TWI411944B - 觸摸屏的製備方法 - Google Patents

Description

觸摸屏的製備方法

本發明涉及一種觸摸屏及使用該觸摸屏的顯示裝置，尤其涉及一種基於奈米碳管的觸摸屏及使用該觸摸屏的顯示裝置。

近年來，伴隨著移動電話與觸摸導航系統等各種電子設備的高性能化和多樣化的發展，在液晶等顯示元件的前面安裝透光性的觸摸屏的電子設備逐步增加。這樣的電子設備的利用者通過觸摸屏，一邊對位於觸摸屏背面的顯示元件的顯示內容進行視覺確認，一邊利用手指或筆等方式按壓觸摸屏來進行操作。由此，可以操作電子設備的各種功能。

按照觸摸屏的工作原理和傳輸介質的不同，先前的觸摸屏通常分為四種類型，分別為電阻式、電容感應式、紅外線式以及表面聲波式。其中電阻式觸摸屏的應用最為廣泛，請參見文獻“Production of Transparent Conductive Films with Inserted SiO₂ Anchor Layer,and Application to a Resistive Touch Panel”Kazuhiro Noda,Kohtaro Tanimura.Electronics and Communications in Japan,Part 2,Vol.84,P39-45(2001)。

先前的電阻式觸摸屏一般包括一上基板，該上基板的下表面形成有一上透明導電層；一下基板，該下基板的上表面形成有一下透明導電層；以及多個點狀隔離物(Dot Spacer)設置在上透明導電層與下透明導電層之間。其中，該上透明導電層與該下透明導電層通常採用具有導電特性的銦錫氧化物(Indium Tin Oxide,ITO)層(下稱ITO層)。當使用手指或筆按壓上基板時，上基板發生扭曲，使得按壓處的上透明導電層與下透明導電層彼此接觸。通過外接的電子電路分別向上透明導電層與下透明導電層依次施加電壓，觸摸屏控制器通過分別測量第一導電層上的電壓變化與第二導電層上的電壓變化，並進行精確計算，將它轉換成觸點坐標。觸摸屏控制器將數字化的觸點坐標傳遞給中央處理器。中央處理器根據觸點坐標發出相應指令，啟動電子設備的各種功能切換，並通過顯示器控制器控制顯示元件顯示。

然而，隨著顯示技術的日益發展，採用柔性材料製造的柔性顯示設備已經被製造和生產，如有機電致發光顯示器(OLED)和電子紙(e-paper)。在這些柔性顯示設備上設置的觸摸屏須為一柔性觸摸屏。先前技術中觸摸屏的基板為一不可變形的玻璃基板，並且，透明導電層通常採用ITO層。ITO層作為透明導電層具有機械和化學耐用性不好，無法彎折等缺點，因此，上述觸摸屏只適合設置於不可變形的傳統顯示設備上，無法用於柔性顯示設備。另外，ITO層目前主要採用濺射或蒸鍍等方法製備，在製備的過程中，需要較高的真空環境及加熱到200℃~300℃，因此，使得ITO層的製備成本較高。進一步地，採用ITO層作透明導電層存在電阻阻值分佈不均勻的現象，導致先前技術中的電阻式觸摸屏存在分辨率低、精 確度不高等問題。

有鑒於此，確有必要提供一種製備柔性觸摸屏的方法，且該方法具有工藝簡單、成本低等優點。

一種觸摸屏的製備方法，其包括以下步驟：提供一柔性基體；製備至少一奈米碳管薄膜，該奈米碳管薄膜由複數個奈米碳管組成；將上述至少一奈米碳管薄膜鋪設在所述柔性基體的表面，從而形成至少一覆蓋在所述柔性基體表面上的奈米碳管層；熱壓覆蓋有奈米碳管層的柔性基體；以及間隔地形成至少兩個電極於上述熱壓後的奈米碳管層的兩端或所述柔性基體的兩端，形成一電極板，作為第一電極板；重複上述步驟，製備另一電極板，作為第二電極板；形成一絕緣層於所述第一電極板或第二電極板形成奈米碳管層的一側的外圍；覆蓋另一電極板於所述絕緣層上，且使所述第一電極板中的奈米碳管層和所述第二電極板中的奈米碳管層相對設置，從而形成一觸摸屏。

