JP6596572B2 - 積層体、積層体の製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、積層体、積層体の製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法に関する。

陰極線管（ＣＲＴ）を利用した表示装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下及び像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。また、ショールームのガラス表面など、画像表示装置以外でも反射防止フィルムにより反射防止機能を付与する場合がある。

反射防止フィルムとして、基材表面に周期が可視光の波長以下の微細な凹凸形状を有する反射防止フィルム、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ ｅｙｅ）構造を有する反射防止フィルムが知られている。モスアイ構造により、擬似的に空気から基材の内部のバルク材料に向かって屈折率が連続的に変化する屈折率傾斜層を作り出し、光の反射を防止することができる。

モスアイ構造を有する反射防止フィルムとして、特許文献１には、透明樹脂モノマーと微粒子を含有する塗布液を透明基材上に塗布し、硬化して微粒子が分散した透明樹脂を形成し、その後、透明樹脂をエッチングすることにより製造されたモスアイ構造を有する反射防止フィルムが記載されている。

また、特許文献２には、金型を用いて作製したモスアイ構造を有する反射防止フィルムに、保護フィルムを貼り合わせることで、モスアイ構造を汚れ及び傷付きから保護することが記載されている。

日本国特開２００９−１３９７９６号公報 日本国特開２０１４−２２１５５４号公報

しかしながら、特許文献１及び２の技術では、透明樹脂をエッチングする必要があったり、金型を製造する必要があったりするため、反射防止フィルムの製造工程が複雑になることがある。

本発明の課題は、良好な反射防止性能を有し、ヘイズが低く、白濁感が少ない、反射防止フィルムを簡便に製造するために用いることができる積層体、上記積層体の製造方法、及び上記積層体の製造方法を用いた反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために、基材上に、粒子と硬化性化合物を含有する組成物を塗布することにより、モスアイ構造を形成することを検討した。しかしながら、塗布から硬化までの間に粒子が空気界面に露出すると凝集しやすく、白濁が発生する場合が生じた。そこで、本発明者らは更に検討し、粘着剤を含む層を積層し、塗布から硬化までの間に粒子が空気界面に露出しないようにして、硬化後に粘着剤を含む層を剥離することで、粒子によって形成された良好な凹凸形状を作製できることを見出した。
すなわち、下記手段により上記課題を解決できることを見出した。

［１］
基材、樹脂を含む層（ｃａ）、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）、及びゲル分率が９５．０％以上の粘着剤を含む層（ｂ）を有する積層体であって、
上記層（ｃａ）は上記層（ｂ）よりも上記基材に近い側に存在し、
上記粒子（ａ２）は、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ上記層（ｃａ）の上記基材側の界面とは反対側の界面から突出しており、
上記層（ｃａ）の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）から上記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）を引いた値が−１５ｍＮ／ｍ以上１０ｍＮ／ｍ以下である、積層体。
［２］
上記層（ｃａ）の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）が４０ｍＮ／ｍ以下であり、上記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）が４０ｍＮ／ｍ以下である［１］に記載の積層体。
［３］
上記層（ｃａ）の表面の水の接触角が５０°以上である［１］又は［２］に記載の積層体。
［４］
上記層（ｂ）の上記層（ｃａ）側の界面とは反対側の界面側に、更に支持体を有する、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の積層体。
［５］
上記層（ｃａ）の上記基材側の界面とは反対側の界面の高さが、上記粒子（ａ２）の平均一次粒径の半分以下である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の積層体。
［６］
上記基材の表面に直交する方向には上記粒子（ａ２）が複数存在しない、［１］〜［５］のいずれか１項に記載の積層体。
［７］
上記粒子（ａ２）が金属酸化物粒子である、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の積層体。
［８］
上記粒子（ａ２）が表面修飾された粒子である、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の積層体。
［９］
上記層（ｂ）と上記層（ｃａ）との間に、１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位を有する滑り剤が存在する［１］〜［８］のいずれか１項に記載の積層体。
［１０］
基材上に、硬化性化合物（ａ１）と平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを、上記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に上記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、
支持体及び上記支持体上にゲル分率が９５．０％以上の粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの上記層（ｂ）を、上記層（ａ）と貼り合わせる工程（２）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、上記層（ａ）の上記基材側の界面とは反対側の界面から突出するように、上記層（ａ）と上記層（ｂ）の界面の位置を上記基材側に下げる工程（３）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で上記層（ａ）を硬化する工程（４）、をこの順に有し、
上記層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）から上記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）を引いた値が−１５ｍＮ／ｍ以上１０ｍＮ／ｍ以下である、積層体の製造方法。
［１１］
上記層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）が４０ｍＮ／ｍ以下である、［１０］に記載の積層体の製造方法。
［１２］
上記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）が４０ｍＮ／ｍ以下である、［１０］又は［１１］に記載の積層体の製造方法。
［１３］
上記粘着フィルムの波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上である、［１０］〜［１２］のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
［１４］
上記粘着剤が、重合体と架橋剤とを含む粘着剤組成物の硬化物を含み、上記粘着剤組成物は、上記重合体１００質量部に対して、上記架橋剤を３．５質量部超１５質量部未満含む、［１０］〜［１３］のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
［１５］
上記粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下である、［１４］に記載の積層体の製造方法。
［１６］
上記粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率が１．３ｘ１０^５Ｐａ以下であり、上記粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下である［１０］〜［１３］のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
［１７］
上記硬化性化合物（ａ１）として、１分子中に（メタ）アクリロイル基を３個以上有する化合物を含む、［１０］〜［１６］のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
［１８］
上記工程（３）を、上記積層体を加熱することで上記硬化性化合物（ａ１）の一部を上記基材に浸透させることにより行う、［１０］〜［１７］のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
［１９］
上記加熱における温度が、６０〜１８０℃である、［１８］に記載の積層体の製造方法。
［２０］
上記工程（３）を、上記硬化性化合物（ａ１）の一部を上記層（ｂ）に浸透させることにより行う、［１０］〜［１７］のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
［２１］
上記硬化性化合物（ａ１）の一部を上記層（ｂ）に浸透させる温度が、６０℃未満である、［２０］に記載の積層体の製造方法。
［２２］
［１０］〜［２１］のいずれか１項に記載の積層体の製造方法によって得られた積層体の上記粘着フィルムを剥離する工程（５）を有する、反射防止フィルムの製造方法。

本発明によれば、良好な反射防止性能を有し、ヘイズが低く、白濁感が少ない、反射防止フィルムを簡便に製造するために用いることができる積層体、上記積層体の製造方法、及び上記積層体の製造方法を用いた反射防止フィルムの製造方法を提供することができる。

本発明の積層体の製造方法及び反射防止フィルムの製造方法の一例を説明するための模式図である。 本発明の製造方法により製造される反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。

［積層体の製造方法］
本発明の積層体の製造方法は、
基材上に、硬化性化合物（ａ１）と平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを、上記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に上記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、
支持体及び上記支持体上にゲル分率が９５．０％以上の粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの上記層（ｂ）を、上記層（ａ）と貼り合わせる工程（２）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、上記層（ａ）の上記基材側の界面とは反対側の界面から突出するように、上記層（ａ）と上記層（ｂ）の界面の位置を上記基材側に下げる（近づける）工程（３）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で上記層（ａ）を硬化する工程（４）、をこの順に有し、
上記層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）から上記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）を引いた値が−１５ｍＮ／ｍ以上１０ｍＮ／ｍ以下である、積層体の製造方法である。

本発明の反射防止フィルムの製造方法は、前述の本発明の積層体の製造方法によって得られた積層体の上記粘着フィルムを剥離する工程（５）を有する。

本発明の積層体の製造方法及び反射防止フィルムの製造方法の好ましい実施形態の一例を図１に示す。
図１の（１）は、工程（１）において、基材１上に、硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）（図１中の符号４）中に平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）（図１中の符号３）が埋没する厚みで設けた状態を模式的に表している。

図１の（２）は、工程（２）において、支持体５及び上記支持体５上にゲル分率が９５．０％以上の粘着剤を含む層（ｂ）（図１中の符号６）を有する粘着フィルム７の層（ｂ）を、層（ａ）（図１中の符号４）と貼り合わせた状態を模式的に表している。

図１の（３）は、工程（３）において、粒子（ａ２）が、層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ａ）の基材側の界面とは反対側の界面から突出するように、層（ａ）と層（ｂ）の界面の位置を基材側に下げた状態を模式的に表している。なお、後述するように、層（ａ）と層（ｂ）の界面の位置を基材側に下げる方法としては、硬化性化合物（ａ１）の一部を基材に浸透（基材が機能層を有する場合は機能層に浸透してもよい）させる方法、又は硬化性化合物（ａ１）の一部を粘着剤を含む層（ｂ）に浸透させる方法が挙げられる。

図１の（４）は、工程（４）において、粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ａ）を硬化しているところを模式的に表している。
なお工程（４）が完了して得られる積層体８は、本発明の積層体である。積層体８中の層（ａ）（符号４）は硬化性化合物（ａ１）の硬化物である樹脂を含む層（ｃａ）に相当する。

図１の（５）は、得られた積層体８の粘着フィルム７を剥離する工程（５）において、粘着フィルム７を剥離した後の状態（反射防止フィルム１０）を表している。

［工程（１）］
工程（１）は、基材上に、硬化性化合物（ａ１）と平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを、硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程である。
本発明において、「層（ａ）中に粒子（ａ２）が埋没する厚み」とは、粒子（ａ２）の平均一次粒子径の０．８倍以上の厚みを表すものとする。

工程（１）において、基材上に層（ａ）を設ける方法は特に限定されないが、基材上に層（ａ）を塗布することにより設けることが好ましい。この場合、層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む組成物（Ａ）を塗布してなる層である。塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。

工程（１）において、基材の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないことが好ましい。ここで、基材の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないとは、基材の面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子（ａ２）の個数の割合が、８０％以上であることを表し、好ましくは９５％以上である。

（基材）
基材は、反射防止フィルムの基材として一般的に使用される透光性を有する基材であれは特に制限はないが、プラスチック基材又はガラス基材が好ましい。
プラスチック基材としては、種々用いることができ、例えば、セルロース系樹脂；セルロースアシレート（トリアセテートセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース）等、ポリエステル樹脂；ポリエチレンテレフタレート等、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、オレフィン系樹脂等を含有する基材が挙げられ、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、又は（メタ）アクリル系樹脂を含有する基材が好ましく、セルロースアシレートを含有する基材がより好ましく、セルロースアシレートフィルムであることが特に好ましい。セルロースアシレートとしては、特開２０１２−０９３７２３号公報に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
プラスチック基材の厚さは、通常、１０μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、透光性が高く、かつ十分な強度が得られるという観点から２０μｍ〜２００μｍが好ましく、２５μｍ〜１００μｍがより好ましい。プラスチック基材の透光性としては、可視光の透過率が９０％以上のものが好ましい。

なお、本発明においては、工程（１）の前に、基材上に機能層を設けてもよい。基材上に機能層を有する場合は、便宜的に、その機能層と基材との積層体を「基材」と呼ぶこともある。基材上に機能層を設けた場合には、工程（１）においては機能層上に層（ａ）を設け、以降の工程を行うものとする。機能層としてはハードコート層が好ましい。

（層（ａ））
層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む。
層（ａ）は本発明の製造方法によって製造された反射防止フィルム（「出来上がりの反射防止フィルム」ともいう）において、反射防止層を形成するための層である。
層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）は、硬化されることで、出来上がりの反射防止フィルムにおいて、反射防止層のバインダー樹脂となり得るものである。
層（ａ）に含まれる平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）は、出来上がりの反射防止フィルムにおいて、バインダー樹脂からなる膜の表面から突出し、凹凸形状（モスアイ構造）を形成する粒子である。
なお、層（ａ）は工程（４）で硬化されるため、硬化前と硬化後で含有する成分が異なるが、本発明では便宜的にいずれの段階においても層（ａ）と呼ぶことがある。
工程（１）における層（ａ）の膜厚は、粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上２．０倍以下であることが好ましく、０．８倍以上１．５倍以下であることがより好ましく、０．９倍以上１．２倍以下であることが更に好ましい。

＜硬化性化合物（ａ１）＞
硬化性化合物（ａ１）としては、重合性官能基を有する化合物（好ましくは電離放射線硬化性化合物）が好ましい。重合性官能基を有する化合物としては、各種モノマー、オリゴマー又はポリマーを用いる事ができ、重合性官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性不飽和基（炭素−炭素不飽和二重結合性基）等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

重合性不飽和基を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。

さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性官能基を有する化合物として、好ましく用いられる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーを少なくとも１種含有することが好ましい。
例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃３ＰＡ、Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ、Ｖ＃１０００、Ｖ＃１０８０等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４８５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−１０ＨＡ、Ｕ−１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ−１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ，ＵＮ−３３２０ＨＣ，ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４，ＨＤＰ−４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００，Ｍ−８０３０，Ｍ−９０５０（東亞合成（株）製、ＫＲＭ−８３０７（ダイセルサイテック（株）製）などの３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。特にＤＰＨＡ又はＰＥＴ−３０が好ましく用いられる。

さらに、３個以上の重合性官能基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。

また、特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号公報に記載された化合物、ＳＩＲＩＵＳ−５０１、ＳＵＢＡＲＵ−５０１（大阪有機化学工業（株）製）のようなデンドリマー、特開２００５−６０４２５号公報に記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。

さらに、粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）を結合させて強固な膜にするために、硬化性化合物（ａ１）として、重合性官能基を有するシランカップリング剤を用いてもよい。
重合性官能基を有するシランカップリング剤の具体例としては、例えば、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシラン、４−（メタ）アクリロキシブチルトリメトキシシラン、４−（メタ）アクリロキシブチルトリエトキシシラン等が挙げられる。具体的には、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業（株）製）、特開２０１４−１２３０９１号記載のシランカップリング剤Ｘ−１２−１０４８、Ｘ−１２−１０４９、Ｘ−１２−１０５０（信越化学工業（株）製）、及び下記構造式で表される化合物Ｃ３等が挙げられる。

重合性官能基を有する化合物は、二種類以上を併用してもよい。これら重合性官能基を有する化合物の重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。

硬化性化合物（ａ１）は、基材への浸透性の観点から、ＳＰ値２０〜２５の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を少なくとも１種含むことが好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する化合物のＳＰ値は、基材表面のＳＰ値に対して±４以内であることが好ましく、±２以内が更に好ましい。
なお、本発明におけるＳＰ値（溶解性パラメーター）は、Ｈｏｙ法によって算出した値であり、Ｈｏｙ法は、ＰＯＬＹＭＥＲＨＡＮＤＢＯＯＫＦＯＵＲＴＨＥＤＩＴＩＯＮに記載がある。

また、プラスチック基材、あるいはハードコート層等の機能層への浸透のしやすさの観点から、上記硬化性化合物（ａ１）として１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物を用いてもよいが、特に、１分子中に３個以上の重合性官能基を有する化合物と、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物を併用することが好ましい。
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物としては、重量平均分子量Ｍｗａが４０＜Ｍｗａ＜５００で、Ｈｏｙ法によるＳＰ値ＳＰａが１９＜ＳＰａ＜２４．５である化合物であることが好ましい。このような分子量とＳＰ値を有する化合物は、プラスチック基材（特にセルロースアシレート基材）あるいはハードコート層等の機能層へ浸透し易く、プラスチック基材あるいはハードコート層等の機能層と反射防止層との間の浸透層形成に好ましい化合物である。また、重合性官能基数が２個以下である、あるいは重合性基を含有しないため硬化時の収縮が小さく、プラスチック基材側へ浸透させ硬化させてもカールを生じさせることがない。
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物の１分子中の重合性官能基の数は０〜２が好ましく、０〜１がより好ましい。

