WO1999047969A1 - Dispositif d'affichage a cristaux liquides et son procede de production - Google Patents

Dispositif d'affichage a cristaux liquides et son procede de production Download PDF

Info

Publication number
WO1999047969A1
WO1999047969A1 PCT/JP1999/001432 JP9901432W WO9947969A1 WO 1999047969 A1 WO1999047969 A1 WO 1999047969A1 JP 9901432 W JP9901432 W JP 9901432W WO 9947969 A1 WO9947969 A1 WO 9947969A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
liquid crystal
resin film
substrate
crystal display
layer
Prior art date
Application number
PCT/JP1999/001432
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Yasuhiko Yamanaka
Naohide Wakita
Hiroshi Yamazoe
Takeshi Karasawa
Mariko Kawaguri
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP07006998A external-priority patent/JP3205536B2/ja
Priority claimed from JP13831798A external-priority patent/JP3202192B2/ja
Priority claimed from JP11069732A external-priority patent/JP3072514B2/ja
Priority claimed from JP7136999A external-priority patent/JP3597073B2/ja
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. filed Critical Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Priority to US09/423,543 priority Critical patent/US6304309B1/en
Priority to EP99909292A priority patent/EP0990942A4/en
Publication of WO1999047969A1 publication Critical patent/WO1999047969A1/ja

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133377Cells with plural compartments or having plurality of liquid crystal microcells partitioned by walls, e.g. one microcell per pixel
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1347Arrangement of liquid crystal layers or cells in which the final condition of one light beam is achieved by the addition of the effects of two or more layers or cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553Reflecting elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00Materials and properties
    • G02F2202/02Materials and properties organic material
    • G02F2202/022Materials and properties organic material polymeric
    • G02F2202/023Materials and properties organic material polymeric curable
    • G02F2202/025Materials and properties organic material polymeric curable thermocurable

Definitions

  • the present invention relates to a liquid crystal display element and a method for manufacturing the same, and in particular, it is possible to display a bright color image even with a reflection type by providing a plurality of liquid crystal layers on one substrate.
  • the present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same. Background technology
  • liquid crystal display devices display images by controlling the light transmitted to each pixel by combining a twisted nematic liquid crystal and a polarizing plate. Have been.
  • the liquid crystal display element that displays a color image has a microphone that transmits red, green, or blue light corresponding to each of the three adjacent pixels. By setting up a filter, a color image can be displayed by additive color mixing.
  • Japanese Patent Laid-Open Nos As shown in Japanese Patent Publication No. 84224, each color is used with a dichroic dye.
  • a guest-host mode liquid crystal display device that controls the absorption and transmission of light has been proposed.
  • This liquid crystal display device is composed of a plurality of panels each having a liquid crystal layer containing dichroic dyes of different colors. Specifically, three liquid crystal panels, each containing a liquid crystal containing a dichroic dye of cyan, yellow, or yellow, are sandwiched between a pair of glass substrates, and all layers are stacked.
  • This type of guest-host mode liquid crystal display device displays bright and vivid colors because light is not absorbed by the color filter or the polarizing plate. It is also suitable for reflective liquid crystal display devices.
  • each pixel is formed when the pixels become finer. Because the thickness of the glass substrate is relatively large compared to the pixels, the effect of parallax increases, and color shift occurs when the displayed image is viewed from an angle. There are issues.
  • a so-called polymer-dispersed liquid crystal display element as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-337643 has been proposed. Proposed.
  • a resist host or a host material is provided on a substrate 1291 as shown in FIG.
  • the liquid crystal layer is formed by laminating liquid crystal layers 1295 to 1297 in which the liquid crystal 1299 is dispersed and held to be solidified.
  • drive electrodes 1229 to 12 connected to drive elements provided on one substrate 1291 corresponding to each liquid crystal layer 1295 to 1297. 9 4 is formed.
  • the parallax is not required between the liquid crystal layers 1295 to 1297 so that a glass substrate is not required.
  • a guest-host mode liquid crystal display element free from color shift can be obtained.
  • such a polymer-dispersed liquid crystal display element is required to disperse and maintain the guest-host liquid crystal 1299 in the resist material or the polymer material 128.
  • the ratio of the resist material or the high-molecular material 128 in the liquid crystal layer 122 to 297 becomes large (the ratio of the guest host liquid crystal 129 to the It becomes smaller.) For this reason, there is a problem that the actual aperture ratio becomes small and it is difficult to increase the contrast ratio.
  • a liquid crystal display device as shown in FIG. 80 in Japanese Patent Application No. 9-127057.
  • a film-like sealing plate 111-111 is provided on a substrate 111 as a supporting member (speaker) 111-111.
  • Liquid crystal 1 1 2 5-1 1 1 between the substrate 1 1 0 1 and the sealing plate 1 1 1 3 and between each sealing plate 1 1 1 3 to 1 1 1 5 27 is enclosed.
  • the film-like sealing plates 11 13 to 11 15 supported by the supporting members 111 to 111 as described above, the glass is reduced.
  • the supporting members 111 to 110 of the liquid crystal display element as described above are, for example, provided for each layer as a substrate 111 or a sealing plate 111, 113, or A photosensitive resin is applied on 114, and only the part that forms the support member 110-111 is polymerized and cured by mask exposure, and then the other parts are developed. It is formed by removing.
  • the supporting members 1 1 108 to 1 1 1 1 1 1 1 1 If they are not formed at the same position, the sealing plates 1 1 1 3 to 1 1 1 5 will not be reliably supported. Specifically, the positioning accuracy of the supporting members 111 to 111 is not sufficient.
  • the supporting members 111, 110 If the position is shifted, as shown in Fig. 81 (b), depending on the pressure when the sealing plate 111 and the substrate 111 are bonded together, etc.
  • the sealing plates 1 1 1 3... are deformed or the amount of displacement is large
  • the supporting members 1 1 0 2 of the second display layer 1 1 2 2 as shown in FIG. 9 penetrates into the first display layer 111, and the structures of the first display layer 111 and the second display layer 112 are destroyed. Therefore, when the support members 108-110 of each layer are formed by mask exposure as described above, it is necessary to perform accurate mask alignment.
  • the support members 1108... are areas where the light transmittance is not controlled, in order to increase the aperture ratio, the support members 1108-11 in the pixel are required. It is preferable to make the area occupied by 10 as small as possible, but in order to do so, it is necessary to further improve the positioning accuracy of the mask. Specifically, for example, when the support members 110... Are formed to have a size of 7 m square, if the displacement of the support members 110. Destruction of the 1st display layer 1 1 1 7 etc. will occur. Therefore, it is necessary to align the mask so that the above-mentioned misalignment is 3 / m or less.
  • the present inventors have already invented a liquid crystal display element which has solved the problem of the liquid crystal display element shown in FIG. 79, and applied for such an invention (Japanese Patent Application No. 9-127507). It is doing.
  • the invention according to Japanese Patent Application No. 9-112757 is an invention on which the present invention is based, and comprises a liquid crystal layer filled with liquid crystal between a substrate and a sealing film. In this configuration, the sealing film is supported by the support member.
  • the ratio of the liquid crystal in the liquid crystal layer can be increased, and the effective aperture ratio is increased and the contrast ratio is increased as compared with the conventional example. And came out.
  • the invention underlying the present invention is characterized by the following method (1) or (2) as a method for forming a sealing film on a support member.
  • the sealing film is released from the surface of the plate member and sealed.
  • the mold release was not performed smoothly, and the transfer of the sealing film did not occur, resulting in a decrease in the yield.
  • the transfer film becomes Occurs because it is not transferred to the top.
  • the area occupied by the support member be as small as possible in order to increase the aperture ratio.
  • the adhesion area between the support member and the transfer film is also reduced, so that the force is concentrated on the small area when releasing the mold, and transfer and release cannot be performed. was there.
  • the solid film when the solid film is formed on the substrate on which the support member is formed, the solid film may be thinly covered on the support member. Since the solid film was sandwiched between the sealing film and the sealing film, the adhesion was not performed, and the sealing film was lifted, which reduced the yield.
  • the support member and the sealing film may be smoothly bonded to each other. If the area of the liquid crystal display device is increased, the aperture ratio becomes lower, so that the brightness and contrast ratio of the liquid crystal display element are deteriorated, and the display quality is reduced. Therefore, it is desirable that the area occupied by the support member in the pixel be 10% or less of the pixel area. In this case, the sealing film only adheres in a small area on the support member, and the other portions float in the air, so that the adhesion between the support member and the sealing film is reduced. If it was not enough, it would cause the yield to decrease as described above.
  • the step of bonding the support member on the substrate and the sealing film and forming a gap between the substrate and the sealing film involves sealing with a small area on the support member. Since it was necessary to bond and bond the membranes, there was difficulty in bonding.
