CN107367782B - 一种彩膜基板、显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种彩膜基板、显示面板和显示装置，涉及显示技术领域，以在在阻止小分子有机彩色色阻材料扩散到液晶的同时，降低保护层与彩色滤光层之间具有良好的粘附性。该彩膜基板包括衬底基板以及形成在衬底基板表面的彩色滤光层；彩色滤光层背离衬底基板的表面设有保护层，保护层中含有有机材料和无机材料，且沿着远离彩色滤光层背离衬底基板的表面，保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低。所述显示面板包括上述技术方案所提的彩膜基板。本发明提供的彩膜基板用于显示装置中。

Description

一种彩膜基板、显示面板和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、显示面板和显示装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，缩写为TFT-LCD)广泛应用在手机、平板电脑、电视等产品上，如图1所示，薄膜晶体管液晶3显示器主要包括彩膜基板1、阵列基板2以及形成在彩膜基板1和阵列基板2之间的液晶3。

如图1和图2所示，而常见的彩膜基板1包括衬底基板10，以及形成在衬底基板10上的彩色滤光层11，且彩色滤光层11背离衬底基板10的表面还形成有保护层12和配向层4；其中，保护层12和配向层4一般采用有机材料制成，且目前彩色滤光层11中的彩色色阻112在高温条件下分子运动比较剧烈，当彩色色阻112所使用的材料为小分子有机彩色色阻材料时，小分子有机彩色色阻材料容易穿过光刻胶保护层12和配向层4扩散到液晶3中，导致薄膜晶体管液晶3显示器所显示的画面出现亮点、异物不良(图2中白色圆圆所围成的区域)，严重影响了薄膜晶体管液晶3显示器的生产良率及产品信赖性。

为了防止小分子有机彩色色阻材料在高温条件下扩散到液晶3中，人们采用无机材料制作保护层12，以阻隔小分子有机彩色色阻材料从保护层12扩散到液晶3中。但是，由于彩色滤光层11采用有机材料制成，使得彩膜基板1中的保护层12与彩色滤光层11的物理参数匹配性能差异比较大，导致保护层12容易从彩色滤光层11的表面剥离而破裂。

发明内容

本发明的目的在于提供一种彩膜基板、显示面板和显示装置，以在阻止小分子有机彩色色阻材料扩散到液晶的同时，降低保护层与彩色滤光层之间具有良好的粘附性。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种彩膜基板，该彩膜基板包括衬底基板，以及形成在衬底基板表面的彩色滤光层；所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面设有保护层，所述保护层中含有有机材料和无机材料，且沿着远离所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面，所述保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低。

与现有技术相比，本发明提供的彩膜基板中，沿着远离彩色滤光层背离衬底基板的表面，保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低，使得沿着远离彩色滤光层背离衬底基板的表面，保护层中有机材料的含量先逐渐降低，然后逐渐增加。这样一来保护层表面的有机材料含量就比较高，而保护层内部无机材料含量比较高。当本发明提供的彩膜基板受到外力时，保护层表面的有机材料能够缓冲并吸收保护层内部的无机材料所产生的应力，而且，由于保护层表面的材料和彩色滤光层的材料均为有机材料，具有良好的物理参数匹配性，因此，当本发明提供的彩膜基板受到外力时，保护层表面所产生的应力与彩色滤光层所产生的应力比较接近，这使得保护层与彩色滤光层之间的剥离可能性大大降低。不仅如此，当保护层表面的材料和彩色滤光层的材料均为有机材料，其所具有的良好物理参数匹配性能，也能够使得彩膜基板中的保护层和彩色滤光层具有相似的热膨胀系数，这也从另外一方面减小了保护层与彩色滤光层之间的剥离可能性。

另外，本发明提供的彩膜基板中，由于沿着远离彩色滤光层背离衬底基板的表面，保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低，使得保护层表面的有机材料含量就比较高，而保护层内部无机材料含量比较高。如果彩色滤光层中的彩色色阻所使用的材料为小分子有机彩色色阻材料，在彩膜基板处在高温条件时，小分子有机彩色色阻材料虽然能够通过保护层表面的有机材料进入保护层内部，但是由于保护层内部的无机材料含量比较高，因此，这些进入保护层内部的无机材料很难穿过保护层内部的无机材料，到达保护层远离彩色滤光层的表面。因此，本发明提供的彩膜基板中，通过对保护层中有机材料和无机材料的含量调节，还能够保证保护层对小分子有机彩色色阻材料的阻隔能力，从而防止小分子有机彩色色阻材料通过保护层扩散到液晶中。

