CN100541711C - 基板缓冲装置及方法和处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种即使基板大型其安全性也高并可避免颗粒物飞散而生产率高且能以想要顺序使退避的多个基板再进出搬送线的基板缓冲装置(36)，包括：具有多级能进出搬送线(A)且上下放置搬送线(A)上搬送的基板(G)的载置台(5a～5f)的搁板部(5)和使搁板部(5)升降以使任意载置台(5a～5f)进出搬送线(A)的升降机构(6)，各载置台(5a～5f)具有进出搬送线(A)时沿搬送方向搬送基板(G)的输送机构(50a～50f)并作为搬送线(A)的一部分工作，将搬送线(A)搬送的基板(G)放置在进出搬送线(A)的载置台(5a)，搁板部(5)由升降机构(6)升降使载置台(5a)与基板(G)从搬送线(A)退避。

Description

基板缓冲装置及方法和处理装置
技术领域
本发明涉及用于使在搬送线上朝一定方向上搬送的、平板显示器(FPD)中所使用的玻璃基板等基板暂时地从搬送线退避的基板缓冲装置和基板缓冲方法、以及具有这种基板缓冲装置的基板处理装置、用于进行这种基板缓冲方法的控制程序和计算机可读取存储介质。
背景技术
在FPD的制造中，为了在FPD用的玻璃基板上形成电路图形而使用光刻技术。利用光刻技术进行的电路图形的形成，是以下述顺序进行的，即、在玻璃基板上涂敷抗蚀剂液以形成抗蚀剂膜，然后，对应于电路图形对抗蚀剂膜进行曝光，再对其进行显影处理，在电路图形的形成中，进行抗蚀剂液的涂敷或者显影处理等处理的各处理单元是在沿着搬送线设置的制造线上而被使用。玻璃基板在搬送线上被搬送的同时，在各处理单元处被施行规定的处理。
可是，对于制造线而言，通常，当在处理单元中发生问题时，因为有必要停止该处理单元来消除问题，因此，设置缓冲装置，使得在该处理单元的停止中，在前级或者上游侧使处理前的玻璃基板暂时地从搬送线退避以进行保管。
作为公知的这种缓冲装置，包括：接近搬送线而设置的、能够多级收容玻璃基板的缓冲框体(或者缓冲单元)；以及把持搬送线上的玻璃基板并将其搬入到缓冲框体内的搬送臂(例如参照专利文献1、2)。该缓冲装置通过搬送臂升降而能够访问缓冲框体的任意高度位置，借此，构成为能够以想要的顺序将收容于缓冲框体内的多个玻璃基板再次搬出到搬送线。
但是，趋向于FPD的大型化，以至于出现一边为2m以上的大型玻璃基板，并且因为随着玻璃基板的大型化使得搬运性变差，因此，对于利用搬送臂进行搬送的上述现有的缓冲装置，如果考虑到安全方面则不适于大型玻璃基板的处理。而且，对于该缓冲装置，因为像用团扇扇风似的、由搬送臂使玻璃基板升降，因此，如果玻璃基板成为大型，则容易沾染颗粒物，还存在着沾染的颗粒物附着于玻璃基板的表面上的危险。
此外，一般来说，如果使用需要示教作业的进行复杂动作的搬送臂，则随着工序数的增加，结果制造线总体的节奏平衡被破坏而有可能连带着导致生产率的降低。
专利文献1：日本特开2003-168713号公报
专利文献2：日本特开2004-304003号公报
发明内容
本发明是鉴于上述情况而制成的，其目的在于提供一种基板缓冲装置和基板缓冲方法、以及具有这种基板缓冲装置的基板处理装置、进行这种基板缓冲方法用的控制程序和计算机可读取存储介质，即使基板是大型的，其安全性也优良，而且，能够避免颗粒物的飞散，并且能够实现生产率的提高，而且，能够以想要的顺序使所退避的多个基板再次进出于搬送线。
为了解决上述课题，本发明提供一种基板缓冲装置，是使在搬送线上朝一个方向搬送的基板暂时从搬送线退避用的基板缓冲装置，其特征在于，包括：上下具有多级能够进出于所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上搬送的基板的载置台、而且能够升降地设置的搁板部；以及使所述搁板部升降，以使所述多个载置台中的任一个进出于所述搬送线的升降机构，其中，所述各载置台具有在进出于所述搬送线时沿着搬送方向搬送基板的输送机构，并能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能，在使基板从所述搬送线退避时，在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上放置在所述搬送线上搬送来的基板，在该状态下，所述搁板部通过所述升降机构升降而使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避。
此外，本发明提供一种基板缓冲装置，是使在搬送线上朝一个方向搬送的基板暂时从搬送线退避用的基板缓冲装置，其特征在于，包括：上下具有多级能够进出于所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上搬送的基板的载置台、而且能够升降地设置的搁板部；使所述搁板部升降，以使所述多个载置台中的任一个进出于所述搬送线的升降机构；以及控制由所述升降机构进行的所述搁板部的升降的控制机构，其中，所述各载置台具有在进出于所述搬送线时沿着搬送方向搬送基板的输送机构，并能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能，构成为在使基板从所述搬送线退避时，在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上放置在所述搬送线上搬送来的基板，在该状态下，所述搁板部通过所述升降机构升降而使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避，所述控制机构在基板放置在进出于所述搬送线的载置台上的状态下，在该载置台与在所述搬送线上搬送来的下一个基板成为规定的距离时，控制所述搁板部通过所述升降机构升降。在本发明中，优选具有距离进出于所述搬送线的载置台在搬送方向上游侧具有规定距离地设置的、检测在所述搬送线上所搬送的基板的检测部，所述控制机构可以基于所述检测部的检测信号，控制通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降。此时，优选所述控制机构在使从所述搬送线退避的基板再次进出于所述搬送线时，控制通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降，使得从先行退避的基板依次进出。
