CN101728010B

CN101728010B - 触摸屏用导电膜及其制造方法

Info

Publication number: CN101728010B
Application number: CN2009102081163A
Authority: CN
Inventors: 德永司; 一木晃
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2008-10-31
Filing date: 2009-10-28
Publication date: 2013-03-27
Anticipated expiration: 2029-10-28
Also published as: CN101728010A; JP2010108877A; JP5366502B2; KR20100048931A

Abstract

本发明提供一种具有作为触摸屏用导电膜的良好的导电性、波纹充分减少、触摸屏特性优异的触摸屏用导电膜。本发明是具有含有银的导电层(14)的触摸屏用导电膜(10)，其中，导电层(14)是通过将银盐乳剂层(16)曝光显影而形成的层，银盐乳剂层(16)的涂布银量为1.1～2.5g/m²，导电层(14)形成间距为600μm以上的网格图案(18)，且导电层(14)的表面电阻为1000～2500Ω/sq.。

Description

触摸屏用导电膜及其制造方法

技术领域

本发明涉及导电膜，更详细而言，涉及搭载于触摸屏的触摸屏用导电膜及其制造方法。

背景技术

近年来，研究了利用各种制造方法得到的导电性膜(例如参照日本特开2000-13088号公报、日本特开平10-340629号公报、日本特开平10-41682号公报、日本特公昭42-23746号公报、日本特开2006-228649号公报)。其中，作为导电性膜，有通过如下方法制造的银盐方式的导电性膜：涂布卤化银乳剂层，将该卤化银乳剂层进行图案曝光，使其形成具有导电性的银的导电部和用于确保透明性的开口部的图案形状(例如参照日本特开2004-221564号公报、日本特开2004-221565号公报、日本特开2007-95408号公报、日本特开2006-228469号公报、日本特开2006-332459号公报、日本特开2008-244067号公报)。该银盐方式的导电性膜以屏蔽电磁波的用途为目的，通常要求是表面电阻低的导电性膜，此外，通过镀敷等手段来降低表面电阻。

另一方面，人们对导电性膜的各种用途进行了研究，本发明的发明人着眼于作为触摸屏用电极的应用展开了研究。

发明内容

本发明的目的在于提供具有作为触摸屏用导电膜的良好的导电性、波纹充分减少、触摸屏特性优异的触摸屏用导电膜及其制造方法。

本发明的发明人进行了潜心研究，结果发现：通过在调节银盐乳剂层

的涂布银量的同时调节间距，能够解决上述课题，从而完成了本发明。

即，通过以下发明能够解决上述课题。

[1]本发明的第1发明涉及一种触摸屏用导电膜，其是具有含有银的导电层的触摸屏用导电膜，其特征在于，上述导电层是通过将银盐乳剂层曝光显影而形成的层，上述银盐乳剂层的涂布银量为1.1～2.5g/m²，上述导电层形成间距为600μm以上的网格图案，且表面电阻为1000～2500Ω/sq.。

[2]根据第1发明，其特征在于，上述银盐乳剂层的涂布银量为1.3～1.9g/m²。

[3]根据第1发明，其特征在于，上述银盐乳剂层的银/粘合剂的体积比率为1/4以上。

[4]根据第1发明，其特征在于，上述网格图案的间距为1400μm以下。

[5]根据第1发明，其特征在于，上述导电层的线宽为5～10μm。

[6]根据第1发明，其特征在于，上述网格图案的开口部具有导电性。

[7]根据第1发明，其特征在于，上述网格图案的开口部的表面电阻为1.0×10⁷Ω/sq.以上。

[8]根据第1发明，其特征在于，上述网格图案的开口部含有导电性聚合物或导电性微粒。

[9]根据第1发明，其特征在于，上述网格图案的开口部含有上述导电性微粒，上述网格图案的开口部上的上述导电性微粒的涂布量为0.2～0.4g/m²。

[10]根据第1发明，其特征在于，还具备透明导电层，上述透明导电层含有导电性微粒和粘合剂，上述导电性微粒与粘合剂的质量比(导电性微粒/粘合剂)为1/3～2/1。

[11]根据第1发明，其特征在于，上述透明导电层与上述导电层邻接。

[12]根据第1发明，其特征在于，上述透明导电层位于上述导电层的上层侧，上述透明导电层上的上述导电性微粒的涂布量为0.1～0.5g/m²。“上述导电层的上层侧”是指，当假定在支撑体上形成了导电层时，从支撑体开始间隔着导电层与该导电层邻接的位置，或靠近离开导电层的表面层的位置(或表面层的位置)。

[13]根据第1发明，其特征在于，上述透明导电层位于上述导电层的下层侧，上述透明导电层上的上述导电性微粒的涂布量为0.1～0.5g/m²。“上述导电层的下层侧”是指，当假定在支撑体上形成了导电层时，离开导电层更靠近支撑体的位置。

[14]根据第1发明，其特征在于，当上述导电性微粒为球状时，平均粒径为0.085～0.12μm，当上述导电性微粒为针状时，长轴的平均轴长为0.2～20μm、短轴的平均轴长为0.01～0.02μm。

[15]本发明的第2发明涉及一种触摸屏用导电膜的制造方法，所述导电膜在支撑体上形成了导电层，其特征在于，具有如下工序：在上述支撑体上形成涂布银量为1.1～2.5g/m²的银盐乳剂层的工序，和将上述银盐乳剂层曝光显影而形成含有银的上述导电层的工序；其中，上述导电层形成间距为600μm以上的网格图案，且表面电阻为1000～2500Ω/sq.。

