CN102245618A - 硅化合物的净化 - Google Patents

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103120937A (zh) * 2011-11-18 2013-05-29 中国石油化工股份有限公司 用于对苯二甲酸精制的Pd/C催化剂的制备方法
CN104592291A (zh) * 2013-10-30 2015-05-06 中国科学院上海高等研究院 有机硅化合物中金属杂质的去除方法
CN108250230A (zh) * 2018-02-07 2018-07-06 浙江博瑞电子科技有限公司 一种二异丙胺硅烷的精制方法
CN108929343A (zh) * 2018-06-27 2018-12-04 合盛硅业(泸州)有限公司 一种提纯八甲基环四硅氧烷的方法
CN114258396A (zh) * 2019-08-22 2022-03-29 美国陶氏有机硅公司 用于纯化硅化合物的方法

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009027257A1 (de) 2009-06-26 2010-12-30 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von Organoalkoxyhydrogensilanen
DE102009027730A1 (de) 2009-07-15 2011-01-27 Evonik Degussa Gmbh Verahren und Verwendung von aminofunktionellen Harzen zur Dismutierung von Halogensilanen und zur Entfernung von Fremdmetallen
DE102009056731A1 (de) * 2009-12-04 2011-06-09 Rev Renewable Energy Ventures, Inc. Halogenierte Polysilane und Polygermane
DE102010002342A1 (de) 2010-02-25 2011-08-25 Evonik Degussa GmbH, 45128 Verwendung der spezifischen Widerstandsmessung zur indirekten Bestimmung der Reinheit von Silanen und Germanen und ein entsprechendes Verfahren
DE102011003453A1 (de) 2011-02-01 2012-08-02 Wacker Chemie Ag Verfahren zur destillativen Reinigung von Chlorsilanen
DE102011077455B4 (de) 2011-06-14 2014-02-06 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Bestimmung von Verunreinigungen in Silicium und Reaktor zur Abscheidung von polykristallinem Silicium
DE102012200992A1 (de) 2012-01-24 2013-07-25 Wacker Chemie Ag Dotierstoffarmes polykristallines Siliciumstück
US20150064364A1 (en) 2012-02-16 2015-03-05 Dow Corning Corporation Deposition System And Method Of Forming A Metalloid-Containing Material Therewith
DE102014203810A1 (de) * 2014-03-03 2015-09-03 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung reiner Octachlortrisilane und Decachlortetrasilane
DE102014013250B4 (de) 2014-09-08 2021-11-25 Christian Bauch Verfahren zur Aufreinigung halogenierter Oligosilane
DE102014220539A1 (de) 2014-10-09 2016-04-14 Wacker Chemie Ag Reinigung von Chlorsilanen mittels Destillation und Adsorption
EP3056262B1 (de) * 2015-02-12 2018-05-02 Evonik Degussa GmbH Verfahren zur Gewinnung hochreiner Chlorsilanmischungen
CN112189026B (zh) * 2018-06-19 2022-09-13 日产化学株式会社 除去盐类了的聚硅氧烷的制造方法
CN112313173A (zh) 2018-12-07 2021-02-02 瓦克化学股份公司 用于降低含卤代硅烷组合物中的硼化合物的含量的方法
JP7477620B2 (ja) * 2020-11-05 2024-05-01 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト クロロシラン混合物から不純物を除去する方法
CN112759608B (zh) * 2020-12-31 2023-05-02 有研国晶辉新材料有限公司 一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备及工艺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4224040A (en) * 1977-12-05 1980-09-23 Smiel S.P.A. Process for the purification of chlorosilanes
US20050054211A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-10 Mindi Xu Purification of silicon-containing materials
US20060167296A1 (en) * 2002-08-09 2006-07-27 Nathalie Guennouni Method of preparing halogenoalkyldialkyl chlorosilane

