CN1863881A - 硬涂剂组合物和采用其的光信息介质 - Google Patents
硬涂剂组合物和采用其的光信息介质 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1863881A CN1863881A CNA2004800287631A CN200480028763A CN1863881A CN 1863881 A CN1863881 A CN 1863881A CN A2004800287631 A CNA2004800287631 A CN A2004800287631A CN 200480028763 A CN200480028763 A CN 200480028763A CN 1863881 A CN1863881 A CN 1863881A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- hard coating
- material composition
- coating material
- compound
- active energy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 133
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 118
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 114
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 103
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 60
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 117
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims abstract description 44
- -1 (methyl) acryl Chemical group 0.000 claims description 33
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 125
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 7
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 12
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 12
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 9
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 8
- 101001109419 Homo sapiens RNA-binding protein NOB1 Proteins 0.000 description 8
- 102100022491 RNA-binding protein NOB1 Human genes 0.000 description 8
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 7
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N alpha-mercaptoacetic acid Natural products OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N (R)-camphor Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylcyclohexane Chemical compound CC1(C)CCCCC1 QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-3-methylbutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)(C)O BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 2
- 229920001241 Cyamelide Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 2
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- SMEDVXJKKOXLCP-UHFFFAOYSA-N cyamelide Chemical compound N=C1OC(=N)OC(=N)O1 SMEDVXJKKOXLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 2
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 239000001327 prunus amygdalus amara l. extract Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUGBQWBWWNPMIT-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentan-1-ol Chemical compound CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(O)(F)F KUGBQWBWWNPMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOSFJABFAXRZJQ-UHFFFAOYSA-N 1,6-bis(ethenoxy)hexane Chemical compound C=COCCCCCCOC=C JOSFJABFAXRZJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOTSWLOWHSUGIM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-4-[2-(4-ethenoxyphenyl)propan-2-yl]benzene Chemical class C=1C=C(OC=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC=C)C=C1 YOTSWLOWHSUGIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNAHQWDCXOHBHK-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpropane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)(O)C1=CC=CC=C1 MNAHQWDCXOHBHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJNNTHQPWNKZAE-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1C1(C)CC2OC2CC1 FJNNTHQPWNKZAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKEYBVJYVVGWPE-UHFFFAOYSA-N C(=C)OCC(=S)OCCO Chemical compound C(=C)OCC(=S)OCCO SKEYBVJYVVGWPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910018110 Se—Te Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSOONFBDIYMPEU-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SSOONFBDIYMPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 150000001786 chalcogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229930182470 glycoside Natural products 0.000 description 1
- 150000002338 glycosides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N hexanedioic acid Natural products OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229940032007 methylethyl ketone Drugs 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N o-dicarboxybenzene Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 239000002957 persistent organic pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000012782 phase change material Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000011378 shotcrete Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M thioglycolate(1-) Chemical compound [O-]C(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B7/2542—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B7/2542—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins
- G11B7/2545—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins containing inorganic fillers, e.g. particles or fibres
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/2431—Metals or metalloids group 13 elements (B, Al, Ga, In)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/24312—Metals or metalloids group 14 elements (e.g. Si, Ge, Sn)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/24314—Metals or metalloids group 15 elements (e.g. Sb, Bi)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/24316—Metals or metalloids group 16 elements (i.e. chalcogenides, Se, Te)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/258—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers
- G11B7/259—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers based on silver
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/21—Circular sheet or circular blank
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
提供一种在各种物体的表面上形成防污性和润滑性优良、同时耐擦伤性和耐磨性也优良的硬涂层用硬涂剂组合物。提供一种采用上述硬涂剂组合物的光信息介质。包含具有活性能量射线反应性基团的含氟聚醚化合物(A),和分子内有两个或三个以上活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(B)的硬涂剂组合物。是在支持基体(20)上具有由至少含记录层(4)或反射层的一层或数层构成的膜体的光信息介质,支持基体(20)侧表面及上述膜体侧表面中至少一个表面是由含有上述硬涂剂组合物的固化物的硬涂层(8)形成的光信息介质。
Description
技术领域
本发明涉及为在各种物体的表面上形成防污性和润滑性优良、同时耐擦伤性和耐磨性也优良的硬涂层而使用的硬涂剂组合物。
而且本发明还涉及在表面具有用上述硬涂剂组合物形成的硬涂层的物体。作为必须对表面赋予硬涂层的物体,包括光信息介质、光学透镜、光学滤光片、防反射膜、以及液晶显示器、CRT显示器、等离子显示器、EL显示器等各种显示元件等。
本发明特别涉及表面具有用上述硬涂剂组合物形成的硬涂层的、再生专用光盘、光记录盘、光磁记录盘等光信息介质,更详细地讲本发明涉及记录和/或再生光束入射侧表面的防污性和润滑性优良,同时耐擦伤性和耐磨性也优良的光信息介质。
背景技术
再生专用光盘、光记录盘、光磁记录盘等光信息介质的表面,在使用之际会引起由各种污染物质引起的污染和附着指纹。最好不出现这些污染和指纹的附着,而对光信息介质的表面实施适当表面处理以改善防污性、减少指纹的附着性或提高指纹的除去性。例如,研究了对光信息介质的表面实施各种疏水、疏油处理。
而且为了提高光信息介质表面的耐擦伤性,一般在介质的记录和/或再生光束的入射侧表面上形成透明且具有耐擦伤性的硬涂层。硬涂层的形成,采用在介质表面上涂布分子中具有两个以上(甲基)丙烯酰基等聚合性官能团的活性能量射线聚合固化性化合物,通过紫外线等活性能量射线对其照射而固化的方式进行。然而,这种硬涂层由于是以提高耐擦伤性为目的,所以不能指望对于尘埃和大气中的油烟雾、或指纹等污染物质具有防污效果。
作为对于有机污染物具有防污性的硬涂层,例如在特开平10-110118号公报中提出在硬涂剂中捏合混入非交联型含氟表面活性剂。非交联型含氟表面活性剂没有聚合性双键,与硬涂剂的基体树脂不交联。
而且在特开平11-293159号公报中,提出在硬涂剂中同时捏合混入非交联型含氟表面活性剂和交联型含氟表面活性剂两种物质。作为交联型含氟表面活性剂,可以举出全氟辛基乙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯等氟代烷基(甲基)丙烯酸酯。这种交联型含氟表面活性剂具有聚合性双键,所以能与硬涂剂的基体树脂交联而固化。
特开平11-213444号公报中公开了在传统的聚碳酸酯等光盘基板表面上涂布含氟聚合物。
特开平11-503768号公报中公开了一种由含氟尿烷低聚物及稀释溶剂单体组成的放射线固化性组合物。
根据特开2002-190136号公报的公开,通过使硬涂剂中含有氧化硅微粒等金属硫属化合物微粒,提高硬涂剂的耐擦伤性,进而在硬涂层上设置含有疏水性或疏油性基团的硅烷偶合剂膜,使光信息介质表面的防污性提高。
然而,一旦使光信息介质表面低摩擦系数化,由于与坚硬的突出物接触时因光滑而能逃避冲击,所以能抑制擦伤的产生。因此,通过使硬涂层表面低摩擦系数化,可以进一步提高耐擦伤性。尤其是最近,通过将记录/再生激光聚光用的物镜的数值孔径(NA)加大到0.85左右,同时将记录/再生激光光线的波长缩短到400nm左右,以此来缩小激光光线聚光光斑的直径,通过这种方式已使DVD的记录容量达到四倍以上的蓝色射线光盘(Blu-ray Disc)成品化。若试图这样实现高NA化,则物镜与光信息介质表面的作用距离就会减小(例如当将NA设定为0.85左右的情况下,作用距离为100微米,与传统的相比显著变窄),在光信息介质旋转时,在光信息介质的表面与物镜及支持其的支持体之间产生接触的可能性将会增高。因此,在提高硬涂层表面耐擦伤性的同时,要求实现低摩擦系数化。
而且若就光信息介质以外的情况来看,例如光学透镜、光学滤光片、防反射膜、以及液晶显示器、CRT显示器、等离子显示器、EL显示器等各种显示元件等的表面需要具有耐擦伤性和耐磨性,可以在这些各种物体表面上赋予通常的保护层(硬涂层)。而且这些各种物体表面上,与光盘的情况同样,使用时也会产生由各种污染物质引起的污染和指纹的附着。人们希望看到最好没有这些污染和指纹的附着,防污性优良的硬涂层。
然而,在上述已有技术中却存在硬涂剂防污性的耐久性差、硬度低等问题,以及制造成本增高等问题。
发明内容
于是本发明目的在于提供一种在各种物体表面上形成防污性及润滑性优良、同时耐擦伤性及耐磨性也优良的硬涂层用的硬涂剂组合物。
而且本发明目的还在于提供一种表面上具有用上述硬涂剂组合物形成的硬涂层的物体。
本发明的又一目的在于提供一种记录和/或再生光束入射侧表面的防污性和润滑性优良、同时耐擦伤性及耐磨性也优良的光信息介质。
本发明人等深入研究的结果发现,采用具有活性能量射线反应性基团的含氟聚醚化合物,可以得到一种能够形成既能保持硬度、防污性和润滑性也优良的硬涂层的硬涂剂组合物。
本发明中包括以下各向发明。
(1)一种硬涂剂组合物,其中含有具有活性能量射线反应性基团的含氟聚醚化合物(A),和分子内有两或三个以上活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(B)。
(2)(1)中记载的硬涂剂组合物,其中相对于100重量份组合物中的不挥发成分,含有0.01重量份以上和3重量份以下的含氟聚醚化合物(A)。不挥发成分中包括含氟聚醚化合物(A)和固化性化合物(B)、以及后述的无机微粒(C)、光聚合引发剂、各种添加剂等的任意成分。
(3)(1)或(2)中记载的硬涂剂组合物,其中以所述的固化性化合物(B)作基准计,含有65~100重量%的分子内有三个以上活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(Bt),和0~35重量%的分子内有两个活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(Bd)。
(4)(1)~(3)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),在其分子内具有两个以上活性能量射线反应性基团。
(5)(4)中记载的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),在其分子的两个末端具有活性能量射线反应性基团。
(6)(1)~(5)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A)在每1000分子量中具有一个以上活性能量射线反应性基团。
(7)(1)~(6)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A)在每1000分子量中具有两个以上活性能量射线反应性基团。
(8)(1)~(7)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A)在每1000分子量中具有四个以上活性能量射线反应性基团。
(9)(1)~(8)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A)具有的活性能量射线反应性基团,是从(甲基)丙烯酰基及乙烯基中选出的。
(10)(1)~(9)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),是在末端有羟基的含氟聚醚化合物的羟基上,导入了(甲基)丙烯酰基的化合物。
(11)(1)~(10)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),是具有全氟聚醚部位的化合物。
(12)(1)~(11)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中还含有平均粒径100nm以下的无机微粒。
(13)(12)记载的硬涂剂组合物,其中相对于100重量份固化性化合物(B)含有5重量份以上、500重量份以下的无机微粒(C)。
(14)(12)或(13)中记载的硬涂剂组合物,其中所述的无机微粒(C)是金属(或半金属)氧化物微粒或金属(或半金属)硫化物微粒。
(15)(12)~(14)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的无机微粒(C)是氧化硅微粒。
