CN103376657B - 光阻组合物及其制备方法、彩膜基板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种光阻组合物及其制备方法、一种彩膜基板和一种显示装置。所述光阻组合物,包括质量分数为1%~10%的微胶囊,所述微胶囊的囊壁包括碱不溶性树脂,所述微胶囊的囊芯包括:质量分数为10%~60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物;质量分数为10%~50%的光聚合单体;质量分数为10%~70%的第一黑色颜料色浆;质量分数为0.1%~10%的第一光致聚合引发剂;质量分数为0.1%~5%的偶联剂。采用本发明的技术方案,可以实现黑矩阵破损处的修补,大大提高产品的良率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种光阻组合物及其制备方法、一种彩膜基板和一种显示装置。
背景技术
在平板显示装置中,薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display,简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点,在当前的平板显示器市场占据了主导地位。
目前,TFT-LCD的主要结构包括对盒在一起的阵列基板和彩膜基板(CF)。其中,彩膜基板主要包括:玻璃基板、黑矩阵(Black Matrix,简称BM)、彩色光阻和保护膜。一般而言,黑矩阵以格栅、条纹或斑纹形式排列在彩色光阻形成的彩色图案之间,黑矩阵的主要作用是通过抑制颜色间的混合来提高画面对比度,也可以遮挡杂散光,防止像素间漏光引起的TFT工作失常。
黑矩阵用光阻组合物经过涂覆、曝光以及显影形成黑矩阵,现有的黑矩阵用光阻组合物包括黑色色浆、光聚合单体、光引发剂以及有机溶剂,其中,黑色色浆主要用于形成黑色以防止漏光,光引发剂在紫外光照射下诱导光聚合单体发生聚合反应形成聚合物膜,黑矩阵需要具有高的光屏蔽性能,但由于产线制程工艺影响,如BM制备工艺较早,在其后还需进行彩色光阻以及保护层的制备等工序,此外,还有微粒(particle)、异物等影响,BM层难免会受到刮伤破损,导致破损部分漏光,形成白缺,影响TFT-LCD产品品质;为避免此不良,现有工艺需要在黑矩阵制备完成后进行修补(repair)工序,如图1a~图1c所示,现有技术黑矩阵制作流程示意图,图1a为涂覆黑矩阵用光阻组合物后某些位置存在破损,图1b为采用激光照射黑矩阵用光阻组合物后,使黑矩阵破损部分位置形成规则形状的白缺,图1c为采用修补工艺对形成的白缺进行了修补,修补工序可以对破损处通过添加黑矩阵用光阻组合物并固化后进行修补。
现有技术的缺陷在于,当黑矩阵出现白缺时,需要专门的修补工序,另外需要额外设备来添加黑矩阵用光阻组合物,造成成本增加。
发明内容
本发明的目的是提供一种光阻组合物及其制备方法、一种彩膜基板和一种显示装置,用以实现黑矩阵破损处的修补,大大提高产品的良率。
本发明光阻组合物,包括质量分数为1%~10%的微胶囊,所述微胶囊的囊壁包括碱不溶性树脂,所述微胶囊的囊芯包括:
质量分数为10%~60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物;
质量分数为10%~50%的光聚合单体;
质量分数为10%~70%的第一黑色颜料色浆;
质量分数为0.1%~10%的第一光致聚合引发剂;
质量分数为0.1%~5%的偶联剂。
优选的,所述可进行光固化的不饱和树脂低聚物包括环氧丙烯酸树脂和聚氨酯丙烯酸树脂中的一种或几种;所述光聚合单体包括二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)中的一种或几种;所述第一光致聚合引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮和2-苯基苄-2-二甲基胺-4'-吗啉代丙基苯基酮中的一种或几种;所述偶联剂包括γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷和γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷中的一种或几种。
优选的,所述光阻组合物还包括:
质量分数为5%~70%的第二黑色颜料色浆;
质量分数为1%~50%的含有羧基基团的粘结剂树脂;