さらに、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物は、２５℃における粘度が１００ｍＰａｓ以下であることが好ましく、１〜５０ｍＰａｓがより好ましい。このような粘度範囲にある化合物は、プラスチック基材あるいはハードコート層等の機能層へ浸透しやすい上に、粒子（ａ２）の凝集を抑制するように働き、ヘイズ、白濁感を抑制できるため好ましい。

１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物は、重合性官能基として、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、アルコキシ基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を持つものが好ましい。

重合性官能基を有さない化合物としては、エステル系化合物、アミン系化合物、エーテル系化合物、脂肪族アルコール系化合物、炭化水素系化合物などを好ましく用いることができ、エステル系化合物が特に好ましい。より具体的には、コハク酸ジメチル（ＳＰ値２０．２、粘度２．６ｍＰａｓ）、コハク酸ジエチル（ＳＰ値１９．７、粘度２．６ｍＰａｓ）、アジピン酸ジメチル（ＳＰ値１９．７、粘度２．８ｍＰａｓ）、コハク酸ジブチル（ＳＰ値１９．１、粘度３．９ｍＰａｓ）、アジピン酸ビス（２−ブトキシエチル）（ＳＰ値１９．０、粘度１０．８ｍＰａｓ）、スベリン酸ジメチル（ＳＰ値１９．４、粘度３．７ｍＰａｓ）、フタル酸ジエチル（ＳＰ値２２．３、粘度９．８ｍＰａｓ）、フタル酸ジブチル（ＳＰ値２１．４、粘度１３．７ｍＰａｓ）、クエン酸トリエチル（ＳＰ値２２．５、粘度２２．６ｍＰａｓ）、クエン酸アセチルトリエチル（ＳＰ値２１．１、粘度２９．７ｍＰａｓ）、ジフェニルエーテル（ＳＰ値２１．４、粘度３．８ｍＰａｓ）などが挙げられる。

本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記の条件で測定された値である。
［溶媒］ テトラヒドロフラン
［装置名］ ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
［カラム］ ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ
（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用。
［カラム温度］ ２５℃
［試料濃度］ ０．１質量％
［流速］ ０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
［校正曲線］ ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０までの７サンプルによる校正曲線を使用。

層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）の塗設量は、１００ｍｇ／ｍ^２〜８００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜６００ｍｇ／ｍ^２がさらに好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜４００ｍｇ／ｍ^２が最も好ましい。

＜平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）＞
平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）を、「粒子（ａ２）」ともいう。
粒子（ａ２）としては、金属酸化物粒子、樹脂粒子、金属酸化物粒子のコアと樹脂のシェルを有する有機無機ハイブリッド粒子などが挙げられるが、膜強度に優れる観点から金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、多くのバインダーと屈折率が近いためヘイズを発生しにくく、かつモスアイ構造が形成し易い観点からシリカ粒子が好ましい。
樹脂粒子としては、ポリメタクリル酸メチル粒子、ポリスチレン粒子、メラミン粒子などが挙げられる。

粒子（ａ２）の平均一次粒子径は、粒子が並んでモスアイ構造を形成できる観点から１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下であり、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１７０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
粒子（ａ２）として、１種のみ使用してもよいし、平均一次粒子径の異なる２種以上の粒子を用いてもよい。

粒子（ａ２）の平均一次粒径は、体積平均粒径の累積の５０％粒径を指す。粒径の測定には走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる事ができる。粉体粒子（分散液の場合は乾燥させて溶剤を揮発させたもの）をＳＥＭ観察により適切な倍率（５０００倍程度）で観察し、一次粒子１００個のそれぞれの直径を測長してその体積を算出し、累積の５０％粒径を平均一次粒径とすることができる。粒子が球形でない場合には、長径と短径の平均値をその一次粒子の直径とみなす。反射防止フィルム中に含まれる粒子を測定する場合は、反射防止フィルムを表面側から上記同様ＳＥＭで観察して算出する。この際、観察し易いように、試料にはカーボン蒸着、エッチング処理などを適宜施してよい。

粒子（ａ２）の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。
また、シリカ粒子については、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよい。

粒子（ａ２）は塗布液中での分散性向上、膜強度向上、凝集防止のために表面処理された無機微粒子を使用することが好ましい。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１１９］〜［０１４７］に記載のものと同様である。
特に、バインダー成分である硬化性化合物（ａ１）との結着性を付与し、膜強度を向上させる観点から、粒子表面を不飽和二重結合および粒子表面と反応性を有する官能基を有する化合物で表面修飾し、粒子表面に不飽和二重結合を付与することが好ましい。表面修飾に用いる化合物としては、硬化性化合物（ａ１）として上述した、重合性官能基を有するシランカップリング剤を好適に用いることができる。

平均一次粒子径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子の具体的な例としては、シーホスターＫＥ−Ｐ１０（平均一次粒子径１００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ−Ｐ３０（平均一次粒子径３００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ−Ｓ３０（平均一次粒子径３００ｎｍ、耐熱性１０００℃、日本触媒（株）製焼成シリカ）、エポスターＳ（平均一次粒子径２００ｎｍ、日本触媒（株）製メラミン・ホルムアルデヒド縮合物）、エポスターＭＡ―ＭＸ１００Ｗ（平均一次粒子径１７５ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、エポスターＭＡ―ＭＸ２００Ｗ（平均一次粒子径３５０ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、スタフィロイド（アイカ工業（株）製多層構造有機微粒子）、ガンツパール（アイカ工業（株）製ポリメチルメタクリレ−ト、ポリスチレン粒子）などを好ましく用いることができる。

粒子（ａ２）としては、表面のヒドロキシル基量が適度に多く、かつ硬い粒子であるという理由から、焼成シリカ粒子であることが特に好ましい。
焼成シリカ粒子は、加水分解が可能なシリコン化合物を水と触媒とを含む有機溶媒中で加水分解、縮合させることによってシリカ粒子を得た後、シリカ粒子を焼成するという公知の技術により製造することができ、たとえば特開２００３−１７６１２１号公報、特開２００８−１３７８５４号公報などを参照することができる。
焼成シリカ粒子を製造する原料のシリコン化合物としては特に限定されないが、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化合物；テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等のアシロキシシラン化合物；ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、トリメチルシラノール等のシラノール化合物；等が挙げられる。上記例示のシラン化合物のうち、アルコキシシラン化合物が、より入手し易く、かつ、得られる焼成シリカ粒子に不純物としてハロゲン原子が含まれることが無いので特に好ましい。本発明にかかる焼成シリカ粒子の好ましい形態としては、ハロゲン原子の含有量が実質的に０％であり、ハロゲン原子が検出されないことが好ましい。
焼成温度は特に限定されないが、８００〜１３００℃が好ましく、１０００℃〜１２００℃がより好ましい。

粒子（ａ２）の塗設量は、５０ｍｇ／ｍ^２〜２００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜１８０ｍｇ／ｍ^２がさらに好ましく、１３０ｍｇ／ｍ^２〜１７０ｍｇ／ｍ^２が最も好ましい。下限以上では、モスアイ構造の凸部が数多く形成できるため反射防止性がより向上しやすく、上限以下であると、液中での凝集が生じにくく、良好なモスアイ構造を形成しやすい。

粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下で、かつＣＶ値が５％未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有することがモスアイ構造の凹凸の高さが均一になり、反射率がより低下するため好ましい。ＣＶ値は通常レーザー回折型粒径測定装置を用いて測定されるが、他の粒径測定方式でも良いし、本発明の反射防止層の表面ＳＥＭ像から、画像解析によって粒径分布を求め算出することもできる。ＣＶ値は４％未満であることがより好ましい。

層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）以外の成分を含有していてもよく、たとえば、溶剤、重合開始剤、粒子（ａ２）の分散剤、レベリング剤、防汚剤等を含有していてもよい。

＜溶剤＞
溶媒としては、粒子（ａ２）と極性が近いものを選ぶのが分散性を向上させる観点で好ましい。具体的には、例えば粒子（ａ２）が金属酸化物粒子の場合にはアルコール系の溶剤が好ましく、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。また、例えば粒子（ａ２）が疎水化表面修飾がされた金属樹脂粒子の場合には、ケトン系、エステル系、カーボネート系、アルカン、芳香族系等の溶剤が好ましく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド、シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらの溶剤は、分散性を著しく悪化させない範囲で複数種混ぜて用いてもかまわない。

＜粒子（ａ２）の分散剤＞
粒子（ａ２）の分散剤は、粒子同士の凝集力を低下させることにより、粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。分散剤としては、特に限定されないが、硫酸塩、リン酸塩などのアニオン性化合物、脂肪族アミン塩、四級アンモニウム塩などのカチオン性化合物、非イオン性化合物、高分子化合物が好ましく、吸着基と立体反発基それぞれの選択の自由度が高いため高分子化合物がより好ましい。分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、ビックケミー・ジャパン（株）製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２１６４、Ｂｙｋｕｍｅｎ、ＢＹＫ−２００９、ＢＹＫ−Ｐ１０４、ＢＹＫ−Ｐ１０４Ｓ、ＢＹＫ−２２０Ｓ、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０３、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０４、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０５（以上商品名）などが挙げられる。

＜レベリング剤＞
レベリング剤は、層（ａ）の表面張力を低下させることにより、塗布後の液を安定化させ硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。
本発明において用いられる層（ａ）形成用組成物は、少なくとも１種のレベリング剤を含有することができる。
これにより、乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、塗布物のハジキを改良したり、硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。

レベリング剤として、具体的には、シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤を用いることができる。なお、レベリング剤は、低分子化合物よりもオリゴマー又はポリマーであることが好ましい。

レベリング剤を添加すると、塗布された塗膜の表面にレベリング剤が速やかに移動して偏在化し、塗膜の乾燥後もレベリング剤がそのまま表面に偏在することになるため、レベリング剤を添加した膜の表面自由エネルギーは、レベリング剤によって低下する。膜厚不均一性、ハジキ、及びムラを防止するという観点からは、膜の表面自由エネルギーが低いことが好ましい。

シリコーン系レベリング剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含み、末端及び／又は側鎖に置換基を有するポリマーあるいはオリゴマーが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含むポリマーあるいはオリゴマー中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。

シリコーン系レべリング剤の数平均分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。

好ましいシリコーン系レベリング剤の例としては、電離放射線硬化基を有しない市販のシリコーン系レベリング剤として、信越化学工業（株）製のＸ２２−３７１０、Ｘ２２−１６２Ｃ、Ｘ２２−３７０１Ｅ、Ｘ２２１６０ＡＳ、Ｘ２２１７０ＤＸ、Ｘ２２４０１５、Ｘ２２１７６ＤＸ、Ｘ２２−１７６Ｆ、Ｘ２２４２７２、ＫＦ８００１、Ｘ２２−２０００等；チッソ（株）製のＦＭ４４２１、ＦＭ０４２５、ＦＭＤＡ２６、ＦＳ１２６５等；東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６−７５０、ＢＹ１６８８０、ＢＹ１６８４８、ＳＦ８４２７、ＳＦ８４２１、ＳＨ３７４６、ＳＨ８４００、ＳＦ３７７１、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７４８、ＳＨ８４１０等；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＴＳＦシリーズ（ＴＳＦ４４６０、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４７３０、ＴＳＦ４７７０等）、ＦＧＦ５０２、ＳＩＬＷＥＴシリーズ（ＳＩＬＷＥＴＬ７７、ＳＩＬＷＥＴＬ２７８０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０８、ＳＩＬＷＥＴＬ７００１、ＳＩＬＷＥＴＬ７００２、ＳＩＬＷＥＴＬ７０８７、ＳＩＬＷＥＴＬ７２００、ＳＩＬＷＥＴＬ７２１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２３０、ＳＩＬＷＥＴＬ７５００、ＳＩＬＷＥＴＬ７５１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６００、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０５、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０７、ＳＩＬＷＥＴＬ７６２２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６４４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５７、ＳＩＬＷＥＴＬ８５００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６１０、ＳＩＬＷＥＴＬ８６２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２０）等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。

電離放射線硬化基を有するものとして、信越化学工業（株）製のＸ２２−１６３Ａ、Ｘ２２−１７３ＤＸ、Ｘ２２−１６３Ｃ、ＫＦ１０１、Ｘ２２１６４Ａ、Ｘ２４−８２０１、Ｘ２２１７４ＤＸ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２２４２６、Ｘ２２２４４５、Ｘ２２２４５７、Ｘ２２２４５９、Ｘ２２２４５、Ｘ２２１６０２、Ｘ２２１６０３、Ｘ２２１６４Ｅ、Ｘ２２１６４Ｂ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２１６４Ｄ、ＴＭ０７０１等；チッソ（株）製のサイラプレーンシリーズ（ＦＭ０７２５、ＦＭ０７２１、ＦＭ７７２５、ＦＭ７７２１、ＦＭ７７２６、ＦＭ７７２７等）；東レ・ダウコーニング（株）製のＳＦ８４１１、ＳＦ８４１３、ＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ、８３８８Ａ等；エボニックデグサ ジャパン（株）製のＴＥＧＯＲａｄ２０１０、２０１１、２１００、２２００Ｎ、２３００、２５００、２６００，２７００等；ビックケミー・ジャパン（株）製のＢＹＫ３５００；信越シリコーン社製のＫＮＳ５３００；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＵＶＨＣ１１０５、ＵＶＨＣ８５５０等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。

上記レベリング剤は、層（ａ）形成用組成物の全固形分中に０．０１〜５．０質量％含有されることが好ましく、０．０１〜２．０質量％含有されることがより好ましく、０．０１〜１．０質量％含有されることが最も好ましい。

フッ素系レベリング剤は、フルオロ脂肪族基と、例えばこのレべリング剤を添加剤として使用したときに、コーティング用、成形材料用等の各種組成物に対する親和性に寄与する親媒性基とを同一分子内に有する化合物であり、このような化合物は、一般に、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと親媒性基を有するモノマーとを共重合させて得ることができる。
フルオロ脂肪族基を有するモノマーと共重合される、親媒性基を有するモノマーの代表的な例としては、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート、ポリ（オキシアルキレン）メタクリレート等が挙げられる。

好ましい市販のフッ素系レベリング剤としては、電離放射線硬化基を有しないものとしてＤＩＣ（株）製のメガファックシリーズ（ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４７２、Ｆ４７６、Ｆ４４５、Ｆ４４４、Ｆ４４３、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、Ｆ４８２、Ｆ４８６、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ、Ｆ−７８４−Ｆ等）；ネオス（株）製のフタ―ジェントシリーズ（ＦＴＸ２１８、２５０、２４５Ｍ、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２４５Ｆ、２０８Ｇ、２１８Ｇ、２４０Ｇ、２０６Ｄ、２４０Ｄ等）が挙げられ、電離放射線硬化基を有するものとして、ダイキン工業（株）製のオプツールＤＡＣ；ＤＩＣ（株）製のデイフェンサシリーズ（ＴＦ３００１、ＴＦ３０００、ＴＦ３００４、ＴＦ３０２８、ＴＦ３０２７、ＴＦ３０２６、ＴＦ３０２５等）、ＲＳシリーズ（ＲＳ７１、ＲＳ１０１、ＲＳ１０２、ＲＳ１０３、ＲＳ１０４、ＲＳ１０５等）が挙げられるがこれらに限定されるものではない。

また、特開２００４−３３１８１２号公報、特開２００４−１６３６１０号公報に記載の化合物等を用いることもできる。

＜防汚剤＞
層（ａ）には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することができる。

シリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤の具体例としては、前述のシリコーン系あるいはフッ素系のレベリング剤の中で電離放射線硬化基を有するものを好適に使用することができるがこれらに限定されるものではない。

防汚剤は層（ａ）中の全固形分に対して０．０１〜５．０質量％含有されることが好ましく、０．０１〜２．０質量％含有されることがより好ましく、０．０１〜１．０質量％含有されることが最も好ましい。