本发明还提供了一种显示面板，该显示面板包括上述技术方案所述彩膜基板，所述彩膜基板中，所述保护膜背离所述彩色滤光层的表面设有配向膜。

与现有技术相比，本发明提供的显示面板的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板的有益效果相同，在此不做赘述。

本发明还提供了一种显示装置，包括上述技术方案提供的显示面板。

与现有技术相比，本发明提供的显示装置的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板的有益效果相同，在此不做赘述。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为现有技术中薄膜晶体管液晶显示器的主体结构示意图；

图2为现有技术中薄膜晶体管液晶显示器的画面示意图；

图3为本发明实施例提供的第一种彩膜基板应用于显示面板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的第一种彩膜基板中保护层的膜厚与材料含量的曲线图；

图5为本发明实施例提供的第二种彩膜基板应用于显示面板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的第二种彩膜基板中保护层的膜层序号与膜质比的曲线图。

附图标记：

1-彩膜基板， 10-衬底基板；

11-彩色滤光层， 111-黑矩阵；

112-彩色色阻， 12-保护层；

121-第一子保护膜， 122-第二子保护膜；

123-第三子保护膜， 124-第四子保护膜；

125-第五子保护膜， 2-阵列基板；

3-液晶， 30-隔垫物；

4-配向层。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图3和图5，本发明实施例提供的彩膜基板1，包括衬底基板10，以及形成在衬底基板10表面的彩色滤光层11，彩色滤光层11背离衬底基板的表面设有保护层12，保护层12中含有有机材料和无机材料，且沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板的表面，保护层12中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低。

可以理解的是，本发明实施例在没有特殊说明的时候，所指出的含量可以为质量含量，也可以为体积含量，而衬底基板10一般为透光玻璃或柔性基底，当然也可以是其他能过作为基底的基板，彩色滤光层11可包括黑矩阵111以及设在黑矩阵111开口区的彩色色阻112，一般来说黑矩阵111由遮光性有机材料制成，彩色色阻112一般由彩色有机树脂材料制成。

当制作彩膜基板1中的保护层12时，可通过等离子体增强化学气相沉积法(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition，缩写为PECVD)或原子层沉积(Atomic layerdeposition，缩写为ALD)法制作。

具体的，将有机材料和无机材料分别用不同的管道引入成膜设备中，并通过控制二者的流量调节调节保护层12中有机材料和无机材料的含量。

基于上述实施例提供的彩膜基板1中，沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，保护层12中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低，使得沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，保护层12中有机材料的含量先逐渐降低，然后逐渐增加；这样一来保护层12表面的有机材料含量就比较高，而保护层12内部无机材料含量比较高。当上述实施例提供的彩膜基板1受到外力时，保护层12表面的有机材料能够缓冲并吸收保护层12内部的无机材料所产生的应力，而且，由于保护层12表面的材料和彩色滤光层11的材料均为有机材料，且一般来说，不同的有机材料的物理参数都具有较好的匹配性，因此，保护层12表面和彩色滤光层11具有良好的物理参数匹配性，因此，当本发明实施例提供的彩膜基板1受到外力时，保护层12表面所产生的应力与彩色滤光层11所产生的应力比较接近，这使得保护层12与彩色滤光层11之间的剥离可能性大大降低。不仅如此，当保护层12表面的材料和彩色滤光层11的材料均为有机材料，其所具有的良好物理参数匹配性能，也能够使得彩膜基板1中的保护层12和彩色滤光层11具有相似的热膨胀系数，这也从另外一方面减小了保护层12与彩色滤光层11之间的剥离可能性。

与此同时，本发明实施例提供的彩膜基板1中，保护层12背离彩色滤光层11的表面如果形成有有机材料层时，由于保护层12的表面材料与有机材料层的材料均为有机材料，使得保护层12的表面与有机材料层具有良好的物理参数匹配性能，从而减小了保护层12与彩色滤光层11之间的剥离可能性，此处的剥离可能性可以为热膨胀系数引起的剥离可能性，也可以是应力引起的剥离可能性。

例如：如图1、图3和图5所示，当彩膜基板1应用于薄膜晶体管液晶显示器，彩膜基板1的保护层12背离彩色滤光层11的表面会形成有作为配向层4的有机材料层，因此，如图3和图5所示，本发明实施例提供的彩膜基板1应用于薄膜晶体管液晶显示器，其中的彩膜基板1能哦故通过保护层12与配向层4之间的匹配，避免配向膜从彩膜基板1的表面剥离的可能性。

