CN104292889B - 功能材料及其制备方法、树脂组合物、膜材、显示器件 - Google Patents

功能材料及其制备方法、树脂组合物、膜材、显示器件 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种功能材料及其制备方法、可固化树脂组合物、膜材、显示器件，属于显示技术领域，其可解决现有显示器件存在污染的问题。本发明的功能材料包括表面带有改性层的无机粉末，无机粉末包括氧化铝、氧化镁、氧化锌、氧化锆、二氧化硅、二氧化钛、氧化硼、三氧化二铁、氧化钙、氧化钾、氧化钠、氧化锂中的任意一种或多种；改性层由二元酐和二元胺反应生成。本发明的可固化树脂组合物中含有上述功能材料。本发明的膜材和显示器件中包括由上述可固化树脂组合物固化形成的透明膜层。

Description

功能材料及其制备方法、树脂组合物、膜材、显示器件
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种功能材料及其制备方法、可固化树脂组合物、膜材、显示器件。
背景技术
随着技术的发展，在电视、电脑、手机等之中，各种显示器件获得了越来越广泛的应用。
但是，不论何种类型的显示器件(液晶显示器件、有机发光二极管显示器件、等离子显示器件等)，在使用中都会不可避免的产生一定的电磁辐射勿扰，对人体健康造成不良影响。
发明内容
本发明针对现有显示器件会产生污染的问题，提供一种可起到医疗保健作用且对环境友好的功能材料及其制备方法、可固化树脂组合物、膜材、显示器件。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种功能材料功能材料，其包括表面带有改性层的无机粉末，所述无机粉末包括：
氧化铝、氧化镁、氧化锌、氧化锆、二氧化硅、二氧化钛、氧化硼、三氧化二铁、氧化钙、氧化钾、氧化钠、氧化锂中的任意一种或多种；
所述改性层由二元酐和二元胺反应生成。
优选的是，用于生成所述改性层的二元酐与二元胺的物质的量的比在(0.85～1.05)∶1。
进一步优选的是，用于生成所述改性层的二元酐与二元胺的物质的量的比在(0.92～1.05)∶1。
优选的是，所述用于生成所述改性层的二元酐中含有至少一个苯基；所述用于生成所述改性层的二元胺中含有至少一个苯基或非苯基的六元碳环。
进一步优选的是，用于生成所述改性层的二元酐选自均苯四甲酸二酐、偏苯三酸酐、二苯酮二酐、联苯二酐、二苯醚二酐、六氟二酐中的任意一种；用于生成所述改性层的二元胺选自3-氨基苄胺、2,2'-二氟-4,4'-(9-亚茀基)二苯胺、2,2-双(3-氨基-4-羟苯基)六氟丙烷、六氢-间苯二甲基二胺、1,4-二(氨甲基)环己烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯]六氟丙烷、2,2-双(3-氨基-4-甲苯基)六氟丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,7-二氨基芴、间苯二甲胺、4,4'-亚甲基双(2-乙基-6-甲基苯胺)中的任意一种。
优选的是，所述无机粉末的粒径在1～5000nm。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种上述功能材料的制备方法，其包括：
将所述无机粉末、二元酐、二元胺与引发剂、溶剂混合均匀；
加热使所述二元酐与二元胺反应，在无机粉末表面形成所述改性层。
优选的是，所述无机粉末的质量与二元酐、二元胺反应后生成的物质的质量的比为(20～1)∶1。
优选的是，所述加热分为两步进行，其具体为：在35～70℃的温度下加热20～40min；在70～100℃的温度下加热20～40min。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种可固化树脂组合物，其包括：
可固化树脂；
溶剂；
上述功能材料。
优选的是，所述可固化树脂包括丙烯酸树脂和环氧树脂；所述可固化树脂组合物还包括偶联剂、润湿流平剂；在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中各组分的质量百分含量为：
丙烯酸树脂：1～20％；
环氧树脂：1～20％；
偶联剂：1～10％；
润湿流平剂：0.2～5％；
溶剂：70～90％。
优选的是，所述可固化树脂包括乙烯性不饱和单体；所述可固化树脂组合物中还包括光引发剂、润湿流平剂；在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中各组分的质量百分含量为：
乙烯性不饱和单体：5～35％；
光引发剂：0.01～1％；
润湿流平剂：0.2～5％；
溶剂：60～90％。
优选的是，在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中功能材料的无机粉末的质量百分含量在0.1～2.5％。
进一步优选的是，在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中功能材料的无机粉末的质量百分含量在0.1～2％。
进一步优选的是，在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中功能材料的无机粉末的质量百分含量在0.1～1.8％。
