WO2014185314A1 - 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、画像表示装置、反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム清掃用布、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット、反射防止フィルムの清掃方法 - Google Patents

Abstract

　十分な反射防止性能を有し、面状の均一性に優れ、かつ簡便な方法で作製できるモスアイ構造を有する反射防止フィルム、上記反射防止フィルムを有する偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム清掃用布、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット、反射防止フィルムの清掃方法を提供することを目的として、プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含む反射防止層とをこの順に隣接して有し、上記反射防止層が上記浸透層と反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止フィルムを提供する。　

Description

反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、画像表示装置、反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム清掃用布、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット、反射防止フィルムの清掃方法

　本発明は、反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、画像表示装置、反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム清掃用布、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット、反射防止フィルムの清掃方法に関する。

　陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。

　反射防止フィルムとして、基材表面に周期が可視光の波長以下の微細な凹凸形状を有する反射防止フィルム、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ　ｅｙｅ）構造を有する反射防止フィルムが知られている。モスアイ構造により、擬似的に空気から基材の内部のバルク材料に向かって屈折率が連続的に変化する屈折率傾斜層を作り出し、光の反射を防止することができる。

　モスアイ構造を有する反射防止フィルムとして、特許文献１には、透明樹脂モノマーと微粒子を含有する塗布液を透明基材上に塗布し、硬化して微粒子が分散した透明樹脂を形成し、その後、透明樹脂をエッチングすることにより製造されたモスアイ構造を有する反射防止フィルムが記載されている。

日本国特開２００９－１３９７９６号公報

　しかしながら、特許文献１の技術では、透明樹脂をエッチングする必要があり、反射防止フィルムの製造工程が複雑になることがある。

　そこで、本発明者は、エッチングを行わずに、モスアイ構造を作製することについて検討した。
　基材上に、粒子とバインダーとを含む塗布液を塗布、硬化させるのみでモスアイ構造を有する膜を設けようとしたところ、
　（１）塗布前の段階で、粒子の含有率が高く、バインダーの含有率が低いと、塗布液を塗布してから膜になるまでに粒子同士が凝集してしまい、均一な膜ができない、
　（２）塗布後の段階で、粒子の含有率が低く、バインダーの含有率が高いと、粒子がバインダー中に埋まってしまい、凹凸構造が形成できず、十分な反射防止性能が出ない、という問題があることを発見した。粒子同士が凝集しすぎると、凝集部分が大きな散乱体として作用するため、膜が白濁し、ヘイズを生じてしまう。その結果、コントラストを悪化させ、反射防止フィルムによる画面の美しい黒締りも損ねてしまう。

　すなわち、本発明の課題は、十分な反射防止性能を有し、面状の均一性に優れ、かつ簡便な方法で作製できるモスアイ構造を有する反射防止フィルムを提供することにある。また、本発明の別の課題は、反射防止フィルムを含む偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置を提供することにある。

　更に、モスアイ構造を有する反射防止フィルムは、その凹凸構造中に空気とは屈折率の異なる物質が存在すると、その部分だけ反射率が上がってしまい、視認性を著しく損ねるという、物質の付着（＝汚れ）に対する原理的な課題が存在する。よって本発明の更なる課題は、モスアイ構造を有する反射防止フィルムに汚れが付着しにくくし、汚れに対する耐久性を付与することにある。したがって、本発明の別の目的として、反射防止フィルム清掃用布、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット、及び反射防止フィルムの清掃方法を提供することもある。

　上を解決するために鋭意検討し、塗布液の段階では粒子の含有率が低く、粒子同士が凝集しすぎず、塗布液を基材に塗布した際に、バインダーの一部だけが基材に浸透することで、膜中のバインダーの含有率が低減し、膜の完成時には粒子によって凹凸構造が形成され、低反射でかつ面の均一性に優れたモスアイ構造が容易に作製できることを見出した。
　また特定の防汚剤を表面に存在させたモスアイ構造を作製することで、水接触角を著しく高くし、撥水撥油性に優れた反射防止フィルムを作製できることを見出し、更に、特定の空隙或いは空孔サイズと接触角を持つ極細繊維布を使用することで、モスアイ構造を有する反射防止層表面に付着した汚れを簡便に除去できることを見出した。

　すなわち、上記課題は、以下の構成によって解決される。

［１］
　プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含む反射防止層とをこの順に隣接して有し、上記反射防止層が上記浸透層と反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止フィルム。
［２］
　波長３８０～７８０ｎｍの全域にわたって積分反射率が３％以下である、［１］に記載の反射防止フィルム。
［３］
　上記バインダー樹脂が、分子量１５０～１６００の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を硬化して得られた樹脂を含む、［１］又は［２］に記載の反射防止フィルム。
［４］
　上記バインダー樹脂が、ＳＰ値２０～２５の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を硬化して得られた樹脂を含む、［１］～［３］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［５］
　上記粒子が金属酸化物粒子である、［１］～［４］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［６］
　上記粒子がシリカ粒子である、［１］～［５］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［７］
　上記粒子が、表面に不飽和二重結合を有する化合物による処理がなされた粒子である、［１］～［６］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［８］
　上記反射防止層の膜厚が０．１～５μｍである、［１］～［７］のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
［９］
　上記浸透層の膜厚が０．１～５μｍである、［１］～［８］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［１０］
　上記反射防止層に分散剤を含有する、［１］～［９］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［１１］
　上記浸透層に、上記プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒を含有する、［１］～［１０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［１２］
　上記プラスチック基材がセルロースアシレートを含有する、［１］～［１１］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［１３］
　ヘイズ値が５％以下である［１］～［１２］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［１４］
　水の接触角が１００°以上である［１］～［１３］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［１５］
　上記反射防止層に、含フッ素化合物又はシリコーン化合物を反射防止層全体の２質量％以下の範囲で含有する、［１］～［１４］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［１６］
　上記含フッ素化合物又はシリコーン化合物が、分子中に重合性基を有する、［１５］に記載の反射防止フィルム。
［１７］
　上記フッ素化合物が、分子中にポリエーテル化合物を有する、［１５］又は［１６］に記載の反射防止フィルム。
［１８］
　上記シリコーン化合物が、分子量１０００以上のポリジメチルシロキサンユニットを有する、［１５］又は［１６］に記載の反射防止フィルム。
［１９］
　上記含フッ素化合物又はシリコーン化合物を含有し、水の接触角が１１０°以上かつ、オレイン酸の接触角が８０°以上である、［１５］～［１８］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［２０］
　上記粒子の平均一次粒径が５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下で、かつＣｖ値が５％未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有する、［１］～［１９］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［２１］
　［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして有する偏光板。
［２２］
　［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを保護フィルムとして有するカバーガラス。
［２３］
　［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、又は［２１］に記載の偏光板を有する画像表示装置。
［２４］
　プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含む反射防止層とをこの順に隣接して有し、上記反射防止層が上記浸透層と反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
　プラスチック基材上に、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子、バインダー樹脂形成用重合性化合物、及びプラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒を含む組成物を塗布し、プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒及びバインダー樹脂形成用重合性化合物の一部をプラスチック基材中に浸透させ、上記有機溶媒を乾燥させた後に、電離放射線照射又は加熱によりバインダー樹脂形成用重合性化合物を硬化させて、上記浸透層、及び上記浸透層と反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止層を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
［２５］
　［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルムに付着した汚れを除去するための清掃用布であって、［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルムの上記粒子の平均一次粒子径よりも小さな間隔の空孔又は空隙を有し、水の接触角が９０°未満である清掃用布。
［２６］
　［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルムと、
　［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルムの上記粒子の平均一次粒子径よりも小さな間隔の空孔又は空隙を有し、水の接触角が９０°未満である清掃用布とを含むキット。
［２７］
　［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルムの上記粒子の平均一次粒子径よりも小さな間隔の空孔又は空隙を有し、水の接触角が９０°未満である清掃用布を用いて、［１］～［２０］のいずれか一項に記載の反射防止フィルムに付着した汚れを除去する反射防止フィルムの清掃方法。

