CN105652349A - 核壳纳米粒子 - Google Patents

核壳纳米粒子 Download PDF

Info

Publication number
CN105652349A
CN105652349A CN201610154455.8A CN201610154455A CN105652349A CN 105652349 A CN105652349 A CN 105652349A CN 201610154455 A CN201610154455 A CN 201610154455A CN 105652349 A CN105652349 A CN 105652349A
Authority
CN
China
Prior art keywords
compositions
polymer
copolymer
coating
shell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610154455.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105652349B (zh
Inventor
纳尼·乔格·阿福斯坦
史蒂文·艾美斯
帕斯卡·约瑟夫·保罗·布司肯斯
延斯·克里斯托·蒂斯
帕特里克·威廉默斯·安东尼厄·韦瑞嘉德豪温
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kostron Netherlands Co ltd
Covestro Netherlands BV
Original Assignee
DSM IP Assets BV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=37232408&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN105652349(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by DSM IP Assets BV filed Critical DSM IP Assets BV
Publication of CN105652349A publication Critical patent/CN105652349A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105652349B publication Critical patent/CN105652349B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/65—Additives macromolecular
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K9/00—Medicinal preparations characterised by special physical form
    • A61K9/48—Preparations in capsules, e.g. of gelatin, of chocolate
    • A61K9/50—Microcapsules having a gas, liquid or semi-solid filling; Solid microparticles or pellets surrounded by a distinct coating layer, e.g. coated microspheres, coated drug crystals
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K9/00—Medicinal preparations characterised by special physical form
    • A61K9/48—Preparations in capsules, e.g. of gelatin, of chocolate
    • A61K9/50—Microcapsules having a gas, liquid or semi-solid filling; Solid microparticles or pellets surrounded by a distinct coating layer, e.g. coated microspheres, coated drug crystals
    • A61K9/5005—Wall or coating material
    • A61K9/501—Inorganic compounds
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K9/00—Medicinal preparations characterised by special physical form
    • A61K9/48—Preparations in capsules, e.g. of gelatin, of chocolate
    • A61K9/50—Microcapsules having a gas, liquid or semi-solid filling; Solid microparticles or pellets surrounded by a distinct coating layer, e.g. coated microspheres, coated drug crystals
    • A61K9/5089—Processes
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
    • C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/12—Adsorbed ingredients, e.g. ingredients on carriers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/70—Additives characterised by shape, e.g. fibres, flakes or microspheres
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1254—Sol or sol-gel processing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1262—Process of deposition of the inorganic material involving particles, e.g. carbon nanotubes [CNT], flakes
    • C23C18/127—Preformed particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/011—Nanostructured additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/013—Additives applied to the surface of polymers or polymer particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/02—Ingredients treated with inorganic substances
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2207/00—Properties characterising the ingredient of the composition
    • C08L2207/53—Core-shell polymer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L53/00—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/254—Polymeric or resinous material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991—Coated
    • Y10T428/2998—Coated including synthetic resin or polymer