與先前技術的觸摸屏的製備方法相比較，本技術方案提供的觸摸屏的製備方法具有以下優點：其一，由於奈米碳管層具有優異的力學特性並且耐彎折，故，採用上述的奈米碳管層作透明導電層，可使得透明導電層具有很好的韌性和機械强度。進一步地，與柔性基體配合，可以製備一柔性觸摸屏，從而適合用於柔性顯示裝置上。其二，由於本實施例所提供的奈米碳管薄膜由一拉伸工具拉取而獲得，該方法無需真空環境和加熱過程，故採 用上述的方法製備的奈米碳管薄膜用作透明導電層及製備的觸摸屏，具有成本低、環保及節能的優點。其三，由於本實施例提供的奈米碳管層和柔性基體可通過一熱壓過程黏結在柔性基體上，從而降低了製作成本，簡化了製作工藝。進一步地，本實施例的熱壓過程，溫度要求較低，從而對柔性基體材料的溫度限製較小。

以下將結合附圖對本技術方案作進一步的詳細說明。

請參閱圖1，本技術方案實施例為一觸摸屏的製備方法，其主要包括以下步驟：

步驟一：提供一柔性基體。

所述柔性基體為柔性平面結構，厚度為0.01毫米~1厘米。該柔性基體由塑料，樹脂等柔性材料形成。具體地，所述柔性基體的材料可以為聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯材料，以及聚醚碸(PES)、聚亞醯胺(PI)、纖維素酯、苯並環丁烯(BCB)、聚氯乙烯(PVC)及丙烯酸樹脂等材料。可以理解，形成所述柔性基體的材料並不限於上述列舉的材料，只要確保柔性基體具有一定柔性及較好的透明度即可。

其中，本實施例的柔性基體為一聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(以下簡稱PET薄膜)，該PET薄膜的厚度為2毫米，寬度為20厘米，長度為30厘米。

步驟二：製備至少一個奈米碳管薄膜。

其中，所述奈米碳管薄膜的製備步驟包括：提供一奈米碳管陣列；以及採用一拉伸工具從所述奈米碳管陣列中拉取獲得一奈米碳管薄膜。

首先，提供一奈米碳管陣列，優選地，該陣列為超順排奈米碳管陣列。

本技術方案實施例提供的奈米碳管陣列為單壁奈米碳管陣列、雙壁奈米碳管陣列及多壁奈米碳管陣列中的一種或多種。本實施例中，該超順排奈米碳管陣列的製備方法採用化學氣相沈積法，其具體步驟包括：(a)提供一平整基底，該基底可選用P型或N型矽基底，或選用形成有氧化層的矽基底，本實施例優選為採用4英寸的矽基底；(b)在基底表面均勻形成一催化劑層，該催化劑層材料可選用鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)或其任意組合的合金之一；(c)將上述形成有催化劑層的基底在700°C~900℃的空氣中退火約30分鐘~90分鐘；(d)將處理過的基底置於反應爐中，在保護氣體環境下加熱到500℃~740℃，然後通入碳源氣體反應約5~30分鐘，生長得到超順排奈米碳管陣列，其高度為50微米~5毫米。該超順排奈米碳管陣列為多個彼此平行且垂直於基底生長的奈米碳管形成的純奈米碳管陣列。通過上述控製生長條件，該超順排奈米碳管陣列中基本不含有雜質，如無定型碳或殘留的催化劑金屬顆粒等。該奈米碳管陣列中的奈米碳管彼此通過凡德瓦爾力緊密接觸形成陣列。該奈米碳管陣列與上述基底面積基本相同。

