TW201501924A - 防反射膜、偏光板、蓋玻璃、影像顯示裝置、防反射膜的製造方法、防反射膜的清掃用布、包含防反射膜與清掃用布的套組、防反射膜的清掃方法 - Google Patents

防反射膜、偏光板、蓋玻璃、影像顯示裝置、防反射膜的製造方法、防反射膜的清掃用布、包含防反射膜與清掃用布的套組、防反射膜的清掃方法 Download PDF

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Abstract

本發明的目的在於提供一種具有充分的防反射性能、面狀的均勻性優異、且可藉由簡便的方法來製作的具有蛾眼構造的防反射膜、具有所述防反射膜的偏光板、蓋玻璃、及影像顯示裝置、防反射膜的製造方法、防反射膜清掃用布、包含防反射膜與清掃用布的套組、防反射膜的清掃方法，該防反射膜包括以如下順序鄰接的塑膠基材，滲透層，以及包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子及黏合劑樹脂的防反射層，且所述防反射層在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造。

Description

防反射膜、偏光板、蓋玻璃、影像顯示裝置、防反 射膜的製造方法、防反射膜的清掃用布、包含防反射膜與清掃用布的套組、防反射膜的清掃方法
本發明是有關於一種防反射膜、偏光板、蓋玻璃、影像顯示裝置、防反射膜的製造方法、防反射膜清掃用布、包含防反射膜與清掃用布的套組、防反射膜的清掃方法。
於如陰極管顯示裝置(陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT))、電漿顯示器(電漿顯示面板(Plasma Display Panel，PDP))、電致發光顯示器(Electroluminescence Display，ELD)、螢光顯示顯示器(真空螢光顯示器(Vacuum Fluorescent Display，VFD))、場發射顯示器(Field Emission Display，FED)、及液晶顯示裝置(液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD))般的影像顯示裝置中，為了防止由顯示面上的外光的反射所引起的對比度 下降或圖像的重像(ghost image)，有時設置防反射膜。
作為防反射膜，已知有於基材表面具有週期為可見光的波長以下的微細的凹凸形狀的防反射膜、具有所謂的蛾眼(moth eye)構造的防反射膜。藉由蛾眼構造，可模擬出折射率自空氣向基材的內部的基體材料(bulk material)連續地變化的折射率傾斜層，從而防止光的反射。
作為具有蛾眼構造的防反射膜，於專利文獻1中記載有藉由如下方式所製造的具有蛾眼構造的防反射膜：將含有透明樹脂單體與微粒子的塗佈液塗佈於透明基材上，進行硬化而形成分散有微粒子的透明樹脂後，對透明樹脂進行蝕刻。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2009-139796號公報
但是，於專利文獻1的技術中，必須對透明樹脂進行蝕刻，有時防反射膜的製造步驟變得複雜。
因此，本發明者對不進行蝕刻來製作蛾眼構造進行了研究。
欲僅藉由將含有粒子與黏合劑的塗佈液塗佈於基材上並進行硬化來設置具有蛾眼構造的膜的結果，發現存在如下的問題：(1)於塗佈前的階段，若粒子的含有率高，黏合劑的含有率 低，則自塗佈塗佈液至變成膜為止，粒子彼此凝聚，而無法形成均勻的膜；(2)於塗佈後的階段，若粒子的含有率低，黏合劑的含有率高，則粒子埋入黏合劑中，無法形成凹凸構造，顯現不出充分的防反射性能。若粒子彼此過度凝聚，則凝聚部分作為大的散射體發揮作用，因此膜發生白濁，並產生霧度。其結果，使對比度惡化，亦損害由防反射膜所產生的畫面的美好的黑色緊密度(black tightness)。
即，本發明的課題在於提供一種具有充分的防反射性能、面狀的均勻性優異、且可藉由簡便的方法來製作的具有蛾眼構造的防反射膜。另外，本發明的另一課題在於提供一種包含防反射膜的偏光板、蓋玻璃、及影像顯示裝置。
進而，具有蛾眼構造的防反射膜若於其凹凸構造中存在折射率與空氣不同的物質，則存在僅該部分的反射率上升、且顯著損害視認性這一對應於物質的附著(=污垢)的原理性的課題。因此，本發明的進一步的課題在於使污垢難以附著於具有蛾眼構造的防反射膜上，並賦予對於污垢的耐久性。因此，本發明的另一目的亦在於提供一種防反射膜清掃用布、包含防反射膜與清掃用布的套組、及防反射膜的清掃方法。
為了解決所述課題而進行了努力研究，發現藉由在塗佈液的階段中粒子的含有率低，粒子彼此不過度凝聚，將塗佈液塗 佈於基材上時，僅黏合劑的一部分滲透至基材中，而減少膜中的黏合劑的含有率，於膜的完成時藉由粒子來形成凹凸構造，從而可容易地製作低反射且面的均勻性優異的蛾眼構造。
另外，發現藉由製作表面存在特定的防污劑的蛾眼構造，而顯著提高水接觸角，可製作撥水撥油性優異的防反射膜，進而，發現藉由使用具有特定的空隙或空孔尺寸與接觸角的極細纖維布，而可簡便地去除附著於具有蛾眼構造的防反射層表面的污垢。
即，所述課題藉由以下的構成來解決。
[1]
一種防反射膜，其包括以如下順序鄰接的塑膠基材；滲透層；以及包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子及黏合劑樹脂的防反射層，且所述防反射層在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造。
[2]
如[1]所述的防反射膜，其於波長380nm~780nm的整個區域中的積分反射率為3%以下。
[3]
如[1]或[2]所述的防反射膜，其中所述黏合劑樹脂包含使分子量為150~1600的具有(甲基)丙烯醯基的化合物硬化所獲得的樹脂。
[4]
如[1]至[3]中任一項所述的防反射膜，其中所述黏合劑樹脂包 含使溶解性參數(Solubility Parameter，SP)值為20~25的具有(甲基)丙烯醯基的化合物硬化所獲得的樹脂。
[5]
如[1]至[4]中任一項所述的防反射膜，其中所述粒子為金屬氧化物粒子。
[6]
如[1]至[5]中任一項所述的防反射膜，其中所述粒子為二氧化矽粒子。
[7]
如[1]至[6]中任一項所述的防反射膜，其中所述粒子為利用具有不飽和雙鍵的化合物對表面進行了處理的粒子。
[8]
如[1]至[7]中任一項所述的防反射膜，其中所述防反射層的膜厚為0.1μm~5μm。
[9]
如[1]至[8]中任一項所述的防反射膜，其中所述滲透層的膜厚為0.1μm~5μm。
[10]
如[1]至[9]中任一項所述的防反射膜，其中所述防反射層中含有分散劑。
[11]
如[1]至[10]中任一項所述的防反射膜，其中所述滲透層中含 有對於所述塑膠基材具有滲透性的溶劑。
[12]
如[1]至[11]中任一項所述的防反射膜，其中所述塑膠基材含有醯化纖維素。
[13]
如[1]至[12]中任一項所述的防反射膜，其中霧度值為5%以下。
[14]
如[1]至[13]中任一項所述的防反射膜，其中水的接觸角為100°以上。
[15]
如[1]至[14]中任一項所述的防反射膜，其中所述防反射層中，以整個防反射層的2質量%以下的範圍含有含氟化合物或矽酮化合物。
[16]
如[15]所述的防反射膜，其中所述含氟化合物或矽酮化合物於分子中具有聚合性基。
[17]
如[15]或[16]所述的防反射膜，其中所述氟化合物於分子中具有聚醚化合物。
[18]
如[15]或[16]所述的防反射膜，其中所述矽酮化合物具有分子量為1000以上的聚二甲基矽氧烷單元。
[19]
如[15]至[18]中任一項所述的防反射膜，其含有所述含氟化合 物或矽酮化合物，水的接觸角為110°以上，且油酸的接觸角為80° 以上。
[20]
如[1]至[19]中任一項所述的防反射膜，其僅含有一種所述粒子的平均一次粒徑為50nm以上、200nm以下，且變異係數(Coefficient of Variation，CV)值未滿5%的單分散二氧化矽微粒子。
[21]
一種偏光板，其包括如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜作為偏光板用保護膜。
[22]
一種蓋玻璃，其包括如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜作為保護膜。
[23]
一種影像顯示裝置，其包括如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜、或如[21]所述的偏光板。
[24]
一種防反射膜的製造方法，其是包括以如下順序鄰接的塑膠基材；滲透層；以及包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子及黏合劑樹脂的防反射層，且所述防反射層在與所述滲 透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造的防反射膜的製造方法，其中，於塑膠基材上塗佈包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子，黏合劑樹脂形成用聚合性化合物，及對於塑膠基材具有滲透性的溶劑的組成物，使對於塑膠基材具有滲透性的溶劑及黏合劑樹脂形成用聚合性化合物的一部分滲透至塑膠基材中，於使所述有機溶劑乾燥後，藉由電離放射線照射或加熱來使黏合劑樹脂形成用聚合性化合物硬化，而形成所述滲透層、及在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造的防反射層。
[25]
一種清掃用布，其用以去除附著於如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜上的污垢，其具有間隔比如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜的所述粒子的平均一次粒徑小的空孔或空隙、且水的接觸角未滿90°。
[26]
一種套組，其包括：如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜；以及清掃用布，具有間隔比如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜的所述粒子的平均一次粒徑小的空孔或空隙、且水的接觸角未滿90°。
[27]
一種防反射膜的清掃方法，其使用具有間隔比如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜的所述粒子的平均一次粒徑小的空孔或空隙、且水的接觸角未滿90°的清掃用布，去除附著於如[1]至[20]中任一項所述的防反射膜上的污垢。
根據本發明，可提供一種具有充分的防反射性能、面狀的均勻性優異、且可藉由簡便的方法來製作的具有蛾眼構造的防反射膜。另外，根據本發明，可提供一種包含所述防反射膜的偏光板、蓋玻璃、及影像顯示裝置。
進而，根據本發明，可提供一種兼具防污性的具有蛾眼構造的防反射膜，藉由使用所述防反射膜，而可提供一種具有蛾眼構造並賦予有防反射與防污性、且具有實用性的視認性良好的偏光板、蓋玻璃、及影像顯示裝置。
另外，根據包含本發明的防反射膜與清掃用布的套組，藉由利用清掃用布對防反射膜進行清掃，而可簡便地去除具有蛾眼構造的防反射膜的污垢。
圖1是表示顯示作為本發明的防反射膜的實施例的試樣No.2A的掃描型電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope，SEM)圖像的照片的圖。
圖2是表示顯示作為比較例的試樣No.12A的SEM圖像的照 片的圖。
本發明的防反射膜是包括以如下順序鄰接的塑膠基材，滲透層，以及包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子及黏合劑樹脂的防反射層，且所述防反射層在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造的防反射膜。
以下，對本發明的防反射膜進行詳細說明。
[塑膠基材]
對本發明的防反射膜中的塑膠基材進行說明。
作為所述塑膠基材，可使用各種塑膠基材，例如可列舉含有纖維素系樹脂，醯化纖維素(三乙酸纖維素、二乙醯纖維素、乙酸丁酸纖維素)等、聚酯樹脂，聚對苯二甲酸乙二酯等、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、烯烴系樹脂等的基材，就容易製作滲透層的觀點而言，較佳為含有醯化纖維素、聚對苯二甲酸乙二酯、或(甲基)丙烯酸系樹脂的基材，更佳為含有醯化纖維素的基材。作為醯化纖維素，可較佳地使用日本專利特開2012-093723中所記載的基材等。
塑膠基材的厚度通常為10μm~1000μm左右，但就處理性良好、透明性高、且可獲得充分的強度這一觀點而言，較佳為20μm~200μm，更佳為25μm~100μm。作為塑膠基材的透明性，較佳為透過率為90%以上者。
於當積層有防反射層時可形成滲透層的情況下，塑膠基 材亦可於表面具備其他樹脂層。例如可具備用以對基材賦予硬塗性的硬塗層、用以賦予與其他層的密接性的易接著層、用以賦予抗靜電性的層等，亦可具備多個所述層。
(硬塗層)
硬塗層較佳為藉由電離放射線硬化性化合物的交聯反應、或聚合反應來形成。例如可藉由如下方式來形成：將含有電離放射線硬化性的多官能單體或多官能寡聚物的塗佈組成物塗佈於透明支撐體上，使多官能單體或多官能寡聚物進行交聯反應、或聚合反應。
為了當於硬塗層上積層有防反射層時形成滲透層，較佳為當將用以形成防反射層的塗佈液塗佈於基材上時，以可僅使黏合劑的一部分滲透至基材中的方式事先使硬塗層半硬化，於形成滲透層後進行完全硬化的方法等。若使用此種方法來製作，則可兼具防反射性與硬塗性。
作為電離放射線硬化性的多官能單體或多官能寡聚物的官能基，較佳為光聚合性、電子束聚合性、放射線聚合性的官能基，其中，較佳為光聚合性官能基。
作為光聚合性官能基，可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等不飽和的聚合性官能基等，其中，較佳為(甲基)丙烯醯基。
作為具有聚合性不飽和基的化合物的具體例，可列舉：新戊二醇丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基) 丙烯酸酯等伸烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯類；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚氧伸烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯類；季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸二酯類；2,2-雙{4-(丙烯醯氧基．二乙氧基)苯基}丙烷、2-2-雙{4-(丙烯醯氧基．聚丙氧基)苯基}丙烷等環氧乙烷加成物或環氧丙烷加成物的(甲基)丙烯酸二酯類等。
進而，環氧(甲基)丙烯酸酯類、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類、聚酯(甲基)丙烯酸酯類亦可較佳地用作光聚合性多官能單體。
其中，較佳為多元醇與(甲基)丙烯酸的酯類。更佳為1分子中具有3個以上的(甲基)丙烯醯基的多官能單體。例如可列舉：季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改質磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-環己烷四甲基丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯、己內酯改質三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯等。
作為具有(甲基)丙烯醯基的多官能丙烯酸酯系化合物類的具體化合物，可列舉：日本化藥(股份)製造的卡亞拉得(KAYARAD)DPHA、KAYARAD DPHA-2C、KAYARAD PET-30、KAYARAD TMPTA、KAYARAD TPA-320、KAYARAD TPA-330、KAYARAD RP-1040、KAYARAD T-1420、KAYARAD D-310、KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60、KAYARAD GPO-303，大阪有機化學工業(股份)製造的V#3PA、V#400、V#36095D、V#1000、V#1080等多元醇與(甲基)丙烯酸的酯化物。另外，亦可適宜地使用：紫光UV-1400B、紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7550B、紫光UV-7600B、紫光UV-7605B、紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA、紫光UV-7630B、紫光UV-7640B、紫光UV-6630B、紫光UV-7000B、紫光UV-7510B，紫光UV-7461TE、紫光UV-3000B、紫光UV-3200B、紫光UV-3210EA、紫光UV-3310EA、紫光UV-3310B、紫光UV-3500BA、紫光UV-3520TL、紫光UV-3700B、紫光UV-6100B、紫光UV-6640B、紫光UV-2000B、紫光UV-2010B、紫光UV-2250EA、紫光UV-2750B(日本合成化學(股份)製造)，UL-503LN(共榮社化學(股份)製造)，UNIDIC17-806、UNIDIC17-813、UNIDIC V-4030、UNIDIC V-4000BA(大日本油墨化學工業(股份)製造)，EB-1290K、EB-220、EB-5129、EB-1830、EB-4858(大賽璐UCB(Daicel UCB)(股份)製造)，Hi-Coap AU-2010、Hi-Coap AU-2020(Tokushiki(股份)製造)，Aronix M-1960(東亞合成(股份)製造)，Art Resin UN-3320HA、UN-3320HC、UN-3320HS、UN-904、HDP-4T等三官能以上的胺基甲酸酯丙烯酸酯化合物，Aronix M-8100、M-8030、M-9050(東亞合成(股份)製造，KRM-8307(大賽璐氰特(Daicel-Cytec)(股份)製造)等三官能以上的聚酯化合物等。可特佳地使用DPHA或PET-30。
進而，亦可列舉具有3個以上的(甲基)丙烯醯基的樹脂，例如分子量比較低的聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物等的寡聚物或預聚物等。
另外，亦可使用日本專利特開2005-76005號、日本專利特開2005-36105號公報中所記載的樹枝狀聚合物，或如日本專利特開2005-60425號公報中所記載的含有降冰片烯環的單體。
多官能單體亦可併用兩種以上。該些具有乙烯性不飽和基的單體的聚合可於光自由基起始劑或熱自由基起始劑的存在下，藉由電離放射線的照射或加熱來進行。
關於硬塗層的膜厚，就對膜賦予充分的耐久性、耐衝擊牲的觀點而言，硬塗層的厚度通常為0.5μm~50μm左右，較佳為1μm~20μm。
另外，於鉛筆硬度試驗中，硬塗層的強度較佳為H以上，更佳為2H以上，最佳為3H以上。進而，於根據JIS K5400的泰伯 (Taber)試驗中，試驗前後的試驗片的磨損量越少越佳。
(其他成分)
於硬塗層形成用塗佈組成物中，除所述成分以外，亦可進而適宜添加溶劑、聚合起始劑、抗靜電劑、防眩劑等。進而，亦可混合反應性均染劑或非反應性均染劑、各種增感劑等各種添加劑。
(硬塗層形成用塗佈組成物的溶劑)
作為溶劑的具體例，可列舉：異丙醇(Isopropyl Alcohol，IPA)、甲基乙基酮(Methyl Ethyl Ketone，MEK)、及甲基異丁基酮(Methyl Isobutyl Ketone，MIBK)、甲苯等。就可提昇光學片的硬度的觀點而言，較佳為併用MIBK、異丙醇等非滲透性溶劑。藉由併用非滲透性溶劑，所述第一黏合劑成分不會過度滲透至三乙醯纖維素基材中，因此可提高硬度。
(聚合起始劑)
視需要亦可適宜選擇自由基聚合起始劑及陽離子聚合起始劑等來使用。該些聚合起始劑藉由光照射及/或加熱而分解，並產生自由基或陽離子來使自由基聚合與陽離子聚合進行。
(抗靜電劑)
作為抗靜電劑的具體例，可於當積層有防反射層時能夠形成滲透層的範圍內使用四級銨鹽、導電性聚合物、導電性微粒子等先前公知的抗靜電劑。
(防眩劑)
作為防眩劑，可於積層有防反射層時能夠形成滲透層的範圍 內使用苯乙烯珠粒(折射率為1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯珠粒(折射率為1.49)、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物等的微粒子的防眩劑等先前公知的防眩劑。當使用微粒子的防眩劑時，相對於硬化性樹脂組成物100重量份，其添加量較佳為2重量份~30重量份，更佳為10重量份~25重量份。
(折射率調整劑)
於硬塗層的黏合劑中，為了控制硬塗層的折射率，可於當積層有防反射層時能夠形成滲透層的範圍內添加高折射率單體或無機粒子、或兩者作為折射率調整劑。無機粒子除具有控制折射率的效果以外，亦具有抑制由交聯反應所引起的硬化收縮的效果。本發明中，於形成硬塗層後，包含所述多官能單體及/或高折射率單體等進行聚合所生成的聚合物、分散於其中的無機粒子在內稱為黏合劑。
(均染劑)
作為均染劑的具體例，可使用氟系或矽酮系等先前公知的均染劑。添加有均染劑的硬塗層形成用塗佈組成物可於塗佈或乾燥時對塗膜表面賦予塗覆穩定性。
[滲透層]
本發明的防反射膜在塑膠基材與防反射層之間，具有鄰接於塑膠基材與防反射層的滲透層。
於本發明中，所謂滲透層，是指包含塑膠基材成分與防反射層的黏合劑樹脂成分的層(區域)。滲透層可藉由如下方式來獲 得：將包含對塑膠基材具有滲透性的溶劑(基材滲透性溶劑)、及防反射層的黏合劑樹脂成分的防反射層形成用塗佈液塗佈於塑膠基材上，使基材滲透性溶劑滲透至塑膠基材中，並且亦使防反射層的黏合劑樹脂成分滲透至塑膠基材中。防反射層的黏合劑樹脂成分是包含黏合劑樹脂或作為黏合劑樹脂的材料的單體的概念。所謂塑膠基材成分，是指構成塑膠基材的成分。當塑膠基材於表面具備硬塗層等其他樹脂層時，構成其他樹脂層的成分亦為塑膠基材成分。
本發明中，以後所謂塑膠基材，是指包含塑膠基材成分、且不含防反射層的黏合劑樹脂成分的部分。另外，所謂防反射層，是指包含防反射層的黏合劑樹脂成分、且不含塑膠基材成分的部分。
另外，滲透層可作為如下的部分來測定，即當利用切片機對本發明的防反射膜進行切削，並利用飛行時間型二次離子質量分析裝置(Time Of Flight Secondary Ion Mass Spectrometer，TOF-SIMS)對剖面進行分析時，塑膠基材成分與防反射層的黏合劑樹脂成分均被檢測出的部分，該區域的膜厚亦可同樣地根據TOF-SIMS的剖面資訊來測定。
另外，滲透層例如亦可藉由如下方式來測定：藉由利用光的干涉的反射分光膜厚計或透過型電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope，TEM)所進行的剖面觀察，而在基材與防反射層的中間檢測出另一層。作為反射分光膜厚計，可使用FE-3000 (大塚電子(股份)製造)等。
就不過度提高塗佈組成物中的粒子含率而可形成蛾眼層的觀點而言，滲透層的厚度較佳為0.1μm以上、5μm以下。
就可高效地形成滲透層的觀點而言，滲透層較佳為含有基材滲透性溶劑。防反射層形成用組成物中的基材滲透性溶劑的含量較佳為10質量%~95質量%，更佳為20質量%~90質量%。
基材滲透性溶劑將後述。
[防反射層]
本發明的防反射膜具有鄰接於滲透層的防反射層。
防反射層包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子與黏合劑樹脂。
防反射層的與滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造。
此處，所謂蛾眼構造，是指用以抑制光的反射的物質(材料)的經加工的表面，且是指具有週期性的微細構造圖案的構造。尤其，當為了抑制可見光的反射時，是指具有未滿780nm的週期的微細構造圖案的構造。若微細構造圖案的週期未滿380nm，則反射光的色調消失而較佳。另外，若週期為100nm以上，則波長380nm的光可識別微細構造圖案，防反射性優異，故較佳。蛾眼構造的有無可藉由如下方式來確認：利用掃描型電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope，AFM)等對表面形狀進行觀察，並調查是否形成有所述微細構造圖案。
防反射層的膜厚較佳為0.05μm~5μm，更佳為0.1μm~1μm。
(平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子)
對防反射層中所含有的平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子進行說明。
作為所述粒子，可列舉金屬氧化物粒子、樹脂粒子、具有金屬氧化物粒子的核與樹脂的殼的有機無機混合粒子等，但就膜強度優異的觀點而言，較佳為金屬氧化物粒子。
作為金屬氧化物粒子，可列舉二氧化矽粒子、二氧化鈦粒子、氧化鋯粒子、五氧化銻粒子等，但就因折射率與許多黏合劑接近而難以產生霧度、且容易形成蛾眼構造的觀點而言，較佳為二氧化矽粒子。
作為樹脂粒子，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯粒子、聚苯乙烯粒子、三聚氰胺粒子等。
就粒子排列而可形成蛾眼構造的觀點而言，所述粒子的平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下，較佳為100nm以上、650nm以下，更佳為150nm以上、530nm以下，進而更佳為200nm以上、380nm以下。藉由粒徑為下限範圍以上，而可提高可見光的反射的抑制效果，藉由粒徑為上限以下，粒子不會作為散射體發揮作用，於此情況下，可見光的反射的抑制效果亦優異。
亦可使用平均一次粒徑不同的2種以上的粒子。
所述粒子的平均一次粒徑是指體積平均粒徑的累積的50%粒 徑。當要測定防反射膜中所含有的粒子的平均一次粒徑時，可藉由電子顯微鏡照片來測定。例如，可拍攝防反射膜的切片TEM圖像，測定100個一次粒子各自的直徑並算出其體積，將累積的50%粒徑設為平均一次粒徑。當粒子並非球形時，將長徑與短徑的平均值看作該一次粒子的直徑。
所述粒子的形狀最佳為球形，但即便為不定形等球形以外的形狀亦無問題。
另外，二氧化矽粒子可為結晶質、非晶質的任一種。
為了提昇於塗佈液中的分散性、提昇膜強度、防止凝聚，亦可對所述粒子的表面實施處理，尤其，就提昇膜強度的觀點而言，較佳為利用具有不飽和雙鍵的化合物對表面進行了處理的粒子。表面處理方法的具體例及其較佳例與日本專利特開2007-298974號公報的[0119]~[0147]中所記載者相同。
另外，為了對具有蛾眼構造的防反射層賦予防污性，亦可對粒子的表面實施撥水撥油處理。若與向後述的防反射層中添加防污劑的情況併用，則尤其於反覆附著有污垢時亦維持防污性，故更佳。作為撥水撥油處理，較佳為使用含氟烷氧基矽烷、或分子中具有聚二甲基矽氧烷單元的烷氧基矽烷來進行乾式處理或濕式處理。
作為含氟烷氧基矽烷，可列舉：含有氟烷基的寡聚物的KP-801M(信越化學工業製造)、X-24-7890(信越化學工業製造)、KBM-7803(三氟丙基三甲氧基矽烷，信越化學工業製造)、 SIH5841.5(十七氟-1,1,2,2-四氫癸基三甲氧基矽烷，蓋勒斯特(Gelest)製造)、SIH5841.2(十七氟-1,1,2,2-四氫癸基三乙氧基矽烷，蓋勒斯特製造)。另外，作為分子中具有聚二甲基矽氧烷單元的烷氧基矽烷，可列舉：KPN-3504(信越化學工業製造)，DMS-XE11(乙氧基末端聚二甲基矽氧烷，蓋勒斯特製造)、DMS-XM11(甲氧基末端聚二甲基矽氧烷，蓋勒斯特製造)，DMS-S12、DMS-S14、DMS-S15(矽烷醇末端聚二甲基矽氧烷)等。
乾式處理通常可採用使烷氧基矽烷的原液均勻地分散於藉由攪拌機而高速旋轉的填料中來進行處理的方法。已知乾式處理雖然難以進行均勻的處理，但可於短時間內處理大量的填料等，因此廣泛用於工業用途，當對經乾燥的填料進行處理時，若事先含有水，則處理效率變高。
濕式處理通常為使填料浸漬於烷氧基矽烷的稀薄溶液中的方法，烷基矽烷類，特別是長鏈烷基矽烷、氟烷基矽烷的疏水性高，難以單獨藉由水系來進行處理，因此合適的是利用藉由乙酸等調整了pH的水．醇混合溶液進行處理。因可對填料的表面均勻地進行處理，故可進行精度高的處理。
進而，依次實施乾式處理與濕式處理亦較佳，可製作僅藉由一種處理所無法達成的表面處理率更高的粒子、或實施了2種不同的表面處理的粒子。
尤其，作為對於煅燒二氧化矽粒子的表面處理、及粉 碎、分級方法，較佳為適宜使用日本專利特開2008-137854號公報的[0055]~[0072]中所記載的方法。
作為平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子的具體例，可較佳地使用：MEK-ST-L(平均一次粒徑為50nm，日產化學工業(股份)製造的矽溶膠)、喜佛斯塔(Seahostar)KE-P10(平均一次粒徑為150nm，日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽)、Seahostar KE-P30(平均一次粒徑為300nm，日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽)、Seahostar KE-P50(平均一次粒徑為550nm，日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽)、Seahostar KE-S30(平均一次粒徑為300nm，耐熱性為1000℃，日本觸媒(股份)製造的煅燒二氧化矽)、Seahostar KE-S50(平均一次粒徑為500nm，耐熱性為1000℃，日本觸媒(股份)製造的煅燒二氧化矽)、Epostar S(平均一次粒徑為200nm，日本觸媒(股份)製造的三聚氰胺．甲醛縮合物)、Epostar MA-MX100W(平均一次粒徑為175nm，日本觸媒(股份)製造的聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)系交聯物)、Epostar MA-MX200W(平均一次粒徑為350nm，日本觸媒(股份)製造的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)系交聯物)、Staphyloid(愛克(Aica)工業(股份)製造的多層構造有機微粒子)、Ganzpearl(愛克工業(股份)製造的聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯粒子)等。
本發明的防反射膜的防反射層形成用塗佈液中的粒子的含有率較佳為於固體成分中為3質量%以上、50質量%以下，更 佳為3質量%以上、40質量%以下，進而更佳為5質量%以上、20質量%以下。若為下限以上，則可形成許多蛾眼構造的凸部，因此防反射性容易進一步提昇，若為上限以下，則難以於溶液中產生凝聚，容易順利地形成蛾眼構造。
僅含有一種粒子的平均一次粒徑為50nm以上、200nm以下，且CV值未滿5%的單分散二氧化矽微粒子因蛾眼構造的凹凸的高度變得均一、反射率進一步下降，故較佳。CV值通常使用雷射繞射型粒徑測定裝置來測定，但亦可為其他粒徑測定方式，亦可根據本發明的防反射層的表面SEM圖像，藉由影像分析來求出粒徑分佈。CV值更佳為未滿3%。
(防反射層的黏合劑樹脂)
對防反射層形成用塗佈組成物中所含有的防反射層的黏合劑樹脂進行說明。
防反射層的黏合劑樹脂較佳為使黏合劑樹脂形成用聚合性化合物(單體)硬化所獲得者。
作為所述單體，可列舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等聚合性官能基(聚合性的不飽和雙鍵)的化合物，其中，較佳為具有(甲基)丙烯醯基及-C(O)OCH=CH2的化合物，更佳為具有(甲基)丙烯醯基的化合物。
作為具有聚合性的官能基的化合物的具體例，可列舉：伸烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯類、聚氧伸烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯類、多元醇的(甲基)丙烯酸二酯類、環氧乙烷加成物或環氧 丙烷加成物的(甲基)丙烯酸二酯類、環氧(甲基)丙烯酸酯類、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類、聚酯(甲基)丙烯酸酯類等。
其中，較佳為多元醇與(甲基)丙烯酸的酯類。例如可列舉：季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改質磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-環己烷四甲基丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯、己內酯改質三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯等。
所述黏合劑樹脂較佳為包含使分子量為150~1600的具有(甲基)丙烯醯基的化合物硬化所獲得的樹脂。具有(甲基)丙烯醯基的化合物的分子量更佳為170~1400，進而更佳為200~1200。若為下限以上，則可充分地增強防反射層的強度，若為上限以下，則容易順利地形成滲透層。
再者，當化合物為聚合物時，所述分子量為藉由凝膠滲透層析法所測定的聚苯乙烯換算的質量平均分子量。
就對於基材的滲透性的觀點而言，所述防反射層的黏合劑樹脂較佳為包含使SP值為20~25的具有(甲基)丙烯醯基的化合物硬化所獲得的樹脂。相對於基材表面的SP值，具有(甲基)丙烯 醯基的化合物的SP值較佳為±4以內，更佳為±2以內。
再者，本發明中的SP值(溶解性參數)為藉由霍伊(Hoy)法所算出的值，Hoy法於「聚合物手冊第四版(POLYMER HANDBOOK FOURTH EDITION)」中有記載。
<(a)1分子中具有2個以下的聚合性官能基的化合物>
作為聚合性化合物，就對於塑膠基材的滲透容易性的觀點而言，較佳為(a)1分子中具有2個以下的聚合性官能基的化合物。
作為所述化合物(a)，較佳為質量平均分子量Mwa為40<Mwa<500、且藉由Hoy法所得的SP值SPa為19<SPa<24.5的化合物。具有此種分子量與SP值的化合物是容易滲透至塑膠基材(特別是醯化纖維素基材)中，對於在塑膠基材與防反射層之間形成滲透層而言較佳的化合物。另外，因聚合性官能基數為2個以下，故硬化時的收縮小，即便朝塑膠基材側滲透並使其硬化，亦不會產生捲曲。
1分子中的聚合性官能基的數量較佳為1或2，更佳為1。
作為(a)1分子中具有2個以下的官能基的化合物，可列舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等聚合性官能基(聚合性的不飽和雙鍵)的化合物，其中，較佳為具有(甲基)丙烯醯基及-C(O)OCH=CH2的化合物。
作為(a)1分子中具有2個以下的官能基的化合物的具體例，可列舉：新戊二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸 酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等伸烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯類；二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等伸乙基單元重複數為8以下的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等伸丙基單元重複數為6以下的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚氧伸烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯類；季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-環己烷二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸二酯類；2,2-雙{4-(甲基丙烯醯氧基．乙氧基)苯基}丙烷、2-2-雙{4-(丙烯醯氧基．二乙氧基)苯基}丙烷等環氧乙烷加成物的(甲基)丙烯酸二酯類等；(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸癸酯、脂肪族環氧(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丁二酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等單官能的(甲基)丙烯酸酯類等。
(分散劑)
就防止粒子凝聚的觀點而言，於本發明的防反射膜的防反射層中亦可含有分散劑。作為分散劑，並無特別限定，但較佳為硫酸鹽、磷酸鹽等陰離子性化合物，脂肪族胺鹽、四級銨鹽等陽離 子性化合物，非離子性化合物，高分子化合物，更佳為高分子化合物，其原因在於：吸附基與立體排斥基各自的選擇的自由度高。
作為分散劑，亦可使用市售品。例如可列舉：日本畢克化學(BYK-Chemie．Japan)(股份)製造的迪帕畢克(DISPERBYK)160、DISPERBYK161、DISPERBYK162、DISPERBYK163、DISPERBYK164、DISPERBYK166、DISPERBYK167、DISPERBYK171、DISPERBYK180、DISPERBYK182、DISPERBYK2000、DISPERBYK2001、DISPERBYK2164、Bykumen、BYK-P104、BYK-P104S、BYK-220S、Anti-Terra203、Anti-Terra204、Anti-Terra205(以上為商品名)等當防反射層含有分散劑時，相對於粒子量，分散劑的含量較佳為0.01質量%以上、20質量%以下，更佳為0.05質量%以上、10質量%以下，進而更佳為0.1質量%以上、5質量%以下。
(均染劑)
於本發明的防反射膜的防反射層中，亦可含有均染劑(亦稱為防污劑)。
作為均染劑的具體例，可使用氟系或矽酮系等先前公知的均染劑。添加有均染劑的防反射層形成用塗佈組成物可於塗佈或乾燥時對塗膜表面賦予塗覆穩定性、滑動性、防污性、及耐擦傷性。
就防污性的觀點而言，本發明的防反射膜較佳為水的接觸角為100°以上，更佳為110°以上，進而更佳為120°以上。
為了對防反射膜賦予防污性，較佳為於防反射層中，以整個 防反射層的1質量%以下的範圍含有含氟化合物或矽酮化合物。
含氟化合物或矽酮化合物較佳為分子中具有聚合性基。
氟化合物較佳為於分子中具有聚醚化合物。
矽酮化合物較佳為具有分子量為1000以上的聚二甲基矽氧烷單元。
尤其於賦予防污性時，較佳為適宜使用日本專利特開2012-88699號公報的[0012]~[0101]中所記載的用於硬塗層的防污劑，但作為向本發明的具有蛾眼構造的防反射膜中添加防污劑時的變化之處，可列舉下述的組成物中的添加量的不同。
[含氟防污劑的添加量]
相對於防反射層形成用組成物中的總固體成分，具有聚合性不飽和基的含氟防污劑的添加量較佳為2質量%以下，更佳為0.0001質量%~1質量%，進而更佳為0.0005質量%~0.5質量%，特佳為0.001質量%~0.1質量%。若添加量為0.0001質量%以上，則具有撥水撥油性的防污劑於表面上的存在比例變得適度，可獲得充分的防污性。另外，若添加量為1質量%以下，則析出至表面的防污劑量不會變多，膜強度不會欠佳、或膜不會白化且反射率不會上昇，故較佳。
[聚矽氧烷防污劑的添加量]
相對於防反射層形成用組成物中的總固體成分，聚矽氧烷防污劑的添加量較佳為2質量%以下，更佳為0.0001質量%~1質量%，進而更佳為0.0005質量%~0.5質量%，特佳為0.001質量% ~0.1質量%。若添加量為0.0001質量%以上，則具有撥水撥油性的防污劑於表面上的存在比例變得適度，可獲得充分的防污性。另外，若添加量為1質量%，則析出至表面的防污劑量不會變多，膜強度不會欠佳、或膜不會白化且反射率不會上昇，故較佳。
[具有蛾眼構造的防反射層的接觸角]
蛾眼構造因凹凸非常小，故只要使所述含氟化合物或聚矽氧烷化合物均勻地存在於表面，便可產生所謂的被稱為蓮花效應(Lotus effect)的撥水現象，對於水的接觸角變成100°以上，與使所述化合物存在於平滑的表面時相比，防污性變得非常良好。
本發明的防反射膜特佳為含有含氟化合物或矽酮化合物、水的接觸角為110°以上、且油酸的接觸角為75°以上。油酸的接觸角更佳為80°以上，進而更佳為85°以上。若對於油酸的接觸角為75°以上，則可顯著抑制人的皮脂或油、特別是指紋的附著性而良好。
作為對本發明的具有蛾眼構造的防反射膜賦予防污性的方法，亦如日本專利特開平7-98401中所記載般，亦有藉由浸漬來形成折射率為1.40以下的含氟層(=防污層)作為其他層的方式、或藉由塗佈來形成防污層的方式，但於該些方式中，蛾眼構造的凹部必定被埋上，而導致反射率惡化。較佳為向防反射層用組成物中添加少量的防污劑並使其存在於表面的方式，若使所述防污劑的結構中具有與粒子的反應性基，則防污劑與由粒子所形成的凸部結合，於賦予、維持防污性方面更佳。例如，特佳為將含有烷氧基矽烷結構的防污劑與酸觸媒、鹼性觸媒、金屬螯合物 觸媒等加以組合後添加至防反射層用組成物中。
本發明亦有關於一種防反射膜清掃用布、包含防反射膜與清掃用布的套組、及防反射膜的清掃方法。
作為用以去除附著於本發明的具有蛾眼構造的防反射膜上的污垢的清掃方法，較佳為使用特定的清掃用布。作為清掃用布，較佳為具有比蛾眼構造小的空隙、空孔，具體而言，較佳為具有可見光波長以下的50nm~380nm的空隙或空孔，更佳為50nm~300nm以下，最佳為50nm~200nm以下。作為製作此種清掃用布的方法，較佳為使用日本專利特開2012-207322中所記載的奈米纖維混織線，該奈米纖維混織線是包含2種以上的聚酯長纖維的混織線，且至少1種包含聚對苯二甲酸二丙酯或聚對苯二甲酸丁二酯，伸長20%時的伸縮彈性模數為70%以上，單纖維直徑為50nm~900nm。
進而，清掃用布的水接觸角較佳為未滿90°，更佳為未滿50°，進而更佳為未滿30°。使用日本專利特開2012-207322中所記載的奈米纖維混織線而得的布若保持不變，則水接觸角變成90°以上而不合適，因此必須實施電暈處理、皂化處理等親水化處理。
皂化處理是如下的處理：使奈米纖維混織線於經增溫的鹼性水溶液中浸漬固定時間，進行水洗後，進行用於中和的酸清洗。只要奈米纖維混織線被親水化，則可為任何處理條件，因此適宜決定處理劑的濃度、處理劑液的溫度、處理時間，但通常需要確保生產性，因此以可於3分鐘以內進行處理的方式決定處理條件。 作為一般的條件，鹼濃度為3質量%~25質量%，處理溫度為30℃~70℃，處理時間為15秒~5分鐘。作為用於鹼處理的鹼種類，合適的是氫氧化鈉、氫氧化鉀，作為用於酸清洗的酸，合適的是硫酸，用於水洗的水合適的是離子交換水或純水。
本發明的防反射膜較佳為於波長380nm~780nm的整個區域中積分反射率為3%以下，更佳為2%以下。
本發明的防反射膜較佳為霧度值為5%以下，更佳為3%以下。
[防反射膜的製造方法]
本發明的防反射膜的製造方法是包括以如下順序鄰接的塑膠基材，滲透層，以及包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子及黏合劑樹脂的防反射層，且所述防反射層在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造的防反射膜的製造方法，該防反射膜的製造方法於塑膠基材上塗佈包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子，黏合劑樹脂形成用聚合性化合物，及對於塑膠基材具有滲透性的溶劑的組成物，使對於塑膠基材具有滲透性的溶劑及黏合劑樹脂形成用聚合性化合物滲透至塑膠基材中，藉由電離放射線照射或加熱來使黏合劑樹脂形成用聚合性化合物硬化，而形成所述滲透層、及在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造的防反射層。
(包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子，黏合劑樹脂形成用聚合性化合物，及對於塑膠基材具有滲透 性的溶劑的組成物)
對包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子，黏合劑樹脂形成用聚合性化合物，及對於塑膠基材具有滲透性的溶劑的組成物(以下，亦稱為「組成物(A)」)進行說明。
於組成物(A)中，平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子，及黏合劑樹脂形成用聚合性化合物與以上所述者相同。
(對於塑膠基材具有滲透性的溶劑)
對本發明中的對於塑膠基材具有滲透性的溶劑(基材滲透性溶劑)進行說明。
所謂對於塑膠基材具有滲透性的溶劑，是指對於塑膠基材的表面具有溶解性能及膨潤性能的溶劑。
藉由溶劑對於塑膠基材的表面具有溶解性能及膨潤性能，黏合劑樹脂可滲透至塑膠基材中，而均勻地形成蛾眼構造。
此處，於本發明中，所謂對於透明基材具有溶解性能的溶劑，是指如下的溶劑：於室溫下(25℃)，使24mm×36mm(厚度為80μm)的大小的基材膜於加入有所述溶劑的15cc的瓶中浸漬60秒，取出後利用凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography，GPC)對所浸漬的溶液進行分析時，基材成分(當基材具有多個層時為其表面的成分)的峰值面積為400mV/sec以上。或者如下的溶劑亦是指對於基材具有溶解性能的溶劑：於室溫下(25℃)，使24mm×36mm(厚度為80μm)的大小的基材膜於加入有所述溶劑的15cc的瓶中經過24小時，適宜對瓶進行搖 晃等後，膜完全地溶解而消失。
作為基材滲透性溶劑，根據構成塑膠基材的成分而不同，於醯化纖維素基材的情況下，可較佳地使用甲基乙基酮(MEK)、碳酸二甲酯、乙酸甲酯、丙酮、二氯甲烷等，但只要是可溶解基材者，則並不限定於此。更佳為甲基乙基酮(MEK)、碳酸二甲酯、乙酸甲酯。
於丙烯酸基材的情況下，較佳為碳酸二甲酯、碳酸甲基乙酯、碳酸二乙酯、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、環戊酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯等。
所述組成物(A)亦可含有基材滲透性溶劑以外的溶劑。
於所述組成物(A)中，就不阻礙黏合劑滲透而賦予塗佈性的觀點而言，相對於組成物(A)的總質量，基材滲透性溶劑的含量較佳為5質量%以上、90質量%以下。
就可高效地形成滲透層的觀點而言，所述組成物(A)的固體成分濃度較佳為5質量%以上、90質量%以下。
於所述組成物(A)中，就可高效地形成滲透層的觀點而言，相對於組成物(A)的總固體成分的質量，黏合劑樹脂形成用聚合性化合物的含量較佳為50質量%以上、97質量%以下。
(聚合起始劑)
於組成物(A)中亦可含有聚合起始劑。
當所述黏合劑樹脂形成用聚合性化合物為光聚合性化合物時，較佳為含有光聚合起始劑。
作為光聚合起始劑，可列舉：苯乙酮類、安息香類、二苯基酮類、氧化膦類、縮酮類、蒽醌類、硫雜蒽酮類、偶氮化合物、過氧化物類、2,3-二烷基二酮化合物類、二硫化物化合物類、氟胺化合物類、芳香族鋶類、咯吩二聚物類、鎓鹽類、硼酸鹽類、活性酯類、活性鹵素類、無機錯合物、香豆素類等。光聚合起始劑的具體例、及較佳的形態、市售品等在日本專利特開2009-098658號公報的段落[0133]~段落[0151]中有記載，於本發明中亦可同樣地適宜使用。
於「最新紫外線(Ultraviolet，UV)硬化技術」{技術資訊協會(股份)}(1991年)、p.159，及「紫外線硬化系統」加藤清視著(1989年，綜合技術中心發行)、p.65~p.148中亦記載有各種例子，於本發明中有用。
關於組成物(A)中的光聚合起始劑的含量，就設定成使組成物(A)中所含有的可進行聚合的化合物進行聚合時足夠多、且為了使起始點不過度增加而足夠少的量這一理由而言，相對於組成物(A)中的總固體成分，較佳為0.5質量%~8質量%，更佳為1質量%~5質量%。
作為組成物(A)的塗佈方法，可並無特別限定地使用公知的方法。例如可列舉：浸塗法、氣刀塗佈法、簾塗法、輥塗法、線棒塗佈法、凹版塗佈法、模塗法等。
若將組成物(A)塗佈於塑膠基材上，則對於塑膠基材具有滲透性的溶劑滲透至塑膠基材中。此時，一部分的黏合劑樹 脂形成用聚合性化合物亦滲透至塑膠基材中。其後，藉由電離放射線照射或加熱來使黏合劑樹脂形成用聚合性化合物硬化，而形成滲透層、及防反射層。於防反射層中含有平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子與黏合劑樹脂，但如所述般一部分的黏合劑樹脂形成用聚合性化合物滲透，因此防反射層中的粒子相對於黏合劑樹脂的比例大於組成物(A)中的粒子相對於黏合劑樹脂形成用聚合性化合物的粒子的比例，在與滲透層相反側的表面形成由粒子所形成的蛾眼構造。
滲透至塑膠基材中而形成滲透層的黏合劑較佳為設為防反射層形成用組成物中所含有的所有黏合劑中的50質量%以上。另外，較佳為以滲透層的膜厚變得比防反射層的膜厚的2倍更厚的方式進行滲透。藉由如此形成，於塗佈前粒子不會凝聚，於塗佈後可形成均勻的蛾眼構造。
[偏光板用保護膜]
本發明的防反射膜可用作偏光膜的表面保護膜(偏光板用保護膜)。
2片偏光片保護膜之中，本發明的防反射膜以外的膜為具有包含光學異向層而成的光學補償層的光學補償膜亦較佳。光學補償膜(相位差膜)可改良液晶顯示畫面的視角特性。作為光學補償膜，可使用公知者，但就擴大視角這一點而言，較佳為日本專利特開2001-100042號公報中所記載的光學補償膜。
在與偏光片貼合前，亦可對本發明的防反射膜進行皂化 處理。皂化處理是如下的處理：使光學膜於經增溫的鹼性水溶液中浸漬固定時間，進行水洗後，進行用於中和的酸清洗。只要透明支撐體的與偏光膜貼合之側的面被親水化，則可為任何處理條件，因此適宜決定處理劑的濃度、處理劑液的溫度、處理時間，但通常需要確保生產性，因此以可於3分鐘以內進行處理的方式決定處理條件。作為一般的條件，鹼濃度為3質量%~25質量%，處理溫度為30℃~70℃，處理時間為15秒~5分鐘。作為用於鹼處理的鹼種類，合適的是氫氧化鈉、氫氧化鉀，作為用於酸清洗的酸，合適的是硫酸，用於水洗的水合適的是離子交換水或純水。
對與設置有本發明的防反射層相反側的塑膠基材表面進行皂化處理，然後使用聚乙烯醇水溶液與偏光片貼合。
另外，亦可將紫外線硬化型的接著劑用於本發明的防反射膜與偏光片的貼合。較佳為在與設置有本發明的防反射層相反側的塑膠基材表面設置紫外線硬化型的接著劑層，尤其為了藉由短時間乾燥來提昇生產性，較佳為使用特定的紫外線硬化樹脂與偏光片貼合。例如於日本專利特開2012-144690中，經由含有如下3種自由基聚合性化合物的接著劑層與偏光片貼合，而提昇接著性、耐久性、耐水性：均聚物的Tg為60℃以上、且SP值為29~32的自由基聚合性化合物20質量%~60質量%，均聚物的Tg為60℃以上、且SP值為18~21的自由基聚合性化合物10質量%~30質量%，及均聚物的Tg為60℃以上、且SP值為21~23的自由基聚合性化合物20質量%~60質量%。當使用該接著劑層 時，在與偏光片貼合前可對本發明的具有蛾眼構造的防反射膜進行皂化處理，亦可不進行皂化處理。
[偏光板]
本發明的偏光板是具有偏光片與保護所述偏光片的至少1片保護膜的偏光板，且所述保護膜的至少1片為本發明的防反射膜。偏光片可被保護膜與相位差膜夾持，亦可為保護膜與偏光片的組合。
於偏光片中，有碘系偏光膜、使用二色性染料的染料系偏光膜或多烯系偏光膜。碘系偏光膜及染料系偏光膜通常可使用聚乙烯醇系膜來製造。
[蓋玻璃]
本發明的蓋玻璃具有本發明的防反射膜作為保護膜。
[影像顯示裝置]
本發明的影像顯示裝置具有本發明的防反射膜或偏光板。
本發明的防反射膜及偏光板可適宜地用於如液晶顯示裝置(LCD)、電漿顯示面板(PDP)、電致發光顯示器(ELD)或陰極管顯示裝置(CRT)般的影像顯示裝置，特佳為液晶顯示裝置。
通常，液晶顯示裝置具有液晶單元及配置於其兩側的2片偏光板，液晶單元於2片電極基板之間承載液晶。進而，有時亦將一片光學異向性層配置在液晶單元與一個偏光板之間、或將2片光學異向性層配置在液晶單元與兩個偏光板之間。液晶單元較佳為扭轉向列(Twisted Nematic，TN)模式、垂直配向(Vertical Alignment，VA)模式、光學補償彎曲(Optically Compensated Bend，OCB)模式、共面切換(In-Plane Switching，IPS)模式或電控雙折射(Electrically Controlled Birefringence，ECB)模式。
[包含防反射膜與清掃用布的套組]
本發明的防反射膜藉由具有間隔比防反射層的粒子的平均一次粒徑小的空孔或空隙、且水的接觸角未滿90°的清掃用布來進行清掃，藉此可有效地去除附著於防反射層上的污垢。
即，本發明的套組包含本發明的防反射膜與所述清掃用布。
另外，本發明的防反射膜的清掃方法是針對本發明的防反射膜，使用所述清掃用布將附著於防反射膜上的污垢去除的清掃方法。
實施例
以下列舉實施例來更具體地說明本發明。只要不脫離本發明的主旨，則以下的實施例中所示的材料、試劑、物質量與其比例、操作等可適宜變更。因此，本發明的範圍並不受以下的具體例限制。
[實施例1]
[防反射膜的製作]
如下述所示般製備防反射層形成用組成物，然後塗佈於透明基材上來製作防反射膜試樣No.1A~防反射膜試樣No.20A。
(粒子分散液B-1的製備)
向KE-P30(日本觸媒(股份)製造的Seahostar，非晶質二氧 化矽粒子，平均粒徑為0.3μm)100質量份中添加甲醇480質量份並於混合槽中進行攪拌，而製成20質量%二氧化矽分散液。進而，添加丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷20質量份、及二異丙氧基鋁乙酸乙酯1.5質量份並進行混合後，添加離子交換水9質量份。於60℃下進行8小時反應後冷卻至室溫為止，然後添加乙醯丙酮1.8質量份。一面以總液量大致變得固定的方式添加MEK，一面藉由減壓蒸餾來置換溶劑。以固體成分最終變成20質量%的方式進行調節而製備分散液B-1。
(防反射層形成用組成物的製備)
以變成下述表1中所記載的防反射層形成用組成物A-1的組成的方式添加各成分，將所獲得的組成物投入至混合槽中進行攪拌，然後利用孔徑為5μm的聚丙烯製過濾器進行過濾而製成防反射層形成用組成物A-1(固體成分濃度為50質量%)。
藉由與防反射層形成用組成物A-1相同的方法，以變成下述表1的組成的方式將各成分混合，然後以變成表1中記載的組成比率(質量基準)的方式進行調整，而製作固體成分濃度為50質量%的防反射層形成用組成物A-2~防反射層形成用組成物A-20。
以下表示各自所使用的化合物。
PETA(商品名PET30)：季戊四醇四丙烯酸酯與季戊四醇三丙烯酸酯的混合物(日本化藥(股份)製造，SP值為21.2)
HEMA：甲基丙烯酸2-羥基乙酯(三菱麗陽(股份)製造，SP值為26.5)
TMPTA：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(東亞合成(股份)製造，SP值為20)
布萊瑪(Blemmer)GLM：甘油單甲基丙烯酸酯(日油(股份)製造，SP值為26.5)
Irg.184：光聚合起始劑，豔佳固(Irgacure)184(日本巴斯夫(BASF Japan)(股份)製造)
Irg.907：光聚合起始劑，Irgacure907(日本巴斯夫(股份)製造)
Irg.127：光聚合起始劑，Irgacure127(日本巴斯夫(股份)製造)
KE-P10：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar，平均粒徑為0.15μm
KE-P30：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar，平均粒徑為0.30μm
KE-P50：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar，平均粒徑為0.55μm
粒子A：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar KE-P30的粒徑不同品，平均粒徑為0.20μm
粒子B：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar KE-P50的粒徑不同品，平均粒徑為0.70μm
粒子C：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar KE-P10的粒徑不同品，平均粒徑為0.05μm
粒子D：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar KE-P30的KPN-3504(信越化學工業製造)乾式表面處理品，平均粒徑為0.30μm
粒子E：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar KE-P30的粒徑不同的KPN-3504(信越化學工業製造)乾式表面處理品，平均粒徑為0.20μm
粒子F：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar KE-P30的KPM-7803(信越化學工業製造)乾式表面處理品，平均粒徑為0.30μm
粒子G：日本觸媒(股份)製造的非晶質二氧化矽粒子Seahostar KE-P30的粒徑不同的KPM-7803(信越化學工業製造)乾式表面處理品，平均粒徑為0.20μm
MX-200W：日本觸媒(股份)製造的聚甲基丙烯酸甲酯系交聯物粒子Epostar MA，平均粒徑為0.35μm
DISPERBYK166：粒子分散劑，乙酸丁酯/乙酸甲氧基丙酯的30質量%溶液)
BYK-P104：粒子分散劑，二甲苯/二異丁基酮的50%溶液(日本畢克化學(股份)製造)
美卡夫克(Megafac)F-784-F：迪愛生(DIC)製造的含氟化合物防污劑(不含聚合性基)
FP-1：日本專利特開2013-156332號公報中所記載的合成例1的聚合性樹脂III-1
FP-2：國際公開第2009/133770號中所記載的實施例1的自由基聚合性樹脂Y-1
X-22-164AS：信越矽利光(Shin-Etsu silicone)製造，兩末端反應性矽酮化合物(分子量為900，聚二甲基矽氧烷單元未滿1000)
X-22-164C：信越矽利光製造，兩末端反應性矽酮化合物(分子量為4740，聚二甲基矽氧烷單元為1000以上)
(防反射膜的製作)
使用凹版塗佈機，將所述防反射層形成用組成物A-1塗佈於作為基材的三乙酸纖維素膜(TG40UL，富士軟片(股份)製造)上。於120℃下進行5分鐘乾燥後，一面以變成氧濃度為0.1體積%以下的環境的方式進行氮氣沖洗，一面使用240W/cm的氣冷式金屬鹵化物燈(愛古拉飛克斯(Eye Graphics)(股份)製造)，照射照度為600mW/cm2、照射量為600mJ/cm2的紫外線來使塗佈層硬化，而形成防反射層與滲透層，從而製成防反射膜試樣No.1A。再者，膜厚設定成當以相同的方法塗佈於玻璃上並進行硬化時變成5μm的厚度。
藉由相同的方法，使用防反射層形成用組成物A-2~防反射層形成用組成物A-20來製作防反射膜試樣No.2A~防反射膜試樣No.20A。
((甲基)丙烯酸系樹脂膜-1的製作)
將[具有由下述式(1A)所表示的內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂{共聚單體質量比=甲基丙烯酸甲酯/2-(羥甲基)丙烯酸甲酯=8/2，內酯環化率約為100%，內酯環結構的含有比例為19.4%，重量平均分子量為133000，熔融流動速率為6.5g/10min(240℃，10kgf)，Tg為131℃}90質量份、與丙烯腈-苯乙烯(Acrylonitrile Styrene，AS)樹脂{Toyo ASAS20，東洋苯乙烯(Toyo Styrene)公司製造}10質量份的混合物；Tg為127℃]的顆粒供給至雙軸擠出機中，於約280℃下呈片狀地熔融擠出，而獲得厚度為110μm 的具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂片。於160℃的溫度條件下，使該未延伸片延伸成縱2.0倍、橫2.4倍而獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜-1(厚度：40μm，面內相位差△nd：0.8nm，厚度方向相位差Rth(550nm)：1.5nm)。
(電暈放電處理)
對以上所獲得的(甲基)丙烯酸系樹脂膜的一側實施電暈放電處理(電暈放電電子照射量：77W/m2/min)。
(防反射膜的評價)
藉由以下的方法來進行防反射膜的各種特性的評價。將結果示於表2。
(蛾眼構造的確認)
利用掃描型電子顯微鏡對防反射膜的表面形狀進行觀察，並對表面形狀進行評價。微細構造圖案的週期是以如下方式求出：於掃描型電子顯微鏡照片中隨機地自一端至另一端為止劃直線，使用對位於該直線上的鄰接的凸部的頂點間的距離進行n=50測定 所得的平均值，並對個位數(未滿10nm)的數值進行四捨五入。當無法觀察到凸部時，判斷為「無週期」。
A‥呈包含曲面狀的凸部的形態，明確地形成蛾眼構造
B‥形成接近A的蛾眼構造，但難以區分是否明確地存在凸部
C‥無凸部的其他形態(無週期)
(滲透層的確認)
藉由切片機及電解研磨，使切出成3mm見方左右的試樣的剖面變薄至製作出片數10nm的切片為止，然後利用TEM(透過型電子顯微鏡)來觀察有無滲透層。
(積分反射率)
利用砂紙對膜的背面進行粗面化後利用黑色墨水進行處理，於已消除背面反射的狀態下，將適配器ARV-474安裝於分光光度計V-550(日本分光(股份)製造)上，在380nm~780nm的波長區域中，測定射入角5°處的積分反射率，算出平均反射率並評價防反射性。
(面的均勻性)
面的均勻性藉由霧度值來評價。粒子彼此凝聚且不均勻者的霧度變高。依據JIS-K7136，測定所獲得的膜的總霧度值(%)。裝置使用日本電色工業(股份)製造的霧度計NDH4000。
霧度值為2%以下…面的均勻性優異。
霧度值大於2%、且為5%以下…於面狀中略微有不均，但外觀無問題。
霧度值大於5%…於面狀中有不均，且損害外觀。
於表2中，「TAC」表示所述三乙酸纖維素膜基材，「丙烯酸」表示所述(甲基)丙烯酸系樹脂膜-1，「玻璃」表示松浪硝子工業製造的S9111這一玻璃基板。
如表2所示，於同時形成有蛾眼構造與滲透層的本發明的試樣中，面的均勻性優異(霧度低)，並顯示出積分反射率亦優異的低反射性(例如，實施例試樣No.2A與比較例試樣No.18A)。 亦可知於比較例試樣No.19A中無法形成滲透層，若欲僅藉由分散劑的添加來使面狀變成均勻，則無法改善積分反射率。將實施例試樣No.2A與比較例試樣No.12A的SEM圖像分別示於圖1、圖2。可知於實施例試樣中可清楚地看到粒子的凹凸，相對於此，於比較例試樣中，因無法形成滲透層，故為粒子埋沒於黏合劑中的樣子。
[實施例2]
[帶有硬塗層的塑膠基材的製作]
如下述所示般製備硬塗層形成用組成物，然後塗佈於透明基材上來製作帶有硬塗層的塑膠基材。
(硬塗層形成用組成物的製備)
向混合槽中投入乙酸甲酯10.5質量份、MEK10.5質量份、PET30 22.52質量份、胺基甲酸酯單體6.30質量份、Irgacure184 0.84質量份，並進行攪拌，然後利用孔徑為0.4μm的聚丙烯製過濾器進行過濾而製成硬塗層用塗佈液B-1(固體成分濃度為58質量%)。
所使用的胺基甲酸酯單體為下述結構的化合物。
[化2]
(帶有硬塗層的塑膠基材的製作)
使用凹版塗佈機，將所述硬塗層用塗佈液B-1塗佈於三乙酸纖維素膜(TG40UL，富士軟片(股份)製造)上(固體成分塗佈量：12.1g/m2)。於100℃下進行乾燥後，一面以變成氧濃度為1.0體積%以下的環境的方式進行氮氣沖洗，一面使用160W/cm的氣冷式金屬鹵化物燈(Eye Graphics(股份)製造)，照射照度為400mW/cm2、照射量為150mJ/cm2的紫外線來使塗佈層硬化，而形成硬塗層，從而製成帶有硬塗層的塑膠基材。
[防反射膜的製作]
(防反射層形成用組成物的製備)
藉由與實施例1的防反射層形成用組成物A-1相同的方法，以變成下述表3中記載的組成比率(質量基準)的方式調整各成分，而製作固體成分濃度為50質量%的防反射層形成用組成物B-1~防反射層形成用組成物B-2。
(防反射膜的製備)
使用帶有硬塗層的塑膠基材來代替三乙酸纖維素膜作為基材，除此以外，以與實施例1的防反射膜No.1A相同的方法，使用防反射層形成用組成物B-1~防反射層形成用組成物B-2來製作防反射膜試樣No.1B~防反射膜試樣No.2B。
(防反射膜的評價)
藉由以下的方法來進行防反射膜的各種特性的評價。將結果示於表4。
(鉛筆硬度)
進行JIS K5400中所記載的鉛筆硬度評價。於溫度25℃、濕度60%RH下對各膜試樣進行2小時調濕後，使用JIS S6006中所規定的試驗用鉛筆並以下述的基準來進行評價。
A：2H以上
B：H以上、未滿2H
C：未滿H
如表4所示，當使用帶有硬塗層的塑膠基材作為基材時，亦可製作霧度低、防反射性優異的試樣。進而，可確認於該些試樣中，鉛筆硬度亦優異。
[實施例3]
(清掃用布A的製作)
使用固有黏度為0.71的聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)作為島成分，使用使固有黏度為0.55的間苯二甲酸-5-磺酸鈉7.3質量%進行共聚而成的PET作為海成分，且使用島數為127島、孔數為112的海島型複合用噴絲頭(spinneret)，於島成分比率為30質量%、紡線溫度為290℃、捲取速度為1500m/min的條件下進行熔融紡線而獲得未延伸線。繼而，於捲取速度為500m/min、預熱溫度為90℃、熱定型(heat set)溫度為160℃的條件下使所獲得的未延伸線進行延伸，而獲得44分特(dtex)-112細線(filament)的海島型複合纖維(纖維1)。
另一方面，除將島成分設為固有黏度為1.14的聚對苯二甲酸二丙酯(Polypropylene terephthalate，PPT)以外，與纖維1 同樣地進行熔融紡線。於捲取速度為500m/min、延伸溫度為90℃、熱定型溫度為100℃的條件下使所獲得的未延伸線進行延伸，而獲得75dtex-112細線的海島型複合纖維(纖維2)。所獲得的纖維1與纖維2的脫海完成時間差為4%。
藉由交織(interlace)來對所獲得的纖維1與纖維2進行混纖後，浸漬於溫度為80℃的2質量%氫氧化鈉水溶液中，藉此進行海成分的溶解去除及暫時收縮處理，繼而，浸漬於溫度為98℃的沸水中並進行乾燥，藉此使收縮完成。所獲得的奈米纖維混纖線中，纖維1的纖維直徑為280nm，纖維2的纖維直徑為290nm，線長差為10%，伸長20%時的伸長彈性模數為85%。所獲得的奈米纖維混纖線的單纖維的分散性非常優異，包含所獲得的奈米纖維混纖線的織物的擦拭(wiping)性能及摩擦(scratch)性能均優異，用作製品時具有充分的性能。
對包含所獲得的奈米纖維混纖線的織物進行電暈放電處理(電暈放電電子照射量：34W/m2/min)來製作清掃用布A。所獲得的清掃用布A的空隙為290nm，水接觸角為300°。
(清掃用布B的製作)
除將島成分比率設為15質量%以外，與清掃用布A同樣地製作而獲得的奈米纖維混纖線中，纖維1的纖維直徑為140nm，纖維2的纖維直徑為145nm，對包含奈米纖維混纖線的織物進行電暈放電處理後的清掃用布B的空隙為145nm，水接觸角為20°。
(清掃用布C的製作)
除將島成分比率設為45質量%以外，與清掃用布A同樣地製作而獲得的奈米纖維混纖線中，纖維1的纖維直徑為430nm，纖維2的纖維直徑為440nm，對包含奈米纖維混纖線的織物進行電暈放電處理後的清掃用布C的空隙為440nm，水接觸角為40°。
[防反射膜的製作]
(防反射層形成用組成物的製備)
藉由與實施例1的防反射層形成用組成物A-1相同的方法，以變成下述表5中記載的組成比率(質量基準)的方式調整各成分，而製作固體成分濃度為50質量%的防反射層形成用組成物C-1~防反射層形成用組成物C-31。
除使用防反射層形成用組成物C-1~防反射層形成用組成物C-31來代替防反射層形成用組成物A-1以外，以與實施例1的防反射膜No.1A相同的方法製作防反射膜試樣No.1C~防反射膜試樣No.31C。
(防污性評價1)
利用黏著劑將防反射膜的基材側固定於玻璃面上，於25℃、60RH%的條件下，利用油性馬克筆(墨水顏色：黑色)「Mckee極細(商品名；斑馬(ZEBRA)製造)」的筆尖(細)於防反射層表面劃上3圈直徑為5mm的圓形，10秒後利用摺疊捆紮成10片疊加的清掃用布A~清掃用布C及Savina(凱碧世聯(KB SEIREN)製造，空隙為1μm)，以奔科特(Bemcot)的束產生凹陷的程度的負荷往返擦拭2次。
A‥無法看到馬克筆痕跡。
B‥可淡淡地看到馬克筆痕跡。
C‥可廣泛地看到馬克筆痕跡。
D‥無法擦去馬克筆痕跡。
(防污性評價2)
利用黏著劑，以防反射層側成為最表面的方式將本發明的具有蛾眼構造的防反射膜固定於玻璃基板上，於25℃、60RH%的條件下，使指紋附著於防反射層表面，10秒後利用摺疊捆紮成10片疊加的清掃用布A~清掃用布C及Savina(凱碧世聯製造，空隙為1μm)，以布的束產生凹陷的程度的負荷往返擦拭2次，並以指紋痕跡的觀察狀況評價防污性。
A‥無法看到指紋痕跡。
B‥可淡淡地看到指紋痕跡。
C‥可廣泛地看到指紋痕跡。
D‥無法擦去指紋痕跡。
如表6所示，藉由添加防污劑，而可提高具有蛾眼構造的防反射膜的接觸角，並可顯著改善污垢的附著性。另外，亦可藉由將清掃用布與具有蛾眼構造的防反射膜加以組合的清掃方法來提高污垢去除性。
[產業上之可利用性]
根據本發明，可提供一種具有充分的防反射性能、面狀的均勻性優異、且可藉由簡便的方法來製作的具有蛾眼構造的防反射膜。另外，根據本發明，可提供一種包含所述防反射膜的偏光板、蓋玻璃、及影像顯示裝置。
進而，根據本發明，可提供一種兼具防污性的具有蛾眼構造的防反射膜，藉由使用所述防反射膜，而可提供一種具有蛾眼構造並賦予有防反射與防污性、且具有實用性的視認性良好的偏光板、蓋玻璃、及影像顯示裝置。
另外，根據包含本發明的防反射膜與清掃用布的套組，藉由利用清掃用布對防反射膜進行清掃，而可簡便地去除具有蛾眼構造的防反射膜的污垢。
雖然詳細地且參照特定的實施形態對本發明進行了說明，但對於本領域從業人員而言明確的是，可不脫離本發明的精神與範圍而施加各種變更或修正。
本申請是基於2013年5月13日申請的日本專利申請(日本專利特願2013-101137)及2014年3月31日申請的日本專利申請(日本專利特願2014-074629)者，其內容可作為參照而被編入至 本申請中。

Claims (27)

  1. 一種防反射膜，其包括以如下順序鄰接的塑膠基材；滲透層；以及包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子及黏合劑樹脂的防反射層，且所述防反射層在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其於波長380nm~780nm的整個區域中的積分反射率為3%以下。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述黏合劑樹脂包含使分子量為150~1600的具有(甲基)丙烯醯基的化合物硬化所獲得的樹脂。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述黏合劑樹脂包含使SP值為20~25的具有(甲基)丙烯醯基的化合物硬化所獲得的樹脂。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述粒子為金屬氧化物粒子。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述粒子為二氧化矽粒子。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述粒子為利用具有不飽和雙鍵的化合物對表面進行了處理的粒子。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述防反射層的膜厚為0.1μm~5μm。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述滲透層 的膜厚為0.1μm~5μm。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述防反射層中含有分散劑。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述滲透層中含有對於所述塑膠基材具有滲透性的溶劑。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述塑膠基材含有醯化纖維素。
  13. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中霧度值為5%以下。
  14. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中水的接觸角為100°以上。
  15. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其中所述防反射層中，以整個防反射層的2質量%以下的範圍含有含氟化合物或矽酮化合物。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的防反射膜，其中所述含氟化合物或矽酮化合物於分子中具有聚合性基。
  17. 如申請專利範圍第15項所述的防反射膜，其中所述氟化合物於分子中具有聚醚化合物。
  18. 如申請專利範圍第15項所述的防反射膜，其中所述矽酮化合物具有分子量為1000以上的聚二甲基矽氧烷單元。
  19. 如申請專利範圍第15項所述的防反射膜，其含有所述含氟化合物或矽酮化合物，水的接觸角為110°以上，且油酸的接觸 角為80°以上。
  20. 如申請專利範圍第1項所述的防反射膜，其僅含有一種所述粒子的平均一次粒徑為50nm以上、200nm以下，且CV值未滿5%的單分散二氧化矽微粒子。
  21. 一種偏光板，其包括如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜作為偏光板用保護膜。
  22. 一種蓋玻璃，其包括如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜作為保護膜。
  23. 一種影像顯示裝置，其包括如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜、或如申請專利範圍第21項所述的偏光板。
  24. 一種防反射膜的製造方法，其是包括以如下順序鄰接的塑膠基材；滲透層；以及包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子及黏合劑樹脂的防反射層，且所述防反射層在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造的防反射膜的製造方法，其中，於塑膠基材上塗佈包含平均一次粒徑為50nm以上、700nm以下的粒子，黏合劑樹脂形成用聚合性化合物，及對於塑膠基材具有滲透性的溶劑的組成物，使對於塑膠基材具有滲透性的溶劑及黏合劑樹脂形成用聚合性化合物的一部分滲透至塑膠基材中，於使所述有機溶劑乾燥後，藉由電離放射線照射或加熱來使黏合劑樹脂形成用聚合性化合物硬化，而形成所述滲透層、及 在與所述滲透層相反側的表面具有由所述粒子形成的蛾眼構造的防反射層。
  25. 一種清掃用布，其用以去除附著於如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜上的污垢，其具有間隔比如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜的所述粒子的平均一次粒徑小的空孔或空隙、且水的接觸角未滿90°。
  26. 一種套組，其包括：如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜；以及清掃用布，具有間隔比如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜的所述粒子的平均一次粒徑小的空孔或空隙、且水的接觸角未滿90°。
  27. 一種防反射膜的清掃方法，其使用具有間隔比如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜的所述粒子的平均一次粒徑小的空孔或空隙、且水的接觸角未滿90°的清掃用布，去除附著於如申請專利範圍第1項至第20項中任一項所述的防反射膜上的污垢。
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