在以上的本发明中，优选将从通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降的开始时刻起，然后，至所述搁板部的升降结束、在所述搬送线上搬送来的基板放置在进出于所述搬送线的载置台上，并且所述搁板部通过所述升降机构再次升降，放置在进出于所述搬送线的其他载置台上的基板通过所述输送机构送出的时刻为止的时间，设定成短于所述搬送线的间歇时间。此时，优选还包括分别邻接地设置在进出于所述搬送线的载置台的搬送方向上游侧和下游侧使得能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能的、具有比所述搬送线的基板搬送速度快的基板搬送速度的辅助输送机构。
而且，在以上的本发明中，优选所述各载置台的所述输送机构构成为由同一驱动源而驱动，并且在所述载置台进出于所述搬送线时连接于所述驱动源。
而且，在以上的本发明中，优选所述各载置台的所述输送机构是滚子搬送方式和带搬送方式中的任一种。
而且，在以上的本发明中，优选所述最上级的载置台在平常时进出于所述搬送线而作为所述搬送线的一部分发挥功能。此时，优选所述最上级的载置台的所述输送机构是滚子搬送方式，所述最上级以外的各载置台的所述输送机构是带搬送方式。
此外，本发明提供一种基板缓冲方法，其特征在于：是使用基板缓冲装置，使在搬送线上所搬送的基板暂时地从所述搬送线退避的基板缓冲方法，其中，所述基板缓冲装置包括：上下具有多级能够进出于朝一个方向搬送基板的所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上所搬送的基板的载置台、而且设置成能够升降的搁板部；以及使所述搁板部升降，以使所述多个载置台中的任一个进出于所述搬送线的升降机构，其中，所述各载置台具有在进出于所述搬送线时沿着搬送方向搬送基板的输送机构、并能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能，在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上放置在所述搬送线上搬送来的基板，在该状态下，通过所述升降机构使所述搁板部升降而使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避，通过所述升降机构在基板退避时进行的所述搁板部的升降，是将基板放置在进出于所述搬送线的载置台上的状态下，在该载置台与在所述搬送线上所搬送来的下一个基板成为规定的距离时而进行的。
而且，本发明提供一种基板处理装置，其特征在于，包括：朝一个方向搬送基板的搬送线；对在所述搬送线上所搬送的基板进行规定处理的处理部；以及设置成位于所述处理部的所述搬送线的搬送方向上游侧，当在所述处理部中发生问题时使在所述搬送线上所搬送的基板暂时从搬送线退避的缓冲装置，其中，所述缓冲装置包括：上下具有多级能够进出于所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上所搬送的基板的载置台、而且能够升降地设置的搁板部；使所述搁板部升降、以使所述多个载置台中的任一个进出于所述搬送线的升降机构，以及控制通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降的控制机构，其中，所述各载置台具有在进出于所述搬送线时沿着搬送方向搬送基板的输送机构，并能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能，构成为在所述处理部中发生问题时，将在所述搬送线上所搬送来的基板放置在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上，在该状态下，所述搁板部通过所述升降机构升降而使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避，所述控制机构进行控制，使得在基板放置在进出于所述搬送线的载置台上的状态下，在该载置台与在所述搬送线上所搬送来的下一个基板的距离成为规定的距离时，所述搁板部通过所述升降机构升降。
而且，本发明提供通过计算机控制处理装置，使得在计算机上动作而运行时，实施上述基板缓冲方法。
而且，本发明提供一种计算机可读取存储介质，是储存有在计算机上动作的控制程序的计算机可读取存储介质，其特征在于：所述控制程序通过计算机控制处理装置，使得在执行时，实施上述基板缓冲方法。
如果用本发明，则上下具有多级能够进出于所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上搬送来的基板的载置台的搁板部是能够升降设置的，在多个载置台中的进出于搬送线的载置台上，放置在搬送线上搬送来的基板，因为构成为在该状态下使搁板部升降而使该载置台与该基板一起从搬送线退避，所以不需要搬送臂本身，即使基板是大型的，也可以既避免颗粒物飞散又能够安全且以较少的工时在搬送线与退避位置之间搬送基板。而且，因为具有沿着搬送方向搬送基板的输送机构以便在进出于搬送线时使各载置台作为搬送线的一部分而发挥功能而构成，所以可以在任意的载置台上进行基板的出入，由此，使所退避的基板以想要的顺序再次进出于搬送线成为可能。
附图说明
图1是搭载有作为本发明基板缓冲装置的一个实施方式的缓冲单元的、向FPD用的玻璃基板进行抗蚀剂膜的形成和曝光处理后对抗蚀剂膜进行显影处理的抗蚀剂涂敷·显影处理系统的概略俯视图。
图2是缓冲单元的侧面方向的剖视图。
图3是表示缓冲单元的主要部分的侧面方向的剖视图。
图4是缓冲单元的另一个侧面方向的剖视图。
图5是设置在缓冲单元中的载置台的俯视图。
图6是设置在缓冲单元中的载置台的俯视图。
图7是表示设置在缓冲单元中的输送机构与电动机的连接部分的图。
图8是用来对缓冲单元的基板退避动作进行说明的图。
图9是用来对缓冲单元的基板送出动作进行说明的图。
图10是用来对缓冲单元的基板退避动作和基板送出动作进行说明的图。
图11是用来对缓冲单元的基板退避动作和基板送出动作进行说明的图。
图12是表示输送机构的变形例的俯视图。
图13是表示输送机构的变形例的主要部分的剖视图。
图14是表示输送机构与电动机的连接部分的变形例的图。