本實施例中碳源氣可選用乙炔、乙烯、甲烷等化學性質 較活潑的碳氫化合物，本實施例優選的碳源氣為乙炔；保護氣體為氮氣或惰性氣體，本實施例優選的保護氣體為氬氣。

可以理解，本實施例提供的奈米碳管陣列不限於上述製備方法。也可為石墨電極恒流電弧放電沈積法、雷射蒸發沈積法等。

其次，採用一拉伸工具從奈米碳管陣列中拉取獲得一奈米碳管薄膜。其具體包括以下步驟：(a)從上述奈米碳管陣列中選定一定寬度的多個奈米碳管片斷，本實施例優選為採用具有一定寬度的膠帶接觸奈米碳管陣列以選定一定寬度的多個奈米碳管片斷；(b)以一定速度沿基本垂直於奈米碳管陣列生長方向拉伸該多個奈米碳管片斷，以形成一連續的奈米碳管薄膜。

在上述拉伸過程中，該多個奈米碳管片段在拉力作用下沿拉伸方向逐漸脫離基底的同時，由於凡德瓦爾力作用，該選定的多個奈米碳管片斷分別與其他奈米碳管片斷首尾相連地連續地被拉出，從而形成一奈米碳管薄膜。

請參閱圖2，該奈米碳管薄膜為擇優取向排列的多個奈米碳管束首尾相連形成的具有一定寬度的奈米碳管薄膜。該奈米碳管薄膜中奈米碳管的排列方向基本平行於奈米碳管薄膜的拉伸方向。該直接拉伸獲得的擇優取向排列的奈米碳管薄膜比無序的奈米碳管薄膜具有更好的均勻性，即具有更均勻的厚度以及更均勻的導電性能。同時該直接拉伸獲得奈米碳管薄膜的方法簡單快速，適宜進 行工業化應用。

本實施例中，所述奈米碳管薄膜的寬度與奈米碳管陣列所生長的基底的尺寸有關，該奈米碳管薄膜的長度不限，可根據實際需求製得。本實施例中採用4英寸的基底生長超順排奈米碳管陣列，該奈米碳管薄膜的寬度可為0.01厘米~10厘米，該奈米碳管薄膜的厚度為0.5奈米~100微米。其中，所述奈米碳管薄膜中包括多個單壁奈米碳管、雙壁奈米碳管及多壁奈米碳管中的一種或多種；該單壁奈米碳管的直徑為0.5奈米~50奈米，該雙壁奈米碳管的直徑為1.0奈米~50奈米，該多壁奈米碳管的直徑為1.5奈米~50奈米。

步驟三：將上述至少一奈米碳管薄膜鋪設在所述柔性基體的表面，從而形成至少一覆蓋於所述柔性基體的表面上的奈米碳管層。

本技術方案實施例中，所述奈米碳管層用作透明導電層，該奈米碳管層包括多個定向排列的奈米碳管。進一步地，所述奈米碳管層可以為單個奈米碳管薄膜或為多個平行且無間隙鋪設的奈米碳管薄膜。每個奈米碳管薄膜中的奈米碳管排列方向均平行於拉伸方向。由於上述的奈米碳管層中的多個奈米碳管薄膜可以平行且無間隙的鋪設，故，上述奈米碳管層的長度和寬度不限，可根據實際需要製成具有任意長度和寬度的奈米碳管層。可以理解，本技術方案所述的奈米碳管層也可為其他結構的奈米碳管層，並不僅限於本實施例所述的結構。

可以理解，本實施例中，還可以將至少兩個奈米碳管薄膜重叠鋪設在所述柔性基體的表面，從而形成覆蓋在所述柔性基體的表面的多個奈米碳管層，且相鄰的兩個奈米碳管層中的奈米碳管依據奈米碳管的排列方向以一夾角α鋪設，且α大於等於0°且小於等於90°。本實施例中，相鄰的兩個奈米碳管層中的奈米碳管排列方向的夾角α優選為90度。

