DE112004001757B4 - Hartbeschichtungsmaterial-Zusammensetzung und damit beschichteter Gegenstand - Google Patents

Hartbeschichtungsmaterial-Zusammensetzung und damit beschichteter Gegenstand Download PDF

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Abstract

Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung, enthaltend:
eine fluorhaltige Polyetherverbindung (A), welche eine oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe(n) enthält, und
eine härtbare Verbindung (B), welche zwei, drei oder mehr durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, wobei
die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung 0,01 Gewichtsteile bis 3 Gewichtsteile der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A), bezogen auf 100 Gewichtsteile der nicht flüchtigen Bestandteile der Zusammensetzung enthält, und
die härtbare Verbindung (B) 65 bis 100 Gew.-% einer härtbaren Verbindung (Bt), welche drei oder mehr durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, und 0 bis 35 Gew.-% einer härtbaren Verbindung (Bd), welche zwei durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, bezogen auf die härtbare Verbindung (B), umfasst, wobei die durch aktive Energiestrahlung polymerisierbaren Gruppen der härtbaren Verbindungen (Bt) und (Bd) ausgewählt sind aus (Meth)acryloylgruppen, Vinylgruppen und/oder Mercaptogruppen, und wobei die härtbaren Verbindungen (Bt) und (Bd) keine Fluoratome enthalten.

Description

  • TECHNISCHER BEREICH
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung, die zur Bildung einer Hartbeschichtung mit ausgezeichneten schmutzabweisenden (”Anti-Staining”) Eigenschaften und ausgezeichneter Lubrizität sowie verbesserter Kratzfestigkeit und Abriebbeständigkeit auf der Oberfläche verschiedener Gegenstände geeignet ist.
  • Außerdem betrifft die vorliegende Erfindung einen Gegenstand, welcher eine Hartbeschichtung aufweist, die unter Verwendung der obigen Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung auf der Oberfläche des Gegenstandes aufgebildet ist. Zu Beispielen für Gegenstände, die eine Oberflächen-Hartbeschichtung benötigen, zählen optische Informationsmedien, optische Linsen, optische Filter, Antireflexionsfolien und verschiedene Displayelemente, wie beispielsweise Flüssigkristall-Displays, CRT-Displays, Plasma-Displays und EL-Displays.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein optisches Informationsmedium, wie beispielsweise eine schreibgeschützte optische Platte, eine optische Aufnahmeplatte oder eine magneto-optische Aufnahmeplatte mit einer Hartbeschichtung, die unter Verwendung der obigen Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung auf der Oberfläche des Mediums gebildet wurde, und insbesondere ein optisches Informationsmedium, in dem die aufnehmende und/oder wiedergebende Oberfläche, auf die der Strahl einfällt, ausgezeichnete schmutzabweisende Eigenschaften und Lubrizität sowie verbesserte Kratzfestigkeit und Abriebbeständigkeit aufweist.
  • STAND DER TECHNIK
  • Auf der Oberfläche optischer Informationsmedien, wie beispielsweise schreibgeschützte optische Platten, optische Aufnahmeplatten und magneto-optische Aufnahmeplatten, werden Flecken von verschiedenen Schmutzmaterialien und durch die Anhaftung von Fingerabdrücken während der Verwendung verursacht. Diese Verschmutzungen und anhaftende Fingerabdrücke sind unerwünscht; demgemäß können die Oberflächen optischer Informationsmedien einer geeigneten Oberflächenbehandlung unterzogen werden, um die schmutzabweisende Eigenschaft zu verbessern, die Anhaftung von Fingerabdrücken zu reduzieren und die Leichtigkeit, mit der Fingerabdrücke entfernt werden können, zu verbessern. Beispielsweise wurden eine Anzahl verschiedener Behandlungen untersucht, um den Oberflächen optischer Informationsmedien wasserabstoßende und ölabstoßende Eigenschaften zu verleihen.
  • Des weiteren ist die Bildung einer transparenten, kratzfesten Hartbeschichtung auf der aufnehmenden und/oder wiedergebenden strahleinfallsseitigen Oberfläche des optischen Informationsmediums ebenso Standardpraxis zur Verbesserung der Kratzfestigkeit der Oberfläche des Mediums. Die Bildung dieser Hartbeschichtung wird durch Auftragen einer durch aktive Energiestrahlung polymerisierbaren/härtbaren Verbindung, welche wenigstens 2 polymerisierbare funktionelle Gruppen, wie beispielsweise (Meth)acryloylgruppen, in jedem Molekül enthält, auf die Oberfläche des Mediums und anschließendes Härten des aufgetragenen Films durch Bestrahlung mit aktiver Energiestrahlung, wie beispielsweise ultravioletten Strahlen, durchgeführt. Da jedoch dieser Typ einer Hartbeschichtung lediglich auf die Verbesserung der Kratzfestigkeit zielt, bestehen nur wenig Erwartungen hinsichtlich einer schmutzabweisenden Wirkung in Bezug auf Schmutzstoffe, wie beispielsweise Staub, in der Luft schwebender Ölnebel oder Fingerabdrücke.
  • Ein Beispiel für eine Hartbeschichtung mit schmutzabweisender Eigenschaft in Bezug auf organischen Schmutz ist in der Japanischen Patentanmeldungsoffenlegung Nr. 10-110118 (1998) offenbart, welche das Mischen eines nicht-vernetzenden grenzflächenaktiven Stoffes auf Fluorbasis mit einem Hartbeschichtungsmittel vorschlägt. Der nicht-vernetzende grenzflächenaktive Stoff auf Fluorbasis enthält keine polymerisierbaren Doppelbindungen und unterliegt keiner Vernetzung mit dem Basisharz des Hartbeschichtungsmittels.
  • Des weiteren schlägt die Japanische Patentanmeldungsoffenlegung Nr. 11-293159 (1999) das Mischen einer Kombination eines nicht-vernetzenden grenzflächenaktiven Stoffs auf Fluorbasis und eines vernetzenden grenzflächenaktiven Stoffs auf Fluorbasis mit einem Hartbeschichtungsmittel vor. Zu Beispielen für den vernetzenden grenzflächenaktiven Stoff auf Fluorbasis zählen fluorierte Alkyl(meth)acrylate, wie beispielsweise Perfluoroctylethyl(meth)acrylat, Hexafluorpropyl(meth)acrylat und Octafluorpentyl(meth)acrylat. Diese vernetzenden grenzflächenaktiven Stoffe auf Fluorbasis enthalten polymerisierbare Doppelbindungen und unterliegen Vernetzung und Fixierung an das Basisharz des Hartbeschichtungsmittels.
  • Die Japanische Patentveröffentlichungsoffenlegung Nr. 11-213444 (1999) offenbart das Aufbringen eines Polymeren auf Fluorbasis auf die Oberfläche einer konventionellen optischen Platte als Substrat, welche aus einem Polycarbonat oder Ähnlichem gebildet ist.
  • Die Japanische Nationale Veröffentlichung der PCT-Anmeldung Nr. 11-503768 (1999) offenbart eine durch Strahlung härtbare Zusammensetzung, welche ein Fluorurethan-Oligomeres und ein Monomeres als Verdünnungsmittel enthält.
  • Die Japanische Patentanmeldungsoffenlegung Nr. 2002-190136 offenbart ein optisches Informationsmedium, in dem Metallchalcogenid-Feinpartikel aus Siliziumoxid oder Ähnlichem in die Hartbeschichtung eingearbeitet sind, wodurch die Kratzfestigkeit der Hartbeschichtung verbessert wird, und in dem ein Film aus einem Silan-Haftvermittler, enthaltend wasserabstoßende oder ölabstoßende Gruppen, auf der Hartbeschichtung ausgebildet ist, wodurch die schmutzabweisenden Eigenschaften der Oberfläche des optischen Informationsmediums weiter verbessert werden.
  • Die in Bezug auf die vorliegende Anmeldung ältere Anmeldung EP 1 520 688 A1 offenbart eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung, welche eine durch aktive Energiestrahlung härtbare Verbindung umfasst, die wenigstens eine reaktive Gruppe, ausgewählt aus einer (Meth)acryloylgruppe, Vinylgruppe und Mercaptogruppe, enthält. Außerdem beschreibt EP 1 520 688 A1 eine Oberflächenbeschichtung, welche fluorhaltige monofunktionelle und polyfunktionelle (Meth)acrylatverbindungen umfasst.
  • US 4,440,918 A offenbart eine Zusammensetzung zur Herstellung von Kontaktlinsen, welche Perfluorpolyether enthaltende Verbindungen und, optional, copolymerisierbare, ethylenisch ungesättigte Comonomere, wie beispielsweise polyfunktionelle (Meth)acrylate, umfasst. Die in US 4,440,918 A beschriebene Zusammensetzung enthält 50 bis 88 Gew.-% der betreffenden Perfluorpolyetherverbindung und 12 bis 50 Gew.-% der copolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Copolymeren.
  • OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
  • Aufgaben der Erfindung
  • Durch einen niedrigen Reibungskoeffizienten der Oberfläche eines optischen Informationsmediums kann bewirkt werden, dass ein Aufprall, verursacht durch einen harten Stoß auf die Oberfläche, abgleiten kann; auf diese Weise kann die Erzeugung von Kratzern unterdrückt werden. Aus diesem Grund ist es wünschenswert, den Reibungskoeffizienten der Oberfläche der Hartbeschichtung herabzusetzen, um die Kratzfestigkeit der Oberfläche zu verbessern. Letzte Entwicklungen gehen in Richtung von ”Blu-Ray-Disks”, in denen die Spotgröße des fokussierten Laserstrahls reduziert wird, indem die numerische Apertur (NA) der Objektivlinse zur Fokussierung des aufnehmenden/wiedergebenden Laserstrahls auf etwa 0,85 erhöht wird, und gleichzeitig die Wellenlänge λ des aufnehmenden/wiedergebenden Laserstrahls auf etwa 400 nm reduziert wird; diese Platten besitzen eine mindestens 4-fach höhere Aufnahmekapazität als eine DVD. Die Erhöhung der NA führt im Allgemeinen zu einem verminderten Abstand zwischen der Objektivlinse und der Oberfläche des optischen Informationsmediums (Arbeitsabstand), wodurch die Wahrscheinlichkeit, dass die Oberfläche des optischen Informationsmediums mit der Objektivlinse oder dem Träger der Linse während der Rotation des optischen Informationsmediums in Kontakt kommt, signifikant erhöht wird (beispielsweise beträgt bei einer NA von 0,85 der Arbeitsabstand etwa 100 μm, eine signifikante Verminderung im Vergleich zu konventionellen optischen Systemen). Aus diesem Grund ist es wünschenswert, den Reibungskoeffizienten der Hartbeschichtungsoberfläche zu reduzieren und die Kratzfestigkeit der Oberfläche zu erhöhen.
  • Auch außerhalb des Bereichs der optischen Informationsmedien sind Kratzfestigkeit und Abriebbeständigkeit ebenso sehr wichtige Eigenschaften Für die Oberflächen optischer Linsen und optischer Filter, von Antireflexionsfilmen und jeder Art von verschiedenen Displayelementen, wie beispielsweise Flüssigkristall-Displays, CRT-Displays, Plasma-Displays und EL-Displays; im Ergebnis wird typischerweise eine Schutzschicht (Hartbeschichtung) auf der Oberfläche dieser Gegenstände ausgebildet. Auf ähnliche Weise wie zuvor bei den optischen Platten beschrieben, werden auf den Oberflächen dieser Gegenstände während der Verwendung Flecken von verschiedenen Schmutzstoffen und durch die Anhaftung von Fingerabdrücken verursacht. Diese Schmutzflecken und anhaftende Fingerabdrücke sind unerwünscht, was bedeutet, dass eine Hartbeschichtung mit ausgezeichneten schmutzabweisenden Eigenschaften erforderlich ist.
