TW318258B - - Google Patents

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TW318258B
TW318258B TW085115158A TW85115158A TW318258B TW 318258 B TW318258 B TW 318258B TW 085115158 A TW085115158 A TW 085115158A TW 85115158 A TW85115158 A TW 85115158A TW 318258 B TW318258 B TW 318258B
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Description

318258 經濟部中央搮準局貝工消费合作社印裝 A7 ___B7五、發明説明（1 ) 發明背景 本發明係關於對液晶顯示板（L C D )基板或是半導 體晶圓施加半導體處理的半導體處理裝置。此處所謂的半 導體處理，係指於L C D基板或是晶圓等被處理基板上， 施加爲製造半導體元件而實施之各種處理。 相關技術 以往，例如在LCD基板的製造工程中，係使用數個 於減壓氣氛中對L C D基板施加蝕刻或是灰化等指定處理 的真空處理容器所組成的裝置，也就是多真空室型的真空 處理裝置。 此種多真空室型的真空處理裝置，係具有以各處理室 及門閥（gate valve)爲中介之搬送室，及以搬送室與門 閥（gate valve)爲中介之裝填固定（load lock)室。 此外，真空處理裝置還設有從收容多數L C D基板且於大 氣氣氛中之卡匣取出一枚一枚的L C D基板搬送至裝填固 定室的搬送臂等之外部搬送機構，及設於減壓氣氛之搬送 室內於裝填固定室與各處理室之間搬送L C D基板之內部 搬送機構· 如此之L C D基板真空處理裝置，霱要在一定時間內 儘可能處理更多的基板，也就是說被要求生產率要儘可能 的高•多真空室型真空處理裝置亦即爲了同時處理複數個 基板以提髙生產率。 對於搬送系統也被要求高生產率·因此，作爲外部搬 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. ,tr 5-,ξ J1SS5S A7 ____B7_ 五、發明説明（2 ) 送機構，使用的是具有上下兩段臂而直接支持L C D基板 的搬送系統，即上段載置未處理基板，下段載置已處理基 板而對其加以支撐之構造。 將已處理之基板搬入卡匣並將下一個未處理基板由卡 匣中取出的時候，首先，由下臂進入卡匣內指定的細長孔 (slot)，搬送臂全體降下至指定的高度而將已處理基板 送進細長孔內的載置部份載置，其次，下臂暫時退避至卡 匝外•接著，搬送臂全體向上升，這次上臂進入指定的細 長孔內。其次，搬送臂全體再度上升，把細長孔的載置部 所載置的未處理基板由上臂來支撐。接著，上臂也由細長 孔中退避出來· 然而此種做法也有速度上的極限，對此還更進一步要 求更髙的生產率。 經濟部中央棣準局貝工消费合作杜印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外，於內側搬送機構採用上下兩段式搬送臂而操作 真空處理室內的承受部時，需要經由下列的手績。首先， 上臂於載置未處理基板的狀態下，讓搬送臂進入真空處理 室內。接著讓下臂進入而由承受部接來已處理的基板後， 讓下臂退避其次讓上臂進入將未處理基板搬送至承受部上 。但是這樣的基板交換動作對於縮短基板交換動作的時間 也具有一定的限度，對此還是進一步要求更髙的生產率。 本發明之要約 本發明之目的在於藉由提高被處理基板的搬送效率而 提供高生產率之半導體裝置· 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS > A4規格（210X297公釐） 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印« A7 __B7_ 五、發明説明（3 ) 本發明的第1個觀點所相關的半導體處理裝置係具備 有：以第1間隔而將複數的被處理基板上下整齊排列而收 容之收容部，及 由前述收容部取出前述基板之外部搬送機構*及 在前述外部搬送機構將前述基板搬入的同時對前述基 板施加半導體處理的處理部等部份。此處的前述外部搬送 機構係具有： 可以對前述各基板之一規定出可以被支撐之第1及第 2支撐面，而同時可以相對上下移動之第1及第2臂，及 相對的移動前述第1及第2臂而調整第1及第2支撐 面的上下方向間隔的間隔調整機構，及 讓前述第1及第2背於前述收容部的相對面的位置與 前述處理部相對面的位置之間移動的驅動臂基座；前述第 1及第2臂的各自的上下方向的厚度較前述第1間隔更小 ，此外，前述第1及前述第2臂亦可藉由前述間隔調整機 構而設定爲於水平方向相重叠之重合狀態。 本發明之第2個觀點所相關的半導體處理裝置係具備 有：將複數被處理基板整齊排列而收容之收容部，及 由前述收容部將前述基板取出之外部搬送機構，及 在前述外部搬送機構將前述基板搬入的同時對前述基 板施加半導體處理的處理部等部份•此處的前述處理部係 具有： 載置前述基板之一之載置台，及 將前述基板之一支撐於前述載置台上方之第1位置而 本纸張尺度埴用中•國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 經濟部中央棣準局貝工消費合作社印製 〇i825s A7 ____B7_ 五、發明説明（4 ) 可以在進入狀態與退避狀態之間切換之第1支撐組件，及 將前述基板之一支撐於前述載置台上方之第2位置而 可以在進入狀態與退避狀態之間切換之第1支撐組件，且 前述第1及第2位置的配置方法爲上下重叠，及 對前述載置台將前述基板搬入搬出之內部搬送機構* 前述內部搬送機構係可保持且將前述基板之一對應於第1 及第2位置上下重叠之第1及第2保持部之搬送組件； 此處前述基板之一之第1基板被保持於前述第1保持 部，且前述基板之另一塊基板稱第2基板被前述第2支撐 構件支撐著，前述.搬送構件在進入前述載置台上方的指定 位置時， 前述第1及第2支撐構件對於前述搬送構件藉由相對 上下反方向移動而使得前述第1基板由前述第1保持部交 到前述第1支持構件，同時前述第2基板由前述第2支撐 構件交到前述第2保持部· 本發明之第3個觀點所相關的半導體處理裝置係具備 有：將複數被處理基板整齊排列而收容之收容部，及 由前述收容部將前述基板取出之外部搬送機構，及 前述搬送機構係具有規定出分別可以支撐前述基板之 —且將之上下重叠之第1及第2支撐面之第1及第2臂， 及 藉由前述第1及第2臂，可以通過門閥而可以操作且 可設定於減壓氣氛之第1裝填固定室，及 經由門閥接縯於前述第1裝填固定室且可以設定於減 本纸張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐) ' (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂
i>18^5S A7 _B7_ 五、發明説明（5 ) 壓氣氛之搬送室，及 經由門閥而與前述搬送室相接且可以在減壓氣氛中施 行半導體處理之第1處理室，及 於前述第1裝填固定室與前述第1處理室之間搬送前 述基板而配設於前述搬送室內之內部搬送機構；前述內部 搬送機構係可保持且將前述基板之一對應於第1及第2位 置上下重叠之第1及第2保持部之搬送組件； 此處，前述裝填固定室具有可以支搏前述基板之一且 上下重叠之第1及第2支撐高度，同時具備有可以貫通前 述第1及第2高度而上下移動且協調動作可以支撐前述基 板之一之複數的支撐栓· 本發明較佳之實施形態 第1圖爲本發明之實施形態之真空處理裝置之概觀示 意圖。第2圚爲其內部之概略斷面圖。 經濟部中央梂準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於此實施形態，真空處理裝置1係由玻璃製之L C D 基板上爲形成半導體元件而進行蝕刻或是灰化處理之多真 空室般的構成•處理裝置1的中央部份配設有經由門閥 9 a而接績的搬送室5及裝填固定室3 ·搬送室5係略爲 正方形，與裝填固定室不對面之其他側面分別經由於開口 部加以氣密密封且可開閉之門閥9 a而接績著3個處理室 2、4、6 · 各處理室2、4、6上接績著供給指定處理氣體之供 給手段，及排除真空室內氣體之排氣手段，亦即，各處理 本紙張尺度適用中國國家橾準（CNS ) A4規格（210X297公釐)