＜重合開始剤＞
層（ａ）には、重合開始剤を含んでいてもよい。
硬化性化合物（ａ１）が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

層（ａ）中の重合開始剤の含有量は、層（ａ）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層（ａ）中の全固形分に対して、０．１〜８質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。

層（ａ）には、上述した重合性官能基を有するシランカップリング剤を反応させるために光あるいは熱により酸又は塩基を発生する化合物（以下、光酸発生剤、光塩基発生剤、熱酸発生剤、熱塩基発生剤と称する場合がある。）を含んでいてもよい。

＜光酸発生剤＞
光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、イミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化合物、ジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物等を挙げることができる。また、トリアジン類（例えば、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなど）、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物を挙げることもできる。
また、光により酸を発生する基、または化合物をポリマーの主鎖もしくは側鎖に導入した化合物を用いることができる。
さらに、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａｄ ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（Ｃ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。

＜熱酸発生剤＞
熱酸発生剤としては、酸と有機塩基からなる塩を挙げることができる。
上記の酸としては、スルホン酸、ホスホン酸、カルボン酸など有機酸や硫酸、リン酸のような無機酸が挙げられる。硬化性化合物（ａ１）に対する相溶性の観点からは、有機酸がより好ましく、スルホン酸、ホスホン酸が更に好ましく、スルホン酸が最も好ましい。好ましいスルホン酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）、ベンゼンスルホン酸（ＢＳ）、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＢＳ）、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸（ＣＢＳ）、１，４−ナフタレンジスルホン酸（ＮＤＳ）、メタンスルホン酸（ＭｓＯＨ）、ノナフルオロブタン−１−スルホン酸（ＮＦＢＳ）などが挙げられる。

酸発生剤の具体例としては特開２０１６−８０３号に記載のものを好適に用いることができる。

＜光塩基発生剤＞
光塩基発生剤としては、活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質を挙げることができる。より具体的には、（１）紫外線、可視光、又は赤外線の照射により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、（２）分子内求核置換反応や転位反応などにより分解してアミン類を放出する化合物、あるいは（３）紫外線、可視光、又は赤外線の照射により何らかの化学反応を起こして塩基を放出するものを使用できる。
本発明に用いられる光塩基発生剤は、紫外線、電子線、Ｘ線、赤外線および可視光線などの活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質であれば特に限定されない。
具体的には特開２０１０−２４３７７３に記載のものを好適に用いる事ができる。

層（ａ）中の、光あるいは熱により酸や塩基を発生する化合物の含有量は、層（ａ）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層（ａ）中の全固形分に対して、０．１〜８質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。

［工程（２）］
工程（２）は、支持体及び上記支持体上にゲル分率が９５．０％以上の粘着剤からなる層（ｂ）を有する粘着フィルムの層（ｂ）を、層（ａ）と貼り合わせる工程である。
層（ａ）と粘着フィルムの層（ｂ）とを貼り合わせる方法としては特に限定されず公知の方法を用いることができ、たとえばラミネート法が挙げられる。
層（ａ）と層（ｂ）とが接するように粘着フィルムを貼り合わせることが好ましい。
工程（２）の前に、層（ａ）を乾燥する工程を有していてもよい。層（ａ）の乾燥温度は２０〜６０℃が好ましく、２０〜４０℃がより好ましい。乾燥時間は０．１〜１２０秒が好ましく、１〜３０秒がより好ましい。
本発明では、工程（２）において粘着フィルムの層（ｂ）と層（ａ）とを貼り合わせ、後述する工程（３）において粒子（ａ２）を層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ａ）の基材側の界面とは反対側の界面から突出させ、後述する工程（４）において粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ａ）を硬化することで、粒子（ａ２）が層（ａ）の硬化前に空気界面に露出しないようにして、凝集を抑制し、粒子（ａ２）によって形成された良好な凹凸形状を作製できることを見出した。
なお、本発明の積層体を作製した後に、粘着フィルムを剥離することで、反射防止フィルムを作製することができる。

（粘着フィルム）
粘着フィルムは、支持体とゲル分率が９５．０％以上の粘着剤からなる層（ｂ）とを有する。

＜層（ｂ）＞
層（ｂ）は、ゲル分率が９５．０％以上の粘着剤からなる。
粘着剤のゲル分率が９５．０％以上であることで、本発明の積層体から粘着フィルムを剥離して反射防止フィルムを製造する際に、粘着剤成分が反射防止フィルム表面に残りにくく、洗浄を行わなくても、十分に反射率が低い反射防止フィルムを得ることができる。
粘着剤のゲル分率は、９５．０％以上９９．９％以下であることが好ましく、９７．０％以上９９．９％以下であることがより好ましく、９８．０％以上９９．９％以下であることが更に好ましい。
粘着剤のゲル分率は、粘着剤を、２５℃で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に１２時間浸漬した後の不溶解分の比率であり、下記式から求められる。
ゲル分率＝（粘着剤のＴＨＦへの不溶解分の質量）／（粘着剤の総質量）×１００（％）

粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下であることが好ましく、７０００以下であることがより好ましく、５０００以下であることが最も好ましい。ゾル成分の重量平均分子量を上記範囲にすることによって本発明の積層体から粘着フィルムを剥離して反射防止フィルムを製造する際に、粘着剤成分が反射防止フィルム表面に残りにくくすることができる。
粘着剤のゾル成分は、粘着剤を、２５℃で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に１２時間浸漬した後のＴＨＦへの溶解分を表す。重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析することができる。

粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率（Ｇ‘）が１．３ｘ１０^５Ｐａ以下であり、かつ粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下であることも好ましい。
粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率（Ｇ‘）は０．１ｘ１０^５Ｐａ以上１．３ｘ１０^５Ｐａ以下がより好ましく、０．１ｘ１０^５Ｐａ以上１．２ｘ１０^５Ｐａ以下が更に好ましい。貯蔵弾性率が０．１ｘ１０^５Ｐａ以上であると、粘着剤の凝集破壊が起こりにくく、取り扱いが容易である。貯蔵弾性率が１．３ｘ１０^５Ｐａ以下であると、粒子の隙間に粘着剤が入り込みやすくなるため、粒子の凝集を抑制する効果が得られやすくなり、１．２ｘ１０^５Ｐａ以下であると特に良好な反射率を有する反射防止フィルムが得られる。
また、この場合の粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量の好ましい範囲も前述したものと同様である。

層（ｂ）の膜厚は０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上２０μｍ以下であることが更に好ましい。

層（ｂ）は、剥離速度０．３ｍ／ｍｉｎでの被着体の表面に対する剥離強度（粘着力）が、０．０３〜０．３Ｎ／２５ｍｍ程度の、微粘着力を有する粘着剤層であることが、被着体である層（ａ）から粘着フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。

粘着剤としては、重合体を含むことが好ましく、（メタ）アクリル系重合体を含むことがより好ましい。特に、アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも１種のモノマーの重合体（２種以上のモノマーの場合は共重合体）が好ましい。（メタ）アクリル系重合体の重量平均分子量は、２０万〜２００万であることが好ましい。

アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、イソセチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートモノマーのアルキル基は、直鎖、分枝状、環状のいずれでもよい。上記モノマーは２種以上併用されてもよい。

脂肪族環を有する（メタ）アクリレートモノマーの好適な例としては、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でもシクロヘキシル（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。

（メタ）アクリル系重合体は、アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも１種と、他の共重合性モノマーの少なくとも１種とからなる共重体であってもよい。この場合、他の共重合性モノマーとしては、水酸基、カルボキシル基、及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種の基を含有する共重合性ビニルモノマー、ビニル基を有する共重合性ビニルモノマー、芳香族系モノマー等が挙げられる。

水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル類、及び、Ｎ−ヒドロキシ（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の水酸基含有（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも１種であることが好ましい。

（メタ）アクリル系重合体の１００質量部に対して、水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーを０．１〜１５質量部含有することが好ましい。

カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレートからなどが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも１種であることが好ましい。

（メタ）アクリル共重合体の１００質量部に対して、カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーを０．１〜２質量部含有することが好ましい。

アミノ基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、モノメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のモノアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

芳香族系モノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族基含有（メタ）アクリル酸エステル類のほか、スチレン等が挙げられる。

上記以外の共重合性ビニルモノマーとしては、アクリルアミド、アクリロニトリル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの各種ビニルモノマーが挙げられる。

粘着剤は、粘着剤を形成するための組成物（粘着剤組成物ともいう）の硬化物を含むものであってもよい。
粘着剤組成物は、上記重合体と架橋剤とを含むことが好ましく、熱又は紫外線（ＵＶ）などを用いて架橋しても良い。架橋剤としては、２官能以上のイソシアネート系架橋剤、２官能以上のエポキシ系架橋剤、アルミニウムキレート系架橋剤からなる化合物群のうちから選択される１種以上の架橋剤が好ましい。架橋剤を用いる場合は、本発明の積層体から粘着フィルムを剥離して反射防止フィルムを製造する際に、粘着剤成分を反射防止フィルム表面に残りにくくする観点から、上記重合体の１００質量部に対して、０．１〜１５質量部含有することが好ましく、３．５〜１５質量部含有することがより好ましく、３．５質量部超１５質量部未満が更に好ましく、５．１〜１０質量部含有することが特に好ましい。

２官能以上のイソシアネート系化合物としては、１分子中に少なくとも２個以上のイソシアネート（ＮＣＯ）基を有するポリイソシアネート化合物であればよく、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート類（１分子中に２個のＮＣＯ基を有する化合物）のビュレット変性体、及びイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパン又はグリセリン等の３価以上のポリオール（１分子中に少なくとも３個以上のＯＨ基を有する化合物）とのアダクト体（ポリオール変性体）などが挙げられる。
また、３官能以上のイソシアネート化合物が、１分子中に少なくとも３個以上のイソシアネート（ＮＣＯ）基を有するポリイソシアネート化合物であり、特にヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
２官能以上のイソシアネート系架橋剤は、重合体１００質量部に対して、０．０１〜５．０質量部含まれることが好ましく、０．０２〜３．０質量部含まれることがより好ましい。

粘着剤組成物は、帯電防止性能を付与するため、帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤はイオン化合物であることが好ましく４級オニウム塩であることがさらに好ましい。

４級オニウム塩である帯電防止剤としては、例えば、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するトリアルキルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するトリアルキルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するテトラアルキルホスホニウム塩、炭素数１４〜２０のアルキル基を有するアルキルトリメチルアンモニウム塩、炭素数１４〜２０のアルキル基を有するアルキルジメチルエチルアンモニウム塩などを用いることができる。これらのアルキル基は、不飽和結合を有するアルケニル基であってもよい。

炭素数８〜１８のアルキル基としては、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基などが挙げられる。天然油脂に由来する混合アルキル基であってもよい。炭素数８〜１８のアルケニル基としては、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基などが挙げられる。
炭素数１４〜２０のアルキル基としては、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基などが挙げられる。天然油脂に由来する混合アルキル基であってもよい。炭素数１４〜２０のアルケニル基としては、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基、ノナデセニル基、イコセニル基などが挙げられる。

４級オニウム塩のカウンターアニオンとしては、クロリド（Ｃｌ⁻）、ブロミド（Ｂｒ⁻）、メチルサルフェート（ＣＨ_３ＯＳＯ_３ ⁻）、エチルサルフェート（Ｃ_２Ｈ_５ＯＳＯ_３ ⁻）、パラトルエンスルホネート（ｐ−ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_３ ⁻）等が挙げられる。

４級オニウム塩の具体例としては、ドデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、ドデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、トリオクチルベンジルアンモニウムクロリド、トリオクチルベンジルアンモニウムブロミド、トリオクチルベンジルホスホニウムクロリド、トリオクチルベンジルホスホニウムブロミド、トリス（デシル）ベンジルアンモニウムクロリド、トリス（デシル）ベンジルアンモニウムブロミド、トリス（デシル）ベンジルホスホニウムクロリド、トリス（デシル）ベンジルホスホニウムブロミド、テトラオクチルアンモニウムクロリド、テトラオクチルアンモニウムブロミド、テトラオクチルホスホニウムクロリド、テトラオクチルホスホニウムブロミド、テトラノニルアンモニウムクロリド、テトラノニルアンモニウムブロミド、テトラノニルホスホニウムクロリド、テトラノニルホスホニウムブロミド、テトラキス（デシル）アンモニウムクロリド、テトラキス（デシル）アンモニウムブロミド、テトラキス（デシル）ホスホニウムクロリド、テトラキス（デシル）ホスホニウムブロミド、等が挙げられる。

なお、「トリス（デシル）」、「テトラキス（デシル）」は、炭素数１０のアルキル基であるデシル基を３個又は４個有することを意味し、炭素数１３のアルキル基であるトリデシル基、及び炭素数１４のアルキル基であるテトラデシル基とは区別される。

帯電防止剤としては、他にノニオン系、カチオン系、アニオン系、両性系の界面活性剤、イオン性液体、アルカリ金属塩、金属酸化物、金属微粒子、導電性ポリマー、カーボン、カーボンナノチューブなども用いることができる。

ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類、プロピレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレン変性シリコーン類などが挙げられる。

アニオン界面活性剤としては、モノアルキル硫酸塩類、アルキルポリオキシエチレン硫酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、モノアルキルリン酸塩類などが挙げられる。

また、両性界面活性剤としては、アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルカルボキシベタインなどが挙げられる。
イオン性液体としては、陰イオンと陽イオンとから成り、常温（例えば２５℃）で液体である非高分子物質である。陽イオン部分としては、イミダゾリウムイオンなどの環状アミジンイオン、ピリジニウムイオン、アンモニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン等が挙げられる。また、陰イオン部分としては、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１ＣＯＯ⁻、Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＣＯＯ⁻、ＮＯ_３ ⁻、Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_３ ⁻、（Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_２）_２Ｎ⁻、（Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_２）_３Ｃ⁻、ＰＯ_４ ^２−、ＡｌＣｌ_４ ⁻、Ａｌ_２Ｃｌ_７ ⁻、ＣｌＯ_４ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻等が挙げられる。

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩などが挙げられ、イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。

帯電防止剤は、重合体１００質量部に対して、０．１〜１０質量部含有することが好ましい。

粘着剤組成物は、さらに帯電防止補助剤としてＨＬＢが７〜１５のポリエーテル変性シロキサン化合物を含有することもできる。
ＨＬＢとは、例えばＪＩＳ（日本工業規格） Ｋ３２１１（界面活性剤用語）等で規定する親水親油バランス（親水性親油性比）である。

粘着剤組成物は、さらに架橋促進剤を含有することもできる。架橋促進剤は、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする場合に、共重合体と架橋剤との反応（架橋反応）に対して触媒として機能する物質であればよく、第三級アミン等のアミン系化合物、金属キレート化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機亜鉛化合物等の有機金属化合物等が挙げられる。本発明では、架橋促進剤として、金属キレート化合物又は有機錫化合物が好ましい。

金属キレート化合物としては、中心金属原子Ｍに、１以上の多座配位子Ｌが結合した化合物である。金属キレート化合物は、金属原子Ｍに結合する１以上の単座配位子Ｘを有してもよく、有しなくてもよい。例えば、金属原子Ｍが１つである金属キレート化合物の一般式を、Ｍ（Ｌ）_ｍ（Ｘ）_ｎで表すとき、ｍ≧１、ｎ≧０である。ｍが２以上の場合、ｍ個のＬは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。ｎが２以上の場合、ｎ個のＸは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。

金属原子Ｍとしては、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｖ，Ｔｉ，Ｒｕ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｚｒ，Ｓｎ等が挙げられる。多座配位子Ｌとしては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ−ケトエステル、アセチルアセトン（別名２，４−ペンタンジオン）、２，４−ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ−ジケトンが挙げられる。これらは、ケトエノール互変異性体化合物であり、多座配位子Ｌにおいてはエノールが脱プロトンしたエノラート（例えばアセチルアセトネート）であってもよい。

