WO2009119356A1 - 半導体素子用エピタキシャル基板、半導体素子、および半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法 - Google Patents

半導体素子用エピタキシャル基板、半導体素子、および半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法 Download PDF

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倉岡　義孝
角谷　茂明
田中　光浩
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Definitions

  • the present invention relates to an epitaxial substrate composed of a group III nitride semiconductor and having a multilayer structure, in particular, a multilayer structure epitaxial substrate for an electronic device, and a manufacturing method thereof.
  • Nitride semiconductors are attracting attention as semiconductor materials for next-generation high-frequency / high-power devices because they have a high breakdown electric field and a high saturation electron velocity.
  • a multilayer structure formed by stacking layers made of AlGaN and GaN has a high concentration of two at the stack interface (heterointerface) due to the large polarization effect (spontaneous polarization effect and piezoelectric polarization effect) unique to nitride materials. Due to the fact that two-dimensional electron gas (2DEG) is generated, high electron mobility transistors (HEMT) using such a multilayer structure as a substrate are being actively developed (for example, “Highly Reliable 250 W High”). Electron Mobility Transistor Power Amplifier ", TOSHIHIDE KIKKAWA, Jpn. J. Appl. Phys. 44, (2005), 4896 (Non-Patent Document 1)).
  • the concentration of the two-dimensional electron gas inherent in the HEMT element substrate can be significantly increased, the controllable current density of the HEMT element, that is, the power density that can be handled can be significantly improved.
  • the two-dimensional electron gas concentration is the AlN mole fraction of AlGaN forming the barrier layer.
  • the strain is less dependent on the piezoelectric polarization effect and can generate a two-dimensional electron gas at a high concentration only by spontaneous polarization.
  • HEMT devices having few structures are also attracting attention (for example, “Can InAlN / GaN be an alternative to high power / high temperature AlGaN / GaN devices?”, F. Medjdoub, J.-F. Carlin, M. Gonschorek, E. Feltin, MA Py, D. Ducatteau, C. Gaquiere, N. Grandjean, and E. Kohn, IEEE IEDM Tech. Digest in IEEE IEDM 2006, 673 (see Non-Patent Document 3)).
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide an epitaxial substrate having good two-dimensional electron gas characteristics and reduced internal stress due to strain.
  • a base substrate and a first group III nitride having a composition of In x1 Al y1 Ga z1 N (x1 + y1 + z1 1) containing at least Al and Ga.
  • the first group III nitride is in a range surrounded by straight lines represented by the following formulas determined according to the composition of the first group III nitride.
  • the composition of the second group III nitride is as follows on a ternary phase diagram having InN, AlN, GaN as vertices: It was made to exist in the range enclosed by the straight line represented by each formula.
  • the band gap in the epitaxial substrate for a semiconductor device according to the first or second aspect, includes at least Al and is larger than the barrier layer between the channel layer and the barrier layer.
  • the third group III nitride is AlN.
  • a source electrode, a drain electrode, and a gate electrode are provided on the barrier layer of the epitaxial substrate for a semiconductor element according to any one of the first to seventh aspects. It was made to become.
  • a channel layer step of epitaxially forming a channel layer made of a group III nitride, and a second III having a composition of In x2 Al y2 Ga z2 N (x2 + y2 + z2 1) containing at least In and Al on the channel layer
  • a barrier layer forming step of epitaxially forming a barrier layer made of a group nitride, wherein the composition of the first group III nitride is selected from a range determined by x1 0 and 0 ⁇ y1 ⁇ 0.3.
  • composition of the second group III nitride is represented by the following equations that are determined according to the composition of the first group III nitride on a ternary phase diagram with InN, AlN, and GaN as vertices. Ru And to select from a range surrounded by a line.
  • a temperature T1 (° C.) for forming the channel layer is determined within a range of 950 ⁇ T1 ⁇ 1250, and the barrier
  • the temperature T2 (° C.) for forming the layer is determined according to the molar fraction x2 of InN in the second group III nitride, 800 ⁇ 667 ⁇ x2 (° C.) ⁇ T2 ⁇ 860 ⁇ 667 ⁇ x2 (° C.)
  • the atmospheric gas other than the source gas in the barrier layer forming step is nitrogen gas.
  • the barrier layer is formed on the spacer layer.
  • the spacer layer formation temperature T3 (° C.) in the spacer layer formation step is changed to the channel layer formation temperature T1 ( C)).
  • the pressure in the reactor in the barrier layer forming step is set to 1 kPa or more and 30 kPa or less. did.
  • the pressure in the reactor in the barrier layer forming step is set to 1 kPa or more and 20 kPa or less.
  • the V / III ratio in the barrier layer forming step is set to be 5000 or more and 20000 or less. did.
  • a semiconductor device in which a two-dimensional electron gas is generated at a higher concentration than in the prior art with less internal stress due to strain and at least 2 ⁇ 10 13 / cm 2.
  • a producible epitaxial substrate and the semiconductor element are realized.
  • an epitaxial substrate capable of producing a semiconductor element that generates a two-dimensional electron gas at a higher concentration of 3 ⁇ 10 13 / cm 2 or less, with less internal stress due to strain. And the semiconductor element is realized.
  • an epitaxial device capable of producing a semiconductor device having a high mobility and generating a two-dimensional electron gas at a high concentration.
  • a substrate and the semiconductor element are realized.
  • the temperature is lowered to the barrier layer formation temperature after the formation of the spacer layer. Therefore, the temperature is lowered with the channel layer exposed, which occurs when the spacer layer is not provided. Deterioration of the channel layer surface due to can be prevented.
  • an epitaxial substrate capable of producing a semiconductor element having high mobility and a small drain leakage current at the time of OFF, and the semiconductor element are realized.
  • an epitaxial substrate capable of producing a high-breakdown-voltage semiconductor element with a small drain leakage current at the time of OFF and the semiconductor element are realized.
  • the barrier layer having the target composition can be reliably formed.
  • FIG. 6 is a diagram in which the result of measuring the two-dimensional electron concentration is plotted against the InN molar fraction x2 in the barrier layer 5.
  • FIG. 3 is a diagram in which a relationship between a two-dimensional electron gas concentration and a composition of a barrier layer 5 is mapped on a ternary phase diagram having three components of InN, AlN, and GaN as vertices based on the result of FIG. FIG.
  • FIG. 3 is a diagram in which the relationship between the two-dimensional electron gas concentration and the composition of the barrier layer 5 is mapped on a ternary phase diagram having three components of InN, AlN, and GaN as vertices based on the result of FIG.
  • FIG. 3 is a diagram in which the relationship between the two-dimensional electron gas concentration and the composition of the barrier layer 5 is mapped on a ternary phase diagram having three components of InN, AlN, and GaN as vertices based on the result of FIG.
  • FIG. 3 is a diagram in which the relationship between the two-dimensional electron gas concentration and the composition of the barrier layer 5 is mapped on a ternary phase diagram having three components of InN, AlN, and GaN as vertices based on the result of FIG.
  • FIG. 3 is a diagram in which the relationship between the two-dimensional electron gas concentration and the composition of the barrier layer 5 is mapped on a ternary phase diagram having three components of InN, AlN, and GaN as vertices
  • FIG. 3 is a diagram in which a relationship between a two-dimensional electron gas concentration and a composition of a barrier layer 5 is mapped on a ternary phase diagram having three components of InN, AlN, and GaN as vertices based on the result of FIG. It is a figure for demonstrating how to determine the temperature range of barrier layer formation temperature T2. It is a cross-sectional schematic diagram which shows schematically the structure of the HEMT element 20 which concerns on 2nd Embodiment. It is a figure which illustrates the mobility of the HEMT element 20 which varied the composition of the channel layer 3, the spacer layer 4, and the barrier layer 5 variously.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating the relationship between the thickness of the spacer layer 4 and the mobility of the HEMT element 20.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing the configuration of the HEMT device 10 according to the first embodiment of the present invention.
  • the HEMT element 10 has a configuration in which a substrate 1, a buffer layer 2, a channel layer 3, and a barrier layer 5 are stacked.
  • the buffer layer 2, the channel layer 3, and the barrier layer 5 are all preferably formed epitaxially by MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) (details will be described later).
  • MOCVD metal organic chemical vapor deposition
  • the laminated structure in which the substrate 1, the buffer layer 2, the channel layer 3, and the barrier layer 5 are laminated is also referred to as an epitaxial substrate 10A.
  • the ratio of the thickness of each layer in FIG. 1 does not reflect the actual one.
  • each layer will be described.
  • other epitaxial growth methods such as MBE, HVPE, and LPE can be used as long as each layer can be formed so as to have good crystallinity.
  • a method appropriately selected from various vapor phase growth methods and liquid phase growth methods may be used, or a mode in which different growth methods are used in combination may be used.
  • the substrate 1 can be used without any particular limitation as long as a nitride semiconductor layer with good crystallinity can be formed thereon.
  • a single crystal 6H—SiC substrate is preferably used, but an embodiment using a substrate made of sapphire, Si, GaAs, spinel, MgO, ZnO, ferrite, or the like may be used.
  • the buffer layer 2 is a layer formed of AlN with a thickness of about several hundreds of nanometers in order to improve the crystal quality of the channel layer 3 and the barrier layer 5 formed thereon.
  • the thickness is 200 nm.
  • 0.3 ⁇ y1 ⁇ 1 the crystallinity of the channel layer 3 itself is remarkably deteriorated, and it becomes difficult to obtain the epitaxial substrate 10A and further the HEMT element 10 with good electrical characteristics.
  • a source electrode 6, a drain electrode 7, and a gate electrode 8 are further provided on the barrier layer 5.
  • Each of the source electrode 6 and the drain electrode 7 is a multilayer metal electrode made of Ti / Al / Ni / Au having a thickness of about 10 to 100 nm.
  • the source electrode 6 and the drain electrode 7 are in ohmic contact with the barrier layer 5.
  • the gate electrode 8 is a multi-layer metal electrode made of Pd / Au having a thickness of about 10 to 100 nm.
  • the gate electrode 8 has a Schottky contact with the barrier layer 5.
  • the metal used for the source electrode 6 and the drain electrode 7 is not limited to a multilayer metal made of Ti / Al / Ni / Au as long as good ohmic contact can be obtained with the semiconductor epitaxial substrate in the present invention.
  • Ti / Al / Pt / Au or Ti / Al can be used.
  • the metal used for the gate electrode 8 is not limited to Pd / Au as long as good Schottky contact with the semiconductor epitaxial substrate in the present invention can be obtained.
  • Pd / Ti / Au or Ni / Au can also be used.
  • the interface between the channel layer 3 and the barrier layer 5 becomes a heterojunction interface. Therefore, due to the spontaneous polarization effect and the piezoelectric polarization effect, More specifically, a two-dimensional electron gas region 3e in which a two-dimensional electron gas is present at a high concentration is formed near the interface of the channel layer 3.
  • the interface has an average roughness in the range of 0.1 nm to 3 nm, and the mean square roughness of the surface of the barrier layer 5 for forming the interface is 0.00. It is formed to be in the range of 1 nm to 3 nm.
  • the average roughness is in the range of 0.1 nm to 1 nm
  • the mean square roughness in the 5 ⁇ m ⁇ 5 ⁇ m field of view of the surface of the barrier layer 5 is in the range of 0.1 nm to 1 nm.
  • better ohmic characteristics can be obtained between the source electrode 6 and drain electrode 7 and the barrier layer 5, and better Schottky characteristics can be obtained between the gate electrode 8 and the barrier layer 5.
  • the confinement effect of the two-dimensional electron gas is further enhanced, and a two-dimensional electron gas with a higher concentration is generated.
  • the composition of the group III nitride constituting the channel layer 3 and the barrier layer 5 satisfies a predetermined requirement, so that a two-dimensional electron gas exists at a higher concentration than the conventional one.
  • the HEMT device 10 in which internal stress due to strain is suppressed is realized.
  • a two-dimensional electron gas concentration of 2 ⁇ 10 13 / cm 2 or more is realized. Details of this will be described below.
  • the mobility of the two-dimensional electron gas in the HEMT device 10 is about 300 to 400 cm 2 / Vs.
  • FIG. 6 is a diagram in which the measurement results are plotted against InN molar fraction x2 in the barrier layer 5.
  • the two-dimensional electron gas concentration is measured by the Hall effect method.
  • the composition of the channel layer 3 corresponding to each figure is as follows.