质量分数为5%~50%的含有烯基不饱和键的可聚合单体;
质量分数为0.1%~10%的第二光致聚合引发剂;
质量分数为7.3%~59.39%的第一溶剂;
质量分数为0.01%~5%的助剂。
较佳的,所述含有羧基基团的粘结剂树脂包括甲基丙烯酸与甲基丙烯酸苄酯共聚物;所述含有烯基不饱和键的可聚合单体包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯中的一种或多种;所述第二光致聚合引发剂包括2-苯基苄-2-二甲基胺-4'-吗啉代丙基苯基酮和2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮中的一种或多种;所述第一溶剂包括丙二醇单甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯和环己酮中的一种或多种;所述助剂包括硅烷偶联剂和流平剂中的一种或多种。
优选的,所述第一黑色颜料色浆和第二黑色颜料色浆分别包括:
质量分数为1%~20%的黑色颜料;
质量分数为1%~50%的超分散剂;
质量分数为0.5%~10%的助分散剂;
质量分数为0.1%~5%的添加剂;
质量分数为39%~97.4%的第二溶剂。
优选的,所述黑色颜料包括炭黑和钛黑中的一种或多种;所述超分散剂包括酰胺类聚合物、含有亲颜料基团的高分子嵌段聚合物、有机硅表面活性剂、改性聚氨酯和改性聚丙烯酸酯中的一种或多种;所述助分散剂包括相乘剂和改善溶剂型助分散剂中的一种或几种;所述第二溶剂为丙二醇单甲醚醋酸酯和3-乙氧基丙酸乙酯中的一种或几种;所述添加剂为吐温和司盘中的一种或几种。
优选的,所述碱不溶性树脂包括环氧树脂或聚氨酯树脂,具体可以为江苏三木生产的环氧丙烯酸树脂6118、环氧丙烯酸树脂6104或聚氨酯丙烯酸酯SM6201。
本发明的上述光阻组合物适合用于制备黑矩阵。
本发明彩膜基板,所述彩膜基板中的黑矩阵采用上述任一种光阻组合物得到。
本发明显示装置,包括上述的彩膜基板。
本发明光阻组合物的制备方法,包括:
将质量分数为10%~60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物,质量分数为10%~50%的光聚合单体,质量分数为10%~70%的第一黑色颜料色浆,质量分数为0.1%~10%的第一光致聚合引发剂,质量分数为0.1%~5%的偶联剂混合后进行分散,制得微胶囊的囊芯用组合物;
将所述微胶囊的囊芯用组合物滴加于微胶囊的囊壁的溶液中,形成微胶囊;
取质量分数为1%~10%的微胶囊与制备光阻组合物的各组分混合,形成光阻组合物。
优选的,所述光阻组合物的各组分包括质量分数为5%~70%的第二黑色颜料色浆;质量分数为1%~50%的含有羧基基团的粘结剂树脂;质量分数为5%~50%的含有烯基不饱和键的可聚合单体;质量分数为0.1%~10%的第二光致聚合引发剂;质量分数为7.3%~59.39%的第一溶剂;质量分数为0.01%~5%的助剂。
在本发明光阻组合物中,由于在光阻组合物中引入微胶囊,其结构包含微胶囊的囊壁和微胶囊的囊芯,由于囊壁的保护作用,囊芯物质较难流出;相反,在黑矩阵制备过程中,由于污染颗粒的存在或外力的划伤,会造成黑矩阵出现破损,该破损引起的剪切力迫使微胶囊的囊壁破损,使得内部囊芯中的组合物流出,填充满破损处,经过曝光处理,即可完成对破损的修补,而无需等待专门的修复工艺,且可大大提升TFT-LCD的产品良率与产品品质。
附图说明
图1a~图1c为现有技术黑矩阵制作流程示意图;
图2a~图2b为本发明黑矩阵制作流程示意图。
具体实施方式
为了解决现有技术中存在的黑矩阵的破损未能修补导致产品缺陷的技术问题,本发明提供了一种光阻组合物及其制备方法、一种彩膜基板和一种显示装置,所述光阻组合物用于制备黑矩阵用。在该技术方案中,由于在光阻组合物中增加了微胶囊,微胶囊包括囊壁和囊芯,囊壁在破损剪切力的作用下会破裂,从而囊芯物质流出,囊芯中包括可进行光固化的不饱和树脂低聚物和光聚合单体及黑色颜料色浆,在紫外光照射下树脂低聚物聚合并且光聚合单体聚合,可实现对破损的修补,从而保持黑矩阵的完整性,防止漏光,进而提高产品的良率。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,以下举实施例对本发明作进一步详细说明。
本发明实施例提供一种光阻组合物,包括质量分数为1%~10%的微胶囊,所述微胶囊的囊壁包括碱不溶性树脂,所述微胶囊的囊芯包括:
质量分数为10%~60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物;
质量分数为10%~50%的光聚合单体;
质量分数为10%~70%的第一黑色颜料色浆;
质量分数为0.1%~10%的第一光致聚合引发剂;
质量分数为0.1%~5%的偶联剂。
在本发明实施例中,在光阻组合物中增加了微胶囊,微胶囊的囊芯包括不饱和树脂低聚物、光聚合单体、光致聚合引发剂和添加剂,囊壁在破损剪切力的作用下会破裂,从而囊芯物质流出,囊芯中包括可进行光固化的不饱和树脂低聚物和光聚合单体及黑色颜料色浆,在紫外光照射下树脂低聚物可发生聚合反应,光聚合单体也发生聚合反应,因此,可实现对破损的修补,从而保持黑矩阵的完整性,防止漏光,进而提高产品的良率。由于在黑矩阵用光阻组合物中添加了微胶囊,可以节约后续的对黑矩阵的修补工艺,节约了产品的生产时间,提高了产品的生产效率,并且由于无需额外添加黑矩阵用光阻组合物,因此可以节约成本。
在本发明实施例中,微胶囊的质量分数为1%~10%,当微胶囊光阻组合物中的含量较少时,如果黑矩阵出现白缺,可能微胶囊破裂不能填补所有的白缺;当微胶囊在光阻组合物中的含量较多时,增加成本,并且现有工艺造成黑矩阵的白缺也不会很多,需要的微胶囊的量也不多,发明人经大量试验发现,当光阻组合物中的微胶囊的质量分数在1%~10%就可以解决现有技术中黑矩阵出现白缺的问题。
优选的,所述可进行光固化的不饱和树脂低聚物包括环氧丙烯酸树脂和聚氨酯丙烯酸树脂中的一种或几种;所述光聚合单体包括二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)中的一种或几种;所述第一光致聚合引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(P.I.-1173)、1-羟基环己基苯基甲酮(P.I.-184)和2-苯基苄-2-二甲基胺-4'-吗啉代丙基苯基酮(P.I.-369)中的一种或几种;所述偶联剂包括γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷(KH-560)和γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(KH-570)中的一种或几种。
优选的,所述光阻组合物还包括:
质量分数为5%~70%的第二黑色颜料色浆;
质量分数为1%~50%的含有羧基基团的粘结剂树脂;
质量分数为5%~50%的含有烯基不饱和键的可聚合单体;
质量分数为0.1%~10%的第二光致聚合引发剂;
质量分数为7.3%~59.39%的第一溶剂;
质量分数为0.01%~5%的助剂。
较佳的,所述含有羧基基团的粘结剂树脂包括甲基丙烯酸与甲基丙烯酸苄酯共聚物;所述含有烯基不饱和键的可聚合单体包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯中的一种或多种;所述第二光致聚合引发剂包括2-苯基苄-2-二甲基胺-4'-吗啉代丙基苯基酮和2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮中的一种或多种;所述第一溶剂包括丙二醇单甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯和环己酮中的一种或多种;所述助剂包括硅烷偶联剂和流平剂中的一种或多种。
优选的,所述第一黑色颜料色浆和第二黑色颜料色浆分别包括:
质量分数为1%~20%的黑色颜料;
质量分数为1%~50%的超分散剂;
质量分数为0.5%~10%的助分散剂;
质量分数为0.1%~5%的添加剂;
质量分数为39%~97.4%的第二溶剂。
优选的,所述黑色颜料包括炭黑和钛黑中的一种或多种;所述超分散剂包括酰胺类聚合物、含有亲颜料基团的高分子嵌段聚合物、有机硅表面活性剂、改性聚氨酯和改性聚丙烯酸酯中的一种或多种;所述助分散剂包括相乘剂和改善溶剂型助分散剂中的一种或几种;所述第二溶剂为丙二醇单甲醚醋酸酯(PGMEA)和3-乙氧基丙酸乙酯中的一种或几种;所述添加剂为吐温和司盘中的一种或几种。
优选的,所述碱不溶性树脂包括环氧树脂或聚氨酯树脂,具体可以为江苏三木生产的环氧丙烯酸树脂6118、环氧丙烯酸树脂6104或聚氨酯丙烯酸酯SM6201。
本发明实施例还提供一种彩膜基板,所述彩膜基板中的黑矩阵采用上述任一种光阻组合物得到。