単座配位子Ｘとしては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、２−エチルヘキサノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基等のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基などが挙げられる。

金属キレート化合物の具体例としては、トリス（２，４−ペンタンジオナト）鉄（ＩＩＩ）、鉄トリスアセチルアセトネート、チタニウムトリスアセチルアセトネート、ルテニウムトリスアセチルアセトネート、亜鉛ビスアセチルアセトネート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラキスアセチルアセトネート、トリス（２，４−ヘキサンジオナト）鉄（III）、ビス（２，４−ヘキサンジオナト）亜鉛、トリス（２，４−ヘキサンジオナト）チタン、トリス（２，４−ヘキサンジオナト）アルミニウム、テトラキス（２，４−ヘキサンジオナト）ジルコニウム等が挙げられる。

有機錫化合物としては、ジアルキル錫オキシド、ジアルキル錫の脂肪酸塩、第１錫の脂肪酸塩等が挙げられる。ジオクチル錫化合物等の長鎖アルキル錫化合物が好ましい。具体的な有機錫化合物としては、ジオクチル錫オキシド、ジオクチル錫ジラウレート等が挙げられる。

架橋促進剤は、共重合体の１００質量部に対して、０．００１〜０．５質量部含まれることが好ましい。

本発明の積層体は、層（ｂ）の層（ｃａ）側の表面に１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素ないしシリコーンからなる低摩擦部位を有する滑り剤（以下、「滑り剤ａ」とも呼ぶ。）が存在することが好ましい。
層（ｂ）の層（ｃａ）側の表面に滑り剤ａが存在することで、本発明の積層体から層（ｂ）（粘着剤層）を剥離して、反射防止フィルムとする際に、層（ｂ）中の粘着剤が層（ｃａ）の表面に残る（転写される）ことを効果的に防ぐことができる。

（滑り剤ａ）
滑り剤ａについて説明する。
滑り剤ａは、１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位（以下、この部位を「低摩擦部位」ともいう）を有する。
架橋基としては、ラジカル反応性基又はラジカル反応性基以外の反応性基が挙げられ、ラジカル反応性基であることが好ましい。
ラジカル反応性基としては、付加重合可能な不飽和結合を有する基（例えば（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、（メタ）アクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、スチレン構造、ビニルエーテル構造、アセチレン構造等）、−ＳＨ、−ＰＨ、ＳｉＨ、−ＧｅＨ、ジスルフィド構造等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を有する基）が好ましく、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましく、（メタ）アクリロイル基が最も好ましい。
ラジカル反応性基以外の反応性基としては、エポキシ基、アミノ基、ボロン酸基、ボロン酸エステル基、オキシラニル基、オキセタニル基、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基等が挙げられる。

滑り剤ａの架橋基当量とは、滑り剤ａの分子量を、滑り剤ａに含まれる架橋基の数で除した値であり、硬化後の膜強度の観点から４５０以下であり、３５０以下であることがより好ましく、３００以下であることが更に好ましい。
なお、たとえば架橋基がアクリロイル基又はメタクリロイル基の場合の架橋基当量をアクリル当量と呼ぶこともある。

滑り剤ａは、反射防止層内での偏在性の観点から、側鎖に低摩擦部位と架橋基を持ち、重量平均分子量が６，０００以上である化合物（ａ１）であるか、または、最表面の強度の観点から低摩擦部位に、架橋基が直接又は連結基を介して結合した、重量平均分子量が６，０００未満である化合物（ａ２）であることが好ましい。
上記化合物（ａ１）はポリマーであることが好ましく、上記化合物（ａ１）の重量平均分子量は、６０００〜１００，０００であることが好ましく、８，０００〜８０，０００であることがより好ましい。
上記化合物（ａ２）はモノマー又はオリゴマーであることが好ましく、上記化合物（ａ２）の重量平均分子量は、９００〜６，０００であることが好ましく、１３００〜５０００であることがより好ましい。
なお、滑り剤ａの重量平均分子量は、後述する硬化性化合物（ｂ）の重量平均分子量と同様の方法で求められる。

上記化合物（ａ１）は、耐薬品および耐久性の観点から、架橋基がＣ−Ｃ結合又はＣ−Ｏ結合で主鎖に連結していることが好ましい。
上記化合物（ａ２）も同様に、耐薬品および耐久性の観点から、低摩擦部位と、架橋基とがＣ−Ｃ結合又はＣ−Ｏ結合を介して結合していることが好ましい。

上記化合物（ａ１）は、側鎖に低摩擦部位を有する繰り返し単位と、側鎖に架橋基を有する繰り返し単位とを有することが好ましい。
側鎖に架橋基を有する繰り返し単位としては、特開２００９−７９１２６号公報の［００２８］〜［００４４］に記載されたものを参照することができる。

上記化合物（ａ２）は、
下記一般式（Ｍ−２）で表される基を１つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−３）で表される基を１つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−１）で表される基を２つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−２）で表される基を２つ有する化合物、又は、
下記一般式（Ｍ−３）で表される基を２つ有する化合物であることが好ましい。

一般式（Ｍ−１）中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシアルキル基、又はアルケニルオキシアルキル基表す。Ｒ_１１及びＲ_１２は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
一般式（Ｍ−２）中、Ｒ_２１〜Ｒ_２３は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
一般式（Ｍ−３）中、Ｒ_３１〜Ｒ_３５は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。

上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−２）で表される基を１つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−３）で表される基を１つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−３）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−１）で表される基を２つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の両末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−１）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。ここで、２つの一般式（Ｍ−１）で表される基は同じでもよいし、異なってもよい。
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−２）で表される基を２つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の両末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。ここで、２つの一般式（Ｍ−２）で表される基は同じでもよいし、異なってもよい。
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−３）で表される基を２つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の両末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−３）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。ここで、２つの一般式（Ｍ−３）で表される基は同じでもよいし、異なってもよい。

滑り剤ａは、フッ素原子を含む低摩擦部位を有する場合は、フッ素原子を含む部位としてはフルオロアルキル基であることが好ましい。フッ素原子を含む部位を有する滑り剤ａとしては、例えば、下記一般式（１）に示すような構造で表すことができるが、本発明はこれに制限されるものではない。なお、本発明では、化学式において、炭化水素鎖を炭素（Ｃ）及び水素（Ｈ）の記号を省略した簡略構造式で記載する場合もある。

一般式（１）

一般式（１）中、Ｒは水素原子又はフッ素原子を表す。

滑り剤ａがシロキサン結合を含む低摩擦部位を有する場合のシロキサン結合の構造を下記一般式（Ｐ）に示す。

上記一般式（Ｐ）中、Ｒｐ^１及びＲｐ^２はそれぞれ独立に、水素原子、一価の炭化水素基、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を表す。ｎは２以上の整数を表す。
上記一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基等が例示できる。
Ｒｐ^１及びＲｐ^２としては、水素原子、炭素数が１〜２０である一価の炭化水素基、炭素数が１〜２０であるアルコキシ基、又は、炭素数が６〜２０であるアリーロキシ基であることが好ましく、炭素数が１〜２０であるアルキル基又は炭素数が６〜２０であるアリール基であることがより好ましく、炭素数が１〜２０であるアルキル基であることがさらに好ましく、メチル基であることが最も好ましい。
また、ｎは６〜１００の整数であることが好ましく、ｎが８〜６５の整数であることが更に好ましく、ｎが１０〜３５の整数であることが最も好ましい。

滑り剤ａが有するシロキサン結合を含む部位としては、ポリジメチルシロキサン基もしくはポリエーテル変性ジメチルシロキサン基が有用である。本発明では特に、繰り返し数ｎが６〜１００のポリジメチルシロキサン基またはポリエーテル変性ジメチルシロキサン基がより好ましく、ｎが８〜６５が更に好ましく、ｎが１０〜３５が最も好ましく用いられる。
ポリジメチルシロキサン基またはポリエーテル変性ジメチルシロキサン基の繰り返し数ｎが６以上であると、疎水性が発揮され、空気界面への偏在能が強くなり、低摩擦部位が表面に露出することができ、かつ低摩擦部位としても短すぎず、滑り性を向上させることができる。繰り返し数ｎが１００以下であると、偏在性は十分であり、架橋基密度も小さくならず、架橋して得られる膜の強度が高くなり、耐擦傷性試験に有効に働く。

シロキサン結合を含む部位を有する滑り剤ａとしては、シリコーン系ポリマー（化合物（Ａ１））、及びシリコーン系モノマー又はオリゴマー（化合物（Ａ２））を用いることができる。化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）について、以下に詳細に説明する。

≪化合物（Ａ１）≫
化合物（Ａ１）は、上記化合物（ａ１）のうち、低摩擦部位がシロキサン結合を有する部位である場合である。すなわち、化合物（Ａ１）は、側鎖にシロキサン結合を含む部位と架橋基を持ち、重量平均分子量が６，０００以上である化合物（シリコーン系ポリマー）である。化合物（Ａ１）の具体例を下記一般式（２）に示す。

一般式（２）

一般式（２）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２は２価の連結鎖を表し、Ｒ^３は水素原子又は一価の有機基を表し、ｎは５〜１００の整数を表す。各繰り返し単位におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。

一般式（２）中、Ｒ^２は２価の連結鎖を表し、具体的には、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル結合、エステル結合、アミド結合など）を有する置換若しくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換若しくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル結合あるいはエステル結合を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル結合あるいはエステル結合を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
一般式（２）におけるｎは５〜１００の整数を表し、７〜６５の整数であることが好ましく、９〜３５の整数であることがより好ましい。

特開２００９−７９１２６号公報の段落［００１２］〜［００４８］に記載の含ケイ素ポリマー（Ａ）のうち、アクリル当量が本発明の範囲を満たすＰ−１０、Ｐ−１２〜Ｐ−１４は滑り剤ａとして適宜用いることができる。シロキサン結合を有する滑り剤ａの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。また、下記具体例において、各モノマー単位の括弧に付記されている数字は、ポリマー中の各モノマー単位のモル比を表す。

上記一般式（２）で表される構造を有する市販シリコーン系ポリマーの例としては、アクリット８ＳＳ−７２３（大成ファインケミカル株式会社製）、アクリット８ＳＳ−１０２４（大成ファインケミカル株式会社製）などが挙げられる。

≪化合物（Ａ２）≫
化合物（Ａ２）は、上記化合物（ａ２）のうち、低摩擦部位がシロキサン結合を有する部位である場合である。すなわち、化合物（Ａ２）は、シロキサン結合を有する部位に、架橋基が直接又は連結基を介して結合した、重量平均分子量が６，０００未満である化合物（シリコーン系モノマー又はオリゴマー）である。

化合物（Ａ２）として好適に用いることのできる、架橋基を有するシリコーン系モノマー又はオリゴマーとしては、下記一般式（４）で表される化合物、及び下記一般式（５）で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
下記一般式（４）で表される化合物は、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−３）で表される基が連結基を介して結合している化合物である。
下記一般式（５）で表される化合物は、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が連結基を介して結合している化合物である。

一般式（４）

一般式（４）中、Ｒ^４１は２価の連結鎖を表し、Ｒ^４２は水素原子又は一価の有機基を表し、ｎは４〜１００の整数を表す。

一般式（４）中、Ｒ^４１は２価の連結鎖を表し、具体的には、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル結合、エステル結合、アミド結合など）を有する置換若しくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換若しくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル結合あるいはエステル結合を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル結合あるいはエステル結合を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
一般式（４）におけるＲ^４１は、内部にエーテル結合などを有する無置換のアルキレン基であることが好ましく、＊（ＣＨ_２）_３＊であることがより好ましい。
一般式（４）におけるＲ^４２は水素原子又は一価の有機基を表し、水素原子、炭素数１〜２０の一価炭化水素基でることが好ましい。
一般式（４）におけるｎは４〜１００の整数を表し、６〜６５の整数であることが好ましく、８〜３５の整数であることがより好ましい。

上記一般式（４）で表される化合物の具体的な例としては、下記化合物（Ｓ−１）、（Ｓ−２）が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されない。
化合物（Ｓ−１）：上記一般式（４）において、ｎが１０であり、Ｒ^４１が−（ＣＨ_２）_３−であり、Ｒ^４２がＣＨ_３である化合物。
化合物（Ｓ−２）：上記一般式（４）において、ｎが２１であり、Ｒ^４１が−（ＣＨ_２）_３−であり、Ｒ^４２がＣＨ_３である化合物。

一般式（５）

一般式（５）中、Ｒ^５１は２価の連結鎖を表し、Ｒ^５２は水素原子又は一価の有機基を表し、ｎは２〜１００の整数を表す。

一般式（５）中、Ｒ^５１及びＲ^５２の具体例及び好ましい範囲は、それぞれ上記一般式（４）におけるＲ^４１及びＲ^４２と同様である。
一般式（５）中のｎの好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるｎと同様である。
上記一般式（５）で表される化合物の具体的な例としては、下記化合物（Ｓ−３）が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されない。
化合物（Ｓ−３）：上記一般式（５）において、ｎが１０であり、Ｒ^５１が−（ＣＨ_２）_３−であり、Ｒ^５２がＣＨ_３である化合物。

また、前述の一般式（４）において、ｎが１０であり、Ｒ^４１が−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−であり、Ｒ^４２が−ＣＨ_３である化合物である下記化合物（Ｓ−９）も好ましい。
（Ｓ−９）

前述の一般式（５）において、ｎが１０であり、Ｒ^５１が−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−であり、Ｒ^５２が−ＣＨ_３である化合物である下記化合物（Ｓ−１０）も好ましい。

（Ｓ−１０）

化合物（Ａ２）として好適に用いることのできる、架橋基を有するシリコーン系モノマー又はオリゴマーとしては、上記一般式（４）で表される化合物、及び上記一般式（５）で表される化合物の他に、更に、下記一般式（６）で表される化合物、及び下記一般式（７）で表される化合物もが挙げられるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
下記一般式（６）で表される化合物は、低摩擦部位を含んでなる主鎖の両末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−３）で表される基が連結基を介して結合している化合物である。
下記一般式（６）で表される化合物は、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が連結基を介して結合し、低摩擦部位を含んでなる主鎖の他方の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が連結基を介して結合している化合物である。

一般式（６）

一般式（６）中、Ｒ^６１及びＲ^６２は、それぞれ独立に２価の連結鎖を表し、ｎは４〜１００の整数を表す。
一般式（６）中のＲ^６１及びＲ^６２の具体例及び好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるＲ^４１と同様である。
一般式（６）中のｎの好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるｎと同様である。

上記一般式（６）で表される化合物の具体的な例としては、下記化合物（Ｓ−４）〜（Ｓ−６）が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されない。
化合物（Ｓ−４）：上記一般式（６）において、ｎが９であり、Ｒ^６１及びＲ^６２が−（ＣＨ_２）_３−である化合物。
化合物（Ｓ−５）：上記一般式（６）において、ｎが２０であり、Ｒ^６１及びＲ^６２が−（ＣＨ_２）_３−である化合物。
化合物（Ｓ−６）：上記一般式（６）において、ｎが４０であり、Ｒ^６１及びＲ^６２が−（ＣＨ_２）_３−である化合物。

一般式（７）

一般式（７）中、Ｒ^７１及びＲ^７２はそれぞれ独立に２価の連結鎖を表し、ｎは２〜１００の整数を表す。
一般式（７）中のＲ^７１及びＲ^７２の具体例及び好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるＲ^４１と同様である。
一般式（７）中のｎの好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるｎと同様である。
上記一般式（７）で表される化合物の具体的な例としては、下記化合物（Ｓ−７）および（Ｓ−８）が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されない。
化合物（Ｓ−７）：上記一般式（７）において、ｎが２０であり、Ｒ^７１及びＲ^７２が−（ＣＨ_２）_３−である化合物。
化合物（Ｓ−８）：上記一般式（７）において、ｎが４０であり、Ｒ^７１及びＲ^７２が−（ＣＨ_２）_３−である化合物。

