TWI579060B - 用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法及其裝置 - Google Patents

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Description

用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法及其裝置
本發明係有關一種烘乾裝置，尤指一種用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法及烘乾裝置。
隨著電子產品的日新月異，相關基板材料上會配合產品需求於材料表面塗覆或增設其他材質，如軟性膠片或玻璃基板於表面塗覆導電材料以製作導電層，並配合產品結構需求進一步會在結構上增設其他材質之導電層或絕緣層等。
以行動資訊裝置為例，如行動電話、導航系統等各種電子設備的高性能化和多樣化的發展，在顯示設備的前方會安裝如透光性的觸控裝置(touch panel)的電子設備。其觸控裝置包括基板與一些內部元件，如透明導電層、黑色光阻層及觸控訊號導線等，其中，基板本身提供保護與承載該些內部元件的功能，且基板上形成有感應區和環繞該感應區的週邊區。透明導電層先設置在基板表面之感應區與週邊區上，而週邊區的透明導電上則覆蓋一層黑色光阻層。
以上於基板上塗覆各種材料，進一步再配合各材料之圖形結構(如線路)需求以特定加工模式進行製作，各材料間使用搭配更顯繁複，例如已於基材表面製作好之透明導電層後，進一步於該透明導電層上製作導電材料，則在製程上就須注意在加工上不得破壞原已構成之透明導電塗層或基板結構。例如，膠片基板的軟化溫度僅120℃，銀膠烘乾溫度若為130℃，若以該銀膠塗覆於該膠片基板上進行導線層製作，則銀 膠烘乾過程則會使膠片基板發生軟化變形，這類在製程上的衝突都會使相關材料結構在製程上的材料選擇或製程條件都會變得複雜與限制。若能對於特定塗料可以簡易乾燥方式且不會影響塗料週邊之材質，即可使相關製程變的簡易。
此外，對於習用之烘乾技術多以烘箱或加熱爐具直接以大量熱源對於塗佈材料進行烘乾加熱，對於熱源控管不易，產生大量的能源浪費，需進一步加以考慮改善者。
參考習知技術如微波加熱技術，有別於以直接烘烤箱加熱的方式，利用特定能量波長可以對特定的金屬材料或水可以產生轉化為熱能，達到短時程並有效的加熱效果。或如台灣專利第476845號一種新穎的遠紅外線加熱技術，可以應用在壓克力基板上以低於100℃下以簡短的數分鐘，即可對樹脂塗料產生極佳的乾燥效果。利用這類遠紅外線光源除了熱輻射外進一步可以對特定的塑料以特定的波長光源穿透塗料內部並轉換為熱能，以達到快速加熱的效果。
據前揭技術特性，若進一步再對熱源波長加以選別，應可對金屬塗料層達到快速加熱效果，且熱源之熱輻射產生之熱效應更低，此將提供對於薄型透明導電膜如觸控面板之導線，金屬塗層製作將有極佳的助益，揭示相關技術對於熱源提供可以僅對特定塗材產生熱效應，對於節熱節能即節能環保減碳應有助益。
因此，本發明之主要目的，在於解決上述之缺失、本發明係利用特定波長之近紅外光源並結合一機構裝置，以提供於一薄型透明基板表面之金屬塗料層提供均溫、低溫、快速之烘乾效果，且對於該薄型透明基板產生之熱效應低(此所謂的熱效應係指該近紅光熱源對於透明基板之額外地熱輻射增溫效應)。
為達上述之目的，本發明提供一種用於透明基板之金屬塗料 層的烘乾方法，包括：備有已塗佈金屬塗料層之薄型透明基板；將薄型透明基板以捲對捲傳動或是批次固定於烘乾裝置之烘乾區進行烘乾作業；烘乾區與烘乾裝置之近紅外光源保持有一特定距離，該近紅外光源以一特定的光源波長的能量對該薄型透明基板進行烘乾作業；在烘乾作業中，該薄型透明基板於該烘乾區上以靜態固定烘乾作業或動態烘乾作業；在該薄型透明基板烘乾後，傳送至該冷卻穩化區進行自然冷卻。
在本發明的一實施例中，該薄型透明基板的表面上進行硬化層處理，該薄型透明基板為聚乙烯對苯二甲酸酯材質。
在本發明的一實施例中，以噴塗方式將含有奈米碳管導電塗料於薄型透明基板表面上形成有一20~100nm厚度的導電塗料，以形成一透明導電膜。
在本發明的一實施例中，以網印方式印製有厚度8±3um的銀膠於該透明導電膜上。
在本發明的一實施例中，該烘乾裝置更包含有一支撐結構，該支撐結構上具有一入口及一出口，以及該支撐結構一側具有一產生近紅外光源的近紅外光源組，該近紅外光源組與該烘乾區呈相對應配置。
在本發明的一實施例中，該支撐結構為不鏽鋼材質。