其中，“在不计算功能材料的改性层质量的情况下，可固化树脂组合物中某物质的质量百分含量”是指以可固化树脂组合物中除功能材料的改性层之外的其余全部物质(功能材料的无机粉末、可固化树脂、润湿流平剂、溶剂、偶联剂、光引发剂等)的质量为100％时，某物质的质量百分含量。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种膜材，其包括由上述可固化树脂组合物固化形成的透明膜层。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示器件，其包括由上述可固化树脂组合物固化形成的透明膜层。
本发明的功能材料可发出远红外线和负离子；远红外线被人体吸收后可使体内水分子共振，活化水分子，增强分子间结合力，从而活化蛋白质等生物大分子，使生物体细胞处于最高振动能级；且远红外热量可传递到皮下较深的部分，使下深层温度上升，扩张毛细血管，促进血液循环，强化各组织之间的新陈代谢，增强组织再生能力，提高机体免疫力，调节精神异常兴奋状态；而负离子对细菌和有机物有分解和氧化作用，可起到杀菌消毒和净化环境空气质量的效果；因此，该功能材料可起到医疗保健作用，对环境友好。本发明的功能材料的无机粉末表面具有改性层，该改性层可使无机粉末良好的融入透明膜层中，并且还可提高该无机粉末发射远红外线和负离子的能力。
本发明的膜材和显示器件具有由上述可固化树脂组合物生成的透明膜层，故其在使用过程中可持续发出远红外线和负离子，对环境友好。
附图说明
图1为本发明实施例的功能材料的制备方法的流程图。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
本实施例提供一种功能材料及其制备方法。
该功能材料包括表面带有改性层的无机粉末，该无机粉末包括氧化铝、氧化镁、氧化锌、氧化锆、二氧化硅、二氧化钛、氧化硼、三氧化二铁、氧化钙、氧化钾、氧化钠、氧化锂中的任意一种或多种；且
所述改性层由二元酐和二元胺反应生成。
其中，无机粉末的粒径在纳米量级至微米量级，具体优选在1～5000nm，更优选在10～500nm。
其中，二元酐是指分子结构中含有至少两个酸酐基团的物质；而二元胺是指分子结构中含有至少两个胺基(或氨基)的物质。
其中，二元酐中优选含有至少一个苯基，其更优选为均苯四甲酸二酐、偏苯三酸酐、二苯酮二酐、联苯二酐、二苯醚二酐、六氟二酐中的任意一种。
其中，二元胺中优选含有至少一个苯基或非苯基的六元碳环(例如环己烷)，其更优选为3-氨基苄胺、2,2'-二氟-4,4'-(9-亚茀基)二苯胺、2,2-双(3-氨基-4-羟苯基)六氟丙烷、六氢-间苯二甲基二胺、1,4-二(氨甲基)环己烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯]六氟丙烷、2,2-双(3-氨基-4-甲苯基)六氟丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,7-二氨基芴、间苯二甲胺、4,4'-亚甲基双(2-乙基-6-甲基苯胺)中的任意一种。
其中，二元酐与二元胺的物质的量的比优选为(0.85～1.05)∶1；更优选在(0.92～1.05)∶1。
经研究发现，符合以上条件的二元酐和二元胺反应后生成的改性层可最好的改善无机粉末的性质。
本实施例的功能材料可发出远红外线和负离子；远红外线被人体吸收后可使体内水分子共振，活化水分子，增强分子间结合力，从而活化蛋白质等生物大分子，使生物体细胞处于最高振动能级；且远红外热量能传递到皮下较深的部分，使下深层温度上升，扩张毛细血管，促进血液循环，强化各组织之间的新陈代谢，增强组织再生能力，提高机体免疫力，调节精神异常兴奋状态；而负离子对细菌和有机物有分解和氧化作用，可起到杀菌消毒和净化环境空气质量的效果；因此，本实施例的功能材料可起到医疗保健作用，对环境友好。
上述功能材料的制备方法包括：将所述无机粉末、二元酐、二元胺与引发剂、溶剂混合均匀；加热使所述二元酐与二元胺反应，在无机粉末表面形成所述改性层。
具体的，如图1所示，上述制备方法可包括：
S01、在使用分散剂的情况下，将各原料分别粉碎为粉末后按比例混合均匀，或将各原料按比例混合均匀后再粉碎，得到无机粉末。
其中，分散剂可选用德国毕克公司生产的BYK 161、路博润公司生产的Solsperse32500、Solsperse 22000等常规分散剂；粉碎可采用球磨、研磨等常规方式；由于得到无机粉末可采用已知的方法，故在此不再详细描述。
S02、将占总量1/4～1/3的引发剂及占总量1/4～1/3的二元胺溶解在溶剂中备用。
其中，无机粉末的质量与二元酐、二元胺反应后生成的物质的质量的比为(20～1)∶1。
也就是说，二元酐、二元胺的用量按照如下的方式确定：假设二元酐与二元胺可完全反应并得到生成物(实际为改性层)，若该生成物的质量为1，则无机粉末的质量就在1～20之间；这样的用量可保证在无机粉末上得到厚度合适的改性层。
其中，引发剂用于引发反应，其优选为氮类引发剂，更优选为偶氮二异丁腈、2,2'-双偶氮-(2,4-二甲基戊腈)、偶氮二异丁酸二甲酯、偶氮二异戊腈中的任意一种。
其中，溶剂可选自脂肪醇、乙二醇醚、乙酸乙酯、甲乙酮、甲基异丁基酮、单甲基醚乙二醇酯、γ-丁内酯、丙酸-3-乙醚乙酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯、环己烷、二甲苯、异丙醇等常规的有机溶剂。由于溶剂的作用只是分散各物质，故在各实施例具体制备功能材料的过程中，统一采用丙二醇单甲基醚醋酸酯作溶剂。
S03、将无机粉末加入反应容器(如四口瓶)中，并开始搅拌、震荡、摇动等；之后加入二元酐、溶剂，以及剩余的引发剂、二元胺，溶解均匀。