(16)(12)~(15)中任何一项记载的硬涂剂组合物,其中所述的无机微粒(C),是经具有活性能量射线反应性基团的水解性硅烷化合物表面修饰过的微粒。
以上的硬涂剂组合物特别适用作光信息介质用的硬涂剂组合物。
(17)表面上被赋予了(1)~(16)中任何一项记载的硬涂剂组合物的固化物的物体。本发明中,作为表面上必须被赋予硬涂层的物体,例如包括光信息介质、光学透镜、光学滤光片、防反射膜、以及液晶显示器、CRT显示器、等离子显示器、EL显示器等各种显示元件等。
(18)一种光信息介质,是在支持基体上具有至少包括记录层或反射层、由一层或多层构成的膜体的光信息介质,所述的支持基体侧表面及所述的膜体侧表面中至少一个表面,由包含(1)~(16)中任何一项记载的硬涂剂组合物的固化物的硬涂层所形成。
(19)(18)记载的光信息介质,其中所述的支持基体侧表面及所述的膜体侧表面中作为光线入射侧的表面,是由所述的硬涂层形成。
(20)一种光信息介质,其中在支持基体上具有信息记录层、和信息记录层上的光线透光层,在光线透光层上具有包含(1)~(16)中任何一项记载的硬涂剂组合物的固化物的硬涂层。
(21)一种光信息介质的制造方法,其中包括:
在支持基体上形成至少包含记录层或反射层、由一层或多层构成的膜体,
在所述的支持基体的形成了所述的膜体一侧的对面上以及所述的膜体面上中的至少一面上,涂布(1)~(16)中任何一项记载的硬涂剂组合物,通过照射活性能量射线使其固化形成硬涂层。
本发明中所述的光信息介质包括再生专用光盘、光记录盘、光磁记录盘等各种介质。
按照本发明,可以提供一种能在各种物体表面上形成防污性和润滑性优良,同时耐擦伤性和耐磨性也优良的硬涂层用的硬涂剂组合物。
而且按照本发明,可以提供一种表面上具有用上述硬涂剂组合物形成的硬涂层的物体。
此外,按照本发明可以提供一种记录和/或再生光束入射表面的防污性和润滑性优良,同时耐擦伤性和耐磨性也优良的光信息介质。
附图说明
图1是示意表示本发明光盘的层结构一例的断面视图。
图2是示意表示本发明光盘的层结构一例的断面视图。
图3是示意表示本发明光盘的其他层结构实例的断面视图。
图4是示意表示本发明光盘的其他层结构实例的断面视图。
具体实施方式
首先说明本发明的硬涂剂组合物。
本发明的硬涂剂组合物,含有具有活性能量射线反应性基团的含氟聚醚化合物(A),和分子内有两或三个以上活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(B)。
固化性化合物(B),是硬涂剂组合物中的固化性的主要成分,是形成固化后得到的硬涂层的基体的成分。硬涂剂组合物,作为固化性化合物(B),以固化性化合物(B)为基准,含有65~100重量%分子内有三个以上活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(Bt),和0~35重量%分子内有两个活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(Bd)。
活性能量射线固化性化合物(Bt),由于分子内有三个以上活性能量射线聚合性基团,所以固化后依靠其本身就能得到作为硬涂层的充分硬度。另一方面,活性能量射线固化性化合物(Bd),由于分子内仅有两个活性能量射线聚合性基团,所以固化后依靠其本身不能得到作为硬涂层的充分的硬度。因此,优选以固化性化合物(Bt)作为固化性化合物(B)的主要成分,而使用固化性化合物(Bd)的情况下优选在上述重量范围内使用。
固化性化合物(Bt)及固化性化合物(Bd),是含氟聚醚化合物(A)以外的化合物,若是其分子内分别有三个以上和两个活性能量射线聚合性基团的化合物,则可以是多官能团单体或低聚物,对于其结构并无特别限制。固化性化合物(Bt)及固化性化合物(Bd),为了获得高硬涂层的硬度而不含氟。固化性化合物(Bt)及固化性化合物(Bd)具有的活性能量射线聚合性基团,可以从(甲基)丙烯酰基、乙烯基和巯基中选择。
在这种活性能量射线聚合性化合物(Bt)及(Bd)中,作为具有(甲基)丙烯酰基的化合物,例如可以举出1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的双酚A二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、3-(甲基)丙烯酸基甘油单(甲基)丙烯酸酯、尿烷丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、酯基丙烯酸酯等,但是不一定限于这些化合物。
而且作为具有乙烯基的化合物,例如可以举出乙二醇二乙烯基醚、季戊四醇二乙烯基醚、1,6-己二醇二乙烯基醚、三羟甲基丙烷二乙烯基醚、环氧乙烷改性氢醌二乙烯基醚、环氧乙烷改性双酚A二乙烯基醚、季戊四醇三乙烯基醚、二季戊四醇六乙烯基醚、二三羟甲基丙烷聚乙烯基醚等,但是不一定限于这些化合物。
而且作为具有巯基的化合物,例如可以举出乙二醇双(硫代乙醇酸酯)、乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、三羟甲基丙烷(硫代乙醇酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(巯基乙酸酯)、季戊四醇四(硫代乙醇酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)等,但是不一定限于这些化合物。
本发明的硬涂剂组合物中,作为活性能量射线固化性化合物(Bt),既可以仅用一种,也可以两种以上并用。而且并用活性能量射线固化性化合物(Bd)的情况下,作为固化性化合物(Bd),既可以仅用一种,也可以两种以上并用。
而且在硬涂剂组合物中,作为固化性成分除固化性化合物(Bt)及固化性化合物(Bd)以外,也可以在能够维持硬涂层的充分硬度的范围内使用单官能团单体。
含氟聚醚化合物(A)可以用于对硬涂层表面赋予疏水性和/或润滑性。含氟聚醚化合物(A),是具有全氟聚醚部位和至少一个活性能量射线反应性基团的化合物。作为活性能量射线反应性基团,可以举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基。由全氟聚醚部位对硬涂层表面赋予疏水性和/或润滑性。全氟聚醚部位,与氟代烷基(甲基)丙烯酸酯的氟代烷基部位相比,更容易在硬涂层表面上聚集,可以赋予更优良的疏水性和/或润滑性。另一方面,由于具有活性能量射线反应性基团,在使硬涂剂固化时通过照射活性能量射线,在含氟聚醚化合物(A)之间产生交联反应,以及与活性能量射线固化性化合物(Bt)和/或(Bd)产生交联反应,提高在硬涂层中的固定化。其结果,在各种保存条件下和使用条件下,可以形成具有非常优良的防污性和润滑性的硬涂层。
含氟聚醚化合物(A),优选分子内具有两个以上活性能量射线反应性基团的,因为它能提高在硬涂层中的固定化,以及防污性和润滑性。而且含氟聚醚化合物(A)还优选分子两末端分别有活性能量射线反应性基团的,因为它能进一步提高在硬涂层中的固定化,而且更加优选分子两末端分别有两个活性能量射线反应性基团的化合物。
此外,含氟聚醚化合物(A),优选每1000分子量具有一个以上活性能量射线反应性基团的,更优选每1000分子量具有两个以上活性能量射线反应性基团的,特别优选每1000分子量具有四个以上活性能量射线反应性基团的化合物。含氟聚醚化合物(A)的分子量,优选处于500以上和5000以下,更优选处于800以上和3000以下。这些化合物能够提高在硬涂层中的固定化,可以得到耐溶剂性非常优良的硬涂层。
含氟聚醚化合物(A),是以末端具有羟基的含氟聚醚化合物为原料,在此羟基中导入(甲基)丙烯酰基的化合物。作为原料的含氟聚醚化合物,例如可以列举如下。当然并不限于这些。
HOCH2-CF2O-[CF2CF2O]I-[CF2O]m-CF2CH2OH (Z DOL)
F-[CF2CF2CF2O]I-CF2CF2CH2OH (Demnum-SA)
F-[CF(CF3)CF2O]I-CF(CF3)CH2OH (Krytox-OH)
HO(CH2CH2O)n-CH2-CF2O-[CF2CF2O]I-[CF2O]m-CF2CH2(OCH2CH2)nOH (ZdoI-TX)
HOCH2CH(OH)CH2O-CH2-CF2O-[CF2CF2O]I-[CF2O]m-CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH (Z-Tetraol)
作为含氟聚醚化合物(A)的具体实例,可以举出:
每1000分子量具有一个以上活性能量射线反应性基团的有,FomblinZ DOL diacrylate(Fomblin Z DOL(Ausimont公司出品)的末端羟基用丙烯酸酯改性的化合物)和荧石ART-4(共荣社化学制造),
每1000分子量具有两个以上活性能量射线反应性基团的有,荧石ART-3(共荣社化学制造),
每1000分子量具有四个以上活性反应性基团的有,将Fomblin Z-Tetraol(Ausimont公司出品)的四个末端羟基用丙烯酸酯改性的化合物。作为硬涂剂组合物所含的含氟聚醚化合物(A),可以仅用一种或两种以上并用。
本发明的硬涂剂组合物,相对于组合物中的100重量份不挥发成分,优选含有0.01重量份以上、3重量份以下,更优选0.05重量份以上和1重量份以下的含氟聚醚化合物(A)。含氟聚醚化合物(A)含量一旦超过3重量份,虽然润滑性提高但是硬涂层的硬度却容易降低,另一方面当低于0.01重量份时,润滑性的提高效果差。这里所述的不挥发成分,是指固化后残留在硬涂层中的成分,除了含氟聚醚化合物(A)及固化性化合物(B)以外,还可以含有单官能团单体、后述的无机微粒(C)、光聚合引发剂、各种添加剂等任意成分。
本发明的硬涂剂组合物,优选含有平均粒径100nm以下的无机微粒(C)。无机微粒(C)的平均粒径,为了确保硬涂层的透明性起见,应当处于100nm以下,优选20nm以下,但是从胶体溶液制造上的限制来看,优选处于5nm以上。
无机微粒(C)例如是金属(或半金属)氧化物微粒或金属(或半金属)硫化物的微粒。作为无机微粒的金属或半金属,例如可以举出Si、Ti、Al、Zn、Zr、In、Sn、Sb等。而且除氧化物、硫化物以外,还可以使用Se化物、Te化物、氮化物、碳化物。作为无机微粒,例如可以举出氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛等微粒,优选氧化硅微粒。事先将这些无机微粒添加在硬涂剂组合物中,能够进一步提高硬涂层的耐磨性。
上述氧化硅微粒中,优选采用经过具有活性能量射线反应性基团的水解性硅烷化合物进行了表面修饰的。这种反应性氧化硅微粒,在为使硬涂剂固化而照射活性能量射线时,产生交联反应,在聚合物基体中被固定。作为这种反应性氧化硅微粒有特开平9-100111号公报中记载的反应性氧化硅微粒,优选在本发明中使用。
