CN104231680A - 功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置 - Google Patents

功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置，属显示技术领域，可解决现有三维显示装置存在污染的问题。本发明的功能材料包括带有改性层的无机混合粉末，无机混合粉末包括氧化硼、氧化钠、氧化锂、氧化锆、氧化铝、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、氧化钙、银络合物、磷酸银、硝酸银、电气石、硫代硫酸银、碳纳米管、硫酸铝、锰、锰的氧化物、铁、铁的氧化物、钴、钴的氧化物、镍、镍的氧化物、铬、铬的氧化物、铜、铜的氧化物、氧化镁、碳化硼、碳化硅、碳化钛、碳化锆、碳化钽、碳化钼、氮化硼、氮化铬、氮化钛、氮化锆、氮化铝、硼化铬、四硼化三铬、硼化钛、硼化锆、二硅化钨、二硅化钛等；改性层由二元酐和二元胺反应生成。

Description

功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置。
背景技术
裸眼三维显示是三维显示(3D显示)技术的一种，其指用户不必佩戴偏光眼镜即可获得立体显示效果的技术。
如图1所示，一种裸眼三维显示技术的核心是三维显示光栅2，三维显示光栅2具有交替设置的遮光条和透光条，当将三维显示光栅2设于显示面板1(如液晶显示面板、有机发光二极管显示面板等)出光面外的特定位置时，由于遮光条的挡光作用，使用户左眼只能看到显示面板1的一部分区域，而右眼只能看到显示面板1的另一部分区域，这样，只要在显示面板1的两个区域分别显示供左眼、右眼观看的画面，即可实现立体显示效果。
但是，三维显示装置的显示面板在使用中会不可避免的产生一些电磁辐射污染，对人体健康产生影响。
发明内容
本发明针对现有三维显示装置会产生污染的问题，提供一种可起到医疗保健作用且对环境友好的功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种功能材料，其包括表面带有改性层的无机混合粉末，所述无机混合粉末包括主料和辅料；
所述主料由氧化硼、氧化钠、氧化锂、氧化锆组成；
所述辅料包括氧化铝、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、氧化钙、银络合物、磷酸银、硝酸银、电气石、硫代硫酸银、碳纳米管、硫酸铝、锰、锰的氧化物、铁、铁的氧化物、钴、钴的氧化物、镍、镍的氧化物、铬、铬的氧化物、铜、铜的氧化物、氧化镁、碳化硼、碳化硅、碳化钛、碳化锆、碳化钽、碳化钼、氮化硼、氮化铬、氮化钛、氮化锆、氮化铝、硼化铬、四硼化三铬、硼化钛、硼化锆、二硅化钨、二硅化钛中的任意一种或多种；
所述改性层由二元酐和二元胺反应生成。
优选的是，用于生成所述改性层的二元酐与二元胺的物质的量的比在(0.85～1.05)∶1。
进一步优选的是，用于生成所述改性层的二元酐与二元胺的物质的量的比在(0.92～1.05)∶1。
优选的是，所述用于生成所述改性层的二元酐中含有至少一个苯基；所述用于生成所述改性层的二元胺中含有至少一个苯基或非苯基的六元碳环。
进一步优选的是，用于生成所述改性层的二元酐选自均苯四甲酸二酐、偏苯三酸酐、二苯酮二酐、联苯二酐、二苯醚二酐、六氟二酐中的任意一种；用于生成所述改性层的二元胺选自3-氨基苄胺、2,2'-二氟-4,4'-(9-亚茀基)二苯胺、2,2-双(3-氨基-4-羟苯基)六氟丙烷、六氢-间苯二甲基二胺、1,4-二(氨甲基)环己烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯]六氟丙烷、2,2-双(3-氨基-4-甲苯基)六氟丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,7-二氨基芴、间苯二甲胺、4,4'-亚甲基双(2-乙基-6-甲基苯胺)中的任意一种。
优选的是，所述无机混合粉末的粒径在1～5000nm。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种上述功能材料的制备方法，其包括：
将所述无机混合粉末、二元酐、二元胺与引发剂、溶剂混合均匀；
加热使所述二元酐与二元胺反应，在无机混合粉末表面形成所述改性层。
优选的是，所述无机混合粉末的质量与二元酐、二元胺反应后生成的物质的质量的比为(20～1)∶1。
进一步优选的是，所述引发剂为偶氮二异丁腈、2,2'-双偶氮-(2,4-二甲基戊腈)、偶氮二异丁酸二甲酯、偶氮二异戊腈中的任意一种。
优选的是，所述加热分为两步进行，其具体为：在35～70℃的温度下加热20～40min；在70～100℃的温度下加热20～40min。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种三维显示光栅，其包括由交替设置的遮光条和透光条组成的光栅本体；且，
所述光栅本体的表面和/或内部含有上述功能材料。
优选的是，所述光栅本体内的功能材料的质量百分含量在0.1～30％；和/或，所述光栅本体表面具有厚度在50～1000nm的表面膜层，所述表面膜层中含有所述功能材料，其中功能材料的质量百分含量在0.1～10％。
