CN101464763B - 触摸屏的制备方法 - Google Patents

触摸屏的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101464763B
CN101464763B CN2007101254062A CN200710125406A CN101464763B CN 101464763 B CN101464763 B CN 101464763B CN 2007101254062 A CN2007101254062 A CN 2007101254062A CN 200710125406 A CN200710125406 A CN 200710125406A CN 101464763 B CN101464763 B CN 101464763B
Authority
CN
China
Prior art keywords
carbon nano
screen
touch
flexible substrate
preparation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2007101254062A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101464763A (zh
Inventor
姜开利
刘亮
范守善
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tsinghua University
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Original Assignee
Tsinghua University
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tsinghua University, Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd filed Critical Tsinghua University
Priority to CN2007101254062A priority Critical patent/CN101464763B/zh
Priority to US12/286,175 priority patent/US8585855B2/en
Priority to KR1020080104437A priority patent/KR101210701B1/ko
Priority to JP2008317366A priority patent/JP2009151782A/ja
Publication of CN101464763A publication Critical patent/CN101464763A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101464763B publication Critical patent/CN101464763B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

本发明涉及一种触摸屏的制备方法，其包括以下步骤：提供一柔性基体；制备至少一碳纳米管薄膜；将上述至少一碳纳米管薄膜铺设在上述柔性基体的表面，从而形成至少一覆盖于所述柔性基体表面的碳纳米管层；热压覆盖有碳纳米管层的柔性基体；间隔地形成两个电极于上述热压后的碳纳米管层的两端或所述柔性基体的两端，形成一电极板，作为第一电极板；重复上述步骤，制备另一电极板，作为第二电极板；形成一绝缘层于所述第一电极板或第二电极板形成碳纳米管层的一侧的外围；覆盖另一电极板于所述绝缘层上，且使所述第一电极板中的碳纳米管层和所述第二电极板中的碳纳米管层相对设置，从而形成一触摸屏。

Description

触摸屏的制备方法
技术领域
本发明涉及一种触摸屏的制备方法，尤其涉及一种柔性触摸屏的制备方法。
背景技术
近年来，伴随着移动电话与触摸导航系统等各种电子设备的高性能化和多样化的发展，在液晶等显示元件的前面安装透光性的触摸屏的电子设备逐步增加。这样的电子设备的利用者通过触摸屏，一边对位于触摸屏背面的显示元件的显示内容进行视觉确认，一边利用手指或笔等方式按压触摸屏来进行操作。由此，可以操作电子设备的各种功能。
按照触摸屏的工作原理和传输介质的不同，现有的触摸屏通常分为四种类型，分别为电阻式、电容感应式、红外线式以及表面声波式。其中电阻式触摸屏的应用最为广泛，请参见文献“Production of Transparent ConductiveFilms with Inserted SiO2 Anchor Layer，and Application to a Resistive TouchPanel”Kazuhiro Noda，Kohtaro Tanimura.Electronics and Communications inJapan，Part 2，Vol.84，P39-45(2001)。
现有的电阻式触摸屏一般包括一上基板，该上基板的下表面形成有一上透明导电层；一下基板，该下基板的上表面形成有一下透明导电层；以及多个点状隔离物(Dot Spacer)设置在上透明导电层与下透明导电层之间。其中，该上透明导电层与该下透明导电层通常采用具有导电特性的铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)层(下称ITO层)。当使用手指或笔按压上基板时，上基板发生扭曲，使得按压处的上透明导电层与下透明导电层彼此接触。通过外接的电子电路分别向上透明导电层与下透明导电层依次施加电压，触摸屏控制器通过分别测量第一导电层上的电压变化与第二导电层上的电压变化，并进行精确计算，将它转换成触点坐标。触摸屏控制器将数字化的触点坐标传递给中央处理器。中央处理器根据触点坐标发出相应指令，启动电子设备的各种功能切换，并通过显示器控制器控制显示元件显示。
然而，随着显示技术的日益发展，采用柔性材料制造的柔性显示设备已经被制造和生产，如有机电致发光显示器(OLED)和电子纸(e-paper)。在这些柔性显示设备上设置的触摸屏须为一柔性触摸屏。现有技术中触摸屏的基板为一不可变形的玻璃基板，并且，透明导电层通常采用ITO层。ITO层作为透明导电层具有机械和化学耐用性不好，无法弯折等缺点，因此，上述触摸屏只适合设置于不可变形的传统显示设备上，无法用于柔性显示设备。另外，ITO层目前主要采用溅射或蒸镀等方法制备，在制备的过程中，需要较高的真空环境及加热到200℃～300℃，因此，使得ITO层的制备成本较高。进一步地，采用ITO层作透明导电层存在电阻阻值分布不均匀的现象，导致现有的电阻式触摸屏存在分辨率低、精确度不高等问题。
因此，确有必要提供一种制备制备柔性触摸屏的方法，且该方法具有工艺简单、成本低等优点。
发明内容
一种触摸屏的制备方法，其包括以下步骤：提供一柔性基体；制备至少一碳纳米管薄膜；将上述至少一碳纳米管薄膜铺设在上述柔性基体的表面，从而形成至少一覆盖于所述柔性基体表面的碳纳米管层；热压覆盖有碳纳米管层的柔性基体；间隔地形成两个电极于上述热压后的碳纳米管层的两端或所述柔性基体的两端，形成一电极板，作为第一电极板；重复上述步骤，制备另一电极板，作为第二电极板；形成一绝缘层于所述第一电极板或第二电极板形成碳纳米管层的一侧的外围；覆盖另一电极板于所述绝缘层上，且使所述第一电极板中的碳纳米管层和所述第二电极板中的碳纳米管层相对设置，从而形成一触摸屏。
与现有技术的触摸屏的制备方法相比较，本技术方案提供的触摸屏的制备方法具有以下优点：其一，由于碳纳米管层具有优异的力学特性并且耐弯折，故，采用上述的碳纳米管层作透明导电层，可使得透明导电层具有很好的韧性和机械强度。进一步地，与柔性基体配合，可以制备一柔性触摸屏，从而适合用于柔性显示装置上。其二，由于本实施例所提供的碳纳米管薄膜由一拉伸工具拉取而获得，该方法无需真空环境和加热过程，故采用上述的方法制备的碳纳米管薄膜用作透明导电层及制备的触摸屏，具有成本低、环保及节能的优点。其三，由于本实施例提供的碳纳米管层和柔性基体可通过一热压过程粘结在所述柔性基体上，从而降低了制作成本，简化了制作工艺。进一步地，本实施例的热压过程，温度要求较低，从而对柔性基体材料的温度限制较小。
附图说明
图1是本技术方案实施例的触摸屏的制备方法的流程图。
图2是本技术方案实施例中碳纳米管薄膜的扫描电镜图。
图3是本技术方案实施例热压后的碳纳米管层和柔性基体的照片。
图4是本技术方案实施例的热压过程示意图。
具体实施方式
以下将结合附图详细说明本技术方案的触摸屏的制备方法。
请参阅图1，本技术方案实施例提供一种触摸屏的制备方法，其主要包括以下步骤：
步骤一：提供一柔性基体。
所述柔性基体为柔性平面结构，厚度为0.01毫米～1厘米。该柔性基体由塑料，树脂等柔性材料形成。具体地，所述柔性基体的材料可以为聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯材料，以及聚醚砜(PES)、聚亚酰胺(PI)、纤维素酯、苯并环丁烯(BCB)、聚氯乙烯(PVC)及丙烯酸树脂等材料。可以理解，形成所述柔性基体的材料并不限于上述列举的材料，只要确保所述柔性基体具有一定柔性及较好的透明度即可。
本技术方案实施例中，所述柔性基体为一聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(以下简称PET薄膜)。该PET薄膜的厚度为2毫米，宽度为20厘米，长度为30厘米。
步骤二：制备至少一个碳纳米管薄膜。
其中，所述碳纳米管薄膜的制备方法包括以下步骤：提供一碳纳米管阵列；以及采用一拉伸工具从所述碳纳米管阵列中拉取获得一碳纳米管薄膜。
首先，提供一碳纳米管阵列，优选地，该阵列为超顺排碳纳米管阵列。
