JP2003238573A

JP2003238573A - 有機金属化合物を含む組成物ならびにディスプレイ部材およびディスプレイ

Info

Publication number: JP2003238573A
Application number: JP2002039746A
Authority: JP
Inventors: Hiroe Yamada; 洋恵山田
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2002-02-18
Filing date: 2002-02-18
Publication date: 2003-08-27

Abstract

(57)【要約】【課題】有機金属化合物と高極性溶媒を含む組成物を提
供し、高分子材料や添加剤、および無機微粒子等を共存
させうる溶媒、特に高極性溶媒の可使範囲を飛躍的に拡
大する。【解決手段】配位座数が２以上の多座配位子と炭素数が
４以上の配位子を有する有機金属化合物を含むことを特
徴とする組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機金属化合物お
よびそれを含む組成物、それを使用した多様な用途を有
する高品質の金属酸化物薄膜およびアレイ状金属酸化物
機能性素子、特に通信機器の分野において汎用されてい
る光変調器、強誘電体メモリー材料、ＩＣの絶縁膜、光
シャッター、アクチュエータ、およびマイクロマシン等
の部材として有用な金属酸化物製の機能性素子等の無機
材料およびプラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰと略
す）、プラズマアドレス液晶ディスプレイ（ＰＡＬ
Ｃ）、電界放出素子を用いたディスプレイ（ＦＥＤ）、
蛍光表示管（ＶＦＤ）等のディスプレイ用部材およびデ
ィスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、軽量、薄型の利点から広く普及し
ているフラットパネルディスプレイにおいては、高精細
化が進んでおり、それに伴う加工技術の向上と高画質化
が必要とされている。その中でも大型表示装置としては
プラズマディスプレイが広く家庭にも浸透しつつある
が、その背面板部材には画素を形作る隔壁が形成されて
いる。大面積の基板上に精緻な構造体を形成する手法と
しては、パターンを重ね塗りするスクリーン印刷法、サ
ンドブラスト法、フォトリソグラフィー法によるパター
ン加工などが知られているが、隔壁構造の設計の自由度
と工程の単純さから、特開平９−５９５４４号公報に開
示されているように、１回の露光・現像で隔壁形成が可
能なフォトリソグラフィー法が有利である。

【０００３】特開２００１−２７８１１号公報には、粒
子径が０．００３〜０．０２μｍの酸化物微粒子および
分子オーダーで透明な酸化物溶液を用いてフォトリソグ
ラフィー法により隔壁を形成することが開示されてい
る。しかし、このように粒径の小さい微粒子を有機成分
中に添加する場合、凝集が起こり、フォトリソグラフィ
ー法を行うと凝集体による光散乱が起こることがあるた
め、パターン加工には困難を伴う場合がある。

【０００４】また、同公報には分子オーダーで透明な酸
化物溶液のうち、Ｔｉを含む有機金属化合物の例が列挙
されているが、元来著しい加水分解性を有する一連の化
合物を、合成溶媒である低級アルコール以外の高極性溶
媒、たとえばγ−ブチロラクトンやＮＭＰなどのように
高い配位能を持った溶媒への安定な溶液調製のための技
術に関して具体的な開示がない。

【０００５】一方、発明者らが目的とするところのディ
スプレイ用部材などを形成するために用いられる組成物
に用いられる有機溶媒に必要とされる特性は、有機高分
子材料や添加剤に対する溶解能、そして無機粉末等を適
宜配合するための極性の高さ、そして厚膜プロセスに対
応可能な流動特性と蒸発速度等である。

【０００６】しかし、一般的に有機金属化合物の溶媒と
して選択される低級アルコールでは蒸発速度が大きす
ぎ、さらに表面張力が小さいこと等から厚膜プロセスに
は必ずしも適当ではない。従来の有機金属化合物では上
述のように、高極性溶媒、特に非プロトン性極性溶媒等
への溶解を試みると、著しく加水分解して金属酸化物の
沈殿を生じ、さらに有機高分子材料等を加えた溶液調製
を試みると直ちにゲル化するなど、組成物の主要成分と
しての利用が難しいのが実状であった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上述した問題点を解決することを課題とし、そ
の目的とするところは、有機金属化合物と高極性溶媒を
含む均質な組成物を提供し、高分子材料や添加剤、およ
び無機微粒子等を共存させうる溶媒、特に高極性溶媒の
可使範囲を飛躍的に拡大させ、ディスプレイ部材等への
応用を図ることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は以下の構成を有する。すなわち本発明は、配
位座数が２以上の多座配位子と炭素数が４以上の配位子
を有する有機金属化合物を含む組成物である。また、上
記組成物を用いることを特徴とするディスプレイ部材の
製造方法およびディスプレイである。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を説明する。本発明の組成物は、配位座数が２以上の
多座配位子と炭素数が４以上の配位子を有する有機金属
化合物を含むものである。通常、配位子を有する有機金
属化合物を含む組成物は、その配位子の置換反応活性に
より、加水分解および縮重合を起こして沈殿を生じるた
め、組成物は著しくゲル化したり、長期保存安定性に欠
けたりする。また、組成物が感光性有機成分さらにカル
ボキシル基を有するポリマーを含む場合、有機金属化合
物はその置換反応活性により架橋剤として機能し、組成
物がさらに高分子量化して流動性に乏しくなり、さらに
現像処理ができなくなるといった問題がある。

【００１０】本発明の組成物においては、用いる有機金
属化合物が、配位座数が２以上の多座配位子であること
により、極性溶媒の会合性による置換反応活性を立体的
に抑制し、炭素数が４以上の配位子を直接あるいは間接
的に結合させることによってさらに安定性を向上させる
ことを特徴としている。ここで、極性溶媒との組成物を
構成する上で、これら有機金属化合物の溶媒への溶解性
を考慮すると、この配位子は中心金属への配位原子の他
に電気陰性度が２．５よりも大きい元素を１つ以上含む
ものが極性溶媒への溶解性を付与する上で好ましい。例
えば窒素（３．７）、酸素（３．５）、フッ素（３．
９）、リン（２．８）、硫黄（２．６）、塩素（３．
０）、臭素（２．８）などである。また、この配位子の
炭素数は電気陰性度が２．５よりも大きい元素の原子数
の２０倍以下であることが極性溶媒への溶解性を維持す
る上で好ましい。有機金属化合物は、錯塩の形をとるこ
とで、極性溶媒への溶解性、また、フォトリソ加工時の
現像液への溶解性を持たせる上で特に好ましい。

【００１１】有機金属化合物の中心金属としては、Ａ
ｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｄｙ、
Ｅｒ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｄ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｈｏ、Ｉ
ｎ、Ｋ、Ｌａ、Ｌｉ、Ｌｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、
Ｎｄ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｂ、Ｐｒ、Ｒｅ、Ｓｂ、Ｓｍ、Ｓ
ｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、Ｙｂ、Ｚｎ、Ｚｒ
などが挙げられる。特に、中心金属の価数変化による活
性度の変化の点において、希土類のIII価、Ｔｉ（I
V）、Ｚｒ（IV）、Ｔａ（Ｖ）、Ｎｂ（Ｖ）、Ｖ
（Ｖ）、Ｔｉ（III）、Ｚｒ（III）、Ｔａ（IV）、Ｎｂ
（IV）、Ｖ（IV）、Ｔｉ（II）、Ｚｒ（II）、Ｔａ（II
I）、Ｎｂ（III）、Ｖ（III）、Ｍｏ（IV）、Ｒｅ
（Ｖ）などの置換反応活性であるとされるイオン種であ
ることが好ましい。

【００１２】ここで、多座配位子とは、１つの配位子分
子の中に２つ以上の配位基を持つもののうち、中心金属
に対して実質的に結合している２つ以上の配位原子を持
つものを指す。配位原子の種類としては酸素、窒素、硫
黄、リン、砒素、セレン等が挙げられる。本発明におけ
る有機金属化合物は、この配位原子が２つ以上である２
座以上の多座配位子を持つことが必要であり、３座以上
であることが中心金属の反応活性を立体的に包接する効
果により抑制できて、より好ましい。多座配位子の種類
としてはクラウンエーテル、グリコレート、エチレンジ
アミン誘導体、アルカノールアミン、アミノ酸、アミノ
ポリカルボン酸、ポリカルボン酸、β−ジケトン、など
が挙げられる。

【００１３】２座配位子としては、乳酸、アセチルアセ
トネート、カテコール、ビピリジン、エチレンジアミ
ン、オキシン、３座配位子としては、ヒドロキシコハク
酸、ジアスパラギン酸、エチレントリアミン、シクロヘ
キサン−１，２−ジアミン四酢酸、シクロヘキサン−
１，３−ジアミン四酢酸、４座配位子としては、フタロ
シアニン、トリエチレンテトラアミン、トリアミノトリ
エチルアミン、クエン酸、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（サ
リチルアルジミン）、５座配位子としては、エチレンジ
アミン４酢酸、［２−ヒドロキシ−５−（４−ニトロフ
ェニルアゾ）フェニル］オキシメチル−１５−クラウン
−５、６座配位子としてはイミノジ酢酸、エチレンジア
ミン四酢酸、シクロヘキサン−１，４−ジアミン四酢
酸、などが好ましく用いられる。

