保存动画信息等更多的信息，要求提高记录密度来使介质高容量化，与此相应，用于高记录密度化的研究开发日益盛行起来。
作为其中之一，对于例如DVD(数字多功能盘)提出缩短记录/重放波长并且增大记录/重放光学系统的物镜的数值孔径(NA)、缩小记录/重放时的激光束的光斑直径。比较DVD和CD，通过把记录/重放波长从780nm变更为650nm，把NA从0.45变更到0.6，实现6～8倍的记录容量(4.7GB/面)。
另外，最近，为长时间记录高品质的运动图像，通过把记录/重放波长缩短到400nm并且把物镜的数值孔径扩大到0.85左右，进行了实现DVD的4倍以上，即20GB/面以上的记录容量的尝试。
但是，作到这样的高NA后，倾斜余量变小了。倾斜余量是光记录介质对光学系统的倾斜容许度，由NA确定。把记录/重放波长设为λ、把记录/重放光入射的透明基片的厚度设为t，倾斜余量与λ/(t·NA3)成比例。光记录介质相对于激光束倾斜时，即产生倾斜时，产生波阵面像差(彗形像差)。基片的折射率设为n，倾斜角设为θ时，波阵面像差系数用(1/2)·t·{n2·sinθ·cosθ}·NA3/(n2-sin2θ)-5/2表示。从这些式子可知，为增大倾斜余量并且抑制彗形像差，最好缩小基片的厚度t。实际上，在DVD中，通过把基片的厚度作成CD基片厚度(1.2mm左右)的大约一半(0.6mm左右)，确保倾斜余量。
但是，为长时间记录更高品质的运动图像，提出把基片做得更薄的结构。这种结构将通常厚度的基片用作刚性维持的支持基片，在其表面上形成凹坑和记录层，在其上设置为薄型基片的厚度为100微米左右的透光层，通过该透光层入射记录/重放光。这种结构中，与原来相比，由于基片明显减薄，可通过高NA实现高记录密度。具有这种结构的介质记载在例如特开平10-289489号公报中。该公报中记载的介质具有由光固化树脂构成的透光层。
但是，由紫外线固化型树脂等的光固化树脂构成透光层时，由于固化时产生的收缩使介质上产生翘曲。另外，把介质保存在高温高湿度的环境中时也会产生翘曲。介质上产生翘曲时，容易产生读取错误，翘曲量大时，会变得不能读取。
特开平8-194968号公报中记载了具有树脂制成的保护涂层的光盘。该公报中，通过使保护涂层的拉伸破坏伸长率达到15％以上，可抑制在高温高湿度的环境中保存时产生光盘翘曲。但是，该公报中没有记载通过保护涂层入射记录/重放光的内容。
但是，根据本发明者们的研究，发现通过厚度为100微米左右的透光层(保护涂层)入射记录/重放光时，仅把透光层的拉伸破坏伸长率作到15％以上，得不到良好的记录/重放特性。尤其，缩小激光束的光斑直径并且以高线速度进行记录/重放时会出现问题，特别是出现聚焦伺服稳定性不好的问题。另外，也有双折射率增大的问题。
如果通过使记录/重放波长短波长化并且增大NA而缩小光斑直径并增大记录/重放时的线速度，可明显提高数据传输率，可实现100Mbps或者更高的数据传输率。为通过2000年底开始广播的卫星数字广播向各个家庭发送高品质的图像信息，要求用于记录画面等的数据传输率明显提高。
但是，为提高数据传输率，必须提高上述聚焦伺服的稳定性。
三、发明内容
本发明的目的是在支持基片表面上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层照射记录或重放用的激光的光信息介质中提高缩小激光的光斑直径并且增大线速度时的记录/重放特性。
这样的目的是通过下面的(1)～(15)的本发明实现的。
(1)一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，
所述透光层由树脂构成。拉伸破坏强度为5～40Mpa，拉伸破坏伸长率为15～100％，拉伸弹性系数为40～1000Mpa。
(2)上述(1)的光信息介质中，所述透光层的厚度为30到200微米。
(3)一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，
在信息记录区域中，所述透光层在波长为630nm时的双折射率(绝对值)为20nm以下，波长为630nm时的双折射率的分布宽度在20nm以下。
(4)一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，
所述透光层的记录波长和重放波长的表面反射率为10％以下。
(5)一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，
用R表示记录或重放时的线速度的聚焦误差信号的剩余误差部分、用F表示聚焦灵敏度曲线的p-p值时，R/F为10％以下。
(6)一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，
在把所述透光层表面的最大起伏作为Wt(单位nm)、把记录或重放时的线速度作为V(单位m/s)时，所述透光层表面上的记录或重放用激光的光斑直径在300微米以下的条件下，下式成立：
Wt≤1840e-0.04V。
(7)上述(6)的光信息介质，所述透光层由树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成。所述粘接层包括紫外线固化型树脂的固化物，所述粘接层的平均厚度为0.5微米以上，小于5微米。
(8)上述(6)或(7)的光信息介质，所述透光层由以树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成。
所述透光薄层由聚碳酸酯、聚芳酯、环状聚烯烃之一构成，并且通过流延法制造。
(9)上述(3)到(8)的任一项的光信息介质，使用的线速度为8m/s以上。
(10)上述(3)到(9)的任一项的光信息介质，把物镜数值孔径作为NA、把记录或重放光的波长作为λ时，由满足λ/NA≤780nm的装置来进行记录或重放。
(11)上述(3)到(10)的任一项的光信息介质，是上述(1)或(2)的光信息介质。