  • Jedoch weisen derartige konventionelle Gegenstände, wie oben beschrieben, nicht nur eine Anzahl physikalischer Probleme, wie beispielsweise geringe Beständigkeit der schmutzabweisenden Eigenschaft oder ungenügende Härte, auf, sondern sind ebenso teuer in der Herstellung.
  • Demgemäß ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung zur Verfügung zu stellen, welche zur Bildung einer Hartbeschichtung geeignet ist und ausgezeichnete schmutzabweisende Eigenschaften und Lubrizität sowie verbesserte Kratzfestigkeit und Abriebbeständigkeit auf den Oberflächen verschiedener Gegenstände aufweist.
  • Des weiteren ist eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Gegenstand zur Verfügung zu stellen, welcher eine Hartbeschichtung aufweist, die unter Verwendung der obigen Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung auf der Oberfläche des Gegenstands gebildet wurde.
  • Insbesondere ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches Informationsmedium zur Verfügung zu stellen, in dem die Oberfläche, durch die der aufnehmende und/oder wiedergebende Strahl einfällt, ausgezeichnete schmutzabweisende Eigenschaften und Lubrizität sowie verbesserte Kratzfestigkeit und Abriebbeständigkeit aufweist.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Die vorliegenden Erfinder führten eifrige Studien durch. Im Ergebnis stellte sich heraus, dass durch Verwendung einer fluorhaltigen Polyetherverbindung, welche mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen enthält, eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung erhalten werden kann, die eine Hartbeschichtung mit hervorragender Härte sowie ausgezeichneten schmutzabweisenden (”Anti-Staining”) Eigenschaften und ausgezeichneter Lubrizität bilden kann.
  • Die vorliegende Erfindung umfasst:
    • (1) Eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung, enthaltend: eine fluorhaltige Polyetherverbindung (A), welche eine oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe(n) enthält, und eine härtbare Verbindung (B), welche zwei, drei oder mehr durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, wobei die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung 0,01 Gewichtsteile bis 3 Gewichtsteile der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A), bezogen auf 100 Gewichtsteile der nicht flüchtigen Bestandteile der Zusammensetzung enthält, und die härtbare Verbindung (B) 65 bis 100 Gew.-% einer härtbaren Verbindung (Bt), welche drei oder mehr durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, und 0 bis 35 Gew.-% einer härtbaren Verbindung (Bd), welche zwei durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, bezogen auf die härtbare Verbindung (B), umfasst, wobei die durch aktive Energiestrahlung polymerisierbaren Gruppen der härtbaren Verbindungen (Bt) und (Bd) ausgewählt sind aus (Meth)-acryloylgruppen, Vinylgruppen und/oder Mercaptogruppen, und wobei die härtbaren Verbindungen (Bt) und (Bd) keine Fluoratome enthalten. Die nicht flüchtigen Bestandteile der Zusammensetzung beinhalten nicht nur die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) und die härtbare Verbindung (B), sondern gegebenenfalls ebenso Komponenten, wie beispielsweise anorganische Feinpartikel (C), einen Photopolymerisationsinitiator und eine Anzahl anderer Zusatzstoffe, die später beschrieben werden.
    • (2) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß Punkt (1), wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) zwei oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen in jedem Molekül enthält.
    • (3) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß Punkt (2), wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen an beiden Molekülenden aufweist.
    • (4) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (3), wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) eine oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe(n), bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthält.
    • (5) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (4), wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) zwei oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthält.
    • (6) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (5), wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) vier oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthält.
    • (7) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (6), wobei die mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A) eine (Meth)acryloylgruppe und/oder Vinylgruppe ist.
    • (8) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (7), wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) eine Verbindung ist, in der eine (Meth)acryloylgruppe an der Hydroxylgruppe einer fluorhaltigen Polyetherverbindung, welche eine Hydroxylgruppe an einem Molekülende aufweist, eingeführt wurde.
    • (9) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (8), wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) einen Perfluorpolyether-Anteil enthält.
    • (10) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (9), welche außerdem anorganische Feinpartikel (C) mit einer mittleren Partikelgröße von nicht mehr als 100 nm enthält.
    • (11) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß Punkt (10), enthaltend 5 Gewichtsteile bis 500 Gewichtsteile der anorganischen Feinpartikel (C), bezogen auf 100 Gewichtsteile der härtbaren Verbindung (B).
    • (12) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß Punkt (10) und/oder (11), wobei die anorganischen Feinpartikel (C) entweder Feinpartikel aus einem Metall(oder Halbmetall)-oxid oder Feinpartikel aus einem Metall(oder Halbmetall)-sulfid sind.
    • (13) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (10) bis (12), wobei die anorganischen Feinpartikel (C) Feinpartikel aus Siliziumoxid sind.
    • (14) Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (10) bis (13), wobei die anorganischen Feinpartikel (C) auf der Oberfläche mit einer hydrolisierbaren Silanverbindung, welche eine mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe enthält, modifiziert sind. Die obigen Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzungen sind insbesondere geeignet als Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzungen für optische Informationsmedien.
    • (15) Einen Gegenstand, der auf der Oberfläche mit einer Hartbeschichtung versehen ist, die ein gehärtetes Produkt aus einer Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (14) umfasst. In der vorliegenden Erfindung zählen zu Gegenständen, die eine Oberflächen-Hartbeschichtung erfordern, optische Informationsmedien, optische Linsen, optische Filter, Antireflexionsfilme und verschiedene Displayelemente, wie beispielsweise Flüssigkristall-Displays, CRT-Displays, Plasma-Displays und EL-Displays.
    • (16) Ein Gegenstand gemäß Punkt (15), wobei der Gegenstand ein optisches Informationsmedium ist, welches ein Schichtelement umfasst, das aus einer oder mehreren Schichten, einschließlich wenigstens einer Aufnahmeschicht oder einer Wiedergabeschicht auf einem Trägersubstrat besteht, wobei wenigstens eine der Oberflächen von Trägersubstratseite und Schichtelementseite aus einer Hartbeschichtung gebildet ist, die ein gehärtetes Produkt der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (14) umfasst.
    • (17) Das optische Informationsmedium gemäß Punkt (16), wobei entweder die Oberfläche der Trägersubstratseite oder die Oberfläche der Schichtelementseite, auf die das Licht einfällt, als Hartbeschichtung ausgebildet ist.
    • (18) Ein Gegenstand gemäß Punkt (15), wobei der Gegenstand ein optisches Informationsmedium ist, welches eine Informationsaufnahmeschicht auf einem Trägersubstrat, eine lichtdurchlässige Schicht auf der Informationsaufnahmeschicht und eine Hartbeschichtung umfasst, wobei die Hartbeschichtung ein gehärtetes Produkt der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Punkte (1) bis (14) auf der lichtdurchlässigen Schicht umfasst.
  • In der vorliegenden Erfindung umfasst der Ausdruck ”optisches Informationsmedium” schreibgeschützte optische Platten, optische Aufnahmeplatten, magneto-optische Aufnahmeplatten und andere Medien.
  • Die vorliegende Erfindung stellt eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung zur Verfügung, die zur Bildung einer Hartbeschichtung mit ausgezeichneten schmutzabweisenden Eigenschaften und ausgezeichneter Lubrizität sowie verbesserter Kratzfestigkeit und Abriebbeständigkeit auf den Oberflächen verschiedener Gegenstände geeignet ist.
  • Des Weiteren stellt die vorliegende Erfindung einen Gegenstand zur Verfügung, welcher eine Hartbeschichtung aufweist, die unter Verwendung der obigen Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung auf der Oberfläche des Gegenstandes ausgebildet ist.
  • Insbesondere stellt die vorliegende Erfindung ein optisches Informationsmedium zur Verfügung, in dem die aufnehmende und/oder wiedergebende Oberfläche, auf die der Strahl einfällt, ausgezeichnete schmutzabweisende Eigenschaften und Lubrizität sowie verbesserte Kratzfestigkeit und Abriebbeständigkeit aufweist.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine schematische Querschnittsansicht, welche ein Beispiel für die Schichtstruktur einer optischen Platte der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • 2 ist eine schematische Querschnittsansicht, welche ein Beispiel für die Schichtstruktur einer optischen Platte der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • 3 ist eine schematische Querschnittsansicht, welche ein anderes Beispiel für die Schichtstruktur einer optischen Platte der vorliegenden Erfindung zeigt; und
  • 4 ist eine schematische Querschnittsansicht, welche noch ein weiteres Beispiel für die Schichtstruktur einer optischen Platte der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • AUSFÜHRUNGSFORMEN DER ERFINDUNG
  • Zunächst wird eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung beschrieben.
  • Eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung enthält eine fluorhaltige Polyetherverbindung (A), enthaltend eine mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe, und eine härtbare Verbindung (B), enthaltend entweder zwei, drei oder mehr durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül.
  • Die härtbare Verbindung (B) ist die primäre härtbare Komponente in der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung und ist die Komponente, die für die Bildung der Matrix der nach dem Härten erhaltenen Hartbeschichtung verantwortlich ist. Die härtbare Verbindung (B) der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung umfasst 65 bis 100 Gew.-% einer härtbaren Verbindung (Bt), enthaltend wenigstens drei durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül, und 0 bis 35 Gew.-% einer härtbaren Verbindung (Bd), enthaltend zwei durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül, bezogen auf die härtbare Verbindung (B).
  • Die durch aktive Energiestrahlung härtbare Verbindung (Bt) enthält wenigstens drei durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül; dies allein ist ausreichend, um einen zufriedenstellenden Härtegrad der Hartbeschichtung nach dem Härten zu gewährleisten. Andererseits enthält die durch aktive Energiestrahlung härtbare Verbindung (Bd) lediglich zwei durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül, was allein nicht ausreichend ist, um einen zufriedenstellenden Härtegrad der Hartbeschichtung nach dem Härten zu gewährleisten. Im Ergebnis wird die härtbare Verbindung (Bt) als primäre Komponente der härtbaren Verbindung (B) verwendet, und in den Fällen, in denen ebenso die härtbare Verbindung (Bd) verwendet wird, wird die Menge bevorzugt auf einen Wert innerhalb des oben angegebenen Gewichtsbereichs beschränkt.
  • Hinsichtlich der Strukturen der härtbaren Verbindung (Bt) und der härtbaren Verbindung (Bd) bestehen keine bestimmten Einschränkungen, vorausgesetzt, sie sind verschieden von der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A) und enthalten wenigstens drei bzw. zwei durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül; es sind entweder polyfunktionelle Monomere oder Oligomere geeignet. Um einen hohen Härtegrad der Hartbeschichtung zu gewährleisten, enthalten die härtbare Verbindung (Bt) und die härtbare Verbindung (Bd) keine Fluoratome. Die durch aktive Energiestrahlung polymerisierbaren Gruppen der härtbaren Verbindung (Bt) und der härtbaren Verbindung (Bd) sind ausgewählt aus (Meth)acryloylgruppen, Vinylgruppen und/oder Mercaptogruppen.
