JP5000627B2 - 基板処理システム - Google Patents

Description

本発明は、半導体ウエハ等の基板に対して、処理液による液処理や処理ガスによるガス処理、あるいは洗浄処理や熱的処理等の処理を行うための基板処理システムに関し、とりわけ、単位時間あたりの基板の処理枚数を多くすることができる基板処理システムに関する。

従来から、半導体ウエハ等の基板に対して、処理液による液処理や処理ガスによるガス処理、あるいは洗浄処理や熱的処理等の処理を行うための基板処理システムとして、様々な種類のものが知られている。このような基板処理システムには、基板の処理を行うための基板処理ユニットが複数設けられている。また、基板処理システムには、基板処理ユニットにより処理される前の基板、および基板処理ユニットにより処理された基板を一時的に収容するための基板収容部が設けられている。そして、基板搬送装置により、基板処理ユニットにより処理される前の基板を基板収容部から基板処理ユニットに搬送したり基板処理ユニットにより処理された基板を基板処理ユニットから基板収容部に搬送したりするようになっている。

具体的には、例えば、特許文献１には、半導体ウエハ等の基板の洗浄を行うための基板処理ユニットが複数（具体的には４つ）設けられた基板処理システムが開示されている。特許文献１に開示される基板処理システムにおいて、基板処理ユニットは上下方向に２段となるよう配置されている。そして、１つの基板搬送装置が、基板収容部から上下２段の各基板処理ユニットにそれぞれ基板を交互に搬送するとともに、上下２段の各基板処理ユニットから基板収容部にそれぞれ基板を交互に搬送するようになっている。

特開２００３−２７３０５８号公報

しかしながら、例えば特許文献１に示すような基板処理システムにおいて、１つの基板搬送装置により複数段の各基板処理ユニットと基板収容部との間で基板の搬送を行ったときには、以下に示すような問題がある。すなわち、この基板搬送装置は、基板収容部から各基板処理ユニットにそれぞれ基板を交互に搬送するとともに、各基板処理ユニットから基板収容部にそれぞれ基板を交互に搬送することとなるため、多数の基板を基板処理システムで処理しようとする際に基板収容部と各基板処理ユニットとの間での基板の搬送時間により基板処理システムの処理能力が律速してしまうという問題がある。

このような問題を解決するために、上下方向に設けられた複数段の各基板処理ユニットに対応するよう、複数の基板搬送装置を上下方向に沿って設ける方法が考えられる。しかしながら、このような方法でも、基板収容部に複数の基板搬送装置が同時にアクセスすることができないため、基板収容部に対して一方の基板搬送装置が基板を搬送したりこの一の基板搬送装置が基板を取り出したりする際に、他方の基板搬送装置が無駄に待機してしまうこととなる。このように、複数の基板搬送装置が基板収容部にアクセスする際にこれらの基板搬送装置が渋滞してしまい、基板収容部と各基板処理ユニットとの間で複数の基板を効率的に搬送することができないという問題がある。

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板を収容するための基板収容部と、上下方向に複数段設けられた各基板処理ユニットとの間で複数の基板を効率的に搬送することができ、このため単位時間あたりの基板の処理枚数を多くすることができる基板処理システムを提供することを目的とする。

本発明の基板処理システムは、各々が基板の処理を行う複数の基板処理ユニットであって、各基板処理ユニットが上下方向に沿って設けられた複数のグループに区分けされるような複数の基板処理ユニットと、複数の基板を上下方向に互いに離間させて一時的に収容するための基板収容部と、前記基板処理ユニットにより処理される前の基板を前記基板収容部に搬送するとともに前記基板処理ユニットにより処理された基板を前記基板収容部から取り出すための第１の基板搬送装置と、上下方向における前記各グループに対応するよう上下方向に複数段設けられた第２の基板搬送装置であって、対応する前記グループの基板処理ユニットと前記基板収容部との間で基板を搬送するための第２の基板搬送装置と、前記第１の基板搬送装置により前記基板収容部に搬送された、前記基板処理ユニットにより処理される前の基板、および前記第２の基板搬送装置により前記基板収容部に搬送された、前記基板処理ユニットにより処理された基板を、それぞれ、前記基板収容部における上下方向の別の位置に移し換えるための基板移し換え装置と、
を備えたことを特徴とする。

このような基板処理システムにおいては、基板処理ユニットと基板収容部との間で基板の搬送を行う第２の基板搬送装置は、複数の基板処理ユニットが区分けされる各グループに対応するよう上下方向に複数段設けられており、基板収容部は、複数の基板を上下方向に互いに離間させて一時的に収容するようになっている。そして、基板移し換え装置は、第１の基板搬送装置により基板収容部に搬送された、基板処理ユニットにより処理される前の基板、および第２の基板搬送装置により基板収容部に搬送された、基板処理ユニットにより処理された基板を、それぞれ、基板収容部における上下方向の別の位置に移し換えることができるようになっている。このように、基板収容部の上下方向における複数の位置に基板を一時的に収容させることができるようにするとともに、基板移し換え装置により基板収容部に収容される基板を上下方向の別の位置に移し換えることができるようにすることによって、基板収容部の上下方向における各々の基板の収容位置と、各基板処理ユニットとの間で、一のグループの基板処理ユニットに対応する第２の基板搬送装置による基板の搬送を他の第２の基板搬送装置から独立して行うことができるようになる。このことにより、基板収容部と各基板処理ユニットとの間で基板を効率的に搬送することができるようになり、このため基板処理システムは単位時間あたりの基板の処理枚数を多くすることができる。

本発明の基板処理システムにおいては、前記基板収容部は、前記第１の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該第１の基板搬送装置により基板が取り出される第１の収容部分と、前記各第２の基板搬送装置に対応するよう複数設けられた第２の収容部分であって、対応する前記第２の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該第２の基板搬送装置により基板が取り出される第２の収容部分と、を有し、前記基板移し換え装置は、前記第１の収容部分と前記第２の収容部分との間で基板の移し換えを行うようになっていることが好ましい。

このような基板処理システムによれば、第１の基板搬送装置により基板収容部の第１の収容部分に搬送された基板は、基板移し換え装置により、処理されるべき基板処理ユニットに対応する第２の収容部分に移し換えられる。その後、処理されるべき基板処理ユニットに対応する第２の基板搬送装置により、第２の収容部分から基板処理ユニットに基板が搬送される。また、基板処理ユニットにより処理された基板は、この基板処理ユニットに対応する第２の基板搬送装置により基板収容部における対応する第２の収容部分に搬送され、この基板は、基板移し換え装置により第２の収容部分から第１の収容部分に移し換えられる。最後に、第１の基板搬送装置により、基板収容部の第１の収容部分から基板が取り出される。

