CN112570331A - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，所述基板处理装置包括：分度器区，具有分度器机械手；处理区，作为处理单元，具有表面清洗单元以及背面清洗单元；以及翻转路径区，具有载置基板的多层搁板，并且具有翻转功能，所述分度器机械手具有导轨、基台部、多关节臂以及手部，所述导轨配置于不与所述翻转路径区中的基板的载置位置重叠的位置。

Description

基板处理装置
技术领域
本发明涉及基板处理装置，利用处理液对半导体晶片、液晶显示器、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示装置用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等基板(以下，简称为“基板”)进行处理。
背景技术
以往，这种装置具有分度器区、处理区以及翻转路径区。例如，可以参照日本特开2008-166369号公报(图1)。处理区具有表面清洗单元和背面清洗单元。翻转路径区安装在分度器区和处理区之间。
分度器区具有容纳架载置部和分度器机械手。容纳架载置部载置容纳有多张基板的容纳架。分度器机械手在容纳架和翻转路径区之间搬运基板。翻转路径区具有载置基板的多层搁板。翻转路径区具有与处理区之间交接基板的翻转路径单元。另外，翻转路径单元使基板的表面和背面翻转。处理区具有主机械手。主机械手在表面清洗单元以及背面清洗单元和翻转路径单元之间搬运基板。
分度器机械手构成为能够在配置有容纳架载置部的水平方向上移动。另外，分度器机械手构成为能够在上下方向上伸缩，并且构成为能够以铅直轴为中心旋转。搭载于上部的手部构成为能够在水平方向上进退。在进行基板处理时，具有这种结构的分度器机械手在利用手部保持从容纳架取出的基板的状态下，水平移动至与翻转路径单元相向的位置。然后，分度器机械手使手部向翻转路径单元内的交接对象的搁板升降，进而使手部进出该搁板。然后，分度器机械手通过使其手部下降而将基板向翻转路径单元搬运。另外，在接收由处理区处理的基板时，分度器机械手向与翻转路径单元相向的位置水平移动。然后，分度器机械手使手部向载置有清洗完成的基板的翻转路径单元内的搁板升降，进而使手部进出该搁板。然后，分度器机械手通过使其手部上升来从翻转路径单元接收基板。
然而，在具有如上结构的以往例的情况下，存在如下问题。
即，以往的装置需要使分度器机械手向与翻转路径单元相向的位置水平移动。因此，需要时间来进行分度器机械手和翻转路径区之间的基板的交接，因而存在搬运效率低的问题。
为了避免该问题，考虑采用具有导轨、基台部以及多关节臂的分度器机械手。导轨在水平方向的位置固定，并且沿上下方向配置。基台部沿着导轨在上下方向上移动。多关节臂在顶端侧具有手部。多关节臂搭载于基台部。在这样的分度器机械手中，基台部配置在配置有多个容纳架载置部的水平方向的中央部。而且，在这样的分度器机械手中，基台部配置在与翻转路径区的基板的载置位置相向的位置附近。这里的“附近”是指，在分度器机械手和翻转路径区之间适合进行基板交接的位置。由此，分度器机械手能够在与多个容纳架载置部的各容纳架之间交接基板。然而，若是这种配置，则会产生另一个问题：导轨妨碍基板在分度器机械手和翻转路径单元之间的交接。
发明内容
本发明鉴于上述问题而提出，其目的在于提供一种基板处理装置，其通过改变分度器机械手的配置，能够提高分度器机械手与翻转路径区之间的基板交接效率。
为达到上述目的，本发明采用如下结构。
本发明提供一种基板处理装置，一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，其中，包括：分度器区，具有：容纳架载置部，载置容纳多张基板的容纳架，分度器机械手，与所述容纳架载置部的所述容纳架之间搬运基板；处理区，作为处理单元，具有进行基板的表面清洗处理的表面清洗单元以及进行基板的背面清洗处理的背面清洗单元；以及翻转路径区，配置在所述分度器区和所述处理区之间，具有载置基板的多层搁板，并且具有使基板的表面和背面翻转的翻转功能，所述分度器机械手具有：导轨，水平方向的位置被固定且立设；基台部，沿着所述导轨升降移动；多关节臂，配置于所述基台部；以及手部，在所述多关节臂的顶端部侧的臂上支撑基板，从所述容纳架载置部侧观察，所述导轨配置于不与所述翻转路径区中的基板的载置位置重叠的位置。
根据本发明，从容纳架载置部侧观察，在分度器机械手中，导轨配置于不与翻转路径区中的基板的载置位置重叠的位置。因此，即使在适合于基板的交接的基板的载置位置的相向位置的附近配置基台部，在分度器机械手的手部和翻转路径区之间进行基板的交接时，导轨也不会对其产生干扰。其结果，能够提高分度器机械手和翻转路径区之间的基板的交接的效率。
本发明优选为，在俯视时，所述导轨配置于从连结所述载置位置的中央和所述分度器区的中央的虚拟线向侧方偏移的位置。
在进行分度器机械手的手部和翻转路径区之间的基板的交接时，导轨不会对其产生干扰。
本发明优选为，所述分度器区在水平方向上具有多个所述容纳架载置台，所述基台部具有基台部主体和从所述基台部主体向所述容纳架载置部侧延伸的固定臂，所述分度器机械手在所述固定臂的顶端侧具有所述多关节臂的基端部，所述固定臂的顶端部位于配置有各个所述容纳架载置部的水平方向的中央(多个所述容纳架载置部的中央)。
固定臂的顶端部在中央配置。因此，从容纳架载置部侧观察，即使导轨配置在不与翻转路径区中的基板的载置位置重合的位置，多关节臂的手部也能够在手部和各容纳架载置部的容纳架之间交接基板。
本发明优选为，所述导轨配置于所述分度器区中的所述翻转路径区侧的内壁侧。
能够缩短分度器区中的容纳架载置部和翻转路径区之间的距离。因此，能够实现基板处理装置的小型化。
本发明优选为，从所述容纳架载置部侧观察，所述多关节臂中的第一关节的旋转轴从所述导轨向所述载置位置侧偏移配置。
多关节臂的顶端侧所具备的手部能够容易地在翻转路径区中的基板的载置位置进行基板的交接。
为了说明本发明，在附图中示出了优选的几种实施方式，但应该理解的是，本发明不限于如下所示的实施方式。
附图说明
图1是表示实施例的基板处理装置的整体结构的立体图。
图2是基板处理装置的俯视图，是表示处理区的上段中的上层的图。
图3是基板处理装置的俯视图，是表示处理区的上段中的下层的图。
图4是基板处理装置的侧视图。
图5是表示分度器机械手的整体的立体图。
图6A是表示分度器机械手的四个手部主体的立体图，图6B是表示两个手部主体的立体图。
图7是从背面观察分度器区的状态下的翻转路径区的立体图。
图8是表示从左侧面观察分度器区和翻转路径区的状态的图。
图9是表示翻转路径单元的主要部分的立体图。
图10A至图10D是翻转路径单元的动作说明图。
图11是表示搬运基板处理装置时的状态的立体分解图。
图12是表示搬运区的主要部分的立体图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的一实施例进行说明。
需要说明的是，图1是表示实施例的基板处理装置的整体结构的立体图。图2是基板处理装置的俯视图，是表示处理区的上段中的上层的图。图3是基板处理装置的俯视图，是表示处理区的上段中的下层的图。图4是基板处理装置的侧视图。
本实施例的基板处理装置1是能够实施表面清洗处理和背面清洗处理的装置。表面清洗处理对基板W的表面进行清洗。背面清洗处理对基板的背面进行清洗。该基板处理装置1具有分度器区3、翻转路径区5、处理区7、搬运区9以及效用区11。
分度器区3与翻转路径区5之间交接作为处理对象的基板W。翻转路径区5配置在分度器区3和处理区7之间。翻转路径区5不使基板W的表面和背面翻转而保持原状态在分度器区3和搬运区9之间交接基板W。另外，翻转路径区5使基板W的表面和背面翻转并在分度器区3和搬运区9之间交接基板W。搬运区9进行翻转路径区5和处理区7之间的基板W的搬运。处理区7具有表面清洗单元SS和背面清洗单元SSR。表面清洗单元SS对基板W的表面进行清洗。背面清洗单元SSR对基板W的背面进行清洗。效用区11具有向处理区7供给处理液、气体的结构等，处理液包括药液、纯水等，气体包括氮气、空气等。
基板处理装置1按顺序排列配置有分度器区3、翻转路径区5、处理区7和搬运区9、效用区11。
在以下的说明中，将分度器区3、翻转路径区5、处理区7和搬运区9、效用区11的排列方向设为“前后方向X”(水平方向)。特别地，将从效用区11朝向分度器区3的方向设为“前方XF”，将前方XF方向的相反方向设为“后方XB”。将在水平方向上与前后方向X正交的方向设为“宽度方向Y”。而且，从分度器区3的正面观察时，将宽度方向Y的一方向适当地设为“右方YR”，将与右方YR相反的另一方向设为“左方YL”。另外，将垂直的方向设为“上下方向Z”(高度方向或者垂直方向)。需要说明的是，当简记为“侧方”、“横向”等时，并不仅限于前后方向X和宽度方向Y中的任一方向。
分度器区3具有容纳架载置部13、搬运空间AID以及分度器机械手TID。本实施例中的基板处理装置1例如具有四个容纳架载置部13。具体地说，在宽度方向Y上具有四个容纳架载置部13。每个容纳架载置部13都载置容纳架C。容纳架C是层叠容纳多张(例如，25张)基板W的装置，每个容纳架载置部13与例如未图示的高空提升运输工具(Overhead HoistTransport，OHT；也被称为顶棚行驶无人搬运车)之间交接容纳架C。高空提升运输工具利用清洁室的顶棚来搬运容纳架C。作为容纳架C，例如有前开式晶圆传送盒(Front OpeningUnified Pod，FOUP)。
搬运空间AID配置于容纳架载置部13的后方XB。在搬运空间AID配置有分度器机械手TID。分度器机械手TID与容纳架C之间交接基板W。分度器机械手TID与翻转区5之间交接基板W。仅一台分度器机械手TID配置于搬运空间AID。
在此，参照图5。需要说明的是，图5是表示分度器机械手的整体的立体图。
如图5所示，分度器机械手TID具有导轨15、基台部17、多关节臂19以及手部21。导轨15在上下方向Z上配置其长度方向。导轨15随着未图示的驱动部的驱动而升降基台部17。此时，导轨15在上下方向上引导基台部17。导轨15在水平方向上的前后方向X以及宽度方向Y的位置固定。具体地说，从分度器区3的容纳架载置部13侧观察时，导轨15配置于宽度方向Y上不与翻转路径区5中的基板W的载置位置重叠的位置。另外，导轨15配置于分度器区3中的翻转路径区5侧的内壁侧。在此，在俯视图中，定义虚拟线VL，所述虚拟线VL连结宽度方向Y上的分度器区3的中央和宽度方向Y上的翻转路径区5(翻转路径区5以及后述的翻转路径单元31中的基板W的载置位置)的中央(参照图2以及图3)。导轨15以及基台部17配置于从该虚拟线VL向侧方偏移的位置，在本实施例中配置于向右方YR偏移的位置。在俯视时，基台部17配置于从分度器区3的背面向容纳架载置部13侧相隔空间SP的位置。该空间SP具有允许容纳翻转路径区5的至少一部分的尺寸。
在本实施例的分度器机械手TID中，导轨15配置于分度器区3中的翻转路径区5侧的内壁侧。因此，能够缩短分度器区3中的容纳架载置部13和翻转路径区5之间的距离，从而有助于基板处理装置1的小型化。
基台部17具有基台部主体17a和固定臂17b。基台部主体17a配置为能够在导轨15上移动。固定臂17b从基台部主体17a向侧方延伸。固定臂17b以使其顶端侧位于四个容纳架载置部13的宽度方向Y的中央的位置的方式，从基台部主体17a向前方XF延伸配置。即，固定臂17b以使其顶端侧位于上述虚拟线VL的方式，从基台部主体17a向前方XF延伸配置。多关节臂19由第一臂19a、第二臂19b以及第三臂19c构成。在此，将配置有手部21的第三臂19c设为顶端部侧，将第一臂19a设为基端部侧。在多关节臂19中，基端部侧的第一臂19a的基端部安装在固定臂17b的顶端部侧。
多关节臂19构成为第一～第三臂19a、19b、19c能够分别以旋转轴P1、旋转轴P2、旋转轴P3为上下方向Z的轴旋转。旋转轴P1是第一臂19a的基端部侧的旋转轴。旋转轴P2是第二臂19b的基端部侧的旋转轴。旋转轴P3是第三臂19c的基端部侧的旋转轴。多关节臂19构成为其手部21能够在前后方向X以及宽度方向Y上自由移动。基台部17沿着导轨15升降。手部21与基台部17一同沿着导轨15升降。这样，手部21构成为能够在上下方向Z上移动。另外，从容纳架载置部13侧观察，多关节臂19中基端部侧的第一臂19a的旋转轴P1配置为位于宽度方向Y上比导轨15更向翻转路径区5侧(翻转路径区5以及后述的翻转路径单元31中的基板W的载置位置)偏移的位置。即，旋转轴P1在上述虚拟线VL上。另外，若以基台部17为基准，则旋转轴P1位于左方YL。具有上述结构的分度器机械手TID能够利用多关节臂19进入四个容纳架C和后述的翻转路径区5。
需要说明的是，上述的旋转轴P1相当于本发明中的“第一关节的旋转轴”。
在此参照图6。图6A是表示分度器机械手的四个手部主体的立体图。图6B表示两个手部主体的立体图。
上述的分度器机械手TID具有手部21。如图6A所示，手部21以从上到下的顺序具有手部主体21a、手部主体21b、手部主体21c、手部主体21d。手部21的四个手部主体21a～21d安装在第三臂19c。在这些四个手部主体21a～21d中，如图6B所示，最上部的手部主体21a和最下部的手部主体21d构成为能够在上下方向Z上升降。分度器机械手TID在与容纳架C之间搬运基板W时，例如，当25张基板W被容纳在容纳架C时，使用四个手部主体21a～21d按顺序每次搬运四张基板W。在容纳架C中容纳的基板W只剩下一张时，例如，先使手部主体21a和手部主体21b一体化之后再用手部主体21a、21b搬运剩余的一张基板W。对于下一个容纳架C的一张基板W，先使手部主体21c和手部主体21d一体化之后再用手部主体21c、21d搬运。由此，利用具有四个手部主体21a～21d的分度器机械手TID能够高效率地进行与容纳有25张基板W的容纳架C之间的搬运。
在此，参照图7和图8。图7是从背面观察分度器区的状态下的翻转路径区的立体图。图8是表示从左侧面观察分度器区以及翻转路径区的状态的图。
翻转路径区5在分度器区3的处理区7侧一体地安装于分度器区3。具体地说，分度器区3在其背面侧(后方XB)具有从分度器区3向处理区侧7延伸的载置框架25、载置悬架框架27以及悬架框架29。翻转路径区5具有翻转路径单元31。在分度器区3的背面侧形成有与搬运空间AID连通的上部进入口3a以及下部进入口3b。翻转路径单元31具有上段翻转路径单元33和下段翻转路径单元35。上段翻转路径单元33配置在与上部进入口3a相对应的位置，下段翻转路径单元35配置在与下部进入口3b相对应的位置。下段翻转路径单元35的下部用螺纹构件拧紧固定在载置框架25。下段翻转路径单元35的上部用固定件37固定在载置悬架框架27。另外，上段翻转路径单元33的下部用螺纹构件拧紧固定在载置悬架框架27。上段翻转路径单元33的上部用固定件39固定在悬架框架29。
在俯视时，上段翻转路径单元31和下段翻转路径单元33重叠配置，而不在前后方向X以及宽度方向Y上错开。因此，能够使基板处理装置1的占地面积变小。
翻转路径区5与分度器区3一体地构成。翻转路径区5构成为，在搬运基板处理装置1时，翻转路径区5的至少一部分能够容纳在分度器区3的内部。
具体地说，首先，拧下用于固定上段翻转路径单元33以及下段翻转路径单元35的下部的螺纹构件。接下来，卸下固定件37、39。然后，将上段翻转路径单元33从上部进入口3a推入分度器区3的内部空间SP。最后，将下段翻转路径单元35从下部进入口3b推入分度器区3的内部的空间SP。由此，翻转路径区5的至少一部分能够可靠地容纳在分度器区3的内部。
上部翻转路径单元33具有翻转路径框体部33a和框体部隔板33b。在由框体部隔板33b隔开的上部配置有上部翻转路径部33U。在由框体部隔板33b隔开的下部配置有下部翻转路径部33D。另外，下段翻转路径单元35具有翻转路径框体部35a和框体部隔板35b。在由框体部隔板35b隔开的上部配置有上部翻转路径部35U。在由框体部隔板33b隔开的下部配置有下部翻转路径部35D。
在此，参照图9以及图10A～图10D详细说明翻转路径单元31。需要说明的是，图9是表示翻转路径单元的主要部分的立体图。图10A～图10D是翻转路径单元的动作说明图。
翻转路径单元31具有上段翻转路径单元33和下段翻转路径单元35。上段翻转路径单元33具有上部翻转路径部33U和下部翻转路径部33D，下段翻转路径单元35具有上部翻转路径部35U和下部翻转路径部35D。在以下的说明中，以上部翻转路径部33U为示例进行说明。需要说明的是，上部翻转路径部35U和下部翻转路径部33D、35D也具有相同的结构。
上部翻转路径部33U具有引导部41和旋转保持部43。引导部41载置基板W。旋转保持部43以使载置于引导部41的基板W的表面和背面翻转的方式旋转基板W。需要说明的是，在右方YR侧，相向地也配置有相同的引导部41和旋转保持部43，但为了图示方便而将其省略。引导部41具有在前后方向X上分开的多层(例如，5层+5层共10层)搁板45。多层搁板45将多张基板W以水平姿势层叠保持。该引导部41在向右方YR突出的载置位置(未图示)和退避至图9所示的左方YL的退避位置之间被驱动部(未图示)驱动。退避位置是从基板W的下表面向左方YL下降的倾斜向下的方向。由此，在退避时不会产生引导部41在基板W的下表面的滑动。需要说明的是，未图示的引导部41在向左方YL突出的载置位置和退避至右方YR的斜下方的退避位置之间被驱动。
旋转保持部43配置于引导部41之间。旋转保持部43具有层数与引导部41相同的多层(合计十层)搁板47。搁板47在上下方向Z上的配置高度与引导部41位于载置位置时的引导部41的各个搁板45相同。各个搁板47具有将基板W的表面和背面轻轻地把持的把持构件(未图示)。因此，各个搁板47在旋转基板W时能够防止基板W从各个搁板47落下。旋转保持部43安装于旋转构件49。旋转保持部43在前后方向X上分开配置有各个搁板47。在本实施例中，旋转构件49呈字母H形状。在旋转构件49的H形状的两端的I形状部分配置有各个搁板47。旋转构件49与未图示的旋转驱动部和进退驱动部连结。旋转构件49以朝向宽度方向Y的旋转轴P4为中心旋转。而且，旋转构件49在向图9所示的向右方YR突出的把持位置和向左方YL退避的退避位置(未图示)之间被进退驱动。通过这些动作，各个搁板47进行旋转、进退。需要说明的是，未图示的旋转构件49在向左方YL突出的把持位置和向右方YR退避的退避位置之间被进退驱动。
在保持图10A的状态下，上述的上部翻转路径部33U载置多张基板但不翻转基板W的表面和背面，进而在保持多张基板W的该状态下进行交接。另外，通过如图10A～图10D所示的动作使多张基板W的表面和背面翻转之后交接多张基板W。
在翻转基板W的表面和背面时，例如，引导部41和旋转保持部43如下驱动。
在初始状态下，引导部41彼此移动至在宽度方向Y上彼此分开大致基板W直径的距离的载置位置。旋转保持部43移动至退避位置(图10A)。在该状态下，多张基板W载置于引导部41。接下来，旋转保持部43位于把持位置(图10B)。然后，引导部41被移动至退避位置(图10C)。然后，旋转保持部43以旋转轴P4为中心旋转半周(图10D)。通过这一系列的动作，多张基板W的表面和背面同时翻转。
回到图2～图4。一同参照图11。需要说明的是，图11是表示搬运基板处理装置时的状态的立体分解图。
在翻转路径区5的后方XB配置有处理区7和搬运区9。处理区7隔着搬运区9相对地配置在左方YL和右方YR。
各个处理区7例如在上段UF和下段DF分别具有两层处理单元PU。另外，各个处理区7在前后方向X上具有两个处理单元PU。即，一个处理区7具有八台处理单元PU。因此，两个处理区7整体具有十六台处理单元PU。在以下的说明中，在有必要区分各个处理单元PU的情况下，如图11所示，在左方YL的前方XF的处理单元PU中，将从上方到下方配置的四台处理单元PU分别设为处理单元PU11～PU14。在右方YR的前方XF的处理单元PU中，将从上方到下方配置的四台处理单元PU分别设为处理单元PU21～PU24。在左方YL的后方XB的处理单元PU中，将从上方到下方配置的四台处理单元PU分别设为处理单元PU31～PU34。在右方YR的后方XB的处理单元PU中，将从上方到下方配置的四台处理单元PU分别设为处理单元PU41～PU44。
将左方YL的前方XF的四台处理单元PU11～PU14称为塔单元TW1。将右方YR的前方XF的四台处理单元PU21～PU24称为塔单元TW2。将左方YL的后方XB的四台处理单元PU31～PU34称为塔单元TW3。将右方YR的后方XB的四台处理单元PU41～PU44称为塔单元TW4。需要说明的是，两个处理单元7由四台塔单元TW1～TW4构成。但是，采用能够对每个塔单元TW1～TW4进行控制、管理，并且对每个塔单元TW1～TW4容易地分离或者连接电气布线、流体管路的结构。
例如，如图2所示，处理区7的上段UF中的上层配置有表面清洗单元SS。表面清洗单元SS对基板W的表面进行清洗处理。基板W的表面通常形成有电子电路图案等。表面清洗单元SS例如具有吸引卡盘51、防护罩53以及处理喷嘴55。吸引卡盘51通过真空吸引吸附在基板W的背面的中心附近。吸引卡盘51由未图示的电动马达旋转驱动。由此，吸引卡盘51在水平面内旋转驱动基板W。防护罩53配置成包围吸引卡盘51的周围。防护罩53防止从处理喷嘴55供给至基板W的处理液向周围飞散。处理喷嘴55例如通过喷射将处理液供给至基板W的表面。由此，处理喷嘴55对基板W的表面进行清洗。
例如，如图3所示，处理区7的上段UF中的下层配置有背面清洗单元SSR。背面清洗单元SSR对基板W的背面进行清洗处理。基板W的背面通常不形成电子电路图案等。背面清洗单元SSR例如具有机械卡盘57、防护罩59以及清洗刷61。机械卡盘57抵接并支撑基板W的周缘，因此，在不接触基板W的大部分下表面的情况下以水平姿势支撑基板W。机械卡盘57由未图示的电动马达旋转驱动。由此，机械卡盘57在水平面内旋转驱动基板W。防护罩59配置成包围机械卡盘57的周围。防护罩59防止由清洗刷61向周围飞散处理液。清洗刷61例如具有以纵轴为中心旋转的刷。清洗刷61通过刷的旋转力将所供给的处理液作用至基板W的背面，从而清洗基板W的背面。
本实施例中的处理区7的下段DF例如具有与上述的上段UF的上层和下层相同的结构。即，处理区的下段DF中的上层具有表面清洗单元SS。处理区的下段DF中的下层具有背面清洗单元SSR。即，处理区7的全部十六台处理单元PU包括八台表面清洗单元SS和八台背面清洗单元SSR。
在此，除了图2～图4之外，还参照图12。图12是表示搬运区的主要部分的立体图。
搬运区9在与上段UF和下段DF相对应的位置分别配置有中央机械手CR1、CR2。搬运区9在上段UF和下段DF的边界位置未配置隔板等。因此，在搬运区9中，装置内的向下流动能够从上段UF向下段DF流通。中央机械手CR1在翻转路径区5中的上段翻转路径单元33和上段UF中的各个处理单元PU之间进行基板W的搬运。另外，中央机械手CR2在翻转路径区5中的下段翻转路径单元35和下段DF中的各个处理单元PU之间进行基板W的搬运。这样，经由翻转路径区5的上段翻转路径单元33和下段翻转路径单元35，能够由各个中央机械手CR1、CR2对上段UF和下段DF的处理区7分配基板W。因此，能够提高生产量。
中央机械手CR1与中央机械手CR2具有相同的结构。因此，在此，以中央机械手CR1为例进行说明。
中央机械手CR1具有固定框63、可动框65、基台部67、旋转基座69以及臂71。固定框63在上段UF中的整个处理单元PU上设置有开口。可动框65在前后方向X上可移动地安装在固定框63内。基台部67安装在构成可动框65的四个框中的下框。在基台部67的上部搭载有旋转基座69。旋转基座69构成为能够相对于基台部67在水平面内旋转。在旋转基座69的上部搭载有臂71，该臂71能够相对于旋转基座69进退。臂71配置为臂主体71b与臂主体71a的上部重叠。臂71构成为能够在第一位置和第二位置之间进退。第一位置是与旋转基座69重叠的位置。第二位置是从旋转基座69突出的位置。利用这种结构，中央机械手CR1例如在进入处理单元PU时，在使旋转基座69朝向处理单元PU的状态下，利用臂主体71a接收由处理单元PU处理完成的基板W。中央机械手CR1能够将由臂主体71b支撑的未处理的基板W交接至处理单元PU。
搬运区9具有如上所述的结构，并且在宽度方向Y上不存在与相邻的两个处理区7共用的框架。因此，搬运区9能够与相邻的处理区7分离。另外，如图11所示，在搬运时，具有上述结构的基板处理装置1能够分离为一体地安装有翻转路径区5的分度器区3、处理区7、搬运区9以及效用区11。另外，处理区7还能够分离为四个塔单元TW1～TW4。因此，能够消除利用飞机搬运时对高度、宽度、深度的限制。而且，如图8所示，在一体地安装于分度器区3的翻转路径区5中，其一部分能够容纳在分度器区3的内部。因此，除了利用飞机搬运时对高度、宽度、深度的限制之外，还能够消除容积的限制。
根据本实施例，从容纳架载置部13侧观察，在分度器机械手TID中，导轨15配置于不与翻转路径区5中的基板W的载置位置重叠的位置。因此，即使在适合于进行基板W交接的与基板W的载置位置相向的位置附近配置基台部17，在分度器机械手TID的手部21和翻转路径区5之间交接基板W时，导轨15也不会对其产生干扰。结果，能够提高分度器机械手TID和翻转路径区5之间的基板W交接效率。
另外，在俯视时，导轨15以及基台部17配置于从连结基板W的载置位置的中央和分度器区3的中央的虚拟线VL向左方YL偏移的位置。因此，在分度器机械手TID的手部21和翻转路径区5之间交接基板W时，导轨15和基台部17都不会对交接产生干扰。
而且，在固定臂17b中，其顶端部位于配置有各容纳架载置部13的水平方向的中央。因此，即使基台部17配置于不与翻转路径区5中的基板W的载置位置重叠的位置，多关节臂19的手部21也能够在与各容纳架载置部13的容纳架C之间搬运基板W。
另外，从容纳架载置部13侧观察，在分度器机械手TID中，多关节臂19的旋转轴P1配置于从导轨15向基板W的载置位置侧偏移的位置。因此，多关节臂19的顶端侧所具备的手部21能够在翻转路径区5中的基板W的载置位置容易地交接基板W。
本发明并不限于上述实施方式，也可以包括如下所述的变形实施方式。
(1)在上述实施例中，从容纳架载置部13侧观察，分度器机械手TID的导轨15位于不与翻转路径区5中的基板W的载置位置重叠的位置，并且配置于从虚拟线VL向左方YL偏移的位置。然而，本发明并不限于这种配置。例如，也可以配置于从虚拟线VL向右方YR偏移的位置。此时，在待机状态下，手部21也位于从导轨15向右方YR偏移的位置。而且，手部21位于与翻转路径单元31相向的位置。另外，固定臂17b配置成从左方YL向虚拟线VL侧延伸，进而其顶端部位于虚拟线VL的位置。
(2)在上述实施例中，分度器机械手TID具有固定臂17b。然而，本发明并不一定需要这种结构。只要分度器机械手TID的多关节臂19能够利用手部21进入各个容纳架C和翻转路径单元31，则不必具有这种固定臂17b。
(3)在上述实施例中，分度器机械手TID的导轨15配置于分度器区3中的翻转路径区5侧的内壁侧。然而，本发明并不一定需要这种配置。例如，也可以从分度器区3中的翻转路径区5侧的内壁向容纳架载置部13侧分开配置。由此，能够缩短固定臂17b的长度。因此，能够实现固定臂17b自身的薄型化，进而能够实现分度器机械手TID自身的轻量化。
(4)在上述实施例中，分度器机械手TID具有由四个手部主体21a～21d构成的手部21。然而，本发明并不限于这种结构。例如，手部21只要具有一个以上手部主体即可。
以上对本发明的实施方式进行了详细说明，但这些说明仅是为了明确本发明的技术内容而采用的具体实施例，不应该认为本发明限于并解释为上述的具体实施例，本发明的保护范围仅由权利要求书来限定。

Claims (9)

1.一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，其中，
包括：
分度器区，具有：容纳架载置部，载置容纳多张基板的容纳架，分度器机械手，与所述容纳架载置部的所述容纳架之间搬运基板；
处理区，作为处理单元，具有进行基板的表面清洗处理的表面清洗单元以及进行基板的背面清洗处理的背面清洗单元；以及
翻转路径区，配置在所述分度器区和所述处理区之间，具有载置基板的多层搁板，并且具有使基板的表面和背面翻转的翻转功能，
所述分度器机械手具有：导轨，水平方向的位置被固定且立设；基台部，沿着所述导轨升降移动；多关节臂，配置于所述基台部；以及手部，在所述多关节臂的顶端部侧的臂上支撑基板，
从所述容纳架载置部侧观察，所述导轨配置于不与所述翻转路径区中的基板的载置位置重叠的位置。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，
在俯视时，所述导轨配置于从连结所述载置位置的中央和所述分度器区的中央的虚拟线向侧方偏移的位置。
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述分度器区在水平方向上具有多个所述容纳架载置台，
所述基台部具有基台部主体和从所述基台部主体向所述容纳架载置部侧延伸的固定臂，
所述分度器机械手在所述固定臂的顶端侧具有所述多关节臂的基端部，
所述固定臂的顶端部位于配置有各个所述容纳架载置部的水平方向的中央。
4.如权利要求2所述的基板处理装置，其中，
所述分度器区在水平方向上具有多个所述容纳架载置台，
所述基台部具有基台部主体和从所述基台部主体向所述容纳架载置部侧延伸的固定臂，
所述分度器机械手在所述固定臂的顶端侧具有所述多关节臂的基端部，
所述固定臂配置的顶端部位于配置有各个所述容纳架载置部的水平方向的中央。
5.如权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其中，
所述导轨配置于所述分度器区中的所述翻转路径区侧的内壁侧。
6.如权利要求3或4所述的基板处理装置，其中，
从所述容纳架载置部侧观察，所述多关节臂中的第一关节的旋转轴从所述导轨向所述载置位置侧偏移配置。
7.如权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其中，
所述手部具有多个用于支撑基板的手部主体。
8.如权利要求5所述的基板处理装置，其中，
所述手部具有多个用于支撑基板的手部主体。
9.如权利要求6所述的基板处理装置，其中，
所述手部具有多个用于支撑基板的手部主体。
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