  • Bei den durch aktive Energiestrahlung härtbaren Verbindungen (Bt) und (Bd) zählen zu Beispielen für die Verbindung mit einer (Meth)acryloylgruppe 1,6-Hexandioldi(meth)acrylat, Triethylenglykoldi(meth)acrylat, Ethylenoxid-modifiziertes Bisphenol-A-di(meth)acrylat, Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Pentaerythritoltetra(meth)acrylat, Ditrimethylolpropantetra(meth)acrylat, Dipentaerythritolhexa(meth)acrylat, Pentaerythritoltri(meth)acrylat, 3-(Meth)acryloyloxyglycerinmono(meth)acrylat, Urethanacrylat, Epoxyacrylat und Esteracrylat. Jedoch sind die Verbindungen mit (Meth)acryloylgruppen nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Zu Beispielen für die Verbindung mit einer Vinylgruppe zählen Ethylenglykoldivinylether, Pentaerythritoldivinylether, 1,6-Hexandioldivinylether, Trimethylolpropandivinylether, Ethylenoxid-modifizierter Hydroquinondivinylether, Ethylenoxid-modifizierter Bisphenol-A-divinylether, Pentaerythritoltrivinylether, Dipentaerythritolhexavinylether und Ditrimethylolpropanpolyvinylether. Jedoch sind die Verbindungen mit Vinylgruppen nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Zu Beispielen für die Verbindung mit einer Mercaptogruppe zählen Ethylenglykolbis(thioglykolat), Ethylenglykolbis(3-mercaptopropionat), Trimethylolpropantris(thioglykolat), Trimethylolpropantris(3-mercaptopropionat), Pentaerythritoltetrakis(mercaptoacetat), Pentaerythritoltetrakis(thioglykolat) und Pentaerythritoltetrakis(3-mercaptopropionat). Jedoch sind die Verbindungen mit Mercaptogruppen nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • In der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung können entweder eine einzige Verbindung oder eine Kombination von zwei oder mehr Verbindungen als durch aktive Energiestrahlung härtbare Verbindung (Bt) verwendet werden. Als härtbare Verbindung (Bd) kann ebenso entweder eine einzige Verbindung oder eine Kombination von zwei oder mehr Verbindungen verwendet werden.
  • Zusätzlich zu der härtbaren Verbindung (Bt) und der härtbaren Verbindung (Bd) können ebenso andere monofunktionelle Monomere der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung als zusätzliche härtbare Komponenten zugegeben werden, unter der Voraussetzung, dass ein zufriedenstellender Härtegrad der Hartbeschichtung aufrecht erhalten werden kann.
  • Die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) wird verwendet, um der Oberfläche der Hartbeschichtung Wasserabstoßvermögen und/oder Lubrizität zu verleihen. Die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) ist eine Verbindung, welche einen Perfluorpolyether-Anteil und wenigstens eine mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe enthält. Zu Beispielen für die mit aktiver Energiestrahlung reaktiven Gruppen zählen (Meth)acryloylgruppen oder Vinylgruppen. Der Perfluorpolyether-Anteil verleiht der Oberfläche der Hartbeschichtung Wasserabstoßkraft und/oder Lubrizizät. Im Vergleich zu dem fluorierten Alkylanteil eines fluorierten Alkyl(meth)acrylats wird der Perfluorpolyether-Anteil leichter an der Oberfläche der Hartbeschichtung konzentriert und verleiht eine verbesserte Wasserabstoßkraft und/oder Lubrizität. Aufgrund der Gegenwart einer mit aktiver Energiestrahlung reaktiven Gruppe bewirkt die Bestrahlung mit aktiven Energiestrahlen, die während des Härtens der Hartbeschichtung durchgeführt wird, Vernetzungsreaktionen zwischen den Molekülen der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A) und zwischen der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A) und den durch aktive Energiestrahlung härtbaren Verbindungen (Bt) und/oder (Bd), wodurch die Fixierung der Verbindung (A) in der Hartbeschichtung verbessert wird. Im Ergebnis Wird eine Hartbeschichtung gebildet, die extrem verbesserte schmutzabweisende Eigenschaften und Lubrizität über einen weiten Bereich von Lagerungsbedingungen und Verwendungsbedingungen aufweist.
  • Fluorhaltige Polyetherverbindungen (A), welche wenigstens zwei mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen in jedem Molekül aufweisen, zeigen verbesserte Fixierung in der Hartbeschichtung sowie verbesserte schmutzabweisende Eigenschaften und Lubrizität und sind somit bevorzugt. Des weiteren liefern fluorhaltige Polyetherverbindungen (A), welche eine mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe an beiden Molekülenden aufweisen, eine noch bessere Fixierung in der Hartbeschichtung und sind somit noch bevorzugter; fluorhaltige Polyetherverbindungen (A), welche zwei mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen an jedem der beiden Molekülenden aufweisen, sind am bevorzugtesten.
  • Die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) enthält bevorzugt wenigstens eine mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, und enthält noch bevorzugter wenigstens zwei mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000; am bevorzugtesten enthält sie wenigstens vier mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000. Das Molekulargewicht der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A) beträgt bevorzugt 500 bis 5000, bevorzugter 800 bis 3000. Verbindungen innerhalb dieses Bereichs zeigen bessere Fixierung in der Hartbeschichtung und ergeben eine Hartbeschichtung mit extrem Verbesserter Lösungsmittelbeständigkeit.
  • Die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) kann hergestellt werden, indem eine (Meth)acryloylgruppe an der Hydroxylgruppe einer fluorhaltigen Polyether-Ausgangsverbindung, welche eine Hydroxylgruppe am Molekülende aufweist, eingeführt wird. Zu Beispielen für die als Ausgangsmaterial verwendete fluorhaltige Polyetherverbindung zählen die im Folgenden aufgeführten Verbindungen. Selbstverständlich handelt es sich nicht um eine restriktive Liste. HOCH2-CF2O-[CF2CF2O]I-[CF2O]m-CF2CH2OH (Z DOL) F-[CF2CF2CF2O]I-CF2CF2CH2OH (Demnum-SA) F-[CF(CF3)CF2O]I-CF(CF3)CH2OH (Krytox-OH) HO(CH2CH2O)n-CH2CF2O-[CF2CF2O]I-[CF2O]m-CF2CH2(OCH2CH2)nOH (Zdol-ZX) HOCH2CH(OH)CH2O-CH2-CF2O-[CF2CF2O]I-[CF2O]m-CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH (Z-Tetraol)
  • Zu spezifischen Beispielen für die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) zählen:
    Verbindungen, welche wenigstens eine mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthalten, wie beispielsweise Fomblin-Z-DOL-Diacrylat [eine Verbindung, in der die terminale Hydroxylgruppe von Fomblin Z DOL (hergestellt von Ausimont Co.) mit einer Acrylatgruppe modifiziert wurde], und FLUG LIGHT ART-4 (hergestellt von Kyoeisha Chemical Co., Ltd.),
    Verbindungen, welche wenigstens zwei mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthalten, wie beispielsweise FLUG LIGHT ART-3 (hergestellt von Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), und
    Verbindungen, welche wenigstens vier mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthalten, wie beispielsweise ein Material, in dem die vier terminalen Hydroxylgruppen von Fomblin Z-Tetraol (hergestellt von Ausimont Co.) mit Acrylatgruppen modifiziert wurden.
  • Es können entweder eine einzige Verbindung oder eine Kombination von zwei oder mehr Verbindungen als fluorhaltige Polyetherverbindung (A), welche in der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung enthalten ist, verwendet werden.
  • Eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung enthält 0,01 Gewichtsteile bis 3 Gewichtsteile, bevorzugt 0,05 Gewichtsteile bis 1 Gewichtsteil der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A), bezogen auf 100 Gewichtsteile der nicht flüchtigen Bestandteile der Zusammensetzung. Wenn die Menge der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A) mehr als 3 Gewichtsteile beträgt, nimmt, obwohl die Lubrizität verbessert wird, die Härte der Hartbeschichtung ab; wenn andererseits die Menge weniger als 0,01 Gewichtsteile beträgt, ist die Wirkung der Verbesserung der Lubrizität minimal. Der Ausdruck ”nicht flüchtige Bestandteile” bezieht sich auf solche Komponenten, die in der Hartbeschichtung nach dem Härten zurückbleiben; sie umfassen nicht nur die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) und die härtbare Verbindung (B), sondern ebenso optionale Komponenten, wie beispielsweise monofunktionelle Monomere, die im folgenden beschriebenen anorganischen Feinpartikel (C), Photopolymerisationsinitiatoren und verschiedene andere Zusatzstoffe.
  • Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung enthält ebenso bevorzugt anorganische Feinpartikel (C) mit einer mittleren Partikelgröße von nicht mehr als 100 nm. Um eine gute Transparenz der Hartbeschichtung zu gewährleisten, beträgt die mittlere Partikelgröße dieser anorganischen Feinpartikel (C) typischerweise nicht mehr als 100 nm, bevorzugt nicht mehr als 20 nm, und, im Hinblick auf die Beschränkungen in Verbindung mit der Herstellung einer Kolloidlösung, bevorzugt wenigstens 5 nm.
  • Die anorganischen Feinpartikel (C) können beispielsweise Feinpartikel aus Metall(oder Halbmetall)-oxiden oder Feinpartikel aus Metall(oder Halbmetall)-sulfiden sein. Zu Beispielen für die Metalle oder Halbmetalle für die anorganischen Feinpartikel zählen Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn und Sb. Neben den Oxiden und Sulfiden können die anorganischen Feinpartikel (C) Selenide, Telluride, Nitride und Carbide enthalten. Zu Beispielen für die anorganischen Feinpartikel zählen Feinpartikel aus Siliziumoxid, Aluminiumoxid, Zirkondioxid und Titandioxid. Bevorzugt sind Siliziumoxid-Feinpartikel. Bei Zugabe zu der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung verstärken derartige anorganische Feinpartikel die Abriebbeständigkeit der Hartbeschichtung.
  • Die Siliziumoxid-Feinpartikel sind bevorzugt mit einer hydrolisierbaren Silanverbindung, welche mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen enthält, oberflächenmodifiziert. Derartige reaktive Siliziumoxid-Feinpartikel unterliegen einer Vernetzungsreaktion, wenn sie während der Härtung der Hartbeschichtung aktiver Energiestrahlung ausgesetzt werden und werden in der Polymermatrix fixiert. Ein Beispiel für derartige reaktive Siliziumoxid-Feinpartikel ist in der Japanischen Patentanmeldungsoffenlegung Nr. 9-100111 (1997) beschrieben; diese sind zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung geeignet.
  • In Fällen, in denen anorganische Feinpartikel (C) in der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung verwendet werden, liegt die Menge der anorganischen Feinpartikel (C) bevorzugt in einem Bereich von 5 Gewichtsteilen bis 500 Gewichtsteilen, bevorzugter von 20 Gewichtsteilen bis 200 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile der härtbaren Verbindung (B). Wenn mehr als 500 Gewichtsteile an anorganischen Feinpartikeln (C) zugegeben werden, wird die Filmfestigkeit der Hartbeschichtung schwächer, während, wenn die Menge weniger als 5 Gewichtsteile beträgt, der Grad der Verbesserung der Abriebbeständigkeit der Hartbeschichtung, der durch Zugabe der anorganischen Feinpartikel (C) erreicht wird, minimal ist.