如上所述，本发明的触摸屏用导电膜及其制造方法，具有作为触摸屏用导电膜的良好的导电性、波纹充分减少、且触摸屏特性优异。本发明的触摸屏用导电膜由于导电层的表面电阻为1000～2500Ω/sq.，因此触摸屏(特别是静电容量式)的信号特性优异，噪声充分减少。另外，通过使网格图案的间距为1400μm以下，导电层的网格图案变得不醒目，外观良好。因此，通过触摸屏显示的文字和图像等清晰易见，可见性优异。此外，本发明的触摸屏用导电膜由于在要求精度的笔输入中直线性优异，表面电阻的偏差充分减少，因此可以无需触摸屏侧的过度设定、例如用于补正直线性或电阻偏差的过度的设定。

从下面结合附图的具体实施方式的说明，可以更加了解上述目的、特征和优点。

附图说明

图1是局部省略地表示本实施方式的触摸屏用导电膜的截面图。

图2是表示导电层的网格图案的一个例子(直线格子图案)的俯视图。

图3是表示导电层的网格图案的另一例子(波浪线格子图案)的俯视图。

图4是表示使用第1显影液显影处理时和使用第2显影液显影处理时的面内的表面电阻的偏差的差异的图。

具体实施方式

以下，参照图1～图4对将本发明的触摸屏用导电膜及其制造方法例如用于静电容量式触摸屏时的实施方式的例子进行说明。

如图1所示，本实施方式的触摸屏用导电膜10在支撑体12上具有含有银的导电层14。导电层14通过将银盐乳剂层16曝光显影而形成，且银盐乳剂层16的涂布银量为1.1～2.5g/m²。

另外，如图2所示，导电层14形成间距Pa为600μm以上的网格图案18，且其表面电阻为1000～2500Ω/sq.。导电层14是包含形成了网格状的导电部分20和除此以外的开口部22的层。另外，在触摸屏用导电膜10上有时会设置透明导电层，但即使在这种情况下透明导电层的表面电阻也比导电层14的表面电阻大，因此导电层14的表面电阻成为触摸屏用导电膜10的表面电阻。

这样的本实施方式的触摸屏用导电膜10通过在下文详述的特定的卤化银感光材料即银盐乳剂层16上曝光显影特定形状的网格图案18来得到。

另外，可以在支撑体12与导电层14之间插入未图示的透明导电层，也可以在导电层14与触摸屏的表面层之间插入透明导电层。

以下，对本实施方式的触摸屏用导电膜10的各层的构成进行详细说明。

[支撑体12]

作为本实施方式的触摸屏用导电膜10中使用的支撑体12，可以列举塑料膜、塑料板、玻璃板等。

作为上述塑料膜和塑料板的原料，例如可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯类；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、EVA等聚烯烃类；乙烯基类树脂；以及聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯酸树脂、三乙酰基纤维素(TAC)等。

作为支撑体12，优选PET(熔点为258℃)、PEN(熔点为269℃)、PE(熔点为135℃)、PP(熔点为163℃)、聚苯乙烯(熔点为230℃)、聚氯乙烯(熔点为180℃)、聚偏氯乙烯(熔点为212℃)或TAC(熔点为290℃)等熔点为约290℃以下的塑料膜或塑料板，特别是从透光性和加工性等观点出发，优选PET。由于触摸屏用导电膜10这样的透明导电性膜要求透明性，因此优选支撑体12的透明度高。

[银盐乳剂层16]

成为触摸屏用导电膜10的导电层14的银盐乳剂层16，除含有银盐和粘合剂外，还含有溶剂和染料等添加剂。

作为本实施方式中使用的银盐，可以列举卤化银等无机银盐以及乙酸银等有机银盐。在本实施方式中，优选使用作为光传感器的特性优异的卤化银。

银盐乳剂层16的涂布银量(银盐的涂布量)换算成银为1.1～2.5g/m²，优选为1.3～1.9g/m²。当该涂布银量不满足上述范围时，制成触摸屏用导电膜10时不能得到所希望的表面电阻。

作为本实施方式中使用的粘合剂，可以列举例如明胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖类、纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、聚乙烯基胺、壳聚糖、聚赖氨酸、聚丙烯酸、聚海藻酸、聚透明质酸、羧基纤维素等。它们根据官能团的离子性不同而具有中性、阴离子性、阳离子性的性质。

本实施方式的银盐乳剂层16中含有的粘合剂的含量没有特殊限定，可以在能够发挥分散性和粘附性的范围内适当决定。银盐乳剂层16中的粘合剂的含量，按Ag/粘合剂体积比计，优选为1/4以上，更优选为1/2以上。Ag/粘合剂体积比优选为100/1以下，更优选为50/1以下。另外，Ag/粘合剂体积比进一步优选为1/2～2/1。最优选为1/2～0.7/1。通过使银盐乳剂层16中的Ag/粘合剂体积比在该范围内，即使在调节了涂布银量的情况下也能抑制电阻值的偏差，得到具有均匀的表面电阻的触摸屏用导电膜10。

<溶剂>

银盐乳剂层16的形成中使用的溶剂，没有特殊限制，可以列举例如水、有机溶剂(例如甲醇等醇类、丙酮等酮类、甲酰胺等酰胺类、二甲亚砜等亚砜类、乙酸乙酯等酯类、醚类等)、离子性液体以及它们的混合溶剂。

本实施方式的银盐乳剂层16中使用的溶剂的含量，相对于银盐乳剂层16中含有的银盐、粘合剂等的总质量，为30～90质量％的范围，优选为50～80质量％的范围。

<其他添加剂>

关于本实施方式中使用的各种添加剂，没有特殊限制，可以优选使用公知的添加剂。

[其他的层构成]

在银盐乳剂层16上可以设置未图示的保护层。在本实施方式中，“保护层”是指由明胶或高分子聚合物等粘合剂形成的层，为了发挥防止擦伤和改善力学特性的效果而形成于具有感光性的银盐乳剂层16上。其厚度优选为0.2μm以下。保护层的涂布方法和形成方法没有特殊限定，可以适当选择公知的涂布方法和形成方法。

另外，在银盐乳剂层16的下方，还可以设置例如底涂层。

[导电性聚合物层、导电性微粒层]

本实施方式的触摸屏用导电膜10还可以进一步具有含有PEDOT等导电性聚合物的导电性聚合物层或含有导电性微粒的导电性微粒层。该导电性聚合物层或导电性微粒层是导电性为1.0×10⁷Ω/sq.以上的导电性低的、高电阻的透明导电层。通过设置这种高电阻的透明导电层，在形成了触摸屏用导电膜10后，能使表面电阻的面内偏差均匀，笔输入时的直线性提高。这种高电阻的透明导电层，在制成触摸屏用导电膜10后，只要位于与导电层14电导通的位置即可，例如高电阻的透明导电层优选在制造时与银盐乳剂层16(导电层14)邻接地形成。

导电性微粒层通过使银盐乳剂层16自身、或在与银盐乳剂层16邻接的位置上形成的层、或介于银盐乳剂层16和表面层之间的层、或表面层自身、或介于支撑体12和银盐乳剂层16之间的层含有导电性微粒和粘合剂而形成。导电性微粒和粘合剂的质量比(导电性微粒/粘合剂)优选为1/3～2/1，更优选为1/3～1/1。当使银盐乳剂层16自身含有导电性微粒和粘合剂时，在导电层14的网格图案18的开口部22形成了导电性微粒层。即，网格图案18的开口部22作为分散有导电性微粒的透光部起作用。

当在银盐乳剂层16以外的位置形成导电性微粒层时，导电性微粒层优选形成于与银盐乳剂层16邻接的位置，还优选形成于银盐乳剂层16和支撑体12之间。另外，当导电性微粒层介于银盐乳剂层16和表面层之间时，或为表面层自身时，在触摸屏用导电膜10的制造工序中，导电性微粒发生反应，有可能导致触摸屏用导电膜10的透明性降低。

<导电性微粒和粘合剂>

关于导电性微粒，可以列举SnO₂、ZnO、TiO₂、Al₂O₃、In₂O₃、MgO、BaO以及MoO₃等金属氧化物及它们的复合氧化物(含有2种以上金属离子的氧化物)、以及这些金属氧化物中进一步含有异种原子的金属氧化物的粒子。作为金属氧化物，优选SnO₂、ZnO、TiO₂、Al₂O₃、In₂O₃、MgO，特别优选SnO₂。

对本实施方式中使用的导电性微粒的形状没有特殊限制，可以列举粒状、针状等。另外，关于其大小，球形粒子时，优选平均粒径为0.085～0.12μm。针状时，优选长轴的平均轴长为0.2～20μm、短轴的平均轴长为0.01～0.02μm。

使银盐乳剂层16中含有导电性微粒和粘合剂时，导电性微粒的涂布量优选为0.1～0.5g/m²，更优选为0.2～0.4g/m²。

当导电性微粒层位于银盐乳剂层16的上层侧时，导电性微粒的涂布量优选为0.1～0.5g/m²，更优选为0.2～0.4g/m²。

当导电性微粒层位于银盐乳剂层16的下层侧时，导电性微粒的涂布量优选为0.1～0.5g/m²，更优选为0.16～0.4g/m²。

为了使导电性微粒与支撑体12粘附，在导电性微粒层中附加性地使用粘合剂。作为这样的粘合剂，优选使用水溶性聚合物。

作为上述粘合剂，可以列举例如明胶、角叉胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖类、纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、多糖、聚乙烯基胺、壳聚糖、聚赖氨酸、聚丙烯酸、聚海藻酸、聚透明质酸、羧基纤维素、阿拉伯胶、藻酸钠等。它们因官能团的离子性的不同而具有中性、阴离子性、阳离子性的性质。

另外，作为明胶，除石灰处理明胶外，还可以采用酸处理明胶，可以使用明胶的水解产物、明胶的酶分解产物、以及氨基、羧基修饰的明胶(邻苯二甲酰化明胶、乙酰化明胶)。

[触摸屏用导电膜10]

本实施方式的触摸屏用导电膜10是通过将形成于支撑体12上的银盐乳剂层16进行网格状图案曝光、显影处理而得到的。

本实施方式中，通过图案曝光、显影处理形成的网格图案18，有如图2所示的网格状、且是直线近似正交形态的直线格子图案，还有如图3所示的交叉部24间的导电部分20具有至少1个弯曲的波浪线格子图案等。本实施方式中，导电层14的网格图案18的间距Pa(导电部分20的线宽和开口部22的宽度的合计)为600μm以上，优选为1400μm以下，更优选为1200μm以下。例如，图2的直线格子图案中，导电部分20的线宽Wa/开口部22的宽度Wb即线宽/间隔优选为5/1395～10/595。

另外，在本实施方式中，通过在导电层14上进一步涂布导电性聚合物，可以进一步形成高电阻的透明导电层。

[曝光]

将银盐乳剂层16进行图案曝光的方法，可以通过利用了光掩模的面曝光来进行，也可以通过利用激光光束的扫描曝光来进行。此时，可以是采用了透镜的折射式曝光，也可以是采用了反射镜的反射式曝光，可以采用接触曝光、近接式曝光、缩小投影曝光、反射投影曝光等曝光方式。

[显影处理]

如上所述，银盐乳剂层16被图案曝光后，进一步实施显影处理。显影处理可以采用在银盐照相胶片、印相纸、印刷制版用胶片、光掩模用乳胶掩模等中常用的显影处理技术。

在本实施方式中，可以采用任一显影液，优选黑白显影液。作为显影主剂，优选彩色显影主剂或黑白类显影主剂，特别优选抗坏血酸类显影主剂或二羟基苯类显影主剂。作为抗坏血酸类显影主剂，可以列举抗坏血酸、异抗坏血酸或其盐(Na盐等)等，从成本角度出发，优选异抗坏血酸钠。作为二羟基苯类显影主剂，可以列举对苯二酚、氯对苯二酚、异丙基对苯二酚、甲基对苯二酚、对苯二酚单磺酸盐等，特别优选对苯二酚。抗坏血酸类显影主剂和二羟基苯类显影主剂可以与特别地显示超加和性的辅助显影主剂并用，也可以不并用。作为与上述抗坏血酸类显影主剂和二羟基苯类显影主剂显示超加和性的辅助显影主剂，可以列举1-苯基-3-吡唑烷酮类或对氨基苯酚类。

作为辅助显影主剂使用的1-苯基-3-吡唑烷酮或其衍生物，具体地有1-苯基-3-吡唑烷酮、1-苯基-4，4-二甲基-3-吡唑烷酮、1-苯基-4-甲基-4-羟甲基-3-吡唑烷酮等。

作为上述对氨基苯酚类辅助显影主剂，有N-甲基-对氨基苯酚、对氨基苯酚、N-(β-羟乙基)-对氨基苯酚、N-(4-羟苯基)甘氨酸等，其中优选N-甲基-对氨基苯酚。

二羟基苯类显影主剂通常优选按0.05～0.8mol/L的量使用，在本发明中特别优选使用0.23mol/L以上。更优选为0.23～0.6mol/L的范围。另外，当使用二羟基苯类与1-苯基-3-吡唑烷酮类或对氨基苯酚类的组合时，前者的用量优选为0.23～0.6mol/L，更优选为0.23～0.5mol/L，后者的用量优选为0.06mol/L以下，更优选为0.03～0.003mol/L。

在本实施方式中，显影开始液(即作为新液填充到显影槽的母液)和显影补充液两者均优选具有如下pH缓冲能力，即在各自液体1L中加入0.1摩尔的氢氧化钠时的pH上升为0.5以下。作为确认所使用的显影开始液或显影补充液(以下有时也将两者合称为显影液)具有该pH缓冲能力的方法，有使试验对象的显影开始液或显影补充液的pH为10.5，然后在该液1L中加入氢氧化钠0.1摩尔，测定此时的液体的pH值，若pH值的上升为0.5以下，即可判定其具有上述规定的pH缓冲能力。在本实施方式的制造方法中，特别优选使用进行上述试验时的pH值的上升为0.4以下的显影开始液和显影补充液。

本实施方式中，上述显影开始液的pH优选为9.0～11.0，特别优选9.5～10.7的范围。上述显影补充液的pH以及连续处理时的显影槽内的显影液的pH也是这个范围。用于pH设定的碱剂，可以采用通常的水溶性无机碱金属盐(例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾)。

本发明中，在处理1平方米感光材料时，显影液中的显影补充液的添加量(补充量)为645ml以下，优选为484～30ml，特别优选为484～100ml。显影补充液可以具有与显影开始液相同的组成，但优选具有高于开始液的浓度且正好补充显影消耗的成分的消耗量。

本实施方式中，显影处理感光材料时的显影液(以下有时将显影开始液和显影补充液两者仅统称为“显影液”)中，可以含有通常使用的添加剂(例如保护剂、螯合剂)。作为上述保护剂，可以列举亚硫酸钠、亚硫酸钾、亚硫酸锂、亚硫酸铵、亚硫酸氢钠、焦亚硫酸钾、甲醛亚硫酸氢钠等亚硫酸盐。

亚硫酸盐优选使用5.1～20wt％，更优选使用5.1～15wt％，特别优选使用5.1～7wt％，由于大量添加时会导致显影液中的银污染，因此其上限优选为20wt％。另外，在本实施方式中，通过将亚硫酸盐的含量调节到上述范围，能抑制触摸屏用导电膜10的面内的表面电阻的偏差。目前的电磁波屏蔽膜由于表面电阻小，因此不太考虑其偏差。但触摸屏用导电膜使用表面电阻高的膜，因此必须使其面内偏差均匀，本发明的发明人发现通过将亚硫酸盐的含量设定在上述范围内能够使面内偏差变得均匀。

另外，作为二羟基苯类显影主剂的保护剂，可以以与亚硫酸盐并用的方式使用少量抗坏血酸衍生物。这里的抗坏血酸衍生物与上述作为显影主剂的抗坏血酸相同，包含抗坏血酸以及作为其立体异构体的异抗坏血酸或其碱金属盐(钠盐、钾盐)等。作为上述抗坏血酸衍生物，从材料成本的角度出发，优选异抗坏血酸钠。上述抗坏血酸衍生物的添加量，相对于二羟基苯类显影主剂，以摩尔比计优选为0.03～0.12的范围，特别优选为0.05～0.10的范围。当使用抗坏血酸衍生物作为上述保护剂时，优选显影液中不含硼化合物。

作为上述以外的能在显影剂中使用的添加剂，可以含有溴化钠、溴化钾之类的显影抑制剂；乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、二甲基甲酰胺之类的有机溶剂；二乙醇胺、三乙醇胺等烷醇胺、咪唑或其衍生物等显影促进剂、以及作为灰雾防止剂或黑点(black pepper)防止剂的巯基类化合物、吲唑类化合物、苯并三唑类化合物、苯并咪唑类化合物。

在上述显影液中还可以并用各种有机、无机螯合剂。作为上述无机螯合剂，可以使用四聚磷酸钠、六偏磷酸钠等。作为上述有机螯合剂，主要可以采用有机羧酸、氨基聚羧酸、有机膦酸、氨基膦酸以及有机膦酰基羧酸。关于这些螯合剂的添加量，每1L显影液优选为1×10^-4～1×10^-1mol，更优选为1×10^-3～1×10^-2mol。

此外，在显影液中，作为助溶剂，可以采用日本特开昭61-267759号公报中记载的化合物。此外，在显影液中，根据需要还可以含有色调剂、表面活性剂、消泡剂、硬膜剂等。显影处理温度与时间相关，可以根据与总处理时间的关系来确定，但通常显影温度优选为约20℃～约50℃，更优选为25～45℃。另外，显影时间优选为5秒～2分钟，更优选为7秒～1分30秒。

并且在本实施方式中，通过进行上述图案曝光和显影处理，在曝光部分形成网格图案状的导电部分20(金属银部)，同时在未曝光部形成开口部22(透光部)。

对银盐乳剂层16的显影处理，可以包含以除去未曝光部分的银盐并实现稳定化为目的而进行的定影处理。对银盐乳剂层16的定影处理，可以采用在银盐照相胶片、印相纸、印刷制版用胶片、光掩模用乳胶掩模等中使用的定影处理技术。

如此得到的本实施方式的触摸屏用导电膜10的导电层14，当导电性微粒进入银盐乳剂层16时，导电性微粒分散到没有银盐的开口部22(透光部)，形成电阻高于导电部分20(金属银部)的透明导电层。

另外，当在银盐乳剂层16以外的位置形成导电性微粒层时，导电性微粒层中与导电层14的开口部22对应的部分，与上述同样，作为分散有导电性微粒的透光部起作用。

另外，在本实施方式的触摸屏用导电膜10的制造方法中，无需镀敷等工序。这是因为，在本实施方式的触摸屏用导电膜10的制造方法中，通过调节银盐乳剂层16的涂布银量、银/粘合剂比，即能够得到所希望的表面电阻。另外，根据需要，还可以进行轧光处理等。

上述本实施方式的银盐乳剂层16和导电性材料可以与下述表1和表2中记载的公开公报和国际公开小册子的技术适当组合使用。其中，省略了“特开”、“号公报”、“号小册子”等表述。

[表1]

2004-2215642007-2351152006-3324592007-1022002006-2284782006-3483512007-1344392007-3100912005-3025082008-2678142008-2830292009-42132008-1475072008-2180962008-241987

2004-2215652007-2079872009-211532006-2284732006-2288362007-2703212007-1497602007-1161372008-2187842008-2704052008-2883052009-100012008-1597702008-2182642008-251274

2007-2009222006-0129352007-2262152006-2697952007-0093262007-2703222007-2081332007-0882192008-2273502008-2776752008-2884192009-165262008-1597712008-2249162008-251275

2006-3520732006-0107952006-2613152006-2697952006-3360902007-2013782007-1789152007-2078832008-2273512008-2776762008-3007202009-213342008-1715682008-2352242008-252046

2007-1292052006-2284692007-0721712006-3242032006-3360992007-3357292007-3343252007-0131302008-2440672008-2828402008-3007212009-269332008-1983882008-2354672008-277428

[表2]

2006/0014612006/098335

2006/0880592006/098334

2006/0983332007/001008

2006/098336

2006/098338

<触摸屏>

本实施方式的触摸屏用导电膜10例如适用于静电容量式的触摸屏。

关于静电容量式的触摸屏，当指尖触碰触摸屏的表面，指尖和导电层14之间的静电容量发生变化，通过检测该静电容量的变化，即可求得指尖的坐标。

具体而言，在触摸屏用导电膜10的四角分别形成有端子，借助这些端子施加均匀的电压，在触摸屏用导电膜10的整个面上形成均匀的电场。在这种状态下，若手指触摸触摸屏的表面，则会产生与从触摸屏用导电膜10的四角至手指的距离成比例的容量变化。即，通过触摸触摸屏的手指，该部分的电场放电，微弱的电流经由四角的端子、触摸屏用导电膜、表面涂层及手指流向地面。然后，在运算电路中，计算流入四角的端子的微弱电流量的比率，进而基于计算出的比率，计算触摸屏上的手指的坐标。

特别是本实施方式的触摸屏用导电膜10，由于表面电阻为1000～2500Ω/sq.，因此静电容量式触摸屏的信号特性优异，能够充分地减少噪声，由此，可以实现高精度且响应速度快的位置检测。

另外，由于导电层14的网格图案18的间距Pa为600μm以上，因此能够充分地减少波纹，而且，由于间距Pa为1400μm以下，因此导电层14的网格图案18变得不醒目，外观良好。因此，能提供通过触摸屏显示的文字和图像等变得清晰易见、可见性优良的触摸屏。

此外，由于在导电层14的开口部22或在导电层14以外的位置上形成有导电性微粒层或导电性聚合物层等透明导电层，因而能够使触摸屏用导电膜10在整个面具有导电性，能够进行忠实地追随于笔输入的坐标检测，例如可以提高笔输入时的直线性。

另外，作为在银盐乳剂层16的显像处理中使用的显像液，由于使用亚硫酸盐的含量设定在上述范围内的显像液，因而可以减少触摸屏用导电膜10的面内的表面电阻偏差，可以不需要在触摸屏侧过度的设定，例如为了补正直线性或电阻偏差的过度的设定。这关系到运算电路中坐标计算的高速化、驱动电路的负荷降低，并有助于电路体系构成的简化、成本的低廉化。

<第1实施例>

以下，根据实施例来详细说明本发明，但本发明不限于这些实施例。

[实施例1]：参照表3

(乳剂A的制备)

·1液：

水 750ml

明胶(邻苯二甲酰化处理明胶) 8g

氯化钠 3g

1，3-二甲基咪唑烷-2-硫酮(1，3-Dimethylimidazolidine-2-thione)

20mg

苯硫代磺酸钠 10mg

柠檬酸 0.7g

·2液

水 300ml

硝酸银 150g

·3液

水 300ml

氯化钠 38g

溴化钾 32g

六氯铱(III)酸钾

(0.005％KCl 20％水溶液) 5ml

六氯铑酸铵

(0.001％NaCl 20％水溶液) 7ml

3液中使用的六氯铱(III)酸钾(0.005％KCl 20％水溶液)和六氯铑酸铵(0.001％NaCl 20％水溶液)通过如下方法来制备：将各自的络合物粉末分别在KCl 20％水溶液、NaCl 20％水溶液中溶解，在40℃下加热120分钟。

向保持于38℃、pH为4.5的1液中，边搅拌边用20分钟加入2液和3液的各相当于90％的量，形成0.16μm的核粒子。接着，用8分钟加入下述4液、5液，然后用2分钟加入2液和3液的剩余的10％的量，使核粒子成长至0.21μm。然后，加入碘化钾0.15g，熟化5分钟，结束粒子形成。

·4液

水 100ml

硝酸银 50g

·5液

水 100ml

氯化钠 13g

溴化钾 11g

黄血盐 5mg

然后，根据常规方法，采用絮凝法进行水洗。具体而言，将温度降至35℃，用硫酸使pH下降直至出现卤化银沉淀(pH为3.6±0.2的范围)。

接着，除去约3L上清液(第一水洗)。然后，加入3L蒸馏水后，加入硫酸直至出现卤化银沉淀。再次除去3L上清液(第二水洗)。再重复1次与第二水洗相同的操作(第三水洗)，结束水洗、脱盐工序。

将水洗、脱盐后的乳剂调节至pH为6.4、pAg为7.5，加入苯硫代磺酸钠10mg、苯硫代亚磺酸钠3mg、硫代硫酸钠15mg和氯化金酸10mg，在55℃下实施化学增感以获得最适感度，加入作为稳定剂的1，3，3a，7-四氮杂茚100mg、作为防腐剂的Proxel(商品名，ICI Co.，Ltd.制)100mg。最终得到含有70摩尔％氯化银、0.08摩尔％碘化银的平均粒径为0.22μm、波动系数为9％的碘氯溴化银立方体颗粒乳剂。最终作为乳剂，pH＝6.4，pAg＝7.5，电导率＝40μS/m，密度＝1.2×10³kg/m³，粘度＝60mPa·s。

(涂布液的制备)

在上述乳剂A中加入增感色素(SD-1：参照下述化学式)5.7×10^-4mol/molAg，实施分光增感。然后加入KBr 3.4×10^-4mol/molAg、化合物(Cpd-3：参照下述化学式)8.0×10^-4mol/molAg，充分混合。

接着，添加1，3，3a，7-四氮杂茚1.2×10^-4mol/molAg、对苯二酚1.2×10^-2mol/molAg、柠檬酸3.0×10^-4mol/molAg、2，4-二氯-6-羟基-1，3，5-三嗪钠盐90mg/m²、相对于明胶为15wt％的粒径为10μm的胶体二氧化硅、水性乳胶(aqL-6：参照下述化学式)50mg/m²、聚丙烯酸乙酯乳胶100mg/m²、丙烯酸甲酯和2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸钠盐和甲基丙烯酸(2-乙酰氧基乙基)酯的乳胶共聚物(质量比为88∶5∶7)100mg/m²、核壳型乳胶{核：苯乙烯/丁二烯共聚物(质量比为37/63)、壳：苯乙烯/丙烯酸(2-乙酰氧基乙基)酯(质量比为84/16、核/壳为＝50/50)}100mg/m²、相对于明胶为4wt％的化合物(Cpd-7：参照下述化学式)，用柠檬酸将涂布液的pH调至5.6。

(透明导电层)

如下操作，在支撑体上设置透明导电层(作为支撑体，采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)(厚度为100μm)。PET采用事先进行了表面亲水化处理的PET)。按照下述说明形成的卤化银乳剂层的底涂层也兼作为透明导电层，且按照使明胶为0.195g/m²的方式设置。

·1液

水 410ml

明胶 11.4g

Sb掺杂氧化锡(石原产业公司制，商品名SN100P) 19.5g

透明导电层中可以添加照相技术中公知的表面活性剂等。

(卤化银乳剂层)

在透明导电层上按照使Ag为1.5g/m²、明胶为0.21g/m²的方式涂布使用乳剂A并按上述方法制备的乳剂层涂布液。即，按照使Ag与明胶(粘合剂)的比为1/1.1(体积比)的方式来涂布。

(保护层)

在卤化银乳剂层上设置保护层。

·1液：

水 985ml

明胶 15g

此外，适当添加照相技术中公知的表面活性剂、防腐剂、pH调节剂。

将如此得到的涂布品干燥后，作为样品A。在透明导电层上按照导电性微粒为0.3354g/m²、导电性微粒/粘合剂比为1.71/1(质量比)的方式涂布导电性微粒。另外，为了分析导电性微粒单独的电阻(开口部的表面电阻)，将该样品A不进行曝光、显影处理而只进行定影处理，测定没有卤化银的表面电阻，结果为1.5×10⁹Ω/sq.。

(曝光、显影处理)

接着，对上述制备的样品A，借助能形成线宽/间隔＝7μm/993μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝993μm/7μm(间距1000μm)的、间隔为格子状的光掩模，并使用以高压汞灯为光源的平行光进行曝光，用下述第1显影液显影，然后用定影液(商品名：CN16X用N3X-R：富士胶片株式会社制)进行显影处理后，用纯水淋洗，得到实施例1的触摸屏用导电膜。

[第1显影液的组成]

在1L第1显影液中含有以下化合物。

对苯二酚 22.8g

亚硫酸钠 52.2g

碳酸钾 39.3g

乙二胺四乙酸 2.0g

溴化钾 3.2g

pH(用1当量硫酸或1当量氢氧化钠)调节至 10.3

[第2显影液的组成]

在1L第2显影液中含有以下化合物。

对苯二酚 20.0g

亚硫酸钠 50.0g

碳酸钾 40.0g

乙二胺四乙酸 2.0g

溴化钾 3.0g

聚乙二醇2000 1.0g

氢氧化钾 4.0g

pH(用1当量硫酸或1当量氢氧化钠)调节至 10.3

[实施例2]：参照表3

使Ag为1.3g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例2的触摸屏用导电膜。

[实施例3]：参照表3

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例3的触摸屏用导电膜。

[实施例4]：参照表3

使Ag为1.7g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例4的触摸屏用导电膜。

[实施例5]：参照表3

使Ag为1.9g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例5的触摸屏用导电膜。

[实施例6]：参照表3

使Ag为2.1g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例6的触摸屏用导电膜。

[实施例7]：参照表3

使Ag为2.3g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例7的触摸屏用导电膜。

[实施例8]：参照表3

使Ag为2.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例8的触摸屏用导电膜。

[实施例9]：参照表4

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，通过能形成线宽/间隔＝7μm/593μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝593μm/7μm(间距为600μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例9的触摸屏用导电膜。

[实施例10]：参照表4

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/793μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝793μm/7μm(间距为800μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例10的触摸屏用导电膜。

[实施例11]：参照表4

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/1193μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝1193μm/7μm(间距为1200μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例11的触摸屏用导电膜。

[实施例12]：参照表4

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/1393μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝1393μm/7μm(间距为1400μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例12的触摸屏用导电膜。

[实施例13]：参照表4

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/1493μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝1493μm/7μm(间距为1500μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例13的触摸屏用导电膜。

[实施例14]：参照表4

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/793μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝793μm/7μm(间距为800μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，并且不形成透明导电层(导电性微粒层)，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例14的触摸屏用导电膜。

[实施例15]：参照表4

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，并且不形成透明导电层(导电性微粒层)，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例15的触摸屏用导电膜。

[实施例16]：参照表5

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/1193μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝1193μm/7μm(间距为1200μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，并且不形成透明导电层(导电性微粒层)，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例16的触摸屏用导电膜。

[实施例17]：参照表5

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/793μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝793μm/7μm(间距为800μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，并且使用上述组成的第2显影液进行显影处理，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例17的触摸屏用导电膜。

[实施例18]：参照表5

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，使用上述第2显影液进行显影处理，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例18的触摸屏用导电膜。

[实施例19]：参照表5

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/1193μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝1193μm/7μm(间距为1200μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，并使用上述第2显影液进行显影处理，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例19的触摸屏用导电膜。

[比较例1]：参照表5

使Ag为1g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例1的触摸屏用导电膜。

[比较例2]：参照表5

使Ag为2.7g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例2的触摸屏用导电膜。

[比较例3]：参照表5

使Ag为1.5g/m²来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝7μm/493μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝493μm/7μm(间距为500μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例3的触摸屏用导电膜。

[评价]

(表面电阻的测定和表面电阻的偏差的评价)

导电层14的表面电阻使用COPER电子株式会社制的非接触电阻仪717B(H)来测定。另外，开口部22的表面电阻使用ADVANTEST公司制的数字超高电阻(SR计)R8340A来测定。

(波纹的评价)

准备去除了表面的电磁波屏蔽膜的松下电器制PDP(TH-42PX300)，在其上配置旋转盘，该旋转盘用于设置已制作的触摸屏用导电膜。旋转盘由厚度为5mm的玻璃制成，模仿PDP前面板。此外，还带有角度刻度，可得知设置的触摸屏用导电膜的偏角。将电源切入PDP，将PDP的HDMI端子与图像发生器(ASTROVG828D)连接。将来自图像发生器的输出值最大的白色255信号送至PDP。用胶带将触摸屏用导电膜平整地固定在旋转盘上。使房间成为暗室，使旋转盘在偏角-45°～+45°之间旋转，肉眼观察并评价波纹。关于波纹的可见性，在距离PDP的正面1.5m的观察距离处进行观察，将波纹不明显的评价为◎，将可见极少的波纹但不成为问题的评价为○，将波纹明显的评价为×，对各偏角进行评价。作为综合评分，将成为◎的角度范围为15°以上的评价为○5，将成为◎的角度范围低于15°且在10°以上的评价为○4，将成为◎的角度范围低于10°的评价为△3，将不存在成为◎的角度范围且成为×的角度范围低于10°的评价为△2，将不存在成为◎的角度范围且成为×的角度范围为10°以上的评价为×1。

(外观的评价)

使在波纹的评价中使用的PDP的显示逐渐从黑色变为白色，肉眼观察时，将触摸屏用导电膜的网格图案醒目时的灰阶标准化为5个阶段来进行评价。此时，将网格图案以近黑色的灰度醒目的评价为“×1”，以近白色的灰度醒目的或完全不醒目的评价为“○5”，如此来进行评价，以其间的灰度醒目的，从接近白色向黑色依次分成“○4”、“△3”、“△2”。

(直线性的评价)

在触摸屏用笔输入边长为5cm的正方形，肉眼观察确认此时描绘的正方形的各边是否存在断线或紊乱(细小的凹凸)。当4边均没有断线或紊乱时评价为○5，任意1边有断线或紊乱时评价为○4，任意2边有断线或紊乱时评价为△3，任意3边有短线或紊乱时评价为×2，所有边均有断线或紊乱时评价为×1。

由实施例1～19可知，触摸屏用导电膜的表面电阻在1000～2500Ω/sq.的范围内，例如适用于静电容量式的触摸屏。而且，由于导电层14的网格图案18的间距Pa为600μm以上，因此波纹充分减少。特别是实施例1～12、14～19，由于网格图案18的间距Pa为1400μm以下，因此导电层14的网格图案18变得不醒目，外观良好。因此，特别是实施例1～12、14～19，能提供通过触摸屏显示的文字和图像等清晰易见、可见性优异的触摸屏。

此外，由实施例1～13、17～19可知，由于形成了不同于导电层14的分散有导电性微粒的透明导电层，因此笔输入时的直线性提高。另外，实施例1～16由于使用第1显影液进行显影处理，因此将表面电阻的偏差控制在10％以内。

另一方面，比较例1～3中，表面电阻均脱离了1000～2500Ω/sq.的范围。

<第2实施例>

第2实施例中，使用实施例21和实施例22，确认地显示了上述第1显影液和第2显影液引起的表面电阻的偏差的不同。

[实施例21]

使大小为A4尺寸，除此以外均与实施例18同样操作，得到实施例21的触摸屏用导电膜。在该实施例21中，用第2显影液进行显影处理。

[实施例22]

使大小为A4尺寸，除此以外均与实施例3同样操作，得到实施例22的触摸屏用导电膜。在该实施例22中，用第1显影液进行显影处理

[评价]

(表面电阻的偏差的评价)

使用上述COPER电子株式会社制的非接触电阻仪717B(H)，对任意9个点进行测定。

测定结果如图4所示。由该图4的结果可知，使用了第1显影液的实施例22，面内的表面电阻的偏差几乎不存在。即，9个点的表面电阻的最大值与最小值之差为100以下，表面电阻的偏差非常小。

需要说明的是，本发明的触摸屏用导电膜及其制造方法不限于上述实施方式，在不脱离本发明主旨的前提下，可以采用各种构成，这点毋庸置疑。

Claims

1.一种触摸屏用导电膜，其具有含有银的导电层(14)且不具有镀敷层，其特征在于，

所述导电层(14)是通过将银盐乳剂层(16)曝光显影而形成的层，

所述银盐乳剂层(16)的涂布银量为1.1～2.5g/m²，

所述银盐乳剂层(16)的银/粘合剂的体积比率为1/4以上，

所述导电层(14)形成间距为600μm以上、线宽为5～10μm的网格图案(18)，且表面电阻为1000～2500Ω/sq.。

2.如权利要求1所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述银盐乳剂层(16)的涂布银量为1.3～1.9g/m²。

3.如权利要求1所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述网格图案(18)的间距为1400μm以下。

4.如权利要求1所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述网格图案(18)的开口部(22)具有导电性。

5.如权利要求4所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述网格图案(18)的开口部(22)的表面电阻为1.0×10⁷Ω/sq.以上。

6.如权利要求4所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述网格图案(18)的开口部(22)含有导电性聚合物或导电性微粒。

7.如权利要求6所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述网格图案(18)的开口部(22)含有所述导电性微粒，

所述网格图案(18)的开口部(22)上的所述导电性微粒的涂布量为0.2～0.4g/m²。

8.如权利要求1所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

还具备透明导电层，

所述透明导电层含有导电性微粒和粘合剂，所述导电性微粒与粘合剂的质量比以导电性微粒/粘合剂计为1/3～2/1。

9.如权利要求8所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述透明导电层与所述导电层(14)邻接。

10.如权利要求8所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述透明导电层位于所述导电层(14)的上层侧，

所述透明导电层上的所述导电性微粒的涂布量为0.1～0.5g/m²。

11.如权利要求9所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

所述透明导电层位于所述导电层(14)的下层侧，

12.如权利要求6所述的触摸屏用导电膜，其特征在于，

当所述导电性微粒为球状时，平均粒径为0.085～0.12μm，

当所述导电性微粒为针状时，长轴的平均轴长为0.2～20μm、短轴的平均轴长为0.01～0.02μm。

13.一种触摸屏用导电膜，其具有含有银的导电层(14)且不具有镀敷层，其特征在于，

所述银盐乳剂层(16)的涂布银量为1.1～2.Sg/m²，

所述导电层(14)形成间距为600μm以上的网格图案(18)，且表面电阻为1000～2500Ω/sq.，

所述网格图案(18)的开口部(22)具有导电性，

所述开口部(22)含有导电性微粒，

所述开口部(22)上的所述导电性微粒的涂布量为0.2～0.4g/m²。

14.一种触摸屏用导电膜的制造方法，所述导电膜在支撑体(12)上形成有导电层(14)且不具有镀敷层，其特征在于，具有如下工序：

在所述支撑体(12)上形成涂布银量为1.1～2.5g/m²且银/粘合剂的体积比率为1/4以上的银盐乳剂层(16)的工序，和

将所述银盐乳剂层(16)曝光显影而形成含有银的所述导电层(14)的工序；

其中，所述导电层(14)形成间距为600μm以上、线宽为5～10μm的网格图案，且表面电阻为1000～2500Ω/sq.。