进一步优选的是，所述光栅本体内的功能材料的质量百分含量在3～20％；和/或，所述表面膜层中的功能材料的质量百分含量在0.5～5％。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种三维显示装置，其包括显示面板和三维显示光栅，且
所述三维显示光栅为上述的三维显示光栅。
本发明的功能材料可发出远红外线和负离子；远红外线被人体吸收后可使体内水分子共振，活化水分子，增强分子间结合力，从而活化蛋白质等生物大分子，使生物体细胞处于最高振动能级；且远红外热量可传递到皮下较深的部分，使下深层温度上升，扩张毛细血管，促进血液循环，强化各组织之间的新陈代谢，增强组织再生能力，提高机体免疫力，调节精神异常兴奋状态；而负离子对细菌和有机物有分解和氧化作用，可起到杀菌消毒和净化环境空气质量的效果；因此，该功能材料可起到医疗保健作用，对环境友好。
本发明的功能材料的无机混合粉末表面具有改性层，该改性层可使无机混合粉末与光栅主体良好的结合，并且还可提高该无机混合粉末发射远红外线和负离子的能力，从而使功能材料很好的融入三维显示光栅中，在不影响三维显示光栅本身性能的情况下，增加其环境友好度。
附图说明
图1为现有的一种三维显示装置的原理示意图；
图2为本发明实施例的功能材料的制备方法的流程图；
图3为本发明实施例的三维显示装置的剖面结构示意图；
其中，附图标记为：
1、显示面板；2、三维显示光栅；21、光栅本体；3、功能材料；22、表面膜层。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
本实施例提供一种功能材料及其制备方法。
该功能材料包括表面带有改性层的无机混合粉末，无机混合粉末包括主料和辅料；
主料由氧化硼、氧化钠、氧化锂、氧化锆组成；
辅料包括氧化铝、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、氧化钙、银络合物、磷酸银、硝酸银、电气石、硫代硫酸银、碳纳米管、硫酸铝、锰、锰的氧化物、铁、铁的氧化物、钴、钴的氧化物、镍、镍的氧化物、铬、铬的氧化物、铜、铜的氧化物、氧化镁、碳化硼、碳化硅、碳化钛、碳化锆、碳化钽、碳化钼、氮化硼、氮化铬、氮化钛、氮化锆、氮化铝、硼化铬、四硼化三铬、硼化钛、硼化锆、二硅化钨、二硅化钛中的任意一种或多种；
改性层由二元酐和二元胺反应生成。
其中，无机混合粉末的粒径在纳米量级至微米量级，具体优选在1～5000nm，更优选在10～500nm。
其中，二元酐是指分子结构中含有至少两个酸酐基团的物质；而二元胺是指分子结构中含有至少两个胺基(或氨基)的物质。
其中，二元酐中优选含有至少一个苯基，其更优选为均苯四甲酸二酐、偏苯三酸酐、二苯酮二酐、联苯二酐、二苯醚二酐、六氟二酐中的任意一种。
其中，二元胺中优选含有至少一个苯基或非苯基的六元碳环(例如环己烷)，其更优选为3-氨基苄胺、2,2'-二氟-4,4'-(9-亚茀基)二苯胺、2,2-双(3-氨基-4-羟苯基)六氟丙烷、六氢-间苯二甲基二胺、1,4-二(氨甲基)环己烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯]六氟丙烷、2,2-双(3-氨基-4-甲苯基)六氟丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,7-二氨基芴、间苯二甲胺、4,4'-亚甲基双(2-乙基-6-甲基苯胺)中的任意一种。
其中，二元酐与二元胺的物质的量的比优选为(0.85～1.05)∶1；更优选在(0.92～1.05)∶1。
经研究发现，符合以上条件的二元酐和二元胺反应后生成的改性层可最好的改善无机混合粉末的性质。
本实施例的功能材料可发出远红外线和负离子；远红外线被人体吸收后可使体内水分子共振，活化水分子，增强分子间结合力，从而活化蛋白质等生物大分子，使生物体细胞处于最高振动能级；且远红外热量能传递到皮下较深的部分，使下深层温度上升，扩张毛细血管，促进血液循环，强化各组织之间的新陈代谢，增强组织再生能力，提高机体免疫力，调节精神异常兴奋状态；而负离子对细菌和有机物有分解和氧化作用，可起到杀菌消毒和净化环境空气质量的效果；因此，本实施例的功能材料可起到医疗保健作用，对环境友好。
上述功能材料的制备方法包括：将所述无机混合粉末、二元酐、二元胺与引发剂、溶剂混合均匀；加热使所述二元酐与二元胺反应，在无机混合粉末表面形成所述改性层。
具体的，如图2所示，上述制备方法可包括：
S01、在使用分散剂的情况下，将各原料分别粉碎为粉末后按比例混合均匀，或将各原料按比例混合均匀后再粉碎，得到无机混合粉末。
其中，分散剂可选用德国毕克公司生产的BYK161、路博润公司生产的Solsperse32500、Solsperse22000等常规分散剂；粉碎可采用球磨、研磨等常规方式；由于得到无机混合粉末可采用已知的方法，故在此不再详细描述。
S02、将占总量1/4～1/3的引发剂及占总量1/4～1/3的二元胺溶解在溶剂中备用。
其中，无机混合粉末的质量与二元酐、二元胺反应后生成的物质的质量的比为(20～1)∶1。