另外，上述实施例提供的彩膜基板1中，保护层12表面的有机材料含量就比较高，而保护层12内部无机材料含量比较高。如果彩色滤光层11中的彩色色阻112所使用的材料为小分子有机彩色色阻材料，在彩膜基板1处在高温条件时，小分子有机彩色色阻材料虽然能够通过保护层12表面的有机材料进入保护层12内部，但是由于保护层12内部的无机材料含量比较高，因此，这些进入保护层12内部的无机材料很难穿过保护层12内部的无机材料，到达保护层12远离彩色滤光层11的表面。因此，本发明提供的彩膜基板1中，通过对保护层12中有机材料和无机材料的含量调节，还能够保证保护层12对小分子有机彩色色阻材料的阻隔能力，从而防止小分子有机彩色色阻材料通过保护层12扩散到液晶3中。

此外，将上述实施例提供的彩膜基板1应用于显示面板中进行120℃老化试验，经检测显示面板所显示的画面没有因为小分子有机彩色色阻材料溶出所导致的亮点发生。

而考虑到目前的触控与显示驱动器集成(Touch and Display DriverIntegration，缩写为TDDI)、单层图案在玻璃上(single layer on cell，缩写为SLOC)工艺需要在制作过程进行高温退火工艺，本发明实施例提供的彩膜基板可针对液晶面板上配触摸传感器的显示面板，以及触控与显示驱动器集成的显示面板，保证在退火工艺中，保护层能够阻隔彩色色阻扩散到液晶中。例如：可将氧化铟锡图形以单层架桥方式做在彩膜玻璃上的oncell触控技术就是一种典型的SLOC工艺，其将氧化铟锡图形制作在彩膜玻璃上后，需要对氧化铟锡图形进行高温退火，这使得彩膜基板处在高温中，有可能出现小分子彩色色阻材料扩散到液晶中，而在本发明实施例提供的彩膜基板上制作氧化铟锡图形后，进行高温退火，则不会出现这种问题。

需要说明的是，上述实施例中所提到的小分子有机彩色色阻材料，其中的小分子是相对保护层12所使用的有机材料的分子尺寸来说的，不存在不清楚的问题。

而考虑到现有技术中，制备红色色阻所使用的红色有机树脂分子比较小，且在高温调剂下，分子运动比较剧烈，因此，本发明实施例提供的彩膜基板1中，保护层12能够针对红色有机树脂分子扩散进行屏蔽，从而保护液晶分子免于红色有机树脂分子的沾染。

可选的，上述实施例中保护层12的厚度可以根据实际情况设定，一般来说，只要能够保证小分子有机彩色色阻材料无法从保护层12透过即可。例如：在彩色滤光层11厚度为1μm-3μm时，保护层12的厚度可以为1μm-10μm，例如：保护层12的厚度为5μm-8μm，保护层12在这个厚度范围内，既能够充分的阻隔小分子有机彩色色阻材料通过保护层12，又不会使得彩膜基板1过厚。

进一步，上述实施例中有机材料和无机材料的选择范围比较广，但都应当保证其为透光绝缘性物质。一般来说，有机材料可选择所形成的膜层偏软的有机材料，如有机聚合物二氧化硅、有机氮氧化硅、有机铝化合物中的一种或多种；有机铝化合物可以为三烷基铝、二烷基氯化铝中的一种或多种。

需要说明的是，上述实施例中保护层12所含的有机材料为多种时，为了防止不同有机材料混合所出现的安全风险，在制作保护层12时，应当保证不同的有机材料通过不同的管道引入成膜设备中。同理，上述实施例中保护层12所含的无机材料为多种时，在制作保护层12时，应当保证不同的无机材料通过不同的管道引入成膜设备中。

进一步，为了保证操作的简便性，上述实施例有机材料为有机聚合物二氧化硅、有机氮氧化硅或有机铝化合物；无机材料为二氧化硅、氮化硅或氧化铝。

而为了使得保护层12中有机材料和无机材料的匹配性能比较好，上述实施例中有机材料为有机聚合物二氧化硅时，无机材料为二氧化硅；上述实施例中有机材料为有机氮氧化硅时，无机材料为氮氧化硅；上述实施例中有机材料为有机铝化合物时，无机材料为氧化铝，这样保护层12中的有机材料和无机材料之间才能相互匹配，尽量减少掺入其他元素带给膜层物理性质的影响。

具体的，如图3-图6所示，上述实施例中，沿着远离彩色滤光层11背离所述衬底基板10的表面，保护层12中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低时，无机材料含量的变化可以是连续过渡式的变化，也可以是分阶段的变化，即先保持一定的含量，然后再变化到另外一个含量。

如图3和图4所示，本发明实施例提供了第一种彩膜基板，该彩膜基板1中的保护层12是一种单层膜，且沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，单层膜中有机材料的含量先逐渐降低，然后逐渐增加，相应的单质模中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低，可见，本发明实施例提供的第一种彩膜基板中保护层12是一种有机-无机-有机渐变的单层膜。对于这种单层膜来说，如图4中的a曲线所示，沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，有机材料的含量先逐渐降低，然后逐渐增加的趋势是连续的，对于图4中的b曲线来说，沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低的趋势是连续的。这种条件下，如果小分子有机彩色色阻材料进入保护层12，其在保护层12向液晶3所在方向扩散的速度逐渐减小，直到在无机材料含量比较大的地方，被无机材料完全阻隔，从而达到阻隔小分子有机彩色色阻材料通过保护层12的目的；而在这个过程中，小分子有机彩色色阻材料在保护层12向液晶3所在方向扩散的速度逐渐减小，使得沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，小分子有机彩色色阻材料均匀的分散在保护层12中，避免小分子有机彩色色阻材料在保护层12中过于聚集，导致的保护层12物理性质向不良的方向发生变化。

另外，当沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，有机材料的含量降低到最低时，有机材料的含量开始逐渐增加，而无机材料的含量则是增加到最高时，无机材料的含量逐渐降低。对于沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，有机材料的含量开始逐渐增加，无机材料的含量逐渐降低这部分保护层12，保护层12中无机材料的含量能够逐渐的降低，避免因为无机材料的含量突然降低过大，所导致的保护层12物理性质突变。

具体的，为了使得小分子有机彩色色阻材料进入保护层12后，能够在扩散到无机材料含量最大的部位前被阻隔，上述单层膜中无机材料的最大质量含量应当尽可能的大。

如图3和图4所示，当保护层12为材料含量渐变的单层膜；单层膜中无机材料的最高含量为100％，单层膜中无机材料的最低含量为0％；单层膜中有机材料的最高含量为100％，单层膜中有机材料的最低含量为0％；此时，无机材料质量含量大于85％的部分的厚度至少为0.5μm。

例如：如图4中的b曲线所示，当单层膜厚度为5μm时，单层膜中无机材料的质量含量大于75％的部分的厚度应当大于1.0μm，在这种厚度下，能够充分阻隔小分子有机彩色色阻材料，但又不会使得保护层12过厚。

需要说明的是，上述实施例中单质膜中有机材料的最高含量和最低含量均可根据实际情况设定，无机材料的最高含量和最低含量也可根据实际情况设定；上述限定仅在于说明，而不用于对本发明保护范围的限定。

如图5和图6所示，本发明实施例还提供了第二种彩膜基板，该彩膜基板1中的保护层12包括多层子保护膜，沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，各层子保护膜中有机材料含量逐渐增加，然后逐渐降低。其中，对于一个子保护膜来说，该子保护膜中有机材料和无机材料的比例恒定。不同的子保护膜中有机材料的含量不同，无机材料的含量不同。在这种条件下，制作保护层12的设备要求不高，在制作一个子保护膜时，只需要提供两根管道引入固定流量比的有机材料和无机材料，而在制作下一个子保护膜时，只需要调整两根管道引入的有机材料和无机材料的流量比即可，而无需控制一个子保护膜中无机材料和有机材料的流量比例，沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面变化。

需要说明的是，为了避免小分子有机彩色色阻材料进入保护层12后发生扩散突然停止，导致保护层12中小分子有机彩色色阻材料聚集的问题，应当保证相邻两层子保护膜中有机材料的含量变化以及无机材料的含量变化处在一个合理的范围内，以使得小分子有机彩色色阻材料在保护层12中的扩散逐渐减缓，直到停止扩散。

例如：相邻两层子保护膜的有机材料的质量含量之差小于等于50％，相邻两层子保护膜的无机材料的质量含量之差小于等于50％。

图5中示出了一种保护层12，该保护层12具有五层子保护膜，分别为第一子保护膜121、第二子保护膜122、第三子保护膜123、第四子保护膜124和第五子保护膜125；第一子保护膜121、第二子保护膜122、第三子保护膜123、第四子保护膜124和第五子保护膜125沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面方向分布。

图6示出了图5中所示出的保护层12的膜层序号与材料质量比的曲线图；其中，a曲线代表子保护膜中有机聚合物二氧化硅所占的质量比，b曲线代表在子保护膜中二氧化硅所占的质量比。