【００１４】また、有機金属化合物に含まれる炭素数が
４以上の配位子のうち、配位原子が酸素のものとして
は、トリエタノールアミン、イソペンチルアルコール、
２−ブタノールなどのアルコール、ジエチレングリコー
ル、１，４−ペンタンジオール、１，３−ブタンジオー
ル、１，６−オクチレングリコールなどのグリコール、
カテコール、ピクリン酸、レソシノールなどのフェノー
ル、テノイルトリフルオロアセトンなどのエノール、メ
タクリル酸、イソステアリン酸、Ｌ−リンゴ酸、Ｌ−ア
スコルビン酸、クエン酸、フタル酸などのカルボン酸、
ピペロナール、サリチルアルデヒド、アルドール、バレ
ルアルデヒド、フルフラール、アクロレインなどのアル
デヒド、ｐ−ベンゾキノン、ジエチルケトン、ビアセチ
ルなどのケトン、メタクリロキシエチルアセトアセト
ン、ヘキサフルオロペンタンジオン、アセチルアセト
ン、テトラメチルヘプタンジオンなどのβ−ジケトン、
ヒドロキノンモノメチルエーテル、キナリザリン、キニ
ザリン、ｐ−ベンゾキノンなどのキノン、ポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル、２，４−ジケト（１９
−クラウン−６）、エチレングリコールジエチルエーテ
ルジアミン四酢酸などのエーテル、サリチル酸メチル、
ジエチレングリコールモノアセテートなどのエステル、
ブチルアミド、コハク酸ジアミドなどのアミド、１−ニ
トロソ−２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸、１−
ニトロソ−２−ナフトールなどのニトロソ化合物、１，
３−ジアミノプロパノール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢
酸、ニトリロ３プロピオン酸、トリニトロ三酢酸などの
ニトロ化合物、トリエチルアミンオキシドなどのＮ−オ
キシド、Ｌ−アスパラギン酸、Ｌ−システイン、Ｌ−グ
ルタミン酸などのアミノ酸、ドデシルベンゼンスルホン
酸などのスルホン酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（メチレンホスホン酸）、トリ（ｎ−オクチル）リン
酸、ジオクチルリン酸などのリン酸、２−ニトロフェニ
ルアルソン酸、２−（２−アルソン酸フェニルアゾ）−
１，８−ジヒドロキシ−３，６−ナフタレンジスルホン
酸、ｎ−ヘキシルアルソン酸、フェニルアルソン酸など
のアルソン酸などが挙げられ、配位原子が窒素のものと
しては、１，４−ビス（２−アミノエチル）アミノメチ
ルベンゼン、β−アミノエチルエチルメルカプタン、１
−エチルブトルアミン、ｐ−メトキシアニリンなどの第
一アミン、フタロシアニン、ジエチルアミン、ジブチル
アミン、ポルフィリン、ビスアセチルアセトンエチレン
ジイミンなどの第二アミン、ビピリジン、フェナントロ
リン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸などの
第三アミン、ピラゾール、ピラゾリン、ベンゾオキサゾ
ール、４−アミノアゾベンゼン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル
トリアジンなどのアゾ、８−ヒドロキシキノリナト、ピ
ペリジン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ビニルイミダゾ
ールなどの複素環化合物、コハク酸ジアミド、ピラゾロ
ン、０−アセトアミド安息香酸などのアミド、ベンズア
ルドキシム、ブチルアルドキシム、、ジメチルグリオキ
シム、ベンジルジオキシムなどのオキシム、ｐ−キノン
ジイミン、ｐ−キノンイミン、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス
（サリチルアルジミン）ピロリジン、ピペリジンなどの
イミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリ
シン、Ｌ−ヒスチジン、Ｌ−システイン、Ｌ−グルタミ
ン酸などのアミノ酸などが挙げられる。

【００１５】また、配位原子が硫黄のものとしては、エ
チルチオエーテル、イソオクチルメルカプトアセテー
ト、３−メタクリル酸プロピル−１，２−ジチオール、
１−チオグリセロールアルコール、ベンジルチオアルコ
ール、β−アミノエチルエチルチオールアミノベンゼン
チオールなどのチオール、０−メルカプト安息香酸、４
−エチルベンゼンチオール、トルエン−３，４−ジチオ
ール、８−メルカプトキノリンなどのチオフェノール、
ベンゾチアゾール、ジシクロヘキシル−１５−チアクラ
ウン−５、１８−チアクラウン−６、（４−エタンチオ
ールフェニル）エチルスルフィドなどのチオエーテル、
ジエチルチオケトン、バレルアルデヒドなどのチオアル
デヒド、チオケトン、ジエチルジチオカルバミン酸など
のチオカルボン酸、ジエチルジチオカルバモン酸、ジプ
ロピルジチオカルバモン酸などのジチオカルボン酸、ジ
フェニルチオカルバゾン、ジクロロイミノジチアゾリン
などのチオアミド、チオシアン、イソチアン酸アリル、
４−フェニルイソチオシアンなどのイソチオシアンなど
が挙げられ、配位原子がリンのものとしては、ビニルベ
ンゼン−４−リン酸、ジビニルフォスフィン酸、トリフ
ェニルフォスフィンなどの第一、第二、第三アルキルお
よびアリールホスフィンなどが挙げられる。

【００１６】さらに、配位原子が砒素のものとしては、
ポリビニルアルコールのヒ酸型樹脂、トリフェニルヒ
酸、ジブチルアルセノール、ｐ−ヒドロキシフェニルヒ
酸、などの第一、第二、第三アルキルおよびアリールア
ルセンなどがあり、配位原子がセレンのものにはジブチ
ルセレノール、セレノフェノールなどのセレノール、な
どのジフェニルセレノケトン、などのセレノカルボニル
化合物、ジプロピルジセレノカルボン酸、フェニルアゾ
ブチルジセレノカルボン酸などのジセレノカルボン酸な
どが挙げられる。なお、本発明における炭素数が４以上
の配位子は配位座数により制限されるものではない。

【００１７】また、本発明で用いる有機金属化合物は、
１つの金属イオンに２種以上の異なる多座配位子が結合
した混合キレート化合物や、多座配位子が複数の中心金
属に橋架け式に結合して連なった多核キレート化合物あ
るいは配位高分子であってもよい。

【００１８】また、中心金属イオンの安定化のために合
成時に過酸化水素等の酸化剤を作用させることによって
過酸化物イオンを配位させることも好ましい。

【００１９】以上の組み合わせのなかから、焼成時の有
機成分の焼失のしやすさなどから多座配位子としてはア
ミノポリカルボン酸、アミノ酸、β−ジケトン、単座配
位子としては脂肪族アミン、グリコール、アミノアルコ
ール等から選ばれた組み合わせが特に好ましく用いられ
る。

【００２０】具体的には、チタニウムペルオキソビス
（ニトリロ三酢酸）ビス（ジプロピルアミネート）、チ
タニウムアセチルアセトネートビス（１，３−ブタンジ
オール）、ジルコニウムペルオキソエチレンジアミン四
酢酸ピリジニウム、ジルコニウムグルタミン酸二酢酸ビ
ス（３，５−ジメチルピリジニウム）、チタニウムペル
オキソエチレンジアミン四酢酸ジブチルアミネート、ジ
ルコニウムベンゾイルアセトネートビス（１，３−ブタ
ンジオール）などがあり、本発明の組成物にはこれらの
有機金属化合物が５〜８０重量％含まれることが好まし
い。５％以上とすることにより焼成後の組織中に実質的
に金属酸化物を導入することができる。８０％以下とす
ることで組成物の塗工および乾燥により膜状組成物を得
るなどの加工が可能となる。より好ましくは６〜６０重
量％、さらに好ましくは７〜５０重量％である。

【００２１】本発明の組成物は、有機溶媒を好ましく含
ませることができる。有機溶媒は、造膜成分および感光
成分の溶解性と組成物との塗布性を両立するものが好ま
しい。さらに無機微粒子を添加する場合にはその分散媒
としての親和性および分散性をも満たす必要がある。こ
れらの要件を満たしうる溶媒特性としては、誘電率が３
０〜５０の範囲内であること、ＳＰ値が１２〜２０（ｃ
ａｌ／ｃｍ）^1/2の範囲内であること、表面張力が３０
〜６０ｄｙｎ／ｃｍの範囲内であること、または双極子
モーメントが３〜５デバイの範囲内であることの４つの
要件のうち少なくとも１つの要件を満たすことが好まし
く、少なくとも２つの要件も満たすことがより好まし
く、少なくとも３つの要件を満たすことがさらに好まし
い。

【００２２】誘電率が３０以上であることにより、有機
金属化合物に対する溶解性が向上し、５０以下とするこ
とで感光成分を実用的な濃度で溶解することが可能にな
る。好ましくは３０〜４０の範囲内である。

【００２３】また、ＳＰ値が１２（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2
以上であることにより、バインダーポリマーと有機金属
化合物の溶解性を両立することが可能となり、２０（ｃ
ａｌ／ｃｍ）^1/2以下とすることによって塗布性に有利
な濃度のバインダーポリマー濃度を維持できやすくな
る。好ましくは１２〜１５（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2の範囲
内である。

【００２４】また、表面張力が３０ｄｙｎ／ｃｍ以上で
あることにより、厚膜塗布が可能となり、６０ｄｙｎ／
ｃｍ以下とすることによって製膜性を維持できやすくな
る。好ましくは３０〜４５ｄｙｎ／ｃｍの範囲内であ
る。

【００２５】また、双極子モーメントが３デバイ以上で
あることにより、有機金属化合物に対する溶媒の会合性
による溶解性向上の効果と無機微粒子に対する良好な分
散媒としての効果を得ることができ、５デバイ以下とす
ることによって組成物の吸湿性を抑制し、一連の加工工
程に必要とされる保存安定性を確保することができやす
くなる。好ましくは３〜４．５デバイの範囲内である。

【００２６】上記した各特性値は、以下の方法により得
たものである。誘電率の測定は、日本ヒューレット・パ
ッカード（株）製ＬＣＲメータ４２８４Ａに３端子電極
付き液体用セルＨＰ１６４５２Ａ（セルの静電容量６．
７ｐＦ）に印加電圧１Ｖ、測定周波数１ＫＨｚ、室温２
１±２℃、湿度６０±５％の条件で行った。まず、試料
を充填していない空の状態のセルに窒素ガスを充填し、
電極間の静電容量（Ｃ0）を測定し、電極定数を求め
る。次に電極容器の中を５回アセトンで洗浄後、窒素ガ
スで乾燥し、試験液で５回共洗いした後、規定量（約５
ｍｌ）充填する。続いて設定された各測定周波数におけ
る電極間の静電容量（Ｃx）をブリッジによって測定す
る。この結果より、比誘電率ε'は式（１）により求め
られる。 ε'＝Ｃx/Ｃ0（１）この操作を５回繰り返し、その平均値を採用した。この
値を誘電率とした。

【００２７】ＳＰ値の値および算出はＪ．Ｂｒａｎｄｒ
ｕｐｅｔａｌ．“ＰＯＬＹＭＥＲＨＡＮＤＢＯＯ
Ｋ４ＴＨＥｄｉｔｉｏｎ”ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆
ＳＯＮＳ．ＩＮＣ．による。特に、Ｃ．ＴＡＢＬＥＯ
ＦＳＯＬＵＢＩＬＩＴＹＰＡＲＡＭＥＴＥＲＳに記載
のない溶媒については、式（２）によって算出した。ＳＰ値：δ＝（ΔＥ/Ｖ）^1/2（２）ここで、ΔＥは分子の解離エネルギー（または凝集エネ
ルギー）、Ｖはモル体積である。

【００２８】表面張力は、協和界面科学（株）製ＣＢＶ
Ｐ式表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３型を用いてウイルヘルミ
イ法により以下の手順で行った。表面張力測定用標準プ
レートをフックに下げる。表面張力測定用標準プレート
は装着前にアセトン中で超音波洗浄し、プレートに付着
している試料を落とした。洗浄液を未使用のアセトンに
交換して１５〜３０分浸漬する。その後プレートのホル
ダー装着部をピンセットでつまみ、蒸留水の流水で洗浄
する。その後、プレートを測定時と上下逆に保持し、ド
ライヤーで乾燥する。室温２３±２℃、６０±５％ＲＨ
で測定する。

【００２９】双極子モーメントは、浅原照三他編溶剤ハ
ンドブック（１９７６年講談社出版）により、記載の無
いものについてはＯｘｆｏｒｄＭｏｌｅｃｕｌａｒ
Ｇｒｏｕｐ製ＣＡＣｈｅＶｅｒ.４．１．１を用い、
ＭＭ２により構造最適化を行った後、ＭａｃＭＯＰＡＣ
ｖｅｒ．９４でＰＭ３をパラメータとして計算を行っ
た結果のうちＤｉｐｏｌｅＭｏｍｅｎｔの値を採用し
た。

【００３０】上記した要件のうち１つを満たす溶媒とし
ては、ジオキサン（表面張力３６．９ｄｙｎ／ｃｍ）、
エチレングリコールモノメチルエーテル（表面張力３
０．１ｄｙｎ／ｃｍ）、ピリジン（表面張力３６．８８
ｄｙｎ／ｃｍ）、プロピオニトリル（双極子モーメント
３．５７デバイ）、シクロヘキサノール（表面張力３
４．４ｄｙｎ／ｃｍ）などがあり、２つを満たすものと
しては、シクロヘキサノン（双極子モーメント３．０１
デバイ、表面張力３４．５ｄｙｎ／ｃｍ）、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド（双極子モーメント４．３１デバ
イ、表面張力３３．８ｄｙｎ／ｃｍ）、ニトロエタン
（双極子モーメント３．７デバイ、表面張力３１ｄｙｎ
／ｃｍ）、アセトニトリル（誘電率３７．５、双極子モ
ーメント３．４４デバイ）、ベンジルアルコール（ＳＰ
値１２．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力３８．９４
ｄｙｎ／ｃｍ）、プロピレングリコール（ＳＰ値１２．
６（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、誘電率３２）などがあり、３
つを満たすものとしては、エチレングリコール（ＳＰ値
１４．２（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、誘電率３８．６６、表
面張力４６．５ｄｙｎ／ｃｍ）、ジエチレングリコール
（ＳＰ値１２．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、誘電率３１．
６９、表面張力４８．５ｄｙｎ／ｃｍ）、Ｎ−メチルピ
ロリドン（誘電率３２、双極子モーメント４．０９デバ
イ、表面張力４１ｄｙｎ／ｃｍ）、Ｎ−メチルホルムア
ミド（ＳＰ値１６．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、双極子モ
ーメント３．８４デバイ、表面張力３７．９６ｄｙｎ／
ｃｍ）、ホルムアミド（ＳＰ値１９．２（ｃａｌ／ｃ
ｍ）^1/2、双極子モーメント３．３７デバイ、表面張力
５７．９ｄｙｎ／ｃｍ）などがあり、４つを満たすもの
としてはニトロメタン（ＳＰ値１２．７（ｃａｌ／ｃ
ｍ）^1/2、誘電率３５．８７、双極子モーメント３．４
６デバイ、表面張力３７ｄｙｎ／ｃｍ）、ジメチルスル
ホキシド（ＳＰ値１２（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、誘電率４
８．９、双極子モーメント４．３デバイ、表面張力４
２．９ｄｙｎ／ｃｍ）、ジメチルホルムアミド（ＳＰ値
１２．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、誘電率３６．７１、双
極子モーメント３．８６、表面張力３５．２ｄｙｎ／ｃ
ｍ）、γ−ブチロラクトン（ＳＰ値１２．６（ｃａｌ／
ｃｍ）^1/2、誘電率３９、双極子モーメント４．１２デ
バイ、表面張力４６ｄｙｎ／ｃｍ）などがあり、これら
が単独で、またはこれらを含む混合溶媒などが好ましく
用いられる。

【００３１】本発明の組成物に含まれる有機溶媒のモル
数は有機金属化合物の中心金属のモル数の４倍より多い
ことが好ましい。中心金属のモル数の４倍以上とするこ
とにより、組成物に適度な加工性、流動性を付与するこ
とができる。また、５０倍以上とすることにより、各種
無機粉末微粒子の分散体を構成することが可能となり、
また、ＳＰ値が１０以上のポリマーをバインダーとして
共存させることが容易となる。

【００３２】本発明の組成物は有機金属化合物を５〜８
０重量％含むことが好ましい。５重量％以上とすること
により焼成後の組織中に実質的に物性発現可能な金属酸
化物を導入することができ、８０重量％以下とすること
で加工性を付与した組成物を構成することが可能とな
る。

【００３３】本発明の組成物は、さらに、樹脂成分、添
加剤、無機微粒子などを適宜必要に応じて組み合わせ構
成することができる。

【００３４】次に、本発明の組成物を用いたディスプレ
イとして、ＰＤＰの作製手順を例として説明するが、本
発明は、なんらこれに限定されるものではなく、プラズ
マアドレス液晶ディスプレイならびに電子放出素子また
は蛍光表示管を用いたディスプレイなどにおいても好ま
しく適用できるものである。

【００３５】ＰＤＰの基板には、ソーダガラスやたとえ
ば旭硝子株式会社製“ＰＤ２００”に代表されるＰＤＰ
用ガラス基板が好ましく用いられる。基板上に、導電性
金属によりアドレス電極を形成することができる。導電
性金属としては、銀、銅、クロム、アルミニウム、ニッ
ケル、金等を用いることができる。アドレス電極は通
常、幅２０〜１００μｍのストライプ状に形成される。
次いで電極を被覆するように誘電体層を形成するのが好
ましい。

【００３６】さらにその上に隔壁を設けるが、例えば、
フォトリソグラフィー法により隔壁を形成する場合、通
常は感光性組成物を塗布し、露光し、露光部分と未露光
部分の現像液に対する溶解度差を利用して現像した後に
焼成して隔壁を形成することによって行われる。

【００３７】本発明の配位座数が２以上の多座配位子と
炭素数が４以上の配位子を含む有機金属化合物を含む組
成物は、この隔壁を形成する際に好適に用いることがで
きる。以下、特に、隔壁用途への適用に関して説明する
が、何らこれに限定されるものではない。

【００３８】隔壁用途に用いられる組成物には、通常、
感光性有機成分と無機微粒子と有機溶媒および有機金属
化合物が含まれる。そのうち、感光性有機成分は、感光
性モノマーおよび／またはオリゴマー、感光性および／
または非感光性ポリマー、光重合開始剤を基本成分とし
て構成される。また、必要に応じて、増感剤、紫外線吸
収剤、分散剤、界面活性剤、有機染料、可塑剤、増粘
剤、酸化防止剤、ゲル化防止剤などの添加剤成分を加え
ることもできる。ここで感光性とは、活性光線の照射に
より組成物に含まれる有機成分の一部または全部が、重
合、架橋、分解、変性などの反応を通して耐溶剤溶解性
が変化して耐食性画像を形成することを指す。

【００３９】感光性有機成分には感光性ポリマーが含ま
れることが好ましい。感光性ポリマーは、側鎖にカルボ
キシル基を有するアクリル系重合体を含有することが好
ましい。このような重合体を用いた感光性組成物はパタ
ーン露光後の現像をアルカリ水溶液で実施することがで
きるというメリットを有している。側鎖にカルボキシル
基を有する重合体としては、焼成時の熱分解温度が低い
ことから、（メタ）アクリル酸エステルおよび（メタ）
アクリル酸を共重合成分とする共重合体が好ましく用い
られる。さらに、側鎖にカルボキシル基を有する重合体
が側鎖にエチレン性不飽和基を有することも好ましく、
該エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、
アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。感光性組
成物の感光性有機成分には感光性モノマーが含有される
ことが好ましく、これらモノマー成分の光反応による架
橋反応や重合反応が重要な役割をする。このような役割
をする感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭素二重
結合を有する化合物で、官能基としてビニル基、アリル
基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリルアミ
ド基などを有する単官能および多官能化合物が用いられ
る。側鎖にカルボキシル基を有する重合体の酸価は５０
〜１４０であることが好ましい。酸価を１４０以下とす
ることで、現像許容幅を広くすることができ、酸価を５
０以上とすることで、未露光部の現像液に対する溶解性
が低下することが無く、従って現像液を濃くする必要が
無く、露光部の剥がれを防ぎ、高精細なパターンを得る
ことができる。

【００４０】感光性組成物にはまた、感光性モノマーが
含まれることが好ましいが、一種に限定されるものでは
なく、複数種を混合して用いることも可能であり、形成
される隔壁パターンの形状安定性や欠陥防止にも留意し
て選択される。エチレン性不飽和基を有するアミン化合
物やウレタン結合を有するアクリロイルまたはメタクリ
ロイル誘導体などを用いることが好ましい。

【００４１】不飽和基を有する感光性モノマー類には、
一般的に活性光線のエネルギーを吸収する能力はないの
で、光反応を開始するためには、光重合開始剤を加える
ことが好ましい。場合によっては光重合開始剤の効果を
補助するために増感剤を用いることがある。

【００４２】また、本発明の組成物には無機微粒子を含
むことができる。無機微粒子のうち、隔壁に好適に使用
されるのは低軟化点ガラス粉末であるが、ここで言う低
軟化点ガラス粉末とは、ガラス転移点４００〜５００
℃、荷重軟化点４５０〜６００℃であることが好まし
い。荷重軟化点が４５０℃以上であることで、ディスプ
レイ形成の後工程において隔壁が変形することがなく、
荷重軟化点が６００℃以下であることで、焼成時に溶融
し強度の高い隔壁を得ることができるためである。荷重
軟化点を上述の範囲に調整するために、ガラス転移点を
４００〜５００℃とすることが好ましい。

【００４３】感光性組成物に用いる低軟化点ガラス粉末
は、組成物形成時の充填性および分散性が良好で、組成
物の均一な厚さでの塗布が可能であると共にパターン形
成性を良好に保つためには、平均径が１〜４μmであ
り、最大粒子経が３５μm以下であることが好ましい。
このような粒度分布を有するガラス粉末が組成物への充
填性および分散性の点で優れているが、低軟化点ガラス
粉末の場合は焼成工程でその殆どが溶融し一体化される
ので、かなり大きな粒子経の粉末も許容される。この範
囲であれば、充填性および分散性を満足させて、塗布性
およびパターン形成性の優れた感光性組成物を構成する
ことができる。

【００４４】本発明の組成物は、有機金属化合物、有機
溶媒、感光性成分、さらには無機微粒子等を必要特性に
応じて適宜配合した上で、均質であることが重要であ
る。そのため本発明の組成物の溶媒は有機金属化合物や
感光性成分を分子オーダーで安定に溶解しうるものであ
って、無機微粒子等を含む場合には、さらに分散性が良
好なものであって、組成物の粘度の調整、塗布性、塗布
膜の乾燥性、その他、取り扱い性などを考慮して選択す
る必要がある。

【００４５】隔壁はガラス基板上に直接形成する場合も
あるが、多くはガラス基板上の電極を被覆するように形
成されている誘電体層の上に形成される。いずれの場合
においても、感光性組成物を塗布する前に、塗布面の表
面処理を行って接着性を向上させることが有効である。
このような表面処理にはシランカップリング剤が用いら
れる。

【００４６】感光性組成物の塗布は、スクリーン印刷
法、バーコータ法、ロールコータ法、ドクターブレード
法などの一般的な方法で行うことができる。塗布厚さ
は、所望の隔壁の高さと組成物の焼成収縮率を考慮して
決めることができる。

【００４７】塗布・乾燥した感光性組成物膜にフォトマ
スクを介して露光を行って、隔壁パターンを形成する。
露光の際、組成物塗布膜とフォトマスクを密着して行う
方法と一定の間隔をあけて行う方法（プロキシミティ露
光）のいずれを用いてもよい。露光用の光源としては、
水銀灯やハロゲンランプが適当であるが、超高圧水銀灯
がもっとも良く使用される。超高圧水銀灯を光源とし
て、プロキシミティ露光を行うのが一般的である。露光
条件は組成物の塗布厚さによって異なるが、通常は５〜
６０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて１０秒
〜１０分間露光を行う。

【００４８】露光後、露光部分と未露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。感光
性組成物が側鎖にカルボキシル基を有するアクリル系重
合体を含有する場合、アルカリ水溶液での現像が可能で
ある。アルカリとしては、有機アルカリ水溶液を用いた
方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好まし
い。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
０．０５〜１重量％、より好ましくは０．１〜０．５重
量％である。アルカリ濃度が低すぎれば可溶部が完全に
除去されず、アルカリ濃度が高すぎれば、露光部のパタ
ーンを剥離させたり、浸食したりするおそれがある。現
像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好
ましい。

【００４９】感光性組成物の塗布膜から露光・現像の工
程を経て形成された隔壁パターンは次に焼成炉で焼成さ
れて、有機成分を熱分解して除去し、同時に無機微粒子
成分中の低軟化点ガラスを溶融させて無機質の隔壁を形
成する。焼成雰囲気や温度は、組成物や基板の特性によ
って異なるが、通常は、空気中で焼成される。焼成炉と
してはバッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。

【００５０】バッチ式の焼成を行うには通常、隔壁パタ
ーンが形成されたガラス基板を室温から焼成温度まで数
時間かけてほぼ等速で昇温した後、通常は焼成温度とし
て設定された５００〜５９０℃で約１５〜３０分間保持
して焼成を行う。焼成温度は用いるガラス基板のガラス
転移点より低くなければならないので、自ずから上限が
存在する。焼成温度が高すぎたり、焼成時間が長すぎた
りすると隔壁の形状にダレなどの欠陥が発生する。ま
た、有機成分に含まれる感光性モノマー、感光性オリゴ
マーもしくはポリマー、種々の添加剤の熱分解特性とガ
ラス粉末成分の熱特性が不釣り合いになると、隔壁が褐
色に着色したり、隔壁が基板から剥がれたりする欠陥が
発生する場合がある。

【００５１】本発明の組成物では、加えられた有機金属
化合物がゲル化したり無機微粒子が沈降・凝集してしま
うこと無く、焼成後の光学的、電気的、磁気的、機械的
特性あるいは化学的特性が制御された隔壁が形成された
ディスプレイ用部材を得ることができる。たとえば中心
金属としてＺｒ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｓｔ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔ
ａ、Ｙ等を選択することにより可視光の反射率が高いガ
ラス製の隔壁が形成されたディスプレイ用部材を得るこ
とができる。

【００５２】得られた部材上の隔壁に挟まれたセル内
に、赤、緑、青に発光する蛍光体組成物を塗布し、必要
に応じて焼成して、プラズマディスプレイの背面板を製
造することができる。この背面板と別途作製された前面
板とを張り合わせ後、封着、ガス封入してプラズマディ
スプレイが作製される。

【００５３】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、濃度（％）は特に断らない限り重量％である。（実施例１）まず、以下の手順で本発明の組成物を作製
した。有機金属化合物として、チタニウムペルオキソビ
ス（ニトリロ三酢酸）ビス（ジプロピルアミン）（ここ
でニトリロ三酢酸：配位座数３、炭素数６；ジプロピル
アミン：配位座数１、炭素数６（複塩））を用いた。こ
れを金属酸化物（ＴｉＯ ₂）に換算して３重量部になる
よう用意した。

【００５４】低軟化点ガラスとして、酸化物換算組成
が、酸化リチウム６．８％、酸化珪素２３％、酸化ホウ
素３３％、酸化バリウム４．５％、酸化アルミニウム１
９．５％、酸化亜鉛２．８％、酸化マグネシウム５．８
％、酸化カルシウム４．６％のガラスを用いた。この低
軟化点ガラスのガラス転移点は４９７℃、荷重軟化点は
５３０℃、熱膨張係数は７５×１０^-7／Ｋであった。ガ
ラス成分は、あらかじめアトラクターで微粉末とし、平
均粒子径２．６μｍ、最大粒子径２２μｍ、タップ密度
０．７５ｇ／ｃｍ³、屈折率１．５９の非球状粉末とし
て使用した。これを７０重量部用意した。

【００５５】フィラーとして、酸化物換算組成が、酸化
珪素３８％、酸化ホウ素１０％、酸化バリウム５％、酸
化カルシウム４％、酸化アルミニウム３６％、酸化亜鉛
２％、酸化マグネシウム５％の高軟化点ガラス粉末を用
いた。この高軟化点ガラス粉末のガラス転移点は６５２
℃、荷重軟化点は７４６℃、熱膨張係数４３×１０^-7／
Ｋ、平均粒子径２．４μｍで平均屈折率は１．５９であ
った。これを３０重量部用意した。

【００５６】次に、低軟化点ガラスおよびフィラー計１
００重量部に対して０．０４重量部の有機染料メチレン
ブルーをアセトンに溶解し、分散剤を加えてホモジナイ
ザーで均質に攪拌し、この溶液中にガラス粉末を添加し
て均質に分散・混合後、ロータリーエバポレーターを用
いてアセトンを蒸発させ、１５０〜２００℃の温度で乾
燥した。

【００５７】一方、ジメチルスルホキシド（誘電率４
８．９、ＳＰ値１２（ｃａｌ／ｃｍ） ^1/2、表面張力４
２ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント４．３デバイ）に、
後述する感光性ポリマーＡを４０％溶液になるように混
合し、攪拌しながら６０℃まで加熱してすべてのポリマ
ーを溶解した。ここで、感光性ポリマーＡは、メタクリ
ル酸４０％、メチルメタクリレート３０％およびスチレ
ン３０％からなる共重合体のカルボキシル基に対して
０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させ
たもので、その平均分子量は３２，０００、酸価は９５
であった。

【００５８】室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノ
マー（共栄社化学（株）製、“ＴＭＰ−６ＥＯ−３
Ａ”）、光重合開始剤（２，４，６−トリメチルベンゾ
イルジフェニルフォスフォンオキサイド）、ゲル化防止
剤（１Ｈ−ベンゾトリアゾール）、分散剤（サンノプコ
（株）製、“ノプコスパース０９２”）、重合禁止剤
（ハイドロキノンモノメチルエーテル）、可塑剤（ジブ
チルフタレート）および有機金属化合物（チタニウムペ
ルオキソビス（ニトリロ三酢酸）ビス（ジプロピルアミ
ン））を加えて溶解させ、有機ビヒクルを作製した。

【００５９】溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感光
性ポリマー３０．４％、感光性モノマー２０．３％、光
重合開始剤４．１％、ゲル化防止剤２．０％、分散剤
２．０％、重合禁止剤０．２％、可塑剤８．１％、有機
金属化合物３２．９％であった。

【００６０】低軟化点ガラス粉末、フィラーと有機ビヒ
クルを３本ローラーで混合・分散して感光性組成物を得
た。感光性組成物に含まれる各成分（重量部）は、低軟
化点ガラス粉末４７、フィラー２０、有機ビヒクル５３
となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換する有機
金属化合物（チタニウムペルオキソビス（ニトリロ三酢
酸）ビス（ジプロピルアミン））を酸化物換算で２含ん
でいた。

【００６１】次いで、以下のようにして、プラズマディ
スプレイパネルを作製した。１００ｍｍ角ガラス基板上
に電極層を形成した。平均粒径１．５μｍの球状銀粉末
および感光性有機成分を含む感光性銀組成物を用いて、
フォトリソグラフィー法により、ピッチ１４０μｍ、線
幅４０μｍのストライプ状パターンを形成し、空気中で
５８０℃、１５分間焼成し、銀含有量９７．５％、ガラ
スフリット量２．５％の電極層を形成した。この電極層
の厚みは２．６μｍであった。

【００６２】次に、エチルセルロース５％のテルピネオ
ール溶液中に平均粒径０．２４μｍのルチル型酸化チタ
ン５ｇ、ガラス粉末（酸化物表記の組成：酸化ビスマス
６７％、酸化珪素１０％、酸化ホウ素１２％、酸化アル
ミニウム３％、酸化亜鉛３％、酸化ジルコニウム５％）
１６５ｇを混合、分散した誘電体組成物を上記の電極層
を形成したガラス基板上に、スクリーン印刷法で３２５
メッシュのスクリーンを用いて乾燥厚み１８μｍになる
ように塗布した。続いて５７０℃で１５分間焼成して厚
み１０μｍの誘電体層を形成した。

【００６３】次に、本実施例の感光性組成物を３２５メ
ッシュのスクリーンを用いたスクリーン印刷法により塗
布した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するため
に塗布・乾燥を数回繰り返し行い、膜厚の調整を行っ
た。途中の乾燥は８０℃で１０分間行った。その後８０
℃で１時間保持して乾燥した。乾燥後の塗布厚さは２０
１μｍであった。

【００６４】続いて、１４０μｍピッチ、線幅２０μｍ
のネガ用のクロムマスクを用いて上面から２０ｍＷ／ｃ
ｍ²出力の超高圧水銀灯で露光量５００ｍＪ／ｃｍ²のプ
ロキシミティ露光を施した。露光後のパターンを、３５
℃に保持したモノエタノールアミンの０．２％水溶液を
シャワーで３００秒間かけることにより現像し、その
後、シャワースプレーにより水洗してガラス基板上にス
トライプ状の隔壁パターンを形成した。

【００６５】このようにして得られた隔壁パターンを空
気中、５７０℃で２０分間焼成して白色の隔壁を形成し
た。形成された隔壁の断面形状をＳＥＭで観察したとこ
ろ、高さ１２１μｍ、隔壁中央部の線幅３１μｍ、ピッ
チ１４０μｍの良好な形状であった。

【００６６】次に、孔径１５０μｍの吐出孔を有する長
さ３ｍｍのニードルを５本、ピッチ４２０μｍで先端に
圧入したノズル（Ｌ／Ｄ＝２０）を用いて隔壁間に、赤
色、緑色、青色に発光する蛍光体粉末を含有する蛍光体
組成物を塗布し、乾燥することにより蛍光体層を形成し
て、プラズマディスプレイパネル用の背面板を得た。

【００６７】次に、この背面板と、対応するプラズマデ
ィスプレイパネル用の前面板とを貼り合わせ、封着、ガ
ス封入し、駆動回路を接続してプラズマディスプレイを
得た。このプラズマディスプレイは全面正常に点灯し
た。

【００６８】（実施例２）実施例１に使用した低軟化点
ガラス８０重量部と同じく実施例１に使用したフィラー
２０重量部を準備した。有機金属化合物としてジルコニ
ウムアセチルアセトネートビス（１，３−ブタンジオー
ル）（アセチルアセトン：配位座数２、炭素数５、；
１，３−ブタンジオール：配位座数１、炭素数４）を用
い、感光性ポリマーとして、後述するポリマーＢを、溶
媒としてベンジルアルコール（誘電率１３．１、ＳＰ値
１２．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力３８．９ｄｙ
ｎ／ｃｍ、双極子モーメント６６デバイ）とジエチレン
グリコール（誘電率３１．６９、ＳＰ値１２．１ｃａｌ
／ｃｍ）^1/2、表面張力４８．５ｄｙｎ／ｃｍ、双極子
モーメント３１デバイ）を１：１に混合したものを用い
感光性モノマーとして（三菱化成（株）製、”ダイヤビ
ームＵＫ−６０９８”、光重合開始剤として２−ベン
ジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフ
ェニル）−ブタノン−１、を用い、実施例１に倣って感
光性組成物を作成した。ここで感光性ポリマーＢは、メ
タクリル酸とメチルメタクリレートの共重合体で、その
平均分子量は２０，０００、酸価は１５０であった。溶
媒を除いた有機成分の配合割合は、感光性ポリマー３
３．９％、感光性モノマー１１．３％、光重合開始剤
６．８％、ゲル化防止剤４．５％、分散剤２．３％、重
合禁止剤０．２％、可塑剤６．８％、有機金属化合物３
４．２％であった。この有機ビヒクルは放置により析出
物を生じるので調製後１両日中にガラス粉末等と混練し
た。

【００６９】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末５５、フィラー１４、有機ビヒ
クル６２となり、有機ビヒクル中に焼成後に酸化物に変
換する有機金属化合物（ジルコニウムアセチルアセトネ
ートビス（１，３−ブタンジオール））をＺｒＯ₂換算
で３．５含んでいた。

【００７０】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例１の手順で作製した。有機ビヒクルには析出物
が見られたが、形成された隔壁の断面形状をＳＥＭで観
察したところ、高さ１０６μｍ、隔壁中央部の線幅３３
μｍ、ピッチ１４０μｍの良好な形状であった。このプ
ラズマディスプレイは全面正常に点灯した。

【００７１】（実施例３）実施例１に使用した低軟化点
ガラス９０重量部と同じく実施例１に使用したフィラー
１０重量部を準備した。有機金属化合物としてジルコニ
ウムペルオキソグルタミン酸二酢酸ビス（３，５−ジメ
チルピリジニウム）（グルタミン酸二酢酸：配位座数
４、炭素数９、３，５−ジメチルピリジン：配位座数
１、炭素数７（複塩））を用い、感光性ポリマーとして
後述する感光性ポリマーＣを、溶媒としてプロピオニト
リル（誘電率２９．７、ＳＰ値１０．８（ｃａｌ／ｃ
ｍ）^1/2、表面張力２．１９ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モー
メント３．５７デバイ）とホルムアミド（誘電率１．１
１、ＳＰ値１９．２（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力５
７．９１ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント３．３７デバ
イ）を１：２に混合したものを用いた。

【００７２】感光性モノマーとして（共栄社化学（株）
製、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキシ−３
−メタクリロキシプロピル）ポリオキシプロピレンジア
ミン）、光重合開始剤としてＡ：２−メチル−１［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン
−１−オンおよびＢ：ジエチルチオキサントンを用い、
実施例１に倣って感光性組成物を作成した。ここで用い
た感光性ポリマーＣは、メタクリル酸とメチルメタクリ
レートの共重合体のカルボキシル基に対して、次式で示
す脂環式エポキシ基を有するメタアクリレートを付加し
た（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリ
レートで、その平均分子量は１０，０００、酸価は７５
であった。

【００７３】

【化１】

【００７４】溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感光
性ポリマー２２．６％、感光性モノマー２２．６％、光
重合開始剤９．１％、（Ａ：６．１％、Ｂ：３．０
％））ゲル化防止剤４．５％、分散剤１．５％、重合禁
止剤０．３％、可塑剤３．０％、有機金属化合物３６．
３％であった。感光性組成物に含まれる各成分（重量
部）は、低軟化点ガラス粉末５４、フィラー６、有機ビ
ヒクル６８となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変
換する有機金属化合物（ジルコニウムペルオキソグルタ
ミン酸二酢酸ビス（３，５−ジメチルピリジニウム））
をＺｒＯ₂換算で３．６含んでいた。

【００７５】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
の隔壁を実施例１の手順で作製した。形成された隔壁の
断面形状をＳＥＭで観察したところ、高さ１１３μｍ、
隔壁中央部の線幅３０μｍ、ピッチ１４０μｍの良好な
形状であった。このプラズマディスプレイは全面正常に
点灯した。

【００７６】（実施例４）有機金属化合物としてナガセ
ケムテックス（株）製チタンペルオキソエチレンジアミ
ン四酢酸ジブチルアミネート（エチレンジアミン四酢
酸：配位座数５、炭素数６、ジブチルアミン：配位座数
１、炭素数８（複塩））を用い、感光性ポリマーとして
ポリマーＢを、溶媒としてジメチルホルムアミド（誘電
率３６．７１、ＳＰ値１２．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、
表面張力３５．２ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント３．
８６デバイ）を用いた以外は実施例１を繰り返した。溶
媒を除いた有機成分の配合割合は、ポリマー１８．０
％、感光性モノマー１２．０％、光重合開始剤２．４
％、ゲル化防止剤１．２％、分散剤１．２％、重合禁止
剤０．１％、可塑剤４．８％、有機金属化合物６０．２
％であった。

【００７７】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末３８、フィラー１６、有機ビヒ
クル６９となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換
する有機金属化合物（チタンペルオキソエチレンジアミ
ン四酢酸ジブチルアミネート）をＴｉＯ₂換算で５．４
含んでいた。

【００７８】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例１の手順で作製した。形成された隔壁の断面形
状をＳＥＭで観察したところ、高さ１０４μｍ、隔壁中
央部の線幅３４μｍ、ピッチ１４０μｍの良好な形状で
あった。このプラズマディスプレイは全面正常に点灯し
た。

【００７９】（実施例５）有機金属化合物としてジルコ
ニウムペルオキソエチレンジアミン四酢酸ピリジニウム
（エチレンジアミン四酢酸：配位座数５、炭素数６、ピ
リジン：配位座数１、炭素数５（複塩））を用い、感光
性ポリマーとして感光性ポリマーＡを、溶媒としてニト
ロメタン（誘電率３５．８７、ＳＰ値１２．７（ｃａｌ
／ｃｍ）^1/ ²、表面張力３７ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モー
メント３．４６デバイ）を用いた以外は実施例２を繰り
返した。溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感光性ポ
リマー１９．４％、感光性モノマー６．４％、光重合開
始剤３．９％、ゲル化防止剤２．６％、分散剤１．３
％、重合禁止剤０．１％、可塑剤３．９％、有機金属化
合物６２．３％であった。

【００８０】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末４５、フィラー１１、有機ビヒ
クル７０としなり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変
換する有機金属化合物（ジルコニウムペルオキソエチレ
ンジアミン四酢酸ピリジニウム）をＴｉＯ₂換算で８．
４含んでいた。

【００８１】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例１の手順で作製した。形成された隔壁の断面形
状をＳＥＭで観察したところ、高さ１００μｍ、隔壁中
央部の線幅３０μｍ、ピッチ１４０μｍの良好な形状で
あった。このプラズマディスプレイは全面正常に点灯し
た。

【００８２】（実施例６）有機金属化合物としてチタニ
ウムジアスパラギン酸（アスパラギン酸：配位座数３、
炭素数４）を用い、感光性ポリマーとして感光性ポリマ
ーＣを、溶媒としてγ−ブチロラクトン（誘電率３９、
ＳＰ値１２．６（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力４６ｄ
ｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント４．１２デバイ）を用い
た以外は実施例３を繰り返した。溶媒を除いた有機成分
の配合割合は、感光性ポリマー１２．５％、感光性モノ
マー１２．５％、光重合開始剤５．０％（Ａ：３．３
％、Ｂ：１．７％）、ゲル化防止剤２．５％、分散剤
０．８％、重合禁止剤０．２％、可塑剤１．７％、有機
金属化合物６４．９％であった。

【００８３】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末４１、フィラー５、有機ビヒク
ル８１となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換す
る有機金属化合物（チタニウムジアスパラギン酸）をＴ
ｉＯ₂換算で９．２含んでいた。

【００８４】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例１の手順で作製した。形成された隔壁の断面形
状をＳＥＭで観察したところ、高さ９６μｍ、隔壁中央
部の線幅３０μｍ、ピッチ１４０μｍの良好な形状であ
った。このプラズマディスプレイは全面正常に点灯し
た。

【００８５】（実施例７）有機金属化合物としてジルコ
ニウムトリリジン（リジン：配位座数２、炭素数６）を
用い、これを金属酸化物に換算して３重量部になるよう
用意した。

【００８６】感光性ポリマーとして感光性ポリマーＡ
を、溶媒としてジエチレングリコール（誘電率３１．６
９、ＳＰ値１２．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力４
８．５ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント２．３１デバ
イ）を用いた以外は実施例１を繰り返した。溶媒を除い
た有機成分の配合割合は、感光性ポリマー３２．６％、
感光性モノマー２１．７％、光重合開始剤４．３％、ゲ
ル化防止剤２．２％、分散剤２．２％、重合禁止剤０．
２％、可塑剤８．７％、有機金属化合物２８．１％であ
った。感光性組成物に含まれる各成分（重量部）は、低
軟化点ガラス粉末４７、フィラー２１、有機ビヒクル６
４となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換する有
機金属化合物（ジルコニウムトリリジン）をＺｒＯ₂換
算で２．１含んでいた。この有機ビヒクルには析出物が
見られた。

【００８７】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例１の手順で作製した。ここでフォトマスクは、
３００μｍピッチ、線幅３５μｍのネガ用のクロムマス
クを用いた。

【００８８】形成された隔壁の断面形状をＳＥＭで観察
したところ、高さ１２７μｍ、隔壁中央部の線幅４２μ
ｍ、ピッチ３００μｍであったが、表面凹凸が大きかっ
た。このプラズマディスプレイは全面点灯した。

【００８９】（実施例８）有機金属化合物としてナガセ
ケムテックス（株）製チタニウムペルオキソエチレンジ
アミン四酢酸ジブチルアミネート（エチレンジアミン四
酢酸：配位座数５、炭素数６、ジブチルアミン：配位座
数１、炭素数８（複塩））を用い、感光性ポリマーとし
てポリマーＢを、溶媒として３−メチル−３−メトキシ
ブタノール（誘電率１２．６、ＳＰ値９．２、表面張力
３１、双極子モーメント２．６８）とＮ−メチルピロリ
ドン（誘電率３２、ＳＰ値１１．３（ｃａｌ／ｃｍ）
^1/2、表面張力４１ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント
４．０９デバイ）を９８：２に混合したものを用いた以
外は実施例２を繰り返した。溶媒を除いた有機成分の配
合割合は、ポリマー１０．９％、感光性モノマー３．６
％、光重合開始剤２．２％、ゲル化防止剤１．４％、分
散剤０．７％、重合禁止剤０．１％、可塑剤２．２％、
有機金属化合物７８．９％であった。この有機ビヒクル
は放置により析出物を生じるのでガラス粉末との混練に
先立ち、加温、撹拌しておく必要があった。

【００９０】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末３４、フィラー８、有機ビヒク
ル７５となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換す
る有機金属化合物（チタニウムペルオキソエチレンジア
ミン四酢酸ジブチルアミネート）をＴｉＯ₂換算で６．
３含んでいた。

【００９１】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例７の手順で作製した。現像後、得られたパター
ンの表面には針状析出物が見られたがそのまま焼成する
ことができた。形成された隔壁の断面形状をＳＥＭで観
察したところ、高さ１０２μｍ、隔壁中央部の線幅３８
μｍ、ピッチ３００μｍの良好な形状であった。このプ
ラズマディスプレイは全面正常に点灯した。

【００９２】（実施例９）有機金属化合物としてジルコ
ニウムペルオキソニトリロトリス（メチレンリン酸）ピ
リジニウム（ニトリロトリス（メチレンリン酸）：配位
座数４、炭素数３、ピリジン：配位座数１、炭素数５
（複塩））を用い、感光性ポリマーとして感光性ポリマ
ーＢを、溶媒としてジメチルホルムアミド（誘電率３
６．７１、ＳＰ値１２．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面
張力３５．２ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント３．８６
デバイ）を用いた以外は実施例３を繰り返した。溶媒を
除いた有機成分の配合割合は、感光性ポリマー１２．１
％、感光性モノマー１２．１％、光重合開始剤４．９％
（Ａ：３．３、Ｂ：１．６）、ゲル化防止剤２．４％、
分散剤０．８％、重合禁止剤０．２％、可塑剤１．６
％、有機金属化合物６５．９％であった。

【００９３】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末４０、フィラー４、有機ビヒク
ル７８となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換す
る有機金属化合物（ジルコニウムペルオキソニトリロト
リス（メチレンリン酸）ピリジニウム（ニトリロトリス
（メチレンリン酸））をＺｒＯ₂換算で８．８含んでい
た。

【００９４】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例７の手順で作製した。形成された隔壁の断面形
状をＳＥＭで観察したところ、高さ１０５μｍ、隔壁中
央部の線幅４２μｍ、ピッチ３００μｍの良好な形状で
あった。このプラズマディスプレイは全面正常に点灯し
た。

【００９５】（実施例１０）有機金属化合物としてジル
コニウムベンゾイルアセトネートビス（１，３−ブタン
ジオール）（ベンゾイルアセトン：配位座数２、炭素数
１０、１，３−ブタンジオール：配位座数１、炭素数
４）を用い、感光性ポリマーとして感光性ポリマーＣ
を、溶媒としてイソブタノール（誘電率１７．９５、Ｓ
Ｐ値１０．５（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力２３ｄｙ
ｎ／ｃｍ、双極子モーメント１．７９デバイ）とジメチ
ルホルムアミド（誘電率３６．７１、ＳＰ値１２．１
（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力３５．２ｄｙｎ／ｃ
ｍ、双極子モーメント３．８６デバイ）を４：１に混合
したものを用いた以外は実施例１を繰り返した。溶媒を
除いた有機成分の配合割合は、感光性ポリマー３４．３
％、感光性モノマー２２．９％、光重合開始剤４．６
％、ゲル化防止剤２．３％、分散剤２．３％、重合禁止
剤０．２％、可塑剤９．２％、有機金属化合物２４．２
％であった。

【００９６】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末４９、フィラー２１、有機ビヒ
クル５１となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換
する有機金属化合物（ジルコニウムベンゾイルアセトネ
ートビス（１，３−ブタンジオール））をＺｒＯ₂換算
で２．１含んでいた。

【００９７】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例７の手順で作製した。この組成物膜は塗布ムラ
があったが、ストライプ状の隔壁を形成した。形成され
た隔壁の断面形状をＳＥＭで観察したところ、高さ１０
９μｍ、隔壁中央部の線幅３５μｍ、ピッチ２３０μｍ
で表面凹凸の大きい形状であった。このプラズマディス
プレイは全面点灯したが一部クロストークを生じてい
た。

【００９８】（実施例１１）有機金属化合物としてジル
コニウムアセチルアセトネートビス（アミノカプロン
酸）（アセチルアセトン：配位座数２、炭素数５、アミ
ノカプロン酸：配位座数１、炭素数６）を用い、感光性
ポリマーとして感光性ポリマーＢを、溶媒としてニトロ
エタン（誘電率２８．０６、ＳＰ値１１．１（ｃａｌ／
ｃｍ）^1/2、表面張力３１ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメ
ント３．７デバイ）を用いた以外は実施例２を繰り返し
た。溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感光性ポリマ
ー３１．５％、感光性モノマー１０．５％、光重合開始
剤６．３％、ゲル化防止剤４．２％、分散剤２．１％、
重合禁止剤０．２％、可塑剤６．３％、有機金属化合物
３８．７％であった。

【００９９】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末５４、フィラー１４、有機ビヒ
クル５１となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換
する有機金属化合物（ジルコニウムアセチルアセトネー
トビス（アミノカプロン酸））をＺｒＯ₂換算で３．４
含んでいた。この組成物は加温によりやや増粘の傾向が
あったため、乾燥中、系内をロータリーポンプで引き、
乾燥時間を４０分に短縮する必要があった。

【０１００】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
の隔壁を実施例１３の手順で作製した。形成された隔壁
の断面形状をＳＥＭで観察したところ、高さ１２７μ
ｍ、隔壁中央部の線幅３８μｍ、ピッチ２３０μｍの良
好な形状であった。このプラズマディスプレイは全面正
常に点灯した。

【０１０１】（実施例１２）有機金属化合物としてジル
コニウムジエチレントリアミン五酢酸ビス（ジプロピル
アミネート）（エチレントリアミン五酢酸：配位座数
６、炭素数１４、ジプロピルアミン：配位座数１、炭素
数６（複塩））を用い、感光性ポリマーとして感光性ポ
リマーＣを、溶媒としてγ−ブチロラクトン（誘電率３
９、ＳＰ値１２．６（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力４
６ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント４．１２デバイ）を
用いた以外は実施例３を繰り返した。

【０１０２】溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感光
性ポリマー１９．９％、感光性モノマー１９．９％、光
重合開始剤８．０％（Ａ：５．３％、Ｂ：２．７％）、
ゲル化防止剤４．０％、分散剤１．３％、重合禁止剤
０．３％、可塑剤２．７％、有機金属化合物４４．０％
であった。

【０１０３】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末５１、フィラー６、有機ビヒク
ル５１となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換す
る有機金属化合物（ジルコニウムジエチレントリアミン
五酢酸ビス（ジプロピルアミネート））をＺｒＯ₂換算
で４含んでいた。

【０１０４】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
の隔壁を実施例１３の手順で作製した。形成された隔壁
の断面形状をＳＥＭで観察したところ、高さ１１２μ
ｍ、隔壁中央部の線幅３４μｍ、ピッチ２３０μｍの良
好な形状であった。このプラズマディスプレイは全面正
常に点灯した。

【０１０５】（実施例１３）有機金属化合物としてジル
コニウムペルオキソビス（ニトリロ三酢酸）ビス（イソ
ブチルアミネート）（ニトリロ三酢酸：配位座数３、炭
素数６、イソブチルアミン：配位座数１、炭素数４（複
塩））を用い感光性ポリマーとして感光性ポリマーＡ
を、溶媒としてジメチルホルムアミド（誘電率３６．７
１、ＳＰ値１２．１（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力３
５．２ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント３．８６デバ
イ）を用いた以外は実施例１を繰り返した。

【０１０６】溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感光
性ポリマー１７．４％、感光性モノマー１１．６％、光
重合開始剤２．３％、ゲル化防止剤１．２％、分散剤
１．２％、重合禁止剤０．１％、可塑剤４．６％、有機
金属化合物６１．５％であった。

【０１０７】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末３８、フィラー１６、有機ビヒ
クル５５となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換
する有機金属化合物（ジルコニウムペルオキソビス（ニ
トリロ三酢酸）ビス（イソブチルアミネート））をＺｒ
Ｏ₂換算で５．４含んでいた。

【０１０８】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例１３の手順で作製した。形成された隔壁の断面
形状をＳＥＭで観察したところ、高さ１０７μｍ、隔壁
中央部の線幅３７μｍ、ピッチ２３０μｍの良好な形状
であった。このプラズマディスプレイは全面正常に点灯
した。

【０１０９】（実施例１４）有機金属化合物としてチタ
ニウムグルタミン酸二酢酸ビス（３，５−ジメチルピリ
ジニウム）（グルタミン酸二酢酸：配位座数４、炭素数
９、３，５−ジメチルピリジン：配位座数１、炭素数７
（複塩））を用い、感光性ポリマーとして感光性ポリマ
ーＢを、溶媒としてＮ−メチルピロリドン（誘電率３
２、ＳＰ値１１．３（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力４
１ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント４．０９デバイ）を
用いた以外は実施例２を繰り返した。溶媒を除いた有機
成分の配合割合は、感光性ポリマー１３．２％、感光性
モノマー４．４％、光重合開始剤２．６％、ゲル化防止
剤１．８％、分散剤０．９％、重合禁止剤０．１％、可
塑剤２．６％、有機金属化合物７４．３％であった。

【０１１０】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末３７、フィラー９、有機ビヒク
ル６８となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換す
る有機金属化合物（チタニウムグルタミン酸二酢酸ビス
（３，５−ジメチルピリジニウム））をＴｉＯ₂換算で
６．９含んでいた。

【０１１１】この組成物を用いてプラズマディスプレイ
を実施例１３の手順で作製した。形成された隔壁の断面
形状をＳＥＭで観察したところ、高さ９８μｍ、隔壁中
央部の線幅３９μｍ、ピッチ２３０μｍの良好な形状で
あった。このプラズマディスプレイは全面正常に点灯し
た。

【０１１２】（実施例１５）有機金属化合物としてジル
コニウムペルオキソジエチレントリアミン五酢酸トリス
（イソブチルアミネート）（ジエチレントリアミン五酢
酸：配位座数５、炭素数１４、イソブチルアミン：配位
座数１、炭素数４（複塩））を用い、感光性ポリマーと
して感光性ポリマーＡを、溶媒としてヘキサメチルリン
酸トリアミド（誘電率２９．６、ＳＰ値１０．５（ｃａ
ｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力３３．８ｄｙｎ／ｃｍ、双極
子モーメント４．３１デバイ）を用いた以外は実施例３
を繰り返した。溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感
光性ポリマー８．９％、感光性モノマー８．９％、光重
合開始剤３．６％（Ａ：２．４％、Ｂ：１．２％）、ゲ
ル化防止剤１．８％、分散剤０．６％、重合禁止剤０．
１％、可塑剤１．２％、有機金属化合物７４．９％であ
った。

【０１１３】感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末３４、フィラー４、有機ビヒク
ル７４となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換す
る有機金属化合物（ジルコニウムペルオキソジエチレン
トリアミン五酢酸トリス（イソブチルアミネート））を
ＺｒＯ₂換算で７．６含んでいた。この組成物は放置に
より一部分層するので一両日中に塗布する必要があっ
た。塗布膜はやや不均質であった。この組成物を用いて
プラズマディスプレイを実施例１３の手順で作製した。
形成された隔壁の断面形状をＳＥＭで観察したところ、
高さ１０２μｍ、隔壁中央部の線幅３２μｍ、ピッチ２
３０μｍで、表面凹凸の大きい形状であった。このプラ
ズマディスプレイは全面点灯したが一部にクロストーク
を生じていた。

【０１１４】（比較例１）有機金属化合物としてテトラ
オクチル酸ジルコニウム（オクチル酸：配位座数１、炭
素数８、第一稀元素化学工業（株）製）を用い、感光性
ポリマーとして感光性ポリマーＢを、溶媒として３−メ
チル−３−メトキシブタノール（誘電率１２．６、ＳＰ
値９．２（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力３１ｄｙｎ／
ｃｍ、双極子モーメント２．６８デバイ）を用いた以外
は実施例１を繰り返した。溶媒を除いた有機成分の配合
割合は、感光性ポリマー３０．４％、感光性モノマー２
０．２％、光重合開始剤４．０％、ゲル化防止剤２．０
％、分散剤２．０％、重合禁止剤０．２％、可塑剤８．
１％、有機金属化合物３３．０％とした。感光性組成物
に含まれる各成分（重量部）は、低軟化点ガラス粉末４
７、フィラー２０、有機ビヒクル５３となり、有機ビヒ
クル中焼成後に酸化物に変換する有機金属化合物（テト
ラオクチル酸ジルコニウム）をＺｒＯ₂換算で２含んで
いた。

【０１１５】この組成物は、有機ビヒクル作成中にゲル
化が進行し、所望の感光性組成物を得ることはできなか
った。

【０１１６】（比較例２）有機金属化合物としてチタニ
ウムトリイソステアレートイソプロポキサイド（イソス
テアリン酸：配位座数１、炭素数１８、松本製薬工業
（株）製）を用い、感光性ポリマーとして感光性ポリマ
ーＡを、溶媒としてエチレングリコールモノエチルエー
テルアセテート（誘電率７．５７、ＳＰ値８．８（ｃａ
ｌ／ｃｍ）^1/ ²、表面張力２８．２ｄｙｎ／ｃｍ、双極
子モーメント２．２５デバイ）を用いた以外は実施例２
を繰り返した。溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感
光性ポリマー１６．８％、感光性モノマー５．６％、光
重合開始剤３．４％、ゲル化防止剤１６．８％、分散剤
１．１％、重合禁止剤０．１％、可塑剤３．４％、有機
金属化合物６７．３％とした。感光性組成物に含まれる
各成分（重量部）は、低軟化点ガラス粉末４２、フィラ
ー１１、有機ビヒクル７１となり、有機ビヒクル中焼成
後に酸化物に変換する有機金属化合物（チタニウムトリ
イソステアレートイソプロポキサイド）をＴｉＯ ₂換算
で２．７含んでいた。

【０１１７】この組成物は有機ビヒクルが分層し、さら
に低軟化点ガラス粉末の沈降が著しいため、感光性組成
物は塗布中に分層し、むらが生じてしまった。さらに露
光・現像を行ったが、感光しない部分があり、隔壁を形
成することはできなかった。

【０１１８】（比較例３）有機金属化合物としてジルコ
ニウムエチレンジアミン四酢酸（エチレンジアミン四酢
酸：配位座数６、炭素数１０）を用い、感光性ポリマー
として感光性ポリマーＣを、溶媒としてエタノール（誘
電率２３．８、ＳＰ値１２．７（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、
表面張力２２．１ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント１．
６８デバイ）を用いた以外は実施例３を繰り返した。

【０１１９】溶媒を除いた有機成分の配合割合は、感光
性ポリマー２６．８％、感光性モノマー２６．８％、光
重合開始剤１０．７％（Ａ：７．１、Ｂ：３．６％）、
ゲル化防止剤５．４％、分散剤１．８％、重合禁止剤
０．４％、可塑剤３．６％、有機金属化合物２４．６％
であった。感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末５８、フィラー６、有機ビヒク
ル６５となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換す
る有機金属化合物（ジルコニウムエチレンジアミン四酢
酸）をＺｒＯ₂換算で３．８含んでいた。

【０１２０】この組成物は溶媒の乾燥速度が大きいこと
と、有機金属化合物の溶解性が低いために組成物の表面
から結晶の析出が見られた。また、塗布工程において、
著しい粘度の上昇が見られ、加工できなかった。

【０１２１】（比較例４）有機金属化合物としてチタン
ペルオキソクエン酸アンモニウム四水和物（クエン酸：
配位座数４、炭素数６、アンモニア：配位座数１、炭素
数０（複塩）フルウチ化学（株）製”ＴＡＳ・ＦＩＮ
Ｅ”Ｔｉ−２０％粉末）用い、感光性ポリマーとして感
光性ポリマーＡを、溶媒としてＮ−メチルピロリドン
（誘電率３２、ＳＰ値１１．３（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、
表面張力４１ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント４．０９
デバイ）を用いた以外は実施例１を繰り返した。溶媒を
除いた有機成分の配合割合は、感光性ポリマー１２．７
％、感光性モノマー８．５％、光重合開始剤１．７％、
ゲル化防止剤０．８％、分散剤０．８％、重合禁止剤
０．１％、可塑剤３．４％、有機金属化合物７２．０％
であった。感光性組成物に含まれる各成分（重量部）
は、低軟化点ガラス粉末５８、フィラー６、有機ビヒク
ル４９となり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換す
る有機金属化合物（チタンペルオキソクエン酸アンモニ
ウム四水和物）をＴｉＯ₂換算で３．８含んでいた。

【０１２２】この組成物は有機ビヒクル中に有機金属化
合物が溶解しないため、感光性組成物を作製し、露光・
現像によってパターン加工可能な条件を見出そうとした
が、不溶物が散乱源となって感光部が広がり、パターン
加工できなかった。

【０１２３】（比較例５）有機金属化合物としてジルコ
ニウムテトラオクチレート（オクチル酸：配位座数１、
炭素数８）を用い、感光性ポリマーとして感光性ポリマ
ーＣを、溶媒としてイソブタノール（誘電率１７．９
５、ＳＰ値１０．５（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力２
３ｄｙｎ／ｃｍ、双極子モーメント１．７９デバイ）と
ニトロメタン（誘電率３５．８７、ＳＰ値１２．７（ｃ
ａｌ／ｃｍ）^1/2、表面張力３７ｄｙｎ／ｃｍ、双極子
モーメント３．４６デバイ）を１：９に混合したものを
用いた以外は実施例２を繰り返した。溶媒を除いた有機
成分の配合割合は、感光性ポリマー１３．６％、感光性
モノマー４．５％、光重合開始剤２．７％、ゲル化防止
剤１．８％、分散剤０．９％、重合禁止剤０．１％、可
塑剤２．７％、有機金属化合物７３．７％であった。

【０１２４】低軟化点ガラス粉末、フィラーと有機ビヒ
クルを３本ローラーで混合・分散して感光性組成物を得
た。感光性組成物に含まれる各成分（重量部）は、低軟
化点ガラス粉末３８、フィラー９、有機ビヒクル７４と
なり、有機ビヒクル中焼成後に酸化物に変換する有機金
属化合物（ジルコニウムテトラオクチレート）をＺｒＯ
₂換算で７．１含んでいた。

【０１２５】この組成物は、有機ビヒクル作成中にゲル
化が進行し、所望の感光性組成物を得ることはできなか
った。

【０１２６】

【発明の効果】本発明の組成物は、配位座数が２以上の
多座配位子と炭素数が４以上の配位子を有する有機金属
化合物を含むので、中心金属の反応活性を立体的に抑制
でき、広範な極性溶媒と組み合わせて、有機金属化合物
が析出しない範囲で任意の量に混合し均質な組成物を得
ることができた。

【０１２７】また、この組成物は焼成により金属酸化物
を含む組織を形成するので、薄膜または多孔質膜の形
成、およびガラスまたはセラミックス材料中への金属酸
化物を含む金属酸化物の凝集構造の導入が可能となり、
加熱後の組織の化学的特性を任意に調整した膜状組織も
しくは構造体を得ることが可能となった。さらに、有機
金属化合物を利用したフォトリソグラフィー法等による
ディスプレイ部材や光触媒膜、アクチュエータ、アレイ
型素子等の加工が可能となった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】配位座数が２以上の多座配位子と炭素数が
４以上の配位子を有する有機金属化合物を含むことを特
徴とする組成物。
【請求項２】誘電率が３０〜５０の有機溶媒を含有する
ことを特徴とする請求項１記載の組成物。
【請求項３】ＳＰ値が１２〜２０（ｃａｌ／ｃｍ）^1/2
の有機溶媒を含有することを特徴とする請求項１記載の
組成物。
【請求項４】表面張力が３０〜６０ｄｙｎ／ｃｍの有機
溶媒を含有することを特徴とする請求項１記載の組成
物。
【請求項５】双極子モーメントが３〜５デバイの溶媒を
含有することを特徴とする請求項１記載の組成物。
【請求項６】有機金属化合物の中心金属のモル数と有機
溶媒のモル数の比が１：４よりも有機溶媒が多いことを
特徴とする請求項１記載の組成物。
【請求項７】組成物中に有機金属化合物が５〜８０重量
％含まれることを特徴とする請求項１記載の組成物。
【請求項８】請求項１〜７のいずれかに記載の組成物を
塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターン加工し
た後、焼成することによって構造体が形成されることを
特徴とするディスプレイ部材の製造方法。
【請求項９】請求項１〜７のいずれかに記載の組成物を
基板上に塗布し、焼成する工程を含むことを特徴とする
ディスプレイ部材の製造方法。
【請求項１０】請求項１〜７のいずれかに記載の組成物
を用いたことを特徴とするディスプレイ。