CN101324827A - 静电电容型输入装置 - Google Patents

静电电容型输入装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101324827A
CN101324827A CNA2008101101377A CN200810110137A CN101324827A CN 101324827 A CN101324827 A CN 101324827A CN A2008101101377 A CNA2008101101377 A CN A2008101101377A CN 200810110137 A CN200810110137 A CN 200810110137A CN 101324827 A CN101324827 A CN 101324827A
Authority
CN
China
Prior art keywords
transparent electrode
optically transparent
aforementioned
film
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2008101101377A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101324827B (zh
Inventor
松尾睦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Inc
Original Assignee
Sanyo Epson Imaging Devices Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Epson Imaging Devices Corp filed Critical Sanyo Epson Imaging Devices Corp
Publication of CN101324827A publication Critical patent/CN101324827A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101324827B publication Critical patent/CN101324827B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04111—Cross over in capacitive digitiser, i.e. details of structures for connecting electrodes of the sensing pattern where the connections cross each other, e.g. bridge structures comprising an insulating layer, or vias through substrate
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/048—Indexing scheme relating to G06F3/048
    • G06F2203/04804—Transparency, e.g. transparent or translucent windows

Abstract

本发明涉及静电电容型输入装置。其能简化制造过程，并使透光性基板上的图形、图形彼此的交叉部不明显。带输入装置的显示装置(100)的输入装置(10)为静电电容型的触摸面板，在透光性基板(15)的一方的面，通过按顺序叠层膜厚度为10～20nm的ITO膜、膜厚度为40～60nm的氧化硅膜及膜厚度为10～20nm的第2ITO膜的多层膜，形成第1透光性电极图形(11)及第2透光性电极图形(12)。在交叉部分(18)，第1透光性电极图形(11)相连，而第2透光性电极图形(12)被截断。在交叉部分(18)处被截断的第2透光性电极图形(12)通过形成于层间绝缘膜(4a)的上层的中继电极(5a)电连接。

