JP2010108877A - タッチパネル用導電膜及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】タッチパネル用導電膜として好適な導電性を有し、モアレが十分に低減され、タッチパネル特性に優れるタッチパネル用導電膜を提供する。
【解決手段】銀を含有する導電層１４を有するタッチパネル用導電膜１０であって、導電層１４は銀塩乳剤層１６を露光現像して形成されたものであり、銀塩乳剤層１６の塗布銀量が１．１〜２．５ｇ／ｍ²であり、導電層１４がピッチ６００μｍ以上のメッシュパターンに形成され、導電層１４の表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．である。
【選択図】図１

Description

本発明は、導電膜に関し、さらに詳しくは、タッチパネルに搭載されるタッチパネル用導電膜及びその製造方法に関する。

近年、様々な製造方法による導電性フィルムが検討されている（例えば、特許文献１〜５参照）。この中で、ハロゲン化銀乳剤層を塗布し、該ハロゲン化銀乳剤層を、導電性のための銀の導電部と透明性の確保のための開口部とを有するパターン形状となるようにパターン露光することにより、導電性フィルムとして製造される銀塩方式の導電性フィルムがある（例えば、特許文献６〜１１参照）。この銀塩方式の導電性フィルムは、電磁波シールドへの用途が目的とされており、一般的に、表面抵抗が低いものが求められており、また、めっき等の手段により表面抵抗を低減している。

特開２０００−１３０８８号公報 特開平１０−３４０６２９号公報 特開平１０−４１６８２号公報 特公昭４２−２３７４６号公報 特開２００６−２２８６４９号公報 特開２００４−２２１５６４号公報 特開２００４−２２１５６５号公報 特開２００７−９５４０８号公報 特開２００６−２２８４６９号公報 特開２００６−３３２４５９号公報 特開２００８−２４４０６７号公報

一方、導電性フィルムは種々の用途が検討されており、本発明者らはタッチパネル用の電極としての利用に着目して研究してきた。

本発明の目的は、タッチパネル用導電膜として好適な導電性を有し、モアレが十分に低減され、タッチパネル特性に優れるタッチパネル用導電膜及びその製造方法を提供することにある。

本発明者らは、鋭意検討を行った結果、銀塩乳剤層の塗布銀量を調整するとと共に、ピッチを調整することで、上記課題を解決し得ることを見い出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、以下の発明により上記課題を解決できる。
［１］ 第１の本発明に係るタッチパネル用導電膜は、銀を含有する導電層を有するタッチパネル用導電膜であって、前記導電層は銀塩乳剤層を露光現像して形成されたものであり、前記銀塩乳剤層の塗布銀量が１．１〜２．５ｇ／ｍ²であり、前記導電層がピッチ６００μｍ以上のメッシュパターンに形成され、表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．であることを特徴とする。
［２］ 第１の本発明において、前記銀塩乳剤層の塗布銀量が１．３〜１．９ｇ／ｍ²であることを特徴とする。
［３］ 第１の本発明において、前記銀塩乳剤層の銀／バインダーの体積比率が１／４以上であることを特徴とする。
［４］ 第１の本発明において、前記メッシュパターンのピッチが１４００μｍ以下であることを特徴とする。
［５］ 第１の本発明において、前記導電層の線幅が５〜１０μｍであることを特徴とする。
［６］ 第１の本発明において、前記メッシュパターンの開口部が導電性を有することを特徴とする。
［７］ 第１の本発明において、前記メッシュパターンの開口部の表面抵抗が１．０×１０⁷オーム／ｓｑ．以上であることを特徴とする。
［８］ 第１の本発明において、前記メッシュパターンの開口部が導電性ポリマー又は導電性微粒子を含有することを特徴とする。
［９］ 第１の本発明において、前記メッシュパターンの開口部が前記導電性微粒子を含有し、前記メッシュパターンの開口部への前記導電性微粒子の塗布量が、０．２〜０．４ｇ／ｍ²であることを特徴とする。
［１０］ 第１の本発明において、さらに透明導電層を備え、前記透明導電層は、導電性微粒子及びバインダーを含有し、前記導電性微粒子及びバインダーの質量比（導電性微粒子／バインダー）が１／３〜２／１であることを特徴とする。
［１１］ 第１の本発明において、前記透明導電層が前記導電層に隣接していることを特徴とする。
［１２］ 第１の本発明において、前記透明導電層は前記導電層の上層側に位置し、前記透明導電層への前記導電性微粒子の塗布量が、０．１〜０．５ｇ／ｍ²であることを特徴とする。「前記導電層の上層側」とは、支持体上に導電層が形成されている場合を想定したとき、支持体から導電層を隔てて、該導電層に隣接する位置、あるいは、導電層より離れた表面層に近い側の位置（あるいは表面層の位置）をいう。
［１３］ 第１の本発明において、前記透明導電層は前記導電層の下層に位置し、前記透明導電層への前記導電性微粒子の塗布量が、０．１〜０．５ｇ／ｍ²であることを特徴とする。「前記導電層の下層側」とは、支持体上に導電層が形成されている場合を想定したとき、導電層から支持体により近い位置をいう。
［１４］ 第１の本発明において、前記導電性微粒子が球状のときは、平均粒子径が０．０８５〜０．１２μｍであり、前記導電性微粒子が針状のときは、平均軸長が長軸０．２〜２０μｍ、短軸０．０１〜０．０２μｍであることを特徴とする。
［１５］ 第２の本発明に係るタッチパネル用導電膜の製造方法は、支持体上に導電層が形成されたタッチパネル用導電膜の製造方法において、前記支持体上に塗布銀量が１．１〜２．５ｇ／ｍ²である銀塩乳剤層を形成する工程と、前記銀塩乳剤層を露光現像して銀を含有する前記導電層を形成する工程とを有し、前記導電層がピッチ６００μｍ以上のメッシュパターンに形成され、且つ、表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．であることを特徴とする。

以上説明したように、本発明に係るタッチパネル用導電膜及びその製造方法は、タッチパネル用導電膜として好適な導電性を有し、モアレが十分に低減され、タッチパネル特性に優れる。本発明のタッチパネル用導電膜は、導電層の表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．であることから、タッチパネル（特に静電容量式）の信号特性に優れ、ノイズが十分に低減される。また、メッシュパターンのピッチを１４００μｍ以下とすることで、導電層のメッシュパターンが目立たなくなり、見た目が良好となる。従って、タッチパネルを通じての文字や画像等の表示が見やすくなり、視認性に優れる。また、本発明のタッチパネル用導電膜は、精度が要求されるペン入力での直線性に優れ、表面抵抗のばらつきが十分に低減されていることから、タッチパネル側での過度の設定、例えば直線性や抵抗のばらつきを補正するための過度の設定を不要にすることができる。

以下、本発明に係るタッチパネル用導電膜及びその製造方法を例えば静電容量式タッチパネルに適用した実施の形態例を図１〜図４を参照しながら説明する。

本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０は、図１に示すように、支持体１２上に銀を含有する導電層１４を有する。導電層１４は、銀塩乳剤層１６を露光現像して形成され、銀塩乳剤層１６の塗布銀量は１．１〜２．５ｇ／ｍ²である。

また、導電層１４は、図２に示すように、ピッチＰａが６００μｍ以上のメッシュパターン１８に形成され、その表面抵抗は１０００〜２５００オーム／ｓｑ．である。導電層１４は、メッシュ状に形成された導電部分２０とそれ以外の開口部２２とを含む層である。なお、タッチパネル用導電膜１０には透明導電層を設ける場合があるが、その場合でも透明導電層の表面抵抗は導電層１４の表面抵抗と比較して大きいため、導電層１４の表面抵抗がタッチパネル用導電膜１０の表面抵抗となる。

このような本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０は、以下に詳述する特定のハロゲン化銀感光材料の銀塩乳剤層１６に特定形状のメッシュパターン１８を露光現像することで得られる。

なお、支持体１２と導電層１４との間に図示しない透明導電層が介在されてもよいし、導電層１４とタッチパネルの表面層との間に透明導電層が介在されてもよい。

ここで、本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０の各層の構成について、以下に詳細に説明する。

［支持体１２］
本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０に用いられる支持体１２としては、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。

上記プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。

支持体１２としては、ＰＥＴ（融点：２５８℃）、ＰＥＮ（融点：２６９℃）、ＰＥ（融点：１３５℃）、ＰＰ（融点：１６３℃）、ポリスチレン（融点：２３０℃）、ポリ塩化ビニル（融点：１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（融点：２１２℃）やＴＡＣ（融点：２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフィルム、又はプラスチック板が好ましく、特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。タッチパネル用導電膜１０のような透明導電性フィルムは透明性が要求されるため、支持体１２の透明度は高いことが好ましい。

［銀塩乳剤層１６］
タッチパネル用導電膜１０の導電層１４となる銀塩乳剤層１６は、銀塩とバインダーの他、溶媒や染料等の添加剤を含有する。

本実施の形態に用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本実施の形態においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。

銀塩乳剤層１６の塗布銀量（銀塩の塗布量）は銀に換算して１．１〜２．５ｇ／ｍ²であり、１．３〜１．９ｇ／ｍ²が好ましい。この塗布銀量が上記範囲を満たさない場合には、タッチパネル用導電膜１０とした場合に所望の表面抵抗を得られなくなる。

本実施の形態に用いられるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。

本実施の形態の銀塩乳剤層１６中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。銀塩乳剤層１６中のバインダーの含有量は、Ａｇ／バインダー体積比で１／４以上が好ましく、１／２以上がより好ましい。Ａｇ／バインダー体積比は、１００／１以下が好ましく、５０／１以下がより好ましい。また、Ａｇ／バインダー体積比は１／２〜２／１であることがさらに好ましい。１／２〜０．７／１であることが最も好ましい。銀塩乳剤層１６中のＡｇ／バインダー体積比をこの範囲にすることで、塗布銀量を調整した場合でも抵抗値のばらつきを抑制し、均一な表面抵抗を有するタッチパネル用導電膜１０を得ることができる。

＜溶媒＞
銀塩乳剤層１６の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。

本実施の形態の銀塩乳剤層１６に用いられる溶媒の含有量は、銀塩乳剤層１６に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。

＜その他の添加剤＞
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限は無く、公知のものを好ましく用いることができる。

［その他の層構成］
銀塩乳剤層１６の上に図示しない保護層を設けてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する銀塩乳剤層１６上に形成される。その厚みは０．２μｍ以下が好ましい。保護層の塗布方法及び形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法及び形成方法を適宜選択することができる。

また、銀塩乳剤層１６よりも下に、例えば下引層を設けることもできる。

［導電性ポリマー層、導電性微粒子層］
本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０は、ＰＥＤＯＴ等の導電性ポリマーを含有する導電性ポリマー層や導電性微粒子を含有する導電性微粒子層をさらに有してもよい。この導電性ポリマー層や導電性微粒子層は、１．０×１０⁷オーム／ｓｑ．以上という導電性の低い、高抵抗な透明導電層である。このような高抵抗な透明導電層を設けることでタッチパネル用導電膜１０を形成した場合に表面抵抗の面内ばらつきを均一にすることができ、ペン入力した場合の直線性が向上する。このような高抵抗な透明導電層は、タッチパネル用導電膜１０を製造した後に、導電層１４と電気的に導通する位置にあればよく、例えば高抵抗な透明導電層は、製造時に銀塩乳剤層１６（導電層１４）に隣接して形成されることが好ましい。

導電性微粒子層は、銀塩乳剤層１６自体、あるいは銀塩乳剤層１６に隣接した位置に形成された層、あるいは銀塩乳剤層１６と表面層との間に介在する層、あるいは表面層自体、あるいは支持体１２と銀塩乳剤層１６との間に介在する層に、導電性微粒子及びバインダーを含有させて形成される。導電性微粒子及びバインダーの質量比（導電性微粒子／バインダー）は、１／３〜２／１であることが好ましく、１／３〜１／１であることがより好ましい。銀塩乳剤層１６自体に導電性微粒子及びバインダーを含有させた場合は、導電層１４のメッシュパターン１８の開口部２２に導電性微粒子層が形成された形態となる。すなわち、メッシュパターン１８の開口部２２は、導電性微粒子が分散された光透過部として機能することになる。

導電性微粒子層を銀塩乳剤層１６とは別の位置に形成する場合、導電性微粒子層は、銀塩乳剤層１６に隣接する位置に形成されることが好ましいが、銀塩乳剤層１６と支持体１２の間に形成されることが好ましい。なお、導電性微粒子層が銀塩乳剤層１６と表面層との間に介在する場合、あるいは表面層自体である場合は、タッチパネル用導電膜１０の製造工程で導電性微粒子が反応してタッチパネル用導電膜１０の透明性が低減する虞がある。

＜導電性微粒子とバインダー＞
導電性微粒子は、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＢａＯ及びＭｏＯ₃等の金属酸化物並びにこれらの複合酸化物（２種類以上の金属イオンを含む酸化物）、そして、これらの金属酸化物にさらに異種原子を含む金属酸化物の粒子を挙げることができる。金属酸化物としては、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｇＯが好ましく、ＳｎＯ₂が特に好ましい。

本実施の形態に用いる導電性微粒子の形状については特に制限はなく、粒状、針状等が挙げられる。また、その大きさは、球形の粒子では平均粒子径０．０８５〜０．１２μｍが好ましい。針状の場合は平均軸長が、長軸０．２〜２０μｍ、短軸０．０１〜０．０２μｍが好ましい。

銀塩乳剤層１６に導電性微粒子とバインダーを含有させる場合、導電性微粒子の塗布量が０．１〜０．５／ｍ²であることが好ましく、０．２〜０．４ｇ／ｍ²であることがより好ましい。

導電性微粒子層を、銀塩乳剤層１６よりも上層側に位置させる場合は、導電性微粒子の塗布量が０．１〜０．５ｇ／ｍ²であることが好ましく、０．２〜０．４ｇ／ｍ²であることがより好ましい。

導電性微粒子層を、銀塩乳剤層１６よりも下層側に位置させる場合は、導電性微粒子の塗布量が０．１〜０．５ｇ／ｍ²であることが好ましく、０．１６〜０．４ｇ／ｍ²であることがより好ましい。

導電性微粒子層には、導電性微粒子を支持体１２に密着させる目的でバインダーが付加的に用いられる。このようなバインダーとしては、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。

上記バインダーとしては、例えば、ゼラチン、カラギナン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。

また、ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他アミノ基、カルボキシル基を修飾したゼラチン（フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン）を使用することができる。

［タッチパネル用導電膜１０］
本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０は、支持体１２上に形成された銀塩乳剤層１６をメッシュ状にパターン露光し、現像処理することにより得られる。

本実施の形態において、パターン露光・現像処理によって形成されるメッシュパターン１８は、図２に示すように、メッシュ状で、且つ、直線が略直交した形態の直線格子パターン、図３に示すように、交差部２４間の導電部分２０が少なくとも１つの湾曲を有する波線格子パターン等がある。本実施の形態では、導電層１４のメッシュパターン１８のピッチＰａ（導電部分２０の線幅と開口部２２の幅の合計）が６００μｍ以上であり、１４００μｍ以下であることが好ましく、１２００μｍ以下であることがより好ましい。例えば、図２の直線格子パターンでは、導電部分２０の線幅Ｗａ／開口部２２の幅Ｗｂ、すなわち、ライン／スペースが、５／１３９５〜１０／５９５であることが好ましい。

また、本実施の形態では、導電層１４上にさらに導電性ポリマーを塗布することにより、さらに高抵抗の透明導電層を形成してもよい。

［露光］
銀塩乳剤層１６をパターン状に露光する方法は、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。この際、レンズを用いた屈折式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよく、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光等の露光方式を用いることができる。

［現像処理］
銀塩乳剤層１６は、上述したように、パターン露光がなされた後、さらに現像処理が施される。現像処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。

本実施の形態においては、いずれの現像液をも用いることができるが、好ましくは黒白現像液である。現像主薬としてはカラー現像主薬や黒白系現像主薬が好ましく、特に好ましくは、アスコルビン酸系現像主薬やジヒドロキシベンゼン系現像主薬を用いることができる。アスコルビン酸系現像主薬としてはアスコルビン酸、イソアスコルビン酸やエリソルビン酸やその塩（Ｎａ塩等）等が挙げられるが、コストの点からエリソルビン酸Ｎａが好ましい。ジヒドロキシベンゼン系現像主薬としては、ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノスルホン酸塩等が挙げられるが、特に、ハイドロキノンが好ましい。アスコルビン酸系現像主薬やジヒドロキシベンゼン系現像主薬は、特に超加成性を示す補助現像主薬と併用してもよいが、しなくてもよい。上記アスコルビン酸系現像主薬やジヒドロキシベンゼン系現像主薬と超加成性を示す補助現像主薬としては、１−フェニル−３−ピラゾリドン類やｐ−アミノフェノール類が挙げられる。

補助現像主薬として用いられる１−フェニル−３−ピラゾリドン又はその誘導体としては、具体的に、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン等がある。

上記ｐ−アミノフェノール系補助現像主薬としては、Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−ｐ−アミノフェノール、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）グリシン等があるが、なかでもＮ−メチル−ｐ−アミノフェノールが好ましい。

ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は、通常０．０５〜０．８モル／リットルの量で用いられるのが好ましいが、本発明においては、０．２３モル／リットル以上で使用するのが特に好ましい。さらに好ましくは、０．２３〜０．６モル／リットルの範囲である。また、ジヒドロキシベンゼン類と１−フェニル−３−ピラゾリドン類若しくはｐ−アミノフェノール類との組合せを用いる場合には、前者を０．２３〜０．６モル／リットル、さらに好ましくは０．２３〜０．５モル／リットル、後者を０．０６モル／リットル以下、さらに好ましくは０．０３モル／リットル〜０．００３モル／リットルの量で用いるのが好ましい。

本実施の形態においては、現像開始液（すなわち、現像槽に新液として充填される母液）及び現像補充液の双方が、それぞれ液１リットルに０．１モルの水酸化ナトリウムを加えたときのｐＨ上昇が０．５以下であるｐＨ緩衝能を有することが好ましい。使用する現像開始液ないし現像補充液（以下、両者を併せて現像液と呼ぶこともある）がこのｐＨ緩衝能を有することを確かめる方法としては、試験対象の現像開始液ないし現像補充液のｐＨを１０．５に合わせ、次いでこの液１リットルに水酸化ナトリウムを０．１モル添加し、この際の液のｐＨ値を測定し、ｐＨ値の上昇が０．５以下であれば上記に規定したｐＨ緩衝能を有すると判定する。本実施の形態の製造方法では、特に、上記試験を行った時のｐＨ値の上昇が０．４以下である現像開始液及び現像補充液を用いることが好ましい。

本実施の形態においては、上記現像開始液のｐＨが９．０〜１１．０であることが好ましく、９．５〜１０．７の範囲であることが特に好ましい。上記現像補充液のｐＨ及び連続処理時の現像タンク内の現像液のｐＨもこの範囲である。ｐＨ設定のために用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機アルカリ金属塩（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）を用いることができる。

本発明において、感光材料１平方メートルを処理する際に、現像液中の現像補充液の添加量（補充量）は６４５ミリリットル以下、好ましくは４８４〜３０ミリリットル、特に４８４〜１００ミリリットルである。現像補充液は、現像開始液と同一の組成を有していてもよいが、現像で消費される成分について消費量を補償するに見合う量だけ開始液よりも高い濃度を有していることが好ましい。

本実施の形態で感光材料を現像処理する際の現像液（以下、現像開始液及び現像補充液の双方をまとめて単に「現像液」という場合がある）には、通常用いられる添加剤（例えば、保恒剤、キレート剤）を含有することができる。上記保恒剤としては亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム等の亜硫酸塩が挙げられる。

亜硫酸塩は、５．１〜２０ｗｔ％用いられることが好ましく、さらに好ましくは５．１〜１５ｗｔ％、特に好ましくは５．１〜７ｗｔ％用いられるが、多量添加すると現像液中の銀汚れの原因になることがあるので、その上限は２０ｗｔ％とするのが望ましい。なお、本実施の形態においては、亜硫酸塩の含有量を上記範囲に調整することで、タッチパネル用導電膜１０の面内の表面抵抗のばらつきを抑制することができる。従来の電磁波シールドフィルムでは、表面抵抗が低いために、そのばらつきはあまり考慮されていなかった。しかしながら、タッチパネル用導電膜では、表面抵抗が高いものが使用されるため、その面内ばらつきを均一にする必要があり、本発明者らは亜硫酸塩の含有量を上記範囲に設定することで面内ばらつきが均一になることを見出した。

また、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用してアスコルビン酸誘導体を少量使用してもよい。ここでアスコルビン酸誘導体とは、前記した現像主薬としてのアスコルビン酸と同じであり、アスコルビン酸、及び、その立体異性体であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩（ナトリウム、カリウム塩）等を包含する。上記アスコルビン酸誘導体としては、エリソルビン酸ナトリウムを用いることが素材コストの点で好ましい。上記アスコルビン酸誘導体の添加量はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で０．０３〜０．１２の範囲が好ましく、特に好ましくは０．０５〜０．１０の範囲である。上記保恒剤としてアスコルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素化合物を含まないことが好ましい。

上記以外に現像剤に用いることのできる添加剤としては、臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤；ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進剤や、メルカプト系化合物、インダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物をカブリ防止剤又は黒ポツ（ｂｌａｃｋ ｐｅｐｐｅｒ）防止剤として含んでもよい。

さらに上記現像液中には、各種の有機・無機のキレート剤を併用することができる。上記無機キレート剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、上記有機キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸及び有機ホスホノカルボン酸を用いることができる。これらキレート剤の添加量としては、現像液１リットル当り好ましくは、１×１０^-4〜１×１０^-1モル、より好ましくは１×１０^-3〜１×１０^-2モルである。

さらに、現像液中に溶解助剤として特開昭６１−２６７７５９号公報記載の化合物を用いることができる。さらに現像液には、必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでもよい。現像処理温度及び時間は相互に関係し、全処理時間との関係において決定されるが、一般に現像温度は約２０℃〜約５０℃が好ましく、２５〜４５℃がさらに好ましい。また、現像時間は５秒〜２分が好ましく、７秒〜１分３０秒がさらに好ましい。

そして、本実施の形態では、上述のパターン露光及び現像処理を行うことによって、露光部分にメッシュパターン状の導電部分２０（金属銀部）が形成されると共に、未露光部に開口部２２（光透過性部）が形成される。

銀塩乳剤層１６への現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。銀塩乳剤層１６に対する定着処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。

このようにして得られた本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０の導電層１４は、銀塩乳剤層１６に導電性微粒子が入っている場合には、銀塩が抜けた開口部２２（光透過部）に導電性微粒子が分散し、導電部分２０（金属銀部）よりも高抵抗の透明導電層が形成されることとなる。

また、銀塩乳剤層１６以外の位置に導電性微粒子層を形成することで、導電性微粒子層のうち、導電層１４の開口部２２に対応した部分が、上述と同様に、導電性微粒子が分散した光透過部として機能することになる。

なお、本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０の製造方法では、めっき等の工程が不要である。本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０の製造方法では銀塩乳剤層１６の塗布銀量、銀／バインダー比を調整することで所望の表面抵抗を得ることができるからである。なお、必要に応じてカレンダー処理等を行ってもよい。

以上、上述した本実施の形態の銀塩乳剤層１６や導電性材料は、以下に列挙する公知文献に開示の技術を適宜組合わせて使用することができる。

特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００４−２２１５６５号公報、特開２００７−２００９２２号公報、特開２００６−３５２０７３号公報、国際公開第２００６／００１４６１号パンフレット、特開２００７−１２９２０５号公報、特開２００７−２３５１１５号公報、特開２００７−２０７９８７号公報、特開２００６−０１２９３５号公報、特開２００６−０１０７９５号公報、特開２００６−２２８４６９号公報、特開２００６−３３２４５９号公報、特開２００７−２０７９８７号公報、特開２００７−２２６２１５号公報、国際公開第２００６／０８８０５９号パンフレット、特開２００６−２６１３１５号公報、特開２００７−０７２１７１号公報、特開２００７−１０２２００号公報、特開２００６−２２８４７３号公報、特開２００６−２６９７９５号公報、特開２００６−２６７６３５号公報、特開２００６−２６７６２７号公報、国際公開第２００６／０９８３３３号パンフレット、特開２００６−３２４２０３号公報、特開２００６−２２８４７８号公報、特開２００６−２２８８３６号公報、特開２００６−２２８４８０号公報、国際公開第２００６／０９８３３６号パンフレット、国際公開第２００６／０９８３３８号パンフレット、特開２００７−００９３２６号公報、特開２００６−３３６０５７号公報、特開２００６−３３９２８７号公報、特開２００６−３３６０９０号公報、特開２００６−３３６０９９号公報、特開２００７−０３９７３８号公報、特開２００７−０３９７３９号公報、特開２００７−０３９７４０号公報、特開２００７−００２２９６号公報、特開２００７−０８４８８６号公報、特開２００７−０９２１４６号公報、特開２００７−１６２１１８号公報、特開２００７−２００８７２号公報、特開２００７−１９７８０９号公報、特開２００７−２７０３５３号公報、特開２００７−３０８７６１号公報、特開２００６−２８６４１０号公報、特開２００６−２８３１３３号公報、特開２００６−２８３１３７号公報、特開２００６−３４８３５１号公報、特開２００７−２７０３２１号公報、特開２００７−２７０３２２号公報、国際公開第２００６／０９８３３５号パンフレット、特開２００７−０８８２１８号公報、特開２００７−２０１３７８号公報、特開２００７−３３５７２９号公報、国際公開第２００６／０９８３３４号パンフレット、特開２００７−１３４４３９号公報、特開２００７−１４９７６０号公報、特開２００７−２０８１３３号公報、特開２００７−１７８９１５号公報、特開２００７−３３４３２５号公報、特開２００７−３１００９１号公報、特開２００７−３１１６４６号公報、特開２００７−０１３１３０号公報、特開２００６−３３９５２６号公報、特開２００７−１１６１３７号公報、特開２００７−０８８２１９号公報、特開２００７−２０７８８３号公報、特開２００７−２０７８９３号公報、特開２００７−２０７９１０号公報、特開２００７−０１３１３０号公報、国際公開第２００７／００１００８号パンフレット、特開２００５−３０２５０８号公報、特開２００５−１９７２３４号公報。

＜タッチパネル＞
本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０は、例えば静電容量式のタッチパネルに好適である。

静電容量式のタッチパネルは、タッチパネルの表面に指先を当てることで、指先と導電層１４との間の静電容量が変化することから、この静電容量の変化を検出することによって、指先の座標を求めるものである。

具体的には、タッチパネル用導電膜１０の四隅にそれぞれ端子が形成されており、これらの端子を介して均一な電圧をかけることで、タッチパネル用導電膜１０全面に均一な電界が形成される。この状態で、タッチパネルの表面に指が触れると、タッチパネル用導電膜１０の四隅から指までの距離に比例した容量の変化が生じる。すなわち、タッチパネルに触れた指によって、その部分の電界が放電し、微弱な電流が、四隅の端子、タッチパネル用導電膜、表面コート及び指を経由して、アースに流れることになる。そして、演算回路において、四隅の端子に流れる微弱な電流量の比率が演算され、さらに、演算された比率に基づいてタッチパネル上の指の座標が演算されることになる。

特に、本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜１０は、表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．であることから、静電容量式のタッチパネルでの信号特性に優れ、ノイズを十分に低減することが可能となり、これにより、精度が高く、且つ、応答速度の高い位置検出を実現することができる。

また、導電層１４のメッシュパターン１８のピッチＰａを６００μｍ以上としているため、モアレが十分に低減され、しかも、ピッチＰａを１４００μｍ以下としていることから、導電層１４のメッシュパターン１８が目立たなくなり、見た目が良好となる。従って、タッチパネルを通じての文字や画像等の表示が見やすくなり、視認性に優れたタッチパネルを提供することができる。

さらに、導電層１４の開口部２２や導電層１４とは別の位置に導電性微粒子層や導電性ポリマー層等の透明導電層を形成したので、タッチパネル用導電膜１０の全面において導電性を持たせることができ、ペン入力に忠実に追従した座標検知を行うことが可能となり、例えばペン入力した場合の直線性を向上させることができる。

また、銀塩乳剤層１６に対する現像処理にて使用される現像液として、亜硫酸塩の含有量を上述の範囲に設定した現像液を使用するようにしたので、タッチパネル用導電膜１０の面内の表面抵抗のばらつきを低減させることができ、タッチパネル側での過度の設定、例えば直線性や抵抗のばらつきを補正するための過度の設定を不要にすることができる。これは、演算回路での座標演算の高速化や、駆動回路の負荷低減につながり、回路系の構成の簡略化、コストの低廉化にも寄与する。

以下に本発明を実施例に基づき詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

［実施例１］：表１参照
（乳剤Ａの調製）
・１液：
水 ７５０ｍｌ
ゼラチン（フタル化処理ゼラチン） ８ｇ
塩化ナトリウム ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ
クエン酸 ０．７ｇ
・２液
水 ３００ｍｌ
硝酸銀 １５０ｇ
・３液
水 ３００ｍｌ
塩化ナトリウム ３８ｇ
臭化カリウム ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ ２０％水溶液） ５ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ ２０％水溶液） ７ｍｌ

３液に用いるヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム（０．００５％ＫＣｌ ２０％水溶液）及びヘキサクロロロジウム酸アンモニウム（０．００１％ＮａＣｌ ２０％水溶液）は、それぞれの錯体粉末をそれぞれＫＣｌ２０％水溶液、ＮａＣｌ２０％水溶液に溶解し、４０℃で１２０分間加熱して調製した。

３８℃、ｐＨ４．５に保たれた１液に、２液と３液の各々９０％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍの核粒子を形成した。続いて下記４液、５液を８分間にわたって加え、さらに、２液と３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．２１μｍまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え５分間熟成し粒子形成を終了した。

・４液
水 １００ｍｌ
硝酸銀 ５０ｇ
・５液
水 １００ｍｌ
塩化ナトリウム １３ｇ
臭化カリウム １１ｇ
黄血塩 ５ｍｇ

その後、常法に従ってフロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。

次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。さらに３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作をさらに１回繰り返して（第三水洗）、水洗・脱塩行程を終了した。

水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に塩化銀を７０モル％、沃化銀を０．０８モル％含む平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤を得た。最終的に乳剤として、ｐＨ＝６．４、ｐＡｇ＝７．５、電導度＝４０μＳ/ｍ、密度＝１．２×１０³ｋｇ／ｍ³、粘度＝６０ｍＰａ・ｓとなった。

（塗布液の調製）
上記乳剤Ａに増感色素（ＳＤ−１）５．７×１０^-4モル／モルＡｇを加えて分光増感を施した。さらにＫＢｒ３．４×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物（Ｃｐｄ−３）８．０×１０^-4モル／モルＡｇを加え、よく混合した。

次いで１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０^-4モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０^-2モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０^-4モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩を９０ｍｇ／ｍ²、ゼラチンに対して１５ｗｔ％の粒径１０μｍのコロイダルシリカ、水性ラテックス（ａｑＬ−６）を５０ｍｇ／ｍ²、ポリエチルアクリレートラテックスを１００ｍｇ／ｍ²、メチルアクリレートと２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩と２−アセトキシエチルメタクリレートのラテックス共重合体（質量比８８：５：７）を１００ｍｇ／ｍ²、コアシェル型ラテックスコア：スチレン／ブタジエン共重合体（質量比３７／６３）、シェル：スチレン／２−アセトキシエチルアクリレート（質量比８４／１６、コア／シェル比＝５０／５０）を１００ｍｇ／ｍ²、ゼラチンに対し４ｗｔ％の化合物（Ｃｐｄ−７）を添加し、クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整した。

（透明導電層）
下記のようにして支持体上に透明導電層を設けた（支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（厚さ１００μｍ）を用いた。ＰＥＴにはあらかじめ表面親水化処理したものを用いた）。下記の説明により形成するハロゲン化銀乳剤層の下引層も兼務する透明導電層として、ゼラチン０．１９５ｇ／ｍ²になるように設けた。

・１液：
水 ４１０ｍｌ
ゼラチン １１.４ｇ
Sbドープ酸化スズ(石原産業社製、商品名 SN100P) １９.５ｇ
透明導電層には、写真技術で公知の表面活性剤等を添加してもよい。

（ハロゲン化銀乳剤層）
乳剤Ａを用いて、上記のように調製した乳剤層塗布液を透明導電層上にＡｇ１.５ｇ／ｍ²、ゼラチン０.２１ｇ／ｍ²になるように塗布した。すなわち、Ａｇとゼラチン（バインダー）との比が１／１．１（体積比）となるように塗布した。

（保護層）
ハロゲン化銀乳剤層上に保護層を設けた。
・１液：
水 ９８５ｍｌ
ゼラチン １５ｇ
その他適宜、写真技術で公知の界面活性剤、防腐剤、ｐＨ調節剤を添加した。

このようにして得られた塗布品を乾燥後、試料Ａとする。透明導電層には、導電性微粒子が０.３３５４ｇ／ｍ²で、導電性微粒子／バインダー比は１．７１／１（質量比）で導電性微粒子を塗布している。なお、導電性微粒子単独の抵抗（開口部の表面抵抗）を調べるために、この試料Ａを露光・現像処理せず、定着処理のみ行い、ハロゲン化銀を抜いて表面抵抗を測定したところ、１．５×１０⁹オーム／ｓｑ．であった。

（露光・現像処理）
次いで、前記で調製した試料Ａにライン／スペース＝７μｍ／９９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝９９３μｍ／７μｍ（ピッチ１０００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光し、下記の第１現像液で現像し、さらに定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ：富士フイルム社製）を用いて現像処理を行った後、純水でリンスし、実施例１に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［第１現像液の組成］
第１現像液１リットル中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン ２２．８ｇ
亜硫酸ナトリウム ５２．２ｇ
炭酸カリウム ３９．３ｇ
エチレンジアミン・四酢酸 ２．０ｇ
臭化カリウム ３．２ｇ
ｐＨ（１規定硫酸又は１規定水酸化ナトリウムにて）１０．３に調整

［第２現像液の組成］
第２現像液１リットル中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン ２０．０ｇ
亜硫酸ナトリウム ５０．０ｇ
炭酸カリウム ４０．０ｇ
エチレンジアミン・四酢酸 ２．０ｇ
臭化カリウム ３．０ｇ
ポリエチレングリコール２０００ １．０ｇ
水酸化カリウム ４．０ｇ
ｐＨ（１規定硫酸又は１規定水酸化ナトリウムにて）１０．３に調整

［実施例２］：表１参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．３ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、実施例２に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例３］：表１参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、実施例３に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例４］：表１参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．７ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、実施例４に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例５］：表１参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．９ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、実施例５に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例６］：表１参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ２．１ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、実施例６に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例７］：表１参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ２．３ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、実施例７に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例８］：表１参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ２．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、実施例８に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例９］：表２参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／５９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝５９３μｍ／７μｍ（ピッチ６００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点以外は、実施例１と同様にして、実施例９に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１０］：表２参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／７９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝７９３μｍ／７μｍ（ピッチ８００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点以外は、実施例１と同様にして、実施例１０に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１１］：表２参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／１１９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝１１９３μｍ／７μｍ（ピッチ１２００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点以外は、実施例１と同様にして、実施例１１に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１２］：表２参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／１３９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝１３９３μｍ／７μｍ（ピッチ１４００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点以外は、実施例１と同様にして、実施例１２に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１３］：表２参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／１４９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝１４９３μｍ／７μｍ（ピッチ１５００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点以外は、実施例１と同様にして、実施例１３に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１４］：表２参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／７９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝７９３μｍ／７μｍ（ピッチ８００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点、透明導電層（導電性微粒子層）を形成しなかった点以外は、実施例１と同様にして、実施例１４に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１５］：表２参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、透明導電層（導電性微粒子層）を形成しなかった点以外は、実施例１と同様にして、実施例１５に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１６］：表３参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／１１９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝１１９３μｍ／７μｍ（ピッチ１２００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点、透明導電層（導電性微粒子層）を形成しなかった点以外は、実施例１と同様にして、実施例１６に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１７］：表３参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／７９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝７９３μｍ／７μｍ（ピッチ８００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点、上述した組成にて示される第２現像液にて現像処理した点以外は、実施例１と同様にして、実施例１７に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１８］：表３参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、上述の第２現像液にて現像処理した点以外は、実施例１と同様にして、実施例１８に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［実施例１９］：表３参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／１１９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝１１９３μｍ／７μｍ（ピッチ１２００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点、上述の第２現像液にて現像処理した点以外は、実施例１と同様にして、実施例１９に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［比較例１］：表３参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、比較例１に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［比較例２］：表３参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ２．７ｇ／ｍ²になるように塗布した点以外は、実施例１と同様にして、比較例２に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［比較例３］：表３参照
ハロゲン化銀乳剤層の塗布液をＡｇ１．５ｇ／ｍ²になるように塗布した点、ライン／スペース＝７μｍ／４９３μｍの現像銀像を与え得る格子状のフォトマスクライン／スペース＝４９３μｍ／７μｍ（ピッチ５００μｍ）の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して露光した点以外は、実施例１と同様にして、比較例３に係るタッチパネル用導電膜を得た。

［評価］
（表面抵抗の測定及び表面抵抗のばらつきの評価）
導電層１４の表面抵抗は、コペル電子株式会社製非接触抵抗計７１７Ｂ（Ｈ）にて測定した。また、開口部２２の表面抵抗は、ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ社製デジタル超高抵抗（ＳＲ計）Ｒ８３４０Ａにて測定した。

（モアレの評価）
表面の電磁波シールドフィルムを外した松下電器製ＰＤＰ（ＴＨ−４２ＰＸ３００）を準備し、その上に作製したタッチパネル用導電膜を設置するための回転盤を配置する。回転盤は厚さ５ｍｍのガラスでできており、ＰＤＰ前面板を模している。さらに、角度目盛がついており、設置したタッチパネル用導電膜のバイアス角がわかるようになっている。ＰＤＰに電源を入れ、ＰＤＰのＨＤＭＩ端子とパターンジェネレータ（ＡＳＴＲＯＶＧ８２８Ｄ）を接続する。パターンジェネレータから出力値最大の白色２５５信号をＰＤＰへ送る。タッチパネル用導電膜が撓まないようにテープで回転盤の上に固定する。部屋を暗室にし、回転盤をバイアス角−４５°〜＋４５°の間で回転し、モアレの目視観察・評価を行った。モアレの視認性はＰＤＰの正面から観察距離１．５ｍで行い、モアレが顕在化しなかった場合を◎、モアレが問題のないレベルでほんの少し見られた場合を○、モアレが顕在化した場合を×として、各バイアス角度を評価した。総合評点として、◎となる角度範囲が１５°以上の場合を○５、◎となる角度範囲が１５°未満、１０°以上の場合は○４、◎となる角度範囲が１０°未満の場合は△３、◎となる角度範囲が無く×となる角度範囲が１０°未満の場合は△２、◎となる角度範囲が無く×となる角度範囲が１０°以上ある場合を×１とした。

（見た目の評価）
モアレの評価で用いたＰＤＰの表示を黒から白に徐々に変化させ、肉眼で見たときに、タッチパネル用導電膜のメッシュパターンが目立った時点のグレー階調を５段階に正規化して評価した。このとき、メッシュパターンが黒に近い階調で目立った場合は「×１」、白に近い階調で目立った場合、あるいは全く目立たない場合は「○５」というように評価し、その間の階調で目立った場合は、白に近い方から黒に向かって順番に「○４」、「△３」、「△２」というように割り当てた。

（直線性の評価）
タッチパネルに対して一辺が５ｃｍの正方形をペンで入力し、そのときに描かれる正方形の各辺に断線や乱れ（細かい凹凸）が存在するかどうかを目視にて確認した。そして、４辺とも断線や乱れがない場合に○５、いずれか１辺に断線や乱れがあった場合に○４、いずれか２辺に断線や乱れがあった場合に△３、いずれか３辺に断線や乱れがあった場合に×２、全ての辺に断線や乱れがあった場合に×１と評価した。

実施例１〜１９においては、表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．の範囲内にあり、例えば静電容量式のタッチパネルに用いて好適なタッチパネル用導電膜であることがわかる。しかも、導電層１４のメッシュパターン１８のピッチＰａが６００μｍ以上であることから、モアレが十分に低減されていることがわかる。特に、実施例１〜１２、１４〜１９は、メッシュパターン１８のピッチＰａが１４００μｍ以下であることから、導電層１４のメッシュパターン１８が目立たなくなり、見た目が良好となる。従って、特に、実施例１〜１２、１４〜１９は、タッチパネルを通じての文字や画像等の表示が見やすくなり、視認性に優れたタッチパネルを提供することができる。

さらに、実施例１〜１３、１７〜１９は、導電層１４とは別に導電性微粒子が分散された透明導電層を形成するようにしたので、ペン入力した場合の直線性が向上していることがわかる。また、実施例１〜１６は、第１現像液にて現像処理するようにしたので、表面抵抗のばらつきが１０％以内に抑えられていることがわかる。

一方、比較例１〜３は、いずれも、表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．の範囲から逸脱していた。

実施例２１及び２２を用いて、上述の第１現像液と第２現像液による表面抵抗のばらつきの違いを確認的に示すものである。

［実施例２１］
大きさをＡ４サイズにした以外は、実施例１８と同様にして、実施例２１に係るタッチパネル用導電膜を得た。この実施例２１では、第２現像液にて現像処理した。

［実施例２２］
大きさをＡ４サイズにした以外は、実施例３と同様にして、実施例２２に係るタッチパネル用導電膜を得た。この実施例２２では、第１現像液にて現像処理した。

［評価］
（表面抵抗のばらつきの評価）
上述したコペル電子株式会社製非接触抵抗計７１７Ｂ（Ｈ）にて、任意の９箇所を測定した。

測定結果を図４に示す。この図４の結果から、第１現像液を用いた実施例２２は、面内の表面抵抗のばらつきがほとんどないことがわかる。すなわち、９点の表面抵抗の最大値と最小値の差が１００以下であり、表面抵抗のばらつきが非常に小さい。

なお、本発明に係るタッチパネル用導電膜及びその製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。

本実施の形態に係るタッチパネル用導電膜を一部省略して示す断面図である。 導電層のメッシュパターンの一例（直線格子パターン）を示す平面図である。 導電層のメッシュパターンの他の例（波線格子パターン）を示す平面図である。 第１現像液を使用して現像処理した場合と、第２現像液を使用して現像処理した場合とにおける面内の表面抵抗のばらつきの違いを示すグラフである。

符号の説明

１０…タッチパネル用導電膜
１２…支持体
１４…導電層
１６…銀塩乳剤層
１８…メッシュパターン
２０…導電部分
２２…開口部
Ｐａ…ピッチ

Claims (15)

1. 銀を含有する導電層を有するタッチパネル用導電膜であって、
   前記導電層は銀塩乳剤層を露光現像して形成されたものであり、
   前記銀塩乳剤層の塗布銀量が１．１〜２．５ｇ／ｍ²であり、
   前記導電層がピッチ６００μｍ以上のメッシュパターンに形成され、
   表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．である
   ことを特徴とするタッチパネル用導電膜。
2. 請求項１記載のタッチパネル用導電膜において、
   前記銀塩乳剤層の塗布銀量が１．３〜１．９ｇ／ｍ²であることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
3. 請求項１又は２記載のタッチパネル用導電膜において、
   前記銀塩乳剤層の銀／バインダーの体積比率が１／４以上であることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネル用導電膜において、
   前記メッシュパターンのピッチが１４００μｍ以下であることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
5. 請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネル用導電膜において、
   前記導電層の線幅が５〜１０μｍであることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載のタッチパネル用導電膜において、
   前記メッシュパターンの開口部が導電性を有することを特徴とするタッチパネル用導電膜。
7. 請求項６記載のタッチパネル用導電膜において、
   前記メッシュパターンの開口部の表面抵抗が１．０×１０⁷オーム／ｓｑ．以上であることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
8. 請求項６又は７記載のタッチパネル用導電膜において、
   前記メッシュパターンの開口部が導電性ポリマー又は導電性微粒子を含有することを特徴とするタッチパネル用導電膜。
9. 請求項８記載のタッチパネル用導電膜において、
   前記メッシュパターンの開口部が前記導電性微粒子を含有し、
   前記メッシュパターンの開口部への前記導電性微粒子の塗布量が、０．２〜０．４ｇ／ｍ²であることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
10. 請求項１〜７のいずれか１項に記載のタッチパネル用導電膜において、
    さらに透明導電層を備え、
    前記透明導電層は、導電性微粒子及びバインダーを含有し、前記導電性微粒子及びバインダーの質量比（導電性微粒子／バインダー）が１／３〜２／１であることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
11. 請求項１０記載のタッチパネル用導電膜において、
    前記透明導電層が前記導電層に隣接していることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
12. 請求項１０記載のタッチパネル用導電膜において、
    前記透明導電層は前記導電層の上層側に位置し、
    前記透明導電層への前記導電性微粒子の塗布量が、０．１〜０．５ｇ／ｍ²であることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
13. 請求項１１記載のタッチパネル用導電膜において、
    前記透明導電層は前記導電層の下層側に位置し、
    前記透明導電層への前記導電性微粒子の塗布量が、０．１〜０．５ｇ／ｍ²であることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
14. 請求項８〜１３のいずれか１項に記載のタッチパネル用導電膜において、
    前記導電性微粒子が球状のときは、平均粒子径が０．０８５〜０．１２μｍであり、
    前記導電性微粒子が針状のときは、平均軸長が長軸０．２〜２０μｍ、短軸０．０１〜０．０２μｍであることを特徴とするタッチパネル用導電膜。
15. 支持体上に導電層が形成されたタッチパネル用導電膜の製造方法において、
    前記支持体上に塗布銀量が１．１〜２．５ｇ／ｍ²である銀塩乳剤層を形成する工程と、
    前記銀塩乳剤層を露光現像して銀を含有する前記導電層を形成する工程とを有し、
    前記導電層がピッチ６００μｍ以上のメッシュパターンに形成され、且つ、表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．であることを特徴とするタッチパネル用導電膜の製造方法。

Images