本发明实施例还提供一种显示装置,包括上述的彩膜基板。除黑矩阵外,显示装置的其他结构与现有工艺一致。所述显示装置可以为:液晶面板、电子纸、OLED面板、液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等具有任何显示功能的产品或部件。
本发明光阻组合物的制备方法,包括:
将质量分数为10%~60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物,质量分数为10%~50%的光聚合单体,质量分数为10%~70%的第一黑色颜料色浆,质量分数为0.1%~10%的第一光致聚合引发剂,质量分数为0.1%~5%的偶联剂混合后进行分散,制得微胶囊的囊芯用组合物;具体的,分散工艺可以在转速800转/分(rpm)的条件下分散2~3小时(h);
将所述微胶囊的囊芯用组合物滴加于微胶囊的囊壁的溶液中,形成微胶囊;
取质量分数为1%~10%的微胶囊与黑矩阵用光阻组合物的各组分混合,形成光阻组合物。
在本实施例中,光阻组合物中除了添加微胶囊以外,其他组分和现有的黑矩阵用光阻组合物的组分可以相同,也可以选用本发明下述的黑矩阵用光阻组合物的组分。
优选的,黑矩阵用光阻组合物的各组分包括质量分数为5%~70%的第二黑色颜料色浆;质量分数为1%~50%的含有羧基基团的粘结剂树脂;质量分数为5%~50%的含有烯基不饱和键的可聚合单体;质量分数为0.1%~10%的第二光致聚合引发剂;质量分数为7.3%~59.39%的第一溶剂;质量分数为0.01%~5%的助剂。
以下列举具体的实施例对本发明光阻组合物及其制备方法做进一步解释,但本发明并不限于以下实施例。
一、第一黑色颜料色浆和第二黑色颜料色浆的制备方法
实施例1~5是制备黑色颜料色浆的组分及其质量分数。由于第一黑色颜料色浆和第二黑色颜料色浆的组分及各组分质量分数相同,以下将第一黑色颜料色浆和第二黑色颜料色浆统称为黑色颜料色浆,将表1实施例1~5中质量分数为1%~20%的黑色颜料,质量分数为1%~50%的超分散剂,质量分数为0.5%~10%的助分散剂,质量分数为0.1%~5%的添加剂和质量分数为39%~97.4%的第二溶剂混合后进行研磨,具体为将上述组分加入500L研磨缸中,再向其中加入体积为350mL的0.5mm的锆珠在2500rpm的转速下研磨,得到黑色颜料色浆。在本实施例中,黑色颜料选用炭黑,超分散剂选用含有亲颜料基团的高分子嵌段聚合物,如德国毕克公司的BYK-163、荷兰埃夫卡公司的EFKA4560、EFKA4030或EFKA4040,助分散剂选用相乘剂和改善溶剂型助分散剂,相乘剂具体选用Solsperse5000,改善溶剂型助分散剂具体选用德国毕克公司的BYK2105或BYK2100;添加剂选用吐温或司盘;第二溶剂选用丙二醇单甲醚醋酸酯(PGMEA)和3-乙氧基丙酸乙酯。
表1实施例1~5黑色颜料色浆组分及其质量分数表
二、微胶囊的囊芯用组合物的制备方法
实施例6~10是制备微胶囊的囊芯用组合物的组分及其质量分数。将表2实施例6~10中质量分数为10%~60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物,质量分数为10%~50%的光聚合单体,质量分数为10%~70%的第一黑色颜料色浆,质量分数为0.1%~10%的第一光致聚合引发剂,质量分数为0.1%~5%的偶联剂混合,形成混合物,其中,可进行光固化的不饱和树脂低聚物购自江苏三木公司,光聚合单体选自二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)或季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA),第一光致聚合引发剂选用2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(P.I.-1173)、1-羟基环己基苯基甲酮(P.I.-184)和2-苯基苄-2-二甲基胺-4'-吗啉代丙基苯基酮(P.I.-369)中的一种或几种,偶联剂选用硅烷偶联剂,具体选用γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷(KH-560)或γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(KH-570);
将混合物在搅拌下分散2~3h,所述搅拌的转速为800转/分,制得微胶囊的囊芯用组合物,所述搅拌可以采用机械搅拌的方式。
表2实施例6~10微胶囊的囊芯组分及其质量分数表
三、微胶囊的制备方法