也就是说，二元酐、二元胺的用量按照如下的方式确定：假设二元酐与二元胺可完全反应并得到生成物(实际为改性层)，若该生成物的质量为1，则无机混合粉末的质量就在1～20之间；这样的用量可保证在无机混合粉末上得到厚度合适的改性层。
其中，引发剂用于引发反应，其优选为氮类引发剂，更优选为偶氮二异丁腈、2,2'-双偶氮-(2,4-二甲基戊腈)、偶氮二异丁酸二甲酯、偶氮二异戊腈中的任意一种。
其中，溶剂可选自脂肪醇、乙二醇醚、乙酸乙酯、甲乙酮、甲基异丁基酮、单甲基醚乙二醇酯、γ-丁内酯、丙酸-3-乙醚乙酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯、环己烷、二甲苯、异丙醇等常规的有机溶剂。由于溶剂的选择对最终产品的性能无显著影响，故各实施例统一用丙二醇单甲基醚醋酸酯作溶剂。
S03、将无机混合粉末加入反应容器(如四口瓶)中，并开始搅拌、震荡、摇动等；之后加入二元酐、溶剂，以及剩余的引发剂、二元胺，溶解均匀。
S04、开始加热以进行反应，其优选分为两步进行，具体可包括：先在35～70℃的温度下加热20～40min；之后继续在70～100℃的温度下加热20～40min。
以上的加热过程中，可使二元酐与二元胺间发生反应，从而在无机混合粉末表面生成改性层；其中，之所以分步加热，主要是为了防止反应过于剧烈。
在反应过程中，逐渐将上述溶解有引发剂和二元胺的溶液逐渐滴加到四口瓶中；之所以这样加入，是为了防止反应过于剧烈。
其中，本步反应优选在氮气保护下进行，且在反应过程中优选一直保持搅拌。
其中，各步骤中溶剂的用量以能将其中的物质均匀的分散、溶解为准，而引发剂用量以能引发反应为准，这些可由本领域技术人员根据实际情况调整，在此不再详细描述。但通常而言，无机混合粉末、引发剂、溶剂的质量比(均指总量)为1∶(0.25～0.4)∶(1～1.5)，为了统一，故在各实施例具体制备功能材料的过程中，统一使无机粉末、引发剂、溶剂的质量比为1∶0.3∶1.4。。
S05、反应结束后用经冷藏的溶剂使反应物冷却至室温(约10～30℃)。
S06、蒸干剩余溶剂或将粉末从中分离出来，得到带有改性层的无机混合粉末，即得到功能材料。
当然，应当理解，以上所述的制备方法还可进行许多变化，例如，二元酐、二元胺、引发剂等可一次都溶解在溶剂中；再如，加热也可只为一段等。总之，只要能使二元酐与二元胺反应并在无机混合粉末表面形成改性层即可。
按照GB/T7287-2008标准测试所得功能材料的红外线比辐射率，并用空气负离子测定仪测量其产生的负离子数量。
按照上述方法制备不同的功能材料，各实施例中采用的物质、用量、参数及产品性能如以下各表所示。
表1、各实施例的功能材料的无机混合粉末中主料的情况(含量单位为质量份数)
实施例 氧化硼含量 氧化钠含量 氧化锂含量 氧化锆含量
1 3.83 1.83 6.73 20
2 5.18 2.27 8.16 25
3 6.5 3.6 10.5 30
4 7.17 3.6 10.5 30
表2、各实施例的功能材料的无机混合粉末中辅料的情况(含量单位为质量份数)
表3、各实施例的功能材料中制备改性层原料的情况
表4、各实施例的功能材料的制备参数及性能测试结果
可见，各实施例的功能材料均具有较高的红外线比辐射率和负离子浓度，表明其确实可产生远红外线和负离子，从而达到改善环境的作用。
如图3所示，本实施例还提供一种三维显示光栅2及三维显示装置。
其中，三维显示光栅2包括光栅主体21，光栅主体21为板状，由交替设置的透光条和遮光条组成，可起到遮光的作用以实现三维显示。
在光栅主体21的内部和/或光栅主体21的表面上，还设有上述的功能材料3。
也就是说，上述功能材料3被施加到光栅主体21的内部或表面上，以改善三维显示光栅2的环境友好度。
优选的，光栅本体21内的功能材料3的质量百分含量在3～20％；和/或，光栅本体21表面具有厚度在50～1000nm的表面膜层22，表面膜层22中含有功能材料3，其中功能材料3的质量百分含量在0.1～10％。
也就是说，功能材料3可直接混在光栅本体21中。具体的，可将功能材料3添加在用于制备光栅主体21的材料(如聚对苯二甲酸乙二醇酯颗粒、聚乙烯醇颗粒)中，由此，在将这些材料加热熔融形成光栅主体21的过程中，功能材料3自然也被直接形成在光栅主体21内部，且其质量百分含量(以光栅主体21和功能材料3的总质量为100％)在0.1～30％，更优选在3～20％。
或者，也可在光栅本体21表面增设表面膜层22，而功能材料3分布与表面膜层22中，具体的，可将功能材料3分散在溶剂(如光固化树脂、热固化树脂等)中形成悬浮液，之后通过涂布、喷涂等方式将悬浮液施加在光栅主体21表面，待固化后，即可在光栅主体21表面形成表面膜层22，而该表面膜层22的厚度在50～1000nm，其中功能材料3的质量百分含量(以表面膜层22和功能材料3的总质量为100％)在0.1～10％，更优选在0.5～5％。
显然，虽然功能材料3对环境有益，但若其使用量过大，则可能对三维显示光栅2本身的性能产生影响，经研究发现，以上含量范围内的功能材料3即对环境有益，又不会对三维显示光栅2本身的性能产生明显影响，故是优选的。
对本实施例的三维显示光栅2进行观察，发现其中的功能材料3并无团聚、脱落等现象，表明功能材料3可与三维显示光栅2很好的结合。