  • FIGS. 2 (a) to 2 (d) show three components of InN, AlN, and GaN based on the results of FIGS. 2 (a) to 2 (d) to clarify the composition range. It is the figure which mapped the relationship between a two-dimensional electron gas concentration and the composition of the barrier layer 5 on the ternary phase diagram to do. For simplification of illustration, data mapping that does not affect the specification of the composition range is omitted in FIGS.
  • the composition of the channel layer 3 corresponding to each figure is as follows.
  • the barrier layer 5 selects a composition within a range surrounded by five straight lines represented by the following formulas in the ternary phase diagram, two-dimensional It is derived that the two-dimensional electron gas concentration in the electron gas region 3e is 2 ⁇ 10 13 / cm 2 or more.
  • the closed region is formed by the straight lines represented by the formulas (1) to (4), and therefore the straight line represented by the formula (5) is irrelevant to the definition of the composition range. It becomes.
  • the epitaxial substrate 10A manufactured so as to satisfy the composition range it is confirmed from the results of X-ray diffraction measurement that the strain in the in-plane direction of the barrier layer 5 is within 1%.
  • the channel layer 3 and the barrier layer 5 are formed with the composition satisfying the above-described composition range, distortion due to internal stress is suppressed, and at the interface between the two layers, This indicates that a two-dimensional electron gas region 3e having a higher concentration than the conventional one of 2 ⁇ 10 13 / cm 2 or more is formed.
  • the barrier layer 5 takes a composition within a range surrounded by five straight lines represented by the following formulas in the ternary phase diagram, It is derived that the two-dimensional electron gas concentration in the two-dimensional electron gas region 3e is 3 ⁇ 10 13 / cm 2 or more.
  • the channel layer 3 and the barrier layer 5 are formed with the composition satisfying the above composition range, this is higher than the conventional value of 3 ⁇ 10 13 / cm 2 or more at the interface between both layers. This indicates that a two-dimensional electron gas region 3e having a concentration is formed.
  • the channel layer 3 and the barrier layer 5 may contain impurities.
  • the channel layer 3 and the barrier layer 5 may contain oxygen atoms in a concentration range of 0.0005 at% (1 ⁇ 10 17 / cm 3 ) or more and 0.05 at% (1 ⁇ 10 19 / cm 3 ) or less.
  • carbon atoms may be contained in a concentration range of 0.0010 at% (2 ⁇ 10 17 / cm 3 ) or more and 0.05 at% (1 ⁇ 10 19 / cm 3 ) or less.
  • the concentration of oxygen atoms and carbon atoms may be smaller than the respective lower limit values in the above-described range, but it is not realistic in view of cost and production yield.
  • the concentration of oxygen atoms and carbon atoms be larger than the respective upper limit values in the above-described range because the crystallinity of each layer is deteriorated to such an extent that the device characteristics are deteriorated.
  • a HEMT device having a high mobility of the two-dimensional electron gas and a small drain leakage current at the time of OFF is realized.
  • the epitaxial substrate 10A can be manufactured using a known MOCVD furnace. Specifically, organic metal (MO) source gases (TMI, TMA, TMG) for In, Al, and Ga, ammonia gas, hydrogen gas, and nitrogen gas can be supplied into the reactor. Use MOCVD furnace.
  • MO organic metal
  • a 6-H—SiC substrate having a (0001) plane orientation and a 2-inch diameter is prepared as the substrate 1, and the substrate 1 is placed on a susceptor provided in a reactor of an MOCVD furnace. After replacing the inside of the reactor with vacuum gas, the atmosphere in the hydrogen / nitrogen mixed flow state is formed while maintaining the reactor pressure at a predetermined value between 5 kPa and 50 kPa (for example, 30 kPa), and then the substrate is raised by susceptor heating. Warm up.
  • the susceptor temperature reaches a predetermined temperature (for example, 1050 ° C.) between 950 ° C. and 1250 ° C. which is the buffer layer formation temperature, Al source gas and NH 3 gas are introduced into the reactor, and the AlN layer as the buffer layer 2 is formed.
  • a predetermined temperature for example, 1050 ° C.
  • 950 ° C. and 1250 ° C. which is the buffer layer formation temperature
  • Al source gas and NH 3 gas are introduced into the reactor, and the AlN layer as the buffer layer 2 is formed.
  • the susceptor temperature is maintained at a predetermined channel layer formation temperature T1 (° C.), and an organic metal source gas and ammonia gas corresponding to the composition of the channel layer 3 are introduced into the reactor.
  • T1 a predetermined channel layer formation temperature
  • the channel layer formation temperature T1 is a value determined according to the value of the AlN molar fraction y1 of the channel layer 3 from a temperature range of 950 ° C. ⁇ T1 ⁇ 1250 ° C.
  • the reactor pressure at the time of forming the channel layer 3 is not particularly limited, and can be appropriately selected from the range of 10 kPa to atmospheric pressure (100 kPa).
  • the susceptor temperature is then maintained at a predetermined barrier layer formation temperature T2 (° C.), and a nitrogen gas atmosphere is formed in the reactor.
  • T2 barrier layer formation temperature
  • the pressure in the reactor is maintained at a predetermined value between 1 kPa and 30 kPa (for example, 10 kPa).
  • the reactor internal pressure is set to a predetermined value between 1 kPa and 20 kPa, the HMET element 10 with low ohmic contact resistance and low gate leakage current (good Schottky contact characteristics) is realized. This is an effect derived from increasing the surface flatness of the barrier layer 5 by reducing the reactor pressure.
  • ammonia gas and an organic metal source gas having a flow rate ratio corresponding to the composition of the barrier layer 5 are introduced into the reactor so that the so-called V / III ratio is a predetermined value between 3000 and 20000.
  • an In x2 Al y2 Ga z2 N layer as the barrier layer 5 is formed to a predetermined thickness.
  • the In x2 Al y2 Ga z2 N layer is formed to have a composition satisfying the expressions (1) to (5).
  • the preferable growth rate range of the barrier layer 5 is 0.01 to 0.1 ⁇ m / h.
  • the interface between the channel layer 3 and the barrier layer 5 has an average roughness in the range of 0.1 nm to 1 nm, and the barrier layer 5
  • the surface has a root mean square roughness in the 5 ⁇ m ⁇ 5 ⁇ m field of view and is in the range of 0.1 nm to 1 nm.
  • the barrier layer formation temperature T2 is in the range of 650 ° C. or higher and 800 ° C. or lower, and is determined according to the InN molar fraction x2 of the barrier layer 5, 800 ⁇ 667 ⁇ x2 (° C.) ⁇ T2 ⁇ 860 ⁇ 667. -It is determined from the temperature range of x2 (° C).
  • FIG. 7 is a diagram for explaining that the barrier layer formation temperature T2 is determined from the temperature range as described above. That is, FIG. 7 shows that the ratio of the flow rate of In source gas to the flow rate of all organometallic source gases (hereinafter referred to as In flow rate ratio) is variously varied in the range of 0.5 to 0.8 and a barrier layer is formed It is the figure which plotted the InN molar fraction x2 in the barrier layer 5 when the susceptor temperature (equivalent to barrier layer formation temperature T2) at the time of carrying out was variously varied with respect to susceptor temperature.
  • the V / III ratio is set to 5000.
  • FIG. 7 shows that the data points are generally located on the same straight line regardless of the In flow rate ratio. This means that a linear function relationship is substantially established between the barrier layer formation temperature T2 and the InN molar fraction x2. Since there is no dependence on the In flow rate ratio, it can be concluded that the InN molar fraction of the barrier layer can be controlled by the barrier layer formation temperature T2 (susceptor temperature) according to such a functional relationship. That is, the barrier layer 5 having a composition as intended can be formed.
  • the barrier layer formation temperature T2 can be determined from the same equation. Even if the variation caused by the disparity between solids of the MOCVD furnace and the heater member used for heating is taken into consideration, by selecting a suitable temperature within a range of ⁇ 30 ° C. with respect to the same formula, The barrier layer 5 having the rate x2 can be reliably formed.
  • the barrier layer 5 can be formed in a wide composition range, for example, the above formula (1) to ( 5) It can be formed with good controllability within the composition range determined by the formula.
  • the barrier layer 5 when the barrier layer 5 is manufactured, nitrogen gas is used as the bubbling gas and carrier gas for the organometallic raw material. That is, the atmosphere gas other than the source gas is made only of nitrogen gas. As a result, the hydrogen-terminated dangling bonds can be made nitrogen-terminated, and the electronic structure of the barrier layer 5 can be maintained in an ideal state. Therefore, the two-dimensional electron gas region 3e is two-dimensional at a high concentration. Generation of electron gas is realized. In addition, it is not preferable to intentionally mix hydrogen gas into the atmosphere when the barrier layer 5 is produced because it causes a decrease in the two-dimensional electron gas concentration.
  • the epitaxial substrate 10A is manufactured.
  • the HEMT element 10 is manufactured using this.
  • each subsequent process is implement
  • an element isolation process is performed in which a portion serving as a boundary between individual elements is removed by etching to a depth of about 400 nm using a photolithography process and an RIE method.
  • Such an element separation process is a process necessary for obtaining a large number of HEMT elements 10 from one epitaxial substrate 10A, and is not an essential process for the present invention.
  • a SiO 2 film is formed on the epitaxial substrate 10A to a predetermined thickness (for example, 10 nm, and then only the SiO 2 film at the locations where the source electrode 6 and the drain electrode 7 are to be formed by a photolithography process. Is removed by etching to form a SiO 2 pattern layer.
  • the source electrode 6 and the drain electrode 7 made of Ti / Al / Ni / Au are formed at respective formation scheduled positions by a vacuum deposition method and a photolithography process.
  • a vacuum deposition method and a photolithography process is performed for several tens of seconds (for example, 30 seconds) in a nitrogen gas atmosphere at a predetermined temperature (for example, 850 ° C.) between 650 ° C. and 1000 ° C. Apply heat treatment.
  • the Pd is deposited at the site where the gate electrode 8 is to be formed by a vacuum deposition method and a photolithography process.
  • a gate electrode 8 made of / Au is formed.
  • the gate electrode 8 is formed as a Schottky metal pattern.
  • the HEMT element 10 is obtained by removing the remaining SiO 2 pattern layer by a photolithography process.
  • an epitaxial substrate is manufactured by determining the composition of the barrier layer so as to satisfy the composition range determined by the equations (6) to (10).
  • a two-dimensional electron gas having a concentration of 3 ⁇ 10 13 / cm 2 or more is prepared.
  • a HEMT element in which the region is formed is realized.
  • the formation of the barrier layer satisfying such a composition range is such that the pressure and V / III ratio are suitably determined in a nitrogen gas atmosphere, and the formation temperature is set to a value within a predetermined range corresponding to the mole fraction of InN. This is preferably realized.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view schematically showing the configuration of the HEMT device 20 according to the second embodiment of the present invention.
  • the HEMT element 20 has a configuration in which a spacer layer 4 is interposed between the channel layer 3 and the barrier layer 5 of the HEMT element 10 according to the first embodiment. Since the components other than the spacer layer 4 are the same as those of the HEMT device 10 according to the first embodiment, detailed description thereof is omitted.
  • a stacked structure in which the substrate 1, the buffer layer 2, the channel layer 3, the spacer layer 4, and the barrier layer 5 are stacked is also referred to as an epitaxial substrate 20A.
  • the spacer layer 4 having a larger band gap than any barrier layer 5 determined by the equations (1) to (5). Is formed.
  • the alloy scattering effect is suppressed, and the concentration and mobility of the two-dimensional electron gas are improved.
  • the discussion about the composition range does not exclude that the spacer layer 4 contains impurities.
  • the spacer layer 4 can also contain these in the same concentration range.
  • two-dimensional electron gas is present at a high concentration at the interface between the channel layer 3 and the spacer layer 4 (more specifically, in the vicinity of the interface of the channel layer 3).
  • a three-dimensional electron gas region 3e is formed. If the composition ranges of the channel layer 3 and the barrier layer 5 of the HEMT element 20 are determined in the same manner as the HEMT element 10 according to the first embodiment, the corresponding composition is also obtained in the two-dimensional electron gas region 3e of the HEMT element 20. The same two-dimensional electron gas as the HEMT device 10 is generated.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating the mobility of the HEMT device 20 in which the compositions of the channel layer 3, the spacer layer 4, and the barrier layer 5 are variously different. Note that the thickness of each spacer layer 4 is 1 nm. In the HEMT element 20, including the case shown in FIG. 9, a mobility of about 1000 to 1400 cm 2 / Vs, which is approximately three times as high as that of the HEMT element 10, is realized.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating the relationship between the thickness of the spacer layer 4 and the mobility of the HEMT element 20.