实施例11~14是制备微胶囊用组分及其质量分数。将上述制得的微胶囊的囊芯组合物,滴加于用于形成微胶囊的囊壁的树脂溶液中,如采用环氧树脂或聚氨酯树脂的二甲苯溶液,各组分及其质量分数如表3所示,在这里,优选实施例7制得的微胶囊的囊芯,实施例9~10和实施例6制得的微胶囊的囊芯也适用。由于囊芯和囊壁的极性差异,产生相分离,采用不同的机械搅拌速度,如采用200~1000转/分(rpm)的机械搅拌速度,使囊芯组合物在树脂溶液中形成不同粒径大小的颗粒悬浮液,最终经过滤、筛分、干燥、固化等工艺,从而制得具有不同粒径大小的微胶囊颗粒,微胶囊粒径在10~100纳米(nm)。
表3实施例11~14微胶囊组分及其质量分数表
四、黑矩阵用光阻组合物的制备方法
实施例15~19是制备黑矩阵用光阻组合物的组分及其质量分数。将表4实施例15~19中质量分数为1%~10%的微胶囊,质量分数为1%~50%的含有羧基基团的粘结剂树脂,质量分数为5%~50%的含有烯基不饱和键的可聚合单体,质量分数为第二光致聚合引发剂,质量分数为7.3%~59.39%的第一溶剂和质量分数为0.01%~5%的助剂混合均匀,得到本发明黑矩阵用光阻组合物;含有羧基基团的粘结剂树脂选用甲基丙烯酸与甲基丙烯酸苄酯共聚物(固含量为20%);含有烯基不饱和键的可聚合单体选用三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)和季戊四醇三丙烯酸酯(DPPA)中的一种或多种;第二光致聚合引发剂选用2-苯基苄-2-二甲基胺-4'-吗啉代丙基苯基酮(P.I.-369)和2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(P.I.-1173)中的一种或多种;第一溶剂选用丙二醇单甲醚醋酸酯(PGMEA)、3-乙氧基丙酸乙酯和环己酮中的一种或多种;助剂选用硅烷偶联剂和流平剂中的一种或多种,硅烷偶联剂具体选用KH-560或KH-570,流平剂选用荷兰埃夫卡公司生产的EFKA-3883或EFKA-3600。
表4实施例15~19黑矩阵用光阻组合物的组分及其质量分数表
五、黑矩阵的制备
彩膜基板制备工艺中常常存在各种形式的缺陷,为了及时准确的发现这些缺陷,在生产线上均配备有自动光学检测系统(Automatic Optic Inspection);该设备可通过对比破损修复处与正常完好处的光学差异,准确掌握缺陷位置,并可监测修复效果;
使用本发明黑矩阵用光阻组合物制备黑矩阵的方法:
将本发明制备的黑矩阵用组合物涂覆于清洗干净的的玻璃基板上,将本发明制备的黑色光阻涂覆于清洗干净的玻璃基板上,真空干燥30~240秒(s)后,在50~120℃的热板上烘烤1~5min后,在曝光机中(内含刻有一定形状图案的光罩)以40~100mJ/cm2的能量曝光,再用氢氧化钾或碳酸钠显影液显影60~120s,最终在200~250℃的烘烤炉内烘烤20~50min,即制得应用本发明制备的黑色光阻的彩色滤光片黑矩阵图案。
六、检测方法
黑矩阵的形貌可通过光学显微镜、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)等检测手段进行检测。如图2a和图2b所示,本发明黑矩阵制作流程示意图,采用光学显微镜观察黑矩阵,图2a为涂覆本发明实施例15~19制备的黑矩阵用光阻组合物后某些位置存在破损,图2b为采用紫外光照射光阻组合物后,由于微胶囊的破损,因此能填充破损处,避免形成白缺,以下采用现有技术不含微胶囊的黑矩阵用组合物作为对比例,以本发明实施例15~19制备光阻组合物作为实施例,验证结果表如表5所示。
表5验证结果对比表
通过检测可以发现,由于污染颗粒存在或外力的划伤,会造成黑矩阵出现破损,现有技术制备的黑矩阵,其白缺缺陷率在0.1%左右,而采用本发明黑矩阵用光阻组合物制备的黑矩阵基本无破损,其缺陷率为现有黑矩阵白缺缺陷率的1%左右,这是由于破损引起的剪切作用力迫使微胶囊的囊壁破损,使得微胶囊的囊芯组合物流出,填充满破损处,微胶囊中含有黑色颜料色浆及光聚合单体,因此,经过一曝光处理,即可完成对黑矩阵破损处的修补,大大提升TFT-LCD的产品良率与产品品质。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (9)
1.一种光阻组合物,其特征在于,该光阻组合物用于制备黑矩阵,且该光阻组合物能修复黑矩阵中的白缺,其包括质量分数为1%~10%的微胶囊,所述微胶囊的囊壁包括碱不溶性树脂,所述微胶囊的囊芯包括:
质量分数为10%~60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物;
质量分数为10%~50%的光聚合单体;
质量分数为10%~70%的第一黑色颜料色浆;
质量分数为0.1%~10%的第一光致聚合引发剂;
质量分数为0.1%~5%的偶联剂;
所述光阻组合物还包括:
质量分数为5%~70%的第二黑色颜料色浆;
质量分数为1%~50%的含有羧基基团的粘结剂树脂;
质量分数为5%~50%的含有烯基不饱和键的可聚合单体;
质量分数为0.1%~10%的第二光致聚合引发剂;
质量分数为7.3%~59.39%的第一溶剂;
质量分数为0.01%~5%的助剂。
2.如权利要求1所述的光阻组合物,其特征在于,
所述可进行光固化的不饱和树脂低聚物包括环氧丙烯酸树脂和聚氨酯丙烯酸树脂中的一种或几种;
所述光聚合单体包括二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的一种或几种;
所述第一光致聚合引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮和2-苯基苄-2-二甲基胺-4'-吗啉代丙基苯基酮中的一种或几种;
所述偶联剂包括γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷和γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷中的一种或几种。
3.如权利要求2所述的光阻组合物,其特征在于,
所述含有羧基基团的粘结剂树脂包括甲基丙烯酸与甲基丙烯酸苄酯共聚物;
所述含有烯基不饱和键的可聚合单体包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯中的一种或多种;
所述第二光致聚合引发剂包括2-苯基苄-2-二甲基胺-4'-吗啉代丙基苯基酮和2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮中的一种或多种;
所述第一溶剂包括丙二醇单甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯和环己酮中的一种或多种;
所述助剂包括硅烷偶联剂和流平剂中的一种或多种。
4.如权利要求2所述的光阻组合物,其特征在于,所述第一黑色颜料色浆和第二黑色颜料色浆分别包括:
质量分数为1%~20%的黑色颜料;
质量分数为1%~50%的超分散剂;
质量分数为0.5%~10%的助分散剂;
质量分数为0.1%~5%的添加剂;
质量分数为39%~97.4%的第二溶剂。
5.如权利要求4所述的光阻组合物,其特征在于,
所述黑色颜料包括炭黑和钛黑中的一种或多种;
所述超分散剂包括酰胺类聚合物、含有亲颜料基团的高分子嵌段聚合物、有机硅表面活性剂、改性聚氨酯和改性聚丙烯酸酯中的一种或多种;
所述助分散剂包括相乘剂和改善溶剂型助分散剂中的一种或几种;
所述第二溶剂为丙二醇单甲醚醋酸酯和3-乙氧基丙酸乙酯中的一种或几种;
所述添加剂为吐温和司盘中的一种或几种。
6.如权利要求1所述的光阻组合物,其特征在于,所述碱不溶性树脂包括环氧树脂或聚氨酯树脂。
7.一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板中的黑矩阵采用如权利要求1~6中任一项所述的光阻组合物得到。
8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求7所述的彩膜基板。
9.一种光阻组合物的制备方法,其特征在于,该光阻组合物用于制备黑矩阵,且该光阻组合物能修复黑矩阵中的白缺,该方法包括:
将质量分数为10%~60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物,质量分数为10%~50%的光聚合单体,质量分数为10%~70%的第一黑色颜料色浆,质量分数为0.1%~10%的第一光致聚合引发剂,质量分数为0.1%~5%的偶联剂混合后进行分散,制得微胶囊的囊芯用组合物;
将所述微胶囊的囊芯用组合物滴加于微胶囊的囊壁的溶液中,形成微胶囊;
取质量分数为1%~10%的微胶囊、质量分数为5%~70%的第二黑色颜料色浆、质量分数为1%~50%的含有羧基基团的粘结剂树脂、质量分数为5%~50%的含有烯基不饱和键的可聚合单体、质量分数为0.1%~10%的第二光致聚合引发剂、质量分数为7.3%~59.39%的第一溶剂和质量分数为0.01%~5%的助剂混合,形成光阻组合物。