Description

静电电容型输入装置
技术领域
本发明，涉及可以对手指的接触位置作为静电电容的变化进行检测的静电电容型输入装置。
背景技术
在便携电话机、汽车导航仪、个人计算机、售票机、银行的终端等的电子设备中，近年来，存在在液晶装置等的表面配置板型的输入装置，通过一边参照显示于液晶装置的图像显示区域的指示图像，一边将手指等接触于显示该指示图像之处，进行对应于指示图像的信息的输入的装置。
在如此的输入装置(触摸面板)中，虽有电阻膜型、静电电容型等，但是电阻膜型的输入装置，因为是在膜与玻璃的2层结构中、按压膜使之短路的结构，所以存在工作温度范围窄、随时间变化性差的缺点。
相对于此，静电电容型的输入装置，有在一片基板形成透光性导电膜即可的优点。在该静电电容型的输入装置中，例如有以下类型：在互相交叉的方向使电极图形延伸，当手指等接触时，对电极间的静电电容发生变化这一点进行检测而检测出输入位置(例如，专利文献1)。
并且，作为静电电容型的输入装置，也有以下类型：在透光性导电膜的两端施加同相、同电位的交流，对当手指接触或者接近而形成电容时流通的微弱电流进行检测而检测出输入位置。
【专利文献1】特开2007-122326号公报
当构成静电电容型输入装置时，若在透光性基板的输入区域，将以第1方向延伸的多个第1透光性电极图形、与以交叉于第1方向的第2方向延伸的多个第2透光性电极图形分别形成于透光性基板的表面及背面，则有制造过程变得繁杂等的问题点。
并且，在输入装置中，因为使以液晶装置所显示的图像从输入装置的输入面侧进行透射而观看，所以可在基板及电极图形中采用透光性强的材料，即便如此，若反射率在形成透光性电极图形等的区域、与未形成透光性电极图形等的区域之间大不相同，则透光性电极图形的存在等的存在较显眼，并不优选。然而，若将第1透光性电极图形、与第2透光性电极图形分别形成于透光性基板的表面及背面，则因为在第1透光性电极图形与第2透光性电极图形之间夹着透光性基板，所以光学性构成在形成第1透光性电极图形的区域、形成第2透光性电极图形的区域、未形成这些透光性电极图形的区域大不相同的结果是，导致在各区域间产生大的反射率差，透光性电极图形的存在较为显眼的问题点。
发明内容
鉴于以上的问题点，本发明的目的在于：提供能够谋求制造过程的简单化，并使透光性基板上的图形、图形彼此的交叉部不明显的静电电容型输入装置。
为了解决上述问题，在本发明中，在透光性基板的输入区域形成有延伸于第1方向的多个第1透光性电极图形、与延伸于交叉于前述第1方向的第2方向的多个第2透光性电极图形的静电电容型输入装置中，特征为：前述第1透光性电极图形与前述第2透光性电极图形形成于前述透光性基板的同一面上；在前述第1透光性电极图形与前述第2透光性电极图形的交叉部分处，前述第1透光性电极图形及前述第2透光性电极图形之中的一方电极图形相连，另一方面另一方电极图形被截断；至少在前述交叉部分处的前述一方电极图形的上层侧形成透光性的层间绝缘膜，并在该层间绝缘膜的上层，形成对在该交叉部分被截断的前述另一方电极图形彼此进行电连接的透光性的中继电极。
在本发明中的静电电容型输入装置中，因为在透光性基板的同一面上形成第1透光性电极图形及第2透光性电极图形，所以与分别在透光性基板的表面及背面形成有第1透光性电极图形及第2透光性电极图形的情况相比较能够简化制造过程。在此，若使第1透光性电极图形及第2透光性电极图形形成于透光性基板的同一面侧，则必须使第1透光性电极图形与第2透光性电极图形相交叉，该交叉部分的膜构成，与第1透光性电极图形及第2透光性电极图形不相同。因此，使得当从输入装置的输入面侧看以液晶装置等所显示的图像时，在形成透光性电极图形等的区域、与未形成透光性电极图形等的区域之间的反射率之差较小地形成透光性电极图形，即使不使透光性电极图形明显而交叉部分也会显眼。然而在本发明中，在交叉部分处、电极图形被截断，该被截断的电极图形彼此，通过形成于透光性的层间绝缘膜的上层的透光性的中继电极所电连接。因此，交叉部分占的面积狭小。并且，因为交叉部分，成为叠层了透光性的薄膜的结构，所以能够使交叉部分的存在不明显。因此，若依照于本发明，则因为当从输入装置的输入面侧看时，交叉部分的存在不明显，所以在输入装置的背面侧配置有图像生成装置的情况下，能够显示高质量的图像。
在本发明中，优选：前述第1透光性电极图形与前述第2透光性电极图形通过同一构件所形成。若如此地由同一层而形成第1透光性电极图形与第2透光性电极图形，则与通过不同的层而形成了第1透光性电极图形及第2透光性电极图形的情况相比较能够简化制造过程。
在本发明中，优选：前述第1透光性电极图形及前述第2透光性电极图形，分别在以前述交叉部分所夹着的区域具备大面积部分；在前述一方电极图形中的位于前述交叉部分的连接部分、及前述中继电极，具有宽度比前述大面积部分窄的宽度细窄形状。若对于第1透光性电极图形及第2透光性电极图形设置大面积部分，则能够对输入位置高精度地进行检测，另一方面，若使一方电极图形中的位于交叉部分的部分、及中继电极细窄，则能够使交叉部分的存在不明显。
在本发明中，优选：前述第1透光性电极图形及前述第2透光性电极图形，由具有不同的折射率的透光性薄膜彼此相重叠地形成的多层膜所构成。若如此地进行构成，则因为能够使形成第1透光性电极图形及第2透光性电极图形的区域、与未形成这些透光性电极图形的区域的反射率之差变小，所以在从其输入面侧看输入装置的情况下，电极图形不明显。即，入射光，当从折射率小的介质行进经过折射率大的介质时，在介质间的界面进行反射。从而，在透光性基板上形成透光性电极图形的情况下，虽然因为存在入射面侧的空气层/透光性电极图形的界面、与透光性电极图形/透光性基板的界面，所以在形成透光性电极图形的区域、与未形成透光性电极图形的区域中产生反射率差，结果导致可看出透光性电极图形的存在，但是若采用多层膜、使在各界面进行了反射的光的相位反相而抵消，则能够消除形成透光性电极图形的区域、与未形成透光性电极图形的区域的反射率之差。因此，能够使得透光性电极图形的存在不明显。
在本发明中，作为前述多层膜，能够采用下述构成：作为前述透光性薄膜，例如，叠层ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)、IZO(Indium ZincOxide，氧化铟锌)等的透光性的导电性金属氧化膜，及氧化硅膜、氮氧化硅膜等的透光性的硅化合物。
例如，在前述透光性基板是玻璃基板的情况下，前述多层膜，能够采用按顺序叠层膜厚度为10～20nm的第1ITO膜、膜厚度为40～60nm的氧化硅膜、及膜厚度为10～20nm的第2ITO膜的构成。
在本发明中，作为前述中继电极，能够采用膜厚度为10～15nm的ITO膜等的透光性的导电性金属氧化膜。
在本发明中，能够采用以下构成：在前述透光性基板中，在前述输入区域的外侧区域，形成分别电连接于前述第1透光性电极图形及前述第2透光性电极图形的多条金属布线。若如此地进行构成，则相比较于将透光性电极图形直接用作布线的情况，能够减小布线电阻。
附图说明
图1(a)、(b)分别是模式性地表示应用了本发明的带输入装置的显示装置的构成的说明图、及模式性地表示该带输入装置的显示装置的平面性的构成的说明图。
图2是表示形成于本发明的实施方式1中的输入装置的第1透光性电极图形及第2透光性电极图形的平面性的构成的说明图。
图3(a)、(b)、(c)分别是本发明的实施方式1中的输入装置的A1-A1’剖面图、表示透光性电极图形与金属布线的连接结构的剖面图、及利用了光学干涉的防止反射技术的说明图。
图4是表示本发明的实施方式1中的输入装置的制造方法的工序剖面图。
图5是表示形成于本发明的实施方式2中的输入装置的第1透光性电极图形及第2透光性电极图形的平面性的构成的说明图。
图6(a)、(b)分别是本发明的实施方式2中的输入装置的A2-A2’剖面图、及表示透光性电极图形与金属布线的连接结构的剖面图。
图7是表示本发明的实施方式2中的输入装置的制造方法的工序剖面图。
图8是采用了本发明中的带输入装置的显示装置的电子设备的说明图。
符号的说明
1a...第1ITO膜，2a...氧化硅膜，3a...第2ITO膜，4a、4b...层间绝缘膜，5a...中继电极，9a...金属布线，10...输入装置，11...第1透光性电极图形，12...第2透光性电极图形，15...透光性基板，18...交叉部分，11a、11b...垫部(pad)(大面积部分)，11c...连接部分，50...液晶装置(图像生成装置)，100...带输入装置的显示装置。
具体实施方式
参照附图，对本发明的实施方式进行说明。还有，在以下的说明进行参照的附图中，为了使各层、各构成在附图中为可以辨认的程度的大小，按每层、每构件使比例尺各不相同。
实施方式1
(整体构成)
图1(a)、(b)分别是模式性地表示应用了本发明的带输入装置的显示装置的构成的说明图、及模式性地表示该带输入装置的显示装置的平面性的构成的说明图。还有，在图1(b)中，关于第1透光性电极图形及第2透光性电极图形以实线简化而表示，关于它们的数量也减少而表示。
在图1(a)中，本方式的带输入装置的显示装置100，大致具有：作为图像生成装置的液晶装置50，和在该图像生成装置处重叠于出射显示光之侧的面所配置的面板状的输入装置10(触摸面板)。液晶装置50，具备透射型、反射型或者半透射半反射型的有源矩阵型液晶面板50a，在透射型或者半透射半反射型的液晶面板的情况下，在与显示光的出射侧相反侧配置背光源装置(未图示)。并且，在液晶装置50中，相对于液晶面板50a而将相位差板、偏振板(未图示)与之相重叠所配置。液晶面板50a，具备：元件基板51，相对于元件基板51所对向配置的对向基板52，和保持于对向基板52与元件基板51之间的液晶层；在元件基板51中，在从对向基板52的边缘伸出的区域连接柔性基板53。在元件基板51有时也以COG方式安装驱动用IC。不管哪种情况，液晶装置50都可以显示动态图像、静态图像，当进行相对于带输入装置的显示装置100的输入时，显示对应于输入信息的指示图像。从而，使用者，如果以手指接触以带输入装置的显示装置100所显示的指示图像，则能够进行信息的输入。
输入装置10为静电电容型的触摸面板，具备：1块透光性基板15，和连接于透光性基板15的端部的柔性基板19。在柔性基板19，连接用于在输入装置10中进行输入位置的检测的驱动电路(未图示)。在输入装置10中，通过透光性基板15的上表面而构成输入面10b，透光性基板15的输入面10b的大致中央区域成为进行利用指尖实现的输入的输入区域10a。
如示于图1(b)地，透光性基板15的输入面10b之中，在输入区域10a，形成延伸于以箭头X表示的第1方向的多列第1透光性电极图形11、与延伸于以箭头Y表示的交叉于第1方向的第2方向的多列第2透光性电极图形12。
在如此的构成的输入装置10中，对多个第1透光性电极图形11及多个第2透光性电极图形12依次施加电压、产生电荷时，若作为导体的手指接触于某部位，则因为在第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12、与手指之间也具有电容，作为其结果是静电电容降低，所以能够检测出手指接触到了哪个部位。
(输入装置10的详细构成)
图2，是表示形成于本发明的实施方式1中的输入装置的第1透光性电极图形及第2透光性电极图形的平面性的构成的说明图。图3(a)、(b)、(c)分别是本发明的实施方式1中的输入装置的A1-A1’剖面图、表示透光性电极图形与金属布线的连接结构的剖面图、及利用了光学干涉的防止反射技术的说明图。还有，在图2中，主要表示第1透光性电极图形及第2透光性电极图形的一部分。
如示于图1(b)、图2及图3(a)地，在本方式的输入装置10中，第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12通过同一层形成于透光性基板15的同一面上。并且，在透光性基板15的输入区域10a中，因为第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12通过同一层形成于透光性基板15的同一面上，所以第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12的交叉部分18存在多处。
于是，在本方式中，在多个交叉部分18的任何一处，都成为以下构成：第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12之中的一方电极图形，即使在交叉部分18处也相连，但是另一方面，另一方电极图形被截断。在本方式中，在多个交叉部分18的任何一处，都成为以下构成：第1透光性电极图形11相连，另一方面第2透光性电极图形12被截断。
并且，在交叉部分18处的第1透光性电极图形11的上层侧，形成透光性的层间绝缘膜4a，并在该层间绝缘膜4a的上层，形成对在交叉部分18处被截断的第2透光性电极图形12彼此进行电连接的透光性的中继电极5a。因此，第2透光性电极图形12沿第2方向被电连接。
在此，第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，分别在以交叉部分18所夹着的区域具备棱形形状的大面积的垫部11a、12a(大面积部分)，第1透光性电极图形11中的位于交叉部分18的连接部分11c，成为宽度比垫部11a窄的细窄形状。并且，中继电极5a也以宽度比垫部11a、12a窄的细窄形状而形成为长方形。
如示于图1(a)、(b)、及图3(b)地，在透光性基板15中在输入区域10a的外侧区域，形成分别电连接于第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的多条金属布线9a，这些金属布线9a的端部，构成用于对柔性基板19进行连接的端子19a。
在如此地构成的输入装置10中，在本方式中，为了防止起因于形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的区域、与未形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的区域的反射率之差，而看出第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的存在这一问题，基于参照图3(c)而在以下进行说明的利用了光学干涉的防止反射技术，对第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的材质及厚度进行设定。
首先，如示于图3(c)地，所谓利用了光学干涉的防止反射技术，是当入射光在薄膜的表面、及基板与薄膜的界面进行了反射时，通过使该表面反射光与界面反射光的相位反相抵消而减少反射光的技术。即，在图3(c)中，在薄膜的折射率(n1)与膜厚度(d1)、与基板的折射率(n2)，满足下述式
(n1)2＝n0×n2
n1×d1＝λ/4
的情况下，波长λ(nm)时的反射率成为0％。在此，因为防止反射效果存在波长相关性、也存在薄膜的膜相关性，所以进行了光学模拟，得到了以下结论：如果使第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，采用使得具有不同的折射率的透光性薄膜彼此相重叠地所形成的多层膜、例如叠层透光性的导电性金属氧化膜、及透光性的硅化合物的结构，则可消除形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的区域、与未形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的区域的反射率之差，能够使得看不出来第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的存在。
于是，在本实施方式中，因为透光性基板15是玻璃基板(折射率＝1.52)，所以关于构成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的多层膜，采用按顺序叠层膜厚度为10～20nm的第1ITO膜1a(折射率＝1.80)、膜厚度为40～60nm的氧化硅膜2a(折射率＝1.46)、及膜厚度为10～20nm的第2ITO膜3a(折射率＝1.80)的结构。更具体地，关于构成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的多层膜，将第1ITO膜1a、氧化硅膜2a、及第2ITO膜3a的膜厚度分别设定成10nm、40nm及10nm的条件，或者15nm、50nm及15nm的条件。
因此，在本方式的输入装置10中，中继电极5a，在第2透光性电极图形12处连接于叠层于最上层的第2ITO膜3a。并且，金属布线9a，在第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12处连接于叠层于最上层的第2ITO膜3a。
在此，中继电极5a由薄膜ITO膜(膜厚度，为10～15nm)构成。层间绝缘膜4a，由感光性树脂构成，在本方式中，层间绝缘膜4a，由厚度为1～2μm的丙烯酸树脂(折射率＝1.52)构成。因此，关于交叉部分18，也使得中继电极5a，为细窄形状、面积小，使其存在不明显。
(输入装置10的制造方法)
图4(a)～(e)，是表示本发明的实施方式1中的输入装置的制造方法的工序剖面图。还有，在图4(a)～(e)，一并表示透光性电极图形、交叉部及金属布线，在左侧表示相当于图3(a)的部分，并在右侧表示相当于图3(b)的部分。
当制造本方式的输入装置10时，首先，如示于图4(a)地，在透光性基板15(玻璃基板)的一方的面整体，形成了膜厚度为10～20nm的多晶第1ITO膜1、膜厚度为40～60nm的氧化硅膜2、及膜厚度为10～20nm的多晶第2ITO膜3a之后，形成金属膜9。
接下来，以在金属膜表面形成有由感光性树脂等构成的蚀刻掩模的状态对金属膜进行蚀刻，并如示于图4(b)地，在构图形成了金属布线9a之后，去除蚀刻掩模。
接下来，以在金属布线9a及第2ITO膜3a等的上层侧形成有由感光性树脂等构成的蚀刻掩模的状态，对第1ITO膜1、氧化硅膜2、及第2ITO膜3进行蚀刻，并如示于图4(c)地，在构图形成了第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12之后，去除蚀刻掩模。在如此地形成的第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12的交叉部分18处，第1透光性电极图形11，通过连接部分11c使垫部11a相连，另一方面第2透光性电极图形12被截断。
接下来，在第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的表面侧涂敷了丙烯酸树脂之后，曝光显影，如示于图4(d)地，覆盖第1透光性电极图形11的连接部分11c地形成层间绝缘膜4a。
接下来，在层间绝缘膜4a的上层侧形成了非晶ITO膜之后，以在ITO膜的表面形成有由感光性树脂等构成的蚀刻掩模的状态对ITO膜进行蚀刻，如示于图4(e)地，在层间绝缘膜4a的上层，连接第2透光性电极图形12的截断部分地形成中继电极5a。然后，以温度为200℃以上的条件，例如温度为220℃、时间为20～30分钟的条件进行烧制，使构成中继电极5a的ITO膜成为多晶ITO膜。若是多晶ITO膜则能够以草酸等进行蚀刻，因为若是草酸则不会蚀刻多晶ITO膜，所以当构图形成中继电极5a时，构成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的第2ITO膜3a不会损伤。并且，通过烧制，因为使构成中继电极5a的ITO膜成为多晶ITO膜，所以也能够降低中继电极5a的电阻。
(本方式的主要的效果)
如以上进行了说明地，在本方式中，因为第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，由具有不同的折射率的透光性薄膜彼此相重叠地所形成的多层膜构成，所以能够消除形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的区域、与未形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的区域的反射率之差。即，在本实施方式中，因为透光性基板15是玻璃基板，构成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的多层膜具有按顺序叠层膜厚度为10～20nm的第1ITO膜1a、膜厚度为40～60nm的氧化硅膜2a、膜厚度为10～20nm的第2ITO膜3a的构成，所以成为使在各界面进行了反射的光的相位反相而抵消的构成。因此，因为能够消除形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的区域、与未形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的区域的反射率之差，所以能够防止看出第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的存在。
尤其在本方式中，因为第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12具备大面积的垫部11a、12a，所以虽然为非常显眼的形状，但是若应用本发明，则即使在形成了该形状的第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的情况下，也能够可靠地防止其显眼这一情况。
并且，在本方式中，因为在透光性基板15的同一面上形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，所以与分别在透光性基板15的表面及背面形成有第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的情况相比较，能够简化制造过程。而且，因为第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12通过同一层所形成，所以与通过不同的层形成了第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的情况相比较，能够简化制造过程。
在此，若使第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12通过同一层形成于透光性基板15的同一面侧，则必须使第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12相交叉，该交叉部分18的膜构成，与第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12不同。因此，即使使第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的存在不明显，交叉部分18的存在也显眼。然而在本方式中，因为采用：关于第2透光性电极图形12的截断部分，通过形成于层间绝缘膜4a的上层的中继电极5a，进行电连接的构成，并且使第1透光性电极图形11中的位于交叉部分18的连接部分11c及中继电极5a宽度较窄，所以交叉部分18占的面积小。并且，因为中继电极5a由膜厚度10～15nm的ITO膜构成，层间绝缘膜4a，由丙烯酸树脂构成，所以关于交叉部分18，其存在也不显眼。因此，若依照于本发明，则因为当从输入装置10的输入面10b侧看时，交叉部分18的存在并不明显，所以当从输入装置10的输入面10b侧看以液晶装置50等所显示的图像时，图像的质量高。
实施方式2
图5，是表示形成于本发明的实施方式2中的输入装置的第1透光性电极图形及第2透光性电极图形的平面性的构成的说明图。图6(a)、(b)，分别是本发明的实施方式2中的输入装置的A2-A2’剖面图、及表示透光性电极图形与金属布线的连接结构的剖面图。还有，因为本方式的基本性的构成与实施方式1相同，所以对共同的部分附加同一符号进行图示而省略它们的说明。
在图5及图6(a)中，本方式的输入装置10，与实施方式1同样，也为静电电容型的触摸面板，透光性基板15的输入面10b之中，在输入区域10a，形成延伸于第1方向的多列第1透光性电极图形11、与延伸于交叉于第1方向的第2方向的多列第2透光性电极图形12。第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，都由：相对于透光性基板15的同一面上，重叠具有不同的折射率的透光性薄膜彼此地所形成的多层膜构成。在第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12的交叉部分18处，第1透光性电极图形11相连，另一方面第2透光性电极图形12被截断。
在此，在第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的上层侧，透光性的层间绝缘膜4b形成于输入区域10a的基本整体，在该层间绝缘膜4b的上层，形成通过层间绝缘膜4b的接触孔4c对在交叉部分18被截断的第2透光性电极图形12彼此进行电连接的透光性的中继电极5a。因此，第2透光性电极图形12以第2方向电连接。
在本实施方式中，也与实施方式1同样，第2透光性电极图形12，由按顺序叠层膜厚度为10～20nm的第1ITO膜1a、膜厚度为40～60nm的氧化硅膜2a、及膜厚度为10～20nm的第2ITO膜3a的多层膜构成，中继电极5a，连接于第2透光性电极图形12中的叠层于最上层的第2ITO膜3a。在本方式中，中继电极5a由膜厚度为10～15nm的ITO膜构成。并且，层间绝缘膜4b，由感光性树脂构成，在本方式中，层间绝缘膜4b，由厚度为1～2μm的丙烯酸树脂构成。
第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，分别在以交叉部分18所夹着的区域具备棱形形状的垫部，在第1电极图形中位于交叉部分18的连接部分11c，成为宽度比垫部窄的细窄形状。并且，中继电极5a，也以宽度比垫部窄的细窄形状而形成为长方形。
如示于图6(b)地，在透光性基板15中在输入区域10a的外侧区域，形成分别电连接于第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的多条金属布线9a，这些金属布线9a的端部，构成用于对柔性基板进行连接的端子19a。
在此，因为第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，都由按顺序叠层第1ITO膜1a、氧化硅膜2a、及第2ITO膜3a的多层膜构成，所以金属布线9a，连接于第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12中叠层于最上层的第2ITO膜3a。并且，中继电极5a，与金属布线9a同样，也连接于第2透光性电极图形12中叠层于最上层的第2ITO膜3a。
(输入装置10的制造方法)
图7(a)～(e)，是表示本发明的实施方式2中的输入装置的制造方法的工序剖面图。还有，在图7(a)～(e)，一并表示透光性电极图形、交叉部及金属布线，在左侧表示相当于图6(a)的部分，在右侧表示相当于图6(b)的部分。
当制造本方式的输入装置10时，首先，如示于图7(a)地，在透光性基板15(玻璃基板)的一方的面整体，形成了膜厚度为10～20nm的多晶第1ITO膜1a、膜厚度为40～60nm的氧化硅膜2a、及膜厚度为10～20nm的多晶第2ITO膜3a之后，形成金属膜。
接下来，以在金属膜表面形成有由感光性树脂等构成的蚀刻掩模的状态对金属膜进行蚀刻，并如示于图7(b)地，在构图形成了金属布线9a之后，去除蚀刻掩模。
接下来，以在金属布线9a等的上层侧形成有由感光性树脂等构成的蚀刻掩模的状态，对第1ITO膜1a、氧化硅膜2a、及第2ITO膜3a进行蚀刻，如示于图7(c)地，在构图形成了第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12之后，去除蚀刻掩模。
接下来，在第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的表面侧涂敷了丙烯酸树脂之后，曝光显影，如示于图7(d)地，重叠于第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12的交叉部分18地形成层间绝缘膜4b。此时，在层间绝缘膜4b中同时形成接触孔4c。
接下来，在层间绝缘膜4b的上层侧形成了多晶ITO膜之后，以在ITO膜的表面形成有由感光性树脂等构成的蚀刻掩模的状态对ITO膜进行蚀刻，形成中继电极5a。此时，因为第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，以层间绝缘膜4b所覆盖，所以第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12不会损伤。并且，也可以：代替多晶ITO膜，形成非晶ITO膜，并以形成了由感光性树脂等构成的蚀刻掩模的状态通过草酸进行蚀刻，并在图形形成后进行退火而成为多晶ITO膜。
(本方式的主要的效果)
如以上进行了说明地，在本方式中，与实施方式1同样，也因为第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，由具有不同的折射率的透光性薄膜彼此相重叠地所形成的多层膜构成，所以能够消除形成透光性电极图形的区域、与未形成透光性电极图形的区域的反射率之差，所以第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12的存在并不明显。并且，在本实施方式中，因为在透光性基板15的同一面上通过同一层形成第1透光性电极图形11及第2透光性电极图形12，所以能够简化制造过程。而且，因为第1透光性电极图形11与第2透光性电极图形12的交叉部分18占有的面积小，且交叉部分18，也采用膜厚度为10～15nm的ITO膜，所以其的存在并不明显。
其他的实施方式
虽然在上述方式中，将金属布线9a的端部，直接用作了端子19a，但是也可以在金属布线9a的端部的上层，与中继电极5a同时形成ITO层，并作为端子19a。并且，虽然在实施方式2中，仅在输入区域10a形成了层间绝缘膜4b，但是也可以在除了端子19a的表面的基本整面形成层间绝缘膜4b。
并且，作为利用了薄膜光学干涉的多层膜构成的例，除了从下层按顺序为膜厚度10～20nm的多晶第1ITO膜、膜厚度40～60nm的氧化硅膜、膜厚度10～20nm的多晶第2ITO膜的上述的例之外，在从下层按顺序叠层膜厚度为30nm的氧化硅膜(折射率＝1.46)、膜厚度为10nm的多晶ITO膜的情况，从下层按顺序叠层膜厚度为100nm的氮氧化硅膜(折射率＝1.60)、膜厚度为10nm的多晶ITO膜的情况也有效。在该情况下，透光性电极图形部分，为氮氧化硅膜/ITO膜、或氮氧化硅膜/ITO膜，在未形成透光性电极图形的部分，分别残留膜厚度为30nm的氧化硅膜、或者膜厚度为100nm的氮氧化硅膜，使得不存在二者的反射率差地构成。
虽然在上述方式中，采用了作为图像生成装置的液晶装置50，但是也可以采用有机电致发光装置、等离子体显示装置等作为图像生成装置。
向电子设备的搭载例
接下来，关于应用了上述的实施方式中的带输入装置的显示装置100的电子设备而进行说明。在图8(a)，表示具备有带输入装置的显示装置100的便携型的个人计算机的构成。个人计算机2000，具备作为显示单元的带输入装置的显示装置100与主体部2010。在主体部2010，设置电源开关2001及键盘2002。在图8(b)，表示具备有带输入装置的显示装置100的便携电话机的构成。便携电话机3000，具备：多个操作键3001及滚动键3002，以及作为显示单元的带输入装置的显示装置100。通过对滚动键3002进行操作，使显示于带输入装置的显示装置100的画面滚动。在图8(c)，表示应用了带输入装置的显示装置100的信息便携终端(PDA：Personal Digital Assistants，个人数字助理)的构成。信息便携终端4000，具备：多个操作键4001及电源开关4002，以及作为显示单元的带输入装置的显示装置100。若对电源开关4002进行操作，则住址录、日程安排的各种信息显示于带输入装置的显示装置100。
还有，作为可应用带输入装置的显示装置100的电子设备，除了示于图8的设备之外，还可列举出：数字静止相机，液晶电视机，取景器型、监视器直视型的磁带录像机，汽车导航装置，寻呼机，电子笔记本，电子计算器，文字处理器，工作站，电视电话机，POS终端，具备有触摸面板的设备等。而且，作为这些各种电子设备的显示部，前述的带输入装置的显示装置100可以进行应用。