また、前述の一般式（６）において、ｎが１０であり、Ｒ^６１及びＲ^６２が−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−である化合物である下記化合物（Ｓ−１１）も好ましい。
（Ｓ−１１）

前述の一般式（７）において、ｎが１０であり、Ｒ^７１及びＲ^７２が−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−である化合物である下記化合物（Ｓ−１２）も好ましい。

（Ｓ−１２）

（滑り剤ａの付与方法）
本発明の積層体において、層（ｂ）の層（ｃａ）側の表面に滑り剤ａが存在するように、滑り剤ａを付与する方法は限定されない。
たとえば、滑り剤ａの付与方法として、層（ａ）形成用組成物に滑り剤ａを添加して、層（ａ）を形成する方法が挙げられる。
本発明においては、以下に説明する滑り剤ａの付与方法が特に好ましい。
まず、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに滑り剤ａを塗布し、乾燥させてセパレーターを得る。次に、セパレーターの滑り剤ａが塗布された面と、粘着フィルムの層（ｂ）側とを貼り合せ、上記ＰＥＴフィルムを剥がすことで、層（ｂ）の表面に滑り剤ａが付与された粘着フィルムが得られる。その後、層（ｂ）の表面に滑り剤ａが付与された粘着フィルムの層（ｂ）側と、基材上に設けられた層（ａ）とを貼り合せ、工程（３）及び（４）を経ることで、層（ｂ）の層（ｃａ）側の表面に滑り剤ａが存在する積層体を得ることができる。この滑り剤ａの付与方法は、滑り剤ａを層（ｃａ）の表面に偏在させやすく、これによって、層（ｃａ）表面の表面自由エネルギーが低下し、粘着フィルムを剥離した際に、粘着剤が層（ｃａ）上に残りにくいため好ましい。

＜支持体＞
粘着フィルムにおける支持体について説明する。
支持体としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなるプラスチックフィルムが好ましく用いられる。支持体用のプラスチックフィルムとしては、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステルフィルム、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、セルロースアシレート等のセルロース系樹脂等からなるフィルムが挙げられる。ただし、上記（メタ）アクリル系樹脂は、ラクトン環構造を有する重合体、無水グルタル酸環構造を有する重合体、グルタルイミド環構造を有する重合体を含む。
このほか、必要な強度を有しかつ光学適性を有するものであれば、他のプラスチックフィルムも使用可能である。支持体は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されていてもよく、また、延伸倍率又は延伸の結晶化に伴い形成される軸方法の角度を制御したプラスチックフィルムでもよい。

支持体としては、紫外線透過性を有するものが好ましい。紫外線透過性を有することで、工程（４）において層（ａ）を硬化する際、塗工層側から紫外線照射が可能になるため、製造適性上好ましい。
具体的には、支持体の波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが最も好ましい。波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であると塗工層側から紫外線を照射して層（ａ）を硬化させやすく好ましい。
また、支持体上に層（ｂ）を形成した粘着フィルムの波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが最も好ましい。

支持体の膜厚は特に限定されないが、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下であることが更に好ましい。

支持体上に層（ｂ）を形成した粘着フィルムとしては、市販の保護フィルムを好適に用いることができる。具体的には、藤森工業（株）製のＡＳ３−３０４、ＡＳ３−３０５、ＡＳ３−３０６、ＡＳ３−３０７、ＡＳ３−３１０、ＡＳ３−０４２１、ＡＳ３−０５２０、ＡＳ３−０６２０、ＬＢＯ−３０７、ＮＢＯ−０４２４、ＺＢＯ−０４２１、Ｓ−３６２、ＴＦＢ−４Ｔ３−３６７ＡＳ等が挙げられる。

本発明においては、工程（４）で、粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持しながら層（ａ）を硬化するが、工程（４）の前の段階で、層（ａ）の界面から突出した粒子（ａ２）によって形成された凹凸形状を有していることが好ましい。こうすることで、工程（４）で層（ａ）を硬化した後、工程（５）で層（ｂ）を剥離すると、層（ａ）の表面から粒子（ａ２）が突出した状態の反射防止フィルムを得ることができる。
工程（４）の前の段階で、層（ａ）の界面から突出した粒子（ａ２）によって形成された凹凸形状を有しているようにするためには、後述する工程（３）で、硬化性化合物（ａ１）の一部を基材（基材がハードコート層などの機能層を有する場合はその機能層）に浸透させることが好ましい。

本発明では、工程（１）と工程（２）の間に層（ａ）中の硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させ、硬化された化合物（ａ１ｃ）を得る工程（１−２）を含んでもよい。
工程（１−２）で硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させることにより、粒子（ａ２）を動きにくくして、粒子（ａ２）が凝集することを抑制することができる。
硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させるとは、硬化性化合物（ａ１）のすべてではなく、一部のみを硬化させることを表す。工程（１−２）で硬化性化合物（ａ１）の一部のみを硬化させることで、工程（３）で粒子（ａ２）が層（ａ）の基材側の界面とは反対側の界面から突出するように層（ａ）と層（ｂ）の界面の位置を基材側に下げた際に良好な凹凸形状（モスアイ構造）を形成することができる。

［工程（３）］
工程（３）は、粒子（ａ２）が、層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ａ）の基材側の界面とは反対側の界面から突出するように、層（ａ）と層（ｂ）の界面の位置を基材側に下げる工程である。
本発明では、「粒子（ａ２）が、層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没」するということは、層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層の厚みが粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上であることを表すものとする。
工程（３）は、硬化性化合物（ａ１）の一部を基材（基材が機能層を有する場合は機能層であってもよい）に浸透させることにより行われるか、硬化性化合物（ａ１）の一部を粘着剤層に浸透させることにより行われることが好ましい。
工程（３）において、硬化性化合物（ａ１）の一部を基材（基材が機能層を有する場合は機能層であってもよい）に浸透させる場合、基材、層（ａ）、及び層（ｂ）を有する積層体を加熱することが好ましい。加熱することによって、効果的に硬化性化合物（ａ１）の一部を基材に浸透させることができる。加熱における温度は、基材のガラス転移温度より小さいことが好ましく、具体的には、６０〜１８０℃であることが好ましく、８０〜１３０℃であることがより好ましい。
工程（３）において、硬化性化合物（ａ１）の一部を粘着剤層に浸透させる場合、基材、層（ａ）、及び層（ｂ）を有する積層体を６０℃未満に保つことが好ましく、４０℃以下に保つことがより好ましい。温度を４０℃以下に保つことで、硬化性化合物（ａ１）及び粘着剤の粘度を高く保つことができるとともに、粒子の熱運動を抑制することができるため、粒子の凝集による反射防止能の低下及びヘイズや白濁感の上昇を防ぐ効果が大きい。基材、層（ａ）、及び層（ｂ）を有する積層体を保つ温度の下限は特に限定されるものではなく、室温であっても、室温より低い温度であってもよい。

［工程（４）］
工程（４）は、粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ａ）を硬化する工程である。
本発明では、「粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態」とは、層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層の厚みが粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上であることを表すものとする。
層（ａ）を硬化するとは、層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）を重合させることを表し、これにより、出来上がりの反射防止フィルムの反射防止層におけるバインダー樹脂を形成することができる。工程（４）で粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持することで、粒子（ａ２）の凝集を抑制し、モスアイ構造を形成することができる。
なお、層（ｂ）を設けた後に層（ｂ）又は層（ａ）の成分の揮発あるいは、基材（基材が機能層を有する場合は機能層）への浸透などにより、粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持できないと考えられる場合は、層（ｂ）をあらかじめ厚くしておく等の操作を行うことができる。
粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持することで粒子凝集が抑制されるメカニズムとしては、層（ａ）が硬化するまでに粒子（ａ２）が空気界面に露出すると、横毛管力と言われる表面張力由来の大きな引力が働く事が知られており、層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に粒子（ａ２）を埋没させておくことで上記引力を小さくできるためと推定している。

硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して層（ａ）の硬化性化合物（ａ１）を硬化するのが好ましい。５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２〜５００ｍＪ／ｃｍ^２であることがさらに好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプ又は高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。

硬化時の酸素濃度は０〜１．０体積％であることが好ましく、０〜０．１体積％であることがさらに好ましく、０〜０．０５体積％であることが最も好ましい。硬化時の酸素濃度を１．０体積％よりも小さくすることで、酸素による硬化阻害の影響を受けにくくなり、強固な膜となる。

工程（２）〜（４）において、基材の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないことが好ましい。

工程（２）〜（４）において、層（ａ）の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいことが好ましい。
層（ａ）の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいと粒子（ａ２）が層（ａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態にすることができ、好ましい。
ただし、後述する工程（５）で層（ｂ）を含む粘着フィルムを剥離した場合に層（ａ）の表面から粒子（ａ２）が突出した形状（モスアイ構造）を得るという理由から、工程（４）において、層（ａ）の膜厚は粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも小さいことが好ましく、粒子（ａ２）の平均一次粒径の半分以下であることがより好ましい。
工程（４）における層（ａ）の膜厚は、これを硬化して得られた層（ｃａ）の基材側の界面とは反対側の界面の高さが、粒子（ａ２）の平均一次粒径の半分以下となるように調整するのが好ましく（この場合、層（ｃａ）の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径の半分以下となるように調整するのが好ましく）、より好ましくは層（ｃａ）の膜断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、任意に１００箇所の膜厚を計測してその平均値を求めた場合に、１０ｎｍ〜１００ｎｍ（より好ましくは２０ｎｍ〜９０ｎｍ、さらに好ましくは３０ｎｍ〜７０ｎｍ）となるように調整するのが好ましい。

層（ａ）は、これを硬化して形成される層（ｃａ）の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）を後述する方法にて測定した場合に、４０ｍＮ／ｍ以下になることが好ましく、５ｍＮ／ｍ以上３５ｍＮ／ｍ以下になることがより好ましく、１０ｍＮ／ｍ以上２６ｍＮ／ｍ以下になることが最も好ましい。

層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）は、層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）と近しい方が粒子（ａ２）間に働く引力を小さくすることができ、粒子（ａ２）の凝集をより抑制することができるという観点から、４０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、５ｍＮ／ｍ以上３５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、１０ｍＮ／ｍ以上２６ｍＮ／ｍ以下であることが最も好ましい。

層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）から層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）を引いた値は−１５ｍＮ／ｍ以上１０ｍＮ／ｍ以下であり、−７ｍＮ／ｍ以上５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、−５ｍＮ／ｍ以上０ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）から層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）を引いた値が−１５ｍＮ／ｍ以上１０ｍＮ／ｍ以下であることで、粒子（ａ２）間に働く引力を小さくすることができ、粒子（ａ２）の凝集をより抑制することができる。

（層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）の測定方法）
層（ａ）を工程（１）と同じ条件で設けた後、層（ｂ）を設けることなく（粘着フィルムを貼り合わせずに）、かつ、粒子（ａ２）を層（ａ）の基材側の界面とは反対側の界面から突出させることなく、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ａ）を硬化させた。
続いて、接触角計［“ＣＡ−Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（温度２５℃、相対湿度６５％）で、液体として純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これを硬化後の層（ａ）の表面に接触させて層（ａ）上に液滴を作った。層（ａ）と液体とが接する点における、液体表面に対する接線と層（ａ）表面がなす角であって、かつ液体を含む側の角の角度を測定して、水の接触角を求めた。また、液体として純水の代わりにヨウ化メチレンを用いて接触角を測定し、以下の式より表面自由エネルギーを求めた。
すなわち、表面自由エネルギー（γｓ^ｖ：単位、ｍＮ／ｍ）とはＤ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、フィルム上で実験的に求めた純水Ｈ_２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ_２Ｉ_２のそれぞれの接触角θ_Ｈ２Ｏ、θ_{ＣＨ２Ｉ２}から以下の連立方程式ａ，ｂより求めたγｓ^ｄとγｓ^ｈの和で表される値γｓ^ｖ（＝γｓ^ｄ＋γｓ^ｈ）で定義される。
ａ．１＋ｃｏｓθ_Ｈ２Ｏ＝２√γｓ^ｄ（√γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ／γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_Ｈ２Ｏ ^ｈ／γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ）
ｂ．１＋ｃｏｓθ_{ＣＨ２Ｉ２}＝２√γｓ^ｄ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｄ／γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ／γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ）
γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ＝２１．８、γ_Ｈ２Ｏ ^ｈ＝５１．０、γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ＝７２．８、
γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｄ＝４９．５、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ＝１．３、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ＝５０．８

（層（ｂ）の表面自由エネルギーの測定方法）
支持体上に層（ｂ）を形成し、層（ｂ）表面の表面自由エネルギーを、層（ａ）表面の表面自由エネルギー（ｃａ）の測定方法と同様にして、純水とヨウ化メチレンの接触角から算出した。

粒子（ａ２）に起因するモスアイ構造を形成した層（ａ）の硬化後の表面の水の接触角は、指紋等の汚れが付着し難い、あるいは付着しても拭き取りやすいようにするという観点から、５０°以上であることが好ましく、７０°以上であることがより好ましく、９０°以上であることが更に好ましい。層（ａ）表面が疎水的な表面の場合（すなわち、上記測定方法にて求めた表面自由エネルギー（ｃａ）が低くなるように層（ａ）を形成した場合）、モスアイ構造を形成する事で、その表面積増大効果によって極めて高い疎水性を得ることができる。接触角は層（ａ）の表面自由エネルギーを算出する際と同様の方法で測定できる。

［反射防止フィルムの製造方法］
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、上記本発明の積層体の製造方法によって得られた積層体の粘着フィルムを剥離する工程（５）を有する。
本発明の積層体では、層（ｂ）を剥離した際にも層（ａ）側に粘着剤が残りにくいが、基材及び硬化後の層（ａ）は溶解せずに、粘着剤を溶解する溶剤を用いて洗浄してもよい。

工程（５）により層（ｂ）を含む粘着フィルムを剥離した後には、層（ａ）の表面に粒子（ａ２）によって形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する反射防止フィルムが得られる。

［積層体］
本発明の積層体は、
基材、樹脂を含む層（ｃａ）、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）、及びゲル分率が９５．０％以上の粘着剤を含む層（ｂ）を有する積層体であって、上記層（ｃａ）は上記層（ｂ）よりも上記基材に近い側に存在し、
上記粒子（ａ２）は、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ上記層（ｃａ）の上記基材側の界面とは反対側の界面から突出しており、
上記層（ｃａ）の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）から上記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）を引いた値が−１５ｍＮ／ｍ以上１０ｍＮ／ｍ以下である、積層体である。

樹脂を含む層（ｃａ）は、前述の本発明の積層体の製造方法において、工程（４）の硬化後の層（ａ）に相当する。
本発明の積層体は、層（ｂ）の層（ｃａ）側の界面とは反対側の界面側に、更に支持体を有することが好ましい。
本発明の積層体において、層（ｃａ）の基材側の界面とは反対側の界面の高さが、粒子（ａ２）の平均一次粒径の半分以下であることが好ましい。
その他、本発明の積層体における各層及び各成分についての説明、具体例及び好ましい範囲は、前述の本発明の積層体の製造方法において記載したものと同様である。

［反射防止フィルム］
本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムの好ましい実施形態の一例を図２に示す。
図２の反射防止フィルム１０は、基材１と反射防止層２とを有する。反射防止層２は、粒子（ａ２）（符号３）と硬化後の層（ａ）（層（ｃａ））であるバインダー樹脂膜（符号４）を含む。粒子３はバインダー樹脂膜４から突出し、モスアイ構造を形成している。

（モスアイ構造）
モスアイ構造とは、光の反射を抑制するための物質（材料）の加工された表面であって、周期的な微細構造パターンをもった構造のことを指す。特に、可視光の反射を抑制する目的の場合には、７８０ｎｍ未満の周期の微細構造パターンをもった構造のことを指す。微細構造パターンの周期が３８０ｎｍ未満であると、反射光の色味が小さくなり好ましい。また、モスアイ構造の凹凸形状の周期が１００ｎｍ以上であると波長３８０ｎｍの光が微細構造パターンを認識でき、反射防止性に優れるため好ましい。モスアイ構造の有無は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により表面形状を観察し、上記微細構造パターンが出来ているかどうか調べることによって確認することができる。

本発明の製造方法により製造された反射防止フィルムの反射防止層の凹凸形状は、隣り合う凸部の頂点間の距離Ａと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Ｂとの比であるＢ／Ａが０．４以上であることが好ましい。Ｂ／Ａが０．４以上であると、凸部同士の距離に対して凹部の深さが大きくなり、空気から反射防止層内部にかけてより緩やかに屈折率が変化する屈折率傾斜層を作ることができるため、反射率をより低減できる。
Ｂ／Ａは０．５以上であることが更に好ましい。Ｂ／Ａが０．５以上であれば、隣り合う凸部（粒子により形成される凸部）の頂点間の距離Ａが粒子径以上になり、粒子間に凹部が形成されることになる。その結果、凸部上側の曲率に依存する屈折率変化の急峻な部位による界面反射と、粒子間凹部の曲率に依存する屈折率変化の急峻な部位による界面反射の両者が存在することで、モスアイ構造による屈折率傾斜層効果に加えて、より効果的に反射率が低減されるものと推測される。
Ｂ／Ａは、硬化後の反射防止層におけるバインダー樹脂と粒子の体積比により制御することができる。そのため、バインダー樹脂と粒子の配合比を適切に設計することが重要である。また、バインダー樹脂がモスアイ構造を作製する工程の中で基材に浸透したり、揮発したりすることにより反射防止層におけるバインダー樹脂と粒子の体積比が反射防止層形成用組成物中の配合比と異なる場合もあるため、基材とのマッチングを適切に設定することも重要である。

更に、低反射率を実現し、ヘイズの発生を抑制するには凸部を形成する粒子は均一に、適度な充填率で敷き詰められていることが好ましい。上記観点から、凸部を形成する無機粒子の含有量は、反射防止層全体で均一になるように調整されるのが好ましい。充填率は、ＳＥＭなどにより表面から凸部を形成する無機粒子を観察したときの最も表面側に位置した無機粒子の面積占有率（粒子占有率）として測定することができ、２５％〜６４％であり、２５〜５０％が好ましく、３０〜４５％がより好ましい。

反射防止フィルムの面の均一性をヘイズで評価することができる。測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で、日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００で、ＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に従って測定することができる。粒子同士が凝集し不均一であるものは、ヘイズが高くなる。ヘイズが低い方が好ましい。ヘイズの値は０．０〜３．０％が好ましく、０．０〜２．５％がより好ましく、０．０〜２．０％がさらに好ましい。

［ハードコート層］
本発明において、基材と層（ａ）の間に、さらにハードコート層を設けることができる。基材上にハードコート層を有する場合は、前述のように、本発明においては、基材上のハードコート層も含めて基材ということもある。
ハードコート層は、重合性基を有する化合物である硬化性化合物（好ましくは電離放射線硬化性化合物）の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、ハードコート層は、電離放射線硬化性の多官能モノマー、又は多官能オリゴマーを含む塗布組成物を基材上に塗布し、多官能モノマー若しくは多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマー、及び多官能オリゴマーの官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

具体的には上述した硬化性化合物（ａ１）と同様の化合物を用いることができる。

フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常０．６μｍ〜５０μｍ程度であり、好ましくは４μｍ〜２０μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましい。さらに、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

本発明におけるハードコート層は、反射防止層との界面から膜厚方向に１μｍ以内の領域にセルロースアシレートを含んでもよい。
セルロースアシレートとしては、特開２０１２−０９３７２３号公報の［００７２］〜［００８４］に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
反射防止層との界面から膜厚方向に１μｍ以内の領域にセルロースアシレートを含むハードコート層は、たとえば、セルロースアシレートを含む基材（セルロースアシレートフィルムなど）に、基材に対する浸透性を有する溶媒と硬化性化合物とを含有するハードコート層形成用組成物を塗布し、基材に硬化性化合物を浸透させ、硬化させることで形成することができる。また、セルロースアシレートと硬化性化合物とを混合し、硬化させることでも形成することができる。

ハードコート層は、反射防止フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、セルロースアシレートと、電離放射線硬化性化合物の硬化物が検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。
また、ハードコート層は、例えば光の干渉を利用した反射分光膜厚計又はＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により、基材と反射防止層の中間に別の１層を検出することによっても測定することが出来る。反射分光膜厚計としては、ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）等を用いることが出来る。
本発明においては、ハードコート層上に層（ａ）を積層したときに工程（３）において硬化性化合物（ａ１）がハードコート層に浸透できるようにハードコート層を予めハーフキュアにしておき、硬化性化合物（ａ１）が浸透した後にフルキュアする方法等が好ましい。
例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、硬化時の酸素濃度、および紫外線照射量を適宜調整することによりハーフキュアにすることができる。紫外線ランプにより１ｍＪ／ｃｍ^２〜３００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して硬化するのが好ましい。５ｍＪ／ｃｍ^２〜１００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜７０ｍＪ／ｃｍ^２であることがさらに好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプ又は高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。

硬化時の酸素濃度は０．０５〜５．０体積％であることが好ましく、０．１〜２体積％であることがさらに好ましく、０．１〜１体積％であることが最も好ましい。

（セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒）
ハードコート層形成用組成物は、セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒（「浸透性溶媒」とも言う）を含有することが好ましい。
セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒とは、セルロースアシレートを含有する基材（セルロースアシレート基材）に対する溶解能を有する溶剤である。
ここで、セルロースアシレート基材に対して溶解能を有する溶剤とは、２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさのセルロースアシレート基材を上記溶剤の入った１５ｍｌの瓶に室温下（２５℃）で６０秒浸漬させて取り出した後に、浸漬させた溶液をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析したとき、セルロースアシレートのピーク面積が４００ｍＶ／ｓｅｃ以上である溶剤のことを意味する。若しくは２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさのセルロースアシレート基材を上記溶剤の入った１５ｍｌの瓶に室温下（２５℃）で２４時間経時させ、適宜瓶を揺らすなどして、セルロースアシレート基材が完全に溶解して形をなくすものも、セルロースアシレート基材に対して溶解能を有する溶剤を意味する。
浸透性溶媒としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド等を好ましく用いることが出来るがこれらに限定されない。メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチルがより好ましい。

ハードコート層形成用組成物は、浸透性溶媒以外の溶媒（たとえば、エタノール、メタノール、１−ブタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン等）を含んでいてもよい。
ハードコート層形成用組成物において、浸透性溶媒の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる全溶媒の質量に対して、５０質量％以上１００質量％以下であることが好ましく、７０質量％以上１００質量％以下であることがより好ましい。
ハードコート層形成用組成物の固形分濃度は、２０質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上６０質量％以下であることがより好ましい。

（その他の成分）
ハードコート層形成用組成物には、上記成分のほかに、更に重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等を適宜添加することもできる。更に、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良い。

（重合開始剤）
必要に応じてラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び／又は加熱により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。

（帯電防止剤）
帯電防止剤の具体例としては、４級アンモニウム塩、導電性ポリマー、導電性微粒子等の従来公知の帯電防止剤を用いることができ、特に限定されるものではないが、安価、かつ取り扱い容易性から、４級アンモニウム塩を有する帯電防止剤であることが好ましい。

（屈折率調整剤）
ハードコート層の屈折率を制御する目的で、屈折率調整剤として高屈折率モノマーまたは無機粒子を添加することができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、上記多官能モノマーおよび／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。

（レベリング剤）
レベリング剤の具体例としては、フッ素系又はシリコーン系等の従来公知のレベリング剤を用いることが出来る。レベリング剤を添加したハードコート層形成用組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性を付与することができる。

本発明の製造方法で製造された反射防止フィルムは、偏光板保護フィルムとして好適に用いることができる。
本発明の製造方法で製造された反射防止フィルムを用いた偏光板保護フィルムは、偏光子と貼り合せて偏光板とすることができ、液晶表示装置などに好適に用いることができる。

［偏光板］
偏光板は、偏光子と、偏光子を保護する少なくとも１枚の保護フィルムとを有する偏光板であって、保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムであることが好ましい。

偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子又はポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。

［カバーガラス］
本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムをカバーガラスに適用することもできる。

［画像表示装置］
本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムを画像表示装置に適用することもできる。
画像表示装置としては、陰極線管（ＣＲＴ）を利用した表示装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を挙げることができ、特に液晶表示装置が好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。液晶セルは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなど様々な駆動方式の液晶セルが適用できる。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

＜実施例１＞
（ハードコート層形成用組成物の調製）
下記に記載の組成で各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液ＨＣ−１とした。

（ハードコート層塗布液ＨＣ−１）
Ａ−ＴＭＭＴ ３３．６質量部
イルガキュア１２７ １．４質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ３５．８質量部
酢酸メチル ２９．２質量部

Ａ−ＴＭＭＴ ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業製）
イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製）

［シリカ粒子Ｐ１の合成］
撹拌機、滴下装置および温度計を備えた容量２００Ｌの反応器に、メチルアルコール６７．５４ｋｇと、２８質量％アンモニア水（水および触媒）２６．３３ｋｇとを仕込み、撹拌しながら液温を３３℃に調節した。一方、滴下装置に、テトラメトキシシラン１２．７０ｋｇをメチルアルコール５．５９ｋｇに溶解させた溶液を仕込んだ。反応器中の液温を３３℃に保持しながら、滴下装置から上記溶液を４４分間かけて滴下し、滴下終了後、さらに４４分間、液温を上記温度に保持しながら撹拌することにより、テトラメトキシシランの加水分解および縮合を行い、シリカ粒子前駆体を含有する分散液を得た。この分散液を、瞬間真空蒸発装置（（ホソカワミクロン（株）社製クラックス・システムＣＶＸ−８Ｂ型）を用いて加熱管温度１７５℃、減圧度２００ｔｏｒｒ（２７ｋＰａ）の条件で気流乾燥させることにより、シリカ粒子Ｐ１を得た。
シリカ粒子Ｐ１の平均一次粒径は１８０ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は３４０ＭＰａであった。

［焼成シリカ粒子Ｐ２の作製］
５ｋｇのシリカ粒子Ｐ１をルツボに入れ、電気炉を用いて９００℃で２時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕し、分級前焼成シリカ粒子を得た。さらにジェット粉砕分級機（日本ニューマ社製ＩＤＳ−２型）を用いて解砕および分級を行うことにより焼成シリカ粒子Ｐ２を得た。

［シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の作製］
５ｋｇの焼成シリカ粒子Ｐ２を、加熱ジャケットを備えた容量２０Ｌのヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製ＦＭ２０Ｊ型）に仕込んだ。焼成シリカ粒子Ｐ２を撹拌しているところに、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）４５ｇを、メチルアルコール９０ｇに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら１５０℃まで約１時間かけて昇温し、１５０℃で１２時間保持して加熱処理を行った。加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３を得た。
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の平均一次粒径は１８１ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は４７０ＭＰａであった。

［シリカ粒子分散液ＰＡ−１の作製］
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３を５０ｇ、ＭＥＫ２００ｇ、直径０．０５ｍｍジルコニアビーズ６００ｇを直径１２ｃｍの１Ｌ瓶容器に入れ、ボールミルＶ−２Ｍ（入江商会）にセットし、２５０回転／分で１０時間分散した。このようにして、シリカ粒子分散液ＰＡ−１（固形分濃度２０質量％）を作製した。

［化合物Ｃ３の合成］
還流冷却器、温度計を付けたフラスコに３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン １９．３ｇとグリセリン１，３−ビスアクリラート３．９ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリレート６．８ｇ、ジラウリン酸ジブチル錫０．１ｇ、トルエン７０．０ｇを添加し、室温で１２時間撹拌した。撹拌後、メチルハイドロキノン５００ｐｐｍを加え、減圧留去を行い化合物Ｃ３を得た。

［層（ａ）形成用組成物の調製］
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、塗布液とした。

組成物（Ａ−１）
Ｕ−１５ＨＡ １．０質量部
化合物Ｃ３ ８．７質量部
イルガキュア１２７ ０．４質量部
化合物Ｐ ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１ ２５．４質量部
化合物Ａ ０．１７質量部
エタノール １５．０質量部
メチルエチルケトン ３４．４質量部
アセトン １５．０質量部

組成物（Ａ−２）
Ｕ−１５ＨＡ １．０質量部
化合物Ｃ３ ８．７質量部
イルガキュア１２７ ０．４質量部
化合物Ｐ ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１ ２５．４質量部
化合物Ａ ０．０３質量部
エタノール １５．０質量部
メチルエチルケトン ３４．４質量部
アセトン １５．０質量部

組成物（Ａ−３）
Ｕ−１５ＨＡ １．０質量部
化合物Ｃ３ ８．７質量部
イルガキュア１２７ ０．４質量部
化合物Ｐ ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１ ２５．４質量部
化合物Ａ ０．１０質量部
エタノール １５．０質量部
メチルエチルケトン ３４．４質量部
アセトン １５．０質量部

Ｕ−１５ＨＡ及び化合物Ｃ３が硬化性化合物（ａ１）である。

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ｕ−１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）：ウレタンアクリレート
イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
化合物Ｐ：２−（４−Ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）−４，６−ｂｉｓ（ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ）−１，３，５−ｔｒｉａｚｉｎｅ（光酸発生剤、東京化成工業（株）製）
化合物Ａ：Ｆ−７８４−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）

＜反射防止フィルム１の作成＞
（ハードコート層の形成）
基材（ＺＲＴ６０、富士フイルム（株）製）上にハードコート層用塗布液ＨＣ−１をダイコーターを用いて塗布した。３０℃で９０秒、続いて６０℃で１分間乾燥した後、酸素濃度がおよそ０．３体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。上記ハードコート層付き基材をＨＣ−１とする。

（工程（１） 層（ａ）の塗工）
上記ハードコート層付き基材ＨＣ−１のハードコート層上に、組成物（Ａ−１）をダイコーターを用いて２．８ｍｌ／ｍ^２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた。工程（１）における層（ａ）の膜厚は下記表１に示したとおりである。

（工程（２） 粘着フィルムの貼り合わせ）
次いで、乾燥後の層（ａ）上に、藤森工業（株）製の保護フィルム（マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４）から剥離フィルムを剥離して得られる粘着フィルムを、粘着剤層（層（ｂ））が層（ａ）側になるように貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ Ｃｏ．製）を使用し、速度１で実施した。
なお、ここでの保護フィルムとは、支持体／粘着剤層／剥離フィルムから構成される積層体を指し、保護フィルムから剥離フィルムを剥がした、支持体／粘着剤層から構成される積層体が粘着フィルムである。

使用した保護フィルムを以下に示す。
・マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４（藤森工業（株）製 帯電防止機能付き光学用保護フィルム）（以下、「ＡＳ３−３０４」ともいう）
支持体：ポリエステルフィルム（厚み３８μｍ）
粘着剤層厚み：２０μｍ
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率：０．１％未満

透過率の測定は、島津製作所（株）製の紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ３１５０を用いて行った。

（工程（３） 硬化性化合物（ａ１）のハードコート層への浸透）
粘着フィルムを貼り合わせたまま、１２０℃で１５分間加熱し、硬化性化合物（ａ１）の一部をハードコート層へ浸透させた。