在本发明的硬涂剂组合物中使用无机微粒(C)的情况下,相对于100重量份固化性化合物(B),优选含有5重量份以上、500重量份以下无机微粒(C),更优选含有20重量份以上、200重量份以下无机微粒(C)。无机微粒(C)含量一旦超过500重量份,硬涂层的膜强度就容易减弱,另一方面当低于5重量份的情况下,添加无机微粒(C)产生的硬涂层耐磨性提高的效果小。
本发明的硬涂剂组合物也可以含有公知的光聚合引发剂。光聚合引发剂,当采用电子射线作为活性能量射线的情况下虽然不特别需要,但是在采用紫外线的情况下却是必须的。光聚合引发剂从苯乙酮系、二苯乙醇酮系、二苯甲酮系、噻吨酮系等通常的物质中选择即可。光聚合引发剂中,作为光游离基引发剂,例如可以举出DAROCURE1173、IRGACURE651、IRGACURE184、IRGACURE 907(均为汽巴特殊化学品公司出品)。光聚合引发剂含量,例如在硬涂剂组合物中,相对于上述(A)、(Bt)、(Bd)和(C)的总和为0.5~5重量%左右。
而且在本发明的硬涂剂组合物中,必要时还可以含有非聚合性稀释溶剂、有机填料、阻聚剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、消泡剂、流平剂等。
硬涂剂组合物可以采用常法将上述各成分混合的方式制造。可以将硬涂剂组合物调整到适于涂布的粘度下。综上所述,可以构成本发明的硬涂剂组合物。
以下参照附图,说明使用上述硬涂剂组合物的本发明的光信息介质(以下简记作光盘)及其制造方法。
本发明的光信息介质,在支持基体上具有至少包含记录层或反射层、由一层或数层构成的膜体,所述的支持基体侧表面及所述的膜体侧表面中至少一个表面,是由包含所述的硬涂剂组合物的固化物的硬涂层形成的。本发明的光信息介质中,所述的支持基体侧表面及所述的膜体侧表面中至少一个表面中,优选记录/再生光束入射侧的表面最好由所述的硬涂剂组合物的固化物构成的硬涂层形成。
1.以膜体侧表面为记录/再生光束入射侧表面的光信息介质
首先说明以膜体侧表面作为记录/再生光束入射侧表面的光信息介质。
图1是表示本发明的光盘的层结构一例的断面示意图。这种光盘是记录介质,在刚性较高的支持基体(20)上具有作为信息记录层的记录层(4),在记录层(4)上有透光层(7),在透光层(7)上有透光性硬涂层(8)。硬涂层(8)被定作记录/再生光束入射侧,记录或再生用的激光光束通过硬涂层(8)和透光层(7),入射到记录层(4)上。透光层(7)的厚度,包括硬涂层(8)在内优选为30~150微米,更优选70~150微米。这种光盘例如是蓝色射线光盘。硬涂层(8)侧的铅笔硬度试验值处于B以上。
其中虽然没有在图中示出,但是在记录层(4)上借助于隔离层再设设置记录层,具有两层以上述记录层的光盘,也被包括在本发明范围之内。这种情况下,光盘在距离支持基体(20)最远的记录层上具有透光层(7)和硬涂层(8)。
本发明能够适用于各种记录层。也就是说,例如无论是相变型记录介质,凹坑形成型记录介质,还是光磁记录介质,都能适用。其中以记录层的保护和光学效果为目的,通常在记录层的至少一侧设置电介质层和反射层,但是图1中省略的对其的图示。而且本发明并不限于图示的那种可记录型的,也能用于再生专用型上。这种情况下,与支持基体(20)一体形成凹坑列,覆盖该凹坑列的反射层(金属层或电介质多层膜)构成信息记录层。
以下说明本发明的相变型记录介质情况下的光信息介质。
图2是表示本发明光盘层结构一例的断面示意图。图2中,光盘在支持基体(20)的形成了信息凹坑和预制纹道等微细凹凸的侧面上,依次有反射层(3)、第二电介质层(52)、相变记录材料层(4)及第一电介质层(51),在第一电介质层(51)上有透光层(7),在透光层(7)上有硬涂层(8)。本例中由反射层(3)、第二电介质层(52)、相变记录材料层(4)及第一电介质层(51)构成信息记录层。而且所述的信息记录层和透光层(7),构成记录或再生所必须的膜体。这种光盘中,通过硬涂层(8)和透光层(7),即从膜体侧入射记录或再生用的激光光线。
支持基体(20)厚度为0.3~1.6毫米,优选厚度为0.4~1.3毫米,在形成记录层(4)的侧面上形成信息凹坑和预制纹道等微细凹凸。
作为支持基体(20),由于像上述那样使激光光线从膜体侧入射,所以不必是光学上透明的,但是作为透明材料可以使用聚碳酸酯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)等丙烯系树脂、聚烯烃树脂等各种塑料材料等。或者也可以使用玻璃、陶瓷、金属等。凹凸图案,在采用塑料材料的情况下,大多采用注塑成形的方式制成的,而在采用塑料材料以外材料的情况下,可以用光聚合物法(2P法)成形。
通常用溅射法在支持基体(20)上形成反射层(3)。可以单独采用或者并用金属元素、半金属元素、半导体元素或其化合物等作为反射层的材料。具体讲,例如从Au、Ag、Cu、Al、Pd等公知的反射层材料中选择即可。反射层优选以厚度为20~200nm的膜厚形成。
利用溅射法,在反射层(3)上,或者当没有反射层的情况下直接在支持基体(20)上依次形成第二电介质层(52)、相变记录材料层(4)及第一电介质层(51)。
相变记录材料层(4)由照射激光光线时在结晶状态与无定形状态之间发生可逆变化,在两种状态之间光学特性不同的材料形成。例如可以举出Ge-Sb-Te、In-Sb-Te、Sn-Se-Te、Ge-Te-Sn、In-Se-Tl、In-Sb-Te等。此外,既可以在这些材料中添加微量的从Co、Pt、Pd、Au、Ag、Ir、Nb、Ta、V、W、Ti、Cr、Zr、Bi、In等中选出的至少一种金属元素,也可以添加微量氮气等还原性气体。记录材料层(4)的厚度没有特别限制,例如为3~50纳米左右。
第二电介质层(52)及第一电介质层(51),在记录材料层(4)的上下两面将其夹持形成。第二电介质层(52)及第一电介质层(51),具有机械、化学保护记录材料层(4),同时还具有调整光学特性的干涉层的功能。第二电介质层(52)及第一电介质层(51),可以分别由单层形成,也可以由多层形成。
第二电介质层(52)及第一电介质层(51),优选分别由含有从Si、Zn、Al、Ta、Ti、Co、Zr、Pb、Ag、Zn、Sn、Ca、Ce、V、Cu、Fe、Mg等中选出的至少一种金属的氧化物、氮化物、硫化物、氟化物或其复合物形成。而且第二电介质层(52)及第一电介质层(51)各自的消光系数K,优选处于0.1以下。
第二电介质层(52)的厚度虽然没有特别限制,但是例如优选为20~150纳米左右。第一电介质层(51)的厚度虽然没有特别限制,但是例如优选为20~200纳米左右。通过在此范围内选择两个电介质层(52)、(51)的厚度,能够调整反射。
采用活性能量射线固化性材料或者聚碳酸酯等透光性片材,在第一电介质层(51)上形成透光层(7)。
作为透光层(7)用的活性能量射线固化性材料,应当满足光学上透明、在所使用的激光光线波长区域内的光学吸收和反射少、双折射率小等条件,因此从紫外线固化性材料和电子射线固化性材料中选择。
具体讲,活性能量射线固化性材料,优选由紫外线(电子射线)固化性化合物及其聚合物用组合物构成。作为这种材料可以举出丙烯酸和甲基丙烯酸的酯化物、环氧丙烯酸酯、以及分子中含有或者向其中导入了尿烷丙烯酸酯等丙烯酸系双键、二烯丙基苯二甲酸酯等烯丙基系双键、马来酸衍生物等不饱和双键等经过紫外线照射而交联或聚合的基团的单体、低聚物及聚合物等。这些化合物优选多官能团的,特别优选三官能团以上的,可以使用一种或者两种以上并用。而且根据需要还可以使用单官能团的。
作为紫外线固化性单体适宜使用分子量低于2000的化合物,而且作为低聚物适宜使用分子量为2000~10000的化合物。作为这些单体例如可以举出苯乙烯、丙烯酸乙酯、乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、二甘醇甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯等。其中作为特别优选的是季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、苯酚环氧乙烷加成的(甲基)丙烯酸酯等。此外作为紫外线固化性低聚物,可以举出低酯基丙烯酸酯和尿烷弹性体的丙烯酸改性物等。
紫外线(电子射线)固化性材料也可以含有公知的光聚合引发剂。光聚合引发剂,在使用电子射线作为活性能量射线的情况下并不特别需要,而在使用紫外线的情况下才变得必要。光聚合引发剂,可以从从苯乙酮系、二苯乙醇酮系、二苯甲酮系、噻吨酮系等通常的光聚合引发剂中选择。光聚合引发剂中,作为光游离基引发剂例如可以举出DAROCURE1173、IRGACURE651、IRGACURE184、IRGACURE907(均为汽巴特殊化学品公司出品)。光聚合引发剂含量,例如相对于上述紫外线(电子射线)固化性成分占0.5~5重量%左右。
作为紫外线固化性材料,也可以适当使用含有环氧化合物和光致阳离子聚合性催化剂的组合物。作为环氧化合物,优选脂环式环氧化合物,特别优选分子内有两个以上环氧基的化合物。作为脂环式环氧化合物,优选3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己烷甲酸酯、双(3,4-环氧环己基甲基)己二酸酯、双(3,4-环氧环己基)己二酸酯、2-(3,4-环氧环己基-5,5-螺-3,4-环氧)环己烷-偏-二烷、双(2,3-环氧环戊基)醚、乙烯基环己烯二氧化物等中的一种以上物质。对于脂环式环氧化合物的环氧当量虽然没有特别限制,但是从可以得到良好的固化性来看,环氧当量优选为60~300,特别优选为100~200。
光致阳离子聚合性催化剂可以使用公知的任何产品而无特别限制。例如可以使用一种以上的金属氟硼酸盐及三氟化硼络合物、双(全氟烷基磺酰基)甲烷金属盐、芳基二偶氮化合物、6A族元素的芳香族盐、5A族元素的芳香族盐、3A~5A族元素的二羰基螯合物、噻喃盐、具有MF6阴离子(其中M是P、As或Sb)的6A族元素、三芳基锍络盐、芳香族碘络盐、芳香族锍络盐等,特别优选使用多芳基锍络盐、含卤络离子的芳香族锍盐或碘盐、3A族元素、5A族元素及6A族元素的芳香族盐中一种以上物质。光致阳离子聚合性催化剂含量,例如相对于所述的紫外线固化性成分为0.5~5重量%左右。
作为这种透光层用的活性能量射线固化性材料,优选具有1000~10000厘泊粘度(25℃)的。
形成透光层(7)时,采用旋涂法在第一电介质层(51)上涂布活性能量射线固化性材料的方式进行即可。对涂布后的固化性材料照射紫外线使其固化即可。此时的紫外线照射也可以分数次进行。而且活性能量射线固化性材料的涂布操作也可以分数次进行,在各涂布操作后进行紫外线照射也可以。分数次进行紫外线照射使树脂分阶段固化的情况下,可以减小一次性地作用在光盘上的因固化收缩而产生的应力,使最终作用在光盘上的应力减小。其结果,即使在透光层(7)的厚度像上述那样厚,也能制成机械特性优良的盘,因而优选。