S04、开始加热以进行反应，其优选分为两步进行，具体可包括：先在35～70℃的温度下加热20～40min；之后继续在70～100℃的温度下加热20～40min。
以上的加热过程中，可使二元酐与二元胺间发生反应，从而在无机粉末表面生成改性层；其中，之所以分步加热，主要是为了防止反应过于剧烈。
在反应过程中，逐渐将上述溶解有引发剂和二元胺的溶液逐渐滴加到四口瓶中；之所以这样加入，是为了防止反应过于剧烈。
其中，本步反应优选在氮气保护下进行，且在反应过程中优选一直保持搅拌。
其中，各步骤中溶剂的用量以能将其中的物质均匀的分散、溶解为准，而引发剂用量以能引发反应为准，这些可由本领域技术人员根据实际情况调整，在此不再详细描述。但通常而言，无机粉末、引发剂、溶剂的质量比(均指总量)为1∶(0.25～0.4)∶(1～1.5)，为了统一，故在各实施例具体制备功能材料的过程中，统一使无机粉末、引发剂、溶剂的质量比为1∶0.3∶1.4。
S05、反应结束后用经冷藏的溶剂使反应物冷却至室温(约10～30℃)。
S06、蒸干剩余溶剂或将粉末从中分离出来，得到带有改性层的无机粉末，即得到功能材料。
当然，应当理解，以上所述的制备方法还可进行许多变化，例如，二元酐、二元胺、引发剂等可一次都溶解在溶剂中；再如，加热也可只为一段等。总之，只要能使二元酐与二元胺反应并在无机粉末表面形成改性层即可。
本实施例还提供一种可固化树脂组合物，其中包括可固化树脂、溶剂、以及上述的功能材料。
可固化树脂组合物能固化形成透明膜层(其中含有上述功能材料)，而透明膜层中的上述功能材料可持续的发出远红外线和等离子体，从而改善环境。
在不计算功能材料的改性层质量的情况下，可固化树脂组合物中功能材料的无机粉末的质量百分含量在0.1～2.5％，更优选在0.1～2％，进一步优选在0.1～1.8％。
也就是说，以可固化树脂组合物中除功能材料的改性层之外的其余全部物质(功能材料的无机粉末、可固化树脂、溶剂等)的质量为100％时，功能材料的无机粉末的含量如上所述。
在可固化树脂组合物中，可固化树脂是用于形成透明膜层的主要材料，依照其类型的不同，可固化树脂组合物分为热固化和紫外光固化两种类型。
在热固化型的可固化树脂组合物中，可固化树脂包括丙烯酸树脂和环氧树脂；且其中还包括偶联剂、润湿流平剂；在不计算功能材料的改性层质量的情况下，可固化树脂组合物中各组分的质量百分含量为：
无机粉末：0.1～2.5％(更优选在0.1～2％或0.1～1.8％)；
丙烯酸树脂：1～20％；
环氧树脂：1～20％；
偶联剂：1～10％；
润湿流平剂：0.2～5％；
溶剂：70～90％。
其中，丙烯酸树脂可以为丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、2-甲基丙烯酸甲酯、2-甲基丙烯酸乙酯、聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯等含有丙烯酸基团的物质；其含量优选在5～20％，更优选5～15％。
其中，环氧树脂可为脂肪族环氧树脂、双酚A型环氧树脂、缩水甘油基酯类环氧树脂、杂环环氧树脂等；其含量优选在5～20％，更优选5～15％。
其中，偶联剂用于引发可固化树脂的交联反应以使之固化，其可为硅烷偶联剂，例如氮硅烷、苯氧基硅烷、乙烯基硅烷、氨基硅烷、环氧基硅烷、巯基硅烷、甲基丙烯酰氧基硅烷等；其含量优选在1～8％，更优选在1～5％。
润湿流平剂用于改善组合物的流平性，其可为有机硅类润湿流平剂、氟碳改性聚丙烯酸脂润湿流平剂、丙烯酸类润湿流平剂等。
溶剂用于将其他组分溶解、分散，以形成均匀、稳定的体系，其可为常规的有机溶剂，如酮、酯、醚、脂肪烃、环烷烃类化合物、芳香烃等。
在紫外光固化型的可固化树脂组合物中，可固化树脂为乙烯性不饱和单体；且其中还包括光引发剂、润湿流平剂；在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，可固化树脂组合物中各组分的质量百分含量为：
无机粉末：0.1～2.5％(更优选在0.1～2％或0.1～1.8％)；
乙烯性不饱和单体：5～35％；
光引发剂：0.01～1％；
润湿流平剂：0.2～5％；
溶剂：60～90％。
其中，乙烯性不饱和单体是指含有乙烯基团的不饱和单体物质，其可为氯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、马来酰亚胺、丁二烯、丙烯酸甲酯、环氧丙烯酸酯、双酚A型环氧丙烯酸甲酯等；且其含量优选在5～30％，更优选5～25％。
光引发剂可在被紫外光照射时引发交联反应，使乙烯性不饱和单体固化形成透明膜层；其具体可为：a-胺基酮类光引发剂，如型号Irgacure 907，Igracure 369、Irgacure1300的引发剂；酰基膦氧化物光引发剂，如型号Irgacure 819、Irgacure 819DW、Irgacure2010、Darocur TPO、Darocur 4265的引发剂；a-羟基酮类光引发剂，如型号Darocur 1173、Irgacure 184、Irgacure 2959、Irgacure 500、Irgacure 1000的引发剂；苯酰甲酸之类光引发剂，如型号Darocur mbf、Irgacure754的引发剂。
润湿流平剂用于改善组合物的流平性，其可为有机硅类润湿流平剂、氟碳改性聚丙烯酸脂润湿流平剂、丙烯酸类润湿流平剂等。