Claims (8)

1.一种静电电容型输入装置，其在透光性基板的输入区域，形成有：延伸于第1方向的多个第1透光性电极图形，和延伸于交叉于前述第1方向的第2方向的多个第2透光性电极图形；
其特征在于：
前述第1透光性电极图形与前述第2透光性电极图形形成于前述透光性基板的同一面上；
在前述第1透光性电极图形与前述第2透光性电极图形的交叉部分处，前述第1透光性电极图形及前述第2透光性电极图形之中的一方电极图形相连，另一方面，另一方电极图形被截断；
至少在前述交叉部分处的前述一方电极图形的上层侧形成有透光性的层间绝缘膜，并在该层间绝缘膜的上层，形成有对在该交叉部分被截断的前述另一方电极图形彼此进行电连接的透光性的中继电极。
2.按照权利要求1所述的静电电容型输入装置，其特征在于：
前述第1透光性电极图形与前述第2透光性电极图形通过同一构件所形成。
3.按照权利要求1或2所述的静电电容型输入装置，其特征在于：
前述第1透光性电极图形及前述第2透光性电极图形，分别在以前述交叉部分所夹着的区域具备大面积部分；
前述一方电极图形中的前述交叉部分处的连接部分、及前述中继电极，具有宽度比前述大面积部分窄的宽度细窄的形状。
4.按照权利要求1～3中的任何一项所述的静电电容型输入装置，其特征在于：
前述第1透光性电极图形及前述第2透光性电极图形，由具有不同的折射率的透光性薄膜彼此相重叠地形成的多层膜所构成。
5.按照权利要求4所述的静电电容型输入装置，其特征在于：
前述多层膜，作为前述透光性薄膜，叠层有透光性的导电性金属氧化膜、及透光性的硅化合物。
6.按照权利要求5所述的静电电容型输入装置，其特征在于：
前述透光性基板是玻璃基板；
前述多层膜，按顺序叠层有膜厚度为10～20nm的第1ITO膜、膜厚度为40～60nm的氧化硅膜、及膜厚度为10～20nm的第2ITO膜。
7.按照权利要求1～6中的任何一项所述的静电电容型输入装置，其特征在于：
前述中继电极，由透光性的导电性金属氧化膜构成。
8.按照权利要求1～7中的任何一项所述的静电电容型输入装置，其特征在于：
在前述透光性基板的前述输入区域的外侧区域，形成有分别电连接于前述第1透光性电极图形及前述第2透光性电极图形的多条金属布线。
CN2008101101377A 2007-06-14 2008-06-13 静电电容型输入装置 Active CN101324827B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007157115A JP4506785B2 (ja) 2007-06-14 2007-06-14 静電容量型入力装置
JP157115/2007 2007-06-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101324827A true CN101324827A (zh) 2008-12-17
CN101324827B CN101324827B (zh) 2012-06-13

Family

ID=40131831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008101101377A Active CN101324827B (zh) 2007-06-14 2008-06-13 静电电容型输入装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8823653B2 (zh)
JP (1) JP4506785B2 (zh)
KR (1) KR100988654B1 (zh)
CN (1) CN101324827B (zh)
TW (1) TWI411948B (zh)