本技术方案实施例提供的碳纳米管阵列为单壁碳纳米管阵列、双壁碳纳米管阵列及多壁碳纳米管阵列中的一种或多种。本实施例中，该超顺排碳纳米管阵列的制备方法采用化学气相沉积法，其具体步骤包括：(a)提供一平整基底，该基底可选用P型或N型硅基底，或选用形成有氧化层的硅基底，本实施例优选为采用4英寸的硅基底；(b)在基底表面均匀形成一催化剂层，该催化剂层材料可选用铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)或其任意组合的合金之一；(c)将上述形成有催化剂层的基底在700℃～900℃的空气中退火约30分钟～90分钟；(d)将处理过的基底置于反应炉中，在保护气体环境下加热到500℃～740℃，然后通入碳源气体反应约5～30分钟，生长得到超顺排碳纳米管阵列，其高度为50微米～5毫米。该超顺排碳纳米管阵列为多个彼此平行且垂直于基底生长的碳纳米管形成的纯碳纳米管阵列。通过上述控制生长条件，该超顺排碳纳米管阵列中基本不含有杂质，如无定型碳或残留的催化剂金属颗粒等。该碳纳米管阵列中的碳纳米管彼此通过范德华力紧密接触形成阵列。该碳纳米管阵列与上述基底面积基本相同。
本实施例中碳源气可选用乙炔、乙烯、甲烷等化学性质较活泼的碳氢化合物，本实施例优选的碳源气为乙炔；保护气体为氮气或惰性气体，本实施例优选的保护气体为氩气。
可以理解，本实施例提供的碳纳米管阵列不限于上述制备方法。也可为石墨电极恒流电弧放电沉积法、激光蒸发沉积法等。
其次，采用一拉伸工具从碳纳米管阵列中拉取获得一碳纳米管薄膜。其具体包括以下步骤：(a)从上述碳纳米管阵列中选定一定宽度的多个碳纳米管片断，本实施例优选为采用具有一定宽度的胶带接触碳纳米管阵列以选定一定宽度的多个碳纳米管片断；(b)以一定速度沿基本垂直于碳纳米管阵列生长方向拉伸该多个碳纳米管片断，以形成一连续的碳纳米管薄膜。
在上述拉伸过程中，该多个碳纳米管片段在拉力作用下沿拉伸方向逐渐脱离基底的同时，由于范德华力作用，该选定的多个碳纳米管片断分别与其他碳纳米管片断首尾相连地连续地被拉出，从而形成一碳纳米管薄膜。
请参阅图2，该碳纳米管薄膜为择优取向排列的多个碳纳米管束首尾相连形成的具有一定宽度的碳纳米管薄膜。该碳纳米管薄膜中碳纳米管的排列方向基本平行于碳纳米管薄膜的拉伸方向。优选地，该碳纳米管薄膜中碳纳米管的排列方向均平行于该碳纳米管薄膜的拉伸方向。该直接拉伸获得的择优取向排列的碳纳米管薄膜比无序的碳纳米管薄膜具有更好的均匀性，即具有更均匀的厚度以及更均匀的导电性能。同时该直接拉伸获得碳纳米管薄膜的方法简单快速，适宜进行工业化应用。
本实施例中，所述碳纳米管薄膜的宽度与碳纳米管阵列所生长的基底的尺寸有关，该碳纳米管薄膜的长度不限，可根据实际需求制得。本实施例中采用4英寸的基底生长超顺排碳纳米管阵列，该碳纳米管薄膜的宽度可为0.01厘米～10厘米，该碳纳米管薄膜的厚度为0.5纳米～100微米。该碳纳米管薄膜中的碳纳米管为单壁碳纳米管、双壁碳纳米管及多壁碳纳米管中的一种或多种。该单壁碳纳米管的直径为0.5纳米～50纳米，该双壁碳纳米管的直径为1.0纳米～50纳米，该多壁碳纳米管的直径为1.5纳米～50纳米。
步骤三：将上述至少一碳纳米管薄膜铺设在所述柔性基体的表面，从而形成至少一个覆盖于所述柔性基体的表面上的碳纳米管层。
本技术方案实施例中，所述碳纳米管层用作透明导电层，该碳纳米管层包括多个定向排列的碳纳米管。进一步地，所述碳纳米管层可以是单个碳纳米管薄膜或是多个平行且无间隙铺设的碳纳米管薄膜。由于上述的碳纳米管层中的多个碳纳米管薄膜可以平行且无间隙的铺设，故，上述碳纳米管层的长度和宽度不限，可根据实际需要制成具有任意长度和宽度的碳纳米管层。可以理解，本技术方案所述的碳纳米管层也可为其他结构的碳纳米管层，并不仅限于本实施例所述的结构。本实施例中，所述碳纳米管层包括多个平行且无间隙铺设的碳纳米管薄膜。
可以理解，本实施例中，还可以将至少两个碳纳米管薄膜重叠铺设形成多个碳纳米管层，且该多个碳纳米管层依据碳纳米管的排列方向以一交叉角度α直接重叠铺设，其中，0°≤α≤90°。本实施例中，α优选为90度。
具体地，所述将上述至少一个碳纳米管薄膜铺设在所述柔性基体的表面的步骤为：将至少一个碳纳米管薄膜直接铺设在所述柔性基体的表面或将多个碳纳米管薄膜平行且无间隙地铺设在所述柔性基体的表面，形成一覆盖在所述柔性基体的表面上的碳纳米管层。可以理解，也可将至少两个碳纳米管薄膜重叠铺设在所述柔性基体的表面形成多个碳纳米管层；所述多个碳纳米管层依据碳纳米管的排列方向以一交叉角度α直接重叠铺设，其中，0°≤α≤90°。由于所述碳纳米管薄膜包括多个定向排列的碳纳米管，且该多个碳纳米管沿着拉膜的方向排列，故可以将上述的多个碳纳米管层依据碳纳米管的排列方向以一交叉角度α设置。
另外，所述将上述至少一碳纳米管薄膜铺设在所述柔性基体的表面的步骤还可为：将所述至少一个碳纳米管薄膜直接铺设于一支撑体的表面或将多个碳纳米管薄膜平行且无间隙地铺设于一支撑体的表面；除去所述支撑体，形成一自支撑的碳纳米管薄膜结构；及将该碳纳米管薄膜结构直接覆盖在所述柔性基体的表面，形成一碳纳米管层。可以理解，也可将至少两个碳纳米管薄膜依据碳纳米管的排列方向以一交叉角度α重叠铺设在所述支撑体的表面，从而形成多个自支撑的碳纳米管薄膜结构，其中，0°≤α≤90°。将上述的多个碳纳米管薄膜结构覆盖在所述柔性基体的表面，从而形成多个碳纳米管层。由于所述碳纳米管薄膜包括多个定向排列的碳纳米管，且该多个碳纳米管沿着拉膜的方向排列，故可以将上述的多个碳纳米管层中的碳纳米管以一交叉角度α设置。
上述支撑体可以为一基板，也可选用一框架结构。由于本实施例提供的超顺排碳纳米管阵列中的碳纳米管非常纯净，且由于碳纳米管本身的比表面积非常大，所以该碳纳米管薄膜本身具有较强的粘性，该碳纳米管薄膜可利用其本身的粘性直接粘附于基板或框架。碳纳米管薄膜黏附在基板或框架上，基板或框架以外多余的碳纳米管薄膜部分可以用刀子刮去。去除基板或框架，得到一碳纳米管薄膜结构。本实施例中，该基板或框架的大小可依据实际需求确定。
进一步地，在所述将至少一个碳纳米管薄膜铺设在上述柔性基体的表面之前，或形成至少一覆盖于所述柔性基体的表面的碳纳米管层之后，用有机溶剂处理该碳纳米管薄膜或该碳纳米管层的步骤。该有机溶剂为挥发性有机溶剂，可选用乙醇、甲醇、丙酮、二氯乙烷或氯仿等，本实施例中的有机溶剂采用乙醇。该使用有机溶剂处理的步骤可通过试管将有机溶剂滴落在碳纳米管薄膜或碳纳米管层的表面，并浸润整个碳纳米管薄膜或碳纳米管层。也可将上述形成有碳纳米管层的柔性基体或形成有碳纳米管薄膜结构的支撑体整个浸入盛有有机溶剂的容器中浸润。所述的碳纳米管薄膜、碳纳米管层或碳纳米管薄膜结构经有机溶剂浸润处理后，在挥发性有机溶剂的表面张力的作用下，其中的平行的碳纳米管片断会部分聚集成碳纳米管束。因此，该碳纳米管薄膜、碳纳米管层或碳纳米管薄膜结构表面体积比小，无粘性，且具有良好的机械强度及韧性。
此外，在将至少一个碳纳米管薄膜覆盖在所述柔性基体的表面之前，可涂覆低熔点的材料于所述柔性基体的一表面。该低熔点的材料可起到粘结剂的作用，用于将所述碳纳米管薄膜牢固地粘结在所述柔性基体的一个表面。
进一步地，所述低熔点材料可以为熔点低于所述柔性基体和碳纳米管层的材料，例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等。本实施例中，所述PMMA均匀地涂覆在柔性基体的表面。
具体地，在涂覆低熔点的材料于所述柔性基体的表面之前，还进一步包括一清洗所述柔性基体的步骤。所述清洗方法包括用乙醇、丙酮等有机溶剂清洗所述柔性基体的表面。可以理解，所述对柔性基体的清洗也可采用其它方法和溶剂，只需确保所述柔性基体表面无污染物即可。
步骤四：热压覆盖有碳纳米管层的柔性基体。
请参见图3及图4，所述热压覆盖有碳纳米管层的柔性基体的步骤可通过一热压装置30实现，其具体包括以下步骤：
首先，将至少一个上述覆盖有碳纳米管层的柔性基体22放置于一具有轧辊的热压装置30中。
所述热压装置30包括一施压装置32及一加热装置(图中未显示)。本实施例中，所述热压装置30为热压机或封塑机，所述施压装置32为两个金属轧辊。
其次，加热所述热压装置30中的轧辊。具体地，用热压装置30中的加热装置加热所述轧辊32。本实施例中，加热的温度为110℃～120℃。可以理解，所述加热轧辊32的温度可以根据实际需要进行选择。
再次，将所述覆盖有碳纳米管层的柔性基体通过加热了的轧辊32。
本实施例中，将所述覆盖有碳纳米管层的柔性基体慢慢通过加热了的金属双辊32，速度控制在1毫米/分～10米/分。加热了的轧辊32可以施加一定的压力于所述覆盖有碳纳米管层的柔性基体，并能软化所述碳纳米管层和柔性基体，使得所述碳纳米管层与柔性基体之间的空气被挤压出来，从而使得所述碳纳米管层紧密粘结在所述柔性基体之上。
可以理解，所述通过轧辊32的速度可根据实际需要选择，只需确保所述碳纳米管层能紧密粘结在所述柔性基体的表面即可。在所述柔性基体的表面涂覆一低熔点的材料，并覆盖有碳纳米管层时，本实施例所述的热压过程中的温度需确保所述低熔点材料融化，从而使得经热压过程之后，所述低熔点材料能将所述碳纳米管层和柔性基体粘结在一起。本技术方案实施例中所述的温度并不仅限于上述的温度范围，可以理解，封塑机中的温度根据低熔点材料的不同而不同，只需确保低熔点的材料在热压的过程中融化完全即可。
步骤五：间隔地形成两个电极于上述热压后的碳纳米管层或柔性基体的两端，形成一电极板，作为第一电极板。
所述两个电极的材料为金属、碳纳米管薄膜、导电的银浆层或其他导电材料。本技术方案实施例中，所述两个电极为导电的银浆层。所述两个电极的形成方法为：采用丝网印刷、移印或喷涂等方式分别将银浆涂覆在上述碳纳米管层或柔性基体的两端。然后，放入烘箱中烘烤10-60分钟使银浆固化，烘烤温度为100℃-120℃，即可得到所述两个电极。上述制备方法需确保所述两个电极与所述碳纳米管层电连接。
步骤六：重复上述步骤，制备另一电极板，作为第二电极板。
所述第二电极板包括一第二基体，一第二碳纳米管层及两个第二电极。
步骤七：形成一绝缘层于所述第一电极板或第二电极板形成碳纳米管层的一侧的外围。
所述绝缘层可采用绝缘透明树脂或其他绝缘透明材料制成。所述绝缘层的形成步骤为：涂敷一绝缘粘合剂于所述第一电极板或第二电极板形成碳纳米管层的一侧的外围。该绝缘粘合剂用作绝缘层。
步骤八：覆盖另一电极板于所述绝缘层上，且使所述第一电极板中的碳纳米管层和所述第二电极板中的碳纳米管层相对设置，从而形成一触摸屏。
进一步地，需使所述第一导电层中的两个电极和所述第二导电层中的两个电极交叉设置。
