CN1647177A - 光信息介质及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质及其制造方法。在支撑基体2上具有至少含有记录层5或反射层3的由单层或多层构成的膜体，所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中的至少一个表面由含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物的固化物构成的硬涂层9形成的光信息介质1。

Description

光信息介质及其制造方法
技术领域
本发明涉及再生专用光盘、光记录盘、光磁记录盘等光信息介质及其制造方法。更具体地说，本发明涉及盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质及其制造方法。
背景技术
目前，从成形性、透明性及价格等角度出发，光信息介质的透光层等光学材料多采用聚碳酸酯或甲基丙烯酸甲酯等树脂材料。但是，这些材料存在耐擦伤性、耐磨性或对有机污物的防污性不够充分等问题，并且因显示高绝缘性，所以容易带电，介质在保存或使用过程中表面附着大量灰尘，记录与再生光学信息时容易产生错误。
为了提高介质表面的耐擦伤性，通常是在介质的透光层表面形成透明且具有耐擦伤性的硬涂层。形成硬涂层时，在透光层表面涂布分子中具有两个以上(甲基)丙烯酰基等聚合性官能团的活性能量射线聚合固化性化合物，通过照射紫外线等活性能量射线使其固化。但是，所得硬涂层与聚碳酸酯或甲基丙烯酸甲酯等树脂膜表面相比，虽然其耐磨性优异，但能够实现的耐磨性水平还有限，介质在使用过程中并不具有充分的耐擦伤性。如果为了耐擦伤性而使用更硬的树脂，则固化时收缩增大，所得介质的盘面翘曲将会增大。还有，这种硬涂层的目的只是为了提高耐擦伤性，因此对灰尘或大气中的油烟以及指纹污物等污染物质没有防污效果。
关于对有机污物具有防污性的硬涂层，如在日本特开平10-110118号公报中提出了一种在硬涂层剂中添加非交联型氟系表面活性剂的方法。但是，在硬涂层剂中添加非交联型氟系表面活性剂时，存在使用介质时如进行擦拭后表面活性剂慢慢消失的问题。
日本特开平11-213444号公报中公开了一种在以往聚碳酸酯等光盘基板表面涂布氟系聚合物的方法。但是，氟系聚合物只是通过范德华力(Vander waals)物理吸附在基板表面，因此氟系聚合物对基板表面的密合性极其差。从而，靠涂布氟系聚合物的表面处理在耐久性方面存在大问题。
欧洲公开专利EP1146510A2中公开的一种方法是，在硬涂层中含有二氧化硅(silica)微粒等金属硫属元素化物微粒，以提高硬涂层的耐擦伤性，进一步在硬涂层上设置含有疏水性或疏油性基团的硅烷偶联剂膜，以提高表面防污性。
如果使介质表面低摩擦系数化，在接触硬突起物时可由滑动而避免冲击，因此能够抑制产生擦伤。从而，期望介质表面低摩擦系数化，以进一步提高耐擦伤性。尤其，近年来进行的尝试是，通过把用于聚焦记录/再生激光的物镜的数值孔径(NA)提高到0.7以上，如0.85程度，同时把记录/再生激光的波长λ缩短到400nm程度，使激光的聚光光斑直径变小，由此记录大容量数码数据。但是，这样实现高NA化时，物镜与光信息介质表面的工作距离(working distance)变小(如设定NA＝0.85程度时，工作距离为100μm程度，与以前相比显著窄)，因此光信息介质在旋转时引起光信息介质表面与物镜及支撑它的支撑物接触的可能性将非常高。从而，要求在提高硬涂层表面的耐磨性的同时进行低摩擦系数化。
发明内容
因此，本发明的目的在于解决上述以往技术难点，提供盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质。还有，本发明的另一目的在于提供盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质的制造方法。
本发明者们经潜心研究发现，通过由含有平均粒径100nm以下的微粒和反应性聚硅氧烷和活性能量射线固化性化合物的组合物的固化物构成的硬涂层，来形成介质的至少一个表面优选是光入射侧表面，可获得盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质，以至完成本发明。
本发明包括以下发明。
(1)一种光信息介质，其中在支撑基体上具有至少含有记录层或反射层的由单层或多层构成的膜体，所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中的至少一个表面是由含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物的固化物构成的硬涂层形成。
(2)如(1)记载的光信息介质，其中(A)无机微粒是金属(或准金属)氧化物的微粒、或者是金属(或准金属)硫化物的微粒。
(3)如(1)或(2)记载的光信息介质，其中(A)无机微粒是二氧化硅(silica)微粒。
(4)如(3)记载的光信息介质，其中所述二氧化硅微粒由具有活性能量射线反应性基团的水解性硅烷化合物进行过表面改性。
(5)如(1)～(4)中的任意一项记载的光信息介质，其中(B)反应性聚硅氧烷具有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巯基中的至少一种反应性基团。
(6)如(1)～(5)中的任意一项记载的光信息介质，其中(B)反应性聚硅氧烷在分子内具有两个以上(甲基)丙烯酰基。
(7)如(1)～(6)中的任意一项记载的光信息介质，其中所述组合物在以所述(A)、(B)及(C)的总和为基准时含有(A)无机微粒5重量％～80重量％、(B)反应性硅烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射线固化性化合物19重量％～94.99重量％。
(8)如(1)～(7)中的任意一项记载的光信息介质，其中所述组合物中进一步含有光聚合引发剂。
