TWI401489B - 電容式觸控基板結構及電容式觸控面板結構 - Google Patents

Description

電容式觸控基板結構及電容式觸控面板結構

本發明係有關於一種觸控基板及觸控面板，特別是一種電容式觸控基板結構及電容式觸控面板結構。

近年來觸控感應面板(touch panel)有關的產置技術突飛猛進，例如電阻式觸控面板、電容式觸控面板、音波式觸控面板、及光學式觸控面板，已被廣泛應用於通訊產品、電腦裝置、消費性電子產品上，藉以大幅增加所應用之電子產品的效能及使用便利性。例如，應用作為筆記型電腦的滑鼠板、虛擬觸摸按鍵之電容式觸控板，或是一般被配置在個人數位助理(Personal Digital Assistant，PDA)、電子字典、手機、數位播放器、衛星導航(Global Positioning System，GPS)螢幕等小型電子產品的螢幕上使用之電阻式觸控板，省去了傳統電子裝置必須配置的按鈕、鍵盤或搖桿。

電容式觸控面板(capacitive touch panel)可用手指進行輸入，具有輸入操作的便利性，而其輸入操作不需經過觸壓，不會讓面板有承受反覆應力、變形導致損害的缺點，且該種觸控板的組成構造簡單、元件少，產品良率高，並且適合使用大量生產以降低成本。電容式觸控面板的結構包括一X軸感應線跡及一Y軸感應線跡，使X、Y軸感應線跡絕緣地設置玻璃基板上，藉由使用者的手指或導體碰觸的瞬間產生電容值的變化，而得以確定手指或導體之位置。

另外，目前的電容觸控元件與面板的結合方式多是採用外貼的方式令電容觸控元件與面板相結合。電容觸控元件外貼至面板的方式，雖可減輕觸控訊號與顯示元件之間的干擾，但卻也產生對位不準確的 情況，導致製造良率並不理想，使得觸控面板的電容感應訊號的敏感度及精確度大幅降低，以及製造完成之面板的整體厚度相對較厚。此外，習用製造電容式觸控面板多使用透明導電材料做為觸控元件，在觸控圖案中設計有大區塊導電區及小區塊導電區相互串聯的透明導線，而小區塊導電區的阻抗值過大，導致電容式觸控面板要朝向大尺寸化並不容易。

美國第2007/0291009號專利案揭露一種偵測觸控感應墊動作之裝置及其方法，其裝置包括有感測設備及電腦處理設備。感測設備係用以偵測傳導物件(如手指)是否存在，電腦處理設備係電性耦接於感測設備，以辨認多種動作。其方法包括有辨認輕叩動作、雙次輕扣動作、拖曳動作、擺動動作。

鑒於以上的問題，本發明提供一種電容式觸控基板結構及電容式觸控面板結構，藉以改良習用電容式觸控面板之電容觸控元件以外貼方式所造成的對位不準確、製造良率不佳、製程步驟過於繁複、觸控面板之厚度較厚、及觸控面板的解析度不佳等問題。

本發明所揭露之電容式觸控基板結構包括有透明基材、複數個觸控墊、介電層、訊號線、至少一掃描線段、及複數個導電柱。觸控墊係設置於透明基材的一側面上，且各觸控墊係位於同一直線上。介電層係設置於透明基材的側面上，並覆蓋住觸控墊，訊號線與掃描線段係設置並接觸於介電層的同一平面上。導電柱係貫穿介電層，並且導電柱分別與觸控墊及掃描線段電性接觸，以令觸控墊與掃描線段形成電性連接關係。

本發明所揭露之電容式觸控面板結構包括有電容式觸控基板及發光模組。發光模組係設置於電容式觸控基板之介電層上，係用以發出一光線至透明基材。

本發明之電容式觸控基板結構及電容式觸控面板結構，其係以內嵌式(in cell)的方式直接於面板內製造電容觸控元件，取代習用的貼合方式，大幅提高製造時的對位準確度，有效減少光罩的使用數量及降低 導線電阻，藉以提高觸控面板的製成良率及解析度。