  • the case where the thickness of the spacer layer 4 is 0 corresponds to the case where the spacer layer is not provided, that is, the first embodiment.
  • FIG. 10 shows that high mobility can be obtained when the spacer layer 4 is formed to a thickness of 0.5 nm to 1.5 nm as described above.
  • the spacer layer 4 is to be formed with a thickness smaller than 0.5 nm, the formation of the layer is insufficient and the effect of confining the two-dimensional electron gas cannot be obtained sufficiently, and the spacer with a thickness larger than 1.5 nm is obtained.
  • the layer 4 it is considered that the film quality of the spacer layer 4 itself deteriorates due to internal stress.
  • FIG. 11 shows two-dimensional electron gas mobility and X-ray diffraction for the HEMT device 20 in which the composition of the channel layer 3 and the barrier layer 5 is variously different and the spacer layer 4 is formed of AlN to a thickness of 1 nm.
  • FIG. 6 is a table showing a list of results of measuring peak half-widths of (0002) and (10-12) planes, specific resistance of channel layer 3, drain leakage current, and off breakdown voltage in a profile.
  • the channel layer 3 contains even a small amount of Al (when y1> 0), its specific resistance increases rapidly, and the drain leakage current at OFF decreases rapidly.
  • the specific resistance is increased by about two orders, and the drain leakage current is It is about 2 orders of magnitude smaller.
  • y1 0.1
  • the mobility of the two-dimensional electron gas hardly changes in the range of 0 ⁇ y1 ⁇ 0.1. This is due to the fact that the crystallinity deterioration of the channel layer accompanying the increase in the AlN mole fraction is not significant, and the mobility deterioration due to alloy scattering (which occurs in the case of mixed crystal materials) due to the relatively low AlN mole fraction. This is thought to be due to the fact that this has not occurred remarkably.
  • the mobility of the two-dimensional electron gas starts to decrease in the range of y1> 0.1, but the change is slow compared with the specific resistance and drain leakage current.
  • maintain similarly in the HEMT element 10 which is not provided with the spacer layer 4.
  • the HEMT device 20 having the above-described structure is manufactured by the same method as the HEMT device 10 according to the first embodiment except for the process related to the formation of the spacer layer 4.
  • the susceptor temperature is set to the spacer layer forming temperature T3 (where T3 is substantially the same as T1), and the reactor is filled with a nitrogen gas atmosphere. Then, the reactor pressure is set to 10 kPa, and then an organometallic source gas and ammonia gas are introduced into the reactor to form an In x3 Al y3 Ga z3 N layer as the spacer layer 4 with a predetermined thickness.
  • the barrier layer 5 is manufactured in the same manner as in the case of manufacturing the epitaxial substrate 10A described above.
  • the channel layer formation temperature T1 is set in the range of 950 ° C. ⁇ T1 ⁇ 1250 ° C.
  • the barrier layer formation temperature T2 is in the range of 650 ° C. ⁇ T2 ⁇ 800 ° C. It is set according to the mole fraction.
  • the spacer layer formation temperature T3 (° C.) is also set to be substantially the same as the channel layer formation temperature T1 (° C.). Therefore, in order to form the barrier layer 5, it is necessary to lower the susceptor temperature after the channel layer 3 or the spacer layer 4 is formed.
  • the surface of the channel layer 3 remains exposed when the temperature is lowered, so that the surface can be etched by the atmospheric gas.
  • the spacer layer 4 is provided at the spacer layer formation temperature T3 substantially the same as the channel layer formation temperature T1 as in the present embodiment, the susceptor temperature is lowered after the formation of the spacer layer 4. Therefore, the spacer layer 4 acts as a protective layer on the surface of the channel layer 3. This is also considered to contribute to the improvement of the mobility of the two-dimensional electron gas.
  • the composition of the channel layer and the barrier layer is determined as in the HEMT device according to the first embodiment, between the channel layer and the barrier layer.
  • a HEMT device having the same high two-dimensional electron gas concentration as the HEMT device according to the first embodiment and improved mobility of the two-dimensional electron gas is provided. Realized.
  • Example 1 the HEMT device 10 according to the first embodiment was produced. Specifically, a plurality of epitaxial substrates 10A having different composition combinations of the channel layer 3 and the barrier layer 5 were produced, and the HEMT device 10 was produced using each of them.
  • the epitaxial substrate 10A In producing the epitaxial substrate 10A, first, a plurality of (0001) plane orientation 2 inch diameter 6H-SiC substrates were prepared as the substrate 1. About each board
  • the susceptor temperature is maintained at a predetermined channel layer forming temperature T1 (° C.) determined in the range of 950 ° C. ⁇ T1 ⁇ 1250 ° C. according to the target composition of the channel layer 3, and the organic metal source gas, ammonia gas, was introduced into the reactor at a flow ratio according to the target composition, and an In x1 Al y1 Ga z1 N layer as the channel layer 3 was formed to a thickness of 2 ⁇ m.
  • the channel layer formation temperatures T1 were 1080 ° C., 1100 ° C., 1130 ° C., and 1180 ° C.
  • the reactor pressure was 10 kPa.
  • an organic metal source gas and ammonia gas were introduced into the reactor at a flow rate ratio corresponding to the target composition, and an In x2 Al y2 Ga z2 N layer as the barrier layer 5 was formed to have a thickness of 15 nm.
  • nitrogen gas was used as the bubbling gas and carrier gas for the organometallic raw material.
  • the V / III ratio was 5000.
  • the susceptor temperature was lowered to near room temperature, the inside of the reactor was returned to atmospheric pressure, the reactor was opened to the atmosphere, and the fabricated epitaxial substrate 10A was taken out.
  • the HEMT device 10 was fabricated using this epitaxial substrate 10A.
  • the HEMT device was designed to have a gate width of 1 mm, a source-gate interval of 0.5 ⁇ m, a gate-drain interval of 7.5 ⁇ m, and a gate length of 1.5 ⁇ m.
  • the part which becomes the boundary of each element was removed by etching to a depth of about 400 nm using a photolithography process and the RIE method.
  • a metal pattern made of Ti / Al / Ni / Au (each of which has a thickness of 25/75/15/100 nm) is formed at a location where the source electrode 6 and the drain electrode 7 are to be formed using a vacuum deposition method and a photolithography process. Thus, the source electrode 6 and the drain electrode 7 were formed.
  • a heat treatment was performed for 30 seconds in a nitrogen gas atmosphere at 850 ° C.
  • the gate electrode 8 was formed as a Schottky metal pattern made of Au (each film thickness was 30/100 nm).
  • the HEMT device 10 was obtained.
  • a passivation film of silicon nitride is formed on the HEMT element 10 using a CVD method and a photolithography process, and then the source electrode 6 of the passivation film, Contact holes were opened at positions corresponding to the drain electrode 7 and the gate electrode 8, and wire bonding was performed.
  • the two-dimensional electron gas concentration and mobility of the plurality of HEMT elements 10 thus obtained were measured by the Hall effect method.
  • FIGS. 3 to 6 are plots of the data shown in FIGS. 2A to 2D (except for a part) in ternary phase diagrams with InN, AlN, and GaN as vertices.
  • the mobility of the two-dimensional electron gas was in the range of 300 to 400 cm 2 / Vs.
  • the barrier layer 5 is formed so as to satisfy the composition range surrounded by the straight lines specified by the above-described formulas (1) to (5) in the ternary phase diagram, and 2 ⁇ 10 13 / cm 3. It was confirmed that a HEMT device that generates a two-dimensional electron gas concentration at a high concentration of 2 or more can be realized.
  • the barrier layer 5 belonging to the composition range represented by the above formulas (1) to (5) in the ternary phase diagram shows the strain in the in-plane direction.
  • the barrier layer 5 is fabricated so as to belong to the composition range represented by the formulas (1) to (5), a HEMT device in which the strain in the barrier layer is suppressed and the two-dimensional electron gas concentration is high is realized. It was confirmed that it was possible.
  • the barrier layer 5 is formed so as to satisfy the composition range surrounded by the straight line specified by the above-mentioned formulas (6) to (10) in the ternary phase diagram, 3 ⁇ 10 13 / cm 2 or more It was confirmed that a HEMT device that generates a two-dimensional electron gas with a higher concentration can be realized.
  • FIG. 12 is a diagram showing a list of the two-dimensional electron gas concentrations of the HEMT device obtained in Example 1 and the HEMT device according to this comparative example obtained in an atmosphere in which hydrogen is mixed. is there.
  • the result about the two types of HEMT element from which the combination of the composition of the channel layer 3 and the composition of the barrier layer 5 differs is shown as a typical example.
  • FIG. 12 also shows the method of mixing hydrogen in this comparative example.
  • Example 2 the HEMT device 20 according to the second embodiment was produced.
  • the same procedure and the same production conditions as in Example 1 were used except that the spacer layer 4 was formed between the channel layer 3 formation step and the barrier layer 5 formation step, with the two additions. Using.
  • the susceptor temperature is maintained at a predetermined spacer layer forming temperature T3, the reactor pressure is set to 10 kPa, and then an organometallic source gas and ammonia gas are introduced into the reactor, thereby An In x3 Al y3 Ga z3 N layer as the layer 4 was formed, and then the channel layer 5 was formed.
  • Each spacer layer formation temperature T3 was set to the same temperature as the channel layer formation temperature T1.
  • the thickness of the spacer layer 4 was set to five levels of 0.3 nm, 0.5 nm, 1 nm, 1.5 nm, and 2 nm.
  • the obtained HEMT device 20 was measured for the concentration and mobility of the two-dimensional electron gas in the same manner as in Example 1, and the X-ray diffraction measurement, the channel layer specific resistance measurement, the drain leakage current measurement, and the off breakdown voltage measurement were performed. .
  • the OFF state was measured with -10 V applied as the gate bias voltage.
  • As the drain leakage current the current value when the source-drain voltage was 100 V was measured.
  • FIG. 9 shows the composition and mobility of the spacer layer 4 for several HEMT elements 20 having different compositions of the channel layer 3 and the barrier layer 5.
  • FIG. 9 shows the results when the spacer layer 4 has a thickness of 1 nm.
  • FIG. 10 shows the relationship between the thickness of the spacer layer 4 and the mobility of the two-dimensional electron gas.
  • FIG. 10 shows the result when an AlN layer is formed as the spacer layer 4. From these results, the HEMT having a spacer layer 4 having a thickness in the range of 0.5 nm to 1.5 nm and having a mobility about 3 to 4 times higher than that of a HEMT element not provided with the spacer layer 4 is provided. It turns out that an element is obtained. In addition, about the two-dimensional electron gas density
  • FIG. 11 shows the drain leakage current and the off breakdown voltage.
  • Example 3 a HEMT device was manufactured in the same procedure as in Example 2 except that the pressure in the reactor when the barrier layer 5 was formed was different. In addition to measuring the two-dimensional electron gas concentration and mobility, the obtained HEMT device was subjected to surface mean square roughness measurement, contact resistance measurement, and gate leakage current measurement using AFM.
  • FIG. 13 is a diagram showing a list of reactor internal pressures and measurement results of the above measurements for the HEMT device obtained in this example.
  • FIG. 13 shows the results of two types of HEMT elements having different combinations of the composition of the channel layer 3 and the composition of the barrier layer 5 as representative examples.
  • Example 4 In this example, a HEMT device was manufactured in the same procedure as in Example 2 except that the V / III ratio when forming the barrier layer 5 was different. In addition to measuring the two-dimensional electron gas concentration and mobility, the obtained HEMT device was subjected to surface mean square roughness measurement, contact resistance measurement, and gate leakage current measurement using AFM.
  • FIG. 14 is a diagram showing a list of the pressure in the reactor and the measurement results of the above measurements for the HEMT device obtained in this example.
  • FIG. 14 shows the results of two types of HEMT elements having different combinations of the composition of the channel layer 3 and the composition of the barrier layer 5 as representative examples.