此外，所述制备方法可进一步包括形成多个透明点状隔离物于所述第一电极板和第二电极板之间的步骤。该透明点状隔离物的形成方法为：将包含该多个透明点状隔离物的浆料涂敷在第二电极板或第一电极板上绝缘层之外的区域，烘干后即形成所述透明点状隔离物。所述绝缘层与所述透明点状隔离物均可采用绝缘树脂或其他绝缘材料制成。设置绝缘层与点状隔离物可使得第一电极板与第二电极板电绝缘。可以理解，当触摸屏尺寸较小时，点状隔离物为可选择的结构，只需确保第一电极板与第二电极板电绝缘即可。
另外，该触摸屏的一表面可进一步设置一透明保护膜，该透明保护膜可由氮化硅、氧化硅、苯丙环丁烯(BCB)、聚酯以及丙烯酸树脂等材料形成。该透明保护膜也可采用一层表面硬化处理、光滑防刮的塑料层，如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜，用于保护触摸屏，提高耐用性。该透明保护膜还可用于提供一些其它的附加功能，如可以减少眩光或降低反射。本技术方案实施例中，该透明保护膜采用有粘性的PET膜，该PET膜可直接粘附于触摸屏上表面用作透明保护膜。
此外，为了减小由显示设备产生的电磁干扰，避免从触摸屏发出的信号产生错误，还可在该触摸屏的另一相对的表面上形成一屏蔽层。该屏蔽层可通过粘结剂直接粘结在所述触摸屏的另一相对的表面上。该屏蔽层由铟锡氧化物(ITO)薄膜、锑锡氧化物(ATO)薄膜、镍金薄膜、银薄膜或碳纳米管层等透明导电材料形成。本实施例中，该碳纳米管层的具体结构可与透明导电层相同。该碳纳米管层作为电接地点，起到屏蔽的作用，从而使得触摸屏能在无干扰的环境中工作。可以理解，所述碳纳米管层还可以是其它结构的碳纳米管层。
可以理解，所述触摸屏中的第一电极板和第二电极板中的一个电极板也可通过离子束溅射或蒸镀等工艺制备。
本技术方案实施例提供的触摸屏的制备方法具有以下优点：其一，由于碳纳米管层具有优异的力学特性并且耐弯折，故，采用上述的碳纳米管层作透明导电层，可使得透明导电层具有很好的韧性和机械强度。进一步地，与柔性基体配合，可以制备一柔性触摸屏，从而适合用于柔性显示装置上。其二，由于本实施例所提供的碳纳米管薄膜由一拉伸工具拉取而获得，该方法无需真空环境和加热过程，故采用上述的方法制备的碳纳米管薄膜用作透明导电层及制备的触摸屏，具有成本低、环保及节能的优点。其三，由于本实施例提供的碳纳米管薄膜和柔性基体可通过一热压过程粘结在柔性基体上，从而降低了制作成本，简化了制作工艺。进一步地，本实施例的热压过程，温度要求较低，从而对柔性基体材料的温度限制较小。
另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其他变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (22)

1.一种触摸屏的制备方法，其包括以下步骤：
提供一柔性基体；
制备至少一碳纳米管薄膜；
将上述至少一碳纳米管薄膜铺设在上述柔性基体的表面，从而形成至少一覆盖于所述柔性基体表面的碳纳米管层；
热压覆盖有碳纳米管层的柔性基体；
间隔地形成两个电极于上述热压后的碳纳米管层的两端或所述柔性基体的两端，形成一电极板，作为第一电极板；
重复上述步骤，制备另一电极板，作为第二电极板；
形成一绝缘层于所述第一电极板或第二电极板形成碳纳米管层的一侧的外围；
覆盖另一电极板于所述绝缘层上，且使所述第一电极板中的碳纳米管层和所述第二电极板中的碳纳米管层相对设置，从而形成一触摸屏。
2.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述制备碳纳米管薄膜的方法包括以下步骤：提供一碳纳米管阵列；及采用一拉伸工具从上述碳纳米管阵列中拉取获得一碳纳米管薄膜，该碳纳米管薄膜中的碳纳米管的排列方向平行于拉伸方向。
3.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述将至少一碳纳米管薄膜铺设在所述柔性基体的表面的步骤为：将一个碳纳米管薄膜直接铺设在所述柔性基体的表面或将多个碳纳米管薄膜平行且无间隙地铺设在所述柔性基体的表面，形成一覆盖在所述柔性基体的表面的碳纳米管层，该碳纳米管层中的碳纳米管沿同一方向排列。
4.如权利要求3所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，进一步包括重叠铺设多个碳纳米管薄膜于所述柔性基体的表面形成覆盖在所述柔性基体的表面的多个碳纳米管层的步骤。
5.如权利要求4所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述多个碳纳米管层依据碳纳米管的排列方向以一交叉角度α直接重叠铺设，其中，α大于等于零度且小于等于九十度。
6.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述将至少一碳纳米管薄膜铺设在所述柔性基体的表面的步骤为：将所述一个碳纳米管薄膜直接铺设在一支撑体的表面或将多个碳纳米管薄膜平行且无间隙地铺设于一支撑体的表面；除去所述支撑体，形成一自支撑的碳纳米管薄膜结构；及将该碳纳米管薄膜结构直接覆盖在所述柔性基体的表面。
7.如权利要求6所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，进一步包括重叠铺设多个碳纳米管薄膜于所述支撑体的表面形成多个碳纳米管薄膜结构的步骤。
8.如权利要求7所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述多个碳纳米管薄膜依据碳纳米管的排列方向以一交叉角度α直接重叠铺设，其中，α大于等于零度且小于等于九十度。
9.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，在所述将至少一碳纳米管薄膜铺设在上述柔性基体的表面的步骤之前，进一步包括清洗所述柔性基体及涂覆熔点低于柔性基体及碳纳米管层的熔点的材料于所述柔性基体的表面的步骤。
10.如权利要求9所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述清洗柔性基体的步骤采用乙醇或丙酮。
11.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，在所述将至少一碳纳米管薄膜铺设在上述柔性基体的表面的步骤之前或形成至少一覆盖于所述柔性基体的表面的碳纳米管层之后，进一步包括对碳纳米管薄膜采用有机溶剂处理的步骤。
12.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述热压覆盖有碳纳米管层的柔性基体的过程包括以下步骤：将覆盖有碳纳米管层的柔性基体放置于一包括轧辊的热压装置中；加热上述热压装置中的轧辊；及将上述覆盖有碳纳米管层的柔性基体通过加热了的轧辊。
13.如权利要求12所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述热压装置为热压机或封塑机。
14.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述间隔形成两个电极于所述热压后的碳纳米管层的两端或柔性基体的两端的步骤为：采用丝网印刷、移印或喷涂方式分别将银浆涂覆在上述碳纳米管层的两端或柔性基体的两端。
15.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述覆盖另一电极板于所述绝缘层上的步骤需使所述第一电极板中的两个电极和所述第二电极板中的两个电极交叉设置。
16.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述绝缘层的形成方法为：涂敷一绝缘粘合剂于所述第一电极板或第二电极板形成碳纳米管层的一侧的外围。
17.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，该制备方法进一步包括形成多个透明点状隔离物于所述第一电极板和第二电极板之间的步骤。
18.如权利要求17所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述多个透明点状隔离物的形成方法为：将包含该多个透明点状隔离物的浆料涂敷在第一电极板或第二电极板上绝缘层之外的区域，烘干后即形成所述透明点状隔离物。
19.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述制备方法进一步包括通过直接粘附的方法形成一透明保护膜于所述触摸屏的一表面。
20.如权利要求19所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述透明保护膜的材料为氮化硅、氧化硅、苯丙环丁烯、聚酯或丙烯酸树脂。
21.如权利要求19所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，该制备方法进一步包括形成一屏蔽层于所述触摸屏的另一相对的表面的步骤，该屏蔽层为导电聚合物薄膜或碳纳米管层。
22.如权利要求21所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述屏蔽层通过粘结剂粘结在所述触摸屏的另一相对的表面。
CN2007101254062A 2007-10-23 2007-12-21 触摸屏的制备方法 Active CN101464763B (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2007101254062A CN101464763B (zh) 2007-12-21 2007-12-21 触摸屏的制备方法
US12/286,175 US8585855B2 (en) 2007-12-21 2008-09-29 Method for making touch panel
KR1020080104437A KR101210701B1 (ko) 2007-10-23 2008-10-23 터치패널 및 그 제조방법과, 이 터치패널을 이용한 전자장치