以上之關於本發明內容之說明及以下之實施方式之說明係用以示範與解釋本發明之原理，並且提供本發明之專利申請範圍更進一步之解釋。

100‧‧‧電容式觸控基板

110‧‧‧透明基材

120‧‧‧第一觸控墊

130‧‧‧第一介電層

140‧‧‧第一訊號線

150‧‧‧第一掃描線段

160‧‧‧第一導電柱

170‧‧‧第二掃描線段

180‧‧‧第二觸控墊

190‧‧‧第二介電層

200‧‧‧第二訊號線

210‧‧‧第二導電柱

220‧‧‧第三介電層

300‧‧‧發光模組

311‧‧‧有機發光二極體

312‧‧‧主動層

313‧‧‧鈍化層

314‧‧‧電極層

321‧‧‧薄膜電晶體

322‧‧‧鈍化層

323‧‧‧液晶層

324‧‧‧彩色濾光片

325‧‧‧電極層

326‧‧‧背光源

331‧‧‧薄膜電晶體

332‧‧‧鈍化層

333‧‧‧電泳層

334‧‧‧彩色濾光片

335‧‧‧電極層

336‧‧‧基板

341‧‧‧彩色濾光片

342‧‧‧閘極電極

343‧‧‧電極層

344‧‧‧薄膜電晶體

351‧‧‧彩色濾光片

352‧‧‧閘極電極

353‧‧‧電極層

354‧‧‧薄膜電晶體

355‧‧‧黑色矩陣

361‧‧‧電極層

362‧‧‧薄膜電晶體

363‧‧‧彩色濾光片

364‧‧‧第四介電層

400‧‧‧平坦層

510‧‧‧防電磁干擾層

520‧‧‧防護寄生電容干擾層

600‧‧‧電容式觸控面板

700‧‧‧畫素

800‧‧‧顯示面板

810‧‧‧顯示陣列

900‧‧‧導電通孔

第1圖為本發明一實施例之觸控墊與掃描線段之組成示意圖；第2圖為本發明第一實施例之電容式觸控基板之上視圖；第3圖為本發明第一實施例之電容式觸控基板之結構示意圖；第4圖為本發明第二實施例之電容式觸控基板之結構示意圖；第5圖為本發明第三實施例之電容式觸控基板之結構示意圖；第6圖為本發明另一實施例之觸控墊與掃描線段之組成示意圖；第7圖為本發明一實施例之觸控墊與畫素之設置關係示意圖；第8圖為本發明另一實施例之觸控墊與畫素之設置關係示意圖；第9A圖為本發明第一實施例之電容式觸控面板之結構示意圖；第9B圖為本發明第一實施例之電容式觸控面板之另一態樣之結構示意圖；第10A圖為本發明第二實施例之電容式觸控面板之結構示意圖； 第10B圖為本發明第二實施例之電容式觸控面板之另一態樣之結構示意圖；第11A圖為本發明第三實施例之電容式觸控面板之結構示意圖；第11B圖為本發明第三實施例之電容式觸控面板之另一態樣之結構示意圖；第12圖為本發明第四實施例之電容式觸控面板之結構示意圖；第13圖為本發明第五實施例之電容式觸控面板之結構示意圖；第14圖為本發明第六實施例之電容式觸控面板之結構示意圖；第15A圖為本發明不同型態之觸控墊與掃描線段之組成示意圖；第15B圖為本發明不同型態之觸控墊與掃描線段之組成示意圖；第15C圖為本發明不同型態之觸控墊與掃描線段之組成示意圖；第15D圖為本發明不同型態之觸控墊與掃描線段之組成示意圖；以及第15E圖為本發明不同型態之觸控墊與掃描線段之組成示意圖。

根據本發明所揭露之電容式觸控基板結構，可應用於下發光有機發光二極體(OLED)面板、薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD)面板、雙穩態膽固醇液晶顯示器、電泳式顯示器(Electrophoresis Display，EPD)、電濕潤式顯示器(Electrowetting Display，EWD)等裝置，但並不以此為限。

「第1圖」為一實施例之觸控墊與掃描線段的組成示意圖，「第2圖」為本發明第一實施例之電容式觸控基板之上視圖，「第3圖」所示為本發明第一實施例之電容式觸控基板之結構示意圖。本發明第一實施例之電容式觸控基板100包括有一透明基材110、複數個第一觸控墊120、一第一介電層130、一第一訊號線140、一第一掃描線段150、複數個第一導電柱160、一第二掃描線段170、及複數個第二觸控墊180。

其中，透明基材110之材質係選用氧化銦錫((Indium Tin Oxide，ITO)或是聚乙撐二氧噻吩(PEDOT)，但並不以此為限。第一觸控墊120在本實施例中係定義為Y軸方向的觸控墊，第一觸控墊120係設置於透明基材110的一側面上，並且各個第一觸控墊120係位於Y軸上(如「第1圖」所示)，而各排第一觸控墊120係分別並列設置。第二觸控墊180在本實施例中係定義為X軸方向的觸控墊，第二觸控墊180係設置於透明基材110設有第一觸控墊120的側面上，即第一觸控墊120與第二觸控墊180係位於同一平面上，並且各個第二觸控墊180係位於X軸上(如「第1圖」所示)，而各排第二觸控墊180係分別並列設置。

請繼續參閱「第1圖」至「第3圖」，第一介電層130係設置於透明基材110上，並且覆蓋住第一觸控墊120及第二觸控墊180。其中，第一介電層130係以蒸鍍、濺鍍、旋鍍(spin-coating)等方式形成，且本發明之第一介電層130的厚度至少為200奈米(nm)。第一訊號線140與第一掃描線段150係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，並且第一訊號線140及第一掃描線段150與第一介電層130相接觸，即第一訊號線140與第一掃描線段150係位在同一平面上。第二掃描線段170與第一掃描線段150係相互垂直並且交錯設置，本實施例之第二掃描線段170係設置於透明基材110具有第二觸控墊180的側面上(即第二掃描線段170與第二觸控墊180係位在透明基材110的同一側面上)，且各個第二觸控墊180係與第二掃描線段170相互電性接觸，以形成電性連接關係。

值得注意的是，本發明所揭露之第一訊號線140可為閘極 線/電極(gate line/electrode)或資料線/電極(data line/electrode)。另外，本實施例的第一掃描線段150係貫穿位於同一直線(Y軸)上的第一觸控墊120，並相互電性連接，第二掃描線段170係貫穿位於同一直線(X軸)上的第二觸控墊180，並相互電性連接。也就是說，第一掃描線段150可電性連接至第一觸控墊120，並將第一觸控墊120感測之訊號(例如電流或電壓)傳遞至外部系統，其外部系統可為觸控系統。而第一訊號線140例如可用以控制薄膜電晶體。舉例來說，第一訊號線140為提供顯示之訊號，而外部系統為顯示系統。

本實施例之第一導電柱160係貫穿第一介電層130，並分別與第一觸控墊120及第一掃描線段150電性接觸，以令各個第一觸控墊120與第一掃描線段150之間形成電性連接關係。

「第4圖」所示為本發明第二實施例之結構示意圖。本發明第二實施例之電容式觸控基板100除了包括有一透明基材110、複數個第一觸控墊120、一第一介電層130、一第一訊號線140、一第一掃描線段150、複數個第一導電柱160、一第二掃描線段170、及複數個第二觸控墊180之外，更包括有一第二介電層190、一第二訊號線200、及複數個第二導電柱210。

本實施例的第二觸控墊180與第一觸控墊120皆係設置於透明基材110的一側面上，即第一觸控墊120與第二觸控墊180係位於同一平面上。第一介電層130係設置於透明基材110上，並且覆蓋住第一觸控墊120及第二觸控墊180。其中，第一介電層130係以蒸鍍、濺鍍、旋鍍(spin-coating)等方式形成，且本發明之第一介電層130的厚度至少為200奈米(nm)。第一訊號線140與第一掃描線段150係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，並且第一訊號線140及第一掃描線段150與第一介電層130相接觸，即第一訊號線140與第一掃描線段150係位在同一平面上。

請繼續參閱「第4圖」，第二介電層190係設置於第一介 電層130具有第一訊號線140及第一掃描線段150的側面上，第二掃描線段170與第一掃描線段150係相互垂直並且交錯設置，本實施例之第二掃描線段170係設置於第二介電層190相對於第一介電層130的另一側面上。第二訊號線200與第二掃描線段170皆係設置於第二介電層190的同一側面上，並且第二訊號線200及第二掃描線段170與第二介電層190相接觸。