另外，所述將上述至少一奈米碳管薄膜鋪設在所述柔性基體的表面的過程還可為：將所述至少一個奈米碳管薄膜直接鋪設在所述支撑體的表面或將多個奈米碳管薄膜平行且無間隙地鋪設於一支撑體的表面；除去所述支撑體，形成一自支撑的奈米碳管薄膜結構；及將該奈米碳管層直接覆蓋在所述柔性基體的表面。可以理解，也可將至少兩個奈米碳管薄膜重叠鋪設在所述支撑體的表面；相鄰的兩個奈米碳管薄膜中的奈米碳管依據奈米碳管的排列方向以一交叉角度α直接重叠鋪設，從而形成多個自支撑的奈米碳管薄膜結構，其中，α大於等於0°且小於等於90°。由於所述奈米碳管薄膜包括多個定向排列的奈米碳管，且該多個奈米碳管沿著拉膜的方向排列，故可以將上述的多個奈米碳管薄膜中的奈米碳管以一交叉角度α設置。

上述支撑體可以為一基板，也可選用一框架結構。由於本實施例提供的超順排奈米碳管陣列中的奈米碳管非常純淨，且由於奈米碳管本身的比表面積非常大，所以該奈米碳管薄膜本身具有較强的黏性，該奈米碳管薄膜可 利用其本身的黏性直接黏附於基板或框架。奈米碳管薄膜黏附在基板或框架上，基板或框架以外多餘的奈米碳管薄膜部分可以用刀子刮去。去除基板或框架，得到一奈米碳管薄膜結構。本實施例中，該基板或框架的大小可依據實際需求確定。

本實施例中，進一步還可以在將上述至少一奈米碳管薄膜鋪設在所述柔性基體的表面之前，或形成至少一覆蓋於所述柔性基體的表面上的奈米碳管層之後，逕行機溶劑處理奈米碳管薄膜或奈米碳管層的步驟。該有機溶劑為揮發性有機溶劑，可選用乙醇、甲醇、丙酮、二氯乙烷或氯仿等，本實施例中的有機溶劑採用乙醇。該使用有機溶劑處理的步驟可通過試管將有機溶劑滴落在奈米碳管薄膜、奈米碳管層或奈米碳管薄膜結構的表面，並浸潤整個奈米碳管薄膜、奈米碳管層或奈米碳管薄膜結構。也可將上述形成有奈米碳管層的柔性基體或形成有奈米碳管薄膜結構的支撑體整個浸入盛有有機溶劑的容器中浸潤。所述的奈米碳管薄膜、奈米碳管層或奈米碳管薄膜結構經有機溶劑浸潤處理後，在揮發性有機溶劑的表面張力的作用下，平行的奈米碳管片斷會部分聚集成奈米碳管束。因此，該奈米碳管薄膜、奈米碳管層或奈米碳管薄膜結構表面體積比小，無黏性，且具有良好的機械强度及韌性。

此外，還可在將奈米碳管層覆蓋在柔性基體的表面之前，塗覆低熔點的材料於所述柔性基體的一表面。該低熔點的材料可起到黏結劑的作用，用於將所述奈米碳管層 牢固地黏結在所述柔性基體的一個表面。

進一步地，所述低熔點材料可以為熔點均低於所述柔性基體和奈米碳管層的材料，例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等。本實施例中，所述PMMA均勻地塗覆在柔性基體的表面。

具體地，在塗覆低熔點的材料於柔性基體的表面之前，還進一步包括一清洗的過程。具體地，該清洗的過程為：用乙醇、丙酮等有機溶劑清洗所述柔性基體。可以理解，所述對柔性基體的清洗也可採用其它方法和溶劑，只需確保所述柔性基體表面無污染物即可。

步驟四：熱壓覆蓋有奈米碳管層的柔性基體。

請參見圖3及圖4，所述熱壓覆蓋在柔性基體表面上的奈米碳管層的步驟可通過一熱壓裝置30實現，其具體包括以下步驟：首先，將至少一個上述覆蓋有奈米碳管層的柔性基體22放置於一具有軋輥的熱壓裝置30中。

所述熱壓裝置30包括一施壓裝置32及一加熱裝置(圖中未顯示)。本實施例中，所述熱壓裝置30為熱壓機或封塑機，所述施壓裝置32為兩個金屬軋輥，其次，加熱所述熱壓裝置30中的軋輥。