olS^〇S Α7 ___Β7 五、發明説明（6 ) 室可以被設定且維持於任意的減壓氣氛•例如，處理室2 、6進行同樣的蝕刻處理，而另一處理室4則進行灰化（ ashing)處理。處理室的組合並不限於此，也可以將適宜 的處理組合起來，如可以利用進行平行處理或是序列處理 等任意的處理等複數的處理室而據以實施。 於各處理室2、4、6內，配設有載置LCD基板S 之承受部（susceptor ) 10。於承受部10內藏有升降 基板用的支撐栓11。支撐栓11與配設於搬送室5內之 搬送機構6 0 a之協調運作而使基板S於承受部1 〇之上 對載置面搬送。 裝填固定室3經由門閥9 b而與外部氣氛相接。門閥 9 b的相反方向之外側配置有搬送機構2 0。搬送機構 2 0經由基台（base) 2 1而設置於支撐台8上· 經濟部中央橾準局員工消費合作杜印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 搬送機構2 0如第3圖所示，於基台2 1上具有可以 上下移動之升降機構（shaft) 2 2 ·升降機構2 2接績 著第1臂2 3，以其一端附近爲中心可以對升降機構2 2 旋轉移動（往返旋轉移動箭頭A) ·於第1臂23接績著 第2臂2 4，以其一端附近爲中心可以對第1臂旋轉移動 (往返旋轉移動箭頭B)。第2臂24上垂直設置升降機 構2 7，爲載置基板S而於升降機構2 7上裝設上叉（f-ork ) 25及下叉26 ·上下叉25、26的旋轉方向與 升降機構2 7 —起旋轉（往返旋轉移動箭頭C )。下叉 2 6從基部2 6 a突起2根距離指定間隔且平行且水平之 夾指（finger) 26b 與 26c。各夾指 26b、26c 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 3ί8細 Α7 _Β7 五、發明説明（7 ) 的上面與支撐之基板直接接觸，適當設置摩擦係數高的例 如合成橡膠製之彈性體或是合成樹脂等材質所製之接觸構 件2 6 d。藉此，可以防止在支撐時該基板位置偏移或是 掉落· 上叉2 5比下叉2 6具有較大的間隔，而具有平行且 成水平之2根指25b、25c。各指25b、25c的 上面與支撐之基板直接接觸，而且適當設置摩擦係數高的 如合成橡膠製之彈性體或是合成樹脂等材質所製之接觸構 件2 5 d。上叉2 5及下叉2 6於上下方向的厚度都較後 述的基板S的卡匣（cassette) 4 2內的收容間隔爲小。 經濟部t央橾準局貝工消費合作杜印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 上叉2 5可以沿著桿2 7而上下移動，往最下方移動 時如第4圖所示，從水平方向來看的話是與下叉2 6相互 重合。此時，上叉25的兩指25b、25c正好位在下 叉26的兩指26b、26c的外側，而與下叉2 6位於 相同的髙度上。此外，此時，使兩叉2 5、26的上側的 支撐面整齊剌一。此處因爲兩叉2 5、2 6的厚度相同， 所以兩叉25、2 6的上側支撐面與下側的底面也於同一 面上。 於升降機構2 7內，內藏有讓上叉2 5上下移動的驅 動機構•該驅動機構可以使用由馬達驅動藉由滾珠螺絲而 讓上叉2 5滑動的機構•爲了防止由滾珠螺絲所構成的驅 動機構而來的微粒子在基板周邊浮游而污染基板，升降機 構2 7內的氣氛是藉由抽真空機構而經常性的向裝置外排 氣·> 本紙張尺度適用中國國家槺準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 〇 觸 58 A7 B7 經濟部中央橾準局負工消費合作社印製 五、發明説明（8 ) 升降機構2 7的變更例爲，滾珠螺絲與一體的覆蓋方 形導軌之形狀，例如可以使用長方形者。此外，爲使上叉 2 5的上下動作更加圔滑而且安定，可以在升降機構2 7 的後方（指25b、25c的相反方向）垂直增設副導軌 〇 支撐台8的側邊配設有卡匣標高器（cassette indexer) 41 * 卡匣標高器 41 之上經由升降機構 4 3 而載 置著收容指定數目（例如2 5枚）的基板S (例如L CD 玻璃基板）的卡E4 2。由升降機構4 3，卡匣4 2可以 上下移動且可以於任意位置停止。 如第1圖第2圖所示，夾著支撐台8而與卡匣標髙器 4 1成相對方向的位置亦可設置另一個卡匣標高器4 1。 藉此，因應處理室2、4、6的處理內容，處理時間等變 數而適切的將未處理基板與已處理基板加以交換、搬送， 而實現高生產率· 裝填固定室3可以設定且維持於任意的減壓氣氛。於 裝填固定室3內，如第5圖所示，配設有支撐基板S用的 具備一對腳架（stand) 3 1的緩衝架.（buffer rack) 3 Ο ·緩衝架3 0爲一次可以收容2枚基板S的構成，藉 此可以提高吸真空以及淨化的效率· 各腳架31具備有上下2個棚32、33。棚32、 3 3被設定爲可以容納於搬送機構20的上下叉2 5、 2 6間的距離內的間隔，形成2段水平的基板支持高度· 於本實施形態，緩衝架3 0的支撐高度間隔被設定爲較卡 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝- 訂 V? 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 經濟部中央揉準局貝工消费合作杜印製 A7 _B7_ 五、發明説明（9 ) 匣42的基板S的支撐間隔爲大。此外各棚32、33的 上側，設有由摩擦係數較髙的合成橡膠所構成的突起3 4 ，以防止基板的移動或是掉落* 緩衝架3 0的一對腳架3 1係可以一體升降的。緩衝 架3 0的升降使得搬送室內所設的搬送機構不必升降而可 以從2片基板中選擇一片取出。 裝填固定室3內，爲同時定位2枚基板而配置有一對 定位器（？03^〇11161*)3 5及確認完成基板定位之光學感測 器（_式中未標示出）。一對的定位器35係於基板對角 線的延長線上成相對方向般的配置。各定位器3 5具有可 於圖中往返箭頭A之方向啓動之支撐物（supporter)3 6 ，及於支撐物3 6上自由旋轉而支撐的一對滾子（roller) 3 6、3 7。 定位器3 5以對角線方向挾持支撐於緩衝架上的2枚 基板的樣態進行基板的定位*滾子3 7係藉由基板側面以 4點押壓的方式對正位置，特別適合用於接近正方形的基 板的對位。滾子3 7是可以拆卸的裝置於支撐物3 6上可 以因應LCD基板的尺寸而逋當交換· 搬送室5係可以被設定且維持於任意的減壓氣氛。搬 送室5內配設有搬送機構6 0 a與緩衝筐體7 0 ·藉由搬 送機構，基板可於裝填固定室3與處理室2、4、6之間 搬送•緩衝筐體7 0可參照第2 0圚以及如後述般，其構 成爲可以收容複數的L C D基板·藉由緩衝筐體7 0可暫 時收容未處理基板或是已處理基板•如此藉由基板的暫時 本紙張尺度逍用中國國家梂準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 經濟部中央橾準局負工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明（l〇 ) 收容而可以寄望提高生產性。 搬送機構6 0 a配設於基座6 8的一端，具有配設於 基座6 8而可以旋轉的第1臂6 2，及配設於第1臂6 2 先端部可以旋轉的第2臂6 4，及其機能爲搬送構件且配 設於第2臂進行基板搬送的先端臂6 5 »參照第2 0圖， 與後述搬送機構6 0不同的是其構成爲先端臂6 5僅能支 撐1片基板。 其次，說明本實施形態相關的真空處理裝置1的動作 〇 首先，於卡匣.4高器4 1載置收容複數未處裡基板例 如標基板S1〜S25的卡匣42·其次，搬送機構如第 1圖第2圖所示，面對卡匣4 2的取出開口部，取出收容 於卡匣最下部的基板S 1。此時，如第4圖所示，上叉2 5的支撐面與底面都降下至與下叉2 6相同的高度，兩者 可以說是一體化· 於此狀態藉由第1臂2 3，第2臂2 4以及上下叉 25、26的旋轉，同一高度的上下叉25、26如第6 圖所示，進入最下部的基板S 1的下方•此時基板S 1與 上下叉2 5、2 6之高度調整是由卡匣4 2的升降機構 4 3來負貴進行•通常是由最下部的基板S 1開始進行處 理，所以藉由升降機構4 3，採用讓卡E4 2暫時升髙到 指定的髙度，而後依次向下降的手縯·當然，由搬送機構 2 0的升降機構2 2來進行高度調整亦可· 接著，位於同一支撐高度的上下叉2 5，2 6進入基 本紙張尺度逍用中國國家揉準（CNS > A4規格（210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 318^5S_B7___ 五、發明説明（11 ) 板s 1下的指定位置後，藉由升降桿2 2搬送機構2 0全 體上升到指定的髙度。