标号说明
1…盒站(处理部)
4…接口站(处理部)
5…搁板部
6…升降机构
5a、5b、5c、5d、5e、5f…载置台
8a、8b…辅助输送机构
26…抗蚀剂涂敷单元(处理部)
27…减压干燥单元(处理部)
28、31…加热处理单元(处理部)
29、32…冷却单元(处理部)
30…显影单元(处理部)
35…检查单元(处理部)
36、37、38…缓冲单元(基板缓冲装置)
50a、50b、50c、50d、50e、50f、50g…输送机构
51a、51b…滚子构件
53…电动机(驱动源)
55c…搬送带
100…抗蚀剂涂敷·显影处理装置(基板处理装置)
104…单元控制器(控制机构)
105…第一传感器(检测部)
A、B…搬送线
G(G1、G2、…、G1′、G2′、…)…基板
具体实施方式
下面，参照附图对本发明的实施方式详细地进行说明。
图1是搭载有作为本发明基板缓冲装置的一个实施方式的缓冲单元的、进行向FPD用的玻璃基板(以下单记为“基板”)的抗蚀剂膜的形成和曝光处理后的抗蚀剂膜的显影处理的抗蚀剂涂敷·显影处理系统的概略俯视图。
抗蚀剂涂敷·显影处理装置(基板处理装置)100包括：收容多个基板G用的盒C所放置的盒站1，对基板G施行包括抗蚀剂涂敷和显影在内的一系列处理的处理站2，以及在与对基板G施行曝光处理的曝光装置9之间进行基板G的交接的接口站4，其中，盒站1和接口站4分别配置于处理站2的两侧。而且，在图1中，令抗蚀剂涂敷·显影处理系统100的纵长方向为X方向，令在平面上与X方向正交的方向为Y方向。
盒站1包括：能够在Y方向上并列放置盒C的载置台12、以及在与处理站2之间进行基板G的搬入搬出的搬送装置11，在载置台12与外部之间进行盒C的搬送。设置在搬送装置11上的搬送臂11a能够沿着在Y方向上延伸的导轨10移动，并且能够上下移动、前后移动和水平旋转，在盒C与处理站2之间进行基板G的搬入搬出。
处理站2在盒站1与接口站4之间具有在X方向上延伸的平行的两列基板G的搬送线A、B。搬送线A构成为通过滚子搬送或者带搬送等所谓的平流搬送将基板G从盒站1侧向接口站4侧搬送，搬送线B构成为通过滚子搬送或者带搬送等所谓的平流搬送将基板G从接口站4侧向盒站1侧搬送。
在搬送线A上，从盒站1侧向接口站4侧，依次排列配置有激元(excimer)UV照射单元(e-UV)21、洗刷(scrub)清洗单元(SCR)22、预热单元(PH)23、粘接(adhesion)单元(AD)24、冷却单元(COL)25、缓冲单元(BUF)36、抗蚀剂涂敷单元(CT)26、减压干燥单元(DP)27、加热处理单元(HT)28、冷却单元(COL)29、以及缓冲单元(BUF)37。
在搬送线B上，从接口站4侧向盒站1侧依次排列配置有显影单元(DEV)30、加热处理单元(HT)31、冷却单元(COL)32、缓冲单元(BUF)38。其中，在冷却单元(COL)32与盒站1之间设置有检查包括抗蚀剂涂敷和显影在内的一系列处理所施行的基板G的检查装置(IP)35。
激元UV照射单元(e-UV)21进行基板G上所含有的有机物的去除处理，洗刷清洗单元(SCR)22进行基板G的洗刷清洗处理和干燥处理。预热单元(PH)23进行基板G的加热处理，粘接单元(AD)24进行基板G的疏水化处理，冷却单元(COL)25冷却基板G。抗蚀剂涂敷单元(CT)26将抗蚀剂液供给到基板G上而形成抗蚀剂膜，减压干燥单元(DP)27在减压状态下使基板G上的抗蚀剂膜中所含有的挥发成分蒸发而使抗蚀剂膜干燥。加热处理单元(HT)28进行基板G的加热处理，冷却单元(COL)29与冷却单元(COL)25同样冷却基板G。
显影单元(DEV)30依次进行向基板G上的显影液的涂敷、基板G的冲洗(rinse)处理、基板G的干燥处理。加热处理单元(HT)31与加热处理单元(HT)28同样进行基板G的加热处理，冷却单元(COL)32与冷却单元(COL)25、29同样冷却基板G。
缓冲单元(BUF)36是用于当在X方向下游侧的单元、例如抗蚀剂涂敷单元(CT)26、减压干燥单元(DP)27、加热处理单元(HT)28或者冷却单元(COL)29中发生问题时，使基板G暂时地从搬送线A退避的单元，缓冲单元(BUF)37是用于当在X方向下游侧的单元、例如接口站4、显影单元(DEV)30、加热处理单元(HT)31或者冷却单元(COL)32中发生问题时，使基板G暂时地从搬送线A退避的单元，缓冲单元(BUF)38是用于当在X方向下游侧的单元、例如检查装置(IP)35或者盒站1中发生问题时，使基板G暂时地从搬送线B退避的单元。对于缓冲单元(BUF)36、37、38，在下文中详细地进行说明。
接口站4包括：能够收容基板G的缓冲盒所配置的、作为基板G的交接部的转动(rotary)站(RS)44、以及接收在搬送线A上所搬送的基板G并将其搬送到转动站(RS)44的搬送臂43。搬送臂43能够上下移动、前后移动和水平旋转，也能够访问邻接于搬送臂43而设置的曝光装置9、以及邻接于搬送臂43和显影单元(DEV)30而设置的、具有周边曝光装置(EE)和字幕摄影机(TITLER)的外部装置块90。
抗蚀剂涂敷·显影处理装置100构成为连接于具有CPU的过程控制器101而被控制。由过程管理者为了管理抗蚀剂涂敷·显影处理装置100的各部以及各单元而进行命令输入操作的键盘、以及使各部或各单元的工作情况可视化而显示的显示器等组成的用户界面102、和用来通过过程控制器101的控制实现抗蚀剂涂敷·显影处理装置100中所实行的各种处理的控制程序以及处理条件数据等所记录的方案所储存的存储部103连接于过程控制器101。
而且，根据需要，通过由来自用户界面102的指示等从存储部103调出任意的方案并在过程控制器101中实行，使得在过程控制器101的控制下，可以在抗蚀剂涂敷·显影处理装置100中进行想要的处理。此外，控制程序以及处理条件数据等的方案利用储存于计算机可读取存储介质，例如CD-ROM、硬盘、软盘、闪存存储器等中的状态，或者也可以从其他装置经由例如专用线路随时传送而在线地利用。
在如这样所构成的抗蚀剂涂敷·显影处理装置100中，首先，放置于盒站1的载置台12上的盒C内的基板G由搬送装置11的搬送臂11a搬送到处理站2的搬送线A的上游侧端部，进而在搬送线A上搬送，在激元UV照射单元(e-UV)21处进行基板G上所含有的有机物的去除处理。激元UV照射单元(e-UV)21处的有机物的去除处理结束的基板G在搬送线A上被搬送，在洗刷清洗单元(SCR)22中施行洗刷清洗处理和干燥处理。
在洗刷清洗单元(SCR)22中的洗刷清洗处理和干燥处理结束的基板G，在搬送线A上被搬送，在预热单元(PH)23中施行加热处理而脱水。预热单元(PH)23中的加热处理结束的基板G，在搬送线A上被搬送，在粘接单元(AD)24中施行疏水化处理。粘接单元(AD)24中的疏水化处理结束的基板G，在搬送线A上被搬送，在冷却单元(COL)25中被冷却。
由冷却单元(COL)25所冷却的基板G，在搬送线A上被搬送，在抗蚀剂涂敷单元(CT)26中形成抗蚀剂膜。抗蚀剂涂敷单元(CT)26中的抗蚀剂膜的形成，通过一边使基板G在搬送线A上搬送，一边将抗蚀剂液供给到基板G上来进行。
在抗蚀剂涂敷单元(CT)26中形成抗蚀剂膜的基板G，在搬送线A上被搬送，通过在减压干燥单元(DP)27中暴露于减压气氛，施行抗蚀剂膜的干燥处理。
在减压干燥单元(DP)27中施行抗蚀剂膜的干燥处理的基板G，在搬送线A上被搬送，在加热处理单元(HT)28中施行加热处理，抗蚀剂膜中所含有的溶剂被去除。加热处理单元(HT)28中的加热处理结束的基板G，在搬送线A上被搬送，并且在冷却单元(COL)29中被冷却。
在冷却单元(COL)29中被冷却的基板G在搬送线A上被搬送到下游侧端部后，由接口站4的搬送臂43搬送到转动站(RS)44。接着，基板G由搬送臂43搬送到外部装置块90的周边曝光装置(EE)，在周边曝光装置(EE)中施行用来去除抗蚀剂膜的外周部(不要部分)的曝光处理。接着，基板G由搬送臂43搬送到曝光装置9，施行抗蚀剂膜中规定粘合剂的曝光处理。其中，在基板G暂时地收容于转动站(RS)44上的缓冲盒后，有时被搬送到曝光装置9。曝光处理结束的基板G由搬送臂43搬送到外部装置块90的字幕摄影机(TITLER)，在字幕摄影机(TITLER)中记下规定的信息。
在字幕摄影机(TITLER)中记下规定的信息的基板G在搬送线B上被搬送，在显影单元(DEV)30中依次施行显影液的涂敷处理、冲洗处理和干燥处理。显影液的涂敷处理、冲洗处理和干燥处理按这样的顺序来进行，也就是，例如，使基板G一边在搬送线B上搬送一边将显影液涂敷于基板G上，接着，暂时停止搬送并通过使基板倾斜规定的角度而使显影液流下，在该状态下将冲洗液供给到基板G上而洗掉显影液，然后，使基板G恢复到水平姿势，再次一边被搬送一边将干燥气体吹到基板G上。
显影单元(DEV)30中的显影液的涂敷处理、冲洗处理和干燥处理结束的基板G，在搬送线B上被搬送，在加热处理单元(HT)31中被施行加热处理，使抗蚀剂膜中所含有的溶剂和水分被去除。再者，也可以在显影单元(DEV)30与加热处理单元(HT)31之间，设置有进行抗蚀剂膜的脱色处理的i线UV照射单元。加热处理单元(HT)31中的加热处理结束的基板G，在搬送线B上被搬送，并在冷却单元(COL)32中被冷却。
在冷却单元(COL)32中被冷却的基板G，在搬送线B上被搬送，在检查单元(IP)35中被检查。通过检查的基板G由设置在盒站1上的搬送装置11的搬送臂11a而收容于放置于载置台12的规定的盒C。
接下来，对缓冲单元(BUF)36详细地进行说明。再者，缓冲单元(BUF)37、38也具有与缓冲单元(BUF)36完全相同的结构。
图2是根据本发明的缓冲单元(BUF)36(基板缓冲装置)的侧面方向的剖视图，图3是表示其主要部分的侧面方向的剖视图，图4是缓冲单元(BUF)36的另一个侧面方向的剖视图。
缓冲单元(BUF)36包括：上下具有多级能够进出于搬送线A、而且能够放置在搬送线上所搬送的基板G的多个载置台5a～5f的搁板部5；使该搁板部5升降，使多级载置台5a～5f的某个进出于搬送线A的升降机构6；收容搁板部5和升降机构6而设置的框体7；以及在X方向上游侧和下游侧分别邻接进出于搬送线A的载置台5a～5f的任一个而设置的辅助输送机构8a、8b。
载置台5a～5f分别包括能够沿X方向一方侧搬送基板的输送机构50a～50f，构成为在进出于搬送线A时，通过该输送机构50a～50f驱动而可以作为搬送线A的一部分发挥功能。其中，在平常时或作为搬送线A的正常搬送时，通过上方被开放而使得基板G比较容易接受气流的最上级的载置台5a进出于搬送线A。
图5是设置在缓冲单元(BUF)36中的载置台5a的俯视图。设置在最上级的载置台5a上的输送机构50a，如图5中所示，在X方向上留出间隔地包括多个具有在Y方向上延伸的旋转轴的大致呈圆柱形的滚子构件51a、51b。滚子构件51a、51b分别由超高分子聚乙烯材料来形成，能够旋转地而被支撑在设置于对着搁板部5的Y方向的侧壁上的轴承52上。滚子构件51a、51b分别通过后述的作为驱动源的电动机53的驱动而旋转，借此，输送机构50a构成为在X方向上滚子搬送基板G。这里，在所有的滚子构件51a、51b间的例如Y方向一端部上，绕挂着驱动力传递带54，电动机53能够连接于这些滚子构件51a、51b中的某个，例如X方向中央部的滚子构件51a，构成为通过使该滚子构件51a旋转，经由驱动力传递带54而使所有的滚子构件51a、51b一起旋转。通过将输送机构取为滚子搬送方式，与后述的输送机构50b～50f那种带搬送方式比较可以提高耐久性。
滚子构件51a和滚子构件51b在X方向上交互地配置。滚子构件51a、51b分别具有在Y方向上延伸的小直径的旋转轴51c、以及在该旋转轴51c上在Y方向上留出间隔地设置的多个大直径的接触部51d，虽然接触部51d形成为接触于基板G而支撑基板G，但是，在滚子构件51a与滚子构件51b处，构成为接触部51d在Y方向的位置各不相同，使得对基板G的支撑力在Y方向上大致均等地分散。
图6是设置在缓冲单元(BUF)36中的载置台5b～5f的俯视图。设置在载置台5b～5f上的输送机构50b～50f分别如图6中所示，包括：例如分别设置在X方向中央部的主动滑轮55a；例如设置在X方向两端部的从动滑轮55b；以及绕挂于主动滑轮55a和各从动滑轮55b间的搬送带55c。主动滑轮55a形成为在Y方向上延伸的大致圆柱形，能够旋转地支撑在设置于搁板部5的对着Y方向的侧壁上的轴承56上。从动滑轮55b，例如在Y方向上留出间隔地设置有多个，能够旋转地支撑于隔开载置台5b～5f间的分隔板57上。搬送带55c与从动滑轮55b相对应，形成为细带状并在Y方向上留出间隔地设置有多个。输送机构50b～50f分别构成为：主动滑轮55a利用电动机53的驱动而旋转，随此各搬送带55c和各从动滑轮55b旋转，由此，在X方向上带搬送基板G。通过将输送机构取为带搬送方式，使得与输送机构50a那种滚子搬送方式相比可以削减零件数。
再者，为了防止搬送带55c的蛇行(蜿蜒曲折)，优选在主动滑轮55a和从动滑轮55b上形成有搬送带55c的镶入槽等，将搬送带55c在Y方向上进行定位。此外，为了防止搬送带55c的挠曲，也可以贯通搬送带55c地设置挠曲防止构件(未画出)，以便接触于搬送带55c的搬送面。
升降机构6设置在搁板部5的下侧，以便支撑搁板部5。升降机构6包括：设置在搁板部5的底面的大致中央部的气缸机构61、以及在搁板部5的底面的气缸机构61的周围设置有多个的滚珠丝杠机构62，构成为通过气缸机构61和滚珠丝杠机构62同步地伸缩，而使搁板部5升降。
框体7在内部具有搁板部5能够升降的空间，在X方向上对着的侧壁上分别具有在搬送线A上所搬送的基板G的搬入口71以及搬出口72。
图7是表示设置在缓冲单元(BUF)36上的输送机构50a～50f与作为驱动源的电动机53的连接部分的图。对于电动机53而言，如图7中所示，其利用在框体7的Y方向上对着的侧壁的一方上所设置的、能够在Y方向上滑动的滑动机构73而能够在Y方向上移动地设置，在旋转轴的前端部上具有例如突状的配合部53a。另一方面，在输送机构50a的X方向中央部的滚子构件51a的轴向一端部和输送机构50b～50f的主动滑轮55a的轴向一端部上分别设置有，在载置台5a～5f进出于搬送线A时，能够与电动机53的配合部53a在周向上配合的、例如配合部53a嵌入的孔状的卡止部53b。而且，构成为通过电动机53利用滑动机构73接近于搁板部5地移动，使配合部53a与卡止部53b接合，从而进出于搬送线A的载置台5a～5f的输送机构50a～50f的某个连接于电动机53(参照图7的假想线)，通过电动机53利用滑动机构73离开搁板部5地移动，使配合部53a与卡止部53b的接合被解除，从而进出于搬送线A的载置台5a～5f的输送机构50a～50f的某个与电动机53的连接被解除。
通过这种构成，可以由一个电动机53独立地分别驱动多个输送机构50a～50f，可以实现装置的低成本化。设置在电动机53的旋转轴上的配合部53a，与分别设置在滚子构件51a和主动滑轮55a上的卡止部53b构成离合器机构。再者，也可以构成为电动机53的旋转轴与滚子构件51a或者主动滑轮55a的连接是由利用磁力的磁铁驱动器机构等来进行的。
虽然由电动机53产生的输送机构50a～50f的基板G的搬送速度(正常时或平常时的搬送速度)可以根据搬送线A的间歇时间(TactTime)(从在搬送线A上所搬送的基板G到达规定的位置到在搬送线A上所搬送的下一个基板G到达规定的位置的时间)来适当地设定，但是这里，考虑到升降机构6引起的搁板部5的升降时间，设定成比搬送线A的基板G的搬送速度要快，以便不破坏系统总体的节奏平衡。
辅助输送机构8a、8b是分别用来调整搬送线A的间歇时间和由电动机53引起的输送机构50a～50f的基板G的搬送时间和由升降机构6引起的搁板部5的升降时间的机构，由利用未画出的电动机等驱动源在X方向上滚子搬送基板G的滚子搬送方式或者带搬送基板G的带搬送方式来构成(图中滚子搬送方式)，并作为搬送线A的一部分而发挥功能。
辅助输送机构8a、8b的基板G的搬送速度分别比搬送线A的基板G的搬送速度要快，例如，被设定成与输送机构50a～50f的基板G的搬送速度(正常时或者平常时的搬送速度)大致相等。借此，因为可以迅速进行从搬送线A向进出于搬送线A的载置台5a～5f的基板G的交接，和从进出于搬送线A的载置台5a～5f向搬送线A的基板G的交接，因此，能够实现搬送线A的间歇时间的缩短。
由升降机构6引起的搁板部5的升降、由滑动机构73引起的电动机53的移动、由电动机53引起的输送机构50a～50f的动作以及辅助输送机构8a、8b的动作，分别通过接收来自过程控制器101的指令的单元控制器104(控制机构)来控制。从进出于搬送线A的载置台5a留出规定的距离的搬送方向上游侧或搬送方向下游侧附近，例如在辅助输送机构8a的X方向上游侧端部上，设置有检测在搬送线A上所搬送的基板G的第一传感器105(检测部)，在各载置台5a～5f的X方向上游侧端部和下游侧端部上分别设置有检测在搬送线A上所搬送的基板G的第二传感器106和第三传感器107，如果检测到基板G，则j将检测信号发送到单元控制器104。第一传感器105、第二传感器106和第三传感器107若分别检测到基板G，则将检测信号发送到单元控制器104。第一传感器105、第二传感器106和第三传感器107，例如，可以由检测基板G有无的有无传感器来构成。
对于单元控制器104，如果在缓冲单元(BUF)36的X方向下游侧的单元，例如抗蚀剂涂敷单元(CT)26、减压干燥单元(DP)27、加热处理单元(HT)28或者冷却单元(COL)29中发生问题，缓冲单元(BUF)36的X方向下游侧停止，则使输送机构50a停止，以便将在搬送线A上所搬送来的基板G放置在进出于搬送线A的载置台5a上。此处，单元控制器104若接受到来自第二传感器106的检测信号，则使电动机53的驱动，即、使输送机构50a的动作减速，如果收到来自第三传感器107的检测信号，则停止电动机53的驱动、即输送机构50a的动作。通过这种控制，使基板G被放置在载置台5a上。此外，单元控制器104，在该基板G被放置于载置台5a上的状态下，如果第一传感器105检测到在搬送线A上所搬送来的下一个基板G，也就是在搬送线A上所搬送来的下一个基板G接近于载置台5a到规定的距离，则直到X方向下游侧的单元的问题消除而搬送线A复原为止，由升降机构6使搁板部5上升而使载置台5b～5f进出于搬送线A，以便从在搬送线A上所搬送来的下一个基板G起，后续的基板G依次放置于载置台5b～5f。这里也是，对单元控制器104而言，与将基板G放置于载置台5a上的情况相同，基于来自第二传感器106和第三传感器107的检测信号而控制电动机53的驱动，以便基板G依次放置于载置台5b～5f。再者，从进出于搬送线A的载置台5a到第一传感器105的距离，是根据搬送线A或辅助输送机构8a等的搬送速度或者由升降机构6引起的搁板部5的升降速度等来设定的。
接下来，对如上所述构成的缓冲单元(BUF)36的动作进行说明。
图8是用来对缓冲单元(BUF)36的基板退避动作进行说明的图，图9是用来对缓冲单元(BUF)36的基板送出动作进行说明的图。
缓冲单元(BUF)36在抗蚀剂涂敷·显影处理装置100正常或平常地动作时，单元控制器(控制机构)104驱动辅助输送机构8a、8b而使其作为搬送线A的一部分发挥功能，并且利用电动机53驱动载置台5a的输送机构50a，使载置台5a作为搬送线A的一部分而发挥功能(参照图2)。
如果在缓冲单元(BUF)36的X方向下游侧的单元中发生问题，那么，已收到来自过程控制器101的指令的单元控制器104，首先，停止X方向下游侧的辅助输送机构8b的驱动，并且停止输送机构50a，以便从载置台5a的X方向上游侧在搬送线A上所搬送来的最初的基板G1通过框体7的搬入口71并被放置于载置台5a上(参照图8(a))。再者，这里，也可以使单元控制器104控制成在搬送线A上所搬送来的最初的基板G1放置于辅助输送机构8b上。
在基板G1被放置于载置台5a上的状态下，如果第一传感器105检测到在搬送线A上所搬送来的下一个基板G2，则单元控制器104，解除输送机构50a与电动机53的连接，利用升降机构6使搁板部5上升，以便载置台5b～5f中的任一个、例如载置台5b进出于搬送线A，使输送机构50b连接于电动机53而被驱动，停止利用电动机53进行的输送机构50b的驱动，以便基板G2放置于载置台5b上(参照图8(b))。借此，使基板G1与载置台5a一起从搬送线A退避并被保管。其中，从搁板部5利用升降机构6升降的时刻到在搬送线A上所搬送来的基板放置在进出于搬送线A的载置台5a～5f中的某个为止的时间，被设定成比搬送线A的间歇时间要短。
通过这种过程，直到缓冲单元(BUF)36的X方向下游侧的单元的问题消除为止，在搬送线A上所搬送来的后续的基板G3、G4、…就分别放置于载置台5c、5d、…上而被保管(参照图8(c))。再者，优选载置台5a、5b、…按与能够在搬送线A的缓冲单元(BUF)36的X方向上游侧搬送的基板G的数目同数目地设置于搁板部5，构成为当在缓冲单元(BUF)36的X方向下游侧的单元中发生问题时，停止从盒站1向搬送线A的基板G的投入。从而，能够将在搬送线A上所搬送来的基板G全都放置于载置台。
如果缓冲单元(BUF)36的X方向下游侧的单元的问题消除，则缓冲单元(BUF)36，将所退避的基板G1、G2、…送出到搬送线A。这里，收到来自过程控制器101的指令的单元控制器104，例如，分别控制由升降机构6引起的搁板部5的升降、由滑动机构73引起的电动机53的移动、由电动机53引起的输送机构50a～50f的驱动、以及辅助输送机构8a、8b的驱动，以便按先行退避的基板G1、G2、…的顺序送出到搬送线A。再者，优选构成为在缓冲单元(BUF)36的X方向下游侧的单元的问题消除时，从盒站1向搬送线A的基板G的投入再次开始。
对于单元控制器104而言，首先，驱动辅助输送机构8b，并且由升降机构6使搁板部5下降而使载置台5a进出于搬送线A，通过电动机53驱动输送机构50a，将载置台5a上的基板G1从框体7的搬出口72送出到搬送线A的下游侧(参照图9(a))。单元控制器104，接着，利用升降机构6使搁板部5上升而使载置台5b进出于搬送线A，利用电动机53驱动输送机构50b，将载置台5b上的基板G2送出到搬送线A的下游侧(参照图9(b))。同样，通过单元控制器104的控制，按先行退避的基板G3、G4、…的顺序送出到搬送线A(参照图9(c))。由此，因为进行基板G的所谓的先入先出，因此，可以抑制抗蚀剂涂敷·显影处理装置100中的基板G的处理的偏差。
如果分别放置于载置台5a、5b、…上的基板G1、G2、…全都送出到搬送线A，则单元控制器104利用升降机构6使搁板部5下降而使载置台5a进出于搬送线A，驱动输送机构50a而使载置台5a再次作为搬送线A的一部分而发挥功能(参照图2)。
图10、11是用来就缓冲单元(BUF)36的基板退避和送出动作进行说明的图。
缓冲单元(BUF)36，优选将从开始利用升降机构6进行的搁板部5的升降的时刻起，然后，至搁板部5的升降结束而将在搬送线A上所搬送来的基板G放置在进出于搬送线A的载置台5a～5f中的某个，搁板部5利用升降机构6再次升降，将放置在进出于搬送线A的其他载置台5a～5f中的某个基板G送出的时刻为止的时间，设定成比搬送线A的间歇时间要短。由此，使得既能够保管在搬送线A上所搬送来的基板G，又能够将先行保管的其他基板G送出到搬送线A。例如，缓冲单元(BUF)36的X方向下游侧的单元的问题的发生和消除是断续的，如图10(a)中所示，基板G3、G4、…分别放置于载置台5c、5d、…，在将基板G3送出到搬送线A前，第一传感器105检测到在搬送线A上所搬送来的下一个基板G1′的情况下，单元控制器104暂时停止向搬送线A送出基板G3的动作，利用升降机构6使搁板部5下降，使空的载置台5a进出于搬送线A，将基板G1′放置于载置台5a(参照图10(b))。单元控制器104，接着，利用升降机构6使搁板部5上升，使载置台5a与基板G1′一起退避，并且使载置台5c进出于搬送线A，将载置台5c上的基板G3送出到搬送线A(参照图10(c))。然后，因为第一传感器105检测到在搬送线A上所搬送来的下一个基板G2′(参照图11(a))，所以，单元控制器104，利用升降机构6使搁板部5下降，使空的载置台5b进出于搬送线A，可以将基板G2′放置于载置台5b(参照图11(b))。同样，单元控制器104既把能够将G4、G5、…送出到搬送线A，又能够使在搬送线A上所搬送来的后续的基板G3′、G4′、…从搬送线A退避(参照图11(c))。其中，也可以在单元控制器104中控制成不使送出到搬送线A的载置台升降，将在搬送线A上所搬送来的下一个基板放置于该载置台。
接下来，对构成缓冲单元(BUF)36的各部的变形例进行说明。
图12是表示输送机构的变形例的俯视图，图13是表示其主要部分的剖视图。其中，关于与变形前相同的部位标注同一标号并省略其说明。
也可以在各载置台5a～5f上，代替输送机构50a～50f(参照图5、6)，而设置输送机构50g。输送机构50g在X方向中央部具有驱动辊部110，在该驱动辊部110的X方向两侧，朝X方向两端部分别依次具有自由辊部111、驱动辊部112、自由辊部111、驱动辊部113、自由辊部114。
在驱动辊部110、112、113上，设置有滚子构件51b。再者，在驱动辊部112上，滚子构件51b在X方向上排列配置有两个。在驱动辊部110的滚子构件51b的Y方向一端部上，设置有能够与电动机53的配合部53a接合的卡止部53b，并且在所有的滚子构件51b间绕挂有驱动力传递带54，构成为利用电动机53使驱动辊部110的滚子构件51b旋转，由此，经由驱动力传递带54，所有的滚子构件51b一起旋转。
自由辊部111、114分别包括：与基板G接触并在搬送时随着滚子构件51b的旋转而旋转的自由辊115、以及能够旋转地支撑自由辊115的支撑部116。自由辊115由超高分子聚乙烯材料形成为在Y方向上较短，并且在Y方向上排列多个，以便与滚子构件51b的接触部51d的Y方向位置对应。更具体地说，自由辊115交织交错(交叉状)地配置，在与滚子构件51b的接触部51d相等的Y方向位置上每一个地进行配置(配置一个)，在滚子构件51b的接触部51d间的Y方向位置上，在X方向上每两个地进行排列配置(配置两个)。支撑部116具有固定于在Y方向上对着搁板部5的侧壁上的基件117、和经由垫片118固定于基件117上的、自由辊115能够旋转地安装的轴承构件119a、119b。基件117形成为在Y方向上延伸的薄壁的L字形，在X方向两端部相对地设置有两个。轴承构件119a设置在与滚子构件51b的接触部51d相等的Y方向位置，轴承构件119b设置在轴承构件119a间。轴承构件119a、119b分别形成为在X方向上延伸的厚壁的凸状，其底面部利用未画出的螺栓等固定具而被固定在各基件117的底面部。此外，轴承构件119a、119b分别在上部具有开口120(在轴承构件119a上具有一个，在轴承构件119b上具有两个)，自由辊115从开口120向上突出并能够旋转地安装于在X方向上对着的侧面部上。
而且，对于输送机构50g而言，考虑搬运性，构成为自由辊部114能够取下(图12的符号C位置，参照假想线)。因为自由辊部114设置在X方向两端部，因此，可以不需要驱动力传递带54的取下或调整等的装拆动作。
虽然输送机构50g比起上述输送机构50a其滚子构件51b(滚子构件51a)的数目少，但是自由辊115设置有多个，支撑自由辊115的支撑部116由L字形的基件117和凸状的轴承构件119a、119b来构成，由此，既形成为薄壁又能够确保强度。因此，通过在载置台5a～5f上使用输送机构50g，与使用输送机构50a的情况相比，不降低基板G的支撑强度而能够实现装置总体的轻量化以及低成本化。此外，在载置台5a～5f上，即使与利用带搬送进行的上述输送机构50b～50f的情况相比，也可以实现装置总体的轻量化，并且尘埃等不容易附着。
图14是表示输送机构与电动机53的连接部分的变形例的图。也可以在电动机53的配合部53a上，在前端部设置缓冲辊121。缓冲辊121被设置成具有通过电动机53的旋转轴的中心部的旋转轴。由此，在电动机53利用滑动机构73接近于顶板部5而移动时，配合部53a与卡止部53b的位置不吻合的情况下，因为在缓冲辊121碰到滚子构件51a或主动滑轮55a的轴向一端部而缓和冲击，所以，抑制碰到时的尘埃等的发生。而且，如果在缓冲辊121碰到滚子构件51a、51b或主动滑轮55a的轴向一端部的状态下驱动电动机53，则因为电动机53的旋转轴因缓冲辊121的旋转而可以平稳地旋转，因此，使配合部53a与卡止部53b的定位变得容易。
本发明并不限定于上述实施方式，还可以对其进行各种变性。例如，也可以使最上级的载置台5a以外的载置台5b～5f中的某个作为平常时的搬送线而发挥功能，此外，从搬送线A或B退避的多个基板G向搬送线A或B的送出顺序也可以是任意或随机的。
工业实用性
如果利用本发明，则虽然特别适合于如FPD用的玻璃基板那样的基板大型的情况，但是不限于玻璃基板，也可以广泛地运用于半导体晶片等其他基板的缓冲中。

Claims (11)

1.一种基板缓冲装置，是使在搬送线上朝一个方向搬送的基板暂时从搬送线退避用的基板缓冲装置，其特征在于，包括：
上下具有多级能够进出于所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上搬送的基板的载置台、而且能够升降地设置的搁板部；
使所述搁板部升降，以使所述多个载置台中的任一个进出于所述搬送线的升降机构；
作为所述搬送线的一部分而发挥功能，并且与进出于所述搬送线的载置台的搬送方向上游侧邻接设置的上游侧辅助输送机构；
邻接于所述上游侧辅助输送机构的搬送方向的上游侧而设置的、作为所述搬送线的一部分而发挥功能的上游侧输送机构；
设置在所述上游侧辅助输送机构上，并且对在所述搬送线上搬送的基板进行检测的检测部；以及
控制由所述升降机构进行的所述搁板部的升降的控制机构，其中，
所述各载置台具有在进出于所述搬送线时沿着搬送方向搬送基板的输送机构，并能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能，
构成为在使基板从所述搬送线退避时，在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上放置在所述搬送线上搬送来的基板，在该状态下，所述搁板部通过所述升降机构升降而使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避，
所述上游侧辅助输送机构的搬送速度比邻接于该上游侧辅助输送机构的搬送方向的上游侧而设置的上游侧输送机构的搬送速度快，
所述检测部在进出于所述搬送线的载置台上载置有基板的状态下、该载置台与在所述搬送线上搬送来的下一个基板成为规定距离时，检测出该下一个基板并将检测信号发送给所述控制机构，
所述控制机构进行控制，使得在从所述检测部接收到所述检测信号时，利用所述升降机构进行所述搁板部的升降。
2.如权利要求1所述的基板缓冲装置，其特征在于：
具有距离进出于所述搬送线的载置台在搬送方向上游侧具有规定距离地设置的、检测在所述搬送线上所搬送的基板的检测部，
所述控制机构可以基于所述检测部的检测信号，控制通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降。
3.如权利要求1或权利要求2所述的基板缓冲装置，其特征在于：