具體地，用熱壓裝置30中的加熱裝置加熱所述的軋輥32。本實施例中，加熱的溫度為110℃~120℃。可以理解，所述加熱軋輥32的溫度可以根據實際需要進行選擇。

再次，將所述覆蓋有奈米碳管層的柔性基體通過加熱了的軋輥32。

本實施例中，將所述覆蓋有奈米碳管層的柔性基體慢慢通過加熱的金屬雙輥32，速度控製在1毫米/分~10米/分。加熱了的軋輥32可以施加一定的壓力於覆蓋有奈米碳管層的柔性基體之上，並能軟化所述的奈米碳管層和柔性基體，從而使得奈米碳管層與柔性基體之間的空氣被擠壓出來，從而使得所述奈米碳管層緊密黏結在所述柔性基體之上。

可以理解，所述通過軋輥32的速度可根據實際需要選擇，只需確保奈米碳管層能緊密黏結在所述柔性基體的表面即可。在所述柔性基體的表面塗覆一低熔點的材料，並覆蓋有奈米碳管層時，本實施例所述的熱壓過程中的溫度需確保低熔點材料融化；從而使得經熱壓過程之後，所述低熔點材料能將所述奈米碳管層和柔性基體黏結在一起。本技術方案實施例中所述的溫度並不僅限於上述的溫度範圍，可以理解，封塑機中的溫度根據低熔點材料的不同而不同，只需確保低熔點的材料在熱壓的過程中融化完全即可。

步驟五：間隔地形成兩個電極於上述熱壓後的奈米碳管層或柔性基體的兩端，形成一電極板，作為第一電極板。

所述兩個電極的材料為金屬、奈米碳管薄膜、導電的銀漿層或其他導電材料。本技術方案實施例中，所述兩個 電極為導電的銀漿層。所述兩個電極的形成方法為：採用絲網印刷、移印或噴塗等方式分別將銀漿塗覆在上述奈米碳管層或柔性基體的兩端。然後，放入烘箱中烘烤10-60分鐘使銀漿固化，烘烤溫度為100℃-120℃，即可得到所述兩個電極。上述製備方法需確保所述兩個電極與所述奈米碳管層電連接。

步驟六：重複上述步驟，製備另一電極板，作為第二電極板。

所述第二電極板包括一第二基體，一第二奈米碳管層及兩個第二電極。

步驟七：形成一絕緣層於所述第一電極板或第二電極板形成奈米碳管層的一側的外圍。

所述絕緣層可採用絕緣透明樹脂或其他絕緣透明材料製成。所述絕緣層的形成步驟為：塗敷一絕緣黏合劑於所述第一電極板或第二電極板形成奈米碳管層的一側的外圍。該絕緣黏合劑用作絕緣層。

步驟八：覆蓋另一電極板於所述絕緣層上，且使所述第一電極板中的奈米碳管層和所述第二電極板中的奈米碳管層相對設置，從而形成一觸摸屏。

進一步地，需使所述第一導電層中的兩個電極和所述第二導電層中的兩個電極交叉設置。

此外，所述製備方法可進一步包括形成多個透明點狀隔離物於所述第一電極板和第二電極板之間的步驟。該透 明點狀隔離物的形成方法為：將包含該多個透明點狀隔離物的漿料塗敷在第二電極板或第一電極板上絕緣層之外的區域，烘乾後即形成所述透明點狀隔離物。所述絕緣層與所述透明點狀隔離物均可採用絕緣樹脂或其他絕緣材料製成。設置絕緣層與點狀隔離物可使得第一電極板與第二電極板電絕緣。可以理解，當觸摸屏尺寸較小時，點狀隔離物為可選擇的結構，只需確保第一電極板與第二電極板電絕緣即可。

另外，該觸摸屏的一表面可進一步設置一透明保護膜，該透明保護膜可由氮化矽、氧化矽、苯丙環丁烯(BCB)、聚酯以及丙烯酸樹脂等材料形成。該透明保護膜也可採用一層表面硬化處理、光滑防刮的塑料層，如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜，用於保護觸摸屏，提高耐用性。該透明保護膜還可用於提供一些其它的附加功能，如可以减少眩光或降低反射。本技術方案實施例中，該透明保護膜採用有黏性的PET膜，該PET膜可直接黏附於觸摸屏上表面用作透明保護膜。