或者在本发明中也可以采用透光性树脂片材形成透光层。这种情况下,在第一电介质层(51)上涂布与透光层用同样的活性能量射线固化性材料,形成未固化的树脂材料层。在未固化的树脂材料层上,放置作为透光层(7)的透光性片材,然后照射紫外线等活性能量射线,使树脂材料层固化,这样将透光性片材粘着后制成透光层(7)。作为这种树脂材料层用的活性能量射线固化性材料,优选具有3~500厘泊粘度(25℃)的。树脂材料层的涂布也可以采用旋涂法进行。树脂材料层的厚度,例如固化性后处于1~50微米左右即可。
可以使用例如具有从50~300微米中选出的所需厚度的聚碳酸酯片材作为透光性片材。透光层(7)的形成,更具体讲,在真空中(0.1大气压以下),将具有所需厚度的聚碳酸酯片材放置在未固化的树脂材料层上,然后恢复到大气压气氛下,通过照射紫外线使树脂材料层固化。
用上述硬涂剂组合物在透光层(7)上形成硬涂层(8)。也就是说,在透光层(7)上涂布上述硬涂剂组合物,形成未固化的硬涂层,然后照射紫外线、电子射线、可见光等活性能量射线使未固化层固化,形成硬涂层(8)。
涂布方法并无特别限制,可以采用旋涂法、浸涂法、凹版印刷法等各种涂布方法。或者在使用透光性片材作为透光层(7)的情况下,也可以事先采用与上述同样方法在长的透光性片材原料上形成硬涂层(8),将此原料冲压成盘状后,像上述那样放置在未固化的树脂材料层上使树脂材料层固化。
上述硬涂剂组合物含有非反应性稀释用有机溶剂的情况下,涂布上述硬涂剂组合物形成未固化的硬涂层后,利用加热干燥除去非反应性有机溶剂,其后照射活性能量射线使未固化层固化,制成硬涂层(8)。通过用稀释用有机溶剂涂布硬涂剂组合物后,加热干燥除去有机溶剂,含氟聚醚化合物(A)容易更多地集中在靠近未固化的硬涂层表面附近,含氟聚醚在固化后的硬涂层(8)的表面附近存在的更多,因而容易获得润滑性提高的更大的效果。作为此时加热干燥的温度,例如优选40℃以上、100℃以下。加热干燥时间例如为30秒钟以上、8分钟以下,优选1分钟以上、5分钟以下,更优选3分钟以上、5分钟以下。作为非反应性稀释用有机溶剂并无特别限制,可以使用丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、乙二醇单甲醚、乙酸丁酯、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、异丙醇等。作为活性能量射线虽然在紫外线、电子射线、可见光等活性能量射线中适当选择使用即可,但是优选紫外线或电子射线。固化后硬涂层(8)的膜厚为0.5~5微米左右。
综上所述,能够以膜体侧是记录/再生光束入射侧的光信息介质形式得到图2所示的相变型光记录光盘。
2.以支持基体侧表面为记录/再生光束入射侧表面的光信息介质
其次说明以支持基体侧表面作为记录/再生光束入射侧表面的光信息介质。
图3是表示本发明光盘的其他层结构一例的断面示意图。图3所示的光盘是在透光性支持基体(20)的一面上具有信息记录层(4),在记录层(4)上有保护层(6),在支持基体(20)的另一面上有透光性硬涂层(8)。硬涂层(8)被定作记录/再生光束入射侧,记录或再生用的激光光束通过硬涂层(8)和支持基体(20)入射到记录层(4)上。
图4是表示本发明光盘其他层结构一例的断面示意图。图4所示的光记录盘,在透光性支持基体(20)的一面上有有机色素层(4)、在色素层(4)上的反射层(3)、和借助于保护和粘着层(61)粘合在反应层(3)上的支持基体(31),在支持基体(20)的另一面上有透光性硬涂层(8),以硬涂层(8)作为记录/再生光束入射侧。本例中由色素层(4)和反射层(3)构成信息记录层。这种光盘形式有追记型的DVD-R。
除了图4所示的追记型DVD-R以外,再生专用型的DVD-ROM、可重写型的DVD-RAM、DVD-RW等各种光盘已经商品化。作为再生专用型的DVD,有DVD-Video和DVD-ROM等,这些光盘中在透光性支持基体形成时,形成被称为记录了信息信号的凹坑的凹凸,在其上形成A1等金属反射层,进而形成保护层。借助于粘着剂将其他支持基体粘合在保护层上,制成最终的光盘。在可重写型DVD的情况下,与就上述“1.的相变型记录介质”所做的说明同样构成信息记录层即可。
可以使用透光性基板作为支持基体(20)。透光性支持基体(20),过去虽然是采用将聚碳酸酯注塑成形的方式,在其表面上形成例如预制凹坑和预制纹道等各种信息,但是使用的材料并不限于此,优选采用聚烯烃系树脂等树脂等。或者也可以采用2P法在平板玻璃上形成预制凹坑和预制纹道的方式得到。
用旋涂法在支持基体(20)上涂布溶解在溶剂中的有机色素,干燥后形成目的膜厚的有机色素层(4)。作为有机色素,可以从各种花菁苷色素、偶氮色素和酞菁色素中选择。色素层的形成方法,除旋涂法以外,还可以使用喷射法、丝网印刷法以及蒸镀法等,形成的膜厚可以根据使用的色素适当选择。
采用旋涂法的情况下,将色素成分溶解在溶剂中制成有机色素溶液使用,作为溶剂选择使用能够充分溶解色素而且对透过性基板不产生有害影响的溶剂。浓度优选处于0.01~10重量%左右。
作为溶剂,例如可以举出甲醇、乙醇、异丙醇、八氟戊醇、烯丙醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、四氟丙醇等醇类,己烷、庚烷、辛烷、癸烷、环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷、二甲基环己烷等脂肪族或脂环族烃类溶剂,甲苯、二甲苯、苯等芳香族烃类溶剂,四氯化碳、氯仿、四氯乙烷、二溴乙烷等卤代烃类溶剂,二乙基醚、二丁基醚、二异丙基醚、二烷等醚类溶剂,3-羟基-3-甲基-2-丁酮等酮类溶剂,乙酸乙酯、乙酸甲酯等酯类溶剂,以及水等。这些溶剂中,可以使用不腐蚀基板材料的。这些溶剂可以单独使用或者两种以上混合使用。
有机色素层的膜厚没有特别限制,但是优选10~300纳米左右,特别优选60~250纳米左右。
在有机色素层(4)上设置反射层(3)。作为反射层的材料,使用再生光线波长下反射率足够高的,例如单独或者以合金形式使用Au、Ag、Cu、Al、Ni、Pd、Cr、Pt等元素。而且除了上述的以外,还可以含有下述物质。例如可以举出Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金属或半金属。
反射层的形成方法,例如可以举出溅射法、离子镀法、化学蒸镀法、真空蒸镀法等,但是并不限于这些方法。而且为了提高反射率和改善记录特性,也可以在基板之上和反射层之下设置公知的无机系或有机系中间层、粘着层。反射层的膜厚并无特别限制,但是优选为10~300nm左右,更优选80~200nm左右。
通常借助于保护和粘着层(61)将支持基体(21)粘合在反射层(3)上。支持基体(21)使用与上述支持基体(20)同样的基体。作为粘着层(61)的材料,只要是能够将两个基体(21)与(20)粘着起来,保护反射层以免受外力影响的就无特别限制,可以使用公知的有机物质或无机物质。作为有机物质可以举出热塑性树脂、热固性树脂、紫外线固化性树脂等。而且作为无机物质,可以举出SiO2、SiN4、MgF2、SnO2等。通过将热塑性树脂、热固性树脂等溶解在适当溶剂中,涂布涂布液后,干燥,能够形成。紫外线固化性树脂能够按照直接或者溶解在适当溶剂中制成涂布液后涂布此涂布液,照射紫外线使其固化的方式形成。作为紫外线固化性树脂,例如可以使用尿烷丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯基丙烯酸酯等丙烯酸酯树脂。这些材料既可以单独使用或者混合使用,还可以使用不止一层而是多层膜。
作为保护和粘着层(61)的形成方法,与记录层同样可以采用旋涂法和浇注法等涂布方法,以及溅射法和化学蒸镀法等方法。
而且粘合用的粘着剂,可以使用热熔型粘着剂、紫外线固化型粘着剂、热固化型粘着剂、粘着型粘着剂等;作为其各自的涂布方法,例如可以举出辊涂法、丝网印刷法、旋涂法等,在DVD-R的情况下从操作性和生产性、盘特性等综合性能考虑,使用紫外线固化性粘着剂,以及丝网印刷法和旋涂法。
另一方面,在支持基体(21)的另一面上形成透光性硬涂层(8)。硬涂层(8)的材料及形成,与“1.”中所述的相同。硬涂层(8)作为记录/再生光束入射侧。作为记录/再生光束,可以使用650或660nm波长的激光光束。而且可以使用蓝色激光光束。
综上所述,可以以支持基体侧表面作为记录/再生入射侧表面的光信息介质形式得到图4所示的DVD-R。
实施例
以下列举实施例进一步具体说明本发明,但是本发明并不限于这些实施例上。
[实施例1]
按如下方法制造图2所示层结构的光记录盘样品。
在形成了信息记录用凹槽的盘状支持基体(20)(聚碳酸酯制,直径120毫米,厚度1.1毫米)的凹槽形成面上,利用溅射法形成了由Al98Pd1Cu1(原子比)组成的厚度100内米的反射层(3)。所述的凹槽深度设定为用波长λ=405nm的光程表示为λ/6。凹槽记录方式中的记录轨道间距为0.32微米。
然后,以Al2O3为靶,利用溅射法在反射层(3)的表面上形成了厚度20nm的第二电介质层(52)。采用由相变材料形成的合金靶和溅射法,在第二电介质层(52)表面上形成了厚度12纳米的记录层(4)。记录层(4)的组成(原子比)为Sb74Te18(Ge7In1)。采用ZnS(80摩尔%)-SiO2(20摩尔%)靶,利用溅射法,在记录层(4)的表面上形成了厚度130纳米的第一电介质层(51)。
接着,利用旋涂法在第一电介质层(51)表面上涂布下记组成的游离基聚合性紫外线固化性材料,以照射强度160W/cm、与灯的距离为11厘米和积分光量为3J/cm2照射紫外线,按照使固化后的厚度达到98微米的方式形成了透光层(7)。
(透光层:紫外线固化性材料的组成)
尿烷丙烯酸酯低聚物
(三菱Rayon(株)制,Diabeam UK6035) 50重量份
三聚异氰酸EO改性的三丙烯酸酯
(东亚合成(株)制,Aronix M315) 10重量份
三聚异氰酸EO改性的二丙烯酸酯
(东亚合成(株)制,Aronix M215) 5重量份
四氢糠基丙烯酸酯 25重量份
光聚合引发剂(1-羟基环己基苯基酮) 3重量份
然后利用旋涂法在透光层(7)上涂布以下组成的紫外线/电子射线固化性硬涂剂制成覆膜,在大气中60℃下加热3分钟来除去覆膜内部的稀释溶剂,然后以照射强度160W/cm、与灯的距离为11厘米和积分光量为3J/cm2照射紫外线,形成了固化后的厚度为2微米的硬涂层(8)。
(硬涂剂的组成)
反应性基修饰胶体氧化硅1 00重量份
(分散剂:丙二醇单甲醚乙酸酯,不挥发成分:40重量%)
二季戊四醇六丙烯酸酯 48重量份
1,6-己二醇二丙烯酸酯 12重量份
丙二醇单甲醚乙酸酯 40重量份
(非反应性稀释溶剂)
光聚合引发剂 2.5重量份
(1-羟基环己基苯基酮)
全氟聚醚二丙烯酸酯 0.3重量份
ART-4(共荣社化学制,分子量Mw约2000)
按照以上方式制作了盘样品。