Abstract

本发明涉及一种核壳纳米粒子，其中，所述纳米粒子包含：(a)含有聚合物的核材料；和(b)含有金属氧化物的壳材料。

Description

核壳纳米粒子
本发明申请是基于申请日为2007年9月5日，申请号为201310308983.0，发明名称为“核壳纳米粒子”的专利申请的分案申请。
本发明涉及一种含有新型纳米粒子的涂层。更具体地，本发明涉及一种含有核壳聚合物-金属氧化物纳米粒子或中空金属氧化物纳米粒子的光学涂层及其制备方法以及潜在用途。
纳米粒子用于制备光学涂层的用途是已知的。可以采用这种涂层实现各种光学功能。例如，抗反射涂层可以通过如下实现：形成有效折射率低于基材的多孔涂层(美国专利2,432,484)。通常，这些抗反射体系包括粘结剂和纳米粒子。例如，US6921578描述了用于制备抗反射涂层体系的方法，其中，粘结剂(例如原硅酸四乙酯TEOS)在纳米粒子的存在下采用酸催化剂水解。虽然这些方法可以得到具有抗反射性质的涂层，但是它们也具有大量缺陷。例如，难以在工业规模上制备这种涂层，因为不容易制成会使涂层具有再现光学性质和机械性质的稳定涂料组合物。而且，为了制造具有适当光学性质(例如折射率)的涂层，必须实现高水平的多孔性。这可以通过在粘结剂中包含空洞来实现，但这会损失机械性质。
已经建议在涂层中使用中空或多孔粒子(参见例如EP1674891、US2004058177、WO2005021259、WO2005059601、WO2006030720和WO2006033456)。这种方法将空洞置于粒子内部而非置于粘结剂网络中，从而导致抗反射涂层具有更佳的机械稳定性。尽管这些中空粒子体系具有明显的优点，但是也存在数种缺陷。例如，已证实难以控制现有中空粒子的尺寸和形态。这导致难以制成具有适当、再现性质的涂层。而且，这种粒子的制造可能存在问题，尤其是工业规模的制造可能存在问题。而且，在某些情况下，需要单分散体系，采用现有方法难以获得这种体系。另外，在粒子中产生空洞的方式并不总是与光学涂层的使用相容。
令人惊讶地发现，各个批次的聚合物核-金属氧化物壳粒子可以以再现方式制成，并且可被用在例如抗反射涂层的光学涂层中。这些涂层与具有相同反射率、填充有可比较纳米粒子的涂层相比具有更佳的机械稳定性。
根据本发明的一方面，提供了一种适于形成光学涂层的组合物，所述组合物包含核壳纳米粒子，所述纳米粒子包含：
(a)含有聚合物的核材料；和
(b)含有金属氧化物的壳材料。
在本发明的具体实施方式中，提供了一种含有核壳纳米粒子的涂料组合物，其中，所述纳米粒子包含：
(a)含有聚合物的核材料；和
(b)含有金属氧化物的壳材料，优选含有硅石，
其中，所述纳米粒子具有棒状或蠕虫状形态。在特定实施方式中，聚合物包括阳离子稳定的共聚物胶束，更优选包括二嵌段或三嵌段共聚物。在另一优选的实施方式中，所述聚合物包括阳离子稳定的乳胶。
根据本发明的另一方面，提供了一种光学涂层，其中所述涂层包含核壳纳米粒子，所述粒子包含含有聚合物的核材料和含有金属氧化物的壳材料。
根据本发明的另一方面，提供了一种形成光学涂层的方法，所述方法包括：
(a)将含有核壳纳米粒子的组合物涂敷到基材上；然后
(b)使所述组合物固化以增强网络并除去所述聚合物核，
其中，所述核壳纳米粒子包含含有聚合物的核材料和含有金属氧化物的壳材料。
根据本发明的另一方面，提供了核壳纳米粒子用于光学应用的用途。
根据本发明的另一方面，提供了一种至少部分被含有核壳纳米粒子的光学涂料组合物涂布的基材，其中，所述粒子包含含有聚合物的核材料和含有金属氧化物的壳材料。
根据本发明的另一方面，提供了一种制品，所述制品包含至少部分被含有核壳纳米粒子的光学涂料组合物涂布的基材，其中，所述粒子包含含有聚合物的核材料和含有金属氧化物的壳材料。
根据本发明的另一方面，提供了一种含有核壳纳米粒子的薄膜涂层，其中，所述粒子包含含有聚合物的核材料和含有金属氧化物的壳材料。本文所用“薄膜”指平均厚度为300nm或更小的涂层。
本申请涉及以下实施方式：
1.一种含有核壳纳米粒子的光学涂层组合物，其中，所述纳米粒子包含：
(a)含有聚合物的核材料；和
(b)含有金属氧化物的壳材料。
2.如第1项所述的组合物，其中，所述核材料是阳离子的。
3.如第1或2项所述的组合物，其中，所述聚合物选自聚酯、聚酰胺、聚氨酯、聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、其共聚物及其组合。
4.如前述任意一项所述的组合物，其中，所述聚合物选自乳胶、二嵌段共聚物、三嵌段共聚物及其组合。
5.如前述任意一项所述的组合物，其中，所述聚合物选自阳离子聚合物。
6.如前述任意一项所述的组合物，其中，所述金属氧化物是硅石。
7.如前述任意一项所述的组合物，其中，所述组合物包含粘结剂。
8.如前述任意一项所述的组合物，其中，所述组合物包含含有无机氧化物的粘结剂。
9.如前述任意一项所述的组合物，其中，所述纳米粒子具有5％至90％的潜在空洞分数。
10.一种基材，其至少部分被前述任意一项所述的组合物涂布。
11.一种制品，其包含被前述任意一项所述的组合物涂布的基材。
12.一种含有核壳纳米粒子的涂层组合物，其中，所述纳米粒子包含：
(a)含有聚合物的核材料；和
(b)含有金属氧化物的壳材料，
其中，所述纳米粒子具有棒状或蠕虫状形态。
13.一种用于形成光学涂层的方法，所述方法包括：将含有核壳纳米粒子的组合物涂敷到基材上；然后使所述组合物固化，其中，所述核壳纳米粒子包含含有聚合物的核材料和含有金属氧化物的壳材料。
14.核壳纳米粒子用于光学涂层的用途。
15.核壳纳米粒子用于薄膜涂层的用途。
本申请还涉及以下实施方式：
1.一种用于形成抗反射涂层的涂层组合物，所述组合物包含：
·核壳纳米粒子，所述核壳纳米粒子包含：(a)含有阳离子共聚物的核材料，所述阳离子共聚物的阳离子基团在聚合期间掺入所述共聚物中；和(b)含有金属氧化物的壳材料，并且所述核壳纳米粒子具有100-200nm的平均尺寸；
·粘结剂，所述粘结剂包括无机材料；和
·溶剂。
2.如第1项所述的涂层组合物，其中所述核壳纳米粒子的壳具有1-50nm的厚度。
3.如第1项所述的涂层组合物，其中所述核壳纳米粒子的壳具有5-25nm的厚度。
4.如第1项所述的涂层组合物，其中，所述壳包含硅石，其由至少一种硅石前驱体沉积在所述核材料上。
5.如第4项所述的涂层组合物，其中，所述壳中硅石占至少90重量％。
6.如第1至5项中任意一项所述的涂层组合物，其中，所述核材料包含热不稳定聚合物。
7.如第1至5项中任意一项所述的涂层组合物，其中，所述核材料包含聚(甲基)丙烯酸酯。
8.如第1至5项中任意一项所述的涂层组合物，其中，所述阳离子共聚物包含部分或全部季铵化的胺官能乙烯基单体。
9.如第1至5项中任意一项所述的涂层组合物，其中，所述纳米粒子具有5％至90％的潜在空洞分数，所述潜在空洞分数由从所述纳米粒子中除去一些或全部核材料而产生。
10.如第1至5项中任意一项所述的涂层组合物，其中，所述粘结剂包括具有烷基或烷氧基的无机化合物。
11.如第10项所述的涂层组合物，其中，所述粘结剂包括四烷氧基硅烷。
12.如第1至5项中任意一项所述的涂层组合物，其中，所述溶剂是选自由水、异丙醇、乙醇、丙酮、乙基纤维素、甲醇、丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、甲基乙基醚、甲基丁基醚、甲苯、和甲基乙基甲酮组成的组中的至少一个。
13.如第1至5项中任意一项所述的涂层组合物，其中，所述涂层组合物的粘度为2.0-20mPa·s。
14.如第1至5项中任意一项所述的涂层组合物，其中，所述涂层组合物的固含量为1-5重量％。
15.一种在基材上用于形成抗反射涂层的方法，所述方法包括如下步骤：
·将第1至14项中任意一项所述的涂层组合物涂敷到基材上，从而得到涂布涂层；
·固化所述涂布涂层；并且
·从所述涂布涂层的核壳纳米粒子中除去一些或全部核材料。
16.如第15项所述的方法，其中，固化通过加热实现，并且所述核材料至少部分通过固化步骤热降解。
17.如第16项所述的方法，其中，所述基材是无机的，并且固化在200-700℃下实施。
18.如第17项所述的方法，其中，所述涂层组合物被涂覆到玻璃板上，然后对所述板进行回火，并且固化和回火在一个步骤中实施。
19.如第15至18项中任意一项所述的方法，其中，所得涂层的厚度为50-300nm。
20.一种制品，所述制品包含至少部分被采用第15-19项中任意一项所述的方法得到的抗反射涂层涂布的基材。
本文所用术语“纳米粒子”指初级平均粒子尺寸小于1μm、优选小于500nm、更优选小于350nm的粒子。粒子尺寸可以通过动态光散射(DLS)和透射电子显微镜(TEM)测定。
本文所用术语“核壳”指含有核材料和壳材料的粒子，所述核材料包括聚合材料(例如均聚物、无规共聚物、嵌段共聚物等)，所述壳材料包括金属氧化物(例如，硅石、氧化铝、氧化钛、氧化锡等)。
本文所用术语“粘结剂”指可以在物理上或在化学上交联所述纳米粒子，优选还连接粒子和基材的物质。
本文所用术语“按重量计占固体级分的量”指除去所有溶剂(包括水)以后的重量百分率。
除非另有声明，本文中的所有参考文献通过引用插入本文。
在本发明的说明书和权利要求书中，措词“包括”和“包含”以及该措词的变体，例如“含有”意指“包括但不限于”，并不意味着(并且并不)排除其它片段、添加剂、组分、整数或步骤。
在本发明的说明书和权利要求书中，单数也涵盖了复数，除非另有声明。具体地，在使用不定冠词的时候，该说明被理解为欲指复数和单数，除非另有声明。
与本发明的特定方面、实施方式或实施例相关联的特征、整数、特性、化合物、化学片段或基团被理解为可应用于本文所述的任何其它方面、实施方式或实施例，除非彼此之间不能相容。
本发明涉及核壳纳米粒子及其在光学涂层中的应用。本发明的粒子包含含有聚合物的核和含有金属氧化物的壳。
用在本发明中的纳米粒子可以具有任意适当的尺寸。优选地，所述粒子具有约300nm或更小的平均特性尺寸(averagespecificsize)g(其中g＝1/2×(长度+宽度))。更优选地，所述粒子具有约200nm或更小的平均尺寸。甚至更优选地，所述粒子具有约100nm或更小的平均尺寸。优选地，所述粒子具有1nm或更大的平均尺寸。更优选地，所述粒子具有约10nm或更大的平均尺寸。
优选地，空洞的平均特性尺寸为1nm或更大，更优选为3nm或更大，甚至更优选为6nm或更大。优选地，空洞的平均特性尺寸为100nm或更小，更优选为80nm或更小，甚至更优选为70nm或更小。
优选地，所述壳具有至少1nm的厚度，更优选具有至少5nm的厚度，甚至更优选具有至少10nm的厚度。优选地，所述壳具有75nm或更小的厚度，更优选具有50nm或更小的厚度，甚至更优选具有25nm或更小的厚度。
所述纳米粒子可以包含不同类型、尺寸和形状的粒子的混合物。然而，所述纳米粒子优选是相对单分散的，以及具有相当均一的尺寸和形状。
在一个实施方式中，本文所用粒子是非球形的，例如优选为棒状或蠕虫状粒子。在另一优选实施方式中，所述粒子基本上是球形的。
在优选的实施方式中，空洞分数优选为约5％至约90％，更优选为约10％至约70％，甚至更优选为25％至约50％。可以根据如下方程计算空洞分数(x)：
x＝(4πra 3/3)÷(4πrb 3/3)×100
其中，ra是核的半径，rb是外壳的半径。
本文所用纳米粒子包含含有聚合物的核材料。任何适当的聚合物都可以使用，例如均聚物、无规共聚物、嵌段共聚物、二嵌段共聚物、三嵌段共聚物及其组合。
优选地，核中聚合物占约30重量％或更高，更优选占约50重量％或更高，甚至更优选占70重量％或更高，甚至还要更优选占约90重量％或更高。
本发明中，可能需要从粒子中除去一些或全部核材料。这可以在制备过程中的任何适当时刻以任何适当的方式来实现。优选的方法包括例如热降解、光降解、溶剂洗涤、电子束、激光、催化分解及其组合。优选地，在将纳米粒子加入涂层或用于形成涂层的组合物中以后，除去核。因此，本发明的范围涵盖了如下的光学涂层，该光学涂层包含其中存在核以及其中所述核已被部分或全部去除的核-壳纳米粒子。
在优选的实施方式中，核包括可热降解聚合物或热不稳定聚合物。优选的聚合物是那些在600℃或更低、优选在450℃或更低、甚至更优选在350℃或更低的温度下不稳定的聚合物。优选地，所述聚合物在室温或更高、优选在150℃或更高、甚至更优选在250℃或更高的温度下不稳定。适当的热不稳定聚合物的实例包括均聚物、无规共聚物、嵌段共聚物、二嵌段共聚物、三嵌段共聚物及其组合。
优选地，所述核包含选自如下的聚合物：聚酯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚氨酯、聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯及其组合。