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Abstract

　良好な二次元電子ガス特性を有し、歪みによる内部応力が低減されてなるエピタキシャル基板を提供する。チャネル層を、Ｉｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ（ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１）で表される第１のIII族窒化物であって、ｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３で定まる範囲内の組成を有するように形成し、障壁層を、Ｉｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ（ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１）で表される第２のIII族窒化物であって、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮを頂点とする三元状態図上において、第１のIII族窒化物の組成（ＡｌＮモル分率）に応じて定まる５つの直線にて囲まれる範囲内にその組成があるように形成する。

Description

半導体素子用エピタキシャル基板、半導体素子、および半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法
　本発明は、III族窒化物半導体により構成される、多層構造を有するエピタキシャル基板、特に、電子デバイス用の多層構造エピタキシャル基板、およびその作製方法に関する。
　窒化物半導体は、高い絶縁破壊電界、高い飽和電子速度を有することから次世代の高周波／ハイパワーデバイス用半導体材料として注目されている。特に、ＡｌＧａＮとＧａＮからなる層を積層することにより形成した多層構造体には、窒化物材料特有の大きな分極効果（自発分極効果とピエゾ分極効果）により積層界面（ヘテロ界面）に高濃度の二次元電子ガス（２ＤＥＧ）が生成するという特徴があることから、係る多層構造体を基板として利用した高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）の開発が活発に行われている（例えば、"Highly Reliable 250W High Electron Mobility Transistor Power Amplifier", TOSHIHIDE KIKKAWA, Jpn. J. Appl. Phys. 44,(2005),4896（非特許文献１）参照）。
　このようなＨＥＭＴ素子あるいはその作製に用いる多層構造体であるＨＥＭＴ素子用基板を実用化するには、電力密度の増大、高効率化などといった性能向上に関連する課題、ノーマリオフ動作化など機能性向上に関連する課題、高信頼性や低価格化といった基本的な課題、など様々な課題を解決する必要がある。各々の課題につき、活発な取組みがなされている。
　例えば、ＨＥＭＴ素子用基板に内在する二次元電子ガスの濃度を大幅に増やすことができれば、ＨＥＭＴ素子の可制御電流密度、すなわち取り扱える電力密度を大幅に向上させることが可能と考えられる。チャネル層をＧａＮにて形成し、障壁層をＡｌＧａＮにて形成するという、最も一般的な構成の窒化物ＨＥＭＴ素子の場合、二次元電子ガス濃度は、障壁層を形成するＡｌＧａＮのＡｌＮモル分率の増加に伴い増加することが知られている（例えば、"Gallium Nitride Based High Power Heterojuncion Field Effect Transistors: process Development and Present Status at USCB", Stacia Keller, Yi-Feng Wu, Giacinta Parish, Naiqian Ziang, Jane J. Xu, Bernd P. Keller, Steven P. DenBaars, and Umesh K. Mishra, IEEE Trans. Electron Devices 48, (2001), 552 （非特許文献２）参照）。
　また、チャネル層をＧａＮにて形成し、障壁層をＩｎＡｌＮにて形成したＨＥＭＴ素子のように、ピエゾ分極効果への依存が小さくほぼ自発分極のみにより高い濃度で二次元電子ガスを生成できる歪の少ない構造を有するＨＥＭＴ素子も注目されている（例えば、"Can InAlN/GaN be an alternative to high power/high temperature AlGaN/GaN devices?", F. Medjdoub, J.-F. Carlin, M. Gonschorek, E. Feltin, M.A. Py, D. Ducatteau, C. Gaquiere, N. Grandjean, and E. Kohn, IEEE IEDM Tech. Digest in IEEE IEDM 2006, 673 （非特許文献３）参照）。
　ＡｌＧａＮ／ＧａＮへテロ構造を有するＨＥＭＴ素子の場合、二次元電子ガス濃度を増やすことを目的としてＡｌＮモル分率の大きなＡｌＧａＮにて障壁層を形成すると、障壁層内部に生じる引張応力が大きくなる。このことは、膜品質の劣化や表面形態の悪化（例えば歪みの増加やクラックの発生など）を招来し、結果として、「期待通りの高い二次元電子ガス濃度が得られない（大きくても２×１０13／ｃｍ2未満に留まる）」、「ショットキーやオーミックなど各種コンタクト特性が悪化する」、「不要な表面準位が形成されデバイス動特性が悪化する」などの諸問題が生じることとなる。
　また、上記Medjdoub et al.に開示されているＩｎＡｌＮ／ＧａＮヘテロ構造のように、ほぼ自発分極のみにより高い二次元電子ガス濃度が得られる積層構造が注目されている。例えば、係る積層構造に関して、チャネル層をＧａＮにて形成すること、ＧａＮのａ軸に格子整合する組成のＩｎxＡｌ1-xＮ（ｘ～０．１８）にて障壁層を形成すること、さらにはチャネル層と障壁層の層間に、ＡｌＮからなる薄いスペーサ層を形成することなどが提案されている。しかしながら、ＩｎＮとＡｌＮの成長温度に違いが大きく両者を含む混晶組成でのエピタキシャル成長の制御が難しいことから、それらを具体的に実現する手段や、その他の効果的な構成例が存在することなどについては明示されていない。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、良好な二次元電子ガス特性を有し、歪みによる内部応力が低減されてなるエピタキシャル基板を提供することを目的とする。
　上記課題を解決するため、本発明の第１の態様では、下地基板と、少なくともＡｌとＧａを含む、Ｉｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ（ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１）なる組成の第１のIII族窒化物からなるチャネル層と、少なくともＩｎとＡｌを含む、Ｉｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ（ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１）なる組成の第２のIII族窒化物からなる障壁層と、を備えるエピタキシャル基板において、前記第１のIII族窒化物の組成がｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３で定まる範囲内にあるとともに、前記第２のIII族窒化物の組成が、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮを頂点とする三元状態図上において、前記第１のIII族窒化物の組成に応じて定まる以下の各式で表される直線にて囲まれる範囲内にあるようにした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000020
　本発明の第２の態様では、第１の態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板において、前記第２のIII族窒化物の組成がＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮを頂点とする三元状態図上において、以下の各式で表される直線にて囲まれる範囲内にあるようにした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000025
　本発明の第３の態様では、第１または第２の態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板において、前記チャネル層と前記障壁層との間に、少なくともＡｌを含み、前記障壁層よりも大きなバンドギャップエネルギーを有する、Ｉｎx3Ａｌy3Ｇａz3Ｎ（ｘ３＋ｙ３＋ｚ３＝１）なる組成の第３のIII族窒化物からなるスペーサ層、をさらに備えるようにした。
　本発明の第４の態様では、第１ないし第３の態様のいずれかに係る半導体素子用エピタキシャル基板において、前記第１のIII族窒化物の組成がｘ１＝０、０＜ｙ１≦０．１で定まる範囲内にあるようにした。
　本発明の第５の態様では、第１ないし第３の態様のいずれかに係る半導体素子用エピタキシャル基板において、前記第１のIII族窒化物の組成がｘ１＝０、０．１＜ｙ１≦０．３で定まる範囲内にあるようにした。
　本発明の第６の態様では、第３の態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板において、前記第３のIII族窒化物の組成がｘ３＝０、０．０１≦ｚ３≦０．０５で定まる範囲内にあるようにした。
　本発明の第７の態様では、第６の態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板において、前記第３のIII族窒化物がＡｌＮであるようにした。
　本発明の第８の態様では、半導体素子において、第１ないし第７のいずれかの態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板の前記障壁層の上に、ソース電極、ドレイン電極、およびゲート電極が設けられてなるようにした。
　本発明の第９の態様では、半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法が、下地基板の上に、少なくともＡｌとＧａを含む、Ｉｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ（ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１）なる組成の第１のIII族窒化物からなるチャネル層をエピタキシャル形成するチャネル層工程と、前記チャネル層の上に、少なくともＩｎとＡｌを含む、Ｉｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ（ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１）なる組成の第２のIII族窒化物からなる障壁層をエピタキシャル形成する障壁層形成工程と、を備え、前記第１のIII族窒化物の組成をｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３で定まる範囲内から選択するとともに、前記第２のIII族窒化物の組成を、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮを頂点とする三元状態図上において、前記第１のIII族窒化物の組成に応じて定まる以下の各式で表される直線にて囲まれる範囲内から選択するようにした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000030
　本発明の第１０の態様では、第９の態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法において、前記チャネル層を形成する温度Ｔ１（℃）を９５０≦Ｔ１≦１２５０なる範囲内で定め、前記障壁層を形成する温度Ｔ２（℃）を、前記第２のIII族窒化物におけるＩｎＮのモル分率ｘ２に応じて定まる、８００－６６７・ｘ２（℃）≦Ｔ２≦８６０－６６７・ｘ２（℃）かつ、６００（℃）≦Ｔ２≦８５０（℃）なる範囲内で定めるようにした。
　本発明の第１１の態様では、第９または第１０の態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法において、前記障壁層形成工程における原料ガス以外の雰囲気ガスを窒素ガスとするようにした。
　本発明の第１２の態様では、第９ないし第１１のいずれかの態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法において、前記チャネル層形成後、前記チャネル層の上に、少なくともＡｌを含み、前記障壁層よりも大きなバンドギャップエネルギーを有する、Ｉｎx3Ａｌy3Ｇａz3Ｎ（ｘ３＋ｙ３＋ｚ３＝１）なる組成の第３のIII族窒化物からなるスペーサ層を形成するスペーサ層形成工程、をさらに備え、前記スペーサ層の上に前記障壁層を形成するようにした。
　本発明の第１３の態様では、第１２の態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法において、前記スペーサ層形成工程における前記スペーサ層の形成温度Ｔ３（℃）を前記チャネル層の形成温度Ｔ１（℃）と略同一にするようにした。
　本発明の第１４の態様では、第９ないし第１３のいずれかの態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法において、前記障壁層形成工程におけるリアクタ内の圧力を１ｋＰａ以上３０ｋＰａ以下とするようにした。