上述のような基板処理システムにおいては、前記基板収容部において、前記第１の収容部分は複数の第２の収容部分のうち２つの第２の収容部分の間に配置されていることがより好ましい。

本発明の基板処理システムにおいては、前記基板収容部は、複数の第２の基板搬送装置のうち一の第２の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該一の第２の基板搬送装置により基板が取り出され、また、前記第１の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該第１の基板搬送装置により基板が取り出される第１の収容部分と、前記複数の第２の基板搬送装置のうち前記一の第２の基板搬送装置以外の他の第２の基板搬送装置に対応するよう設けられた１または複数の第２の収容部分であって、対応する前記第２の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該第２の基板搬送装置により基板が取り出される第２の収容部分と、を有し、前記基板移し換え装置は、前記第１の収容部分と前記第２の収容部分との間で基板の移し換えを行うようになっていてもよい。

このような基板処理システムによれば、第１の基板搬送装置により基板収容部の第１の収容部分に搬送された基板のうち、一の第２の基板搬送装置に対応する基板処理ユニットにより処理されるべき基板は、この一の第２の基板搬送装置により基板収容部の第１の収容部分から基板処理ユニットに搬送される。一方、第１の基板搬送装置により基板収容部の第１の収容部分に搬送された基板のうち、一の第２の基板搬送装置以外の他の第２の基板搬送装置に対応する基板処理ユニットにより処理されるべき基板は、基板移し換え装置により、処理されるべき基板処理ユニットに対応する第２の収容部分に移し換えられる。その後、この基板は、対応する第２の基板搬送装置により、基板収容部の第２の収容部分から基板処理ユニットに搬送される。また、一の第２の基板搬送装置に対応する基板処理ユニットにより処理された基板は、対応する第２の基板搬送装置により基板収容部の第１の収容部分に搬送される。一方、一の第２の基板搬送装置以外の他の第２の基板搬送装置に対応する基板処理ユニットにより処理された基板は、対応する第２の基板搬送装置により基板収容部の第２の収容部分に搬送され、この基板は、基板移し換え装置により第２の収容部分から第１の収容部分に移し換えられる。最後に、第１の基板搬送装置により、基板収容部の第１の収容部分から基板が取り出される。

本発明の基板処理システムにおいては、前記第１の基板搬送装置は、基板を保持するためのフォークを上下方向に沿って複数有し、前記基板収容部に基板を搬送したり前記基板収容部から基板を取り出したりする際に前記各フォークにより複数の基板を同時に搬送するようになっていることが好ましい。このことにより、第１の基板搬送装置により基板収容部に基板を搬送したり基板収容部から基板を取り出したりする動作をより効率的に行うことができるようになり、単位時間あたりの基板の処理枚数をより多くすることができる。

本発明の基板処理システムにおいては、前記各グループにおいて、基板処理ユニットは上下方向に沿って複数段設けられていることが好ましい。

本発明の基板処理システムにおいては、前記基板収容部に対して、前記第１の基板搬送装置、前記第２の基板搬送装置、および前記基板移し換え装置は、それぞれ別の方向からアクセスするようになっていることが好ましい。

本発明の基板処理システムにおいては、前記基板収容部に対して、前記第１の基板搬送装置、前記第２の基板搬送装置、および前記基板移し換え装置のうち少なくとも２つの装置が同時にアクセスすることができるようになっていることが好ましい。このことにより、一の装置が基板収容部にアクセスする間に他の装置が基板収容部にアクセスすることができず待機しなければならないといった事態が発生することを防止することができ、基板処理システムは単位時間あたりの基板の処理枚数をより多くすることができる。

本発明の基板処理システムによれば、基板を収容するための基板収容部と、上下方向に複数段設けられた各基板処理ユニットとの間で複数の基板を効率的に搬送することができ、このため単位時間あたりの基板の処理枚数を多くすることができる。

以下、図面を参照して本発明の一の実施の形態について説明する。図１乃至図９は、本実施の形態に係るウエハ処理システムを示す図である。このうち、図１は、本実施の形態におけるウエハ処理システムの構成を示す概略側面図であり、図２は、図１に示すウエハ処理システムのＡ−Ａライン矢視による上面図であり、図３は、図１に示すウエハ処理システムのＢ−Ｂライン矢視による上面図である。また、図４は、図２に示すウエハ処理システムのＣ−Ｃライン矢視による側面図であり、図５は、図４に示すウエハ収容部の各収容部分の具体的な構成を示す側断面図である。また、図６は、図２に示すウエハ処理システムのＤ−Ｄライン矢視による側面図であり、図７は、図１に示すウエハ処理システムにおける、ウエハが収容された状態でのフープの構成を示す側断面図であり、図８は、図７に示すフープのＥ−Ｅライン矢視による断面図である。また、図９は、図１に示すウエハ処理システムにおける第１のウエハ搬送装置の構成を示す斜視図である。

図１等に示すように、本実施の形態のウエハ処理システム１０は、半導体ウエハ（以下、ウエハＷともいう）に洗浄処理や乾燥処理等の処理を行うための複数の（具体的には８つの）ウエハ処理ユニット（ＳＰＩＮ）４０と、複数のウエハＷを上下方向に互いに離間させて一時的に収容するためのウエハ収容部３０と、複数枚（例えば２５枚）のウエハＷが上下方向に所定の間隔で水平状態に収容可能なフープ（ＦＯＵＰ；Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ、ウエハ格納用ポッド）２０と、を備えている。ここで、ウエハ処理ユニット４０は、上下方向に沿って設けられた２つのグループに区分けされており、上部のグループおよび下部のグループにはそれぞれウエハ処理ユニット４０が４つずつ設けられている。より具体的には、図１乃至図３および図６（とりわけ図６）に示すように、上部のグループにおいて、ウエハ処理ユニット４０ａは上下２段かつ各段に２つずつとなるよう設けられている。同様に、下部のグループにおいて、ウエハ処理ユニット４０ｂは上下２段かつ各段に２つずつとなるよう設けられている。