藉此，於卡匣4 2內的載置部，其 周緣部被載置的基板S 1係由上下叉2 5、2 6而支撐。 於此場合，卡匣4 2側下降指定的高度亦可。其後，上下 叉25、26由卡匣42退避· 其次，支撐基板S 1的搬送機構2 0的上下叉2 5、 2 6進入裝填固定室3之內，將搬送機構2 0全體下降一 定髙度而將基板S 1載至於腳架3 1上側的棚3 2。其後 ，上下叉2 5、2 6由裝填固定室退避，裝填固定室抽真 空至指定的真空度。其次，真空系的搬送機構6 0 a將基 板取出，搬送至指定的處理室內例如處理室6。於該處對 基板S1進行如蝕刻之類的處理· 此外，於本實施形態，因爲於裝填固定室內可以載置 2枚基板，可以用下列操作取代將基板S 1藉由上下叉 25、26於同一支撐髙度而取得。亦即，讓上叉25的 停止位置比下叉2 6髙出指定高度（例如基板S的卡匣 4 2內的收容間隔）而進入卡匣4 2，下叉2 6支撐基板 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印袈 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 5 1的同時，上叉2 5也支撐到其上之基板S 2，同時將 兩枚基板搬入裝填固定室•藉此，亦可提髙於初期狀態的 生產性。 因真空處理裝置1係具有複數處理室2、4、6的多 真空室型，因此於初期階段，未處理基板依次經由裝填固 定室3，搬送室5而被搬送至處理室2、6，於該處進行 蝕刻，結束後之基板經由搬送室5而直接搬送到處理室4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 經濟部中央橾準局員工消费合作社印装 A7 B7 五、發明説明（12 ) 直接進行灰化處理*因此，搬送機構2 0僅從事將基板由 卡匣中取出而搬運的工作而已。 此處，如第7圚所示般，想像取出第5個基板S 5而 將其搬送至裝填固定室3的狀態*於此狀態，如第8圖所 示，裝填固定室3內的下段緩衝架上已經載置了處理完畢 的基板S 1 ，例如在往裝填固定室3的搬送途中’使上叉 2 5上升，而與下叉2 6分離，藉此，未處理基板S 5僅 被支撐於上叉25。 於此狀態，上叉2 5與下叉2 6進入裝填固定室3內 ，上叉2 5進入上方的上段棚3 2，下叉2 6進入下方的 下段棚3 3。進入指定的位置之後，如第9圖所示’讓上 叉2 5相對於上段棚3 2下降（箭頭D)，下叉2 6相對 餘下段緩衝棚而上升（箭頭E)。藉此未處理的基板S5 ，被載置於上段棚3 2的同時，已處理的基板S 1也被下 叉2 6支撐著•這種動作藉由搬送機構2 0的升降桿2 2 的上升及上叉2 5的下降而達成。_ 藉由這種平行交付的做法，未處理基板搬入裝填固定 室3以及將收容於其內之已處理基板取出的時間可以大幅 縮短，也提升了生產率· 其後，如第1 0圖所示，支撐已處理基板S 1的下叉 26與上叉25由裝填固定室內退避，藉由如第11圖所 示之搬送機構2 0全體方向的轉換，這次如第1 2圖所示 的與卡匣42對面· 其次，支撐處理完畢的基板S 1的下叉2 6與上叉 本紙張尺度適用中國國家搮準（CNS ) ( 210X297公釐） (請先Μ讀背面之注意ί項再填寫本頁)
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31S25S A7 B7_ 五、發明説明（l3 ) 2 5如第1 3圖所示進入卡匣4 2內•此時下叉2 6進入 卡匣4 2內的最下部的上方，上叉2 5進入其次未處理的 基板S 6的下方的指定位置· 而後這回上叉25對於卡匣42(更具體的說是對被 載置的基板S6)相對上升（第13、14圖的箭頭F) ，另一方面支撐處理完畢的基板S 1的下叉2 6對於卡匣 4 2 (更具體的說是對最下部的載置部）相對上升（第 13、14圖的箭頭G)·藉此，未處理的基板S6被上 叉2 6支撐的同時，處理完畢的基板S 1已被卡匣4 2的 最下部的載置部所載置。這樣的動作可以藉由搬送機構 2 0的升降桿2 2的下降與上叉2 5的上升而實現。此外 升降桿2 2的下降亦可以藉由升降機構4 3而以卡匣4 2 的上升來取代之· 藉由這種平行交付的做法，將處理完畢的基板搬入卡 匣4 2內以及由該卡匣4 2內取出被收容的未處理基板的 時間可以大幅縮短，也提升了生產率。 其後，支撐未處理基板S 6的上叉2 5與下叉2 6如 第1 5圖所示退避到卡匣4 2外，再度回到裝填固定室3 ，藉由已經描述過的裝填固定室內的平行交付，而與處理 完畢的基板S 2交換。 如此藉由上叉與下叉處於分離狀態而將已處理基板與 未處理基板的平行交付係於卡匣4 2內殘存著的中間狀態 進行· 接著卡匣4 2內已無未處裡基板時（終期狀態），如 本紙張尺度適用中國國家揲準（CNS )六4说格（210X297公釐） —1 fi — (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央橾準局貝工消费合作杜印装 〇182〇8 A7 _ B7_ 五、發明説明（I4 ) 第4圖所示上叉2 5下降至與下叉2 6同一高度，兩者再 度一體化。於此狀態由裝填固定室3接受處理完畢的基板 ，如第1 6圖所示，實施往卡匣4 2搬運該處理完畢之基 板之搬送、收容動作。 如以上說明，本實施形態相關的真空處理裝置1，將 處理完畢的基板由裝填固定室3取出及將未處理基板收容 於裝填固定室3內，以及，將未處理基板由卡匣4 2內取 出及將處理完畢的基板收容於卡匣4 2內因爲將這些動作 平行處理，所以與過去將取出與收容兩個動作分開處理來 作比較，本發明幾乎節省了 1 /2的操作時間，而提高了 生產率。 經濟部中央橾準局負工消费合作社印裝 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外，於前述的實施形態中，上叉2 5與下叉2 6其 上下採用相同厚度的形式，於一體化的狀態（第4圖的狀 態）由水平方向看來是處於相互重合的型態，不限於此而 只有一部份重合的形態也可以。無論如何只要是比卡匣 42的基板S的排列間隔更小的厚度就好。藉此，構成 基板支持部的上叉2 5與下叉2 6的形態可以自由設計， 即使是基板變大也可以使之具有足夠的強度* 另外，搬送機構20係由第1臂23、第2臂24之 一端近旁以多關節構造構成而可以相互旋轉，除此之外， 如第1 7圇所示，只於1個地方使用旋轉系而於其他地方 使用直線滑動系的搬送機構8 0亦可》 搬送機構8 0具有基座板8 1，沿著其長邊方向配設 有可以滑動驅動（圖中的往復箭頭L )的滑軌8 2。此滑 本紙張尺度適用中國國家揉率（CNS ) A4規格（210X297公釐） 17 - 3ί 8^58 Α7 _Β7_ 五、發明説明（15 ) 軌8 2上裝設有於水平面內可以旋轉驅動（圖中的往復旋 轉箭頭M)的L字形腳架8 3 *於腳架8 3的垂直部還裝 設有可以垂直升降驅動（圇中的往復箭頭N)的水平板 8 4· 水平板8 4上爲載置基板S而配設上叉8 5與下叉 8 6 »下叉8 6是裝設於水平板8 4可以沿著長邊方向滑 動驅動（圖中的往復箭頭Q) ·下叉8 6的基部8 6 a垂 直設立副腳架8 7，上叉8 5則裝設於副腳架8 7上而可 以升降驅動*也就是說，上叉8 5與下叉8 6同時可以沿 著水平板8 4的長邊方向一體滑動。 與搬送機構2 0相同，搬送機構8 0的上下叉8 5、 8 6也可以如一塊板子般的重合在一起。另外關於搬送機 構的詳細機構參考第2 8圖而於後詳述。 使用此種構成的搬送機構8 0的話，可以將處理完畢 的基板往卡匣4 2收容，也可以同時進行將基板由卡匣取 出，因此可以增進工作率•因爲搬送機構只有一處使用旋 經濟部中央橾準局月工消费合作社印裝 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 轉構造，其他全部是直線滑動系，因此可以髙速安定動作 〇 如上所述*本寅施形態的半導髖裝置，可以並行處理 對收容體搬入處理完畢的基板並將未處理基板搬出，大幅 提高了生產率。而且於上述裝置，可以連績進行蝕刻灰化 的處理，與蝕刻的單一處理相比，可以對應使用者的霈求 具有極高的泛用性· 第1 8圖顯示本發明之另一實施形態之真空處理裝置 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — 18 — Α7 _Β7_ 五、發明説明（16 ) 之概觀斜視圖·第1 9圇爲其內部之概略斷面圖。於這些 圖中，如有使用和第1圖至第1 7圖使用相同的符號時， 省略其詳細說明。 