　本発明の第１５の態様では、第１４の態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法において、前記障壁層形成工程におけるリアクタ内の圧力を１ｋＰａ以上２０ｋＰａ以下とするようにした。
　本発明の第１６の態様では、第９ないし第１５のいずれかの態様に係る半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法において、前記障壁層形成工程におけるＶ／III比を５０００以上２００００以下とするようにした。
　本発明の第１ないし第１６の態様によれば、歪による内部応力が少なく、かつ、２×１０13／ｃｍ2以上という従来に比して高い濃度で二次元電子ガスが生成する半導体素子を作製可能なエピタキシャル基板、および当該半導体素子が実現される。
　また、本発明の第２の態様によれば、歪による内部応力が少なく、かつ、３×１０13／ｃｍ2以上というより高い濃度で二次元電子ガスが生成する半導体素子を作製可能なエピタキシャル基板、および当該半導体素子が実現される。
　また、本発明の第３、第６、第７、第１２、および第１３の態様によれば、高い濃度で二次元電子ガスが生成し、かつ高い移動度を有する半導体素子を作製可能なエピタキシャル基板、および当該半導体素子が実現される。
　特に、本発明の第１３の態様によれば、スペーサ層の形成後に障壁層形成温度にまで降温することになるので、スペーサ層を設けない場合に起こる、チャネル層が露出したまま降温を行うことによるチャネル層表面の劣化が、防止できる。
　また、本発明の第４の態様によれば、高移動度を有し、かつ、オフ時のドレインリーク電流が小さい半導体素子を作製可能なエピタキシャル基板、および当該半導体素子が実現される。
　また、本発明の第５の態様によれば、オフ時のドレインリーク電流が小さく、かつ高耐圧の半導体素子を作製可能なエピタキシャル基板、および当該半導体素子が実現される。
　また、本発明の第１０の態様によれば、障壁層形成温度を障壁層の目標組成に応じて定めることで、係る目標組成の障壁層を確実に形成することができる。
第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０の構成を概略的に示す断面模式図である。 二次元電子濃度を測定した結果を、障壁層５におけるＩｎＮモル分率ｘ２に対してプロットした図である。 図２（ａ）の結果に基づき、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮの３成分を頂点とする三元状態図上に、二次元電子ガス濃度と障壁層５の組成との関係をマッピングした図である。 図２（ｂ）の結果に基づき、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮの３成分を頂点とする三元状態図上に、二次元電子ガス濃度と障壁層５の組成との関係をマッピングした図である。 図２（ｃ）の結果に基づき、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮの３成分を頂点とする三元状態図上に、二次元電子ガス濃度と障壁層５の組成との関係をマッピングした図である。 図２（ｄ）の結果に基づき、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮの３成分を頂点とする三元状態図上に、二次元電子ガス濃度と障壁層５の組成との関係をマッピングした図である。 障壁層形成温度Ｔ２の温度範囲の定め方について説明するための図である。 第２の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子２０の構成を概略的に示す断面模式図である。 チャネル層３、スペーサ層４、障壁層５の組成を種々に違えたＨＥＭＴ素子２０の移動度を例示する図である。 スペーサ層４の膜厚とＨＥＭＴ素子２０の移動度との関係について例示する図である。 チャネル層３および障壁層５の組成の異なるＨＥＭＴ素子２０の種々の特性の測定結果を一覧にして示す図である。 障壁層の形成雰囲気の異なるＨＥＭＴ素子についての二次元電子ガス濃度を一覧にして示す図である。 障壁層を形成する際のリアクタ内圧力と、作製されたＨＥＭＴ素子の種々の特性とを一覧にして示す図である。 障壁層を形成する際のＶ／III比と、作製されたＨＥＭＴ素子の種々の特性とを一覧にして示す図である。
　　＜第１の実施の形態＞
　　＜ＨＥＭＴ素子の構成＞
　図１は、本発明の第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０の構成を概略的に示す断面模式図である。ＨＥＭＴ素子１０は、基板１と、バッファ層２と、チャネル層３と、障壁層５とが積層形成された構成を有する。バッファ層２と、チャネル層３と、障壁層５とはいずれも、ＭＯＣＶＤ法（有機金属化学的気相成長法）を用いてエピタキシャル形成される（詳細は後述）のが好適な一例である。以降においては、基板１と、バッファ層２と、チャネル層３と、障壁層５とが積層形成された積層構造体を、エピタキシャル基板１０Ａとも称することとする。なお、図１における各層の厚みの比率は、実際のものを反映したものではない。
　以降においては、各層の形成にＭＯＣＶＤ法を用いる場合を対象に説明を行うが、良好な結晶性を有するように各層を形成できる手法であれば、他のエピタキシャル成長手法、例えば、ＭＢＥ、ＨＶＰＥ、ＬＰＥなど、種々の気相成長法や液相成長法の中から適宜選択した手法を用いてもよいし、異なる成長法を組み合わせて用いる態様であってもよい。
　基板１は、その上に結晶性の良好な窒化物半導体層を形成できるものであれば、特段の制限なく用いることができる。単結晶６Ｈ－ＳｉＣ基板を用いるのが好適な一例であるが、サファイア、Ｓｉ、ＧａＡｓ、スピネル、ＭｇＯ、ＺｎＯ、フェライトなどからなる基板を用いる態様であってもよい。
　また、バッファ層２は、その上に形成されるチャネル層３と障壁層５との結晶品質を良好なものとするべく、ＡｌＮにて数百ｎｍ程度の厚みに形成される層である。例えば、２００ｎｍの厚みに形成するのが好適な一例である。
　チャネル層３は、Ｉｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ（ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１）なる組成のIII族窒化物にて、数μｍ程度の厚みに形成される層である。本実施の形態においては、チャネル層３は、ｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３なる組成範囲をみたすように形成される。０．３＜ｙ１≦１とした場合には、チャネル層３自身の結晶性の劣化が顕著となり、電気特性が良好なエピタキシャル基板１０ＡさらにはＨＥＭＴ素子１０を得ることが困難となる。
　一方、障壁層５は、Ｉｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ（ただし、ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１）なる組成のIII族窒化物にて、数ｎｍ～数十ｎｍ程度の厚みに形成される層である。
　また、ＨＥＭＴ素子１０においては、障壁層５の上にさらに、ソース電極６と、ドレイン電極７と、ゲート電極８とが設けられてなる。ソース電極６とドレイン電極７とは、それぞれに十数ｎｍ～百数十ｎｍ程度の厚みを有するＴｉ／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｕからなる多層金属電極である。ソース電極６およびドレイン電極７は、障壁層５との間にオーミック性接触を有してなる。一方、ゲート電極８は、それぞれに十数ｎｍ～百数十ｎｍ程度の厚みを有するＰｄ／Ａｕからなる多層金属電極である。ゲート電極８は、障壁層５との間にショットキー性接触を有してなる。なお、ソース電極６およびドレイン電極７に用いる金属は、本発明における半導体エピタキシャル基板に対し良好なオーミック性接触が得られる限り、Ｔｉ／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｕからなる多層金属に限定されるものでなく、例えばＴｉ／Ａｌ／Ｐｔ／Ａｕあるいは、Ｔｉ／Ａｌなどを用いることができる。また、ゲート電極８に用いられる金属についても、本発明における半導体エピタキシャル基板に対し良好なショットキー性接触が得られる限り、Ｐｄ／Ａｕに限定されるものでなく、例えばＰｄ／Ｔｉ／ＡｕやＮｉ／Ａｕなども用いることができる。
　このような層構成を有するＨＥＭＴ素子１０においては（エピタキシャル基板１０Ａにおいては）、チャネル層３と障壁層５の界面がヘテロ接合界面となるので、自発分極効果とピエゾ分極効果により、当該界面に（より詳細には、チャネル層３の当該界面近傍に）二次元電子ガスが高濃度に存在する二次元電子ガス領域３ｅが形成される。なお、係る二次元電子ガスを生成させるために、当該界面は、平均粗さが０．１ｎｍ～３ｎｍの範囲にあり、これを形成するための障壁層５の表面の二乗平均粗さが０．１ｎｍ～３ｎｍの範囲にあるように形成される。なお、係る範囲を超えて平坦な界面が形成される態様であってもよいが、コスト面や製造歩留まりなどを考えると現実的ではない。また、好ましくは、平均粗さが０．１ｎｍ～１ｎｍの範囲にあり、障壁層５の表面の５μｍ×５μｍ視野における二乗平均粗さが０．１ｎｍ～１ｎｍの範囲にあるように形成される。係る場合、ソース電極６およびドレイン電極７と障壁層５との間において、より良好なオーミック特性が得られるとともに、ゲート電極８と障壁層５との間において、より良好なショットキー特性が得られる。加えて、二次元電子ガスの閉じこめ効果がさらに高められ、より高濃度の二次元電子ガスが生成する。
　本実施の形態においては、チャネル層３と障壁層５を構成するIII族窒化物の組成が所定の要件を満たすようにすることで、従来よりも高い濃度で二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域３ｅを備える一方で、歪みによる内部応力が抑制されたＨＥＭＴ素子１０が実現される。具体的には、２×１０13／ｃｍ2以上という二次元電子ガス濃度が実現される。これについての詳細は次述する。なお、ＨＥＭＴ素子１０における二次元電子ガスの移動度は、概ね３００～４００ｃｍ2／Ｖｓ程度である。
　　＜チャネル層と障壁層の組成と二次元電子ガス濃度との関係＞
　図２（ａ）～図２（ｄ）は、チャネル層３の組成を固定し、障壁層５の組成を種々に違えて作製した複数のＨＥＭＴ素子１０について、二次元電子濃度（２ＤＥＧ濃度）を測定した結果を、障壁層５におけるＩｎＮモル分率ｘ２に対してプロットした図である。なお、本明細書においては、二次元電子ガス濃度は、ホール効果法により測定するものとする。各図に対応するチャネル層３の組成は以下の通りである。
　　図２（ａ）：ＧａＮ（ｘ１＝ｙ１＝０、ｚ＝１）；
　　図２（ｂ）：Ａｌ0.1Ｇａ0.9Ｎ（ｘ１＝０、ｙ１＝０．１、ｚ１＝０．９）；
　　図２（ｃ）：Ａｌ0.2Ｇａ0.8Ｎ（ｘ１＝０、ｙ１＝０．２、ｚ１＝０．８）；
　　図２（ｄ）：Ａｌ0.3Ｇａ0.7Ｎ（ｘ１＝０、ｙ１＝０．３、ｚ１＝０．７）。
　図２（ａ）～図２（ｄ）からは、２×１０13／ｃｍ2以上という良好な値の二次元電子ガス濃度が得られる組成範囲が存在することが示唆される。そして、各図の関係から、係る組成範囲が、チャネル層３の組成に応じて変わることも示唆される。
　図３、図４、図５、および図６は、係る組成範囲を明確にすべく、図２（ａ）～図２（ｄ）の結果に基づき、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮの３成分を頂点とする三元状態図上に、二次元電子ガス濃度と障壁層５の組成との関係をマッピングした図である。なお、図示の簡略のため、図３～図６においては、組成範囲の特定に影響しないデータのマッピングを省略している。各図に対応するチャネル層３の組成は以下の通りである。
　　図３：ＧａＮ（ｘ１＝ｙ１＝０、ｚ＝１）；
　　図４：Ａｌ0.1Ｇａ0.9Ｎ（ｘ１＝０、ｙ１＝０．１、ｚ１＝０．９）；
　　図５：Ａｌ0.2Ｇａ0.8Ｎ（ｘ１＝０、ｙ１＝０．２、ｚ１＝０．８）；
　　図６：Ａｌ0.3Ｇａ0.7Ｎ（ｘ１＝０、ｙ１＝０．３、ｚ１＝０．７）。
　図３～図６に示したマッピング結果からは、障壁層５が、三元状態図において次に示す各式で表される５つの直線にて囲まれる範囲内の組成を選択すれば、二次元電子ガス領域３ｅにおける二次元電子ガス濃度が２×１０13／ｃｍ2以上となることが導かれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000035
　式（１）、（２）、（３）は、チャネル層３の組成（具体的にはｘ１＝０としたときのｙ１の値）を変数として含んでいるが、これは、２×１０13／ｃｍ2以上という高い二次元電子ガス濃度が実現される障壁層５の組成が、チャネル層３の組成に応じて定まることを意味している。なお、ｙ１＜９／３４のときには、式（１）～（４）で表される直線で閉領域が形成されるので、式（５）で表される直線は、組成範囲の画定には無関係となる。
　一方、係る組成範囲をみたすように作製したエピタキシャル基板１０Ａについては、Ｘ線回折測定の結果から、障壁層５の面内方向の歪みが１％以内であることが確認されている。
　以上のことは、上述の組成範囲をみたす組成にてチャネル層３と障壁層５とが形成されたＨＥＭＴ素子１０においては、内部応力に伴う歪みが抑制されているとともに、両層の界面に、２×１０13／ｃｍ2以上という従来よりも高い濃度の二次元電子ガス領域３ｅが形成されることを指し示している。
　さらに、図３～図６に示したマッピング結果からは、障壁層５が、三元状態図において次に示す各式で表される５つの直線にて囲まれる範囲内の組成をとるときに、二次元電子ガス領域３ｅにおける二次元電子ガス濃度が３×１０13／ｃｍ2以上となることが導かれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000040
　なお、ｙ１＜９／３４のときには、式（６）～（９）で表される直線で閉領域が形成されるので、式（１０）で表される直線は、組成範囲の画定には無関係となる。