本实施例的功能材料3的无机混合粉末表面具有改性层，该改性层可使无机混合粉末与光栅主体21良好的结合，并且还可提高该无机混合粉末发射远红外线和负离子的能力，从而使功能材料3很好的融入三维显示光栅2中，在不影响三维显示光栅2本身性能的情况下，增加其环境友好度。
本实施例的三维显示装置则包括显示面板1和设于显示面板1出光面外的上述三维显示光栅2。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (14)

1.一种功能材料，其特征在于，包括表面带有改性层的无机混合粉末，所述无机混合粉末包括主料和辅料；
所述主料由氧化硼、氧化钠、氧化锂、氧化锆组成；
所述辅料包括氧化铝、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、氧化钙、银络合物、磷酸银、硝酸银、电气石、硫代硫酸银、碳纳米管、硫酸铝、锰、锰的氧化物、铁、铁的氧化物、钴、钴的氧化物、镍、镍的氧化物、铬、铬的氧化物、铜、铜的氧化物、氧化镁、碳化硼、碳化硅、碳化钛、碳化锆、碳化钽、碳化钼、氮化硼、氮化铬、氮化钛、氮化锆、氮化铝、硼化铬、四硼化三铬、硼化钛、硼化锆、二硅化钨、二硅化钛中的任意一种或多种；
所述改性层由二元酐和二元胺反应生成。
2.根据权利要求1所述的功能材料，其特征在于，
用于生成所述改性层的二元酐与二元胺的物质的量的比在(0.85～1.05)∶1。
3.根据权利要求2所述的功能材料，其特征在于，
用于生成所述改性层的二元酐与二元胺的物质的量的比在(0.92～1.05)∶1。
4.根据权利要求1所述的功能材料，其特征在于，
所述用于生成所述改性层的二元酐中含有至少一个苯基；
所述用于生成所述改性层的二元胺中含有至少一个苯基或非苯基的六元碳环。
5.根据权利要求4所述的功能材料，其特征在于，
用于生成所述改性层的二元酐选自均苯四甲酸二酐、偏苯三酸酐、二苯酮二酐、联苯二酐、二苯醚二酐、六氟二酐中的任意一种；
用于生成所述改性层的二元胺选自3-氨基苄胺、2,2'-二氟-4,4'-(9-亚茀基)二苯胺、2,2-双(3-氨基-4-羟苯基)六氟丙烷、六氢-间苯二甲基二胺、1,4-二(氨甲基)环己烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯]六氟丙烷、2,2-双(3-氨基-4-甲苯基)六氟丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,7-二氨基芴、间苯二甲胺、4,4'-亚甲基双(2-乙基-6-甲基苯胺)中的任意一种。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的功能材料，其特征在于，
所述无机混合粉末的粒径在1～5000nm。
7.一种功能材料的制备方法，其特征在于，所述功能材料为权利要求1至6中任意一项所述的功能材料，所述制备方法包括：
将所述无机混合粉末、二元酐、二元胺与引发剂、溶剂混合均匀；
加热使所述二元酐与二元胺反应，在无机混合粉末表面形成所述改性层。
8.根据权利要求7所述的功能材料的制备方法，其特征在于，
所述无机混合粉末的质量与二元酐、二元胺反应后生成的物质的质量的比为(20～1)∶1。
9.根据权利要求7所述的功能材料的制备方法，其特征在于，
所述引发剂为偶氮二异丁腈、2,2'-双偶氮-(2,4-二甲基戊腈)、偶氮二异丁酸二甲酯、偶氮二异戊腈中的任意一种。
10.根据权利要求7所述的功能材料的制备方法，其特征在于，所述加热分为两步进行，其具体为：
在35～70℃的温度下加热20～40min；
在70～100℃的温度下加热20～40min。
11.一种三维显示光栅，包括由交替设置的遮光条和透光条组成的光栅本体，其特征在于，
所述光栅本体的表面和/或内部含有权利要求1至6中任意一项所述的功能材料。
12.根据权利要求11所述的三维显示光栅，其特征在于，
所述光栅本体内的功能材料的质量百分含量在0.1～30％；
和/或
所述光栅本体表面具有厚度在50～1000nm的表面膜层，所述表面膜层中含有所述功能材料，其中功能材料的质量百分含量在0.1～10％。
13.根据权利要求12所述的三维显示光栅，其特征在于，
所述光栅本体内的功能材料的质量百分含量在3～20％；
和/或
所述表面膜层中的功能材料的质量百分含量在0.5～5％。
14.一种三维显示装置，包括显示面板和三维显示光栅，其特征在于，
所述三维显示光栅为权利要求11至13中任意一项所述的三维显示光栅。
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WO (1) WO2015067120A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016015407A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、触控结构及触控显示装置

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103739205B (zh) * 2013-11-08 2017-06-13 北京京东方光电科技有限公司 功能材料及其制备方法、显示结构形成材料、彩膜基板、显示装置