(12)制造上述(6)到(8)的任一项的光信息介质的方法，
所述透光层由树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成。所述粘接层含有紫外线固化型树脂的固化物，
在通过把紫外线照射到紫外线固化型树脂的涂层膜而固化形成所述粘接层时，紫外线照射能量密度为1000mW/cm2以下。
(13)一种光信息介质的记录或重放方法，对于在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有波长630nm时的双折射率(绝对值)为20nm以下、波长630nm时的双折射率的分布宽度为20nm以下的透光层的光信息介质，通过透光层入射用于记录或重放的激光来进行记录或重放。
(14)一种光信息介质的记录或重放方法，对于在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有记录波长和重放波长的表面反射率在10％以下的透光层的光信息介质，通过透光层入射用于记录或重放的激光来进行记录或重放。
(15)一种检查光信息介质的方法，该光信息介质在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用，
选择用R表示记录或重放时的线速度的聚焦误差信号的剩余误差部分、用F表示聚焦灵敏度曲线的p-p值时、R/F为10％以下的光信息介质。
本发明中，通过厚度为100微米左右的透光层进行信息重放的光信息介质中，把透光层的拉伸破坏强度、拉伸破坏伸长率和拉伸弹性系数分别限定到规定范围之内。具有这种物理特性的透光层双折射率减小、其分布宽度缩小并且介质的翘曲量和偏转量减小。
在本发明的介质中，由于翘曲量和偏转量减小，尤其是偏转量明显减小，可减小提高线速度后的偏转加速度。其结果，提高线速度后的聚焦伺服误差信号的剩余误差部分(R)相对于聚焦灵敏度曲线的p-p(峰对峰)值(F)达到10％以下，高传输率下的聚焦伺服误差降低。
另外，介质的翘曲量和偏转量之间不直接相关。翘曲量大的介质偏转量有变大的倾向，但例如盘状介质翘曲成伞状时，偏转量几乎不增加。另一方面，伴随盘状介质上的扭曲产生翘曲时，作为翘曲量测量的值即使很小，偏转量也变大。
虽然原来从未提出过把R/F作为与聚焦伺服相关的判断基准，但本发明人们发现减小R/F，具体说，把R/F降低到10％以下，大大便于重放时的抖动降低、而且明显便于防止写入错误，记录或重放中使用的线速度(使用线速度)中，由于通过测量R/F可判断该介质是否在其使用线速度下可进行可靠性高的记录与重放，故R/F的测量能够用于介质检查。此外，R/F大于10％时，聚焦伺服也未必丧失。
本发明的介质中，由于双折射率小，使光的利用效率增高，结果可改善重放信号输出。
此外，在透光层这样的树脂层中，拉伸破坏强度、拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数3者之间不直接相关。
四、附图说明
图1是表示本发明的光信息介质的结构例的局部剖面图；
图2是表示聚焦误差信号的剩余误差部分(R)与聚焦灵敏度曲线p-p值(F)的比率R/F不超出10％的最大线速度Vmax与介质的光入射面的最大起伏Wt的关系的曲线。
符号说明
2透光层  20支持基片  21槽  4记录层
五、具体实施方式
图1表示本发明的光信息介质的结构例。该光信息介质是记录介质，在支持基片20上具有作为信息记录层的记录层4，在该记录层4上具有透光层2。记录或重放用的激光通过透光层2入射。
本发明无论记录层种类如何都可适用。即，例如，即使是相变型记录介质、凹坑形成型记录介质、磁光记录介质都适用。通常记录层的至少一侧上为保护记录层和光学效果的目的而设置介电体层和反射层，但图1中省略了这些。本发明不限于图中所示的可记录类型，也可适用于只读类型。此时，使用一体设计凹坑的支持基片20，在其上设置由金属膜、半金属膜、介电体多层膜等构成的反射层，在该反射层上转印所述凹坑形状。此时，反射层构成信息记录层。
接着，说明本发明的介质各部分的具体结构。
支持基片20设计来维持介质刚性。支持基片20的厚度通常是0.2～1.2mm，最好是0.4～1.2mm，透明不透明都可以。支持基片20与通常的光记录介质一样可由树脂构成，但也可由玻璃构成。如图所示在光记录介质中通常设置的槽(引导槽)21可通过把在支持基片20上设置的槽转录到在其上形成的各层中而形成。槽21是从记录/重放光入射侧看位于前侧的区域。相邻的槽之间存在的肋状凸起叫作脊。
透光层2具有用来透过激光的透光性。本发明的透光层2的厚度最好在30～200微米，更好大于50微米、200微米以下，最好是70～150微米。透光层过薄时，透光层表面附着的尘土对光学影响变大。另外，高NA使光拾取器与介质之间的距离缩小，光拾取器容易接触介质表面，但由于透光层薄和与光拾取器的接触，得不到好的保护效果。另一方面，透光层过厚时，难以实现高NA产生的高记录密度。另外，透光层厚时，形成透光层时的固化使收缩增大，其结果，介质的翘曲增大。但是，本发明的透光层由于拉伸弹性系数小并且拉伸破坏拉伸率大，即使是大于50微米的、甚至70微米以上的比较厚的透光层，固化时产生的翘曲小，而且产生的翘曲时间长了会被缓解。其结果是得到与以往没有的翘曲以及偏转小的介质。
透光层2的拉伸破坏强度在40Mpa以下，更好在35Mpa以下，并且拉伸破坏拉伸率为15％以上，更好在20％以上，拉伸弹性系数为1000Mpa以下，更好在800Mpa以下。拉伸破坏强度过大时，双折射率和其分布宽度会增大。拉伸破坏拉伸率过小时，介质的偏转变大，且介质上容易产生翘曲，尤其，在高温高湿度的环境中保存时，会产生大的翘曲。拉伸弹性系数再增大时，介质上容易产生翘曲，且介质的偏转也变大。