また、ウエハ処理システム１０には、第１のウエハ搬送装置５０がフープ２０とウエハ収容部３０の間に設けられている。第１のウエハ搬送装置５０は、ウエハ処理ユニット４０により処理される前のウエハＷをフープ２０からウエハ収容部３０に搬送するとともに、ウエハ処理ユニット４０により処理されたウエハＷをウエハ収容部３０からフープ２０に搬送するようになっている。また、図２、図３、図６等に示すように、ウエハ処理システム１０には、上部のグループおよび下部のグループに対応するよう、上下方向に沿って２つの第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂがそれぞれ設けられている。より具体的には、上部の第２のウエハ搬送装置６０ａは上部のグループに対応するよう設けられており、この上部のグループの各ウエハ処理ユニット４０ａとウエハ収容部３０との間でウエハＷを搬送するようになっている。また、下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂは下部のグループに対応するよう設けられており、この下部のグループの各ウエハ処理ユニット４０ｂとウエハ収容部３０との間でウエハＷを搬送するようになっている。

また、ウエハ処理システム１０において、ウエハ移し換え装置３５がウエハ収容部３０に隣接して設置されている。このウエハ移し換え装置３５は、ウエハ収容部３０に収容されたウエハＷを、当該ウエハ収容部３０における上下方向の別の位置に移し換えるようになっている。より具体的には、ウエハ移し換え装置３５は、第１のウエハ搬送装置５０によりウエハ収容部３０に搬送された、ウエハ処理ユニット４０により処理される前のウエハＷ、および上部の第２のウエハ搬送装置６０ａによりウエハ収容部３０に搬送された、ウエハ処理ユニット４０により処理されたウエハＷを、それぞれ、ウエハ収容部３０における上下方向の別の位置に移し換えるようになっている。

以下、ウエハ処理システム１０の各構成要素について詳述する。

図１および図２に示すように、ウエハ処理システム１０には、４つのフープ２０が並列に載置される載置台２５が設けられている。各フープ２０の具体的な構成について図７および図８を用いて説明する。図７に示すように、フープ２０は、複数枚、例えば２５枚のウエハＷを上下方向に互いに離間して積み重ねるよう収容することができるようになっている。具体的には、フープ２０は、鉛直方向に延びる中空形状のハウジング２１と、このハウジング２１の内壁に取り付けられ、各ウエハＷが水平状態で上面に載置されるような複数のウエハ載置部材２２とを有している。ハウジング２１は、図８に示すように横断面がＵ字形状となるよう一方の側面が開口しており、この開口部分にシャッター等からなる窓部開閉機構２３が設けられている。窓部開閉機構２３が開状態となったときに、フープ２０に収容されたウエハＷを取り出すことができるようになる。

各ウエハ載置部材２２は、図７に示すように、ハウジング２１の内壁に水平方向に取り付けられた板状部材からなる。また、各ウエハ載置部材２２は、図８に示すように、中央部分に開口２２ａが設けられるようなＵ字形状となっている。図８に示すように、各ウエハ載置部材２２の開口２２ａはウエハＷよりも小さくなっている。このため、ウエハＷの周縁部分が各ウエハ載置部材２２の上面に載置されることとなる。

次に、ウエハ収容部３０およびこのウエハ収容部３０に隣接して設けられたウエハ移し換え装置３５について図４および図５を用いて説明する。なお、図４は、図２に示すウエハ処理システム１０のＣ−Ｃライン矢視による側面図であり、図５は、ウエハ収容部３０の各収容部分の具体的な構成を示す側断面図である。

前述のように、ウエハ収容部３０は、複数のウエハＷを上下方向に互いに離間させて一時的に収容するようになっている。より具体的には、図１および図４に示すように、ウエハ収容部３０は、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａに対応するよう設けられた複数段（例えば、４段）の上部収容部分３０ａと、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂに対応するよう設けられた複数段（例えば、８段）の下部収容部分３０ｂとを有している。４段の上部収容部分３０ａおよび８段の下部収容部分３０ｂには、それぞれウエハＷが１枚ずつ水平状態で収容されるようになっている。

ここで、各上部収容部分３０ａおよび各下部収容部分３０ｂの具体的な構成について図５を用いて説明する。図５に示すように、ウエハ収容部３０は、鉛直方向に延びる複数の支柱部材３１を有している。具体的には、支柱部材３１は４つ設けられており、各支柱部材３１は水平面に沿った仮想の正方形または長方形の四隅の位置に配設されている。そして、これらの各支柱部材３１の間に、上部収容部分３０ａおよび下部収容部分３０ｂが形成されている。より詳細には、各支柱部材３１をまたがるように、上下方向に沿って複数設けられた水平方向に延びる仕切り部材３２が各支柱部材３１に取り付けられており、各仕切り部材３２には、それぞれ３本の同一の長さの突起部材３３が各仕切り部材３２の上面から上方に突出するよう設けられている（図５では３本の突起部材３３のうち２本のみを表示している）。各々の突起部材３３は、ウエハＷの中心近傍における裏面を支持するようになっている。

ウエハ収容部３０は、水平面に沿った仮想の正方形または長方形の四隅の位置に配設された４つの支柱部材３１と、各支柱部材３１をまたがるよう水平方向に延びる複数の仕切り部材３２とから構成されているので、このウエハ収容部３０は少なくとも図２における左右方向および上方向にそれぞれ開口することとなる。このため、第１のウエハ搬送装置５０、第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂおよびウエハ移し換え装置３５は、ウエハ収容部３０に対してそれぞれ別の方向からアクセスすることができる。すなわち、第１のウエハ搬送装置５０はウエハ収容部３０に対して図２における左方から、第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂはウエハ収容部３０に対して図２における右方から、ウエハ移し換え装置３５はウエハ収容部３０に対して図２における上方から、それぞれアクセスすることとなる。なお、「ウエハ収容部３０に対してアクセスすることができる」とは、各装置がウエハ収容部３０にウエハＷを搬送したり、ウエハ収容部３０からウエハＷを取り出したりすることができることをいう。

さらに、ウエハ収容部３０に対して、第１のウエハ搬送装置５０、第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂ、およびウエハ移し換え装置３５のうち少なくとも２つの装置が同時にアクセスすることができるようになっている。このことにより、一の装置がウエハ収容部３０にアクセスする間に他の装置がウエハ収容部３０にアクセスすることができず待機しなければならないといった事態が発生することを防止することができ、ウエハ処理システム１０は単位時間あたりのウエハＷの処理枚数を多くすることができる。

なお、図３および図４に示すように、ウエハ収容部３０において、４段の上部収容部分３０ａの上方および下方、ならびに８段の下部収容部分３０ｂの上方および下方には、それぞれウエハ反転機構３４が設けられている。各ウエハ反転機構３４は、第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂにより当該ウエハ反転機構３４に送られたウエハＷの表裏を反転させるようになっている。

ウエハ移し換え装置３５は、前述のように、ウエハ収容部３０に収容されたウエハＷを、当該ウエハ収容部３０における上下方向の別の位置に移し換えるようになっている。より具体的には、ウエハ移し換え装置３５は、上部収容部分３０ａと下部収容部分３０ｂとの間でウエハＷの移し換えを行うようになっている。

より詳細には、図４に示すように、ウエハ移し換え装置３５は、鉛直方向に延びる支柱部材３６と、支柱部材３６に沿って昇降自在となっているフォーク支持部材３７とを有している。また、フォーク支持部材３７により、ウエハＷを保持するための上下一対のフォーク３８ａ、３８ｂが支持されている。各フォーク３８ａ、３８ｂは、それぞれウエハＷを裏面から（下方から）保持するようになっている。なお、一対のフォーク３８ａ、３８ｂのうち上段のフォーク３８ａは上部収容部分３０ａから下部収容部分３０ｂにウエハＷを搬送する際に用いられ、下段のフォーク３８ｂは下部収容部分３０ｂから上部収容部分３０ａにウエハＷを搬送する際に用いられるようになっている。そして、一対のフォーク３８ａ、３８ｂのうちいずれか一方のフォークがウエハ収容部３０に向かって進出することにより、このフォークはウエハ収容部３０の上部収容部分３０ａまたは下部収容部分３０ｂにウエハＷを収容したり上部収容部分３０ａまたは下部収容部分３０ｂからウエハＷを取り出したりすることができるようになっている。

上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａに対応するよう設けられた上部の第２のウエハ搬送装置６０ａは、上部のグループの上下２段のウエハ処理ユニット４０ａとウエハ収容部３０における上部収容部分３０ａとの間でウエハＷを搬送するようになっている。また、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂに対応するよう設けられた下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂは、下部のグループの上下２段のウエハ処理ユニット４０ｂとウエハ収容部３０における下部収容部分３０ｂとの間でウエハＷを搬送するようになっている。また、第１のウエハ搬送装置５０は、ウエハ処理ユニット４０により処理される前のウエハＷをフープ２０からウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに搬送するとともに、ウエハ処理ユニット４０により処理されたウエハＷをウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂからフープ２０に搬送するようになっている。

次に、第１のウエハ搬送装置５０および第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂの具体的な構成について説明する。まず、第１のウエハ搬送装置５０の構成について図１乃至図３および図９を用いて説明する。

第１のウエハ搬送装置５０は、図３におけるＹ方向に延びるレール５６上を走行する基体部材５１と、この基体部材５１の上面に設けられ、Ｚ方向に伸縮することができる垂直移動機構５２とを有している。この垂直移動機構５２の上部には基台５５が設けられており、当該基台５５にフォーク支持部材５３が取り付けられている。そして、このフォーク支持部材５３により、ウエハＷを保持するための一対のフォーク５４ａ、５４ｂが支持されている。

また、垂直移動機構５２は、図９に示すように基体部材５１に対してθ方向に回転することができるようになっている。すなわち、基台５５は、Ｙ方向、Ｚ方向に移動することができるとともに、θ方向に回転することができるよう構成されている。そして、一対のフォーク５４ａ、５４ｂが基台５５の上方で重ねて配置されている。各フォーク５４ａ、５４ｂは、それぞれウエハＷを裏面から（下方から）保持するようになっている。フォーク支持部材５３は、一対のフォーク５４ａ、５４ｂの基端部に各々取り付けられた水平移動機構５３ａ、５３ｂを有しており、この水平移動機構５３ａ、５３ｂはそれぞれフォーク５４ａ、５４ｂを図９のＸ方向に進退移動させるようになっている。

第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂもそれぞれ第１のウエハ搬送装置５０と略同一の構成となっている。より具体的には、第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂに設けられた基台６５ａ、６５ｂは、それぞれθ方向に回転することができるようになっている。また、各基台６５ａ、６５ｂにはそれぞれフォーク支持部材６３ａ、６３ｂが設けられており、フォーク支持部材６３ａ、６３ｂは、それぞれ上下一対のフォーク６４ａ、６４ｂを支持するようになっている（図６参照）。上下一対の各フォーク６４ａ、６４ｂは、それぞれウエハＷを裏面から（下方から）保持するようになっている。また、上下一対の各フォーク６４ａ、６４ｂは、フォーク支持部材６３ａ、６３ｂから図２や図３の矢印方向に進退移動することができるようになっている。なお、一対のフォーク６４ａ、６４ｂのうち上段のフォーク６４ａ、６４ｂはウエハ処理ユニット４０ａ、４０ｂから処理済のウエハＷをウエハ収容部３０に搬送する際に用いられ、下段のフォーク６４ａ、６４ｂはウエハ収容部３０からウエハ処理ユニット４０ａ、４０ｂに処理前のウエハＷを搬送する際に用いられるようになっている。

各ウエハ処理ユニット４０は、処理チャンバー内においてウエハＷを１枚ずつ処理するようなスピン式のものからなり、処理チャンバー内でウエハＷを回転させながら当該ウエハＷに対して処理液による液処理や処理ガスによるガス処理、あるいは洗浄処理や熱的処理等の処理を行うようになっている。

次に、このような構成からなるウエハ処理システム１０の動作について説明する。

最初に、処理されるべきウエハＷを例えば２５枚収容したフープ２０が載置台２５上に載置される。次に、フープ２０に設けられた窓部開閉機構２３が開かれ、このフープ２０内のウエハＷが取り出し可能となる。そして、このフープ２０に対して第１のウエハ搬送装置５０が接近し、この第１のウエハ搬送装置５０の一対のフォーク５４ａ、５４ｂがそれぞれフープ２０内のウエハＷを持ち上げて保持する。この際に、一対のフォーク５４ａ、５４ｂにより、フープ２０内の上下方向に隣り合う２枚のウエハＷが同時に取り出される。

次に、第１のウエハ搬送装置５０の各フォーク５４ａ、５４ｂにそれぞれ保持された２枚のウエハＷはウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに同時に送られ、この下部収容部分３０ｂに一時的に収容される。より詳細には、まず、第１のウエハ搬送装置５０がウエハ収容部３０に接近し、各フォーク５４ａ、５４ｂが同期して前進水平移動を行い、さらに基台５５が下方に移動することにより、各フォーク５４ａ、５４ｂからウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂの各突起部材３３上にウエハＷが移載される。なお、この際に、２枚のウエハＷは、８段の下部収容部分３０ｂのうち下４段の下部収容部分３０ｂに収容される。

ここで、ウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに収容されたウエハＷを下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂにより処理する場合には、下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂがウエハ収容部３０に接近し、この第２のウエハ搬送装置６０ｂの上下一対のフォーク６４ｂのうち下段のフォーク６４ｂがウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂの各突起部材３３上に載置されたウエハＷを持ち上げて保持する。そして、このフォーク６４ｂがウエハＷを保持した状態で下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂが下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂに接近し、フォーク６４ｂによって保持されたウエハＷがウエハ処理ユニット４０ｂ内に持ち込まれる。その後、ウエハ処理ユニット４０ｂの処理チャンバー内において、ウエハＷに対する処理が行われる。

一方、ウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに収容されたウエハＷを上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａにより処理する場合には、ウエハ移し換え装置３５の上下一対のフォーク３８ａ、３８ｂのうち下段のフォーク３８ｂがウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに進出し、下部収容部分３０ｂにあるウエハＷをフォーク３８ｂが裏面から保持する。そして、フォーク３８ｂが下部収容部分３０ｂから退避し、フォーク支持部材３７が支柱部材３６に沿って上昇する。そして、ウエハＷを保持したフォーク３８ｂがウエハ収容部３０の上部収容部分３０ａに進出し、フォーク３８ｂからウエハ収容部３０の上部収容部分３０ａの各突起部材３３上にウエハＷが移載される。なお、この際に、ウエハＷは、４段の上部収容部分３０ａのうち下２段の上部収容部分３０ａに収容される。

その後、上部の第２のウエハ搬送装置６０ａがウエハ収容部３０に接近し、この第２のウエハ搬送装置６０ａの上下一対のフォーク６４ａのうち下段のフォーク６４ａがウエハ収容部３０の上部収容部分３０ａの各突起部材３３上に載置されたウエハＷを持ち上げて保持する。そして、このフォーク６４ａがウエハＷを保持した状態で上部の第２のウエハ搬送装置６０ａが上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａに接近し、フォーク６４ａによって保持されたウエハＷがウエハ処理ユニット４０ａ内に持ち込まれる。その後、ウエハ処理ユニット４０ａの処理チャンバー内において、ウエハＷに対する処理が行われる。

下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂにより処理されたウエハＷは、下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂの上下一対のフォーク６４ｂのうち上段のフォーク６４ｂにより、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂからウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに搬送される。この際に、ウエハＷは、８段の下部収容部分３０ｂのうち上４段の下部収容部分３０ｂに収容される。

一方、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａにより処理されたウエハＷは、上部の第２のウエハ搬送装置６０ａの上下一対のフォーク６４ａのうち上段のフォーク６４ａにより、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａからウエハ収容部３０の上部収容部分３０ａに搬送される。この際に、ウエハＷは、４段の上部収容部分３０ａのうち上２段の上部収容部分３０ａに収容される。その後、上２段の上部収容部分３０ａの両方にそれぞれウエハＷが収容されたら、ウエハ移し換え装置３５の上下一対のフォーク３８ａ、３８ｂのうち上段のフォーク３８ａがウエハ収容部３０の上２段の上部収容部分３０ａに進出し、上部収容部分３０ａにある２枚のウエハＷをフォーク３８ａが裏面から保持する。そして、フォーク３８ａが上部収容部分３０ａから退避し、フォーク支持部材３７が支柱部材３６に沿って下降する。その後、ウエハＷを保持したフォーク３８ａがウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに進出し、フォーク３８ａからウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂの各突起部材３３上にウエハＷが移載される。この際に、２枚のウエハＷは、８段の下部収容部分３０ｂのうち上４段の下部収容部分３０ｂに収容される。

なお、ウエハ収容部３０の上部収容部分３０ａおよび下部収容部分３０ｂにおいて、ウエハ処理ユニット４０により処理されたウエハＷは、ウエハ処理ユニット４０により処理される前のウエハＷよりも上方に配置されるので、ウエハ処理ユニット４０により処理されたウエハＷが処理される前のウエハＷにより汚染させられることを抑制することができる。

その後、ウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂにあるウエハＷは、第１のウエハ搬送装置５０によって取り出され、再びフープ２０内に送られる。具体的には、第１のウエハ搬送装置５０がウエハ収容部３０に接近し、この第１のウエハ搬送装置５０の一対のフォーク５４ａ、５４ｂがそれぞれウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂ内のウエハＷを持ち上げて保持する。その後、第１のウエハ搬送装置５０の各フォーク５４ａ、５４ｂにそれぞれ保持された２枚のウエハＷがフープ２０に同時に移載される。

このようにして、ウエハ処理システム１０におけるウエハＷに対する一連の処理が終了する。

以上のように本実施の形態のウエハ処理システム１０によれば、ウエハ処理ユニット４０とウエハ収容部３０との間でウエハＷの搬送を行う第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂは、複数のウエハ処理ユニット４０が区分けされる各グループ（具体的には、上段のグループおよび下段のグループ）に対応するよう上下方向に複数段（例えば２段）設けられており、ウエハ収容部３０は、複数のウエハＷを上下方向に互いに離間させて一時的に収容するようになっている。そして、ウエハ移し換え装置３５は、第１のウエハ搬送装置５０によりウエハ収容部３０に搬送された、ウエハ処理ユニット４０により処理される前のウエハＷ、および上部の第２のウエハ搬送装置６０ａによりウエハ収容部３０に搬送された、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａにより処理されたウエハＷを、それぞれ、ウエハ収容部３０における上下方向の別の位置に移し換えることができるようになっている。

このように、ウエハ収容部３０の上下方向における複数の位置（具体的には、上部収容部分３０ａおよび下部収容部分３０ｂ）にウエハＷを一時的に収容させることができるようにするとともに、ウエハ移し換え装置３５によりウエハ収容部３０に収容されるウエハＷを上下方向の別の位置に移し換えることができるようにすることによって、ウエハ収容部３０の上下方向における各々のウエハＷの収容位置（具体的には、上部収容部分３０ａおよび下部収容部分３０ｂ）と、上下方向に複数段設けられた各ウエハ処理ユニット４０ａ、４０ｂとの間で、一のグループのウエハ処理ユニット４０ａ、４０ｂに対応する第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂによるウエハＷの搬送を他の第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂから独立して行うことができるようになる。

このことにより、ウエハ収容部３０と各ウエハ処理ユニット４０ａ、４０ｂとの間でウエハＷを効率的に搬送することができるようになり、このためウエハ処理システム１０は単位時間あたりのウエハＷの処理枚数を多くすることができる。

また、本実施の形態のウエハ処理システム１０において、ウエハ収容部３０は、上部収容部分３０ａと下部収容部分３０ｂとを有しており、下部収容部分３０ｂは、上下２段の第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂのうち下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂによりウエハＷが搬送されるとともに当該下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂによりウエハＷが取り出され、また、第１のウエハ搬送装置５０によりウエハＷが搬送されるとともに当該第１のウエハ搬送装置５０によりウエハＷが取り出されるようになっている。一方、上部収容部分３０ａは、上下２段の第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂのうち上部の第２のウエハ搬送装置６０ａに対応するよう設けられており、この第２のウエハ搬送装置６０ａによりウエハＷが搬送されるとともに当該第２のウエハ搬送装置６０ａによりウエハＷが取り出されるようになっている。そして、ウエハ移し換え装置３５は、下部収容部分３０ｂと上部収容部分３０ａとの間でウエハＷの移し換えを行うようになっている。

このようなウエハ処理システム１０によれば、第１のウエハ搬送装置５０によりウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに搬送されたウエハＷのうち、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂにより処理すべきウエハＷは、対応する下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂによりウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂから下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂに搬送され、一方、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａにより処理すべきウエハＷは、ウエハ移し換え装置３５によりウエハ収容部３０における下部収容部分３０ｂから上部収容部分３０ａに移し換えられた後、対応する上部の第２のウエハ搬送装置６０ａによりウエハ収容部３０の上部収容部分３０ａから上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａに搬送されることとなる。そして、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂにより処理されたウエハＷは、対応する下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂにより下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂからウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂに搬送される。一方、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａにより処理されたウエハＷは、対応する上部の第２のウエハ搬送装置６０ａにより上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａからウエハ収容部３０の上部収容部分３０ａに搬送され、その後、ウエハ移し換え装置３５によりウエハ収容部３０における上部収容部分３０ａから下部収容部分３０ｂに移し換えられる。最後に、第１のウエハ搬送装置５０により、ウエハ収容部３０の下部収容部分３０ｂからウエハＷが取り出される。

また、第１のウエハ搬送装置５０は、ウエハＷを保持するためのフォーク５４ａ、５４ｂを上下方向に沿って複数（具体的には、例えば２本）有し、ウエハ収容部３０にウエハＷを搬送したりウエハ収容部３０からウエハＷを取り出したりする際に各フォーク５４ａ、５４ｂにより複数（例えば、２枚）のウエハＷを同時に搬送するようになっている。このことにより、第１のウエハ搬送装置５０によりウエハ収容部３０にウエハＷを搬送したりウエハ収容部３０からウエハＷを取り出したりする動作をより効率的に行うことができるようになり、単位時間あたりのウエハＷの処理枚数をより多くすることができる。

なお、本実施の形態によるウエハ処理システム１０は、上記の態様に限定されることはなく、様々な変更を加えることができる。例えば、複数のウエハ処理ユニット４０が区分けされるグループは、図６等に示すような上下２段となるよう設けられたものに限定されることはなく、上下方向における３段以上のグループにウエハ処理ユニット４０が区分けされるようになっていてもよい。この場合、第２のウエハ搬送装置は、上下方向に３段以上設けられた各グループに対応するよう、上下方向に複数段（３段以上）設けられることとなる。また、この場合、ウエハ収容部３０は、図１に示すような上部収容部分３０ａおよび下部収容部分３０ｂを有するものの代わりに、上下方向に３段以上設けられた各段のグループに対応するよう、３つ以上の複数の収容部分が設けられることとなり、各々の収容部分と各段のグループのウエハ処理ユニットとの間で対応するウエハ搬送装置によりウエハＷの搬送が行われることとなる。

以下、ウエハ収容部の他の態様について、図１０を用いて説明する。図１０は、本実施の形態におけるウエハ処理システムの他の構成を示す概略側面図である。なお、図１０に示すようなウエハ処理システム１０ａにおいて、図１乃至図９に示すウエハ処理システム１０と略同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略する。

図１０に示すようなウエハ処理システム１０ａには、図１乃至図９に示すようなウエハ収容部３０の代わりに以下に詳述するウエハ収容部７０が設けられている。ウエハ収容部７０も、図１に示すようなウエハ収容部３０と同様に、複数のウエハＷを上下方向に互いに離間させて一時的に収容するようになっているが、このウエハ収容部７０は、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａに対応するよう設けられた複数段（例えば、２段）の上部収容部分７０ａと、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂに対応するよう設けられた複数段（例えば、２段）の下部収容部分７０ｃと、上部収容部分７０ａと下部収容部分７０ｃとの間の位置に設けられた複数段（例えば、２段）の中部収容部分７０ｂとを有している。２段の上部収容部分７０ａ、２段の中部収容部分７０ｂおよび２段の下部収容部分７０ｃには、それぞれウエハＷが１枚ずつ水平状態で収容されるようになっている。

また、図１０に示すように、ウエハ収容部７０において、２段の上部収容部分７０ａの上方および下方、ならびに２段の下部収容部分７０ｃの上方および下方には、それぞれウエハ反転機構７４が設けられている。各ウエハ反転機構７４は、第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂにより当該ウエハ反転機構７４に送られたウエハＷの表裏を反転させるようになっている。

図１０に示すようなウエハ処理システム１０ａにおいて、ウエハ移し換え装置３５は、図１乃至図９に示すようなウエハ処理システム１０と同様に、ウエハ収容部７０に収容されたウエハＷを、当該ウエハ収容部７０における上下方向の別の位置に移し換えるようになっている。より具体的には、ウエハ移し換え装置３５は、上部収容部分７０ａ、中部収容部分７０ｂおよび下部収容部分７０ｃの間でウエハＷの移し換えを行うようになっている。

上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａに対応するよう設けられた上部の第２のウエハ搬送装置６０ａは、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａとウエハ収容部７０における上部収容部分７０ａとの間でウエハＷを搬送するようになっている。また、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂに対応するよう設けられた下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂは、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂとウエハ収容部７０における下部収容部分７０ｃとの間でウエハＷを搬送するようになっている。また、第１のウエハ搬送装置５０は、ウエハ処理ユニット４０により処理される前のウエハＷをフープ２０からウエハ収容部７０の中部収容部分７０ｂに搬送するとともに、ウエハ処理ユニット４０により処理されたウエハＷをウエハ収容部７０の中部収容部分７０ｂからフープ２０に搬送するようになっている。

次に、図１０に示すような構成からなるウエハ処理システム１０ａの動作について説明する。なお、図１０に示すようなウエハ処理システム１０ａの動作の説明において、図１乃至図９に示すウエハ処理システム１０と同じ動作についてはその説明を省略する。

まず、第１のウエハ搬送装置５０により、フープ２０からウエハ収容部７０の中部収容部分７０ｂにウエハＷを搬送する。この際に、ウエハＷは、２段の中部収容部分７０ｂのうち下段の中部収容部分７０ｂに収容される。

ここで、ウエハ収容部７０の中部収容部分７０ｂに収容されたウエハＷを下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂにより処理する場合には、ウエハ移し換え装置３５の上下一対のフォーク３８ａ、３８ｂのうち下段のフォーク３８ｂにより中部収容部分７０ｂから下部収容部分７０ｃにウエハＷが移し換えられる。なお、この際に、ウエハＷは、２段の下部収容部分７０ｃのうち下段の下部収容部分７０ｃに収容される。その後、下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂがウエハ収容部７０に接近し、この第２のウエハ搬送装置６０ｂの上下一対のフォーク６４ｂのうち下段のフォーク６４ｂによりウエハ収容部７０の下部収容部分７０ｃから下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂにウエハＷが搬送される。そして、ウエハ処理ユニット４０ｂの処理チャンバー内において、ウエハＷに対する処理が行われる。

一方、ウエハ収容部７０の中部収容部分７０ｂに収容されたウエハＷを上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａにより処理する場合には、ウエハ移し換え装置３５の上下一対のフォーク３８ａ、３８ｂのうち下段のフォーク３８ｂにより中部収容部分７０ｂから上部収容部分７０ａにウエハＷが移し換えられる。なお、この際に、ウエハＷは、２段の上部収容部分７０ａのうち下部の上部収容部分７０ａに収容される。その後、上部の第２のウエハ搬送装置６０ａがウエハ収容部７０に接近し、この第２のウエハ搬送装置６０ａの上下一対のフォーク６４ａのうち下段のフォーク６４ａによりウエハ収容部７０の上部収容部分７０ａから上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａにウエハＷが搬送される。そして、ウエハ処理ユニット４０ａの処理チャンバー内において、ウエハＷに対する処理が行われる。

下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂにより処理されたウエハＷは、下部の第２のウエハ搬送装置６０ｂの上下一対のフォーク６４ｂのうち上段のフォーク６４ｂにより、下部のグループのウエハ処理ユニット４０ｂからウエハ収容部７０の下部収容部分７０ｃに搬送される。この際に、ウエハＷは、２段の下部収容部分７０ｃのうち上段の下部収容部分７０ｃに収容される。その後、ウエハ移し換え装置３５の上下一対のフォーク３８ａ、３８ｂのうち上段のフォーク３８ａにより、下部収容部分７０ｃから中部収容部分７０ｂにウエハＷが移し換えられる。この際に、ウエハＷは、２段の中部収容部分７０ｂのうち上段の中部収容部分７０ｂに収容される。

一方、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａにより処理されたウエハＷは、上部の第２のウエハ搬送装置６０ａの上下一対のフォーク６４ａのうち上段のフォーク６４ａにより、上部のグループのウエハ処理ユニット４０ａからウエハ収容部７０の上部収容部分７０ａに搬送される。この際に、ウエハＷは、２段の上部収容部分７０ａのうち上段の上部収容部分７０ａに収容される。その後、ウエハ移し換え装置３５の上下一対のフォーク３８ａ、３８ｂのうち上段のフォーク３８ａにより、上部収容部分７０ａから中部収容部分７０ｂにウエハＷが移し換えられる。この際に、ウエハＷは、２段の中部収容部分７０ｂのうち上段の中部収容部分７０ｂに収容される。

なお、ウエハ収容部７０の上部収容部分７０ａ、中部収容部分７０ｂおよび下部収容部分７０ｃにおいて、ウエハ処理ユニット４０により処理されたウエハＷは、ウエハ処理ユニット４０により処理される前のウエハＷよりも上方に配置されるので、ウエハ処理ユニット４０により処理されたウエハＷが処理される前のウエハＷにより汚染させられることを抑制することができる。

その後、ウエハ収容部７０の中部収容部分７０ｂにあるウエハＷは、第１のウエハ搬送装置５０によって取り出され、再びフープ２０内に送られる。

このようにして、ウエハ処理システム１０ａにおけるウエハＷに対する一連の処理が終了する。

以上のように、図１０に示すような構成のウエハ処理システム１０ａにおいて、ウエハ収容部７０は、上部収容部分７０ａ、中部収容部分７０ｂおよび下部収容部分７０ｃを有しており、中部収容部分７０ｂは、第１のウエハ搬送装置５０によりウエハＷが搬送されるとともに当該第１のウエハ搬送装置５０によりウエハＷが取り出されるようになっている。また、上部収容部分７０ａおよび下部収容部分７０ｃは、それぞれ、上下２段の各々の第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂに対応するよう設けられており、対応する各々の第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂによりウエハＷが搬送されるとともに当該第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂによりウエハＷが取り出されるようになっている。そして、ウエハ移し換え装置３５は、上部収容部分７０ａ、中部収容部分７０ｂおよび下部収容部分７０ｃの間でウエハＷの移し換えを行うようになっている。なお、ウエハ収容部７０において、中部収容部分７０ｂは上部収容部分７０ａと下部収容部分７０ｃとの間に配置されている。

図１０に示すようなウエハ処理システム１０ａでも、図１乃至図９に示すようなウエハ処理システム１０と同様に、ウエハ収容部７０の上下方向における複数の位置（具体的には、上部収容部分７０ａ、中部収容部分７０ｂおよび下部収容部分７０ｃ）にウエハＷを一時的に収容させることができるようにするとともに、ウエハ移し換え装置３５によりウエハ収容部７０に収容されるウエハＷを上下方向の別の位置に移し換えることができるようにすることによって、ウエハ収容部７０の上下方向における各々のウエハＷの収容位置（具体的には、上部収容部分７０ａおよび下部収容部分７０ｃ）と、上下方向に複数段設けられた各グループのウエハ処理ユニット４０ａ、４０ｂとの間で、一のグループのウエハ処理ユニット４０ａ、４０ｂに対応する第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂによるウエハＷの搬送を他の第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂから独立して行うことができるようになる。さらに、第２のウエハ搬送装置６０ａ、６０ｂによるウエハ収容部７０へのアクセスとは独立して、第１のウエハ搬送装置５０がウエハ収容部７０の中部収容部分７０ｂにアクセスすることができるようになる。

このことにより、ウエハ収容部７０と各ウエハ処理ユニット４０ａ、４０ｂとの間でウエハＷを効率的に搬送することができるとともに、ウエハ収容部７０への第１のウエハ搬送装置５０のアクセスをスムーズに行うことができるようになり、このためウエハ処理システム１０ａは単位時間あたりのウエハＷの処理枚数を多くすることができる。

本発明の一の実施の形態におけるウエハ処理システムの構成を示す概略側面図である。 図１に示すウエハ処理システムのＡ−Ａライン矢視による上面図である。 図１に示すウエハ処理システムのＢ−Ｂライン矢視による上面図である。 図２に示すウエハ処理システムのＣ−Ｃライン矢視による側面図である。 図４に示すウエハ収容部の各収容部分の具体的な構成を示す側断面図である。 図２に示すウエハ処理システムのＤ−Ｄライン矢視による側面図である。 図１に示すウエハ処理システムにおける、ウエハが収容された状態でのフープの構成を示す側断面図である。 図７に示すフープのＥ−Ｅライン矢視による断面図である。 図１に示すウエハ処理システムにおける第１のウエハ搬送装置の構成を示す斜視図である。 本発明の一の実施の形態におけるウエハ処理システムの他の構成を示す概略側面図である。

符号の説明

１０、１０ａ ウエハ処理システム
２０ フープ
２１ ハウジング
２２ ウエハ載置部材
２２ａ 開口
２３ 窓部開閉機構
２５ 載置台
３０ ウエハ収容部
３０ａ 上部収容部分
３０ｂ 下部収容部分
３１ 支柱部材
３２ 仕切り部材
３３ 突起部材
３４ ウエハ反転機構
３５ ウエハ移し換え装置
３６ 支柱部材
３７ フォーク支持部材
３８ａ、３８ｂ フォーク
４０ ウエハ処理ユニット
４０ａ 上部のグループのウエハ処理ユニット
４０ｂ 下部のグループのウエハ処理ユニット
５０ 第１のウエハ搬送装置
５１ 基体部材
５２ 垂直移動機構
５３ フォーク支持部材
５３ａ、５３ｂ 水平移動機構
５４ａ、５４ｂ フォーク
５５ 基台
５６ レール
６０ａ、６０ｂ 第２のウエハ搬送装置
６３ａ、６３ｂ フォーク支持部材
６４ａ、６４ｂ フォーク
６５ａ、６５ｂ 基台
７０ ウエハ収容部
７０ａ 上部収容部分
７０ｂ 中部収容部分
７０ｃ 下部収容部分
７４ ウエハ反転機構

Claims (8)

1. 各々が基板の処理を行う複数の基板処理ユニットであって、各基板処理ユニットが上下方向に沿って設けられた複数のグループに区分けされるような複数の基板処理ユニットと、
   複数の基板を上下方向に互いに離間させて一時的に収容するための基板収容部と、
   前記基板処理ユニットにより処理される前の基板を前記基板収容部に搬送するとともに前記基板処理ユニットにより処理された基板を前記基板収容部から取り出すための第１の基板搬送装置と、
   上下方向における前記各グループに対応するよう上下方向に複数段設けられた第２の基板搬送装置であって、対応する前記グループの基板処理ユニットと前記基板収容部との間で基板を搬送するための第２の基板搬送装置と、
   前記第１の基板搬送装置により前記基板収容部に搬送された、前記基板処理ユニットにより処理される前の基板、および前記第２の基板搬送装置により前記基板収容部に搬送された、前記基板処理ユニットにより処理された基板を、それぞれ、前記基板収容部における上下方向の別の位置に移し換えるための基板移し換え装置と、
   を備えたことを特徴とする基板処理システム。
2. 前記基板収容部は、
   前記第１の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該第１の基板搬送装置により基板が取り出される第１の収容部分と、
   前記各第２の基板搬送装置に対応するよう複数設けられた第２の収容部分であって、対応する前記第２の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該第２の基板搬送装置により基板が取り出される第２の収容部分と、
   を有し、
   前記基板移し換え装置は、前記第１の収容部分と前記第２の収容部分との間で基板の移し換えを行うようになっていることを特徴とする請求項１記載の基板処理システム。
3. 前記基板収容部において、前記第１の収容部分は複数の第２の収容部分のうち２つの第２の収容部分の間に配置されていることを特徴とする請求項２記載の基板処理システム。
4. 前記基板収容部は、
   複数の第２の基板搬送装置のうち一の第２の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該一の第２の基板搬送装置により基板が取り出され、また、前記第１の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該第１の基板搬送装置により基板が取り出される第１の収容部分と、
   前記複数の第２の基板搬送装置のうち前記一の第２の基板搬送装置以外の他の第２の基板搬送装置に対応するよう設けられた１または複数の第２の収容部分であって、対応する前記第２の基板搬送装置により基板が搬送されるとともに当該第２の基板搬送装置により基板が取り出される第２の収容部分と、
   を有し、
   前記基板移し換え装置は、前記第１の収容部分と前記第２の収容部分との間で基板の移し換えを行うようになっていることを特徴とする請求項１記載の基板処理システム。
5. 前記第１の基板搬送装置は、基板を保持するためのフォークを上下方向に沿って複数有し、前記基板収容部に基板を搬送したり前記基板収容部から基板を取り出したりする際に前記各フォークにより複数の基板を同時に搬送するようになっていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板処理システム。
6. 前記各グループにおいて、基板処理ユニットは上下方向に沿って複数段設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の基板処理システム。
7. 前記基板収容部に対して、前記第１の基板搬送装置、前記第２の基板搬送装置、および前記基板移し換え装置は、それぞれ別の方向からアクセスするようになっていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板処理システム。
8. 前記基板収容部に対して、前記第１の基板搬送装置、前記第２の基板搬送装置、および前記基板移し換え装置のうち少なくとも２つの装置が同時にアクセスすることができるようになっていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の基板処理システム。

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