[实施例2]
除了用0.3重量份全氟聚醚二丙烯酸酯ART-3(共荣社化学制,分子量Mw约1000)代替硬涂剂组成中的0.3重量份ART-4以外,与实施例1同样制作了盘样品。
[实施例3]
除了用0.3重量份Fombrin Z-Tetraol(Ausimont公司出品)的四个末端羟基用丙烯酸酯改性的化合物(分子量Mw约1000)来代替硬涂剂组成中的ART-4 0.3重量份以外,与实施例1同样制作了盘样品。
[实施例4]
除了用0.3重量份Demnum-SA(Daikin工业(株)制造的末端羟基被丙烯酸酯改性的物质)来代替硬涂剂组成中的ART-4 0.3重量份以外,与实施例1同样制作了盘样品。
[对照例1]
除了用0.3重量份Demnum-SY(全氟聚醚(Daikin工业(株)制造,末端仅有一个羟基,分子量Mw约3600)来代替硬涂剂组成中的0.3重量份ART-4以外,与实施例1同样制作了光盘样品。
[对照例2]
除了用0.3重量份含氟交联型表面活性剂M-2020(2-(全氟癸基)乙基甲基丙烯酸酯,Daikin化成销售(株))来代替硬涂剂组成中的0.3重量份ART-4以外,与实施例1同样地制作了盘样品。
[对照例3]
除了在硬涂剂组合物中未配入0.3重量份ART-4以外,与实施例1同样地制作了盘样品。
[盘样品的评价]
就实施例1~4和对照例1~3中制作的盘样品进行了以下所示的性能试验。
(防污性及其耐久性的评价)
测定了各盘样品硬涂层表面的接触角。以纯水作为测定液用协和表面科学(株)制造的接触角测定仪FACE CONTACT-ANGLEMETER测定了静止接触角。测定环境为,温度为20℃,相对湿度为60%。首先,测定了初期接触角(a)。
然后作为防污耐久性评价,测定了擦拭丙酮后的接触角(b)和高温保存后的接触角(c)。关于擦拭丙酮后的接触角(b),在无纺布(旭化成工业(株)制造,Bemcot Lint-Free CT-8)中浸透丙酮,将其以1000克/平方厘米载荷压在各盘样品的硬涂层表面上,往返滑动100次后,在与上述同样条件下测定了接触角。关于高温保存后的接触角(c),是将各盘样品在80℃(干燥环境下)保存500小时后,在与上述同样条件下测定了接触角。
(硬度评价)
按照JIS K5400测定了各盘样品的硬涂层表面的铅笔硬度。
以上测定结果示于表1之中。
从表1表明,实施例1~4的盘样品,不但都能保持硬涂层表面的硬度,而且防污性和其耐久性均优良。特别是采用全氟聚醚四丙烯酸酯的实施例3的盘样品,其防污耐久性优良。
上述实施例中,示出了在相变型光盘上赋予硬涂层的情况。然而,本发明的记录层不仅适用于相变型的光盘,而且也能适用于再生专用型光盘和追记型光盘。此外,本发明不仅能在光盘上,而且还能在其他各种物体上赋予硬涂层。因此,上述的实施例全部只不过是简单的例示,对于解释并无限定作用。不仅如此,属于专利权利要求范围内的各种变更,全部处于本发明的范围之内。
表1
接触角(度) | ||||
盘 | 初期(a) | 丙酮擦拭后(b) | 高温保存后(c) | 铅笔硬度 |
实施例1 | 103 | 65 | 103 | H |
实施例2 | 95 | 93 | 93 | H |
实施例3 | 105 | 105 | 105 | H |
实施例4 | 96 | 93 | 82 | H |
对照例1 | 76 | 65 | - | H |
对照例2 | 66 | - | - | H |
对照例3 | 64 | - | - | H |
Claims (20)
1.一种硬涂剂组合物,其中含有具有活性能量射线反应性基团的含氟聚醚化合物(A),和分子内有两个或三个以上活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(B)。
2.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中相对于100重量份组合物中的不挥发成分,含有0.01重量份以上、3重量份以下的含氟聚醚化合物(A)。
3.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中以所述的固化性化合物(B)作基准计,所述固化性化合物(B)含有65~100重量%的分子内有三个以上活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(Bt),和0~35重量%的分子内有两个活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(Bd)。
4.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),在分子内具有两个以上活性能量射线反应性基团。
5.按照权利要求4所述的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),在分子的两个末端具有活性能量射线反应性基团。
6.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),在每1000分子量中具有一个以上活性能量射线反应性基团。
7.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),在每1000分子量中具有两个以上活性能量射线反应性基团。
8.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),在每1000分子量中具有四个以上活性能量射线反应性基团。
9.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A)具有的活性能量射线反应性基团,是从(甲基)丙烯酰基及乙烯基中选出的。
10.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),是在末端有羟基的含氟聚醚化合物的羟基上,导入了(甲基)丙烯酰基的化合物。
11.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中所述的含氟聚醚化合物(A),是具有全氟聚醚部位的化合物。
12.按照权利要求1所述的硬涂剂组合物,其中还含有平均粒径100nm以下的无机微粒(C)。
13.按照权利要求12所述的硬涂剂组合物,其中相对于100重量份固化性化合物(B),含有5重量份以上、500重量份以下的无机微粒(C)。
14.按照权利要求12所述的硬涂剂组合物,其中所述的无机微粒(C)是金属(或半金属)氧化物微粒或金属(或半金属)硫化物微粒。
15.按照权利要求12所述的硬涂剂组合物,其中所述的无机微粒(C)是氧化硅微粒。
16.按照权利要求12所述的硬涂剂组合物,其中所述的无机微粒(C),是经具有活性能量射线反应性基团的水解性硅烷化合物表面修饰过的微粒。
17.一种物体,其表面上被赋予硬涂层,所述硬涂层中包含权利要求1中所述的硬涂剂组合物的固化物。
18.一种光信息介质,是在支持基体上具有至少包括记录层或反射层、由一层或多层构成的膜体的光信息介质,所述的支持基体侧表面及所述的膜体侧表面中至少一个表面,由包含权利要求1中所述的硬涂剂组合物的固化物的硬涂层所形成。
19.按照权利要求18所述的光信息介质,其中所述的支持基体侧表面及所述的膜体侧表面中作为光线入射侧的表面,由所述的硬涂层形成。
20.一种光信息介质,其中在支持基体上具有信息记录层、和信息记录层上的光线透光层,在光线透光层上具有包含权利要求1所述的硬涂剂组合物的固化物的硬涂层。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003345523A JP4590849B2 (ja) | 2003-10-03 | 2003-10-03 | ハードコート剤組成物及びこれを用いた光情報媒体 |
JP345523/2003 | 2003-10-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1863881A true CN1863881A (zh) | 2006-11-15 |
CN100471923C CN100471923C (zh) | 2009-03-25 |
Family
ID=34386343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2004800287631A Expired - Fee Related CN100471923C (zh) | 2003-10-03 | 2004-09-24 | 硬涂剂组合物和采用其的光信息介质 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7074472B2 (zh) |
JP (1) | JP4590849B2 (zh) |
CN (1) | CN100471923C (zh) |
DE (1) | DE112004001757B4 (zh) |
WO (1) | WO2005033231A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103102793A (zh) * | 2011-09-30 | 2013-05-15 | Tdk株式会社 | 硬涂层剂组合物和使用其的硬涂层薄膜 |
Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060126484A1 (en) * | 2004-11-12 | 2006-06-15 | Flexplay Technologies, Inc. | Optical media, read inhibiting agents and methods of making and using same |
AU2003302062A1 (en) * | 2002-11-18 | 2004-06-15 | Asahi Glass Company, Limited | Optical disc having hard-coat layer to which sebum stain proofness is imparted |
US7132146B2 (en) * | 2003-05-09 | 2006-11-07 | Tdk Corporation | Optical recording medium |
JP4478430B2 (ja) * | 2003-10-20 | 2010-06-09 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 | 光ディスク保護膜用組成物 |
JP4779293B2 (ja) * | 2003-10-21 | 2011-09-28 | Tdk株式会社 | ハードコート剤組成物及びこれを用いた光情報媒体 |