另一方面，透光层的拉伸破坏强度过低时，由于不但透光层的本来的效果，即保护信息记录层的效果不够好，反而增大了翘曲量，拉伸破坏强度设为5Mpa以上，更好在7Mpa以上。透光层2的拉伸破坏拉伸率过大时，因为透光层过于柔软而使得强度不够。此外，即使设置强度更高的表面层，也不能得到很好的保护效果。因此，拉伸破坏拉伸率设在100％以下，更好在80％以下。透光层的拉伸弹性系数过低时，由于翘曲量反而变大或透光层过于柔软，把拉伸弹性系数设在40Mpa以上。
另外，本说明书中的拉伸破坏强度，拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数按JISK7127-1989中的规定。测试它们时，使用：
试验片的长度：60mm
试验片的宽度：10mm
基线间距离：40±1mm
夹具间距离：44±1mm
拉伸速度：30mm/min
此外的测定条件可根据JIS K7127-1989中的规定。使这些条件与JIS K7127-1989不同是由于考虑了介质(光盘)的尺寸(通常是直径为12cm左右)，以便可用从介质剥离下来的透光层测定。
这样，通过分别把拉伸破坏强度、拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数设在上述范围中，可减小双折射率及其分布宽度，并且制造即后的介质的翘曲小，可抑制在高温高湿度下保存时产生翘曲，以及可缩小介质的偏转。
具体说，可容易地把透光层在波长630nm下的双折射率(绝对值)作到20nm以下，还可作到18nm以下。另外，可容易把在波长630nm下的双折射率的分布宽度作到在p-p值处为20nm以下，还可作到15nm以下。另外，双折射率和其分布宽度越小越好，但即使双折射率和其分布宽度明显减小，由于根据其未必能显著提高效果，所以不必把双折射率作到小于2nm，也不必把必双折射率的分布宽度作到小于2nm。上述的双折射率和其分布宽度是信息记录区域中的值。即，例如在光盘中，是除不作为信息记录区域的区域(内周和外周部分)的区域的值。本发明限定的双折射率的值和其分布宽度是在630nm波长下的测定值，但本发明未必把记录光或重放光的波长限定在630nm。如果630nm波长下的双折射率和其分布宽度如上所述减小，则例如在波长为250nm～900nm左右的宽范围的波长区域中，也实现光的利用效率提高等效果。
另外，在因偏转加速度变大容易产生聚焦伺服误差的高线速度的情况下，具体说，线速度在8m/s以上，尤其在10～35m/s时，可明显抑制聚焦伺服误差的产生。具体说，聚焦误差信号的剩余误差部分以R表示、聚焦灵敏度曲线的p-p值用F表示时，可容易把R/F作到10％以下，也可作到6％以下。另外，虽然R/F越小越好，但由于即使R/F明显减小，其未必能显著提高效果，因此不必把R/F作到小于0.1％。
本发明中，最好记录波长和重放波长的透光层的表面反射率为10％以下。把表面反射率作到10％以下在激光能量利用率降低的高线速度时，具体说在线速度为8m/s以上，特别是为10～35m/s时尤其有效。表面反射率越低越好，但由于即使表面反射率明显减小，其未必能显著提高效果，因此不必把表面反射率作到小于0.1％。
本发明的效果在物镜数值孔径为NA、记录光或重放光的波长为λ时，通过满足下面条件的装置进行记录或重放时，特别有效。
λ/NA≤780nm尤其
λ/NA≤680nm即，使用高NA的物镜照射比较短波长的记录/重放光时特别有效。另外在400nm≤λ/NA的范围中若实现良好的记录/重放特性，一般就足够了。
本发明的特征在于把透光层的拉伸破坏强度、拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数设在所述范围内，由此实现上述的各种效果。因此，并不限定构成透光层的树脂的具体结构和透光层的形成方法。例如，可使用涂布树脂或固化后成为树脂的组合物并必要时将其固化的方法、用紫外线固化型粘结剂和粘合剂等贴合预先制作的树脂薄片的方法等中的任一项。但是，为得到拉伸破坏强度、拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数在本发明限定的范围内的透光层，最好是通过旋涂法涂布活性能量射线固化型组合物、之后通过紫外线等的活性能量射线固化形成透光层的方法。
活性能量射线固化型组合物中通常包括单官能团或多官能团的单体、低聚物和聚合物的至少1种，另外，还含有光聚合引发剂、光聚合引发促进剂、聚合禁止剂。这种组合物例如可从所述特开平8-194968号公报中记载的高密度光盘用保护涂层剂的构成材料选择。作为本发明使用的组合物，最好是至少包括两端具有官能基的线状2官能团低聚物和单官能团单体。上述2官能团低聚物的含量太少或2官能团低聚物的分子量太小时，固化后的拉伸破坏拉伸率变小。单官能团单体相对于2官能团低聚物的比例增高时，基本不降低固化后的拉伸破坏拉伸率而可降低固化后的拉伸破坏强度。另外，通过添加单官能团单体，透光层与形成其的面之间的粘着性提高。但是，添加过多单官能团单体时，固化后的拉伸破坏拉伸率变小。因此，对应于本发明中要求的透光层的物理特性，2官能团低聚物的含量、分子量、单官能团单体的含量等可适当选择。这样的组合物可从市售品加以选择。
作为用于活性能量射线固化型组合物的低聚物和单体，列举如下。