此實施形態之真空處理裝置1 A，亦以於玻璃製之 L C D基板上形成半導體元件而進行蝕刻處理及灰化處理 的多真空室型之構成。亦即如第1 8圖所示，與先前的實 施形態相同接縯著3個處理室2、4、6。各處理室2、 4、6上接續著供給指定處理氣體之供給手段，及排除真 空室內氣體之排氣手段，亦即，各處理室可以被設定且維 持於任意的減壓氣氛。例如，處理室2、6進行同樣的蝕 刻處理，而另一處理室4則進行灰化處理。處理室的組合 並不限於此，也可以將適宜的處理組合起來，如可以利用 進行平行處理或是序列處理等任意的處理等複數的處理室 而據以實施· 經濟部中央橾準局員工消费合作社印袈 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於各處理室2、4、6內，配設有載置LCD基板S 之承受部1 0。於承受部1 0配設有支撐基板S用的支撐 栓11。於本實施形態，支撐栓11之外還於承受部1〇 的周圍配設4根支撐基板用的支撐構件12·關於支撐栓 與支撐構件詳見後述。 裝填固定室3參照第21圖與先前的實施例有相同的 構成。亦即裝填固定室3可以設定且維持於任意的減壓氣 氛·於裝填固定室3內，配設有支撐基板S用的具備一對 腳架3 1的緩衝架3 0 ·緩衝架3 0爲一次可以收容2枚 基板S的構成，藉此可以提高吸真空以及淨化的效率· 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 318258 A7 B7 五、發明説明（17) 此外，裝填固定室3內，爲同時定位2枚基板而配置有一 對定位器3 5及確認完成基板定位之光學感測器（圖式中 未標示出）。 裝填固定室3經由門閥9 b而接於外部氣氛。裝填固 定室3的外側部配設有2個卡匣索引41 ，其上分別載置 收容L C D基板的卡匣4 2。卡匣之一收容未處理基板， 另一卡匣收容已處理基板。卡匣4 2藉由升降機構4 3而 可以升降。 2個卡匣4 2之間，於支撐台5 1上配設有基板搬送 機構。搬送機構50於上下兩段配設臂52、53與支撐 並使可以一體進出退避且可以旋轉之基座5 4。臂5 2、 5 3上形成有支撐基板用的4個突起5 5 ·突起5 5係由 摩擦係數高的合成橡膠製的彈性體所構成，防止支撐基板 中發生位置偏離或是掉落的意外· 經濟部中央標準局月工消費合作杜印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 搬送機構5 0藉由臂5 2、5 3而可以同時搬送2枚 基板。亦即對於卡匣4 2，可以同時取出或是裝入2枚基 板。各卡匣4 2的高度藉由升降機構4 3來調整•藉由臂 5 2、5 3而設定於基板的取出位置或是裝入位置。臂 5 2、5 3的間隔被設定爲較各卡匣的基板支持間隔的最 大值還要大。因此可以對應種種的卡匣。 此外，亦可只設置一個卡匣。於此場合，處理完畢的 基板會回到同一個卡匣內的空隔內。搬送室5內可以被設 定並維持於任意的減壓氣氛。於搬送室5內，如第20圚 所示*配設有搬送機構6 0與可以收容複數的L C D基板 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 經濟部中央橾準局貝工消费合作杜印製 318^58 A7 _ B7_ 五、發明説明（18 ) 的緩衝筐體7 0 ·藉由搬送機構6 0而將基板搬送到裝填 固定室3及處理室2、4、6 ·此外，藉由緩衝筐體70 可暫時收容未處理基板或是已處理基板。如此藉由基板的 暫時收容而可以寄望提髙生產性。 搬送機構6 0配設於基座6 8的一端，具有配設於基 座6 8而可以旋轉的第1臂62，及配設於第1臂6 2先 端部可以旋轉的第2臂64，及配設於第2臂可以旋轉且 支持基板的抓取夾66。 藉由基座6 8內藏的驅動機構讓第1臂6 2、第2臂 6 4以及抓取夾6 6移動，而可以搬送基板。此外搬送機 構6 0藉由配設於基座6 8下的壓力缸機構6 9而可以上 下移動，此外以壓力缸爲軸亦可以旋轉 搬送機構6 0的抓取夾6 6具有兩段構成之叉6 6 a 、66b ·藉由上叉66a支撐未處理基板，而藉由下叉 6 6 b而支撐已處理基板。此外，於圖中並無檩示，各叉 尙未防止支撐基板中發生位置偏離或是掉落的意外，均配 有由摩擦係數高的合成橡膝製的彈性體所構成之突起。 緩衝筐體7 0系於基座6 8的另一端配置爲對於基座 68可以升降》筐體70具有4個緩衝筐體72、74、 76、78，形成水平的4段支撐基座高度。這些緩衝筐 體位支撐基板而設有突起7 9 ·突起7 9係由摩擦係數高 的合成橡膠製的彈性體所構成，防止支撐基板中發生位置 偏離或是掉落的意外。 搬送機構6 0及緩衝筐體7 0係以壓力缸6 9爲軸與 ^紙伕尺度遄用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 策. ,ιτ -21 - 318258 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 五 .發明説明（19 ) 1 基 座6 8為一體而 可旋轉。 如此 藉 由 讓基 座 6 8 旋 轉 而 使 1 I 得搬送 機構6 0可 以 面對處 理室 2 4、 6 或 是 裝 填 固 定 1 1 室 3 · 各處理室2 4、6 內配 設 上 述般 的 承 受 部 1 0 〇 1 1 承 受部 1 0爲形成 電 漿用的 下部 電 極 。於 承 受 部 1 0 的 周 請 先 I 1 圍 ，如 第2 1圖所 示 配設有 陶瓷 質 的 遮蔽 環 1 3 0 閲 讀 背 1 1 4 枝支撐栓1 1 (第2 支撐構件 )係配 設 於 承 受 部 之 注 1 I 1 0的 邊緣而可以 進 出退避 0 4 根 支 撐構 件 1 2 ( 第 1 支 意 事 項 1 1 I 撐構件 )係具有配 設 於承受 部的 周 圖 的遮 蔽環 1 3 而 可 以 再 填 1 進 出退避之支撐棒 1 2 a與 配設於 其 •JlX» Xflt 目IJ端 之 伸 出構 件 寫 本 頁 装 1 1 2 b 。藉由支持 棒 12a 的進 入 可以 支 持 基 板 接 收 1 1 基 板時 於第1位置 支 持未處 理基 板 S 1 β 此 外 ♦ 支 撐 栓 1 1 1的 進入而使得 支 撐基板成爲 可 能 ，接 受 基 板 時 於 低 於 1 訂 第 1位 置之第2位 置 支撐處 理完 畢 之 基板 S 2 〇 支 撐 構 件 I I 1 2於 退避位置， 如 第2 5 A翮 所 示 ，伸 出 構 件 1 2 b 處 1 1 1 於 不會妨礙到成受部 1 0的狀態 〇 但是* 支撐構 件 1 2 於 1 1 I 支 撐位 置如第2 5 B 圖所示 ，支 撐棒 12 a 的 迴 轉 造 成 伸 A V» 出 構件 由承受部向 外 突出而 位於 支 撐 位置 〇 / 1 抓 取夾6 6其 上 叉6 6 a係 對應 於前 述 第 1位 置 t 下 ί 1 叉 6 6 b係對應於前述第2 位置 而設 定其高 度 〇 如 後 述 般 1 | 上叉 6 6 a於支撐 未處理 今板 的 狀 態下 裝 入 處 理 室 內 時 1 1 未處 理基板於交 付 至位於 第1 位 置 之支撐構 件 1 2 的 同 1 1 I 時 ，位 於第一位置 由 支撐拴所支 撐 之 已處 理 基 板 是 由 叉 1 6 6 b 所接收。 1 1 其 次，說明如 上 之構成 之裝 置 之動作 〇 1 1 1 本紙張尺度遑用中國國家梂丰（CNS ) A4規格（210x297公釐） -22 - 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 318^53 A7 B7 五、發明説明（2〇 ) 首先，搬送機構50是以2枚臂52、53來驅動進 退，由收容未處理基板的一方的卡匣4 2 (第1 8圖左側 的卡匣）取出2枚基板並同時搬入裝填固定室3。 於裝填固定室3內，緩衝架30的棚32、33保持 2枚基板S。臂5 2及5 3退避後，裝填固定室內的大氣 側的門閥被關上。其後開始排氣，達到指定的真空度如 1 O^To r r程度之減壓。抽完真空後，藉由一對對位 器3 5的4個滾子9 0而押壓基板S進行位置比對。 如此位置對好之後，搬送室5即裝填固定室3之間的 門閥9 a被打開*由防止污染的観點由下段棚3 3的基板 S透過搬送機構6 0而搬入搬送室5內，保持於緩衝筐體 7 0最上方的緩衝區7 2。這個場合，基板S於緩衝架上 預先決定好指定的間隔而支撐，因此搬送機構的動作控制 並不依存於卡匣4 2的基板支撐間隔。亦即，不同的基板 支搂間隔並不需要對於各間隔變更搬送機構的動作量而無 須複雜之操作•亦即，可以減低裝置內之污染。 於搬送室5內搬入基板的狀態，再抽真空以達到 1 〇-4Τ 〇 r r程度的真空時，可以減少裝置內的污染。 其次藉由搬送機構6 0搬入搬送室內且保持於緩衝架7 2 將基板S搬送至指定的處理室，如處理室2。於此場合 ，除了最初搬送的場合以外，處理室內存在著已處理之基 板，需要進行已處理基板與未處理基板的交換· 此時參照第2 1圖至第2 4圖來說明· 首先，處理室之承受部1 0上載置已處理之基板S 2 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（210X297公釐） A策-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央榣準局貝工消费合作杜印製