JP4319522B2 (ja) * | 2003-10-31 | 2009-08-26 | Tdk株式会社 | 光情報媒体 |
JP4703180B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2011-06-15 | リンテック株式会社 | コーティング用組成物、ハードコートフィルムおよび光記録媒体 |
CA2593694A1 (en) * | 2004-12-30 | 2006-07-13 | 3M Innovative Properties Company | Articles comprising a fluorochemical surface layer and related methods |
AU2005322928B2 (en) * | 2004-12-30 | 2011-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Stain-resistant fluorochemical compositions |
US20060216524A1 (en) | 2005-03-23 | 2006-09-28 | 3M Innovative Properties Company | Perfluoropolyether urethane additives having (meth)acryl groups and hard coats |
US7684309B2 (en) | 2005-11-03 | 2010-03-23 | Cinram International Inc. | Multi-purpose high-density optical disc |
US8675464B2 (en) * | 2005-11-03 | 2014-03-18 | Cinram Group, Inc. | Dual sided optical storage media and method for making same |
US7986611B1 (en) | 2007-03-22 | 2011-07-26 | Cinram International Inc. | High-density optical recording media and method for making same |
US20070134463A1 (en) * | 2005-12-09 | 2007-06-14 | General Electric Company | Storage media and associated method |
US7910191B1 (en) | 2006-03-09 | 2011-03-22 | Cinram International Inc. | Method for forming light-transmitting cover layer for optical recording medium |
US20110096655A1 (en) * | 2006-03-09 | 2011-04-28 | Cinram International Inc. | Forming light-transmitting cover layer for recording medium |
US20070244289A1 (en) * | 2006-04-13 | 2007-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Method of making urethane based fluorinated monomers |
US7722955B2 (en) * | 2006-04-13 | 2010-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Flooring substrate having a coating of a curable composition |
US7537828B2 (en) * | 2006-06-13 | 2009-05-26 | 3M Innovative Properties Company | Low refractive index composition comprising fluoropolyether urethane compound |
US7575847B2 (en) * | 2006-06-13 | 2009-08-18 | 3M Innovative Properties Company | Low refractive index composition comprising fluoropolyether urethane compound |
US20080020170A1 (en) * | 2006-07-19 | 2008-01-24 | Haubrich Jeanne E | Substrate possessing a transparent protective layer derived from a radiation-curable acrylate composition |
US20080124555A1 (en) | 2006-11-29 | 2008-05-29 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable composition comprising perfluoropolyether urethane having ethylene oxide repeat units |
US20080223743A1 (en) * | 2007-03-12 | 2008-09-18 | Gary Lenkeit | Ecofriendly package for CDs and DVDs |
US8728623B2 (en) | 2007-08-31 | 2014-05-20 | 3M Innovative Properties Company | Hardcoats having low surface energy and low lint attraction |
US7946015B1 (en) | 2007-11-07 | 2011-05-24 | Cinram International Inc. | Method and apparatus for separating dummy disc from multi-layer substrate for optical storage medium |
US20090127142A1 (en) * | 2007-11-15 | 2009-05-21 | Jeff Rothstein | Optical disc enclosure incorporating fragrance atomizer |
JP2009215296A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Daikin Ind Ltd | フルオロエーテルアルコール、フルオロエーテルカルボン酸エステル、及び、フルオロエーテルカルボン酸 |
US20100151104A1 (en) * | 2008-10-27 | 2010-06-17 | Pepsico, Inc. | Preservative System For Beverages Based On Combinations Of Trans-Cinnamic Acid, Lauric Arginate, And Dimethyl Dicarbonate |
JP5760308B2 (ja) * | 2009-10-29 | 2015-08-05 | Dic株式会社 | 反射防止塗料組成物及び反射防止フィルム |
GB0919014D0 (en) | 2009-10-30 | 2009-12-16 | 3M Innovative Properties Co | Soll and stain resistant coating composition for finished leather substrates |
US8739299B1 (en) | 2009-12-24 | 2014-05-27 | Cinram Group, Inc. | Content unlocking |
JP5680503B2 (ja) * | 2011-08-08 | 2015-03-04 | 尾池工業株式会社 | 積層体 |
WO2013146778A1 (ja) | 2012-03-27 | 2013-10-03 | 三菱化学株式会社 | コーティング塗料用樹脂組成物 |
JP2013237772A (ja) * | 2012-05-15 | 2013-11-28 | Jsr Corp | スプレー塗工用硬化性組成物及び硬化膜の形成方法 |
JP6080154B2 (ja) * | 2012-10-18 | 2017-02-15 | オリジン電気株式会社 | 耐指紋性ハードコート塗料及びそれを塗布した部材・物品 |
JP6276211B2 (ja) | 2014-05-30 | 2018-02-07 | リケンテクノス株式会社 | 透明樹脂積層体 |
JP6653988B2 (ja) * | 2014-08-06 | 2020-02-26 | リケンテクノス株式会社 | 正面パネル構成用多層樹脂シート |
JP6153977B2 (ja) | 2014-10-02 | 2017-06-28 | リケンテクノス株式会社 | 粘着フィルム |
JP6506018B2 (ja) * | 2014-12-23 | 2019-04-24 | リケンテクノス株式会社 | ガスバリア性フィルム |
JP6862183B2 (ja) * | 2016-01-18 | 2021-04-21 | リケンテクノス株式会社 | ハードコート積層フィルム |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0069133B2 (en) | 1981-01-15 | 1990-04-11 | Battelle Development Corporation | Photo setting composition for coating substrates with an abrasion-resistant transparent or translucent film |
US4440918A (en) * | 1982-01-18 | 1984-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Contact lens containing a fluorinated telechelic polyether |