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2877097A (en) * 1958-05-06 1959-03-10 Guenter A Wolff Method of purification of silicon compounds
CA1207127A (en) * 1982-09-29 1986-07-08 Dow Corning Corporation Purification of chlorosilanes
JPH0688772B2 (ja) * 1985-02-27 1994-11-09 昭和電工株式会社 ジクロロシランの精製法
JP2570409B2 (ja) * 1988-12-06 1997-01-08 三菱マテリアル株式会社 クロロポリシランの精製方法
JPH0747594B2 (ja) * 1990-07-20 1995-05-24 大陽酸素株式会社 高純度アルコキシシランの製造方法
US5445742A (en) 1994-05-23 1995-08-29 Dow Corning Corporation Process for purifying halosilanes
EP0702017B1 (de) * 1994-09-14 2001-11-14 Degussa AG Verfahren zur Herstellung von chloridarmen bzw. chloridfreien aminofunktionellen Organosilanen
DE19516386A1 (de) * 1995-05-04 1996-11-07 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur Herstellung von an chlorfunktionellen Organosilanen armen bzw. freien aminofunktionellen Organosilanen
JP3823400B2 (ja) * 1996-05-23 2006-09-20 東亞合成株式会社 高純度アルコキシシランの製造方法
DE19649023A1 (de) * 1996-11-27 1998-05-28 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur Entfernung von Restmengen an acidem Chlor in Carbonoyloxysilanen
DE19746862A1 (de) * 1997-10-23 1999-04-29 Huels Chemische Werke Ag Vorrichtung und Verfahren für Probenahme und IR-spektroskopische Analyse von hochreinen, hygroskopischen Flüssigkeiten
DE19821156B4 (de) 1998-05-12 2006-04-06 Degussa Ag Verfahren zur Minderung von Resthalogengehalten und Farbzahlverbesserung in Alkoxysilanen oder Alkoxysilan-basierenden Zusammensetzungen und die Verwendung von Aktivkohle dazu
EP0999214B1 (de) * 1998-11-06 2004-12-08 Degussa AG Verfahren zur Herstellung von chloridarmen oder chloridfreien Alkoxysilanen
DE19963433A1 (de) * 1999-12-28 2001-07-12 Degussa Verfahren zur Abscheidung von Chlorsilanen aus Gasströmen
JP2002173495A (ja) * 2000-03-28 2002-06-21 Mitsui Chemicals Inc 高純度有機シラン類及びその精製法
DE10057482A1 (de) * 2000-11-20 2002-05-23 Solarworld Ag Verfahren zur Reinigung von Trichlorsilan
DE10330022A1 (de) * 2003-07-03 2005-01-20 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von Iow-k dielektrischen Filmen
DE102004008442A1 (de) * 2004-02-19 2005-09-15 Degussa Ag Siliciumverbindungen für die Erzeugung von SIO2-haltigen Isolierschichten auf Chips
US20070212291A1 (en) * 2004-03-19 2007-09-13 Entegris, Inc. Method And Apparatus For Purifying Inorganic Halides And Oxyhalides Using Zeolites
DE102004037675A1 (de) * 2004-08-04 2006-03-16 Degussa Ag Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wasserstoffverbindungen enthaltendem Siliciumtetrachlorid oder Germaniumtetrachlorid
DE102004045245B4 (de) * 2004-09-17 2007-11-15 Degussa Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen
DE102005041137A1 (de) * 2005-08-30 2007-03-01 Degussa Ag Reaktor, Anlage und großtechnisches Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von hochreinem Siliciumtetrachlorid oder hochreinem Germaniumtetrachlorid
DE102006003464A1 (de) * 2006-01-25 2007-07-26 Degussa Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer Siliciumschicht auf einer Substratoberfläche durch Gasphasenabscheidung
DE102007014107A1 (de) * 2007-03-21 2008-09-25 Evonik Degussa Gmbh Aufarbeitung borhaltiger Chlorsilanströme
DE102007048937A1 (de) * 2007-10-12 2009-04-16 Evonik Degussa Gmbh Entfernung von polaren organischen Verbindungen und Fremdmetallen aus Organosilanen
DE102007050199A1 (de) * 2007-10-20 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen
DE102007050573A1 (de) * 2007-10-23 2009-04-30 Evonik Degussa Gmbh Großgebinde zur Handhabung und für den Transport von hochreinen und ultra hochreinen Chemikalien
DE102007059170A1 (de) * 2007-12-06 2009-06-10 Evonik Degussa Gmbh Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen
DE102008004397A1 (de) * 2008-01-14 2009-07-16 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Verminderung des Gehaltes von Elementen, wie Bor, in Halogensilanen sowie Anlage zur Durchführung des Verfahrens
DE102008004396A1 (de) * 2008-01-14 2009-07-16 Evonik Degussa Gmbh Anlage und Verfahren zur Verminderung des Gehaltes von Elementen, wie Bor, in Halogensilanen
JP5206185B2 (ja) * 2008-07-14 2013-06-12 東亞合成株式会社 高純度クロロポリシランの製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4224040A (en) * 1977-12-05 1980-09-23 Smiel S.P.A. Process for the purification of chlorosilanes
US20060167296A1 (en) * 2002-08-09 2006-07-27 Nathalie Guennouni Method of preparing halogenoalkyldialkyl chlorosilane
US20050054211A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-10 Mindi Xu Purification of silicon-containing materials

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATRICK A TAYLOR: "对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法", 《低温与特气》 *
PATRICK A. TAYLOR: "Purification techniques and analytical methods for gaseous and metallic impurities in high-purity silane", 《JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH》 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103120937A (zh) * 2011-11-18 2013-05-29 中国石油化工股份有限公司 用于对苯二甲酸精制的Pd/C催化剂的制备方法
CN104592291A (zh) * 2013-10-30 2015-05-06 中国科学院上海高等研究院 有机硅化合物中金属杂质的去除方法
CN104592291B (zh) * 2013-10-30 2017-12-29 中国科学院上海高等研究院 有机硅化合物中金属杂质的去除方法
CN108250230A (zh) * 2018-02-07 2018-07-06 浙江博瑞电子科技有限公司 一种二异丙胺硅烷的精制方法
CN108250230B (zh) * 2018-02-07 2020-09-15 浙江博瑞电子科技有限公司 一种二异丙胺硅烷的精制方法
CN108929343A (zh) * 2018-06-27 2018-12-04 合盛硅业(泸州)有限公司 一种提纯八甲基环四硅氧烷的方法
CN114258396A (zh) * 2019-08-22 2022-03-29 美国陶氏有机硅公司 用于纯化硅化合物的方法
CN114258396B (zh) * 2019-08-22 2024-09-20 美国陶氏有机硅公司 用于纯化硅化合物的方法

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US8476468B2 (en) 2013-07-02
EP2358727A1 (de) 2011-08-24

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