JP2008317366A JP2009151782A (ja) 2007-12-21 2008-12-12 タッチパネルの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2007101254062A CN101464763B (zh) 2007-12-21 2007-12-21 触摸屏的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101464763A CN101464763A (zh) 2009-06-24
CN101464763B true CN101464763B (zh) 2010-09-29

Family

ID=40787186

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007101254062A Active CN101464763B (zh) 2007-10-23 2007-12-21 触摸屏的制备方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8585855B2 (zh)
JP (1) JP2009151782A (zh)
CN (1) CN101464763B (zh)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101239712B (zh) * 2007-02-09 2010-05-26 清华大学 碳纳米管薄膜结构及其制备方法
CN101315974B (zh) * 2007-06-01 2010-05-26 清华大学 锂离子电池负极及其制备方法
CN101462391B (zh) * 2007-12-21 2013-04-24 清华大学 碳纳米管复合材料的制备方法
CN101456277B (zh) * 2007-12-14 2012-10-10 清华大学 碳纳米管复合材料的制备方法
CN101480858B (zh) * 2008-01-11 2014-12-10 清华大学 碳纳米管复合材料及其制备方法
FI127197B (fi) * 2009-09-04 2018-01-31 Canatu Oy Kosketusnäyttö ja menetelmä kosketusnäytön valmistamiseksi
CN102063214B (zh) * 2009-11-18 2017-05-24 北京富纳特创新科技有限公司 触摸屏及显示装置
CN102063213B (zh) * 2009-11-18 2013-04-24 北京富纳特创新科技有限公司 触摸屏及显示装置
JP5377279B2 (ja) * 2009-12-28 2013-12-25 株式会社ジャパンディスプレイ 静電容量型入力装置および入力機能付き電気光学装置
CN102109917B (zh) * 2009-12-28 2013-01-09 北京富纳特创新科技有限公司 触摸屏及其制备方法
CN101880035A (zh) 2010-06-29 2010-11-10 清华大学 碳纳米管结构
CN102073428B (zh) * 2011-01-07 2013-02-13 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 基于碳纳米管薄膜的电容式柔性透明触摸屏
TWI512555B (zh) 2011-06-09 2015-12-11 Shih Hua Technology Ltd 觸摸屏面板及其製備方法
TWI447978B (zh) 2011-06-09 2014-08-01 Shih Hua Technology Ltd 觸摸屏面板的製備方法
TWI457808B (zh) 2011-06-09 2014-10-21 Shih Hua Technology Ltd 觸摸屏
TWI528388B (zh) 2011-06-09 2016-04-01 識驊科技股份有限公司 圖案化導電元件
TWI425562B (zh) 2011-06-09 2014-02-01 Shih Hua Technology Ltd 觸摸屏面板的製備方法
TWI428667B (zh) 2011-06-09 2014-03-01 Shih Hua Technology Ltd 觸摸屏面板的製備方法
WO2014165908A1 (en) * 2013-04-09 2014-10-16 Monash University Method and device for smart sensing
US20140340590A1 (en) * 2013-05-20 2014-11-20 Tianjin Funayuanchuang Technology Co.,Ltd. Touch panel
CN104423743B (zh) * 2013-09-02 2017-12-29 深圳市中深光电有限公司 触摸屏的制备方法
US9507383B2 (en) * 2014-09-30 2016-11-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Computing device bonding assemblies
TWI579060B (zh) * 2014-10-30 2017-04-21 位元奈米科技股份有限公司 用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法及其裝置
CN109428006B (zh) 2017-08-30 2020-01-07 清华大学 有机发光二极管
CN109428009B (zh) 2017-08-30 2020-05-15 清华大学 有机发光二极管的制备方法
CN117098259B (zh) * 2023-10-17 2024-03-19 哈尔滨工业大学（威海） 一种柔性高强防水绝缘加热装置的制造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1481544A (zh) * 2000-10-20 2004-03-10 ���ܿ���ϵͳ���޹�˾ 具有叠层衬底的声触摸传感器
CN1672119A (zh) * 2002-07-23 2005-09-21 3M创新有限公司 面板式电容触摸屏

Family Cites Families (186)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61231626A (ja) 1985-04-05 1986-10-15 Asahi Chem Ind Co Ltd 位置検出用導電性シ−ト
US4659873A (en) 1985-07-19 1987-04-21 Elographics, Inc. Fabric touch sensor and method of manufacture
JPH0350177Y2 (zh) 1985-10-11 1991-10-25
JPS62182916U (zh) 1986-05-08 1987-11-20
JPH0344004Y2 (zh) 1986-05-26 1991-09-17
US4853498A (en) 1988-06-13 1989-08-01 Tektronix, Inc. Position measurement apparatus for capacitive touch panel system
US4933660A (en) 1989-10-27 1990-06-12 Elographics, Inc. Touch sensor with touch pressure capability
EP0435438B1 (en) 1989-12-28 1998-03-04 Gunze Limited Input system including resistance film touch panel
EP0487085A3 (en) * 1990-11-22 1993-07-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Method for fabricating solid electrolytic capacitors using an organic conductive layer
JPH0628090Y2 (ja) 1992-06-03 1994-08-03 健一 古谷 使用済注射針の処理装置における電極構造
US5861583A (en) 1992-06-08 1999-01-19 Synaptics, Incorporated Object position detector
JPH06339252A (ja) 1993-05-27 1994-12-06 Mabuchi Motor Co Ltd 小型直流モータの回転検出装置
TW242732B (en) 1993-06-29 1995-03-11 Victor Company Of Japan Digital chrominance signal processing circuit
JPH08222893A (ja) 1995-02-17 1996-08-30 Japan Tobacco Inc ワーク実装機の吸着ノズル
US6373472B1 (en) 1995-10-13 2002-04-16 Silviu Palalau Driver control interface system
US5853877A (en) 1996-05-31 1998-12-29 Hyperion Catalysis International, Inc. Method for disentangling hollow carbon microfibers, electrically conductive transparent carbon microfibers aggregation film amd coating for forming such film
TW341684B (en) 1996-07-15 1998-10-01 Synaptics Inc Object position detector