WO2016015410A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、封接材料、显示面板
WO2016015409A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、配向材料、液晶显示基板
WO2016015408A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、有机发光二极管显示面板
WO2016015411A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、树脂组合物、膜材、显示器件
EP3176228B1 (en) * 2014-07-29 2019-08-21 Boe Technology Group Co. Ltd. Color film material and color film substrate
EP3176224B1 (en) 2014-07-29 2019-07-10 Boe Technology Group Co. Ltd. Three-dimensional display grating, and display device
CN104595845B (zh) * 2014-12-11 2017-11-14 苏州佳亿达电器有限公司 一种防眩目路灯透光板
CN105693089A (zh) * 2016-03-01 2016-06-22 苏州云舒新材料科技有限公司 一种抗菌玻璃材料及其制备方法
CN105733581A (zh) * 2016-03-16 2016-07-06 安徽中益新材料科技有限公司 一种新型蓄能发光粉及其制备方法
CN105629593B (zh) * 2016-03-30 2019-08-02 京东方科技集团股份有限公司 一种面板
SG11201810474SA (en) 2016-05-27 2018-12-28 3M Innovative Properties Co Oled display with improved color uniformity
CN106985944A (zh) * 2017-04-19 2017-07-28 成都步共享科技有限公司 一种碳纤维共享自行车
CN106990464B (zh) * 2017-05-26 2020-01-14 青岛海信电器股份有限公司 量子点彩色滤光片及制备方法、液晶面板、液晶显示设备
CN107367782B (zh) * 2017-09-14 2021-02-26 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示面板和显示装置
WO2019059359A1 (ja) * 2017-09-25 2019-03-28 東レ株式会社 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置
CN109962179B (zh) * 2017-12-26 2021-02-19 Tcl科技集团股份有限公司 一种薄膜及其制备方法与qled器件
CN108397702A (zh) * 2018-04-04 2018-08-14 惠州市华星光电技术有限公司 导光板、背光模组及显示器
CN109608675A (zh) * 2018-11-16 2019-04-12 南通万拓新材料科技有限公司 一种耐候的装饰膜
CN109626974B (zh) * 2018-12-12 2021-08-27 苏州研资工业技术有限公司 一种低温共烧陶瓷材料及其制备方法
CN111607291B (zh) * 2019-02-22 2023-03-31 苏州星烁纳米科技有限公司 量子点墨水及量子点彩膜
CN110109293A (zh) * 2019-04-04 2019-08-09 深圳市华星光电技术有限公司 液晶无机配向薄膜的制造方法
US10759697B1 (en) 2019-06-11 2020-09-01 MSB Global, Inc. Curable formulations for structural and non-structural applications
CN110357638A (zh) * 2019-07-29 2019-10-22 浙江爱鑫电子科技有限公司 一种钛基高导热陶瓷电路基板材料及其制备方法
CN112445029A (zh) * 2019-09-05 2021-03-05 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种液晶显示面板及显示器
CN110711598B (zh) * 2019-10-25 2023-02-03 齐鲁工业大学 一种银/磷酸银/碳化钛三元复合材料及其制备方法与应用
CN111562641B (zh) * 2020-05-25 2022-04-29 南京邮电大学 一种夜视兼容红外滤光片及其制备方法
CN113680358B (zh) * 2021-07-13 2023-09-12 湖南农业大学 磷酸银/碳化硼复合光催化剂及其制备方法和应用
CN114988899B (zh) * 2022-06-11 2023-04-25 广东欧文莱陶瓷有限公司 一种能够释放负离子的陶瓷薄板
CN115672268B (zh) * 2022-09-06 2024-01-30 杭州中科沐森环保科技有限公司 甲醛吸附降解剂及其制备方法
CN116426825B (zh) * 2023-04-10 2024-07-26 常州天锐达模具有限公司 一种高韧性模具钢材料、制备方法和应用其制备的模具

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4759987A (en) * 1985-06-05 1988-07-26 Nitto Electric Industrial Co., Ltd. Polyimide powder and process for producing the same
US6540825B1 (en) * 1993-05-25 2003-04-01 The Lubrizol Corporation Compositions utilizing dispersants
JP2004341381A (ja) * 2003-05-19 2004-12-02 Konica Minolta Photo Imaging Inc 立体画像表示方法及び要素
JP2004341380A (ja) * 2003-05-19 2004-12-02 Konica Minolta Photo Imaging Inc 立体画像表示方法及び要素
JP2005029584A (ja) * 2003-05-15 2005-02-03 Yokohama Rubber Co Ltd:The 低分子量有機重合体変性層状粘土鉱物及びそれを含むゴム組成物
CN1656148A (zh) * 2002-03-19 2005-08-17 通用电气公司 制备聚酰亚胺聚合物的方法
CN1718614A (zh) * 2005-07-14 2006-01-11 上海交通大学 原位合成聚酰亚胺接枝的碳纳米管及其制备方法
CN100999589A (zh) * 2006-12-22 2007-07-18 东南大学 合成高介电常数的聚酰亚胺/纳米钛酸钡复合薄膜的方法
CN101225208A (zh) * 2007-12-18 2008-07-23 福建师范大学 一种核-壳结构的“无机粉体-弹性体”的制备方法
CN101260235A (zh) * 2007-03-07 2008-09-10 比亚迪股份有限公司 一种聚酰亚胺膜及其制备方法
CN101343425A (zh) * 2007-07-10 2009-01-14 同济大学 用作环氧树脂固化剂的功能化碳纳米管及制备方法
CN101426338A (zh) * 2007-10-30 2009-05-06 达胜科技股份有限公司 积层板及其制作方法
TW201002761A (en) * 2008-07-02 2010-01-16 Taimide Tech Inc Multi-layered polyimide film and method of manufacturing the same

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4360626A (en) * 1981-04-24 1982-11-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxidatively stable polyimide compositions
US4879182A (en) * 1988-10-24 1989-11-07 Ethyl Corporation Method of coating carbon bodies
JPH0551541A (ja) * 1991-08-26 1993-03-02 Mitsubishi Electric Corp ポリイミド樹脂で被覆された無機充填剤、それを配合した樹脂組成物およびその樹脂組成物で封止された半導体装置
EP0646632A1 (en) * 1993-09-02 1995-04-05 Loctite (Ireland) Limited A method of manufacturing a liquid crystal display and a composition for use in the method
US5403787A (en) * 1994-02-28 1995-04-04 Corning Incorporated Extruded ceramic honeycomb and method
FR2762611B1 (fr) * 1997-04-29 1999-06-11 Atochem Elf Sa Silice poreuse modifiee, son procede de fabrication et son utilisation dans les peintures et comme vecteur de pigments et colorants
JP2001139345A (ja) * 1999-11-10 2001-05-22 Asahi Glass Co Ltd 無鉛低融点ガラスおよびガラスフリット
JP2002062537A (ja) * 2000-08-21 2002-02-28 Jsr Corp Ｓｔｎ型液晶表示素子用液晶配向剤およびｓｔｎ型液晶表示素子
CN1210353C (zh) * 2000-12-15 2005-07-13 四川大学 无机粒子表面改性的方法
CN100462318C (zh) * 2001-03-27 2009-02-18 Hoya株式会社 玻璃陶瓷及其基片、液晶嵌镶板用对置基片和防尘基片
JP2002285031A (ja) * 2001-03-27 2002-10-03 Toray Ind Inc 顔料分散液、カラーペーストおよびカラーフィルター
US20050164002A1 (en) * 2002-05-09 2005-07-28 Krizan Timothy D. Polymeric particles
WO2004023511A1 (ja) * 2002-09-03 2004-03-18 Asahi Glass Company, Limited 隔壁用ペーストおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP4543695B2 (ja) * 2004-02-18 2010-09-15 住友ベークライト株式会社 被覆炭素材粉末およびその製造方法
KR100628698B1 (ko) * 2004-02-27 2006-09-28 대주전자재료 주식회사 격벽 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 격벽을포함하는 플라즈마 디스플레이 패널
JP5167582B2 (ja) 2005-10-28 2013-03-21 住友大阪セメント株式会社 ジルコニア透明分散液及び透明複合体並びに透明複合体の製造方法
JP2007126296A (ja) * 2005-10-31 2007-05-24 Ohara Inc 光学ガラスの製造方法及び製造装置
JP5263749B2 (ja) * 2006-03-22 2013-08-14 地方独立行政法人大阪府立産業技術総合研究所 ポリアミド複合粒子、ポリアミド酸複合粒子及びポリイミド複合粒子並びにこれらの製造方法
JP2009040676A (ja) * 2007-07-13 2009-02-26 Asahi Glass Co Ltd 電極付きガラス基板の製造方法
US8183168B2 (en) * 2007-07-13 2012-05-22 Asahi Glass Company, Limited Process for producing electrode-formed glass substrate
CN101407620B (zh) * 2007-10-11 2011-05-25 同济大学 高性能环氧树脂复合材料及制备方法
CN101952750B (zh) * 2008-12-18 2012-05-30 凸版印刷株式会社 液晶显示装置用滤色器及液晶显示装置
DE102010009585B4 (de) * 2010-02-26 2012-04-19 Schott Ag Lithium-Aluminosilicatglas mit hohen E-Modul, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung
KR101298234B1 (ko) * 2010-03-19 2013-08-22 엘지디스플레이 주식회사 터치인식 횡전계형 액정표시장치 및 이의 제조 방법
CN101831175A (zh) * 2010-04-01 2010-09-15 辽宁科技大学 一种无色透明的聚酰亚胺纳米复合材料膜及其制备方法
TW201214237A (en) * 2010-09-16 2012-04-01 Asustek Comp Inc Touch display device and control method thereof
CN102140230A (zh) * 2011-01-12 2011-08-03 同济大学 碳纳米管及功能化碳纤维增强环氧树脂复合材料的制备方法
EP2726552A4 (en) * 2011-06-28 2015-02-25 Du Pont POLYIMIDE COATED LOADS
CN102351421A (zh) * 2011-07-19 2012-02-15 彩虹集团公司 一种显示器件用保护盖板的碱铝硅酸盐玻璃的制备方法
CN102707503A (zh) * 2011-08-19 2012-10-03 北京京东方光电科技有限公司 分散球状隔垫物的方法、液晶面板及显示装置
CN102643424B (zh) * 2011-08-25 2013-10-09 北京京东方光电科技有限公司 聚酰亚胺及其制备方法和应用
CN102707496B (zh) * 2011-09-08 2014-12-03 北京京东方光电科技有限公司 液晶取向膜及其制备方法及包含该取向膜的液晶显示装置
CN102634020B (zh) * 2011-09-19 2013-09-11 京东方科技集团股份有限公司 预聚物、取向膜及其制备方法、液晶显示装置
TWI481646B (zh) * 2011-12-16 2015-04-21 Taimide Technology Inc 由聚醯亞胺粉體構成之消光劑、含有該消光劑之聚醯亞胺膜、及其製造方法
CN102898833B (zh) * 2012-10-11 2014-09-17 京东方科技集团股份有限公司 取向膜材料、取向膜及其制造方法、液晶显示装置
CN103059298B (zh) * 2013-01-07 2015-02-04 北京京东方光电科技有限公司 聚酰胺酸、聚酰亚胺及其制备方法和应用
CN103102075B (zh) * 2013-01-21 2015-05-06 京东方科技集团股份有限公司 一种采用玻璃料进行密封的方法、装置及玻璃料
CN103232609B (zh) * 2013-04-25 2016-04-20 安徽朝日电子新能源有限公司 一种粉煤灰改性的纳米氧化铝/聚酰亚胺复合薄膜的制备方法
CN103376657B (zh) 2013-07-15 2016-12-28 京东方科技集团股份有限公司 光阻组合物及其制备方法、彩膜基板和显示装置
CN103555003A (zh) * 2013-11-08 2014-02-05 北京京东方光电科技有限公司 改性功能材料、蓝色光阻材料、彩色滤光片及它们的制备方法、显示器件
CN103739205B (zh) * 2013-11-08 2017-06-13 北京京东方光电科技有限公司 功能材料及其制备方法、显示结构形成材料、彩膜基板、显示装置

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4759987A (en) * 1985-06-05 1988-07-26 Nitto Electric Industrial Co., Ltd. Polyimide powder and process for producing the same
US6540825B1 (en) * 1993-05-25 2003-04-01 The Lubrizol Corporation Compositions utilizing dispersants
CN1656148A (zh) * 2002-03-19 2005-08-17 通用电气公司 制备聚酰亚胺聚合物的方法
JP2005029584A (ja) * 2003-05-15 2005-02-03 Yokohama Rubber Co Ltd:The 低分子量有機重合体変性層状粘土鉱物及びそれを含むゴム組成物
JP2004341381A (ja) * 2003-05-19 2004-12-02 Konica Minolta Photo Imaging Inc 立体画像表示方法及び要素
JP2004341380A (ja) * 2003-05-19 2004-12-02 Konica Minolta Photo Imaging Inc 立体画像表示方法及び要素
CN1718614A (zh) * 2005-07-14 2006-01-11 上海交通大学 原位合成聚酰亚胺接枝的碳纳米管及其制备方法
CN100999589A (zh) * 2006-12-22 2007-07-18 东南大学 合成高介电常数的聚酰亚胺/纳米钛酸钡复合薄膜的方法
CN101260235A (zh) * 2007-03-07 2008-09-10 比亚迪股份有限公司 一种聚酰亚胺膜及其制备方法
CN101343425A (zh) * 2007-07-10 2009-01-14 同济大学 用作环氧树脂固化剂的功能化碳纳米管及制备方法
CN101426338A (zh) * 2007-10-30 2009-05-06 达胜科技股份有限公司 积层板及其制作方法
CN101225208A (zh) * 2007-12-18 2008-07-23 福建师范大学 一种核-壳结构的“无机粉体-弹性体”的制备方法
TW201002761A (en) * 2008-07-02 2010-01-16 Taimide Tech Inc Multi-layered polyimide film and method of manufacturing the same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
范勇等: "纳米氧化铝杂化聚酰亚胺薄膜的制备与性能研究", 《绝缘材料》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016015407A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 京东方科技集团股份有限公司 功能材料及其制备方法、触控结构及触控显示装置
US9896600B2 (en) 2014-07-29 2018-02-20 Boe Technology Group Co., Ltd. Functional material and method for preparing the same, touch structure and touch display device

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