  • thermobonding As a method of bonding the resin film to the substrate, there is a thermal bonding (heat seal). Adhesion by thermal bonding is performed by using a so-called laminating machine by passing a laminated substrate and a resin film between at least one of the heated rollers. In addition, the resin film is bonded on the board due to the thermoplasticity of the resin film.This is an effective method when the board and the resin film are bonded without gaps. is there. When an attempt is made to bond a support member and a resin film as a sealing film using this method, the resin film or the support member needs to have thermoplasticity. .
  • the resin film softens and deforms according to the shapes of the substrate and the support member, and only on the support member. Did not allow the resin film to adhere.
  • the support member was heated to a temperature having thermoplasticity, the softened support member was crushed by laminating.
  • the resin film or the supporting member is made to have thermoplasticity, a gap for sealing the liquid crystal cannot be formed between the resin film and the substrate. The gap has become extremely narrow.
  • liquid crystal display elements are thin and light, they are widely used as displays for portable information terminals. Since the liquid crystal panel itself is a light-receiving element (or non-light-emitting element) that does not emit light by itself, a liquid crystal display element generally has a reflector disposed on the back of the liquid crystal panel to improve the reflection of external light. Reflective liquid crystal display elements, which are used for display, and transmissive liquid crystal display elements, in which a package light is placed on the back of the liquid crystal panel to project the light of the package light for display. it can.
  • a liquid crystal can be driven at a low voltage of several volts, and in the case of the above-mentioned reflective liquid crystal display element, display is performed using external light without using a backlight. Power consumption is extremely low.
  • the three colors of cyan, magenta, and yellow are displayed based on the so-called subtractive color mixing principle.
  • the present inventors have disclosed a reflective color liquid crystal display device in which three host liquid crystal layers are laminated (for example, Japanese Patent Application No. Hei 6-8266324).
  • the reflective color liquid crystal display element is provided between a lower substrate 1301 and an upper substrate 132, each of which is cyan, yellow, or yellow. It comprises three liquid crystal layers 1303 to 1305 filled with one guest-host liquid crystal.
  • a thin film transistor (hereinafter referred to as a TFT element) 1306 to 1308 and a first pixel electrode 1309 serving also as a reflection film are provided on the lower substrate 1301.
  • a first insulating film 1311 supported by the first photosensitive polyimide 1310 is formed on the lower substrate 1301. It is provided.
  • a second pixel electrode 1312 and a second photosensitive polyimide 1314 are provided on the first insulating film 1311. The second pixel electrode 1312 is connected to the TFT element 1307 via the opening 1313.
  • a third insulating film 1315 supported by the second photosensitive polyimide 1314 is provided.
  • a third pixel electrode 1316 and a third photosensitive polyimide 1317 are provided on the third insulating film 1315.
  • the third pixel electrode 13 16 is connected to the TFT element 13 08 via the opening 13 18.
  • a common electrode 1319 is provided on the third photosensitive polyimide 1317.
  • a voltage is applied to the first liquid crystal layer 13 03 by the first pixel electrode 13 09 and the second pixel electrode 13 12 on the substrate, and the second liquid crystal layer 13 4 is applied with a voltage by the second pixel electrode 1312 and the third pixel electrode 1316, and the third liquid crystal layer 1305 is connected to the third pixel electrode 1316 and the common electrode.
  • the voltage is applied by 13 19.
  • the above-mentioned conventional reflective color liquid crystal display element has room for improvement with respect to the following points. That is, in general, the yield tends to decrease as the process proceeds, for example, a liquid crystal layer is sequentially laminated on a TFT array substrate. Therefore, if a defect or the like is found in the liquid crystal layer, even the expensive TFT array substrate is discarded, resulting in an increase in cost.
  • the pattern of the pixel electrodes formed on the substrate is a simple matrix liquid crystal such as TN (Twisted Nematic) or STN (Super Twisted Nematic), it is suitable for the model. Therefore, it is necessary to perform an etching process so that the formation pattern of the pixel electrode is different. Therefore, the pixel electrode forming process becomes complicated, and the manufacturing cost of the liquid crystal panel is reduced. This has prevented the reduction of product costs.
  • the plastic substrate itself is expensive, and the heat resistance is inferior to that of a glass substrate or the like, making it difficult to form or process a transparent electrode. As a result, the cost is higher. Presentation of the invention
  • the group of the present invention has been made in view of the above-mentioned situation, and does not require a mask positioning step when forming a support member, and can reduce manufacturing costs. It is another object of the present invention to provide a liquid crystal display element and a method of manufacturing the same, which can easily increase the contrast ratio by reducing the area occupied by the support member.
  • the present invention is bright, has a high contrast ratio, and can be applied to a reflective liquid crystal display element, so that there is no color shift due to parallax, and the method is simple. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display element and a method for manufacturing the same, which are capable of improving the production yield.
  • Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display element which simplifies a contact hole forming step and enables reliable conduction between an electrode and a conductive member. It is the purpose.
  • the present invention can reduce or prevent the occurrence of wrinkles in the resin film due to the formation of the electrodes on the resin film by the sniffing process.
  • An object is to provide a liquid crystal display element.
  • an object of the present invention is to provide a liquid crystal display element which can improve the yield and reduce the production cost, and a method for producing the same.
  • the invention according to claim 1 of the present invention is directed to a method in which a pixel electrode and a driving element connected to the pixel electrode are formed on an upper surface.
  • a liquid crystal is sealed between the substrate and the resin film, and an adhesive layer interposed between the plurality of support members and the resin film to bond the resin film and the support member.
  • the gap is provided between the substrate and the resin film, and the liquid crystal is sealed in the gap to form the liquid crystal layer. Therefore, the ratio of the liquid crystal in the liquid crystal display element is increased. Thus, the effective aperture ratio is increased, and a high contrast ratio and a bright display can be realized.
  • the adhesive layer develops thermoplasticity and bonds the support member and the resin film, the resin film deforms along the support member, and a gap for enclosing the liquid crystal is formed.
  • the narrowing can be prevented beforehand, and the substrate and the resin film are maintained at a constant interval. Therefore, the thickness of the liquid crystal layer is kept constant, and the display performance is improved.
  • the invention according to claim 2 includes a transparent substrate on which a pixel electrode and a driving element connected to the pixel electrode are formed on an upper surface, and a plurality of resin films disposed above the substrate. Therefore, a common electrode is formed on the upper surface of the resin film at the uppermost position, and a pixel electrode is formed on the upper surface of the other resin films.
  • a plurality of liquid crystal layers formed by filling liquid crystal in gaps formed by interposing a large number of columnar supporting members between the substrate and the resin film and between the resin films. And each of the resin filters is provided on the upper surface of the substrate.
  • a liquid crystal display element having a structure in which the liquid crystal display element and the driving element are electrically connected to each other, wherein an adhesive layer is interposed between the support members and the resin film, and the adhesive layer is formed of The adhesive layer develops thermoplasticity to obtain an adhesive state between the resin film and the support member.
  • the support member existing between the substrate and the resin film, and the resin film The supporting member existing between the films is characterized by being located at substantially the same position with respect to a plane parallel to the substrate.
  • a multi-layer liquid crystal display element using a resin film which has the same function as the first aspect of the invention, is configured.
  • the support member in which the support member exists between the substrate and the resin film and the support member in which the support member exists between the resin films are substantially at the same position with respect to a plane parallel to the substrate. For this reason, the support members are arranged in a straight line in the direction perpendicular to the substrate. As a result, the resin film of each layer can be reliably supported, and the deformation of the support member due to the displacement of the support member between the layers and the destruction of the liquid crystal layer can be prevented. .
  • the invention according to claim 3 or 4 is the liquid crystal display element according to claim 1 or 2, wherein the resin film has a more thermoplastic property than a non-thermoplastic material or an adhesive layer.
  • the support member is a material having a higher temperature at which the material develops, and the support member is made of a material having no thermoplasticity or a material having a higher temperature at which the material develops thermoplasticity than the adhesive layer. Also, it is characterized in that it is cured before bonding.
  • the invention according to claim 5 is the liquid crystal display element according to claim 2, wherein the liquid crystal layer and the resin film are laminated in three sets each, and the liquid crystal forming the three liquid crystal layers is It is characterized by being a guest-host liquid crystal containing dichroic dyes of different colors.
  • liquid crystal display element capable of full-color display is configured.
  • the invention according to claim 6 or 7 is the liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein the substrate is a transparent substrate, and the support member and the adhesive layer support the surface of the substrate.
  • a light-shielding film is formed at the member forming position, and the light-shielding film is a photomask, which is a positive type photoresist formed by a photolithography method. And.
  • the position accuracy of the support member is high, so that the area occupied by the support member can be reduced and the contrast ratio can be increased. Easy.
  • the invention according to claim 8 or 9 is the liquid crystal display element according to claim 1 or 2, wherein the substrate is a transparent substrate, and the support member and the adhesive layer are support members on a substrate surface.