JP3861333B2 (ja) 1996-08-27 2006-12-20 松下電器産業株式会社 座標位置入力装置
US7663607B2 (en) 2004-05-06 2010-02-16 Apple Inc. Multipoint touchscreen
US6629833B1 (en) 1998-05-15 2003-10-07 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Transparent conductive film and touch panel
US5931764A (en) 1998-06-24 1999-08-03 Viztec, Inc. Wearable device with flexible display
TW523627B (en) * 1998-07-14 2003-03-11 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
US6664950B1 (en) 1999-11-17 2003-12-16 L-3 Communications Resistive touch panel using removable, tensioned top layer
JP2001222378A (ja) 2000-02-10 2001-08-17 Nec Saitama Ltd タッチパネル入力装置
JP2001267782A (ja) 2000-03-21 2001-09-28 Shimadzu Corp 電磁波吸収遮蔽材料
TW521227B (en) 2000-03-31 2003-02-21 Sharp Kk Electrode substrate, method for producing the same and display device including the same
KR100698898B1 (ko) 2000-08-03 2007-03-22 한국터치스크린(주) 터치판넬
US6423583B1 (en) 2001-01-03 2002-07-23 International Business Machines Corporation Methodology for electrically induced selective breakdown of nanotubes
TW521259B (en) 2001-01-11 2003-02-21 Atouch Co Ltd Flat panel display with input device
JP2002278701A (ja) 2001-03-21 2002-09-27 Nissha Printing Co Ltd タッチパネル
EP1392500A1 (en) 2001-03-26 2004-03-03 Eikos, Inc. Coatings containing carbon nanotubes
TW508652B (en) 2001-10-03 2002-11-01 Taiwan Semiconductor Mfg Device and method for wafer drying
JP3798287B2 (ja) 2001-10-10 2006-07-19 Ｓｍｋ株式会社 タッチパネル入力装置
KR20030055856A (ko) 2001-12-27 2003-07-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 필름 타입 터치패널 일체형 액정표시장치의 제조방법
KR100840670B1 (ko) 2001-12-27 2008-06-24 엘지디스플레이 주식회사 터치패널 일체형 액정표시패널
KR100796489B1 (ko) 2001-12-28 2008-01-21 엘지.필립스 엘시디 주식회사 터치패널장치 및 그의 제조방법
JP4051988B2 (ja) 2002-04-09 2008-02-27 富士ゼロックス株式会社 光電変換素子および光電変換装置
CN2539375Y (zh) 2002-04-15 2003-03-05 湖南三才光电信息材料有限公司 一种高稳定的柔性透明导电复合膜
US6988925B2 (en) 2002-05-21 2006-01-24 Eikos, Inc. Method for patterning carbon nanotube coating and carbon nanotube wiring
CN100483189C (zh) 2002-08-20 2009-04-29 三星电子株式会社 液晶显示设备
CN1281982C (zh) 2002-09-10 2006-10-25 清华大学 一种偏光元件及其制造方法
CN100411979C (zh) 2002-09-16 2008-08-20 清华大学 一种碳纳米管绳及其制造方法
KR100459230B1 (ko) 2002-11-14 2004-12-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 표시장치용 터치 패널
KR100451773B1 (ko) 2002-11-20 2004-10-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 디지털 저항막 방식의 터치 패널
JP2004189573A (ja) 2002-12-13 2004-07-08 Jfe Engineering Kk カーボンナノチューブ集合体およびこれを設置したカーボンナノチューブ設置装置
CN1286715C (zh) 2002-12-21 2006-11-29 清华大学 一种碳纳米管阵列结构及其生长方法
KR100685954B1 (ko) 2002-12-24 2007-02-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 터치 패널
CN1321885C (zh) 2003-01-23 2007-06-20 南昌大学 在软基底上制造定向碳纳米管膜方法
JP2007112133A (ja) 2003-01-30 2007-05-10 Takiron Co Ltd 導電性成形体
JP2004230690A (ja) 2003-01-30 2004-08-19 Takiron Co Ltd 制電性透明樹脂板
JP4471346B2 (ja) 2003-01-31 2010-06-02 タキロン株式会社 電磁波シールド体
JP4572543B2 (ja) 2003-02-14 2010-11-04 東レ株式会社 電界効果型トランジスタ並びにそれを用いた液晶表示装置
KR100509763B1 (ko) 2003-03-11 2005-08-25 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터
CN1186745C (zh) 2003-03-18 2005-01-26 中国电子科技集团公司第五十五研究所 高可靠的触摸屏及其制作工艺
US7150865B2 (en) 2003-03-31 2006-12-19 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Method for selective enrichment of carbon nanotubes
JP4586334B2 (ja) 2003-05-07 2010-11-24 ソニー株式会社 電界効果型トランジスタ及びその製造方法
CN2638143Y (zh) 2003-05-24 2004-09-01 江阴市华丽计算机网络工程有限公司 多功能pda
GB0313808D0 (en) 2003-06-14 2003-07-23 Binstead Ronald P Improvements in touch technology
JP2005037851A (ja) 2003-06-24 2005-02-10 Seiko Epson Corp 電気泳動分散液、電気泳動表示装置、電気泳動表示装置の製造方法および電子機器
CN1315362C (zh) 2003-06-27 2007-05-09 中国科学院上海硅酸盐研究所 具有微波吸收功能的碳纳米管/陶瓷复合材料及制备方法
JP4325479B2 (ja) 2003-07-17 2009-09-02 セイコーエプソン株式会社 有機トランジスタの製造方法、アクティブマトリクス装置の製造方法、表示装置の製造方法および電子機器の製造方法
TWI249134B (en) 2003-07-23 2006-02-11 Wintek Corp Touch panel structure
US7572426B2 (en) * 2003-07-29 2009-08-11 William Marsh Rice University Selective functionalization of carbon nanotubes
JP2005056604A (ja) 2003-08-06 2005-03-03 Hitachi Displays Ltd 自発光型平面表示装置
JP4415653B2 (ja) 2003-11-19 2010-02-17 セイコーエプソン株式会社 薄膜トランジスタの製造方法
JP4804711B2 (ja) 2003-11-21 2011-11-02 株式会社 日立ディスプレイズ 画像表示装置
JP4038685B2 (ja) 2003-12-08 2008-01-30 独立行政法人科学技術振興機構 アクチュエータ素子
US7473411B2 (en) * 2003-12-12 2009-01-06 Rensselaer Polytechnic Institute Carbon nanotube foam and method of making and using thereof
US20050209392A1 (en) * 2003-12-17 2005-09-22 Jiazhong Luo Polymer binders for flexible and transparent conductive coatings containing carbon nanotubes