  • Eine Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung kann ebenso bekannte Photopolymerisationsinitiatoren enthalten. Ein Photopolymerisationsinitiator ist nicht unbedingt notwendig, wenn Elektronenstrahlen als aktive Energiestrahlen verwendet werden. Wenn jedoch ultraviolette Strahlen verwendet werden, ist ein Initiator notwendig. Der Photopolymerisationsinitiator kann entsprechend aus üblicherweise verwendeten Verbindungen, wie beispielsweise Verbindungen auf Acetophenonbasis, Verbindungen auf Benzoinbasis, Verbindungen auf Benzophenonbasis und Verbindungen auf Thioxanthonbasis, ausgewählt werden. Unter den Polymerisationsinitiatoren zählen zu Beispielen für Radikal-Photopolymerisationsinitiatoren DAROCURE 1173, IRGACURE 651, IRGACURE 184 und IRGACURE 907 (jeweils Produkte, hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Inc.). Der prozentuale Anteil des zu der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gegebenen Photopolymerisationsinitiators beträgt beispielsweise etwa 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der zuvor erwähnten Komponenten (A), (Bt), (Bd) und (C).
  • Des weiteren kann die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung gegebenenfalls außerdem andere Zusatzstoffe, wie beispielsweise ein nicht-polymerisierbares Verdünnungsmittel, einen organischen Füllstoff, einen Polymerisationsinhibitor, ein Antioxidationsmittel, ein Ultraviolettstrahlung-Absorptionsmittel, einen Photostabilisator, ein Antischaummittel oder ein Egalisiermittel, enthalten.
  • Die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung kann hergestellt werden, indem die verschiedenen oben beschriebenen Komponenten unter Verwendung konventioneller Verfahren gemischt werden. Die Viskosität der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung wird bevorzugt derart eingestellt, dass ein leichtes Aufbringen der Zusammensetzung ermöglicht wird. Hiermit ist die Beschreibung der erfindungsgemäßen Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung beendet.
  • Als nächstes folgt die Beschreibung eines optischen Informationsmediums gemäß der vorliegenden Erfindung (im Folgenden ebenso als optische Platte bezeichnet), welche die oben beschriebene Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung verwendet, sowie eines Verfahrens zur Herstellung eines derartigen optischen Informationsmediums mit Bezug auf die Zeichnungen.
  • Ein optisches Informationsmedium der vorliegenden Erfindung umfasst ein Schichtelement, bestehend aus einer oder mehreren Schichten, einschließlich wenigstens einer Aufnahmeschicht oder einer Reflexionsschicht, auf einem Trägersubstrat, wobei die Oberfläche der Trägersubstratseite und/oder die Oberfläche der Schichtelementseite aus einer Hartbeschichtung gebildet ist, die ein gehärtetes Produkt der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung umfasst. In diesem optischen Informationsmedium der vorliegenden Erfindung ist zumindest eine der Oberflächen der Trägersubstratseite und/oder der Schichtelementseite, bevorzugt die Oberfläche, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt, aus der Hartbeschichtung gebildet, die ein gehärtetes Produkt der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung umfasst.
    • 1. Optische Informationsmedien, in denen die Oberfläche der Schichtelementseite als die Oberfläche fungiert, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt: Zunächst wird ein optisches Informationsmedium beschrieben, in dem die Oberfläche der Schichtelementseite als die Oberfläche fungiert, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt.
  • 1 ist eine schematische Querschnittsansicht, welche ein Beispiel der Schichtstruktur einer optischen Platte der vorliegenden Erfindung zeigt. Diese optische Platte ist ein Aufnahmemedium und umfasst eine Aufnahmeschicht (4), die als Informationsaufnahmeschicht auf einem Trägersubstrat (20) mit vergleichsweise hoher Festigkeit fungiert, eine lichtdurchlässige Schicht (7) auf der Aufnahmeschicht (4) und eine lichtdurchlässige Hartbeschichtung (8) auf der lichtdurchlässigen Schicht (7). Die Hartbeschichtung (8) fungiert als die Oberfläche, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt, und der Laserstrahl zur Aufnahme oder Wiedergabe fällt durch die Hartbeschichtung (8) und die lichtdurchlässige Schicht (7) auf die Aufnahmeschicht (4). Die Dicke der lichtdurchlässigen Schicht (7), einschließlich der Hartbeschichtung (8), liegt bevorzugt in einem Bereich von 30 bis 150 μm, bevorzugter von 70 bis 150 μm. Ein Beispiel für diesen Typ einer optischen Platte ist die Blu-Ray-Disk. Die Härte der Hartbeschichtung (8) beträgt wenigstens Grad B in einem Stifthärte-Test.
  • Obwohl in den Zeichnungen nicht dargestellt, umfasst die vorliegende Erfindung ebenso optische Platten mit zwei oder mehr Aufnahmeschichten, in denen eine zusätzliche Aufnahmeschicht auf der Aufnahmeschicht (4) mit einer dazwischen angeordneten Abstandsschicht vorliegt. In solchen Fällen sind die lichtdurchlässige Schicht (7) und die Hartbeschichtung (8) auf der Aufnahmeschicht aufgebildet, die am weitesten von dem Trägersubstrat (20) entfernt positioniert ist.
  • Die vorliegende Erfindung kann auf sämtliche Arten von Aufnahmeschichten angewendet werden. Anders ausgedrückt, kann die Erfindung auf Aufnahmemedien vom Phasenumwandlungstyp, Aufnahmemedien vom Pit-Bildungstyp und magneto-optische Aufnahmemedien angewendet werden. Normalerweise wird eine dielektrische Schicht oder eine Reflexionsschicht auf zumindest einer Seite der Aufnahmeschicht angeordnet, um die Aufnahmeschicht zu schützen und eine optische Wirkung zu erzielen; diese Schicht wurde jedoch in 1 weggelassen. Des weiteren ist die vorliegende Erfindung nicht auf Medien vom Aufnahmetyp, wie sie beispielhaft die in den Zeichnungen dargestellt sind, beschränkt, sondern kann ebenso auf schreibgeschützte Medien angewendet werden. In diesen Fällen wird die Pit-Sequenz als integraler Bestandteil des Trägersubstrats (20) gebildet, und die Reflexionsschicht (eine Metallschicht oder ein dielektrischer mehrschichtiger Film), welche die Pit-Sequenz bedeckt, fungiert als die Informationsaufnahmeschicht.
  • Im Folgenden wird ein optisches Informationsmedium der vorliegenden Erfindung, welches ein Aufnahmemedium vom Phasenumwandlungstyp verwendet, beschrieben.
  • 2 ist eine schematische Querschnittsansicht, die ein Beispiel für eine Schichtstruktur einer optischen Platte der vorliegenden Erfindung zeigt. In 2 besteht eine optische Platte aus einem Trägersubstrat (20), auf dem Informations-Pits, Vorrillen (”Pregrooves”) und andere Konkavitäten-Konvexitäten auf einer Oberfläche ausgebildet sind. Auf dieser Oberfläche sind eine Reflexionsschicht (3), eine zweite dielektrische Schicht (52), eine Phasenumwandlungs-Aufnahmematerial-Schicht (4) und eine erste dielektrische Schicht (51) in dieser Reihenfolge und außerdem eine lichtdurchlässige Schicht (7) auf der ersten dielektrischen Schicht (51) und eine Hartbeschichtung (8) auf der lichtdurchlässigen Schicht (7) aufgebildet. In diesem Beispiel wird eine Informationsaufnahmeschicht aus der Reflexionsschicht (3), der zweiten dielektrischen Schicht (52), der Phasenumwandlungs-Aufnahmematerial-Schicht (4) und der ersten dielektrischen Schicht (51) gebildet. Ein Schichtelement, welches zur Aufnahme oder Wiedergabe notwendig ist, wird aus der Informationsaufnahmeschicht und der lichtdurchlässigen Schicht (7) gebildet. Bei Verwendung der optischen Platte fällt ein Laserstrahl zur Aufnahme oder Wiedergabe durch die Hartbeschichtung (8) und die lichtdurchlässige Schicht (7), d. h. die Schichtelementseite.
  • Das Trägersubstrat (20) besitzt eine Dicke von 0,3 bis 1,6 mm, bevorzugt von 0,4 bis 1,3 mm, und enthält Informations-Pits, Vorrillen und ändere Konkavitäten-Konvexitäten feinen Maßstabs, die auf der Oberfläche ausgebildet sind, auf der die Aufnahmeschicht (4) aufgebildet ist.
  • Das Trägersubstrat (20) muss nicht notwendigerweise optisch transparent sein, wenn die optische Platte derart verwendet wird, dass ein Laserstrahl durch die Schichtelementseite, wie oben beschrieben, einfällt. Jedoch können als transparente Materialien verschiedene Kunststoffmaterialien, einschließlich Polycarbonatharze, Acrylharze, wie beispielsweise Polymethylmethacrylat (PMMA), und Polyolefinharze und Ähnliches, verwendet werden. Alternativ können ebenso Glas, Keramik oder Metalle und Ähnliches verwendet werden. Bei Verwendung eines Kunststoffmaterials wird das Muster der Konkavität-Konvexität in der Oberfläche oftmals durch Spritzgießen hergestellt, während im Fall von anderen Materialien als Kunststoff das Muster durch ein Photopolymerverfahren (2P-Verfahren) gebildet wird.
  • Die Reflexionsschicht (3) wird üblicherweise durch ein Zerstäubungsverfahren auf dem Trägersubstrat (20) abgelagert. Als Material für die Reflexionsschicht können ein Metallelement, Halbmetallelement, Halbleiterelement oder Verbindungen davon allein oder in Mischung verwendet werden. Insbesondere kann das Material aus bekannten Materialien für Reflexionsschichten, wie beispielsweise Au, Ag, Cu, Al und/oder Pd, ausgewählt werden. Die Reflexionsschicht ist bevorzugt als dünner Film mit einer Dicke von 20 bis 200 nm gebildet.
  • Die zweite dielektrische Schicht (52), die Phasenumwandlungs-Aufnahmematerial-Schicht (4) und die erste dielektrische Schicht (51) werden in dieser Reihenfolge durch ein Zerstäubungsverfahren auf der Reflexionsschicht (3) oder auf dem Trägersubstrat (20), in dem Fall, in dem keine Reflexionsschicht vorliegt, abgelagert.
  • Die Phasenumwandlungs-Aufnahmematerial-Schicht (4) ist aus einem Material gebildet, das bei Bestrahlung mit einem Laserstrahl reversibel zwischen dem kristallinen Zustand und dem amorphen Zustand wechselt und zwischen diesen Zuständen verschiedene optische Eigenschaften aufweist. Zu Beispielen für derartige Materialien zählen Ge-Sb-Te, In-Sb-Te, Sn-Se-Te, Ge-Te-Sn, In-Se-Tl und In-Sb-Te. Außerdem kann zu jedem dieser Materialien eine Spur wenigstens eines Metalls, ausgewählt aus Co, Pt, Pd, Au, Ag, Ir, Nb, Ta, V, W, Ti, Cr, Zr, Bi, In und Ähnlichem, zugegeben werden. Ebenso kann eine Spur eines reduktiven Gases, wie beispielsweise Stickstoff, zugegeben werden. Hinsichtlich der Dicke der Aufnahmematerialschicht (4) besteht keine Einschränkung; sie liegt beispielsweise in einem Bereich von etwa 3 bis 50 nm.