此外，為了减小由顯示設備產生的電磁干擾，避免從觸摸屏發出的信號產生錯誤，還可在該觸摸屏的另一相對的表面上形成一屏蔽層。該屏蔽層可通過黏結劑直接黏結在所述觸摸屏的另一相對的表面上。該屏蔽層由銦錫氧化物(ITO)薄膜、銻錫氧化物(ATO)薄膜、鎳金薄膜、銀薄膜或奈米碳管層等透明導電材料形成。本實施例中，該奈米碳管層的具體結構可與透明導電層相同。該奈米碳管層作為電接地點，起到屏蔽的作用，從而使 得觸摸屏能在無干擾的環境中工作。可以理解，所述奈米碳管層還可以是其它結構的奈米碳管層。

可以理解，所述觸摸屏中的第一電極板和第二電極板中的一個電極板也可通過離子束濺射或蒸鍍等工藝製備。

本技術方案實施例提供的觸摸屏的製備方法具有以下優點：其一，由於奈米碳管層具有優異的力學特性並且耐彎折，故，採用上述的奈米碳管層作透明導電層，可使得透明導電層具有很好的韌性和機械强度。進一步地，與柔性基體配合，可以製備一柔性觸摸屏，從而適合用於柔性顯示裝置上。其二，由於本實施例所提供的奈米碳管薄膜由一拉伸工具拉取而獲得，該方法無需真空環境和加熱過程，故採用上述的方法製備的奈米碳管薄膜用作透明導電層及製備的觸摸屏，具有成本低、環保及節能的優點。其三，由於本實施例提供的奈米碳管薄膜和柔性基體可通過一熱壓過程黏結在柔性基體上，從而降低了製作成本，簡化了製作工藝。進一步地，本實施例的熱壓過程，溫度要求較低，從而對柔性基體材料的溫度限制較小。

綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施例，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。

22‧‧‧柔性基體

30‧‧‧熱壓裝置

32‧‧‧施壓裝置

圖1為本技術方案實施例的觸摸屏的製備方法的流程圖。

圖2為本技術方案實施例的透明導電層中奈米碳管薄膜的掃描電鏡圖。

圖3為本技術方案實施例的熱壓後的奈米碳管層和柔性基體的照片。

圖4為本技術方案實施例的熱壓過程的示意圖。

Claims (23)