JP2005182339A (ja) 2003-12-18 2005-07-07 Kawaguchiko Seimitsu Co Ltd タッチパネル及びそれを備えた画面入力型表示装置
JP4336592B2 (ja) 2004-02-04 2009-09-30 シチズンホールディングス株式会社 位置入力装置
JP2005286158A (ja) 2004-03-30 2005-10-13 Seiko Epson Corp パターン形成方法、電子デバイス及びその製造方法並びに電子機器
EP1777195B1 (en) 2004-04-19 2019-09-25 Taiyo Nippon Sanso Corporation Carbon-based fine structure group, aggregate of carbon based fine structures, use thereof and method for preparation thereof
US7956287B2 (en) 2004-04-20 2011-06-07 Takiron Co., Ltd. Transparent conductive formed article for a touch panel and touch panel
CN1690915A (zh) 2004-04-28 2005-11-02 秦建忠 双屏笔记本电脑
TWI261716B (en) 2004-05-13 2006-09-11 Quanta Display Inc Liquid crystal display apparatus and fabrication thereof
CN1953935B (zh) 2004-05-14 2010-05-05 索尼德国有限责任公司 包括碳纳米管和金属碳酸盐的复合材料
CN2706973Y (zh) 2004-06-30 2005-06-29 陈凯 掐指式手套手机
CN1998067B (zh) 2004-07-06 2010-07-14 毫微-专卖股份有限公司 在场致发射应用中对碳纳米管的激活
ES2555309T3 (es) 2004-07-06 2015-12-30 Maricare Oy Producto sensor para la detección de campo eléctrico
US7194912B2 (en) 2004-07-13 2007-03-27 United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Carbon nanotube-based sensor and method for continually sensing changes in a structure
US7129097B2 (en) * 2004-07-29 2006-10-31 International Business Machines Corporation Integrated circuit chip utilizing oriented carbon nanotube conductive layers
JP4539241B2 (ja) 2004-09-02 2010-09-08 パナソニック株式会社 タッチパネル及びその製造方法
TWI249708B (en) 2004-09-09 2006-02-21 Ind Tech Res Inst Analog resistive touch panel without bias
US7345296B2 (en) 2004-09-16 2008-03-18 Atomate Corporation Nanotube transistor and rectifying devices
JP4617479B2 (ja) 2004-09-17 2011-01-26 独立行政法人産業技術総合研究所 透明導電性カーボンナノチューブフィルムを用いたタッチパネル
JP4639714B2 (ja) 2004-09-17 2011-02-23 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置及びこの液晶表示装置を備えた携帯情報端末
US7573547B2 (en) 2004-09-27 2009-08-11 Idc, Llc System and method for protecting micro-structure of display array using spacers in gap within display device
JP2006171336A (ja) 2004-12-15 2006-06-29 Takiron Co Ltd 画像表示用透明電極体および画像表示装置
TWI339290B (en) 2004-12-31 2011-03-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Liquid crystal display device
US8223444B2 (en) 2005-01-07 2012-07-17 Olympus Corporation Medium exhibiting negative refraction, optical element, and optical system
US20060262055A1 (en) 2005-01-26 2006-11-23 Toshiba Matsushita Display Technology Plane display device
TWI258708B (en) 2005-01-27 2006-07-21 Apex Material Technology Corp Resistive touch panel, and it manufacturing method
JP5028744B2 (ja) 2005-02-15 2012-09-19 富士通株式会社 カーボンナノチューブの形成方法および電子デバイスの製造方法
TWI267014B (en) 2005-02-21 2006-11-21 Au Optronics Corp Organic light emitting diode display
US20060188721A1 (en) 2005-02-22 2006-08-24 Eastman Kodak Company Adhesive transfer method of carbon nanotube layer
JP4679182B2 (ja) 2005-03-04 2011-04-27 株式会社シーズ・ラボ 地図表示方法、地図表示プログラムおよび地図表示装置
US20060213251A1 (en) 2005-03-24 2006-09-28 University Of Florida Research Foundation, Inc. Carbon nanotube films for hydrogen sensing
JP2006269311A (ja) 2005-03-25 2006-10-05 Toray Ind Inc 金属を担持した担体と炭素含有化合物を接触させて得たカーボンナノチューブを含む透明導電性フィルム
TWI253846B (en) 2005-03-28 2006-04-21 Ind Tech Res Inst Photo-sensing display unit
JP2006285068A (ja) 2005-04-04 2006-10-19 Nikkiso Co Ltd 導電性偏光フィルム
KR100770258B1 (ko) 2005-04-22 2007-10-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 박막트랜지스터 및 그의 제조 방법
JP2006310154A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Bussan Nanotech Research Institute Inc 透明導電膜および透明導電膜用コーティング組成物
JP5288441B2 (ja) 2005-05-10 2013-09-11 住友精密工業株式会社 高熱伝導複合材料とその製造方法
DE102006023993A1 (de) 2005-05-23 2007-03-08 Wang, Ran-Hong, Tustin Polarisationssteuerung für Flüssigkristallanzeigen
US7633583B2 (en) 2005-05-23 2009-12-15 Ran-Hong Raymond Wang Controlling polarization for liquid crystal displays
KR101192391B1 (ko) 2005-05-26 2012-10-17 군제 가부시키가이샤 투명 평면체 및 투명 터치스위치
US7645497B2 (en) 2005-06-02 2010-01-12 Eastman Kodak Company Multi-layer conductor with carbon nanotubes
US7593004B2 (en) * 2005-06-02 2009-09-22 Eastman Kodak Company Touchscreen with conductive layer comprising carbon nanotubes
US7535462B2 (en) 2005-06-02 2009-05-19 Eastman Kodak Company Touchscreen with one carbon nanotube conductive layer
US8545790B2 (en) * 2005-06-04 2013-10-01 Gregory Konesky Cross-linked carbon nanotubes