JPS63161008A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-04 | Daikin Ind Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
DE4324947A1 (de) * | 1993-07-24 | 1995-01-26 | Basf Lacke & Farben | Nichtwäßrige Lacke |
JP3360940B2 (ja) * | 1994-05-20 | 2003-01-07 | 三菱レイヨン株式会社 | 光ディスク用コーティング材および光ディスク |
US5518788A (en) * | 1994-11-14 | 1996-05-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic hard coat incorporating a polymer comprising pendant fluorinated groups |
DE69531001T2 (de) | 1995-01-30 | 2004-03-25 | Dsm Ip Assets B.V. | Fluoriertes urethan-oligomer enthaltende strahlungshärtbare zusammensetzung |
JP3474330B2 (ja) | 1995-10-03 | 2003-12-08 | Jsr株式会社 | 反応性シリカ粒子、その製法および用途 |
US5834564A (en) * | 1996-04-30 | 1998-11-10 | Hewlett-Packard Company | Photoconductor coating having perfluoro copolymer and composition for making same |
JPH10110118A (ja) | 1996-08-13 | 1998-04-28 | Toray Ind Inc | 防汚性ハードコート剤および光記録媒体 |
JP4267088B2 (ja) * | 1997-09-05 | 2009-05-27 | パナソニック株式会社 | 反射防止膜用塗料及び該反射防止膜用塗料を用いた低反射材 |
JPH11161959A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-06-18 | Canon Inc | 可視情報記録層付き光カードおよび可視情報記録方法 |
JPH11213444A (ja) | 1998-01-30 | 1999-08-06 | Sony Corp | 光記録媒体 |
US6589650B1 (en) * | 2000-08-07 | 2003-07-08 | 3M Innovative Properties Company | Microscope cover slip materials |
JPH11293159A (ja) * | 1998-04-09 | 1999-10-26 | Toray Ind Inc | 光記録媒体用ハードコート剤および光記録媒体 |
JP4125823B2 (ja) * | 1998-06-18 | 2008-07-30 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止膜および画像表示装置 |
JP4590758B2 (ja) | 2000-04-10 | 2010-12-01 | Tdk株式会社 | 光情報媒体 |
AU2001281141B2 (en) * | 2000-08-07 | 2005-09-01 | 3M Innovative Properties Company | Information display protectors |
TW526213B (en) * | 2000-08-29 | 2003-04-01 | Daikin Ind Ltd | Curable fluorine-containing polymer, curable resin composition prepared from same and reflection reducing film |
JP2002117584A (ja) * | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Sony Corp | 光学記録媒体およびその製造方法 |
JP3702944B2 (ja) * | 2000-10-16 | 2005-10-05 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテル変性アミノシラン及び表面処理剤並びに該アミノシランの硬化皮膜が形成された物品 |
JP4401049B2 (ja) | 2000-12-11 | 2010-01-20 | 旭硝子株式会社 | 硬化性組成物、硬化被膜および被覆基材 |
EP1411073B1 (en) | 2001-06-27 | 2013-03-20 | Daikin Industries, Ltd. | Surface-treating agent composition and process for producing the same |
CN100358713C (zh) * | 2001-12-26 | 2008-01-02 | Tdk株式会社 | 带有复合硬膜层的物体以及复合硬膜层的形成方法 |
JP2003257076A (ja) * | 2002-03-04 | 2003-09-12 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
WO2004002734A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
US7132146B2 (en) * | 2003-05-09 | 2006-11-07 | Tdk Corporation | Optical recording medium |
JP4784723B2 (ja) * | 2003-12-24 | 2011-10-05 | Tdk株式会社 | ハードコート剤組成物及びこれを用いた光情報媒体 |
-
2003
- 2003-10-03 JP JP2003345523A patent/JP4590849B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-09-24 WO PCT/JP2004/014448 patent/WO2005033231A1/ja active Application Filing
- 2004-09-24 DE DE112004001757T patent/DE112004001757B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-24 CN CNB2004800287631A patent/CN100471923C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-27 US US10/949,258 patent/US7074472B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103102793A (zh) * | 2011-09-30 | 2013-05-15 | Tdk株式会社 | 硬涂层剂组合物和使用其的硬涂层薄膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100471923C (zh) | 2009-03-25 |
US7074472B2 (en) | 2006-07-11 |
DE112004001757B4 (de) | 2012-01-19 |
JP4590849B2 (ja) | 2010-12-01 |
DE112004001757T5 (de) | 2007-02-01 |
WO2005033231A1 (ja) | 2005-04-14 |
US20050072336A1 (en) | 2005-04-07 |
JP2005112900A (ja) | 2005-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1863881A (zh) | 硬涂剂组合物和采用其的光信息介质 | |
CN1871275A (zh) | 硬涂层剂组合物及由其生产的光学信息介质 | |
CN1898342A (zh) | 硬膜剂组合物和采用该组合物的光信息介质 | |
CN1871645A (zh) | 光信息介质 | |
CN1639588A (zh) | 具有复合硬质涂层的物体及复合硬质涂层的形成方法 | |
CN1175409C (zh) | 光信息媒体 | |
CN1208770C (zh) | 光信息介质 | |
JP5315681B2 (ja) | ハードコート用組成物、ハードコート層を有する物体およびその製造方法 | |
CN1652932A (zh) | 带有复合硬涂层的物体及复合硬涂层的形成方法 | |
CN101412837B (zh) | 活性能量线固化性树脂组合物及其层叠体 | |
CN1649733A (zh) | 带有复合硬涂层物体及复合硬涂层的形成方法 | |
CN1338737A (zh) | 光信息介质及其制造、记录或重放方法以及检查方法 | |
CN1610612A (zh) | 带有复合硬膜层的物体以及复合硬膜层的形成方法 | |
CN1906681A (zh) | 光记录介质 | |
CN1280641C (zh) | 具有复合硬质涂层的物体及复合硬质涂层的形成方法 | |
CN1711599A (zh) | 有具有表面润滑性的硬涂层的光盘 | |
JP4496766B2 (ja) | 保護層の形成方法及び光情報媒体の製造方法 | |
CN1647177A (zh) | 光信息介质及其制造方法 | |
KR20040087534A (ko) | 광디스크 표면처리용 조성물 | |
JP2008287883A (ja) | 光情報媒体 | |
JP4185496B2 (ja) | 光情報媒体の製造方法 | |
JP4794116B2 (ja) | 光情報媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20090325 Termination date: 20120924 |