在本發明的一實施例中，該烘乾區為一平台，該平台上包含有一可升降的定位機構，該定位機構具有一擋部，該擋部受位於該平台內部的升降機驅動。
在本發明的一實施例中，該平台的材質為不鏽鋼及於不鏽鋼表面外加一鐵氟龍玻纖布的不蓄熱元件。
在本發明的一實施例中，該烘乾區為滾輪組，以提供動態烘 乾移載，該滾輪組材質為不鏽鋼，並結合鐵氟龍玻纖布的輸送帶。
在本發明的一實施例中，該近紅外光源為近紅外光源組所產生，該近紅外光源組係由複數個近紅外光源產生器組成，以產生一特定的光源波長分佈為800~2000nm，其中峰值為1000nm為主要能量提供，所提供能量為2.78~8.46W。
在本發明的一實施例中，該近紅外光源組所提供能量大於4W以上。
在本發明的一實施例中，以單位照度(瓦)2.78~8.46W可提供單位面積1米平方之塗覆金屬塗料層之薄型透明基板，進行烘乾。
在本發明的一實施例中，該烘乾區對應近紅外光源組保持一特定距離15~50cm。
在本發明的一實施例中，該烘乾區對應近紅外光源組保持一特定距離為25~30cm。
在本發明的一實施例中，該靜態固定烘乾作業以近紅外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾時間(秒)，烘乾時間為25/100~30/150公分/秒。
在本發明的一實施例中，該動態烘乾作業的近紅外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾宜載傳動時間為25/70~30/100公分/秒。
在本發明的一實施例中，更包含有一進料機構及一出料機構，該進料機構配置於該烘乾裝置前端，該出料機構配置於該烘乾裝置後端，在該出料機構後端具有一冷卻穩化區。
在本發明的一實施例中，更包含有一排風機構，該排風機構配置於該烘乾裝置一側。
在本發明的一實施例中，更包含有一承載該薄型透明基板的承載盤，該承載盤為塑料或玻璃基板。
為達上述之目的，本創作提供一種用於透明基板之金屬塗料 層的烘乾裝置，對已塗佈有金屬塗料層的薄型透明基板進行烘乾，包含：一支撐結構，其上具有一入口及一出口；一近紅外光源組，係以安裝於該支撐結構一側面上，用以提供一特定的光源波長的能量輸出；一烘乾區，係位於該支撐結構的一側面上，與該近紅外光源組呈相對應配置，並保持一特定距離；其中，將薄型透明基板以捲對捲傳動或是批次固定於烘乾裝置之烘乾區，以近紅外光源組所產生之光源對薄型透明基板進行烘乾作業。
在本發明的一實施例中，該支撐結構以複數板狀物或複數支柱組成，該支撐結構為不鏽鋼材質。
在本發明的一實施例中，該近紅外光源組，係由複數之近紅外光源產生器組成，該些近紅外光源產生器產生一特定的光源波長分佈為800~2000nm，其中峰值為1000nm為主要能量提供，所提供能量為2.78~8.46W。
在本發明的一實施例中，該近紅外光源組所提供能量大於4W以上。
在本發明的一實施例中，該烘乾區上具有一不鏽鋼材質的平台，該平台與該近紅外光源組呈相對應配置，並保持一特定距離15~50cm。
在本發明的一實施例中，該平台與該近紅外光源組呈相對應配置，並保持一特定距離為25~30cm。
在本發明的一實施例中，該平台的表面外加一鐵氟龍玻纖布的不蓄熱元件。
在本發明的一實施例中，該平台上具有一可升降的定位機構，該定位機構具有一擋部，該擋部受位於該平台內部的升降機驅動，該升降機為氣動缸或油壓缸。
在本發明的一實施例中，靜態固定烘乾作業以近紅外光源組 對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾時間(秒)，烘乾時間為25/100~30/150公分/秒。
在本發明的一實施例中，該烘乾區為滾輪組，以提供動態烘乾移載，該滾輪組材質為不鏽鋼，並結合鐵氟龍玻纖布的輸送帶。
在本發明的一實施例中，動態烘乾作業的近紅外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾移載傳動時間為25/70~30/100公分/秒。
在本發明的一實施例中，更包含有一進料機構及一出料機構，該進料機構配置於該烘乾裝置前端，該出料機構配置於該烘乾裝置後端，在該出料機構後端具有一冷卻穩化區。
在本發明的一實施例中，更包含有一排風機構，係以安裝於該支撐結構一側。
在本發明的一實施例中，更包含有一承載該薄型透明基板的承載盤，該承載盤為塑料或玻璃基板。
100~110‧‧‧步驟
1‧‧‧支撐結構
11‧‧‧入口
12‧‧‧出口
2‧‧‧近紅外光源組
21‧‧‧近紅外光源產生器
3‧‧‧烘乾區
31‧‧‧平台
32‧‧‧定位機構
321‧‧‧擋部
33‧‧‧不蓄熱元件