作为2官能团聚合体，可列举出聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、氨基甲基酯丙烯酸酯。作为聚酯丙烯酸酯，可举出东亚合成化学工业(株)制造的AronixM-6200、Aronix M-6400X、Aronix M-6410X、Aronix M-6420X。作为环氧丙烯酸酯，可举出昭和高分子(株)制造的リポキシSP-1506、リポキシSP-1509、リポキシSP-1519-1、リポキシSP-1563、リポキシVR-77、リポキシVR-60、リポキシVR-90；大阪有机化学工业(株)制造的ビスコ一ト540；日本化药(株)制造的カャラツドR-167；共荣公司油脂(株)制造的环氧酯3002A、环氧酯3002M、环氧酯80MFA；长濑产业(株)制造的ナデコ一ルDM-851、ナデコ一ルDA-811、ナデコ一ルDM-811、ナデコ一ルDA-721、ナデコ一ルDA-911。作为氨基甲酸酯丙烯酸酯，可举出根上工业(株)制造的ア一トレンジUN-1000PEP、ア一トレンジUN-9000PEP、ア一トレンジUN-9200A、ア一トレンジUN-2500A、ア一トレンジUN-5200、ア一トレンジUN-1102、ア一トレンジUN-380G、ア一トレンジUN-500、ア一トレンジUN-9832；东亚合成(株)制造的Aronix M-1200；サ一トマ一公司制造的ケムリンク9503、ケムリンク9504、ケムリンク9505。
作为单官能团单体，可举出丙烯酸苯甲酯、甲基丙烯酸苯甲酯、丙烯酸丁氧基乙酯、甲基丙烯酸丁氧基乙酯、丁二醇单丙烯酸酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环己酯、丙烯酸联环戊酯、甲基丙烯酸联环戊酯、脂环改性新戊二醇丙烯酸酯、丙烯酸联环戊烯酯、丙烯酸联环戊烯氧基乙酯、甲基丙烯酸联环戊烯氧基乙酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸异癸酯、甲基丙烯酸异癸酯、丙烯酸异辛酯、甲基丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基二甘醇甲基丙烯酸酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、吗啉丙烯酸酯、苯氧羟基丙基丙烯酸酯、丙烯酸苯氧乙酯、甲基丙烯酸苯氧乙酯、苯氧二甘醇丙烯酸酯、EO改性酞酸丙烯酸酯、EO变性酞酸丙烯酸甲酯、丙烯酸硬脂酯、甲基丙烯酸硬脂酯、丙烯酸四氢呋喃甲酯、甲基丙烯酸四氢呋喃甲酯、醋酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮。
本发明中，使用的活性能量射线固化型组合物最好粘度比较高，具体说，为1000～30000cP左右。与此相反，上述特开平8-194968号公报中表示出组合物在25℃时粘度最好为5～300cP的范围。
上述特开平8-194968号公报中记载通过把光盘的保护涂层作到拉伸破坏拉伸率为15％以上可抑制高温高湿度环境中保存带来的光盘的翘曲。该公报中记载的拉伸破坏拉伸率的范围与本发明限定的范围重合。但是，如上所述，由于该公报记载的保护涂层形成用组合物和本发明使用的组合物粘度不同，认为固化该公报记载的组合物形成的透光层不具备本发明的透光层的物理特性。而且，该公报中仅记载为防止记录部分腐蚀，设置厚度为1～50微米的保护涂层，并未记载通过保护涂层入射记录光和重放光的内容。因此，由该公报中可见并非着重在于降低保护涂层的双折射率。与此相反。本发明中重要的是为通过厚度为100微米左右的薄透光层来入射短波长的记录/重放光，显著地把介质的翘曲量抑制得很小的同时，明显把双折射率和其分布宽度抑制到很小。该公报中虽记载翘曲变小，但未记载偏转和偏转加速度。使用该公报记载的低粘度的组合物后，实际不可能形成超出50微米厚的透光层。
本发明的透光层也可以是由2层以上树脂层构成的层合体。作为层合类型，举出例如在拉伸破坏强度降低、拉伸破坏拉伸率大的内层上层合比该内层更耐磨的表面层，该表面层构成透光层的表面。这种结构中，即使表面层比内层薄，由于其耐磨性好，可把表面层作薄。因此，对于表面层的结构材料，不严格要求其物理特性。因此，表面层构成材料可比较自由地从各种树脂中选择耐磨性良好的树脂。另外，表面层最好比内层拉伸破坏强度高，拉伸破坏强度最好高于40Mpa。
这种结构的内层和表面层最好是活性能量射线固化型组合物的固化物。用于形成内层的组合物，如上所述，选择其组成使得固化后的拉伸破坏强度降低、拉伸破坏拉伸率增大、拉伸弹性系数降低。另一方面，用于表面层形成的组合物中，多官能团寡聚体和/或多官能团单体的比例优选比较高。由此，可提高表面层硬度。另外，单官能团单体的比例若比较高，则表面层与内层之间的粘着性提高。
在为表面层和内层的2层结构时，表面层的厚度最好在0.1到10微米，更好在0.3到5微米。表面层更薄时，保护效果不够。另一方面，保护层更厚时，透光层整体的物理特性难以在本发明限定的范围内。
另外，也可把内层做成2层以上的多层结构。
透光层为活性能量射线固化型树脂构成的多层结构时，通常涂布用于形成下侧层的组合物并固化后、涂布形成上侧层的组合物并固化。但是，为提高下侧的层与上侧的层的粘着性，也可使用在下侧层为半固化状态时层叠上侧层，最终把整个层完全固化的方法。
如前所述，聚焦误差信号的剩余误差部分(R)与聚焦灵敏度曲线的p-p值(F)的比率R/F可用于光信息介质的检查。但是，即使是同一介质，因使用线速度不同R/F会不同。本发明者们为把R/F置于最好的范围内，对应于使用线速度搜索应控制的参数的结果发现透光层表面的最大起伏对R/F影响最大。具体说，以透光层表面的最大起伏为Wt(单位nm)、记录或重放时的线速度(使用线速度)为V(单位m/s)时，发现最好下式成立：
Wt≤1840e-0.04v
通过形成透光层使得对应于使用线速度把最大起伏Wt置于上述范围内，可实现聚焦伺服误差小的介质。另外，虽然Wt越小越好，但由于即使显著减小Wt其也未必明显提高效果，通常把Wt设为Wt≥10nm。本发明限定的最大起伏Wt按ANSIB46.1规定。测定透光层的Wt时，有：
高通滤波器：0.2mm
低通滤波器：2mm
评估长度：20mm
基准长度：16mm
探针插入力：10mg
探针：曲率半径为12.5微米的金刚石针
测定时间：25秒
此外的测定条件也根据上述ANSI B46.1规定。
