CN101226878A - 基板处理装置以及基板处理方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板反转移动装置包括反转机构和移动机构。在旋转机构中内置有马达等，通过连杆机构，能够使分别固定有第一和第二支承构件的第一可动构件和第二可动构件围绕水平方向的轴旋转例如180度。此外，在底座上与V方向平行地固定有一对的搬运导轨。一对滑动块被安装在一对搬运导轨上且能够自由滑动。在滑动块上安装有反转机构的座板部。直动机构使驱动部在与搬运导轨平行的方向上移动，从而使反转机构沿着搬运导轨在V方向进行往复移动。

Description

基板处理装置以及基板处理方法
技术领域
本发明涉及一种对基板实施给定处理的基板处理装置以及基板处理方法。
背景技术
一直以来，为了对半导体晶片、光掩模用玻璃基板、液晶表示用玻璃基板以及光盘用玻璃基板等的基板进行各种处理，而使用着基板处理装置。
例如，在日本特开2005-85882号公报中记载了具有使基板的表面和背面反转的基板反转机构的基板处理装置。在这样的基板处理装置中，在矩形处理领域的大致中央位置配置了搬运基板的基板搬运机械手。在处理区域内以包围基板搬运机械手的方式分别配置有多个(例如四个)基板处理部。并且，在处理区域内，在基板搬运机械手可以进行访问的位置处配置了基板反转机构。
在处理区域的一端部侧设置有分度器单元，所述分度器单元具有多个用于收容基板的盒体。在该分度器单元中设置有用于从上述盒体取出处理前的基板或者将处理后的基板收容到上述盒体内的分度器机械手。
在上述那样的结构中，分度器机械手从任意一个盒体中取出处理前的基板并交给基板搬运机械手，并且，将从基板搬运机械手接受处理后的基板收容到盒体中。
当基板搬运机械手从分度器机械手接受到处理前的基板时，将接受到的基板交给基板反转机构。基板反转机构将从基板搬运机械手接受到的基板反转以使其表面向下。基板搬运机械手接受被基板反转机构反转后的基板，并将该基板搬入到任意一个基板处理部中。
接下来，在上述任意一个基板处理部中的基板的处理一旦结束，基板搬运机械手就将该基板从基板处理部搬出并再次交给基板反转机构。基板反转机构将在基板处理部被实施过处理的基板反转以使其表面向上。
然后，基板搬运机械手接受被基板反转机构反转后的基板，并交给分度器机械手。分度器机械手将从基板搬运机械手接受到的处理后的基板收容到盒体中。
这样，收容在盒体中的处理前的基板，在被基板反转机构反转且又在基板处理部中被实施处理(对基板的背面的处理)后，再次被基板反转机构反转，作为处理后的基板而被收容到盒体中。
在上述以往的基板处理装置中，存在设置有在分度器机械手和基板搬运机械手之间进行基板交接的中介的梭动(shuttle)搬运机构的情况。由此，分度器机械手和基板搬运机械手可以相互不受对方动作的约束而高效地进行各自的搬运动作。
但是，在基板处理装置内设置了上述那样的梭动搬运机构以及基板反转机构的情况下，基板搬运机械手的搬运工序会增加。具体来讲，对于一张基板而言，基板搬运机械手需要完成四次的搬运工序：从梭动搬运机构向基板反转机构的搬运，从基板反转机构向基板处理部的搬运，从基板处理部向基板反转机构的搬运和从基板反转机构向梭动搬运机构的搬运。
这样，增加了由位于梭动搬运机构、基板反转机构以及多个基板处理部之间的基板搬运机械手所进行的搬运工序。因此，基板处理的处理能力变低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可以提高基板处理的处理能力的基板处理装置以及基板处理方法。
根据本发明的一个方面的基板处理装置是对具有一面以及另一面的基板实施处理的基板处理装置，该基板处理装置具有：处理区域，其对基板进行处理；搬入搬出区域，其将基板搬入和搬出处理区域；交接部，其在处理区域和搬入搬出区域之间交接基板，搬入搬出区域包括：容器装载部，其用于装载收容基板的收容容器；第一搬运装置，其在被装载于容器装载部上的收容容器和交接部之间对基板进行搬运，处理区域包括处理部，其对基板进行处理；第二搬运装置，其在交接部和处理部之间对基板进行搬运，交接部包括：反转机构，其使基板的一面以及另一面相互反转；移动机构，其使反转机构移动，以便能够在第一搬运装置和反转机构之间交接基板，以及能够在第二搬运装置和反转机构之间交接基板。
在该基板处理装置中，在交接部通过移动机构移动该反转机构，以便能够在第一搬运装置和反转机构之间进行基板的交接。并且，在搬入搬出区域中，通过第一搬运装置在装载于容器装载部上的收容容器和交接部之间对基板进行搬运。
在上述交接部中，通过反转机构将基板的一面以及另一面相互反转，并且，通过移动机构移动该反转机构，以便能够在第二搬运装置和反转机构之间进行基板的交接。并且，在处理区域中，通过第二搬运装置在交接部和处理部之间对基板进行搬运。
这样，交接部兼具在第一搬运装置和第二搬运装置之间进行基板交接的中介的搬运机构的功能和使基板反转的反转机构的功能。由此，对于一张基板而言，由第二搬运装置所进行的搬运工序变为从交接部向处理部的搬运和从处理部向交接部的搬运这两个工序。因此，由于第二搬运装置的搬运工序被减少，所以提高了基板处理的处理能力。
此外，通过将具有反转机构和移动机构的交接部设置在第一搬运装置与第二搬运装置之间，从而不必更改现有的基板处理装置的结构(所谓的平台(platform)结构)。因此，可以抑制基板处理装置制造成本的提高。
(2)移动机构使反转机构在如下两个位置之间在水平方向上往复直线移动，该两个位置为：在第一搬运装置和反转机构之间能够交接基板的位置；以及在第二搬运装置和反转机构之间能够交接基板的位置。
在该情况下，在反转机构在与第一搬运装置之间能够进行基板的交接的位置和与第二搬运装置之间能够进行基板的交接的位置之间直线移动时，进行基板的反转以及在第一搬运装置和第二搬运装置之间的基板的搬运，因而减少了第二搬运装置的搬运工序。由此，提高了基板处理的处理能力。
(3)第一搬运装置具有支承基板并以能够进退的方式设置的第一支承部，第一支承部在与反转机构进行基板的交接时，相对于反转机构沿第一进退方向进行进退，第二搬运装置具有支承基板并以能够进退的方式设置的第二支承部，第二支承部在与反转机构进行基板的交接时，相对于反转机构沿第二进退方向进行进退；移动机构使反转机构围绕近似铅垂方向的轴而在朝向第一进退方向的第一交接方向和朝向第二进退方向的第二交接方向之间旋转移动。
在该情况下，第一搬运装置的第一支承部相对于通过移动机构被旋转移动的反转机构，沿第一进退方向进行进退，从而在与该反转机构之间进行基板的交接。
此外，第二搬运装置的第二支承部相对于通过移动机构被旋转移动的反转机构，沿第二进退方向进行进退，从而在与该反转机构之间进行基板的交接。
这样，在反转机构在朝向第一进退方向的第一交接方向和朝向第二进退方向的第二交接方向之间进行旋转移动时，进行基板的反转以及在第一搬运装置和第二搬运装置之间的基板的搬运，从而减少了第二搬运装置的搬运工序。由此，提高了基板处理的处理能力。
(4)反转机构以第一交接方向和第二交接方向之间的旋转角度为180度的方式而配置。
在该情况下，在第一交接方向和第二交接方向平行的情况下，即，在第一搬运装置的第一支承部的第一进退方向和第二搬运装置的第二支承部的第二进退方向平行的情况下，通过使反转机构旋转180度，而能够在第一搬运装置和第二搬运装置之间搬运基板。
(5)反转机构以第一交接方向和第二交接方向之间的旋转角度小于180度的方式配置。
在该情况下，在第一交接方向和第二交接方向不平行的情况下，即，在第一支承部的第一进退方向和第二支承部的第二进退方向不平行的情况下，通过使反转机构旋转小于180度的角度，而在第一搬运装置和第二搬运装置之间搬运基板。由此，反转机构的旋转角度变小，且在第一搬运装置和第二搬运装置之间的搬运时间被缩短。该结果是，可以更加提高基板W处理的处理能力。
(6)第一搬运装置以能够相对于第一轴方向而平行移动的方式设置，在朝向与第一轴方向垂直的第二轴方向的状态下，对装载于容器装载部上的收容容器进行基板的收容和取出，在朝向相对于第二轴方向小于180度的第三轴方向的状态下，对反转机构交接基板。
在该情况下，第一搬运装置在朝向相对第二轴方向小于180度的第三轴方向的状态下，与反转机构进行基板的交接，从而使该第一搬运装置的旋转角度变小。由此，缩短了收容容器与交接部之间的基板搬运时间。其该结果是，可以更加提高基板W处理的处理能力。
(7)根据本发明的另一个方面的基板处理方法是通过基板处理装置对基板实施处理的方法，该基板处理装置具有：包括容器装载部和第一搬运装置的搬入搬出区域；包括处理部和第二搬运装置的处理区域；在处理区域和搬入搬出区域之间交接基板的交接部，其特征在于，该基板处理方法包括：利用第一搬运装置，从装载于容器装载部上的收容容器中取出处理前的基板，并将所取出的处理前的基板交给交接部的步骤；在交接部中利用反转机构使处理前的基板的一面以及另一面相互反转，并且，使反转机构移动，以便能够将处理前的基板从反转机构交接到第二搬运装置中的步骤；利用第二搬运装置将处理前的基板从交接部搬运至处理部中的步骤；在处理部中对处理前的基板进行处理的步骤；利用第二搬运装置将在处理部中被处理过的处理后的基板从处理部搬运到交接部的步骤；在交接部中利用反转机构使处理后的基板的另一面以及一面相互反转，并且，使反转机构移动，以便能够将处理后的基板从交接部交接给第一搬运装置的步骤；利用第一搬运装置从交接部接受处理后的基板，并将接受到的处理后的基板收容到收容容器中的步骤。
该基板处理方法中的一系列的工序如下。首先，通过第一搬运装置从装载于容器装载部上的收容容器取出处理前的基板，并将取出后的处理前的基板交给交接部。接着，在交接部中，通过反转机构将处理前的基板的一面及另一面相互反转，并且，使反转机构移动，以便能够将处理前的基板从反转机构交给第二搬运装置。
接着，利用第二搬运装置将处理前的基板从交接部搬运至处理部后，在处理部中对处理前的基板进行处理。然后，利用第二搬运装置将在处理部中被处理过的基板从处理部搬运到交接部。
接着，在交接部中，利用反转机构将处理后的基板的另一面以及一面相互反转，并且，使反转机构移动，以便能够将处理后的基板从交接部交给第一搬运装置。然后，利用第一搬运装置从交接部接受处理后的基板，并将接受到的处理后基板收容到收容容器中。
这样，交接部兼具在第一搬运装置和第二搬运装置之间进行基板交接的中介的搬运机构的功能和反转基板的反转机构的功能。由此，对于一张基板而言，由第二搬运装置所进行的搬运工序变为从交接部向处理部的搬运和从处理部向交接部的搬运这两个工序。因此，由于第二搬运装置的搬运工序被减少，所以提高了基板处理的处理能力。
此外，由于兼具搬运机构的功能和反转机构的功能的交接部设置在第一搬运装置和第二搬运装置之间，所以不必更改现有的基板处理装置的结构(所谓的平台结构)。因此，可以抑制基板处理装置制造成本的提高。
根据本发明的结构，由于第二搬运装置的搬运工序被减少，所以提高了基板处理的处理能力。
附图说明
图1是第一实施方式的基板处理装置的俯视图。
图2是图1中的基板处理装置的侧视图。
图3是表示处理部结构的剖视图。
图4A、图4B是基板反转移动装置的示意性结构图。
图5是表示基板反转移动装置的主要部分的外观的立体图。
图6是表示基板反转移动装置的部分外观的立体图。
图7A、图7B是表示图1的基板处理装置中的分度器机械手以及基板搬运机械手的结构的俯视图。
图8是表示基板的搬运工序的流程图。
图9是第二实施方式的基板处理装置的俯视图。
图10A、图10B是图9中的基板反转移动装置的示意性结构图。
图11是第三实施方式的基板处理装置的俯视图。
图12是表示第三实施方式中的基板反转移动装置的配置的说明图。
具体实施方式
下面，参照附图对本发明的一个实施方式的基板处理装置以及基板处理方法进行说明。
在下面的说明中，所谓基板是指半导体晶片、液晶表示装置用玻璃基板、PDP(等离子显示面板)用的玻璃基板、光掩模用玻璃基板以及光盘用玻璃基板等。
另外，所谓药液是指例如BHF(缓冲氢氟酸)、DHF(稀释氢氟酸)、氟酸、盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、醋酸、草酸、过氧化氢或氨水等水溶液、或者它们的混合溶液。
下面，将使用了这些药液的处理称为药液处理。通常，药液处理完成后，使用冲洗液对基板进行冲洗处理。所谓冲洗液是指例如纯水、碳酸水、臭氧水、磁性水、还原水(含氢水)或者离子水、或者IPA(异丙醇)等有机溶剂。
(1)第一实施方式
(1-1)基板处理装置的结构
图1是第一实施方式的基板处理装置的俯视图。此外，图2是图1中的基板处理装置的侧视图。另外，在图1和图2中，将相互垂直的水平方向定义为U方向和V方向，将铅垂方向定义为T方向。在后面的附图也是一样。
如图1所示，基板处理装置100具有处理区域A、B，在处理区域A、B之间具有搬运区域C。
在处理区域A中配置有控制部4、流体箱部2a、2b、处理部MP1、MP3和处理部MP2、MP4。
如图2所示，处理部MP2、MP4分别设置在处理部MP1、MP3的上部。
图1的流体箱部2a、2b分别收容有配管、管接头、阀、流量计、调整器(regulator)、泵、温度调节器、药液贮存槽等流体相关设备，这些流体相关设备关系到向处理部MP1、MP2供给药液以及纯水、向处理部MP3、MP4供给药液以及纯水、从处理部MP1、MP2和处理部MP3、MP4排液等。
在处理部MP1、MP3中，利用上述药液进行药液处理。此外，在处理部MP2、MP4中也利用上述药液进行药液处理。另外，在药液处理后，使用纯水等进行冲洗处理。
在处理区域B配置有流体箱部2c、2d、处理部MP5、MP7和处理部MP6、MP8。处理部MP6、MP8分别设置在处理部MP5、MP7的上部。
图1的流体箱部2c、2d分别收容有配管、管接头、阀、流量计、调整器、泵、温度调节器、药液贮存槽等流体相关设备，这些流体相关设备关系到向处理部MP5、MP6供给药液以及纯水、向处理部MP7、MP8供给药液以及纯水、从处理部MP5、MP6和处理部MP7、MP8排液等。
在处理部MP5、MP7、MP6、MP8中，进行与处理部MP1、MP3、MP2、MP4同样的药液处理。
下面，在指定处理部MP1、MP3、MP5、MP7和处理部MP2、MP4、MP6、MP8中的任意一个的情况下，称为处理部。
在本实施方式中，在流体箱部2a～2d设置有将作为药液的氟酸、氨水、过氧化氢以及盐酸分别向处理部供给的药液供给系统。
在搬运区域C中设置有基板搬运机械手CR。在处理区域A、B的一端侧部配置有对基板进行搬入和搬出的分度器ID。
分度器ID具有多个搬运器装载部1a以及分度器机械手IR。在各搬运器装载器1a上装载有用于收容基板W的搬运器1。在本实施方式中，虽然作为搬运器1而使用将基板W以密闭状态进行收容的FOUP(Front openingUnified Pod：前开式统一标准箱)，但是并不限于此，也可以使用SMIF(Standard Mechanical Inter Face：标准机械界面)盒、OC(Open Cassette：开放式盒子)等。此外，分度器机械手IR在分度器ID内可以沿U方向移动。
此处，在本实施方式中，在分度器ID和基板搬运机械手CR之间的搬运区域C的位置上设置了交接部3。交接部3包括使基板W的表面和背面相互反转的基板反转移动装置7。此处，所谓基板W的表面是指形成有回路图案等各种图案的面。该基板反转移动装置7可以在交接部3内的一对搬运导轨3a上沿V方向直线地进行往复移动。
在这样的结构中，分度器机械手IR从搬运器1中取出处理前的基板W并交给基板反转移动装置7，反过来，从基板反转移动装置7接受处理后的基板W并将其交回给搬运器1。
此外，基板反转移动装置7使从分度器机械手IR接受到的基板W进行反转，并且，使反转后的基板W沿V方向移动到基板搬运机械手CR附近。相关详细内容在后面进行记述。
进而，基板搬运机械手CR将从基板反转移动装置7接受到的基板W搬运到被指定的处理部中，或者，将从处理部接受到的基板W搬运到其他处理部或交给基板反转移动装置7。
控制部4由包括CPU(中央运算处理装置)的计算机等组成，对处理区域A、B的各处理部MP1～MP8的动作、搬运区域C的基板反转移动装置7及基板搬运机械手CR的动作和分度器ID的分度器机械手IR的动作进行控制。
另外，基板处理装置100设置在形成有下降流(down-flow)的净化室内。此外，在处理部MP1～MP8以及搬运区域C也分别形成有下降流。
(1-2)处理部的结构
接下来，参照附图对处理部MP1～MP8的结构进行说明。另外，由于处理部MP1～MP8的各结构都是相同的，所以下面以处理部MP1的结构为代表进行说明。
在该处理部MP1中，执行清洗基板的处理、蚀刻基板上的膜的处理、或者除去基板上的聚合物残渣(例如抗蚀剂残渣)的处理等。在以下的说明中，将以清洗基板的处理为一例进行说明。
图3是表示处理部MP1的结构的剖视图。如图3所示，处理部MP1包括：壳体101；旋转卡盘21，其被设置在该壳体101内部，并且将基板W保持为近似水平的同时围绕通过基板W的大致中心的铅直轴进行旋转；风机过滤机组FFU(fan filter unit)；其以堵住壳体101的上端开口的方式而设置。通过风机过滤机组FFU而在壳体101内形成下降流。另外，风机过滤机组FFU包括风机和过滤器。
旋转卡盘21固定在通过卡盘旋转驱动机构36而旋转的旋转轴25的上端上。在利用药液进行清洗处理的情况下，基板W在被旋转卡盘21保持为水平的状态下而旋转。
在旋转卡盘21的外方设置有第一马达60。在第一马达60上连接有第一转动轴61。此外，在第一转动轴61上连接着在水平方向延伸的第一臂62，且在第一臂62的前端设置有处理液喷嘴50。处理液喷嘴50向基板W上供给用于清洗基板W的药液。
在旋转卡盘21的外方设置有第二马达60a。在第二马达60a上连接有第二转动轴61a，在第二转动轴61a上连接着第二臂62a。此外，在第二臂62a的前端设置有纯水喷嘴50a。纯水喷嘴50a在清洗处理后的冲洗处理中向基板W上供给纯水。在使用处理液喷嘴50进行清洗处理时，纯水喷嘴50a退避到给定的位置。
旋转卡盘21的旋转轴25由中空轴构成。在旋转轴25的内部插入了处理液供给管26。纯水或者清洗液等的药液被供给在处理液供给管26中。处理液供给管26延伸到接近由旋转卡盘21保持的基板W的下表面的位置。在处理液供给管26的前端设置有向基板W下表面中央喷出药液的下表面喷嘴27。
旋转卡盘21被容纳在处理杯23内。在处理杯23的内侧设置有圆筒状的分隔壁33。此外，以包围旋转卡盘21的周围的方式，形成有用于排出在基板W清洗处理中使用过的药液的排液空间31。进而，以包围排液空间31的方式，在处理杯23和分隔壁33之间形成有用于回收在基板W清洗处理中使用过的药液的回收液空间32。
在排液空间31连接着用于向排液处理装置(未图示)引导药液的排液管34，而回收液空间32连接着用于向回收再利用装置(未图示)引导药液的回收管35。
在处理杯23的上方设置有用于防止药液从基板W向外方飞散的挡板24。该挡板24是相对于旋转轴25旋转对称的形状。在挡板24的上端部内表面，呈环状地形成有剖面为“く”字状的排液引导槽41。
在挡板24的下端部内表面形成有回收液引导部42，该回收液引导部42是由向外侧下方倾斜的倾斜面构成的。在回收液引导部42的上端附近，形成有用于收容处理杯23的分隔壁33的分隔壁收容槽43。在上述挡板24上连接着由滚珠螺杆机构等构成的挡板升降驱动机构(未图示)。
挡板升降驱动机构使挡板24在回收位置和排液位置之间进行上下运动，所述回收位置是回收液引导部42与由旋转卡盘21保持的基板W的外周端面相对向的位置，所述排液位置是排液引导槽41与由旋转卡盘21保持的基板W的外周端面相对向的位置。
在挡板24位于回收位置(如图3所示的挡板24的位置)的情况下，从基板W向外侧飞散的药液通过回收液引导部42而导入到回收液空间32中，并通过回收管35被回收。另一方面，在挡板24位于排液位置的情况下，从基板W向外侧飞散的药液通过排液引导槽41而导入到排液空间31中，并通过排液管34被排液。
通过以上结构进行药液的排液以及回收。另外，在将基板W搬入到旋转卡盘21时，挡板升降驱动机构使挡板24向比排液位置更下方的位置退避，移动到挡板24的上端部24a处于比旋转卡盘21的基板W的保持高度更低的位置。
在旋转卡盘21的上方设置有中心部有开口的圆板状的遮断板22。从臂28的前端附近沿铅垂向下方向设置有支承轴29，在该支承轴29的下端安装着遮断板22，该遮断板22与由旋转卡盘21保持的基板W的上表面相对向。
在支承轴29的内部，插入了与遮断板22开口相连通的氮气供给通道30。向氮气供给通道30供给氮气(N2)。该氮气供给通道30在利用纯水进行冲洗处理之后的干燥处理时，向基板W供给氮气。此外，在氮气供给通道30的内部，插入了与遮断板22的开口相连通的纯水供给管39。向纯水供给管39供给纯水等。
在臂28上连接着遮断板升降驱动机构37和遮断板旋转驱动机构38。遮断板升降驱动机构37使遮断板22在接近由旋转卡盘21保持的基板W的上表面的位置与从旋转卡盘21远离至上方的位置之间进行上下运动。此外，遮断板旋转驱动机构38使遮断板22旋转。
(1-3)基板反转移动装置的结构及动作
接下来，参照附图对基板反转移动装置7的结构进行说明。
图4A、图4B是图1的基板反转移动装置7的示意性结构图。图4A是基板反转移动装置7的侧视图，图4B是基板反转移动装置7的俯视图。此外，图5是表示基板反转移动装置7的主要部分的外观的立体图，图6是表示基板反转移动装置7的部分外观的立体图。
如图4A、图4B所示，基板反转移动装置7包括反转机构70和移动机构30。
反转机构70具有第一支承构件71、第二支承构件72、多个基板支承销73a、73b、第一可动构件74、第二可动构件75、固定板76、连杆(link)机构77、旋转机构78和座板部79。
如图5所示，第一支承构件71由六根呈放射状延伸的棒状构件构成。在六根棒状构件的各前端部分别设置有基板支承销73a。
同样，如图6所示，第二支承构件72也由六根呈放射状延伸的棒状构件构成。在该六根棒状构件的各前端部分别设置有基板支承销73b。
另外，在本实施方式中，虽然第一和第二支承构件71、72是由六根棒状构件构成的，但是并不局限于此，第一和第二支承构件71、72也可以由其他任意数量的棒状构件或者其他任意形状的构件构成，例如，由具有沿着多个基板支承销73a、73b的外周的圆板或者多边形等形状的构件构成。
图5中的第一可动构件74是呈“コ”字状。第一支承构件71被固定在第一可动构件74的一端上。第一可动构件74的另一端与连杆机构77相连接。同样，图6中的第二可动构件75也是呈“コ”字状。第二支承构件72被固定在第二可动构件75的一端上。第二可动构件75的另一端与连杆机构77相连接。连杆机构77被安装在旋转机构78的旋转轴上。该连杆机构77和旋转机构78被安装在固定板76上。
在图5的连杆机构77中内置有气缸等，可以使第一可动构件74和第二可动部件75有选择地转移到相对远离的状态或者接近的状态。此外，在旋转机构78中内置有马达等，能够通过连杆机构77使第一可动构件74和第二可动构件75围绕水平方向的轴旋转例如180度。
如图4A、图4B所示，移动机构30具有底座31、一对搬运导轨3a、直动机构3b、驱动部3c、结合构件3d和一对滑动块3e。另外，在图4B中，为了简化而省略了结合构件3d等一部分构件的图示。
一对搬运导轨3a在V方向被平行地固定在底座31上。一对滑动块3e被安装在一对搬运导轨3a上，且可以自由滑动。反转机构70的座板部79被安装在滑动块3e上。
直动机构3b具有例如滚珠螺杆机构和内置对其提供驱动力的马达的电动气缸。在直动机构3b上设置有驱动部3c。驱动部3c通过结合构件3d与座板部79相结合。
在这样的结构中，通过直动机构3b使驱动部3c沿着与搬运导轨3a平行的方向移动，从而使反转机构70沿着搬运导轨3a在V方向上进行往复移动。
在此，参照附图对基板反转移动装置7的动作进行说明。
最初，通过分度器机械手IR(图1)将基板W搬入到基板反转移动装置7中。此时，反转机构70移动到靠近分度器机械手IR一侧的搬运导轨3a的端部(以下称为第一交接位置)。在第一可动构件74和第二可动构件75在垂直方向上远离的状态下，基板W通过分度器机械手IR被装载到第二支承构件72的多个基板支承销73b上。
接下来，如图4A所示，通过连杆机构77的动作，使第一可动构件74和第二可动构件75转移到在垂直方向上接近的状态。由此，多个基板支承销73a、73b分别支承着基板W的两面。
接下来，如图4B所示，反转机构70在一对搬运导轨3a上沿着V方向，向图1中的基板搬运机械手CR侧移动，同时，通过旋转机构78的动作使第一可动构件74和第二可动构件75围绕U方向的轴进行180度的旋转。由此，基板W在被保持在多个基板支承销73a、73b之间的同时，同第一可动构件74和第二可动构件75一起旋转180度，所述多个基板支承销73a、73设置在第一保持构件71和第二保持构件72上。
这样一来，基板W被反转机构70反转，并且向基板搬运机械手CR附近移动。此时，反转机构70移动到靠近基板搬运机械手CR一侧的搬运导轨3a的端部(以下称为第二交接位置)。
接着，通过连杆机构77的动作，使第一可动构件74和第二可动构件75转移到在垂直方向上远离的状态。在该状态下，通过基板搬运机械手CR将基板W从基板反转移动装置7搬出。
另一方面，在通过基板搬运机械手CR将基板W搬入到基板反转移动装置7中的情况下，通过与上述相反的动作，基板W被反转机构70反转，并且向分度器机械手IR的附近移动。在该状态下，通过分度器机械手IR将基板W从基板反转移动装置7搬出。
(1-4)分度器机械手和基板搬运机械手的各结构
图7A、图7B是表示图1的基板处理装置100中的分度器机械手IR和基板搬运机械手CR的结构的俯视图。图7A是表示分度器机械手IR的多关节臂的结构，图7B是表示基板搬运机械手CR的多关节臂的结构。另外，关于图7A、图7B中的θ，将在纸面上的顺时针方向设为+θ方向，将在纸面上的逆时针方向设为-θ方向。
如图7A所示，分度器机械手IR具有：一对搬运臂am4、cm4，其用于保持基板W；进退驱动机构am1、am2、am3和cm1、cm2、cm3，其用于使这一对搬运臂am4、cm4相对于分度器机械手主体IRH相互独立地进退；旋转驱动机构(未图示)，其使分度器机械手主体IRH围绕铅垂轴向±θ方向旋转驱动；升降驱动机构(未图示)，其使分度器机械手主体IRH在T方向上升降；以及U方向移动驱动机构(未图示)，其使分度器机械手主体IRH在U方向上移动。
进退驱动机构am1、am2、am3和cm1、cm2、cm3为多关节臂型，在保持一对搬运臂am4、cm4的姿势的同时，可以使它们在水平方向上进退。一个搬运臂am4在比另一个搬运臂cm4更上方的位置进退，在一对搬运臂am4、cm4都退避在分度器机械手主体IRH的上方的初始状态下，这对搬运臂am4、cm4是上下重合的。
分度器机械手主体IRH根据控制部4(图1)的指示来驱动进退驱动机构am1、am2、am3和cm1、cm2、cm3。该进退驱动机构am1、am2、am3和cm1、cm2、cm3具有由马达、金属丝和滑轮等组成的驱动装置，所述马达用于使一对搬运臂am4、cm4进行往复移动。通过这样的机构，一对搬运臂am4、cm4被分别直接地提供驱动力，而可以在水平方向进行进退移动。
由此，分度器机械手IR的搬运臂am4、cm4在支承着基板W的状态下可以在T方向移动、向±θ方向转动且可以伸缩。
此外，在搬运臂am4、cm4上表面安装有多个基板支承部PS。在本实施方式中，沿着被装载在搬运臂am4、cm4上表面上的基板W的外周大致均匀地分别安装有四个基板支承部PS。该四个基板支承部PS支承着基板W。另外，基板支承部PS的个数并不局限为四个，只要是可以稳定地支承基板W的个数就可以。
在基板反转移动装置7的反转机构70处于第一交接位置时，分度器机械手IR，在与基板反转移动装置7相对向的位置，使搬运臂am4、cm4中的任意一个朝着基板反转移动装置7在V方向上前进，从而可以对反转机构70进行基板W的交接。
接着，如图7B所示，基板搬运机械手CR具有：一对搬运臂bm4、dm4，其用于保持基板W；进退驱动机构bm1、bm2、bm3和dm1、dm2、dm3，其用于使该一对搬运臂bm4、dm4相对于基板搬运机械手主体CRH相互独立进退；旋转驱动机构(未图示)，其用于使基板搬运机械手主体CRH围绕铅垂轴向±θ方向旋转驱动；升降驱动机构(未图示)，其用于使基板搬运机械手主体CRH在T方向上进行升降。
进退驱动机构bm1、bm2、bm3和dm1、dm2、dm3为多关节臂型，在保持一对搬运臂bm4、dm4的姿势的同时，可以使它们在水平方向上进退。一个搬运臂bm4在比另一个搬运臂dm4更上方的位置进行进退，在一对搬运臂bm4、dm4都退避在基板搬运机械手主体CRH的上方的初始状态下，这对搬运臂bm4、dm4是上下重合的。
基板搬运机械手主体CRH根据控制部4(图1)的指示来驱动进退驱动机构bm1、bm2、bm3和dm1、dm2、dm3。该进退驱动机构bm1、bm2、bm3和dm1、dm2、dm3具有由马达、金属丝和滑轮等组成的驱动装置，所述马达用于使一对搬运臂bm4、dm4进行往复移动。通过这样的机构，一对搬运臂bm4、dm4被分别直接地提供驱动力，而可以在水平方向进行进退移动。
由此，搬运臂bm4、dm4在支承着基板W的状态下可以在T方向移动、可以向±θ方向转动且可以伸缩。
此外，在基板搬运机械手CR的搬运臂bm4、dm4上表面安装有多个基板支承部PS。在本实施方式中，沿着被装载在搬运臂bm4、dm4上表面上的基板W的外周大致均匀地安装有四个基板支承部PS。该四个基板支承部PS支承着基板W。另外，基板支承部PS的个数并不局限为四个，只要是可以稳定地支承基板W的个数就可以。
在基板反转移动装置7的反转机构70处于第二交接位置时，基板搬运机械手CR使搬运臂bm4、dm4中的任意一个朝着基板反转移动装置7在V方向上前进，从而可以对反转机构70进行基板W的交接。
另外，在本实施方式中，虽然分度器机械手IR和基板搬运机械手CR都是分别具有一对搬运臂am4、cm4和bm4、dm4的双臂型的机械手，并以此为例进行了说明，但是，分度器机械手IR和基板搬运机械手CR的任意一个或者全部也可以是只具有一个搬运臂的单臂型的机械手。
(1-5)基板搬运工序的一例
接下来，针对基板W的搬运工序的一例进行说明，基板W的搬运工序并不局限于此。
图8是表示基板W的搬运工序的流程图。如图8所示，最初，基板反转移动装置7的反转机构70向分度器机械手IR侧的第一交接位置移动。分度器机械手IR从搬运器1取出基板W并交给基板反转移动装置7(步骤S1)。
接着，基板反转移动装置7的反转机构70使从分度器机械手IR接受到的基板W反转，并且，沿V方向向基板搬运机械手CR侧的第二交接位置移动(步骤S2)。
接着，基板搬运机械手CR从基板反转移动装置7接受基板W(步骤S3)。然后，基板搬运机械手CR将基板W搬入到处理部MP1～MP8的任意一个中(步骤S4)。
接下来，通过上述任意一个处理部对基板W实施处理(步骤S5)。接着，基板搬运机械手CR将处理后的基板W从上述任意一个处理部中搬出(步骤S6)。然后，基板搬运机械手CR将该基板W交给基板反转移动装置7(步骤S7)。
接着，基板反转移动装置7使从基板搬运机械手CR接受到的基板W反转，并且，沿着上述V方向向分度器机械手IR侧的第一交接位置移动(步骤S8)。然后，分度器机械手IR从基板反转移动装置7接受基板W(步骤S9)。之后，分度器机械手IR将基板W收容到给定的搬运器1内。
(1-6)第一实施方式的效果
根据本实施方式中的基板处理装置100，交接部3的基板反转移动装置7兼有：在分度器机械手IR和基板搬运机械手CR之间进行基板W交接的中介的梭动搬运机构的功能和使基板W反转的基板反转机构的功能。即，基板反转移动装置7的移动机构30使反转机构70在第一交接位置和第二交接位置之间反复地进行直线前进移动，从而进行分度器机械手IR与基板搬运机械手CR之间的基板W交接以及基板W反转。
由此，对于一张基板W而言，由基板搬运机械手CR所进行的搬运工序变为从基板反转移动装置7向处理部的搬运和从处理部向基板反转移动装置7的搬运这两个工序。
这样，由于基板搬运机械手CR的搬运工序被减少，所以提高了基板W处理的处理能力。
此外，由于具有基板反转移动装置7的交接部3被设置在分度器机械手IR与基板搬运机械手CR之间的搬运区域C的位置，所以不必更改现有的基板处理装置的结构(所谓的平台结构)。因此，可以抑制基板处理装置100制造成本的提高。
(2)第二实施方式
(2-1)基板处理装置的结构
图9是第二实施方式的基板处理装置的俯视图。
如图9所示，第二实施方式中的基板处理装置100a的结构与第一实施方式中的基板处理装置100的结构的区别点在于：交接部3具有替代了基板反转移动装置7的基板反转移动装置7a。下面，参照附图就这一点进行说明。
(2-2)基板反转移动装置的结构及动作
图10A、图10B是图9中的基板反转移动装置7a的示意性结构图。图10A是基板反转移动装置7a的侧视图，图10B是基板反转移动装置7a的俯视图。
如图10A所示，基板反转移动装置7a的结构与上述基板反转移动装置7(图4A、图4B)的结构的区别在于：替代了移动机构30而设置了移动机构30a。移动机构30a包括底座31、旋转轴3g和马达3f。
马达3f被固定在底座31上。马达3f的轴通过旋转轴3g与座板部79的下表面相连接。基于这样的结构，如图10B所示，反转机构70可以向±θ方向(围绕T方向的轴)旋转。
对于该基板反转移动装置7a的反转机构70，可以从与旋转机构78相反一侧的交接侧S进行基板W的交接。
在本实施方式中，基板反转移动装置7a被配置在基板W交接时的分度器机械手IR的位置和基板W交接时的基板搬运机械手CR的位置的连接线上。
接下来，对本实施方式中的基板反转移动装置7a的动作进行说明。
首先，分度器机械手IR向与基板反转移动装置7a相对向的位置移动。此外，通过移动机构30a的旋转，使反转机构70的交接侧S与分度器机械手IR相对向。
在该状态下，分度器机械手IR的一个搬运臂沿与V方向平行的进退方向V1方向前进，从而将基板W搬入基板反转移动装置7a中。
然后，反转机构70围绕旋转轴3g向θ方向旋转180度，同时，该反转机构70的第一可动构件74和第二可动部件75通过旋转机构78的动作围绕水平方向的轴旋转180度。由此，在基板W被反转，并且，反转机构70的交接侧S与基板搬运机械手CR相对向。
在此状态下，基板搬运机械手CR的一个搬运臂沿与V方向平行的进退方向V2方向前进，从而将基板W从基板反转移动装置7a搬出。
另一方面，在通过基板搬运机械手CR将基板W搬入到基板反转移动装置7a中的情况下，通过与上述相反的动作，基板W被反转机构70反转，并且，通过反转机构70的旋转使交接侧S与分度器机械手IR相对向。在该状态下，通过分度器机械手IR将基板W从基板反转移动装置7a搬出。
(2-3)第二实施方式的效果
根据本实施方式中的基板处理装置100a，基板反转移动装置7a兼具：在分度器机械手IR和基板搬运机械手CR之间进行基板W交接的中介的梭动搬运机构的功能和反转基板W的基板反转机构的功能。即，基板反转移动装置7a的移动机构30a使反转机构70在朝向进退方向V1的第一交接方向和朝向进退方向V2的第二交接方向之间进行180度的旋转移动，从而在分度器机械手IR与基板搬运机械手CR之间进行基板W的交接以及基板W的反转。
由此，对于一张基板W而言，由基板搬运机械手CR所进行的搬运工序变为从基板反转移动装置7a向处理部的搬运和从处理部向基板反转移动装置7a的搬运这两个工序。
这样，由于基板搬运机械手CR的搬运工序被减少，所以提高了基板W处理的处理能力。
此外，由于具有基板反转移动装置7a的交接部3被设置在分度器机械手IR与基板搬运机械手CR之间的搬运区域C的位置，所以不必更改现有的基板处理装置的结构(所谓的平台结构)。因此，可以抑制基板处理装置100a制造成本的提高。
(3)第三实施方式
图11是第三实施方式的基板处理装置的俯视图。
如图11所示，第三实施方式中的基板处理装置100b的结构与第二实施方式中的基板处理装置100a的结构的区别有两点：一点是没有设置流体箱部2a、2c以及处理部MP1、MP2、MP5、MP6；另一点是交接部3的基板反转移动装置7a的配置不同。因此，本实施方式的基板处理装置100b包括4个处理部MP3、MP4、MP7、MP8。下面，参照附图对基板反转移动装置7a的配置进行说明。
如图11所示，基板反转移动装置7a被配置在从基板W交接时的分度器机械手IR的位置和基板W交接时的基板搬运机械手CR的位置的连接线离开到侧方的位置。由此，在分度器机械手IR对于搬运器1进行基板W的收容和取出处理时的搬运臂的进退方向与分度器机械手IR对于基板反转移动装置7a进行基板W的交接处理时的搬运臂的进退方向之间，分度器机械手IR的旋转角度小于180度。
图12是表示第三实施方式中的基板反转移动装置7a的配置的说明图。
如图12所示，基板反转移动装置7a被配置在如下的位置：在以搬运臂的进退方向从朝向搬运器1的V方向向-θ方向旋转例如120度的方式旋转了分度器机械手IR的情况下，分度器机械手IR可以与基板反转移动装置7a进行基板W的交接。
接着，对本实施方式中的基板反转移动装置7a的动作进行说明。
首先，分度器机械手IR向分度器ID的中央部移动，同时使搬运臂的进退方向从朝向搬运器1的V方向向-θ方向旋转例如120度。此外，通过移动机构30a(图10A、图10B)的旋转，反转机构70的交接侧S(图10A、图10B)与分度器机械手IR相对向。
在该状态下，分度器机械手IR的一个搬运臂沿进退方向V1前进，从而将基板W搬入基板反转移动装置7a。
然后，反转机构70向+θ方向旋转例如120度，同时反转基板W。由此，如虚线所示，反转机构70的交接侧S(图10A、图10B)与基板搬运机械手CR相对向。在此状态下，基板搬运机械手CR的一个搬运臂沿与V方向成例如120度的进退方向V2前进，从而将基板W从基板反转移动装置7a搬出。
另一方面，在通过基板搬运机械手CR将基板W搬入到从基板反转移动装置7a的情况下，通过与上述相反的动作，在基板W被反转机构70反转，并且，通过反转机构70进行例如120度的旋转，而使交接侧S(图10A、图10B)与分度器机械手IR相对向。在该状态下，通过分度器机械手IR将基板W从基板反转移动装置7a搬出。
(3-2)第三实施方式的效果
根据本实施方式中的基板处理装置100b，基板反转移动装置7a兼具：在分度器机械手IR和基板搬运机械手CR之间进行基板W交接的中介的梭动搬运机构的功能和反转基板W的基板反转机构的功能。即，基板反转移动装置7a的移动机构30a使反转机构70在朝向进退方向V1的第一交接方向和朝向进退方向V2的第二交接方向之间进行例如120度的旋转移动，从而在分度器机械手IR与基板搬运机械手CR之间进行基板W的交接以及基板W的反转。
由此，对于一张基板W而言，由基板搬运机械手CR所进行的搬运工序变为从基板反转移动装置7a向处理部的搬运和从处理部向基板反转移动装置7a的搬运这两个工序。
这样，由于基板搬运机械手CR的搬运工序被减少，所以提高了基板W处理的处理能力。
此外，由于基板反转移动装置7a被设置在从基板W交接时的分度器机械手IR的位置和基板W交接时的基板搬运机械手CR的位置的连接线离开到侧方的位置。由此，分度器机械手IR通过在-θ方向旋转小于180度的角度，而可以在搬运器1和基板反转移动装置7a之间对基板W进行搬运。此外，基板反转移动装置7a的反转机构70通过在+θ方向旋转小于180度的角度，而可以在分度器机械手IR和基板搬运机械手CR之间对基板W进行交接。由此，分度器机械手IR的基板搬运时间和基板反转移动装置7a的基板交接时间被缩短。该结果是，可以更加提高基板W处理的处理能力。
(4)其他实施方式
在上述实施方式中，反转机构70是在以从两面侧夹持的方式保持基板W的状态下使基板W反转的结构，但是反转机构70也可以是其他的结构。例如，反转机构70也可以是在保持基板W周边相反侧的两个位置的状态下使基板W反转的结构。
虽然上述实施方式中针对在由任意一个处理部对基板W进行处理后通过基板搬运机械手CR将处理后的基板W交给基板反转移动装置7、7a的例子进行了说明，但并不局限于此，也可以通过基板搬运机械手CR将上述处理后的基板W搬入其他处理部，接着在其他处理部进行处理。
在上述第三实施方式中，虽然将基板反转移动装置7a配置在从V方向开始以分度器机械手IR的旋转轴为中心逆时针方向的位置，但是并不局限于此，也可以是配置以上述旋转轴为中心顺时针方向的位置。
(5)本发明的各结构要素和实施方式各要素的对应
以下虽然对本发明的各结构要素和实施方式各要素的对应例进行说明，但是本发明并不只局限于下面的例子。
在上述实施方式中，搬送区域C是搬入搬出区域的例子，搬运器1是收容容器的例子，搬运器装载部1a是容器装载部的例子，分度器机械手IR是第一搬运装置的例子，基板搬运机械手CR是第二搬运装置的例子，基板反转移动装置7、7a是交接部的例子，反转机构70是反转机构的例子，移动机构30、30a是移动机构的例子。
此外，在上述实施方式中，第一交接位置是在第一搬运装置和反转装置之间能够交接基板的位置的例子，第二交接位置是在第二搬运装置和反转装置之间能够交接基板的位置的例子，搬运臂am4、cm4是第一支承部的例子，搬运臂bm4、dm4是第二支承部的例子。
进而，在上述实施方式中，进退方向V1是第一进退方向的例子，进退方向V2是第二进退方向的例子，±θ方向(围绕T方向的轴)是围绕近似铅垂方向的轴的例子，U方向是第一轴方向的例子，V方向是第二轴方向的例子，进退方向V1是第三轴方向的例子。
另外，作为本发明的各构成要素，也可以使用其他各种要素，所述其他各种要素是具有记载于本发明中的结构或者功能的要素。

Claims (7)

1.一种基板处理装置，其对具有一面以及另一面的基板实施处理，其特征在于，该基板处理装置具有：
处理区域，其对基板进行处理；
搬入搬出区域，其将基板搬入及搬出上述处理区域；
交接部，其在上述处理区域和上述搬入搬出区域之间交接基板，
上述搬入搬出区域包括：容器装载部，其用于装载收容基板的收容容器；第一搬运装置，其在被装载于上述容器装载部上的收容容器和上述交接部之间对基板进行搬运，
上述处理区域包括：处理部，其对基板进行处理；第二搬运装置，其在上述交接部和上述处理部之间对基板进行搬运，
上述交接部包括：反转机构，其使基板的一面以及另一面相互反转；移动机构，其使上述反转机构移动，以便能够在上述第一搬运装置和上述反转机构之间交接基板，以及能够在上述第二搬运装置和上述反转机构之间交接基板。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述移动机构使上述反转机构在如下两个位置之间在水平方向上往复直线移动，该两个位置为：在上述第一搬运装置和上述反转机构之间能够交接基板的位置；以及在上述第二搬运装置和上述反转机构之间能够交接基板的位置。
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述第一搬运装置具有支承基板并以能够进退的方式设置的第一支承部，上述第一支承部在与上述反转机构进行基板的交接时，相对于上述反转机构沿第一进退方向进行进退，
上述第二搬运装置具有支承基板并以能够进退的方式设置的第二支承部，上述第二支承部在与上述反转机构进行基板的交接时，相对于上述反转机构沿第二进退方向进行进退；
上述移动机构使上述反转机构围绕近似铅垂方向的轴而在朝向上述第一进退方向的第一交接方向和朝向上述第二进退方向的第二交接方向之间旋转移动。
4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
上述反转机构以上述第一交接方向和上述第二交接方向之间的旋转角度为180度的方式而配置。
5.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
上述反转机构以上述第一交接方向和上述第二交接方向之间的旋转角度小于180度的方式配置。
6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
上述第一搬运装置以能够相对于第一轴方向而平行移动的方式设置，在朝向与上述第一轴方向垂直的第二轴方向的状态下，对装载于上述容器装载部上的收容容器进行基板的收容和取出，在朝向相对于上述第二轴方向小于180度的第三轴方向的状态下，对上述反转机构交接基板。
7.一种基板处理方法，通过基板处理装置对基板实施处理，该基板处理装置具有：包括容器装载部和第一搬运装置的搬入搬出区域；包括处理部和第二搬运装置的处理区域；在上述处理区域和上述搬入搬出区域之间交接基板的交接部，其特征在于，该基板处理方法包括：
利用上述第一搬运装置，从装载于上述容器装载部上的收容容器中取出处理前的基板，并将所取出的处理前的基板交给上述交接部的步骤；
在上述交接部中利用反转机构使处理前的基板的一面以及另一面相互反转，并且，使上述反转机构移动，以便能够将处理前的基板从上述反转机构交接到上述第二搬运装置的步骤；
利用上述第二搬运装置将处理前的基板从上述交接部搬运至上述处理部的步骤；
在上述处理部中对处理前的基板进行处理的步骤；
利用上述第二搬运装置将在上述处理部中被处理过的处理后的基板从上述处理部搬运到上述交接部的步骤；
在上述交接部中利用上述反转机构使处理后的基板的另一面以及一面相互反转，并且，使上述反转机构移动，以便能够将处理后的基板从上述交接部交接给上述第一搬运装置的步骤；
利用上述第一搬运装置从上述交接部接受处理后的基板，并将接受到的处理后的基板收容到上述收容容器中的步骤。
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