31SS5S A7 _B7 五、發明説明（21) 的狀態下，支撐構件1 2由第2 5A圖的狀態進入。進而 如第2 5 B圖般旋轉支撐棒1 2 a，伸出構件1 2 b位於 承受部側的突出位置•於此狀態此支撐構件12爲可以位 於第1位置接受未處理基板S1的狀態。 其次，使支撐栓1 1進入並使已處理基板向上升，成 爲能夠於第2位置支撐。藉由以上的動作，形成如第2 1 圖的狀態•於此場合，搬送機溝6 0的抓取夾6 6其上叉 6 6 a對應於前述第1位置，其下叉6 6 b對應於前述第 2位置而設定其髙度，使上叉6 6 a支撐未處理基板S 1 〇 其次如第2 2圚所示，抓取夾6 6進入承受部的上方 ，將未處理基板S1搬送至承受部1〇的上方的第1位置 。於此場合叉6 6 b位於已處理之基板的正下方。於此狀 態讓支持構件1 2的支撐棒1 2 a稍稍上升，同時降下支 撐栓11。藉此，未處理基板S1由支撐構件所支撐的狀 態下，同時已處理之基板被支撐於下叉6 6之狀態。 之後如第2 3圖所示，處理完畢之基板S 2支撐的狀 態下讓抓取夾退避6 6。接著如第2 4圖，再度使支撐栓 進入並處理基板S 1，使支撐構件1 2退避回到圖2 5 A 的狀態。此動作與第2 4圖的動作並行，搬送室與處理室 內的門閥9 a進入避門動作開始進行過程之前處理》亦 即第2 4圖的動作對於生產率並無影響*如此藉由處理室 內的基板交換，未處理基板的搬入與處理過後的基板的搬 入以及藉由保持部一次的移動而進行*爲此，可以顯著減 本纸法尺度適用中國國家捸準（CNS ) A4规格（210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 笨·
、tT -24 - 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印袋 A7 B7 五、發明説明（22) 少基板的交換實踐·亦即過去這種交換操作需時17秒， 使用本法可以縮短到8秒以下。 如此於進行動作時，裝填固定室3內的棚3 2的基板 也被搬送進搬送室5內，保持於任一緩衝器。此種動作對 於卡匣4 2內的基板依序實行·此時因爲裝填固定室3及 搬送室5內的緩衝器的存在而可以不花費等待時間而連續 將基板搬入裝置內。提髙生產率。 處理完畢的基板S 2經由搬送機構而回到搬送室5， 進而經由裝填固定室3內藉由搬送機構5 0的臂5 2、 53而插入處理完畢之基板用的卡匣42(第18圚的右 側的卡匣）。 以上的處理由於有緩衝機構的存在，而且特別是由於 處理室內基板交換的髙效率化*可得過去未曾有過的高生 產率。此外，於上述裝置，蝕刻，灰化處理的連績處理亦 爲可能*這方面也有高效率。另外藉由變更過程，蝕刻、 蝕刻之連續處理，蝕刻之單一處理可以應使用者需要而調 整，極具泛用性。 例如，作爲支撐構件1 2而於支撐棒1 2 a的先端伸 出平板狀的構件12b 如第26圇所示，先端具有鉤狀 部1 2 c的栓狀支撐構件1 2 X亦可•而支撐構件1 2 X 於退避位置，如第2 7A圖所示，完全收容於遮蔽構件 13內，其上蓋有1 2 d ·支撐構件1 2 X進入支撐位置 時，如第2 7 B圖所示，蓋子1 2打開，上升至支撐位置 後旋轉，使鉤狀部1 2 c成爲往承受體1 0側突出之狀態 本紙張尺度逋用中國國家梂準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 ο18άύ8 Α7 Β7 五、發明説明（23) 。此外，支撐未處理基板之支撐構件（第1支撐構件）不 限於退避時上升下降的形式，例如藉由旋轉移動而退避亦 可•此外，抓取夾6 6亦即保持部也不限於上述說明之種 種物品•作爲抓取夾使用固定配設的上下兩段叉，此種叉 亦可使用可以獨立移動的•而且，基板支撐部亦不限於叉 狀，搬送機構50之臂52、53般的板狀亦可。 第2 8圖顯示本發明其他的實施形態相關的真空處理 裝置之概觀。第2 9圖與第3 0圖爲其內部之概略。這些 圖中，參照第1至第2 7 B圖的內容而與上述2個實施形 態共通的部份對於同一符號省略其說明。 此實施形態之真空處理裝置1 B，如第2 8圖所示， 與先前的實施形態相同接續著3個處理室2、4、6。處 理室2、4、6經由門閥9 a而分別接績至正方形的搬送 室5。例如，處理室2、6進行同樣的蝕刻處理*而另一 處理室4則進行灰化處理· 各處理室2、4、6內與先前的實施例相同，由配設 有4之支撐栓1 1即4根支撐構件1 2的承受部1 0 ·亦 即如前所述各處理室2、4、6處理完畢之基板與未處理 之基板的交換操作可以於搬送室5內配置之搬送機構6 0 的一個進出動作而進行。 搬送室5的另一邊，上下兩個裝填固定室3a、3b 分別經由門閥9 a而接績。此外裝填固定室3 a、3b與 基板卡匣4 2之間爲了搬送LCD基板S而取代搬送機構 5 0配設以第1 7圖所示之搬送機構8 0相同構造的搬送 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4规格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 策-
,1T 經濟部中央樣準局貝工消費合作社印製 318^58 A7 _B7_ 五、發明説明（24 ) 機構· 搬送機構8 0具有基座板8 1，沿著其長邊方向配設 有可以滑動驅動的滑軌8 2。此滑軌8 2上裝設有於水平 面內可以旋轉驅動的L字形腳架8 3 ·於腳架8 3的垂直 部還裝設有可以垂直升降驅動的水平板8 4。 水平板8 4上爲載置基板S而配設上叉8 5與下叉 8 6 ·下叉8 6是裝設於水平板8 4可以沿著長邊方向滑 動驅動（圇中的往復箭頭Q)。下叉8 6的基部8 6 a垂 直設立副腳架8 7，上叉8 5則裝設於副腳架8 7上而可 以升降驅動。也就是說，上叉8 5與下叉8 6同時可以沿 著水平板8 4的長邊方向一體滑動。 上叉85的指85b、85c以及下叉86的指 86b、86c係於上下方向厚度相同，而較基板S的卡 匣42內的收容間隔爲小。此外，上叉85的指85b、 85c的內邊緣之間的幅較下叉86的指86b、86c 的外邊緣幅稍大。而且下叉8 6的基部8 6 a，較其指 86b、86 c更較下凹陷上叉85的基部85 a的厚度 〇 也就是說，上叉8 5降至最低點時，上叉8 5的指 85b、85c與下叉86的指86b、8 6c從橫方向 看來如一枚板子般的相互重合。此時，上叉8 5的指 85b、85c正好與下叉86的指86b、86c之外 側處於同一平面位置。此外此時至少兩個叉8 5、8 6的 上側支撐面被調整爲高度相同。此處兩叉8 5、8 6的厚 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 袈_ 318^53 B7 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印製 五、 發明説明（25 ) 1 | 度相 同 因 此 兩 叉的 上 側 支撐 面 與 下 側 支 撐 面 都 位於 同 樣 的 1 1 髙度 〇 1 | 使 用 此 種 構成 的 搬 送 機構 8 0 的 話 9 可 以 將 處 理 完 畢 1 I 的 基 板 往 卡 匣 4 2 收容 » 也 可 以 同 時進行將 基 板 由 卡 匝 取 請 先 閲 1 1 | 出 因 此 可 以 增進 工 作 率 〇 因 爲 搬 送 機雄 孩稱 只 有 一 處使 用 旋 讀 背 面 1 1 I 轉 構 造 9 其 他 全部 是 直 線 滑 動 系 贅 因 此 可 以 高 速 安 定 動 作 之 注 1 I 意 I 事 1 項 I 再 1 兩 個 裝填 固定 室 3 a 3 b 分 別 爲 可 以 設 定 且 維 持 於 寫 本 笨 任 意 減 壓 氣 氛 中〇 亦即 兩 個 裝填 固 定 室 3 a 、 3 b 分別 經 頁 1 | 由 門 閥 g a 而 接績 於 搬 送 室 5 0 此 外 藉 由 可 以 個 別 動 作 的 1 1 門 閥 9 b 而 與 外部 氣 氛 相 接 〇 1 1 I 於 此 實 施 形態 兩 個 裝 填 固 定 室 3 a \ 3 b 具 有 如 第 1 訂 3 1 圖 所 示 之 相同 內 部構 造 〇 亦即 各 裝 填 固 定 室 3 a > 1 1 3 b 具 有 水 平 的兩段 基 板 支撐高度 — 次 可 以 保 持 2 片 基 1 1 板 S 〇 上 段支 撐高度 由 相 對 方 向 的 — 對帶 ( band ) 9 1 來 1 丄 規 定 » 下 段支 撐高度 爲 由 相 對 方 向 之 一 對 待 9 2 而 規 定 〇 1 各帶 9 1 、9 2 配 設 有 向 .¾ a· m 方擴 展 的 *~~- 對 指 9 3 〇 指 1 1 I 9 3 裝 設 於 設 於內 側 壁 之 驅 動 部 9 4 » 由 驅動 部 9 4 在 第 1 1 | 3 1 圖 所 顯示 的位 置 9 與指 9 3 向 側 壁 退 避 的 退避 位 置 之 1 1 間 旋 轉 驅 動 〇 1 1 此 外 於 各裝填 固 定 室 3 a \ 3 b 的 底 壁 之 下 配 置 驅 動 1 1 部 ( 未 於 圖 中 標示 ) 而 藉 以 上 下 驅 動 4 根 支 撐 栓 9 6 〇 支 1 I 撐 栓 9 6 於 底 壁下 退 避 用 的 退 避 位 置 與 帶 9 1 所 規 定 的 上 1 1 | 段 支 撐 高 度 更 向上 突出 之 突 出 位 置 之 間 可 以 移 動 同 時 可 以 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部中央標準局員工消费合作社印裝 318^58 B7 五、發明説明（26 ) 停止在任意位置。 各指9 3閉上而處於第3 1圖所示之位置時，藉由帶 9 1、9 2可以對應基板S而支撐對應的支撐髙度•相反 的各指9 3於退避位置打開的話，支撐栓9 6所支撐的基 板S可以通過方向相對之一對帶9 1、9 1之間或著是一 對帶92、92之間通過· 更進一步，於此實施形態配設於搬送室5的傳送機構 60x具有上下2叉66 s及66b之抓取夾66 ·但是 並無附設緩衝筐體7 0 ·這是因爲上下兩個裝填固定室 3a與3b配設的同時，不只是處理室2、4、6，連裝 填固定室3 a與3 b亦可以藉由搬送機構6 Ο X的一個進 出動作來交換操作已經處理過的基板和未處理基板，因此 可以省略到緩衝筐體·此外，抓取夾6 6不需要向著緩衝 筐體7 0側因此抓取夾與基座6 8由1個中間臂相接續。 進而，基座6 8藉由壓力缸機構6 9而可以上下驅動。 如上述般的構成，各裝填固定室3 a與3 b藉由搬送 機構6 Ο X —連串的動作，可以交換操作已處理基板與未 處理基板•此操作藉由配設支撐栓1 1.與支撐構件12於 處理室2、4、6及承受器10上而得以實現•與已處裡 基板及未處理基板之間的交換操作類似· 此外，裝填固定室3a與3b的各帶91、92的指 9 3爲開閉可能，是因爲例如，空檔時間由處理完畢的基 板S上段支撐高度至下段支撐髙度移動等附隨的動作相對 應的緣故。亦即，處理完畢之基板與未處理基板之交換操 本紙張尺度適用中國國家樣準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 袈_ 訂 3iS 細 A7 ________B7 五、發明説明（27 ) 作的搬送機構6 Ο X的一個進出動作而已的話，各帶9 1 、9 2的指9 3不做開閉動作，只要固定於第3 1圖所示 之位置即可· 其次，裝填固定室3 a與3 b藉由搬送室5的搬送機 構6 Ο X而交換已處理基板與未處理基板的操作》此處， 假設搬送機構的下叉6 6 b支撐已處理基板S 1 ，而裝填 固定室3 a的帶9 1 (上段支撐髙度）支撐未處理基板 S 2的狀況·此外，裝填固定室3 a的上下段支撐髙度之 間的間隔較搬送機構6 Ο X的上下段支撐高度間的間隔更 大。又，省略門閥9 a等附隨的操作。 首先，由抓取夾6 6的下叉6 6 b支撐已處理之基板 5 1，以帶9 1支撐未處理基板S 2而插入裝填固定室 3a內。此時抓取夾66的上下叉66a、66b 的雙 方位於裝填固定室3 a上下帶9 1、9 2之間之位置· 其次，使支撐栓9 6上升，由支撐栓9 6而自抓取夾 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 6 6的下叉6 6 b接受已處理之基板S 1。其次，與支撐 栓96同時上升抓取夾66，由上叉66a自帶91接受 未處理基板S 2 » 其次，由上叉6 6 a而支撐未處理基板S 2的抓取夾 66退避至搬送室5。其次，降下支撐栓96，於帶92 (下段支撐高度）上載置已處理基板S 1 · 其次，接著上述的操作，說明裝填固定室3 a與3 b 藉由外部氣氛側的搬送機構8 0而交換已處理基板與未處 理基板的交換操作·此處假設裝填固定室3 a的帶92 ( 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS > A4規格（210X297公釐） 經濟部中央梂準局貝工消费合作杜印製 A7 B7_ 五、發贺説明（"° ) 下段查撐高度）支撐著已處理基板S 1，搬送機構8 0的 上叉8 5上支撐著未處理基板的狀況。又門閥9 b等附隨 的操作說明於此省略· 首先，上叉8 5支撐未處理基板的搬送機構8 0插入 由帶9 2支持已處理基板S 1之裝填固定室3 a內。此時 搬送機構8 0的上下叉8 5、8 6之間的間隔預先留大， 上下叉8 5、8 6之間裝填固定室3 a的上下帶9 1 、 9 2至指定位置。 其次，升起搬送機構8 0的水平板8 4，同時將上叉 85向下叉86移動。由此操作，上下叉85、86在上 升的同時，兩者間隔變窄。亦及，上叉85自上帶9 1載 置未處理基板S 3的同時，藉由下叉8 6而由下帶9 2接 受已處理之基板S 1。 第3 2圖係根據第2 8圖至第3 1圖而敘述之實施形 態相關的真空裝置相關的L C D基板S的搬送順序示意圖 。此處，假設處理室2、6進行相同的蝕刻處理，處理室 4進行灰化處理，於第3 2圖爲了避免混亂，僅對於（a )附加處理裝置各室之參照符猇。（b )〜（s )之中的 數字僅標示L CD基板S的基板S 1〜S 8的係數而已。 首先，導入基板S1至下裝填固定室3 b，導入基板 S2至上裝填固定室3a·(第32圓（b) ， （c)) •其次，將基板S1由下裝填固定室3 b經由搬送室5 ( 第32圖（d))，裝至處理室2，開始進行對基板S1 的蝕刻。又，平行於將基板 S1裝置處理室2的過程將 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS > A4规格（210XW?公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 装. 訂 -31 - 經濟部中央橾準局—工消费合作杜印製 a? _B7_ 五、發明説明（29 ) 基板S3搬入裝填固定室3b (第32圖（e) ) ·接著 ，於處理基板S 1時，基板S 2由上裝填固定室3 a經由 搬送室5 (第32圖（f))裝至處理室6，開始進行對 基板S 2之蝕刻。又，基板S 2可以平行於裝設基板S 2 於處理室6，同時將基板S 4搬入上裝填固定室3 a (第 3 2 圖（g ))。 其次，於基板SI、S2在處理中時，基板S3由下 裝填固定室3b向搬送室5移動（第32圖（h)) •進 而於處理基板S 2的途中，將蝕刻完畢之基板S 1及S 3 藉由搬送機構6 Ο X的一進出動作而交換，基板S 1由搬 送室5取下的同時，基板S 3裝填入處理室2。又如此並 行處理，對下裝填固定室3b搬入基板S5 (第32圖（ i ) ) · 其次，基板S 2、S3在處理中基板S1由搬送室5 裝填至處理室4，開始基板 S1的灰化處理（第32圖 (j))。進而，基板S2、S3、S1的處理中，基板 S4由上裝填固定室3 a移動至搬送室5 (第3 2圖（k ))。接著基板S3、S1在處理中，蝕刻處理完畢的基 板S 2由搬送室取出的同時將基板S 4裝填進處理室6。 又，與此平行處理將基板S 6搬進上裝填固定室3 a (第 3 2 圖（1 ) ) · 其次，基板S3、S4處理中，灰化處理完畢之基板 S 1與S 2藉由搬送機構6 Ο X的進出動作而交換•基板 S 1由搬送室5取出的同時將基板S 2裝入處理室4內（ 本紙張尺度適用中國國家橾準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 318^58 A7 B7 基板S3、S4、S2處理中 ，處理完畢之基板S 1與S 5藉由搬送機構6 0 x的進出 動作而交換，基板s 1由下裝填固定室3 b取出的同時將 基板S5裝入搬送室5內（第32圖（η))。接著，基 板S 4、S 2於處理中，蝕刻處理完畢之基板S 3與S 5 藉由搬送機構6 Ο X的進出動作而交換，基板S 3由搬送 室5取出的同時將基板S 5裝入處理室2內。此外與此並 行處理，處理完畢之基板S1與S 7基板藉由外部氣氛 側的搬送機構8 0的進出動作而交換，取出基板S 1的同 時將基板S7搬入下裝填固定室3b(第32圖（〇)) ---------'策-- (請先Η讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央橾率局貝工消费合作社印裝 、1Τ 以下藉由同樣操作的反覆 s))，基板S1〜S8可以 成處理，而由真空處理裝置搬 及下裝填固定室之基板交換的 有之高工作率得以實現。 又，本發明並不限於上述 明之要旨範圍內做種種的變形 置的各特徵部份的各實施形態 合·例如第1圖所示之處理裝 比較支撐栓11與支撐構件1 而使用敘述過之搬送機構6 0 裝置，亦可使用於第3圖所述 圇所述之裝填固定室3 a、3 操作（第32圖（p)〜（ 依係數由小排到大的順序完 出*如以上之處理，處理室 髙效率化，而使得過去未曾 的實施形態，而可以在本發 。特別是分別敘述了處理裝 ，這些特徵部份可以任意組 置與第2 1圖所示之裝置作 2之組合或是參照第2 0圖 。此外第1 8圖所示之處理 之搬送機構2 0或是第3 1 b ·此外第2 8圖所示之處 本紙張尺度適用中國國家樣準（CNS Μ4规格（210Χ297公釐） 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 __B7 _ 五理、1« 使>用第5圖所述之裝填固定室3或是第2 0 圖所述之搬送機構60* 進而，例如本發明對於具有單一處理室之處理裝置也 能適用，不限於真空處理，於常壓甚至正壓的處理裝置也 能適用。又，不限於蝕刻、灰化裝置，於成膜裝置或是其 他種種的處理裝置亦能適用•更且被搬送基板不限於 L C D基板，半導體基板或是其他基板亦可適用》 圖式之簡單說明 第1圓爲本發明之實施形態相關概觀之真空處理裝置 之斜視圊。 第2圚爲第1圖之裝置內部之概略橫剖平面圖。 第3圓爲第1圚之裝置之外部搬送機構之上叉與下叉 處於分離狀態之斜視圖。 第4圖爲第3圖所示之搬送機構於上叉與下叉重叠狀 態時之斜視圖。 第5圚爲第1圖所示之裝置之裝填固定室內配置之緩 衝架及位置器之斜視圖· 第6圖及第7圚爲藉由第3圓所示之搬送機構而由卡 匣內將未處理基板取出之示意圖* 第8圖至第11圖爲藉由第3圖所示之搬送機構而由 裝填固定室內對未處理基板與已處理基板進行交換動作之 示意圖· 第1 2圖至第15圖爲藉由第3圖之搬送機構而對卡 L張尺度逍用中國國家揉準（CNS ) A4规格（2丨0X297公釐)~ -34 - ---------T 笨---1---1T------f (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 318^58 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 B7__五、發明説明（32 ) 匣進行未處理基板與已處理基板之交換動作之示意圖· 第1 6圖爲藉由第3圖之搬送機構而將已處理基板收 容於卡匣之示意說明圖。 第1 7圖爲本發明之變形例之外部搬送機構之斜視圖 第1 8圖爲本發明另一實施形態之真空處理裝置之概 觀斜視圖。 第1 9圖爲第1 8圖所示之裝置之內部之概略斷面圖 〇 第2 0圖爲第1 8圖所示之裝置之配設於搬送室內之 搬送機構及緩衝筐髖之斜視躕· 第2 1至第2 4圖爲第1 8圓所示之裝置之處理室之 基板交換操作之說明圖· 第2 5 A、B圖爲第1 8圖所示之裝置之處理室內之 支撐未處理基板之支撐組件之動作示意圖。 第2 6圖爲第1 8圖所示之裝置之處琿室內支撐未處 理基板之支撐組件之變形例· 第2 7A、B圖爲第2 6圖所示之支撐組件之動作示 意圖· 第2 8圖爲概觀本發明之其他實施形態之真空處理裝 置之斜視圖。 第2 9圖爲第2 8圖所示之裝置之內部概略之剖面圖 〇 第3 0圖爲第2 8圖所示之裝置之內部之概略側面圖 本紙張尺度適用中國國家梂準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ---------'策-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -* -35 - A7 B7 五、發明説明（33 ) 〇 第3 1圖爲第2 8圖所示之裝置之裝填固定室內部之 概略斜視圖。 第3 2圖爲第2 8圖所示之裝置之基板搬送順序之說 明圖。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝_ 訂 經濟部中央樣準局属工消费合作社印製 本紙張尺度適用中國國家橾準（CNS ) A4规格（210X297公釐）

Claims (1)

  1. 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1.一種半導體處理裝置|係具有： 於第1間隔上下整齊收容複數的被處理基板的收容部 :及 由前述收容部取出前述基板之外部搬送機構；及 藉由前述外部搬送機構而將前述基板搬入同時對前述 基板施加半導體處理之處理部；其中，前述外部搬送機構 係具備有‘· 將前述基板之一分別規定出可以支撐之第1及第2支 撐面同時可以上下移動之第1及第2臂；及 相對的移動前述第1及第2臂而調整第1及第2支撐 面的上下方向間隔的間隔調整機構，及 讓前述第1及第2臂於前述收容部的相對面的位置與 前述處理部相對面的位置之間移動的驅動臂基座且前述第 1及第2臂的各自的上下方向的厚度較前述第1間隔更小 ，此外，前述第1及前述第2臂亦可藉由前述間隔調整機 構而設定爲於水平方向相重叠之重合狀態· 2 .如申請專利範圔第1項之半導體處理裝置，其中 :於前述之重合狀態，前述第1及第2支撐面係位於同一 平面上。 3 .如申請專利範園第2項之半導體處理裝置，其中 :前述第1及第2臂於上下方向的厚度於實質上是同一的 〇 4 ·如申請專利範圔第3項之半導體處理裝置，其中 :前述第1臂具有開口部，前述第2臂具有與前述開口部 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 订 -37 - 經濟部中央橾率局負工消费合作社印装 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 互捕形狀之輪廓· 5 .如申請專利範圍第1項之半導體處理裝置，其中 :前述驅動臂基座可與前述第1及第2臂一體上下移動。 6 ·如申請專利範圍第1項之半導髖處理裝置，其中 :前述處理部具備有藉由前述第1及第2臂而通過門閥而 可以操作且可以在減壓的氣氛下設定之第1裝填固定室； 前述第1裝填固定室對前述基板之一可以支撐且具有可以 上下方向重叠堆積之第1及第2支撐高度。 7 .如申請專利範圍第6項之半導體處理裝置，其中 :前述處理部具備有：前述第1裝填固定室經由門閥而接 續至可以設定於減壓氣氛之搬送室：及 於前述搬送室通過門閥而接績至於減壓氣氛爲進行前 述半導體處理之第1處理室；於前述搬送室配設有前述第 1裝填固定室與前述第1處理室之間爲搬送前述基板之內 部搬送機構；於前述內部搬送機構，具備有可以保持前述 基板之一且可以上下重叠堆稹之第1及第2保持部之搬送 構件。 8 ·如申請專利範圍第7項之半導體處理裝置，其中 :前述處理部具備有藉由前述第1及第2臂透過門閥而可 以操作且可以設定於減壓氣氛且經由門閥而接績於前述搬 送室之第2裝填固定室，前述第1及第2裝填固定室爲上 下重叠。 9 .如申請專利範圍第7項之半導體處理裝置，其中 :經由門閥而與前述搬送室接績之於減壓氣氛進行半導體 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS > A4规格（210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本覓) 装. 訂 J, -38 - A8 Β8 C8 D8 々、申請專利範圍 處理之第2處理室。 其 10·如申請專利範圍第7項之半導體處理裝置 中： (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 爲載置前述基板之一而於前述第1處理室內配設載置 台；及 爲將前述基板之一支撐於前述載置台上方之第1位置 而可以於進入狀態跟退出狀態之間切換其狀態之第1支撐 構件；及 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 爲將前述基板之一支撐於前述載置台上方之第2位置 而可以於進入狀態跟退出狀態之間切換其狀態之第2支撐 構件*其中第1及第2位置係配置爲上下可以累積重叠； 此處，前述基板之一之第1基板被保持於前述搬送構件之 前述第1保持部，且前述基板之外的另一基板第2基板由 前述第2支撐構件的支撐，而於搬送構件於前述載置台上 方進入指定位置.的過程中，前述第1及第2支撐構件對於 前述之搬送構件做相對上下的反方向移動，而藉此前述第 1基板由前述第1保持部交到前述第1支撐構件同時前述 第2基板由前述第2支撐構件交到前述第2保持部* 1 1 .如申請專利範園第9項之半導體處理裝置，其 中：前述第1及第2基板於交付時，前述搬送構件處於停 止的狀態，而前述第1及第2支撐構件於上下方向移動。 12 . —種半導體處理裝置，係具有： 上下整齊收容複數的被處理基板的收容部：及 由前述收容部取出前述基板之外部搬送機構：及 本紙張尺度逋用中國國家樣率（CNS Μ4规格（210X297公釐） -39 - 經濟部中央揉準局貞工消費合作社印製 ^>18^58 μ C8 _. D8 々、申請專利範圍 藉由前述外部搬送機構而將前述基板搬入同時對前述 基板施加半導髖處理之處理部；其中，前述處理部具備有 :爲載置前述基板之一之載置台；及 爲將前述基板之一支撐於前述載置台上方之第1位置 而可以於進入狀態跟退出狀態之間切換其狀態之第1支撐 構件；及 爲將前述基板之一支撐於前述載置台上方之第2位置 而可以於進入狀態跟退出狀態之間切換其狀態之第2支撐 構件，其中第1及第2位置係配置爲上下可以累稹重叠； 對於前述載置台，前述基板搬入搬出用之內部搬送機 構，及 前述內部搬送機構係可以保持前述基板之一且可分別 對應前述第1及第2位置而具備有上下重合之第1及第2 保持部之搬送構件； 此處，前述基板之一之第1基板被保持於前述搬送構 件之前述第1保持部，且前述基板之外的另一基板第2基 板由前述第2支撐構件支撐的狀態下，而於搬送構件於前 述載置台上方進入指定位置的過程中，前述第1及第2支 撐構件對於前述之搬送構件做相對上下的反方向移動，而 藉此前述第1基板由前述第1保持部交到前述第1支撐構 件同時前述第2基板由前述第2支撐構件交到前述第2保 持部· 13.如申請專利範圍第12項之半導體處理裝置， 其中：前述第1及第2基板於交付時*前述搬送構件處於 本紙張尺度逋用中國國家棣準（CNS ) A4规格（210X297公釐) (請先聞讀背面之注$項再填寫本頁) 裝_ 訂 -40 - A8 B8 C8 D8 318253 六、申請專利範圍 停止的狀態’而前述第1及第2支撐構件於上下方向移動 〇 14·如申請專利範園第12項之半導體處理裝置， 其中：前述第2支撐構件係由對於前述載置台突出而可以 退避之複數支撐拴所構成，突出時於前述第2位置支撐前 述基板之一，且於退避時可以將前述基板之一載置於載置 台上。 15. 如申請專利範圍第12項之半導體處理裝置， 其中：前述第1位置係位於前述第2位置的上方，前述第 1支撐構件係具有當其位於前述第1位置時位於前述第2 基板的外側的複數的支撐棒，及於這些支撐棒上端朝向內 側突出的伸出構件；於前述第1位置，前述第1基板載置 於前述伸出構件上，前述第2基板藉由前述搬送構件搬送 之後，前述第1基板由前述第1支撐構件交付至前述第2 支撐構件的同時，前述第1支撐構件退出。 16. 如申請專利範圉第15項之半導體處理裝置， 其中：前述第1支撐構件的複數的支撐棒被設置爲可對於 前述載置台可以突出及退避，前述伸出構件於前述載置台 外側移動的同時，藉由前述支撐棒的退避，而使得前述第 1支撐構件退出。 17. 如申請專利範團第13項之半導體處理裝置， 其中：前述處理部具備有：可以設定於減壓氣氛之搬送室 ;及經由門閥而接績前述搬送室且於減壓氣氛進行前述半 導體處理之第1處理室；前述載置台配設於前述第1處理 本紙張尺度逋用中國國家揉率（CNS > A4规格（210X297公釐> --------y C------ίτ------κ ^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印S. _ 41 _ 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 Λ Α8 318258 ll D8 7C、申請專利範圍 室內，前述內部搬送機構配置於前述搬送室內· 1 8 .如申請專利範圍第1 7項之半導體處理裝置， 其中：前述處理部具備有：經由門閥而接績前述搬送室且 可設定於減壓氣氛之第1裝填固定室；前述第1裝填固定 室具有可以支撐將前述基板之一且具有上下重叠之第1及 第2支撐高度。 1 9 .如申請專利範圍第1 8項之半導體處理裝置， 其中：前述第1裝填固定室係具有貫通於前述第1及第2 高度可以上下移動可以支撐前述基板之一之複數支撐栓。 2 0 .如申請專利範圍第1 9項之半導體處理裝置， 其中：前述內部搬送機構係可以將前述搬送構件於上下方 向移動· 2 1 .如申請專利範圍第1 8項之半導體處理裝置， 其中：前述處理部具備有：經由門閥而接縯前述搬送室且 可設定於減壓氣氛之2個裝填固定室；前述第1及第2裝 填固定室係上下重叠· 2 2 .如申請專利範園第1 7項之半導體處理裝置* 其中：於減壓氣氛處理半導體之第2處理室經由門閥而被 接績至前述搬送室。 23 · —種半導體處理裝置，係具有： 上下整齊收容複數的被處理基板的收容部：及 由前述收容部取出前述基板之外部搬送機構；及 藉由前述外部搬送機構而將前述基板搬入同時對前述 基板施加半専證處理之處理部；其中，前述外部搬送機構 本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS ) Α4洗格（210X297公釐> (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. -42 - 318^58 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 係具備有： 將前述基板之一分別規定出可以支撐之第1及第2支 撐面同時可以上下移動之第1及第2臂；及 藉由前述第1及第2臂可經由門閥而操作且可以設定 爲減壓氣氛之第1裝填固定室：及 接續於前述第1裝填固定室而經由門閥被接續且可以 設定爲減壓氣氛之搬送室：及 經由門閥而接至前述搬送室之且可於減壓氣氛中進行 半導體處理之第1處理室：及 位於前述第1裝填固定室與前述第1處理室之間位搬 運前述基板而配置於前述搬送室內之內部搬送機構，其中 前述內部搬送機構係具備有將前述基板之一保持且可上下 重叠之第1及第2保持部之搬送構件； 此處前述的裝填固定室係可以支撐前述基板之一且具 有上下可重叠之第一及第2支撐髙度同時貫通前述第1及 第2高度而可以上下移動且可以協同支撐前述基板之一之 複數的支撐栓。 2 4 .如申請專利範圍第2 3項之半導體處理裝置， 其中：前述內部搬送機構可將前述搬送構件上下移動· 2 5 .如申請專利範園第2 3項之半導體處理裝置， 其中：前述外部搬送機構可將前述第1及第2臂上下移動 〇 2 6 ·如申請專利範困第2 3項之半導體處理裝置， 其中：前述處理部係具有可經由門閥而接績至前述搬送室 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（2丨0X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裟· 訂 經濟部中央標準局員工消费合作社印装 -43 - SlSkoS A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 且可以設定爲減壓氣氛之第2裝填固定室；前述第1及第 2裝填固定室係上下重合。 2 7 .如申請專利範圍第2 3項之半導體處理裝置， 其中：爲於減壓氣氛進行半導體處理之第2處理室經由門 閥接續至前述搬送室。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公瘦） -44 -
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