Wt对所述R/F产生的影响因记录或重放用激光的光斑直径不同而不同。此时的光斑直径是激光入射面(透光层表面)的光斑直径。如果增大该光斑直径，即使Wt比较大，R/F也不怎么变大。因此，本发明限定的V和Wt的关系在所述光斑直径为300微米以下、尤其在200微米以下的条件下是有效的。但是，所述光斑直径再变小时，由于透光层的表面粗糙度的影响增大，因此本发明的Wt的控制最好用于所述光斑直径为10微米以上的情况下。如本发明的介质，在透光层薄的情况下，由于透光层表面的光斑直径变小，Wt的控制是有效的。在以λ为激光的波长、以NA为激光照射光学系统的数值孔径、以n为透光层在波长λ时的折射率、以t为透光层的厚度时，透光层表面的光斑直径D表示为：D＝2tan{sin-1(NA/n)}·t+1.22λ/NA。另外，光斑为椭圆(长圆形)时，上述光斑直径是在记录轨道的较长方向的直径。
在盘状介质中，透光层表面的最大起伏Wt和所述的机械中产生的介质的翘曲与扭曲不相关。但是，介质的翘曲和扭曲大时，不可能Wt的测定。
由于最大起伏Wt的最佳值根据使用线速度V不同而不同，对应于使用线速度可控制透光层表面的最大起伏，但在必须对应于高线速度，例如线速度为8m/s以上，尤其在10～35m/s时，最好如下说明的那样来形成透光层。
通过旋涂法形成含有紫外线固化型树脂的涂层膜、把该涂层膜由紫外线照射来固化形成透光层时，必须控制旋涂条件以便涂层膜中不产生涂布缺陷。因此，例如，最好边控制涂布液的粘度以便涂层膜中不混入气泡、边调制涂布液以便涂层膜中不存在凝胶化物。
另一方面，透光层由树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成。粘接层包括紫外线固化型树脂的固化物时，粘接层的平均厚度为0.5微米以上5微米以下，更好在1到3微米。粘接层过薄时，由于紫外线吸收量减少，难以产生活性种。另外，在空气中进行固化时，粘接层过薄时，由于粘接层每单位体积的接触空气量增多，易受氧破坏的树脂(例如游离基聚合系列树脂)和易受湿度破坏的树脂(如阳离子聚合系列树脂)中容易丧失活性种。因此，粘接层难以固化，粘接力不够。粘接层游离基薄时，难以形成同样的层。另一方面，粘接层游离基厚时，粘接层厚度分布增大，同时，粘接层上粘接的透光薄层表面的最大起伏Wt就变大了。所谓粘接层的平均厚度，指的是离开光盘中心的距离为盘半径的1/2的位置处的厚度。
接着说明粘接层的形成方法。
形成粘接层时，首先，把含有紫外线固化型树脂或其溶液的涂层膜形成在支持基片侧的表面(在图1中为记录层4的表面)整个面上。为减小粘接层的厚度分布和涂布缺陷，用溶剂稀释紫外线固化型树脂成为树脂溶液，最好使用该树脂溶液形成涂层膜，用于稀释树脂的溶剂并不特别限定，例如可从醇系、酯系、溶纤剂系、烃系等各种溶剂适当选择不浸入支持基片和透光薄层的溶剂。
树脂溶液的粘度较好是10cP以下，更好是4～6cP。粘度过高时，粘接层的厚度分布难以减小。另一方面，粘度过小时，难以形成同样的粘接层。树脂溶液的固体部分的浓度较好为10～50wt％更好是20～40wt％固体部分的浓度过低时，难以形成同样的粘接层。另一方面，固体部分的浓度过高时，粘接层的厚度分布难以减小，透光薄层表面的最大起伏Wt也难以减小。
涂层膜的形成方法并不特别限定，例如可使用旋涂法、喷射涂覆法、辊涂覆法、丝网涂覆法、口模涂覆法、帘式淋涂法、浸渍涂覆法等任何一种。但是，旋涂法中，越靠光盘的外周侧粘接层越厚，辊涂覆和口模涂覆中，由于前侧和尾侧粘接层的厚度容易变得不同，因此在这些方法中粘接层厚度控制特别能提高效果。这些涂布法中，从容易形成一样的粘接层、因非接触涂覆而不对介质产生损害、可减小粘接层的表面粗糙度角度，最好使用旋涂法。
涂层膜形成后，在涂层膜上安置透光薄层。透光薄层的安置最好在减压的气氛中进行。作为减压气氛。为小于1个气压，更好是0.3个气压以下，再好是0.1气压以下。通过在减压气氛中安置透光薄层，由于可防止气泡混入粘接层中，可防止气泡引起的跟踪伺服不良。
安置透光薄层后，通过紫外线照射固化涂层膜。紫外线照射可使用一般的高压汞灯进行。固化可直接在减压状态中进行，也可返回到空气中进行。若在减压状态进行固化，可减轻固化时的氧的破坏和湿度的破坏。
通过紫外线固化形成粘接层时，紫外线照射能量密度最好在1000mW/cm2以下，更好在600mW/cm2以下。把紫外线照射能量密度设置在这个范围内，可把粘接于粘接层的透光薄层表面的最大起伏Wt减小，例如，在粘接层的厚度为5微米以上时，Wt可被充分地减小。但是，过度降低紫外线照射能量密度，由于固化需要的时间太长或固化不充分，最好把紫外线照射能量密度设置在5mW/cm2以上。
透光薄层的构成材料最好是聚碳酸酯、聚芳酯和环状聚烯烃中的一种。
本发明使用的聚碳酸酯并不特别限定，例如可使用一般的双酚型芳香族聚碳酸酯。作为后面说明的流延法制造的聚碳酸酯薄层，例如ビユアエ一ス(帝人公司制造)正在市场销售。
聚芳酯是2元酚和芳香族二羧酸形成的聚酯。本发明使用的聚芳酯是非晶聚芳酯，尤其是双酚A和对苯二甲酸的缩聚物。聚芳酯由于具有与聚碳酸酯同样的芳香环，容易发生双折射，但比聚碳酸酯耐热性高。作为后面说明的流延法制造的聚芳酯薄层，例如エルメツキ(钟渊化学工业公司制造)正在市场销售。
本发明使用的环状聚烯烃最好是透光性好的。作为透光性优越的环状聚烯烃，列举出以降冰片烯系化合物为起始物质的非晶质环状聚烯烃。其耐热性优越。本发明中，可使用市场销售的环状聚烯烃。作为市场销售的环状聚烯烃，可列举出例如ア一トン(JSR公司制造)、ゼオネクス(日本ゼオン公司制造)アペル(三井化学公司制造)等。这些中的ア一トン和ゼオネクス是以薄膜销售。ア一トン和ゼオネクス是对降冰片烯系单体开环聚合、加氢而成。ア一トン由于在降冰片烯系单体的侧链上设置酯基，可容易溶解于溶剂。因此，在薄层化时，其好处在于可使用后面说明的流延法。另外还有优点是由于对有机材料的粘接性良好，对粘接层的粘接强度高。由于带电性低。有难以附着尘埃的好处。