  • Die zweite dielektrische Schicht (52) und die erste dielektrische Schicht (51) sind auf der oberen bzw. unteren Oberfläche der Aufnahmematerialschicht (4) sandwichartig aufgebildet. Die zweite dielektrische Schicht (52) und die erste dielektrische Schicht (51) haben nicht nur die Funktion, die Aufnahmematerialschicht (4) mechanisch und chemisch zu schützen, sondern fungieren ebenso als Interferenzschicht zur Einstellung optischer Eigenschaften. Die zweite dielektrische Schicht (52) und die erste dielektrische Schicht (51) können jeweils entweder aus einer einzigen Schicht oder aus mehreren Schichten bestehen.
  • Die zweite dielektrische Schicht (52) und die erst dielektrische Schicht (51) sind bevorzugt aus einem Oxid, einem Nitrid, einem Sulfid oder einem Fluorid oder einem Komposit davon gebildet, welches wenigstens ein Metall, ausgewählt aus Si, Zn, Al, Ta, Ti, Co, Zr, Pb, Ag, Zn, Sn, Ca, Ce, V, Cu, Fe und Mg, enthält. Des weiteren besitzen die zweite dielektrische Schicht (52) und die erste dielektrische Schicht (51) bevorzugt einen Extinktionskoeffizienten k von 0,1 oder weniger.
  • Hinsichtlich der Dicke der zweiten dielektrischen Schicht (52) besteht keine Einschränkung; sie liegt bevorzugt beispielsweise in einem Bereich von etwa 20 bis 150 nm. Ebenso besteht keine Einschränkung hinsichtlich der Dicke der ersten dielektrischen Schicht (51), die bevorzugt beispielsweise in einem Bereich von etwa 20 bis 200 nm liegt. Das Einstellen der Dicken der zweiten dielektrischen Schicht (52) und der ersten dielektrischen Schicht (51) in diesen Bereichen ermöglicht die Regulation der Reflexion.
  • Die lichtdurchlässige Schicht (7) ist auf der ersten dielektrischen Schicht (51) unter Verwendung eines durch aktive Energiestrahlung härtbaren Materials oder einer lichtdurchlässigen Folie (”Sheet”), beispielsweise einer Polycarbonatfolie, aufgebildet.
  • Das durch aktive Energiestrahlung härtbare Material für die lichtdurchlässige Schicht (7) sollte optisch transparent sein, geringe optische Absorption oder Reflexion in dem verwendeten Laser-Wellenlängenbereich und geringe Doppelbrechung aufweisen; es wird aus durch Ultraviolettstrahlung härtbaren Materialien, durch Elektronenstrahlen härtbaren Materialien und Ähnlichem entsprechend ausgewählt.
  • Insbesondere besteht das durch aktive Energiestrahlung härtbare Material bevorzugt aus einer durch Ultraviolettstrahlung (Elektronenstrahlung) härtbaren Verbindung oder deren Zusammensetzung zur Polymerisation. Zu Beispielen zählen Monomere, Oligomere, Polymere und Ähnliches, worin durch Bestrahlung mit ultravioletten Strahlen vernetzbare oder polymerisierbare Gruppen, wie beispielsweise Doppelbindungen vom Acryltyp, wie beispielsweise in Ester-Verbindungen von Acrylat und Methacrylat, Epoxyacryaten und Urethanacrylaten, Doppelbindungen vom Allyltyp, wie beispielweise in Diallylphthalat, und ungesättigte Doppelbindungen, wie beispielsweise in Maleinsäurederivaten und Ähnlichem, enthalten oder in das Molekül eingeführt sind. Diese sind bevorzugt polyfunktionell, insbesondere tri- oder höherfunktionell, und können allein oder in Kombination verwendet werden. Gegebenenfalls können monofunktionelle Gruppen verwendet werden.
  • Das durch Ultraviolettstrahlung härtbare Monomere ist bevorzugt eine Verbindung mit einem Molekulargewicht von weniger als 2000; das Oligomere ist bevorzugt eine Verbindung mit einem Molekulargewicht von 2000 bis 10000. Dazu zählen Styrol, Ethylacrylat, Ethylenglykoldiacrylat, Ethylenglykoldimethacrylat, Diethylenglykoldiacrylat, Diethylenglykolmethacrylat, 1,6-Hexandioldiacrylat, 1,6-Hexandioldimethacrylat usw.; zu besonders bevorzugten Beispielen zählen Pentaerythritoltetra(meth)acrylat, Pentaerythritoltri(meth)acrylat, Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Trimethylolpropandi(meth)acrylat, (Meth)acrylat von Phenolethylenoxid-Addukten usw.. Außerdem umfasst das durch Ultraviolettstrahlung härtbare Oligomere Oligoesteracrylat, Acryl-modifiziertes Urethanelastomer usw..
  • Das durch Ultraviolettstrahlung (Elektronenstrahlung) härtbare Material kann bekannte Photopolymerisationsinitiatoren enthalten. Der Photopolymerisationsinitiator ist nicht unbedingt notwendig, wenn Elektronenstrahlen als aktive Energiestrahlen verwendet werden. Wenn jedoch Ultraviolettstrahlen verwendet werden, ist ein Initiator notwendig. Der Photopolymerisationsinitiator kann passend aus üblichen Photopolymerisationsinitiatoren, wie beispielsweise Acetophenon, Benzoin, Benzophenon, Thioxanthon, ausgewählt werden. Zu Beispielen für Radikal-Photoinitiatoren unter den Photopolymerisationsinitiatoren zählen DAROCURE 1173, IRGACURE 651, IRGACURE 184 und IRGACURE 907 (jeweils Produkte, hergestellt von Ciba Speciality Chemicals Inc.). Der prozentuale Anteil des Photopolymerisationsinitiators beträgt beispielsweise etwa 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf die durch Ultraviolettstrahlung (Elektronenstrahlung) härtbare Komponente.
  • Als durch Ultraviolettstrahlung härtbares Material wird ebenso eine Zusammensetzung, die eine Epoxyverbindung und einen Photo-Kationen-Polymerisationskatalysator enthält, bevorzugt verwendet. Die Epoxyverbindung ist bevorzugt eine alizyklische Epoxyverbindung, insbesondere eine Verbindung mit 2 oder mehr Epoxygruppen im Molekül. Bei der alizyklischen Epoxyverbindung handelt es sich bevorzugt um eine oder mehrere der folgenden Verbindungen: 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexancarboxylat, Bis-(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipat, Bis-(3,4-epoxycyclohexyl)adipat, 2-(3,4-Epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexan-metha-dioxan, Bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether und Vinylcyclohexendioxid usw.. Obwohl das Epoxyäquivalent der alizyklischen Epoxyverbindung nicht besonders eingeschränkt ist, beträgt es bevorzugt 60 bis 300, bevorzugter 100 bis 200, um ausgezeichnete Härtungseigenschaften zu erreichen.
  • Bei dem verwendeten Photo-Kationen-Polymerisationskatalysator kann es sich um irgendeinen bekannten handeln; er ist nicht besonders eingeschränkt. Beispielsweise ist es möglich, einen oder mehrere der foglenden zu verwenden: Metall-Flourborate und Borontrifluorid-Komplexe, Bis(perfluoralkylsulfonyl)methan-Metallsalze, Aryldiazonium-Verbindungen, aromatische Oniumsalze der Elemente der Gruppe 6A, aromatische Oniumsalze der Elemente der Gruppe 5A, Dicarbonylchelate der Elemente der Gruppen 3A bis 5A, Thiopyryliumsalze, Elemente der Gruppe 6A mit MF6-Anionen (M ist P, As oder Sb), Triarylsulfonium-Komplexsalze, aromatische Iodonium-Komplexsalze, aromatische Sulfonium-Komplexsalze usw.; besonders bevorzugt ist die Verwendung einer oder mehrerer der folgenden Verbindungen: Polyarylsulfonium-Komplexsalze, aromatische Sulfoniumsalze oder Iodoniumsalze von halogenhaltigen Komplexionen und aromatische Oniumsalze der Elemente der Gruppe 3A, der Gruppe 5A und der Gruppe 6A. Der prozentuale Gehalt des Photo-Kationen-Polymerisationskatalysators beträgt beispielsweise etwa 0,5 bis 5 Gew.-% der durch Ultraviolettstrahlung härtbaren Komponente.
  • Das für die lichtdurchlässige Schicht verwendete, durch aktive Energie härtbare Material besitzt bevorzugt eine Viskosität von 1.000 bis 10.000 cp (bei 25°C).
  • Bei der Bildung der lichtdurchlässigen Schicht (7) wird das Auftragen des durch aktive Energiestrahlung härtbaren Materials auf die Oberfläche der ersten dielektrischen Schicht (51) bevorzugt unter Anwendung eines Rotationsbeschichtungsverfahrens (Spin-Coating) durchgeführt. Nach dem Auftragen kann dieses härtbare Material dann durch Bestrahlung mit ultravioletten Strahlen gehärtet werden. Diese Bestrahlung mit ultravioletter Strahlung kann in mehrere Bestrahlungsdosen aufgeteilt werden. Des weiteren kann der Vorgang des Auftragens des durch aktive Energiestrahlung härtbaren Materials ebenso unter Verwendung mehrerer Auftragvorgänge erfolgen, wobei die Bestrahlung mit ultravioletter Strahlung nach jedem einzelnen Auftragvorgang durchgeführt wird. Durch Aufteilen der Ultraviolettbestrahlung in mehrere Bestrahlungsdosen kann das Harz schrittweise gehärtet werden, wodurch eine Reduzierung der Spannung, die sich in der Platte jedes Mal aufgrund der Schrumpfung durch die Härtung ansammelt, ermöglicht wird, was zu einer Reduzierung der Gesamtspannung, die in der Platte angesammelt wird, führt. Im Ergebnis kann, auch wenn die Dicke der lichtdurchlässigen Schicht (7), wie in dem oben beschriebenen Fall, beträchtlich ist, eine Platte mit ausgezeichneten mechanischen Eigenschaften hergestellt werden.
  • Alternativ kann in der vorliegenden Erfindung eine lichtdurchlässige Schicht ebenso unter Verwendung einer lichtdurchlässigen Harzfolie (”Sheet”) gebildet werden. In diesem Fall wird ein durch aktive Energiestrahlung härtbares Material auf die Oberfläche der ersten dielektrischen Schicht (51) auf ähnliche Weise, wie zuvor bei der Bildung einer lichtdurchlässigen Schicht beschrieben, aufgetragen, wodurch eine ungehärtete Harzmaterialschicht gebildet wird. Eine lichtdurchlässige Folie wird dann auf dieser ungehärteten Harzmaterialschicht als lichtdurchlässige Schicht (7) platziert; durch anschließende Bestrahlung der Struktur mit aktiver Energiestrahlung, wie beispielsweise ultravioletter Strahlung, und Härten der darunter liegenden Harzmaterialschicht wird die lichtdurchlässige Folie an die Struktur gebunden und bildet die lichtdurchlässige Schicht (7). Das durch aktive Energiestrahlung härtbare Material dieser Harzmaterialschicht besitzt bevorzugt eine Viskosität von 3 bis 500 cp (bei 25°C). Das Auftragen der Harzmaterialschicht wird bevorzugt unter Verwendung eines Rotationsbeschichtungsverfahrens durchgeführt, und die Dicke der Harzmaterialschicht nach dem Härten liegt typischerweise in einem Bereich von 1 bis 50 μm.