优选地，核包含聚(甲基)丙烯酸酯。聚(甲基)丙烯酸酯被理解为一种或多种乙烯基单体的(共)聚合物。适当的(不可(永久)季铵化)单体的实例包括：苯乙烯，诸如苯乙烯本身、α-甲基苯乙烯、邻、间、对甲基苯乙烯、邻、间、对乙基苯乙烯、对氯苯乙烯和对溴苯乙烯；烷醇(通常为C1-C12)和环烷醇(通常为C5-C12)的正(甲基)丙烯酸酯和支化(甲基)丙烯酸酯，诸如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸异冰片酯和甲基丙烯酸环己酯以及相应的丙烯酸酯；乙烯基酯，诸如乙酸乙烯基酯和烷酸乙烯基酯；乙烯基卤化物，诸如氯乙烯；亚乙烯基二卤，诸如亚乙烯基二氯；二烯，诸如1,3-丁二烯和异戊二烯。
可选包括例如赋予交联能力的官能单体，其实例包括羟基和环氧官能化的(甲基)丙烯酸酯，诸如甲基丙烯酸羟烷基(通常为C1-C12)酯，例如甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸缩水甘油基酯以及相应的丙烯酸酯；以及酮官能化的单体和醛官能化的单体，诸如丙烯醛、甲基丙烯醛和甲基乙烯基甲酮；羟烷基(通常为C1-C12)丙烯酸和羟烷基(通常为C1-C12)甲基丙烯酸的乙酰乙酰氧酯，诸如丙烯酸乙酰乙酰氧乙酯和甲基丙烯酸乙酰乙酰氧乙酯；还包括含酮基或醛基的酰胺，诸如二丙酮丙烯酰胺。叔胺官能化单体的实例包括含有非离子化胺官能团的乙烯基单体，这些单体用于形成低聚物，包括但不限于，(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基己酯、(甲基)丙烯酸N,N-二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N-甲基-N-丁基-氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基丙酯、(甲基)丙烯酸2-(1,1,3,3-四甲基丁基氨基)乙酯、(甲基)丙烯酸β-吗啉代乙酯、4-(β-丙烯酰氧乙基)吡啶、乙烯基苄基胺、乙烯基苯基胺、2-乙烯基吡啶或4-乙烯基吡啶、对-氨基苯乙烯、二烷基氨基苯乙烯(诸如N,N-二氨基甲基苯乙烯)、取代的二烯丙基胺、N-乙烯基哌啶、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基咪唑啉、N-乙烯基吡唑、N-乙烯基吲哚、(甲基)丙烯酰胺(如2-(二甲基氨基)乙基(甲基)丙烯酰胺、2-(叔丁基氨基)乙基(甲基)丙烯酰胺、3-(二甲基氨基)丙基(甲基)丙烯酰胺、N-取代的(甲基)丙烯酰胺、N-氨基烷基(甲基)丙烯酰胺)、乙烯基醚(诸如10-氨基癸基乙烯基醚、9-氨基辛基乙烯基醚、6-(二乙基氨基)己基乙烯基醚、5-氨基戊基乙烯基醚、3-氨基丙基乙烯基醚、2-氨基乙基乙烯基醚、2-氨基丁基乙烯基醚、4-氨基丁基乙烯基醚、2-二甲基氨基乙基乙烯基醚、N-(3,5,5-三乙基己基)氨基乙基乙烯基醚、N-环己基氨基乙基乙烯基醚、N-叔丁基氨基乙基乙烯基醚、N-甲基氨基乙基乙烯基醚、N-2-乙基己基氨基乙基乙烯基醚、N-叔辛基氨基乙基乙烯基醚、β-吡咯烷子基乙基乙烯基醚或(N-β-羟基乙基-N-甲基)氨基乙基乙烯基醚)。还可以使用含有环状脲基或硫代脲的不饱和单体，诸如(甲基)丙烯酰氧乙基亚乙烯脲、(甲基)丙烯酰氧乙基亚乙基硫代脲、(甲基)丙烯酰胺亚乙基脲、(甲基)丙烯酰胺亚乙基硫代脲。还可以使用胺官能化的乙烯基单体的混合物。如果需要的话，这些非离子化单体可以通过例如如下的中和作用进行阳离子化。
具有永久季铵官能团的乙烯基单体(组分i)，(b))可用于形成低聚物，其实例为甲基丙烯酰氨基丙基三甲基氯化铵(MAPTAC)、二烯丙基二甲基氯化铵(DADMAC)、丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(2-trimethylammoniumethylmethacrylicchlorideTMAEMC)以及取代的(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酰胺单体的季铵盐。对于已经具有阳离子性的胺官能化乙烯基单体，诸如以上列举的具有永久季铵官能团的乙烯基单体的实例，不需中和。
具有已被中和的胺官能团的乙烯基单体(组分i)(c))可用于形成乙烯基低聚物，它们与以上列举的用于组分i)，(a)的具有非离子胺官能团的乙烯基单体相同。然而，为了获得单体(c)，将单体(a)在聚合前采用酸(优选采用有机酸)进行处理。以这种方式，非离子胺官能化的单体在聚合前被阳离子化。这可以对非离子胺官能化的乙烯基单体的全部进行或部分进行。
还可以使用需要中和的胺官能化乙烯基单体和已经被阳离子化的永久季铵官能化的单体的混合物。
优选地，胺官能化的乙烯基单体选自：(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基丙酯及其混合物。更优选的是(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯。
优选地，核所包含的聚合物选自嵌段共聚物，更优选选自二嵌段和/或三嵌段共聚物。
在优选的实施方式中，核材料包括阳离子聚合物，更优选包括阳离子嵌段共聚物，甚至更优选包括共聚物胶束，甚至还要更优选包括二嵌段共聚物胶束。所述二嵌段共聚物胶束优选具有含有至少一段第一聚合物的核和含有至少一段第二聚合物的冠，其中所述第二聚合物不同于所述第一聚合物。
优选地，所述共聚物包括第一聚合物和第二聚合物，上述聚合物二者都包含以氨基为基础的(烷基)丙烯酸酯单体单元，更优选包含以叔氨基为基础的(烷基)丙烯酸酯单元，最优选包含(烷基)丙烯酸叔氨基烷酯单元。特别优选地，所述(烷基)丙烯酸酯单元包括丙烯酸酯单元，或者更具体地包括甲基丙烯酸酯单元。
在优选的实施方式中，所述甲基丙烯酸叔氨基烷酯单元包括甲基丙烯酸二烷基氨基烷酯单元，尤其包括甲基丙烯酸二烷基氨基乙酯单元。在特别优选的实施方式中，所述共聚物包括聚[(甲基丙烯酸2-(二异丙基氨基)乙酯)-嵌段-(甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯)](PDPA-PDMA)。
胶束可以是基于上述聚合物的非交联胶束或交联(诸如壳交联)胶束。因此，尤其优选的实施方式涉及以叔胺甲基丙烯酸酯衍生的嵌段共聚物(诸如聚[(甲基丙烯酸2-(二异丙基氨基)乙酯)-嵌段-(甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯)])为基础的非交联胶束或壳交联胶束。
将所述以叔氨基为基础的(烷基)丙烯酸酯共聚物的胶束进行交联的一种可行方案是：采用双官能化的季铵化试剂对所述共聚物的叔氨基进行部分或全部季铵化。因而，在优选的实施方式中，聚[(甲基丙烯酸2-(二异丙基氨基)乙酯)-嵌段-(甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯)](PDPA-PDMA)的部分交联可以通过如下来实现：采用合适的双官能季铵化试剂，例如双(卤代烷氧基)烷烃，诸如1,2-双-(碘代乙氧基)乙烷(BIEE)，对PDMA链进行选择性季铵化/交联。在这个优选的实施方式中，PDPA链基本上保持未被季铵化。
本发明还涉及类似的未被交联的季铵化衍生物，其中，季铵化通过单官能季铵化试剂，诸如通过烷基卤化物，具体通过烷基碘化物(诸如碘甲烷)来实现。然而，据信在交联材料的情况下可以提高对硅石沉积过程的控制。
聚合物的聚合度优选被控制在规定限度内。在本发明的优选实施方式中，PDPA-PDMA共聚物的聚合度优选被控制为使得PDPA的平均聚合度落在20-25的范围内，PDMA的平均聚合度落在65-70的范围内，其中采用PDPA23-PDMA68共聚物获得特别有利的结果，所述下标表示各个嵌段的平均聚合度。在所述实施方式中，PDPA单元形成胶束的核部，PDMA单元形成胶束的冠部。
可以通过任意适当的聚合技术制备聚合物核材料，但对于优选的实施方式，当采用诸如基团转移聚合技术和可控自由基聚合技术(诸如RAFT和ATRP)获得特别有利的结果。然后，例如采用适当的前驱体对核材料进行处理，从而在其上包覆金属氧化物。
在优选的实施方式中，聚合物核是乳胶，优选是离子方式稳定的聚合乳胶。本文所用术语“乳胶”指聚合物粒子的稳定悬浮液。优选地，所述悬浮液是阳离子悬浮液。优选地，聚合物粒子的平均尺寸在1-400nm的范围内，更优选在10-250nm的范围内，甚至更优选在30-150nm的范围内。优选地，悬浮液的pH范围为3-7，更优选为3.5-6。
优选地，所述乳液包含聚合物和阳离子表面活性剂。可以使用任何适当的聚合物，诸如均聚物、无规共聚物、嵌段共聚物、二嵌段共聚物、三嵌段共聚物及其组合。
优选地，所述聚合物包括苯乙烯单体、(甲基)丙烯酸单体及其共聚物和组合。
优选地，表面活性剂包括铵表面活性剂。
核优选包含阳离子乙烯基聚合物的水性组合物。所述阳离子基团可以包含在聚合物中，或者可以以任何其它形式添加(诸如通过添加阳离子表面活性剂)。优选地，所述阳离子基团至少部分结合到所述聚合物上。优选地，阳离子基团在聚合过程中包含在聚合物中。
可以以任何适当的方式制备聚合物，例如在溶液中制备，被分散并且可选溶剂蒸发；在表面活性剂的存在下制备；在聚合(或低聚)稳定剂的存在下，可选在少量表面活性剂的存在下制备；通过本体聚合或悬浮聚合，接着将该聚合物分散在水中，然后进行另一聚合步骤来制备。在具体的实施方式中，聚合物分散液(或溶液)A被用作进一步乙烯基聚合的稳定剂。聚合物A可以例如为聚氨酯、聚酯、聚酰胺、聚碳酸酯等。
本发明的纳米粒子包含壳材料，所述壳材料包括金属氧化物。可以使用任何适当的金属氧化物。优选地，金属氧化物选自二氧化钛、氧化锆、锑掺杂的氧化锡、氧化锡、氧化铝、二氧化硅及其组合。
优选地，壳包括硅石，更优选地，壳中硅石占至少90重量％。
优选地，所述壳材料包含硅石，其由至少一种硅石前驱体沉积在所述核材料上。可选地，所述至少一种硅石前驱体可以包括无机硅酸盐，例如碱金属硅酸盐，诸如硅酸钠。然而，优选的硅石前驱体包括有机硅酸酯化合物，尤其是烷基硅酸酯，诸如原硅酸四甲酯或原硅酸四乙酯。最优选地，所述硅石前驱体包括原硅酸四甲酯。发现所述处理使未经交联胶束中的共聚物链有效交联，从而使朝着离解的胶束稳定。
硅石的沉积可以通过如下实施：在温和条件下采用硅石前驱体对聚合物进行简单处理。因而，在优选的共聚物和乳胶胶束的情况下，都是可以将这些材料与硅石前驱体在5-60℃下和在6.2-9.0的pH下搅拌10-300分钟，所述硅石前驱体通常为有机硅酸酯化合物，尤其为烷基硅酸酯，诸如为原硅酸四乙酯或者最优选为原硅酸四甲酯。在典型的反应中，可以在20℃下和在pH7.2下采用原硅酸四甲酯对PDPA-PDMA共聚物胶束处理20分钟。在这点上，本发明的第二方面的方法具有明显优于现有方法的优点，现有技术的方法需要在低pH值下，通常在pH1下进行硅石沉积过程。
采用以如下为基础的组合物实现特别有利的结果：由叔胺甲基丙烯酸酯基嵌段共聚物衍生的选择性季铵化的非交联胶束和壳交联(SCL)胶束，具体实例是：聚[(甲基丙烯酸2-(二异丙基氨基)乙酯)-嵌段-(甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯)](PDPA-PDMA)，已证实这种材料作为模板用于仿生形成直径小于50nm的规整共聚物-硅石纳米粒子特别成功。含有部分季铵化的或全部季铵化的聚(甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯))(PDMA)冠部和疏水的聚(甲基丙烯酸2-(二异丙基氨基)乙酯)(PDPA)核部的二嵌段共聚物胶束具体被用作纳米尺寸模板，用于在温和条件(即pH为7.2和20℃)下由水溶液进行硅石沉积。
而且，采用含有丙烯酸共聚物乳胶粒子(例如，得自DSMNeoResins的NeoCrylXK-30)的组合物实现有利的结果。优选的乳胶粒子具有60-90nm的平均粒子尺寸，采用阳离子表面活性剂对其进行稳定。这些粒子被用作硅石沉积的模板。可以利用TMOS作为前驱体在中性水性环境、室温下进行硅石的仿生沉积。
在进行商业上可应用的方法时，本文可以利用的温和条件、短反应时间以及易得试剂都是明确的优点。另外，能够控制粒子的尺寸和/或性质也是有益的。
本文中的涂料组合物通常包含粘结剂。粘结剂的主要功能是保持涂层的完整性。也就是说，用于将纳米粒子固定在涂层中和固定到基材。可以使用任何适当的粘结剂，但优选地，粘结剂与粒子和基材形成共价键。粘结剂在固化前优选包含具有烷基或烷氧基的无机化合物。而且，粘结剂本身聚合从而形成基本上连续的聚合网络。
在本发明的一个实施方式中，粘结剂包括无机材料。优选地，粘结剂基本上由无机材料组成。粘结剂优选包括由一种或多种无机氧化物衍生的化合物。优选地，粘结剂包括可水解材料，诸如金属烷氧化物。优选地，粘结剂包括烷氧基硅烷、烷氧基锆酸酯、烷氧基铝酸酯、烷氧基钛酸酯、烷基硅酸酯、硅酸钠及其组合。优选的是烷氧基硅烷，优选是三烷氧基硅烷和四烷氧基硅烷。优选地，使用乙基硅酸酯、铝酸酯、锆酸酯和/或钛酸酯粘结剂。最优选地是四烷氧基硅烷。
