CN101010601A - 透明导电性膜及触摸屏 - Google Patents

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Abstract

本发明的透明导电性膜在透明膜基材的一个侧面有硬涂层，进而在该硬涂层上有通过干法工艺形成的10～300nm厚的SiOX膜，在透明膜基材的另一个侧面有20～35nm厚的透明导电性薄膜。所述的透明导电性膜具有良好的耐湿热性，笔输入耐久性优异，在冲压加工时能抑制裂纹的产生，良好的耐湿热性，即使在高温高湿的环境下，也能抑制膨胀或卷曲的产生。

Description

透明导电性膜及触摸屏
技术领域
本发明涉及在可见光区域内是透明的、并且具有导电性的透明导电性膜。本发明还涉及使用该透明导电性膜的触摸屏。透明导电性膜用于液晶显示屏、电致发光显示屏等新的显示屏方式或触摸屏等的透明电极，除此之外，还用于透明物品的防静电或者遮蔽电磁波等。
背景技术
迄今为止，作为透明导电性薄膜，已知有在玻璃上形成氧化铟薄膜的、即所谓的导电性玻璃，可是因为导电性玻璃的基材是玻璃，可挠性、加工性差，有时出现因用途不同而无法使用的情况。因此，近年，除从可挠性、加工性之外，还从优良的耐冲击性、轻质等优点考虑，使用以聚对苯二甲酸乙二醇酯膜为代表的各种塑料膜为基材的透明导电性膜。可是，使用上述膜基材的现有透明导电性膜因薄膜表面的光反射率大，存在透明性差的问题，除此之外，还存在下述问题：透明导电性膜的耐摩擦损伤性和耐弯曲性差，在使用中有划伤导致电阻增大，或产生断线等问题。另外还具有环境适应性差的问题。
另外，使用这样的透明导电性膜的触摸屏因膜的膨胀和卷曲而产生牛顿环，使识别性变差的问题。针对该问题，例如提出了作为使硬涂处理膜与导电膜贴合的透明导电性膜，将形成硬涂处理膜的透明基材与硬涂层在纵向及横向的热收缩率差控制在较低值的方案(参照专利文献1)。专利文献1中记载的透明导电性膜虽然在加热加工时不易产生卷曲，但是耐湿热性不足，由于保管、运输等环境变化或者在高温高湿度的环境下有时出现产生卷曲的情况。还提出了通过在透明导电性膜中透明导电层的相反侧的面，按金属氧化物层、收缩固化性树脂硬化层的顺序进行设置，利用收缩固化性树脂的硬化层矫正金属氧化物层引起的凸卷曲(参照专利文献2)。在专利文献2中，收缩固化性树脂的硬化层中主要用聚硅氧烷类热固化性树脂，但是由于聚硅氧烷类热固化树脂通过涂布、固化形成的硬化层耐湿热性差，在高温高湿度环境下产生卷曲。另外，对于上述问题，提出形成如下的透明导电性膜的方案：在膜基材的两面形成硬涂层，在一侧形成透明导电性薄膜，在另一侧形成金属氧化物(例如SiOX)薄膜(专利文献3)。但是如果在两面都设有硬涂层，则因膜的柔软性降低，而笔输入耐久性不足，或者冲压加工时易产生裂纹。
专利文献1：特开2002-73282号公报
专利文献2：特开平11-216794号公报
专利文献3：特开平2-5308号公报
发明内容
本发明目的为提供一种透明导电性膜，所述透明导电性膜耐湿热性良好，笔输入耐久性优良，能抑制冲压加工时裂纹的产生，即使在高温高湿度环境下也能抑制膨胀和卷曲的产生。
另外，本发明的目的还提供使用上述透明导电性膜的触摸屏。
本发明人等对上述应当解决的问题进行深入地研究，结果发现通过以下所示的透明导电性膜及触摸屏能实现上述目的，从而完成了本发明。
即本发明涉及一种透明导电性膜，其特征在于，在透明膜基材的一个侧面有硬涂层，进而在该硬涂层上有通过干法工艺形成的10～300nm厚的SiOX膜，透明膜基材的另一个侧面有20～35nm厚的透明导电性薄膜。
上述本发明的透明导电性膜中，透明膜基材的一面具有规定厚度的透明导电性薄膜，其反面具有硬涂层，进而具有通过干法工艺形成的规定厚度的SiOX膜。上述硬涂层能提高其耐药品性、耐摩擦损伤性。而且，相对于规定厚度的透明导电性薄膜，由于其反面形成了规定厚度的SiOX膜，即使在高温高湿度的环境下，也能同样控制浸入膜基材两面的水分，能抑制膨胀或卷曲的产生。如上所述本发明的透明导电性膜的耐湿热性良好，不易产生膨胀或卷曲，所以不易产生由此出现的牛顿环，能提供具有稳定的识别性的触摸屏。上述构成的本发明的透明导电性膜具有柔软性，优良的笔输入耐久性，能抑制冲压加工时的裂纹的产生。
