JP3341277B2 - エレクトロルミネッセンス素子用透明導電性フィルム - Google Patents
エレクトロルミネッセンス素子用透明導電性フィルムInfo
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Description
ッセンス(以下、ELという)素子用電極に用いられる
透明導電性フィルム(以下、EL用透明導電性フィルム
という)に関し、特に発光体層との密着性が良く、EL
素子として高湿雰囲気下で、連続点灯しても不点灯部の
発生の少ないEL用透明導電性フィルムに関するもので
ある。
般的に、ポリエステルフィルムやポリエーテルスルホン
フィルム等の高分子フィルム表面の片面もしくは両面
に、酸化インジウム、酸化スズあるいはこれらの混合物
からなる透明導電層を真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法等の成膜方法により形成したも
のが用いられている。
のEL素子は、例えば図1に示したように、透明導電層
上に発光体層、誘電体層、背面電極層を順次積層して作
成されている。従来の防湿層のあるタイプのELに比
べ、製品の厚みを約1/4に薄型化でき、また防湿層の
ヒートシール部がなくなるので小型化できる等の特長が
あり、腕時計や目覚まし時計の文字板照明、小型液晶用
バックライトとして広く利用されている。
〜400Åで 表面抵抗が200〜400Ω/□である
従来の透明導電性フィルムを使用したパッケージレスタ
イプのEL素子は、高湿雰囲気下でインバーターを用い
て、連続点灯した場合、点状に不点灯部が発生し、発光
輝度が低下して最終的に全面不点灯となる問題を有して
いる。
層の密着性が悪いことから、この改善方法として、たと
えば、特開昭64−45086号公報、特開昭64−8
1112号公報、特開平2−98436号公報などに例
示されているシアノエチルプルランような高誘電率のセ
ルロース系樹脂が透明導電層上に積層されている。しか
しながら、パッケージレスタイプのELは、発光体層に
フッ素系樹脂を含有するため、従来の透明導電性フィル
ムに使用されている高誘電率のセルロース系樹脂では、
発光体層の密着性が悪く、浮きを生じ、不点灯となる問
題を有している。
のような従来の透明導電性フィルムが有する問題を解消
し、パッケージレスタイプELを高湿雰囲気下でインバ
ーターを用いて、連続点灯しても長時間安定して性能を
保持し、発光体層との密着性に優れたEL用透明導電性
フィルムを提供することにある。
の第一の本発明は、透明高分子フィルムと、その少なく
とも一面上に、酸化スズ(SnO2)を3〜15重量%
含有する酸化インジウム(In2O3)−酸化スズ(Sn
O2)焼結体からなる厚さ500〜1000Åの透明導
電層、誘電率10以上のシアノアルキル変性フッ素系樹
脂層を順次積層してなることを特徴とするEL素子用透
明導電性フィルムに関するものである。また第二の本発
明は、前記シアノアルキル変性フッ素系樹脂層の厚みが
0.05〜0.5μmである前記第一の発明のEL素子
用透明導電性フィルムに関するものである。
変性フッ素系樹脂層が、ポリフッ化ビニリデン、ポリフ
ッ化ビニル、フッ化ビニリデン−6フッ化プロピレン共
重合体、フッ化ビニリデン−6フッ化プロピレン−4フ
ッ化エチレン三元共重合体、4フッ化エチレン−プロピ
レン共重合体、ポリ(2,2,2−トリフルオロエチル
ビニルエーテル)から選ばれた少なくとも1種のフッ素
系樹脂のシアノアルキル変性物からなる前記各発明のE
L素子用透明導電性フィルムに関するものである。さら
に本発明は、前記透明導電層が、圧力勾配型放電による
イオンプレーティング法によって形成されたものである
前記各発明のEL素子用透明導電性フィルムに関する。
は、耐熱性を有する透明な高分子フィルムであれば特に
制限はなく、100℃以上においても耐熱性を有するも
のが好ましく、たとえばポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリオレフィン、ポリアミド、芳香族ポリアミド、
ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテル
サルフォン、ポリサルフォン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリアリレート、ポリフェニレンサルファイド、
ポリフェニレンオキサイド、ポリパラバン酸、ポリカー
ボネート、等が例示できる。また透明高分子フィルムの
厚さは、25〜250μmが好ましく、より好ましくは
50〜200μmである。上記の透明高分子フィルム上
に密着性向上のため、予めコロナ放電処理、表面改質を
行うプラズマ処理やサンドブラストを用いた粗面化処理
等の表面処理、または有機系樹脂による公知のアンカー
コート処理を施してもよい。
透明導電層には、金、銀、銅、酸化インジウム(In2
O3 )、酸化スズ(SnO2 )、または酸化インジウム
に3〜15重量%の酸化スズを含有する焼結体(以下、
ITOという)を用いることができるが、特に酸化イン
ジウムに3〜15重量%の酸化スズの焼結体であるIT
Oが、本発明に好ましく用いられる。透明導電層の厚さ
は、500〜1000Åの範囲が好ましい。厚さが10
00Åより大であると、耐屈曲性が悪く、EL加工時に
クラックを生じ、断線し易くなる。一方厚さが500Å
未満では、高湿雰囲気下で不点灯部が発生し易い。この
ようにして得た透明導電層の表面抵抗は、150Ω/□
以下が好ましい。
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ある
いはCVD法等既知の各種成膜法が上げられる。なかで
もEL素子用の透明導電性フィルムの透明導電層は基材
との密着も重要であることから、陰極と陽極の間に中間
電極を設けて、陰極側の真空度と陽極側の真空度との間
に圧力勾配をもたせて行う圧力勾配型放電方式によるイ
オンプレーティング法は、透明導電層と基材の付着力が
極めて強いのみならず、成膜材料の蒸発量が多く、10
0〜200Å/sec程度と、従来の真空蒸着やスパッ
タリング法に比べてイオン化率が高く、大面積での加工
で数十倍〜数百倍の成膜速度が得られるため生産性が高
いし、低温で成膜できるためフィルム面上であっても低
抵抗膜の作成が可能であり、得られる透明導電層が高平
滑度かつ非晶質であって酸エッチング速度が早いなどの
利点があり、好ましい。
アノアルキル変性フッ素系樹脂層としては、EL素子の
発光層バインダーと密着性及び絶縁性がよく、薄層化の
可能な誘電率10以上のフッ素系樹脂を用いることが好
ましい。誘電率10未満の場合には、誘電損失が大き
く、消費電力も大きくなり、EL素子の不点灯部が発生
する。
ッ素系樹脂層は、炭素数1〜10のシアノアルキル基で
変性したものであり、変性対象となるフッ素系樹脂とし
ては、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、フッ
化ビニリデン−6フッ化プロピレン共重合体、フッ化ビ
ニリデン−6フッ化プロピレン−4フッ化エチレン三元
共重合体、4フッ化エチレン−プロピレン共重合体、ポ
リ(2,2,2−トリフルオロエチルビニルエーテル)
から選ばれた少なくとも1種を用いることが好ましく、
これらは単独または2種類以上組み合わせて用いること
ができる。シアノアルキル変性フッ素系樹脂層の厚さ
は、0.05〜0.5μmとするのが好ましい。0.0
5μm未満の場合には、発光体層との密着性が向上せ
ず、一方、0.5μmより厚くなると、透明導電層と発
光体層間の絶縁抵抗が高くなるため、EL素子の消費電
力が高くなり、発光輝度が低下するという悪影響を及ぼ
すことがある。
性フッ素系樹脂は、アセトン、メチルエチルケトン、ジ
メチルホルムアミド、エチルセロソルブアセテート、ブ
チルセロソルブアセテート、シクロヘキサノンなどの有
機溶剤に溶解して塗工溶液とし、この塗工溶液をロール
コーター、グラビアコーター、バーコーター等により透
明導電層の表面上に塗工し、乾燥する。
説明するが、本発明はこれによって限定されるものでは
ない。 実施例1 厚さ125μmのポリエチレンテレフタレート基材上に
SnO2 を5重量%含むITO焼結体を圧力勾配型放電
によるイオンプレーティング法により厚さ500Åの透
明導電層を形成した。
ビニリデンー6フッ化プロピレン共重合体(誘電率1
9)からなる塗工液を、膜厚0.05μmとなるように
透明導電層の表面上にグラビアロールコーターにて塗工
し、100℃で2分間乾燥して高誘電率樹脂層を形成し
た。 (高誘電率樹脂層用塗工液) シアノエチル化ポリフッ化ビニリデン−6フッ化 プロピレン共重合体 5重量部 エチルセロソルブアセテート 95重量部
フィルムのITO膜厚、表面抵抗、高誘電率樹脂層の厚
さ、耐屈曲性を第1表に示した。また、耐屈曲性につい
ては、10mmφの丸棒に1cm巾×6cm長のEL用
透明導電性フィルムのITO膜面を上にして荷重100
gを掛け、90度曲げを10回繰り返し、その試験前後
の表面抵抗変化の倍率で表した。
30μmとなるように透明導電層の表面上にスクリーン
印刷し、120℃で30分間乾燥し、発光体層を形成し
た。 (発光体層用塗工液)フ ッ化ビニリデン−6フッ化プロピレン共重合体 15重量部 硫化亜鉛 45重量部 エチルセロソルブアセテート 60重量部
20μmとなるように発光体層の表面上にスクリーン印
刷し、120℃で30分間乾燥し、誘電体層を形成し
た。 (誘電体層用塗工液)フ ッ化ビニリデン−6フッ化プロピレン共重合体 15重量部 チタン酸バリウム 45重量部 エチルセロソルブアセテート 60重量部
上に、カーボンペースト(日本アチソン社製、商標:E
lectrodag 505SS)を厚さ10μmとな
るようにスクリーン印刷し、120℃で60分間乾燥し
て、背面電極層を形成した。
イズのパッケージレスELを3個作製し、40℃、90
%RHの雰囲気下、100V,400Hzの交流電源
で、48時間点灯させ、発光面に0.5mm以上の不点
灯部の個数を数え、不点灯部の発生状況を評価した。不
点灯部が全く発生していないものを〇、不点灯部が1〜
5個未満のものを△、不点灯部が5個以上のものを×と
した。
法により、透明導電層と発光体層の密着性を評価した。
はがれが全くないものを〇、はがれの面積が35%未満
のものを△、はがれの面積が35%以上のものを×とし
た。
電層の膜厚を900ÅとしてEL用透明導電性フィルム
を作製し、これを用いてEL素子を実施例1と同様に作
製し、評価した。
る以外、実施例1と同様にEL素子を作製し、評価し
た。
電層の膜厚を900Åとし、また高誘電率樹脂層の塗工
厚さを0.5μmとする以外、実施例1と同様にEL素
子を作製し、評価した。
2を20重量%含むITO焼結体とした以外、実施例1
と同様にEL素子を作製し、評価した。
0. 05μmとなるように、透明導電層の表面上にグラ
ビアロールコーターにて塗工し、100℃で2分間乾燥
して、誘電体層を形成した以外は、実施例1と同様にE
L素子を作製し、評価した。 (誘電体層用塗工液) ポリエステル樹脂 5重量部 トルエン/メチルエチルケトン=1/1 95重量部
電層の膜厚を300ÅとしてEL用透明導電性フィルム
を作製し、これを用いてEL素子を実施例1と同様に作
製し、評価した。
電層の膜厚を300Åとし、および高誘電率樹脂層の塗
工厚みを1.0μmとする以外、実施例1と同様にEL
素子を作製し、評価した。
電層の膜厚を1100ÅとしてEL用透明導電性フィル
ムを作製し、これを用いてEL素子を実施例1と同様に
作製し、評価した。
工液を膜厚0.05μmとなるように、透明導電層の表
面上にグラビアロールコーターにて塗工し、100℃で
2分間乾燥して、高誘電体層を形成した以外は、実施例
1と同様にEL素子を作製し、評価した。 (高誘電体層用塗工液) シアノエチルプルラン樹脂 5重量部 メチルエチルケトン/ジメチルフォルムアミド=3/2 95重量部
例1〜4のEL用透明導電性フィルムは、耐屈曲性が良
好であり、不点灯部が発生せず、発光体層の密着性が良
好であり、発光輝度も高い。一方、比較例1は、表面抵
抗が、230Ω/□以上と高くなり、EL素子の発光体
面に不点灯部が3箇所発生した。また、比較例2は、E
L素子の発光面に不点灯部は、発生しないが、誘電損失
が大きくなり、発光輝度が58. 6cd/m2 と低くな
った。比較例3〜4は、EL素子の発光体面に不点灯が
5箇所以上発生し、発光輝度が低い。比較例5は、屈曲
した場合の表面抵抗変化が大きく、EL加工後点灯した
場合、断線による不点灯部が見られた。比較例6は、E
L用透明導電性フィルムと発光体層との密着性が悪く、
浮きを生じ、連続点灯ができなくなった。以上詳しく説
明した通り、本発明によってEL用透明導電性フィルム
と発光体層との密着性が良好であり、しかもEL素子の
発光体面に不点灯箇所が発生しないことが確認された。
特に、EL用電極として使用した場合、透明導電層上の
高誘電率樹脂層により、発光体層との密着力を高めるこ
とができ、かつ、高湿度雰囲気下で、EL素子を連続点
灯しても、EL素子の発光体面に不点灯箇所が発生しな
い耐久性の格段に優れたELを得ることができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 透明高分子フィルムと、その少なくとも
一面上に、酸化スズ(SnO2 )を3〜15重量%含有
する酸化インジウム(In2 O3 )−酸化スズ(SnO
2 )焼結体からなる厚み500〜1000Åの透明導電
層、誘電率10以上のシアノアルキル変性フッ素系樹脂
層を順次積層してなることを特徴とするエレクトロルミ
ネッセンス素子用透明導電性フィルム。 - 【請求項2】 前記シアノアルキル変性フッ素系樹脂層
の厚みが0.05〜0.5μmである請求項1記載のエ
レクトロルミネッセンス素子用透明導電性フィルム。 - 【請求項3】 前記シアノアルキル変性フッ素系樹脂層
が、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、フッ化
ビニリデン−6フッ化プロピレン共重合体、フッ化ビニ
リデン−6フッ化プロピレン−4フッ化エチレン三元共
重合体、4フッ化エチレン−プロピレン共重合体、ポリ
(2,2,2−トリフルオロエチルビニルエーテル)か
ら選ばれた少なくとも1種のフッ素系樹脂のシアノアル
キル変性物からなる請求項1又は2記載のエレクトロル
ミネッセンス素子用透明導電性フィルム。 - 【請求項4】 前記透明導電層が、圧力勾配型放電によ
るイオンプレーティング法によって形成されたものであ
る請求項1〜3のいずれか1項記載のエレクトロルミネ
ッセンス素子用透明導電性フィルム。
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JP21909196A JP3341277B2 (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | エレクトロルミネッセンス素子用透明導電性フィルム |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP21909196A JP3341277B2 (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | エレクトロルミネッセンス素子用透明導電性フィルム |
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JPH1044289A JPH1044289A (ja) | 1998-02-17 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP21909196A Expired - Fee Related JP3341277B2 (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | エレクトロルミネッセンス素子用透明導電性フィルム |
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WO2006019019A1 (ja) * | 2004-08-17 | 2006-02-23 | Toray Industries, Inc. | タッチパネル用複合透明導電性基材およびタッチパネル |
-
1996
- 1996-08-02 JP JP21909196A patent/JP3341277B2/ja not_active Expired - Fee Related
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