JP2015513540A - 電子ビーム、ディープuvおよび極短uvフォトレジスト用途の有機共配位子を含む金属ペルオキソ化合物 - Google Patents
電子ビーム、ディープuvおよび極短uvフォトレジスト用途の有機共配位子を含む金属ペルオキソ化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015513540A JP2015513540A JP2014558230A JP2014558230A JP2015513540A JP 2015513540 A JP2015513540 A JP 2015513540A JP 2014558230 A JP2014558230 A JP 2014558230A JP 2014558230 A JP2014558230 A JP 2014558230A JP 2015513540 A JP2015513540 A JP 2015513540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- composition
- integer
- photoresist layer
- charge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 228
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 239000003446 ligand Substances 0.000 title abstract description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 111
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- CXKRDMQZBMZKKJ-UHFFFAOYSA-N arsine oxide Chemical compound [AsH3]=O CXKRDMQZBMZKKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- MDDUHVRJJAFRAU-YZNNVMRBSA-N tert-butyl-[(1r,3s,5z)-3-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxy-5-(2-diphenylphosphorylethylidene)-4-methylidenecyclohexyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C1[C@@H](O[Si](C)(C)C(C)(C)C)C[C@H](O[Si](C)(C)C(C)(C)C)C(=C)\C1=C/CP(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MDDUHVRJJAFRAU-YZNNVMRBSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 60
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 46
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 40
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 32
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 20
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 claims description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 13
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M Glycolate Chemical compound OCC([O-])=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N Titanium ion Chemical compound [Ti+4] LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 claims description 3
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 claims description 2
- 230000036571 hydration Effects 0.000 claims description 2
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 claims description 2
- QUWPZPLTANKXAM-UHFFFAOYSA-N niobium(5+) Chemical compound [Nb+5] QUWPZPLTANKXAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 106
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 34
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- -1 carboxylate ions Chemical class 0.000 description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 230000008859 change Effects 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WTKKCYNZRWIVKL-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta+5] WTKKCYNZRWIVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 10
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 9
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 7
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000025 interference lithography Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- UHKJHMOIRYZSTH-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OCC UHKJHMOIRYZSTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 3
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 3
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 125000001273 sulfonato group Chemical class [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 2
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004707 phenolate Chemical class 0.000 description 2
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloroquinoxaline-6-carbonyl chloride Chemical compound N1=C(Cl)C(Cl)=NC2=CC(C(=O)Cl)=CC=C21 NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBHMMRHZYYAJAW-UHFFFAOYSA-N 4-(2-ethylphenyl)phenol Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 RBHMMRHZYYAJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLAQXRONBVEWMK-UHFFFAOYSA-N 4-[(2-hydroxyphenyl)-(4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl)methyl]-2,3,6-trimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C(=CC=CC=2)O)C=2C(=C(C)C(O)=C(C)C=2)C)=C1C CLAQXRONBVEWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNICUQBUXHBYCH-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C(=CC=CC=2)O)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C YNICUQBUXHBYCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMCUJWGUNKCREZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 BMCUJWGUNKCREZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWCUWADOIBLGAU-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[2-(2,4-dihydroxyphenyl)propan-2-yl]-2-hydroxy-5-methylphenyl]propan-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound C=1C(C)=CC(C(C)(C)C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1O TWCUWADOIBLGAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBFWOUJDPJACIQ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-[1,1-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)ethyl]phenyl]propan-2-yl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C=2C=C(C)C(O)=CC=2)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 QBFWOUJDPJACIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIDYFHJPUCRHJY-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-[2-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl]phenyl]propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 SIDYFHJPUCRHJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVLYIHYVIMGFNV-UHFFFAOYSA-N 4-[[2-hydroxy-5-methyl-3-[(2,3,4-trihydroxyphenyl)methyl]phenyl]methyl]benzene-1,2,3-triol Chemical compound OC=1C(CC=2C(=C(O)C(O)=CC=2)O)=CC(C)=CC=1CC1=CC=C(O)C(O)=C1O FVLYIHYVIMGFNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXBUEKCCOHOCGJ-UHFFFAOYSA-N 4-[[3-[(2,4-dihydroxy-5-methylphenyl)methyl]-2-hydroxy-5-methylphenyl]methyl]-6-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound OC=1C(CC=2C(=CC(O)=C(C)C=2)O)=CC(C)=CC=1CC1=CC(C)=C(O)C=C1O ZXBUEKCCOHOCGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBDYXGSGBKXKIL-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-hydroxy-3-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-5-methylphenyl]methyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(CC=2C=C(CC=3C=C(C)C(O)=C(C)C=3)C(O)=C(C)C=2)=C1 LBDYXGSGBKXKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFUILMHBCVIMK-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]benzene-1,2-diol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(O)C(O)=CC=2)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 UWFUILMHBCVIMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003811 SiGeC Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007171 acid catalysis Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- ZXKINMCYCKHYFR-UHFFFAOYSA-N aminooxidanide Chemical compound [O-]N ZXKINMCYCKHYFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003927 aminopyridines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229960004424 carbon dioxide Drugs 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010382 chemical cross-linking Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- FWKGEANWQNXYRM-UHFFFAOYSA-N ethyl n-[6-(ethoxycarbonylamino)hexyl]carbamate Chemical compound CCOC(=O)NCCCCCCNC(=O)OCC FWKGEANWQNXYRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002171 ethylene diamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229940083124 ganglion-blocking antiadrenergic secondary and tertiary amines Drugs 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940049920 malate Drugs 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- ZTEHTGMWGUKFNE-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[[2-(diaminomethylideneamino)-1,3-thiazol-4-yl]methylsulfanyl]propanimidate Chemical compound COC(=N)CCSCC1=CSC(N=C(N)N)=N1 ZTEHTGMWGUKFNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003791 organic solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- CFZKDDTWZYUZKS-UHFFFAOYSA-N picoline N-oxide Chemical compound CC1=CC=CC=[N+]1[O-] CFZKDDTWZYUZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical class N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILVXOBCQQYKLDS-UHFFFAOYSA-N pyridine N-oxide Chemical compound [O-][N+]1=CC=CC=C1 ILVXOBCQQYKLDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N quinolin-2-ol Chemical compound C1=CC=C2NC(=O)C=CC2=C1 LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000002110 toxicologic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000027 toxicology Toxicity 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0042—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
- C07C59/01—Saturated compounds having only one carboxyl group and containing hydroxy or O-metal groups
- C07C59/08—Lactic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/28—Titanium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Abstract
【課題】電子ビーム、深UVおよび極UVフォトレジスト用途の有機補助配位子を含む金属ペルオキソ化合物を提供する。【解決手段】下記式(3)を有する組成物。[C’]k[Ta(O2)x(L’)y](3)、(上記式中、xは1〜4の整数であり、yは1〜4の整数であり、Ta(O2)x(L’)yは0〜−3の電荷を有し、C’は+1〜+3の電荷を有する対イオンであり、kは0〜3の整数であり、L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む。)を開示する。本組成物は、高解像度フォトレジストとして有用である。【選択図】図1
Description
本発明は、概ねリソグラフィによるパターニング法および半導体製造の分野に関する。さらに詳しくは本発明は、リソグラフィによるフォトレジスト・プロセスにおける、ペルオキソ官能基および有機官能基と結合した無機材料の使用に関する。本発明はまたリソグラフィによる金属酸化物のパターニングに関する。
極短紫外線(EUV)リソグラフィを行うには、適合性のあるフォトレジストの現像を16nm未満の空間分解能でできる必要がある。現在、従来の化学増幅型(CA)フォトレジストについては、次世代装置に見合った分解能仕様、フォトスピードおよびフィーチャの粗さ(ライン・エッジ・ラフネス、またはLERと呼ばれる)を満たすよう努力がなされている(非特許文献1)。こうしたポリマー・フォトレジストで起こる酸触媒反応に起因する固有の画像のボケが小さなフィーチャ・サイズでの分解能を制限することは、電子ビーム(eビーム)リソグラフィで何年も前から知られている。CAフォトレジストは、高感度用に設計されるが、EUV露光では不利な場合がある。1つにはその典型的な元素組成(主にC、他に少量のO、F、S)によりフォトレジストが13.5nmの波長で透明になりすぎ、その結果感度が低下するためである。CAフォトレジストはさらに小さなフィーチャ・サイズでの粗さの問題も免れず、いくつかの実験からは、1つには酸触媒プロセスの性質のため、露光速度が低下するとLERが増大することが示されている。CAフォトレジストの欠点および問題により、半導体産業では新しい種類の高性能フォトレジストが求められている。無機フォトレジストはそうした候補の1つである。
従来、タングステンのペルオキソポリ酸、およびタングステンとニオブ、チタンもしくはタンタルまたはそれらすべてとの混合物のペルオキソポリ酸に基づく無機フォトレジストが、パターニングのための放射線感受性材料として報告されてきた(Kudoらの特許文献1、1991年;(非特許文献2))。これらの材料は、二重層構造体においてディープUV源、X線源およびeビーム源で大きなフィーチャをパターン化するのに有効であった。最近になって、ペルオキソ錯化剤を含むカチオン性ハフニウム金属オキシドサルフェート(HfSOx)材料を用いて投影EUV露光で15nmハーフ・ピッチ(HP)を結像する、素晴らしい性能が示された(Keszlerらの特許文献2、2011年および(非特許文献3))。この系は、非CAフォトレジストの最良の性能を立証したもので、実用的なEUVフォトレジストの要求に近い露光速度を有する。
Anderson,C.N.;Baclea−An,L.−M.;Denham,P.;George,S.;Goldberg,K.A.;Jones,M.S.;Smith,S.S.;Wallow,T.I.;Montgomery,M.W.;Naulleau,P.,Proc.SPIE 7969,79690R(2011)
H.Okamoto,T.Iwayanagi,K.Mochiji,H.Umezaki,T.Kudo,Applied Physics Letters,49(5),298−300,1986
J.K.Stowers,A.Telecky,M.Kocsis,B.L.Clark,D.A.Keszler,A.Grenville,C.N.Anderson,P.P.Naulleau,Proc.SPIE,7969,796915,2011
ペルオキソ錯化剤を含むハフニウム金属オキシドサルフェート材料には、いくつかの実用上の欠点がある。第1に本材料は、腐食性の強い硫酸/過酸化水素混合物からキャストされるので、保存安定性に関してかなりの問題を示す。第2に、本材料は特性評価が十分に行われていない複雑な混合物であり、その構造を修飾して性能を高めるための明確な経路がない。第3に、本材料は、最大25重量パーセント(wt%)の極めて高い濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)溶液で現像しなければならない。これは、大きな毒性学的懸念になる。最後に、まだ開発中ではあるが、こうしたクラスの材料のいずれかが必ず、感度およびライン・エッジ・ラフネスのように分野でEUVの性能要求を十分に満たすことができるかは不明である。
このため、EUVリソグラフィに対してより好ましい特性、以下に限定されるものではないが、好適なキャスト溶媒への溶解度、好適な現像液への溶解度、EUVに対する高感度、および膜形成もしくは露光またはその両方の後の熱処理との適合性を有する無機化合物が求められている。
したがって、下記式(3)の組成物が開示される。
[C’]k[Ta(O2)x(L’)y] (3)
(上記式中、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
Ta(O2)x(L’)yは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基である。)
[C’]k[Ta(O2)x(L’)y] (3)
(上記式中、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
Ta(O2)x(L’)yは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基である。)
さらに、上述の組成物を含むフォトレジスト組成物であって、eビーム・リソグラフィ、x線リソグラフィ、もしくは10nm〜400nmの間にある波長を有する紫外線照射源を利用したリソグラフィまたはそれらすべてに好適なフォトレジスト組成物が開示される。
さらに、
溶媒と、
下記式(1)に記載の構造を有するペルオキソ錯体
[C’]k[M’w(O2)x(L’)yOu] (1)
(上記式中、
wは1または2であり、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
uは0または1であり、
M’w(O2)x(L’)yOuは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基である。)と
を含むフォトレジスト組成物が開示される。
溶媒と、
下記式(1)に記載の構造を有するペルオキソ錯体
[C’]k[M’w(O2)x(L’)yOu] (1)
(上記式中、
wは1または2であり、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
uは0または1であり、
M’w(O2)x(L’)yOuは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基である。)と
を含むフォトレジスト組成物が開示される。
i)
溶媒と、
下記式(1)に記載の構造を有するペルオキソ錯体
[C’]k[M’w(O2)x(L’)yOu] (1)
(上記式中、
wは1または2であり、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
uは0または1であり、
M’w(O2)x(L’)yOuは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基である。)と
を含むフォトレジスト組成物を調製すること;
ii) フォトレジスト組成物を基板の表面上に設け、溶媒を除去することで、基板上に設けられたフォトレジスト層を形成すること;
iii) フォトレジスト層をeビーム照射、X線照射および紫外線(UV)照射からなる群から選択される照射で画像に応じて露光すること;および
iv) 露光されたフォトレジスト層を水性現像液もしくは有機現像液またはその両方で現像することにより、基板上に設けられたパターン化されたフォトレジスト層であって、露光されたフォトレジストを含む表面フィーチャを含むパターン化されたフォトレジスト層を含む層構造を形成すること
を含む方法が開示される。
溶媒と、
下記式(1)に記載の構造を有するペルオキソ錯体
[C’]k[M’w(O2)x(L’)yOu] (1)
(上記式中、
wは1または2であり、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
uは0または1であり、
M’w(O2)x(L’)yOuは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基である。)と
を含むフォトレジスト組成物を調製すること;
ii) フォトレジスト組成物を基板の表面上に設け、溶媒を除去することで、基板上に設けられたフォトレジスト層を形成すること;
iii) フォトレジスト層をeビーム照射、X線照射および紫外線(UV)照射からなる群から選択される照射で画像に応じて露光すること;および
iv) 露光されたフォトレジスト層を水性現像液もしくは有機現像液またはその両方で現像することにより、基板上に設けられたパターン化されたフォトレジスト層であって、露光されたフォトレジストを含む表面フィーチャを含むパターン化されたフォトレジスト層を含む層構造を形成すること
を含む方法が開示される。
さらに、フォトレジスト組成物であって、
チタン(IV)、ニオブ(V)およびタンタル(V)からなる群から選択される金属イオンを含む金属塩;
金属イオンのモル数に対して0.5〜3.0モル当量の量の有機カルボン酸;
金属イオンのモル数に対して1.0〜10.0モル当量の量の過酸化水素;および
溶媒
を含むフォトレジスト組成物が開示される。
チタン(IV)、ニオブ(V)およびタンタル(V)からなる群から選択される金属イオンを含む金属塩;
金属イオンのモル数に対して0.5〜3.0モル当量の量の有機カルボン酸;
金属イオンのモル数に対して1.0〜10.0モル当量の量の過酸化水素;および
溶媒
を含むフォトレジスト組成物が開示される。
当業者であれば、以下の詳細な説明、図面および添付の特許請求の範囲から本発明の上述および他の特徴と利点を認識および理解するであろう。
本発明は、有機共配位子を含む金属ペルオキソ錯体がリソグラフィ・プロセスに好ましい特性を有するという発見に基づく。ペルオキソ錯体を含むフォトレジスト組成物は、水溶液から高品質膜としてキャストして薄い均一なフォトレジスト層を形成することができる。画像に応じたフォトレジスト層の露光は、eビーム照射、X線照射、もしくは400nm〜10nm、200nm〜20nm、好ましくは121nm〜5nm(極短紫外線(EUV)波長)の範囲の波長を有する紫外線照射またはそれらすべてを用いて行うことができる。実施形態の1つでは、露光は13.5nmのEUV波長を使用して行われる。フォトレジスト層の露光された領域は、露光されなかった領域と比較して現像液に溶けにくくなる(すなわち、フォトレジスト層はネガティブ・ワーキングである)。露光されたフォトレジスト層の現像は、標準的な水性塩基現像液(たとえば、0.26Nの水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)溶液)または単に水を用いて行うことができる。得られたレリーフパターンは、露光されたフォトレジストからなるフィーチャを含む。レリーフ画像は、公知の技術を用いて下地基板に転写することができる。
金属ペルオキソ錯体は、炭素およびケイ素系ポリマーよりEUVの吸収率が高いTaなどの元素を含む(B.L.Henke,E.M.Gullikson,and J.C.Davis.Atomic Data and Nuclear Data Tables Vol.54,181−342(1993))。有機共配位子(単数または複数)を用いると、性能特性(たとえば、感度および分解能)および処理特性(たとえば、安定性、膜形成挙動、成膜および現像条件)を調整することができる。たとえば、[NH4]3[Ta(O2)4]は、結晶化しやすいので溶液から薄膜としてキャストしにくい。1当量のシュウ酸を共配位子として添加すると、水溶液からキャストできる材料が得られる。
ペルオキソ錯体は、1〜6の結合価を有する金属イオンM’と、2の結合価を有するペルオキソ配位子(O2 −2、本明細書の以下の式ではO2と記載)と、2の結合価を有する任意のオキシド配位子(O−2、本明細書の以下の式ではOと記載)と、0〜−4の電荷および0〜6の結合価を有する少なくとも1つの有機配位子L’とを含む。
実施形態の1つでは、ペルオキソ錯体は、下記式(1)に記載の構造であり、
[C’]k[M’w(O2)x(L’)yOu] (1)
式中、
wは1または2であり、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
uは0または1であり、
[M’w(O2)x(L’)yOu]は0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む構造を有する。ここでカルボキシレートはRCO2 −官能基を含み、アルコキシドはRO−官能基を含み、式中、Rは少なくとも1個の炭素を含む。アミンは、第一級アミン、第二級アミンもしくは第三級アミンまたはそれらすべてを含む。
[C’]k[M’w(O2)x(L’)yOu] (1)
式中、
wは1または2であり、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
uは0または1であり、
[M’w(O2)x(L’)yOu]は0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む構造を有する。ここでカルボキシレートはRCO2 −官能基を含み、アルコキシドはRO−官能基を含み、式中、Rは少なくとも1個の炭素を含む。アミンは、第一級アミン、第二級アミンもしくは第三級アミンまたはそれらすべてを含む。
カルボキシレート・イオンもしくはアルコキシド・イオンまたはその両方を含む有機配位子の非限定的な例として、乳酸、グリコール酸、クエン酸、マロン酸、リンゴ酸、酒石酸、ピリジン−2−カルボン酸、ピラジン−2−カルボン酸、ピリジン−2,6−ジカルボン酸、イミノ二酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、キノリノールおよびこれらの組み合わせの脱プロトン体が挙げられる。
アミンを含む有機配位子の非限定的な例として、上述のアミン、アニリン、ピリジン、ビピリジン、エチレンジアミン、アミノピリジン、o−フェナントロリンおよびこれらの組み合わせが挙げられる。
アミンオキシドを含む有機配位子の非限定的な例として、ピリジンN−オキシド、ピコリンN−オキシドおよびこれらの組み合わせが挙げられる。
ホスフィン有機配位子の非限定的な例にはトリフェニルホスフィンがある。
ホスフィンオキシド有機配位子の非限定的な例にはトリフェニルホスフィンオキシドがある。
アルシンオキシド有機配位子の非限定的な例にはトリフェニルアルシンオキシドがある。
ペルオキソ錯体の結晶形は任意に、水和の1〜10個の水分子をさらに含む。
式(1)の非限定的なペルオキソ錯体として、[NH4]4[Ta2(O2)2(C3H4O3)4O]、[NH4]4[Ta2(O2)2(C2H2O3)4O]、および[NH4]4[Nb2(O2)2(C3H4O3)4O]が挙げられる。ペルオキソ錯体は組み合わせて使用してもよい。様々な配位子および対イオンの電荷は示していない。
より具体的なペルオキソ錯体は1つの金属中心を含み、下記式(2)で示される。
[C’]k[M’(O2)x(L’)y] (2)
上記式中、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
[M’w(O2)x(L’)y]は0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる金属の群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む。
[C’]k[M’(O2)x(L’)y] (2)
上記式中、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
[M’w(O2)x(L’)y]は0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる金属の群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む。
一実施形態では、式(2)のM’はタンタル(V)(+5酸化状態タンタル)、C’はアンモニウム(NH4 +、式中、電荷のないNH4とも記載される)であり、L’はオキサレート(C2O4 −2、どちらの酸性基も脱プロトンされており、式中、C2O4とも記載される)、マロナート(C3H2O4 −2、どちらの酸性基も脱プロトンされており、式中、C3H2O4とも記載される)、マラート(C4H3O5 −3、2つの酸性基およびヒドロキシ基は脱プロトンされており、式中、C4H3O5とも記載される)、ラクテート(C3H4O3 −2、どちらの酸性基も脱プロトンされており、式中、C3H4O3とも記載される)、グリコレート(C2H2O3 −2、酸性基およびヒドロキシ基は脱プロトンされており、式中、C2H2O3とも記載される)およびこれらの組み合わせからなる群から選択される。
さらにより具体的なペルオキソ錯体は下記式(3)である。
[C’]k[Ta(O2)x(L’)y] (3)
上記式中、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
[Ta(O2)x(L’)y]は0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む、式(3)を有する。実施形態の1つでは、xは3であり、yは1であり、kは3である。別の実施形態では L’は、カルボキシレートもしくはアルコキシドまたはその両方からなる群から選択される官能基を含む。別の実施形態では、L’はオキサレート(C2O4 −2)、ラクテート(C3H4O3 −2)、グリコレート(C2H2O3 −2)およびこれらの組み合わせからなる群から選択されるジアニオンである。別の実施形態では、C’はアンモニウム(NH4 +)である。
[C’]k[Ta(O2)x(L’)y] (3)
上記式中、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
[Ta(O2)x(L’)y]は0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む、式(3)を有する。実施形態の1つでは、xは3であり、yは1であり、kは3である。別の実施形態では L’は、カルボキシレートもしくはアルコキシドまたはその両方からなる群から選択される官能基を含む。別の実施形態では、L’はオキサレート(C2O4 −2)、ラクテート(C3H4O3 −2)、グリコレート(C2H2O3 −2)およびこれらの組み合わせからなる群から選択されるジアニオンである。別の実施形態では、C’はアンモニウム(NH4 +)である。
式(2)もしくは式(3)またはその両方のペルオキソ錯体の非限定的な例として、[NH4]3[Ta(O2)3(C2O4)]および[Ti(O2)2(C2O4)]が挙げられる。本ペルオキソ錯体は組み合わせて使用してもよい。様々な配位子および対イオンの電荷は示していない。
図1A〜Cならびに図2AおよびBの模式的な層の図は、少なくともペルオキソ錯体および溶媒を含むフォトレジスト組成物を利用して、リソグラフィによりパターン化された層構造を形成する方法を示す。フォトレジスト組成物は基板10の表面12に設けられ(図1A)、続いて溶媒を除去して構造20のフォトレジスト層22を形成する(図1B)。フォトレジスト層22は、露光前に好適な時間および温度条件下、任意の塗布後ベーク(PAB)もしくは任意の溶媒リンスまたはその両方で処理してもよい。フォトレジスト層22のパターン露光は、好ましくはEUVもしくはeビームまたはその両方を使用して行い、構造30の露光されたフォトレジスト層32を得る(図1C)。フォトレジスト層32は露光されたフォトレジスト領域34および露光されなかったフォトレジスト領域36からなる。フォトレジスト層32は、現像の前に好適な時間および温度条件下、任意の露光後ベーク(PEB)もしくは任意の溶媒リンスまたはその両方で処理してもよい。露光されたフォトレジスト34は、露光されなかったフォトレジスト36と比較して現像液への溶解度が低い。したがって、水系現像を行うと、露光されなかったフォトレジスト領域36が除去されることでネガ型画像が得られる。PAB、PEBもしくは溶媒リンス(単数または複数)またはそれらすべては、露光されたフォトレジストと露光されなかったフォトレジストとの所定の現像液への溶解度差を大きくすることができる。現像液で現像すると、パターン化されたフォトレジスト層42を含む層構造40が得られる(図2A)。パターン化されたフォトレジスト層42は、露光されたフォトレジスト34からなるフォトレジスト・フィーチャ44を含む表面レリーフパターンである。フォトレジスト・フィーチャ44は基板10の表面46上に設けられ、上面48および側壁50を有する。基板表面52は空気と接触している。パターン化されたフォトレジスト層42の表面レリーフパターンは、公知の方法(たとえば、酸素イオンエッチング)により基板10に転写し、続いてフォトレジスト・フィーチャ44を除去して、構造60を得ることができる(図2B)。構造60は基板10内に転写された表面パターン62を有し、そのフィーチャ66は底面64、側壁表面68および基板10の上面70を含む。
フォトレジスト層は、露光、PABもしくはPEBまたはそのすべての前または後に溶媒(たとえば、水、水溶液、たとえば水/アルコール混合液および有機溶媒)でリンスして過剰な配位子を除去してもあるいは部分縮合を促進してもよい。典型的には、リンスはPAB後に行う。リンスは、室温または室温付近(たとえば、10℃〜50℃)で1秒〜1時間の期間行ってもよい。
任意に、現像前のフォトレジスト層もしくは現像後のフォトレジスト層またはその両方を、室温あるいは高温の水蒸気もしくはアルコール蒸気またはその両方で1分〜5時間の時間スケールにて処理してもよい。露光およびPEB後にこうした処理を行うと、たとえば、追加の架橋を促進する、または金属酸化物マトリックスの官能基分布を変化させることができる。
「基板」という用語は、フォトレジスト層が設けられた構造体のすべての下地層をいう。基板は、1つの層が積層配置されていても、あるいは複数の層が積層配置されていてもよい。多層基板の場合、フォトレジスト層の直下にありフォトレジスト層と接触している層は基板の最上層であり、フォトレジスト層の「下層」とも呼ばれる。「表面」または「下地表面」という用語は、他に記載がない限り、フォトレジスト層が設けられた基板表面をいう。非限定的な例として、フォトレジスト層は、シリコンウエハまたは金属箔の表面上に設けてもよく、あるいはより詳細には、反射防止層(ARC)層が最上層である多層基板のARCの表面上に設けてもよい。この例では、ARC層はフォトレジスト層の下層でもある。別の例では、ARC層は、その上面に付着したポリマー・ブラシ層を有する。この例では、ポリマー・ブラシ層もフォトレジスト層の下層である。
「設けられる」という用語は、ある層を別の層の表面と接触させることをいう。「設ける」および「塗布する」とは、他に記載がない限り、利用する方法を限定することなく、ある層を別の層の表面と接触するように形成することをいう。ただし、設けられたまたは塗布された層の望ましい特性(たとえば、均一性および厚さ)が悪影響を受けないことを条件とする。
「キャストする」という用語は、ある材料層を、その材料を溶媒に溶解させた溶液を別の層の表面上に設け、溶媒を除去することにより形成することをいう。
本明細書において、「ポジ型」フォトレジストとは、放射線に露光されると、典型的には露光で誘導される非架橋化学反応により、所定の現像液に溶解しやすくなるフォトレジストをいう。
「ネガ型」フォトレジストは、放射線に露光されると、典型的には露光で誘導される架橋反応、または現像液へのフォトレジストの溶解度を低下させる他の何らかの化学変化により、所定の現像液に溶解しにくくなる。本明細書のフォトレジスト組成物はネガ型である。
「ネガ型現像」とは、フォトレジスト層の露光されなかった領域が現像中に除去されることを意味する。「ポジ型現像」とは、フォトレジスト層の露光された領域が現像中に除去されることを意味する。
場合によっては(たとえば、高密度、高解像度パターンを形成する場合)、フォトレジスト層の全体がある程度の放射線露光量を受けてもよいことが理解されよう。「露光されなかったフォトレジスト」とは、任意のベークもしくは任意のリンスまたはその両方で処理した露光前のフォトレジストなど露光前のフォトレジストと比較して、所定の現像液へのフォトレジストの溶解度を変化させるのに十分な量を受けていないフォトレジストをいう。「露光されたフォトレジスト」は露光前のフォトレジストと比較して、所定の現像液へのフォトレジストの溶解度を変化させるのに十分な露光を受けている。
フォトレジスト層の化学成分、反応性、溶解度もしくは表面特性またはそのすべてについて言及する場合、他に記載がない限り、こうした言及はフォトレジスト層のみに関し、基板または基板表面に関するものでないことが理解されよう。同様に、基板表面または基板層の化学成分、化学反応性、溶解度もしくは表面特性またはそれらすべてについて言及する場合、他に記載がない限り、こうした言及は基板表面または基板層(単数または複数)のみに関し、フォトレジスト層に関するものでない。
理論に束縛されるものではないが、本明細書のフォトレジスト組成物は、露光により誘導される、ペルオキソ錯体からキャストされた膜の化学変化に伴う架橋もしくは極性転換機構またはその両方により機能すると考えられる。任意のベーク(PABもしくはPEBまたはその両方)処理もしくは任意のリンス処理またはその両方を行うと、露光されなかったフォトレジストと比較して露光されたフォトレジストの溶解度差を大きくすることができる。露光されたフォトレジストの溶解度の低下は、構造の形態変化(たとえば、ペルオキソ錯体の結晶相から非晶質相への相転移、またはその逆)もしくはペルオキソ錯体の化学構造の変化(たとえば、ペルオキソ錯体の化学的架橋もしくは有機配位子の消失またはその両方)またはその両方に起因し得る。PABもしくはPEBまたはその両方を用いれば、フォトレジスト組成物の架橋結合化学もしくは反応副生成物の除去またはその両方を容易にすることができる。
「極性変化」は、架橋せずに相対的溶解度に影響を与える化学組成の変化を意味する。極性変化の程度は、露光されたフォトレジストと露光されなかったフォトレジストとの所定の現像液への溶解度を比較することにより測定することができる。フォトレジスト層の「極性変化を誘導する」とは、処理されたフォトレジストが処理前のフォトレジストと比較して所定の現像液に対して異なる溶解度を有するように、フォトレジスト層を、層の化学組成を変化させる露光を含む処理、露光後ベーク(PEB)もしくは任意のリンスまたはそれらすべてに供することを意味する。
任意の塗布後ベーク(PAB)処理は典型的には50℃〜250℃の温度で1秒〜1時間、好ましくは1秒〜10分の期間行う。PABを用いて、過剰な溶媒の膜の乾燥、望ましくないもしくは過剰な有機配位子の除去、もしくはフォトレジスト層の部分的な架橋、またはそれらすべてを行ってもよい。熱処理された膜は典型的には、その後の放射線源および所望の用途に応じて0.01マイクロメートル〜10マイクロメートルの厚さを有する。
任意の露光後ベーク(PEB)は50℃〜300℃の温度で1秒〜1時間、好ましくは1秒〜10分行ってもよい。
パターン化されたフォトレジスト層には、たとえば、ペルオキソ錯体を非晶質金属酸化物として凝縮する、もしくは結晶化を誘導する、またはその両方を行う現像後処理をさらに行うことでエッチング耐性を高めてもよい。現像後処理は光化学処理でも、熱処理でも、化学処理でも、あるいはこれらの組み合わせでもよい。一例を挙げると、パターン化されたフォトレジスト層に第2の放射線で第2の露光を行うことで、処理されたパターン化フォトレジスト層を形成してもよい。第2の露光は、処理されたパターン化フォトレジスト層に所望の反応を誘導するのに有効であれば、第2の放射線の単一波長で行っても、あるいは第2の放射線の好適な波長の組み合わせ(広帯域)で行ってもよい。第2の露光処理はフラッド露光であってもよい。フラッド露光は、従来の単一の全面露光でも、あるいは従来の全面露光の組み合わせでもよい。露光処理はさらに、発光源を利用したデジタル書き込み装置により照射されるスキャン露光であってもよい。第2の露光に続いて熱処理を行い、処理されたパターン化フォトレジスト層における化学官能基の形成を化学的に増幅してもよい。たとえば、フラッド露光は、その後の加熱時に別の酸感受性カルボン酸エステル、芳香族アセタール/ケタールもしくはカーボネートまたはそれらすべての脱保護を触媒する、以前に未反応の光酸発生剤(PAG)から酸を放出させることで、処理されたパターン化フォトレジスト層におけるカルボン酸およびフェノール基の濃度を高めることができる。処理されたパターン化フォトレジスト層は、十分な極性変化によりフォトレジストを架橋せずに、水性アルカリ現像液もしくは第2の有機溶媒またはその両方への溶解度を維持しつつ、低極性溶媒(たとえば、アニソール)あるいはより極性の強い有機溶媒のいずれにも不溶性になり得る。
現像後熱処理はさらに、溶媒との適合性、フォトレジスト材料の化学構造、もしくはパターン化されたフォトレジスト層のエッチング耐性またはそれらすべてを調整することができる。熱処理は、50℃〜600℃、50℃〜300℃または50℃〜200℃の温度で1秒〜1日の期間行ってもよい。たとえば、パターン化された金属酸化物膜を調製する場合、高温でのハード・ベークを施してフォトレジストを非晶質金属酸化物として凝縮しても、あるいは結晶化を誘導してもよい。
化学処理は、たとえば、パターン化されたフォトレジスト層を揮発性ルイス酸、たとえば塩酸、硫酸、硝酸またはスルホン酸の蒸気と接触させることを含んでもよい。どのタイプの処理も、フォトレジストの化学的変化が表面だけでなく処理されたフォトレジスト全体に均一に分布することが優先される。現像後化学処理により、基板の現れた表面に化学変化を引き起こし、フォトレジスト・フィーチャの除去後に化学的にパターン化された基板表面を得ることができる。
エッチングは、半導体装置の製造において施される任意の一般的なエッチング技術、たとえば、ドライ・エッチング、たとえばプラズマ・エッチング、イオンビーム・エッチングまたは選択的溶媒を用いたウェットエッチングを含む。典型的には、ドライ・エッチング・プロセスは50nm未満の寸法のエッチングに利用される。
基板、より詳細には基板の表面は、無機材料または有機材料、たとえば金属、炭素またはポリマーを含んでもよい。より詳細には、基板は、たとえば、Si、SiGe、SiGeC、SiC、Ge合金類、GaAs、InAs、InPのほか、他のIII−VまたはII−VI化合物半導体など任意の半導体材料を含んでもよい。基板は、層状半導体、たとえばSi/SiGe、または半導体・オン・インシュレータ(SOI)をさらに含んでもよい。特に、基板は、Si含有半導体材料(すなわち、Siを含む半導体材料)、たとえば、二酸化ケイ素、窒化ケイ素および石英を含んでもよい。こうした半導体材料は、ドープされていても、ドープされていなくても、あるいはドープ領域および非ドープ領域の両方を含んでもよい。
多層基板についてさらに説明するため、図2Aの構造40を図3の構造70に再度図示する。ただし、図3の基板72は2つの層、最下層74および中間層76を有する。基板72の最下層74は、たとえば、シリコンウエハであってもよい。中間層76は、たとえば、ARC層であってもよい。この例では、表面78は空気と接触したARC層の表面であり、フォトレジスト・フィーチャ44はARC表面80上に設けられる。
フォトレジスト組成物。
本フォトレジスト組成物は、ペルオキソ錯体、溶媒、およびフォトレジスト層の望ましい特性、たとえば現像性もしくはエッチング耐性またはその両方に不利な影響を与えない任意に選択された添加剤を含む。例示的な任意の添加剤として、架橋効率を上げてフォトスピードを高める、または露光時に起こる極性変化を大きくする働きをする材料が挙げられる。たとえば、光増感剤を用いると、ペルオキソ錯体の配位子消失の効率を改善して架橋密度を高くすることができる。架橋効率の上昇は、露光時に起こる他の架橋と同時に起こり得る重縮合反応を触媒する働きをする添加剤を利用することによっても達成することができる。この種の添加剤の例として、光酸発生剤および光塩基発生剤が挙げられる。こうした任意の添加剤は、単独で使用しても、あるいは組み合わせて使用してもよい。
本フォトレジスト組成物は、ペルオキソ錯体、溶媒、およびフォトレジスト層の望ましい特性、たとえば現像性もしくはエッチング耐性またはその両方に不利な影響を与えない任意に選択された添加剤を含む。例示的な任意の添加剤として、架橋効率を上げてフォトスピードを高める、または露光時に起こる極性変化を大きくする働きをする材料が挙げられる。たとえば、光増感剤を用いると、ペルオキソ錯体の配位子消失の効率を改善して架橋密度を高くすることができる。架橋効率の上昇は、露光時に起こる他の架橋と同時に起こり得る重縮合反応を触媒する働きをする添加剤を利用することによっても達成することができる。この種の添加剤の例として、光酸発生剤および光塩基発生剤が挙げられる。こうした任意の添加剤は、単独で使用しても、あるいは組み合わせて使用してもよい。
例示的溶媒として、水および水溶液、たとえば過酸化水素水、酸水、塩基水、塩水溶液および水性有機溶媒混合液が挙げられる。本フォトレジスト組成物は、他の成分を溶解する有機溶媒を含んでもよく、したがって本ペルオキソ錯体を基板の表面上に均一に設けて欠陥のないコーティングを与えることができる。フォトレジスト組成物をキャストするための有機溶媒として、アルコール、エーテル、グリコールエーテル、アルキレングリコールモノアルキルエステル、芳香族炭化水素、ケトン、エステルおよびこれらの組み合わせが挙げられる。具体的な例示的キャスト溶媒として、二酸化炭素、乳酸エチル、酢酸ブチル、2−エトキシエタノール、γ−ブチロラクトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エトキシエチルプロピオネート(EEP)、EEPとγ−ブチロラクトン(GBL)との組み合わせ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)、およびこれらの混合物が挙げられる。
光酸発生剤(PAG)は、放射線への露光時に酸を放出または生成することができる。光酸発生剤(PAG)の例としては、スルホネート、オニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、N−ヒドロキシアミドのスルホン酸エステル、N−ヒドロキシイミドのスルホン酸エステルおよびこれらの組み合わせがあるが、これに限定されるものではない。
光塩基発生剤(PBG)は、放射線への露光時に塩基を発生する。光塩基発生剤として、第四級アンモニウムジチオカルバメート、α−アミノケトン、オキシム−ウレタン含有分子、たとえばジベンゾフェノネオキシムヘキサメチレンジウレタン、アンモニウムテトラオルガニルボレート塩、N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)環状アミンおよびこれらの組み合わせが挙げられる。
本フォトレジスト組成物は界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤は、コーティングの均一性を改善するために使用してもよく、イオン種、非イオン種、モノマー種、オリゴマー種およびポリマー種またはこれらの組み合わせを含んでもよい。考えられる界面活性剤の例として、フッ素含有界面活性剤、たとえば3M Company in St.Paul,Minn.から入手可能なFLUORADシリーズ、およびシロキサンを含む界面活性剤、たとえばDow Chemicalから入手可能なSILWETシリーズが挙げられる。
本フォトレジスト組成物は増感剤を含んでもよい。増感剤として、多環式芳香族化合物、たとえばピレン、ペリレン、ビス(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、1,4−ビス[1−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]ベンゼン、2,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニルメチル)−6−メチルフェノール、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,4−ジヒドロキシフェニルメタン、1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン、1−[1−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン、2,6−ビス[1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−メチルフェノール、4,6−ビス[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]レゾルシン、4,6−ビス(3,5−ジメトキシ−4−ヒドロキシフェニルメチル)ピロガロール、4,6−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニルメチル)ピロガロール、2,6−ビス(3−メチル−4,6−ジヒドロキシフェニルメチル)−4−メチルフェノール、2,6−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニルメチル)−4−メチルフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンおよびこれらの組み合わせが挙げられる。
安定剤および酸拡散制御添加剤として、様々な塩基性度を持つ多種多様な化合物を使用することができる。そうしたものとして、窒素化合物、たとえば脂肪族第一級、第二級および第三級アミン、環状アミン、たとえばピペリジン、ピリミジン、モルホリン、芳香族複素環、たとえばピリジン、ピリミジン、プリン、イミン、たとえばジアザビシクロウンデセン、グアニジン、イミド、アミドならびに他のものを挙げることができる。アンモニウム塩、たとえばアルコキシドのアンモニウム塩、第一級、第二級、第三級および第四級アルキル−およびアリールアンモニウム塩、たとえば水酸化物、フェノレート、カルボキシレート、アリールおよびアルキルスルホネート、スルホンアミドならびに他のものなどを使用してもよい。さらに、他のカチオン性窒素化合物、たとえばピリジニウム塩、および他の複素環式窒素化合物とアニオン、たとえばアルコキシドとの塩、たとえば水酸化物、フェノレート、カルボキシレート、アリールおよびアルキルスルホネート、スルホンアミドおよび同種のものを利用してもよい。実施形態の1つでは、本フォトレジスト組成物は、水溶液中のペルオキソ錯体の安定剤として過酸化水素を含む。
本フォトレジスト組成物は、溶媒を除いたフォトレジスト組成物の総重量(すなわち、フォトレジスト組成物の全固形分重量)に対して約1wt%〜約30wt%(重量パーセント)、より詳細には約2wt%〜約15wt%の量でペルオキソ錯体を含んでもよい。
本フォトレジスト組成物は、フォトレジスト組成物の全固形分重量に対して約0.5wt%〜約20wt%、より詳細には約0.5wt%〜約10wt%の量で光酸発生剤を含んでもよい。
本フォトレジスト組成物は、フォトレジスト組成物の全固形分重量に対して約0.01wt%〜約20wt%、より詳細には約0.1wt%〜約10wt%の量で光塩基発生剤を含んでもよい。
本フォトレジスト組成物は、フォトレジスト組成物の総重量に対して約0.001wt%〜約0.1wt%の量で界面活性剤を含んでもよい。
本フォトレジスト組成物は、フォトレジスト組成物の総重量に対して約70wt%〜約99wt%、より詳細には約85wt%〜約98wt%の量で溶媒を含んでもよい。
本フォトレジスト組成物は、フォトレジスト組成物の全固形分重量に対して約0.1wt%〜約30wt%、より詳細には約0.1wt%〜約20wt%の量で増感剤を含んでもよい。
本フォトレジスト組成物は、フォトレジスト組成物の総重量に対して約0.1wt%〜約30wt%、より詳細には約0.1wt%〜約20wt%の量で安定剤を含んでもよい。実施形態の1つでは、安定剤は過酸化水素である。
典型的には、慣用される全添加剤の合計は、フォトレジスト組成物の全固形分重量に対して20wt%未満、好ましくは5wt%未満である。実施形態の1つでは、本フォトレジスト組成物は、チタン(IV)、ニオブ(V)またはタンタル(V)からなる群から選択される金属イオンを含む金属塩と、金属イオンのモル数に対して0.5〜3.0モル当量の量の有機カルボン酸と、金属イオンのモル数に対して1.0〜10.0モル当量の量の過酸化水素と、溶媒とを含む。別の実施形態では、有機カルボン酸は、金属イオンのモル数に対して0.75〜1.5モル当量の量で存在する。別の実施形態では、有機カルボン酸は、金属イオンのモル数に対して0.9〜1.1モル当量の量で存在する。
本フォトレジスト層は、本発明の方法に従い個別に使用しても、あるいは組み合わせて使用してもよいスピン・コーティング(スピン・キャスティングとも呼ばれる)、スプレー・コーティング、ディップ・コーティング、ドクター・ブレーディング、ロール・コーティングおよび同種のものなどのプロセスにより形成することができる。より詳細には、フォトレジストを好適な溶媒に溶かした溶液を基板の表面にスピン・コートし、続いて溶媒を除去してフォトレジスト層を得る。
一般に、フォトレジスト層は100〜100000オングストローム(0.01〜10マイクロメートル)、より詳細には200〜5000オングストローム、さらにより詳細には200〜3000オングストロームの厚さを有し得る。
パターン化されたフォトレジスト層のフォトレジスト・フィーチャは、10〜10000オングストローム、100〜3000オングストローム、またはより詳細には200〜1500オングストロームの高さを有し得る。
本フォトレジスト層は、いわゆる塗布後ベークで50℃〜300℃、より詳細には50℃〜250℃の温度にて1秒〜1時間、なおより詳細には10秒〜10分の期間加熱してもよい。
フォトレジスト層のパターン露光は、450nm〜300nmの波長の紫外線(UV)照射、300nm〜120nmの波長の深紫外線(DUV)照射、120nm〜8nmの波長の極短紫外線(EUV)照射、電子ビーム(eビーム)照射、X線照射、前述の組み合わせ、および他の好適な光源など様々なタイプの照射を用いて達成することができる。例として、193nm ArFエキシマ光源、EUV光源または電子ビームが挙げられる。DUV露光およびEUV露光は、特定のマスクを利用してネガティブ・ワーキング・フォトレジスト層のパターンを得る。Eビーム・リソグラフィは、フォトレジストにパターンを直接書き込む。例示的な放射線源として、単一波長もしくは狭帯域またはその両方の線源、EUV用のSnプラズマ光源、特定の水銀輝線、レーザ、および粒子線エミッタが挙げられる。さほど厳しくない条件の場合、広帯域多波長光源を使用してもよい。より詳細には、照射波長は、436nm、405nm、365nm、334nm、313nm、254nm、248nm、193nm、157nm、126nmおよび13.5nmからなる群から選択される。さらにより詳細には、照射波長は、248nm、193nm、157nmおよび13.5nmからなる群から選択される。なおさらに詳しくは、パターン露光の照射波長は193nmまたは13.5nmであってもよい。
パターン露光は、乾燥条件、あるいは液浸条件下、特にレンズ要素とウエハとの間に高屈折率液体を利用する液浸条件下のいずれで行ってもよい。液浸液として、水および他の高屈折率液体、たとえばデカンおよび様々なフッ素化溶媒が挙げられる。さらに詳しくは、パターン露光は、193nm水液浸リソグラフィにより達成することができる。193nm水液浸リソグラフィによるパターニングに対応するため、液浸リソグラフィによる露光の前に保護トップコート層をフォトレジストの表面に塗布してもよい。たとえば、シリル化または別の好適な技術は、液に対する膜の濡れ性の改変に使用することができる。好ましくは、トップコート層は塩基可溶性であり、フォトレジスト現像ステップにおいてアルカリ性フォトレジスト現像液により除去される。あるいは、フォトレジストは、コートされたフォトレジストの表面特性を制御し、フォトレジスト成分の液浸液への抽出を限定する表面活性成分を含んでもよい。
現像液は、水もしくは有機溶媒またはその両方を含んでもよい。パターン露光されたフォトレジスト層は、好ましくは水または水性アルカリ性現像液で現像される。パターン化されたフォトレジスト層は、露光されなかったフォトレジストを水系現像液で選択的に除去することにより形成することができる。パターン化されたフォトレジスト層は基板の第1の表面上に設けられる。基板の第2の表面には、残存フォトレジストが実質的に設けられないか、あるいはまったく設けられない。
現像液の例示的有機溶媒として、アニソール、エチレングリコール、プロピレングリコールおよび4−メチル−2−ペンタノール、酢酸n−ブチルおよびこれらの混合物が挙げられる。現像液は、超臨界流体、たとえば液化メタン、液化エタン、液化プロパンまたは液化二酸化炭素をさらに含んでもよい。超臨界流体を含む非アルカリ性現像液は、現像液の様々な特性を改変するため、別の成分、たとえば有機溶媒、界面活性剤および塩をさらに含んでもよい。
ウエハは再生してもよい。ウエハの再生は、たとえば、現像後検査によりフォトレジスト・パターンに許容できない欠陥(たとえば、位置ずれ)が検出された際に行ってもよい。ウエハは、ウエハをエッチングするあるいは他の方法で不可逆的に変化させる前に、たとえば0.26NのTMAHまたは希釈過酸化水素を用いて溶媒を剥離してフォトレジストを除去してもよい。その後ウエハは再度フォトレジスト・パターン形成プロセスに供することができる。
本発明はさらに、パターン化された金属酸化物膜の結像および形成のための、本組成物溶液の使用に関する。こうした場合には高温でのハード・ベークを施して、材料を非晶質金属酸化物として凝縮する、または結晶化を誘導する。
さらに、上述の方法を用いて形成される層構造を開示する。一実施形態では、層構造は半導体装置である。半導体装置は、反射防止表面を含む基板と、反射防止表面の第1の領域上に設けられた放射線露光されたフォトレジストを含む現像されパターン化されたフォトレジスト層とを含む。パターン化されたフォトレジスト層は、たとえば、露光されなかったフォトレジストを選択的に除去して得られる開口パターンを含む表面レリーフパターンの形態であってもよい。
集積回路の製造では、フォトレジスト現像後、公知の技術、たとえば蒸着、スパッタリング、メッキ、化学的気相堆積またはレーザ誘起堆積を用いて、パターン化された基板を導電材料、たとえば、金属材料でコーティングして、露光された領域に回路パターンを形成することができる。誘電体材料も、回路製造プロセスにおいて同様の手段により付着させることができる。p型またはn型ドープ回路トランジスタの製造プロセスにおいて、無機イオン、たとえばホウ素イオン、リン・イオンまたは砒素イオンを基板に注入してもよい。本発明は任意の特定のリソグラフィ技術または装置構造に限定されるものではないことを理解すべきである。
上述のペルオキソ錯体および方法を用いると、1〜1000nm、1〜500nm、1〜300nm、1〜200nm、1〜150nm、またはより詳細には1〜100nmのフォトレジスト・フィーチャ幅が可能になる。
ペルオキソ錯体および方法について以下の例で詳細に説明する。
以下の例に使用した材料を表1に示す。
以下の例は、開示するペルオキソ錯体の調製および使用を明らかにする。他に記載がない限り、部は重量部であり、温度は摂氏度(℃)単位または周囲温度であり、圧力は大気圧またはほぼ大気圧である。化学物質および材料はすべて市販品を入手するか、または公知の手順を用いて合成した。
リソグラフィによる像形成−一般的な手順。
フォトレジスト溶液を0.2マイクロメートルのナイロン・フィルタで濾過してから、3000rpmで30秒間スピン・キャストした。キャスト後の典型的な膜厚は、20nm〜60nmの範囲であった。Siウエハを基板として使用する前にMarch PX−250(O2、15秒)でプラズマ処理した。厚さの測定値は、Nanospec 6100(Nanometrics)を用いて得た。193nmの光源を用いたコントラスト曲線は、Larson,et al.,Proc.SPIE 5376,1165−1173(2004)に記載されているように温度勾配プレートを用いて得た。193nmの露光は、Ultratech 193nmミニステッパ(0.6NA、バイナリ・クロム・オン・ガラス・マスク)あるいは自社製の干渉リソグラフィ・システム「NEMO」のいずれかを用いて行った。電子ビーム露光は、Vistec VB6を用いて100keVのエネルギ、0.5nAの電流および15nmのスポット・サイズで行った(ガウシアン・ビーム)。EUV(13.5nm)の露光は、Lawrence Berkeley National LaboratoryのAdvanced Light SourceにてSEMATECH Berkeley Microfield Exposure Tool(0.3NA)を用いて行った。
実施例1 タンタル(V)および乳酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体。
標準的な文献の手順(Petrykin et al.,Inorganic Chemistry,9251−9256,2006)に基づき、既報告の式[NH4]4[Ta2(O2)2(C3H4O3)4O]を持つタンタル(V)および乳酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体を合成した。TaCl5(1g、2.79mmol、MW358.21)を約1mlのメタノールに溶解させ、15mlの水で希釈した。これにNH4OH(30wt%)をpHが約10になるまで加えた。沈殿した材料を遠心分離により分離し、Cl−がAg+試験で検出できなくなるまで水で繰り返し洗浄した。乳酸溶液(0.56g(溶液)、0.503g(固形)、5.58mmol、2当量)および7mlの濃縮H2O2(約30wt%)を加え、この混合物を氷浴で冷却した。次いでpHをゆっくりと上昇させ、濃縮NH4OHを定期的に添加して5.6で維持し、透明な溶液を得た。この溶液を濾過し(0.45ミクロン)、−4℃で保存した。
10wt%(重量パーセント)のペルオキソ錯体を含む20wt%〜30wt%のペルオキシド水溶液として、フォトレジスト組成物を配合した。wt%は溶液の総重量に基づく。図4は、60秒間121℃〜159℃の範囲の様々な塗布後ベーク(PAB)を用いて、193nmの露光された膜で得られた一連のコントラスト曲線(オングストローム単位の厚さをmJ/cm2単位の露光量の関数とする)を示すグラフである。膜は各々100℃、60秒の露光後ベーク(PEB)、および水で30秒の現像を行った。水を現像液として使用して良好なコントラストが得られた。図5は、EUV露光(13.5nm)および以下のプロセス条件:130℃、60秒のPABおよびPEB、ならびに30秒の水現像を用いて得られたコントラスト曲線を示すグラフである。良好な感度が観察された。図6は、193nmの露光(150mJ/cm2)および以下のプロセス条件:145℃、60秒のPEBおよびPAB、ならびに30秒の水現像を用いて得られた、パターン化されたフォトレジスト層の走査型電子顕微鏡写真(SEM)画像である。
実施例2 タンタル(V)およびシュウ酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体。
塩化物ルート。式[NH4]3[Ta(O2)3(C2O4)]を持つ、タンタル(V)およびシュウ酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体を以下の通り調製した。TaCl5(1g、2.79mmol、MW358.2)を1.5mlのメタノールに溶解させ、15mlの水で希釈し、0.45ミクロンのシリンジ・フィルタで濾過した。この溶液にNH4OH(30wt%)をpHが約10になるまで加えた。沈殿した材料を遠心分離により分離し、Cl−がAg+試験で検出できなくなるまで水で繰り返し洗浄した。濃縮H2O2(7ml、30wt%)およびシュウ酸(250mg、1当量、MW90.0)を加え、この混合物を氷浴で冷却した。次いでpHをゆっくりと上昇させ、濃縮NH4OHを定期的に添加して5.6で維持し、透明な溶液を得た。この溶液を濾過し(0.45ミクロン)、−4℃で保存した。エタノールで沈殿を行って白色粉末を得、これをエタノールで洗浄し、真空下で乾燥させた。Calculated:H(2.89),C(5.73),N(10.03),O(38.18),Ta(43.18)。Found(塩化物ルート):C(4.86),N(9.83),Ta(40.3),Cl 61ppm。
塩化物フリー・ルート。さらに式[NH4]3[Ta(O2)3(C2O4)]を持つ、タンタル(V)およびシュウ酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体を、タンタルエトキシドから以下の通り調製した。Ta(OCH2CH3)5(2.26g、MW406.25)に7mlのNH4OH(30wt%)および水を全量35mlになるように加えた。沈殿した材料を遠心分離により分離し、水で2回洗浄した。シュウ酸(503.6mg、MW90.0)および濃縮H2O2(14ml、30wt%)を加え、この混合物を氷浴で冷却した。次いでpHをゆっくりと上昇させ、濃縮NH4OHを定期的に添加して5.7で維持し、透明な溶液を得た。この溶液を濾過し(0.45ミクロン)、−4℃で保存した。エタノールで沈殿を行って白色粉末を得、これをエタノールで洗浄し、真空下で乾燥させた。Calculated:H(2.89),C(5.73),N(10.03),O(38.18),Ta(43.18)。Found(塩化物フリー・ルート):C(6.34),N(9.79),Ta(39.7),Cl<58ppm。
塩化物ルートにより形成したペルオキソ錯体を用いて10wt%固形を含む20wt%〜30wt%過酸化水素水溶液として、フォトレジスト組成物を配合した。図7は、以下のプロセス条件:300秒、150℃でのPAB、PAB後に行った20秒の水リンス、60秒、150℃でのPEBおよび0.26NのTMAHでの60秒の現像を用いてEUV露光(13.5nm)で得られたコントラスト曲線(オングストローム単位の厚さをmJ/cm2単位の露光量の関数とする)を示すグラフである。
図8A〜Cは、EUV(13.5nm、37.8mJ/cm2)露光および以下のプロセス条件:300秒、150℃でのPAB、PAB後に行った20秒の水リンス、60秒、150℃でのPEBおよび0.26NのTMAHでの60秒の現像を用いて、実施例2のフォトレジスト組成物で得られた、18nmハーフ・ピッチ(HP)(図8A)、19nm HP(図8B)および20nm HP(図8C)のライン・パターンのSEM画像である。
図9は、193nm(10.1mJ/cm2)の干渉リソグラフィ、および以下のプロセス条件:300秒、150℃でのPAB、60秒、150℃でのPEBおよび0.26NのTMAHでの60秒の現像を用いて、実施例2のフォトレジスト組成物で得られた50nm HPのライン・パターンのSEM画像である。
図10A〜Cはそれぞれ、193nm(18mJ/cm2)リソグラフィ、および以下のプロセス条件:300秒、150℃でのPAB、60秒、150℃でのPEBおよび0.26NのTMAHでの60秒の現像を用いて、実施例2のフォトレジスト組成物で得られた、130nmのライン・スペース(L/S)パターン(すなわち、L/Sが、ラインおよびスペースが等しい幅を有することを意味する)、140nmのL/Sパターンおよび150nmのL/SパターンのSEM画像である。
図11AおよびBはそれぞれ、電子ビーム(eビーム)リソグラフィ、および以下の条件:1500マイクロクーロン/cm2の露光、300秒、150℃でのPAB、60秒、150℃でのPEBおよび0.26NのTMAHでの60秒の現像を用いて、実施例2のフォトレジスト組成物で得られた、30nm HPおよび40nm HPのライン・パターンのSEM画像である。
図12は、実施例2のペルオキソ錯体の拡散反射FTIR(KBr中)スペクトルである。
実施例3 タンタル(V)およびグリコール酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体。
式[NH4]4[Ta2(O2)2(C2H2O3)4O]を持つ、タンタル(V)およびグリコール酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体を以下の通り調製した。TaCl5(1g、2.79mmol、MW358.2)を1.5mlのメタノールに溶解させ、15mlの水で希釈し、0.45マイクロメートルのシリンジ・フィルタで濾過した。この溶液にNH4OH(30wt%)をpHが10になるまで加えた。沈殿した材料を遠心分離により分離し、塩化物イオンがAg+試験で検出できなくなるまで水で繰り返し洗浄した。この沈殿物に氷浴中、溶液がpH5.6になるように合計8mlの濃縮H2O2(8ml、30wt%)、グリコール酸(421mg、2当量、MW76.1)および十分に濃縮したNH4OHを加え、透明な溶液を得た。この溶液を濾過し(0.45マイクロメートル)、−4℃で保存した。この最終溶液をフォトレジスト組成物とした。
図13は、EUV露光(13.5nm)および以下のプロセス条件:60秒、120℃でのPAB、60秒、120℃でのPEB、30秒の水現像を用いて、実施例3のフォトレジスト組成物で得られたコントラスト曲線(オングストローム単位の厚さをmJ/cm2単位の露光量の関数とする)を示すグラフである。
実施例4 Nbおよび乳酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体。
式[NH4]4[Nb2(O2)2(C3H4O3)4O]を持つ、Nbおよび乳酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体を以下の通り調製した。NbCl5(1g、3.7mmol、MW270.2)を1.5mlのメタノールに溶解させ、15mlの水で希釈した。これにNH4OH(30wt%)をpHが10になるまで加えた。沈殿した材料を遠心分離により分離し、Cl−がAg+試験で検出できなくなるまで水で繰り返し洗浄した。乳酸(0.75g(溶液)、0.67g(固形分)、7.44mmol、2当量、MW90.1)および7mlの濃縮H2O2(30wt%)を加え、この混合物を氷浴で冷却した。次いでpHをゆっくりと上昇させ、濃縮NH4OHを定期的に添加して5.6で維持し、透明な溶液を得た。この溶液を濾過し(0.45マイクロメートル)、−4℃で保存した。この最終溶液をフォトレジスト組成物とした。
図14は、EUV露光(13.5nm)および以下のプロセス条件:60秒、160℃でのPAB、60秒、160℃でのPEBおよび30秒の水現像を用いて、実施例4のフォトレジスト組成物で得られたコントラスト曲線を示すグラフである。
実施例5 Tiおよびシュウ酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体。
式[Ti(O2)2(C2O4)]を持つ、Tiおよびシュウ酸を用いたカルボキシラトペルオキソ錯体を以下の通り調製した。チタンイソプロポキシド(0.4g、1.40mmol、MW284.3)をシュウ酸(0.125g、1当量、MW90.0)に加えた。次いで氷浴中、濃縮H2O2(3.2ml、30wt%)を加えて、チタンペルオキソ錯体を示唆する透明な赤色溶液を得た。この最終溶液をフォトレジスト組成物とした。
図15は、193nm(4.0mJ/cm2)の干渉リソグラフィおよび以下のプロセス条件:300秒、150℃でのPAB、60秒、150℃でのPEB、0.26NのTMAHでの60秒の現像を用いて、実施例5のフォトレジスト組成物で得られた50nmハーフ・ピッチのライン・パターンのSEM画像である。
本明細書に使用した用語は、特定の実施形態のみを説明すること目的としており、本発明を限定することを意図するものではない。本明細書で使用する場合、単数形「1つの(a、an)」および「前記(the)」は、文脈上明らかに他の意味に解すべき場合を除き、複数形も同様に含むことを意図している。さらに、「を含む(comprises)」もしくは「を含む(comprising)」という用語またはその両方は、本明細書に使用された場合、記載した特徴、完全体、ステップ、動作、構成要素もしくは成分またはそれらすべての存在を明記するものであるが、1つまたは複数の他の特徴、完全体、ステップ、動作、構成要素、成分もしくはそれらの群またはそれらすべての存在または追加を排除するものではないことも理解されよう。ある範囲を用いて2つの限界値XおよびYにより可能性のある値を表現する場合(たとえば、Xppm〜Yppmの濃度)、他に記載がない限り、その値はXでも、Yでも、あるいはXとYとの間のどのような数字でもよい。
本発明の記載は、例示および説明を目的として提示したものであるが、網羅的であること、または開示した形態に本発明を限定することを意図するものではない。本発明の範囲から逸脱しない範囲で、多くの修正および変形が当業者には明らかになるであろう。各実施形態については、本発明の原理およびその実用的用途を最もよく説明し、当業者が本発明を理解できるように選択し、記載した。
Claims (28)
- 下記式(3)の組成物。
[C’]k[Ta(O2)x(L’)y] (3)
(上記式中、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
Ta(O2)x(L’)yは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む。) - xは3であり、yは1であり、kは3である、請求項1に記載の組成物。
- L’はカルボキシレートおよびアルコキシドからなる群から選択される官能基を含む、請求項1に記載の組成物。
- L’はオキサレート(C2O4 −2)、ラクテート(C3H4O3 −2)、グリコレート(C2H2O3 −2)およびこれらの組み合わせからなる群から選択されるジアニオンである、請求項1に記載の組成物。
- C’はアンモニウム(NH4 +)である、請求項1に記載の組成物。
- 前記組成物は[NH4]3[Ta(O2)3(C2O4)]である、請求項1に記載の組成物。
- 前記組成物は水和の1〜10個の水分子をさらに含む、請求項1に記載の組成物。
- 請求項1に記載の組成物を含むフォトレジスト組成物であって、eビーム・リソグラフィ、X線リソグラフィ、もしくは10nm〜400nmの間にある波長を有する紫外線照射源を利用したリソグラフィまたはそれらすべてに適用可能な組成物。
- 溶媒と、
下記式(1)に記載の構造を有するペルオキソ錯体
[C’]k[M’w(O2)x(L’)yOu] (1)
(上記式中、
wは1または2であり、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
uは0または1であり、
M’w(O2)x(L’)yOuは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む。)と
を含むフォトレジスト組成物。 - M’はTa、Ti、Nbおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項9に記載のフォトレジスト組成物。
- uは0であり、wは1である、請求項9に記載のフォトレジスト組成物。
- M’はTaである、請求項11に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ペルオキソ錯体は
C3H4O3がラクテート(C3H4O3 −2)である[NH4]4[Ta2(O2)2(C3H4O3)4O]、
C2H2O3がグリコレート(C2H2O3 −2)である[NH4]4[Ta2(O2)2(C2H2O3)4O]、
C3H4O3がラクテート(C3H4O3 −2)である、[NH4]4[Nb2(O2)2(C3H4O3)4O]
C2O4がオキサレート(C2O4 −2)である[NH4]3[Ta(O2)3(C2O4)]、
C2O4がオキサレート(C2O4 −2)である[NH4]2[Ti(O2)2(C2O4)]および
これらの組み合わせ
からなる群から選択される、請求項9に記載のフォトレジスト組成物。 - 前記溶媒は水である、請求項9に記載のフォトレジスト組成物。
- 過酸化水素をさらに含む、請求項9に記載のフォトレジスト組成物。
- i) 溶媒と、
下記式(1)に記載の構造を有するペルオキソ錯体
[C’]k[M’w(O2)x(L’)yOu] (1)
(上記式中、
wは1または2であり、
xは1〜4の整数であり、
yは1〜4の整数であり、
uは0または1であり、
M’w(O2)x(L’)yOuは0〜−3の電荷を有し、
C’は+1〜+3の電荷を有する任意の対イオンであり、
kは0〜3の整数であり、
M’はTa、Nb、V、Mo、Co、Zn、Sb、Fe、W、Zr、Hf、Sn、Pb、Cr、Re、Tiおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される金属のイオンであり、
M’は+1〜+6の酸化状態を有し、
L’は0〜−4の電荷を有する酸化に安定な有機配位子であり、かつ
L’はカルボキシレート、アルコキシド、アミン、アミンオキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルシンオキシドおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される電子供与性官能基を含む。)と
を含むフォトレジスト組成物を調製すること;
ii) 前記フォトレジスト組成物を基板の表面上に設け、前記溶媒を除去することで、前記基板上に設けられたフォトレジスト層を形成すること;
iii) 前記フォトレジスト層をeビーム照射、X線照射および紫外線(UV)照射からなる群から選択される照射で画像に応じて露光すること;および
iv) 前記露光されたフォトレジスト層を水性現像液もしくは有機現像液またはその両方で現像することにより、前記基板上に設けられたパターン化されたフォトレジスト層であって、露光されたフォトレジストを含む表面フィーチャを含むパターン化されたフォトレジスト層を含む層構造を形成すること
を含む方法。 - 前記フォトレジスト組成物の前記溶媒は水である、請求項16に記載の方法。
- 前記フォトレジスト組成物はペルオキシドをさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記現像液は水および塩基を含む、請求項16に記載の方法。
- 前記フォトレジスト層は10nm〜200nmの間にある波長の紫外線照射源を用いて画像に応じて露光される、請求項16に記載の方法。
- 前記フォトレジスト層は13.5nmの波長の紫外線照射源を用いて画像に応じて露光される、請求項16に記載の方法。
- 前記方法は前記露光の前に前記設けられたフォトレジスト層をベークすることをさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記方法は前記現像の前に前記設けられたフォトレジスト層をベークすることをさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記方法は前記パターン化されたフォトレジスト層のフィーチャの前記パターンを前記基板に転写することをさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記方法は前記パターン化されたフォトレジスト層のフィーチャを前記基板に転写する前に前記パターン化されたフォトレジスト層をベークすることをさらに含む、請求項24に記載の方法。
- チタン(IV)、ニオブ(V)およびタンタル(V)からなる群から選択される金属イオンを含む金属塩;
前記金属イオンのモル数に対して0.5〜3.0モル当量の量の有機カルボン酸;
前記金属イオンのモル数に対して1.0〜10.0モル当量の量の過酸化水素;および
溶媒
を含むフォトレジスト組成物。 - 前記有機カルボン酸は前記金属イオンのモル数に対して0.75〜1.5モル当量の量で存在する、請求項26に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記有機カルボン酸は前記金属イオンのモル数に対して0.9〜1.1モル当量の量で存在する、請求項26に記載のフォトレジスト組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/405,587 US8703386B2 (en) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | Metal peroxo compounds with organic co-ligands for electron beam, deep UV and extreme UV photoresist applications |
US13/405,587 | 2012-02-27 | ||
PCT/IB2013/051128 WO2013128313A1 (en) | 2012-02-27 | 2013-02-12 | Metal peroxo compounds with organic co-ligands for electron beam, deep uv and extreme uv photoresist applications |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015513540A true JP2015513540A (ja) | 2015-05-14 |
Family
ID=49003237
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014558230A Pending JP2015513540A (ja) | 2012-02-27 | 2013-02-12 | 電子ビーム、ディープuvおよび極短uvフォトレジスト用途の有機共配位子を含む金属ペルオキソ化合物 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8703386B2 (ja) |
JP (1) | JP2015513540A (ja) |
KR (1) | KR20140121826A (ja) |
CN (1) | CN104145217B (ja) |
DE (1) | DE112013000700B4 (ja) |
GB (1) | GB2512794B (ja) |
SG (1) | SG11201402450UA (ja) |
WO (1) | WO2013128313A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017163922A1 (ja) * | 2016-03-24 | 2017-09-28 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性組成物、感活性光線性又は感放射線性組成物の精製方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
JP2017530386A (ja) * | 2014-08-06 | 2017-10-12 | ザ・ユニバーシティ・オブ・マンチェスターThe University Of Manchester | 電子ビームレジスト組成物 |
US11143961B1 (en) | 2015-09-30 | 2021-10-12 | The University Of Manchester | Resist composition |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9176377B2 (en) | 2010-06-01 | 2015-11-03 | Inpria Corporation | Patterned inorganic layers, radiation based patterning compositions and corresponding methods |
JP5830048B2 (ja) * | 2013-03-15 | 2015-12-09 | 信越化学工業株式会社 | チタン含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 |
US9310684B2 (en) * | 2013-08-22 | 2016-04-12 | Inpria Corporation | Organometallic solution based high resolution patterning compositions |
JP6495025B2 (ja) | 2014-01-31 | 2019-04-03 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 真空統合ハードマスク処理および装置 |
GB201405335D0 (en) | 2014-03-25 | 2014-05-07 | Univ Manchester | Resist composition |
WO2016043200A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2016-03-24 | Jsr株式会社 | パターン形成方法 |
WO2016043198A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2016-03-24 | Jsr株式会社 | パターン形成方法 |
KR102319630B1 (ko) | 2014-10-23 | 2021-10-29 | 인프리아 코포레이션 | 유기 금속 용액 기반의 고해상도 패터닝 조성물 및 상응하는 방법 |
JP6544248B2 (ja) * | 2015-02-09 | 2019-07-17 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 |
JP6384373B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2018-09-05 | Jsr株式会社 | パターン形成方法 |
KR20180054509A (ko) * | 2015-04-22 | 2018-05-24 | 알렉스 필립 그레이엄 로빈손 | 감도 강화 포토레지스트 |
KR102204773B1 (ko) | 2015-10-13 | 2021-01-18 | 인프리아 코포레이션 | 유기주석 옥사이드 하이드록사이드 패터닝 조성물, 전구체 및 패터닝 |
US10649328B2 (en) | 2016-03-11 | 2020-05-12 | Inpria Corporation | Pre-patterned lithography templates, processes based on radiation patterning using the templates and processes to form the templates |
US20180373143A1 (en) * | 2016-04-22 | 2018-12-27 | Irresistible Materials Ltd | Sensitivity enhanced photoresists |
TWI759147B (zh) | 2016-08-12 | 2022-03-21 | 美商因普利亞公司 | 減少邊緣珠區域中來自含金屬光阻劑之金屬殘留物的方法 |
KR101947517B1 (ko) * | 2018-01-23 | 2019-02-13 | 영창케미칼 주식회사 | Euv 광원용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물 |
JP6933605B2 (ja) * | 2018-05-21 | 2021-09-08 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
US11972948B2 (en) | 2018-06-13 | 2024-04-30 | Brewer Science, Inc. | Adhesion layers for EUV lithography |
US11092890B2 (en) | 2018-07-31 | 2021-08-17 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Semiconductor resist composition, and method of forming patterns using the composition |
KR102307977B1 (ko) | 2018-07-31 | 2021-09-30 | 삼성에스디아이 주식회사 | 반도체 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
US11092889B2 (en) | 2018-07-31 | 2021-08-17 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Semiconductor resist composition, and method of forming patterns using the composition |
TW202016279A (zh) | 2018-10-17 | 2020-05-01 | 美商英培雅股份有限公司 | 圖案化有機金屬光阻及圖案化的方法 |
WO2020102085A1 (en) | 2018-11-14 | 2020-05-22 | Lam Research Corporation | Methods for making hard masks useful in next-generation lithography |
US11720022B2 (en) | 2019-02-12 | 2023-08-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Resist compound, method of forming pattern using the same, and method of manufacturing semiconductor device using the same |
US11609494B2 (en) | 2019-04-30 | 2023-03-21 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition |
US20220308454A1 (en) * | 2019-06-28 | 2022-09-29 | Lam Research Corporation | Bake strategies to enhance lithographic performance of metal-containing resist |
EP3990982A4 (en) * | 2019-06-28 | 2023-07-26 | Lam Research Corporation | PHOTORESIST WITH MULTIPLE STRUCTURING RADIATION ABSORBING ELEMENTS AND/OR A VERTICAL COMPOSITION GRADIENT |
KR102446362B1 (ko) | 2019-10-15 | 2022-09-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
KR102431292B1 (ko) | 2020-01-15 | 2022-08-09 | 램 리써치 코포레이션 | 포토레지스트 부착 및 선량 감소를 위한 하부층 |
WO2021178302A1 (en) | 2020-03-02 | 2021-09-10 | Inpria Corporation | Process environment for inorganic resist patterning |
US11886116B2 (en) | 2020-05-06 | 2024-01-30 | Inpria Corporation | Multiple patterning with organometallic photopatternable layers with intermediate freeze steps |
TWI781629B (zh) * | 2020-05-22 | 2022-10-21 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 半導體裝置的製造方法 |
US11942322B2 (en) * | 2020-05-22 | 2024-03-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method of manufacturing semiconductor devices and pattern formation method |
EP4078292A4 (en) * | 2020-07-07 | 2023-11-22 | Lam Research Corporation | INTEGRATED DRY PROCESSES FOR PHOTORESIN PATTERNING BY RADIATION |
US11726405B2 (en) * | 2020-09-30 | 2023-08-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist for semiconductor fabrication |
CN115407607A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-11-29 | 大连理工大学 | 一类锌氧簇化合物在光刻胶领域的应用 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63100448A (ja) * | 1986-06-11 | 1988-05-02 | Hitachi Ltd | 放射線感応性材料 |
JPH05501164A (ja) * | 1989-07-21 | 1993-03-04 | ボード オブ リージェンツ,ザ ユニバーシティ オブ テキサス システム | パターンの形成方法及び転写方法 |
JP2003238573A (ja) * | 2002-02-18 | 2003-08-27 | Toray Ind Inc | 有機金属化合物を含む組成物ならびにディスプレイ部材およびディスプレイ |
JP2006182714A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Tohoku Univ | 有機タンタル水溶液および乳酸タンタルペルオキシ化合物結晶の製造方法 |
JP2013023407A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Jsr Corp | 金属酸化物膜形成用組成物 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61273539A (ja) | 1985-05-29 | 1986-12-03 | Hitachi Ltd | 放射線感応性材料 |
US5061599A (en) * | 1986-06-11 | 1991-10-29 | Hitachi, Ltd. | Radiation sensitive materials |
KR100881301B1 (ko) | 2001-04-09 | 2009-02-03 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 광반응성 조성물 |
WO2003037996A1 (fr) | 2001-10-30 | 2003-05-08 | Kansai Paint Co., Ltd. | Matiere de revetement et procede pour former un film d'oxyde de titane et substrat metallique revetu d'un tel film |
KR20030057133A (ko) | 2001-12-28 | 2003-07-04 | 삼성전자주식회사 | 금속 패턴 형성용 유기금속 전구체 및 이를 이용한 금속패턴 형성방법 |
KR101207381B1 (ko) | 2006-11-01 | 2012-12-05 | 더 스테이트 오브 오레곤 액팅 바이 앤드 쓰루 더 스테이트 보드 오브 하이어 에쥬케이션 온 비해프 오브 오레곤 스테이트 유니버시티 | 용액 처리된 박막들 및 적층체들, 상기 박막들 및적층체들을 포함하는 장치들, 및 그들의 사용 방법 및 제조방법 |
-
2012
- 2012-02-27 US US13/405,587 patent/US8703386B2/en active Active
-
2013
- 2013-02-12 DE DE112013000700.2T patent/DE112013000700B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2013-02-12 SG SG11201402450UA patent/SG11201402450UA/en unknown
- 2013-02-12 WO PCT/IB2013/051128 patent/WO2013128313A1/en active Application Filing
- 2013-02-12 GB GB201413639A patent/GB2512794B/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-02-12 KR KR1020147020226A patent/KR20140121826A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-02-12 CN CN201380011075.3A patent/CN104145217B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2013-02-12 JP JP2014558230A patent/JP2015513540A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63100448A (ja) * | 1986-06-11 | 1988-05-02 | Hitachi Ltd | 放射線感応性材料 |
JPH05501164A (ja) * | 1989-07-21 | 1993-03-04 | ボード オブ リージェンツ,ザ ユニバーシティ オブ テキサス システム | パターンの形成方法及び転写方法 |
JP2003238573A (ja) * | 2002-02-18 | 2003-08-27 | Toray Ind Inc | 有機金属化合物を含む組成物ならびにディスプレイ部材およびディスプレイ |
JP2006182714A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Tohoku Univ | 有機タンタル水溶液および乳酸タンタルペルオキシ化合物結晶の製造方法 |
JP2013023407A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Jsr Corp | 金属酸化物膜形成用組成物 |
Non-Patent Citations (7)
Title |
---|
"Coordination complexes of niobium and tantalum. eight-coordinated di- and triperoxoniobates (5) and", INORGANIC CHEMISTRY, vol. 7, no. 9, JPN6016029722, 1968, pages 1864 - 1868, ISSN: 0003372687 * |
"Peroxy niobium(5) and tantalum(5) complexes with 8-hydroxyquinoline", CHEMISTRY & INDUSTRY, vol. (40), JPN6016029725, 1968, pages 1360, ISSN: 0003372690 * |
"Spectroscopic and Structural Characterizations of Novel Water-Soluble Tetraperoxo and Diperoxo[polya", INORGANIC CHEMISTRY, vol. 43(19), JPN6016029723, 2004, pages 5999 - 6005, ISSN: 0003372688 * |
"Studies on transition metal peroxo complexes - 9. Carboxylato peroxo complexes of niobium(5), tanta", POLYHEDRON, vol. 8(11), JPN6016029721, 1989, pages 1371 - 7, ISSN: 0003372685 * |
"Synthesis and structure of new water-soluble and stable tantalum compound: ammonium tetralactatodipe", INORGANIC CHEMISTRY, vol. 45, no. 23, JPN6016029726, 2006, pages 9251 - 6, ISSN: 0003372691 * |
"Vibrational spectra of eoght-coordinate niobium and tantalum complexes with peroxo ligands: a theorr", EUR J. INORG. CHEM., vol. 4118-4123, JPN6016029724, 2005, ISSN: 0003372689 * |
CHEM. ABSTR., vol. 83, JPN7016002247, 1975, pages 762, ISSN: 0003372686 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017530386A (ja) * | 2014-08-06 | 2017-10-12 | ザ・ユニバーシティ・オブ・マンチェスターThe University Of Manchester | 電子ビームレジスト組成物 |
US11143961B1 (en) | 2015-09-30 | 2021-10-12 | The University Of Manchester | Resist composition |
WO2017163922A1 (ja) * | 2016-03-24 | 2017-09-28 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性組成物、感活性光線性又は感放射線性組成物の精製方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
JPWO2017163922A1 (ja) * | 2016-03-24 | 2018-11-08 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性組成物、感活性光線性又は感放射線性組成物の精製方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
US11156915B2 (en) | 2016-03-24 | 2021-10-26 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, method for purifying actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE112013000700T5 (de) | 2014-10-09 |
DE112013000700B4 (de) | 2016-09-22 |
GB2512794A (en) | 2014-10-08 |
US8703386B2 (en) | 2014-04-22 |
CN104145217B (zh) | 2019-02-05 |
GB201413639D0 (en) | 2014-09-17 |
US20130224652A1 (en) | 2013-08-29 |
GB2512794B (en) | 2015-05-06 |
CN104145217A (zh) | 2014-11-12 |
WO2013128313A1 (en) | 2013-09-06 |
SG11201402450UA (en) | 2014-06-27 |
KR20140121826A (ko) | 2014-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8703386B2 (en) | Metal peroxo compounds with organic co-ligands for electron beam, deep UV and extreme UV photoresist applications | |
KR101719834B1 (ko) | 레지스트 재료 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 | |
EP2240828B1 (en) | Exposure photolithography methods using photoresist compositions | |
KR101766289B1 (ko) | 전자 장치 형성 방법 | |
TWI576659B (zh) | 光阻材料及利用此光阻材料之圖案形成方法 | |
US7838198B2 (en) | Photoresist compositions and method for multiple exposures with multiple layer resist systems | |
KR20150040225A (ko) | 레지스트 재료 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 | |
Krysak et al. | Development of an inorganic nanoparticle photoresist for EUV, e-beam, and 193nm lithography | |
JP6326492B2 (ja) | 感放射線性又は感活性光線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 | |
JP4245172B2 (ja) | パターン形成用基材、ネガ型レジスト組成物、パターン形成方法、および半導体装置 | |
WO2014204516A1 (en) | Method to improve resist performance for the negative tone develop organic development process | |
JP2014160143A (ja) | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 | |
JP5321415B2 (ja) | レジストパターン厚肉化材料、並びに、半導体装置及びその製造方法 | |
KR20140097133A (ko) | 하이브리드 포토레지스트 조성물 및 그것을 이용한 패턴 형성 방법 | |
US9964851B2 (en) | Resist pattern forming method and developer for lithography | |
CN107250914A (zh) | 上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法 | |
US20230375932A1 (en) | Resist compound and underlayer compound for photolithography, multilayered structure formed using the same, and method for manufacturing semiconductor devices using the same | |
CN114967326A (zh) | 组成物以及用于制造半导体装置的方法 | |
CN117355796A (zh) | 光致抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、半导体装置的制造方法及基板处理装置 | |
Stowers | Direct patterning of solution deposited metal oxides |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160203 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160809 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170328 |