JPWO2006132254A1 (ja) 2005-06-07 2009-01-08 株式会社クラレ カーボンナノチューブ分散液およびこれを用いた透明導電膜
JP2008210528A (ja) 2005-06-16 2008-09-11 Nissha Printing Co Ltd 照光スイッチ付き筺体とその製造方法
US20060292360A1 (en) * 2005-06-28 2006-12-28 Xerox Corporation Fuser and fixing members and process for making the same
JP2007018226A (ja) 2005-07-07 2007-01-25 Three M Innovative Properties Co タッチパネルセンサー
WO2007012899A1 (en) 2005-07-25 2007-02-01 Plastic Logic Limited Flexible touch screen display
CN1903793A (zh) 2005-07-26 2007-01-31 中国科学院物理研究所 一种碳硅复合材料及其制备方法和用途
CA2618794A1 (en) 2005-08-12 2007-02-22 Cambrios Technologies Corporation Nanowires-based transparent conductors
CN100336192C (zh) 2005-08-18 2007-09-05 上海交通大学 纳米材料键合在金属电极上的方法
JP2007123870A (ja) 2005-09-29 2007-05-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平板表示装置およびその製造方法
CN100543905C (zh) 2005-09-30 2009-09-23 北京富纳特创新科技有限公司 一种场发射装置及其制备方法
US7995777B2 (en) 2005-10-03 2011-08-09 Xun Yu Thin film transparent acoustic transducer
US20070085838A1 (en) 2005-10-17 2007-04-19 Ricks Theodore K Method for making a display with integrated touchscreen
CN100412654C (zh) 2005-10-27 2008-08-20 清华大学 液晶显示装置及其制造方法
TWI297088B (en) 2005-10-28 2008-05-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Liquid crystal display and its manufacturing method
CN100427388C (zh) 2005-11-25 2008-10-22 清华大学 一种大面积的超薄碳纳米管膜及其制备工艺
CN101317205B (zh) 2005-11-29 2010-11-03 精工电子有限公司 显示装置的制造方法以及粘合方法
JP4908136B2 (ja) 2005-12-06 2012-04-04 三菱レイヨン株式会社 カーボンナノチューブ含有組成物、複合体、およびそれらの製造方法
TW200722559A (en) 2005-12-06 2007-06-16 Ind Tech Res Inst Metal nanodot arrays and fabrication methods thereof
US8329065B2 (en) 2005-12-06 2012-12-11 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Carbon nanotube-containing composition, composite, and methods for producing them
CN2844974Y (zh) 2005-12-08 2006-12-06 比亚迪股份有限公司 触摸型液晶显示器
CN100462301C (zh) 2005-12-09 2009-02-18 清华大学 一种碳纳米管阵列的制备方法
CN100500556C (zh) 2005-12-16 2009-06-17 清华大学 碳纳米管丝及其制作方法
US8264137B2 (en) 2006-01-03 2012-09-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Curing binder material for carbon nanotube electron emission cathodes
TW200727163A (en) 2006-01-06 2007-07-16 Pan Jit Internat Inc Antibacterial touch display device
JP5050352B2 (ja) 2006-01-10 2012-10-17 Ｎｏｋ株式会社 炭素材料薄膜の後処理方法
US8421755B2 (en) 2006-01-17 2013-04-16 World Properties, Inc. Capacitive touch sensor with integral EL backlight
JP4779681B2 (ja) 2006-02-07 2011-09-28 パナソニック株式会社 タッチパネル
KR20070081902A (ko) 2006-02-14 2007-08-20 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
JP2007229989A (ja) 2006-02-28 2007-09-13 Takiron Co Ltd 導電性成形体及びその製造方法
WO2007099975A1 (ja) 2006-02-28 2007-09-07 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha カーボンナノチューブ集合体、カーボンナノチューブ繊維及びカーボンナノチューブ繊維の製造方法
TWM306694U (en) 2006-03-15 2007-02-21 Ushine Photonics Corp Durable resistive touch screen
TWI308290B (en) 2006-03-17 2009-04-01 Innolux Display Corp Touch panel
TWI331374B (en) 2006-03-23 2010-10-01 Unimicron Technology Corp Carbon nanotube field emitting display
JP4799237B2 (ja) 2006-03-27 2011-10-26 三洋電機株式会社 変位検出センサ、変位検出装置及び端末装置
WO2007114645A1 (en) 2006-04-04 2007-10-11 Topnanosis, Inc. Conductive composite material and method for manufacturing the same
JP2007310869A (ja) 2006-04-17 2007-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 入力装置の制御方法およびこれに用いる入力装置
CN101059738A (zh) 2006-04-20 2007-10-24 铼宝科技股份有限公司 向上发光型有机发光二极管的透明触摸屏幕
TW200805128A (en) 2006-05-05 2008-01-16 Harald Philipp Touch screen element
KR20070113763A (ko) 2006-05-26 2007-11-29 삼성전자주식회사 탄소나노튜브 패턴 형성방법 및 그에 의해 수득된탄소나노튜브 패턴
CN101086939B (zh) * 2006-06-09 2010-05-12 清华大学 场发射元件及其制备方法
US7796123B1 (en) 2006-06-20 2010-09-14 Eastman Kodak Company Touchscreen with carbon nanotube conductive layers
US7630041B2 (en) 2006-06-23 2009-12-08 Tsinghua University Liquid crystal cell assembly for liquid crystal display
US20080048996A1 (en) 2006-08-11 2008-02-28 Unidym, Inc. Touch screen devices employing nanostructure networks
KR20060129977A (ko) 2006-09-08 2006-12-18 아이티엠 주식회사 고 내구성을 갖는 저항막 방식 터치스크린 패널 및 그제조방법
KR100790216B1 (ko) 2006-10-17 2008-01-02 삼성전자주식회사 전도성 분산제를 이용한 ｃｎｔ 투명전극 및 그의 제조방법
CN100450922C (zh) 2006-11-10 2009-01-14 清华大学 一种超长定向的碳纳米管丝/薄膜及其制备方法
CN101192494B (zh) * 2006-11-24 2010-09-29 清华大学 电子发射元件的制备方法
JP4350740B2 (ja) 2006-12-05 2009-10-21 レノボ・シンガポール・プライベート・リミテッド 携帯式電子機器、画面の表示方向の変更方法、プログラムおよび記憶媒体
CN100405617C (zh) 2006-12-29 2008-07-23 清华大学 基于碳纳米管薄膜的太阳能电池及其制备方法