值得注意的是，本發明所揭露之第一訊號線140可為閘極線/電極(gate line/electrode)或資料線/電極(data line/electrode)，第二訊號線200可為資料線/電極(data line/electrode)或是閘極線/電極(gate line/electrode)。另外，本實施例的第一掃描線段150係貫穿位於同一直線(Y軸)上的第一觸控墊120，並相互電性連接，第二掃描線段170係貫穿位於同一直線(X軸)上的第二觸控墊180，並相互電性連接。也就是說，第一掃描線段150可電性連接至第一觸控墊120，並將第一觸控墊120感測之訊號(例如電流或電壓)傳遞至外部系統，其外部系統可為觸控系統。而第一訊號線140例如可用以控制薄膜電晶體。舉例來說，第一訊號線140為提供顯示之訊號，而外部系統為顯示系統。

本實施例之第一導電柱160係貫穿第一介電層130，並分別與第一觸控墊120及第一掃描線段150電性接觸，以令各個第一觸控墊120與第一掃描線段150之間形成電性連接關係；本實施例之第二導電柱210係貫穿第一介電層130及第二介電層190，並分別與第二觸控墊180及第二掃描線段170電性接觸，以令各個第二觸控墊180與第二掃描線段170之間形成電性連接關係。

「第5圖」所示為本發明第三實施例之結構示意圖。本發明第三實施例之電容式觸控基板100除了包括有一透明基材110、複數個第一觸控墊120、一第一介電層130、一第一訊號線140、一第一掃描線段150、複數個第一導電柱160、一第二掃描線段170、及複數個第二觸控墊180之外，更包括有一第二介電層190、一第三介電層220、一第二訊號線 200、及複數個第二導電柱210。

本實施例的第一觸控墊120係設置於透明基材110的一側面上，第一介電層130係設置於透明基材110上，並且覆蓋住第一觸控墊120。其中，第一介電層130係以蒸鍍、濺鍍、旋鍍(spin-coating)等方式形成，且本發明之第一介電層130的厚度至少為200奈米(nm)。第二觸控墊180係設置於第一介電層130相對於該透明基材110的另一側面上。第二介電層190係設置於第一介電層130具有第二觸控墊180的平面上，並且覆蓋住第二觸控墊180。第一訊號線140與第一掃描線段150係設置於第二介電層190相對於第一介電層130的另一側面上，並且第一訊號線140及第一掃描線段150與第二介電層190相接觸，即第一訊號線140與第一掃描線段150係位在同一平面上。

請繼續參閱「第5圖」，第三介電層220係設置於第二介電層190具有第一訊號線140及第一掃描線段150的側面上，第二掃描線段170與第一掃描線段150係相互垂直並且交錯設置。第二訊號線200及第二掃描線段170係設置於第三介電層220相對於第二介電層190的另一側面上，並且第二訊號線200及第二掃描線段170與第三介電層220相接觸。

值得注意的是，本發明所揭露之第一訊號線140可為閘極線/電極(gate line/electrode)或資料線/電極(data line/electrode)，第二訊號線200可為資料線/電極(data line/electrode)或是閘極線/電極(gate line/electrode)。

另外，本實施例的第一掃描線段150係貫穿位於同一直線(Y軸)上的第一觸控墊120，並相互電性連接，第二掃描線段170係貫穿位於同一直線(X軸)上的第二觸控墊120，並相互電性連接。也就是說，第一掃描線段150可電性連接至第一觸控墊120，並將第一觸控墊120感測之訊號(例如電流或電壓)傳遞至外部系統，其外部系統可為觸控系統。而第一訊號線140例如可用以控制薄膜電晶體。舉例來說，第一訊號線140為提供顯示之訊號，而外部系統為顯示系統。

本實施例的第一導電柱160係貫穿第一介電層130及第二介電層190，並分別與第一觸控墊120及第一掃描線段150電性接觸，以令各個第一觸控墊120與第一掃描線段150之間形成電性連接關係；第二導電柱210係貫穿第二介電層190及第三介電層220，並分別與第二觸控墊180及第二掃描線段170電性接觸，以令各個第二觸控墊180與第二掃描線段170之間形成電性連接關係。

「第6圖」所示為本發明另一實施例之觸控墊與掃描線段的組成示意圖。本發明第四實施例之電容式觸控基板100中的第一觸控墊120在本實施例中係定義為Y軸方向的觸控墊，各個第一觸控墊120係位於Y軸上。第二觸控墊180在本實施例中係定義為X軸方向的觸控墊，各個第二觸控墊180係位於X軸上。

位在Y軸方向上的至少一第一觸控墊120係與複數條第一掃描線段150的其中一條電性連接，其餘的第一觸控墊120亦以至少一個第一觸控墊120與其中一條第一掃描線段150電性連接，使得本實施例之複數個第一觸控墊120區分為多個群組而分別與相對應的第一掃描線段150電性連接；本實施例之位在X軸方向上的至少一第二觸控墊180係與複數條第二掃描線段170的其中一條電性連接，其餘的第二觸控墊180亦以至少一個第二觸控墊180與其中一條第二掃描線段170電性連接，使得本實施例之複數個第二觸控墊180區分為多個群組而分別與相對應的第二掃描線段170電性連接。

本發明可視掃描線段150、170的實際阻抗值之需要，以及本發明之電容式觸控基板/面板適用於不同尺寸之顯示器的使用情況，而對應改變掃描線段150、170的配置數量及走線方式。因此，本發明除了上述各實施例係使用單一條掃描線段150、170與各排觸控墊120、180電性連接的型態之外，本實施例更可依據實際設計需求而選擇將複數個第一觸控墊120區分為多個群組，或是將複數個第二觸控墊180區分為多個群組，而分別與複數條第一掃描線段150及第二掃描線段170對應的電性 連接；或者是，同時將複數個第一觸控墊120及複數個第二觸控墊180區分為多個群組，而與相對應的複數條第一掃描線段150及第二掃描線段170電性連接。

請參閱「第7圖」及「第8圖」，本發明之第一觸控墊120與第二觸控墊180可如「第7圖」所示，係以鄰近的四個觸控墊120、180均等重疊於同一畫素(pixel)700的位置，使得觸控解析度為畫素解析度的四分之一；或者是如「第8圖」所示的排列方式，使得單一個觸控墊120、180係對應重疊於一畫素700的位置上，使得觸控解析度與畫素解析度為相等。熟悉此項技術者，亦可改變觸控墊120、180與畫素700之間的設置關係，使得觸控解析度與畫素解析度的關係為1/n，其中n為大於或等於1的整數。