  • a light-shielding film is formed in a portion other than the formation portion. This light-shielding film is used as a photomask, and is a negative type photo resist formed by a photolithography method. And. Also in this configuration, the positional accuracy of the support member is improved as in the invention described in claim 6 or 7.
  • the invention according to claim 10 or 11 is the liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein the distance between the supporting members present in a pixel region among the plurality of supporting members is: 1 5 ⁇ m to l 0 0 ⁇ m It is characterized by being within.
  • the reason for regulating the distance between the support members is that if the distance between the support members is too large, the resin film will sag between the support members and the distance between the substrate and the resin film will be constant. This is because they cannot be maintained and cause a decrease in color blur and contrast ratio.
  • the spacing between the support members is too small, the number of support members is too large, which causes a decrease in the aperture ratio.
  • the invention according to claim 12 or 13 is characterized in that, in the liquid crystal display element according to claim 1 or 2, the thickness of the resin film is 0.5 m to 10 / zm.
  • the thickness of the resin film is regulated for the following reasons. That is, when the average of the thickness of the resin film is smaller than 0.5 m, wrinkles are easily generated in the resin film. If the average thickness of the resin film is larger than 1 ⁇ ⁇ ⁇ , the voltage drop in the resin film becomes too large compared to the voltage applied to the liquid crystal layer. .
  • the specific resistance of the resin film is specified for the following reason. That is, when the specific resistance of the resin off I Lum is 1 0 1 ° ⁇ . Cm by Ri yet large, Ri Do large active voltage drop in the resin off Lee Lum compared to the voltage applied to the liquid crystal layer Because it is too much.
  • the invention according to claim 16 or 17 is the liquid crystal display element according to claim 2 or claim 5, wherein the plurality of resin films are resin films having optical anisotropy.
  • the resin film is characterized in that the slow axes of the resin film are all arranged in the same direction. According to the above configuration, light attenuation due to optical anisotropy of the resin film can be suppressed, and a bright display can be realized.
  • the invention according to claim 18 or 19 is the liquid crystal display element according to claim 1 or 2, wherein the resin film has air permeability, and the common electrode has a reflective property. It is made of a material, and also has a feature that it also functions as a shielding film for preventing oxygen and moisture in the outside air from entering the element via the resin film.
  • the invention according to claim 20 or 21 is the liquid crystal display element according to claim 1 or 2, wherein the resin film has air permeability, and oxygen and moisture in the outside air are reduced by the resin film.
  • a shielding film is formed on the common electrode to prevent intrusion into the element through the common electrode.
  • the invention according to claim 22 or 23 is the liquid crystal display device according to claim 20 or 21, wherein the common electrode is a transparent electrode, and the shielding film is a metal material having reflection characteristics. It is characterized by comprising a reflector.
  • the invention according to claim 24 or 25 is the liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein the common electrode is a transparent electrode, and a large number of fine electrodes are formed on the surface of the common electrode.
  • a transparent resin layer having an uneven shape is formed, and a reflective film having an uneven shape according to the surface shape is formed on this resin layer. It is characterized by the fact that is formed.
  • the light reflection characteristic of the reflection film becomes diffusive, and the deterioration of display performance due to the reflection of the light source can be prevented as compared with the case where the reflection film is specular. it can.
  • the adhesive layer is made of a thermoplastic material, and the adhesive layer
  • the resin film and the support member are bonded together by expressing thermoplasticity.
  • a transparent resin layer having a large number of fine irregularities on the surface is formed on the upper surface of the resin film. On this resin layer, the uneven shape according to the surface shape Reflective film Ri Contact is formed, it features that you reflecting film this also serves as a common electrode.
  • the invention according to claim 27 provides a substrate on which a pixel electrode and a driving element connected to the pixel electrode are formed on an upper surface, and a plurality of resin films disposed above the substrate.
  • a pixel electrode is formed on the upper surface of another resin film other than the uppermost resin film, such a plurality of resin films, a substrate and a resin film.
  • Driving elements corresponding to the pixel electrodes on each of the resin films are provided on the upper surface of the substrate, and three-dimensional elements provided in association with the pixel electrodes on the resin films are provided.
  • a liquid crystal display element having a structure in which a pixel electrode on the resin film and a driving element are electrically connected by wiring, and an adhesive layer is provided between each of the support members and the resin film.
  • the adhesive layer is made of a material having thermoplasticity, and the adhesive layer exhibits thermoplasticity to obtain an adhesive state between the resin film and the support member.
  • the supporting member existing between the resin film and the supporting member and the supporting member existing between the resin films are located at substantially the same position with respect to the plane parallel to the substrate, and On the upper surface of the resin film, a transparent film with many fine irregularities A characteristic resin layer is formed, and a reflective film having an uneven shape corresponding to the surface shape is formed on the resin layer, and the reflective film also serves as a common electrode. .
  • the invention according to claim 28 is a method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein a number of columnar support members are provided on a transparent substrate on which a pixel electrode and a driving element connected to the pixel electrode are formed.
  • a resin film bonding step of bonding the resin film on the support member while maintaining a gap between the substrate and the resin film and
  • a common electrode forming step of forming a common electrode on the upper surface of the film and a liquid crystal sealing step of sealing liquid crystal between the substrate and the resin film.
  • an extremely thin resin film can be easily bonded to the support member.
  • the liquid crystal is sealed in the gap between the substrate and the resin film to form the liquid crystal layer, so that the ratio of the liquid crystal in the liquid crystal display element can be increased, and the liquid crystal layer can be substantially increased.
  • the liquid crystal display element having a high contrast ratio and a high contrast ratio and a bright display can be manufactured.
  • a resin film is used as a sealing film, and the resin film is bonded to a supporting member via an adhesive layer. In this way, it is possible to prevent a decrease in the production yield which may cause a problem beforehand.
  • the invention according to claim 29 is a method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein a large number of support members are formed on a transparent substrate on which a pixel electrode and a driving element connected to the pixel electrode are formed.
  • a supporting member forming step of forming, an adhesive layer forming step of forming an adhesive layer on each of the supporting members, and a resin film laminated on the supporting member via the adhesive layer, and heated in this state thus, a resin film bonding step of bonding the resin film on the support member while maintaining a gap between the substrate and the resin film; and Forming an opening in the film; forming a pixel electrode on the resin film; and forming a corresponding drive element on the substrate and a pixel on the resin film through the opening.
  • a process of electrically connecting the electrodes and A laminating step of alternately laminating a region for enclosing a crystal and a resin film wherein a step of forming a support member on the resin film bonded to the substrate; and Forming an adhesive layer, bonding a resin film on the support member, forming an opening in the resin film, and forming a pixel electrode on the resin film. And a pair on the substrate through the opening.
  • the step of electrically connecting the corresponding drive element and the pixel electrode on the resin film is performed at least once so that the liquid crystal sealing region and the resin film can be connected to each other.
  • a support member is further formed on such a laminating step, and a resin film laminated last in the laminating step, and an adhesive layer is formed on the support member. Bonding a topmost resin film on the support member, forming a common electrode on the topmost resin film, forming a liquid crystal sealing region between the substrate and the resin film, And injecting a liquid crystal into a liquid crystal sealing region between the resin films.
  • a multi-layer liquid crystal display element having the same function as the invention described in claim 28 can be manufactured.
  • the invention according to claim 30 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 29, wherein, in the step of forming the opening, reactive ion etching is used. An opening is formed in the resin film.
  • the invention according to claim 31 or 32 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 28 or claim 29, wherein the resin film bonding step is performed by heating the liquid film. A step of pressing the resin film by the roller.
  • the invention according to claim 33 or 34 is the method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 32, wherein the temperature at which the adhesive layer exhibits thermoplasticity is the resin film. Is lower than the temperature at which The heating roller is used to heat the adhesive layer to a temperature higher than the temperature at which the adhesive layer develops plasticity and lower than the temperature at which the resin film develops plasticity.
  • the adhesive layer is plasticized by the heated mouth lines, and the resin film is adhered to the support member via the adhesive layer.
  • the support member and the resin film are not plasticized, it is possible to prevent the resin film from being deformed along the support member or the support member from being broken. Therefore, it is possible to easily attach the resin film to the support member while maintaining a gap corresponding to the height of the support member.
  • the invention according to claim 35 or 36 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 32, wherein at least a surface portion of the heated roller has rigidity. It is characterized by being made of materials.
  • the resin film is not deformed by the support member and the resin film is not deformed, and the resin film is adhered to the support member in a smooth state.
  • the thickness of the liquid crystal layer can be made uniform, and display unevenness and defects can be prevented.
  • the invention according to claim 37 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 28, wherein the supporting member forming step includes forming a light-shielding film at a supporting member forming portion on the substrate surface. After coating the light-shielding film and applying a first photoresist to the surface of the substrate, exposing the light-shielding film as a photomask from the back side of the substrate and then exposing the first positive resist 1 Is developed with a developing solution, and the first post-type resist is cured to form a support member on the substrate.