第一子保护膜121中有机聚合物二氧化硅和二氧化硅的质量比为1:0，第二子保护膜122中有机聚合物二氧化硅和二氧化硅的质量比为0.5:0.5，第三子保护膜123中有机聚合物二氧化硅和二氧化硅的质量比为0.1:0.9，第四子保护膜124中有机聚合物二氧化硅和二氧化硅的质量比为0.4:0.6，第五子保护膜125中有机聚合物二氧化硅和二氧化硅的质量比为1:0。

对于第一子保护膜121和第二子保护膜122来说：第二子保护膜122相对于第一子保护膜121中的有机聚合物二氧化硅含量下降了50％，第二子保护膜122相对于第一子保护膜121中的二氧化硅的含量增加了50％。

对于第二子保护膜和第三子保护膜来说：第三子保护膜123相对于第二子保护膜122中的有机聚合物二氧化硅含量下降了40％；第三子保护膜123相对于第二子保护膜122中的二氧化硅的含量增加了40％。

对于第三子保护膜123和第四子保护膜124来说：第四子保护膜124相对于第三子保护膜123中的有机聚合物二氧化硅含量增加了30％；第四子保护膜124相对于第三子保护膜123中的二氧化硅的含量下降了30％。

对于第四字保护膜124和第五子保护膜125来说：第五子保护膜125相对于第四子保护膜124中的有机聚合物二氧化硅含量增加了40％；第五子保护膜125相对于第四子保护膜124中的二氧化硅的含量下降了40％。

需要说明的是，上述实施例中与彩色滤光层11距离最近的子保护膜中，有机材料的含量大于等于0，小于100％，无机材料的含量大于等于0，小于100％；与彩色滤光层11距离最远的子保护膜中，有机材料的含量大于0，小于等于100％，无机材料的含量大于等于0，小于100％。至于有机材料和无机材料的含量取值大小，可根据实际情况决定。

另外，无机材料质量含量大于85％的子保护膜的厚度至少为0.5μm，以保证保护层12对小分子有机彩色色阻材料的扩散阻隔。

需要说明的是，上述实施例提供的彩膜基板中，对于保护层的改进，使得彩膜基板的透光性能有一定的损失，为了减少上述实施例中彩膜基板中保护层对透光性的影响，可在彩膜基板应用于液晶显示面板时，适当减少阵列基板中钝化层或绝缘层的厚度，当然也可以提高背光亮度，来补偿彩膜基板透光性不好所带来的不足。

如图3和图5所示，本发明还实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括上述技术方案提供的彩膜基板1，彩膜基板1中，保护膜背离彩色滤光层11的表面设有配向膜。

与现有技术相比，本发明实施例提供的显示面板的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板1的有益效果相同，在此不做赘述。

其中，如图3和图5所示，本发明实施例提供的显示面板还应当包括与彩膜基板1进行对盒的阵列基板2，以及位于彩膜基板1和阵列基板2之间的液晶3，且为了保证彩膜基板1和阵列基板2之间具有恒定的距离，在液晶3中还分布有隔垫物30，隔垫物30在上述衬底基板10的正投影，位于黑矩阵111在上述衬底基板10的正投影内，以防止隔垫物30影响液晶显示。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述技术方案提供的显示面板。

与现有技术相比，本发明实施例提供的显示装置的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板1的有益效果相同，在此不做赘述。

其中，上述实施例提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (4)

1.一种彩膜基板，包括衬底基板，以及形成在衬底基板表面的彩色滤光层；其特征在于，所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面设有保护层，所述保护层中含有有机材料和无机材料，且沿着远离所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面，所述保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低；

所述有机材料为有机聚合物二氧化硅、有机氮氧化硅、有机铝化合物中的一种或多种；所述无机材料为二氧化硅、氮化硅、氧化铝中的一种或多种；

所述保护层包括多层子保护膜，沿着远离所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面，各层所述子保护膜中有机材料含量逐渐增加，然后逐渐降低；

相邻两层所述子保护膜的有机材料的质量含量之差小于等于50％，相邻两层所述子保护膜的无机材料的质量含量之差小于等于50％；

所述无机材料质量含量大于85％的所述子保护膜的厚度至少为0.5μm。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，与所述彩色滤光层距离最近的所述子保护膜中，有机材料的含量大于等于0，小于100％，无机材料的含量大于等于0，小于100％；

与所述彩色滤光层距离最远的所述子保护膜中，有机材料的含量大于0，小于等于100％，无机材料的含量大于等于0，小于100％。

3.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1～2任一项所述彩膜基板，所述彩膜基板中，所述保护膜背离所述彩色滤光层的表面设有配向膜。

4.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求3所述的显示面板。

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