透光薄层的制造方法没有限定，但由于本发明使用的透光薄层薄，难以用通常的注塑成型法制造。因此，最好利用流延(熔铸)法和熔融挤出法等、把树脂形成为薄层状的方法，其中尤其好的方法是流延法。流延法在特公平3-75944号公报中记载。该公报中记录着可制造透明性、双折射性、挠性、表面精度、膜厚均匀都优越的柔性盘基片，在本发明中，最好在透光薄层的制造中使用该流延法。该流延法通过下面的工序制造透光薄层。
(1)聚碳酸酯颗粒等树脂颗粒融解在二氯甲烷、丙烯腈、丙烯酸酯甲等溶剂中，
(2)充分搅拌、去泡、过滤后，从模子连续流动到表面精度高的模上，
(3)通过干燥炉蒸发溶剂、连续卷成卷状。
这种流延法制造的透光薄层与用一般的熔融挤出法制造的透光薄层相比，由于薄层上张力小，双折射率变小。与此相反，熔融挤出法制造的薄层中，在延伸方向上产生双折射的分布。上述流延法通过适当控制溶剂的蒸发速度可制造表面状态优越、厚度均匀的薄层，另外，不产生从熔融挤压法制造的薄层中看得到的模具划痕带来的伤。使用流延法制造的透光薄层，可减小薄层表面的最大起伏Wt，例如，即使把粘接层的厚度设在5微米以上时，也可充分减小Wt。
透光薄层是否由流延法制造可通过双折射的模式等方面确认，片材中的残留溶剂通过气相色谱分析定性分析可以确认。
实施例1
以下面的顺序制作光记录盘样品。
形成槽的盘状支持基片(聚碳酸酯制造，直径为120mm、厚度为1.2mm)的表面上通过溅射法形成Al98Pd1Cu1(原子比)构成的反射层。槽的深度以波长λ为405nm的光路长度表示，为λ/6。脊槽记录方式的记录轨道间距为0.3微米。
接着，在反射层表面上使用Al2O3靶通过溅射法形成厚度为20nm的第二介电体层。
随后，在第二介电体层表面上使用相变材料构成的合金靶通过溅射法形成厚度为12nm的记录层。记录层的组成(原子比)为Sb74Te18(Ge7In1)。
接着，在记录层表面上使用ZnS(80mol％)-SiO2(20mol％)靶通过溅射法形成厚度为130nm的第一介电体层。
接着，在第一介电体层表面上通过旋涂法涂布紫外线固化型树脂(昭和高分子公司制造的SSP50U10、25℃的粘度为1900cP)，通过照射紫外线形成厚度为97微米的内层。接着，在其是通过旋涂涂布紫外线固化型树脂(三菱丽阳公司制造的MH-7361)，通过照射紫外线形成厚度为3微米的表面层，得到厚度为100微米的透光层。
把这样制造的光记录盘样品的记录层用整体消除器初始化(结晶化)后，使用Dr.schenk公司制造的Biref126P，从透光层侧入射波长为630nm的激光，测定信息记录区域(样品的半径23～58mm的范围)的透光层的双折射率，求出其绝对值的最大值和最大值与最小值之差(分布宽度)。结果在表1中表示。
以下面的顺序测定该样品的透光层的表面反射率。首先，在与所述支持基片相同尺寸的玻璃基片表面上以上述顺序形成透光层后，从玻璃基片剥离下所述透光层。接着，使用岛津制作所分光光度计MPS-2000上附加的45度绝对镜面反射率测定装置测定该透光层在405nm波长下的反射率。结果在表1中表示。
接着，把该样品安装到光记录介质评估装置上，在下面的条件下向脊和槽进行记录：
激光波长：405nm
数值孔径NA：0.85
线速度：11.4m/s
记录信号：1-7调制信号(最短信号长为2T)
接着，重放记录信号，测定抖动。结果在表1中表示。该抖动是通过时间间隔分析仪测定、以Tw为检出窗口宽度、用σ/Tw(％)求出的始终抖动。该抖动若在13％以下，误差收容在容许范围中，但为充分确保各种余量，希望该抖动较好在10％以下，更好在9％以下。
用以下的方法测定聚焦误差信号的剩余部分对聚焦灵敏度曲线的p-p值的比率。首先，把样品装入测定装置中，以线速度11.4m/s旋转。接着，不施加聚焦伺服，边变更样品与光拾取器的距离边检出聚焦误差信号，求出表示样品的变位与聚焦误差信号输出之间的关系的聚焦灵敏度曲线。该聚焦灵敏度曲线通常叫作S字曲线，如1989年2月10日无线技术公司发行的《光盘技术》的第81页记录的那样。从该聚焦灵敏度曲线求出聚焦误差信号输出的p-p值，即正侧输出的峰值与负侧输出的峰值之差。接着，施加聚焦伺服，还施加跟踪伺服，测量聚焦误差信号的剩余误差成分的输出p-p值。通过该测定，可通过刀缘(knifeedge)法进行聚焦伺服。把这样求出的聚焦灵敏度曲线的p-p值设为F、把聚焦误差信号的剩余成分的p-p值设为R，计算出R/F。结果在表1中表示。
求出聚焦误差信号的剩余部分对聚焦灵敏度曲线的p-p值的比率时使用的聚焦伺服方法并不特别限定，可使用刀缘法、非点像差法等任何一种。
随后，把这个样品透光层用剪刀切成平面尺寸为60mm×10mm的矩形来作为试验片，使用该试验片，根据JIS K7127-1989和本发明限定的上述限定条件，用オリエンテツク公司制造的TRM-100型拉力机测定拉伸破坏强度、拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数。结果在表1中表示。切成试验片时，试验片上附着介电体层、记录层、反射层等，但这些层的附着不对拉伸破坏强度、拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数的测定值产生影响。
在该样品中，用小野量器公司制造的LM1200来测定翘曲量和偏转量。在80℃·80％RH的环境下保存50小时后，进行同样的测定。结果在表1中表示。
实施例2
除通过旋涂法涂布紫外线固化型树脂(日本化药公司制造的B8、25度的粘℃为5000cP)，通过照射紫外线形成厚度为100微米的透光层外与实施例1相同，制作光记录盘样品。对这种样品进行与实施例1相同的测定。结果在表1中表示。
实施例3
除通过旋涂法涂布紫外线固化型树脂(昭和高分子公司制造的SSP50U14、25℃的粘度为4000cP)，通过照射紫外线形成厚度为100微米的透光层外与实施例1相同，制作光记录盘样品。对种样品中进行与实施例1相同的测定。结果在表1中表示。
比较例1