  • the adhesive layer forming step includes the step of: After applying the second resist, the light-shielding film is exposed from the back side of the substrate as a photomask, and then the second positive resist is developed with a developing solution. And a step of forming an adhesive layer on the support member. According to the above configuration, it is not necessary to align the mask between the support member and the adhesive layer, the adhesive layer can be easily formed on the support member, and the manufacturing process can be simplified.
  • the invention according to claim 38 or 39 is the method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 28 or claim 29, wherein the resin layer forming step and the resin film bonding are performed.
  • a resin film having an adhesive layer coated on one surface in advance is prepared, and the resin film is coated with the adhesive layer so that the surface covered with the adhesive layer faces the support member. Then, the resin film is attached to the support member by superimposing the resin film on the support member and heating in this state.
  • the step of forming an adhesive layer on the support member is not required, and the manufacturing process can be simplified.
  • the invention according to claim 40 or 41 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 28 or claim 29, wherein in the supporting member forming step, the plurality of supporting members are formed. It is characterized in that the support member existing in the pixel region is formed to have a width equal to or greater than the height.
  • the roller is used to pass through the laminate when the resin film is overlaid on the support member.
  • the support member can be prevented from being destroyed by one pressure, and the production yield can be increased.
  • the invention according to claim 42 or 43 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 28 or claim 29, wherein the thickness of the resin film is 0.5 mm. m to 10 m.
  • the thickness of the resin film is regulated for the following reasons. In other words, if the average thickness of the resin film is smaller than 0.5 // m, This is because the film is apt to wrinkle. If the average thickness of the resin film is larger than 1 ⁇ ⁇ ⁇ , the voltage drop in the resin film will be too large compared to the voltage applied to the liquid crystal layer. is there.
  • the invention according to claim 44 or 45 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 28 or claim 29, wherein a main component of the resin film is a polyester resin. It is characterized by the following.
  • the invention according to claim 46 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 28, wherein the step of bonding the support member and the resin film on the substrate includes the step of: It is characterized in that a vent is formed for ventilating the gap between the resin film and the outside and the outside.
  • the invention according to claim 47 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 29, wherein the step of bonding the support member and the resin film on the substrate includes the step of: Forming a ventilation hole for ventilating the gap between the resin film and the outside, and bonding the resin film to the support member on the resin film during the step of bonding the resin film to the outside; It is characterized by forming a ventilation port for ventilating the gap between each other and the outside.
  • the invention according to claim 48 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 46, wherein a portion of the liquid crystal display element around the display portion on the substrate is left unpartially adhered. By bonding the resin film and the resin film, a portion not bonded is provided as a vent.
  • the air vent can be easily formed, and the manufacturing process can be simplified.
  • the invention according to claim 49 is the method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 47, wherein the resin is formed around a display portion on the substrate except for a part that is not bonded.
  • the film and the resin film are bonded to each other, so that a portion not bonded is provided as a vent.
  • the air vent can be easily formed, and the manufacturing process can be simplified.
  • the invention according to claim 50 or 51 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 48 or claim 49, wherein the inner wall of the vent is subjected to a treatment for reducing surface tension. This is the feature.
  • the invention according to claim 52 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 46, wherein the substrate and the resin film are bonded to each other around a display portion on the substrate, and Liquid crystal sealed area between resin films is once sealed After that, a through hole is formed in a part other than the display part of the resin film to form a ventilation port.
  • the ventilation port can be easily formed, and the manufacturing process can be simplified.
  • the invention according to claim 53 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 47, wherein the substrate, the resin film, and the resin film are arranged around a display portion on the substrate. After sealing the liquid crystal encapsulation area between the substrate and the resin film and between the resin film and the resin film, make through holes in the resin film other than the display part. It is characterized by being formed as a vent.
  • the ventilation port can be easily formed, and the manufacturing process can be simplified.
  • the invention according to claim 54 or 55 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 46 or 47, further comprising a step of closing the vent.
  • the invention according to claim 56 is a method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein a number of columnar support members are provided on a transparent substrate on which a pixel electrode and a driving element connected to the pixel electrode are formed. Forming a support member, forming an adhesive layer on each of the support members, and laminating a resin film on the support member via the adhesive layer, and heating in this state Accordingly, a bonding step of bonding the resin film on the support member while maintaining a gap between the substrate and the resin film, and a step of bonding the resin film on the upper surface of the resin film.
  • a reflective film having a diffusive property can be easily formed on the liquid crystal layer.
  • the invention according to claim 57 is a method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein a large number of columnar supports are provided on a transparent substrate on which a pixel electrode and a driving element connected to the pixel electrode are formed.
  • a support member forming step of forming a member, an adhesive layer forming step of forming an adhesive layer on each of the support members, and a resin film laminated on the support member via the adhesive layer, and heated in this state By doing so, a laminating step of laminating the resin film on the support member while maintaining a gap between the substrate and the resin film, and an opening in the resin film. Forming a pixel electrode on the resin film and forming a corresponding drive element on the substrate and a pixel electrode on the resin film through the opening.
  • a laminating step of alternately laminating a region to be bonded and a resin film wherein a step of forming a support member on the resin film laminated on the substrate; and forming an adhesive layer on the support member Forming a pixel electrode on the resin film, forming an opening in the resin film, bonding a resin film on the support member, forming an opening in the resin film, and forming a pixel electrode on the resin film.
  • the step of electrically connecting the corresponding drive element on the substrate and the pixel electrode on the resin film through the opening is performed at least once.
  • Forming Forming an adhesive layer on the support member and bonding the uppermost resin film on the support member, and applying a photoresist on the upper surface of the uppermost resin film.
  • a reflective film having a diffusive property can be easily formed on the liquid crystal layer.
  • An invention according to claim 58 is a resin film structure, wherein a plurality of resin films including at least two resin films on which electrodes are formed are laminated, In a liquid crystal display element having a structure in which a liquid crystal layer is interposed between films, contact holes are formed through the entire laminated resin film, and at least a portion of each of the predetermined electrodes is formed. The conductive members formed on the inner peripheral surface of the contact hole are in contact with the exposed portions, protruding into the contact hole. Then, the predetermined electrodes are electrically connected to each other.
  • the contact holes are formed by penetrating all the laminated resin films, so that any electrodes on the laminated resin films can be connected to each other. This will be possible.
  • the contact area between the electrode and the conductive member increases. Therefore, reliable conduction between the electrode and the conductive member can be obtained.
  • a liquid crystal display element with improved reliability with respect to the electrical connection state can be obtained.
  • the invention according to claim 59 is the liquid crystal display element according to claim 58, wherein the resin film comprises at least the first resin film and the second resin film. And the diameter of the contact hole of the second resin film is larger than the diameter of the contact hole of the first resin film adjacent to the second resin film.
  • the first resin film is formed so as to be large, and is characterized in that the electrode on the first resin film protrudes into the contact hole and is exposed.
  • the inner peripheral surface of the contact hole has a stepped shape, and the electrode on the first resin film forms a step surface. Therefore, the electrodes and the conductive members are reliably conducted.
  • the invention according to claim 60 is a liquid crystal display device having a structure in which a plurality of resin films on which electrodes are formed are laminated and a liquid crystal layer is interposed between the resin films, wherein all of the laminated resin films are provided.
  • a plurality of contact holes penetrating are formed, and predetermined electrodes among the plurality of electrodes are connected to each other through a conductive member formed on an inner peripheral surface of the contact hole. It is characterized by being electrically connected.
  • the present invention is particularly effective when a complicated three-dimensional wiring structure is required.
  • the invention according to claim 61 is the liquid crystal display element according to claim 60, wherein the predetermined electrode is exposed in a contact hole.
  • a conductive member is connected to the portion.
  • the invention according to claim 62 is characterized in that, in the liquid crystal display element according to claim 61, the predetermined electrode is protruded and exposed in a contact hole.
  • the contact area between the electrode and the conductive member is further increased. Therefore, more reliable conduction between the electrode and the conductive member can be obtained.
  • the invention according to claim 63 provides a substrate on which at least the first and second driving elements are formed, and a first resin foil on which at least the first electrode is formed. And a second resin film on which a second electrode is formed to be laminated on the first resin film, between the substrate and the resin film, and between the substrate and the resin film.
  • a liquid crystal display element having a structure in which a liquid crystal layer is interposed between films, at least the first resin film and the second resin film are laminated in a state where the first resin film and the second resin film are laminated.
  • the voltage applied to the electrode can be controlled by the drive element.
  • the invention according to claim 64 is the liquid crystal display element according to claim 63, wherein the first and second electrodes are exposed in a contact hole. And a conductive member is connected to the exposed portion.