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101776967A (zh) * 2009-01-08 2010-07-14 精工爱普生株式会社 触摸面板的制造方法、触摸面板、显示装置及电子设备
CN102004572A (zh) * 2009-08-27 2011-04-06 三星移动显示器株式会社 触摸屏面板及其制造方法
CN101587408B (zh) * 2009-06-29 2011-04-13 深圳莱宝高科技股份有限公司 一种电容式触摸屏及其制造方法
CN102043555A (zh) * 2009-10-21 2011-05-04 索尼公司 静电电容型输入装置和带输入装置的光电装置
CN102053751A (zh) * 2009-10-29 2011-05-11 爱特梅尔公司 触摸屏电极配置
CN102096532A (zh) * 2009-12-15 2011-06-15 索尼公司 静电电容型输入装置及其制造方法
CN102147677A (zh) * 2010-02-05 2011-08-10 三星移动显示器株式会社 触摸屏面板
CN102193672A (zh) * 2010-03-16 2011-09-21 三星移动显示器株式会社 触摸屏幕面板及其制造方法
CN102236467A (zh) * 2010-04-21 2011-11-09 株式会社日立显示器 触摸板和显示装置
CN102346589A (zh) * 2010-07-26 2012-02-08 三星电机株式会社 触摸屏面板及其制造方法
CN102378955A (zh) * 2009-03-30 2012-03-14 微软公司 检测弯曲表面上的触摸
CN102375635A (zh) * 2010-08-18 2012-03-14 乐金显示有限公司 触摸屏及其制造方法
CN102693027A (zh) * 2011-03-25 2012-09-26 牧东光电（苏州）有限公司 带有绝缘子的触控面板及其制造方法
CN102881357A (zh) * 2012-09-06 2013-01-16 广州新视界光电科技有限公司 一种复合透明导电薄膜
WO2013023482A1 (zh) * 2011-08-16 2013-02-21 深圳市宝明科技股份有限公司 Ito过桥一体式电容触摸屏及制造方法
CN103197781A (zh) * 2012-01-04 2013-07-10 北儒精密股份有限公司 低色差触控基板及其制造方法
CN103340027A (zh) * 2011-02-02 2013-10-02 3M创新有限公司 具有非直线导体迹线的图案化基底
CN103858082A (zh) * 2013-10-21 2014-06-11 华为终端有限公司 触控面板及其制作方法
CN101763191B (zh) * 2008-12-22 2014-07-02 马尔泰克显示器（香港）有限公司 单层上的菱形模式
CN104199582A (zh) * 2010-12-03 2014-12-10 联胜（中国）科技有限公司 电容式触控感应器及电容式触控面板
CN104281320A (zh) * 2014-09-23 2015-01-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 触摸屏及其制作方法、触摸显示装置
CN104409469A (zh) * 2014-10-30 2015-03-11 京东方科技集团股份有限公司 一种amoled触控显示装置及其制备方法、驱动方法
US9213376B2 (en) 2007-04-27 2015-12-15 Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. Conductor pattern structure of a capacitive touch panel comprising a plurality of first-axis conductor cells and a plurality of second-axis conductor cells
CN105474149A (zh) * 2013-08-23 2016-04-06 东友精细化工有限公司 集成有偏光板的触摸感测电极
US9317140B2 (en) 2009-03-30 2016-04-19 Microsoft Technology Licensing, Llc Method of making a multi-touch input device for detecting touch on a curved surface
CN105518589A (zh) * 2013-08-09 2016-04-20 东友精细化工有限公司 触摸感应电极和包括其的触摸屏面板
US9454267B2 (en) 2010-06-12 2016-09-27 Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. Touch sensing circuit and method for making the same
CN107482039A (zh) * 2017-08-03 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性触控母板及制备方法、柔性触控基板、触控面板
CN108780186A (zh) * 2016-03-30 2018-11-09 日本瑞翁株式会社 光学各向异性层叠体、圆偏振片以及图像显示装置
US10282040B2 (en) 2009-03-20 2019-05-07 Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. Capacitive touch circuit pattern and manufacturing method thereof
CN110083263A (zh) * 2016-06-30 2019-08-02 三星显示有限公司 电子装置