除通过旋涂法涂布紫外线固化型树脂(昭和高分子公司制造的No.303-2、25℃的粘度为4000cP)，通过照射紫外线形成厚度为100微米的透光层外与实施例1相同，制作光记录盘样品。对这种样品进行与实施例1相同的测定。结果在表1中表示。
比较例2
除通过旋涂法涂布紫外线固化型树脂(长濑チバ公司制造的T695/UR740、25℃的粘度为2100cP)，通过照射紫外线形成厚度为100微米的透光层外与实施例1相同，制作光记录盘样品。对这种样品进行与实施例1相同的测定。结果在表1中表示。
比较例3
除通过旋涂法涂布紫外线固化型树脂(大日本油墨化学工业公司制造的SD318、25℃的粘度为140cP)，通过照射紫外线形成厚度为100微米的透光层外与实施例1相同，制作光记录盘样品。对这种样品进行与实施例1相同的测定。结果在表1中表示。
比较例4
准备所述特开平8-194968号公报的实施例3记载的紫外线固化型树脂，这种紫外线固化型树脂包括：
EPA-1(日本化药公司(株)制造)20重量份
MANDA(日本化药公司(株)制造)40重量份
THF-A(共荣油脂公司(株)制造)10重量份
R-561(日本化药公司(株)制造)30重量份
Darocur BP(汽巴特殊化学公司制造)3重量份
DMBI(日本化药公司(株)制造)1重量份
Irgacure 651(汽巴特殊化学公司制造)3重量份。25℃的粘度为64cP。除在透光层形成中使用该紫外线固化型树脂外与实施例1相同，制作光记录盘样品。紫外线照射能量密度为2000mW/cm2。但是，由于该紫外线固化型树脂粘度低。不能形成厚度超出50微米的透光层，透光层的厚度为50微米。对该样品进行与实施例1相同的测定。结果表示在表1中。
表1
 拉伸破坏强度(Mpa) 拉伸破坏拉伸率(％) 拉伸弹性系数(Mpa)   波长630nm下的双折射率(nm) R/F(％) 抖动(％) 表面反射率(％)       翘曲量(μm) 偏转量(μm)
    最大值 分布宽度 初期 保存后  初始   保存后
  实施例1     32     68   76     15     8 4.53   8.8   8.0 -74.8 -116.3  55.8   62.4
  实施例2     17     55   200     16     11 4.38   8.6   8.5 -96.7 -123.8  34.9   31.8
  实施例3     24     18   784     16     7 4.80   9.0   10.0 -68.4 -110.5  48.6   42.1
  比较例1     44*     17   1044*     30*     25* 8.72   12.3   11.0* -186.2 -284.6  111.6   108.6
  比较例2     4*     16   24*     19     16 6.50   11.5   9.0 -141.1 -248.4  87.4   79.7
  比较例3     ＞50*     5*   ＞2000*     54*     60* 10.70*   15.0   11.0* -265.7 -430.8  180.7   194.1
  比较例4     65*     4*   1810*     30*     24* 10.30*   12.0   11.0* -223.5 -286.3  150.5   174.3
*：限定范围外
从表1看到本发明的效果。即拉伸破坏强度、拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数在本发明限定的范围内的样品中，双折射率和其分布宽度缩小，聚焦误差少、抖动小，翘曲量和偏转量小，另外，高温高湿度环境中保存对翘曲量和偏转量的恶化也少。
与此相反，拉伸破坏强度、拉伸破坏拉伸率和拉伸弹性系数中至少一个在本发明的范围之外时，不能实现本发明的效果。
除不设置所述内层、把所述表面层设计成100微米面作为透光层外与实施例1同样地制作样品，测定该样品的透光层的拉伸破坏强度，发现在50Mpa以上。
实施例4
样品1
除以下面顺序形成透光层外与实施例1相同来制作光盘样品。
在形成透光层时，首先，在第一介电体层表面上通过旋涂涂布由索尼化学公司制造的紫外线固化型树脂SK5110形成树脂层。接着，在真空中(0.1气压下)，在树脂层上安置聚碳酸酯薄层(厚度为100微米、双折射率15nm)作为透光薄层。该聚碳酸酯薄层为ピユアエ-ス(帝人公司制造)，由所述流延法制造。该聚碳酸酯薄层的玻璃转变点在145℃、分子量约为40,000。在安置该透光薄层的状态下，以6000rpm把盘旋转10秒，振去多余的树脂。接着，返回空气中后，照射紫外线、固化上述树脂层，得到厚度为103微米的透光层。
另外，把アイグラフイツク公司制造的Xe闪光灯用作紫外线源，通过在输出120J下通过8次来照射紫外线。此时，不能测定紫外线照射能量密度(超出5000mW/cm2)。照射能量密度由ETI Instrumentation Products公司制造的UVICURE PLUS测定。
样品2
除把ウシオ电机公司制造的高压水银灯(3kW类型、照射能量密度300mW/cm2)用作紫外线源、紫外线照射能量密度600mW/cm2外与样品1相同，制作光记录盘样品。
样品3
除把ナガセケム盘公司制造的T695/UR621用作粘接层形成用的紫外线固化型树脂、把ウシオ电机公司制造的マルチライト(250W类型)用作紫外线源、紫外线照射能量密度50mW/cm2外与样品1相同，制作光记录盘样品。
样品4
除在第一介电体层表面上通过旋涂涂布紫外线固化型树脂(日本化药公司制造的B8、25℃的粘度为5000cP)，通照射紫外线形成厚度为100微米的透光层外与样品1相同，制作光记录盘样品。紫外线照射条件与样品2的粘接层固化条件相同。