34‧‧‧滾輪組
35‧‧‧輸送帶
4‧‧‧排風機構
10‧‧‧薄型透明基板
20‧‧‧金屬塗料層
30‧‧‧承載盤
40‧‧‧進料機構
50‧‧‧出料機構
60‧‧‧冷卻穩化區
圖1，係本發明之透明基板上的金屬塗料層烘乾流程示意圖。
圖2，係本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置示意圖。
圖3，係圖2的側視示意圖。
圖4，係本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置的另一實施例示意圖。
圖5，係圖4的輸送動作示意圖。
圖6，係本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置的再一實施例示意圖。
茲有關本發明之技術內容及詳細說明，現在配合圖式說明如 下：
請參閱圖1，係本發明之透明基板上的金屬塗料層烘乾流程示意圖，同時請一併參閱圖2及圖3所示：本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，首先，如步驟100，備有一整捲式或單片式的薄型透明基板10，並於該薄型透明基板10的表面上進行硬化層(圖中未示)處理。在本圖式中，該薄型透明基板為聚乙烯對苯二甲酸酯(Polyethylene Terephthalate，PET)材質。
如步驟102，以噴塗方式將含有奈米碳管導電塗料於薄型透明基板10表面上形成有一20~100nm厚度的導電塗料，以形成一透明導電膜。
步驟104，以網印方式銀膠印製於該透明導電膜上，以形成線路，以該透明導電膜及該線路形成一金屬塗料層20。
步驟106，在整捲式或單片式的薄型透明基板10上的金屬塗料層20塗佈後，將已塗佈金屬塗料層之薄型透明基板10以捲對捲傳動或是批次固定放置承載盤(圖中未示)，再送進於烘乾裝置之烘乾區3進行烘乾作業。在本圖式中，該烘乾區3為一平台31，該平台31上包含有一可升降的定位機構32，該平台31的材質為不鏽鋼及於不鏽鋼表面外加一鐵氟龍玻纖布的不蓄熱元件33，對於近紅外光源組2吸熱效果較低，不致蓄熱；或者該烘乾區3為滾輪組34，以提供動態烘乾移載，該滾輪組34材質為不鏽鋼，並結合鐵氟龍玻纖布的輸送帶35，可以降低蓄熱。
步驟108，在烘乾裝置的近紅外光源組2產生了一特定的光源波長分佈為800~2000nm，其中峰值為1000nm為主要能量提供，所提供能量為2.78~8.46W，能量大於4W以上為佳。該烘乾區對應近紅外光源組2保持一特定距離15~50cm，其中以25~30cm為佳。另，以單位照度(瓦)2.78~8.46W可提供單位面積1米平方之塗覆金屬塗料層20之薄型透明基板，進行烘乾， 其中靜態固定烘乾作業以近紅外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾時間(秒)，以25/100~30/150公分/秒為佳；若為動態烘乾作業的近紅外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾移載傳動時間為25/70~30/100公分/秒為佳。
步驟110，烘乾後進行自然冷卻(穩化)5分鐘，即完成。
請參閱圖2，係本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置示意圖。如圖所示：本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，包含：一支撐結構1、一近紅外光熱源組2、一烘乾區3、一排風結構4。
該支撐結構1，係以複數板狀物或複數支柱組成，且於該支撐結構1上具有入口11及一出口12。在本圖式中，該支撐結構1為不鏽鋼材質，不鏽鋼材質在常溫下散熱快，不致蓄熱。
該近紅外光源組2，係由複數之近紅外光源產生器21組成，該些近紅外光源產生器21係安裝於該支撐結構1一側面上，該近紅外光源產生器21的光源波長分佈為800~2000nm，其中峰值為1000nm為主要能量提供，所提供能量為2.78~8.46W，能量大於4W以上為佳。在本圖式中，近紅外光源產生器為近紅外光源燈管。