SiOX膜的厚度为10～300nm。上述厚度不到10nm，则SiOX膜难以稳定地形成为连续膜，无法抑制膨胀或者卷曲。若厚度超过300nm，则在SiOX膜产生裂纹，不能得到稳定的性能。从上述方面来看，SiOX膜的厚度优选为10～200nm，更优选为20～150nm。而且SiOX膜通过干法工艺形成。通过涂覆聚硅氧烷类热固化性树脂或硅溶胶等的湿法形成SiOX膜的情况下，即使SiOX膜的厚度满足上述范围，也难以控制浸入到膜基材的水分，耐湿热性不足，在高温高湿度的环境下，无法抑制膨胀或者卷曲。
上述透明导电性膜优选SiOX膜侧的水蒸气透过率为2g/(m2·24hr·atm)以下。通过使上述水蒸气透过率在2g/(m2·24hr·atm)以下，可以将浸入到膜基材两面的水分控制成与透明导电性薄膜侧相同，由此可以进一步抑制膨胀或卷曲的产生。上述水蒸气透过率更优选在1.5g/(m2·24hr·atm)以下。
另一方面，透明导电性薄膜的厚度为20～35nm。若上述厚度不足20nm，则表面电阻值有变高的趋势，而且难以稳定地将透明导电性薄膜形成为连续膜。另外，如果厚度超过35nm，则可能导致透明性降低等。从上述方面来看，透明导电性薄膜的厚度优选为20～35nm，更优选为21～29nm。
上述透明导电性膜优选在上述SiOX膜上进一步有防污层。防污层的形成除了可以防止污染之外，还可以提高笔的滑动性。
在上述透明导电性膜中，透明膜基材可以使用通过透明的粘合剂层贴合2片以上透明膜基材的透明膜基材的层叠体。
在上述透明导电性膜中，作为透明导电性薄膜，优选含有铟锡氧化物(ITO)的薄膜。
在上述透明导电性膜中，SiOX膜的折射率优选为1.40～2.00。
在上述透明导电性膜中，SiOX膜可以是从硬涂层侧起，至少由折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)，按此顺序层叠而成的。
在上述透明导电性膜中，SiOX膜可以是从硬涂层侧起，由折射率调整至1.5～1.69的SiOX膜(3)、折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)，按此顺序层叠3层而成的。
另外，在上述透明导电性膜中，SiOX膜可以是从硬涂层侧起，可由折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)，按此顺序层叠2次共4层而成的。
上述的SiOX膜(1)的折射率优选为1.75～1.85。上述的SiOX膜(2)的折射率优选为1.42～1.47。上述的SiOX膜(3)的折射率优选为1.551.65。
如上所述，由控制折射率的2层以上形成的SiOX膜，不仅耐湿热性和防反射功能提高，而且提高了透明导电性膜的透明性。
另外，本发明还涉及一种触摸屏，具有透明导电性薄膜的一对屏板，以透明导电性薄膜相对的方式，通过隔片相对设置，其特征在于，至少一侧屏板为上述的透明导电性膜。
将上述透明导电性膜用于屏板的触摸屏，因不易产生膨胀或卷曲而不易出现由此产生的牛顿环，能提供具有稳定识别性的触摸屏。
附图说明
图1：是显示本发明的透明导电性膜的一例的剖面图。
图2：是显示本发明的透明导电性膜的一例的剖面图。
图3：是显示本发明的透明导电性膜的一例的剖面图。
图4：是显示本发明的透明导电性膜的一例的剖面图。
图5：是显示本发明的透明导电性膜的一例的剖面图。
图6：是显示本发明的透明导电性膜的一例的剖面图。
图7：是显示本发明的透明导电性膜的一例的剖面图。
符号说明
1透明膜基材
11a透明膜基材
12a透明膜基材
11b粘合剂层
2透明导电性薄膜
3硬涂层
4SiOX膜
41折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜
42折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜
43折射率调整至1.5～1.69的SiOX膜
5防污层
具体实施方式
下面参照附图对本发明进行说明。图1是本发明的透明导电性膜的一例，在透明膜基材1的一个侧面有透明导电性薄膜2，在其相反侧有硬涂层3，进而在硬涂层3上有SiOX膜4。
在图1中，透明膜基材1使用1片透明膜基材1。图2是用透明膜基材11a和透明膜基材12a通过粘合剂层11b占合在一起的层叠体1代替图1的透明导电性膜中的透明膜基材1的一个例子。图2中虽然是由2片透明膜基材层叠而成，但是层叠3片以上透明膜基材也是可行的。作为本发明中透明膜基材1可以使用上述的层叠体。图3是在图1的透明导电性膜的SiOX膜4进一步具有防污层5的例子。图4是在图2的透明导电性膜的SiOX膜4进一步具有防污层5的例子。
图5至图7是SiOX膜4至少由(1)折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜41和(2)折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜42层叠而成的情况。在图5中SiOX膜41和SiOX膜42按此顺序从硬涂层侧起层叠2层。在图6中从硬涂层侧起按(3)折射率调整至1.5～1.69的SiOX膜43、然后SiOX膜41、SiOX膜42的顺序层叠3层。在图7中从硬涂层侧起SiOX膜41和SiOX膜42按此顺序层叠2次共4层。图5至图7是将图4中的SiOX膜4设为多层的例子，但将SiOX膜4设为多层的情况对图1至3也同样适用。
在本发明的透明导电性膜中使用的透明膜基材1，使用1片透明膜基材。另外也可使用2片以上的透明膜基材通过粘合剂层贴合而成的层叠体。
透明膜基材的材料没有特别限制，可以适当选择使用各类透明材料。作为其材料，例如可以举出聚酯类树脂、乙酸酯类树脂、聚醚砜类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚烯烃类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、聚氯乙烯类树脂、聚偏氯乙烯类树脂、聚苯乙烯类树脂、聚乙烯醇类树脂、聚芳酯类树脂、聚苯硫醚类树脂等。其中优选聚酯类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚烯烃类树脂。
透明膜基材在表面预先进行溅射、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子束照射、化学表面处理、氧化等蚀刻处理或者底涂处理，可有利于提高此上设有的SiOX膜或者透明导电性薄膜的密合性。而且在SiOX膜或者透明导电性薄膜形成之前，可以根据需要通过溶剂清洗或者超声波清洗等进行除尘、清洁化。
透明膜基材1的厚度优选为75～400μm左右。更优选为100～200μm。透明膜基材的厚度小于75μm时，持久性的问题或加工性会出现问题。透明膜基材的厚度大于400μm则使触摸屏部位变大，且触摸屏的输入特性就变得需要用力，不优选。
另外，透明膜基材1是2片以上的透明膜基材的层叠体时，可以选择适合的各膜基材的厚度、材料，但是至少有一片厚度优选为20～125μm。
透明膜基材1制成透明膜基材的层叠体时所用的粘合剂层没有特别限制，具有透明性即可。例如，可以使用丙烯酸类粘合剂、硅酮类粘合剂、橡胶类粘合剂等。通过透明基体粘结后的缓冲效果，粘合剂层具有提高在膜基材1的一个侧面设有的透明导电性薄膜2的耐摩擦损伤性或作为触摸屏用的打点特性的功能。从更好地发挥其功能的观点出发，优选将粘合剂层的弹性系数设定在1～100N/cm2的范围，厚度在1μm以上，通常在5～100μm范围内。
上述弹性系数不足1N/cm2时，因为粘合剂层不具有弹性，加压易变形，而使膜基材1甚至透明导电性薄膜2产生凹凸，且粘合剂易从加工切断面溢出等，进而降低透明导电性薄膜2的耐摩擦损伤性和作为触摸屏用的打点特性的提高效果。另一方面，若弹性系数超过100N/cm2，则粘合剂层变硬，因其缓冲效果消失，透明导电性薄膜2的耐摩擦损伤性或作为触摸屏用的打点特性也不能提高。若粘合剂层的厚度不足1μm，因缓冲效果也消失，而不能提高导电性薄膜的耐摩擦损伤性或作为触摸屏用的打点特性。相反地，厚则透明性降低，对于粘合剂层的形成或者膜基材的贴合操作性及成本都没有好处。
用于透明导电性薄膜2形成的薄膜材料没有特别限制，例如，可优选使用含有氧化锡的氧化铟、含有锑的氧化锡等。透明导电性薄膜2的形成方法有例如真空蒸镀法、溅射法、离子镀膜法、涂覆法等。对应于上述材料的种类及必要的膜厚可以采取适宜的方法。其中优选含有氧化锡的氧化铟(铟锡氧化物，ITO)。透明导电性薄膜2的厚度如前所述为20～35nm。透明导电性薄膜2优选其表面电阻值在1×103Ω/□以下，且具有良好导电性的连续覆膜。
在透明膜基材1中，作为在透明导电性薄膜2的相反侧形成的硬涂层3的材料，可举出氨基甲酸酯类树脂、三聚氰胺类树脂、醇酸类树脂、环氧类树脂、丙烯酸类树脂、聚酯类树脂、聚乙烯醇或乙烯·乙烯醇的共聚物等的聚乙烯醇类树脂、氯乙烯类树脂、偏氯乙烯类树脂。还有聚芳酯类树脂、砜类树脂、酰胺类树脂、酰亚胺类树脂、聚醚砜类树脂、聚醚酰亚胺类树脂、聚碳酸酯类树脂、硅酮类树脂、含氟树脂、聚烯烃类树脂、聚苯乙烯类树脂、乙烯基吡咯烷酮类树脂、纤维素类树脂、丙烯腈类树脂等都能用于硬涂层的形成。这些树脂材料中，优选氨基甲酸酯类树脂，特别优选氨基甲酸丙烯酸酯。另外，在树脂层的形成中，也可以使用2种以上适宜树脂的混合物。
另外，硬涂层3可以为抗眩层。例如作为抗眩层，在上述硬涂层形成树脂中优选由分散无机物粒子或者有机物粒子而成的硬化皮膜来形成。进一步，抗眩层、硬涂层表面可以通过喷砂处理或模转印等机械地改变表面形状来形成。在形成上述硬涂层的材料中可以通过分散无机或者有机填料而形成牛顿环的对策层。
在硬涂层3上具有由干法工艺形成的10～300nm厚的SiOX膜4。干法工艺可采用真空蒸镀、溅射法、离子镀膜法等方法。SiOX的折射率优选为1.40～2.00。SiOX膜的x为1.0～2.0。
SiOX膜4通过干法工艺形成上述厚度，从而可以控制本发明的透明导电性膜在SiOX膜4侧的水蒸气透过率和透明导电性薄膜2侧的水蒸气透过率相同。SiOX膜4侧的水蒸气透过率优选在2g/(m2·24hr·atm)以下，进而在1.5g/(m2·24hr·atm)以下。透明导电性薄膜2侧的水蒸气透过率优选与上述相同。
SiOX膜可以形成1层，但是由不同折射率的2层以上形成则能提高防反射功能。SiOX膜由2层以上形成时，SiOX膜的总厚度应调整至10～300nm。
SiOX膜在2层以上时，从硬涂层侧起，至少由折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)按此顺序层叠而成。SiOX膜为3层时，从硬涂层侧起，由折射率调整至1.5～1.69的SiOX膜(3)、折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)按此顺序层叠而成。SiOX膜为4层时，从硬涂层侧起，由折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)按此顺序层叠2次共计4层而成。SiOX膜在2层以上时，各层的厚度按能获得防反射功能进行光学设计。另外，虽然没有谈到SiOX膜在5层以上的情况，但是即使5层以上，根据能获得防反射功能的光学设计的观点，适当地决定层叠的各SiOX膜的折射率和厚度。
另外，在SiOX膜4为了赋予其笔输入的滑动性和防止污染，根据需要可以设置防污层5。防污层使用的树脂优选氟类、硅酮类、三聚氰胺类、丙烯酸类等树脂、硅烷偶联剂及蜡等。防污层5的形成方法可使用反向涂层法、型板涂层法、凹槽辊涂布法等为代表的湿法或者CVD等干法等众所周知的方法。防污层5也可兼作为防反射层。防污层5的厚度通常为1～50nm，进一步优选在1～30nm。
本发明的透明导电性膜各层之间例如，透明膜基材1与导电性薄膜2之间、透明膜基材1与硬涂层3之间、硬涂层3与SiOX膜4之间、SiOX膜4与防污层5之间、及作为层叠体的透明膜基材1中的各透明膜基材与粘合剂层之间，可以具有增粘涂层、易粘结层等。
作为增粘涂层、易粘结层，优选含有三聚氰胺类树脂、氨基甲酸酯类树脂、醇酸类树脂、丙烯酸类树脂、环氧类树脂、硅酮类树脂等固化性树脂的固化皮膜。可以单独使用它们或者使用混合而成的混合类。也可使用含有SiO2、TiO2、NaF、Na3AlF6、LiF、MgF2、CaF2、BaF2、SiO、SiOX、LaF3、CeF3、Al2O3、CeO2、Nd2O3、Sb2O3、Ta2O5、ZrO2、ZnO、ZnS等的无机氧化物、或者无机氧化物与丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯树脂、硅氧烷类共聚物等有机物的混合物等。在设有增粘涂层、易粘结层时，优选厚度在300nm以下。更优选在10～300nm。
本发明的透明导电性膜的制造方法没有特别限制。透明导电性膜的透明膜基材1是1片透明膜基材(图1的情况)时，在透明膜基材1的一个侧面形成硬涂层3、SiOX膜4，在透明膜基材1的另一个侧面形成透明导电性薄膜2。透明膜基材1有2片透明膜基材(图2的情况)时，透明膜基材11a、12a通过粘合剂层11b贴合而成的层叠体1，如前所述可以在层叠体1的一个侧面形成硬涂层3、SiOX膜4，在另一面形成透明导电性薄膜2。另外，可以在1片透明膜基材11a的一个侧面预先形成透明导电性薄膜2，在另一片透明膜基材12a的一个侧面预先形成硬涂层3、SiOX膜4，可以将这些透明膜基材11a、12a的未设置上述薄膜的一面用透明粘合剂层11b相互贴合起来。这样的贴合是将透明膜基材11a、12b的任意侧或者两侧预先设置粘合剂层11b，再将它们贴合起来。
本发明的透明导电性膜优选光透射率在86％以上。更优选是在88％以上，进一步优选在90％以上。若透明膜基材的透光率小于86％，则用本发明的透明导电性膜形成的触摸屏，显示变暗，有时出现光学特性方面的问题。
本发明的透明导电性膜优选适用于触摸屏的屏板。即通过隔片S具有透明导电性薄膜的一对屏板，以相互垂直形成条纹状的透明性薄膜彼此相对的方式而相对设置，一个屏板可以使用上述的透明导电性膜(通常是按压的上侧的屏板)。这样的触摸屏作为透明开关的结构而发挥功能：由上侧的面板侧，抵抗隔片的弹力进行按压打点时，透明导电性薄膜彼此相互接触，电路处于ON状态，上述按压消失时，回到原来的OFF状态。用于触摸屏的屏板无论上下的任何一方使用本发明的透明导电性膜，而其他屏板，可以使用在含有塑料膜或者玻璃板等的透明基体上设有透明导电性薄膜的屏板。上下也可以都使用本发明的透明导电性膜。
实施例
下面根据本发明的实施例进行更加详细地说明。以下内容中，份是指重量份。光的折射率是指用阿贝折射计在25℃下的测定值。
实施例1
(导电性薄膜的形成)
在25μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜1)的一个侧面，在含有80％氩气和20％氧气的4×103Torr的环境下，用氧化铟90重量％-氧化锡10重量％的烧结体的反应性溅射法形成含有25nm厚的ITO膜(光的折射率：2.00)的透明导电性薄膜。
(硬涂层的形成)
在厚125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜2)的一个侧面，在氨基甲酸丙烯酸酯类树脂(大日本油墨化学工业(株)制的UNIDIC17-806)100份中，加入作为光聚合引发剂的羟基环己基苯酮(CIBA SPECIALTY CHEMICALS公司制的IRGACURE184)5份，涂覆稀释至50重量％浓度的甲苯溶液，在100℃下干燥3分钟后，立刻用2个臭氧型高压水银灯(80W/cm、15cm聚光型)进行紫外线照射，形成5μm的硬涂层。
(SiOX膜/防污层的形成)
在上述硬涂层上用真空蒸镀法，形成80nm厚的SiOX膜(x：1.8，折射率1.8)。进而在SiOX膜上，将含氟类树脂(大日本油墨化学工业公司制)通过凹槽辊涂布法涂层形成厚为10nm的防污层。
(透明导电性膜的制造)
在上述PET膜2的硬涂层、未形成SiOX膜的面，形成约20μm的厚度的弹性系数调整至10N/cm2的丙烯酸类的透明粘合剂层(丙烯酸丁酯、丙烯酸和乙酸乙烯酯的重量比为100∶2∶5的丙烯酸类共聚物的100份与异氰酸酯类交联剂的1份配合而成的混合物)。在该粘合剂层面贴合上述PET膜1的未设有透明导电性薄膜的面，制成透明导电性膜。弹性系数(动态储能模量：G′)是使用粘弹性光谱仪(RHEOMETRIC  SCIENTIFIC公司制，ARES装置)，在频率为1赫兹下进行温度分散测定，在20℃时的测定值。
(触摸屏的制造)
该透明导电性膜作为一侧的屏板，而作为另一侧屏板则使用在玻璃板上按上述同样方法形成30nm厚的ITO薄膜，通过10μm厚的隔片将这两个屏板相对设置，使得ITO薄膜彼此相对，制作成开关结构体的触摸屏。而两个屏板的各ITO薄膜在上述相对设置之前预先形成相互垂直银电极。
实施例2
在实施例1中，除SiOX膜的厚度为30nm以外，与实施例1一样制作透明导电性膜，同样地制成触摸屏。
实施例3
在实施例1中，除SiOX膜的厚度为150nm以外，与实施例1一样制作透明导电性膜，同样地制成触摸屏。
实施例4
在实施例1中，在PET膜1形成ITO膜时，形成下述的热固化性树脂层，进而用二氧化硅涂层法形成二氧化硅涂层：SiO2(光的折射率n＝1.46)再形成ITO膜，此外，与实施例1一样制作透明导电性膜，同样地制成触摸屏。上述热固化性树脂层的形成是通过形成含有三聚氰胺树脂：醇酸树脂：有机硅烷缩合物的比率为2∶2∶1(重量比)的厚为150nm的热固化性树脂层(光的折射率n＝1.54)来进行的。接着用乙醇将硅溶胶(COLCOAT(株)制COLCOAT P)稀释至固体成分浓度为2重量％的稀释物涂覆在上述热固化化性树脂层上后，在150℃下干燥2分钟，使其固化，形成约30nm厚的二氧化硅涂层。
实施例5
在实施例1中，在硬涂层上顺次形成2层SiOX膜：用真空蒸镀法形成80nm厚的SiOX膜(x：1.8，折射率1.8)，然后形成70nm厚的SiOX膜(x：2.0，折射率1.46)，此外，与实施例1一样制作透明导电性膜，同样地制成触摸屏。
实施例6
在实施例4中，在硬涂层上顺次形成2层SiOX膜：用真空蒸镀法形成80nm厚的SiOX膜(x：1.8，折射率1.8)，然后形成70nm厚的SiOX膜(x：2.0，折射率1.46)，此外，与实施例4一样制作透明导电性膜，并用该透明导电性膜如实施例1相同地制成触摸屏。
实施例7
在实施例4中，在硬涂层上顺次形成3层SiOX膜：用真空蒸镀法形成100nm厚的SiOX膜(x：1.9，折射率1.6)、80nm厚的SiOX膜(x：1.8，折射率1.8)，然后形成70nm厚的SiOX膜(x：2.0，折射率1.46)，此外，与实施例4一样制作透明导电性膜，并用该透明导电性膜如实施例1相同地制成触摸屏。
实施例8
在实施例4中，在硬涂层上顺次形成4层SiOX膜：用真空蒸镀法形成25nm厚的SiOX膜(x：1.8，折射率1.80)、25nm厚的SiOX膜(x：2.0，折射率1.46)、80nm厚的SiOX膜(x：1.8，折射率1.8)、70nm厚的SiOX膜(x：2.0，折射率1.46)，此外，与实施例4一样制作透明导电性膜，并用该透明导电性膜如实施例1相同地制成触摸屏。
比较例1
上述硬涂层处理后，代替真空蒸镀法形成的SiOX膜，用二氧化硅涂层法(湿法)形成二氧化硅涂层：SiO2，此外，与实施例1一样制作透明导电性膜，同样地制成触摸屏。二氧化硅涂层法是将用乙醇将硅溶胶(COLCOAT(株)制COLCOAT P)稀释至固体成分浓度为2重量％的稀释物，在150℃下干燥2分钟，使其固化，形成80nm厚的二氧化硅涂层。
比较例2
在实施例1中，除了不形成SiO2膜以外，与实施例1一样制作透明导电性膜，同样地制成触摸屏。
比较例3
在实施例1中，除了形成5nm厚的SiOX膜以外，与实施例1一样制作透明导电性膜，同样地制成触摸屏。
比较例4
在实施例4中，除了不形成SiOX膜以外，与实施例1一样制作透明导电性膜，同样地制成触摸屏。
由上述实施例与比较例得出透明导电性膜的各构成如表1所示。另外该透明导电性膜的表面电阻值、光透射率、卷曲特性、水蒸气透过率按以下方法测定。结果如表2所示。
<表面电阻值>
用二端子法测定膜的表面电阻(Ω/□)。
<光透射率>
用岛津制作所的分光分析装置UV-240在光波长550nm处测定可见光透射率。
<卷曲特性>
切下10cm见方的透明导电性膜，在150℃下进行1小时的热处理，在常温常湿(23℃，50％RH)下放置1小时。然后在温度为60℃，湿度为95％RH的环境下放置30分钟，将透明导电性薄膜朝上放置在水平支持板上，测定从支持板到透明导电性膜的四角的高度。这样的高度的最大值为卷曲的高度(mm)。
<水蒸气透过率>
水蒸气透过率以JISZ0208为准进行测定。即用铝制透湿性杯，内部加入一定量的吸湿剂(氯化钙)，在杯开放部分放置透明导电性膜，用蜡封住缝隙。其后将这个透湿性杯放入40℃、90％RH的恒温恒湿槽中，每隔一段时间测定重量，由其斜率(A)和下述计算式求得水蒸气透过率。可以认为水蒸气透过率的值越小水蒸气屏蔽性越好。
使用防污层形成之前的透明导电性膜，SiOX膜侧与透湿杯的开放部分相对，用蜡封住，如上述求得SiOX膜侧的水蒸气透过率。另一方面，将透明导电性膜的ITO薄膜侧与透湿量杯的开放部分相对，用蜡封住，如上述则求得ITO侧的水蒸气透过率。
水蒸气透过率(g/(m2·24hr·atm))＝A(g/hr)(π×0.03×0.03)×24(hr)×1atm
[表1]
ITO膜(nm)   粘固涂层(nm) PET膜1(μm) 粘合剂层(μm) PET膜2(μm) 硬涂层(μm)  SiOX膜 防污层(nm)
二氧化硅涂层 热固化性树脂 成膜法 层数 膜总厚度(各层的膜厚/从硬涂层侧起)(nm) 各层的折射率(从硬涂层侧起)
实施例1     25     -     -     25     20     125     5 真空蒸镀 1层     80     1.8     10
实施例2     25     -     -     25     20     125     5 真空蒸镀 1层     30     1.8     10
实施例3     25     -     -     25     20     125     5 真空蒸镀 1层     150     1.8     10
实施例4     25     30     150     25     20     125     5 真空蒸镀 1层     80     1.8     10
实施例5     25     -     -     25     20     125     5 真空蒸镀 2层     150(80/70)     1.8/1.46     10
实施例6     25     30     150     25     20     125     5 真空蒸镀 2层     150(80/70)     1.8/1.46     10
实施例7     25     30     150     25     20     125     5 真空蒸镀 3层     250(100/80/70)     1.6/1.8/1.46     10
实施例8     25     30     150     25     20     125     5 真空蒸镀 4层     200(25/25/80/70)     1.8/1.46/1.8/1.46     10
比较例1     25     -     -     25     20     125     5 二氧化硅涂层 1层     80     1.8     10
比较例2     25     -     -     25     20     125     5 - -     -     -     10
比较例3     25     -     -     25     20     125     5 真空蒸镀 1层     5     1.8     10
比较例4     25     30     150     25     20     125     5 - -     -     -     10
[表2]
 表面电阻值(Ω/□)   透射率(％)  卷曲高度(mm)   水蒸气透过率(g/(m2·24hr·atm))
SiOX膜 ITO薄膜测
实施例1     300     88     2     0.8     0.8
实施例2     300     88     3     1.0     0.8
实施例3     300     88     2     0.9     0.8
实施例4     300     90     1     0.8     0.8
实施例5     300     90     2     0.8     0.8
实施例6     300     92     2     0.8     0.8
实施例7     300     93     1     0.8     0.8
实施例8     300     94     1     0.8     0.8
比较例1     300     88     15     4.0     0.8
比较例2     300     88     20     5.6     0.8
比较例3     300     88     10     3.0     0.8
比较例4     300     90     20     5.6     0.8
根据表1、2可知，与比较例1～4相比，实施例1～8的卷曲高度小，即使在高温高湿的环境下，也能抑制膨胀或卷曲。另外，在实施例5～8中，与实施例1～4相比，透射率提高，防反射功能也提高了。
产业上的可利用性
本发明的透明导电性膜可用于液晶显示屏、电致发光显示屏等新的显示方式或触摸屏等的透明电极，此外也适用于透明物品的防静电或者遮蔽电磁波。

Claims (10)

1、一种透明导电性膜，其特征在于，在透明膜基材的一个侧面有硬涂层，进而在该硬涂层上有由干法工艺形成的10～300nm厚的SiOX膜，在透明膜基材的另一个侧面有20～35nm厚的透明导电性薄膜。
2、如权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，SiOX膜侧的水蒸气透过率为2g/(m2·24hr·atm)以下。
3、如权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，在SiOX膜上还具有防污层。
4、如权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，透明膜基材是通过透明的粘结剂层将2片以上的透明膜基材相互贴合的层叠体。
5、如权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，透明导电性薄膜是含有铟锡氧化物的薄膜。
6、如权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，SiOX膜的折射率为1.40～2.00。
7、如权利要求6所述的透明导电性膜，其特征在于，SiOX膜从硬涂层侧起，至少由折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)按此顺序层叠而成。
8、如权利要求6所述的透明导电性膜，其特征在于，SiOX膜从硬涂层侧起，由折射率调整至1.5～1.69的SiOX膜(3)、折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)这3层按此顺序层叠而成。
9、如权利要求6所述的透明导电性膜，其特征在于，SiOX膜从硬涂层侧起，由折射率调整至1.7～1.9的SiOX膜(1)和折射率调整至1.4～1.49的SiOX膜(2)按此顺序层叠2次共4层而成。
10、一种触摸屏，其将具有透明导电性薄膜的一对屏板，以透明导电性薄膜彼此相对的方式，通过隔片相对设置，其特征在于，至少一侧屏板为权利要求1～9中任一项所述的透明导电性膜。
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