涂层组合物中粘结剂的量按重量计优选占固体级分的1％或更多，更优选占2％或更多。优选地，粘结剂的量按重量计占固体级分的40重量％或更少，更优选为25重量％或更少。百分率被计算为粘结剂中金属氧化物的量相对于纳米粒子中金属氧化物的量。
优选地，粘结剂和纳米粒子的混合物的pH为约2或更高，更优选为约3或更高。pH优选为约7或更低，更优选为约4或更低。
本文中的组合物可以包含溶剂。优选的溶剂包括水、有机溶剂及其组合。然而，根据粘结剂的化学性质，可用许多溶剂。适当溶剂包括但不限于水、非极性有机溶剂、醇及其组合。适当溶剂的实例包括，但不限于，异丙醇、乙醇、丙酮、乙基纤维素(ethylcellosolve)、甲醇、丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、甲基乙基醚、甲基丁基醚、甲苯、甲基乙基甲酮及其组合。
一般而言，涂层组合物包含一定量的非反应性溶剂以将粒子和粘结剂的粘度调节至可以在基材上涂敷薄层的数值。优选地，粘度可以为约2.0mPa·s或更大，优选2.2mPa·s或更大，甚至更优选约2.4mPa·s或更大。优选地，粘度可以为约20mPa·s或更低，优选为约10mPa·s或更低，更优选为约6mPa·s或更低，甚至更优选为约3mPa·s或更低。所述粘度可以采用UbbelohdePSLASTMIPno1(型号27042)测定。
优选地，在固化以前，本文涂层组合物中的固含量为约5重量％或更低，更优选为约4重量％或更低，甚至更优选为约3重量％或更低。优选地，固含量为约0.5重量％或更高，更优选为约1重量％或更高，更优选为约1.5重量％或更高。
本发明的组合物适于形成光学涂层。本文所用术语“光学涂层”指光学功能作为主要功能的涂层。光学涂层的实例包括那些被设计为用于抗反射、防耀眼、防眩目、防静电、EM-控制(例如UV-控制、太阳能-控制、IR-控制、RF-控制等)功能的涂层。
优选地，本发明的涂层具有抗反射功能。更优选地，本发明的涂层是这样的，当以425-675nm的波长(可见光区域)测量被涂布的一侧时，最小反射约为2％或更小，优选为约1.5％或更小，更优选为约1％或更小。在425-675nm的区域上，在一侧上的平均反射优选为约2.5％或更小，更优选为约2％或更小，甚至更优选为约1.5％或更小，还要更优选为约1％或更小。一般而言，在425-650nm的波长下、优选在450nm或更长的波长下、更优选在500nm或更长的波长下反射最小。优选地，在600nm或更短的波长下反射最小。对于人眼来说，最小反射的最佳波长为约550nm，因为人眼对这个波长(颜色)最敏感。
可以将涂层组合物涂敷到基材上。可以使用任何适当的基材。优选的是可以受益于光学涂层的基材，尤其是受益于抗反射涂层的那些基材。基材优选具有高透明度。优选地，当厚度为2mm且波长介于425和675nm之间时，透明度为约94％或更高，更优选为约96％或更高，甚至更优选为约97％或更高，甚至更优选为98％或更高。
本文中的基材可以是有机的。例如，基材可以是有机聚合物，诸如聚萘二酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酯或具有类似光学性质的聚合材料。在这个实施方式中，优选的是，所用的涂层可以在足够低的温度下固化，从而使得有机基材材料基本上保持其性质并且基本上不会发生热降解。一种优选的方法是使用EP-A-1591804中所述的催化剂。WO2005/049757中描述了另一优选的固化方法。
本文中的基材可以是无机的。优选的无机基材包括陶瓷、金属陶瓷(cermets)、玻璃、石英及其组合。优选的是浮法玻璃。最优选的是透明度为98％或更高的低铁玻璃，也被称为白玻璃。
优选地，涂层组合物被涂敷到制品上，从而所得干燥涂层的厚度为约50nm或更大，优选为约70nm或更大，更优选为约90nm或更大。优选地，干燥的涂层厚度为约300nm或更小，更优选为约200nm或更小，甚至更优选为约160nm或更小，还要更优选为约140nm或更小。
大量方法可用于在基材上涂敷薄涂层。适于涂敷湿涂层组合物从而获得所需厚度的任何方法都是可以接受的。优选的方法包括弯月面(刮涂)(meniscus(kiss))涂布、喷涂、辊涂、旋涂和浸涂。优选浸涂，因为它使被浸没基材的各个侧面形成涂层，并且得到可重复、恒定的厚度。如果使用较小的玻璃板(诸如宽度或长度为20cm或更小的玻璃板)，那么易于使用旋涂。弯月面涂布、辊涂和喷涂可用于连续工艺。
将涂层涂敷到基材上以后需要对其进行固化或硬化。如果需要的话，可以通过任何适当的方式进行固化，这通常取决于所用粘结剂材料。固化方式的实例包括加热、IR处理、UV辐射曝光、催化固化及其组合。
如果使用催化剂，那么优选使用酸催化剂。适当的催化剂包括但不限于有机酸，诸如乙酸、甲酸、硝酸、柠檬酸、酒石酸；无机酸，诸如磷酸、盐酸、硫酸及其混合物，但是优选具有缓冲能力的酸。
在优选的实施方式中，通过加热实现固化。热固化通常在约150℃或更高下实施，优选在约200℃或更高下实施。优选地，温度可以为约700℃或更低，更优选为约500℃或更低。固化通常进行30秒或更长。一般而言，固化进行10小时或更短，优选进行4小时或更短。
在一个实施方式中，涂层组合物可被热固化，其被涂敷到玻璃板上，然后对所述板进行回火步骤。所述回火步骤通常在高达600℃的温度下实施。在这个情况下，固化工艺和回火工艺因而在一个步骤中实施。
优选地，纳米粒子中的核材料至少部分通过固化步骤降解，更优选基本上全部通过固化步骤降解。
优选地，对基材进行清洗，然后涂敷涂层。少量污染物(诸如灰尘、油脂和其它有机组分)会导致涂层具有缺陷。
业已发现根据本发明的涂层具有良好的光学性质和机械性质。希望的机械性质包括，对基材的良好附着性、良好的刺穿性能、良好的耐划伤性和良好的耐磨性。
现在，参照以下实施例进一步阐述本发明，但并不以任何方式限制本发明的范围。
实施例
实施例1
根据V.；Armes,S.P.；Billingham,N.C.在Chem.Commun.1997，671-672”中描述的方法，利用基团转移聚合方法通过顺序添加单体合成PDPA23-PDMA68二嵌段共聚物。凝胶渗透色谱分析表明，Mn为18000，Mw/Mn为1.08，利用一组近似单分散的聚(甲基丙烯酸甲酯)作为标定标准。利用1HNMR光谱，估计PDPA和PDMA嵌段的平均聚合度分别为23和68。
PDPA23-PDMA68二嵌段共聚物(季铵化程度＝0％)的非交联胶束通过如下制备：在pH2下进行分子溶解，接着采用NaOH将溶液的pH调节至pH7.2。在25℃下的动态光散射(DLS)研究表明，pH7.2下的0.25wt％共聚物胶束溶液的强度-平均胶束直径为37nm。
所述胶束的硅化通过如下实现：将2.0ml的胶束水溶液(0.25w/v％，pH7.2下)与1.0ml原硅酸四甲酯混合，然后将初始非均相溶液在环境条件下搅拌20分钟。将由此获得的杂化核壳共聚物-硅石纳米粒子用乙醇洗涤，然后进行三次离心/再分散循环(在16000rpm下5分钟)。随后在超声浴的协助下实现沉淀的核壳共聚物-硅石纳米粒子的再分散。
实施例2
如实施例1所示，利用基团转移聚合方法通过顺序添加单体合成PDPA23-PDMA68二嵌段共聚物。
如V.；Armes,S.P.；Billingham,N.C.在Macromolecules2001，34，1148-1159”所述，在THF中采用碘甲烷对PDMA嵌段进行24小时的部分季铵化(目标季铵化程度为50％或100％)。
如实施例1所述，通过pH调节，采用50％或100％季铵化的PDPA23-PDMA68二嵌段共聚物制备非交联的胶束。在pH7.2下进行的DLS研究表明，50％季铵化和100％季铵化的共聚物胶束的0.25wt％水溶液的强度-平均胶束直径分别为29nm和26nm。
在20℃下，将原硅酸四甲酯(1.0ml)加入2.0ml的PDPA23-PDMA68二嵌段共聚物胶束的0.25wt％水溶液中，其中PDMA链被50％季铵化，然后采用连续搅拌使硅石沉积连续进行20分钟，接着通过离心分离。
对杂化核壳共聚物-硅石纳米粒子(利用50％的季铵化共聚物前驱体获得)进行DLS研究，表明在pH约为7时，强度-平均胶束尺寸为34nm。
实施例3
利用基团转移聚合方法通过顺序添加单体合成PDPA23-PDMA68二嵌段共聚物，并且如实施例1所述制备PDPA23-PDMA68二嵌段共聚物的非交联胶束。
对PDMA冠链进行壳交联通过如下实现：将双官能季铵化试剂1,2-二-(2-碘代乙氧基)乙烷(BIEE，为了30％的目标交联度用量为0.15摩尔/(DMA残基))加入pH为7.2的0.25％PDPA23-PDMA68共聚物胶束溶液中。壳交联在25℃下进行至少72小时。壳交联后，DLS研究表明强度-平均直径为32nm，TEM研究指明了干燥SCL胶束的数量-平均直径为26nm。在将水性SCL胶束溶液调节至pH2的过程中，DLS研究表明由于SCL胶束溶胀强度-平均直径为45nm。
这个DLS实验还证实成功进行了壳交联，因为非交联胶束在低pH下完全离解从而形成分子溶液，其原因在于PDPA链在低pH下被高度质子化因而不再疏水。另外，DLS表明，由50％季铵化的共聚物制备的SCL胶束在pH7.2下具有37nm的强度-平均直径。
硅石沉积通过如下实现：将一份为2.0ml的0.25wt％SCL胶束溶液加入2.0ml甲醇和2.0ml原硅酸四甲酯的混合物中，其中，甲醇作为共溶剂以确保TMOS与水相混溶。在连续进行硅石沉积40分钟后，所得产物的TEM研究证实形成了规整的核壳共聚物-硅石纳米粒子。然而，甚至在连续处理120分钟后，仍未观察到非模板化的硅石纳米结构。
实施例4
利用PEO-基大分子引发剂通过原子转移自由基聚合方法通过如下合成PEO45-PDMA29-PDPA76三嵌段共聚物：将大分子引发剂(1.00g，0.463mmol)加入25ml的单口烧瓶中，然后通过三次抽真空/充氮循环排气，接着添加DMA(2.18g，13.88mmol，目标DP＝30)、2,2'-联吡啶(144.5mg，0.925mmol)以及然后添加3.2ml脱气的95/5v/vIPA/水混合物。将该溶液置于40℃的油浴中并搅拌至均匀。然后加入氯化铜(I)(45.8mg，0.463mmol)，并在连续搅拌的同时将该反应在40℃下氮气下进行3.5小时。这段时间后，通过1HNMR光谱测定DMA单体的转化率达到96％。
此后，加入DPA(4.94g，23.13mmol，目标DP＝50)和5.0ml的95/5v/vIPA/水混合物。在40℃下实施第二阶段的聚合18.5小时，然后通过暴露于空气终止反应。1HNMR分析表明，DPA单体的转化率达到99％。将共聚物溶液用THF(200ml)稀释，并通过硅胶柱以除去失效的催化剂。然后，在真空下浓缩共聚物溶液，并在去离子水(100ml)中沉淀固体共聚物以除去残余单体和任何未反应的PEO-PDMA二嵌段共聚物。在真空下冷冻干燥整夜以分离纯化的白色共聚物，总产量为6.1g(76％)。
PEO45-PDMA29-PDPA76三嵌段共聚物的胶束棒通过如下制备：在pH2下进行分子溶解，接着采用NaOH将溶液的pH调节至pH7.2。最终共聚物的浓度为1.0wt％。
硅石沉积通过如下实现：向1.0ml的共聚物溶液中添加过量的TMOS(0.20g；即TMOS：共聚物的质量比为20：1)；然后在20℃、pH7.2下进行20分钟硅化。将由此获得的硅石棒用乙醇洗涤，然后进行三次离心/再分散循环(在13000rpm下15分钟)。
实施例5
为了制备经预先低聚的四乙氧基硅烷，将水(53.6g，12.2wt％)和乙酸(5.9g)加入四乙氧基硅烷(58.4g)在2-丙醇(159.0g)中的搅动溶液中。24小时后，用2-丙醇(160.7g)将混合物稀释至所需浓度。通过添加浓硝酸(1.3g)，使所得混合物的pH值减小至1.0。
向实施例2制备的硅石核壳粒子(125mg)的5.7wt％悬浮液中添加2-丙醇(125mg)。然后添加各种量的经预先低聚的四乙氧基硅烷，并将混合物摇动5分钟。采用2500min-1的速度，将所得制剂旋涂到尺寸为5cm×1cm的干净玻璃板上。将AR膜涂敷到玻璃基材的两侧。在450℃的温度下对经涂布的玻璃板进行4小时固化。
该样品具有1.3％的反射率，并且钢丝测试(250g负载)不会对其造成视觉上可见的损伤。以类似方式，采用尺寸与核壳粒子类似的经填充硅石粒子制备样品，该样品具有1.9％或更高的反射率。
实施例6
用水对NeoCrylXK-30(4.41g，42.5％丙烯酸共聚物，得自DSMNeoResins)进行处理。然后，在室温下2小时内添加四甲氧基硅烷(10.00ml)。添加完成后，将混合物在室温下搅拌1.5小时，然后用乙醇(108.4g)稀释。
采用4.2mm·s-1的抽出速度将这种粒子的3.1wt％悬浮液浸涂到尺寸为8cm×10cm的干净玻璃板上。将AR膜涂敷到玻璃板的两侧。在450℃的温度下对经涂布的玻璃板进行4小时固化。在550nm下的反射率小于1。