1. 一種觸摸屏的製備方法，其包括以下步驟：提供一柔性基體；製備至少一奈米碳管薄膜，該奈米碳管薄膜由複數個奈米碳管組成；將上述至少一奈米碳管薄膜鋪設在所述柔性基體的表面，從而形成至少一覆蓋在所述柔性基體表面上的奈米碳管層；熱壓覆蓋有奈米碳管層的柔性基體；以及間隔地形成至少兩個電極於上述熱壓後的奈米碳管層的兩端或所述柔性基體的兩端，形成一電極板，作為第一電極板；重複上述步驟，製備另一電極板，作為第二電極板；形成一絕緣層於所述第一電極板或第二電極板形成奈米碳管層的一側的外圍；覆蓋另一電極板於所述絕緣層上，且使所述第一電極板中的奈米碳管層和所述第二電極板中的奈米碳管層相對設置，從而形成一觸摸屏。
2. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述製備奈米碳管薄膜的方法包括以下步驟：提供一奈米碳管陣列；及採用一拉伸工具從上述奈米碳管陣列中拉取獲得一奈米碳管薄膜，該奈米碳管薄膜中的奈米碳管的排列方向平行於拉伸方向。
3. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述將至少一奈米碳管薄膜鋪設在所述柔性基體的表面的 步驟為將一個奈米碳管薄膜直接鋪設在所述柔性基體的表面或將多個奈米碳管薄膜平行且無間隙地鋪設在所述柔性基體的表面，形成一覆蓋在所述柔性基體的表面的奈米碳管層，該奈米碳管層中的奈米碳管沿同一方向排列。
4. 如申請專利範圍第3項所述的觸摸屏的製備方法，其中，進一步包括重叠鋪設多個奈米碳管薄膜於所述柔性基體的表面形成覆蓋在所述柔性基體的表面的多個奈米碳管層的步驟。
5. 如申請專利範圍第4項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述多個奈米碳管層依據奈米碳管的排列方向以一交叉角度α直接重叠鋪設，其中，α大於等於零度且小於等於九十度。
6. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述將至少一奈米碳管薄膜鋪設在所述柔性基體的表面的方法包括以下步驟：將所述一個奈米碳管薄膜直接鋪設在一支撑體的表面或將多個奈米碳管薄膜平行且無間隙地鋪設於一支撑體的表面；除去所述支撑體，形成一自支撑的奈米碳管薄膜結構；及將該奈米碳管薄膜結構直接覆蓋在所述柔性基體的表面。
7. 如申請專利範圍第6項所述的觸摸屏的製備方法，其中，進一步包括重叠鋪設多個奈米碳管薄膜於所述支撑體的表面，形成多個自支撑的奈米碳管薄膜結構的步驟。
8. 如申請專利範圍第7項所述的觸摸屏的製備方法，其中，該多個奈米碳管薄膜結構依據奈米碳管的排列方向以一交叉角度α直接重叠鋪設，其中，α大於等於零度且小於等於九十度。
9. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，在所述將至少一奈米碳管薄膜鋪設在上述柔性基體的表面的步驟之前，進一步包括清洗所述柔性基體及塗覆低熔點的材料於所述柔性基體的表面的步驟。
10. 如申請專利範圍第9項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述清洗柔性基體的步驟採用乙醇或丙酮。
11. 如申請專利範圍第9項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述低熔點材料的熔點低於所述奈米碳管層和柔性基體的熔點。
12. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，在將上述至少一奈米碳管薄膜鋪設在上述柔性基體的表面之前，或形成至少一覆蓋於所述柔性基體的表面的奈米碳管層之後，進一步包括採用有機溶劑對奈米碳管薄膜或奈米碳管層處理的步驟。
13. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述熱壓奈米碳管層和柔性基體的過程包括以下步驟：將覆蓋有奈米碳管層的柔性基體放置於一包括軋輥的熱壓裝置中；加熱上述熱壓裝置中的軋輥；將上述覆蓋有奈米碳管層的柔性基體通過加熱了的軋輥。
14. 如申請專利範圍第13項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述熱壓裝置為熱壓機或封塑機。
15. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述間隔形成兩個電極於所述熱壓後的奈米碳管層的兩端或所述柔性基體的兩端的步驟為：採用絲網印刷、移印或噴塗方式分別將銀漿塗覆在上述奈米碳管層的兩端或柔性基體的兩端。
16. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述覆蓋另一電極板於所述絕緣層上的步驟需使所述第一電極板中的兩個電極和所述第二電極板中的兩個電極交叉設置。
17. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述絕緣層的形成方法為：塗敷一絕緣黏合劑於所述第一電極板或第二電極板形成奈米碳管層的一側的外圍。
18. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，該製備方法進一步包括形成多個透明點狀隔離物於所述第一電極板和第二電極板之間的步驟。
19. 如申請專利範圍第18項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述多個透明點狀隔離物的形成方法為：將包含該多個透明點狀隔離物的漿料塗敷在第一電極板或第二電極板上絕緣層之外的區域，烘乾後即形成所述透明點狀隔離物。
20. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述製備方法進一步包括通過直接黏附的方法形成一透明保護膜於所述觸摸屏的一表面。
21. 如申請專利範圍第20項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述透明保護膜的材料為氮化矽、氧化矽、苯丙環丁烯、聚酯或丙烯酸樹脂。
22. 如申請專利範圍第20項所述的觸摸屏的製備方法，其中，該製備方法進一步包括形成一屏蔽層於所述觸摸屏遠離透明保護膜的一表面的步驟，該屏蔽層為導電聚合物薄膜或奈米碳管層。
23. 如申請專利範圍第22項所述的觸摸屏的製備方法，其中，所述屏蔽層通過黏結劑黏結在所述觸摸屏遠離透明保護膜 的一表面。