Families Citing this family (337)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7821425B2 (en) 2002-07-12 2010-10-26 Atmel Corporation Capacitive keyboard with non-locking reduced keying ambiguity
TWI444876B (zh) * 2007-04-05 2014-07-11 Qrg Ltd 二維位置感應器
GB2451267A (en) * 2007-07-26 2009-01-28 Harald Philipp Capacitive position sensor
US7952366B2 (en) 2007-07-26 2011-05-31 Atmel Corporation Proximity sensor
TW200915162A (en) * 2007-07-31 2009-04-01 Qrg Ltd Sensor and method of sensing
WO2009027629A1 (en) 2007-08-26 2009-03-05 Qrg Limited Capacitive sensor with reduced noise
US8633915B2 (en) 2007-10-04 2014-01-21 Apple Inc. Single-layer touch-sensitive display
TWM344544U (en) * 2007-12-25 2008-11-11 Cando Corp Sensory structure of touch panel
US20090174676A1 (en) 2008-01-04 2009-07-09 Apple Inc. Motion component dominance factors for motion locking of touch sensor data
KR101080183B1 (ko) * 2008-04-04 2011-11-07 (주)멜파스 가장자리 위치 인식 특성이 개선된 접촉 감지 장치
CN101673162A (zh) * 2008-04-10 2010-03-17 爱特梅尔公司 具有噪声抑制的电容性触摸屏幕
JP2009265748A (ja) * 2008-04-22 2009-11-12 Hitachi Displays Ltd タッチパネル付き表示装置
US8576193B2 (en) * 2008-04-25 2013-11-05 Apple Inc. Brick layout and stackup for a touch screen
US8487898B2 (en) 2008-04-25 2013-07-16 Apple Inc. Ground guard for capacitive sensing
US8526767B2 (en) 2008-05-01 2013-09-03 Atmel Corporation Gesture recognition
TWI380072B (en) 2008-05-09 2012-12-21 Au Optronics Corp Touch panel
US9569037B2 (en) * 2008-05-19 2017-02-14 Atmel Corporation Capacitive sensing with low-frequency noise reduction
US8629842B2 (en) * 2008-07-11 2014-01-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting display device
US8928597B2 (en) 2008-07-11 2015-01-06 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting display device
US9342176B2 (en) 2008-07-21 2016-05-17 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting display device
US8228306B2 (en) 2008-07-23 2012-07-24 Flextronics Ap, Llc Integration design for capacitive touch panels and liquid crystal displays
US9128568B2 (en) 2008-07-30 2015-09-08 New Vision Display (Shenzhen) Co., Limited Capacitive touch panel with FPC connector electrically coupled to conductive traces of face-to-face ITO pattern structure in single plane
US20100059294A1 (en) * 2008-09-08 2010-03-11 Apple Inc. Bandwidth enhancement for a touch sensor panel
CN102112950B (zh) 2008-09-12 2015-01-28 奥博特瑞克斯株式会社 电容型触摸面板、显示装置及电容型触摸面板的制造方法
US8493337B2 (en) * 2008-09-22 2013-07-23 Ritfast Corporation Light transmission touch panel
US20100097329A1 (en) * 2008-10-21 2010-04-22 Martin Simmons Touch Position Finding Method and Apparatus
US8054090B2 (en) 2008-10-22 2011-11-08 Atmel Corporation Noise handling in capacitive touch sensors
TWI471789B (zh) * 2008-11-14 2015-02-01 Wintek Corp 觸控面板
KR101634791B1 (ko) 2008-11-28 2016-06-30 삼성디스플레이 주식회사 접촉 감지 기능이 있는 유기 발광 표시 장치
US8209861B2 (en) 2008-12-05 2012-07-03 Flextronics Ap, Llc Method for manufacturing a touch screen sensor assembly
US8319747B2 (en) * 2008-12-11 2012-11-27 Apple Inc. Single layer touch panel with segmented drive and sense electrodes
JP5262666B2 (ja) * 2008-12-12 2013-08-14 Ｓｍｋ株式会社 静電容量式タッチパネル
US20100156846A1 (en) * 2008-12-23 2010-06-24 Flextronics Ap, Llc Single substrate capacitive touch panel
WO2010075308A2 (en) 2008-12-26 2010-07-01 Atmel Corporation Multiple electrode touch sensitive device
KR101022087B1 (ko) * 2009-01-16 2011-03-17 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101022105B1 (ko) 2009-01-16 2011-03-17 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
KR101022143B1 (ko) * 2009-01-16 2011-03-17 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101219242B1 (ko) * 2009-01-16 2013-01-07 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
KR101022155B1 (ko) 2009-01-16 2011-03-17 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101022065B1 (ko) 2009-01-16 2011-03-17 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101022185B1 (ko) * 2009-01-16 2011-03-17 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101049016B1 (ko) * 2009-01-16 2011-07-12 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
US9261997B2 (en) 2009-02-02 2016-02-16 Apple Inc. Touch regions in diamond configuration
US8922521B2 (en) 2009-02-02 2014-12-30 Apple Inc. Switching circuitry for touch sensitive display
JP5140018B2 (ja) * 2009-02-24 2013-02-06 株式会社ジャパンディスプレイイースト 入力機能付き液晶表示装置
JP5448886B2 (ja) * 2009-02-27 2014-03-19 京セラ株式会社 入力装置、およびこれを備えた表示装置
US8237456B2 (en) 2009-03-02 2012-08-07 Atmel Corporation Capacitive sensing
KR101128669B1 (ko) * 2010-02-19 2012-03-20 (주)삼원에스티 저저항 라인을 포함하는 터치패널센서
KR100944519B1 (ko) * 2009-03-04 2010-03-03 남동식 터치패널센서
JP2010211647A (ja) * 2009-03-11 2010-09-24 Seiko Epson Corp タッチパネル装置、電気光学装置および電子機器
JP5182164B2 (ja) 2009-03-12 2013-04-10 セイコーエプソン株式会社 タッチパネルの製造方法及び表示装置製造方法並びに電子機器製造方法
TWI450160B (zh) * 2009-03-24 2014-08-21 Wintek Corp 電容式觸控面板
WO2010117882A2 (en) * 2009-04-10 2010-10-14 Apple Inc. Improved touch sensor panel design
US8593410B2 (en) 2009-04-10 2013-11-26 Apple Inc. Touch sensor panel design
JP2010271796A (ja) * 2009-05-19 2010-12-02 Optrex Corp 電極間接続構造およびタッチパネル
TWM378434U (en) * 2009-05-25 2010-04-11 Sentelic Corp Capacitive touch panel with two-layer printed circuit board
TWI401489B (zh) * 2009-06-10 2013-07-11 Ind Tech Res Inst 電容式觸控基板結構及電容式觸控面板結構
KR101464818B1 (ko) * 2009-06-23 2014-11-25 지오마텍 가부시키가이샤 정전용량형 입력장치 및 그의 제조방법
US8253706B2 (en) 2009-06-26 2012-08-28 Atmel Corporation Apparatus using a differential analog-to-digital converter
US8957874B2 (en) 2009-06-29 2015-02-17 Apple Inc. Touch sensor panel design
JP2011022659A (ja) * 2009-07-13 2011-02-03 Shin Etsu Polymer Co Ltd 静電容量型入力装置
JPWO2011013279A1 (ja) 2009-07-31 2013-01-07 シャープ株式会社 電極基板、電極基板の製造方法、および画像表示装置
US9836167B2 (en) * 2009-08-03 2017-12-05 Atmel Corporation Electrode layout for touch screens
KR101058106B1 (ko) * 2009-08-06 2011-08-24 삼성모바일디스플레이주식회사 표시 장치
CN101989160A (zh) * 2009-08-07 2011-03-23 铼宝科技股份有限公司 电容式触控面板
GB2472614B (en) * 2009-08-11 2014-11-19 M Solv Ltd Capacitive touch panels
KR101121120B1 (ko) * 2010-02-19 2012-03-20 (주)삼원에스티 불투명 전극패턴을 포함하는 터치패널센서
CN102023770B (zh) * 2009-09-22 2013-02-27 群康科技(深圳)有限公司 电容式触控面板模块及其制造方法
TWI421569B (zh) * 2009-09-23 2014-01-01 Century Display Shenzhen Co 觸控面板及其製作方法
KR101138380B1 (ko) * 2009-09-23 2012-04-26 주식회사 크라또 터치 스크린 및 그 제조 방법
JP4926270B2 (ja) * 2009-09-29 2012-05-09 京セラ株式会社 入力装置、およびこれを備えた表示装置
KR101630326B1 (ko) * 2009-10-15 2016-06-15 엘지디스플레이 주식회사 터치패널
US9041682B2 (en) * 2009-10-23 2015-05-26 Atmel Corporation Driving electrodes with different phase signals
US9916045B2 (en) 2009-10-26 2018-03-13 Amtel Corporation Sense electrode design
US9372579B2 (en) 2009-10-27 2016-06-21 Atmel Corporation Touchscreen electrode arrangement
JP5537915B2 (ja) 2009-12-01 2014-07-02 株式会社ジャパンディスプレイ タッチパネル
KR101322981B1 (ko) * 2009-12-01 2013-10-29 엘지디스플레이 주식회사 터치 소자를 구비한 표시장치
TWI417600B (zh) * 2009-12-11 2013-12-01 Century Display Shenzhen Co 觸控面板的製作方法以及母板
JP5334197B2 (ja) * 2009-12-15 2013-11-06 株式会社ジャパンディスプレイ 静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の検査方法、静電容量型入力装置用駆動装置
TWI396901B (zh) * 2009-12-21 2013-05-21 Au Optronics Corp 製作觸控面板之方法
TWI471790B (zh) * 2010-02-03 2015-02-01 Wintek Corp 電容式觸控感應器及其製造方法及電容式觸控面板
US8970508B2 (en) * 2010-02-11 2015-03-03 Lg Display Co., Ltd. Touch screen panel
US8780061B2 (en) 2010-02-11 2014-07-15 Lg Display Co., Ltd. Electrostatic capacity type touch screen panel and method of manufacturing the same
KR101107173B1 (ko) * 2010-02-11 2012-01-25 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101048948B1 (ko) 2010-02-22 2011-07-12 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널의 제조방법
KR101108701B1 (ko) * 2010-02-26 2012-01-30 주식회사 지니틱스 터치 스크린 장치
TW201131449A (en) * 2010-03-01 2011-09-16 Eturbotouch Technology Inc Single layer capacitance touch device
KR101073215B1 (ko) * 2010-03-05 2011-10-12 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 일체형 평판표시장치
JP2011186977A (ja) * 2010-03-11 2011-09-22 Alps Electric Co Ltd 入力装置の製造方法
KR101101053B1 (ko) 2010-03-16 2011-12-29 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
KR101082219B1 (ko) 2010-03-16 2011-11-09 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 일체형 평판표시장치
KR101040851B1 (ko) 2010-03-23 2011-06-14 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101055379B1 (ko) * 2010-03-23 2011-08-08 리-리 판 브리지 타입 전극의 설치방법 및 브리지 타입 전극구조
US9285929B2 (en) 2010-03-30 2016-03-15 New Vision Display (Shenzhen) Co., Limited Touchscreen system with simplified mechanical touchscreen design using capacitance and acoustic sensing technologies, and method therefor
KR101048913B1 (ko) * 2010-04-01 2011-07-12 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101643376B1 (ko) * 2010-04-02 2016-07-28 삼성전자주식회사 광센서를 이용한 리모트 터치 패널 및 이를 구비하는 리모트 터치 스크린 장치
KR101073147B1 (ko) * 2010-04-05 2011-10-12 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 일체형 평판표시장치 및 그 제조방법
KR101093351B1 (ko) 2010-04-12 2011-12-14 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
US9489072B2 (en) 2010-04-15 2016-11-08 Atmel Corporation Noise reduction in capacitive touch sensors
JP5424209B2 (ja) 2010-04-22 2014-02-26 株式会社ジャパンディスプレイ タッチパネル、および表示装置
KR101114416B1 (ko) * 2010-04-22 2012-02-22 전자부품연구원 정전용량 방식 터치패널 및 그 제조방법
KR101140878B1 (ko) * 2010-04-23 2012-05-03 삼성전기주식회사 단층 정전용량식 터치스크린의 제조방법
KR101048918B1 (ko) * 2010-04-28 2011-07-12 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 및 이를 구비한 영상표시장치
KR101101088B1 (ko) * 2010-05-03 2011-12-30 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
CN102236483B (zh) * 2010-05-04 2016-03-30 宸鸿科技(厦门)有限公司 一种触控面板、制造方法及其扫描方法
TWI447476B (zh) * 2010-05-04 2014-08-01 Wei Chuan Chen 觸控面板製造方法
US8766929B2 (en) 2010-05-14 2014-07-01 Atmel Corporation Panel for position sensors
KR101056264B1 (ko) 2010-05-14 2011-08-11 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
KR101156866B1 (ko) * 2010-06-09 2012-06-20 삼성전기주식회사 터치패널
US8797281B2 (en) 2010-06-16 2014-08-05 Atmel Corporation Touch-screen panel with multiple sense units and related methods
KR101105692B1 (ko) * 2010-07-14 2012-01-17 엘지이노텍 주식회사 터치 패널용 면상 부재 제조 방법
JP2013531317A (ja) * 2010-07-14 2013-08-01 エルジー イノテック カンパニー リミテッド タッチパネル及びその製造方法
KR101710552B1 (ko) 2010-07-20 2017-02-28 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
US8723834B2 (en) 2010-07-28 2014-05-13 Atmel Corporation Touch sensitive screen configurations
US9652088B2 (en) 2010-07-30 2017-05-16 Apple Inc. Fabrication of touch sensor panel using laser ablation
TW201205398A (en) * 2010-07-30 2012-02-01 Chimei Innolux Corp Display system having capacitive touch panel and manufacturing method thereof
US10831317B2 (en) 2010-08-20 2020-11-10 Neodrón Limited Electronic ink touch sensitive display
US8823656B2 (en) 2010-08-30 2014-09-02 Atmel Corporation Touch tracking across multiple touch screens
US9252768B2 (en) 2010-09-13 2016-02-02 Atmel Corporation Position-sensing panel
KR101685902B1 (ko) * 2010-09-15 2016-12-13 삼성전자주식회사 터치 감지 장치 및 그의 접근 감지 방법
US9626045B1 (en) 2010-09-27 2017-04-18 Atmel Corporation Position-sensing panel and related methods
KR101650074B1 (ko) 2010-09-29 2016-08-23 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
JP5685411B2 (ja) 2010-10-01 2015-03-18 京セラディスプレイ株式会社 タッチパネル
US8400209B2 (en) 2010-10-22 2013-03-19 Atmel Corporation Proximity detection
KR101339669B1 (ko) 2010-10-26 2013-12-11 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
KR101448251B1 (ko) * 2010-10-28 2014-10-08 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 및 이를 구비한 표시 장치
KR101742753B1 (ko) * 2010-10-29 2017-06-02 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널, 표시 장치 및 터치 패널의 제조 방법
US8786572B2 (en) 2010-11-04 2014-07-22 Atmel Corporation Touch position-sensing panel and method
EP2638453A4 (en) 2010-11-09 2015-11-25 Tpk Touch Solutions Inc TOUCH SCREEN DEVICE
US9077344B2 (en) 2010-12-07 2015-07-07 Atmel Corporation Substrate for electrical component and method
KR101844536B1 (ko) * 2010-12-13 2018-04-03 삼성디스플레이 주식회사 편광판 일체형 터치 스크린 패널
KR101230191B1 (ko) * 2010-12-14 2013-02-06 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
KR101229296B1 (ko) * 2010-12-30 2013-02-04 주식회사 트레이스 필기인식용 터치스크린
JP5432193B2 (ja) 2011-01-18 2014-03-05 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
KR101228581B1 (ko) * 2011-01-21 2013-01-31 최기식 터치 패널 및 그 제조방법
KR20140051117A (ko) 2011-02-07 2014-04-30 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 투명 도전성 소자, 입력 장치, 전자 기기 및 투명 도전성 소자 제작용 원반
US8797285B2 (en) 2011-04-18 2014-08-05 Atmel Corporation Panel
JP2012238066A (ja) 2011-05-10 2012-12-06 Japan Display East Co Ltd 静電容量方式のタッチパネル、および表示装置
CN102866794A (zh) 2011-06-15 2013-01-09 宸鸿光电科技股份有限公司 触控感测层及其制造方法
US8624607B2 (en) 2011-07-29 2014-01-07 Atmel Corporation Measuring voltage
US9501179B2 (en) 2011-08-04 2016-11-22 Atmel Corporation Touch sensor for curved or flexible surfaces
KR101826709B1 (ko) * 2011-09-01 2018-03-22 엘지이노텍 주식회사 터치 패널 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
JP2014211663A (ja) * 2011-09-02 2014-11-13 シャープ株式会社 タッチパネルおよびタッチパネルの製造方法
US8847898B2 (en) 2011-09-07 2014-09-30 Atmel Corporation Signal-to-noise ratio in touch sensors
CN103019423A (zh) * 2011-09-21 2013-04-03 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板结构及其制造方法
JP2014232338A (ja) 2011-09-26 2014-12-11 シャープ株式会社 タッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置
TWI479398B (zh) * 2011-09-30 2015-04-01 Hannstar Display Corp 觸控顯示裝置及其形成方法
CN102419654B (zh) * 2011-09-30 2014-01-15 苏州瀚瑞微电子有限公司 一种感应层的布线结构
US9310941B2 (en) 2011-10-04 2016-04-12 Atmel Corporation Touch sensor input tool with offset between touch icon and input icon
US9389707B2 (en) 2011-10-28 2016-07-12 Atmel Corporation Active stylus with configurable touch sensor
US9606641B2 (en) 2015-03-09 2017-03-28 Atmel Corporation Adaptive transmit voltage in active stylus
US9116558B2 (en) 2011-10-28 2015-08-25 Atmel Corporation Executing gestures with active stylus
US9354728B2 (en) 2011-10-28 2016-05-31 Atmel Corporation Active stylus with capacitive buttons and sliders
US9389701B2 (en) 2011-10-28 2016-07-12 Atmel Corporation Data transfer from active stylus
US10725563B2 (en) 2011-10-28 2020-07-28 Wacom Co., Ltd. Data transfer from active stylus to configure a device or application
US9557833B2 (en) 2011-10-28 2017-01-31 Atmel Corporation Dynamic adjustment of received signal threshold in an active stylus
US11347330B2 (en) 2011-10-28 2022-05-31 Wacom Co., Ltd. Adaptive transmit voltage in active stylus
US10162400B2 (en) 2011-10-28 2018-12-25 Wacom Co., Ltd. Power management system for active stylus
US9189121B2 (en) 2011-10-28 2015-11-17 Atmel Corporation Active stylus with filter having a threshold
US10725564B2 (en) 2011-10-28 2020-07-28 Wacom Co., Ltd. Differential sensing in an active stylus
US9164598B2 (en) 2011-10-28 2015-10-20 Atmel Corporation Active stylus with surface-modification materials
US9250719B2 (en) 2011-10-28 2016-02-02 Atmel Corporation Active stylus with filter
US8797287B2 (en) 2011-10-28 2014-08-05 Atmel Corporation Selective scan of touch-sensitive area for passive or active touch or proximity input
US9337833B2 (en) 2011-11-14 2016-05-10 Atmel Corporation Driven shield for shaping an electric field of a touch sensor
JP2013105429A (ja) 2011-11-16 2013-05-30 Japan Aviation Electronics Industry Ltd タッチパネル
US8711292B2 (en) 2011-11-22 2014-04-29 Atmel Corporation Integrated touch screen
US9825104B2 (en) 2011-11-22 2017-11-21 Atmel Corporation Low-birefringence substrate for touch sensor
US9262019B2 (en) 2011-11-22 2016-02-16 Atmel Corporation Touch sensor with conductive lines having different widths
TWI460771B (zh) * 2011-12-08 2014-11-11 Innolux Corp 觸控面板及其形成方法與顯示系統
US8860690B2 (en) 2011-12-15 2014-10-14 Atmel Corporation Touch sensor with capacitive nodes having a capacitance that is approximately the same
US20130164543A1 (en) * 2011-12-26 2013-06-27 Asahi Glass Company, Limited Front panel for touch sensor
JP5234868B1 (ja) * 2011-12-28 2013-07-10 日本写真印刷株式会社 光学機能付き静電容量方式タッチセンサー
US9312855B2 (en) 2012-01-10 2016-04-12 Atmel Corporation Touch sensor tracks
WO2013106773A2 (en) 2012-01-12 2013-07-18 Synaptics Incorporated Single layer capacitive imaging sensors
US20130181911A1 (en) 2012-01-17 2013-07-18 Esat Yilmaz On-Display-Sensor Stack
JP5836817B2 (ja) * 2012-01-24 2015-12-24 株式会社ジャパンディスプレイ タッチパネル、表示装置および電子機器
US8525955B2 (en) 2012-01-31 2013-09-03 Multek Display (Hong Kong) Limited Heater for liquid crystal display
US9417746B2 (en) * 2012-02-09 2016-08-16 Sharp Kabushiki Kaisha Touch-panel substrate
KR101859515B1 (ko) 2012-02-14 2018-05-21 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널
US9154127B2 (en) 2012-03-06 2015-10-06 Atmel Corporation Touch sensor with conductive lines having portions with different widths
CN114089600A (zh) 2012-03-15 2022-02-25 富士胶片株式会社 静电电容型输入装置及其制造方法、图像显示装置
TWI574109B (zh) 2012-03-30 2017-03-11 富士軟片股份有限公司 黑色樹脂膜、靜電電容型輸入裝置及它們的製造方法、以及具備其的影像顯示裝置
US9329723B2 (en) 2012-04-16 2016-05-03 Apple Inc. Reconstruction of original touch image from differential touch image
TWI468820B (zh) * 2012-04-18 2015-01-11 Ind Tech Res Inst 觸控感測元件
JP5075287B1 (ja) * 2012-04-26 2012-11-21 アルプス電気株式会社 入力装置
US9013444B2 (en) 2012-05-18 2015-04-21 Atmel Corporation Self-capacitance measurement with isolated capacitance
US8952927B2 (en) 2012-05-18 2015-02-10 Atmel Corporation Self-capacitance measurement with compensated capacitance
US9459737B2 (en) 2012-05-23 2016-10-04 Atmel Corporation Proximity detection using multiple inputs
JP5955787B2 (ja) 2012-06-20 2016-07-20 富士フイルム株式会社 転写フィルム、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置
TWM448733U (zh) * 2012-06-21 2013-03-11 Eturbotouch Technology Inc 多功能單基材的觸控面板
JP2015166889A (ja) * 2012-07-02 2015-09-24 シャープ株式会社 タッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置
CN103576952B (zh) * 2012-07-24 2017-04-19 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板
US9116584B2 (en) 2012-07-24 2015-08-25 Atmel Corporation Dielectric layer for touch sensor stack
JP2015529899A (ja) * 2012-07-31 2015-10-08 インターフレックス カンパニー リミテッド 反射防止層を含むセンサーパネル及びその製造方法
WO2014021657A1 (ko) * 2012-08-03 2014-02-06 (주)인터플렉스 절연층이 개선된 터치패널 및 그의 제조방법
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
US9310924B2 (en) 2012-09-26 2016-04-12 Atmel Corporation Increasing the dynamic range of an integrator based mutual-capacitance measurement circuit
US9256301B2 (en) 2012-10-10 2016-02-09 Atmel Corporation Active stylus with noise immunity
JP5290458B2 (ja) * 2012-10-11 2013-09-18 株式会社ジャパンディスプレイ 静電容量結合方式のタッチパネル
US9841862B2 (en) 2012-10-16 2017-12-12 Atmel Corporation Stylus position system
US9958966B2 (en) 2012-10-16 2018-05-01 Atmel Corporation Active stylus communication and position system
US10013096B2 (en) 2012-10-18 2018-07-03 Atmel Corporation Touch sensor with simultaneously driven drive electrodes
US8988376B2 (en) 2012-10-31 2015-03-24 Atmel Corporation Charge compensation for capacitive touch sensor nodes
US9853092B2 (en) * 2012-11-30 2017-12-26 Lg Display Co., Ltd. OLED display device having touch sensor and method of manufacturing the same
US9116586B2 (en) 2012-12-13 2015-08-25 Atmel Corporation Uniform-density coplanar touch sensor
US9244559B2 (en) 2012-12-14 2016-01-26 Atmel Corporation Integrated pixel display and touch sensor
KR102175045B1 (ko) 2013-01-25 2020-11-06 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
US8717325B1 (en) 2013-02-18 2014-05-06 Atmel Corporation Detecting presence of an object in the vicinity of a touch interface of a device
KR102044900B1 (ko) 2013-03-07 2019-11-15 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
US9448659B2 (en) 2013-03-14 2016-09-20 Atmel Corporation Simultaneous touch sensor scanning and display refreshing for minimizing display degradation for display-embedded touch sensors
US9298222B2 (en) 2013-03-15 2016-03-29 Atmel Corporation Touch sensor with plastic cover lens
US9791980B2 (en) 2013-03-27 2017-10-17 Atmel Corporation Touch sensor with edge-balanced macro-feature design
EP2980681A4 (en) 2013-03-29 2016-11-02 Showa Denko Kk METHOD FOR PRODUCING A TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE AND TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE
US9086770B2 (en) 2013-04-15 2015-07-21 Atmel Corporation Touch sensor with high-density macro-feature design
US8736571B1 (en) 2013-06-04 2014-05-27 Atmel Corporation Mesh design for touch sensors
JP5461732B2 (ja) * 2013-06-05 2014-04-02 株式会社ジャパンディスプレイ 静電容量結合方式のタッチパネル
US9542046B2 (en) 2013-06-26 2017-01-10 Atmel Corporation Changing the detection range of a touch sensor
US9274656B2 (en) 2013-06-27 2016-03-01 Atmel Corporation Fast scanning for mutual capacitance screens
US9081443B2 (en) 2013-06-27 2015-07-14 Atmel Corporation Shieldless touch sensor noise cancellation
US9612677B2 (en) 2013-06-28 2017-04-04 Atmel Corporation Pseudo driven shield
US9880674B2 (en) 2013-06-28 2018-01-30 Atmel Corporation Pattern of electrodes for a touch sensor
US9552089B2 (en) 2013-08-07 2017-01-24 Synaptics Incorporated Capacitive sensing using a matrix electrode pattern
US9886141B2 (en) 2013-08-16 2018-02-06 Apple Inc. Mutual and self capacitance touch measurements in touch panel
US9954526B2 (en) 2013-09-09 2018-04-24 Atmel Corporation Generic randomized mesh design
US9465489B2 (en) 2013-09-10 2016-10-11 Atmel Corporation Randomized mesh design
US9213423B2 (en) 2013-09-13 2015-12-15 Atmel Corporation Method and system for determining stylus tilt in relation to a touch-sensing device
US9304617B2 (en) 2013-09-19 2016-04-05 Atmel Corporation Mesh design for touch sensors
US20150091842A1 (en) 2013-09-30 2015-04-02 Synaptics Incorporated Matrix sensor for image touch sensing
US9298325B2 (en) 2013-09-30 2016-03-29 Synaptics Incorporated Processing system for a capacitive sensing device
US10042489B2 (en) 2013-09-30 2018-08-07 Synaptics Incorporated Matrix sensor for image touch sensing
US9459367B2 (en) 2013-10-02 2016-10-04 Synaptics Incorporated Capacitive sensor driving technique that enables hybrid sensing or equalization
US9274662B2 (en) 2013-10-18 2016-03-01 Synaptics Incorporated Sensor matrix pad for performing multiple capacitive sensing techniques
US9354740B2 (en) 2013-10-23 2016-05-31 Atmel Corporation Object orientation determination
KR102098386B1 (ko) * 2013-10-24 2020-04-07 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
JP6223123B2 (ja) * 2013-10-28 2017-11-01 東京応化工業株式会社 絶縁部形成用感光性樹脂組成物
US9081457B2 (en) 2013-10-30 2015-07-14 Synaptics Incorporated Single-layer muti-touch capacitive imaging sensor
US9329705B2 (en) 2013-11-06 2016-05-03 Atmel Corporation Stylus with asymmetric electronic characteristics
KR102187911B1 (ko) * 2013-11-13 2020-12-07 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
US9152254B2 (en) 2013-11-21 2015-10-06 Atmel Corporation Electrical connection for active-stylus electrode
US9298327B2 (en) 2013-12-09 2016-03-29 Atmel Corporation Integrated shielding in touch sensors
US9128577B2 (en) 2013-12-10 2015-09-08 Atmel Corporation Hybrid capacitive touch system design and method
US9367086B2 (en) 2013-12-10 2016-06-14 Atmel Corporation Smart watch with adaptive touch screen
US8896573B1 (en) 2014-01-21 2014-11-25 Atmel Corporation Line spacing in mesh designs for touch sensors
US8947391B1 (en) 2014-02-14 2015-02-03 Atmel Corporation Line spacing in mesh designs for touch sensors
US9454252B2 (en) 2014-02-14 2016-09-27 Atmel Corporation Touch-sensor mesh design for display with complex-shaped sub-pixels
US9798429B2 (en) 2014-02-28 2017-10-24 Synaptics Incorporated Guard electrodes in a sensing stack
US9354734B2 (en) 2014-03-04 2016-05-31 Atmel Corporation Common-mode hover detection
US9785292B2 (en) 2014-03-07 2017-10-10 Atmel Corporation Variable-pitch tracking for touch sensors
US10133421B2 (en) 2014-04-02 2018-11-20 Synaptics Incorporated Display stackups for matrix sensor
US10416801B2 (en) 2014-04-08 2019-09-17 Atmel Corporation Apparatus, controller, and device for touch sensor hand-configuration analysis based at least on a distribution of capacitance values
US9280246B2 (en) 2014-04-08 2016-03-08 Atmel Corporation Line spacing in mesh designs for touch sensors
JPWO2015159804A1 (ja) * 2014-04-15 2017-04-13 旭硝子株式会社 積層体、導電性積層体、および電子機器
US10042483B2 (en) 2014-04-18 2018-08-07 Atmel Corporation Touch system with code hopping algorithms and code division multiplexing
US9927832B2 (en) 2014-04-25 2018-03-27 Synaptics Incorporated Input device having a reduced border region
US9927927B2 (en) 2014-05-05 2018-03-27 Atmel Corporation Implementing a virtual controller outside an area of a touch sensor
US9389708B2 (en) 2014-05-08 2016-07-12 Atmel Corporation Active stylus with force sensor
US9733731B2 (en) 2014-05-12 2017-08-15 Atmel Corporation Timing synchronization of active stylus and touch sensor
US9690397B2 (en) 2014-05-20 2017-06-27 Synaptics Incorporated System and method for detecting an active pen with a matrix sensor
WO2015178920A1 (en) 2014-05-22 2015-11-26 Onamp Research Llc Panel bootstrapping architectures for in-cell self-capacitance
US9417729B2 (en) 2014-06-09 2016-08-16 Atmel Corporation Charge compensation during touch sensing
US9436328B2 (en) 2014-06-20 2016-09-06 Atmel Corporation Single-layer touch sensor
US10289251B2 (en) 2014-06-27 2019-05-14 Apple Inc. Reducing floating ground effects in pixelated self-capacitance touch screens
US9280251B2 (en) 2014-07-11 2016-03-08 Apple Inc. Funneled touch sensor routing
US10394350B2 (en) 2014-08-11 2019-08-27 Atmel Corporation Fabricated electrical circuit on touch sensor substrate
US9569016B2 (en) 2014-08-18 2017-02-14 Atmel Corporation Low-power and low-frequency data transmission for stylus
US11079862B2 (en) 2014-08-18 2021-08-03 Wacom Co., Ltd. Low-power and low-frequency data transmission for stylus and associated signal processing
US9798396B2 (en) 2014-08-18 2017-10-24 Atmel Corporation Low-power and low-frequency data transmission for stylus and associated signal processing
JP2015008002A (ja) * 2014-08-22 2015-01-15 ティーピーケイ タッチ ソリューションズ インコーポレーテッド タッチパネルデバイス
US9880655B2 (en) 2014-09-02 2018-01-30 Apple Inc. Method of disambiguating water from a finger touch on a touch sensor panel
KR102347852B1 (ko) * 2014-09-05 2022-01-06 삼성전자주식회사 터치 스크린 패널, 전자 노트 및 휴대용 단말기
CN107077260B (zh) 2014-09-22 2020-05-12 苹果公司 触摸控制器和用于触摸传感器面板的方法
CN107077262B (zh) 2014-10-27 2020-11-10 苹果公司 像素化自电容水排斥
US9285942B1 (en) 2014-10-27 2016-03-15 Atmel Corporation Optical-band visibility for touch-sensor mesh designs
CA2968232A1 (en) * 2014-11-17 2016-05-26 Corning Incorporated Glass-polymer laminates and processes for forming the same
US10175827B2 (en) 2014-12-23 2019-01-08 Synaptics Incorporated Detecting an active pen using a capacitive sensing device
US10795471B2 (en) 2015-01-05 2020-10-06 Synaptics Incorporated Modulating a reference voltage to perform capacitive sensing
US10394392B2 (en) 2015-01-14 2019-08-27 Atmel Corporation Object detection and scan
KR102297878B1 (ko) * 2015-01-16 2021-09-03 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널 및 그 제조 방법
TWI564761B (zh) * 2015-01-16 2017-01-01 友達光電股份有限公司 觸控電極層
KR102542864B1 (ko) * 2015-01-19 2023-06-14 도레이 카부시키가이샤 적층 기재, 커버글라스, 터치패널 및 적층 기재의 제조 방법
EP3224699B1 (en) 2015-02-02 2018-10-03 Apple Inc. Flexible self-capacitance and mutual capacitance touch sensing system architecture
KR102325383B1 (ko) * 2015-02-26 2021-11-10 삼성디스플레이 주식회사 터치 센싱 장치 및 그 구동방법
US10488992B2 (en) 2015-03-10 2019-11-26 Apple Inc. Multi-chip touch architecture for scalability
US9939972B2 (en) 2015-04-06 2018-04-10 Synaptics Incorporated Matrix sensor with via routing
US9483129B1 (en) 2015-05-12 2016-11-01 Atmel Corporation Active stylus with fractional clock-cycle timing
US10095948B2 (en) 2015-06-30 2018-10-09 Synaptics Incorporated Modulation scheme for fingerprint sensing
US9720541B2 (en) 2015-06-30 2017-08-01 Synaptics Incorporated Arrangement of sensor pads and display driver pads for input device
US9696826B2 (en) 2015-06-30 2017-07-04 Atmel Corporation Stylus with low-power detector
US9715304B2 (en) 2015-06-30 2017-07-25 Synaptics Incorporated Regular via pattern for sensor-based input device
CN205028263U (zh) 2015-09-07 2016-02-10 辛纳普蒂克斯公司 一种电容传感器
KR101887134B1 (ko) 2016-07-06 2018-08-09 현대자동차주식회사 터치 입력장치 및 그 제조방법
KR101795552B1 (ko) 2015-09-15 2017-11-09 현대자동차주식회사 터치 입력장치, 이를 포함하는 차량, 및 그 제조방법
US20170075473A1 (en) 2015-09-15 2017-03-16 Hyundai Motor Company Touch input device and method for manufacturing the same
US10203799B2 (en) 2015-09-15 2019-02-12 Hyundai Motor Company Touch input device, vehicle comprising touch input device, and manufacturing method of touch input device
KR101778553B1 (ko) 2015-09-15 2017-09-15 현대자동차주식회사 터치 입력장치 및 그 제조방법
US10365773B2 (en) 2015-09-30 2019-07-30 Apple Inc. Flexible scan plan using coarse mutual capacitance and fully-guarded measurements
US10037112B2 (en) 2015-09-30 2018-07-31 Synaptics Incorporated Sensing an active device'S transmission using timing interleaved with display updates
US10534481B2 (en) 2015-09-30 2020-01-14 Apple Inc. High aspect ratio capacitive sensor panel
US9904377B2 (en) 2015-10-28 2018-02-27 Atmel Corporation Communication between active stylus and touch sensor
US9927910B2 (en) 2015-10-30 2018-03-27 Atmel Corporation Suspension of touch sensor scan based on an expected interference
US10732758B2 (en) 2015-11-02 2020-08-04 Neodrón Limited Touchscreen communication interface
KR101817527B1 (ko) 2015-11-19 2018-01-11 현대자동차주식회사 터치 입력장치, 이를 포함하는 차량, 및 그 제조방법
KR20170058742A (ko) 2015-11-19 2017-05-29 현대자동차주식회사 터치 입력장치, 이를 포함하는 차량, 및 그 제조방법
KR101728329B1 (ko) 2015-11-19 2017-05-02 현대자동차주식회사 터치 입력장치, 이를 포함하는 차량, 및 그 제조방법
US9864456B2 (en) 2015-12-21 2018-01-09 Amtel Corporation Touch sensor electrode driving
US10067587B2 (en) 2015-12-29 2018-09-04 Synaptics Incorporated Routing conductors in an integrated display device and sensing device
CN106933400B (zh) 2015-12-31 2021-10-29 辛纳普蒂克斯公司 单层传感器图案和感测方法
US10013101B2 (en) 2016-01-08 2018-07-03 Atmel Corporation Touch sensor and associated control method for decreased capacitive loads
US9983748B2 (en) 2016-02-17 2018-05-29 Atmel Corporation Connecting electrodes to voltages
US10175741B2 (en) 2016-03-03 2019-01-08 Atmel Corporation Touch sensor mode transitioning
JP6888318B2 (ja) * 2016-03-23 2021-06-16 三菱マテリアル株式会社 積層透明導電膜、積層配線膜及び積層配線膜の製造方法
US20170308194A1 (en) * 2016-04-20 2017-10-26 Atmel Corporation Touch Sensor Mesh Designs
JP6874760B2 (ja) 2016-04-27 2021-05-19 日本ゼオン株式会社 フィルムセンサ部材及びその製造方法、円偏光板及びその製造方法、並びに、画像表示装置
US10120489B2 (en) 2016-04-28 2018-11-06 Atmel Corporation Touch sensor mesh designs
US9983749B2 (en) 2016-05-19 2018-05-29 Atmel Corporation Touch detection
US10120513B2 (en) 2016-05-26 2018-11-06 Atmel Corporation Touch sensor compensation circuit
US9939930B2 (en) 2016-06-09 2018-04-10 Atmel Corporation Active stylus with multiple sensors for receiving signals from a touch sensor
US9927901B2 (en) 2016-06-09 2018-03-27 Atmel Corporation Force sensor array
US10234974B2 (en) 2016-06-15 2019-03-19 Atmel Corporation Touch device
US10719177B2 (en) 2016-06-21 2020-07-21 Atmel Corporation Excitation voltages for touch sensors
KR101795540B1 (ko) 2016-07-04 2017-11-10 현대자동차주식회사 터치 입력장치
US10310686B2 (en) * 2016-07-11 2019-06-04 Apple Inc. Rigid trackpad for an electronic device
US10061375B2 (en) 2016-08-02 2018-08-28 Atmel Corporation Power mode configuration for touch sensors
AU2017208277B2 (en) 2016-09-06 2018-12-20 Apple Inc. Back of cover touch sensors
KR101866736B1 (ko) 2016-09-23 2018-06-15 현대자동차주식회사 터치 입력장치 및 그 제조방법
WO2018066214A1 (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 アルプス電気株式会社 静電容量式センサ
KR20180049544A (ko) 2016-11-03 2018-05-11 현대자동차주식회사 터치 입력장치
US10318050B2 (en) 2016-11-18 2019-06-11 Atmel Corporation Touch sensor signal integration
US10809843B2 (en) 2016-11-18 2020-10-20 Atmel Corporation Touch sensor signal integration
JP7024725B2 (ja) 2016-11-30 2022-02-24 日本ゼオン株式会社 光学積層体、円偏光板、タッチパネル及び画像表示装置
US10423276B2 (en) 2017-01-30 2019-09-24 Atmel Corporation Applying a signal to a touch sensor
US10642418B2 (en) 2017-04-20 2020-05-05 Apple Inc. Finger tracking in wet environment
KR102006697B1 (ko) * 2018-01-31 2019-08-02 청주대학교 산학협력단 전기변색 디바이스용 다층박막 투명전극 및 이의 제조방법
EP3770736A4 (en) * 2018-03-23 2021-12-22 Alps Alpine Co., Ltd. INPUT DEVICE AND DISPLAY DEVICE INCLUDING AN INPUT DEVICE
US11662867B1 (en) 2020-05-30 2023-05-30 Apple Inc. Hover detection on a touch sensor panel