　本発明によれば、十分な反射防止性能を有し、面状の均一性に優れ、かつ簡便な方法で作製できるモスアイ構造を有する反射防止フィルムを提供することができる。また、本発明によれば、上記反射防止フィルムを含む偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置を提供することができる。
　更に、本発明によれば、防汚性を兼ね備えたモスアイ構造を有する反射防止フィルムを提供でき、上記反射防止フィルムを用いることで、モスアイ構造を有しながら反射防止と防汚性を付与した、実用性があり視認性の良好な偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置を提供することができる。
　また本発明の反射防止フィルムと清掃用布と含むキットによれば、反射防止フィルムを清掃用布で清掃することで、モスアイ構造を有する反射防止フィルムの汚れを簡便に除去できる。

本発明の反射防止フィルムの実施例である試料Ｎｏ．２ＡのＳＥＭ像を示す写真を表す図である。 比較例である試料Ｎｏ．１２ＡのＳＥＭ像を示す写真を表す図である。

　本発明の反射防止フィルムは、プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含む反射防止層とをこの順に隣接して有し、上記反射防止層が上記浸透層と反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止フィルムである。

　以下、本発明の反射防止フィルムについて詳細に説明する。

［プラスチック基材］
　本発明の反射防止フィルムにおけるプラスチック基材について説明する。
　上記プラスチック基材としては、種々用いることができ、例えば、セルロース系樹脂；セルロースアシレート（トリアセテートセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース）等、ポリエステル樹脂；ポリエチレンテレフタレート等、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、オレフィン系樹脂等を含有する基材が挙げられ、浸透層を作製し易い観点から、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、又は（メタ）アクリル系樹脂を含有する基材が好ましく、セルロースアシレートを含有する基材がより好ましい。セルロースアシレートとしては、特開２０１２－０９３７２３に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
　プラスチック基材の厚さは、通常、１０μｍ～１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、透明性が高く、かつ十分な強度が得られるという観点から２０μｍ～２００μｍが好ましく、２５μｍ～１００μｍがより好ましい。プラスチック基材の透明性としては、透過率９０％以上のものが好ましい。

　プラスチック基材は、反射防止層を積層したときに浸透層を形成することが出来る場合には、表面に別の樹脂層を備えていても良い。例えば、基材にハードコート性を付与するためのハードコート層、他の層との密着性を付与するための易接着層、帯電防止性を付与するための層等を備えていても良く、それらを複数備えていても良い。

（ハードコート層）

　ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
　ハードコート層上に反射防止層を積層したときに浸透層を形成するためには、反射防止層を形成するための塗布液を基材に塗布した際に、バインダーの一部だけが基材に浸透できるようにハードコート層を予めハーフキュアにしておき、浸透層が形成された後にフルキュアする方法等が好ましい。このような方法を用いて作製すれば、反射防止性とともにハードコート性を持たせることができる。
　電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
　光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

　重合性不飽和基を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６－ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　２，２－ビス｛４－（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２－２－ビス｛４－（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。

　更にはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。

　中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

　（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ－２Ｃ、同ＰＥＴ－３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ－３２０、同ＴＰＡ－３３０、同ＲＰ－１０４０、同Ｔ－１４２０、同Ｄ－３１０、同ＤＰＣＡ－２０、同ＤＰＣＡ－３０、同ＤＰＣＡ－６０、同ＧＰＯ－３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃３ＰＡ、Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ、Ｖ＃１０００、Ｖ＃１０８０等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ－１４００Ｂ、同ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７５５０Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６０５Ｂ、同ＵＶ－７６１０Ｂ、同ＵＶ－７６２０ＥＡ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、同ＵＶ－６６３０Ｂ、同ＵＶ－７０００Ｂ、同ＵＶ－７５１０Ｂ、同ＵＶ－７４６１ＴＥ、同ＵＶ－３０００Ｂ、同ＵＶ－３２００Ｂ、同ＵＶ－３２１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０Ｂ、同ＵＶ－３５００ＢＡ、同ＵＶ－３５２０ＴＬ、同ＵＶ－３７００Ｂ、同ＵＶ－６１００Ｂ、同ＵＶ－６６４０Ｂ、同ＵＶ－２０００Ｂ、同ＵＶ－２０１０Ｂ、同ＵＶ－２２５０ＥＡ、同ＵＶ－２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＬ－５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７－８０６、同１７－８１３、同Ｖ－４０３０、同Ｖ－４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ－１２９０Ｋ、ＥＢ－２２０、ＥＢ－５１２９、ＥＢ－１８３０，ＥＢ－４８５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、ハイコープＡＵ－２０１０、同ＡＵ－２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ－１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ－３３２０ＨＡ，ＵＮ－３３２０ＨＣ，ＵＮ－３３２０ＨＳ、ＵＮ－９０４，ＨＤＰ－４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ－８１００，Ｍ－８０３０，Ｍ－９０５０（東亞合成（株）製、ＫＲＭ－８３０７（ダイセルサイテック（株）製）などの３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。特にＤＰＨＡやＰＥＴ－３０が好ましく用いられる。

　更に、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。

　また、特開２００５－７６００５号、同２００５－３６１０５号公報に記載されたデンドリマーや、特開２００５－６０４２５号公報に記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。

　多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる

　ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常０．５μｍ～５０μｍ程度であり、好ましくは１μｍ～２０μｍである。
　また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ　Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

（その他の成分）  
　ハードコート層形成用塗布組成物には、上記成分のほかに、更に溶剤、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等を適宜添加することもできる。更に、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良い。 

（ハードコート層形成用塗布組成物の溶剤）  
　溶剤の具体例としては、イソプロパノール（ＩＰＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン等が挙げられる。光学シートの硬度を向上できる点から、ＭＩＢＫ、イソプロパノール等の非浸透性溶剤を併用することが好ましい。非浸透性溶剤を併用することにより、上記第一のバインダー成分がトリアセチルセルロース基材に浸透しすぎなくなるため、硬度を高めることができる。  

（重合開始剤）  
　必要に応じてラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び／又は加熱により分解されて、ラジカル若しくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。  

（帯電防止剤）  
　帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、導電性ポリマー、導電性微粒子等の従来公知の帯電防止剤を、反射防止層を積層したときに浸透層を形成することが出来る範囲で用いることができる。  

（防眩剤）  
　防眩剤としてはスチレンビーズ（屈折率１．５９）、ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、メタクリル酸メチル－スチレン共重合体等の微粒子の防眩剤など従来公知の防眩剤を反射防止層を積層したときに浸透層を形成することが出来る範囲で用いて良い。微粒子の防眩剤を用いる場合その添加量は、硬化性樹脂組成物１００重量部に対し、好ましくは２～３０重量部、より好ましくは１０～２５重量部である。  

（屈折率調整剤）
　ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、屈折率調整剤として高屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を反射防止層を積層したときに浸透層を形成することが出来る範囲で加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、上記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。

（レベリング剤）  
　レベリング剤の具体例としては、フッ素系又はシリコーン系等の従来公知のレベリング剤を用いることが出来る。レベリング剤を添加したハードコート層形成用塗布組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性を付与することができる。  

［浸透層］
　本発明の反射防止フィルムは、プラスチック基材と反射防止層との間に、プラスチック基材と反射防止層に隣接した浸透層を有する。
　本発明において、浸透層とは、プラスチック基材成分と反射防止層のバインダー樹脂成分とを含む層（領域）である。浸透層は、プラスチック基材に、プラスチック基材に対して浸透性を有する溶媒（基材浸透性溶媒）と、反射防止層のバインダー樹脂成分を含む反射防止層形成用塗布液を塗布し、基材浸透性溶媒がプラスチック基材に浸透するとともに、反射防止層のバインダー樹脂成分もプラスチック基材に浸透することで得られる。反射防止層のバインダー樹脂成分は、バインダー樹脂又はバインダー樹脂の材料であるモノマーを含む概念である。プラスチック基材成分とは、プラスチック基材を構成する成分を指す。プラスチック基材がハードコート層等の別の樹脂層を表面に備えている場合は、その別の樹脂層を構成する成分もプラスチック基材成分である。
　本発明では以後、プラスチック基材とは、プラスチック基材成分を含み、かつ、反射防止層のバインダー樹脂成分を含まない部分を指すこととする。また、反射防止層とは、反射防止層のバインダー樹脂成分を含み、かつプラスチック基材成分を含まない部分を指すこととする。
　また、浸透層は、本発明の反射防止フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）で分析した時に、プラスチック基材成分と、反射防止層のバインダー樹脂成分が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ－ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。
　また、浸透層は、例えば光の干渉を利用した反射分光膜厚計やＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により、基材と反射防止層の中間に別の１層を検出することによっても測定することが出来る。反射分光膜厚計としては、ＦＥ－３０００（大塚電子（株）製）等を用いることが出来る。
　浸透層の厚さは、塗布組成物中の粒子含率を高くしすぎずにモスアイ層を形成できる観点から、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。
　浸透層は、効率よく浸透層が形成できる観点から、基材浸透性溶媒を含有することが好ましい。反射防止層形成用組成物における基材浸透性溶媒の含有量は、１０～９５質量％が好ましく、２０～９０質量％がより好ましい。
　基材浸透性溶媒については後述する。

［反射防止層］
　本発明の反射防止フィルムは、浸透層に隣接した反射防止層を有する。
　反射防止層は、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子とバインダー樹脂とを含む。
　反射防止層の浸透層とは反対側の表面は、に上記粒子によって形成されたモスアイ構造を有する。
　ここで、モスアイ構造とは、光の反射を抑制するための物質(材料)の加工された表面であって、周期的な微細構造パターンをもった構造のことを指す。特に、可視光の反射を抑制する目的の場合には、７８０ｎｍ未満の周期の微細構造パターンをもった構造のことを指す。微細構造パターンの周期が３８０ｎｍ未満であると、反射光の色味がなくなり好ましい。また、周期が１００ｎｍ以以上であると波長３８０ｎｍの光が微細構造パターンを認識出来、反射防止性に優れるため好ましい。モスアイ構造の有無は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により表面形状を観察し、上記微細構造パターンが出来ているかどうか調べることによって確認することができる。

　反射防止層の膜厚は、０．０５～５μｍであることが好ましく、０．１～１μｍであることがより好ましい。

（平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子）
　反射防止層に含まれる平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子について説明する。
　上記粒子としては、金属酸化物粒子、樹脂粒子、金属酸化物粒子のコアと樹脂のシェルを有する有機無機ハイブリッド粒子などが挙げられるが、膜強度に優れる観点から金属酸化物粒子が好ましい。
　金属酸化物粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、多くのバインダーと屈折率が近いためヘイズを発生しにくく、かつモスアイ構造が形成し易い観点からシリカ粒子が好ましい。
　樹脂粒子としては、ポリメタクリル酸メチル粒子、ポリスチレン粒子、メラミン粒子などが挙げられる。

　上記粒子の平均一次粒子径は、粒子が並んでモスアイ構造を形成できる観点から５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下であり、１００ｎｍ以上６５０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以上５３０ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下が更に好ましい。粒径が下限範囲以上であることにより可視光の反射の抑制効果を高めることが出来、上限以下であることにより粒子が散乱体として働くことなく、この場合も可視光の反射の抑制効果に優れる。
　平均一次粒子径の異なる２種以上の粒子を用いてもよい。
　上記粒子の平均一次粒子径は、体積平均粒径の累積の５０％粒子径を指す。反射防止膜中に含まれる粒子の平均一次粒子径を測定する場合には、電子顕微鏡写真により測定することが出来る。例えば、反射防止フィルムの切片ＴＥＭ像を撮影し、一次粒子１００個のそれぞれの直径を測長してその体積を算出し、累積の５０％粒子径を平均一次粒子径とすることができる。粒子が球形でない場合には、長径と短径の平均値をその一次粒子の直径とみなす。

　上記粒子の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。
　また、シリカ粒子については、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよい。

　上記粒子は塗布液中での分散性向上、膜強度向上、凝集防止のために表面処理を施していてもよく、特に、膜強度向上の観点から、表面に不飽和二重結合を有する化合物による処理がなされた粒子であることが好ましい。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７－２９８９７４号公報の［０１１９］～［０１４７］に記載のものと同様である。

　また、粒子はモスアイ構造を有する反射防止層に防汚性を付与するために、粒子表面に撥水撥油処理を施しても良い。後述する反射防止層に防汚剤を添加する場合と併用すると、特に繰り返し汚れが付着した際にも防汚性を維持するためにより好ましい。撥水撥油処理としては、含フッ素アルコキシシランや、分子中にポリジメチルシロキサンユニットを持つアルコキシシランを用いて、乾式又は湿式処理することが好ましい。
　含フッ素アルコキシシランとしては、フルオロアルキル基含有オリゴマーのＫＰ－８０１Ｍ（信越化学工業製）、Ｘ－２４－７８９０（信越化学工業製）、ＫＢＭ－７８０３（トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業製）、ＳＩＨ５８４１．５（ヘプタデカフルオロ-１，１，２，２、－テトラヒドロデシルトリメトキシシラン、Ｇｅｌｅｓｔ製）、ＳＩＨ５８４１．２(ヘプタデカフルオロ－１，１，２，２－テトラヒドロデシルトリエトキシシラン、Ｇｅｌｅｓｔ製)が挙げられる。また分子中にポリジメチルシロキサンユニットを持つアルコキシシランとしては、ＫＰＮ－３５０４（信越化学工業製）、ＤＭＳ－ＸＥ１１（エトキシ末端ポリジメチルシロキサン、Ｇｅｌｅｓｔ製）、ＤＭＳ－ＸＭ１１（メトキシ末端ポリジメチルシロキサン、Ｇｅｌｅｓｔ製）、ＤＭＳ－Ｓ１２、－Ｓ１４、－Ｓ１５（シラノール末端ポリジメチルシロキサン）などが挙げられる。
　乾式処理は、一般的に攪拌機によって高速回転しているフィラーに、アルコキシシランの原液を均一に分散させて処理する方法がとられる。乾式処理は均一な処理は困難だが、大量のフィラーなどを短時間に処理できるため、工業用途に広く用いられ、乾燥したフィラーに対して処理する場合は、あらかじめ水を含ませておくと処理効率が高くなることが知られている。
　湿式処理は、一般的にアルコキシランの希薄溶液にフィラーを浸漬する方法で、アルキルシラン類、特に長鎖アルキルシラン、フッ素アルキルシランは、疎水性が高く、水単独系での処理が難しいため、酢酸などでｐＨ調整した水・アルコール混合溶液にて処理するのが適当である。フィラーの表面に均一に処理できることから、精度の高い処理が可能である。
　更に乾式処理と湿式処理を順に実施することも好ましく、一方の処理だけでは達成できない、より表面処理率の高い粒子や、異なる２種類の表面処理を施した粒子を作製できる。

　特に焼成シリカ粒子に対する表面処理、及び解砕、分級方法としては、特開２００８－１３７８５４号公報の[００５５]～[００７２]に記載の方法を適宜用いることが好ましい。

　平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子の具体的な例としては、ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ（平均一次粒子径５０ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）、シーホスターＫＥ－Ｐ１０（平均一次粒子径１５０ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ－Ｐ３０（平均一次粒子径３００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ－Ｐ５０（平均一次粒子径５５０ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ－Ｓ３０（平均一次粒子径３００ｎｍ、耐熱性１０００℃、日本触媒（株）製焼成シリカ）、シーホスターＫＥ－Ｓ５０（平均一次粒子径５００ｎｍ、耐熱性１０００℃、日本触媒（株）製焼成シリカ）、エポスターＳ（平均一次粒子径２００ｎｍ、日本触媒（株）製メラミン・ホルムアルデヒド縮合物）、エポスターＭＡ―ＭＸ１００Ｗ（平均一次粒子径１７５ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、エポスターＭＡ―ＭＸ２００Ｗ（平均一次粒子径３５０ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、スタフィロイド（アイカ工業（株）製多層構造有機微粒子）、ガンツパール（アイカ工業（株）製ポリメチルメタクリレ－ト、ポリスチレン粒子）などを好ましく用いることができる。

　本発明の反射防止フィルムの反射防止層形成用塗布液における粒子の含有率は、固形分中３質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることが更に好ましい。下限以上では、モスアイ構造の凸部が数多く形成できるため反射防止性がより向上しやすく、上限以下であると、液中での凝集が生じにくく、モスアイ構造をうまく形成しやすい。

　粒子の平均一次粒径が５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下で、かつＣｖ値が５％未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有することがモスアイ構造の凹凸の高さが均一になり、反射率がより低下するため好ましい。Ｃｖ値は通常レーザー回折型粒径測定装置を用いて測定されるが、他の粒径測定方式でも良いし、本発明の反射防止層の表面ＳＥＭ像から、画像解析によって粒径分布を求め算出することもできる。Ｃｖ値は３％未満であることがより好ましい。

（反射防止層のバインダー樹脂）
　反射防止層形成用塗布組成物に含まれる、反射防止層のバインダー樹脂について説明する。
　反射防止層のバインダー樹脂は、バインダー樹脂形成用重合性化合物（モノマー）を硬化して得られたものであることが好ましい。
　上記モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の不飽和二重結合）を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２を有する化合物好ましく、（メタ）アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。

　重合性の官能基を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。

　中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

　上記バインダー樹脂は、分子量１５０～１６００の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を硬化して得られた樹脂を含むことが好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する化合物の分子量は、１７０～１４００がより好ましく、２００～１２００が更に好ましい。下限以上であると、反射防止層の強度を十分強くすることが出来、上限以下であると浸透層をうまく形成しやすい。
　なお、化合物がポリマーである場合、上記分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算の質量平均分子量である。

　上記反射防止層のバインダー樹脂は、基材への浸透性の観点の観点から、ＳＰ値２０～２５の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を硬化して得られた樹脂を含むことが好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する化合物のＳＰ値は、基材表面のＳＰ値に対して±４以内であることが好ましく、±２以内が更に好ましい。
　なお、本発明におけるＳＰ値（溶解性パラメーター）は、Ｈｏｙ法によって算出した値であり、Ｈｏｙ法は、ＰＯＬＹＭＥＲＨＡＮＤＢＯＯＫ ＦＯＵＲＴＨ ＥＤＩＴＩＯＮに記載がある。

＜（ａ）１分子中に２つ以下の重合性官能基を有する化合物＞
　重合性化合物としては、プラスチック基材への浸透のしやすさの観点から、（ａ）１分子中に２つ以下の重合性官能基を有する化合物が好ましい。
　上記化合物（ａ）としては、質量平均分子量Ｍｗ_ａが４０＜Ｍｗ_ａ＜５００で、Ｈｏｙ法によるＳＰ値ＳＰ_ａが１９＜ＳＰ_ａ＜２４．５である化合物であることが好ましい。このような分子量とＳＰ値を有する化合物は、プラスチック基材（特にセルロースアシレート基材）へ浸透し易く、プラスチック基材と反射防止層との間の浸透層形成に好ましい化合物である。また、重合性官能基数が２つ以下であるため硬化時の収縮が小さく、プラスチック基材側へ浸透させ硬化させてもカールを生じさせることがない。
　１分子中の重合性官能基の数は１又は２が好ましく、１がより好ましい。

　（ａ）１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の不飽和二重結合）を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２を有する化合物好ましい。

　（ａ）１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、などのエチレンユニット繰り返し数８以下のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、などのプロピレンユニット繰り返し数６以下のポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　２，２－ビス｛４－（メタクリロキシ・エトキシ）フェニル｝プロパン、２，２－ビス｛４－（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　イソボルニル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、β－カルボキエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等の単官能の（メタ）アクリル酸エステル類；等が挙げられる。

（分散剤）
　本発明の反射防止フィルムの反射防止層には、粒子の凝集防止の観点で、分散剤を含有してもよい。分散剤としては、特に限定されないが、硫酸塩、リン酸塩などのアニオン性化合物、脂肪族アミン塩、四級アンモニウム塩などのカチオン性化合物、非イオン性化合物、高分子化合物が好ましく、吸着基と立体反発基それぞれの選択の自由度が高いため高分子化合物がより好ましい。
　分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、ビックケミー・ジャパン（株）製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２１６４、Ｂｙｋｕｍｅｎ、ＢＹＫ－Ｐ１０４、ＢＹＫ－Ｐ１０４Ｓ、ＢＹＫ－２２０Ｓ、Ａｎｔｉ－Ｔｅｒｒａ２０３、Ａｎｔｉ－Ｔｅｒｒａ２０４、Ａｎｔｉ－Ｔｅｒｒａ２０５（以上商品名）などが挙げられる。
　反射防止層が分散剤を含む場合、分散剤の含有量は、粒子量に対して、０．０１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以上１０質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％以上５質量％以下であることが更に好ましい。

（レベリング剤）
　本発明の反射防止フィルムの反射防止層には、レベリング剤(防汚剤とも呼ぶ)を含有してもよい。
　レベリング剤の具体例としては、フッ素系又はシリコーン系等の従来公知のレベリング剤を用いることが出来る。レベリング剤を添加した反射防止層形成用塗布組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性、滑り性、防汚性、及び耐擦傷性を付与することができる。

　防汚性の観点から、本発明の反射防止フィルムは、水の接触角が１００°以上であることが好ましく、１１０°以上であることがより好ましく、１２０°以上であることが更に好ましい。
　反射防止フィルムに防汚性を付与のため、反射防止層に、含フッ素化合物又はシリコーン化合物を反射防止層全体の１質量％以下の範囲で含有することが好ましい。
　含フッ素化合物又はシリコーン化合物が、分子中に重合性基を有することが好ましい。
　フッ素化合物が、分子中にポリエーテル化合物を有することが好ましい。
　シリコーン化合物が、分子量１０００以上のポリジメチルシロキサンユニットを有することが好ましい。
　特に防汚性を付与するには、特開２０１２－８８６９９号公報の[００１２]～[０１０１]に記載のハードコート層へ使用する防汚剤を適宜用いることが好ましいが、本発明のモスアイ構造をもつ反射防止フィルムに防汚剤を添加する際の変化点としては、下記の組成物中の添加量の違いが挙げられる。

［含フッ素防汚剤の添加量］
　重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の添加量は、反射防止層形成用組成物中の全固形分に対して２質量％以下が好ましく、０．０００１～１質量％であることがより好ましく、０．０００５～０．５質量％が更に好ましく、０．００１～０．１質量％が特に好ましい。添加量が０．０００１質量％以上であると、撥水撥油性を有する防汚剤の表面での存在割合が適度になり、十分な防汚性が得られる。また、添加量が１質量％以下であると、表面に析出した防汚剤量が多くならず、膜強度が劣ったり、膜が白化し反射率が上昇しないため好ましい。

［ポリシロキサン防汚剤の添加量］
　ポリシロキサン防汚剤の添加量は、反射防止層形成用組成物中の全固形分に対して２質量％以下が好ましく、０．０００１質量％～１質量％であることがより好ましく、０．０００５質量％～０．５質量％が更に好ましく、０．００１質量％～０．１質量％が特に好ましい。添加量が０．０００１質量％以上であると、撥水撥油性を有する防汚剤の表面での存在割合が適度になり、十分な防汚性が得られる。また、添加量が１質量％であると、表面に析出した防汚剤量が多くならず、膜強度が劣ったり、膜が白化し反射率が上昇しないため好ましい。

[モスアイ構造を持つ反射防止層の接触角]
　モスアイ構造は、凹凸が非常に小さいため、上記含フッ素化合物やポリシロキン化合物を均一に表面に存在させれば、いわゆるロータス効果と言われる撥水現象を引き起こすことができ、水に対しての接触角が１００°以上となり、平滑な表面に上記化合物を存在させた時よりも、防汚性が非常に良好となる。
　本発明の反射防止フィルムは、含フッ素化合物又はシリコーン化合物を含有し、水の接触角が１１０°以上かつ、オレイン酸の接触角が７５°以上であることが特に好ましい。オレイン酸の接触角は８０°以上であることがより好ましく、８５°以上であることが更に好ましい。オレイン酸に対する接触角が７５°以上であれば、人の皮脂や油、特に指紋の付着性が著しく抑制でき良好である。

　本発明のモスアイ構造を持つ反射防止フィルムに防汚性を付与する方法として、特開平７－９８４０１にも記載されているように、屈折率１．４０以下の含フッ素層(＝防汚層)を別層としてディッピングで形成する方式や、防汚層を塗布により形成する方式もあるが、これらの方式ではモスアイ構造の凹部が必ず埋まってしまい、反射率悪化を招く。反射防止層用組成物中に防汚剤を少量添加し、表面に存在させる方式が好ましく、上記防汚剤の構造中に粒子との反応性基を持たせると、粒子による凸部に防汚剤が結合し、防汚性を付与、維持する上で更に好ましい。例えば、アルコキシシラン構造を含有する防汚剤を、酸触媒、塩基性触媒、金属キレート触媒等と組み合わせて、反射防止層用組成物中に添加することが特に好ましい。

　本発明は、反射防止フィルム清掃用布、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット、及び反射防止フィルムの清掃方法にも関する。
　本発明のモスアイ構造を持つ反射防止フィルムに付着した汚れを除去するための清掃方法として、特定の清掃用布を用いることが好ましい。清掃用布としては、モスアイ構造よりも小さい空隙、空孔を持つことが好ましく、具体的には可視光波長以下の５０～３８０ｎｍの空隙若しくは空孔を持つことが好ましく、５０～３００ｎｍ以下であることが更に好ましく、５０～２００ｎｍ以下であることが最も好ましい。このような清掃用布を作製する方法として、特開２０１２－２０７３２２に記載されている２種類以上のポリエステル長繊維からなる混織糸で、少なくとも１種類がポリプロピレンテレフタレート又はポリブチレンテレフタレートからなり、２０％伸長時の伸縮弾性率が７０％以上である、単繊維径が５０～９００ｎｍのナノファイバー混織糸を用いることが好ましい。
　更に清掃用布の水接触角が９０°未満であることが好ましく、５０°未満であることが更に好ましく、３０°未満であることが好ましい。特開２０１２－２０７３２２に記載されているナノファイバー混織糸を用いた布は、そのままでは水接触角が９０°以上となり不適であるため、コロナ処理、ケン化処理等の親水化処理を施すことが必要である。
　ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間ナノファイバー混織糸を浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。ナノファイバー混織糸が親水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％～２５質量％であり、処理温度は３０℃～７０℃、処理時間は１５秒～５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。

　本発明の反射防止フィルムは、波長３８０～７８０ｎｍの全域にわたって積分反射率が３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。
　本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ値が５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。

［反射防止フィルムの製造方法］
　本発明の反射防止フィルムの製造方法は、
　プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含む反射防止層とをこの順に隣接して有し、上記反射防止層が上記浸透層と反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
　プラスチック基材上に、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子、バインダー樹脂形成用重合性化合物、及びプラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒を含む組成物を塗布し、プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒及びバインダー樹脂形成用重合性化合物をプラスチック基材中に浸透させ、電離放射線照射又は加熱によりバインダー樹脂形成用重合性化合物を硬化させて、上記浸透層、及び上記浸透層と反対側の表面に上記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止層を形成させる、反射防止フィルムの製造方法である。

（平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子、バインダー樹脂形成用重合性化合物、及びプラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒を含む組成物）
　平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子、バインダー樹脂形成用重合性化合物、及びプラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒を含む組成物（以下、「組成物（Ａ）ともいう」）について説明する。
　組成物（Ａ）において、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子、及びバインダー樹脂形成用重合性化合物は、前述したものと同様である。

（プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒）
　本発明におけるプラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒（基材浸透性溶媒）について説明する。
　プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒とは、プラスチック基材の表面対する溶解能及び膨潤能を有する溶剤である。   
　溶媒がプラスチック基材の表面に対して溶解能及び膨潤能を有することで、バインダー樹脂がプラスチック基材に浸透し、モスアイ構造を均一に形成することができる。   
　ここで、本発明において透明基材に対して溶解能を有する溶剤とは、２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさの基材フィルムを上記溶剤の入った１５ｃｃの瓶に室温下（２５℃）で６０秒浸漬させて取り出した後に、浸漬させた溶液をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析したとき、基材成分（基材が複数の層を有している場合には、その表面の成分）のピーク面積が４００ｍＶ／ｓｅｃ以上である溶剤のことを意味する。若しくは２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさの基材フィルムを上記溶剤の入った１５ｃｃの瓶に室温下（２５℃）で２４時間経時させ、適宜瓶を揺らすなどして、フィルムが完全に溶解して形をなくすものも、基材に対して溶解能を有する溶剤を意味する。
　基材浸透性溶媒としては、プラスチック基材を構成する成分によって異なるが、セルロースアシレート基材の場合は、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド等を好ましく用いることが出来るが基材を溶解しうるものであればこれによらない。メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチルがより好ましい。
　アクリル基材の場合は、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロペンタノン、シクロヘキサノン酢酸メチル、酢酸エチル等が好ましい。

　上記組成物（Ａ）は、基材浸透性溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。

　上記組成物（Ａ）において、バインダー浸透を阻害せず塗布性を付与する観点から、基材浸透性溶媒の含有量は、組成物（Ａ）の全質量に対して、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。

　上記組成物（Ａ）の固形分濃度は、浸透層を効率よく形成できる観点から、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。

　上記組成物（Ａ）において、浸透層を効率よく形成できる観点から、バインダー樹脂形成用重合性化合物の含有量は、組成物（Ａ）の全固形分の質量に対して、５０質量％以上９７質量％以下であることが好ましい。

（重合開始剤）
　組成物（Ａ）には、重合開始剤を含んでいてもよい。
　上記バインダー樹脂形成用重合性化合物が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３－ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９－０９８６５８号公報の段落［０１３３］～［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

　「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５～１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

　組成物（Ａ）中の光重合開始剤の含有量は、組成物（Ａ）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、組成物（Ａ）中の全固形分に対して、０．５～８質量％が好ましく、１～５質量％がより好ましい。

　組成物（Ａ）の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。

　組成物（Ａ）をプラスチック基材上に塗布すると、プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒がプラスチック基材中に浸透する。この際、一部のバインダー樹脂形成用重合性化合物もプラスチック基材中に浸透する。その後、電離放射線照射又は加熱によりバインダー樹脂形成用重合性化合物を硬化させて、浸透層、及び反射防止層を形成する。反射防止層中には、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子とバインダー樹脂が含まれるが、前述のように一部のバインダー樹脂形成用重合性化合物が浸透しているため、反射防止層中のバインダー樹脂に対する粒子の割合は、組成物（Ａ）中のバインダー樹脂形成用重合性化合物に対する粒子の割合よりも大きくなっており、浸透層と反対側の表面に粒子によるモスアイ構造が形成される。
　プラスチック基材中に浸透して浸透層を形成するバインダーは、反射防止層形成用組成物に含まれる全バインダーのうち５０質量％以上にすることが好ましい。また、浸透層の膜厚が、反射防止層の膜厚の２倍より厚くなるように浸透させることが好ましい。このように形成することで、塗布前に粒子が凝集することなく、塗布後には均一なモスアイ構造を形成することが出来る。

［偏光板用保護フィルム］
　本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いることができる。
　２枚の偏光子保護フィルムのうち、本発明の反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１－１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。

　偏光子との貼り合せの前に、本発明の反射防止フィルムをケン化処理することもできる。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が親水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％～２５質量％であり、処理温度は３０℃～７０℃、処理時間は１５秒～５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
　本発明の反射防止層を設けたのと反対側のプラスチック基材表面をケン化処理し、ポリビニルアルコール水溶液を用いて偏光子に貼りあわせる。

　また本発明の反射防止フィルムと偏光子との貼りあわせに、紫外線硬化型の接着剤を使用することもできる。本発明の反射防止層を設けたのと反対側のプラスチック基材表面に紫外線硬化型の接着剤層を設けることが好ましく、特に短時間乾燥による生産性向上を目的として、特定の紫外線硬化樹脂を用いて、偏光子に貼りあわせることが好ましい。例えば特開２０１２－１４４６９０には、各々のホモポリマーのＴｇが６０℃以上かつ、ＳＰ値が２９～３２のラジカル重合性化合物２０～６０質量％と、ＳＰ値が１８～２１のラジカル重合性化合物１０～３０質量％と、ＳＰ値が２１～２３のラジカル重合性化合物２０～６０質量％の３種を含有した接着剤層を介して、偏光子に貼りあわせ、接着性、耐久性、耐水性を向上させている。この接着剤層を用いる場合は偏光子との貼りあわせ前に本発明のモスアイ構造を持つ反射防止フィルムをケン化処理をしても良いし、しなくても良い。

［偏光板］
　本発明の偏光板は、偏光子と上記偏光子を保護する少なくとも１枚の保護フィルムを有する偏光板であって、上記保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の反射防止フィルムである。偏光子は保護フィルムと位相差フィルムに挟まれていても良いし、保護フィルムと偏光子との組み合わせでも良い。

　偏光子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。

［カバーガラス］
　本発明のカバーガラスは、本発明の反射防止フィルムを保護フィルムとして有する。

［画像表示装置］
　本発明の画像表示装置は、本発明の反射防止フィルム又は偏光板を有する。
　本発明の反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができ、特に液晶表示装置が好ましい。
　一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。

［反射防止フィルムと清掃用布を含むキット］
　本発明の反射防止フィルムは、反射防止層の粒子の平均一次粒径よりも小さな間隔の空孔又は空隙を有し、水の接触角が９０°未満である清掃用布で清掃することで、反射防止層に付着した汚れを効果的に除去することができる。
　すなわち、本発明のキットは、本発明の反射防止フィルムと上記清掃用布を含む。
　また、本発明の反射防止フィルムの清掃方法は、本発明の反射防止フィルムを、上記清掃用布を用いて反射防止フィルムに付着した汚れを除去する清掃方法である。

　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

［実施例１］
〔反射防止フィルムの作製〕
　下記に示す通りに、反射防止層形成用組成物を調製し、透明基材上に塗布して、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１Ａ～２０Ａを作製した。

（粒子分散液Ｂ－１の調製）
　ＫＥ－Ｐ３０（日本触媒（株）製シーホスター、アモルファスシリカ粒子、平均粒子径０．３μｍ）１００質量部にメタノール４８０質量部を加えてミキシングタンクで攪拌し、２０質量％シリカ分散液とした。更にアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５質量部加え混合した後に、イオン交換水を９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加した。総液量がほぼ一定になるようにＭＥＫを添加しながら減圧蒸留により溶媒を置換した。最終的に固形分が２０質量％になるように調節して分散液Ｂ－１を調製した。

（反射防止層形成用組成物の調製）
　下記表１に記載の反射防止層形成用組成物Ａ－１の組成となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入、攪拌し、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して反射防止層形成用組成物Ａ－１（固形分濃度５０質量％）とした。
　反射防止層形成用組成物Ａ－１と同様の方法で、各成分を下記表１の組成になるように混合して表１記載の組成比率（質量基準）になるように調整し、固形分濃度５０質量％の反射防止層形成用組成物Ａ－２～Ａ－２０を作製した。

　それぞれ使用した化合物を以下に示す。
　ＰＥＴＡ（商品名ＰＥＴ３０）：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（日本化薬（株）製、ＳＰ値２１．２）
　ＨＥＭＡ：２－ヒドロキシエチルメタクリレート（三菱レイヨン（株）製、ＳＰ値２６．５）
　ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（東亞合成（株）製、ＳＰ値２０）
　ブレンマーＧＬＭ：グリセリンモノメタクリレート（日油（株）製、ＳＰ値２６．５）
　Ｉｒｇ．１８４：光重合開始剤、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
　Ｉｒｇ．９０７：光重合開始剤、イルガキュア９０７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
　Ｉｒｇ．１２７：光重合開始剤、イルガキュア１２７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
　ＫＥ－Ｐ１０：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスター、平均粒子径０．１５μｍ
　ＫＥ－Ｐ３０：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスター、平均粒子径０．３０μｍ
　ＫＥ－Ｐ５０：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスター、平均粒子径０．５５μｍ
　粒子Ａ：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスターＫＥ－Ｐ３０の粒径違い品、平均粒子径０．２０μｍ
　粒子Ｂ：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスターＫＥ－Ｐ５０の粒径違い品、平均粒子径０．７０μｍ
　粒子Ｃ：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスターＫＥ－Ｐ１０の粒径違い品、平均粒子径０．０５μｍ
　粒子Ｄ：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスターＫＥ－Ｐ３０のＫＰＮ－３５０４（信越化学工業製）乾式表面処理品、平均粒子径０．３０μｍ
　粒子Ｅ：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスターＫＥ－Ｐ３０の粒径違いのＫＰＮ－３５０４（信越化学工業製）乾式表面処理品、平均粒子径０．２０μｍ
　粒子Ｆ：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスターＫＥ－Ｐ３０のＫＰＭ－７８０３（信越化学工業製）乾式表面処理品、平均粒子径０．３０μｍ
　粒子Ｇ：日本触媒（株）製アモルファスシリカ粒子シーホスターＫＥ－Ｐ３０の粒径違いのＫＰＭ－７８０３（信越化学工業製）乾式表面処理品、平均粒子径０．２０μｍ
　ＭＸ－２００Ｗ：日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル系架橋物粒子エポスターＭＡ、平均粒子径０．３５μｍ
　ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６６：粒子分散剤、酢酸ブチル／メトキシプロピルアセテートの３０質量％溶液）
　ＢＹＫ－Ｐ１０４：粒子分散剤、キシレン／ジイソブチルケトンの５０％溶液（ビックケミー・ジャパン（株）製）
　メガファックＦ－７８４－Ｆ：ＤＩＣ製含フッ素化合物防汚剤(重合性基非含有)
　ＦＰ－１：特開２０１３－１５６３３２号公報に記載の合成例１の重合性樹脂ＩＩＩ－１
　ＦＰ－２：国際公開第２００９／１３３７７０号に記載の実施例１のラジカル重合性樹脂Ｙ－１
　Ｘ－２２－１６４ＡＳ：信越シリコーン製、両末端反応性シリコーン化合物(分子量９００、ポリジメチルシロキサンユニット１０００未満)
　Ｘ－２２－１６４Ｃ：信越シリコーン製、両末端反応性シリコーン化合物(分子量４７４０、ポリジメチルシロキサンユニット１０００以上)

（反射防止フィルムの作製）
　基材として、セルローストリアセテートフィルム（ＴＧ４０ＵＬ、富士フイルム（株）製）上に、上記反射防止層形成用組成物Ａ－１をグラビアコーターを用いて塗布した。１２０℃で５分間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて反射防止層と浸透層とを形成し、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１Ａを作製した。なお、膜厚は、ガラス上に同様の方法で塗布、硬化させたときに５μｍになる厚さに設定した。

　同様の方法で反射防止層形成用組成物Ａ－２～Ａ－２０を用いて反射防止フィルム試料Ｎｏ．２Ａ～２０Ａを作製した。

（（メタ）アクリル系樹脂フィルム－１の作製）
　［下記式（１Ａ）で表されるラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂｛共重合モノマー質量比＝メタクリル酸メチル／２－（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、重量平均分子量１３３０００、メルトフローレート６．５ｇ／１０分（２４０℃、１０ｋｇｆ）、Ｔｇ１３１℃｝９０質量部と、アクリロニトリル－スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳＡＳ２０、東洋スチレン社製｝１０質量部との混合物；Ｔｇ１２７℃］のペレットを二軸押し出し機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押し出しして、厚さ１１０μｍのラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂シートを得た。この未延伸シートを、１６０℃の温度条件下、縦２．０倍、横２．４倍に延伸して（メタ）アクリル系樹脂フィルム－１（厚さ：４０μｍ、面内位相差Δｎｄ：０．８ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）：１．５ｎｍ）を得た。

（コロナ放電処理）
　上記で得られた（メタ）アクリル系樹脂フィルムの片側に、コロナ放電処理（コロナ放電電子照射量：７７Ｗ／ｍ^２／ｍｉｎ）を施した。

（反射防止フィルムの評価）
　以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。

（モスアイ構造の確認）
　反射防止フィルムの表面を、走査型電子顕微鏡にて形状を観察し、表面形状について評価した。微細構造パターンの周期は、走査型電子顕微鏡写真にランダムに端から端まで直線を引き、その直線上にある隣接する凸部の頂点間の距離をｎ＝５０測定した平均値を用い、１桁め（１０ｎｍ未満）の数値を四捨五入して求めた。凸部が観察できない場合には、「周期無し」と判断した。
　Ａ・・曲面状の凸部からなる形態をしており、モスアイ構造が明確に出来ている
　Ｂ・・Ａに近くモスアイ構造が出来ているが、凸部が明確に存在しているかの区別しづらい
　Ｃ・・凸部がないその他の形態（周期無し）

（浸透層の確認）
　３ｍｍ角程度に切り出した試料の断面を、ミクロトーム及び電解研磨により片数１０nmの切片を作製まで薄くし、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で観察して浸透層の有無を観察した。

（積分反射率）
　フィルムの裏面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、分光光度計Ｖ－５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ－４７４を装着して、３８０～７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、平均反射率を算出して反射防止性を評価した。

（面の均一性）
　面の均一性はヘイズ値で評価した。粒子同士が凝集し不均一であるものは、ヘイズが高くなる。ＪＩＳ－Ｋ７１３６に準じて、得られたフィルムの全ヘイズ値（％）を測定した。装置には日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００を用いた。
　ヘイズ値が２％以下・・・面の均一性に優れている。
　ヘイズ値が２％より大きくかつ５％以下・・・やや面状にムラがあるが、外観に問題はない。
　ヘイズ値が５％より大きい・・・面状にムラがあり、外観を損ねている。

　表２において、「タック」は上記セルローストリアセテートフィルム基材を、「アクリル」は上記（メタ）アクリル系樹脂フィルム－１を、「ガラス」は松浪硝子工業製Ｓ９１１１というガラス基板を表す。

　表２に示すように、モスアイ構造と浸透層がともに形成された本発明の試料においては、面の均一性に優れ（ヘイズが低く）、積分反射率も優れた低反射性を示した（例えば、実施例試料Ｎｏ．２Ａと比較例試料Ｎｏ．１８Ａ）。比較例試料Ｎｏ．１９Ａにおいては浸透層が形成出来ていないが、分散剤の添加によって面状を均一にしようとしただけでは積分反射率を改善させることができないこともわかる。実施例試料Ｎｏ．２Ａと比較例試料Ｎｏ．１２ＡのＳＥＭ像をそれぞれ図１、図２に示す。実施例試料で粒子の凹凸がはっきり見えるのに対し、比較例試料では、浸透層が形成できていないために粒子がバインダーの中に埋没している様子がわかる。

［実施例２］
〔ハードコート層付きのプラスチック基材の作製〕
　下記に示す通りに、ハードコート層形成用組成物を調製し、透明基材上に塗布して、ハードコート層付きのプラスチック基材を作製した。
（ハードコート層形成用組成物の調製）
　ミキシングタンクに酢酸メチル１０．５質量部、ＭＥＫ１０．５質量部、ＰＥＴ３０　２２．５２質量部、ウレタンモノマー６．３０質量部、イルガキュア１８４　０．８４質量部を投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液Ｂ－１（固形分濃度５８質量％）とした。

　使用したウレタンモノマーは、下記構造の化合物である。

（ハードコート層付きのプラスチック基材の作製）
　セルローストリアセテートフィルム（ＴＧ４０ＵＬ、富士フイルム（株）製）上に、上記ハードコート層用塗布液Ｂ－１をグラビアコーターを用いて塗布した（固形分塗布量：１２．１ｇ／ｍ^２）。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させてハードコート層を形成し、ハードコート層付きのプラスチック基材を作製した。

〔反射防止フィルムの作製〕
（反射防止層形成用組成物の調製）
　実施例１の反射防止層形成用組成物Ａ－１と同様の方法で、各成分を下記表３記載の組成比率（質量基準）になるように調整し、固形分濃度５０質量％の反射防止層形成用組成物Ｂ－１～Ｂ－２を作製した。

（反射防止フィルムの調製）
　基材としてセルローストリアセテートフィルムの代わりにハードコート層付きのプラスチック基材を用いた以外は実施例１の反射防止フィルムＮｏ．１Ａと同様の方法で、反射防止層形成用組成Ｂ－１～Ｂ－２を用いて反射防止フィルム試料Ｎｏ．１Ｂ～２Ｂを作製した。

（反射防止フィルムの評価）
　以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表４に示す。

（鉛筆硬度）
　ＪＩＳ　Ｋ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。各フィルム試料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ　Ｓ６００６に規定する試験用鉛筆を用いて下記の基準で評価した。
　Ａ：２Ｈ以上
　Ｂ：Ｈ以上２Ｈ未満
　Ｃ：Ｈ未満

　表４に示すように、基材としてハードコート層付きのプラスチック基材を用いた場合にもヘイズが低く、反射防止性に優れた試料が作製できた。更に、これらの試料では、鉛筆硬度にも優れていることが確認できた。

［実施例３］
（清掃用布Ａの作製）
　島成分として固有粘度０．７１のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用い、海成分として固有粘度０．５５の５－ナトリウムスルホイソフタル酸７．３質量％を共重合したＰＥＴを用いて、島数が１２７島で、ホール数が１１２の海島型複合用紡糸口金を用いて、島成分比率３０質量％、紡糸温度２９０℃、巻取速度１５００ｍ／分の条件で溶融紡糸を行ない未延伸糸を得た。続いて、得られた未延伸糸を巻取速度５００ｍ／分、予熱温度９０℃、熱セット温度１６０℃の条件で延伸し、４４ｄｔｅｘ－１１２フィラメントの海島型複合繊維（繊維１）を得た。

　一方、島成分を固有粘度１．１４のポリプロピレンテレフタレート（ＰＰＴ）としたこと以外は、繊維１と同様に溶融紡糸を行った。得られた未延伸糸を、巻取速度５００ｍ／分、延伸温度９０℃、熱セット温度１００℃の条件で延伸し、７５ｄｔｅｘ－１１２フィラメントの海島型複合繊維（繊維２）を得た。得られた繊維１と繊維２の脱海完了時間差は、４％であった。

　得られた繊維１と繊維２をインターレースによって混繊した後、８０℃の温度の２質量％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬することにより海成分の溶解除去及び仮収縮処理を行い、次いで９８℃の温度の沸騰水に浸漬及び乾燥することにより収縮を完了させた。得られたナノファイバー混繊糸は、繊維１の繊維径が２８０ｎｍであり、繊維２の繊維径が２９０ｎｍであり、糸長差は１０％であり、２０％伸長時の伸長弾性率は８５％であった。得られたナノファイバー混繊糸は、非常に単繊維の分散性に優れており、得られたナノファイバー混繊糸からなる織物はワイピング性能及びスクラッチ性能ともに優れており、製品として用いるのに十分な性能を有していた。

　得られたナノファイバー混織糸からなる織物に対して、コロナ放電処理（コロナ放電電子照射量：３４Ｗ／ｍ^２／ｍｉｎ）を行い清掃用布Ａを作製した。得られた清掃用布Ａの空隙は２９０ｎｍであり、水接触角は３０°であった。

（清掃用布Ｂの作製）
　島成分比率を１５質量％にしたこと以外は、清掃用布Ａと同じに作製し得られたナノファイバー混繊糸は、繊維１の繊維径が１４０ｎｍであり、繊維２の繊維径が１４５ｎｍであり、ナノファイバー混繊糸からなる織物はコロナ放電処理後の清掃用布Ｂの空隙は１４５ｎｍであり、水接触角は２０°であった。

（清掃用布Ｃの作製）
　島成分比率を４５質量％にしたこと以外は、清掃用布Ａと同じに作製し得られたナノファイバー混繊糸は、繊維１の繊維径が４３０ｎｍであり、繊維２の繊維径が４４０ｎｍであり、ナノファイバー混繊糸からなる織物はコロナ放電処理後の清掃用布Ｃの空隙は４４０ｎｍであり、水接触角は４０°であった。

〔反射防止フィルムの作製〕
（反射防止層形成用組成物の調製）
　実施例１の反射防止層形成用組成物Ａ－１と同様の方法で、各成分を下記表５記載の組成比率（質量基準）になるように調整し、固形分濃度５０質量％の反射防止層形成用組成物Ｃ－１～Ｃ－３１を作製した。
　反射防止層形成用組成物Ａ－１の代わりに反射防止層形成用組成物Ｃ－１～Ｃ－３１を用いた以外は実施例１の反射防止フィルムＮｏ．１Ａと同様の方法で、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１Ｃ～３１Ｃを作製した。

（防汚性評価１）
　反射防止フィルムの基材側をガラス面上に粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で反射防止層表面に油性マーカー（インク色：黒）「マッキー極細（商品名：ＺＥＢＲＡ製）」のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、１０秒後に１０枚重ねに折り束ねた清掃用布Ａ～Ｃ及びザヴィーナ（ＫＢセレン製、空隙１μｍ）でベンコットの束がへこむ程度の荷重で２往復拭き取る。
　Ａ・・マーカー跡が視認できない。
　Ｂ・・マーカー跡が薄く視認できる。
　Ｃ・・マーカー跡が広がって視認できる。
　Ｄ・・マーカー跡が拭取れない。

（防汚性評価２）
　本発明のモスアイ構造を持つ反射防止フィルムをガラス基板上に反射防止層側が最表面となるように粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で反射防止層表面に指紋を付着させ、１０秒後に１０枚重ねに折り束ねた清掃用布Ａ～Ｃ及びザヴィーナ（ＫＢセレン製、空隙１μｍ）で布の束がへこむ程度の荷重で２往復拭き取り、指紋跡の観察状況で防汚性を評価した。
　Ａ・・指紋跡が視認できない。
　Ｂ・・指紋跡が薄く視認できる。
　Ｃ・・指紋跡が広がって視認できる。
　Ｄ・・指紋跡が拭き取れない。

　表６に示すように、防汚剤を添加することで、モスアイ構造を持つ反射防止フィルムの接触角を高くすることができ、汚れの付着性を著しく改善することができる。また清掃用布とモスアイ構造を持つ反射防止フィルムを組み合わせた清掃方法で、汚れ除去性を高めることもできる。

　本発明によれば、十分な反射防止性能を有し、面状の均一性に優れ、かつ簡便な方法で作製できるモスアイ構造を有する反射防止フィルムを提供することができる。また、本発明によれば、上記反射防止フィルムを含む偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置を提供することができる。
　更に、本発明によれば、防汚性を兼ね備えたモスアイ構造を有する反射防止フィルムを提供でき、上記反射防止フィルムを用いることで、モスアイ構造を有しながら反射防止と防汚性を付与した、実用性があり視認性の良好な偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置を提供することができる。
　また本発明の反射防止フィルムと清掃用布と含むキットによれば、反射防止フィルムを清掃用布で清掃することで、モスアイ構造を有する反射防止フィルムの汚れを簡便に除去できる。

　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０１３年５月１３日出願の日本特許出願（特願２０１３－１０１１３７）及び２０１４年３月３１日出願の日本特許出願（特願２０１４－０７４６２９）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims (27)

1. 　プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含む反射防止層とをこの順に隣接して有し、前記反射防止層が前記浸透層と反対側の表面に前記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止フィルム。
2. 　波長３８０～７８０ｎｍの全域にわたって積分反射率が３％以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 　前記バインダー樹脂が、分子量１５０～１６００の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を硬化して得られた樹脂を含む、請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
4. 　前記バインダー樹脂が、ＳＰ値２０～２５の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を硬化して得られた樹脂を含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
5. 　前記粒子が金属酸化物粒子である、請求項１～４のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
6. 　前記粒子がシリカ粒子である、請求項１～５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
7. 　前記粒子が、表面に不飽和二重結合を有する化合物による処理がなされた粒子である、請求項１～６のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
8. 　前記反射防止層の膜厚が０．１～５μｍである、請求項１～７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
9. 　前記浸透層の膜厚が０．１～５μｍである、請求項１～８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
10. 　前記反射防止層に分散剤を含有する、請求項１～９のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
11. 　前記浸透層に、前記プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒を含有する、請求項１～１０のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
12. 　前記プラスチック基材がセルロースアシレートを含有する、請求項１～１１のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
13. 　ヘイズ値が５％以下である請求項１～１２のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
14. 　水の接触角が１００°以上である請求項１～１３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
15. 　前記反射防止層に、含フッ素化合物又はシリコーン化合物を反射防止層全体の２質量％以下の範囲で含有する、請求項１～１４のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
16. 　前記含フッ素化合物又はシリコーン化合物が、分子中に重合性基を有する、請求項１５に記載の反射防止フィルム。
17. 　前記フッ素化合物が、分子中にポリエーテル化合物を有する、請求項１５又は１６に記載の反射防止フィルム。
18. 　前記シリコーン化合物が、分子量１０００以上のポリジメチルシロキサンユニットを有する、請求項１５又は１６に記載の反射防止フィルム。
19. 　前記含フッ素化合物又はシリコーン化合物を含有し、水の接触角が１１０°以上かつ、オレイン酸の接触角が８０°以上である、請求項１５～１８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
20. 　前記粒子の平均一次粒径が５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下で、かつＣｖ値が５％未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有する、請求項１～１９のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
21. 　請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして有する偏光板。
22. 　請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを保護フィルムとして有するカバーガラス。
23. 　請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、又は請求項２１に記載の偏光板を有する画像表示装置。
24. 　プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子及びバインダー樹脂を含む反射防止層とをこの順に隣接して有し、前記反射防止層が前記浸透層と反対側の表面に前記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
    　プラスチック基材上に、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の粒子、バインダー樹脂形成用重合性化合物、及びプラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒を含む組成物を塗布し、プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒及びバインダー樹脂形成用重合性化合物の一部をプラスチック基材中に浸透させ、前記有機溶媒を乾燥させた後に、電離放射線照射又は加熱によりバインダー樹脂形成用重合性化合物を硬化させて、前記浸透層、及び前記浸透層と反対側の表面に前記粒子によるモスアイ構造を有する反射防止層を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
25. 　請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルムに付着した汚れを除去するための清掃用布であって、請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルムの前記粒子の平均一次粒子径よりも小さな間隔の空孔又は空隙を有し、水の接触角が９０°未満である清掃用布。
26. 　請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルムと、
    　請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルムの前記粒子の平均一次粒子径よりも小さな間隔の空孔又は空隙を有し、水の接触角が９０°未満である清掃用布とを含むキット。
27. 　請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルムの前記粒子の平均一次粒子径よりも小さな間隔の空孔又は空隙を有し、水の接触角が９０°未満である清掃用布を用いて、請求項１～２０のいずれか一項に記載の反射防止フィルムに付着した汚れを除去する反射防止フィルムの清掃方法。

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