溶剂用于将其他组分溶解、分散，以形成均匀、稳定的体系，其可为常规的有机溶剂，如酮、酯、醚、脂肪烃、环烷烃类化合物、芳香烃等。
当然，应当理解，在以上的可固化树脂组合物中，还可含有其他的物质，例如其他类型的可固化树脂，其他添加剂(如消泡剂等)，其他的引发剂等。
按照上述的制备方法，依照以下表格中的参数制备各实施例的功能材料。
之后，用所得功能材料继续按照以下表格中的参数制备热固化型的可固化树脂组合物，其制备中只要将各组分混合均匀即可，而不必采用特定的加料顺序及混合方法。
在各实施例中，丙烯酸树脂统一选用Sartomer公司生产的SB401型丙烯酸树脂，环氧树脂统一选用美国陶氏公司生产的DEN 438型酚醛环氧树脂，偶联剂统一选用型号为A186的(2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷)，润湿流平剂统一选用型号为BYK333的润湿流平剂，溶剂统一选用丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)。
之后，用可固化树脂组合物固化形成透明膜层，其具体为将可固化树脂组合物涂布在基底上，并在180℃的温度下加热固化20min，形成厚度为1μm的透明膜层。
其中，在形成透明膜层的树脂组合物中，除功能材料外均为常规组分，故在此为了结果的可比性，除功能材料外的其他的组分选用了统一的物质。
之后，按照GB/T 7287-2008标准测试透明膜层的红外线比辐射率，并用空气负离子测定仪测量其产生的负离子数量，再用光强度计测试其透过率，结果如下表所示。
表1、功能材料及热固化型的可固化树脂组合物的相关参数(含量单位均为质量份数)
按照上述的制备方法，依照以下表格中的参数制备各实施例的功能材料(各实施例中功能材料的参数与表1中的相同)。之后用该功能材料依照以下表格的参数制备紫外光固化型的可固化树脂组合物；其中，制备中只要将各组分混合均匀即可，而不必采用特定的加料顺序及混合方法。
在各实施例中，乙烯性不饱和单体统一选用二季戊四醇五丙烯酸酯(DPHA)，光引发剂统一选用型号为Irgacure 907的光引发剂、润湿流平剂统一选用型号为BYK 333的润湿流平剂、溶剂统一选用丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)。
之后，用可固化树脂组合物固化形成透明膜层，其具体为将可固化树脂组合物涂布在基底上，并在150mJ/cm2的紫外光能量下照射下曝光，然后在200℃的温度下继续加热固化15min，形成厚度为1μm的透明膜层。
其中，在形成透明膜层的树脂组合物中，除功能材料外均为常规组分，故在此为了结果的可比性，除功能材料外的其他的组分选用了统一的物质。
之后，按照GB/T 7287-2008标准测试透明膜层的红外线比辐射率，并用空气负离子测定仪测量其产生的负离子数量，再用光强度计测试其透过率，结果如下表所示。
表2、功能材料及紫外光固化型的可固化树脂组合物的相关参数(含量单位均为质量份数)
可见，各实施例的透明膜层均具有较高的红外线比辐射率和负离子浓度，且透过率也较高，证明其不会对显示造成影响，且同时可产生远红外线和负离子，从而达到改善环境的作用。
本实施例的功能材料的无机粉末表面具有改性层，该改性层可使无机粉末良好的融入透明膜层中，并且还可提高该无机粉末发射远红外线和负离子的能力。
本实施例还提供一种膜材，其包括由上述可固化树脂组合物固化形成的透明膜层。
也就是说，可将上述的可固化树脂组合物通过涂布、转印、印刷等方式施加在基底上，之后用使其固化形成透明膜层，并将该透明膜层取下，进行卷绕、切割等操作，从而形成卷轴型膜材、平板型膜材等膜材产品。
其中，透明膜层的厚度可根据需要设定，但通常可在0.005μm至1.5μm之间。如前所述，可固化树脂组合物可通过热固化或紫外光固化的方式形成透明膜层；其具体的固化方法是已知的，在此不再详细限定。但通常而言，热固化中的加热温度通常在150℃至250℃之间，加热时间在5min至30min之间；而紫外光固化中，紫外光强度在50mJ/cm2至200mJ/cm2之间。
在膜材中，还可包括设于透明膜层上的粘结层(以便将透明膜层粘结在所需位置)，设于粘结层上的离型膜等其他结构；由于这些其他结构可采用已知的形式，故在此不再详细描述。
本实施例还提供一种显示器件，其包括由上述可固化树脂组合物固化形成的透明膜层。
该显示器件可为液晶显示器件、有机发光二极管显示器件、等离子显示器件等任何类型的显示器件；且其可用于电视、手机、电脑显示器、平板电脑、电子书、导航仪、ATM机等任何具有显示功能的装置中。
透明膜层可设于显示器件的任何位置处(如内侧、外壳上等)；但优选的，由于其是透明的，不会对显示造成影响，故可将其设于显示器件的出光面的最外侧，以便达到最好的发射远红外线和负离子的效果。
具体的，透明膜层可如前所述先形成膜材产品，之后将膜材贴附在显示器件上。或者，也可用显示器件的表面为基底，而直接将透明膜层形成在其上。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (13)

1.一种可固化树脂组合物，其特征在于，包括：
可固化树脂；
溶剂；
功能材料；
其中，所述功能材料用于医疗保健，其包括表面带有改性层的无机粉末，所述无机粉末包括：
氧化镁、氧化锆、二氧化钛、氧化硼、三氧化二铁、氧化钙、氧化钾、氧化钠、氧化锂中的任意一种或多种；
所述改性层由二元酐和二元胺反应生成；
其中，所述功能材料中的无机粉末的质量百分含量为0.1～2.5％。