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JP6575220B2 (ja) * | 2015-08-18 | 2019-09-18 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JP6767747B2 (ja) * | 2016-01-15 | 2020-10-14 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、硬化膜の製造方法、遮光膜、カラーフィルタおよび固体撮像素子 |
CN105929513B (zh) * | 2016-07-14 | 2019-02-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种导光光缆、自动光学检测仪 |
CN107501478A (zh) * | 2017-08-16 | 2017-12-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种光阻组合物及光阻 |
CN107516664A (zh) * | 2017-09-28 | 2017-12-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置 |
CN108153062B (zh) * | 2018-01-10 | 2020-08-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种配向膜、其制备方法及显示基板、显示装置 |
CN111367103B (zh) * | 2018-12-25 | 2023-03-14 | 群创光电股份有限公司 | 显示装置及其制造方法 |
CN110396315B (zh) * | 2019-07-22 | 2020-11-10 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 改性修复液、制备方法及修复色阻的方法 |
US11061294B1 (en) * | 2019-12-18 | 2021-07-13 | Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Black matrix composition, liquid crystal display panel and manufacturing method thereof |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101059655A (zh) * | 2006-04-19 | 2007-10-24 | 东京应化工业株式会社 | 感光性组合物及由该感光性组合物形成的滤色片 |
CN101395535A (zh) * | 2006-05-31 | 2009-03-25 | 三菱化学株式会社 | 保护膜用热固性组合物、固化物以及液晶显示装置 |
CN101606088A (zh) * | 2006-12-27 | 2009-12-16 | 夏普株式会社 | 液滴喷射描画装置、液滴喷射描画方法和液滴喷射描画用程序 |
CN102773053A (zh) * | 2012-08-14 | 2012-11-14 | 西北工业大学 | 用于树脂基自修复涂层的脲醛树脂包覆环氧丙烯酸树脂微胶囊及制备方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58173835A (ja) * | 1982-04-06 | 1983-10-12 | Fuji Xerox Co Ltd | レジストパタ−ンの欠陥修正方法 |
AU561281B2 (en) * | 1983-09-14 | 1987-05-07 | Three Bond Co. Ltd. | Acrylic photopolymerised micro-capsules |
CN1043995A (zh) | 1988-10-11 | 1990-07-18 | 米德公司 | 通过控制粘度防止短时间倒易律失效 |