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58166437A (ja) * 1982-03-26 1983-10-01 Fujitsu Ltd 指タツチ式座標検出パネルの製造方法
JPS6075927A (ja) * 1983-09-30 1985-04-30 Fujitsu Ltd 座標入力装置
JPH10186315A (ja) * 1996-12-27 1998-07-14 Sharp Corp 液晶表示装置およびその駆動方法
JP2002287902A (ja) 2001-01-17 2002-10-04 Seiko Epson Corp タッチパネル及び電子機器
JP2003004902A (ja) 2001-06-14 2003-01-08 Applied Vacuum Coating Technologies Co Ltd 最外層が透明導電膜である抗反射導電多層薄膜
TW562736B (en) 2002-03-06 2003-11-21 Applied Vacuum Coating Technol Multilayer antireflection coating with a transparent conductive layer
US7154481B2 (en) * 2002-06-25 2006-12-26 3M Innovative Properties Company Touch sensor
US6970160B2 (en) * 2002-12-19 2005-11-29 3M Innovative Properties Company Lattice touch-sensing system
US8068186B2 (en) * 2003-10-15 2011-11-29 3M Innovative Properties Company Patterned conductor touch screen having improved optics
JP2006079589A (ja) * 2004-08-05 2006-03-23 Sanyo Electric Co Ltd タッチパネル
JP3807425B2 (ja) * 2004-08-27 2006-08-09 セイコーエプソン株式会社 配線パターン形成方法およびｔｆｔ用ゲート電極の形成方法
JPWO2006028131A1 (ja) * 2004-09-10 2008-05-08 グンゼ株式会社 タッチパネル及びタッチパネル用フィルム材料の製造方法
JP2007122326A (ja) 2005-10-27 2007-05-17 Alps Electric Co Ltd 入力装置および前記入力装置を使用した電子機器
US8373664B2 (en) * 2006-12-18 2013-02-12 Cypress Semiconductor Corporation Two circuit board touch-sensor device
TW200842681A (en) * 2007-04-27 2008-11-01 Tpk Touch Solutions Inc Touch pattern structure of a capacitive touch panel
US20080309633A1 (en) * 2007-06-13 2008-12-18 Apple Inc. Touch-sensitive display
JP2009259203A (ja) * 2008-03-25 2009-11-05 Epson Imaging Devices Corp 静電容量型入力装置、入力機能付き表示装置および電子機器