2.根据权利要求1所述的可固化树脂组合物，其特征在于，用于生成所述改性层的二元酐与二元胺的物质的量的比在(0.85～1.05)∶1。
3.根据权利要求2所述的可固化树脂组合物，其特征在于，
用于生成所述改性层的二元酐与二元胺的物质的量的比在(0.92～1.05)∶1。
4.根据权利要求1所述的可固化树脂组合物，其特征在于，
所述用于生成所述改性层的二元酐中含有至少一个苯基；
所述用于生成所述改性层的二元胺中含有至少一个苯基或非苯基的六元碳环。
5.根据权利要求4所述的可固化树脂组合物，其特征在于，
用于生成所述改性层的二元酐选自均苯四甲酸二酐、二苯酮二酐、联苯二酐、二苯醚二酐、六氟二酐中的任意一种；
用于生成所述改性层的二元胺选自3-氨基苄胺、2,2'-二氟-4,4'-(9-亚茀基)二苯胺、2,2-双(3-氨基-4-羟苯基)六氟丙烷、六氢-间苯二甲基二胺、1,4-二(氨甲基)环己烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯]六氟丙烷、2,2-双(3-氨基-4-甲苯基)六氟丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,7-二氨基芴、间苯二甲胺、4,4'-亚甲基双(2-乙基-6-甲基苯胺)中的任意一种。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的可固化树脂组合物，其特征在于，
所述无机粉末的粒径在1～5000nm。
7.根据权利要求1所述的可固化树脂组合物，其特征在于，所述可固化树脂包括丙烯酸树脂和环氧树脂；所述可固化树脂组合物还包括偶联剂、润湿流平剂；在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中各组分的质量百分含量为：
丙烯酸树脂：1～20％；
环氧树脂：1～20％；
偶联剂：1～10％；
润湿流平剂：0.2～5％；
溶剂：70～90％。
8.根据权利要求1所述的可固化树脂组合物，其特征在于，所述可固化树脂包括乙烯性不饱和单体；所述可固化树脂组合物中还包括光引发剂、润湿流平剂；在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中各组分的质量百分含量为：
乙烯性不饱和单体：5～35％；
光引发剂：0.01～1％；
润湿流平剂：0.2～5％；
溶剂：60～90％。
9.根据权利要求7或8所述的可固化树脂组合物，其特征在于，
在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中功能材料的无机粉末的质量百分含量在0.1～2.5％。
10.根据权利要求9所述的可固化树脂组合物，其特征在于，
在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中功能材料的无机粉末的质量百分含量在0.1～2％。
11.根据权利要求10所述的可固化树脂组合物，其特征在于，
在不计算所述功能材料的改性层质量的情况下，所述可固化树脂组合物中功能材料的无机粉末的质量百分含量在0.1～1.8％。
12.一种膜材，其特征在于，包括：
由权利要求1至11中任意一项所述的可固化树脂组合物固化形成的透明膜层。
13.一种显示器件，其特征在于，包括：
由权利要求1至11中任意一项所述的可固化树脂组合物固化形成的透明膜层。
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Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103739205B (zh) * 2013-11-08 2017-06-13 北京京东方光电科技有限公司 功能材料及其制备方法、显示结构形成材料、彩膜基板、显示装置
WO2016015413A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、彩膜材料、彩膜基板
US9718724B2 (en) 2014-07-29 2017-08-01 Boe Technology Group Co., Ltd. Functional material, its preparation method, sealing material, and display panel
WO2016015411A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、树脂组合物、膜材、显示器件
WO2016015409A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、配向材料、液晶显示基板
US10454062B2 (en) 2014-07-29 2019-10-22 Boe Technology Group Co., Ltd. Functional material, its preparation method, and organic light emitting diode display panel
EP3176224B1 (en) * 2014-07-29 2019-07-10 Boe Technology Group Co. Ltd. Three-dimensional display grating, and display device