　このことは、上述の組成範囲をみたす組成にてチャネル層３と障壁層５とが形成されたＨＥＭＴ素子１０においては、両層の界面に、３×１０13／ｃｍ2以上という従来よりも高い濃度の二次元電子ガス領域３ｅが形成されることを指し示している。
　なお、上述の組成範囲についての議論は、チャネル層３および障壁層５が不純物を含有することを除外するものではない。例えば、チャネル層３と障壁層５は、０．０００５ａｔ％（１×１０17／ｃｍ3）以上０．０５ａｔ％（１×１０19／ｃｍ3）以下という濃度範囲で酸素原子を含んでいてもよいし、０．００１０ａｔ％（２×１０17／ｃｍ3）以上０．０５ａｔ％（１×１０19／ｃｍ3）以下という濃度範囲で炭素原子を含んでいてもよい。なお、酸素原子および炭素原子の濃度は、上述した範囲におけるそれぞれの下限値よりも小さくてもよいが、コスト面や製造歩留まりなどを考えると現実的ではない。一方、酸素原子および炭素原子の濃度が、上述した範囲におけるそれぞれの上限値よりも大きくなることは、デバイス特性の劣化を招く程度にまでそれぞれの層の結晶性が劣化することになり好ましくない。
　　＜チャネル層組成とデバイス特性との関係＞
　上述のように、チャネル層３は、ｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３なる組成範囲をみたすように形成されるが、チャネル層３を、ｘ１＝０、０．０１≦ｙ１≦０．１なる組成範囲をみたすように形成した場合、二次元電子ガスの移動度が高く、かつ、オフ時のドレインリーク電流が小さいＨＥＭＴ素子が実現される。一方、チャネル層３を、ｘ１＝０、０．１≦ｙ１≦０．３なる組成範囲をみたすように形成した場合には、オフ時のドレインリーク電流が小さく、かつ高耐圧のＨＥＭＴ素子が実現される。この点については、より高い移動度が実現される第二の実施の形態においてより詳細に説明する。
　　＜エピタキシャル基板およびＨＥＭＴ素子の作製方法＞
　次に、上述のようなチャネル層３および障壁層５が上述のような組成範囲を有するエピタキシャル基板１０Ａを作製し、さらに係るエピタキシャル基板１０Ａを用いてＨＥＭＴ素子１０を作製する方法を説明する。
　なお、以下においては、１つの基板１から、多数個のＨＥＭＴ素子１０を同時に作製する場合（多数個取りする場合）を対象に説明する。
　エピタキシャル基板１０Ａの作製は、公知のＭＯＣＶＤ炉を用いて行うことができる。具体的には、Ｉｎ、Ａｌ、Ｇａについての有機金属（ＭＯ）原料ガス（ＴＭＩ、ＴＭＡ、ＴＭＧ）と、アンモニアガスと、水素ガスと、窒素ガスとをリアクタ内に供給可能に構成されてなるＭＯＣＶＤ炉を用いる。
　まず、例えば（０００１）面方位の２インチ径の６Ｈ－ＳｉＣ基板などを基板１として用意し、該基板１を、ＭＯＣＶＤ炉のリアクタ内に設けられたサセプタの上に設置する。リアクタ内を真空ガス置換した後、リアクタ内圧力を５ｋＰａ～５０ｋＰａの間の所定の値（例えば３０ｋＰａ）に保ちつつ、水素／窒素混合フロー状態の雰囲気を形成した上で、サセプタ加熱によって基板を昇温する。
　サセプタ温度がバッファ層形成温度である９５０℃～１２５０℃の間の所定温度（例えば１０５０℃）に達すると、Ａｌ原料ガスとＮＨ3ガスをリアクタ内に導入し、バッファ層２としてのＡｌＮ層を形成する。
　ＡｌＮ層が形成されると、サセプタ温度を所定のチャネル層形成温度Ｔ１（℃）に保ち、チャネル層３の組成に応じた有機金属原料ガスとアンモニアガスをリアクタ内に導入し、チャネル層３としてのＩｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ層（ただし、ｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３）を形成する。ここで、チャネル層形成温度Ｔ１は、９５０℃≦Ｔ１≦１２５０℃なる温度範囲から、チャネル層３のＡｌＮモル分率ｙ１の値に応じて定められる値である。なお、チャネル層３形成時のリアクタ圧力には特に限定はなく、１０ｋＰａから大気圧（１００ｋＰａ）の範囲から適宜選ぶことができる。
　Ｉｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ層が形成されると、次いで、サセプタ温度を所定の障壁層形成温度Ｔ２（℃）に保ち、リアクタ内に窒素ガス雰囲気を形成する。その際、リアクタ内圧力は１ｋＰａ～３０ｋＰａの間の所定の値（例えば１０ｋＰａ）に保たれるようにする。なお、リアクタ内圧力は１ｋＰａ～２０ｋＰａの間の所定の値とした場合には、オーミックコンタクト抵抗が低く、ゲートリーク電流の少ない（ショットキーコンタクト特性が良好な）ＨＭＥＴ素子１０が実現される。これは、リアクタ圧力を低くすることにより、障壁層５の表面平坦性が高まることに由来する効果である。
　続いて、アンモニアガスと、障壁層５の組成に応じた流量比の有機金属原料ガスとを、いわゆるＶ／III比が３０００以上２００００以下の間の所定の値となるようにリアクタ内に導入し、障壁層５としてのＩｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ層を所定の厚みに形成する。Ｉｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ層は、（１）式～（５）式を満たす組成を有するように形成される。なお、障壁層５の好ましい成長レートの範囲は０．０１～０．１μｍ／ｈである。
　なお、Ｖ／III比を３０００以上７５００以下の範囲の所定の値とした場合、チャネル層３と障壁層５との界面が、平均粗さが０．１ｎｍ～１ｎｍの範囲にあり、障壁層５の表面の５μｍ×５μｍ視野における二乗平均粗さが０．１ｎｍ～１ｎｍの範囲にあるように形成される。
　ここで、障壁層形成温度Ｔ２は、６５０℃以上８００℃以下の範囲であって、障壁層５のＩｎＮモル分率ｘ２に応じて定まる、８００－６６７・ｘ２（℃）≦Ｔ２≦８６０－６６７・ｘ２（℃）なる温度範囲の中から定められる。
　図７は、障壁層形成温度Ｔ２が上述のような温度範囲から定められることを説明するための図である。すなわち、図７は、全ての有機金属原料ガスの流量に対するＩｎ原料ガスの流量の比（以下、Ｉｎ流量比）を０．５以上０．８以下の範囲で種々に違えるとともに、障壁層を形成する際のサセプタ温度（障壁層形成温度Ｔ２に相当）を種々に違えた場合の、障壁層５中のＩｎＮモル分率ｘ２を、サセプタ温度に対してプロットした図である。なお、Ｖ／III比は５０００としている。
　図７からは、Ｉｎ流量比によらず、データ点が、概ね同一直線上に位置していることがわかる。これは障壁層形成温度Ｔ２とＩｎＮモル分率ｘ２との間に一次関数の関係が実質的に成り立つことを意味している。Ｉｎ流量比に対する依存性がないということから、係る関数関係に従えば、障壁層のＩｎＮモル分率を障壁層形成温度Ｔ２（サセプタ温度）で制御可能であると結論づけられる。すなわち、ねらいの組成通りの組成を有する障壁層５を形成することができる。
　具体的には、図７におけるデータ点の配置状態から、
　　Ｔ２＝８３０－６６７・ｘ２
という式で表される回帰直線が導き出される。従って、原理的には、所望するＩｎＮモル分率ｘ２を定めれば、同式から障壁層形成温度Ｔ２を定めることができる。ＭＯＣＶＤ炉や加熱に用いるヒーター部材の固体間格差によって生じるばらつきを考慮したとしても、同式に対して±３０℃の範囲内で好適な温度を選択するようにすることで、所望するＩｎＮモル分率ｘ２を有する障壁層５を確実に形成することができる。すなわち、８００－６６７・ｘ２（℃）≦Ｔ２≦８６０－６６７・ｘ２（℃）なる関係を満たすようにすることにより、障壁層５を、広い組成範囲で、例えば上述の（１）式～（５）式で定まる組成範囲で、制御性良く形成することができる。
　また、本実施の形態においては、障壁層５の作製に際して、有機金属原料のバブリング用ガス、キャリアガスに、全て窒素ガスを用いるものとする。すなわち、原料ガス以外の雰囲気ガスが窒素ガスのみであるようにする。これにより、水素終端ダングリングボンドを窒素終端とすることができ、障壁層５の電子構造を理想的な状態で維持することができるので、二次元電子ガス領域３ｅにおける、高濃度での二次元電子ガスの生成が実現される。なお、障壁層５の作製に際し、雰囲気に水素ガスを意図的に混入させることは、二次元電子ガス濃度の低下を生じさせるために好ましくない。
　障壁層５が形成されれば、エピタキシャル基板１０Ａが作製されたことになる。
　エピタキシャル基板１０Ａが得られると、これを用いてＨＥＭＴ素子１０を作製する。なお、以降の各工程は、公知の手法で実現されるものである。
　まず、フォトリソグラフィプロセスとＲＩＥ法を用いて個々の素子の境界となる部位を深さ４００ｎｍ程度までエッチング除去する素子分離工程を行う。係る素子分離工程は、１つのエピタキシャル基板１０Ａから多数個のＨＥＭＴ素子１０を得るために必要な工程であって、本発明にとって本質的に必要な工程ではない。
　素子分離工程を行った後、エピタキシャル基板１０Ａの上にＳｉＯ2膜を所定の厚み（例えば１０ｎｍに形成し、続いてフォトリソグラフィプロセスによりソース電極６およびドレイン電極７の形成予定箇所のＳｉＯ2膜のみをエッチング除去してＳｉＯ2パターン層を形成する。
　ＳｉＯ2パターン層を形成した後、真空蒸着法とフォトリソグラフィプロセスとにより、Ｔｉ／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｕからなるソース電極６とドレイン電極７とをそれぞれの形成予定箇所に形成する。次いで、ソース電極６およびドレイン電極７のオーミック性を良好なものにするため、６５０℃～１０００℃の間の所定温度（例えば８５０℃）の窒素ガス雰囲気中において数十秒間（例えば３０秒間）の熱処理を施す。
　係る熱処理の後、フォトリソグラフィプロセスにより、ＳｉＯ2パターン層から、ゲート電極８の形成予定箇所のＳｉＯ2膜を除去したうえで、真空蒸着法とフォトリソグラフィプロセスとにより、該形成予定箇所に、Ｐｄ／Ａｕからなるゲート電極８を形成する。ゲート電極８は、ショットキー性金属パターンとして形成される。
　フォトリソグラフィプロセスにより、残ったＳｉＯ2パターン層を除去することにより、ＨＥＭＴ素子１０が得られる。
　以上、説明したように、本実施の形態によれば、チャネル層を、Ｉｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ（ただしｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１、ｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３）なる組成範囲をみたすように形成するとともに、（１）式～（５）式で定まる組成範囲をみたすように障壁層の組成を定めてエピタキシャル基板を作製すれば、これを用いることで、内部応力に伴う歪みが抑制されているとともに、２×１０13／ｃｍ2以上という、従来よりも高い濃度の二次元電子ガス領域が形成されるＨＥＭＴ素子が実現される。特に、（６）式～（１０）式で定まる組成範囲をみたすように障壁層の組成を定めてエピタキシャル基板を作製した場合には、３×１０13／ｃｍ2以上という濃度の二次元電子ガス領域が形成されるＨＥＭＴ素子が実現される。また、係る組成範囲をみたす障壁層の形成は、窒素ガス雰囲気下において、圧力およびＶ／III比を好適に定めるとともに、形成温度をＩｎＮのモル分率に対応した所定の範囲内の値とすることで、好適に実現される。
　　＜第２の実施の形態＞
　　＜スペーサ層を備えるＨＥＭＴ素子＞
　図８は、本発明の第２の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子２０の構成を概略的に示す断面模式図である。ＨＥＭＴ素子２０は、第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０のチャネル層３と障壁層５の間に、スペーサ層４が介挿された構成を有する。スペーサ層４以外の構成要素については、第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０と同じであるので、その詳細な説明は省略する。なお、以降においては、基板１と、バッファ層２と、チャネル層３と、スペーサ層４と、障壁層５とが積層形成された積層構造体を、エピタキシャル基板２０Ａとも称することとする。
　スペーサ層４は、Ｉｎx3Ａｌy3Ｇａz3Ｎ（ｘ３＋ｙ３＋ｚ３＝１）なる組成を有し、少なくともＡｌを含み、かつ、障壁層５のバンドギャップ以上のバンドギャップを有するIII族窒化物にて、０．５ｎｍ～１．５ｎｍの範囲の厚みで形成される層である。例えば、ｘ３＝０かつ０≦ｚ３≦０．２であるようにスペーサ層４を形成する場合、（１）～（５）式で定まるどのような障壁層５よりもバンドギャップが大きなスペーサ層４が形成される。好ましくは、スペーサ層４はｘ３＝０かつ０≦ｚ３≦０．０５であるように形成される。係る場合、合金散乱効果が抑制され、二次元電子ガスの濃度および移動度が向上する。より好ましくは、スペーサ層４はＡｌＮ（ｘ３＝０、ｙ３＝１、ｚ３＝０）にて形成される。係る場合、スペーサ層４がＡｌとＮの二元系化合物となるので、Ｇａを含む３元系化合物の場合よりもさらに合金散乱効果が抑制され、二次元電子ガスの濃度および移動度が向上することとなる。
　なお、係る組成範囲についての議論は、スペーサ層４が不純物を含有することを除外するものではない。例えば、チャネル層３が上述したような濃度範囲で酸素原子あるいは窒素原子を含む場合には、スペーサ層４も同様の濃度範囲でこれらを含み得る。
　このようにスペーサ層４を備えるＨＥＭＴ素子２０においては、チャネル層３とスペーサ層４の界面に（より詳細には、チャネル層３の当該界面近傍に）二次元電子ガスが高濃度に存在する二次元電子ガス領域３ｅが形成される。ＨＥＭＴ素子２０のチャネル層３および障壁層５の組成範囲を第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０と同じように定めれば、ＨＥＭＴ素子２０の二次元電子ガス領域３ｅにおいても、対応する組成のＨＥＭＴ素子１０と同程度の２次元電子ガスが生成する。