  • the first and second electrodes and the conductive member are reliably conducted.
  • the invention according to claim 65 is the liquid crystal display element according to claim 64, wherein the first and second electrodes protrude and are exposed in the contact holes. Characterize.
  • the contact area between the first and second electrodes and the conductive member becomes larger. It will be even bigger. Therefore, more reliable conduction between the first and second electrodes and the conductive member can be obtained.
  • the invention according to claim 66 is the liquid crystal display element according to claim 65, wherein the diameter of the contact hole of the second resin film is smaller than that of the first resin film. It is characterized in that the contact hole is also formed with a large diameter.
  • the inner peripheral surface of the contact hole has a stepped shape, and the electrode on the first resin film forms a step surface. Therefore, conduction between the electrode and the conductive member is ensured.
  • the voltage applied to each pixel electrode can be controlled by the driving element on the substrate, and a multi-layer liquid crystal display element using a resin film can be obtained.
  • the invention according to claim 68 is the liquid crystal display element according to claim 67, wherein the pixel electrode is exposed inside the contact hole for each contact hole.
  • the conductive member is connected to the exposed portion.
  • the contact area between the electrode and the conductive member increases due to the configuration in which the conductive member contacts the exposed portion of the pixel electrode. Therefore, reliable conduction between the electrode and the conductive member can be obtained. As a result, a liquid crystal display device having a multilayer structure with improved reliability with respect to the electrical connection state can be obtained.
  • the invention according to claim 69 is the liquid crystal display device according to claim 68, wherein the pixel electrode protrudes into the contact hole for each contact hole. It is characterized by being exposed.
  • the invention according to claim 70 is the liquid crystal display device according to claim 69, wherein the diameter of the contact hole of the upper resin film is smaller than that of the contact of the lower resin film. The feature is that the diameter of the hole is large.
  • the inner peripheral surface of the contact hole is stepped, and the electrode on the lower resin film forms a step surface. Therefore, the pixel electrode and the conductive member are reliably conducted.
  • the invention according to Claims 71, 72, 73, and 74 is characterized in that, in the liquid crystal display element, the electrode is made of a material having resistance to driving. It is characterized in that the contact hole is formed by a dry etching process.
  • the invention according to claim 75 is a method for manufacturing a liquid crystal display element, comprising: a resin film laminating step of laminating a plurality of resin films on which electrodes are formed; and a laminated resin film.
  • a conductive treatment step of electrically connecting predetermined electrodes to each other.
  • a plurality of sets of desired electrodes can be electrically connected only by performing the contact hole forming step once. Therefore, the contact hole forming step can be simplified as compared with the conventional example.
  • the invention according to claim 76 is a method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein the first electrode is formed on a substrate on which at least the first and second driving elements are formed.
  • the first resin film and the second electrode are formed.
  • a resin film laminating step of laminating the second resin film and the second resin film in this order, and a first resin film that penetrates at least the first resin film and the second resin film.
  • a contact hole forming step of forming a first contact hole, a first conductive member is filled in the first contact hole, and the second contact hole is filled with the first contact hole.
  • a second conductive member, and the first drive element is electrically connected to the first electrode through a first conductive member, and the second drive member is electrically connected to the first electrode through a second conductive member.
  • the invention according to claim 77 is a method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein a plurality of resin foils on which electrodes made of a material having resistance to dry etching are formed. Films are laminated, a contact hole is formed in the laminated resin film, and a predetermined electrode of the plurality of electrodes is electrically connected to each other through the contact hole.
  • a method of manufacturing a resin film structure that is electrically connected comprising: forming an electrode on the resin film only with respect to the predetermined electrode; Removing the electrode portion where the through hole is formed from the resin film so that the removal area is larger than the removal area of the lower electrode; and Forming contact holes by contacting. To. The electrode has resistance to draining, and the resin film has no resistance.
  • the resin film is removed by the dry etching, but the electrodes are not removed.
  • only a predetermined electrode is removed in a range larger than the lower electrode removal range.
  • the contact hole is opened, only a predetermined electrode protrudes into the contact hole and is exposed. Therefore, a reliable conduction state between the predetermined electrode and the conductive member can be obtained, and the reliability of the electrical connection between the predetermined electrodes is improved.
  • the invention according to claim 78 is a liquid crystal display element, comprising: a resin film; a wrinkle-reducing layer provided on the resin film and having impact resistance to spatter; And an electrode made of an inorganic material formed on the wrinkle alleviating layer by a method.
  • the invention according to claim 79 is the liquid crystal display element according to claim 78, characterized in that the thickness of the resin film is smaller than 10 m.
  • the thickness of the resin film is regulated as described above for the following reasons. In other words, when the thickness is less than 10 ⁇ m, the impact resistance to spatter is extremely small, and wrinkles are remarkably generated without a wrinkle reducing layer. is there.
  • the invention according to claim 80 is the liquid crystal display device according to claim 78, wherein the relaxation layer is made of an organic resin containing silica particles or an acrylic resin.
  • an organic resin or an acrylic resin containing silica particles is Since the impact resistance to spatter is great, wrinkles can be reliably prevented.
  • a liquid crystal display device having a resin film without wrinkles is configured. As a result, unnecessary scattering due to wrinkles of the resin film does not occur, and display characteristics can be improved.
  • the invention according to claim 82 is a substrate made of a transparent material, on which a reflective film is formed, and a sealing plate provided on a side of the substrate on which the reflective film is formed,
  • a liquid crystal display device having a liquid crystal layer provided between the substrate and a sealing plate, wherein an opening is formed in the reflective film, and the substrate and the sealing are formed.
  • the photosensitive resin is exposed through the opening at a position where the opening of the reflective film is formed between the sealing plate and the sealing plate. It is characterized in that a supporting member for supporting is provided.
  • the position accuracy of the support member is high, so that it is easy to reduce the area occupied by the support member and increase the contrast ratio. Can be used.
  • the invention according to claim 83 is the liquid crystal display device according to claim 82, wherein the photosensitive resin is a negative resist.
  • the invention according to claim 84 is the liquid crystal display element according to claim 83, wherein the liquid crystal layer includes a polymer and a liquid crystal dispersed and held in the polymer. It is characterized by including.
  • the liquid crystal layer is formed by the liquid crystal that has been consumed by the exposure of the mixed solution to form the support member, so that the substantial aperture ratio is large, and It is possible to obtain a liquid crystal display element having a higher last ratio.
  • the invention according to claim 87 is the liquid crystal display device according to claim 86, wherein three sets of the liquid crystal layer and the sealing plate are provided, and each of the liquid crystal layers is a cyan liquid, a cyan liquid, and a liquid crystal layer. It is characterized in that it contains a guest-host liquid crystal containing dichroic dyes and liquid crystals of different colors from each other.
  • the invention according to claim 88 wherein a step of forming a reflective film having the opening on the substrate; and a step of forming a photosensitive resin layer on the substrate on which the reflective film is formed.
  • Forming the photosensitive resin layer exposing the photosensitive resin layer from the substrate side through the opening of the reflective film, and curing the photosensitive resin layer. Removing the unexposed portions by development to form the support member, bringing the sealing plate into close contact with the support member, and applying a liquid crystal between the substrate and the sealing plate. And a step of forming the liquid crystal layer by sealing the liquid crystal layer.
  • the invention of claim 89 is the method of manufacturing a liquid crystal display element of claim 88, characterized in that the photosensitive resin layer is formed from a negative resist. .
  • the invention according to claim 90 is the method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 88, wherein the step of forming the liquid crystal layer includes a step of forming a liquid crystal and a photosensitive material between the substrate and the sealing plate. Enclosing a mixed solution containing a molecular precursor, and exposing the mixed solution from the sealing plate side to cure the polymer precursor in the mixed solution, thereby obtaining a polymer and Forming the liquid crystal layer containing the liquid crystal dispersed and held in the polymer, and fixing the sealing plate to the substrate.
  • the substrate and the sealing plate can be easily and securely fixed by the polymer cured by the exposure.
  • the invention according to claim 91 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 88, wherein the step of bringing the sealing plate into close contact with the supporting member includes the supporting member or the sealing plate. A step of applying an adhesive to at least one of them, and a step of fixing the sealing plate to the substrate.
  • the invention according to claim 92 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 91, wherein the bonding step includes at least one of the support member and the sealing plate.
  • the method is characterized in that it includes a step of applying an adhesive to the substrate.
  • the substrate and the sealing plate can be easily and reliably fixed without using a mixed solution containing a liquid crystal and a photosensitive polymer precursor.
  • the actual aperture ratio can be increased, and a liquid crystal display element with a higher contrast ratio can be manufactured.