Claims (10)

1.一种含有核壳纳米粒子的光学涂层组合物，其中，所述纳米粒子包含：
(a)含有聚合物的核材料；和
(b)含有金属氧化物的壳材料。
2.如权利要求1所述的组合物，其中，所述核材料是阳离子的。
3.如权利要求1或2所述的组合物，其中，所述聚合物选自聚酯、聚酰胺、聚氨酯、聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、其共聚物及其组合。
4.如前述权利要求中任意一项所述的组合物，其中，所述聚合物选自乳胶、二嵌段共聚物、三嵌段共聚物及其组合。
5.如前述权利要求中任意一项所述的组合物，其中，所述聚合物选自阳离子聚合物。
6.如前述权利要求中任意一项所述的组合物，其中，所述金属氧化物是硅石。
7.如前述权利要求中任意一项所述的组合物，其中，所述组合物包含粘结剂。
8.如前述权利要求中任意一项所述的组合物，其中，所述组合物包含含有无机氧化物的粘结剂。
9.如前述权利要求中任意一项所述的组合物，其中，所述纳米粒子具有5％至90％的潜在空洞分数。
10.一种基材，其至少部分被如前述权利要求中任意一项所述的组合物涂布。
CN201610154455.8A 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子 Active CN105652349B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0617480.9 2006-09-06
GBGB0617480.9A GB0617480D0 (en) 2006-09-06 2006-09-06 Novel nanoparticles
CN2007800331182A CN101512387B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800331182A Division CN101512387B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105652349A true CN105652349A (zh) 2016-06-08
CN105652349B CN105652349B (zh) 2018-05-11