　さらに、係るスペーサ層４を備えるＨＥＭＴ素子２０においては、第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０よりも高い移動度が実現される。図９は、チャネル層３、スペーサ層４、障壁層５の組成を種々に違えたＨＥＭＴ素子２０の移動度を例示する図である。なお、スペーサ層４の厚みはいずれも１ｎｍとしている。ＨＥＭＴ素子２０においては、図９に示す場合も含め、おおよそ１０００～１４００ｃｍ2／Ｖｓ程度という、ＨＥＭＴ素子１０の３倍以上の高い移動度が実現される。
　また、図１０は、スペーサ層４の膜厚とＨＥＭＴ素子２０の移動度との関係について例示する図である。なお、スペーサ層４の膜厚が０の場合とは、スペーサ層を設けていない場合、つまりは第１の実施の形態に相当する。図１０からは、上述したように０．５ｎｍ～１．５ｎｍの厚みにスペーサ層４を形成した場合に高い移動度が得られることがわかる。０．５ｎｍよりも小さい厚みでスペーサ層４を形成しようとする場合、層の形成が不十分となって２次元電子ガスの閉じ込め効果が十分に得られず、１．５ｎｍよりも大きい厚みでスペーサ層４を形成する場合には、内部応力に伴いスペーサ層４自体の膜質が劣化することによると考えられる。
　さらに、図１１は、チャネル層３および障壁層５の組成を種々に違えるとともに、スペーサ層４をＡｌＮにて１ｎｍの厚みに形成したＨＥＭＴ素子２０について、二次元電子ガスの移動度、Ｘ線回折プロファイルにおける（０００２）面および（１０－１２）面のピーク半値幅、チャネル層３の比抵抗、ドレインリーク電流、およびオフ耐圧を測定した結果を一覧にして示す図である。
　図１１からわかるように、チャネル層３がＡｌをわずかでも含むようにした場合（ｙ１＞０の場合）、その比抵抗は急激に増大するとともに、オフ時のドレインリーク電流は急激に減少する。例えば、ｙ１＝０の場合（チャネル層３がＧａＮ）に比べて、ｙ１＝０．０１の場合（チャネル層３がＡｌ0.01Ｇａ0.99Ｎ）は比抵抗が２オーダー程度大きくなり、ドレインリーク電流は２オーダー程度小さくなる。さらに、ｙ１＝０．１の場合（チャネル層３がＡｌ0.1Ｇａ0.9Ｎ）にはｙ１＝０のときに比べて比抵抗は４オーダー程度大きくなり、ドレインリーク電流は３オーダー程度小さくなる。
　その一方で、二次元電子ガスの移動度は、０≦ｙ１≦０．１の範囲ではほとんど変化しない。これは、ＡｌＮモル分率の増加に伴うチャネル層の結晶性劣化が顕著でないこと、および、ＡｌＮモル分率が比較的少ないことにより（混晶材料の場合に生じる）合金散乱に伴う移動度劣化が顕著に起こっていないためであると考えられる。
　また、二次元電子ガスの移動度は、ｙ１＞０．１の範囲で減少し始めるが、比抵抗やドレインリーク電流に比して、その変化は緩やかである。一方、ｙ１の値が大きいほど、オフ耐圧は大きくなり、ｙ１＞０．１の範囲ではｙ１＝０のときの２倍以上のオフ耐圧が得られる。これは、チャネル層３のバンドギャップの増大に伴い、絶縁破壊電界が増大したことによるものである。
　以上のことから、チャネル層３を、ｘ１＝０、０．０１≦ｙ１≦０．１なる組成範囲をみたすように形成することで、二次元電子ガスの移動度が高く、かつ、オフ時のドレインリーク電流が小さいＨＥＭＴ素子２０が実現される。一方、チャネル層３を、ｘ１＝０、０．１＜ｙ１≦０．３なる組成範囲をみたすように形成することで、オフ時のドレインリーク電流が小さく、かつ高耐圧のＨＥＭＴ素子２０が実現される。なお、これらのことは、上述したように、スペーサ層４を備えないＨＥＭＴ素子１０においても同様に成り立つ。これは、図１１に示した各特性が、移動度を除いてはスペーサ層４の有無に依存しないことによるものである。
　　＜スペーサ層を備えるＨＥＭＴ素子の作製＞
　上述のような構造を有するＨＥＭＴ素子２０は、スペーサ層４の形成に係るプロセスを除き、第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０と同様の方法で作製される。
　具体的には、エピタキシャル基板２０Ａを作製するにあたって、チャネル層３までの形成を行った後、サセプタ温度をスペーサ層形成温度Ｔ３とし（ただし、Ｔ３はＴ１と略同一）、リアクタ内を窒素ガス雰囲気に保ち、リアクタ圧力を１０ｋＰａとした後、有機金属原料ガスとアンモニアガスとをリアクタ内に導入して、スペーサ層４としてのＩｎx3Ａｌy3Ｇａz3Ｎ層を所定の厚みに形成する。
　そして、このようにしてスペーサ層４が形成された後、上述のエピタキシャル基板１０Ａを作製する場合の手順と同様に、障壁層５を作製する。
　なお、上述したように、チャンネル層形成温度Ｔ１は９５０℃≦Ｔ１≦１２５０℃の範囲で設定される一方、障壁層形成温度Ｔ２は６５０℃≦Ｔ２≦８００℃の範囲内で障壁層５のＩｎＮモル分率に応じて設定される。また、スペーサ層形成温度Ｔ３（℃）もチャネル層形成温度Ｔ１（℃）と略同一に設定される。従って、障壁層５を形成するにはチャネル層３またはスペーサ層４の形成後、サセプタ温度を下げる必要が生じる。スペーサ層４を設けない第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０の作製過程においては、係る降温時にチャネル層３の表面が露出したままとなるため、雰囲気ガスにより該表面がエッチングされ得る。これに対して、本実施の形態のように、スペーサ層４をチャネル層形成温度Ｔ１と略同一のスペーサ層形成温度Ｔ３にて設ける場合には、スペーサ層４の形成後にサセプタ温度を下げることになるので、スペーサ層４がチャネル層３表面の保護層として作用することになる。このことも、二次元電子ガスの移動度の向上に資するものと考えられる。
　以上、説明したように、本実施の形態によれば、第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子のようにチャネル層と障壁層の組成を定めたＨＥＭＴ素子において、チャネル層と障壁層の間にスペーサ層を設けるようにすることで、第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子と同様の高い二次元電子ガス濃度を有しつつ、かつ二次元電子ガスの移動度が向上してなるＨＥＭＴ素子が実現される。
　（実施例１）
　本実施例では、第１の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子１０を作製した。具体的には、チャネル層３および障壁層５の組成の組み合わせが異なる複数のエピタキシャル基板１０Ａを作製し、それぞれを用いてＨＥＭＴ素子１０を作製した。
　エピタキシャル基板１０Ａの作製にあたっては、まず、基板１として（０００１）面方位の２インチ径６Ｈ－ＳｉＣ基板を複数枚用意した。それぞれの基板１について、ＭＯＣＶＤ炉リアクタ内に設置し、真空ガス置換した後、リアクタ内圧力を３０ｋＰａとし、水素／窒素混合フロー状態の雰囲気を形成した。次いで、サセプタ加熱によって基板を昇温した。
　サセプタ温度が１０５０℃に達すると、Ａｌ原料ガスとアンモニアガスをリアクタ内に導入し、バッファ層２として厚さ２００ｎｍのＡｌＮ層を形成した。
　続いて、サセプタ温度を、チャネル層３の目標組成に応じて９５０℃≦Ｔ１≦１２５０℃の範囲内で定められる所定のチャネル層形成温度Ｔ１（℃）に保ち、有機金属原料ガスとアンモニアガスとを該目標組成に応じた流量比でリアクタ内に導入し、チャネル層３としてのＩｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ層を２μｍの厚みに形成した。なお、チャネル層３の目標組成は、（ｘ１，ｙ１，ｚ１）＝（０，０，１）、（０，０．１，０．９）、（０，０．２，０．８）、（０，０．３，０．７）の４通りとした。それぞれのチャネル層形成温度Ｔ１は、１０８０℃、１１００℃、１１３０℃、１１８０℃とした。
　チャネル層３が得られると、サセプタ温度を、障壁層５の目標組成に応じてＴ２＝８３０－６６７・ｘ２なる式で定められる障壁層形成温度Ｔ２（℃）に保ち、リアクタ内に窒素雰囲気を形成した後、リアクタ圧力を１０ｋＰａとした。次いで有機金属原料ガスとアンモニアガスとを該目標組成に応じた流量比でリアクタ内に導入し、障壁層５としてのＩｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ層を１５ｎｍの厚みを有するように形成した。なお、有機金属原料のバブリング用ガスおよびキャリアガスには、全て窒素ガスを用いた。また、Ｖ／III比は５０００とした。
　障壁層５が形成された後、サセプタ温度を室温付近まで降温し、リアクタ内を大気圧に復帰させた後、リアクタを大気開放して、作製されたエピタキシャル基板１０Ａを取り出した。
　次に、このエピタキシャル基板１０Ａを用いてＨＥＭＴ素子１０を作製した。なお、ＨＥＭＴ素子は、ゲート幅が１ｍｍ、ソース－ゲート間隔が０．５μｍ、ゲート－ドレイン間隔が７．５μｍ、ゲート長が１．５μｍとなるように設計した。
　まず、フォトリソグラフィプロセスとＲＩＥ法を用いて各素子の境界となる部位を深さ４００ｎｍ程度までエッチング除去した。
　次に、エピタキシャル基板１０Ａ上に厚さ１０ｎｍのＳｉＯ2膜を形成し、続いてフォトリソグラフィを用いてソース電極６、ドレイン電極７の形成予定箇所のＳｉＯ2膜をエッチング除去することで、ＳｉＯ2パターン層を得た。
　次いで、真空蒸着法とフォトリソグラフィプロセスとを用い、ソース電極６、ドレイン電極７の形成予定箇所にＴｉ／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｕ（それぞれの膜厚は２５／７５／１５／１００ｎｍ）からなる金属パターンを形成することで、ソース電極６およびドレイン電極７を形成した。次いで、ソース電極６およびドレイン電極７のオーミック性を良好なものにするために、８５０℃の窒素ガス雰囲気中にて３０秒間の熱処理を施した。
　その後、フォトリソグラフィプロセスを用いて、ＳｉＯ2パターン層から、ゲート電極８の形成予定箇所のＳｉＯ2膜を除去し、さらに真空蒸着法とフォトリソグラフィとを用いて、該形成予定箇所に、Ｐｄ／Ａｕ（それぞれの膜厚は３０／１００ｎｍ）からなるショットキー性金属パターンとしてゲート電極８を形成した。
　以上のプロセスにより、ＨＥＭＴ素子１０が得られた。
　なお、デバイス特性の測定を可能とするため、係るＨＥＭＴ素子１０に対して、ＣＶＤ法とフォトリソグラフィプロセスとを用いて、窒化シリコンのパッシベーション膜を形成したうえで、該パッシベーション膜のソース電極６、ドレイン電極７、およびゲート電極８に対応する位置にコンタクトホールを開け、ワイアボンディングを行った。
　このようにして得られた複数のＨＥＭＴ素子１０について、ホール効果法により、二次元電子ガス濃度と移動度とを測定した。
　チャネル層３の組成を固定し、測定によって得られた二次元電子ガス濃度を障壁層５の組成（具体的にはＩｎＮモル分率）に対してプロットしたものが図２（ａ）～図２（ｄ）である。また、図２（ａ）～図２（ｄ）のデータについて（一部を除き）、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮを頂点とした三元状態図にプロットしたものが図３～図６である。なお、二次元電子ガスの移動度は３００～４００ｃｍ2／Ｖｓの範囲の値となった。
　以上の結果から、チャネル層３をＩｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ（ただしｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１、ｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３）なる組成範囲をみたすように形成し、図３～図６に示すように、障壁層５を、三元状態図において上述の（１）式～（５）式で特定される直線で囲まれる組成範囲をみたすように形成することで、２×１０13／ｃｍ2以上という高い濃度で二次元電子ガス濃度が生成するＨＥＭＴ素子が実現できることが確認された。
　一方、エピタキシャル基板１０Ａに対し行ったＸ線回折測定の結果からは、三元状態図で上述の（１）～（５）式が表す組成範囲に属する障壁層５については、面内方向の歪が１％以内であることも確認された。すなわち、（１）～（５）式が表す組成範囲に属するように障壁層５を作製すれば、障壁層内の歪みが抑制されており、かつ、二次元電子ガス濃度の高いＨＥＭＴ素子が実現できることが確認された。
　さらには、障壁層５を、三元状態図において上述の（６）式～（１０）式で特定される直線で囲まれる組成範囲をみたすように形成すれば、３×１０13／ｃｍ2以上というさらに高い濃度の二次元電子ガスが生成するＨＥＭＴ素子が実現できることが確認された。
　（比較例１）
　本比較例においては、障壁層５を形成する際の雰囲気ガスに意図的に水素を混入させること以外は、実施例１と同様の手順でＨＥＭＴ素子を作製した。図１２は、実施例１にて得られたＨＥＭＴ素子と、水素を混入させた雰囲気で得られた本比較例に係るＨＥＭＴ素子とについて、それぞれの二次元電子ガス濃度を一覧にして示す図である。なお、図１２には、代表例として、チャネル層３の組成と障壁層５の組成の組み合わせが異なる２通りのＨＥＭＴ素子についての結果を示している。また、図１２には、本比較例における水素の混入の手法についても併せて示している。
　図１２に示すように、障壁層形成時の雰囲気ガスに水素を混入させたＨＥＭＴ素子については、二次元電子ガス濃度が著しく低下することが確認された。すなわち、障壁層の形成は、水素が存在しない雰囲気、例えば実施例１のように窒素ガス雰囲気にて行うことが有効であることが確認された。
　（実施例２）
　本実施例では、第二の実施の形態に係るＨＥＭＴ素子２０を作製した。なお、チャネル層３の組成を、実施例１に示した４通りに（ｘ１，ｙ１，ｚ１）＝（０，０．０１，０．９９）、（０，０．０５，０．９５）なる２通りを加えた６通りとし、チャネル層３の形成工程と障壁層５の形成工程の間にスペーサ層４の形成工程を設けた他は、実施例１と同様の手順、同様の作製条件を用いた。