(9)如(1)～(8)中的任意一项记载的光信息介质，其中从所述支撑基体侧或所述膜体侧入射光，进行光学性记录和/或再生。
(10)如(1)～(9)中的任意一项记载的光信息介质，其中所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中成为光入射侧的表面由所述硬涂层形成。
(11)一种光信息介质的制造方法，其中：
在支撑基体上形成至少含有记录层或反射层的由单层或多层构成的膜体，
在所述支撑基体的形成所述膜体侧的相反侧表面上及所述膜体表面上的至少一个表面上，涂布含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物，通过照射活性能量射线使其固化来形成硬涂层。
(12)如(11)记载的光信息介质的制造方法，其中：所述组合物进一步含有非反应性有机溶剂，涂布所述组合物后，通过加热干燥去除非反应性有机溶剂，然后通过照射活性能量射线使其固化来形成硬涂层。
(13)一种光信息介质，其中：
在支撑基体上形成至少含有记录层或反射层的由单层或多层构成的膜体，
在所述支撑基体的形成所述膜体侧的相反侧表面上及所述膜体表面上的至少一个表面上，涂布含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物，通过照射活性能量射线使其固化来形成硬涂层。
本发明中光信息介质包括再生专用光盘、光记录盘、光磁记录盘等各种介质。
附图说明
图1为本发明光盘的一例概略断面图。
图2为用于说明光盘摩擦系数测定方法的图。
图3为光盘摩擦系数测定结果图表(累积旋转数Vs摩擦系数)。
具体实施方式
参照图1说明本发明光信息介质(以下简称为光盘)及其制造方法。以下举例说明相变型光盘，但本发明并不限定于此，不受记录层种类的限制可广泛适用于再生专用光盘、只能1次记录的光盘等。
图1为本发明光盘的一例概略断面图。图1中光盘(1)在支撑基体(2)的形成有信息坑或预槽等微细凹凸的侧的面上依次具有反射层(3)、第2电介质层(4)、记录层(5)、第1电介质层(6)，在第1电介质层(6)上具有树脂层(7)，在树脂层(7)上具有透光层(8)，在透光层(8)上具有硬涂层(9)。在该例中反射层(3)、第2电介质层(4)、记录层(5)、第1电介质层(6)、树脂层(7)及透光层(8)构成记录和/或再生所需膜体。使用光盘(1)时用于记录和/或再生的激光经过硬涂层(9)及透光层(8)，即从膜体侧入射。
支撑基体(2)的厚度为0.3～1.6mm，优选0.5～1.3mm，在形成记录层(5)侧的面形成有信息坑或预槽等微细凹凸。
作为支撑基体(2)，如果按如上所述那样从膜体侧激光入射的方式使用时，则不需要光学性透明，另一方面，如果按从支撑基体(2)侧激光入射的方式使用时，则需要光学性透明。透明材料可使用聚碳酸酯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸系树脂、聚烯烃树脂等各种塑料材料等。使用这种容易弯曲的材料时本发明中可抑制发生翘曲，因此尤其有效。但使用玻璃、陶瓷、金属等也可以。使用塑料材料时多由注射成型制作凹凸图案，使用塑料材料以外材料时则由光聚合法(2P法)成型。
支撑基体(2)上通常由溅射法形成反射层(3)。反射层材料可单独或复合使用金属元素、准金属元素、半导体元素或它们的化合物。具体来说可从Au、Ag、Cu、Al、Pd等众所周知的反射层材料选择。反射层优选形成为厚度20～200nm的薄膜。
反射层(3)上或者没有反射层时在支撑基体(2)上，直接由溅射法依次形成第2电介质层(4)、记录层(5)、第1电介质层(6)。
记录层(5)根据激光照射可逆变化成结晶状态和无定形状态，在两状态间由光学特性不同的材料形成。可列举诸如Ge-Sb-Te、In-Sb-Te、Sn-Se-Te、Ge-Te-Sn、In-Se-Tl、In-Sb-Te等。进一步，这些材料中还可以微量添加选自Co、Pt、Pd、Au、Ag、Ir、Nb、Ta、V、W、Ti、Cr、Zr、Bi、In等金属中的至少一种，也可以微量添加氮气等还原性气体。对于记录层(5)的厚度不做特别限定，为3～50nm程度。
第2电介质层(4)和第1电介质层(6)在记录层(5)的上下两侧隔着记录层(5)而形成。第2电介质层(4)和第1电介质层(6)在起到机械性和化学性保护记录层(5)的功能的同时还起到作为调节光学特性的干涉层的功能。第2电介质层(4)和第1电介质层(6)各自可以由单层构成，也可以由多层构成。
第2电介质层(4)和第1电介质层(6)优选由含有选自Si、Zn、Al、Ta、Ti、Co、Zr、Pb、Ag、Zn、Sn、Ca、Ce、V、Cu、Fe、Mg的至少一种金属的氧化物、氮化物、硫化物、氟化物或由它们的复合物形成。还有，第2电介质层(4)和第1电介质层(6)各自的消光系数k优选在0.1以下。
对于第2电介质层(4)的厚度不做特别限定，优选20～150nm程度。对于第1电介质层(6)的厚度不做特别限定，优选20～200nm程度。通过将两个电介质层(4)和(6)的厚度选择在该范围，可调节反射。
在第1电介质层(6)上使用活性能量射线固化性材料形成透光性树脂层(7)。
活性能量射线固化性材料的前提条件为光学透明、在使用的激光波长区域的光学吸收和反射少、双折射小，可从紫外线固化性材料、电子射线固化性材料中选择。
具体来说优选由紫外线(电子射线)固化性化合物或其聚合用组合物构成。这些材料可列举丙烯酸或甲基丙烯酸的酯化合物，环氧丙烯酸酯、氨基甲酸乙酯丙烯酸酯等的丙烯酸系双键，邻苯二甲酸二烯丙基酯等的烯丙基系双键，马来酸衍生物等的不饱和双键等在分子中含有或引入可通过紫外线照射交联或聚合的基团的单体、低聚物及聚合物等。这些优选为多官能团，尤其是3官能团以上，可以仅使用一种，也可以拼用两种以上。还有，根据需要也可以使用单官能团的物质。