  • the invention according to claim 93 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 88, wherein a step of forming a new photosensitive resin layer on the sealing plate; and A step of exposing from the substrate side through the opening of the reflective film and the already formed support member and curing, and an exposure by shielding the reflective film in the new photosensitive resin layer A step of forming a new supporting member by removing a portion which has not been formed by development, and a step of bringing a new sealing plate into close contact with the new supporting member; The step of enclosing liquid crystal and forming a new liquid crystal layer between the new sealing plate and the new liquid crystal layer is performed at least once, thereby forming a plurality of liquid crystal layers. And are characterized. As a result, a liquid crystal display element capable of displaying a single color image can be manufactured.
  • the invention of claim 94 is a step of forming a reflective film having the opening on the substrate, and an auxiliary support member in a predetermined area on the substrate other than the area where the opening of the reflective film is formed.
  • Forming a liquid crystal a step of adhering the sealing plate to the auxiliary support member, and sealing a mixed solution containing a liquid crystal and a photosensitive polymer precursor between the substrate and the sealing plate.
  • the support member is formed at the position of the opening without fail, and the positional accuracy of the support member can be easily increased.
  • the area occupied by the support member can be reduced without causing destruction, etc., and the liquid crystal layer depends on the liquid crystal remaining after the formation of the support member by exposure to the mixed solution. Since the liquid crystal display element is formed by the above method, a substantial aperture ratio can be increased, and a liquid crystal display element having a higher contrast ratio can be manufactured. In addition, since it is not necessary to align the mask as in the case where a separate mask is used, manufacturing costs can be reduced.
  • the invention according to claim 96 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 94, wherein a new auxiliary support member is provided on the already formed sealing plate at a position corresponding to the already formed auxiliary support member.
  • a feature is that a plurality of liquid crystal layers are formed.
  • the liquid crystal layer is formed by the liquid crystal remaining after the formation of the support member by the exposure of the mixed solution, so that the substantial aperture ratio is large and the contrast is high.
  • a liquid crystal display element having a higher ratio can be manufactured.
  • liquid crystal display device capable of displaying a color image can be manufactured.
  • the invention of claim 99 has a substrate made of a transparent material, a sealing plate provided facing the substrate, and a liquid crystal layer provided between the substrate and the sealing plate.
  • a liquid crystal display element wherein a light-shielding film is formed in a predetermined region of the substrate, and a photosensitive resin is formed between the substrate and the sealing plate at a position where the light-shielding film is formed.
  • a support member for supporting the sealing plate which is formed by exposing a portion where the light-shielding film is not formed.
  • the position accuracy of the support member is high, so that it is easy to reduce the area occupied by the support member and increase the contrast ratio. Can be used.
  • the invention according to claim 100 is the liquid crystal display element according to claim 99, wherein the photosensitive resin is a positive resist.
  • the invention of claim 101 is the liquid crystal display element of claim 99. Further, the light-shielding film is characterized by being formed from a black resist.
  • the invention according to claim 102 is the liquid crystal display element according to claim 99, wherein the liquid crystal layer includes a polymer and a liquid crystal dispersed and held in the polymer.
  • the invention according to claim 103 is the liquid crystal display element according to claim 99, wherein a plurality of the liquid crystal layers and a sealing plate are provided in a stack, and the light shielding film is provided between the sealing plates.
  • a support member for supporting each sealing plate formed by exposing the photosensitive resin through the area where the light-shielding film is not formed is provided at the position where It is characterized by the fact that
  • liquid crystal display device capable of displaying a single color image can be configured.
  • the invention according to claim 104 wherein a step of forming a light-shielding film in a predetermined region on the substrate, a step of forming a photosensitive resin layer on the substrate on which the light-shielding film is formed, Exposing the photosensitive resin layer of the unformed portion from the substrate side, and removing the exposed portion of the photosensitive resin layer by development to form the light shielding film.
  • the support member is formed at the position of the opening without fail, and the positional accuracy of the support member can be easily increased. Therefore, the liquid crystal layer due to the misalignment of the support member is formed. Thus, the area occupied by the support member can be reduced without causing breakage or the like, and a liquid crystal display element having a high contrast ratio can be manufactured. In addition, since there is no need to position the mask as in the case where a separate mask is used, manufacturing costs can be reduced.
  • the invention according to claim 105 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 104, wherein the photosensitive resin layer is formed from a positive resist. are doing.
  • the invention of claim 106 is the method for manufacturing a liquid crystal display element of claim 104, wherein the step of forming the liquid crystal layer comprises: a step of forming a liquid crystal and a photosensitive layer between the substrate and the sealing plate. Encapsulating a mixed solution containing the polymer precursor and the polymer solution by exposing the mixed solution from the sealing plate side and curing the high molecular precursor in the mixed solution. And forming the liquid crystal layer containing liquid crystal dispersed and held in the polymer, and fixing the sealing plate to the substrate. ing.
  • the invention of claim 107 is the method for manufacturing a liquid crystal display element of claim 104, wherein a step of forming a new photosensitive resin layer on a sealing plate, and the light-shielding film are formed. Exposing the portion of the new photosensitive resin layer that does not exist from the substrate side; Removing the exposed portion by development to form a new support member at the position where the light-shielding film is formed; and bringing a new sealing plate into close contact with the new support member. The step of sealing the liquid crystal and forming a new liquid crystal layer between the already formed sealing plate and the new sealing plate is performed at least once. In addition, a plurality of liquid crystal layers are formed.
  • liquid crystal display device capable of displaying a color image can be manufactured.
  • the invention according to claim 108 is a liquid crystal display device, comprising: a liquid crystal between a substrate having a common electrode provided on an inner surface thereof and a sealing plate supported by a support member provided on the common electrode. And a display layer formed by providing a pixel electrode on a surface of the sealing plate opposite to the surface facing the liquid crystal layer, and a non-linear structure for driving the liquid crystal layer. An element electrically connected to the non-linear element, an output electrode for outputting a drive voltage for driving the liquid crystal layer to the pixel electrode, and an electrode arranged to face the substrate.
  • a connection means having an electrical connection function and a fixed connection function, wherein the connection means electrically connects the pixel electrode to the drive electrode.
  • the configuration is essentially different from a configuration in which a liquid crystal layer is formed on an array substrate having a non-linear element as in a conventional liquid crystal display element.
  • This is a configuration in which an array substrate having a non-linear element is fixedly connected to the array substrate by connecting means. Therefore, since the display layer and the array substrate are independently configured, even if a display defect is found in, for example, a liquid crystal layer, even the array substrate on which the nonlinear element is formed is discarded. Need Absent. As a result, a liquid crystal display device with an improved yield can be provided at low cost.
  • the invention according to claim 109 is the liquid crystal display element according to claim 108, wherein the connection means is an anisotropic conductive adhesive.
  • Liquid crystal is filled between a first sealing plate provided with a first pixel electrode on a surface opposite to the surface facing the common electrode and opposite to the surface facing the common electrode, thereby forming a first liquid crystal layer; The first sealing plate, and formed on the first sealing plate.
  • Liquid crystal is filled between a surface supported by the second support member and a second sealing plate provided with a second pixel electrode on a surface facing the first pixel electrode and a surface opposite to the first pixel electrode.
  • the liquid crystal display device has a structure in which two liquid crystal layers are formed and includes at least one or more second liquid crystal layers.
  • the array substrate drives the first liquid crystal layer by the first pixel electrodes.
  • a first driving electrode for outputting a driving voltage of the first driving electrode, a first nonlinear element electrically connected to the first driving electrode, and a driving voltage for driving the second liquid crystal layer to the second pixel electrode.
  • At least one or more second drive electrodes, and at least one or more second nonlinear elements electrically connected to the second drive electrodes, are provided, and Furthermore, first and second connection means having an electric connection function and a fixed connection function are provided.
  • the first connection terminal and the first drive electrode are electrically connected via the first connection means, and the second connection terminal and the second drive electrode are connected to the second connection means.
  • the display layer and the array substrate are fixedly connected to each other by the first and second connection means.
  • the liquid crystal is filled between the substrate and the sealing plate to form a liquid crystal layer, and the supporting member existing between the substrate and the sealing plate.
  • a display layer having a structure that supports the sealing plate, and a non-linear element for applying an electric field to the liquid crystal layer and driving the liquid crystal layer by dimming is provided on the array substrate facing the substrate.
  • a liquid crystal display device comprising: an array substrate having a separated structure, wherein the display layer comprises: a common electrode provided on an inner surface of the substrate; and a first support formed on the substrate.
  • a liquid crystal is filled between a supported and a first sealing plate provided with a first pixel electrode on a surface opposite to a surface facing the common electrode, and a first liquid crystal layer is formed.
  • a second pixel electrode is provided on the sealing plate, and on a surface opposite to the surface facing the first pixel electrode, supported by a second support member formed on the first sealing plate.
  • the second liquid crystal layer is formed by filling the liquid crystal between the second sealing plate and the second sealing plate, and the second supporting plate formed on the second sealing plate and the third supporting member formed on the second sealing plate.
