JP4123249B2 - 真空処理装置およびその運転方法 - Google Patents
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Description
更に、第2の真空排気手段および第2のベント手段を用いることによって、処理室ゲートバルブおよび予備室ゲートバルブの開閉時に両ゲートバルブに差圧が加わるのを防止することができるので、両ゲートバルブの開閉が容易になる。
4 トレイ
24、24a、24b 処理室
26 処理室ゲートバルブ
28a、28b 真空予備室
30 予備室ゲートバルブ
32 大気側ゲートバルブ
34 予備室移動機構
54 真空シール体
64 真空ポンプ
70 圧縮空気源
72 基板搬送機構
78 真空ポンプ
G 隙間
Claims (7)
- 平面内で互いに実質的に直交する2方向をX方向およびY方向とすると、
基板に処理を施すための固定された一つの処理室と、
前記処理室に取り付けられていて、前記基板を通すことができる処理室ゲートバルブと、
移動可能な複数の真空予備室と、
前記各真空予備室に取り付けられていて、前記基板を通すことができる予備室ゲートバルブと、
前記処理室ゲートバルブと前記予備室ゲートバルブとが互いに接近して前記X方向において所定の隙間をあけて相対向したり離れたりするように、前記各真空予備室を個別にまたは連動させて前記Y方向に一次元で移動させる予備室移動機構と、
前記処理室ゲートバルブの周縁部に設けられていて、膨張および収縮可能であり、膨張時に、互いに接近している前記処理室ゲートバルブと前記予備室ゲートバルブとの間の前記隙間を真空シールする真空シール手段と、
前記処理室ゲートバルブと前記予備室ゲートバルブとが互いに接近した状態において、両ゲートバルブおよび前記真空シール手段を通して、前記処理室と前記真空予備室との間で前記基板を搬送する基板搬送機構と、
前記各真空予備室を真空排気する第1の真空排気手段と、
真空状態にある前記各真空予備室内に気体を導入して当該各真空予備室内を大気圧状態にする第1のベント手段と、
前記真空シール手段によって囲まれる空間を真空排気する第2の真空排気手段および真空状態にある当該空間に気体を導入して当該空間を大気圧状態にする第2のベント手段とを備えていることを特徴とする真空処理装置。 - 平面内で互いに実質的に直交する2方向をX方向およびY方向とすると、
基板に処理を施すためのものであって前記Y方向に並べて固定された複数の処理室と、
前記各処理室に取り付けられていて、前記基板を通すことができる処理室ゲートバルブと、
移動可能な複数の真空予備室と、
前記各真空予備室に取り付けられていて、前記基板を通すことができる予備室ゲートバルブと、
前記処理室ゲートバルブと前記予備室ゲートバルブとが互いに接近して前記X方向において所定の隙間をあけて相対向したり離れたりするように、前記各真空予備室を個別にまたは連動させて前記Y方向に一次元で移動させる予備室移動機構と、
前記各処理室ゲートバルブの周縁部に設けられていて、膨張および収縮可能であり、膨張時に、互いに接近している前記処理室ゲートバルブと前記予備室ゲートバルブとの間の前記隙間を真空シールする真空シール手段と、
前記処理室ゲートバルブと前記予備室ゲートバルブとが互いに接近した状態において、両ゲートバルブおよび前記真空シール手段を通して、前記処理室と前記真空予備室との間で前記基板を搬送する基板搬送機構と、
前記各真空予備室を真空排気する第1の真空排気手段と、
真空状態にある前記各真空予備室内に気体を導入して当該各真空予備室内を大気圧状態にする第1のベント手段と、
前記真空シール手段によって囲まれる空間を真空排気する第2の真空排気手段および真空状態にある当該空間に気体を導入して当該空間を大気圧状態にする第2のベント手段とを備えていることを特徴とする真空処理装置。 - 前記各真空予備室の、前記予備室ゲートバルブが設けられた面と反対側の面に、大気中との間を仕切る大気側ゲートバルブが設けられている請求項1または2に記載の真空処理装置。
- 前記各真空予備室は、その内部に、複数枚の前記基板を収納可能なものである請求項1、2または3に記載の真空処理装置。
- 前記基板は、それを保持するトレイに保持されて搬送される請求項1、2、3または4に記載の真空処理装置。
- 請求項1に記載の真空処理装置の運転方法であって、
前記複数の真空予備室の内の一つと前記処理室とを、前記真空シール手段によって真空シールした状態で結合して、両室間で基板の交換を行う動作と並行して、残りの真空予備室の内の少なくとも一つにおいて、真空状態にある当該真空予備室内に気体を導入して当該真空予備室内を大気圧状態にすること、当該真空予備室と大気中間での基板の交換および当該真空予備室の真空排気の各動作を行うことを特徴とする真空処理装置の運転方法。 - 請求項2に記載の真空処理装置の運転方法であって、
前記複数の真空予備室の内の一つにおいて、真空状態にある当該真空予備室内に気体を導入して当該真空予備室内を大気圧状態にすること、当該真空予備室と大気中間での基板の交換および当該真空予備室の真空排気の各動作を行うのと並行して、残りの真空予備室の内の少なくとも一つを用いて、前記複数の処理室の内の一つにおいて処理済の基板を当該処理室から搬出し、かつ当該基板を他の処理室へ搬入する動作を行うことを特徴とする真空処理装置の運転方法。
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