（工程（４） 層（ａ）の硬化）
上記の加熱に続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、基材の層（ａ）が塗布された面とは反対側から照度１００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ａ）を硬化させた。工程（４）の後であって、工程（５）を行う前の層（ａ）と粘着剤層（層（ｂ））の膜厚は下記表１の「工程（４）」の欄に示したとおりである。
このようにして積層体を作製した。
ここで、紫外線を層（ａ）が塗工された面から照射した場合は、層（ａ）が硬化しなかった。

(工程（５） 粘着フィルムの剥離)
上記作製した積層体から粘着フィルムを剥離した。粘着フィルム（マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４から剥離フィルムを剥がしたもの）を剥離した後、粘着フィルムが貼り合わせてあった面にメチルイソブチルケトンを掛け流して粘着剤層の残渣を洗い流した。その後、２５℃で１０分乾燥して反射防止フィルム１を得た。

（保護フィルムＡの作製）
＜アクリル系共重合体１の合成＞
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、反応装置内の空気を窒素ガスで置換した。その後、反応装置にイソオクチルアクリレート６０質量部、イソセチルアクリレート２０質量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート２０質量部、に溶剤（酢酸エチル）を１００質量部加えた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．１質量部を２時間かけて滴下させ、６５℃で８時間反応させ、重量平均分子量７０万のアクリル系共重合体１溶液を得た。

＜粘着剤組成物及び保護フィルムＡの作製＞
上記で合成したアクリル系共重合体１溶液（そのうちアクリル系共重合体が１００質量部）に対して、コロネートＨＬ ２．５質量部、ジオクチル錫ジラウレート０．１質量部を加えて撹拌混合して粘着剤組成物を得た。
この粘着剤組成物をシリコーン樹脂コートされたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる剥離フィルムの上に塗布後、９０℃で乾燥することによって溶剤を除去し、粘着剤層の厚さが２０μｍである積層体を得た。
その後、一方の面に帯電防止及び防汚処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（支持体）の帯電防止及び防汚処理された面とは反対の面に粘着剤層を転写させ保護フィルムＡを得た。

（保護フィルムＢの作製）
＜アクリル系共重合体２の合成＞
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、反応装置内の空気を窒素ガスで置換した。その後、反応装置にイソオクチルアクリレート７０質量部、イソセチルアクリレート２０質量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート１０質量部、溶剤（酢酸エチル）を１００質量部加えた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．１質量部を２時間かけて滴下させ、６５℃で８時間反応させ、重量平均分子量７０万のアクリル系共重合体２溶液を得た。

＜粘着剤組成物及び保護フィルムＢの作製＞
上記で合成したアクリル系共重合体２溶液（そのうちアクリル系共重合体が１００質量部）に対して、コロネートＨＬ２．５質量部、ジオクチル錫ジラウレート０．１質量部を加えて撹拌混合して粘着剤組成物を得た。
この粘着剤組成物をシリコーン樹脂コートされたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる剥離フィルムの上に塗布後、９０℃で乾燥することによって溶剤を除去し、粘着剤層の厚さが２０μｍである積層体を得た。
その後、一方の面に帯電防止及び防汚処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（支持体）の帯電防止及び防汚処理された面とは反対の面に粘着剤層を転写させ保護フィルムＢを得た。

（保護フィルムＣの作製）
粘着フィルムＢの作製において、アクリル系共重合体２溶液と混合するコロネートＨＬの量を３．７質量部にした以外は同様にして保護フィルムＣを作製した。

（保護フィルムＤの作製）
粘着フィルムＢの作製において、アクリル系共重合体２溶液と混合するコロネートＨＬの量を５．５質量部にした以外は同様にして保護フィルムＤを作製した。

（保護フィルムＥの作製）
粘着フィルムＢの作製において、アクリル系共重合体２溶液と混合するコロネートＨＬの量を８．０質量部にした以外は同様にして保護フィルムＥを作製した。

層（ａ）形成用組成物の種類、及び粘着フィルムの種類を表１のように変更した以外は反射防止フィルム１の作製と同様にして反射防止フィルム２〜１４を作製した。なお、前述のように、粘着フィルムとは、保護フィルムから剥離フィルムを剥がした、支持体と粘着剤層からなる積層体である。表１には使用した保護フィルムの種類を記載した。

上記した以外で使用した保護フィルムを以下に示す。
・マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０６（藤森工業（株）製 帯電防止機能付き光学用保護フィルム）（以下、「ＡＳ３−３０６」ともいう）
支持体：ポリエステルフィルム（厚み３８μｍ）
粘着剤層厚み：２０μｍ
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率：０．１％未満

・マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３１０（藤森工業（株）製 帯電防止機能付き光学用保護フィルム）（以下、「ＡＳ３−３１０」ともいう）
支持体：ポリエステルフィルム（厚み３８μｍ）
粘着剤層厚み：１５μｍ
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率：０．１％未満

（反射防止フィルムの評価方法）
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表１及び２に示す。

（硬化後の層（ａ）表面の表面自由エネルギー及び粘着剤層の表面の表面自由エネルギーの測定）
上記の方法で硬化後の層（ａ）（層（ｃａ））表面の表面自由エネルギー（ｃａ）、及び粘着剤層の表面の表面自由エネルギー（ｂ）をそれぞれ測定し、その差分を計算してΔ表面自由エネルギーとした。なお、表１において、硬化後の層（ａ）表面の表面自由エネルギー（ｃａ）を、便宜的に、工程（１）の欄の層（ａ）の欄に記載した。

得られた反射防止フィルムに対して、面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察し、全てのフィルムでモスアイ構造が形成されており、かつ表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子（ａ２）の個数の割合が、９０％以上であることを確認した。

（粘着剤のゲル分率）
各粘着フィルムから粘着剤層を剥がし取り、０．２ｇを量り取った（計量値Ａとする）。これにテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を３０ｇ添加し、５分間撹拌した後、１２時間静置した。穴径１０μｍのＰＴＦＥ（ポリテトラフロオロエチレン）メンブレンフィルター（日本ミリポア製）を準備し、フィルターの質量を測定した（計量値Ｂとする）。このフィルターを用いて上記ＴＨＦ溶液をろ過した。ろ過後のフィルターを１００℃で２時間乾燥させ、２５℃で３０分置いた後、質量を測定した（計量値Ｃとする）。各計量値を用いて下記式からゲル分率（ＴＨＦへの不溶解分）を算出した。
ゲル分率＝１００×（Ｃ−Ｂ）／Ａ
測定は３回行い、その平均値を用いるものとする。

（積分反射率、反射色味ｂ＊）
工程（５）において粘着フィルムを剥離した後、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）で洗浄する前後の反射防止フィルムにおいて、フィルムの裏面（基材側）をサンドペーパーで粗面化した後に油性黒インキ（補填用マジックインキ：寺西化学）を塗り、裏面反射をなくした状態で、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、平均反射率を算出して反射防止性を評価した。ＭＩＢＫ洗浄後の積分反射率が１．５％以下である事が映り込みが少なく好ましい。
また、上記測定により得られた反射スペクトルからＤ６５光源下における反射色味をａ＊、ｂ＊値として計算した。粘着フィルム剥離後のＭＩＢＫ洗浄前後のｂ＊値の変化が粘着剤からの転写物の量を表す。ＭＩＢＫ洗浄前後のｂ＊値の変化は６以下である事が見た目の変化が小さくて好ましい。

（ヘイズ）
面の均一性をヘイズ値で評価した。得られた反射防止フィルムの全ヘイズ値（％）をＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に準じて測定した。装置には日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００を用いた。粒子同士が凝集し不均一であるものは、ヘイズが高くなる。ヘイズが低い方が好ましい。

（水の接触角の測定）
上記の方法（表面自由エネルギーの測定において説明した方法）でメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）洗浄前の反射防止フィルム表面の水の接触角を測定した。

（白濁感の評価）
基材の塗布層を設けた側とは反対の面に粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート（巴川製紙所製；「くっきりみえーる」）をラミネートし、裏面の光反射を防止した３０ｃｍ×３０ｃｍのサンプルを作製した。このサンプルを斜めから三波長蛍光灯（ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ−Ｎ／１８（松下電器産業（株）製）の付いた電気スタンドでサンプルの表面を照射し、その時に観察される白濁を目視にて評価した。
Ａ：注意深く見ても白濁が見えない
Ｂ：注意深く見ると弱く白味がかっているのがわかる
Ｃ：膜全体が弱く白濁している。
Ｄ：一目見ただけで膜全体が強く白濁しているのがわかる

（粘着剤貯蔵弾性率の評価）
複数枚の粘着テープを重ねて貼合し、６０℃×０．５ＭＰａ×３０分間のオートクレーブを実施し、厚み１ｍｍの動的粘弾性試験用試料を作製した。この試料をせん断型レオメーター（ＡｎｔｏｎＰａａｒ社；装置名 ＭＣＲ３０１）にて線形領域内、周波数１Ｈｚの条件で動的粘弾性試験を行なった。貯蔵弾性率の測定は、−４０℃〜＋１５０℃の温度範囲で、昇温速度３℃／ｍｉｎの条件により、３０℃における値を読み取った。

（粘着剤のゾル成分の重量平均分子量（Ｍｗ））
粘着剤を、２５℃で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に１２時間浸漬した後のＴＨＦへの溶解分を、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析し、重量平均分子量を測定することで、粘着剤のゾル成分の重量平均分子量を求めた。

※：架橋剤の量はアクリル系共重合体１００質量部に対する量（質量部）を表す。

＜実施例２＞
保護フィルムＡ〜Ｅの作製において、粘着シートを転写させる基材として帯電防止及び防汚処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの代わりにＺＲＴ６０（富士フイルム（株）製）の片面に粘着フィルムを転写させ、「ＺＲＴ６０／粘着剤層／剥離フィルム（シリコーン樹脂コートされたＰＥＴフィルム）」の積層構成を有する保護フィルムＦ〜Ｊを得た。
保護フィルムＦ〜Ｊは、剥離フィルムを剥がした状態（すなわち粘着フィルムの状態）での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率は、７０〜７４％であった。

反射防止フィルム９〜１３において、保護フィルムＡ〜Ｅを用いる代わりに保護フィルムＦ〜Ｊを用いて、工程（４）において基材の層（ａ）が塗布された面側から照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ａ）を硬化させた以外は同様にして反射防止フィルム１５〜１９を得た。
これらのフィルムは、粘着フィルムとして波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であるものを使用することにより、粘着フィルム側から露光したにも関わらず層（ａ）を硬化させる事ができ、反射防止フィルム９〜１３と同様の性能が得られた。塗工面側から露光可能となる事で製造設備を簡略化する事ができた。

＜実施例３＞
（ハードコート層形成用組成物の調製）
下記に記載の組成で各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液ＨＣ−２とした。

（ハードコート層塗布液ＨＣ−２）
Ａ−ＴＭＭＴ ２４．１質量部
ＡＤ−ＴＭＰ １１．８質量部
ＤＰＣＡ−６０ １２．０質量部
イルガキュア１２７ ２．１質量部
ＡＳ−１ ６．９質量部
エタノール ０．４質量部
メタノール ６．７質量部
１−ブタノール ４．８質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １６．８質量部
酢酸メチル １４．４質量部
ＦＰ−１ ０．０５質量部

ＡＤ−ＴＭＰ ：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製 ＮＫエステル）
ＤＰＣＡ−６０ ：カプロラクトン構造含有多官能アクリレートオリゴマー（日本化薬（株）製 ＫＡＹＡＲＡＤ）
ＡＳ−１ ：特許第４６７８４５１号公報の合成例６の反応温度と時間を７０℃及び６時間としたこと以外は同様にして、上記特許文献の（Ａ−６）に対応する化合物ＡＳ−１を作製した。出来上がった化合物ＡＳ−１は、エチレンオキサイド鎖を有する４級アンモニウム塩ポリマーであり、ＧＰＣで測定した重量平均分子量は約６万であった。
ＦＰ−１ ：下記式で表される含フッ素化合物のメチルエチルケトン溶液、固形分濃度は４０質量％。

［シリカ粒子Ｐ４の合成］
反応器中の液温を３３℃に保持しながら、滴下装置からの溶液の滴下時間を３７分に変更し、滴下終了後、液温を同じ温度に保持しながら撹拌した時間を３７分に変更した以外は、シリカ粒子Ｐ１と同様の方法で、シリカ粒子Ｐ４を得た。
シリカ粒子Ｐ４の平均一次粒径は１７０ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は７．０％、押し込み硬度は３４０ＭＰａであった。

［シリカ粒子Ｐ５の合成］
反応器中の液温を３３℃に保持しながら、滴下装置からの溶液の滴下時間を３１分に変更し、滴下終了後、液温を同じ温度に保持しながら撹拌した時間を３１分に変更した以外は、シリカ粒子Ｐ１と同様の方法で、シリカ粒子Ｐ５を得た。
シリカ粒子Ｐ５の平均一次粒径は１６０ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は９．０％、押し込み硬度は３４０ＭＰａであった。

［シリカ粒子Ｐ６の合成］
反応器中の液温を３３℃に保持しながら、滴下装置からの溶液の滴下時間を２５分に変更し、滴下終了後、液温を同じ温度に保持しながら撹拌した時間を２５分に変更した以外は、シリカ粒子Ｐ１と同様の方法で、シリカ粒子Ｐ６を得た。
シリカ粒子Ｐ６の平均一次粒径は１５０ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は１１．０％、押し込み硬度は３４０ＭＰａであった。

［焼成シリカ粒子Ｐ７の作製］
シリカ粒子Ｐ１の代わりにシリカ粒子Ｐ４を用いた以外は、焼成シリカ粒子Ｐ２と同様の方法で、焼成シリカ粒子Ｐ７を得た。

［焼成シリカ粒子Ｐ８の作製］
シリカ粒子Ｐ１の代わりにシリカ粒子Ｐ５を用いた以外は、焼成シリカ粒子Ｐ２と同様の方法で、焼成シリカ粒子Ｐ８を得た。

［焼成シリカ粒子Ｐ９の作製］
シリカ粒子Ｐ１の代わりにシリカ粒子Ｐ６を用いた以外は、焼成シリカ粒子Ｐ２と同様の方法で、焼成シリカ粒子Ｐ９を得た。

［シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１０の作製］
焼成シリカ粒子Ｐ２の代わりに焼成シリカ粒子Ｐ４を用い、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）の滴下量を５０ｇに変更した以外は、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３と同様の方法で、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１０を得た。
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１０の平均一次粒径は１７１ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は７．０％、押し込み硬度は４７０ＭＰａであった。

［シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１１の作製］
焼成シリカ粒子Ｐ２の代わりに焼成シリカ粒子Ｐ５を用い、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）の滴下量を５７ｇに変更した以外は、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３と同様の方法で、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１１を得た。
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１１の平均一次粒径は１６１ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は９．０％、押し込み硬度は４７０ＭＰａであった。

［シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１２の作製］
焼成シリカ粒子Ｐ２の代わりに焼成シリカ粒子Ｐ６を用い、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）の滴下量を６５ｇに変更した以外は、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３と同様の方法で、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１２を得た。
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１２の平均一次粒径は１５１ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は１１．０％、押し込み硬度は４７０ＭＰａであった。

［シリカ粒子分散液ＰＡ−２の作製］
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の代わりにシランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１０を用いた以外は、シリカ粒子分散液ＰＡ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液ＰＡ−２（固形分濃度２０質量％）を作製した。

［シリカ粒子分散液ＰＡ−３の作製］
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の代わりにシランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１１を用いた以外は、シリカ粒子分散液ＰＡ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液ＰＡ−３（固形分濃度２０質量％）を作製した。