US9896600B2 (en) 2014-07-29 2018-02-20 Boe Technology Group Co., Ltd. Functional material and method for preparing the same, touch structure and touch display device
CN104595845B (zh) * 2014-12-11 2017-11-14 苏州佳亿达电器有限公司 一种防眩目路灯透光板
CN105693089A (zh) * 2016-03-01 2016-06-22 苏州云舒新材料科技有限公司 一种抗菌玻璃材料及其制备方法
CN105733581A (zh) * 2016-03-16 2016-07-06 安徽中益新材料科技有限公司 一种新型蓄能发光粉及其制备方法
CN105629593B (zh) * 2016-03-30 2019-08-02 京东方科技集团股份有限公司 一种面板
WO2017205174A1 (en) 2016-05-27 2017-11-30 3M Innovative Properties Company Oled display with improved color uniformity
CN106985944A (zh) * 2017-04-19 2017-07-28 成都步共享科技有限公司 一种碳纤维共享自行车
CN106990464B (zh) * 2017-05-26 2020-01-14 青岛海信电器股份有限公司 量子点彩色滤光片及制备方法、液晶面板、液晶显示设备
CN107367782B (zh) * 2017-09-14 2021-02-26 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示面板和显示装置
JPWO2019059359A1 (ja) * 2017-09-25 2020-09-03 東レ株式会社 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置
CN109962179B (zh) * 2017-12-26 2021-02-19 Tcl科技集团股份有限公司 一种薄膜及其制备方法与qled器件
CN108397702A (zh) * 2018-04-04 2018-08-14 惠州市华星光电技术有限公司 导光板、背光模组及显示器
CN109608675A (zh) * 2018-11-16 2019-04-12 南通万拓新材料科技有限公司 一种耐候的装饰膜
CN109626974B (zh) * 2018-12-12 2021-08-27 苏州研资工业技术有限公司 一种低温共烧陶瓷材料及其制备方法
CN111607291B (zh) * 2019-02-22 2023-03-31 苏州星烁纳米科技有限公司 量子点墨水及量子点彩膜
CN110109293A (zh) * 2019-04-04 2019-08-09 深圳市华星光电技术有限公司 液晶无机配向薄膜的制造方法
US10759697B1 (en) 2019-06-11 2020-09-01 MSB Global, Inc. Curable formulations for structural and non-structural applications
CN110357638A (zh) * 2019-07-29 2019-10-22 浙江爱鑫电子科技有限公司 一种钛基高导热陶瓷电路基板材料及其制备方法
CN112445029A (zh) * 2019-09-05 2021-03-05 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种液晶显示面板及显示器
CN110711598B (zh) * 2019-10-25 2023-02-03 齐鲁工业大学 一种银/磷酸银/碳化钛三元复合材料及其制备方法与应用
CN111562641B (zh) * 2020-05-25 2022-04-29 南京邮电大学 一种夜视兼容红外滤光片及其制备方法
CN113680358B (zh) * 2021-07-13 2023-09-12 湖南农业大学 磷酸银/碳化硼复合光催化剂及其制备方法和应用
CN114988899B (zh) * 2022-06-11 2023-04-25 广东欧文莱陶瓷有限公司 一种能够释放负离子的陶瓷薄板
CN115672268B (zh) * 2022-09-06 2024-01-30 杭州中科沐森环保科技有限公司 甲醛吸附降解剂及其制备方法
CN116426825A (zh) * 2023-04-10 2023-07-14 常州天锐达模具有限公司 一种高韧性模具钢材料、制备方法和应用其制备的模具

Family Cites Families (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4360626A (en) * 1981-04-24 1982-11-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxidatively stable polyimide compositions
JPS61281150A (ja) * 1985-06-05 1986-12-11 Nitto Electric Ind Co Ltd ポリイミド粉末およびその製法
US4879182A (en) * 1988-10-24 1989-11-07 Ethyl Corporation Method of coating carbon bodies
JPH0551541A (ja) * 1991-08-26 1993-03-02 Mitsubishi Electric Corp ポリイミド樹脂で被覆された無機充填剤、それを配合した樹脂組成物およびその樹脂組成物で封止された半導体装置
AU666441B2 (en) * 1993-05-25 1996-02-08 Lubrizol Corporation, The Composition utilizing dispersants
EP0646632A1 (en) * 1993-09-02 1995-04-05 Loctite (Ireland) Limited A method of manufacturing a liquid crystal display and a composition for use in the method
US5403787A (en) * 1994-02-28 1995-04-04 Corning Incorporated Extruded ceramic honeycomb and method
FR2762611B1 (fr) * 1997-04-29 1999-06-11 Atochem Elf Sa Silice poreuse modifiee, son procede de fabrication et son utilisation dans les peintures et comme vecteur de pigments et colorants
JP2001139345A (ja) * 1999-11-10 2001-05-22 Asahi Glass Co Ltd 無鉛低融点ガラスおよびガラスフリット
JP2002062537A (ja) * 2000-08-21 2002-02-28 Jsr Corp Ｓｔｎ型液晶表示素子用液晶配向剤およびｓｔｎ型液晶表示素子
CN1210353C (zh) * 2000-12-15 2005-07-13 四川大学 无机粒子表面改性的方法
CN100462318C (zh) * 2001-03-27 2009-02-18 Hoya株式会社 玻璃陶瓷及其基片、液晶嵌镶板用对置基片和防尘基片
JP2002285031A (ja) * 2001-03-27 2002-10-03 Toray Ind Inc 顔料分散液、カラーペーストおよびカラーフィルター
US6713597B2 (en) * 2002-03-19 2004-03-30 General Electric Company Preparation of polyimide polymers
US20050164002A1 (en) * 2002-05-09 2005-07-28 Krizan Timothy D. Polymeric particles
WO2004023511A1 (ja) * 2002-09-03 2004-03-18 Asahi Glass Company, Limited 隔壁用ペーストおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP2005029584A (ja) * 2003-05-15 2005-02-03 Yokohama Rubber Co Ltd:The 低分子量有機重合体変性層状粘土鉱物及びそれを含むゴム組成物
JP2004341381A (ja) * 2003-05-19 2004-12-02 Konica Minolta Photo Imaging Inc 立体画像表示方法及び要素
JP2004341380A (ja) * 2003-05-19 2004-12-02 Konica Minolta Photo Imaging Inc 立体画像表示方法及び要素
JP4543695B2 (ja) * 2004-02-18 2010-09-15 住友ベークライト株式会社 被覆炭素材粉末およびその製造方法
KR100628698B1 (ko) * 2004-02-27 2006-09-28 대주전자재료 주식회사 격벽 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 격벽을포함하는 플라즈마 디스플레이 패널
CN100336847C (zh) * 2005-07-14 2007-09-12 上海交通大学 原位合成聚酰亚胺接枝的碳纳米管及其制备方法
JP5167582B2 (ja) * 2005-10-28 2013-03-21 住友大阪セメント株式会社 ジルコニア透明分散液及び透明複合体並びに透明複合体の製造方法
JP2007126296A (ja) * 2005-10-31 2007-05-24 Ohara Inc 光学ガラスの製造方法及び製造装置
JP5263749B2 (ja) * 2006-03-22 2013-08-14 地方独立行政法人大阪府立産業技術総合研究所 ポリアミド複合粒子、ポリアミド酸複合粒子及びポリイミド複合粒子並びにこれらの製造方法
CN100999589A (zh) * 2006-12-22 2007-07-18 东南大学 合成高介电常数的聚酰亚胺/纳米钛酸钡复合薄膜的方法
CN101260235A (zh) * 2007-03-07 2008-09-10 比亚迪股份有限公司 一种聚酰亚胺膜及其制备方法