样品5(对照)
作为TDK株式会社制造的DVD-RAM(单面2.6GB类型)，记录/重放用激光构成为通过厚度为0.6mm的聚碳酸酯基片入射。
样品6(对照)
作为TDK株式会社制造的DVD-RAM(双面5.2GB类型)，记录/重放用激光构成为通过厚度为0.6mm的聚碳酸酯片入射。
评价
对于上述样品的激光入射面，测定ANSI B46.1规定的粗糙度参数(中心线平均粗糙度Ra、最大粗糙度Rt、中心线起伏Wa和最大起伏Wt)。这些粗糙度参数相对于激光入射面的半径40mm的位置测定。测定方向是与样品的周围方向相对的接线方向，测定长度为20mm。该测定反复5次求出平均值。最大起伏Wt的测定时的条件是本发明限定的所述测定条件。结果表示在表2中。
对于上述各样品，边从低速向高速变化线速度边测定聚焦误差信号的剩余误差部分(R)对聚焦灵敏度曲线的p-p值(F)的比率R/F，求出R/F不超出10％的最快的线速度Vmax。结果表示在表2中。样品1～4的测定条件为：
激光波长：405nm
数值孔径NA：0.85
对于样品5～6测定条件与DVD-RAM相同，即：
激光波长：635nm
数值孔径NA：0.60
表2
  样品序号No.     Vmax(m/s)     Ra(nm)     Rt(nm)     Wa(nm)     Wt(nm)
   1     7.3     1.3     21.1     293     1400
   2     10.8     1.3     18.5     273     1240
   3     12.5     1.3     17.5     258     1170
   4     28.9     1.1     9.1     144     636
   5(对照)     24.1     1.0     9.0     414     1780
   6(对照)     8.4     1.2     11.4     568     2440
从表2首先可知Vmax因样品不同而不同。Vmax与Ra和Rt不相关，与Wa和Wt相关。图2中表示横轴为线速度、纵轴为最大起伏Wt的曲线。图2中绘制上述各种样品的Vmax与Wt的关系，用Wt＝1840e-0.04V表示的曲线。
图2使用具有画出的Wt的各个样品以便所述R/F在10％以下，虽然必须使使用线速度V比各个样品的Vmax慢，但图2中任一项样品都存在于Wt＝1840e-0.04V所表示的曲线的上侧。因此，使用满足Wt≤18406-0.04V的线速度V时，任一项样品的所述R/f都在10％以下。
图2中，作为市场销售的DVD-RAM的样品5～6与样品1相比，无论Wt是否显著变大，Vmax都比样品1快。因此，可使用比由Wt≤1840e-0.04V限定的线速度V快得多的线速度。其原因是样品5～6的R/F的测定条件与DVD-RAM的重放条件相同。即，由于样品1到4中光入射面上的光斑直径约为120微米，Wt的控制是有效的，但由于样品5～6中光入射面上的光斑直径大致约为490微米，太大，Wt的控制则不再必要。

Claims (8)

1.一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，
所述透光层由树脂构成，拉伸破坏强度为5～40Mpa，拉伸破坏伸长率为15～100％，拉伸弹性系数为40～1000Mpa，厚度超过50μm、200μm以下。
2.根据权利要求1的光信息介质，在信息记录区域中，所述透光层在波长为630nm时的双折射率的绝对值为20nm以下，波长为630nm时的双折射率的分布宽度在20nm以下。
3.根据权利要求1的光信息介质，所述透光层的记录波长和重放波长的表面反射率为10％以下。
4.根据权利要求1的光信息介质，用R表示记录或重放时的线速度的聚焦误差信号的剩余误差部分、用F表示聚焦灵敏度曲线的p-p值时，R/F为10％以下。
5.根据权利要求1的光信息介质，在把所述透光层表面的最大起伏作为Wt、把记录或重放时的线速度作为V时，所述透光层表面上的记录或重放用激光的光斑直径在300微米以下的条件下，下式成立：
Wt≤1840e-0.04V，其中Wt单位为nm，V单位为m/s。
6.根据权利要求5的光信息介质，所述透光层由树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成，所述粘接层包括紫外线固化型树脂的固化物，所述粘接层的平均厚度为0.5微米以上，小于5微米。
7.根据权利要求5或6的光信息介质中，所述透光层由树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成，
所述透光薄层由聚碳酸酯、聚芳酯、环状聚烯烃之一构成，并且通过流延法制造。
8.一种光信息介质，是一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，
所述透光层由树脂构成，拉伸破坏强度为5～40Mpa，拉伸破坏伸长率为15～100％，拉伸弹性系数为40～1000Mpa，厚度超过50μm、200μm以下，
在信息记录区域中，所述透光层在波长为630nm时的双折射率的绝对值为20nm以下，波长为630nm时的双折射率的分布宽度在20nm以下，
所述透光层的记录波长和重放波长的表面反射率为10％以下，
用R表示记录或重放时的线速度的聚焦误差信号的剩余误差部分、用F表示聚焦灵敏度曲线的p-p值时，R/F为10％以下，
在把所述透光层表面的最大起伏作为Wt、把记录或重放时的线速度作为V时，所述透光层表面上的记录或重放用激光的光斑直径在300微米以下的条件下，下式成立：
Wt≤1840e-0.04V，其中Wt单位为nm，V单位为m/s。
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