［シリカ粒子分散液ＰＡ−４の作製］
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の代わりにシランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ１２を用いた以外は、シリカ粒子分散液ＰＡ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液ＰＡ−４（固形分濃度２０質量％）を作製した。

［層（ａ）形成用組成物の調製］
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、塗布液とした。

組成物（Ａ−４）
Ｕ−１５ＨＡ １．４質量部
化合物Ｃ３ １．５質量部
クエン酸アセチルトリエチル ５．８質量部
イルガキュア１２７ ０．２質量部
化合物Ｐ ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１ ３２．３質量部
化合物Ａ ０．１質量部
エタノール １２．７質量部
メチルエチルケトン ３３．３質量部
アセトン １２．７質量部

組成物（Ａ−５）
Ｕ−１５ＨＡ １．４質量部
化合物Ｃ３ １．５質量部
クエン酸アセチルトリエチル ５．８質量部
イルガキュア１２７ ０．２質量部
化合物Ｐ ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−２ ３２．３質量部
化合物Ａ ０．１質量部
エタノール １２．７質量部
メチルエチルケトン ３３．３質量部
アセトン １２．７質量部

組成物（Ａ−６）
Ｕ−１５ＨＡ １．４質量部
化合物Ｃ３ １．５質量部
クエン酸アセチルトリエチル ５．８質量部
イルガキュア１２７ ０．２質量部
化合物Ｐ ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−３ ３２．３質量部
化合物Ａ ０．１質量部
エタノール １２．７質量部
メチルエチルケトン ３３．３質量部
アセトン １２．７質量部

組成物（Ａ−７）
Ｕ−１５ＨＡ １．４質量部
化合物Ｃ３ １．５質量部
クエン酸アセチルトリエチル ５．８質量部
イルガキュア１２７ ０．２質量部
化合物Ｐ ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−４ ３２．３質量部
化合物Ａ ０．１質量部
エタノール １２．７質量部
メチルエチルケトン ３３．３質量部
アセトン １２．７質量部

Ｕ−１５ＨＡ、化合物Ｃ３、クエン酸アセチルトリエチルが硬化性化合物（ａ１）である。そのうち、クエン酸アセチルトリエチルは、重合性官能基を持たない化合物である。

使用した化合物を以下に示す。
クエン酸アセチルトリエチル：東京化成工業（株）製
その他の化合物は、実施例１で用いたものと同様である。

＜反射防止フィルム２０の作成＞
（ハードコート層付き基材ＨＣ−２の形成）
基材（ＴＧ６０、富士フイルム（株）製）上にハードコート層塗布液ＨＣ−２をダイコーターを用いて１７．３ｍｌ／ｍ^２塗布した。９０℃で１分間乾燥した後、酸素濃度がおよそ１．５体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１５ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。このようにして、ハードコート層付き基材ＨＣ−２を作成した。

（工程（１） 層（ａ）の塗工）
上記ハードコート層付き基材ＨＣ−２のハードコート層上に、組成物（Ａ−４）をダイコーターを用いて２．８ｍｌ／ｍ^２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた。工程（１）における層（ａ）の膜厚は下記表３に示したとおりである。

（工程（１−２） 層（ａ）中の硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させ、硬化された化合物（ａ１ｃ）を得る工程）
酸素濃度が１．５体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら、高圧水銀ランプ（Ｄｒ．ｈｏｎｌｅ ＡＧ社製 型式：３３３５１Ｎ 部品番号：ＬＡＭＰ−ＨＯＺ ２００ Ｄ２４ Ｕ ４５０ Ｅ）を用いて層（ａ）側から照射量５．０ｍＪで光照射し、硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させた。なお、照射量の測定は、アイグラフィック社製 アイ紫外線積算照度計 ＵＶ ＭＥＴＥＲ ＵＶＰＦ−Ａ１にＨＥＡＤ ＳＥＮＳＥＲ ＰＤ−３６５を取り付け、測定レンジ０．００にて測定した。

（工程（２） 粘着フィルムの貼り合わせ）
次いで、乾燥後の層（ａ）上に、ＡＳ３−３０４から剥離フィルムを剥離して得られる粘着フィルムを、粘着剤層（層（ｂ））が層（ａ）側になるように貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ Ｃｏ．製）を使用し、速度１で実施した。
なお、ここでの保護フィルムとは、支持体／粘着剤層／剥離フィルムから構成される積層体を指し、保護フィルムから剥離フィルムを剥がした、支持体／粘着剤層から構成される積層体が粘着フィルムである。

使用した保護フィルムを以下に示す。
・ＡＳ３−３０４
支持体：ポリエステルフィルム（厚み３８μｍ）
粘着剤層厚み：２０μｍ
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率：０．１％未満

透過率の測定は、島津製作所（株）製の紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ３１５０を用いて行った。

（工程（３） 硬化性化合物（ａ１）の粘着剤層への浸透）
粘着フィルムを貼り合わせたまま、２５℃で５分間静置し、硬化性化合物（ａ１）の一部を粘着剤層へ浸透させた。

（工程（４） 層（ａ）の硬化）
上記の静置に続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、基材の層（ａ）が塗布された面から粘着フィルム越しに照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ａ）を硬化させた。工程（４）の後であって、工程（５）を行う前の層（ａ）と粘着剤層（層（ｂ））の膜厚は下記表３の「工程（４）」の欄に示したとおりである。
このようにして積層体を作製した。

(工程（５） 粘着フィルムの剥離)
上記作製した積層体から粘着フィルム（マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４から剥離フィルムを剥がしたもの）を剥離した。剥離後の層（ａ）は、粘着剤層の剥離によって壊れない程度に硬化していた。粘着剤層の剥離後、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、基材の層（ａ）が塗布された面から照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ａ）を硬化させた。その後、粘着フィルムが貼り合わせてあった面にメチルイソブチルケトンを掛け流して粘着剤層の残渣を洗い流し、２５℃で１０分乾燥して反射防止フィルム２０を得た。

層（ａ）形成用組成物の種類、及び粘着フィルムの種類を表３のように変更した以外は反射防止フィルム２０の作製と同様にして反射防止フィルム２１〜２７を作製した。さらに、反射防止フィルム２０の工程（３）を、粘着フィルムを貼り合わせたまま、１２０℃で１５分間加熱し、硬化性化合物（ａ１）の一部をハードコート層へ浸透させることに変更した反射防止フィルム２８を作製した。

＜反射防止フィルム２９の作成＞
（セパレーターＡの作製）
滑り剤ａであるアクリット８ＳＳ−１０２４（架橋基当量２６３、官能基数３以上、大成ファインケミカル製）に固形分が３質量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて塗工液を調製し、この塗工液を、ワイヤーバー＃２にて、厚さ１９μｍのＰＥＴフィルム基材の片面に塗布し、塗布フィルムを得た。上記塗布フィルムを、熱風オーブンで８０℃、１８０秒の条件で乾燥し、セパレーターＡを得た。

（粘着剤組成物及び保護フィルムＦの作製）
上記で合成したアクリル系共重合体２溶液（そのうちアクリル系共重合体が１００質量部）に対して、コロネートＨＬ ２．５質量部、ジオクチル錫ジラウレート０．１質量部を加えて撹拌混合して粘着剤組成物を得た。
この粘着剤組成物を一方の面に帯電防止及び防汚処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（支持体）の帯電防止及び防汚処理された面とは反対の面に塗布後、９０℃で乾燥することによって溶剤を除去し、粘着剤層の厚さが２０μｍである積層体を得た。その後、得られた積層体の粘着剤層側とセパレーターＡの滑り剤ａを付与した面とを貼り合わせることで保護フィルムＦを得た。

保護フィルムＢの代わりに、保護フィルムＦを用いた以外は、反射防止フィルム２２と同様にして、反射防止フィルム２９を作成した。

＜反射防止フィルム３０の作成＞
［層（ａ）形成用組成物の調製］
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、塗布液とした。
組成物（Ａ−８）
Ｕ−１５ＨＡ １．４質量部
化合物Ｃ３ １．５質量部
クエン酸アセチルトリエチル ５．８質量部
イルガキュア１２７ ０．２質量部
化合物Ｐ ０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１ ３２．３質量部
化合物Ａ ０．１質量部
アクリット８ＳＳ−１０２４（滑り剤ａ） １．０質量部
エタノール １２．７質量部
メチルエチルケトン ３３．３質量部
アセトン １２．７質量部

組成物（Ａ−４）の代わりに、組成物（Ａ−８）を用いた以外は、反射防止フィルム２２と同様にして、反射防止フィルム３０を作成した。

＜反射防止フィルム３１の作成＞
（アクリル系共重合体３の合成）
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、反応装置内の空気を窒素ガスで置換した。その後、反応装置にイソオクチルアクリレート８５質量部、イソセチルアクリレート１０質量部、６−ヒドロキシブチルアクリレート５質量部、溶剤（酢酸エチル）を１００質量部加えた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．１質量部を２時間かけて滴下させ、６５℃で１６時間反応させ、重量平均分子量７０万のアクリル系共重合体３溶液を得た。

（粘着剤組成物及び保護フィルムＧの作製）
上記で合成したアクリル系共重合体３溶液（そのうちアクリル系共重合体が１００質量部）に対して、コロネートＨＬ ２．５質量部、ジオクチル錫ジラウレート０．１質量部を加えて撹拌混合して粘着剤組成物を得た。
この粘着剤組成物をシリコーン樹脂コートされたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる剥離フィルムの上に塗布後、９０℃で乾燥することによって溶剤を除去し、粘着剤層の厚さが２０μｍである積層体を得た。
その後、一方の面に帯電防止及び防汚処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（支持体）の帯電防止及び防汚処理された面とは反対の面に粘着剤層を貼り合せて保護フィルムＧを得た。

保護フィルムＢの代わりに、保護フィルムＧを用いた以外は、反射防止フィルム２２と同様にして、反射防止フィルム３１を作成した。

（反射防止フィルムの評価方法）
実施例１に記載の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。
更に、以下の評価も行った。

（動摩擦係数測定）
表面滑り性の指標として動摩擦係数を評価した。動摩擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφステンレス鋼球、荷重３０ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎにて測定した値を用いた。
その結果、実施例２２、２９、３０に記載の試料の動摩擦係数は、それぞれ０．５０、０．３２、０．４８であった。
実施例２９に記載の滑り剤ａの付与方法は、転写性を改良させるだけでなく、表面滑り性を効率良く向上させるうえでも有効であることが示された。

結果を表３及び４に示す。
※：架橋剤の量はアクリル共重合体１００質量部に対する量（質量部）を表す。

反射防止フィルム２２の水の接触角は１１５°であり、反射防止フィルム２９の水の接触角は１２６°であり、反射防止フィルム３０の水の接触角は１２０°であった。

これより、本発明の製造方法により作製した反射防止フィルムは、積分反射率が１．５％以下で、ヘイズが３％以下で白濁感の抑制に優れており、粘着フィルム剥離後のＭＩＢＫ洗浄前後のΔｂ＊が６以下で粘着剤層の転写物が少ないことがわかる。また、実施例に記載のサンプルは粘着フィルム剥離後に洗浄工程を実施しなくても良好な性能が発揮できた。

本発明によれば、良好な反射防止性能を有し、ヘイズが低く、白濁感が少ない、反射防止フィルムを簡便に製造するために用いることができる積層体、上記積層体の製造方法、及び上記積層体の製造方法を用いた反射防止フィルムの製造方法を提供することができる。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１６年３月１８日出願の日本特許出願（特願２０１６−０５５４４９）、及び２０１６年５月２３日出願の日本特許出願（特願２０１６−１０２７７６）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

１ 基材
２ 反射防止層
３ 粒子（ａ２）
４ 層（ａ）
５ 支持体
６ 層（ｂ）
７ 粘着フィルム
８ 積層体
１０ 反射防止フィルム
Ａ 隣り合う凸部の頂点間の距離
Ｂ 隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離

Claims (22)

1. 基材、樹脂を含む層（ｃａ）、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）、及びゲル分率が９５．０％以上の粘着剤を含む層（ｂ）を有する積層体であって、
   前記層（ｃａ）は前記層（ｂ）よりも前記基材に近い側に存在し、
   前記粒子（ａ２）は、前記層（ｃａ）及び前記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ前記層（ｃａ）の前記基材側の界面とは反対側の界面から突出しており、
   前記層（ｃａ）の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）から前記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）を引いた値が−１５ｍＮ／ｍ以上１０ｍＮ／ｍ以下である、積層体。
2. 前記層（ｃａ）の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）が４０ｍＮ／ｍ以下であり、前記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）が４０ｍＮ／ｍ以下である請求項１に記載の積層体。
3. 前記層（ｃａ）の表面の水の接触角が５０°以上である請求項１又は２に記載の積層体。
4. 前記層（ｂ）の前記層（ｃａ）側の界面とは反対側の界面側に、更に支持体を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
5. 前記層（ｃａ）の前記基材側の界面とは反対側の界面の高さが、前記粒子（ａ２）の平均一次粒径の半分以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
6. 前記基材の表面に直交する方向には前記粒子（ａ２）が複数存在しない、請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
7. 前記粒子（ａ２）が金属酸化物粒子である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
8. 前記粒子（ａ２）が表面修飾された粒子である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体。
9. 前記層（ｂ）と前記層（ｃａ）との間に、１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位を有する滑り剤が存在する請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体。
10. 基材上に、硬化性化合物（ａ１）と平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを、前記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に前記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、
    支持体及び前記支持体上にゲル分率が９５．０％以上の粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの前記層（ｂ）を、前記層（ａ）と貼り合わせる工程（２）、
    前記粒子（ａ２）が、前記層（ａ）及び前記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、前記層（ａ）の前記基材側の界面とは反対側の界面から突出するように、前記層（ａ）と前記層（ｂ）の界面の位置を前記基材側に下げる工程（３）、
    前記粒子（ａ２）が、前記層（ａ）及び前記層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で前記層（ａ）を硬化する工程（４）、をこの順に有し、
    前記層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）から前記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）を引いた値が−１５ｍＮ／ｍ以上１０ｍＮ／ｍ以下である、積層体の製造方法。
11. 前記層（ａ）の硬化後の表面の表面自由エネルギー（ｃａ）が４０ｍＮ／ｍ以下である、請求項１０に記載の積層体の製造方法。
12. 前記層（ｂ）の表面の表面自由エネルギー（ｂ）が４０ｍＮ／ｍ以下である、請求項１０又は１１に記載の積層体の製造方法。
13. 前記粘着フィルムの波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上である、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
14. 前記粘着剤が、重合体と架橋剤とを含む粘着剤組成物の硬化物を含み、前記粘着剤組成物は、前記重合体１００質量部に対して、前記架橋剤を３．５質量部超１５質量部未満含む、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
15. 前記粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下である、請求項１４に記載の積層体の製造方法。
16. 前記粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率が１．３ｘ１０^５Ｐａ以下であり、前記粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下である請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
17. 前記硬化性化合物（ａ１）として、１分子中に（メタ）アクリロイル基を３個以上有する化合物を含む、請求項１０〜１６のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
18. 前記工程（３）を、前記積層体を加熱することで前記硬化性化合物（ａ１）の一部を前記基材に浸透させることにより行う、請求項１０〜１７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
19. 前記加熱における温度が、６０〜１８０℃である、請求項１８に記載の積層体の製造方法。
20. 前記工程（３）を、前記硬化性化合物（ａ１）の一部を前記層（ｂ）に浸透させることにより行う、請求項１０〜１７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
21. 前記硬化性化合物（ａ１）の一部を前記層（ｂ）に浸透させる温度が、６０℃未満である、請求項２０に記載の積層体の製造方法。
22. 請求項１０〜２１のいずれか１項に記載の積層体の製造方法によって得られた積層体の前記粘着フィルムを剥離する工程（５）を有する、反射防止フィルムの製造方法。

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