Cited By (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9213376B2 (en) 2007-04-27 2015-12-15 Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. Conductor pattern structure of a capacitive touch panel comprising a plurality of first-axis conductor cells and a plurality of second-axis conductor cells
US9557780B2 (en) 2007-04-27 2017-01-31 Tpk Touch Solutions Inc. Transparent conductor pattern structure of a capacitive touch panel comprising a plurality of conductor cells
CN101763191B (zh) * 2008-12-22 2014-07-02 马尔泰克显示器（香港）有限公司 单层上的菱形模式
CN101776967A (zh) * 2009-01-08 2010-07-14 精工爱普生株式会社 触摸面板的制造方法、触摸面板、显示装置及电子设备
US10282040B2 (en) 2009-03-20 2019-05-07 Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. Capacitive touch circuit pattern and manufacturing method thereof
CN102378955A (zh) * 2009-03-30 2012-03-14 微软公司 检测弯曲表面上的触摸
US8982051B2 (en) 2009-03-30 2015-03-17 Microsoft Technology Licensing, Llc Detecting touch on a surface
US9317140B2 (en) 2009-03-30 2016-04-19 Microsoft Technology Licensing, Llc Method of making a multi-touch input device for detecting touch on a curved surface
CN102378955B (zh) * 2009-03-30 2016-08-03 微软技术许可有限责任公司 检测弯曲表面上的触摸
CN101587408B (zh) * 2009-06-29 2011-04-13 深圳莱宝高科技股份有限公司 一种电容式触摸屏及其制造方法
US11467699B2 (en) 2009-08-27 2022-10-11 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and fabrication method thereof
US10025436B2 (en) 2009-08-27 2018-07-17 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and fabrication method thereof
US10073575B2 (en) 2009-08-27 2018-09-11 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and fabrication method thereof
US10324578B2 (en) 2009-08-27 2019-06-18 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and fabrication method thereof
US10963110B2 (en) 2009-08-27 2021-03-30 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and fabrication method thereof
CN102004572B (zh) * 2009-08-27 2013-07-24 三星显示有限公司 触摸屏面板及其制造方法
US9104274B2 (en) 2009-08-27 2015-08-11 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and fabrication method thereof
CN102004572A (zh) * 2009-08-27 2011-04-06 三星移动显示器株式会社 触摸屏面板及其制造方法
CN102043555B (zh) * 2009-10-21 2013-06-12 株式会社日本显示器西 静电电容型输入装置和带输入装置的光电装置
CN102043555A (zh) * 2009-10-21 2011-05-04 索尼公司 静电电容型输入装置和带输入装置的光电装置
US9551904B2 (en) 2009-10-29 2017-01-24 Atmel Corporation Touchscreen electrode configuration
CN102053751A (zh) * 2009-10-29 2011-05-11 爱特梅尔公司 触摸屏电极配置
CN102096532B (zh) * 2009-12-15 2015-07-08 株式会社日本显示器西 静电电容型输入装置及其制造方法
CN102096532A (zh) * 2009-12-15 2011-06-15 索尼公司 静电电容型输入装置及其制造方法
CN102147677B (zh) * 2010-02-05 2016-08-17 三星显示有限公司 触摸屏面板
CN102147677A (zh) * 2010-02-05 2011-08-10 三星移动显示器株式会社 触摸屏面板
US9001052B2 (en) 2010-03-16 2015-04-07 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and fabrication method thereof
CN102193672A (zh) * 2010-03-16 2011-09-21 三星移动显示器株式会社 触摸屏幕面板及其制造方法
CN102193672B (zh) * 2010-03-16 2015-11-25 三星显示有限公司 触摸屏幕面板及其制造方法
CN102236467A (zh) * 2010-04-21 2011-11-09 株式会社日立显示器 触摸板和显示装置
TWI482072B (zh) * 2010-04-21 2015-04-21 Japan Display Inc Touch panel and display device
CN102236467B (zh) * 2010-04-21 2014-11-05 株式会社日本显示器 触摸板和显示装置
US8654090B2 (en) 2010-04-21 2014-02-18 Japan Display Inc. Touch panel and display device
US9182866B2 (en) 2010-04-21 2015-11-10 Japan Display, Inc. Touch panel and display device
US9454267B2 (en) 2010-06-12 2016-09-27 Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. Touch sensing circuit and method for making the same
CN102346589A (zh) * 2010-07-26 2012-02-08 三星电机株式会社 触摸屏面板及其制造方法
US9423903B2 (en) 2010-08-18 2016-08-23 Lg Display Co., Ltd. Touch screen panel
US8722313B2 (en) 2010-08-18 2014-05-13 Lg Display Co., Ltd. Touch screen panel and method of manufacturing the same
CN102375635B (zh) * 2010-08-18 2014-11-12 乐金显示有限公司 触摸屏及其制造方法
CN102375635A (zh) * 2010-08-18 2012-03-14 乐金显示有限公司 触摸屏及其制造方法
CN104199582B (zh) * 2010-12-03 2018-04-27 联胜（中国）科技有限公司 电容式触控感应器及电容式触控面板
CN104199582A (zh) * 2010-12-03 2014-12-10 联胜（中国）科技有限公司 电容式触控感应器及电容式触控面板
CN103340027A (zh) * 2011-02-02 2013-10-02 3M创新有限公司 具有非直线导体迹线的图案化基底
CN102693027A (zh) * 2011-03-25 2012-09-26 牧东光电（苏州）有限公司 带有绝缘子的触控面板及其制造方法
WO2013023482A1 (zh) * 2011-08-16 2013-02-21 深圳市宝明科技股份有限公司 Ito过桥一体式电容触摸屏及制造方法
CN103197781A (zh) * 2012-01-04 2013-07-10 北儒精密股份有限公司 低色差触控基板及其制造方法
CN102881357A (zh) * 2012-09-06 2013-01-16 广州新视界光电科技有限公司 一种复合透明导电薄膜
CN105518589A (zh) * 2013-08-09 2016-04-20 东友精细化工有限公司 触摸感应电极和包括其的触摸屏面板
CN105474149A (zh) * 2013-08-23 2016-04-06 东友精细化工有限公司 集成有偏光板的触摸感测电极
US9451705B2 (en) 2013-10-21 2016-09-20 Huawei Device Co., Ltd. Touch panel and production method thereof
WO2015058337A1 (zh) * 2013-10-21 2015-04-30 华为终端有限公司 触控面板及其制作方法
CN103858082A (zh) * 2013-10-21 2014-06-11 华为终端有限公司 触控面板及其制作方法
CN104281320A (zh) * 2014-09-23 2015-01-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 触摸屏及其制作方法、触摸显示装置
WO2016045252A1 (zh) * 2014-09-23 2016-03-31 京东方科技集团股份有限公司 触摸屏及其制造方法、触摸显示装置
CN104409469B (zh) * 2014-10-30 2017-02-15 京东方科技集团股份有限公司 一种amoled触控显示装置及其制备方法、驱动方法
CN104409469A (zh) * 2014-10-30 2015-03-11 京东方科技集团股份有限公司 一种amoled触控显示装置及其制备方法、驱动方法
CN108780186A (zh) * 2016-03-30 2018-11-09 日本瑞翁株式会社 光学各向异性层叠体、圆偏振片以及图像显示装置
CN108780186B (zh) * 2016-03-30 2021-07-13 日本瑞翁株式会社 光学各向异性层叠体、圆偏振片以及图像显示装置
CN110083263A (zh) * 2016-06-30 2019-08-02 三星显示有限公司 电子装置
US10910168B2 (en) 2016-06-30 2021-02-02 Samsung Display Co., Ltd. Electronic device
US10699852B2 (en) 2016-06-30 2020-06-30 Samsung Display Co., Ltd. Electronic device
US10580594B2 (en) 2016-06-30 2020-03-03 Samsung Display Co., Ltd. Electronic device
US11237686B2 (en) 2016-06-30 2022-02-01 Samsung Display Co., Ltd. Electronic device
CN107482039B (zh) * 2017-08-03 2020-07-24 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性触控母板及制备方法、柔性触控基板、触控面板
CN107482039A (zh) * 2017-08-03 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性触控母板及制备方法、柔性触控基板、触控面板