CN101343425B (zh) * 2007-07-10 2011-11-16 同济大学 用作环氧树脂固化剂的功能化碳纳米管及制备方法
US8183168B2 (en) * 2007-07-13 2012-05-22 Asahi Glass Company, Limited Process for producing electrode-formed glass substrate
JP2009040676A (ja) * 2007-07-13 2009-02-26 Asahi Glass Co Ltd 電極付きガラス基板の製造方法
CN101407620B (zh) * 2007-10-11 2011-05-25 同济大学 高性能环氧树脂复合材料及制备方法
CN101426338A (zh) * 2007-10-30 2009-05-06 达胜科技股份有限公司 积层板及其制作方法
CN101225208B (zh) * 2007-12-18 2010-06-02 福建师范大学 一种核-壳结构的“无机粉体-弹性体”的制备方法
TW201002761A (en) * 2008-07-02 2010-01-16 Taimide Tech Inc Multi-layered polyimide film and method of manufacturing the same
CN101952750B (zh) * 2008-12-18 2012-05-30 凸版印刷株式会社 液晶显示装置用滤色器及液晶显示装置
DE102010009585B4 (de) * 2010-02-26 2012-04-19 Schott Ag Lithium-Aluminosilicatglas mit hohen E-Modul, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung
KR101298234B1 (ko) * 2010-03-19 2013-08-22 엘지디스플레이 주식회사 터치인식 횡전계형 액정표시장치 및 이의 제조 방법
CN101831175A (zh) * 2010-04-01 2010-09-15 辽宁科技大学 一种无色透明的聚酰亚胺纳米复合材料膜及其制备方法
TW201214237A (en) * 2010-09-16 2012-04-01 Asustek Comp Inc Touch display device and control method thereof
CN102140230A (zh) * 2011-01-12 2011-08-03 同济大学 碳纳米管及功能化碳纤维增强环氧树脂复合材料的制备方法
WO2013003397A2 (en) * 2011-06-28 2013-01-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide-coated fillers
CN102351421A (zh) * 2011-07-19 2012-02-15 彩虹集团公司 一种显示器件用保护盖板的碱铝硅酸盐玻璃的制备方法
CN102707503A (zh) * 2011-08-19 2012-10-03 北京京东方光电科技有限公司 分散球状隔垫物的方法、液晶面板及显示装置
CN102643424B (zh) * 2011-08-25 2013-10-09 北京京东方光电科技有限公司 聚酰亚胺及其制备方法和应用
CN102707496B (zh) * 2011-09-08 2014-12-03 北京京东方光电科技有限公司 液晶取向膜及其制备方法及包含该取向膜的液晶显示装置
CN102634020B (zh) * 2011-09-19 2013-09-11 京东方科技集团股份有限公司 预聚物、取向膜及其制备方法、液晶显示装置
TWI481646B (zh) * 2011-12-16 2015-04-21 Taimide Technology Inc 由聚醯亞胺粉體構成之消光劑、含有該消光劑之聚醯亞胺膜、及其製造方法
CN102898833B (zh) * 2012-10-11 2014-09-17 京东方科技集团股份有限公司 取向膜材料、取向膜及其制造方法、液晶显示装置
CN103059298B (zh) * 2013-01-07 2015-02-04 北京京东方光电科技有限公司 聚酰胺酸、聚酰亚胺及其制备方法和应用
CN103102075B (zh) * 2013-01-21 2015-05-06 京东方科技集团股份有限公司 一种采用玻璃料进行密封的方法、装置及玻璃料
CN103232609B (zh) * 2013-04-25 2016-04-20 安徽朝日电子新能源有限公司 一种粉煤灰改性的纳米氧化铝/聚酰亚胺复合薄膜的制备方法
CN103376657B (zh) 2013-07-15 2016-12-28 京东方科技集团股份有限公司 光阻组合物及其制备方法、彩膜基板和显示装置
CN103739205B (zh) 2013-11-08 2017-06-13 北京京东方光电科技有限公司 功能材料及其制备方法、显示结构形成材料、彩膜基板、显示装置
CN103555003A (zh) 2013-11-08 2014-02-05 北京京东方光电科技有限公司 改性功能材料、蓝色光阻材料、彩色滤光片及它们的制备方法、显示器件

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