  • the third liquid crystal layer is formed by filling the liquid crystal between the third sealing plate provided with the third pixel electrode on the surface opposite to the surface facing the second pixel electrode and being supported by the second pixel electrode.
  • the liquid crystal fills a space between the substrate provided with the common electrode on the inner surface and the sealing plate supported by the support member provided on the common electrode.
  • a display layer formed by forming a liquid crystal layer, a driving circuit for driving the liquid crystal layer, and electrically connected to the driving circuit, and arranged at predetermined intervals
  • a plurality of pixel electrodes, and an array substrate disposed so as to face the substrate, wherein the display layer and the array substrate are connected by connection means.
  • the invention according to claim 11 is the liquid crystal display device according to claim 11, wherein the thickness of the sealing plate is in a range of 0.5 m or more and 10 ⁇ m or less. It is characterized by being made of a polymer resin.
  • the invention described in claim 11 is the liquid crystal display device according to claim 13, wherein the substrate and the array substrate are made of a polymer resin.
  • the invention according to claim 116 is the liquid crystal display device according to claim 114, wherein the substrate and the array substrate are made of a polymer resin.
  • the liquid crystal fills a space between the substrate provided with the common electrode on the inner surface and the sealing plate supported by the support member provided on the common electrode.
  • a liquid crystal layer is formed, and a plurality of pixel electrodes are provided at regular intervals on a surface of the sealing plate opposite to a surface supported by the support member;
  • a plurality of array substrates each including a plurality of non-linear elements for driving the layers, and the display layer and the array so that the plurality of pixel electrodes and the plurality of non-linear elements are electrically connected to each other.
  • the board is connected by the connecting means. It is characterized by
  • the pitch of the pixel electrode becomes non-uniform at the seam between the panels, so that the seam is viewed on the display screen.
  • a plurality of pixel electrodes are provided at regular intervals on the surface of the sealing plate facing the array substrate, so that the joints between the array substrates are displayed. It does not appear on the screen. Therefore, it is possible to provide a multi-screen liquid crystal display element in which the seams between the panels are inconspicuous.
  • the invention according to claim 118 is the liquid crystal display device according to claim 117, wherein the plurality of array substrates are arranged on the same plane, and the display layer and the plurality of display substrates are arranged in the same plane.
  • the plurality of pixel electrodes and the plurality of non-linear elements are opposed to each other by the connection means within a range where they can be electrically connected correspondingly.
  • a plurality of array substrates are precisely arranged so that seams between panels are not conspicuous, and a display layer and the plurality of array substrates are bonded together.
  • the planar relative position between the display layer and the array substrate may be within a range in which the pixel electrode and the nonlinear element can be electrically connected, and therefore, the requirement for alignment accuracy is relaxed. be able to.
  • the invention according to claim 119 is the invention according to claim 117, wherein one optical filter is provided between the substrate and the common electrode. It is characterized by.
  • color display can be easily achieved on the display screen of the liquid crystal display element.
  • the substrate and the array substrate may be bonded together so that the pixel electrode and the drive electrode are electrically connected via the connection means. Therefore, the planar relative position between the pixel electrode and the drive electrode only needs to be within the range that can be connected by the connection means, and this can reduce the accuracy requirement of the alignment. .
  • the invention according to claim 122 is a method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 122, further comprising: a step of forming another support member on the pixel electrode; A step of forming another sealing plate so as to be supported by the supporting member, and filling another liquid crystal between the sealing plate and the other sealing plate to form another liquid crystal layer And at least one step of forming another pixel electrode on the surface of the other sealing plate opposite to the surface facing the other liquid crystal layer. In this case, a plurality of liquid crystal layers are formed.
  • FIG. 3 is an overall configuration diagram of the liquid crystal display element according to Embodiment 11;
  • FIG. 4 is a partially enlarged sectional view of FIG.
  • FIG. 5 is a partially enlarged sectional view of FIG.
  • FIG. 16 is a cross-sectional view near the ventilation port 135.
  • FIG. 23 is a diagram showing a state of occurrence of wrinkles in the resin film.
  • FIG. 24 is a schematic diagram showing a manufacturing process of the liquid crystal display element according to Embodiment 2-1.
  • FIG. 32 is a schematic diagram showing a manufacturing process of the resin film structure according to Embodiments 2-5.
  • FIG. 33 is a cross-sectional view of the resin film structure according to Embodiments 2-6.
  • FIG. 34 is a partial plan view showing a configuration per pixel of the liquid crystal display element of Embodiment 3-1.
  • FIG. 38 is an explanatory diagram illustrating a manufacturing process of the liquid crystal display element of Embodiment 3-1.
  • FIG. 41 is an explanatory view showing a manufacturing process of the liquid crystal display element of Embodiment 3-1.
  • FIG. 42 is an explanatory view showing a manufacturing process of the liquid crystal display element of Embodiment 3-1.
  • FIG. 44 is a partial plan view showing a configuration per pixel of the liquid crystal display element of Embodiment 3-2.
  • FIG. 45 is a cross-sectional view taken along the line B-B in FIG.
  • FIG. 51 is a partial cross-sectional view showing a configuration per pixel of the liquid crystal display element according to Embodiment 3-3.
  • FIG. 56 is an explanatory view showing a manufacturing process of the liquid crystal display element of the embodiment 3-3.
  • FIG. 58 is a partial plan view showing a configuration per pixel of the liquid crystal display element of Embodiments 3-4.
  • FIG. 59 is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG.
  • FIG. 61 is an explanatory view showing the manufacturing process of the liquid crystal display element of Embodiments 3-4.
  • FIG. 65 is a schematic cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display element according to Embodiment 41 of the present invention.
  • FIG. 66 is a plan view schematically showing a TFT in the liquid crystal display device.
  • FIG. 67 is a schematic cross-sectional view schematically showing a display unit in the liquid crystal display device.
  • FIG. 71 is an explanatory diagram showing the manufacturing process of the liquid crystal display element according to Embodiment 41.
  • FIG. 73 shows a manufacturing process of the liquid crystal display element according to Embodiment 41.
  • FIG. 74 is an explanatory diagram showing the manufacturing process of the liquid crystal display element according to Embodiment 41.
  • FIG. 76 is an explanatory view showing the manufacturing process of the liquid crystal display element according to Embodiment 4-2.
  • FIG. 77 is a schematic cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display element according to Embodiment 4-3 of the present invention.
  • FIG. 80 is a cross-sectional view showing the configuration of another conventional liquid crystal display element.
  • FIG. 81 is an explanatory diagram showing an example of a defect caused by a displacement of the support member.
  • this liquid crystal display element has a guest host liquid crystal of cyan, magenta, and yellow on a substrate 101, as shown in Fig. 1, respectively. It is composed of three liquid crystal layers 106, 107, and 108 filled with 3.
  • the substrate 101 is made of borosilicate glass.
  • a thin-film transistor (amorphous silicon) as a driving element is formed on this substrate 101.
  • this is referred to as a TFT element.
  • 102, 103, and 104 are formed.
  • a first pixel electrode Ml arranged in a matrix in the pixel display area 144 and a plurality of source lines are provided.
  • the second liquid crystal layer 107 and the third liquid crystal layer 108 have basically the same configuration as the first liquid crystal layer 106, and are related to the second liquid crystal layer 107.
  • a support member 119, a three-dimensional wiring pad 144, and an adhesive layer 132 are provided, and the support member 120, the three-dimensional wiring pad is associated with the third liquid crystal layer 108.
  • a layer 144 and an adhesive layer 133 are provided.
  • a common electrode 116 also serving as a reflection film is provided on the resin film 113 above the third liquid crystal layer 108.
  • the common electrode 1 16 is made of aluminum.
  • a protective film 117 for protecting the liquid crystal layer from external pressure or the like is formed on the common electrode 116.
  • the protective film 17 is an acrylic resin.
  • the concentration of cyan, yellow, and yellow dichroic dyes was appropriately adjusted in consideration of the color balance. Things are enclosed.
  • the liquid crystal display element of the present invention is a reflective color liquid crystal, has no light and no backlight, and obtains a color display by reflecting external light.
  • Light incident from the opposite side of the substrate 101 from the liquid crystal layer passes through the liquid crystal layers 106, 107, and 108 in this order, and passes through the common electrode 1 16 that also serves as a reflective film.
  • the light is reflected, passes through the liquid crystal layers 108, 107, and 106 again in this order, and shows the display to the observer looking from the opposite side of the substrate 101 from the liquid crystal layer.
  • guest-host liquid crystals containing cyan, magenta, and yellow dichroic dyes are enclosed in the liquid crystal layers 106, 107, and 108 as described above. That is, when no voltage is applied between the pixel electrodes sandwiching each liquid crystal layer, light in the absorption wavelength region of each color is absorbed among the incident light, and when a voltage is applied, the light is transmitted. By controlling the voltage applied to each liquid crystal layer in this way, the absorption and transmission of light can be controlled, and a full-color display can be obtained.