該烘乾區3，其上具有一不鏽鋼材質的平台31，該平台31係位於該支撐結構1的一側面上，與該近紅外光源組2呈相對應配置，並保持一特定距離15~50cm，其中以25~30cm為佳。另，於該平台上具有一可升降的定位機構32，該定位機構32具有一擋部321，該擋部321受位於該平台31內部的升降機(圖中未示)驅動，在擋部321未升起時，隱藏於該平台31內部，在塗覆金屬塗料層(圖中未示)的該薄型透明基板(圖中未示)進入該支撐結構1內部後，該平台31內部的升降機(圖中未示)受外部的控制裝置驅動升起而出於該平台31表面，以擋住薄型透明基板，在烘乾完成後，該升降機驅動該擋部321縮回置該平 台31內部。又，於該平台31的表面外加一鐵氟龍玻纖布的不蓄熱元件33，該不蓄熱元件33對於近紅外光源組吸熱效果較低，不致蓄熱。在本圖式中，該升降機為氣動缸或油壓缸。
該排風機構4，係以安裝於該支撐結構1一側，以移除金屬塗料層經烘乾後產生之揮發溶劑，或控制板材(薄型透明基板或承載盤)之表面溫度。在本圖式中，該排風機構4為一抽風機。
請參閱圖2及圖3，係本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置使用狀態及圖2的側視示意圖。如圖所示：在本發明之烘乾裝置對單片式的薄型透明基板10時，將已塗佈完成金屬塗料層20的該薄型透明基板10放置於該承載盤30上，在承載盤30送入於該支撐結構1內部的該平台31表面上，該平台31內部的升降機(圖中未示)受外部的控制裝置驅動升起而出於該平台31表面，以擋住該薄型透明基板10，在進行烘乾時，使靜態固定烘乾作業以該近紅外光源組2對應該薄型透明基板10之垂直距離(公分)對應烘乾時間(秒)為25/100~30/150公分/秒為佳，在烘乾過程中，同時起動該排風機構4以移除金屬塗料層20經烘乾後產生之揮發溶劑，或控制板材之表面溫度。在烘乾完成後，該升降機驅動該擋部321縮回置該平台31內部，此時即可將該承載盤30取出。在本圖式中，該承載盤30為塑料或玻璃基板。
請參閱圖4及圖5，係本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置的另一實施例及圖4的輸送示意圖。如圖所示：在本發明之烘乾裝置對單片式的薄型透明基板10時，在該烘乾裝置的前端及後端上配置有一進料機構40及一出料機構50，該進料機構40及該出料機構50為輸送帶或者機械手臂或氣動缸。在本圖式中，該進料機構40及該出料機構50以輸送帶為舉例說明，該輸送帶由複數滾輪或皮帶式組成。
在已塗佈金屬塗料層的單片式的薄型透明基板10進行烘乾作業時，將該薄型透明基板10放置於該承載盤30上，再將承載 盤30放置於該進料機構40上，由該進料機構40將該承載盤30送入於該支撐結構1內部的原平台31位置上進行烘乾動作。在烘乾後，再由支撐機構1內部所增設的氣動缸(圖中未示)或機械手臂(圖中未示)，將該烘乾完成的薄型透明基板10的承載盤30送至該出料機構50上，再由出料機構50將該烘乾完成的薄型透明基板10的承載盤30送出。
進一步，於烘乾裝置後端出料機構50，設置一冷卻穩化區60，俾使薄型透明基材10回溫即乾燥完全。
請參閱圖6，係本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置的再一實施例示意圖。如圖所示：本實施例與圖2大致相同，所不同處在於該烘乾區3為滾輪組34，以提供動態烘乾移載，該滾輪組34材質為不鏽鋼，並結合鐵氟龍玻纖布的輸送帶35，可以降低蓄熱。
將已塗佈金屬塗料層之薄型透明基板10以捲對捲傳動或是批次(單片式)進行烘乾作業時，將該薄型透明基板10放置於該承載盤30上，再將承載盤30放置於該輸送帶35將該承載盤30送入於該支撐結構1內部，並以動態烘乾作業的近紅外光源組2對應該薄型透明基板10之垂直距離(公分)對應烘乾移載傳動時間為25/70~30/100公分/秒為佳，烘乾後進行送至該冷卻穩化區60，進行自然冷卻(穩化)5分鐘後，即完成。
為了能更進一步瞭解本發明之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法及其裝置，能夠達到預期的目的及功效，本發明特列舉下列數個實施例與對照例說明：
實施例一，本發明結構1，選用三條近紅外光源產生(以下簡稱為光源，以便於說明之用)，光源平行並列，光源長度60公分，兩光源間隔20公分，光源功率(照度)4.61W，光源波長分佈800nm~2000nm，光源與表面塗覆銀膠之待烘乾之薄型透明基板(PET film)距離為30公分，以移載速率1m/min將透明基板送入烘乾區，移出後室溫靜置5分鐘，基板表面溫度回到室 溫。(實驗目的凸顯烘乾作業可於動態R2R作業)