Family

ID=37232408

Family Applications (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610301487.6A Active CN105969022B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子
CN2007800331182A Expired - Fee Related CN101512387B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子
CN2007800331286A Active CN101611084B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 新型的纳米粒子
CN201310308983.0A Pending CN103487849A (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子
CN201610154455.8A Active CN105652349B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子

Family Applications Before (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610301487.6A Active CN105969022B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子
CN2007800331182A Expired - Fee Related CN101512387B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子
CN2007800331286A Active CN101611084B (zh) 2006-09-06 2007-09-05 新型的纳米粒子
CN201310308983.0A Pending CN103487849A (zh) 2006-09-06 2007-09-05 核壳纳米粒子

Country Status (15)

Country Link
US (6) US9855219B2 (zh)
EP (4) EP3483638B1 (zh)
JP (2) JP5266549B2 (zh)
KR (2) KR101378645B1 (zh)
CN (5) CN105969022B (zh)
AU (2) AU2007294172B2 (zh)
BR (2) BRPI0716156A8 (zh)
CA (2) CA2662221C (zh)
ES (1) ES2903558T3 (zh)
GB (1) GB0617480D0 (zh)
HK (1) HK1221993A1 (zh)
PL (3) PL2059836T3 (zh)
TR (1) TR201901022T4 (zh)
TW (2) TWI424015B (zh)
WO (2) WO2008028641A2 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106430222A (zh) * 2016-09-29 2017-02-22 上海特栎材料科技有限公司 一种纳米二氧化硅微球及其制备方法

Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0617480D0 (en) 2006-09-06 2006-10-18 Univ Sheffield Novel nanoparticles
AU2008337532A1 (en) * 2007-12-14 2009-06-25 Dsm Ip Assets B.V. Sol-gel process with an encapsulated catalyst
JP5291971B2 (ja) * 2008-04-08 2013-09-18 花王株式会社 メソポーラスシリカ粒子の製造方法
FR2936722B1 (fr) * 2008-10-07 2013-11-22 Nanolege Inc Materiaux nanocomposites et procede de fabrication par nanoprecipitation.
EP2205671B1 (en) * 2008-10-14 2011-06-22 DSM IP Assets B.V. Stain resistant particles
JP4793456B2 (ja) * 2009-02-20 2011-10-12 トヨタ自動車株式会社 熱伝導性絶縁樹脂成形体
JP5594611B2 (ja) 2009-03-06 2014-09-24 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． スロットダイ塗工方法
EP2414455B1 (en) * 2009-03-31 2014-02-26 3M Innovative Properties Company Coating composition and method of making and using the same
CN101885905B (zh) 2009-05-12 2013-08-21 无锡纳奥新材料科技有限公司 聚合物/无机纳米粒子复合纳米颗粒及其制备和用途
US8013065B2 (en) * 2009-06-09 2011-09-06 International Business Machines Corporation Methods for making multi-branched polymers
EP2501763A4 (en) * 2009-11-18 2014-01-01 3M Innovative Properties Co PROTECTIVE COATINGS AND METHODS OF MAKING AND USING THEM
US8361495B2 (en) 2009-12-23 2013-01-29 International Business Machines Corporation Antimicrobial polymers and methods of manufacture thereof
US20110151566A1 (en) 2009-12-23 2011-06-23 James Hedrick Biodegradable polymers, complexes thereof for gene therapeutics and drug delivery, and methods related thereto
US8470891B2 (en) * 2009-12-23 2013-06-25 International Business Machines Corporation Biodegradable block polymers for drug delivery, and methods related thereto
US8226985B2 (en) 2010-01-28 2012-07-24 International Business Machines Corporation Surface modified nanoparticles, methods of their preparation, and uses thereof for gene and drug delivery
US8765098B2 (en) 2010-03-30 2014-07-01 International Business Machines Corporation Star polymers, methods of preparation thereof, and uses thereof
CN101891867B (zh) * 2010-04-30 2012-09-19 中国科学院长春应用化学研究所 一种核-壳结构的SiO2@PDMAEMA纳米粒子的制备方法
PL2582764T3 (pl) * 2010-06-18 2015-08-31 Dsm Ip Assets Bv Nieorganiczna powłoka tlenkowa
JP5579512B2 (ja) * 2010-06-24 2014-08-27 電気化学工業株式会社 複合粒子およびその製造方法
EP2431424A3 (en) 2010-09-21 2014-03-05 Rohm and Haas Company UV - reflecting compositions
EP2431422A3 (en) 2010-09-21 2013-07-10 Rohm and Haas Company IR - reflecting compositions
EP2431423A3 (en) 2010-09-21 2013-07-10 Rohm and Haas Company Anti-reflective coatings
EP2625718B1 (en) * 2010-10-06 2020-12-16 3M Innovative Properties Company Method of coating optical components of solar energy systems
US9944822B2 (en) 2010-10-06 2018-04-17 3M Innovative Properties Company Coating composition and method of making and using the same
US20130213454A1 (en) * 2010-10-06 2013-08-22 Katherine A. Brown Coatings for optical components of solar energy systems
KR101311920B1 (ko) * 2010-12-21 2013-09-26 한국생명공학연구원 란타나이드 금속착체를 이용한 형광 나노입자 및 그 제조방법
JP5353916B2 (ja) * 2011-02-01 2013-11-27 トヨタ自動車株式会社 絶縁樹脂材料の製造方法
JP2014507686A (ja) * 2011-02-11 2014-03-27 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． 基板上に反射防止層を堆積させるための方法
US8945513B2 (en) 2011-03-18 2015-02-03 International Business Machines Corporation Star polymer nanoshells and methods of preparation thereof
ES2627968T3 (es) * 2011-09-29 2017-08-01 Spectra Systems Corporation Recubrimientos autentificables para comprimidos farmacéuticos y materiales ingeribles
US20130148205A1 (en) * 2011-12-12 2013-06-13 Canon Kabushiki Kaisha Method of producing antireflection film
EP3608016B1 (en) * 2012-05-22 2023-11-15 Covestro (Netherlands) B.V. Hybrid organic-inorganic nano-particles
IN2015DN00721A (zh) 2012-08-09 2015-07-10 Dsm Ip Assets Bv
CN102827379B (zh) * 2012-08-16 2014-04-02 华南理工大学 一种可再分散乳胶粉及其制备方法
JP5617891B2 (ja) * 2012-10-10 2014-11-05 Dic株式会社 コア−シェル型シリカナノ粒子及びその製造方法
JP2016001199A (ja) * 2012-10-15 2016-01-07 旭硝子株式会社 シリカ系多孔質膜、シリカ系多孔質膜付き物品およびその製造方法
JP2015537029A (ja) 2012-11-14 2015-12-24 ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー−コーンＷ Ｒ Ｇｒａｃｅ ＆ Ｃｏ−Ｃｏｎｎ 生物学的に活性な物質及び不規則性無機酸化物を含有する組成物
EP2905304B1 (en) * 2012-11-16 2017-09-13 Quanta Matrix Co., Ltd. Encoded polymer microparticles
US20140170786A1 (en) * 2012-12-13 2014-06-19 Juanita N. Kurtin Ceramic composition having dispersion of nano-particles therein and methods of fabricating same
US9517460B2 (en) * 2012-12-27 2016-12-13 Lg Chem, Ltd. Method for fabricating hollow metal nano particles supported on carrier
JP6206963B2 (ja) * 2013-03-12 2017-10-04 国立大学法人 千葉大学 有機−無機ハイブリッド粒子の製造方法及び無機中空粒子の製造方法
CH707947A1 (de) * 2013-04-24 2014-10-31 Timbatec Holzbauingenieure Schweiz Ag Bauteil, Verfahren zur Verbindung von Holzelementen, Computerprogramm.
TWI657118B (zh) 2013-11-22 2019-04-21 Ｄｓｍ智慧財產有限公司 抗反射塗覆組成物之製作方法及由其所製之多孔性塗覆物
ES2700349T3 (es) 2014-07-04 2019-02-15 Dsm Ip Assets Bv Lámina posterior coextruida para módulos de células solares
EP2977361A1 (en) * 2014-07-21 2016-01-27 DPX Holdings B.V. Marking of substrates
CN105524551B (zh) * 2014-09-29 2018-05-15 旭化成株式会社 光学涂膜、光学涂膜的制造方法以及防反射膜
KR20170072916A (ko) * 2014-10-21 2017-06-27 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. 기판 코팅 방법
EP3124112A1 (en) 2015-07-30 2017-02-01 DWI - Leibniz-Institut für Interaktive Materialien e.V. Method for the encapsulation of substances in silica-based capsules and the products obtained thereof
AR106018A1 (es) 2015-08-26 2017-12-06 Achillion Pharmaceuticals Inc Compuestos de arilo, heteroarilo y heterocíclicos para el tratamiento de trastornos médicos
EP3340982B1 (en) 2015-08-26 2021-12-15 Achillion Pharmaceuticals, Inc. Compounds for treatment of immune and inflammatory disorders
CN105330168A (zh) * 2015-10-19 2016-02-17 北京莱诺泰克科技有限公司 减反射镀膜液及其制备方法与应用
CN108603834A (zh) 2015-12-11 2018-09-28 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 在透明片材上用于光学测量的系统和方法
EP3394175A4 (en) * 2015-12-25 2019-08-07 3M Innovative Properties Company COMPOSITION, PROCESS FOR PREPARING THE COMPOSITION AND ARTICLES
EP3394174A4 (en) * 2015-12-25 2019-08-07 3M Innovative Properties Company COMPOSITION, PROCESS FOR PREPARING A COMPOSITION AND OBJECT
EP3211122A1 (en) 2016-02-23 2017-08-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. A method of sintering, crystallizing and/or crosslinking of a coating material on a substrate
EP3376266A4 (en) 2016-03-09 2019-01-02 LG Chem, Ltd. Anti-reflective film
KR101816093B1 (ko) 2016-05-09 2018-01-08 (주)디엔에프 반사방지용 코팅 조성물
RU2018145364A (ru) 2016-06-27 2020-07-28 Ачиллион Фармасьютикалс, Инк. Хиназолиновые и индольные соединения для лечения медицинских нарушений
JP6967256B2 (ja) * 2016-08-31 2021-11-17 国立大学法人 名古屋工業大学 ナノシリカ中空粒子の製造方法
CN106543462A (zh) * 2016-10-17 2017-03-29 华南理工大学 一种以环氧树脂为模板的核壳纳米粒子及其制备方法与应用
US11001586B2 (en) 2016-11-17 2021-05-11 The University Of North Carolina At Chapel Hill Alkyl pyrrolopyrimidine analogs and methods of making and using same
WO2018192910A2 (en) 2017-04-18 2018-10-25 Dsm Ip Assets B.V. Process for making an anti-soiling coating composition and a coating made therefrom
CN109133663A (zh) * 2017-06-15 2019-01-04 阿特斯阳光电力集团有限公司 抗反射玻璃的制备方法及光伏组件
JP7317004B2 (ja) * 2018-04-27 2023-07-28 キヤノン株式会社 粒子、及びその製造方法
EP3810699A1 (en) * 2018-06-21 2021-04-28 University College Cork-National University of Ireland Cork A coating composition comprising integrated functionality
KR102142457B1 (ko) * 2018-07-20 2020-08-10 엘지전자 주식회사 유무기 하이브리드 입자 및 그 제조 방법
US20230022157A1 (en) 2018-08-20 2023-01-26 Achillion Pharmaceuticals, Inc. Pharmaceutical compounds for the treatment of complement factor d medical disorders
EP3866773A4 (en) 2018-10-16 2022-10-26 Georgia State University Research Foundation, Inc. CARBON MONOXIDE PRODRUGS FOR THE TREATMENT OF MEDICAL CONDITIONS
CN109535315B (zh) * 2018-11-29 2020-06-09 江南大学 一种具有自修复及防腐蚀功能的复合壳材微胶囊及其制备方法
WO2020212526A1 (en) * 2019-04-17 2020-10-22 Adolphe Merkle Institute, University Of Fribourg Method of production of controlled release silica nanoparticles for plant growth and/or defense enhancement