紫外线固化性单体最好是分子量小于2000的化合物，低聚物最好是分子量为2000～10000的物质。这些可列举苯乙烯、丙烯酸乙酯、二丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甘醇二丙烯酸酯、甲基丙烯酸二甘醇酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯等，由此优选四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、苯酚环氧乙烷加成物的(甲基)丙烯酸酯等。此外，紫外线固化性低聚物可举例酯类低聚物丙烯酸酯或聚氨酯弹性体的丙烯酸改性体等。
紫外线(电子射线)固化性材料可以含有已知的光聚合引发剂。光聚合引发剂在使用电子射线作为活性能量射线时并不特别需要，但使用紫外线时则需要。光聚合引发剂可从乙酰苯系、苯偶姻系、二苯甲酮系、噻吨酮系等通常物质中适当选择。光聚合引发剂中光自由基引发剂可列举DAROCURE 1173、IRGACURE 651、IRGACURE 184、IRGACURE 907(均为Ciba Specialty化学公司制造)。光聚合引发剂的含量对于所述紫外线(电子射线)固化性成分例如为0.5～5重量％程度。
还有，作为紫外线固化性材料，还可以使用含有环氧化合物和光阳离子聚合催化剂的组合物。作为环氧化合物，优选脂环式环氧化合物，尤其优选分子内具有两个以上环氧基的物质。脂环式环氧化合物优选使用3，4-环氧环己基甲基-3，4-环氧环己烷羧酸酯、双(3，4-环氧环己基甲基)己二酸酯、双(3，4-环氧环己基)己二酸酯、2-(3，4-环氧环己基-5，5-螺-3，4-环氧)环己烷-间-二噁烷、双(2，3-环氧环戊基)醚、乙烯环己烯二氧化物等中的一种以上。对于脂环式环氧化合物的环氧当量不做特别限定，但从获得良好固化性的角度考虑优选60～300，尤其优选100～200。
光阳离子聚合催化剂可以使用已知的任意物质，不做特别限定。例如优选使用一种以上的金属氟硼酸盐及三氟化硼的络合物、双(全氟烷基磺酰)甲烷金属盐、芳基重氮鎓化合物、6B族元素的芳香族鎓盐、5B族元素的芳香族鎓盐、3B族～5B族元素的二羰基螯合物、硫代吡喃鎓盐、具有MF6阴离子(这里M为P、As或Sb)的6B族元素、三芳基锍络盐、芳香族碘鎓络盐、芳香族锍络盐等，尤其优选使用聚芳基锍络盐，含卤素络合离子的芳香族锍络盐或碘鎓盐，3B族元素、5B族元素及6B族元素的芳香族鎓盐的一种以上。光阳离子聚合催化剂的含量对于所述紫外线固化性成分为0.5～5重量％程度。
作为用于该树脂层的活性能量射线固化性材料，优选具有3～500cp的粘度(25℃)。
形成树脂层(7)时，用旋涂法在第1电介质层(6)上涂布活性能量射线固化性材料即可。树脂层(7)的厚度在固化后达到1～50μm程度即可。
接着，在未固化的树脂层(7)上放置透光性薄板作为透光层(8)，然后照射紫外线等活性能量射线使树脂层(7)固化，这样粘接透光性薄板作为透光层(8)。作为透光性薄板，可使用具有选自50～300μm的期望厚度的聚碳酸酯薄板。形成透光层(8)时更具体来说，在真空中(0.1大气压以下)把期望厚度的聚碳酸酯薄板放置到未固化的树脂层(7)上，接着回到大气压氛围，照射紫外线使树脂层(7)固化。
另外，也可以不象上述那样使用聚碳酸酯薄板，而是形成厚的树脂层(7)，用它兼作透光层。此时，树脂层(7)厚度为在固化后达到50～300μm程度。还有，用于树脂层的活性能量射线固化性材料可以使用与前面所述相同的材料，但优选具有1,000～10,000cp的粘度(25℃)。
在透光层(8)上涂布含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)所述(B)以外的活性能量射线固化性化合物的硬涂层用组合物，通过照射紫外线、电子射线、可见光等活性能量射线使组合物固化，形成硬涂层(9)。对硬涂层用组合物的各成分进行说明。
硬涂层用组合物中含有的活性能量射线固化性化合物(C)只要是具有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巯基中的至少一种活性基团的化合物，就对其结构不做特别限定。为了获得作为硬涂层的充分的硬度，活性能量射线固化性化合物优选含有在一个分子内具有两个以上优选三个以上聚合性基团的多官能团单体或低聚物。如果过量使用多官能团单体或低聚物，虽然硬度提高，但固化收缩增大，盘的翘曲增大，因此需要注意。
这种活性能量射线聚合性化合物(C)中，作为具有(甲基)丙烯酰基的化合物，可列举1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、3-(甲基)丙烯酰氧甘油单(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸乙酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、酯丙烯酸酯等，但并不限定于此。
还有，具有乙烯基的化合物可列举乙二醇二乙烯基醚、季戊四醇二乙烯基醚、1，6-己二醇二乙烯基醚、三羟甲基丙烷二乙烯基醚、环氧乙烷改性氢醌二乙烯基醚、环氧乙烷改性双酚A二乙烯基醚、季戊四醇三乙烯基醚、二季戊四醇六乙烯基醚、二三羟甲基丙烷聚乙烯基醚等，但并不限定于此。
还有，具有巯基的化合物可列举乙二醇双(巯基乙醇酸酯)、乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、三羟甲基丙烷三(巯基乙醇酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(巯基乙酸酯)、季戊四醇四(巯基乙醇酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)等，但并不限定于此。
硬涂层用组合物中含有的活性能量射线固化性化合物(C)可只使用一种，也可以拼用两种以上。