  • Die lichtdurchlässige Folie kann beispielsweise eine Polycarbonatfolie mit jeder beliebigen Dicke in einem Bereich von 50 bis 300 μm verwenden. Insbesondere umfasst die Bildung der lichtdurchlässigen Schicht (7) das Platzieren der Polycarbonatfolie mit gewünschter Dicke auf der ungehärteten Harzmaterialschicht unter Vakuumbedingungen (0,1 Atmosphären oder darunter), das Zurückbringen der Struktur in atmosphärischen Druck und das Durchführen der Bestrahlung mit ultravioletten Strahlen zur Härtung der Harzmaterialschicht.
  • Dann wird eine Hartbeschichtung (8) auf der lichtdurchlässigen Schicht (7) unter Verwendung der zuvor beschriebenen Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gebildet. Anders ausgedrückt, wird die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung auf die Oberfläche der lichtdurchlässigen Schicht (7) aufgetragen, wodurch eine ungehärtete Hartbeschichtung gebildet wird, und diese ungehärtete Schicht wird dann mit aktiver Energiestrahlung, wie beispielsweise ultravioletten Strahlen, Elektronenstrahlen oder sichtbaren Strahlen, bestrahlt, wodurch die ungehärtete Schicht gehärtet und die Hartbeschichtung (8) gebildet wird.
  • Das angewendete Beschichtungsverfahren ist nicht eingeschränkt, und es können verschiedene Beschichtungsverfahren, wie beispielsweise Rotationsbeschichtungs-, Tauchbeschichtungs- oder Gravurstreichverfahren, verwendet werden. In einem alternativen Verfahren, in dem eine lichtdurchlässige Folle als lichtdurchlässige Schicht (7) verwendet wird, wird die Hartbeschichtung (8) zunächst auf einer gedehnten, rohen lichtdurchlässigen Folie, wie oben beschrieben, aufgebildet und anschließend Platten aus dieser Rohfolie ausgestanzt. Auf die gleiche Weise wie oben beschrieben, werden die Platten auf der ungehärteten Harzmaterialschicht platziert und die ungehärtete Harzmaterialschicht gehärtet.
  • Wenn die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung ein nichtreaktives organisches Verdünnungsmittel enthält, wird die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung zunächst aufgetragen, um eine ungehärtete Hartbeschichtung zu bilden, welche dann durch Erwärmen gehärtet wird, um das nicht-reaktive organische Lösungsmittel zu entfernen. Anschließend wird mit aktiver Energiestrahlung bestrahlt, um die ungehärtete Schicht zu härten, wodurch die Hartbeschichtung (8) gebildet wird. Indem zunächst die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung unter Verwendung des organischen Verdünnungsmittels aufgetragen und dann das organische Lösungsmittel durch Erwärmen und Trocknen entfernt wird, konzentriert sich die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) in der Nähe der Oberfläche der ungehärteten Hartbeschichtung. Im Ergebnis existiert mehr fluorhaltiger Polyether in der Nähe der Oberfläche der gehärteten Hartbeschichtung (8). Dadurch wird die Lubrizität weiter verstärkt. Der Erwärmungs-/Trocknungsprozess wird bevorzugt bei einer Temperatur von beispielsweise 40°C bis 100°C über einen Zeitraum von beispielsweise 30 Sekunden bis 8 Minuten, bevorzugt 1 Minute bis 5 Minuten, bevorzugter 3 Minuten bis 5 Minuten, durchgeführt. Zu Beispielen für das nicht-reaktive organische Verdünnungsmittel zählen Propylenglykolmonomethyletheracetat, Propylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonomethylether, Butylacetat, Methylethylketon, Methylisobutylketon und Isopropylalkohol, sind jedoch nicht darauf beschränkt. Die aktive Energiestrahlung kann passend ausgewählt werden aus ultravioletten Strahlen, Elektronenstrahlen, sichtbaren Strahlen und anderen geeigneten aktiven Energiestrahlen. Bevorzugt werden ultraviolette Strahlen oder Elektronenstrahlen verwendet. Die Dicke der Hartbeschichtung (8) nach dem Trocknen wird auf etwa 0,5 bis 5 μm eingestellt.
  • Auf diese Weise kann eine optische Aufnahmeplatte vom Phasenumwandlungstyp, wie beispielhaft in 2 dargestellt, hergestellt werden, welche ein Beispiel für ein optisches Informationsmedium darstellt, in dem die Oberfläche der Schichtelementseite als die Oberfläche fungiert, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt.
    • 2. Optische Informationsmedien, in denen die Oberfläche der Trägersubstratseite als die Oberfläche fungiert, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt: Als nächstes wird ein optisches Informationsmedium beschrieben, in dem die Oberfläche der Trägersubstratseite als die Oberfläche fungiert, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt.
  • 3 ist eine schematische Querschnittsansicht, die ein weiteres Beispiel der Schichtstruktur einer optischen Platte der vorliegenden Erfindung zeigt. Die in 3 dargestellte optische Platte umfasst eine Informationsaufnahmeschicht (4) auf einer Oberfläche eines lichtdurchlässigen Trägersubstrats (20) und eine Schutzschicht (6) auf der Informationsaufnahmeschicht (4), während eine lichtdurchlässige Hartbeschichtung (8) auf der anderen Oberfläche des Trägersubstrats (20) aufgebildet ist. Die Hartbeschichtung (8) fungiert als die Oberfläche, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt, und der Laserstrahl zur Aufnahme oder Wiedergabe fällt durch die Hartbeschichtung (8) und das Trägersubstrat (20) auf die Aufnahmeschicht (4).
  • 4 ist eine schematische Querschnittsansicht, die noch ein weiteres Beispiel der Schichtstruktur einer optischen Platte der vorliegenden Erfindung zeigt. Die in 4 dargestellte optische Aufnahmeplatte umfasst eine organische Farbstoffschicht (4) auf einer Oberfläche eines lichtdurchlässigen Trägersubstrats (20), eine Reflexionsschicht (3) auf der Farbstoffschicht (4) und ein weiteres Trägersubstrat (21), das an die Reflexionsschicht (3) über eine Schutz- und Klebstoffschicht (61) gebunden ist, während eine lichtdurchlässige Hartbeschichtung (8) auf der anderen Oberfläche des Trägersubstrats (20) aufgebildet ist. Die Hartbeschichtung (8) fungiert als die Oberfläche, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt. In diesem Beispiel bilden die Farbstoffschicht (4) und die Reflexionsschicht (3) die Informationsaufnahmeschicht. Ein Beispiel für diesen Typ einer optischen Platte ist das einmal beschreibbare DVD-R-Format.
  • Zusätzlich zu der in 4 dargestellten einmal beschreibbaren DVD-R-Platte können eine Anzahl anderer Plattenformate, einschließlich schreibgeschützter DVD-ROM, und überschreibbarer Formate, wie beispielsweise DVD-RAM und DVD-RW und Ähnliches, kommerziell erhältlich sein. Zu schreibgeschützten DVD-Formaten zählen DVD-Video und DVD-ROM, und mit diesen Typen optischer Platten werden als ”Pits” bekannte Konkavitäten-Konvexitäten, welche zur Aufnahme von Informationssignalen verwendet werden, in der Oberfläche des lichtdurchlässigen Trägersubstrats während der Herstellung des Substrats gebildet; dann werden eine Metallreflexionsschicht, wie beispielsweise A1, und anschließend eine Schutzschicht nacheinander auf das Trägersubstrat aufgebildet. Danach wird ein separates Trägersubstrat an die Schutzschicht über eine Klebstoffschicht gebunden, wodurch die optische Platte vervollständigt wird. Im Fall von überschreibbaren DVD-Formaten kann die Informationsaufnahmeschicht auf die gleiche Weise wie bei dem oben in Abschnitt 1 beschriebenen Aufnahmemedium vom Phasenumwandlungstyp gebildet werden.
  • Das Trägersubstrat (20) verwendet ein lichtdurchlässiges Basismaterial Konventionell wird das lichtdurchlässige Trägersubstrat (20) durch Spritzformen eines Polycarbonatharzes gebildet, wobei die Information in der Oberfläche des Harzes als eine Reihe von Vorpits (”Prepits”) oder Vorrillen (”Pregrooves”) gebildet wird. Jedoch können ebenso andere Materialien und Harze, wie beispielsweise Polyolefinharze, vorteilhaft verwendet werden. Alternativ kann das Trägersubstrat ebenso aus einer flachen Glasplatte unter Verwendung des 2P-Verfahrens zur Bildung einer Reihe von Vorpits oder Vorrillen gebildet werden.
  • Eine Lösung eines in einem Lösungsmittel gelösten organischen Farbstoffs wird auf die Oberfläche des Trägersubstrats (20) unter Verwendung von Rotationsbeschichtung aufgetragen und dann zur Bildung einer organischen Farbstoffschicht (4) mit gewünschter Dicke getrocknet. Der organische Farbstoff kann aus verschiedenen Cyaninfarbstoffen, Azofarbstoffen und Phthalocyaninfarbstoffen oder Ähnlichem ausgewählt werden. Es können auch andere Techniken als Rotationsbeschichtung, wie beispielsweise Sprühverfahren, Siebdruckverfahren oder Vakuumabscheideverfahren, zur Bildung der organischen Farbstoffschicht verwendet werden, und die Dicke der gebildeten Schicht kann in Übereinstimmung mit dem verwendeten Farbstoff entsprechend ausgewählt werden.
  • In den Fällen, in denen Rotationsbeschichtung verwendet wird, wird die Farbstoffkomponente in einem Lösungsmittel gelöst und in Form einer organischen Farbstofflösung verwendet. Bei dem Lösungsmittel sollte es sich um ein Lösungsmittel handeln, welches den Farbstoff zufriedenstellend lösen kann, ohne dabei nachteilige Wirkungen auf das lichtdurchlässige Basismaterial zu haben. Die Konzentration der Farbstofflösung liegt bevorzugt in einem Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%.
  • Zu spezifischen Beispielen für die Lösungsmittel zählen Lösungsmittel auf Alkoholbasis, wie beispielsweise Methanol, Ethanol, Isopropylalkohol, Octafluorpentanol, Allylalkohol, Methylzellosolve, Ethylzellosolve und Tetrafluorpropanol, Lösungsmittel auf Basis von aliphatischen oder alicyclischen Kohlenwasserstoffen, wie beispielsweise Hexan, Heptan, Octan, Decan, Cyclohexan, Methylcyclohexan, Ethylcyclohexan und Dimethylcyclohexan, Lösungsmittel auf Basis aromatischer Kohlenwasserstoffe, wie beispielsweise Toluol, Xylol und Benzol, Lösungsmittel auf Basis halogenierter Kohlenwasserstoffe, wie beispielsweise Kohlenstofftetrachlorid, Chloroform, Tetrachlorethan und Dibromethan, Lösungsmittel auf Etherbasis, wie beispielsweise Diethylether, Dibutylether, Diisopropylether und Dioxan, Lösungsmittel auf Ketonbasis, wie beispielsweise 3-Hydroxy-3-methyl-2-butanon, Lösungsmittel auf Esterbasis, wie beispielsweise Ethylacetat und Methylactat, und Wasser; von diesen sollte ein Lösungsmittel verwendet werden, welches nicht das Substratbasismaterial angreift. Diese Lösungsmittel können entweder einzeln oder in Kombinationen von zwei oder mehr verschiedenen Lösungsmitteln verwendet werden.