US4957843A (en) * | 1988-10-11 | 1990-09-18 | The Mead Corporation | Prevention of short time scale reciprocity failure by viscosity control |
JPH03296701A (ja) * | 1990-04-13 | 1991-12-27 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | カラー・フィルタおよびその補修方法ならびに液晶表示装置 |
US5561029A (en) * | 1995-04-28 | 1996-10-01 | Polaroid Corporation | Low-volatility, substituted 2-phenyl-4,6-bis (halomethyl)-1,3,5-triazine for lithographic printing plates |
US5750304A (en) * | 1995-04-28 | 1998-05-12 | Kao Corporation | Encapsulated toner for heat-and-pressure fixing and method for producing the same |
JP3708343B2 (ja) * | 1998-10-19 | 2005-10-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 感熱平版印刷原版 |
JP2003012957A (ja) * | 2001-04-27 | 2003-01-15 | Canon Inc | ポリヒドロキシアルカノエートからなるマイクロカプセル化顔料含有カラーフィルタ用着色組成物 |
US7108914B2 (en) * | 2002-07-15 | 2006-09-19 | Motorola, Inc. | Self-healing polymer compositions |
JP4775535B2 (ja) | 2004-01-21 | 2011-09-21 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ欠陥修復用感放射線性樹脂組成物およびカラーフィルタ欠陥の修復方法 |
JP2009058891A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Fujifilm Corp | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
CN103360857B (zh) * | 2013-07-15 | 2015-01-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 平坦保护层用组合物及其制备方法和显示装置 |
CN103376657B (zh) * | 2013-07-15 | 2016-12-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光阻组合物及其制备方法、彩膜基板和显示装置 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101059655A (zh) * | 2006-04-19 | 2007-10-24 | 东京应化工业株式会社 | 感光性组合物及由该感光性组合物形成的滤色片 |
CN101395535A (zh) * | 2006-05-31 | 2009-03-25 | 三菱化学株式会社 | 保护膜用热固性组合物、固化物以及液晶显示装置 |
CN101606088A (zh) * | 2006-12-27 | 2009-12-16 | 夏普株式会社 | 液滴喷射描画装置、液滴喷射描画方法和液滴喷射描画用程序 |
CN102773053A (zh) * | 2012-08-14 | 2012-11-14 | 西北工业大学 | 用于树脂基自修复涂层的脲醛树脂包覆环氧丙烯酸树脂微胶囊及制备方法 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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C10 | Entry into substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant |