JP4940949B2 - タッチパネル用複合透明導電性基材およびタッチパネル - Google Patents

Description

本発明はタッチパネル用の複合透明導電性基材に関するものである。

タッチパネルは、ディスプレイの表示部にふれるだけで、誰もが使うことができるため、マンマシーン・インターフェイスとして優れているといわれている。需要が拡大しているパーソナル携帯情報機器には、抵抗膜方式のタッチパネルが採用されている。

従来の抵抗膜式タッチパネルは、指やペンなどで押圧操作する方式、いわゆる打点方式である。この方式のタッチパネルの透明電極フイルム(透明導電性基材)に要求される主要な特性は、（ａ）規定の抵抗値で、かつ抵抗値が均一であること、（ｂ）高温高湿下での抵抗値の安定性、および（ｃ）打点による抵抗値の変化が少ないという打点耐久性である。通常、透明導電性基材に設けられた透明導電性層の厚みは１０〜４０ｎｍと薄いために、打点によって透明導電性層に変形、磨耗、亀裂の生成などを起こしやすい。よって上記主要な特性の中で最も解決困難な特性は打点耐久性であり、この課題を解決するために、色々な技術提案がなされている。例えば、透明基材フイルムの少なくとも一面に、厚さが０．０２〜１０μｍであるシロキサン結合を含むアンカー層を介して、透明導電層を設けた透明導電積層体が提案されている（特許文献１）。この方法は、高温高湿下での抵抗値の安定性はあるが、耐久性が十分ではなかった。また、導電性の重合体を含む導電性表面を有する透明導電性基材が提案されている（特許文献２）。この方法は、耐久性に優れているものの、高温高湿下で抵抗値が上昇する問題があった。
特開２００２−３６７４３６号公報 請求項２ 特開２００２−１０９９９８号公報 請求項１

従来の打点方式に加えて、近年、描画できるタッチパネルの開発が進められている。描画タイプのタッチパネルの透明導電性基材に要求される主要な特性は、（ａ）規定の抵抗値で、かつ抵抗値が均一であること、（ｂ）高温高湿下での抵抗値の安定性、および（ｃ）描画による抵抗値の変化が少ないという描画耐久性である。描画は、ペンがタッチパネルを摺動するために、打点にくらべ極めて大きく透明導電性基材の塑性変形および磨耗を伴う。従来の透明導電性基材では、これら全ての特性を満足することはできなかった。

本発明は、（ａ）規定の抵抗値で、かつ抵抗値が均一で、（ｂ）高温高湿下での抵抗値の変化が小さく、かつ（ｃ）描画による抵抗値変化の少ない透明導電性基材を提供するものである。

本発明は、高分子フイルムまたは高分子シートからなる基材（Ａ）、透明導電層（Ｂ）および誘電体層（Ｃ）がこの順に積層され、誘電体層（Ｃ）が温度２０℃、周波数１ｋＨｚにおける比誘電率が１５以上あるシアノエチル化高分子およびアセチル化プルランから選ばれた有機高分子からなり、かつ誘電体層（Ｃ）の厚さが４０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であるタッチパネル用複合透明導電性基材、および、それを用いたタッチパネルである。

本発明の複合透明導電性基材は、高温高湿下での抵抗値の安定性にすぐれ、かつ描画による抵抗値の変化が少ないため、描画タイプのタッチパネル用の透明導電性基材として優れている。

本発明のタッチパネル用複合透明性基材の断面の一例を示す概略図である。 実施例における描画による抵抗値の変化の評価方法を示す模式図である。 図２の評価によって測定された電圧とリニアリティの関係を示す図である。

符号の説明

１．高分子フイルムまたはシートからなる基材（Ａ）
２．透明導電層（Ｂ）
３．誘電体層（Ｃ）
４．表面硬化層（Ｄ）

本発明の複合透明導電性基材は、高分子フイルムまたは高分子シート(以下、フイルム／シートと称す)からなる基材（Ａ）、透明導電層（Ｂ）および誘電体層（Ｃ）がこの順に積層されている。

なお、ここではフイルムとは厚みが１μｍ以上５００μｍ以下、シートとは厚みが５００μｍを超え、２ｍｍ以下のものをさす。

本発明の複合透明導電性基材は、タッチパネルの透明電極として用いられる部品である。抵抗膜方式のタッチパネルは、上部電極と下部電極が一定のギャップをおいて配置されている。電極同士の誤接触を防止するために、上下の電極の間にドットスペーサーを設けることもある。タッチパネルのある一点が押下されると、その部分の上下の電極が接触し、通電可能となる。上下の電極のいずれかに電圧を印加することにより電位勾配が発生し、他方の電極で電位を検出することにより、接触点の電位が検出される。検出された電位と電位勾配の関係から、接触点の座標が計算される。このようなメカニズム上、透明導電性基材は繰り返し変形および応力を受けることとなり、透明導電性層にクラックを生じやすい。

透明導電層（Ｂ）の上に有機高分子からなる誘電体層（Ｃ）を積層することによって、透明導電層（Ｂ）にクラックが入りにくくなり、描画による抵抗値の変化が著しく改善される。しかし、透明導電層（Ｂ）の上を、有機高分子で覆ってしまうと、通常、表面抵抗値は著しく高くなり、透明電極として適さなくなる。前述のように、導電性の重合体を用いると、この問題は解消されるものの、高温高湿下で抵抗値が上昇する問題があった。携帯情報機器などの屋外で使用する機器に用いられるタッチパネルにおいては、高温高湿下における抵抗値の安定性に優れることは重要であるので、高温高湿下での抵抗値の安定性と描画耐久性の両立が求められる。

本発明においては、温度２０℃、周波数１ｋＨｚにおける比誘電率が１５以上ある有機高分子からなり、かつ厚さが４０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下である誘電体層（Ｃ）を透明導電層（Ｂ）上に積層することにより、高温高湿下での抵抗値の安定性に優れ、かつ描画による抵抗値の変化が少ない複合透明導電性基材が得られることを見いだした。

比誘電率が１５以上ある有機高分子は、体積固有抵抗値が高いにもかかわらず、適切な膜厚の薄膜を透明導電層上に形成した場合、有機高分子層の表面抵抗値が、透明導電層の表面抵抗値から大きく変化せず、タッチパネルに適した範囲内の抵抗値が得られることを見出した。

温度２０℃、周波数１ｋＨｚにおける比誘電率が１５以上の有機高分子としては、シアノエチル化した有機高分子を用いる。なかでもシアノエチルセルロース、シアノエチルヒドロキシエチルセルロースなどのセルロース系高分子のシアノエチル化高分子、シアノエチルスターチ、シアノエチルヒドロキシプロピルスターチ、シアノエチルプルラン、シアノエチルグリシドールプルランなどのデンプン系高分子のシアノエチル化高分子、シアノエチルポリビニールアルコール、シアノエチルシュクロース、およびシアノエチルソルビトールから選ばれた一種、または二種以上の有機高分子がより好ましい。なかでもシアノエチルプルランが、可撓性が有り、描画耐久性が高く、かつ高温高湿下での抵抗値の安定性も高い複合透明導電性基材が得られるので、特に好ましい。

また、有機高分子としてアセチル化プルランを用いることもできる。アセチル化プルランは、単独で用いても、シアノエチル化した有機高分子と混合して用いても、可撓性が有り、描画耐久性が高く、かつ高温高湿下での抵抗値の安定性も高い複合透明導電性基材が得られるので、好ましい。

また、誘電体層（Ｃ）の厚さは４０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下が好ましい。４０ｎｍ未満では高温高湿下での抵抗値の安定性の改善効果が低く、かつ描画耐久性の改善効果も高くない。２０００ｎｍを超えると表面抵抗値が大きくなる。より好ましい範囲は８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。

複合透明導電性基材の表面抵抗値は、１００Ω／□以上１０００Ω／□以下であることが好ましい。表面抵抗値が１００Ω／□未満では、タッチパネルの電力使用量が多くなる。表面抵抗値が１０００Ω／□を超えると、電波外乱の影響を受けやすくなる。複合透明導電性基材の表面抵抗値は２００Ω／□以上５００Ω／□以下であることがより好ましい。透明導電層の厚みを厚くすると表面抵抗値は下がるが、光線透過率も下がり、タッチパネルの透明性が悪くなる弊害がある。複合透明導電性基材の全光線透過率は、８０％以上が好ましく、８５%以上であることがより好ましい。

なお、ここで言う表面抵抗値とは誘電体層（Ｃ）上で測定した表面抵抗値をさす。

基材（Ａ）となるフイルム／シートとしては、ポリカーボネイト樹脂、アクリル樹脂、トリアセテートに代表されるアセテート樹脂、環状ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂などの透明性の高い樹脂から成形されたフイルム／シートが好ましい。中でも透明性が高く、耐熱性が高く、かつ、可とう性のあるポリエチレンテレフタレートからなるフイルム／シートがより好ましい。

また、透明導電層（Ｂ）との接着性を上げるために、透明導電層（Ｂ）と積層する前に、フイルム／シートに、接着樹脂をコーティングしたり、放電処理などの表面処理をしたりすることが好ましい。さらにフイルム／シートは熱によって収縮することがあるので、前もって熱処理を施し、収縮の原因となる歪を取り除いておくことも好ましい。

本発明のタッチパネル用複合基材の透明導電膜層（Ｂ）は、金、銀、銅などの極薄の金属薄膜、あるいは酸化インジューム（酸化錫および／または酸化亜鉛を含有してもよい) 、酸化錫、酸化亜鉛などの導電性金属酸化物などの金属系透明導電性薄膜であることが好ましい。なかでも透明性が高い範囲で抵抗値が低い導電性金属酸化物がより好ましい。特に酸化インジューム、酸化錫および酸化亜鉛から選ばれた一種、または二種以上の化合物は、表面抵抗値が低く、透明性が高く、かつ湿度による化学的変化が少なく、好ましい。なお、透明導電層（Ｂ）は、金属系透明導電性薄膜を多層に積層してもよい。

透明導電層（Ｂ）に金属系透明導電性薄膜を用いた場合、高温高湿下における抵抗値の変化は少ないが、透明導電層（Ｂ）のみでは描画による抵抗値の変化が大きい。しかし、透明導電層（Ｂ）に誘電体層（Ｃ）を積層した場合、描画による抵抗値の変化も小さくできる。

これらの透明導電性薄膜は電子ビーム蒸着、スパッタリング、イオンプレーテイングなどのＰＶＤと称される真空蒸着法によって基材（Ａ）上に形成できる。金属系透明導電性薄膜は、目的用途に適した特性の金属系透明導電性物質を選定し、適切な薄膜製造方法によって形成することが好ましい。また、金属系透明導電性薄膜は熱処理によって表面抵抗値、光線透過率、光線反射率などの特性を変えることができるので、必要に応じて熱処理等を施しても良い。なお、金属系透明導電薄膜の一般的な物性および製造方法は「透明導電膜の技術」第３章、第４章、および第５章（日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第１６６委員会編、（株）オーム社発行）などに詳細に記述されている。

透明導電層（Ｂ）が金属系透明導電性物質からなる場合、その厚みは、用途に応じて要求される表面抵抗値および光線透過率によって、適宜決定すべきであるが、好ましくは５ｎｍから０．５μmである。表面抵抗値、光線透過率、および可撓性の点から、透明導電層（Ｂ）の厚みは１０ｎｍから０．２μmがより好ましい。厚みが５ｎｍ未満では表面抵抗が高くなり、厚みが０．５μmを超えると、透明導電層（Ｂ）の光吸収により光線透過率が低下するのに対し表面抵抗値はあまり低下しないためである。

また、透明導電層（Ｂ）の素材は、導電性高分子であってもよい。導電性高分子としては、２μｍの厚さで５０％以上の光線透過率を有し、かつ１.０×１０^−８Ｓ／ｃｍの導電率を有する物が好ましい。

導電性高分子については「導電性高分子のはなし」第５章（吉野勝美著、日刊工業新聞社発行）「導電性高分子」（緒方直哉編、講談社サイエンティフィク発行）、あるいは「Science and Application of Conducting Polymers」（W.R.Salaneck 他編、Adam Hilger発行）などに詳細に記述されている。

透明導電層（Ｂ）に透明導電性高分子を用いた場合、描画による抵抗値の変化は少ないが、透明導電層（Ｂ）のみでは高温高湿下において抵抗値の変化が大きい。透明導電層（Ｂ）に誘電体層（Ｃ）を積層することによって、高温高湿下での抵抗値変化を小さくできる。

透明導電層（Ｂ）に用いられるより好ましい導電性高分子は、透明性、導電性および可撓性からポリピロール、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリフルオレン、これらの誘導体、およびこれらを構成する単量体の共重合物から選ばれた導電性高分子のいずれか一種または二種以上の混合物などである。中でも側鎖を導入することにより、水あるいはその他の溶媒に可溶性または分散性を有するポリチオフェン、ポリアルキルフルオレン、ポリフルオレン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレンの誘導体、およびこれらを構成する単量体の共重合物から選ばれた少なくとも一種の導電性高分子は、透明性および導電性に優れ、かつフイルム／シートにコーティングすることができ、適切な厚みの導電性高分子膜を均一に形成できることからより優れている。特にポリジオキシチオフェンを含有する導電性高分子、中でもポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＴ）とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）の混合物からなる導電性高分子は、水あるいはその他の溶媒に溶解あるいは分散できることから、容易にフイルム／シートにコーティングでき、さらに透明性と導電性が特に高い膜を形成できることから最も好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸からなる導電性高分子を水あるいはその他の溶媒に溶解または分散した樹脂液の作成方法は、特開平７−９００６０号公報、あるいは国際公開第０２／０６７２７３号パンフレットに提案されている。

さらに、導電性高分子にポリスチレン粒子、アクリル樹脂粒子などの粒子を添加することによって、滑性が高まることから、ディスプレイ画面サイズにフイルム／シートを断裁する際に、断裁したフイルム／シートの積み上げが容易になるので好ましい。また、導電性高分子に、他の樹脂を添加することによって、透明導電層（Ｂ）の強度が強くなり、擦れや引っかき耐久性などの品質の安定性が向上するので好ましい。

導電性高分子を基材（Ａ）に積層する方法は電解重合法、蒸着法、コーティング法（塗工法）などがあり、用途や導電性高分子の種類によって適宜選択できる。しかし、水あるいはその他の溶媒に溶ける導電性高分子をコーティング法により積層することが、フイルム／シートのように幅が広く、長さが長い基材に均一に、規定の厚みで積層できることからより好ましい。コーティングの方法は特に限定されるものではなく、用途に応じて適切な方法が選択できる。コーティングの種々の方法は、「コーティング方式」第１章から第１８章（原崎勇次著、槇書店発行）などの文献に詳細に記述されている。

導電性高分子を用いた場合の透明導電層（Ｂ）の厚みは、導電性高分子の種類によって異なり、表面抵抗値および光線透過率によって適宜決定すべきであるが、一般に４００ｎｍから５μｍ程度が好ましい。より好ましい厚みは、表面抵抗値と光線透過率の点で５００ｎｍから２μｍである。厚みが４００ｎｍ未満では表面抵抗値が高くなり、厚みが５μｍを超えると、導電性高分子の光吸収により光線透過率が低下する。

タッチパネルは、表面をペンで擦られるために、表面が傷つきやすい。よって複合導電性基材の少なくとも片面に表面硬度層（Ｄ）を設けることが好ましい。ペンで擦られる外表面は、基材（Ａ）の透明導電層（Ｂ）／誘電体層（Ｃ）を設けた面の反対面であるので、その面に表面硬度層（Ｄ）を設け、表面硬化層（Ｄ）／基材（Ａ）／透明導電層（Ｂ）／誘電体層（Ｃ）の順に積層するのが好ましい。また、基材（Ａ）の両面に表面硬度層（Ｄ）を設けた、表面硬化層（Ｄ）／基材（Ａ）／表面硬化層（Ｄ´）／透明導電層（Ｂ）／誘電体層（Ｃ）の構成も選択できる。

該表面硬化層（Ｄ）は、鉛筆硬度１Ｈ以上の硬度を持つものが好ましい。表面硬化層（Ｄ）の素材は、無機化合物でも有機化合物でも良いが、可撓性がある点から有機化合物がより好ましい。表面硬化層の組成としては、熱硬化樹脂、あるいは電子線、紫外線などの高エネルギー線照射により硬化する電離放射線硬化樹脂などが挙げられる。例えばメラミン樹脂、エポキシ樹脂、ペンタエリスリトールトリアクリレートやアクリレート系アルコール変性多官能化合物などの(メタ)アクリレート樹脂、アルコキシシラン化合物、チタネート化合物などが好ましく挙げられる。特に電離放射線照射により硬化する（メタ）アクリレート樹脂は、硬度が高く、かつ可撓性を持つことから表面硬化層（Ｄ）としてより好ましい組成物である。例えばこのような硬化樹脂の組成物としては、特開平１２−１４１５５６号公報、特開平１３−１７９９０２号公報、特開平１３−２８７３０８号公報などに記載された樹脂組成物が挙げられる。

タッチパネルには一般的に、上部電極として透明導電フイルムが、下部電極として導電性ガラスが用いられている。本発明の複合透明導電性基材は、上部電極である透明導電フイルムとして用いた場合、耐描画性および耐高温高湿性に優れたタッチパネルを製作できる。さらに最近携帯機器用などのタッチパネルとして薄型のタッチパネルの開発が検討されているが、本発明の複合透明性基材を上下の両電極として用いた場合、薄くて軽い優れたタッチパネルを作ることができる

〔評価方法〕
１．誘電率
測定する有機高分子をジメチルフォルムアミドを主溶媒とする溶媒に溶かして、その溶液をガラス板の上に乾燥厚みが０．５ｍｍになるように塗布し、１５０℃のオーブンで３分間乾燥固化し、板状試料を作成した。得られた板状試料を４０ｍｍ角に切り出し、キーコム製誘電率測定装置ＤＴ−００２に平板計測用電極ＤＰＴ−００８を電極として取り付け、電極に試料を挟み、温度２０℃で、周波数１ｋＨｚ、電圧１．０Ｖ_ＤＣの電圧を印加し、ＪＩＳ Ｃ６４８１−１９８６に準じて測定した。
２．表面抵抗値
ＪＩＳ Ｋ７１９４−１９９４に準じ、ダイヤインスツルメンツ製低抵抗率計ロレスタＭＣＰ−Ｔ３６０を用いて、４探針法にて測定した。測定する複合透明性基材の誘電体層上に４本の針状の電極を直線上に置き、外側の二探針間に一定電流を流し、内側の二探針間に生じる電位差を測定し、計算にて抵抗を求めた。なお、誘電体層を設けないサンプルを測定する場合は、透明電極上に電極を置いた。
３．全光線透過率
複合透明性基材を４０ｍｍ角に切り出し、ＪＩＳ Ｋ７１０５−１９８１に準じ、日本電色製Ｈａｚｅ Ｍａｔｅｒ ＮＤＨ−２０００を用いて、Ｄ６５光源にて測定した。
４．ｂ値
複合透明性基材を４０ｍｍ角に切り出し、ＪＩＳ Ｋ７１０５−１９８１に準じ、スガ試験機製ＳＭカラーコンピュータ Ｍｏｄｅｌ ＳＭ−６を用いて、Ｄ６５光源にて透過法で測定した。
５．高温高湿下での抵抗値の安定性の評価
複合透明性基材を６０℃、９０％ＲＨの恒温高湿槽に２４０時間入れた。恒温高湿槽に入れる前の表面抵抗値Ｒ_０および入れた後の表面抵抗値Ｒを、それぞれ上述２．の評価方法を用いて測定した。両者の比Ｒ／Ｒ_０により、高温高湿下での抵抗値の安定性を評価した。Ｒ／Ｒ_０の値が、１に近いほど、高温高湿下での抵抗値の安定性に優れている。
６．描画による抵抗値の変化の評価
スペーサー粒子付ネサ硝子（（株）タッチパネル研究所製）の導電性側表面の端部に粘着テープ付きの銅箔テープをはり、Y電極と該電極の取り出し端子を設け、下部電極(固定電極)とした。本発明の透明導電性基材の導電層（Ｂ）／誘電体層（Ｃ）側表面の端部に粘着テープ付きの銅箔テープをはり、Ｘ電極と該電極の取り出し端子を設け、上部電極（可動電極）とした。さらに上部電極と下部電極を、導電性側表面同士が向かい合うように対向させ、端部に貼った両面テープを介して、８０μmのギャップを設けて、貼り合わせ、タッチパネルサンプルを製作した。該タッチパネルサンプルを抵抗膜式タッチパネル検査装置（（株）タッチパネル研究所製）に設置し、図２に示すように上部電極の平行する２辺をＸ電極として一定電流Ｉを流した。端部から２ｍｍの位置にて、透明導電性基材の表面硬化層（Ｄ）上を、ペン荷重３００ｇをかけた、ペン先０．８Ｒのポリアセタールペンで長さ２０ｍｍの直線を２１０ｍｍ／ｍｉｎの速度で、往復筆記(描画)した。１往復を描画１回として、１０００回ごとに抵抗値の直線性を測定した。抵抗値の直線性とはリニアリティと称され、次式で計算される。

リニアリティ＝（ΔＥ／Ｅ）×１００％
ここで、Ｅは、測定端子Ｐが描画する直線の両端をそれぞれＸ１およびＸ２としたとき、測定端子ＰがＸ１上にある時の電圧ＥＸ_１と測定端子ＰがＸ２上にある時の電圧ＥＸ_２を結んだ直線により計算される、Ｘ１とＸ２の間の任意の点Ｘ_Ｘにおける計算上の電圧である。ΔＥ_Ｘは、図３に示すように、点Ｘ_Ｘにおける計算上のＥ_Ｘと実際に測定されたＥＸ_Ｘの差である。Ｘ１とＸ２を結ぶ直線上での最大のΔＥ_Ｘを用いて、上記の計算式によりリニアリティの値を求める。

直線性変化量とは描画１回目で測定されたリニアリティと描画１０００回ごとに測定したリニアリティの差である。直線性変化量が１．５％になる描画回数を最大描画回数とする。最大描画回数が大きいほど、描画による抵抗値の変化が少ない。
〔実施例１〕
厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム（東レ（株）製 商品名“ルミラー（登録商標）”ＱＴ５９）を基材（Ａ）とし、該基材（Ａ）上に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０重量部、マクロモノマーＡＮ−６Ｓ（固形分５０重量％）１６重量部、スチレン−アクリル共重合体（固形分６０％、重量平均分子量１７７９０）２０重量部、イミドアクリレート（ＴＯ−１４２９）１０重量部からなる表面硬化樹脂をトルエンとメチルエチルケトンを主溶媒とする溶媒に溶かした塗剤を、３本リバースコータを用いて乾燥後の膜厚が５μｍになるように１０ｍ／ｍｉｎの塗工速度で塗工した。オーブンで乾燥後、１００ｗ／ｃｍのエネルギー強度の高圧水銀灯で照射して、該表面硬化樹脂を架橋硬化させて、表面硬化フイルムを作成した。該表面硬化フイルムの表面硬化層（Ｄ）とは反対側の表面上に、巻き取り式ＤＣパルシング法マグネトロンスパッター装置を用いて、表面抵抗値が４００Ω／□になるようにＩＴＯ薄膜（透明導電層（Ｂ））を形成した。なお、スパッターの条件は、ＩＴＯターゲット（酸化インジューム（９０ｗｔ％）と酸化錫（１０ｗｔ％）の焼結ターゲット（焼結密度９９％以上））を用い、真空度４×１０^−３Ｐａまでスパッター装置内を排気後、酸素３．５ｍｏｌ％のＡｒ／Ｏ_２混合ガスを導入し、真空度４×１０^−２Ｐａにした後に、基材速度３ｍ／ｍｉｎでスパッターした。

次いで透明導電層（Ｂ）上に、ダイレクトグラビアヘッドコーターを用いて、ジメチルフォルムアミドを主溶媒とする溶媒に溶かしたシアノエチルプルラン（信越化学工業製）を乾燥後の膜厚が０．１５μｍになるように塗工速度３０ｍ／ｍｉｎで塗布することによって誘電体層（Ｃ）を設けた。用いたシアノエチルプルラン（信越化学工業製）の比誘電率は１９であった。以上の方法で表面硬化層（Ｄ）／高分子フイルムからなる基材（Ａ）／ＩＴＯからなる透明導電性層（Ｂ）／シアノエチルプルランからなる誘電体層（Ｃ）の順に積層された本発明のタッチパネル用複合透明導電性基材を作成した。前記評価方法に従って評価した結果を表１に示す。

実施例１の複合導電性基材を用いたタッチパネルは、最大描画回数が、描画耐久性の目安である１０万回以上を満たしており、描画耐久性に優れていた。

また、ＩＴＯスパッター膜は黄味を帯びており、従来から光線透過率の向上および色調の改善の要求が強い。実施例１の複合導電性基材は、ＩＴＯスパッター膜上にシアノエチルプルランの層を積層することにより、比較例１のシアノエチルプルランの層を有しない複合導電性基材と比較して、光線透過率が高くなり、かつｂ＊値も低くなった。以上のように本発明のタッチパネル用複合導電性基材は光学特性についても優れた、より好ましい導電性基材といえる。
〔比較例１〕
誘電体層（Ｃ）を設けなかった以外は実施例１と同様にして、表面硬化層（Ｄ）／高分子フイルムからなる基材（Ａ）／ＩＴＯからなる透明導電性層（Ｂ）の順に積層された複合透明導電性基材を作成した。得られた透明導電性基材について、前記評価方法に従って評価した。評価結果を表１に示す。
〔実施例２〕
実施例１で作成した表面硬化フイルムの表面硬化層（Ｄ）とは反対側の表面上に、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）およびポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）からなる導電性高分子の水溶液（固形分濃度０．７％）（Ａｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ Ｎ．Ｖ製 商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ（登録商標） Ｎ３００ ＮＥＷ）を乾燥後の膜厚が１．２μｍになるように塗工し、透明導電層（Ｂ）を設けた。透明導電層（Ｂ）上に実施例１と同じ方法でシアノエチルプルランを乾燥後の膜厚が０．１２μｍになるように塗布し、誘電体層（Ｃ）を設けた。以上の方法で表面硬化層（Ｄ）／高分子フイルムからなる基材（Ａ）／導電性高分子からなる透明導電性層（Ｂ）／シアノエチルプルランからなる誘電体層（Ｃ）の順に積層された本発明の複合透明導電性基材を作成した。前記評価方法に従って評価した結果を表１に示す。

実施例２の複合導電性基材を用いたタッチパネルは、高温高湿下での抵抗値安定性の目安であるＲ／Ｒ_０≦１．１を満たしており、高温高湿下での抵抗値の安定性に優れていた。また、描画耐久性にも優れていた
〔比較例２〕
誘電体層（Ｃ）を設けなかった以外は実施例１と同様にして、表面硬度化層（Ｄ）／高分子フイルムからなる基材（Ａ）／導電性高分子からなる透明導電性層（Ｂ）からなる複合透明導電性基材を作成した。得られた透明導電性基材について、前記評価方法に従って評価した。評価結果を表１に示す。
〔実施例３〕
誘電体層（Ｃ）を設けるに際して、シアノエチルプルランの代わりにアセチル化プルラン（林原商事製）を用いた以外は実施例１と同様にして複合透明導電性基材を作成した。用いたアセチル化プルランの比誘電率は１６であった。前記評価方法に従って評価した結果を表１に示す。
〔実施例４〕
誘電体層（Ｃ）を設けるに際して、シアノエチルプルランの代わりにアセチル化プルラン（林原商事製）とシアノエチルプルラン（信越化学工業製）を重量比５０％／５０％で混合して用いた以外は実施例１と同様にして複合透明導電性基材を作成した。アセチル化プルランとシアノエチルプルランを重量比５０％／５０％で混合した場合の比誘電率は１７であった。前記評価方法に従って評価した結果を表１に示す。

人間が情報機器を操作する際に必要なインターフェイスとして用いられるタッチパネルの重要な構成部材である複合透明導電性基材として利用できる。

Claims (8)

1. 高分子フイルムまたは高分子シートからなる基材（Ａ）、透明導電層（Ｂ）および誘電体層（Ｃ）がこの順に積層され、誘電体層（Ｃ）が温度２０℃、周波数１ｋＨｚにおける比誘電率が１５以上あるシアノエチル化高分子およびアセチル化プルランから選ばれた有機高分子からなり、かつ誘電体層（Ｃ）の厚さが４０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であるタッチパネル用複合透明導電性基材。
2. 前記シアノエチル化高分子がセルロース系高分子のシアノエチル化高分子、デンプン系高分子のシアノエチル化高分子、シアノエチルポリビニールアルコール、シアノエチルシュクロース、およびシアノエチルソルビトールから選ばれた一種、または二種以上の有機高分子からなる請求項１に記載のタッチパル用複合透明導電性基材。
3. 前記誘電体層（Ｃ）がシアノエチルプルランからなる請求項１に記載のタッチパネル用複合透明導電性基材。
4. 複合透明導電性基材の表面抵抗値が１００Ω／□以上１０００Ω／□以下、かつ、複合透明導電性基材の全光線透過率が８０%以上である請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル用複合透明導電性基材。
5. 前記高分子フイルムまたは高分子シートからなる基材（Ａ）がポリカーボネイト樹脂、アクリル樹脂、アセテート樹脂、環状オレフィン樹脂およびポリエステル樹脂から選ばれた樹脂からなる請求項１〜４のいずれかに記載のタッチパネル用複合透明導電性基材。
6. 前記透明導電層（Ｂ）が、金属系透明導電性薄膜または導電性高分子からなる請求項１〜５のいずれかに記載のタッチパネル用複合透明導電性基材。
7. 前記基材（Ａ）の少なくとも片面に表面硬化層（Ｄ）を有する請求項１〜６のいずれかに記載のタッチパネル用複合透明導電性基材。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載のタッチパネル用複合透明導電性基材を上下の電極の少なくとも一方の電極として用いたタッチパネル。

Images