硬涂层用组合物中含有的无机微粒(A)为了确保硬涂层的透明性而平均粒径在100nm以下，优选在20nm以下。受胶体溶液制造方面的制约，无机微粒(A)的平均粒径优选在5nm以上。
(A)无机微粒是例如金属(或准金属)氧化物的微粒、或者是金属(或准金属)硫化物的微粒。无机微粒的金属(或准金属)可列举，诸如Si、Ti、Al、Zn、Zr、In、Sn、Sb等。还有，氧化物、硫化物以外还可以使用Se化物、Te化物、氮化物、碳化物等。无机微粒可列举，二氧化硅(silica)、氧化铝、氧化锆、氧化钛等微粒，优选二氧化硅粒子。通过在硬涂层剂组合物中添加这些无机微粒，可进一步提高硬涂层的耐磨性。
所述二氧化硅微粒中优选使用，由具有活性能量射线反应性基团的水解性硅烷化合物进行过表面改性的物质。这种反应性二氧化硅微粒通过固化硬涂层时的活性能量射线照射，发生交联反应，固定在聚合物基体中。这种反应性二氧化硅微粒有例如日本特开平9-100111号公报中记载的反应性二氧化硅微粒，可在本发明中优选使用。
硬涂层用组合物中含有的反应性聚硅氧烷(B)，只要是能够赋予硬涂层疏水性和/或润滑性，并且具有活性能量射线聚合性官能团，则不做特别限定。可使用如具有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巯基中的至少一种活性能量射线聚合性官能团的聚硅氧烷化合物。
聚硅氧烷化合物可列举包括具有聚硅氧烷系的取代基的部位和选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巯基中的至少一种反应性基团的化合物，更具体来说可列举如下述式(1)至(3)所示化合物，但并不限定于此。
R-[Si(CH3)2O]n-R             (1)
R-[Si(CH3)2O]n-Si(CH3)3    (2)
(CH3)3SiO-[Si(CH3)2O]n-[Si(CH3)(R)O]m-Si(CH3)3    (3)
这里，R为含有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巯基中的至少一种反应性基团的取代基，n、m为聚合度。
反应性聚硅氧烷(B)可只使用一种，也可拼用两种以上。
通过在硬涂层用组合物中含有这种反应性聚硅氧烷(B)，可以赋予硬涂层(9)表面以润滑性，减少硬涂层(9)表面发生擦伤。反应性聚硅氧烷通过具有活性能量射线聚合性的官能团，利用固化硬涂层时的活性能量射线照射，发生交联反应，固定在聚合物基体中。为可靠地进行这种交联反应，反应性聚硅氧烷优选在分子内具有两个以上反应性基团，更优选在分子内具有两个以上(甲基)丙烯酰基。可获得对各种保存条件和使用条件都具有非常优异的耐擦伤性和耐磨性的介质。
还有，反应性聚硅氧烷的平均分子量优选1.0×102～1.5×104。如果平均分子量不足1.0×102，则无法获得上述赋予润滑性的性能，而如果平均分子量超过1.5×104，则硬涂层用组合物中的相溶性下降，难以进行均匀的涂布。
反应性聚硅氧烷优选为分子内具有两个以上反应性基团，并且每一个聚硅氧烷单元的化学式量在3000以下的化合物。还有，反应性聚硅氧烷除了聚硅氧烷单元外还可以在分子内具有聚醚或聚亚甲基等单元。
作为反应性聚硅氧烷，在上述式(1)中优选两末端的R为(甲基)丙烯酰基，并且以-[Si(CH3)2O]n-表示的聚硅氧烷单元的化学式量在3000以下的化合物，更优选两末端R为(甲基)丙烯酰基，并且以-[Si(CH3)2O]n-表示的聚硅氧烷单元的化学式量在2000以下的化合物。
本发明中，所述硬涂层用组合物在以所述(A)、(B)及(C)的总和为基准时优选含有(A)无机微粒5重量％～80重量％、(B)反应性聚硅氧烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射线固化性化合物19重量％～94.99重量％。如果无机微粒(A)含量多于80重量％，则容易削弱硬涂层的膜强度，另一方面，如果不足5重量％，则削弱硬涂层的耐磨性提高效果。如果反应性聚硅氧烷(B)含量多于1重量％，虽然润滑性提高，但硬涂层的硬度容易降低，另一方面，如果不足0.01重量％，则削弱润滑性提高效果。所述硬涂层用组合物的更优选配合比例为以所述(A)、(B)及(C)的总和为基准，含有(A)无机微粒10重量％～60重量％、(B)反应性聚硅氧烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射线固化性化合物39重量％～89.99重量％。
硬涂层用组合物可以含有已知的光聚合引发剂。光聚合引发剂在使用电子射线作为活性能量射线时并不特别需要，但使用紫外线时则需要。光聚合引发剂中光自由基引发剂可列举DAROCURE 1173、IRGACURE 651、IRGACURE 184、IRGACURE 907(均为Ciba Specialty化学公司制造)。光聚合引发剂的含量在硬涂层用组合物中，对于(A)、(B)及(C)的总和为0.5～5重量％程度。
还有，硬涂层用组合物可以根据需要进一步含有非反应性稀释有机溶剂、光聚合引发助剂、有机填料、聚合抑制剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、消泡剂、流平剂、颜料、硅化合物等。
本发明中，在透光层(8)上涂布所述硬涂层用组合物，形成未固化硬涂层，然后照射活性能量射线，使未固化层固化，作为硬涂层(9)。对于涂布方法不做特别限定，可以使用旋涂法、浸涂法、照相凹版印刷涂层法等各种涂布方法。或者是，在使用透光性薄板作为透光层(8)时，可在长条状透光性薄板坯料上事先用上述相同方法形成硬涂层(9)，把该坯料冲裁成盘形状后，如上所述放置到未固化树脂层(7)上，使树脂层(7)固化。
所述硬涂层用组合物含有非反应性稀释有机溶剂时，涂布所述硬涂层用组合物以形成未固化硬涂层后，通过加热干燥去除非反应性有机溶剂，然后照射活性能量射线，使未固化层固化，作为硬涂层(9)。通过使用稀释有机溶剂涂布硬涂层用组合物，并利用加热干燥去除有机溶剂，反应性聚硅氧烷容易在未固化硬涂层的表面附近更多地聚集，固化后的硬涂层(9)的表面附近将存在更多的聚硅氧烷，从而容易获得更好的润滑性提高效果。此时加热干燥的温度优选40℃～100℃。加热干燥的时间为例如为30秒～8分钟，优选1分钟～5分钟，更优选3分钟～5分钟。对于非反应性稀释有机溶剂不做特别限定，可使用丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚、乙二醇单甲基醚、乙酸丁酯、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、异丙醇等。活性能量射线可从紫外线、电子射线、可见光等活性能量射线中适当选择使用，优选紫外线或电子射线。固化后的硬涂层(9)的膜厚为0.5～5μm程度。
                          实施例
下面，用实施例进一步详细说明本发明，但本发明并不限定于这些实施例。
硬涂层用组合物的调制
首先分别调制具有以下各组成的紫外线固化性材料的基材组合物(a)、(b)及(c)。
基材组合物(a)
反应性基团改性胶体二氧化硅(分散介质：丙二醇单甲基醚乙酸酯、不挥发组分：40重量％)                         100重量份
六丙烯酸二季戊四醇                        48重量份
丙烯酸四氢糠酯                            12重量份
丙二醇单甲基醚乙酸酯(非反应性稀释溶剂)    40重量份
IRGACURE 184(聚合引发剂)                  5重量份
基材组合物(b)
丙烯酸苯氧乙酯                            35重量份
1，6-己二醇二丙烯酸酯                     45重量份
三羟甲基丙烷三丙烯酸酯                    20重量份
IRGACURE 184(聚合引发剂)                  5重量份
基材组合物(c)
二环戊基丙烯酸酯                          30重量份
1，6-己二醇二丙烯酸酯                     20重量份
三丙烯酸季戊四醇酯                        25重量份
四丙烯酸季戊四醇酯                        25重量份
IRGACURE 184(聚合引发剂)                  5重量份
接着，在各基材组合物(a)、(b)及(c)中添加如表1所示反应性聚硅氧烷，获得硬涂层用组合物a-1、a-2、a-3、b-1、c-1。此时，对于基材组合物100重量份，反应性聚硅氧烷的添加量均为0.25重量份。但是使用基材组合物(a)时，对于组合物(a)中不挥发组分100重量份，为0.25重量份。
                          表1
硬涂层用组合物    基材
                             反应性聚硅氧烷
No.               组成
                             X-24-8201
a-1               组成(a)    (单官能团聚硅氧烷甲基丙烯酸酯，分子量为
                             约2000，信越化学工业股份公司制造)
                             X-22-164A
a-2               组成(a)    (二官能团聚硅氧烷甲基丙烯酸酯，分子量为
                             约1900，信越化学工业股份公司制造)
a-3               组成(a)
                             无
                             X-22-164A
b-1               组成(b)    (二官能团聚硅氧烷甲基丙烯酸酯，分子量为
                             约1900，信越化学工业股份公司制造)
                             X-22-164A
c-1               组成(c)    (二官能团聚硅氧烷甲基丙烯酸酯，分子量为
                             约1900，信越化学工业股份公司制造)
实施例1～2、比较例1～3
用以下顺序制作图1所示层构成的光记录盘样品。
在形成有沟槽的盘状支撑基体(2)(聚碳酸酯制，直径120mm，厚度1.2mm)的表面利用溅射法形成由Al98Pd1Cu1(原子比)构成的厚度100nm的反射层(3)。所述沟槽的深度为，用波长λ＝405nm时的光程表示为λ/6。沟槽记录方式时的记录磁道间距为0.32μm。
接着，在反射层(3)表面使用Al2O3靶利用溅射法形成厚度20nm的第2电介质层(4)。在第2电介质层(4)表面使用由相变材料构成的合金靶利用溅射法形成厚度12nm的记录层(5)。记录层(5)的组成(原子比)为Sb74Te18(Ge7In1)。使用ZnS(80摩尔％)-SiO2(20摩尔％)靶利用溅射法在记录层(5)表面上形成厚度130nm的第1电介质层(6)。
接着，在第1电介质层(6)表面上，用旋涂法涂布自由基聚合性紫外线固化性树脂溶液(三菱RAYON公司制造，4×108E，溶剂：乙酸丁酯)，形成固化后厚度为2.0μm的树脂层(7)。
接着，在真空中(0.1大气压以下)将厚度100μm的聚碳酸酯薄板放置到树脂层(7)上。作为所述聚碳酸酯薄板，使用根据流延法制造的帝人股份公司的PUREACE。接着，回到大气压氛围中，通过照射紫外线使树脂层(7)固化来粘接所述聚碳酸酯薄板，将其作为透光层(8)。
接着，在透光层(8)表面用旋涂法涂布各硬涂层用组合物a-1(实施例1)、a-2(实施例2)、a-3(比较例1)、b-1(比较例2)或c-1(比较例3)，照射紫外线使其固化，形成硬涂层(9)。固化后的硬涂层(9)的膜厚均为1.5μm。并且，使用硬涂层用组合物a-1、a-2或a-3时，在涂布后，紫外线照射前，在60℃加热干燥3分钟，以去除残留在涂膜内部的稀释溶剂。这样形成硬涂层(9)。
这样分别制作光记录盘样品No.1(实施例1)、No.2(实施例2)、No.3(比较例1)、No.4(比较例2)及No.5(比较例3)。
比较例4
除了未形成硬涂层(9)以外，其余与实施例1相同来制作光记录盘样品No.0。
评价
对于实施例1～2及比较例1～4中制作的各光记录盘样品No.0～5进行如下所述性能试验。
(1)盘面的翘曲量(翘起)
对各盘样品用CORES股份公司制造的机械精度测定仪DC-1010C测定盘半径方向的翘曲角(度)。对初期的盘样品及高温高湿保存(温度80℃、相对湿度85％、保存时间100小时)后的盘样品分别进行测定。将结果示于表2。表2中把翘曲在透光层侧为凹的情况表示为正值，相反情况表示为负值。
(2)光头接触时的耐磨性
使用光盘评价装置(PULSTEC股份公司制造，DDU1000)，按照以下顺序进行光头接触试验。即把光盘样品放置在评价装置的主轴电动机上，使其硬涂层面朝上，调节光头的高度，使光头前端与光盘面间距成约0.5mm。接着，以2000rpm旋转主轴电动机，然后打开聚焦伺服机(focusservo)，驱动光头的驱动器。在该状态下光头前端以一定周期反复接触光盘硬涂层表面。当光头前端接触10次光盘硬涂层表面后关闭聚焦伺服机，取出光盘。然后，目测确认光盘硬涂层表面有无擦伤。在各实施例及各比较例中，对5张光盘样品进行光头接触试验，用发生擦伤的样品数目进行耐擦伤性评价。并且，对于比较例4的光盘样品，目测确认透光层表面有无擦伤。
安装到所述评价装置的光头，具有塑料制物镜，并在其周围安装了由ABS树脂构成的圆盘状物镜保护板。该试验中接触到硬涂层表面的就是该保护板。
(3)摩擦系数
按照图2中简略表示的方法，测定光盘样品硬涂层表面的摩擦系数。对初期的盘样品、高温高湿保存(温度80℃、相对湿度85％、保存时间100小时)后盘样品、及高温低湿保存(温度80℃、相对湿度小于5％、保存时间100小时)后盘样品分别进行测定。
参照图2，把光盘样品(1)放置在主轴电动机(21)上，使其硬涂层(9)面朝上。把切割成宽10mm、长100mm长方形的无纺布(22)(旭化成工业股份公司制造，Bemcot Lint Free CT-8)放置在光盘的硬涂层(9)表面，接着在无纺布(22)的一个端部(22a)放置砝码(24)，施加0.1N/cm2的载荷。此时，安置成砝码(24)的位置处于从盘中心朝半径方向约40mm的位置，使无纺布(22)的长度方向垂直于连接盘中心与砝码(24)位置的半径方向。把无纺布(22)的另一个端部(22b)固定在传感器(transducer)(23)上，在该状态以600rpm的转速旋转光盘(1)。用传感器(23)检测无纺布(22)产生的摩擦力，测定摩擦系数。
另外，比较例4的光盘样品No.0为，透光层表面的耐磨性极低，在该条件测定时产生显著摩擦痕。图3表示了光盘样品No.1～3的摩擦系数测定结果的图表(累积旋转数Vs摩擦系数)。
将以上测定结果示于表2。
                                 表2
                                           翘起
                                                             耐擦伤性(发
           光盘样品    硬涂层用组    (半径方向，单位：度)    
                                                             生擦伤的样品
             No.         合物No.         高温高湿保存
                                       初期                      数)
                                               后
比较例4      No.0        无            0.09    0.03              5
实施例1      No.1        a-1           0.15    0.23              0
实施例2      No.2        a-2           0.10    0.24              0
比较例1      No.3        a-3           0.08    0.15              5
比较例2      No.4        b-1           0.15    0.21              3
比较例3      No.5        c-1           0.32    0.51              0
从表2可以知道，光盘样品No.1和No.2均为，其盘面翘曲在初期时就非常小，高温高湿保存后也能够维持小的状态，实用性优异。还有，光头接触试验中，5张样品都没有发生擦伤，初始耐擦伤性也非常优异。
从图3的摩擦系数测定结果来看，样品No.1为，初期摩擦系数小，初期耐擦伤性即润滑性与样品No.2相同为优异，但与样品No.2相比尤其在高温低湿保存后摩擦系数稍微上升。这是因为，样品No.1使用了单官能团聚硅氧烷丙烯酸酯，因此聚硅氧烷丙烯酸酯与基材无法进行充分交联，在高温条件下未反应聚硅氧烷丙烯酸酯发生分解或挥发，甚至发生向涂膜内部渗透等，使硬涂层表面的聚硅氧烷密度减少。相对于此，样品No.2使用反应性高的二官能团聚硅氧烷丙烯酸酯，因此聚硅氧烷丙烯酸酯与基材进行充分交联，即使在高温条件下硬涂层表面的聚硅氧烷密度也没有减少多少。因此，高温低湿保存后摩擦系数也只增加了一点。因此认为，样品No.2在高温保存后尤其在高温低湿保存后也能够维持良好的耐擦伤性。从该结果看，优选使用二官能团以上的多官能团聚硅氧烷作为反应性聚硅氧烷。
光盘样品No.3为，在光头接触试验中5张样品全部发生擦伤。样品No.3虽然使用与样品No.1和No.2相同的基材(a)形成高硬度硬涂层，但因硬涂层剂不含反应性聚硅氧烷，所以硬涂层表面的润滑性不充分，其结果，发生擦伤。
光盘样品No.4为，基材(b)自身的硬度不够充分，即使通过添加反应性聚硅氧烷来对硬涂层表面赋予润滑性，也在光头接触试验中有3张样品发生擦伤。
光盘样品No.5为，使用不含二氧化硅微粒的基材(c)抑制了光头接触试验中发生擦伤。但是，初期及高温高湿保存后翘曲均大，无法用作光盘。基材的硬度可以通过提高基材中的多官能团单体或多官能团低聚物的配合比例来提高，但材料的固化收缩率显著增大，其结果，翘起显著恶化。
上述实施例中，表示了对相变型光盘赋予硬涂层的情况。但本发明并不局限于记录层为相变型的光盘，还适用于再生专用型光盘、追记型光盘。因此，所述实施例只是其中个别例子，并不限定于此。进一步，属于权利要求范围等同范围内的变更都属于本发明范围。
                     产业上的利用可能性
根据本发明，可提供盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质。并且，根据本发明，还可以提供盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质的制造方法。

Claims (12)

1.一种光信息介质，其中：在支撑基体上具有至少含有记录层或反射层的由单层或多层构成的膜体，所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中的至少一个表面是由含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物的固化物构成的硬涂层形成。
2.如权利要求1记载的光信息介质，其中：(A)无机微粒是金属(或准金属)氧化物的微粒、或者是金属(或准金属)硫化物的微粒。
3.如权利要求1记载的光信息介质，其中：(A)无机微粒是二氧化硅微粒。
4.如权利要求3记载的光信息介质，其中：所述二氧化硅微粒被具有活性能量射线反应性基团的水解性硅烷化合物进行过表面改性。
5.如权利要求1记载的光信息介质，其中：(B)反应性聚硅氧烷具有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巯基中的至少一种反应性基团。
6.如权利要求1记载的光信息介质，其中：(B)反应性聚硅氧烷在分子内具有两个以上(甲基)丙烯酰基。
7.如权利要求1记载的光信息介质，其中：所述组合物在以所述(A)、(B)及(C)的总和为基准时含有(A)无机微粒5重量％～80重量％、(B)反应性聚硅氧烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射线固化性化合物19重量％～94.99重量％。
8.如权利要求1记载的光信息介质，其中：所述组合物中进一步含有光聚合引发剂。
9.如权利要求1记载的光信息介质，其中：从所述支撑基体侧或所述膜体侧入射光，进行光学性记录和/或再生。
10.如权利要求1记载的光信息介质，其中：在所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中成为光入射侧的表面由所述硬涂层形成。
11.一种光信息介质的制造方法，其中：在支撑基体上形成至少含有记录层或反射层的由单层或多层构成的膜体，
在所述支撑基体的形成了所述膜体的侧的相反侧表面及所述膜体表面中的至少一个表面上，涂布含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物，通过照射活性能量射线使其固化来形成硬涂层。
12.如权利要求11记载的光信息介质的制造方法，其中：所述组合物进一步含有非反应性有机溶剂，涂布所述组合物后，利用加热干燥去除非反应性有机溶剂，然后通过照射活性能量射线使其固化来形成硬涂层。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1711598A (zh) * 2002-11-18 2005-12-21 旭硝子株式会社 具有赋予防皮脂污染性的硬涂层的光盘
WO2004047095A1 (ja) * 2002-11-18 2004-06-03 Asahi Glass Company, Limited 皮脂汚れ防止性を付与されたハードコート層を有する光ディスク
JP4794116B2 (ja) * 2003-05-14 2011-10-19 Ｔｄｋ株式会社 光情報媒体
JP2005111756A (ja) * 2003-10-06 2005-04-28 Fuji Photo Film Co Ltd ハードコート処理物品、硬化性組成物、および情報記録担体
JP4319522B2 (ja) * 2003-10-31 2009-08-26 Ｔｄｋ株式会社 光情報媒体
JP4715990B2 (ja) * 2004-01-09 2011-07-06 信越化学工業株式会社 光記録媒体用硬化性樹脂組成物及び光記録媒体
JP2005255706A (ja) * 2004-03-09 2005-09-22 Lintec Corp 粘接着剤組成物、光ディスク製造用シートおよび光ディスク
US20070134463A1 (en) * 2005-12-09 2007-06-14 General Electric Company Storage media and associated method

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2901417B2 (ja) 1992-05-19 1999-06-07 ティーディーケイ株式会社 光記録ディスクの製造方法
JPH0641467A (ja) * 1992-07-24 1994-02-15 Shin Etsu Chem Co Ltd 紫外線硬化性コーティング組成物及び保護皮膜
JPH07169100A (ja) * 1993-10-18 1995-07-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 光情報記録媒体
JPH07254169A (ja) 1994-03-15 1995-10-03 Kao Corp 表面処理基体
JPH08235639A (ja) * 1995-03-02 1996-09-13 Dainippon Printing Co Ltd 光記録媒体及びその作成方法
JPH08203121A (ja) 1995-01-30 1996-08-09 Dainippon Printing Co Ltd 光記録媒体
JPH08124216A (ja) 1994-10-21 1996-05-17 Ricoh Co Ltd 光情報記録媒体
US5609990A (en) * 1995-02-08 1997-03-11 Imation Corp. Optical recording disk having a sealcoat layer
JPH0954984A (ja) 1995-06-07 1997-02-25 Dainippon Printing Co Ltd 光記録媒体
US6160067A (en) * 1995-10-03 2000-12-12 Dsm N.V. Reactive silica particles, process for manufacturing the same, use of the same
JP3474330B2 (ja) * 1995-10-03 2003-12-08 Ｊｓｒ株式会社 反応性シリカ粒子、その製法および用途
JPH10110118A (ja) 1996-08-13 1998-04-28 Toray Ind Inc 防汚性ハードコート剤および光記録媒体
JPH10326435A (ja) * 1997-03-25 1998-12-08 Sony Corp 光学記録媒体及び光学ディスク装置
JPH10287822A (ja) * 1997-04-15 1998-10-27 Mitsubishi Chem Corp 活性エネルギー線硬化性被覆組成物
JPH11134714A (ja) 1997-10-31 1999-05-21 Taiyo Yuden Co Ltd 光情報媒体とその製造方法
JPH11213444A (ja) 1998-01-30 1999-08-06 Sony Corp 光記録媒体
JP3436492B2 (ja) * 1998-08-24 2003-08-11 三菱レイヨン株式会社 耐摩耗性薄膜を有する薄型物品、及び光学ディスク
US6376060B1 (en) * 1998-09-25 2002-04-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Hardcoat film
US6623791B2 (en) * 1999-07-30 2003-09-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions having improved adhesion, coated substrates and methods related thereto
KR100745875B1 (ko) * 1999-07-30 2007-08-02 피피지 인더스트리즈 오하이오, 인코포레이티드 개선된 내긁힘성을 갖는 경화된 코팅재, 코팅된 기재 및관련 방법
JP4590758B2 (ja) * 2000-04-10 2010-12-01 Ｔｄｋ株式会社 光情報媒体
JP2002260280A (ja) * 2000-06-28 2002-09-13 Tdk Corp 光情報媒体およびその評価方法
JP2002157782A (ja) 2000-09-05 2002-05-31 Tdk Corp 光情報媒体およびその試験方法
EP1350816B1 (en) * 2000-11-30 2010-06-02 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Active energy ray curable composition for coating optical disk and optical disk
JP3897583B2 (ja) 2000-11-30 2007-03-28 三菱レイヨン株式会社 光ディスク
JP2002230837A (ja) 2001-01-30 2002-08-16 Asahi Glass Co Ltd ハードコート層を有する青色レーザーディスク（（登録商標）およびその製造方法
JP2003077184A (ja) * 2001-08-31 2003-03-14 Tdk Corp 光記録媒体及びその製造方法
EP1462245B1 (en) * 2001-12-26 2007-11-07 TDK Corporation Article having composite hard coat layer and method for forming composite hard coat layer
JP4475016B2 (ja) * 2003-06-30 2010-06-09 東レ株式会社 ハードコートフィルム、反射防止フィルムおよび画像表示装置

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