  • Hinsichtlich der Dicke der organischen Farbstoffschicht bestehen keine besonderen Einschränkungen, obwohl Werte von etwa 10 bis 300 nm bevorzugt und Werte von etwa 60 bis 250 nm besonders bevorzugt sind.
  • Eine Reflexionsschicht (3) ist auf der organischen Farbstoffschicht (4) aufgebildet. Das Material für die Reflexionsschicht muss ein Material mit zufriedenstellend hohem Reflexionsgrad bei der Wellenlänge des Wiedergabestrahls sein; zu Beispielen zählen Metallelemente, wie beispielsweise Au, Ag, Cu, Al, Ni, Pd, Cr und Pt, sowie Legierungen dieser Metalle. Des weiteren können die im Folgenden aufgeführten Elemente ebenso enthalten sein, nämlich Metalle und Metalloide, wie beispielsweise Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn und Bi.
  • Die Reflexionsschicht kann unter Verwendung eines Zerstäubungsverfahrens, Ionenplattierungsverfahrens, chemischen (Metall-)Abscheideverfahrens oder Vakuumabscheideverfahrens gebildet werden, wobei es sich nicht um eine restriktive Aufzählung handelt. Des weiteren kann eine konventionelle anorganische oder organische Zwischenschicht oder Klebstoffschicht zwischen dem Substratbasismaterial und der Reflexionsschicht angeordnet sein, um den Reflexionsgrad und/oder die Aufnahmeeigenschaften der Platte zu verbessern. Hinsichtlich der Dicke der Reflexionsschicht bestehen keine besonderen Einschränkungen, obwohl Werte von etwa 10 bis 300 nm bevorzugt und Werte von etwa 80 bis 200 nm besonders bevorzugt sind.
  • Ein weiteres Trägersubstrat (21) ist üblicherweise an die Reflexionsschicht (3) über eine Schutz- und Klebstoffschicht (61) gebunden. Dieses Trägersubstrat (21) kann das gleiche Material verwenden wie das Trägersubstrat (20). Es bestehen keine besonderen Einschränkungen hinsichtlich des Materials, welches für die Klebstoffschicht (61) verwendet wird, solange es die zwei Substrate (21) und (20) verbinden kann und die Reflexionsschicht von äußeren Krafteinflüssen schützt; es können konventionelle organische oder anorganische Materialien verwendet werden. Zu Beispielen für organische Materialien zählen thermoplastische Harze, warmaushärtende Harze und durch Ultraviolettstrahlung härtbare Harze. Zu Beispielen für anorganische Materialien zählen SiO2, SiN4, MgF2 und SnO2. Die Klebstoffschichten aus thermoplastischen Harzen oder warmaushärtenden Harzen können durch Lösen des Harzes in einem geeigneten Lösungsmittel, Auftragen des Harzes in Lösungsform und anschließendes Trocknen der aufgetragenen Lösung gebildet werden. Durch Ultraviolettstrahlung härtbare Harze können entweder so wie sie sind aufgetragen werden, oder sie werden in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst und als Lösung aufgetragen; dann wird der aufgetragene Film mit ultravioletten Strahlen bestrahlt, um das Harz zu härten und die Schicht zu erzeugen. Zu Beispielen für durch Ultraviolettstrahlung härtbare Harze zählen Acrylatharze, wie beispielweise Urethanacrylat, Epoxyacrylat und Polyesteracrylat. Diese Materialien können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr Materialien verwendet und entweder als Einzelschicht oder als mehrschichtiger Film ausgebildet werden.
  • Die Bildung der Schutz- und Klebstoffschicht (61) wird entweder unter Verwendung eines Auftragverfahrens, wie beispielsweise des Rotationsbeschichtungsverfahrens, welches bei der Bildung der Aufnahmeschicht verwendet wird, oder eines Gießverfahrens oder eines anderen Verfahrens, wie beispielsweise Zerstäubung oder chemische (Metall-)Abscheidung, durchgeführt.
  • Des weiteren können für den Klebstoff, der in dem Verbindungsschritt verwendet wird, eine Anzahl verschiedener Klebstoffe verwendet werden, einschließlich Heißschmelzklebstoffe, durch Ultraviolettstrahlung härtbare Klebstoffe, durch Wärme härtende Klebstoffe und Klebstoffe vom klebrigen Typ; er wird unter Verwendung eines Verfahrens, das für den Klebstofftyp geeignet ist, wie beispielsweise Walzbeschichten, Siebdruck oder Rotationsbeschichten, aufgetragen, obwohl im Fall von DVD-R-Platten aufgrund von Faktoren, wie beispielsweise Verarbeitbarkeit, Produktivität und resultierende Platteneigenschaften, bevorzugt ein durch Ultraviolettstrahlung härtbarer Klebstoff unter Verwendung eines Siebdruck- oder Rotationsbeschichtungsverfahrens aufgetragen wird.
  • Eine lichtdurchlässige Hartbeschichtung (8) wird auf der anderen Seite des Trägersubstrats (20) aufgebildet. Das Material für die Hartbeschichtung (8) und das für die Bildung der Schicht verwendete Verfahren sind in dem obigen Abschnitt 1 beschrieben. Die Hartbeschichtung (8) fungiert als Oberfläche, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt. Der Aufnahme-/Wiedergabestrahl verwendet einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 650 oder 660 nm. Ebenso kann ein Blaulaserstrhl verwendet werden.
  • Auf die oben beschriebene Weise kann eine DVD-R-Platte, wie beispielhaft in 4 dargestellt, hergestellt werden, welche ein Beispiel für ein optisches Informationsmedium darstellt, in dem die Oberfläche der Trägersubstratseite als die Oberfläche fungiert, auf die der Aufnahme-/Wiedergabestrahl einfällt.
  • BEISPIELE
  • Die vorliegende Erfindung wird nun detailliert mit Bezug auf die Beispiele, welche den Umfang der Erfindung in keiner Weise einschränken, beschrieben.
  • Beispiel 1
  • Eine Probe einer optischen Aufnahmeplatte mit der in 2 dargestellten Schichtstruktur wurde folgendermaßen hergestellt.
  • Unter Verwendung eines plattenförmigen Trägersubstrats (20) (gebildet aus Polycarbonat, Durchmesser 120 mm, Dicke 1,1 mm), in der Informationsaufnahmerillen gebildet wurden, wurde ein Zerstäubungsverfahren verwendet, um eine Reflexionsschicht (3) mit einer Dicke von 100 nm, enthaltend Al98Pd1Cu1 (Atomverhältnis), auf der rillenseitigen Oberfläche des Substrats aufzubilden. Die Tiefe der Rillen, die durch die Strahlengangslänge bei einer Wellenlänge λ = 405 nm dargestellt ist, wurde auf λ/6 eingestellt. Der Aufnahmespurabstand (Pitch) in dem Rillenaufnahmeschema wurde auf 0,32 μm eingestellt.
  • Anschließend wurde eine Zerstäubung mit einem Al2O3-Target verwendet, um eine zweite dielektrische Schicht (52) mit einer Dicke von 20 nm auf der Oberfläche der Reflexionsschicht (3) zu bilden. Dann wurde Zerstäubung unter Verwendung eines Legierungs-Targets, enthaltend ein Phasenumwandlungsmaterial, verwendet, um eine Aufnahmeschicht (4) mit einer Dicke von 12 nm auf der Oberfläche der zweiten dielektrischen Schicht (52) zu bilden. Die Zusammensetzung (Atomverhältnis) der Aufnahmeschicht (4) war Sb74Te18(Ge7In1). Anschließend wurde Zerstäubung mit einem ZnS(80 Mol-%)-SiO2(20 Mol-%)-Target verwendet, um eine erste dielektrische Schicht (51) mit einer Dicke von 130 nm auf der Oberfläche der Aufnahmeschicht (4) zu bilden.
  • Anschließend wurde ein radikalpolymerisierbares, durch Ultraviolettstrahlung härtbares Material mit der unten gezeigten Zusammensetzung auf die Oberfläche der ersten dielektrischen Schicht (51) durch Rotationsbeschichtung aufgetragen und dann mit ultravioletten Strahlen mit einer Bestrahlungsintensität von 160 W/cm, einem Abstand zwischen der Lampe und der aufgetragenen Schicht von 11 cm und einer Gesamtenergie von 3 J/cm2 bestrahlt, wodurch eine lichtdurchlässige Schicht (7) mit einer gehärteten Dicke von 98 μm gebildet wurde. Lichtdurchlässige Schicht: Zusammensetzung des durch Ultraviolettstrahlung härtbaren Materials
    Urethanacrylat-Oligomer 50 Gewichtsteile
    (Diabeam UK6035, hergestellt von Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
    Isocyanursäure-EO-modifiziertes Triacrylat 10 Gewichtsteile
    (Aronix M315, hergestellt von Toagosei Co., Ltd.)
    Isocyanursäure-EO-modifiziertes Diacrylat 5 Gewichtsteile
    (Aronix M215, hergestellt von Toagosei Co., Ltd.)
    Tetrahydrofurfurylacrylat 25 Gewichtsteile
    Photopolymerisationsinitiator
    (1-Hydroxycyclohexylphenylketon) 3 Gewichtsteile
  • Anschließend wurde ein durch Ultraviolettstrahlung/Elektronenstrahlung härtbares Hartbeschichtungsmittel mit der unten angegebenen Zusammensetzung auf die Oberfläche der lichtdurchlässigen Schicht (7) durch Rotationsbeschichtung aufgetragen, um eine Beschichtung zu bilden, und die aufgetragene Beschichtung 3 Minuten auf 60°C in einer Atmosphäre erhitzt, um das Verdünnungsmittel in der Beschichtung zu entfernen; dann wurde mit Ultraviolettstrahlen mit einer Bestrahlungsintensität von 160 W/cm, einem Abstand zwischen der Lampe und der aufgetragenen Beschichtung von 11 cm und einer Gesamtenergie von 3 J/cm2 bestrahlt, wodurch eine Hartbeschichtung (8) mit einer gehärteten Dicke von 2 μm gebildet wurde. Zusammensetzung des Hartbeschichtungsmittels:
    An der reaktiven Gruppe modifiziertes, kolloidales Siliziumoxid (Dispersionsmedium: Propylenglykolmonomethyletheracetat, Gehalt an nicht-flüchtigen Bestandteilen: 40 Gew.-%) 100 Gewichtsteile
    Dipentaerythritolhexaacrylat 48 Gewichtsteile
    1,6-Hexandioldiacrylat 12 Gewichtsteile
    Propylenglykolmonomethyletheracetat
    (nicht-reaktives Verdünnungsmittel) 40 Gewichtsteile
    Photopolymerisationsinitiator
    (1-Hydroxycyclohexylphenylketon) 2,5 Gewichtsteile
    Perfluorpolyether-Diacrylat
    (ART-4, hergestellt von Kyoeisha Chemical Co., Ltd.,
    Molekulargewicht Mw: ungefähr 2000) 0,3 Gewichtsteile
  • Auf diese Weise wurde eine Plattenprobe hergestellt.