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008310550A (ja) 2008-12-25
KR100988654B1 (ko) 2010-10-18
US20080309635A1 (en) 2008-12-18
CN101324827B (zh) 2012-06-13
TW200907772A (en) 2009-02-16
US8823653B2 (en) 2014-09-02
JP4506785B2 (ja) 2010-07-21
TWI411948B (zh) 2013-10-11
KR20080110477A (ko) 2008-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101324827B (zh) 静电电容型输入装置
CN101609384A (zh) 静电电容式输入装置以及带输入功能的显示装置
CN102087568B (zh) 静电电容式输入装置、带输入功能的显示装置及电子设备
JP4998919B2 (ja) 静電容量型入力装置
US10613697B2 (en) Touch panel and manufacturing method therefor
US8872786B2 (en) Capacitive input device, display device with input function, and electronic apparatus
JP4888589B2 (ja) 静電容量型入力装置、入力機能付き表示装置および電子機器
CN102096532B (zh) 静电电容型输入装置及其制造方法
US8264466B2 (en) Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern
US9367194B2 (en) Systems for displaying images
CN102109939B (zh) 电容性输入装置以及具有输入功能的电光设备
CN102193679B (zh) 具有输入功能的电光装置
JP5370723B2 (ja) 静電容量型入力装置、入力機能付き表示装置および電子機器
US20100006347A1 (en) Cover lens with touch sensing function
CN101414237A (zh) 触摸面板、带输入功能的显示装置以及电子设备
JP2009053894A (ja) 静電容量型入力装置
US20090096762A1 (en) Input device, display device with input function, and electronic apparatus
US10452219B2 (en) Touch sensor
CN102999199A (zh) 触控感测装置及电子装置
US8829368B2 (en) Resistive film type input device, display device with input function, and electronic apparatus
TW201022769A (en) Touch panel

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: NANKAI UNIVERSITY

Free format text: FORMER OWNER: SANYO EPSON IMAGING DEVICES CO.

Effective date: 20100729

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: NAGANO-KEN, JAPAN TO: TOKYO-DU, JAPAN

TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20100729

Address after: Tokyo, Japan

Applicant after: Sony Corp.

Address before: Nagano

Applicant before: Sanyo Epson Imaging Devices Co.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: NIPPON DISPLAY CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: SONY CORPORATION

Effective date: 20121116

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20121116

Address after: Aichi

Patentee after: Japan display West Co.,Ltd.

Address before: Tokyo, Japan

Patentee before: Sony Corp.

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20211022

Address after: Tokyo, Japan

Patentee after: JAPAN DISPLAY Inc.

Address before: Aichi

Patentee before: Japan display West Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right