實施例二，本發明結構2，選用兩條近紅外光源，光源平行並列，光源長度60公分，兩光源間隔20公分，光源功率(照度)4.61W，光源波長分佈800nm~2000nm，光源與表面塗覆銀膠之待烘乾之薄型透明基板(PET film)距離為30公分，靜態固定進行烘乾150秒，烘乾後室溫下靜置5分鐘，基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業可於靜態乾燥的正常作業)
實施例三，本發明結構2，選用兩條近紅外光源，光源平行並列，光源長度60公分，兩光源間隔15公分，光源功率(照度)4.61W，光源波長分佈800nm~2000nm，光源與表面塗覆銀膠之待烘乾之薄型透明基板(PET film)距離為30公分，靜態固定進行烘乾120秒，烘乾後室溫下靜置5分鐘，基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業可於另一乾燥作業條件正常作業)
實施例四，同實施例三，僅將薄型透明基板置換為已經表面製作透明導電材料之透明導電膜，於該透明導電膜表面再塗覆銀膠送入烘乾區，靜態固定進行烘乾150秒，烘乾後室溫下靜置5分鐘，薄型透明基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業可於表面有導電薄膜的銀膠塗佈的乾燥作業)
實施例五，本發明結構2，僅光源與表面塗覆銀膠之待烘乾之薄型透明基板(PET film)距離改為25公分，靜態固定進行烘乾100秒，烘乾後室溫下靜置5分鐘，基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業可於另一種光源高度下的乾燥作業)
實施例六，同實施例三，於本發明結構2中更增設一排風機構，於薄型透明基板(PET film)表面再塗覆銀膠送入烘乾區，靜態固定進行烘乾150秒，烘乾後室溫下靜置5分鐘，基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業可於排氣作業下的乾燥作業)
對照例一，以電熱烘箱進行烘烤，烤箱內提供溫度130度C之熱風循環，靜態固定進行烘乾1800秒，烘乾後室溫下靜置20分，薄型透明基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業時間長)
對照例二，同實施例三，於本發明結構2，僅將光源置換為遠紅外光源產生器，靜態固定進行烘乾240秒，烘乾後室溫下靜置5分鐘，薄型透明基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業會破壞透明基板產生變形)
對照例三，同實施例三，於本發明結構2，僅將兩光源間距改為40公分，靜態固定進行烘乾120秒，烘乾後室溫下靜置5分鐘，薄型透明基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業會僅對部分銀膠塗佈區域有乾燥效果)
對照例四，同實施例三，於本發明結構2，僅將光源功率改為3.77瓦，靜態固定進行烘乾300秒，烘乾後室溫下靜置5分，基板表面溫度回到室溫。(實驗目的凸顯烘乾作業需要最低的功率方能產生乾燥效果)
相關規格要件：
銀膠塗覆乾燥後表面乾照程度鑑別方式：附著力測試，使用百格刀在銀膠膜面上劃至100格(1mmx1mm/格)，使用3m(600) 膠帶貼在切口上後撕起，觀察塗佈物剝落的狀況，即可得知其附著力，結果在切割邊緣完整，塗膜完全沒有剝落。
比較表：
過上述的比較表中的實施例1~6結果顯示，本發明之烘乾裝置，可以提供PET材質的薄型透明基板10上於塗覆銀膠後進行烘乾作業，在該薄型透明基板10表面溫度可以控制在120℃以下，且烘乾時間可以確保在150秒內完成，相較於習知技術以熱風烘箱或是遠紅外線烘烤(對照例一、二)，溫度達130℃且烘乾時間較長達240秒以上，且易有經烘乾後薄型透明基板變形之不良現象發生，唯係需要精確的節能作業近紅外光源產生器21之間隙與近紅外光源產生器21與薄型透明基板10間之距離需精密調整後，使達成最佳化之效過，否則近紅外光源產生器21之間的間隙過大(對照例三)或近紅外光源產生器21能量不足(對照例四)，會有使銀膠乾燥不完整產生剝落之不良現象，此外本裝置除可應用於將銀膠塗佈於PET基板上之烘乾作業外。
進一步，對於薄型透明基板10上已塗覆透明導電膜如CNT透明導電膜之銀膠塗覆作業仍適用(實施例四)。
再進一步，係利用近紅外光源產生器21的光源於金屬塗料層產生之加熱效應，因此更可以於烘乾裝置內增設排風機構4，不致影響銀膠之乾燥效果，且能提供將銀膠塗料於乾燥作業中之溶劑排除優點(實施例六)。
上述僅為本發明之較佳實施例而已，並非用來限定本發明實施之範圍。即凡依本發明申請專利範圍所做的均等變化與修飾，皆為本發明專利範圍所涵蓋。
100~110‧‧‧步驟

Claims (31)

  1. 一種用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，包括：a)、備有已塗佈金屬塗料層之薄型透明基板；b)、將薄型透明基板以捲對捲傳動或是批次固定於烘乾裝置之烘乾區進行烘乾作業，烘乾裝置包含有一支撐結構，該支撐結構上具有一入口及一出口，以及該支撐結構一側具有一產生近紅外光源的近紅外光源組，該近紅外光源組係由複數個近紅外光源產生器組成，該近紅外光源組與該烘乾區呈相對應配置；c)、烘乾區與烘乾裝置之該些近紅外光源產生器保持有一特定距離15~50cm，該些近紅外光源產生器產生一特定的光源波長分佈為800~2000nm的能量對該薄型透明基板進行烘乾作業；d)、在步驟c中的烘乾作業中，該薄型透明基板於該烘乾區上以靜態固定烘乾作業或動態烘乾作業；e)、在該薄型透明基板烘乾後，傳送至冷卻穩化區進行自然冷卻。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，進一步其中，步驟a的該薄型透明基板的表面上進行硬化層處理，該薄型透明基板為聚乙烯對苯二甲酸酯材質。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，以噴塗方式將含有奈米碳管導電塗料於薄型透明基板表面上形成有一20~100nm厚度的導電塗料，以形成一透明導電膜。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，以網印方式印製有厚度8±3um的銀膠於該透明導電膜上。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，該支撐結構為不鏽鋼材質。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，該烘乾區為一平台，該平台上包含有一可升降的定位機構，該定位機構具有一擋部，該擋部受位於該平台內部的升降機驅動。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，該平台的材質為不鏽鋼及於不鏽鋼表面外加一鐵氟龍玻纖布的不蓄熱元件。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，該烘乾區為滾輪組，以提供動態烘乾移載，該滾輪組材質為不鏽鋼，並結合鐵氟龍玻纖布的輸送帶。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，步驟c的該近紅外光源產生器產生的光源波長峰值為1000nm為主要能量提供，所提供能量為2.78~8.46W。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，該近紅外光源組所提供能量大於4W以上。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，以單位照度(瓦)2.78~8.46W可提供單位面積1米平方之塗覆金屬塗料層之薄型透明基板，進行烘乾。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，步驟c該烘乾區對應近紅外光源組保持一特定距離為25~30cm。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，步驟d中以該靜態固定烘乾作業以近紅 外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾時間(秒)，烘乾時間為25/100~30/150公分/秒。
  14. 如申請專利範圍第9項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，步驟d以該動態烘乾作業的近紅外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾宜載傳動時間為25/70~30/100公分/秒。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，步驟b中更包含有一進料機構及一出料機構，該進料機構配置於該烘乾裝置前端，該出料機構配置於該烘乾裝置後端，在該出料機構後端與該冷卻穩化區連接。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，步驟b中更包含有一排風機構，該排風機構配置於該烘乾裝置一側。
  17. 如申請專利範圍第1項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾方法，其中，步驟b中更包含有一承載該薄型透明基板的承載盤，該承載盤為塑料或玻璃基板。
  18. 一種用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，對已塗佈有金屬塗料層的薄型透明基板進行烘乾，包含：一支撐結構，其上具有一入口及一出口；一近紅外光源組，係以安裝於該支撐結構一側面上，係由複數之近紅外光源產生器組成，該些近紅外光源產生器產生一特定的光源波長分佈為800~2000nm的能量輸出；一烘乾區，係位於該支撐結構的一側面上，該烘乾區與該近紅外光源組呈相對應配置，並保持一特定距離15~50cm；其中，將薄型透明基板以捲對捲傳動或是批次固定於烘乾裝置之烘乾區，以近紅外光源組所產生的一特定的光源波長的能量對薄型透明基板進行烘乾作業。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之用於透明基板之金屬塗料層 的烘乾裝置，其中，該支撐結構以複數板狀物或複數支柱組成，該支撐結構為不鏽鋼材質。
  20. 如申請專利範圍第18項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，該些近紅外光源產生器產生一特定的光源波長峰值為1000nm為主要能量提供，所提供能量為2.78~8.46W。
  21. 如申請專利範圍第20項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，該近紅外光源組所提供能量大於4W以上。
  22. 如申請專利範圍第18項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，該烘乾區上具有一不鏽鋼材質的平台。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，該平台與該近紅外光源組呈相對應配置，並保持一特定距離為25~30cm。
  24. 如申請專利範圍第22項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，該平台的表面外加一鐵氟龍玻纖布的不蓄熱元件。
  25. 如申請專利範圍第22項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，該於該平台上具有一可升降的定位機構，該定位機構具有一擋部，該擋部受位於該平台內部的升降機驅動，該升降機為氣動缸或油壓缸。
  26. 如申請專利範圍第20項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，靜態固定烘乾作業以近紅外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾時間(秒)，烘乾時間為25/100~30/150公分/秒。
  27. 如申請專利範圍第18項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，該烘乾區為滾輪組，以提供動態烘乾移載，該滾輪組材質為不鏽鋼，並結合鐵氟龍玻纖布的輸送帶。
  28. 如申請專利範圍第20項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，動態烘乾作業的近紅外光源組對應該薄型透明基板之垂直距離(公分)對應烘乾移載傳動時間為25/70~30/100公分/秒。
  29. 如申請專利範圍第18項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，更包含有一進料機構及一出料機構，該進料機構配置於該烘乾裝置前端，該出料機構配置於該烘乾裝置後端，在該出料機構後端具有一冷卻穩化區。
  30. 如申請專利範圍第18項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，更包含有一排風機構，係以安裝於該支撐結構一側。
  31. 如申請專利範圍第18項所述之用於透明基板之金屬塗料層的烘乾裝置，其中，更包含有一承載該薄型透明基板的承載盤，該承載盤為塑料或玻璃基板。
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