Family Cites Families (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2432484A (en) 1943-03-12 1947-12-09 American Optical Corp Reflection reducing coating having a gradually increasing index of refraction
US4450498A (en) * 1982-09-15 1984-05-22 Coral Industrial Sales Co. Electrically grounded, static absorbing drapery installation
US4540498A (en) * 1983-05-31 1985-09-10 The Standard Oil Company Block copolymers for enhanced oil recovery
US4965091A (en) 1987-10-01 1990-10-23 At&T Bell Laboratories Sol gel method for forming thin luminescent films
JPH0374440A (ja) * 1989-08-16 1991-03-29 Asahi Chem Ind Co Ltd カチオン性中空重合体粒子、その製造方法及び該粒子を用いた充填紙
US5100471A (en) * 1990-06-27 1992-03-31 Xerox Corporation Liquid ink compositions
US5570120A (en) * 1993-07-16 1996-10-29 Canon Kabushiki Kaisha Ink-jet recording method and color image forming method
US7109968B2 (en) 1995-07-20 2006-09-19 E Ink Corporation Non-spherical cavity electrophoretic displays and methods and materials for making the same
JPH10182841A (ja) * 1996-11-01 1998-07-07 Mitsubishi Rayon Co Ltd 複合体、その製法、及び複合体を含有する成形品
JPH10282306A (ja) * 1997-04-03 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜およびそれを配置した表示装置
US6132039A (en) * 1997-05-12 2000-10-17 General Company Limited Ink acceptor and recording method using the same
FR2774994B1 (fr) * 1998-02-13 2000-05-05 Rhodia Chimie Sa Particules composites comprenant un coeur a base d'un polymere organique contenant une matiere active et un revetement externe a base d'au moins un oxyde et/ou un hydroxyde, leur procede de preparation et leurs utilisations
ATE228883T1 (de) * 1998-03-19 2002-12-15 Max Planck Gesellschaft Herstellung von mit mehrlagen gestrichenen partikeln und hohlen schalen durch elektrostatische selbstorganisierung von nanokompositmehrlagen auf zersetzbaren schablonen
JP4576035B2 (ja) * 2000-09-26 2010-11-04 株式会社松風 歯科用表面改質有機複合フィラー
EP1167313B1 (en) 1999-12-13 2015-09-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Low-reflection glass article
US6624272B2 (en) * 1999-12-20 2003-09-23 Jsr Corporation Hollow crosslinked cationic polymer particles, method of producing said particles, and paint composition, cationic electrodeposition paint composition, resin composition, filled paper, paper coating composition, and coated paper
JP2001247820A (ja) * 1999-12-27 2001-09-14 Jsr Corp 塗料組成物
JP4918743B2 (ja) 2001-02-16 2012-04-18 凸版印刷株式会社 反射防止フィルム
US20040135126A1 (en) * 2001-06-26 2004-07-15 Schwark Dwight W. Coating composition containing polythiophene and solvent mixture
US20050220880A1 (en) * 2002-03-07 2005-10-06 Lewis Andrew L Drug carriers comprising amphiphilic block copolymers
US7112615B2 (en) * 2002-07-22 2006-09-26 Massachusetts Institute Of Technology Porous material formation by chemical vapor deposition onto colloidal crystal templates
JP4069369B2 (ja) 2002-09-25 2008-04-02 信越化学工業株式会社 反射防止膜及び反射防止膜の製造方法
WO2004070436A1 (ja) 2003-02-06 2004-08-19 Sdc Technologies-Asia Ltd. 低反射処理物品の製造方法、低反射層形成用溶液および低反射処理物品
WO2004085493A1 (ja) * 2003-03-25 2004-10-07 Sekisui Plastics Co., Ltd. シリカ被覆重合体粒子、その製造方法及びその用途
JP2004300172A (ja) * 2003-03-28 2004-10-28 Dainippon Printing Co Ltd コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、及び、画像表示装置
CN100523815C (zh) * 2003-04-16 2009-08-05 积水化学工业株式会社 内含磁性体的粒子及其制造方法、免疫测定用粒子以及免疫测定方法
GB2403920A (en) 2003-04-30 2005-01-19 Univ Sussex Particulate emulsifiers
JP3772217B2 (ja) 2003-07-07 2006-05-10 独立行政法人物質・材料研究機構 多孔質酸化物超薄膜および該超薄膜をシェル、ポリマーをコアとするコア・シェル粒子と該コア・シェル粒子から誘導されてなる多孔質中空酸化物シェル構造体およびこれらの製造方法
KR101304381B1 (ko) 2003-08-28 2013-09-11 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 적층체의 제조방법
US7919145B2 (en) 2003-11-21 2011-04-05 Xerocoat Inc. Silica films and method of production thereof
KR101074948B1 (ko) 2003-12-17 2011-10-18 가부시키가이샤 브리지스톤 반사 방지 필름, 전자파 실드성 광 투과창재, 가스 방전형발광 패널, 플랫 디스플레이 패널, 진열창재 및 태양 전지모듈
JP2005181543A (ja) 2003-12-17 2005-07-07 Bridgestone Corp 反射防止フィルム
JP2006106715A (ja) 2004-09-13 2006-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、および液晶表示装置
US20070261601A1 (en) 2004-09-22 2007-11-15 Fujifilm Corporation Hardening Composition, Antireflective Film, Method of Producing the Same, Polarizing Plate and Image Display Unit
US7713613B2 (en) * 2004-10-01 2010-05-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Composition for antistatic layer
JP2006113175A (ja) * 2004-10-13 2006-04-27 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、偏光板及び表示装置
JP2006126737A (ja) * 2004-11-01 2006-05-18 Sekisui Chem Co Ltd 拡散反射板用コーティング剤及び拡散反射板
CN1257922C (zh) 2004-11-11 2006-05-31 复旦大学 草莓型有机－无机纳米复合微球的制备方法
US7373073B2 (en) * 2004-12-07 2008-05-13 Ulrich Kamp Photonic colloidal crystal columns and their inverse structures for chromatography
JP2006178041A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Asahi Kasei Corp 反射防止拡散板
EP1674891A1 (en) * 2004-12-23 2006-06-28 DSM IP Assets B.V. Antireflection coating, process for its preparation and articles comprising same
KR101182002B1 (ko) * 2005-02-16 2012-09-11 코니카 미놀타 어드밴스드 레이어즈 인코포레이티드 반사 방지 필름, 반사 방지 필름의 제조 방법, 편광판 및표시 장치
JP5057199B2 (ja) 2005-06-02 2012-10-24 旭硝子株式会社 中空状ＳｉＯ２微粒子分散液の製造方法、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材
CN1331919C (zh) * 2005-12-01 2007-08-15 上海交通大学 一种聚苯乙烯/二氧化锡核壳微球的制备方法
CN100503448C (zh) 2006-05-23 2009-06-24 中国科学院理化技术研究所 水相一步合成锐钛矿型晶化二氧化钛纳米核壳或空壳结构材料的方法
GB0617480D0 (en) 2006-09-06 2006-10-18 Univ Sheffield Novel nanoparticles
CN101391199A (zh) 2007-09-21 2009-03-25 中国科学院化学研究所 多腔复合微/纳米胶囊及其制备方法和装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106430222A (zh) * 2016-09-29 2017-02-22 上海特栎材料科技有限公司 一种纳米二氧化硅微球及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090058543A (ko) 2009-06-09
WO2008028641A3 (en) 2008-06-05
CN101611084A (zh) 2009-12-23
US20180078509A1 (en) 2018-03-22
US9855219B2 (en) 2018-01-02
WO2008028640A3 (en) 2008-06-12
TR201901022T4 (tr) 2019-02-21
EP3395876A1 (en) 2018-10-31
KR20090075818A (ko) 2009-07-09
AU2007294173B2 (en) 2012-08-30
EP3483638B1 (en) 2021-10-27
JP5266549B2 (ja) 2013-08-21
PL2059558T3 (pl) 2019-05-31
CA2662221C (en) 2015-03-24
PL3483638T3 (pl) 2022-05-09
EP2059558B1 (en) 2018-10-24
BRPI0716156A8 (pt) 2017-10-24
JP2010502795A (ja) 2010-01-28
CN105652349B (zh) 2018-05-11
CN105969022B (zh) 2020-10-30
US20140037741A1 (en) 2014-02-06
CN101512387B (zh) 2013-08-14
TWI424015B (zh) 2014-01-21
CA2662221A1 (en) 2008-03-13
CN105969022A (zh) 2016-09-28
CA2661930A1 (en) 2008-03-13
CN101611084B (zh) 2012-05-30
WO2008028641A2 (en) 2008-03-13
BRPI0716154A2 (pt) 2013-09-17
AU2007294172B2 (en) 2013-01-17
CA2661930C (en) 2016-04-12
EP2059836A2 (en) 2009-05-20
EP3483638A1 (en) 2019-05-15
EP2059558A2 (en) 2009-05-20
CN103487849A (zh) 2014-01-01
BRPI0716156A2 (pt) 2013-09-17
US20100015433A1 (en) 2010-01-21
US20100009001A1 (en) 2010-01-14
US20120128982A1 (en) 2012-05-24
US20200230069A1 (en) 2020-07-23
TW200831581A (en) 2008-08-01
JP2010503033A (ja) 2010-01-28
JP5617241B2 (ja) 2014-11-05
KR101378645B1 (ko) 2014-03-26
EP2059836B1 (en) 2019-10-23
PL2059558T4 (pl) 2019-05-31
PL2059836T3 (pl) 2020-04-30
HK1221993A1 (zh) 2017-06-16
US9220689B2 (en) 2015-12-29
KR101440165B1 (ko) 2014-09-12
US8580311B2 (en) 2013-11-12
TWI417330B (zh) 2013-12-01
AU2007294173A1 (en) 2008-03-13
AU2007294172A1 (en) 2008-03-13
WO2008028640A2 (en) 2008-03-13
ES2903558T3 (es) 2022-04-04
GB0617480D0 (en) 2006-10-18
CN101512387A (zh) 2009-08-19
TW200829638A (en) 2008-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105652349A (zh) 核壳纳米粒子
JP6840923B2 (ja) 多孔質無機酸化物被膜を製造するための組成物および方法
US20090043037A1 (en) Aqueous Coating Composition
WO2009130745A1 (ja) 金平糖状粒子の製造方法
KR20160088410A (ko) 반사-방지성 코팅 조성물의 제조 방법 및 그로부터 제조된 다공성 코팅
CN105524551B (zh) 光学涂膜、光学涂膜的制造方法以及防反射膜
WO2009118415A1 (en) Coating compostiion, coating and an object coated with the coating composition
JPH1121512A (ja) 親水性コーティング用樹脂組成物
Yoshinaga et al. Formation of colloid crystals from polymer-modified monodisperse colloidal silica in organic solvents
WO2014098637A1 (en) Reactive aqueous emulsions for composite coatngs

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: DE

Ref document number: 1221993

Country of ref document: HK

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Nivohain, the Netherlands

Patentee after: Kostron (Netherlands) Co.,Ltd.

Address before: Nivohain, the Netherlands

Patentee before: MS Holdings Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20210927

Address after: Nivohain, the Netherlands

Patentee after: MS Holdings Ltd.

Address before: Holland Heerlen

Patentee before: DSM IP ASSETS B.V.

CP02 Change in the address of a patent holder

Address after: Geleen

Patentee after: Kostron (Netherlands) Co.,Ltd.

Address before: Holland Ni Wohaien

Patentee before: Kostron (Netherlands) Co.,Ltd.

CP02 Change in the address of a patent holder
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: WD

Ref document number: 1221993

Country of ref document: HK