「第9A圖」至「第14圖」所示為本發明電容式觸控面板之結構示意圖。本發明所揭露之電容式觸控面板600包括有前述的電容式觸控基板100、平坦層400、及發光模組300。

請參閱「第9A圖」及「第9B圖」，本發明之電容式觸控面板600包括一透明基材110、複數個第一觸控墊120、一第一介電層130、一第一訊號線140、一第一掃描線段150、複數個第一導電柱160、一第二掃描線段170、複數個第二觸控墊180、一平坦層400、及發光模組300。其中，透明基材110之材質係選用氧化銦錫((Indium Tin Oxide，ITO)或是聚乙撐二氧噻吩(PEDOT)，但並不以此為限。第一觸控墊120係定義為Y軸方向的觸控墊，且第一觸控墊120係設置於透明基材110的一側面上。第二觸控墊180係定義為X軸方向的觸控墊，並設置於透明基材110設有第一觸控墊120的側面上，即第一觸控墊120與第二觸控墊180係位於同一平面上。

第一介電層130係設置於透明基材110上，並且覆蓋住第一觸控墊120及第二觸控墊180。第一訊號線140與第一掃描線段150係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，並且第一訊號 線140及第一掃描線段150與第一介電層130相接觸，即第一訊號線140與第一掃描線段150係位在同一平面上。第二掃描線段170與第一掃描線段150係相互垂直並且交錯設置。第二掃描線段170係設置於透明基材110具有第二觸控墊180的側面上(即第二掃描線段170與第二觸控墊180係位在透明基材110的同一側面上)，且各個第二觸控墊180係與第二掃描線段170相互電性接觸，以形成電性連接關係。

值得注意的是，本發明所揭露之第一訊號線140可為閘極線/電極(gate line/electrode)或資料線/電極(data line/electrode)，第二訊號線200可為資料線/電極(data line/electrode)或是閘極線/電極(gate line/electrode)。

第一導電柱160係貫穿第一介電層130，並分別與第一觸控墊120及第一掃描線段150電性接觸，以令各個第一觸控墊120與第一掃描線段150之間形成電性連接關係。也就是說，第一掃描線段150可電性連接至第一觸控墊120，並將第一觸控墊120感測之訊號(例如電流或電壓)傳遞至外部系統，其外部系統可為觸控系統。而第一訊號線140例如可用以控制薄膜電晶體。舉例來說，第一訊號線140為提供顯示之訊號，而外部系統為顯示系統。

請繼續參閱「第9A圖」及「第9B圖」，平坦層400係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，以供後續的發光模組300製程得以順利進行。本實施例的發光模組300為下發光型有機電激發光二極體(Organic Light-Emitting Diodes，OLED)，其包括有有機發光二極體311、主動層(active layer)312、鈍化層(passivation)313、及電極層314，係依序設置於平坦層400上，以與電容式觸控基板100構成有機電激發光二極體顯示面板。然而，值得注意的是，本實施例所述之平坦層400係為了提供發光模組300於製造時可設置於一平坦面上，藉以提高發光模組300於製造時的良率。發光模組300亦可直接設置於第一介電層130的上表面。

另外，請參閱「第9A圖」及「第9B圖」，本實施例之電容式觸控面板600亦包括有防電磁干擾層510或防護寄生電容干擾層 520，係設置於第一介電層130上，藉以防止發光模組300所產生之電磁或是寄生電容的干擾，避免電容式觸控面板600的效能受到影響。

請參閱「第10A圖」及「第10B圖」，本發明之電容式觸控面板600包括一透明基材110、複數個第一觸控墊120、一第一介電層130、一第一訊號線140、一第一掃描線段150、複數個第一導電柱160、一第二掃描線段170、複數個第二觸控墊180、一平坦層400、及發光模組300。其中，透明基材110之材質係選用氧化銦錫((Indium Tin Oxide，ITO)或是聚乙撐二氧噻吩(PEDOT)，但並不以此為限。第一觸控墊120係定義為Y軸方向的觸控墊，且第一觸控墊120係設置於透明基材110的一側面上。第二觸控墊180係定義為X軸方向的觸控墊，並設置於透明基材110設有第一觸控墊120的側面上，即第一觸控墊120與第二觸控墊180係位於同一平面上。

第一介電層130係設置於透明基材110上，並且覆蓋住第一觸控墊120及第二觸控墊180。第一訊號線140與第一掃描線段150係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，並且第一訊號線140及第一掃描線段150與第一介電層130相接觸，即第一訊號線140與第一掃描線段150係位在同一平面上。第二掃描線段170與第一掃描線段150係相互垂直並且交錯設置。第二掃描線段170係設置於透明基材110具有第二觸控墊180的側面上(即第二掃描線段170與第二觸控墊180係位在透明基材110的同一側面上)，且各個第二觸控墊180係與第二掃描線段170相互電性接觸，以形成電性連接關係。

值得注意的是，本發明所揭露之第一訊號線140可為閘極線/電極(gate line/electrode)或資料線/電極(data line/electrode)，第二訊號線200可為資料線/電極(data line/electrode)或是閘極線/電極(gate line/electrode)。

第一導電柱160係貫穿第一介電層130，並分別與第一觸控墊120及第一掃描線段150電性接觸，以令各個第一觸控墊120與第一掃描線段150之間形成電性連接關係。也就是說，第一掃描線段150可電 性連接至第一觸控墊120，並將第一觸控墊120感測之訊號(例如電流或電壓)傳遞至外部系統，其外部系統可為觸控系統。而第一訊號線140例如可用以控制薄膜電晶體。舉例來說，第一訊號線140為提供顯示之訊號，而外部系統為顯示系統。

請繼續參閱「第10A圖」及「第10B圖」，平坦層400係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，以供後續的發光模組300製程得以順利進行。本實施例的發光模組300為薄膜電晶體液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)，其包括有複數個薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)321、鈍化層(passivation)322、液晶層(liquid crystal layer)323、彩色濾光片(color filter)324、電極層325、及背光源326，係依序設置於平坦層400上，以與電容式觸控基板100構成薄膜電晶體液晶顯示面板。值得注意的是，本實施例所述之平坦層400係為了提供發光模組300於製造時可設置於一平坦面上，藉以提高發光模組300於製造時的良率。發光模組300亦可直接設置於第一介電層130的上表面。

另外，請參閱「第10A圖」及「第10B圖」，本實施例之電容式觸控面板600亦包括有防電磁干擾層510或防護寄生電容干擾層520，係設置於第一介電層130上，藉以防止發光模組300所產生之電磁或是寄生電容的干擾，避免電容式觸控面板600的效能受到影響。

請參閱「第11A圖」及「第11B圖」，本發明之電容式觸控面板600包括一透明基材110、複數個第一觸控墊120、一第一介電層130、一第一訊號線140、一第一掃描線段150、複數個第一導電柱160、一第二掃描線段170、複數個第二觸控墊180、一平坦層400、及發光模組300。其中，透明基材110之材質係選用氧化銦錫((Indium Tin Oxide，ITO)或是聚乙撐二氧噻吩(PEDOT)，但並不以此為限。第一觸控墊120係定義為Y軸方向的觸控墊，且第一觸控墊120係設置於透明基材110的一側面上。第二觸控墊180係定義為X軸方向的觸控墊，並設置於透明基材110 設有第一觸控墊120的側面上，即第一觸控墊120與第二觸控墊180係位於同一平面上。

第一介電層130係設置於透明基材110上，並且覆蓋住第一觸控墊120及第二觸控墊180。第一訊號線140與第一掃描線段150係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，並且第一訊號線140及第一掃描線段150與第一介電層130相接觸，即第一訊號線140與第一掃描線段150係位在同一平面上。第二掃描線段170與第一掃描線段150係相互垂直並且交錯設置。第二掃描線段170係設置於透明基材110具有第二觸控墊180的側面上(即第二掃描線段170與第二觸控墊180係位在透明基材110的同一側面上)，且各個第二觸控墊180係與第二掃描線段170相互電性接觸，以形成電性連接關係。

值得注意的是，本發明所揭露之第一訊號線140可為閘極線/電極(gate line/electrode)或資料線/電極(data line/electrode)，第二訊號線200可為資料線/電極(data line/electrode)或是閘極線/電極(gate line/electrode)。

第一導電柱160係貫穿第一介電層130，並分別與第一觸控墊120及第一掃描線段150電性接觸，以令各個第一觸控墊120與第一掃描線段150之間形成電性連接關係。也就是說，第一掃描線段150可電性連接至第一觸控墊120，並將第一觸控墊120感測之訊號(例如電流或電壓)傳遞至外部系統，其外部系統可為觸控系統。而第一訊號線140例如可用以控制薄膜電晶體。舉例來說，第一訊號線140為提供顯示之訊號，而外部系統為顯示系統。

請繼續參閱「第11A圖」及「第11B圖」，平坦層400係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，以供後續的發光模組300製程得以順利進行。本實施例的發光模組300為電泳式顯示器(Electrophoresis Display，EPD)，其包括有複數個薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)331、鈍化層(passivation)332、電泳層(electrophoresis layer)333、彩色濾光片(color filter)334、電極層335、及基板336，係依序設 置於平坦層400上，以與電容式觸控基板100構成電泳式顯示面板。值得注意的是，本實施例所述之平坦層400係為了提供發光模組300於製造時可設置於一平坦面上，藉以提高發光模組300於製造時的良率。發光模組300亦可直接設置於第一介電層130的上表面。若本實施例的電容式觸控面板600為係採用黑白顯示的方式，則可將發光模組300中的彩色濾光片334移除。

另外，請參閱「第11A圖」及「第11B圖」，本實施例之電容式觸控面板600亦包括有防電磁干擾層510或防護寄生電容干擾層520，係設置於第一介電層130上，藉以防止發光模組300所產生之電磁或是寄生電容的干擾，避免電容式觸控面板600的效能受到影響。

請參閱「第12圖」，本發明之電容式觸控面板600包括一透明基材110、複數個第一觸控墊120、一第一介電層130、一第二介電層190、一第一訊號線140、一第一掃描線段150、複數個第一導電柱160、一第二掃描線段170、複數個第二觸控墊180、一平坦層400、及發光模組300。其中，透明基材110之材質係選用氧化銦錫((Indium Tin Oxide，ITO)或是聚乙撐二氧噻吩(PEDOT)，但並不以此為限。第一觸控墊120係定義為Y軸方向的觸控墊，且第一觸控墊120係設置於透明基材110的一側面上。第二觸控墊180係定義為X軸方向的觸控墊，並設置於透明基材110設有第一觸控墊120的側面上，即第一觸控墊120與第二觸控墊180係位於同一平面上。

第一介電層130係設置於透明基材110上，並且覆蓋住第一觸控墊120及第二觸控墊180。第一訊號線140與第一掃描線段150係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，並且第一訊號線140及第一掃描線段150與第一介電層130相接觸，即第一訊號線140與第一掃描線段150係位在同一平面上。第二掃描線段170與第一掃描線段150係相互垂直並且交錯設置。第二掃描線段170係設置於透明基材110具有第二觸控墊180的側面上(即第二掃描線段170與第二觸控墊180係位 在透明基材110的同一側面上)，且各個第二觸控墊180係與第二掃描線段170相互電性接觸，以形成電性連接關係。

值得注意的是，本發明所揭露之第一訊號線140可為閘極線/電極(gate line/electrode)或資料線/電極(data line/electrode)，第二訊號線200可為資料線/電極(data line/electrode)或是閘極線/電極(gate line/electrode)。

第一導電柱160係貫穿第一介電層130，並分別與第一觸控墊120及第一掃描線段150電性接觸，以令各個第一觸控墊120與第一掃描線段150之間形成電性連接關係。也就是說，第一掃描線段150可電性連接至第一觸控墊120，並將第一觸控墊120感測之訊號(例如電流或電壓)傳遞至外部系統，其外部系統可為觸控系統。而第一訊號線140例如可用以控制薄膜電晶體。舉例來說，第一訊號線140為提供顯示之訊號，而外部系統為顯示系統。

請繼續參閱「第12圖」，平坦層400係設置於第二介電層190相對於透明基材110的另一側面上，以供後續的發光模組300製程得以順利進行。本實施例的發光模組300為接觸型彩色濾光片(color filter on touch，COT)，其包括有複數個彩色濾光片341、複數個閘極電極342、一電極層343、及複數個薄膜電晶體344。其中，彩色濾光片341係設置於第一介電層130上，並被第二介電層190完全覆蓋，閘極電極342係設置於第二介電層190上，並被平坦層400完全覆蓋，電極層343係設置於平坦層400上，薄膜電晶體344則電性設置於電極層343上。上述發光模組300的各個元件係依序設置於平坦層400上，以與電容式觸控基板100構成接觸型彩色濾光片(COT)顯示面板。然而，值得注意的是，本實施例所述之平坦層400係為了提供發光模組300於製造時可設置於一平坦面上，藉以提高發光模組300於製造時的良率。發光模組300亦可直接設置於第二介電層190的上表面。

另外，本實施例之電容式觸控面板600亦包括有防電磁干擾層或防護寄生電容干擾層(圖中未示)，係設置於第二介電層190上，藉 以防止發光模組300所產生之電磁或是寄生電容的干擾，避免電容式觸控面板600的效能受到影響。

請參閱「第13圖」之另一型態之接觸型彩色濾光片(COT)的發光模組之結構示意圖。本型態之發光模組300與「第12圖」相近，其包括有複數個彩色濾光片351、複數個閘極電極352、一電極層353、複數個薄膜電晶體354、及一黑色矩陣(black matrix)355。其中，彩色濾光片351與黑色矩陣355係設置於第一介電層130上，並被第二介電層190完全覆蓋，閘極電極352係設置於第二介電層190上，並被平坦層400完全覆蓋，電極層353係設置於平坦層400上，薄膜電晶體354則電性設置於電極層353上。上述發光模組300的各個元件係依序設置於平坦層400上，以與電容式觸控基板100構成接觸型彩色濾光片(COT)顯示面板。然而，值得注意的是，本實施例所述之平坦層400係為了提供發光模組300於製造時可設置於一平坦面上，藉以提高發光模組300於製造時的良率。發光模組300亦可直接設置於第二介電層190的上表面。

另外，本實施例之電容式觸控面板600亦包括有防電磁干擾層或防護寄生電容干擾層(圖中未示)，係設置於第二介電層190上，藉以防止發光模組300所產生之電磁或是寄生電容的干擾，避免電容式觸控面板600的效能受到影響。

請參閱「第14圖」，本發明之電容式觸控面板600包括一透明基材110、複數個第一觸控墊120、一第一介電層130、一第一訊號線140、一第一掃描線段150、複數個第一導電柱160、一第二掃描線段170、複數個第二觸控墊180、一平坦層400、及發光模組300。其中，透明基材110之材質係選用氧化銦錫((Indium Tin Oxide，ITO)或是聚乙撐二氧噻吩(PEDOT)，但並不以此為限。第一觸控墊120係定義為Y軸方向的觸控墊，且第一觸控墊120係設置於透明基材110的一側面上。第二觸控墊180係定義為X軸方向的觸控墊，並設置於透明基材110設有第一觸控墊120的側面上，即第一觸控墊120與第二觸控墊180係位於同一平面上。

第一介電層130係設置於透明基材110上，並且覆蓋住第一觸控墊120及第二觸控墊180。第一訊號線140與第一掃描線段150係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，並且第一訊號線140及第一掃描線段150與第一介電層130相接觸，即第一訊號線140與第一掃描線段150係位在同一平面上。第二掃描線段170與第一掃描線段150係相互垂直並且交錯設置。第二掃描線段170係設置於透明基材110具有第二觸控墊180的側面上(即第二掃描線段170與第二觸控墊180係位在透明基材110的同一側面上)，且各個第二觸控墊180係與第二掃描線段170相互電性接觸，以形成電性連接關係。

值得注意的是，本發明所揭露之第一訊號線140可為閘極線/電極(gate line/electrode)或資料線/電極(data line/electrode)，第二訊號線200可為資料線/電極(data line/electrode)或是閘極線/電極(gate line/electrode)。

第一導電柱160係貫穿第一介電層130，並分別與第一觸控墊120及第一掃描線段150電性接觸，以令各個第一觸控墊120與第一掃描線段150之間形成電性連接關係。也就是說，第一掃描線段150可電性連接至第一觸控墊120，並將第一觸控墊120感測之訊號(例如電流或電壓)傳遞至外部系統，其外部系統可為觸控系統。而第一訊號線140例如可用以控制薄膜電晶體。舉例來說，第一訊號線140為提供顯示之訊號，而外部系統為顯示系統。

請繼續參閱「第14圖」，平坦層400係設置於第一介電層130相對於透明基材110的另一側面上，以供後續的發光模組300製程得以順利進行。本實施例的發光模組300為矩陣型彩色濾光片(color filter on array，COA)的發光模組之結構示意圖，其包括有一電極層361、複數個薄膜電晶體362、複數個彩色濾光片363、及一第四介電層364。其中，電極層361係設置於平坦層400上，薄膜電晶體362與彩色濾光片363係分別設置於電極層361上，第四介電層364則設置於平坦層上，並且完全覆蓋住電極層361、薄膜電晶體362、及彩色濾光片363。上述發光模組300的 各個元件係依序設置於平坦層400上，以與電容式觸控基板100構成矩陣型彩色濾光片(COA)顯示面板。然而，值得注意的是，本實施例所述之平坦層400係為了提供發光模組300於製造時可設置於一平坦面上，藉以提高發光模組300於製造時的良率。發光模組300亦可直接設置於第一介電層130的上表面。

另外，本實施例之電容式觸控面板600亦包括有防電磁干擾層或防護寄生電容干擾層(圖中未示)，係設置於第一介電層130上，藉以防止發光模組300所產生之電磁或是寄生電容的干擾，避免電容式觸控面板600的效能受到影響。

上述「第9A圖」至「第14圖」所揭示之各種類型的電容式觸控面板600，亦可採用本發明各實施例之電容式觸控基板100的型態，且發光模組300的類型並不限定於上述各實施例的型態，熟悉此項技術者，亦可將不同類型的發光模組300設置於本發明之各實施例的電容式觸控基板100上，以構成各種類型的電容式觸控面板600，並不以本發明所揭露之實施例為限。

請參閱「第15A圖」至「第15E圖」之不同型態的觸控墊與掃描線段之組成示意圖。

如「第15A圖」所示，此一型態之實施例可視為兩片觸控面板600組成在一顯示面板800上，但就整體製程而言，仍為單一片的觸控面板，本實施例係藉由佈線方式而可於單一片觸控面板中區分成多個尺寸較小的觸控面板區域。第一掃描線段150及第二掃描線段170的拉線係採取最短距離方式設計，第一掃描線段150可與顯示陣列810同側拉線，亦可採用反向拉線的方式，而第二掃描線段170則係分為兩邊朝最短距離拉線。

如「第15B圖」所示，此一型態之實施例係可視為兩片觸控面板600組成在一顯示面板800上，但就整體製程而言，仍為單一片的觸控面板，本實施例係藉由佈線方式而可於單一片觸控面板中區分成多個 尺寸較小的觸控面板區域。第一掃描線段150及第二掃描線段170的拉線係採取相同訊號皆以同側進行線路佈置的設計。此時，第一掃描線段150及第二掃描線段170可與顯示陣列810同側拉線，亦可採用反向拉線的方式，同側拉線可藉由在不同觸控面板之相同方向錯開一個或數個顯示畫素位置而達成。

如「第15C圖」所示，此一型態之實施例係可視為四片觸控面板600組成在一顯示面板800上，但就整體製程而言，仍為單一片的觸控面板，本實施例係藉由佈線方式而可於單一片觸控面板中區分成多個尺寸較小的觸控面板區域。其中，第一掃描線段150及第二掃描線段170的拉線係採取朝向兩邊最短距離方式設計。

如「第15D圖」所示，此一型態之實施例係可視為四片觸控面板600組成在一顯示面板800上，但就整體製程而言，仍為單一片的觸控面板，本實施例係藉由佈線方式而可於單一片觸控面板中區分成多個尺寸較小的觸控面板區域。其中，第一掃描線段150及第二掃描線段170的拉線係採取相同訊號皆以同側進行線路佈置的設計。此時，第一掃描線段150及第二掃描線段170可與顯示陣列810同側拉線，亦可採用反向拉線的方式。

如「第15E圖」所示，此一型態之第一掃描線段150及第二掃描線段170皆係採用同一側拉線的設計，並且第二掃描線段170藉由與導電通孔(via-hole)900的電性連接，而令第二掃描線段170與第一掃描線段150位於同一平面上。此時，第一掃描線段150及第二掃描線段170可為同側拉線或是反向拉線的方式，以達到降低電阻或是配合佈線設計的效果。

本發明所揭露之電容式觸控基板結構及電容式觸控面板結構，係以內嵌式(in cell)的方式直接於面板內製造電容觸控元件，取代習用電容觸控元件以貼合方式設置於面板上的結合手段，有效減少光罩的使用數量及降低導線電阻，並且避免觸控墊與畫素之間產生對位飄移的問 題，大幅提高電容式觸控面板的解析度。

另外，本發明之電容式觸控基板可與各種型態的發光模組搭配結合，以構成多種類型的電容式顯示面板。

雖然本發明之實施例揭露如上所述，然並非用以限定本發明，任何熟習相關技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，舉凡依本發明申請範圍所述之形狀、構造、特徵及精神當可做些許之變更，因此本發明之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧電容式觸控基板

110‧‧‧透明基材

120‧‧‧第一觸控墊

130‧‧‧第一介電層

140‧‧‧第一訊號線

150‧‧‧第一掃描線段

160‧‧‧第一導電柱

170‧‧‧第二掃描線段

180‧‧‧第二觸控墊

Claims (35)

1. 一種電容式觸控基板結構，包括有：一透明基材；複數個第一觸控墊，設置於該透明基材的一側面上，且該等第一觸控墊係位於同一直線上；一第一介電層，設置於該透明基材之該側面上，並且覆蓋住該等第一觸控墊；一第一訊號線，設置於該第一介電層上，並接觸於該第一介電層；至少一第一掃描線段，設置於該第一介電層上，並接觸於該第一介電層，且該第一掃描線段係與該第一訊號線位於同一平面上；以及複數個第一導電柱，係貫穿該第一介電層，且該等第一導電柱分別與該等第一觸控墊及該第一掃描線段電性接觸，以令各該第一觸控墊及該第一掃描線段相互電性連接。
2. 如請求項1所述之電容式觸控基板結構，其中更包括有至少一第二掃描線段及複數個第二觸控墊，各該第二觸控墊係位於同一直線上，該第二掃描線段係與該第一掃描線段相互垂直，且各該第二觸控墊係與該第二掃描線段相互電性連接。
3. 如請求項2所述之電容式觸控基板結構，其中該第二掃描線段係貫穿位於同一直線上之該等第二觸控墊，並且相互電性連接。
4. 如請求項2所述之電容式觸控基板結構，其中更包含有複數條該第二掃描線段，位於同一直線上之至少一該第二觸控墊係分別與該等第二掃描線段之其中一該第二掃描線段電性連接。
5. 如請求項2所述之電容式觸控基板結構，其中該等第二觸控墊及該第二掃描線係設置於該透明基材的該側面上，並且各該第二觸控墊係與該第二掃描線段相互電性連接。
6. 如請求項2所述之電容式觸控基板結構，其中更包括有一第二介電 層、一第二訊號線、及複數個第二導電柱，該第二介電層係設置於該第一介電層之該平面上，該第二訊號線係設置於該第二介電層上，並接觸於該第二介電層，該等第二觸控墊係設置於該透明基材的該側面上，該第二掃描線段係設置於該第二介電層上，並接觸於該第二介電層，且該第二掃描線段係與該第二訊號線位於同一平面上，該等第二導電柱貫穿該第一介電層及該第二介電層，且該等第二導電柱分別與該等第二觸控墊及該第二掃描線段電性接觸，以令各該第二觸控墊及該第二掃描線段相互電性連接。
7. 如請求項2所述之電容式觸控基板結構，其中更包括有一第二介電層、一第三介電層、一第二訊號線、及複數個第二導電柱，該等第二觸控墊係設置於該第一介電層上，該第二介電層係設置於該第一介電層具有該等第二觸控墊之一平面上，該第一訊號線及該第一掃描線段係設置於該第二介電層上，並接觸於該第二介電層，該第三介電層係設置於該第二介電層具有該第一訊號線及該第一掃描線段之一平面上，該第二掃描線段及該第二訊號線係設置於該第三介電層上，該等第一導電柱貫穿該第一介電層及該第二介電層，且該等第一導電柱分別與該等第一觸控墊及該第一掃描線段電性接觸，以令各該第一觸控墊及該第一掃描線段相互電性連接，該等第二導電柱貫穿該第二介電層及該第三介電層，且該等第二導電柱分別與該等第二觸控墊及該第二掃描線段電性接觸，以令各該第二觸控墊及該第二掃描線段相互電性連接。
8. 如請求項1所述之電容式觸控基板結構，其中該第一掃描線段係貫穿位於同一直線上之該等第一觸控墊，並且相互電性連接。
9. 如請求項1所述之電容式觸控基板結構，其中更包含有複數條該第一掃描線段，位於同一直線上之至少一該第一觸控墊係分別與該等第一掃描線段之其中一該第一掃描線段電性連接。
10. 如請求項1所述之電容式觸控基板結構，其中該透明基材之材質為氧 化銦錫或是聚乙撐二氧噻吩。
11. 如請求項1所述之電容式觸控基板結構，其中該第一訊號線為閘極線，該第一訊號線用以控制複數個薄膜電晶體，且該第一掃瞄線則將該第一觸控墊感測之訊號傳遞至一外部系統。
12. 一種電容式觸控面板結構，包括有：一電容式觸控基板，包含有：一透明基材；複數個第一觸控墊，設置於該透明基材的一側面上，且該等第一觸控墊係位於同一直線上；一第一介電層，設置於該透明基材之該側面上，並且覆蓋住該等第一觸控墊；一第一訊號線，設置於該第一介電層上，並接觸於該第一介電層；至少一第一掃描線段，設置於該第一介電層上，並接觸於該第一介電層，且該第一掃描線段係與該第一訊號線位於同一平面上；以及複數個第一導電柱，係貫穿該第一介電層，且該等第一導電柱分別與該等第一觸控墊及該第一掃描線段電性接觸，以令各該第一觸控墊及該第一掃描線段相互電性連接；以及一發光模組，設置於該第一介電層上，用以發出一光線至該透明基材。
13. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中該第一訊號線為閘極線，該第一訊號線用以控制複數個薄膜電晶體，且該第一掃瞄線則將該第一觸控墊感測之訊號傳遞至一外部系統。
14. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有一平坦層，係設置於該第一介電層及該發光模組之間。
15. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有一防電磁干擾層，係設置於該第一介電層上。
16. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有一防護寄生電容干擾層，係設置於該第一介電層上。
17. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有至少一第二掃描線段及複數個第二觸控墊，各該第二觸控墊係位於同一直線上，該第二掃描線段係與該第一掃描線段相互垂直，且各該第二觸控墊係與該第二掃描線段相互電性連接。
18. 如請求項17所述之電容式觸控面板結構，其中該第二掃描線段係貫穿位於同一直線上之該等第二觸控墊，並且相互電性連接。
19. 如請求項17所述之電容式觸控面板結構，其中更包含有複數條該第二掃描線段，位於同一直線上之至少一該第二觸控墊係分別與該等第二掃描線段之其中一該第二掃描線段電性連接。
20. 如請求項19所述之電容式觸控面板結構，其中該等第二觸控墊及該第二掃描線係設置於該透明基材的該側面上，並且各該第二觸控墊係與該第二掃描線段相互電性連接。
21. 如請求項19所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有一第二介電層、一第二訊號線、及複數個第二導電柱，該第二介電層係設置於該第一介電層之該平面上，該第二訊號線係設置於該第二介電層上，並接觸於該第二介電層，該等第二觸控墊係設置於該透明基材的該側面上，該第二掃描線段係設置於該第二介電層上，並接觸於該第二介電層，且該第二掃描線段係與該第二訊號線位於同一平面上，該等第二導電柱貫穿該第一介電層及該第二介電層，且該等第二導電柱分別與該等第二觸控墊及該第二掃描線段電性接觸，以令各該第二觸控墊及該第二掃描線段相互電性連接。
22. 如請求項19所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有一第二介電層及一第二訊號線，該第二介電層係設置於該第一介電層之該平面上，該第二訊號線係設置於該第二介電層上，並接觸於該第二介電層，該等第二觸控墊及該第二掃描線段係設置於該第二介電層上，並且各該 第二觸控墊係與該第二掃描線段相互電性連接。
23. 如請求項17所述之電容式觸控面板結構，其中該電容式觸控面板結構係藉由佈線方式而區分為複數個觸控面板區域。
24. 如請求項23所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有複數個顯示陣列，且該第一掃描線段及該第二掃描線段係分別以同側拉線之方式而與該等顯示陣列及該等觸控面板區域電性連結。
25. 如請求項23所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有複數個顯示陣列，且該第一掃描線段及該第二掃描線段係分別以反向拉線之方式而與該等顯示陣列及該等觸控面板區域電性連結。
26. 如請求項23所述之電容式觸控面板結構，其中更包括有至少一導電通孔，該第一掃描線段與該第二掃描線段係電性連接於該導電通孔，以使該第一掃描線段與該第二掃描線段位於同一平面上。
27. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中該第一掃描線段係分別貫穿位於同一直線上之該等第一觸控墊，並且相互電性連接。
28. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中更包含有複數條該第一掃描線段，位於同一直線上之至少一該第一觸控墊係分別與該等第一掃描線段之其中一該第一掃描線段電性連接。
29. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中該透明基材之材質為氧化銦錫或是聚乙撐二氧噻吩。
30. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中該發光模組包括有至少一有機發光二極體、一主動層、一鈍化層、及一電極層，係依序設置於該第一介電層上。
31. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中該發光模組包括有複數個薄膜電晶體、一鈍化層、一液晶層、一彩色濾光片、一電極層、及一背光源，係依序設置於該第一介電層上。
32. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中該發光模組包括有複數個薄膜電晶體、一鈍化層、一電泳層、一彩色濾光片、一電極層、及 一基板，係依序設置於該第一介電層上。
33. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中該發光模組包括有複數個彩色濾光片、複數個閘極電極、一電極層、及複數個薄膜電晶體，係依序設置於該第一介電層上。
34. 如請求項33所述之電容式觸控面板結構，其中該發光模組更包括有一黑色矩陣，係與該等彩色濾光片位於同一平面上。
35. 如請求項12所述之電容式觸控面板結構，其中該發光模組包括有一電極層、複數個薄膜電晶體、複數個彩色濾光片、及一第四介電層，係依序設置於該第一介電層上。