　具体的には、チャネル層３の形成後、サセプタ温度を所定のスペーサ層形成温度Ｔ３に保ち、リアクタ圧力を１０ｋＰａとした後、有機金属原料ガスとアンモニアガスをリアクタ内に導入することにより、スペーサ層４としてのＩｎx3Ａｌy3Ｇａz3Ｎ層を形成し、その後、チャネル層５を形成するようにした。なお、スペーサ層４の目標組成は、（ｘ３，ｙ３，ｚ３）＝（０，１，０）、（０，０．９、０．１）の２通りとした。それぞれのスペーサ層形成温度Ｔ３は、チャネル層形成温度Ｔ１と同一の温度とした。また、スペーサ層４の厚みは、０．３ｎｍ、０．５ｎｍ、１ｎｍ、１．５ｎｍ、２ｎｍの５水準とした。
　得られたＨＥＭＴ素子２０について、実施例１と同様に二次元電子ガスの濃度および移動度を測定するとともに、Ｘ線回折測定、チャネル層比抵抗測定、ドレインリーク電流測定、オフ耐圧測定を行った。オフ状態の測定は、ゲートバイアス電圧として－１０Ｖを印加した状態で行った。また、ドレインリーク電流としては、ソース－ドレイン間電圧が１００Ｖの時の電流値を測定した。
　チャネル層３と障壁層５の組成が異なるいくつかのＨＥＭＴ素子２０について、スペーサ層４の組成と移動度とを示したものが図９である。図９においては、スペーサ層４の膜厚はいずれも１ｎｍとした場合の結果を示している。また、スペーサ層４の膜厚と二次元電子ガスの移動度との関係を示したものが、図１０である。図１０においては、スペーサ層４としてＡｌＮ層を形成した場合の結果を示している。これらの結果からは、スペーサ層４を０．５ｎｍ～１．５ｎｍの範囲の厚みのスペーサ層４を設けることで、これを設けないＨＥＭＴ素子に比して移動度が３～４倍程度高いＨＥＭＴ素子が得られることがわかる。なお、二次元電子ガス濃度については、スペーサ層４設けていない実施例１のＨＥＭＴ素子との間に顕著な差異は認められなかった。
　さらに、チャネル層３と障壁層５の組成が異なるいくつかのＨＥＭＴ素子２０について、移動度、Ｘ線回折プロファイルにおける（０００２）面と（１０－１２）面のピーク半値幅、チャネル層比抵抗、ドレインリーク電流、オフ耐圧を示したものが図１１である。図１１の結果からは、チャネル層３を、ｘ１＝０、０．０１≦ｙ１≦０．１なる組成範囲をみたすように形成することで、二次元電子ガスの移動度が高く、かつ、オフ時のドレインリーク電流が小さいＨＥＭＴ素子が実現されること、および、チャネル層３を、ｘ１＝０、０．１≦ｙ１≦０．３なる組成範囲をみたすように形成することで、オフ時のドレインリーク電流が小さく、かつ高耐圧のＨＥＭＴ素子が実現されることが確認された。
　（実施例３）
　本実施例では、障壁層５を形成する際のリアクタ内圧力を違える他は、実施例２と同様の手順でＨＥＭＴ素子を作製した。得られたＨＥＭＴ素子について、二次元電子ガス濃度、移動度を測定したほか、ＡＦＭによる表面二乗平均粗さ測定、コンタクト抵抗測定、ゲートリーク電流測定を行った。図１３は、本実施例にて得られたＨＥＭＴ素子について、リアクタ内圧力と上記各測定の測定結果とを一覧にして示す図である。なお、図１３には、代表例として、チャネル層３の組成と障壁層５の組成の組み合わせが異なる２通りのＨＥＭＴ素子についての結果を示している。
　図１３に示す結果から、障壁層５を形成する際のリアクタ内圧力を１ｋＰａ以上３０ｋＰａ以下とすることで、高い濃度および移動度の二次元電子ガスが生成することが確認された。さらに、リアクタ内圧力を１ｋＰａ以上２０ｋＰａ以下とすることで、オーミックコンタクト抵抗が低く、ゲートリーク電流の少ない（ショットキーコンタクト特性が良好な）ＨＥＭＴ素子が得られることが確認された。これは、リアクタ圧力を低くすることにより、表面平坦性が向上する（表面二乗平均粗さの値が小さくなる）ことによるものと考えられる。
　（実施例４）
　本実施例では、障壁層５を形成する際のＶ／III比を違える他は、実施例２と同様の手順でＨＥＭＴ素子を作製した。得られたＨＥＭＴ素子について、二次元電子ガス濃度、移動度を測定したほか、ＡＦＭによる表面二乗平均粗さ測定、コンタクト抵抗測定、ゲートリーク電流測定を行った。図１４は、本実施例にて得られたＨＥＭＴ素子について、リアクタ内圧力と上記各測定の測定結果とを一覧にして示す図である。なお、図１４には、代表例として、チャネル層３の組成と障壁層５の組成の組み合わせが異なる２通りのＨＥＭＴ素子についての結果を示している。
　図１４に示す結果から、障壁層５を形成する際のＶ／III比を３０００以上２００００以下とすれば、高い濃度および移動度の二次元電子ガスが生成するとともに、デバイス特性も良好なＨＥＭＴ素子が得られることが確認された。

Claims (16)

  1. 　下地基板と、
    　少なくともＡｌとＧａを含む、Ｉｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ（ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１）なる組成の第１のIII族窒化物からなるチャネル層と、
    　少なくともＩｎとＡｌを含む、Ｉｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ（ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１）なる組成の第２のIII族窒化物からなる障壁層と、
    を備えるエピタキシャル基板であって、
    　前記第１のIII族窒化物の組成がｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３で定まる範囲内にあるとともに、
    　前記第２のIII族窒化物の組成が、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮを頂点とする三元状態図上において、前記第１のIII族窒化物の組成に応じて定まる以下の各式で表される直線にて囲まれる範囲内にある、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
  2. 　請求項１に記載の半導体素子用エピタキシャル基板であって、
    　前記第２のIII族窒化物の組成がＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮを頂点とする三元状態図上において、以下の各式で表される直線にて囲まれる範囲内にある、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000009
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000010
  3. 　請求項１または請求項２に記載の半導体素子用エピタキシャル基板であって、
    　前記チャネル層と前記障壁層との間に、少なくともＡｌを含み、前記障壁層よりも大きなバンドギャップエネルギーを有する、Ｉｎx3Ａｌy3Ｇａz3Ｎ（ｘ３＋ｙ３＋ｚ３＝１）なる組成の第３のIII族窒化物からなるスペーサ層、
    をさらに備えることを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板。
  4. 　請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の半導体素子用エピタキシャル基板であって、
    　前記第１のIII族窒化物の組成がｘ１＝０、０＜ｙ１≦０．１で定まる範囲内にあることを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板。
  5. 　請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の半導体素子用エピタキシャル基板であって、
    　前記第１のIII族窒化物の組成がｘ１＝０、０．１＜ｙ１≦０．３で定まる範囲内にあることを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板。
  6. 　請求項３に記載の半導体素子用エピタキシャル基板であって、
    　前記第３のIII族窒化物の組成がｘ３＝０、０≦ｚ３≦０．０５で定まる範囲内にあることを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板。
  7. 　請求項６に記載の半導体素子用エピタキシャル基板であって、
    　前記第３のIII族窒化物がＡｌＮであることを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板。
  8. 　請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の半導体素子用エピタキシャル基板の前記障壁層の上に、ソース電極、ドレイン電極、およびゲート電極が設けられてなる半導体素子。
  9. 　下地基板の上に、少なくともＡｌとＧａを含む、Ｉｎx1Ａｌy1Ｇａz1Ｎ（ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１）なる組成の第１のIII族窒化物からなるチャネル層をエピタキシャル形成するチャネル層工程と、
    　前記チャネル層の上に、少なくともＩｎとＡｌを含む、Ｉｎx2Ａｌy2Ｇａz2Ｎ（ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１）なる組成の第２のIII族窒化物からなる障壁層をエピタキシャル形成する障壁層形成工程と、
    を備え、
    　前記第１のIII族窒化物の組成をｘ１＝０、０≦ｙ１≦０．３で定まる範囲内から選択するとともに、
    　前記第２のIII族窒化物の組成を、ＩｎＮ、ＡｌＮ、ＧａＮを頂点とする三元状態図上において、前記第１のIII族窒化物の組成に応じて定まる以下の各式で表される直線にて囲まれる範囲内から選択する、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000011
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000012
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000013
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000014
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000015
  10. 　請求項９に記載の半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法であって、
    　前記チャネル層を形成する温度Ｔ１（℃）を９５０℃≦Ｔ１≦１２５０℃なる範囲内で定め、
    　前記障壁層を形成する温度Ｔ２（℃）を、前記第２のIII族窒化物におけるＩｎＮのモル分率ｘ２に応じて定まる、
    　　８００－６６７・ｘ２（℃）≦Ｔ２≦８６０－６６７・ｘ２（℃）
    かつ、６００℃≦Ｔ２≦８５０℃
    なる範囲内で定める、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法。
  11. 　請求項９または請求項１０に記載の半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法であって、
    　前記障壁層形成工程における原料ガス以外の雰囲気ガスを窒素ガスとする、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法。
  12. 　請求項９ないし請求項１１のいずれかに記載の半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法であって、
    　前記チャネル層形成後、前記チャネル層の上に、少なくともＡｌを含み、前記障壁層よりも大きなバンドギャップエネルギーを有する、Ｉｎx3Ａｌy3Ｇａz3Ｎ（ｘ３＋ｙ３＋ｚ３＝１）なる組成の第３のIII族窒化物からなるスペーサ層を形成するスペーサ層形成工程、
    をさらに備え、
    　前記スペーサ層の上に前記障壁層を形成する、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法。
  13. 　請求項１２に記載の半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法であって、
    　前記スペーサ層形成工程における前記スペーサ層の形成温度Ｔ３（℃）を前記チャネル層の形成温度Ｔ１（℃）と略同一にする、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法。
  14. 　請求項９ないし請求項１３のいずれかに記載の半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法であって、
    　前記障壁層形成工程におけるリアクタ内の圧力を１ｋＰａ以上３０ｋＰａ以下とする、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法。
  15. 　請求項１４に記載の半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法であって、
    　前記障壁層形成工程におけるリアクタ内の圧力を１ｋＰａ以上２０ｋＰａ以下とする、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法。
  16. 　請求項９ないし請求項１５のいずれかに記載の半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法であって、
    　前記障壁層形成工程におけるＶ／III比を５０００以上２００００以下とする、
    ことを特徴とする半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法。
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