  • Beispiel 2
  • Es wurde eine Plattenprobe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem Unterschied, dass die 0,3 Gewichtsteile ART-4 in der Zusammensetzung des Hartbeschichtungsmittels durch 0,3 Gewichtsteile eines anderes Perfluorpolyether-Diacrylats ART-3 (hergestellt von Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Molekulargewicht Mw: ungefähr 1000) ersetzt wurden.
  • Beispiel 3
  • Es wurde eine Plattenprobe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem Unterschied, dass die 0,3 Gewichtsteile ART-4 in der Zusammensetzung des Hartbeschichtungsmittels durch 0,3 Gewichtsteile eines Materials, in dem die vier terminalen Hydroxylgruppen von Fomblin-Z-Tetraol (hergestellt von Ausimont Co.) mit Acrylatgruppen modifiziert wurden (Molekulargewicht Mw: ungefähr 1000) ersetzt wurden.
  • Beispiel 4
  • Es wurde eine Plattenprobe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem Unterschied, dass die 0,3 Gewichtsteile ART-4 in der Zusammensetzung des Hartbeschichtungsmittels durch 0,3 Gewichtsteile eines Materials, in dem die terminalen Hydroxylgruppen von Demnum-SA (hergestellt von Daikin Industries Ltd.) mit einer Acrylatgruppe modifiziert wurden, ersetzt wurden.
  • Vergleichsbeispiel 1
  • Es wurde eine Plattenprobe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem Unterschied, dass die 0,3 Gewichtsteile ART-4 in der Zusammensetzung des Hartbeschichtungsmittels durch 0,3 Gewichtsteile Demnum-SY (einem Perfluorpolyether, hergestellt von Daikin Industries Ltd., mit nur einer Hydroxylgruppe an einem Molekülende, Molekulargewicht Mw: ungefähr 3600) ersetzt wurden.
  • Vergleichsbeispiel 2
  • Es wurde eine Plattenprobe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem Unterschied, dass die 0,3 Gewichtsteile ART-4 in der Zusammensetzung des Hartbeschichtungsmittels durch 0,3 Gewichtsteile eines vernetzenden, grenzflächenaktiven Stoffs auf Fluorbasis M-2020 (2-(Perfluordecyl)ethylmethacrylat, von Daikin Chemicals Sales Corporation) ersetzt wurden.
  • Vergleichsbeispiel 3
  • Es wurde eine Plattenprobe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem Unterschied, dass die 0,3 Gewichtsteile ART-4 nicht zu der Zusammensetzung des Hartbeschichtungsmittels gegeben wurden.
  • Bewertungen der Plattenproben
  • Jede der in den Beispielen 1 bis 4 und den Vergleichsbeispielen 1 bis 3 hergestellten Plattenproben wurde einem im Folgenden beschriebenen Leistungstest unterzogen.
  • Bewertung der schmutzabweisenden Eigenschaft und der Beständigkeit dieser Eigenschaft
  • Es wurde der Kontaktwinkel für die Hartbeschichtungsoberfläche jeder Plattenprobe gemessen. Als Messflüssigkeit wurde reines Wasser verwendet, und der statische Kontaktwinkel wurde unter Verwendung eines Flächenkontakt-Winkelmessers, hergestellt von Kyowa Interface Science Co., Ltd., gemessen. Die Messungen wurden bei einer Temperatur von 20°C und einer relativen Feuchtigkeit von 60% durchgeführt. Zunächst wurde der anfängliche Kontaktwinkel (a) gemessen.
  • Um die Beständigkeit der schmutzabweisenden Eigenschaft zu bewerten, wurde anschließend der Kontaktwinkel (b) nach einer Aceton-Wischbehandlung und der Kontaktwinkel (c) nach Lagerung bei hoher Temperatur gemessen. Bei der Bestimmung des Kontaktwinkels (b) nach einer Aceton-Wischbehandlung wurde ein Vliesstoff (Bemcot Lint-Free CT-8, hergestellt von Asahi Kasei Co., Ltd.) mit Aceton imprägniert und dann gegen die Hartbeschichtungsoberfläche jeder Plattenprobe mit einer Kraft von 1000 g/cm2 gedrückt und 100 mal auf der Hartbeschichtungsoberfläche reibend hin und her bewegt; danach wurde der Kontaktwinkel erneut unter den gleichen Bedingungen wie oben beschrieben gemessen. Bei Messung des Kontaktwinkels (c) nach Lagerung bei höher Temperatur wurde jede Plattenprobe bei 80°C (unter trockenen Bedingungen) 500 Stunden gelagert und dann der Kontaktwinkel erneut unter den gleichen Bedingungen wie oben beschrieben gemessen.
  • Bewertung der Härte
  • Die Stifthärte der Hartbeschichtungsoberfläche jeder Plattenprobe wurde in Übereinstimmung mit JIS K5400 gemessen.
  • Die Ergebnisse aus den obigen Messungen sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
  • Aus Tabelle 1 ist ersichtlich, dass jede der Plattenproben der Beispiele 1 bis 4 ausgezeichnete schmutzabweisende Eigenschaften und Beständigkeit dieser Eigenschaften aufweist, wobei eine vorteilhafte Härte der Hartbeschichtungsoberfläche aufrecht erhalten wird. Die Plattenprobe von Beispiel 3, welche elf Perfluorpolyether-Tetraacrylat verwendet, weist eine besonders haltbare schmutzabweisende Eigenschaft auf.
  • In den obigen Beispielen wird eine Hartbeschichtung auf einer optischen Platte vom Phasenumwandlungstyp beschrieben. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf die Verwendung mit optischen Platten, in denen die Aufnahmeschicht eine Schicht vom Phasenumwandlungstyp ist, beschränkt, sondern kann ebenso auf schreibgeschützte optische Platten und einmal beschreibbare optische Platten angewendet werden. Außerdem ist die vorliegende Erfindung nicht auf den Bereich der optischen Platten beschränkt, sondern kann ebenso zur Bereitstellung von Hartbeschichtungen auf einer Anzahl anderer Gegenstände verwendet werden. Demgemäß stellen die obigen Beispiele lediglich Ausführungsbeispiele der Erfindung dar und sind auf keine Weise als einschränkend zu betrachten. Des weiteren werden jegliche Modifikationen, die in den Schutzumfang der angefügten Ansprüche fallen, als Teil der vorliegenden Erfindung betrachtet. Tabelle 1
    Platte Kontaktwinkel (Grad)
    Anfänglich (a) Nach Aceton-Wischbehandlung (b) Nach Lagerung bei hoher Temperatur (c) Stifthärte
    Beispiel 1 103 65 103 H
    Beispiel 2 95 93 93 H
    Beispiel 3 105 105 105 H
    Beispiel 4 96 93 82 H
    Vergleichsbeispiel 1 76 65 - H
    Vergleichsbeispiel 2 66 - - H
    Vergleichsbeispiel 3 64 - - H

Claims (18)

  1. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung, enthaltend: eine fluorhaltige Polyetherverbindung (A), welche eine oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe(n) enthält, und eine härtbare Verbindung (B), welche zwei, drei oder mehr durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, wobei die Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung 0,01 Gewichtsteile bis 3 Gewichtsteile der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A), bezogen auf 100 Gewichtsteile der nicht flüchtigen Bestandteile der Zusammensetzung enthält, und die härtbare Verbindung (B) 65 bis 100 Gew.-% einer härtbaren Verbindung (Bt), welche drei oder mehr durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, und 0 bis 35 Gew.-% einer härtbaren Verbindung (Bd), welche zwei durch aktive Energiestrahlung polymerisierbare Gruppen in jedem Molekül enthält, bezogen auf die härtbare Verbindung (B), umfasst, wobei die durch aktive Energiestrahlung polymerisierbaren Gruppen der härtbaren Verbindungen (Bt) und (Bd) ausgewählt sind aus (Meth)acryloylgruppen, Vinylgruppen und/oder Mercaptogruppen, und wobei die härtbaren Verbindungen (Bt) und (Bd) keine Fluoratome enthalten.
  2. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) zwei oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen in jedem Molekül enthält.
  3. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß Anspruch 2, wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen an beiden Molekülenden enthält.
  4. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) eine oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe(n), bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthält.
  5. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) zwei oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthält.
  6. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) vier oder mehr mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppen, bezogen auf ein Molekulargewicht von 1000, enthält.
  7. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe der fluorhaltigen Polyetherverbindung (A) eine (Meth)acryloylgruppe und/oder eine Vinylgruppe ist.
  8. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) eine Verbindung ist, in die eine (Meth)acryloylgruppe an der Hydroxylgruppe einer fluorhaltigen Polyetherverbindung, welche eine Hydroxylgruppe an einem Molekülende aufweist, eingeführt wurde.
  9. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die fluorhaltige Polyetherverbindung (A) einen Perfluorpolyether-Anteil enthält.
  10. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 9, welche außerdem anorganische Feinpartikel (C) mit einer mittleren Partikelgröße von nicht mehr als 100 nm enthält.
  11. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß Anspruch 10, welche 5 Gewichtsteile bis 500 Gewichtsteile der anorganischen Feinpartikel (C), bezogen auf 100 Gewichtsteile der härtbaren Verbindung (B), enthält.
  12. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß Anspruch 10 oder 11, wobei die anorganischen Feinpartikel (C) entweder Feinpartikel aus einem Metall(oder Halbmetall)-oxid oder Feinpartikel aus einem Metall(oder Halbmetall)-sulfid sind.
  13. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 10 bis 12, wobei die anorganischen Feinpartikel (C) Feinpartikel aus Siliziumoxid sind.
  14. Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 10 bis 13, wobei die anorganischen Feinpartikel (C) auf der Oberfläche mit einer hydrolisierbaren Silanverbindung, welche eine mit aktiver Energiestrahlung reaktive Gruppe enthält, modifiziert sind.
  15. Gegenstand, der auf seiner Oberfläche mit einer Hartbeschichtung versehen ist, die ein gehärtetes Produkt der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 14 umfasst, wobei der Gegenstand ausgewählt ist aus optischen Informationsmedien, optischen Linsen, optischen Filtern, Antireflexionsfolien und Displayelementen.
  16. Gegenstand gemäß Anspruch 15, wobei der Gegenstand ein optisches Informationsmedium ist, welches ein Schichtelement umfasst, das aus einer oder mehreren Schichten, einschließlich wenigstens einer Aufnahmeschicht oder einer Reflexionsschicht, auf einem Trägersubstrat besteht, wobei zumindest eine der Oberflächen von Trägersubstratseite und/oder Schichtelementseite aus einer Hartbeschichtung gebildet ist, die ein gehärtetes Produkt der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 14 umfasst.
  17. Optisches Informationsmedium gemäß Anspruch 16, wobei entweder die Oberfläche der Trägersubstratseite oder die Oberfläche der Schichtelementseite, auf die das Licht einfällt, als Hartbeschichtung ausgebildet ist.
  18. Gegenstand gemäß Anspruch 15, wobei der Gegenstand ein optisches Informationsmedium ist, umfassend eine Informationsaufnahmeschicht auf einem Trägersubstrat, eine lichtdurchlässige Schicht auf der Informationsaufnahmeschicht und eine Hartbeschichtung, welche ein gehärtetes Produkt der Hartbeschichtungsmittel-Zusammensetzung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 14 auf der lichtdurchlässigen Schicht umfasst.
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