TWI455234B - 基板處理裝置 - Google Patents

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TWI455234B
TWI455234B TW096150475A TW96150475A TWI455234B TW I455234 B TWI455234 B TW I455234B TW 096150475 A TW096150475 A TW 096150475A TW 96150475 A TW96150475 A TW 96150475A TW I455234 B TWI455234 B TW I455234B
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Mitsuyoshi Ichiro
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Dainippon Screen Mfg
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Description

基板處理裝置
本發明係關於一種將基板進行搬送的基板搬送裝置、載置基板的基板載置架、及對基板施行處理的基板處理裝置。
習知為對半導體晶圓、光罩用玻璃基板、液晶顯示裝置用玻璃基板、電漿顯示器用玻璃基板、光碟用基板、磁碟用基板、光磁碟用基板等基板施行各種處理，便有採用基板處理裝置。
作為基板處理裝置一例就日本專利特開平10-150090號所記載的基板處理裝置進行說明。圖11係日本專利特開平10-150090號所記載的基板處理裝置俯視圖。如圖11所示，該基板處理裝置900係具備有：索引器(indexer)910與處理模組920。
索引器910係具備有：在直線延伸的索引器搬送路徑911上進行往複移動的索引器機器人912、以及可依沿索引器搬送路徑911之方式載置複數承載器C的卡匣載置部913。於承載器C收容複數基板W。
處理模組920係具備有：在正交於索引器搬送路徑911的主搬送路徑921上進行往復移動的主搬送機器人922、以及依包夾主搬送路徑921的方式設置的一對單元部930A、930B。在單元部930A、930B中設置有對基板W施行處理的處理室933、934。在基板處理裝置900中，基 板W將如下進行搬送。
首先，從基板處理裝置900外部將承載器C搬入於卡匣載置部913中。然後，在承載器C中所收納的未處理基板W，由索引器機器人912取出，交接於主搬送機器人922。
經交接於主搬送機器人922的基板W，被搬入於處理室933、934中，施行洗淨處理。然後，經處理過的基板W便由主搬送機器人922與索引器機器人912再度收納於承載器C內。
上述基板處理裝置900中，索引器機器人912係具備有：為從承載器C中取出未處理基板W之基板取出機械臂、以及為將經處理過的基板W收納於承載器C中的基板收納機械臂。
例如索引器機器人912係從承載器C中取出1片未處理基板W並進行搬送，將該基板W交接於主搬送機器人922。此外，索引器機器人912從主搬送機器人922收取1片經處理過的基板W並進行搬送，並將該基板W收納於承載器C內。
在索引器機器人912進行動作時，收納有待索引器機器人912取出之未處理基板W的承載器C、與索引器機器人912收納經處理過基板W的承載器C有時會不同。
此情況下，索引器機器人912係例如將經處理過的基板W收納於1個承載器C之後，便必需將索引器搬送路徑911朝收納有未處理基板W的其他承載器C進行移動。因而妨礙基板處理裝置900之處理量提升。
所以，為提升基板處理裝置900的處理量，便有考慮提高索引器機器人912的動作速度。然而，並無法明顯提高索引器機器人912的動作速度。此理由如下。
承載器C中，為能收容更多基板W而將基板W的收納間隔設為非常小。因而，索引器機器人912的基板取出機械臂與基板收納機械臂，便配合承載器C內的基板W收納間隔，製作成較薄之壁厚。因此，基板取出機械臂與基板收納機械臂的剛性便不相當地高。
所以，若明顯提高索引器機器人912的動作速度，各機械臂便發生振動或變形等情形。結果，發生基板W搬送不良狀況。
本發明之目的在於提供一種可充分縮短基板搬送時間的基板搬送裝置、基板載置架及基板處理裝置。
(1)根據本發明一態樣的基板搬送裝置，係在具有將基板依略水平姿勢收納的複數層收納溝之收納容器、與具有將基板依略水平姿勢載置的複數層收納架之基板載置架間，進行基板搬送；其具備有：第1與第2基板保持部、驅動機構、及調整機構，其中該第1與第2基板保持部係上下相互設置，並將基板依略水平姿勢保持；該驅動機構係為了對收納容器及基板載置架進行基板之交接，而使第1與第2基板保持部移動並且朝略水平方向進退；該調整機構係調整第1及第2基板保持部間之高度差；而調整機構係在收納容器與第1及第2基板保持部之間進行基板交 接時，便將第1與第2基板保持部間的高度差調整為收納容器的收納溝間之高度差，而在基板載置架、與第1及第2基板保持部間進行基板交接時，便將第1與第2基板保持部間的高度差調整為基板載置架的收納架間之高度差。
該基板搬送裝置係使用上下相互設置的第1與第2基板保持部在與具有複數層收納溝的收納容器之間進行基板交接。當執行該基板交接時，第1與第2基板保持部間的高度差，由調整機構調整為收納容器的收納溝間之高度差。
藉此，藉由使第1與第2基板保持部由驅動機構朝略水平方向前進，便可分別輕易地插入收納容器的2個收納溝間。藉此，便可在第1及第2基板保持部與收納容器之收納溝間，順暢地進行複數基板的交接。
再者，基板搬送裝置係使用第1與第2基板保持部在與具有複數層收納架的基板載置架之間進行基板的交接。當執行該交接時，第1與第2基板保持部間的高度差，由調整機構調整為基板載置架的收納架間之高度差。
因此，藉由使第1與第2基板保持部利用驅動機構朝略水平方向前進，便可分別輕易地插入於基板載置架的2個收納架間。藉由此方式，便可在第1及第2基板保持部與基板載置架的收納架間順暢地進行複數基板的交接。
如此，即使收納容器的收納溝間之高度差、與基板載置架的收納架間之高度差相異情況下，第1與第2基板保持部仍可對收納容器與基板載置架同時進行複數基板的交 接。結果，可充分縮短基板的搬送時間。
(2)驅動機構亦可為了對收納容器與基板載置架進行基板的交接，而使第1與第2基板保持部朝略水平方向個別地進退。
此情況，第1與第2基板保持部係朝略水平方向個別地進退。藉此，便可在第1或第2基板保持部、與收納容器之間進行1片基板的交接。又，可在第1或第2基板保持部與基板收納架之間進行1片基板的交接。
(3)根據本發明另一態樣的基板載置架，係在具有上下相互設置的第1與第2基板保持部之第1基板搬送裝置、與上下相互設置的第3與第4基板保持部之第2基板搬送裝置間進行基板交接；其具備有：將基板依略水平姿勢分別支撐的複數層收納架、與調整收納架間之高度差的調整機構；而調整機構係在與第1基板搬送裝置之間進行基板交接時，便將收納架間的高度差調整為第1與第2基板保持部間的高度差，而當在與第2基板搬送裝置之間進行基板交接時，便將收納架間的高度差調整為第3與第4基板保持部間的高度差。
在該基板載置架中，在將基板依略水平姿勢支撐的複數層收納架與第1基板搬送裝置之間，進行基板的交接。
當執行該基板交接時，收納架間的高度差由調整機構調整為第1與第2基板保持部間之高度差。藉此，便可將第1與第2基板保持部分別輕易地插入於2個收納架間。藉此，便可在複數層收納架與第1基板搬送裝置之間順暢地 進行複數基板的交接。
再者，在該基板載置架中，於收納架與第2搬送裝置之間進行基板的交接。當執行該基板交接時，收納架間的高度差由調整機構調整為第3與第4基板保持部間的高度差。藉此，便可將第3與第4基板保持部分別輕易地插入於2個收納架間。藉此，便可在複數層收納架與第2基板搬送裝置之間，順暢地進行複數基板交接。
如此，因為收納架間的高度差由調整機構進行調整，因此即使第1基板搬送裝置的第1與第2基板保持部間之高度差、及第2基板搬送裝置的第3與第4基板保持部間之高度差相異的情況下，亦可在複數層收納架、與第1及第2基板搬送裝置之間，同時進行複數基板的交接。結果，便可充分地縮短基板搬送時間。
(4)各層的收納架亦可包括有：在略水平面內依既定間隔配置的一組架部、以及設置於一組架部並支撐基板下面的複數支撐構件。
此情況，在各層收納架的架部之間形成空間。藉此，當在複數層收納架、與第1基板搬送裝置之間進行基板交接時，便可將第1與第2基板保持部更輕易地插入於架部間所形成的空間中。
再者，當在複數層收納架與第2基板搬送裝置之間進行基板交接時，便可將第3與第4基板保持部更輕易地插入於架部間所形成的空間中。
藉此，可更順暢地在複數層收納架與第1基板搬送裝置 之間、以及在複數層收納架與第2基板搬送裝置之間，進行複數基板的交接。
(5)根據本發明再另一態樣的基板處理裝置，係對基板施行處理；其具備有：對基板施行處理的處理區域、對處理區域進行基板搬入與搬出的搬出入區域、以及在處理區域與搬出入區域之間進行基板交接的交接部；而搬出入區域係包括有容器載置部與第1基板搬送裝置，該容器載置部係載置收納容器，該收納容器係具有將基板依略水平姿勢收納的複數層收納溝；該第1基板搬送裝置係在容器載置部所載置的收納容器與交接部之間，進行基板搬送；處理區域係包括有：對基板施行處理的處理部、以及在交接部與處理部之間進行基板搬送的第2基板搬送裝置；交接部係包括有具有將基板依略水平姿勢載置的複數層收納架之基板載置架，第1基板搬送裝置係具備有：第1與第2基板保持部、驅動機構、調整機構，而，該第1與第2基板保持部係上下相互設置，並將基板依略水平姿勢保持；該驅動機構係為了對收納容器與基板載置架進行基板的交接，而使第1與第2基板保持部進行移動並且朝略水平方向進退；該調整機構係調整第1與第2基板保持部間的高度差；而調整機構係在收納容器、與第1及第2基板保持部之間進行基板交接時，便將第1與第2基板保持部間的高度差調整為收納容器的收納溝間之高度差，而在基板載置架與第1及第2基板保持部之間進行基板交接時，便將第1與第2基板保持部間的高度差調整為基板載置架 的收納架間之高度差。
在該基板處理裝置中，於搬出入區域的容器載置部中載置收納容器。在收納容器的複數收納溝中依略水平姿勢收納基板。搬出入區域的第1基板搬送裝置係在容器載置部上的收納容器與交接部的基板載置架之間進行基板的搬送。在基板載置架的複數層收納架中，依略水平姿勢載置基板。
處理區域的第2基板搬送裝置係在交接部的基板載置架與處理部之間進行基板的搬送。藉此，在搬出入區域中經收納於收納容器中的基板，便由第1與第2基板搬送裝置搬送於處理部中並施行處理。又，經處理部處理過的基板便由第2與第1基板搬送裝置搬送於搬出入區域的收納容器中並加以收納。
第1基板搬送裝置係使用上下相互設置的第1與第2基板保持部，在與具有複數層收納溝的收納容器之間進行基板的交接。當執行該基板交接時，第1與第2基板保持部間的高度差由調整機構調整為收納容器的收納溝間之高度差。
藉此，藉由將第1與第2基板保持部利用驅動機構朝略水平方向前進，便可分別輕易地插入於收納容器的收納溝間。藉此，便可在第1及第2基板保持部與收納容器的收納溝之間順暢地進行複數基板的交接。
再者，第1基板搬送裝置係使用第1與第2基板保持部在具有複數層收納架的基板載置架之間進行基板的交 接。當進行該交接時，第1與第2基板保持部間的高度差由調整機構調整為基板載置架的收納架間之高度差。
藉此，藉由使第1與第2基板保持部由驅動機構朝略水平方向前進，而可分別輕易地插入於基板載置架的2個收納架間。藉此，便可在第1及第2基板保持部與基板載置架的收納架之間順暢地進行複數基板的交接。
如此，即使在收納容器的收納溝間之高度差與基板載置架的收納架間之高度差相異的情況下，第1基板搬送裝置的第1與第2基板保持部仍可對收納容器與基板載置架同時進行複數基板的交接。結果，可充分縮短基板的搬送時間，充分提升基板處理之處理量。
(6)處理部亦可包括有對基板施行洗淨的洗淨處理部。此情況下，基板由洗淨處理部洗淨。
(7)根據本發明再另一態樣的基板處理裝置，係對基板執行處理；其具備有：對基板施行處理的處理區域、對處理區域進行基板搬入與搬出的搬出入區域、以及在處理區域與搬出入區域之間進行基板交接的交接部；而搬出入區域係包括有容器載置部與第1基板搬送裝置，而該容器載置部係載置收納容器，該收納容器係具有將基板依略水平姿勢收納的複數層收納溝；該第1基板搬送裝置係具有上下相互設置的第1與第2基板保持部，且在容器載置部所載置的收納容器與交接部之間，進行基板搬送；處理區域係包括有：對基板施行處理的處理部、以及具有上下相互設置的第3與第4基板保持部，且在交接部與處理部之間 進行基板搬送的第2基板搬送裝置；交接部係包括有具有將基板依略水平姿勢載置的複數層收納架之基板載置架，基板載置架係具備有：將基板依略水平姿勢分別支撐的複數層收納架、以及調整收納架間之高度差的調整機構；調整機構係在與第1基板搬送裝置之間進行基板交接時，便將收納架間的高度差調整為第1與第2基板保持部間之高度差，而在與第2基板搬送裝置之間進行基板交接時，便將收納架間的高度差調整為第3與第4基板保持部間之高度差。
在該基板處理裝置中，於搬出入區域的容器載置部中載置收納容器。在收納容器的複數收納溝中依略水平姿勢收納基板。搬出入區域的第1基板搬送裝置係在容器載置部上的收納容器與交接部的基板載置架之間進行基板的搬送。在基板載置架的複數層收納架中依略水平姿勢載置基板。
處理區域的第2基板搬送裝置係在交接部的基板載置架與處理部之間進行基板的搬送。藉此，在搬出入區域中經收納於收納容器中的基板，係由第1與第2基板搬送裝置搬送於處理部中並施行處理。又，經處理部處理過的基板由第2與第1基板搬送裝置搬送於搬出入區域的收納容器中並加以收納。
第1基板搬送裝置係使用上下相互設置的第1與第2基板保持部在與具有複數層收納架的基板載置架之間進行基板的交接。當執行該基板交接時，收納架間的高度差由 調整機構調整為第1與第2基板保持部間的高度差。藉此，便可將第1與第2基板保持部分別輕易地插入於2個收納架間。藉由此方式，便可在複數層收納架與第1基板搬送裝置之間順暢地進行複數基板的交接。
再者，第2基板搬送裝置係使用上下相互設置的第3與第4基板保持部，在與具有複數層收納架的基板載置架之間進行基板的交接。當執行該基板交接時，收納架間的高度差由調整機構調整為第3與第4基板保持部間的高度差。藉此，便可將第3與第4基板保持部分別輕易地插入於2個收納架間。藉此，便可在複數層收納架與第2基板搬送裝置之間，順暢地進行複數基板的交接。
如此，因為可將收納架間的高度差利用調整機構進行調整，因此即使在第1基板搬送裝置的第1與第2基板保持部間之高度差、及第2基板搬送裝置的第3與第4基板保持部間之高度差相異的情況下，亦可在複數層收納架與第1及第2基板搬送裝置之間，同時進行複數基板的交接。
結果，可充分地縮短基板的搬送時間，充分地提升基板處理之處理量。
(8)處理部亦可包括有對基板施行洗淨的洗淨處理部。此情況下，基板由洗淨處理部施行洗淨。
針對本發明其一實施形態的基板搬送裝置、基板載置架及基板處理裝置進行說明。以下的說明中，所謂「基板」係指半導體晶圓、光罩用玻璃基板、液晶顯示裝置用玻璃 基板、電漿顯示器用玻璃基板、光碟用基板、磁碟用基板、光磁碟用基板等。
[1]第1實施形態
(1)基板處理裝置之構造
圖1(a)係本發明第1實施形態的基板處理裝置俯視圖，圖1(b)係圖1(a)基板處理裝置從箭頭X方向所觀看到的示意側視圖。此外，圖2係圖1(a)A-A線剖面示意圖。
如圖1(a)所示，基板處理裝置100係具有索引器區10與處理區11。索引器區10與處理區11係相互並排設置。
在索引器區10中設有：複數承載器載置台40、索引器機器人IR、及控制部4。在各承載器載置台40上載置將複數片基板W多層收納的承載器C。相關承載器C的詳細內容，容後述。
索引器機器人IR係構成可朝箭頭U(圖1(a))方向移動，並可圍繞鉛直軸旋轉且朝上下方向升降。在索引器機器人IR中，上下設有進行基板W交接用的手部IRH1、IRH2。手部IRH1、IRH2係保持基板W下面的周緣部與外周端部。相關索引器機器人IR的詳細內容，容後述。
控制部4係由含有CPU(中央運算處理裝置)的電腦等構成，對基板處理裝置100內的各部分進行控制。
如圖1(b)所示，在處理區11中設有：複數表面洗淨單元SS、及主機器人MR。本實施例中，4個表面洗淨單元SS係在處理區11其中一側面上下疊層配置，而另外4個表面洗淨單元SS則在處理區11另一側面上呈上下積層配 置。
主機器人MR係設置於位於處理區11其中一側面上的複數表面洗淨單元SS、與位於處理區11另一側面上的複數表面洗淨單元SS之間。主機器人MR係構成可圍繞鉛直軸旋轉且朝上下方向升降。
再者，在主機器人MR中上下配置有進行基板W交接用的手部MRH1、MRH2。手部MRH1、MRH2係保持基板W下面周緣部與外周端部。關於主機器人MR的詳細內容，容後述。
如圖2所示，在索引器區10與處理區11之間，上下設置有在索引器機器人IR與主機器人MR之間進行基板W交接用的基板載置部PASS1、PASS2。
基板載置部PASS1、PASS2均可將複數片基板W多層載置。上側的基板載置部PASS1係使用於當將基板W從處理區11搬送於索引器區10之時，而下側的基板載置部PASS2係使用於將基板W從索引器區10搬送於處理區11之時。相關基板載置部PASS1、PASS2的詳細內容，容後述。
(2)基板處理裝置之動作概要
其次，參照圖1與圖2，針對基板處理裝置100的動作概要進行說明。另外，以下所說明基板處理裝置100的各構成元件之動作，均由圖1控制部4所控制。
首先，索引器機器人IR係從在承載器載置台40上所載置的承載器C之一，使用上下設置的2個手部IRH1、IRH2取出2片未處理基板W。索引器機器人IR係在朝箭頭U 方向移動，並圍繞鉛直軸轉動，而將2片未處理基板W載置於基板載置部PASS2上。
主機器人MR係圍繞鉛直軸轉動並進行升降，並使用下側的手部MRH2從基板載置部PASS2中收取基板W。接著，主機器人MR便由上側的手部MRH1從任一表面洗淨單元SS中取出經表面洗淨處理後的基板W，並將手部MRH2上所保持的基板W搬入於該表面洗淨單元SS中。然後，主機器人MR再度圍繞鉛直軸轉動並進行升降，並將上側手部MRH1所保持的基板W載置於基板載置部PASS1上。
索引器機器人IR係從基板載置部PASS2中，使用2個手部IRH1、IRH2取出2片經處理過的基板W。索引器機器人IR便朝箭頭U方向移動，並圍繞鉛直軸轉動，並將2片經處理過的基板W收納於承載器載置台40上所載置的承載器C之一。
本實施形態的基板處理裝置100中，連續重複實施此種索引器機器人IR與主機器人MR對基板W之搬送動作。
(3)承載器與基板載置部之構成
圖3係圖1承載器C與基板載置部PASS1、PASS2的構造說明縱剖圖。
圖3(a)所示係圖1承載器C的縱剖圖。如圖3(a)所示，承載器C係具有箱型形狀，且其中一面開口(開口部C1)。
在朝鉛直方向延伸的承載器C內面，形成有沿水平方向延伸的複數基板收納溝C2。
在各基板收納溝C2中各一片地收納基板W。上下鄰接 之基板收納溝C2間的間隔GA，係設定為例如10mm左右。此情況下，在承載器C內依約10mm的間隔收納基板W。藉由縮小基板收納溝C2間的間隔GA，承載器C可收納多數的基板W。
圖3(b)所示係圖1基板載置部PASS1、PASS2的縱剖圖。如圖3(b)所示，基板載置部PASS1、PASS2係具有複數支撐板51由複數支撐柱52多層疊層的構造。
在支撐板51上設有支撐基板W下面的複數支撐銷PN。當在索引器機器人IR與主機器人MR之間執行基板W交接時，基板W先暫時載置於基板載置部PASS1、PASS2的支撐銷PN上。該基板載置部PASS1、PASS2中，上下鄰接的支撐板51間之間隔GC係例如45mm左右。此情況，基板載置部PASS1、PASS2中係將基板W依約45mm的間隔載置。
本實施形態中，基板載置部PASS1、PASS2之上下鄰接的支撐板51間之間隔GC，係設定為大於承載器C的基板收納溝C2間之間隔GA。
在基板載置部PASS1、PASS2中設置有就每個支撐板51檢測有無基板W的光學式感測器(未圖示)。藉此，便可執行基板載置部PASS1、PASS2中是否有基板W載置之判定。
(4)索引器機器人之構成
接著，針對索引器機器人IR的詳細構造進行說明。圖4係索引器機器人IR的側視圖，圖5係索引器機器人IR的俯視圖。
如圖4與圖5所示，索引器機器人IR係具備有：搬送滑 軌部210、移動支撐柱220、升降支撐部230及基座部240。
搬送滑軌部210係安裝於索引器區10的地面上。在搬送滑軌部210上安裝有朝鉛直方向延伸的移動支撐柱220。在移動支撐柱220上安裝有朝水平方向延伸的升降支撐部230一端。在升降支撐部230另一端安裝有基座部240。
在朝水平方向延伸的搬送滑軌部210上設有例如由滾珠螺桿與馬達等構成的水平移動機構211。利用水平移動機構211，移動支撐柱220便沿搬送滑軌部210朝水平方向移動(箭頭MV1)。
在移動支撐柱220中設有例如由滾珠螺桿與馬達等構成的鉛直移動機構221。利用鉛直移動機構221，升降支撐部230便沿移動支撐柱220朝鉛直方向進行移動(箭頭MV2)。藉此，基座部240便可朝水平方向與鉛直方向移動。
在基座部240上旋轉平台250被設成可對基座部240進行旋轉。旋轉平台250係由基座部240內部所設置的旋轉機構241旋轉(箭頭MV3)。旋轉機構241係例如由馬達構成。
在旋轉平台250中立設有升降軸260。又，在旋轉平台250上經由多關節型機械臂IAM1連接手部IRH1，並經由升降軸260與多關節型機械臂IAM2連接手部IRH2。
多關節型機械臂IAM1、IAM2係由未圖示驅動機構分別獨立驅動，俾使手部IRH1、IRH2分別在維持一定姿勢的情況下朝水平方向進退(箭頭MV4)。
手部IRH1係對旋轉平台250維持一定高度設置，手部IRH1係位於較手部IRH2之更上方。
在升降軸260內部設有滾珠螺桿261。滾珠螺桿261連接於在旋轉平台250內部所設置之馬達251。藉由馬達251之動作，滾珠螺桿261便旋轉，而於升降軸260上所安裝的多關節型機械臂IAM2便朝鉛直方向移動(箭頭MV5)。
藉此，手部IRH1與手部IRH2間之高度差便在既定範圍內變化。圖4的例子中，多關節型機械臂IAM2移動至升降軸260最高位置處時，手部IRH1與手部IRH2間之高度差由箭頭HG1表示。此外，當多關節型機械臂IAM2移動至升降軸260最低位置處時，手部IRH1與手部IRH2間之高度差由箭頭HG2表示。
由箭頭HG1表示的手部IRH1與手部IRH2間之高度差，係設定成等於例如圖3(a)中之承載器C的基板收納溝C2間之間隔GA，而由箭頭HG2所表示的手部IRH1與手部IRH2間之高度差，係設計呈等於例如圖3(b)中之基板載置部PASS1、PASS2的支撐板51間之間隔GC狀態。
如圖5所示，手部IRH1、IRH2係具有相同的形狀，分別形成略U狀。手部IRH1係具有大致平行延伸的2支爪部IH11，而手部IRH2係具有大致平行延伸的2支爪部IH12。
再者，在手部IRH1、IRH2上分別安裝有複數支撐銷271。本實施形態中，沿手部IRH1、IRH2上面所載置的基板W外周大致均等地分別安裝有4根支撐銷271。利用該 4根支撐銷271保持基板W下面的周緣部與外周端部。
手部IRH1、IRH2係具有例如4mm左右的厚度。藉此，手部IRH1、IRH2便可插入於由圖3(a)承載器C收納的複數基板W間。
上述水平移動機構211、鉛直移動機構221、旋轉機構241及馬達251的動作，均由圖1控制部4所控制。
(5)主機器人之構造
其次，針對主機器人MR的詳細構造進行說明。圖6(a)係主機器人MR之側視圖，圖6(b)係主機器人MR之俯視圖。
如圖6(a)與圖6(b)所示，主機器人MR係具備有基座部21，並設有可對基座部21進行升降且轉動的升降轉動部22。於升降轉動部22經由多關節型機械臂AM1連接有手部MRH1，並經由多關節型機械臂AM2連接有手部MRH2。
升降轉動部22係由基座部21內所設置的升降驅動機構25朝上下方向進行升降，同時由基座部21內所設置的轉動驅動機構26圍繞鉛直軸進行轉動。
多關節型機械臂AM1、AM2分別由未圖示的驅動機構獨立驅動，俾在分別將手部MRH1、MRH2維持一定姿勢下，朝水平方向進退。
手部MRH1、MRH2分別係相對於升降轉動部22設置於一定的高度，手部MRH1係位於較MRH2靠上方處。手部MRH1與手部MRH2間的高度差M1(圖6(a))維持一定。
另外，手部MRH1與手部MRH2間之高度差M1，亦可設 定為大致等於例如圖3(b)所示基板載置部PASS1、PASS2中朝上下相鄰接的支撐板51間之間隔GC。
手部MRH1、MRH2係具有相同的形狀，分別形成略U狀。手部MRH1係具有大致朝平行延伸的2支爪部H11，而手部MRH2係具有大致朝平行延伸的2支爪部H12。且，在手部MRH1、MRH2上將分別安裝著複數支撐銷23。
本實施形態中，沿手部MRH1、MRH2上面所載置的基板W外周大致均等地安裝有4根支撐銷23。藉由該4根支撐銷23保持基板W下面的周緣部與外周端部。
手部MRH1、MRH2係形成較索引器機器人IR的手部IRH1、IRH2厚，例如具有7mm左右的厚度。藉此，手部MRH1、MRH2便具有比索引器機器人IR的手部IRH1、IRH2更高的剛性。
再者，圖3(b)基板載置部PASS1、PASS2中，依可輕易地將主機器人MR的手部MRH1、MRH2插入於支撐板51與基板W間之方式，設定支撐銷PN的高度。
(6)表面洗淨單元之詳細內容
其次，針對圖1所示表面洗淨單元SS進行說明。圖7係表面洗淨單元SS的構造說明圖。圖7所示表面洗淨單元SS中係執行使用毛刷之基板W洗淨處理(以下稱「洗刷洗淨處理」)。
首先，使用圖7，針對表面洗淨單元SS的詳細內容進行說明。如圖7所示，表面洗淨單元SS係具備有將基板W保持水平並使基板W圍繞通過基板W中心的鉛直軸旋轉 之旋轉夾具61。旋轉夾具61係固定於由夾具旋轉驅動機構62旋轉的旋轉軸63上端。
如上述，對表面洗淨單元SS搬入表面朝上方之狀態的基板W。當執行洗刷洗淨處理的情況時，便由旋轉夾具61吸附保持基板W之背面。
在旋轉夾具61外邊設有馬達64。於馬達64連接有轉動軸65。於轉動軸65朝水平方向延伸連結有機械臂66，在機械臂66前端設有略圓筒形狀毛刷洗淨具70。
再者，在旋轉夾具61上方設置有朝由旋轉夾具61所保持的基板W表面供應洗淨液或沖洗液(純水)的噴液噴嘴71。
於噴液噴嘴71連接有供應管72，經由該供應管72選擇性地對噴液噴嘴71供應洗淨液及沖洗液。
在洗刷洗淨處理時，馬達64使轉動軸65旋轉。藉此，機械臂66在水平面內轉動，毛刷洗淨具70以轉動軸65為中心，在基板W外邊位置與基板W的中心上方位置之間進行移動。於馬達64中設有未圖示的升降機構。升降機構係藉由使轉動軸65上升與下降，而在基板W的外邊位置、及基板W的中心上方位置處使毛刷洗淨具70下降與上升。
當開始洗刷洗淨處理時，表面朝上方狀態的基板W由旋轉夾具61旋轉。又，經由供應管72對噴液噴嘴71供應洗淨液或沖洗液。藉此，便對旋轉之基板W表面供應洗淨液或沖洗液。在該狀態下，毛刷洗淨具70由轉動軸65與 機械臂66進行搖擺與升降動作。藉此，便對基板W表面施行洗刷洗淨處理。另外，在表面洗淨單元SS中，因為使用吸附式旋轉夾具61，因此亦可同時對基板W的周緣部與外周端部施行洗淨。
(7)效果
如使用圖4所說明，索引器機器人IR的手部IRH1與手部IRH2間之高度差，可在既定範圍內進行變化。
因此，索引器機器人IR係當從承載器C中取出2片基板W時，便可根據上下相鄰接的基板收納溝C2間之間隔GA，縮小調整手部IRH1與手部IRH2間之高度差(例如10mm左右)。
藉此，索引器機器人IR便將手部IRH1與手部IRH2插入於承載器C內所收納的複數基板W間，可輕易地將上下相鄰接收納的2片基板W取出。
又，索引器機器人IR係在將所取出的2片基板W搬送於基板載置部PASS2的期間，可根據上下相鄰接的支撐板51間之間隔GC，變大調整手部IRH1與手部IRH2間之高度差(例如45mm左右)。
藉此，索引器機器人IR便可輕易地將手部IRH1與手部IRH2所保持的2片基板W載置於基板載置部PASS2中上下相鄰接的支撐板51上。
更進一步，索引器機器人IR係即使在將2片基板W從基板載置部PASS1朝承載器C搬送時，亦同樣地調整手部IRH1與手部IRH2間之高度差。
藉此，在承載器C與基板載置部PASS1、PASS2之間，便可每次進行2片基板W的搬送。結果，可縮短承載器C與基板載置部PASS1、PASS2間的基板W搬送時間，實現基板處理裝置100的處理量提升。
另外，在索引器機器人IR中，由於多關節型機械臂IAM1、IAM2由未圖示之驅動機構分別獨立驅動，因此亦可在承載器C與基板載置部PASS1、PASS2之間，每次搬送1片基板W。
(8)變化例
本實施形態中，表面洗淨單元SS係使用毛刷對基板W表面施行洗淨，惟並不僅侷限於此，亦可使用藥液對基板W的表面施行洗淨。
又，主機器人MR係當保持未處理基板W時便使用手部MRH2，而當保持經洗刷洗淨處理過的基板W時便使用手部MRH1，但是亦可相反的，當保持未處理基板W時便使用手部MRH1，而當保持經洗刷洗淨處理過的基板W時便使用手部MRH2。
更進一步，上述中，索引器機器人IR與主機器人MR，係使用藉由關節之動作而直線式進行手部進退動作的多關節型搬送機器人，惟並不僅侷限於此，亦可使用使手部對基板W進行直線式滑動進退動作的直動型搬送機器人。
本實施形態中，當手部MRH1與手部MRH2間之高度差M1(圖6(a))被設定為大致等於圖3(b)所示基板載置部PASS1、PASS2中上下相鄰接的支撐板51間之間隔GC時， 主機器人MR亦可對基板載置部PASS1、PASS2進行2片基板W的交接。
此情況，主機器人MR便可將手部MRH1與手部MRH2，插入於基板載置部PASS1、PASS2中相鄰接的支撐板51間，可輕易地取出上下相鄰接載置的2片基板W。此外，可將由手部MRH1與手部MRH2所保持的2片基板W，載置於基板載置部PASS1、PASS2中相鄰接的支撐板51上。
藉此，便可縮短基板載置部PASS1、PASS2、與表面洗淨單元SS間的基板W搬送時間。
在本實施形態中，索引器機器人IR中所設置的手部IRH1、IRH2係2支，但索引器機器人IR中所設置的手部數量可2支以上，並無特別限制，例如可為3支，亦可為4支。
[2]第2實施形態
本發明第2實施形態的基板處理裝置，在下述構成中不同於第1實施形態的基板處理裝置100。
(1)基板載置部之構造
本實施形態的基板處理裝置所使用之基板載置部，具有以下的構造。圖8係第2實施形態基板處理裝置中所使用之基板載置部的構造說明圖。
圖8(a)所示係本實施形態基板載置部PASS1、PASS2的俯視圖，圖8(b)所示係圖8(a)的B-B線剖面。
如圖8(a)與圖8(b)所示，本實施形態的基板載置部PASS1、PASS2係具備有在水平面對向配置的複數組支撐 板51P。各組支撐板51P係由複數壓缸510而多層疊層。在各組支撐板51P上將設置支撐著基板W下面的複數支撐銷PN。
在各組的2片支撐板51P間，可插入索引器機器人IR的手部IRH1、IRH2、及主機器人MR的手部MRH1、MRH2。藉此，由索引器機器人IR與主機器人MR搬送的基板W，便暫時載置於各組支撐板51P上所設置的複數支撐銷PN上。
上述壓缸510係使用例如氣壓缸或油壓缸等。各壓缸510均連接於壓缸同步機構500。壓缸同步機構500係由控制部4控制，在使複數壓缸510同步下，將流體(例如空氣或油等)供應於複數壓缸510。
藉此，各壓缸510便配合來自壓缸同步機構500的流體(例如空氣或油等)供應量，而朝鉛直方向進行伸縮動作。藉此，本實施形態的基板載置部PASS1、PASS2中，上下相鄰接的支撐板51P間之間隔GC便在既定範圍內變化。
圖9係圖8基板載置部PASS1、PASS2中上下相鄰接支撐板51P間的間隔GC變化情況時之一例圖。
如圖9所示，上下相鄰接支撐板51P間之間隔GC，例如從虛線所示之最大間隔HG3變化至實線所示之最小間隔HG4。
支撐板51P間之最大間隔HG3係被設定為等於例如圖6(a)主機器人MR的手部MRH1與手部MRH2間之高度差M1。此外，支撐板51P間的最小間隔HG4係被設定為等於 例如圖3(a)間隔GA，例如10mm左右。
另外，支撐板51P間的最大間隔HG3亦可被設定為等於例如圖3(b)間隔GC，例如45mm左右。
本實施形態的基板載置部PASS1、PASS2中，亦是對應各組支撐板51P，設置有檢測有無基板W的光學式感測器(未圖示)。
(2)索引器機器人之構造
圖10係第2實施形態的基板處理裝置中所使用索引器機器人IR之側視圖。如圖10所示，於本實施形態的索引器機器人IR並未設置有圖4馬達251、升降軸260及滾珠螺桿261。
本實施形態的索引器機器人IR中，在旋轉平台250上經由多關節型機械臂IAM1連接有手部IRH1，並經由多關節型機械臂IAM2連接有手部IRH2。
藉此，多關節型機械臂IAM1、IAM2便不相對於旋轉平台250朝鉛直方向移動，而是被設定為相對於旋轉平台250成一定高度。藉此，手部IRH1與手部IRH2間之高度差N1(圖10)便維持一定。
此處，手部IRH1與手部IRH2間之高度差N1，係被設定為等於例如圖3(a)間隔GA，例如10mm左右。
(3)效果
本實施形態中，索引器機器人IR的手部IRH1與手部IRH2間之高度差N1(圖10)，被設定為等於承載器C內上下相鄰接基板收納溝C2間之間隔GA。
藉此，索引器機器人IR係當從承載器C中取出2片基板W時，便將手部IRH1與手部IRH2插入於承載器C內所收納的複數基板W間，可輕易地將上下鄰接收納的2片基板W取出。
此處，如使用圖8與圖9所說明，基板載置部PASS1、PASS2之上下相鄰接的支撐板51P間之間隔GC，在既定範圍內變化。
因此，基板載置部PASS1、PASS2係當例如由索引器機器人IR進行2片基板W的搬送時，便可將上下相鄰接支撐板51間的間隔GC調整為最小間隔HG4。
如上述，支撐板51P間的最小間隔HG4係等於承載器C內上下相鄰接基板收納溝C2間的間隔GA。藉此，因為索引器機器人IR之手部IRH1與手部IRH2間之高度差N1等於基板收納溝C2間的間隔GA，因而便可將由手部IRH1與手部IRH2所保持的2片基板W輕易地載置於基板載置部PASS2的支撐板51P上。
再者，索引器機器人IR係藉由使用手部IRH1與手部IRH2，便可輕易地將在基板載置部PASS1的支撐板51P上所載置的2片基板W取出。
藉此，本實施形態的基板處理裝置100亦可在承載器C、與基板載置部PASS1、PASS2之間，每次進行2片基板W的搬送。結果，實現基板處理裝置100的處理量提升。
基板載置部PASS1、PASS2係當例如由主機器人MR將基板W搬送於表面洗淨單元SS時，便可將上下相鄰接支撐 板51間的間隔GC調整為最大間隔HG3。
支撐板51P間的最大間隔HG3係充分大於在承載器C內上下相鄰接基板收納溝C2間的間隔GA，且大致等於主機器人MR的手部MRH1與手部MRH2間之高度差M1。
藉此，具有厚度較索引器機器人IR之手部IRH1、IRH2厚的主機器人MR之手部MRH1、MRH2，便可輕易地插入於基板載置部PASS1、PASS2之支撐板51P上所載置的複數基板W間。藉此，便可確實地執行主機器人MR與基板載置部PASS1、PASS2間之基板W交接。
[3]申請專利範圍各構成元件、與實施形態各元件之對應關係
以下，針對申請專利範圍各構成元件、與實施形態各元件的對應例進行說明，惟本發明並不僅侷限於下述例子。
上述實施形態中，承載器C係收納容器的例子，支撐板51、51P係收納架的例子，基板載置部PASS1、PASS2係基板載置架與交接部的例子，索引器機器人IR係基板搬送裝置與第1基板搬送裝置的例子。
再者，搬送滑軌部210、水平移動機構211、移動支撐柱220、鉛直移動機構221、升降支撐部230、基座部240、旋轉機構241、旋轉平台250、及多關節型機械臂IAM1、IAM2係驅動機構的例子。
再者，手部IRH1係第1基板保持部的例子，手部IRH2係第2基板保持部的例子，馬達251、升降軸260及滾珠螺桿261、以及壓缸同步機構500與壓缸510係調整機構 的例子。
再者，手部MRH1係第3保持部的例子，手部MRH2係第4保持部的例子，主機器人MR係第2基板搬送裝置的例子，支撐銷PN係支撐構件的例子，處理區11係處理區域的例子，索引器區10係搬出入區域的例子，承載器載置台40係容器載置部的例子，表面洗淨單元SS係處理部及洗淨處理部的例子。
另外，申請專利範圍的各構成元件，亦可使用具有申請專利範圍所記載構造或功能的其他各種要件。
4‧‧‧控制部
10‧‧‧索引器區
11‧‧‧處理區
21、240‧‧‧基座部
22‧‧‧升降轉動部
23、271、PN‧‧‧支撐銷
25‧‧‧升降驅動機構
26‧‧‧轉動驅動機構
40‧‧‧承載器載置台
51、51P‧‧‧支撐板
52‧‧‧支撐柱
61‧‧‧旋轉夾具
62‧‧‧夾具旋轉驅動機構
63‧‧‧旋轉軸
64、251‧‧‧馬達
65‧‧‧轉動軸
66‧‧‧機械臂
70‧‧‧毛刷洗淨具
71‧‧‧噴液噴嘴
72‧‧‧供應管
100、900‧‧‧基板處理裝置
210‧‧‧搬送滑軌部
211‧‧‧水平移動機構
220‧‧‧移動支撐柱
221‧‧‧鉛直移動機構
230‧‧‧升降支撐部
241‧‧‧旋轉機構
250‧‧‧旋轉平台
260‧‧‧升降軸
261‧‧‧滾珠螺桿
500‧‧‧壓缸同步機構
510‧‧‧壓缸
910‧‧‧索引器
911‧‧‧索引器搬送路徑
912、IR‧‧‧索引器機器人
913‧‧‧晶盒載置部
920‧‧‧處理模組
922‧‧‧主搬送機器人
930A、930B‧‧‧單元部
933、934‧‧‧處理室
C‧‧‧承載器
C1‧‧‧開口部
C2‧‧‧基板收納溝
GA、GC‧‧‧間隔
HG1、HG2‧‧‧高度差
HG3‧‧‧最大間隔
HG4‧‧‧最小間隔
AM1、AM2、IAM1、IAM2‧‧‧多關節型機械臂
H11、H12、IH11、IH12‧‧‧爪部
IRH1、IRH2、MRH1、MRH2‧‧‧手部
M1‧‧‧高度差
PASS1、PASS2‧‧‧基板載置部
SS‧‧‧表面洗淨單元
W‧‧‧基板
圖1(a)、(b)為第1實施形態的基板處理裝置俯視圖與示意側視圖。
圖2為圖1(a)中之A-A線剖面示意圖。
圖3(a)、(b)為圖1承載器與基板載置部構造之說明縱剖圖。
圖4為索引器機器人的側視圖。
圖5為索引器機器人的俯視圖。
圖6(a)、(b)為主機器人的側視圖與俯視圖。
圖7為表面洗淨單元的構造說明圖。
圖8(a)、(b)為第2實施形態的基板處理裝置中所使用基板載置部的構造說明圖。
圖9為圖8基板載置部中上下相鄰接支撐板間之間隔產生變化之情況時的一例圖。
圖10為第2實施形態的基板處理裝置中所使用索引器 機器人之側視圖。
圖11為日本專利特開平10-150090號所記載的基板處理裝置俯視圖。
210‧‧‧搬送滑軌部
211‧‧‧水平移動機構
220‧‧‧移動支撐柱
221‧‧‧鉛直移動機構
230‧‧‧升降支撐部
240‧‧‧基座部
241‧‧‧旋轉機構
250‧‧‧旋轉平台
251‧‧‧馬達
260‧‧‧升降軸
261‧‧‧滾珠螺桿
HG1‧‧‧高度差
HG2‧‧‧高度差
IAM1‧‧‧多關節型機械臂
IAM2‧‧‧多關節型機械臂
IR‧‧‧索引器機器人
IRH1‧‧‧手部
IRH2‧‧‧手部

Claims (11)

  1. 一種基板處理裝置，係對基板施行處理者；其具備有：處理區域，對基板施行處理；搬出入區域，對上述處理區域進行基板搬入與搬出；交接部，在上述處理區域與上述搬出入區域之間進行基板交接；及控制部；上述搬出入區域係包括有：容器載置部，載置收納容器，該收納容器係具有將基板依略水平姿勢收納之複數層收納溝；以及第1基板搬送裝置，在上述容器載置部所載置的收納容器與上述交接部之間，進行基板搬送；上述處理區域係包括有：處理部，對基板施行處理；以及第2基板搬送裝置，在上述交接部與上述處理部之間進行基板搬送；上述交接部係包含基板載置架，該基板載置架具有依略水平姿勢載置基板之複數層收納架，並構成為利用上述第1基板搬送裝置可自上述搬出入區域進行基板交接，且利用上述第2基板搬送裝置可自上述處理區域進行基板交接；上述第1基板搬送裝置係具備有：第1及第2基板保持部，上下相互設置，將基板依略水平姿勢保持； 驅動機構，為了對上述收納容器與上述基板載置架進行基板交接，而使上述第1及第2基板保持部進行移動並且朝略水平方向進退；以及調整機構，用以調整上述第1及上述第2基板保持部間的高度差；上述第2基板搬送裝置係包括相互上下設置，並將基板依略水平姿勢保持之第3及第4基板保持部；上述控制部係進行如下控制：在上述收納容器與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述調整機構，將上述第1及第2基板保持部間的高度差調整為上述收納容器的上述複數層收納溝間之高度差，並藉由控制上述驅動機構，將收納於上述複數層收納溝之基板利用上述第1及第2基板保持部分別進行收取，或者，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納溝；在上述基板載置架與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，利用控制上述調整機構，將上述第1及第2基板保持部間的高度差調整為上述基板載置架的上述複數層收納架間之高度差，並藉由控制上述驅動機構，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納架，或者，將載置於上述複數層收納架之基板，藉由上述第1及第2基板保持部分別進行收取；在上述基板載置架與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將收納於 上述基板載置架的上述複數層收納架之複數基板的任一片，藉由上述第3及第4基板保持部中之一方進行收取，將保持在上述第3及第4基板保持部中另一方之基板，移至上述基板載置架的上述複數層收納架之任一者；在上述處理部與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將上述處理部內的基板利用上述第3及第4基板保持部中之一方收取，將保持在上述第3及第4基板保持部中另一方之基板移至上述處理部；上述驅動機構係為了對上述收納容器及上述基板載置架進行基板的交接，而使上述第1及第2基板保持部朝略水平方向個別地進退。
  2. 一種基板處理裝置，係對基板施行處理者；其具備有：處理區域，對基板施行處理；搬出入區域，對上述處理區域進行基板搬入與搬出；交接部，在上述處理區域與上述搬出入區域之間進行基板交接；及控制部；上述搬出入區域係包含有：容器載置部，載置收納容器，該收納容器係具有將基板依略水平姿勢收納之複數層收納溝；以及第1基板搬送裝置，在上述容器載置部所載置的收納容器與上述交接部之間，進行基板搬送；上述處理區域係包括有： 處理部，對基板施行處理；以及第2基板搬送裝置，在上述交接部與上述處理部之間進行基板搬送；上述交接部係包含基板載置架，該基板載置架具有依略水平姿勢載置基板之複數層收納架，並構成為利用上述第1基板搬送裝置可自上述搬出入區域進行基板交接，且利用上述第2基板搬送裝置可自上述處理區域進行基板交接；上述第1基板搬送裝置係具備有：第1及第2基板保持部，上下相互設置，將基板依略水平姿勢保持；驅動機構，為了對上述收納容器與上述基板載置架進行基板交接，而使上述第1及第2基板保持部進行移動並且朝略水平方向進退；以及調整機構，用以調整上述第1及上述第2基板保持部間的高度差；上述第2基板搬送裝置係具備相互上下設置，並將基板以略水平姿勢保持之第3及第4基板保持部；上述控制部係進行如下控制：當上述第1及第2基板保持部在上述收納容器與上述基板載置架之間移動時，藉由控制上述調整機構，而在上述收納容器的上述複數層收納溝間之高度差、與上述基板載置架的上述複數層收納架間之高度差之間，調整上述第1及第2基板保持部間的高度差； 在上述收納容器與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，利用控制上述驅動機構，將收納在上述複數層收納溝之基板，分別藉由上述第1及第2基板保持部進行收取，或者，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納溝；在上述基板載置架與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，利用控制上述驅動機構，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納架，或者，將載置於上述複數層收納架之基板，藉由上述第1及第2基板保持部分別進行收取；在上述基板載置架與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將收納於上述基板載置架的上述複數層收納架之複數基板的任一片，藉由上述第3及第4基板保持部中之一方進行收取，將保持在上述第3及第4基板保持部中另一方之基板，移至上述基板載置架的上述複數層收納架之任一者；在上述處理部與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將上述處理部內的基板利用上述第3及第4基板保持部中之一方收取，將保持在上述第3及第4基板保持部中另一方之基板移至上述處理部。
  3. 一種基板處理裝置，係對基板施行處理者；其具備有：處理區域，對基板施行處理；搬出入區域，對上述處理區域進行基板搬入與搬出； 交接部，在上述處理區域與上述搬出入區域之間進行基板交接；及控制部；上述搬出入區域係包括有：容器載置部，載置收納容器，該收納容器係具有將基板依略水平姿勢收納之複數層收納溝；以及第1基板搬送裝置，在上述容器載置部所載置的收納容器與上述交接部之間，進行基板搬送；上述處理區域係包括有：處理部，對基板施行處理；以及第2基板搬送裝置，在上述交接部與上述處理部之間進行基板搬送；上述交接部係包含基板載置架，該基板載置架具有依略水平姿勢載置基板之複數層收納架，並構成為利用上述第1基板搬送裝置可自上述搬出入區域進行基板交接，且利用上述第2基板搬送裝置可自上述處理區域進行基板交接；上述第1基板搬送裝置係具備有：第1及第2基板保持部，上下相互設置，將基板依略水平姿勢保持；驅動機構，為了對上述收納容器與上述基板載置架進行基板交接，而使上述第1及第2基板保持部進行移動並且朝略水平方向進退；以及調整機構，用以調整上述第1及上述第2基板保持部間 的高度差；上述第2基板搬送裝置係包括相互上下設置，並將基板依略水平姿勢保持之第3及第4基板保持部；上述基板載置架的上述複數層收納架間的高度差，係與上述第3及第4基板保持部間的高度差相等；上述控制部係進行如下控制：在上述收納容器與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述調整機構，將上述第1及第2基板保持部間的高度差調整為上述收納容器的上述複數層收納溝間之高度差，並藉由控制上述驅動機構，將收納於上述複數層收納溝之基板，利用上述第1及第2基板保持部分別進行收取，或者，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納溝；在上述基板載置架與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，利用控制上述調整機構，將上述第1及第2基板保持部間的高度差，調整為上述基板載置架的上述複數層收納架間之高度差，並藉由控制上述驅動機構，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納架，或者，將載置於上述複數層收納架之基板，藉由上述第1及第2基板保持部分別進行收取；在上述基板載置架與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將載置於上述複數層收納架之基板，分別藉由上述第3及第4基板保持部進行收取，或者，將分別保持在上述第3及第4基 板保持部之基板，移至上述複數層收納架；在上述處理部與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將上述處理部內的基板利用上述第3或第4基板保持部收取，將保持在上述第3或第4基板保持部之基板移至上述處理部；上述驅動機構係為了對上述收納容器及上述基板載置架進行基板的交接，而使上述第1及第2基板保持部朝略水平方向個別地進退。
  4. 一種基板處理裝置，係對基板施行處理者；其具備有：處理區域，對基板施行處理；搬出入區域，對上述處理區域進行基板搬入與搬出；交接部，在上述處理區域與上述搬出入區域間進行基板交接；以及控制部；上述搬出入區域係包括有：容器載置部，載置收納容器，該收納容器係具有將基板依略水平姿勢收納之複數層收納溝；以及第1基板搬送裝置，在上述容器載置部所載置的收納容器與上述交接部之間，進行基板搬送；上述處理區域係包括有：處理部，對基板施行處理；以及第2基板搬送裝置，在上述交接部與上述處理部之間進行基板搬送；上述交接部係包含基板載置架，該基板載置架具有依略 水平姿勢載置基板之複數層收納架，並構成為利用上述第1基板搬送裝置可自上述搬出入區域進行基板交接，且利用上述第2基板搬送裝置可自上述處理區域進行基板交接；上述第1基板搬送裝置係具備有：第1及第2基板保持部，上下相互設置，將基板依略水平姿勢保持；驅動機構，為了對上述收納容器與上述基板載置架進行基板交接，而使上述第1及第2基板保持部進行移動並且朝略水平方向進退；以及調整機構，用以調整上述第1及上述第2基板保持部間的高度差；上述第2基板搬送裝置係包括相互上下設置，並將基板依略水平姿勢保持之第3及第4基板保持部；上述基板載置架的上述複數層收納架間的高度差，係與上述第3及第4基板保持部間的高度差相等；上述控制部係進行如下控制：當上述第1及第2基板保持部在上述收納容器與上述基板載置架之間移動時，藉由控制上述調整機構，而在上述收納容器的上述複數層收納溝間之高度差、與上述基板載置架的上述複數層收納架間之高度差之間，調整上述第1及第2基板保持部間的高度差；在上述收納容器與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，利用控制上述驅動機構，將收納在上述複數層 收納溝之基板，分別藉由上述第1及第2基板保持部進行收取，或者，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納溝；在上述基板載置架與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，利用控制上述驅動機構，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納架，或者，將載置於上述複數層收納架之基板，藉由上述第1及第2基板保持部分別進行收取；在上述基板載置架與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將載置於上述複數層收納架之基板，分別藉由上述第3及第4基板保持部進行收取，或者，將分別保持在上述第3及第4基板保持部之基板，移至上述複數層收納架；在上述處理部與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將上述處理部內的基板，利用上述第3或第4基板保持部收取，將保持在上述第3或第4基板保持部之基板移至上述處理部。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之基板處理裝置，其中，上述第2基板搬送裝置的上述第3及第4基板保持部，係構成為可朝略水平方向個別進退。
  6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之基板處理裝置，其中，上述處理部係包括有對基板施行洗淨的洗淨處理部。
  7. 一種基板處理裝置，係對基板施行處理者；其具備有： 處理區域，對基板施行處理；搬出入區域，對上述處理區域進行基板搬入與搬出；交接部，在上述處理區域與上述搬出入區域間進行基板交接；以及控制部；上述搬出入區域係包括有：容器載置部，載置收納容器，該收納容器係具有將基板依略水平姿勢收納之複數層收納溝；以及第1基板搬送裝置，具有上下相互設置的第1及第2基板保持部，且在上述容器載置部所載置的收納容器與上述交接部之間進行基板搬送；上述處理區域係包括有：處理部，對基板施行處理；以及第2基板搬送裝置，具有上下相互設置的第3及第4基板保持部，用以在上述交接部與上述處理部之間進行基板搬送；上述交接部係包含基板載置架，該基板載置架具有依略水平姿勢載置基板之複數層收納架，並構成為利用上述第1基板搬送裝置可自上述搬出入區域進行基板交接，且利用上述第2基板搬送裝置可自上述處理區域進行基板交接；上述基板載置架係具備用以調整上述複數層收納架間的高度差之調整機構；上述第3及第4基板保持部間的高度差，係較上述收納 容器的上述複數層收納溝間的高度差更大；上述控制部係進行如下控制：在上述收納容器與上述第1及第2基板保持部之間進行基板交接時，藉由控制上述第1基板搬送裝置，將收納於上述複數層收納溝之基板，分別利用上述第1及第2基板保持部收取，或者，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納溝；在上述基板載置架與上述第1及第2基板保持部間進行基板交接時，利用控制上述調整機構，將上述複數層收納架間之高度差，調整為上述第1及第2基板保持部間的高度差，並藉由控制上述第1基板搬送裝置，將收納在上述複數層收納架之基板分別利用上述第1及第2基板保持部收取，或者，將分別保持在上述第1及第2基板保持部之基板移至上述複數層收納架；在上述基板載置架與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述調整機構，將上述複數層收納架間的高度差，調整為上述第3及第4基板保持部間的高度差，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將收納於上述基板載置架的上述複數層收納架之複數基板的任一片，藉由上述第3及第4基板保持部中的一方進行收取，將保持在上述第3及第4基板保持部中另一方之基板，移至上述基板載置架的上述複數層收納架之任一者；在上述處理部與上述第3及第4基板保持部間進行基板交接時，藉由控制上述第2基板搬送裝置，將上述處理部內的基板，利用上述第3及第4基板保持部中的一方進行 收取，將保持在上述第3及第4基板保持部中之另一方之基板移至上述處理部。
  8. 如申請專利範圍第7項之基板處理裝置，其中，上述第2基板搬送裝置的上述第3及第4基板保持部，係構成為可朝略水平方向個別進退。
  9. 如申請專利範圍第7或8項之基板處理裝置，其中，上述第1基板搬送裝置的上述第1及第2基板保持部，係構成為可朝略水平方向個別進退。
  10. 如申請專利範圍第7項之基板處理裝置，其中，上述第1基板搬送裝置的上述第1及第2基板保持部分別具備第1厚度；上述第2基板搬送裝置的上述第3及第4基板保持部分別具備第2厚度；上述第2厚度係大於上述第1厚度。
  11. 如申請專利範圍第7項之基板處理裝置，其中，上述處理部包含用以洗淨基板之洗淨處理部。
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