US20080192014A1 (en) 2007-02-08 2008-08-14 Tyco Electronics Corporation Touch screen using carbon nanotube electrodes
CN101239712B (zh) * 2007-02-09 2010-05-26 清华大学 碳纳米管薄膜结构及其制备方法
WO2008127780A2 (en) 2007-02-21 2008-10-23 Nantero, Inc. Symmetric touch screen system with carbon nanotube-based transparent conductive electrode pairs
CN101276012B (zh) 2007-03-30 2016-04-27 清华大学 偏光元件及其制备方法
CN101280161B (zh) 2007-04-06 2013-01-09 清华大学 导电胶带及其制造方法
US20080266273A1 (en) 2007-04-24 2008-10-30 White Electronic Designs Corp. Interactive display system
KR20090023803A (ko) 2007-09-03 2009-03-06 삼성전자주식회사 액정 표시 패널 및 이의 제조 방법
CN101458594B (zh) 2007-12-12 2012-07-18 清华大学 触摸屏及显示装置
CN101458593B (zh) 2007-12-12 2012-03-14 清华大学 触摸屏及显示装置
CN101419518B (zh) 2007-10-23 2012-06-20 清华大学 触摸屏
CN101458597B (zh) 2007-12-14 2011-06-08 清华大学 触摸屏、触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置
CN101419519B (zh) 2007-10-23 2012-06-20 清华大学 触摸屏
CN101458606B (zh) 2007-12-12 2012-06-20 清华大学 触摸屏、触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置
CN101620454A (zh) 2008-07-04 2010-01-06 清华大学 便携式电脑
TWI351119B (en) 2007-12-14 2011-10-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Touch panel and displaying device using the same
TWI357167B (en) 2007-12-21 2012-01-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Touch panel, method for making the same, and displ
CN101470565B (zh) 2007-12-27 2011-08-24 清华大学 触摸屏及显示装置
TWI364860B (en) 2007-12-21 2012-05-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Touch panel, method for making the same, and displaying device adopting the same
JP2008102968A (ja) 2007-12-28 2008-05-01 Fujitsu Component Ltd タッチパネル
TWI354921B (en) 2007-12-31 2011-12-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Touch panel and displaying device using the same
CN101582448B (zh) 2008-05-14 2012-09-19 清华大学 薄膜晶体管
US8132468B2 (en) 2008-05-29 2012-03-13 Zoran Radivojevic Flexural deformation sensing device and a user interface using the same
US8237677B2 (en) 2008-07-04 2012-08-07 Tsinghua University Liquid crystal display screen
US8390580B2 (en) 2008-07-09 2013-03-05 Tsinghua University Touch panel, liquid crystal display screen using the same, and methods for making the touch panel and the liquid crystal display screen
TWI373727B (en) 2008-07-25 2012-10-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Portable computer
CN101989136B (zh) 2009-08-07 2012-12-19 清华大学 触摸屏及显示装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1481544A (zh) * 2000-10-20 2004-03-10 ���ܿ���ϵͳ���޹�˾ 具有叠层衬底的声触摸传感器
CN1672119A (zh) * 2002-07-23 2005-09-21 3M创新有限公司 面板式电容触摸屏

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Kazuhiro Noda, Kohtaro Tanimura.Production of Transparent Conductive Films withInsertedSiO2 Anchor Layer, and Application to a ResistiveTouchPanel.Electronic and Communications in Japan, Part 284 7.2001,84(7),39-44.
Kazuhiro Noda, Kohtaro Tanimura.Production of Transparent Conductive Films withInsertedSiO2 Anchor Layer, and Application to a ResistiveTouchPanel.Electronic and Communications in Japan, Part 284 7.2001,84(7),39-44. *
盛雷梅等.碳纳米管冷阴极超高真空鞍场规的电场模拟与实验研究.真空42 4.2005,42(4),29-31.
盛雷梅等.碳纳米管冷阴极超高真空鞍场规的电场模拟与实验研究.真空42 4.2005,42(4),29-31. *

Also Published As

Publication number Publication date
US20090159188A1 (en) 2009-06-25
CN101464763A (zh) 2009-06-24
JP2009151782A (ja) 2009-07-09
US8585855B2 (en) 2013-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101464763B (zh) 触摸屏的制备方法
CN101464759B (zh) 触摸屏的制备方法
CN101419518B (zh) 触摸屏
CN101470566B (zh) 触摸式控制装置
CN101458600B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101458607B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101470565B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101458593B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101458608B (zh) 触摸屏的制备方法
CN101458603B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101458602B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101458594A (zh) 触摸屏及显示装置
CN101458595B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101458609B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101458596A (zh) 触摸屏及显示装置
CN101620492B (zh) 触摸屏的制备方法
CN101625468A (zh) 触摸式液晶屏的制备方法
CN101458604B (zh) 触摸屏及显示装置
CN102819341B (zh) 触摸屏面板的制备方法
CN101464766B (zh) 触摸屏及显示装置
CN101620491B (zh) 触摸屏
CN101620348B (zh) 触摸式液晶显示屏的制备方法
TWI411944B (zh) 觸摸屏的製備方法
CN102819336A (zh) 触摸屏面板
CN102645989A (zh) 触摸屏面板的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant