CN105620011A - 用于透明基板的金属涂料层的烘干方法及其装置 - Google Patents
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Abstract
一种用于透明基板的金属涂料层的烘干方法及其装置，包括：备有已涂布金属涂料层的薄型透明基板，将薄型透明基板以卷对卷传动或是批次固定于烘干装置的烘干区进行烘干作业，该烘干区与烘干装置的近红外光源保持有一特定距离，该近红外光源以一特定的光源能量对该薄型透明基板进行烘干作业。接着，在烘干作业中，该薄型透明基板于该烘干区上以静态固定烘干作业或动态烘干作业。最后，在该薄型透明基板烘干后，传送至该冷却稳化区进行自然冷却。
Description
技术领域
本发明涉及一种烘干装置，尤其涉及一种用于透明基板的金属涂料层的烘干方法及烘干装置。
背景技术
随着电子产品的日新月异，相关基板材料上会配合产品需求，于材料表面涂覆或增设其他材质，如软性胶片或玻璃基板于表面涂覆导电材料以制作导电层，并配合产品结构需求进一步会在结构上增设其他材质的导电层或绝缘层等。
以移动信息装置为例，如移动电话、导航系统等各种电子设备的高性能化和多样化的发展，在显示设备的前方会安装如透光性的触控装置(touchpanel)的电子设备。其触控装置包括基板与一些内部元件，如透明导电层、黑色光阻层及触控信号导线等，其中，基板本身提供保护与承载该些内部元件的功能，且基板上形成有感应区和环绕该感应区的周边区。透明导电层先设置在基板表面的感应区与周边区上，而周边区的透明导电上则覆盖一层黑色光阻层。
以上于基板上涂覆各种材料，进一步再配合各材料的图形结构(如线路)需求以特定加工模式进行制作，各材料间使用搭配更显繁复，例如已于基材表面制作好的透明导电层后，进一步于该透明导电层上制作导电材料，则在工艺上就须注意在加工上不得破坏原已构成的透明导电涂层或基板结构。例如，胶片基板的软化温度仅120℃，银胶烘干温度若为130℃，若以该银胶涂覆于该胶片基板上进行导线层制作，则银胶烘干过程则会使胶片基板发生软化变形，这类在工艺上的冲突都会使相关材料结构在工艺上的材料选择或工艺条件都会变得复杂与限制。若能对于特定涂料可以简易干燥方式且不会影响涂料周边的材质，即可使相关工艺变的简易。
此外，对于现有的烘干技术多以烘箱或加热炉具直接以大量热源对于涂布材料进行烘干加热，对于热源控管不易，产生大量的能源浪费，需进一步加以考虑改善者。
参考现有技术如微波加热技术，有别于以直接烘烤箱加热的方式，利用特定能量波长可以对特定的金属材料或水可以产生转化为热能，达到短时程并有效的加热效果。或如中国台湾专利第476845号一种新颖的远红外线加热技术，可以应用在压克力基板上以低于100℃下以简短的数分钟，即可对树脂涂料产生极佳的干燥效果。利用这类远红外线光源除了热辐射外进一步可以对特定的塑料以特定的波长光源穿透涂料内部并转换为热能，以达到快速加热的效果。
据前揭技术特性，若进一步再对热源波长加以选别，应可对金属涂料层达到快速加热效果，且热源的热辐射产生的热效应更低，此将提供对于薄型透明导电膜如触控面板的导线，金属涂层制作将有极佳的助益，揭示相关技术对于热源提供可以仅对特定涂材产生热效应，对于节热节能即节能环保减碳应有助益。
发明内容
因此，本发明的主要目的，在于解决上述的缺失、利用特定波长的近红外光源并结合一机构装置，以提供于一薄型透明基板表面的金属涂料层提供均温、低温、快速的烘干效果，且对于该薄型透明基板产生的热效应低(此所谓的热效应是指该近红光热源对于透明基板的额外地热辐射增温效应)。
为达上述的目的，本发明提供一种用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，包括：
备有已涂布金属涂料层的薄型透明基板；
将薄型透明基板以卷对卷传动或是批次固定于烘干装置的烘干区进行烘干作业；
烘干区与烘干装置的近红外光源保持有一特定距离，该近红外光源以一特定的光源波长的能量对该薄型透明基板进行烘干作业；
在烘干作业中，该薄型透明基板于该烘干区上以静态固定烘干作业或动态烘干作业；
在该薄型透明基板烘干后，传送至该冷却稳化区进行自然冷却。
在本发明的一实施例中，该薄型透明基板的表面上进行硬化层处理，该薄型透明基板为聚乙烯对苯二甲酸酯材质。
在本发明的一实施例中，以喷涂方式将含有纳米碳管导电涂料于薄型透明基板表面上形成有一20～100nm厚度的导电涂料，以形成一透明导电膜。
在本发明的一实施例中，以网印方式印制有厚度8±3um的银胶于该透明导电膜上。
在本发明的一实施例中，该烘干装置更包含有一支撑结构，该支撑结构上具有一入口及一出口，以及该支撑结构一侧具有一产生近红外光源的近红外光源组，该近红外光源组与该烘干区呈相对应配置。
在本发明的一实施例中，该支撑结构为不锈钢材质。
在本发明的一实施例中，该烘干区为一平台，该平台上包含有一可升降的定位机构，该定位机构具有一挡部，该挡部受位于该平台内部的升降机驱动。
在本发明的一实施例中，该平台的材质为不锈钢及于不锈钢表面外加一铁氟龙玻纤布的不蓄热元件。
在本发明的一实施例中，该烘干区为滚轮组，以提供动态烘干移载，该滚轮组材质为不锈钢，并结合铁氟龙玻纤布的输送带。
在本发明的一实施例中，该近红外光源为近红外光源组所产生，该近红外光源组是由多个近红外光源产生器组成，以产生一特定的光源波长分布为800～2000nm，其中峰值为1000nm为主要能量提供，所提供能量为2.78～8.46W。
在本发明的一实施例中，该近红外光源组所提供能量大于4W以上。
在本发明的一实施例中，以单位照度(瓦)2.78～8.46W可提供单位面积1米平方的涂覆金属涂料层的薄型透明基板，进行烘干。
在本发明的一实施例中，该烘干区对应近红外光源组保持一特定距离15～50cm。
在本发明的一实施例中，该烘干区对应近红外光源组保持一特定距离为25～30cm。
在本发明的一实施例中，该静态固定烘干作业以近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离(厘米)对应烘干时间(秒)为25/100～30/150厘米/秒。
在本发明的一实施例中，该动态烘干作业的近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离(厘米)对应烘干宜载传动时间为25/70～30/100厘米/秒。
在本发明的一实施例中，更包含有一进料机构及一出料机构，该进料机构配置于该烘干装置前端，该出料机构配置于该烘干装置后端，在该出料机构后端具有一冷却稳化区。
在本发明的一实施例中，更包含有一排风机构，该排风机构配置于该烘干装置一侧。
在本发明的一实施例中，更包含有一承载该薄型透明基板的承载盘，该承载盘为塑料或玻璃基板。
为达上述的目的，本发明提供一种用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，对已涂布有金属涂料层的薄型透明基板进行烘干，包含：
一支撑结构，其上具有一入口及一出口；
一近红外光源组，以安装于该支撑结构一侧面上，用以提供一特定的光源波长的能量输出；
一烘干区，位于该支撑结构的一侧面上，与该近红外光源组呈相对应配置，并保持一特定距离；
其中，将薄型透明基板以卷对卷传动或是批次固定于烘干装置的烘干区，以近红外光源组所产生的光源对薄型透明基板进行烘干作业。
在本发明的一实施例中，该支撑结构以多个板状物或多个支柱组成，该支撑结构为不锈钢材质。
在本发明的一实施例中，该近红外光源组，由多个的近红外光源产生器组成，该些近红外光源产生器产生一特定的光源波长分布为800～2000nm，其中峰值为1000nm为主要能量提供，所提供能量为2.78～8.46W。
在本发明的一实施例中，该近红外光源组所提供能量大于4W以上。
在本发明的一实施例中，该烘干区上具有一不锈钢材质的平台，该平台与该近红外光源组呈相对应配置，并保持一特定距离15～50cm。
在本发明的一实施例中，该平台与该近红外光源组呈相对应配置，并保持一特定距离为25～30cm。
在本发明的一实施例中，该平台的表面外加一铁氟龙玻纤布的不蓄热元件。
在本发明的一实施例中，该平台上具有一可升降的定位机构，该定位机构具有一挡部，该挡部受位于该平台内部的升降机驱动，该升降机为气动缸或油压缸。
在本发明的一实施例中，静态固定烘干作业以近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离(厘米)对应烘干时间(秒)为25/100～30/150厘米/秒。
在本发明的一实施例中，该烘干区为滚轮组，以提供动态烘干移载，该滚轮组材质为不锈钢，并结合铁氟龙玻纤布的输送带。
在本发明的一实施例中，动态烘干作业的近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离(厘米)对应烘干移载传动时间为25/70～30/100厘米/秒。
在本发明的一实施例中，更包含有一进料机构及一出料机构，该进料机构配置于该烘干装置前端，该出料机构配置于该烘干装置后端，在该出料机构后端具有一冷却稳化区。
在本发明的一实施例中，更包含有一排风机构，以安装于该支撑结构一侧。
在本发明的一实施例中，更包含有一承载该薄型透明基板的承载盘，该承载盘为塑料或玻璃基板。
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。
附图说明
图1，本发明的透明基板上的金属涂料层烘干流程示意图；
图2，本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置示意图；
图3，为图2的侧视示意图；
图4，本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置的另一实施例示意图；
图5，为图4的输送动作示意图；
图6，本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置的再一实施例示意图。
其中，附图标记
步骤100～110
支撑结构1
入口11
出口12
近红外光源组2
近红外光源产生器21
烘干区3
平台31
定位机构32
挡部321
不蓄热元件33
滚轮组34
输送带35
排风机构4
薄型透明基板10
金属涂料层20
承载盘30
进料机构40
出料机构50
冷却稳化区60
具体实施方式
兹有关本发明的技术内容及详细说明，现在配合附图说明如下：
请参阅图1，本发明的透明基板上的金属涂料层烘干流程示意图，同时请一并参阅图2及图3所示：本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，首先，如步骤100，备有一整卷式或单片式的薄型透明基板10，并于该薄型透明基板10的表面上进行硬化层(图中未示)处理。在本图中，该薄型透明基板为聚乙烯对苯二甲酸酯(PolyethyleneTerephthalate，PET)材质。
如步骤102，以喷涂方式将含有纳米碳管导电涂料于薄型透明基板10表面上形成有一20～100nm厚度的导电涂料，以形成一透明导电膜。
步骤104，以网印方式银胶印制于该透明导电膜上，以形成线路，以该透明导电膜及该线路形成一金属涂料层20。
步骤106，在整卷式或单片式的薄型透明基板10上的金属涂料层20涂布后，将已涂布金属涂料层的薄型透明基板10以卷对卷传动或是批次固定放置承载盘(图中未示)，再送进于烘干装置的烘干区3进行烘干作业。在本图中，该烘干区3为一平台31，该平台31上包含有一可升降的定位机构32，该平台31的材质为不锈钢及于不锈钢表面外加一铁氟龙玻纤布的不蓄热元件33，对于近红外光源组2吸热效果较低，不致蓄热；或者该烘干区3为滚轮组34，以提供动态烘干移载，该滚轮组34材质为不锈钢，并结合铁氟龙玻纤布的输送带35，可以降低蓄热。
步骤108，在烘干装置的近红外光源组2产生了一特定的光源波长分布为800～2000nm，其中峰值为1000nm为主要能量提供，所提供能量为2.78～8.46W，能量大于4W以上为佳。该烘干区对应近红外光源组2保持一特定距离15～50cm，其中以25～30cm为佳。另，以单位照度(瓦)2.78～8.46W可提供单位面积1米平方的涂覆金属涂料层20的薄型透明基板，进行烘干，其中静态固定烘干作业以近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离(厘米)对应烘干时间(秒)，以25/100～30/150厘米/秒为佳；若为动态烘干作业的近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离(厘米)对应烘干移载传动时间为25/70～30/100厘米/秒为佳。
步骤110，烘干后进行自然冷却(稳化)5分钟，即完成。
请参阅图2，本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置示意图。如图所示：本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，包含：一支撑结构1、一近红外光热源组2、一烘干区3、一排风结构4。
该支撑结构1，以多个板状物或多个支柱组成，且于该支撑结构1上具有入口11及一出口12。在本图中，该支撑结构1为不锈钢材质，不锈钢材质在常温下散热快，不致蓄热。
该近红外光源组2，由多个的近红外光源产生器21组成，该些近红外光源产生器21安装于该支撑结构1一侧面上，该近红外光源产生器21的光源波长分布为800～2000nm，其中峰值为1000nm为主要能量提供，所提供能量为2.78～8.46W，能量大于4W以上为佳。在本图中，近红外光源产生器为近红外光源灯管。
该烘干区3，其上具有一不锈钢材质的平台31，该平台31位于该支撑结构1的一侧面上，与该近红外光源组2呈相对应配置，并保持一特定距离15～50cm，其中以25～30cm为佳。另，于该平台上具有一可升降的定位机构32，该定位机构32具有一挡部321，该挡部321受位于该平台31内部的升降机322驱动，在挡部321未升起时，隐藏于该平台31内部，在涂覆金属涂料层(图中未示)的该薄型透明基板(图中未示)进入该支撑结构1内部后，该平台31内部的升降机(图中未示)受外部的控制装置驱动升起而出于该平台31表面，以挡住薄型透明基板，在烘干完成后，该升降机驱动该挡部321缩回置该平台31内部。又，于该平台31的表面外加一铁氟龙玻纤布的不蓄热元件33，该不蓄热元件33对于近红外光源组吸热效果较低，不致蓄热。在本图中，该升降机为气动缸或油压缸。
该排风机构4，安装于该支撑结构1一侧，以移除金属涂料层经烘干后产生的挥发溶剂，或控制板材(薄型透明基板或承载盘)的表面温度。在本图式中，该排风机构4为一抽风机。
请参阅图2及图3，本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置使用状态及图2的侧视示意图。如图所示：在本发明的烘干装置对单片式的薄型透明基板10时，将已涂布完成金属涂料层20的该薄型透明基板10放置于该承载盘30上，在承载盘30送入于该支撑结构1内部的该平台31表面上，该平台31内部的升降机(图中未示)受外部的控制装置驱动升起而出于该平台31表面，以挡住该薄型透明基板10，在进行烘干时，使静态固定烘干作业以该近红外光源组2对应该薄型透明基板10的垂直距离(厘米)对应烘干时间(秒)为25/100～30/150厘米/秒为佳，在烘干过程中，同时起动该排风机构4以移除金属涂料层20经烘干后产生的挥发溶剂，或控制板材的表面温度。在烘干完成后，该升降机驱动该挡部321缩回置该平台31内部，此时即可将该承载盘30取出。在本图中，该承载盘30为塑料或玻璃基板。
请参阅图4及图5，本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置的另一实施例及图4的输送示意图。如图所示：在本发明的烘干装置对单片式的薄型透明基板10时，在该烘干装置的前端及后端上配置有一进料机构40及一出料机构50，该进料机构40及该出料机构50为输送带或者机械手臂或气动缸。在本图中，该进料机构40及该出料机构50以输送带为举例说明，该输送带由多个滚轮或皮带式组成。
在已涂布金属涂料层的单片式的薄型透明基板10进行烘干作业时，将该薄型透明基板10放置于该承载盘30上，再将承载盘30放置于该进料机构40上，由该进料机构40将该承载盘30送入于该支撑结构1内部的原平台31位置上进行烘干动作。在烘干后，再由支撑机构1内部所增设的气动缸(图中未示)或机械手臂(图中未示)，将该烘干完成的薄型透明基板10的承载盘30送至该出料机构50上，再由出料机构50将该烘干完成的薄型透明基板10的承载盘30送出。
进一步，于烘干装置后端出料机构50，设置一冷却稳化区60，以使薄型透明基材10回温即干燥完全。
请参阅图6，本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置的再一实施例示意图。如图所示：本实施例与图2大致相同，所不同处在于该烘干区3为滚轮组34，以提供动态烘干移载，该滚轮组34材质为不锈钢，并结合铁氟龙玻纤布的输送带35，可以降低蓄热。
将已涂布金属涂料层的薄型透明基板10以卷对卷传动或是批次(单片式)进行烘干作业时，将该薄型透明基板10放置于该承载盘30上，再将承载盘30放置于该输送带35将该承载盘30送入于该支撑结构1内部，并以动态烘干作业的近红外光源组2对应该薄型透明基板10的垂直距离(厘米)对应烘干移载传动时间为25/70～30/100厘米/秒为佳，烘干后进行送至该冷却稳化区60，进行自然冷却(稳化)5分钟后，即完成。
为了能更进一步了解本发明的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法及其装置，能够达到预期的目的及功效，本发明特列举下列数个实施例与对照例说明：
实施例一，本发明结构1，选用三条近红外光源产生(以下简称为光源，以便于说明之用)，光源平行并列，光源长度60厘米，两光源间隔20厘米，光源功率(照度)4.61W，光源波长分布800nm～2000nm，光源与表面涂覆银胶的待烘干的薄型透明基板(PETfilm)距离为30厘米，以移载速率1m/min将透明基板送入烘干区，移出后室温静置5分钟，基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业可于动态R2R作业)
实施例二，本发明结构2，选用两条近红外光源，光源平行并列，光源长度60厘米，两光源间隔20厘米，光源功率(照度)4.61W，光源波长分布800nm～2000nm，光源与表面涂覆银胶的待烘干的薄型透明基板(PETfilm)距离为30厘米，静态固定进行烘干150秒，烘干后室温下静置5分钟，基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业可于静态干燥的正常作业)
实施例三，本发明结构2，选用两条近红外光源，光源平行并列，光源长度60厘米，两光源间隔15厘米，光源功率(照度)4.61W，光源波长分布800nm～2000nm，光源与表面涂覆银胶的待烘干的薄型透明基板(PETfilm)距离为30厘米，静态固定进行烘干120秒，烘干后室温下静置5分钟，基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业可于另一干燥作业条件正常作业)
实施例四，同实施例三，仅将薄型透明基板置换为已经表面制作透明导电材料的透明导电膜，于该透明导电膜表面再涂覆银胶送入烘干区，静态固定进行烘干150秒，烘干后室温下静置5分钟，薄型透明基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业可于表面有导电薄膜的银胶涂布的干燥作业)
实施例五，本发明结构2，仅光源与表面涂覆银胶的待烘干的薄型透明基板(PETfilm)距离改为25厘米，静态固定进行烘干100秒，烘干后室温下静置5分钟，基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业可于另一种光源高度下的干燥作业)
实施例六，同实施例三，于本发明结构2中更增设一排风机构，于薄型透明基板(PETfilm)表面再涂覆银胶送入烘干区，静态固定进行烘干150秒，烘干后室温下静置5分钟，基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业可于排气作业下的干燥作业)
对照例一，以电热烘箱进行烘烤，烤箱内提供温度130度C的热风循环，静态固定进行烘干1800秒，烘干后室温下静置20分，薄型透明基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业时间长)
对照例二，同实施例三，于本发明结构2，仅将光源置换为远红外光源产生器，静态固定进行烘干240秒，烘干后室温下静置5分钟，薄型透明基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业会破坏透明基板产生变形)
对照例三，同实施例三，于本发明结构2，仅将两光源间距改为40厘米，静态固定进行烘干120秒，烘干后室温下静置5分钟，薄型透明基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业会仅对部分银胶涂布区域有干燥效果)
对照例四，同实施例三，于本发明结构2，仅将光源功率改为3.77瓦，静态固定进行烘干300秒，烘干后室温下静置5分，基板表面温度回到室温。(实验目的凸显烘干作业需要最低的功率方能产生干燥效果)
相关规格要件：
银胶涂覆干燥后表面干照程度鉴别方式：附着力测试，使用百格刀在银胶膜面上划至100格(1mmx1mm/格)，使用3m(600)胶带贴在切口上后撕起，观察涂布物剥落的状况，即可得知其附着力，结果在切割边缘完整，涂膜完全没有剥落。
比较表：
经过上述的比较表中的实施例1～6结果显示，本发明的烘干装置，可以提供PET材质的薄型透明基板10上于涂覆银胶后进行烘干作业，在该薄型透明基板10表面温度可以控制在120℃以下，且烘干时间可以确保在150秒内完成，相较于现有技术以热风烘箱或是远红外线烘烤(对照例一、二)，温度达130℃且烘干时间较长达240秒以上，且易有经烘干后薄型透明基板变形的不良现象发生，需要精确的节能作业近红外光源产生器21的间隙与近红外光源产生器21与薄型透明基板10间的距离需精密调整后，使达成最佳化的效过，否则近红外光源产生器21之间的间隙过大(对照例三)或近红外光源产生器21能量不足(对照例四)，会有使银胶干燥不完整产生剥落的不良现象，此外本装置除可应用于将银胶涂布于PET基板上的烘干作业外。
进一步，对于薄型透明基板10上已涂覆透明导电膜如CNT透明导电膜的银胶涂覆作业仍适用(实施例四)。
再进一步，利用近红外光源产生器21的光源于金属涂料层产生的加热效应，因此更可以于烘干装置内增设排风机构4，不致影响银胶的干燥效果，且能提供将银胶涂料于干燥作业中的溶剂排除优点(实施例六)。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。
Claims (33)
1.一种用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，包括：
a)、备有已涂布金属涂料层的薄型透明基板；
b)、将薄型透明基板以卷对卷传动或是批次固定于烘干装置的烘干区进行烘干作业；
c)、烘干区与烘干装置的近红外光源保持有一特定距离，该近红外光源以一特定的光源波长的能量对该薄型透明基板进行烘干作业；
d)、在步骤c中的烘干作业中，该薄型透明基板于该烘干区上以静态固定烘干作业或动态烘干作业；
e)、在该薄型透明基板烘干后，传送至冷却稳化区进行自然冷却。
2.根据权利要求1所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，进一步其中，步骤a的该薄型透明基板的表面上进行硬化层处理，该薄型透明基板为聚乙烯对苯二甲酸酯材质。
3.根据权利要求1所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，以喷涂方式将含有纳米碳管导电涂料于薄型透明基板表面上形成有一20～100nm厚度的导电涂料，以形成一透明导电膜。
4.根据权利要求1所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，以网印方式印制有厚度8±3um的银胶于该透明导电膜上。
5.根据权利要求1所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤b中的烘干装置更包含有一支撑结构，该支撑结构上具有一入口及一出口，以及该支撑结构一侧具有一产生近红外光源的近红外光源组，该近红外光源组与该烘干区呈相对应配置。
6.根据权利要求5所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，该支撑结构为不锈钢材质。
7.根据权利要求5所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，该烘干区为一平台，该平台上包含有一可升降的定位机构，该定位机构具有一挡部，该挡部受位于该平台内部的升降机驱动。
8.根据权利要求7所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，该平台的材质为不锈钢及于不锈钢表面外加一铁氟龙玻纤布的不蓄热元件。
9.根据权利要求5所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，该烘干区为滚轮组，以提供动态烘干移载，该滚轮组材质为不锈钢，并结合铁氟龙玻纤布的输送带。
10.根据权利要求5所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤c的该近红外光源为近红外光源组产生，该近红外光源组由多个近红外光源产生器产生一特定的光源波长分布为800～2000nm，其中峰值为1000nm为主要能量提供，所提供能量为2.78～8.46W。
11.根据权利要求10所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，该近红外光源组所提供能量大于4W以上。
12.根据权利要求5所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，以单位照度2.78～8.46W能够提供单位面积1米平方的涂覆金属涂料层的薄型透明基板，进行烘干。
13.根据权利要求5所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤c该烘干区对应近红外光源组保持一特定距离15～50cm。
14.根据权利要求13所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤c该烘干区对应近红外光源组保持一特定距离为25～30cm。
15.根据权利要求5所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤d中以该静态固定烘干作业以近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离对应烘干时间为25/100～30/150厘米/秒。
16.根据权利要求10所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤d以该动态烘干作业的近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离对应烘干宜载传动时间为25/70～30/100厘米/秒。
17.根据权利要求1所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤b中更包含有一进料机构及一出料机构，该进料机构配置于该烘干装置前端，该出料机构配置于该烘干装置后端，在该出料机构后端与该冷却稳化区连接。
18.根据权利要求1所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤b中更包含有一排风机构，该排风机构配置于该烘干装置一侧。
19.根据权利要求1所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干方法，其特征在于，步骤b中更包含有一承载该薄型透明基板的承载盘，该承载盘为塑料或玻璃基板。
20.一种用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，对已涂布有金属涂料层的薄型透明基板进行烘干，其特征在于，包含：
一支撑结构，其上具有一入口及一出口；
一近红外光源组，以安装于该支撑结构一侧面上，用以提供一特定的光源波长的能量输出；
一烘干区，位于该支撑结构的一侧面上，与该近红外光源组呈相对应配置，并保持一特定距离；
其中，将薄型透明基板以卷对卷传动或是批次固定于烘干装置的烘干区，以近红外光源组所产生的一特定的光源波长的能量对薄型透明基板进行烘干作业。
21.根据权利要求20所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，该支撑结构以多个板状物或多个支柱组成，该支撑结构为不锈钢材质。
22.根据权利要求20所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，该近红外光源组，由多个的近红外光源产生器组成，该些近红外光源产生器产生一特定的光源波长分布为800～2000nm，其中峰值为1000nm为主要能量提供，所提供能量为2.78～8.46W。
23.根据权利要求22所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，该近红外光源组所提供能量大于4W以上。
24.根据权利要求20所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，该烘干区上具有一不锈钢材质的平台，该平台与该近红外光源组呈相对应配置，并保持一特定距离15～50cm。
25.根据权利要求24所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，该平台与该近红外光源组呈相对应配置，并保持一特定距离为25～30cm。
26.根据权利要求24所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，该平台的表面外加一铁氟龙玻纤布的不蓄热元件。
27.根据权利要求24所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，该于该平台上具有一可升降的定位机构，该定位机构具有一挡部，该挡部受位于该平台内部的升降机驱动，该升降机为气动缸或油压缸。
28.根据权利要求22所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，静态固定烘干作业以近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离对应烘干时间为25/100～30/150厘米/秒。
29.根据权利要求20所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，该烘干区为滚轮组，以提供动态烘干移载，该滚轮组材质为不锈钢，并结合铁氟龙玻纤布的输送带。
30.根据权利要求22所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，动态烘干作业的近红外光源组对应该薄型透明基板的垂直距离对应烘干移载传动时间为25/70～30/100厘米/秒。
31.根据权利要求20所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，更包含有一进料机构及一出料机构，该进料机构配置于该烘干装置前端，该出料机构配置于该烘干装置后端，在该出料机构后端具有一冷却稳化区。
32.根据权利要求20所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，更包含有一排风机构，以安装于该支撑结构一侧。
33.根据权利要求20所述的用于透明基板的金属涂料层的烘干装置，其特征在于，更包含有一承载该薄型透明基板的承载盘，该承载盘为塑料或玻璃基板。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20160601 |