所述控制机构在使从所述搬送线退避的基板再次进出于所述搬送线时，控制通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降，使得从先行退避的基板依次进出。
4.如权利要求1或权利要求2所述的基板缓冲装置，其特征在于：
将从通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降的开始时刻起，然后，至所述搁板部的升降结束、在所述搬送线上搬送来的基板放置在进出于所述搬送线的载置台上，并且所述搁板部通过所述升降机构再次升降，放置在进出于所述搬送线的其他载置台上的基板通过所述输送机构送出的时刻为止的时间，设定成短于所述搬送线的间歇时间。
5.如权利要求4所述的基板缓冲装置，其特征在于：
还包括分别邻接地设置在进出于所述搬送线的载置台的搬送方向上游侧和下游侧使得能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能的、具有比所述搬送线的基板搬送速度快的基板搬送速度的辅助输送机构。
6.如权利要求1或权利要求2所述的基板缓冲装置，其特征在于：
所述各载置台的所述输送机构构成为由同一驱动源而驱动，并且在所述载置台进出于所述搬送线时连接于所述驱动源。
7.如权利要求1或权利要求2所述的基板缓冲装置，其特征在于：
所述各载置台的所述输送机构是滚子搬送方式和带搬送方式中的任一种。
8.如权利要求1或权利要求2所述的基板缓冲装置，其特征在于：
所述最上级的载置台在平常时进出于所述搬送线而作为所述搬送线的一部分发挥功能。
9.如权利要求8所述的基板缓冲装置，其特征在于：
所述最上级的载置台的所述输送机构是滚子搬送方式，所述最上级以外的各载置台的所述输送机构是带搬送方式。
10.一种基板缓冲方法，该基板缓冲方法是使用基板缓冲装置，使在搬送线上所搬送的基板暂时地从所述搬送线退避的基板缓冲方法，其中，所述基板缓冲装置包括：
上下具有多级能够进出于朝一个方向搬送基板的所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上所搬送的基板的载置台、而且设置成能够升降的搁板部；
使所述搁板部升降，以使所述多个载置台中的任一个进出于所述搬送线的升降机构；
作为所述搬送线的一部分而发挥功能，并且与进出于所述搬送线的载置台的搬送方向上游侧邻接设置的上游侧辅助输送机构；
邻接于所述上游侧辅助输送机构的搬送方向的上游侧而设置的、作为所述搬送线的一部分而发挥功能的上游侧输送机构；
设置在所述上游侧辅助输送机构上，并且对在所述搬送线上搬送的基板进行检测的检测部；以及
控制通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降的控制机构，其中，
所述各载置台具有在进出于所述搬送线时沿着搬送方向搬送基板的输送机构、并能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能，
当使基板从所述搬送线退避时，在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上放置在所述搬送线上搬送来的基板，在该状态下，利用所述升降机构使所述搁板部进行升降，使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避，
所述上游侧辅助输送机构的搬送速度比邻接于该上游侧辅助输送机构的搬送方向的上游侧而设置的上游侧输送机构的搬送速度快，
所述检测部在进出于所述搬送线的载置台上载置有基板的状态下、该载置台与在所述搬送线上搬送来的下一个基板成为规定距离时，检测出该下一个基板并将检测信号发送给所述控制机构，
所述控制机构进行控制，使得在从所述检测部接收到所述检测信号时，利用所述升降机构进行所述搁板部的升降，其中，该基板缓冲方法的特征在于：
在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上放置在所述搬送线上搬送来的基板，在该状态下，通过所述升降机构使所述搁板部升降而使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避，
通过所述升降机构在基板退避时进行的所述搁板部的升降，是在使基板放置在进出于所述搬送线的载置台上的状态下，在该载置台与在所述搬送线上所搬送来的下一个基板成为规定的距离时而进行的。
11.一种基板处理装置，其特征在于，包括：
朝一个方向搬送基板的搬送线；
对在所述搬送线上所搬送的基板进行规定处理的处理部；以及
设置成比所述处理部位于所述搬送线的搬送方向上游侧，当在所述处理部中发生问题时使在所述搬送线上所搬送的基板暂时从搬送线退避的缓冲装置，其中，
所述缓冲装置包括：
上下具有多级能够进出于所述搬送线并且能够放置在所述搬送线上所搬送的基板的载置台、而且能够升降地设置的搁板部；
使所述搁板部升降、以使所述多个载置台中的任一个进出于所述搬送线的升降机构，
作为所述搬送线的一部分而发挥功能，并且与进出于所述搬送线的载置台的搬送方向上游侧邻接设置的上游侧辅助输送机构；
邻接于所述上游侧辅助输送机构的搬送方向的上游侧而设置的、作为所述搬送线的一部分而发挥功能的上游侧输送机构；
设置在所述上游侧辅助输送机构上，并且对在所述搬送线上搬送的基板进行检测的检测部；以及
控制通过所述升降机构进行的所述搁板部的升降的控制机构，其中，
所述各载置台具有在进出于所述搬送线时沿着搬送方向搬送基板的输送机构，并能够作为所述搬送线的一部分而发挥功能，
构成为在所述处理部中发生问题时，将在所述搬送线上所搬送来的基板放置在所述多个载置台中的进出于所述搬送线的载置台上，在该状态下，所述搁板部通过所述升降机构升降而使该基板与该载置台一起从所述搬送线退避，
所述上游侧辅助输送机构的搬送速度比邻接于该上游侧辅助输送机构的搬送方向的上游侧而设置的上游侧输送机构的搬送速度快，
所述检测部在进出于所述搬送线的载置台上载置有基板的状态下、该载置台与在所述搬送线上搬送来的下一个基板成为规定距离时，检测出该下一个基板并将检测信号发送给所述控制机构，
所述控制机构进行控制，使得在从所述检测部接收到所述检测信号时，利用所述升降机构进行所述搁板部的升降。
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