  • a specific driving method of the liquid crystal display element in the present embodiment will be described below.
  • the color image display is performed by subtractive color mixture
  • the image signal is given as RGB (red, green, blue) image data
  • CMY cyan, mathematics
  • a voltage corresponding to its complement (0, 1, 1) may be applied. .
  • the width of the support member is made larger than the height of the support member, so that the destruction of the support member as described above is prevented. It can be avoided.
  • the width of the support member is set to be equal to or more than the width of the support member, so that the support member is not broken and a decrease in the yield is suppressed. I can do it.
  • the interval between the supporting members existing in the range of the pixel portion is set to 25 ⁇ m (pitch of one side of the supporting member is 5 ⁇ m, 30 ⁇ m).
  • the resin film sags between the support members and the distance between the substrate and the resin film or between the resin films can be maintained. It may cause flaws and lower the color unevenness contrast ratio.
  • the distance between the support members is set to 10 or less, the sag of the resin film is small, and the gap between the substrate and the resin film can be maintained. Wear. By doing so, the thickness of the liquid crystal layer is maintained, and color contrast and a decrease in contrast ratio due to insufficient gap can be prevented.
  • a transparent ITO conductive film was formed on the substrate 101 on which the TFT elements 102, 103, and 104 were formed by sputtering. Then, by photolithography and etching, the drain terminals 103 a, 104 a and the first pixel of the TFT elements 103 and 104 are obtained. Ring electrode Ml. At the same time, a source line and a gate line around the pixel are formed by the transparent conductive film.
  • a step of forming the support member 118 is performed.
  • a first positive type resist is applied by spin coating on a substrate 101 on which a light-shielding film 105 is formed, and pre-pressed.
  • the light-shielding film 105 is used as a photomask to expose portions other than those where the support member 118 and the three-dimensional wiring pad 140 are to be formed.
  • the film is developed with a positive resist developer and cured with a post-baker, so that the support member 111 is formed on the light-shielding film 105 as shown in FIG. 8.
  • a three-dimensional wiring pad 140 can be formed.
  • the second positive resist used for the adhesive layer 1 In the heating step use a material that has the property of hardening after developing thermoplasticity.
  • the post-baking temperature at which the adhesive layer 13 1 (the same applies to the adhesive layers 13 2 and 13 3) exhibits the thermoplasticity.
  • a material with a temperature of 150 ° C which is lower than the temperature at which the resin film 111 (same for the resin films 112, 113) develops thermoplasticity. I do.
  • the support member 118 (the same applies to the support members 119 and 120) has already been cured, and does not exhibit thermoplasticity when heated again.
  • the resin film and the support member in the present invention are not limited to the above examples. That is, the resin film may be any of a non-thermoplastic material and a thermoplastic material having a higher temperature at which thermoplasticity is exhibited than the adhesive layer.
  • the support member is made of a non-thermoplastic material or a thermoplastic material having a higher temperature to exhibit thermoplasticity than the adhesive layer, or a material which is cured before the adhesive treatment. Any one may be sufficient. Due to such a combination of the resin film and the support member and the adhesive layer having thermoplasticity, the resin film is deformed along the support member or the support member is broken. In addition, the support member and the resin film can be bonded to each other.
  • the bonding layer 13 1 of the display area peripheral portion 14 6 should be provided with a photomask on the substrate side for shielding the display area peripheral portion 14 6 from light during the exposure in the step (3). As a result, after development, the adhesive layer 13 1 in the display area peripheral portion 1 4 6 6 remains without being removed. By this step, another step for sealing such as application of a sealing material is not required, so that the step can be simplified.
  • the adhesive layer 1311 is formed on the entire periphery of the display area peripheral portion 1446, a process involving heating or vacuuming after bonding the resin film 111 is performed.
  • the air sealed in the gap between the substrate 101 and the resin film 111 expands and the resin film 111 bursts, or the support member 118 and the resin film 111 contact each other.
  • the problem of peeling of the adhesive may occur. Therefore, it is necessary to provide a vent for venting the air in the gap to the outside.
  • a photomask which does not shield a part of the display area peripheral part 146 but shields the other part thereof from light.
  • FIG. 8 shows this situation.
  • a resin film 111 composed mainly of PET is superimposed on the side on which the support member 111 and the adhesive layer 131 are formed on the substrate 101, and the laminate is laminated. Pass between Rollers 1 26 and 1 27 in the evening.
  • at least one of the rollers 12 6 and 12 7 of the laminator, and preferably, the surface of the roller 126 contacting the resin film is removed.
  • the temperature is set to 150 ° C. at which the adhesive layer 13 1 exhibits thermoplasticity.
  • the roller of Lamine is generally made of an elastic material (rubber, etc.).
  • the roller as the roller 126 on the resin film side has elasticity.
  • the supporting member is pressed by the mouthpiece 126 when the material having the material is used.
  • the resin film 111 may be deformed plastically to the substrate 101 side and bend, and the gap may not be maintained. Therefore, the mouthpiece 126 is made of a rigid body having a hardness such that the bite when pressed is smaller than the elastic deformation of the resin film, for example, stainless steel.
  • the resin film is not deformed by the support member 118, and the resin film is adhered to the support member in a smooth state to seal the liquid crystal.
  • the thickness of the gap can be made uniform.
  • the main component of the resist film 128 is an acrylic resin, which is decomposed and removed at a speed of 0.3 / m / min, like the resin film.
  • the resin film 111 in the openings 124 and 125 is removed by RIE treatment for 5 minutes, while the resist film 128 is 1.5 in the opening.
  • the resist film 128 protected the resin film 111 except for the openings m and left. Thereafter, the resist film 128 was peeled off, and openings 124, 125 were formed in the resin film 111 as shown in FIG. 10 (b). In this way, an opening can be formed by reactive ion etching, and an opening is formed in a resin film that is resistant to organic solvents such as PET or an acid. Can be formed.
  • vent before the immersion process.
  • the location where the vent is provided is a part other than the pixels around the display part, and the vent is formed by drilling a hole of 50; To close the vent, press the iron tip heated to about 200 ° C against the vent, and close the joint by heat bonding of the resin film.
  • the air in the gap can be ventilated more smoothly.
  • the effect of preventing the resin film from being broken, etc. is increased.
  • a resin film having air permeability and moisture permeability is used, after manufacturing the liquid crystal display element, oxygen or moisture in the air enters the gearbox through the resin film.
  • the display performance may be deteriorated by lowering the retention rate of the liquid crystal.
  • the common electrode becomes a shielding film and oxygen is removed.
  • a reflective film having a diffusive property can be formed on the liquid crystal layer, and the display can be easily viewed.
  • a gap for enclosing liquid crystal is formed between the resin film and the substrate or between the resin films, and the liquid crystal is filled in the gap.
  • Encapsulation to form a liquid crystal display element eliminates color shift due to parallax caused by the lamination of liquid crystal layers, and provides a bright, high-contrast liquid crystal display.
  • the device can be realized.
  • Wo 99/47969
  • a resin film is used as a sealing film, and this resin film is bonded to a supporting member via an adhesive layer, thereby simplifying the manufacturing process. And increase the production yield.
  • FIG. 21 a specific configuration of the liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. 21 and 22.
  • FIG. 21 a specific configuration of the liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. 21 and 22.
  • the support members 205, 206, and 207 are made of a positive resist, and have a prismatic shape having a square cross section perpendicular to the axis (in this embodiment, 10 zm on each side).
  • the support members 205, 206, and 207 are arranged in a state of being distributed at predetermined pitches over the entire pixel portion, and hold the gaps A, B, and C.
  • Pad row for 3D wiring 2 4 1 Wo 99 / consists of three three-dimensional wiring pads 24 1 a, 24 1 b, and 24 1 erected at almost the same position in the direction perpendicular to the substrate 201.
  • the three-dimensional wiring pad array 24 2 is provided at three positions that are arranged substantially at the same position in the direction perpendicular to the substrate 201. It is composed of two-dimensional wiring nodes 2442a, 2442b, and 2442c.
  • 24 1 a, 24 1 b, 24 1 c; 24 2 a, 24 42 b, 24 42 c are square prisms with a square section perpendicular to the axis.
  • These three-dimensional wiring nodes 24 1 a, 24 1 b, 24 1 c; 24 2 a, 24 42 b, 24 42 c are support members 205, 206, Consists of a positive resist as in 207.
  • the connector penetrates through these three-dimensional wiring terminals 24 1 a, 24 1 b, 24 1 c and the resin films 202, 203, 204.
  • Holes 212 are formed and penetrate through the three-dimensional wiring pads 2442a, 2442b, 2442c and the resin films 202, 203, 204.
  • contact holes 2 13 are formed. Then, the connection terminal 2 2 a of the TFT 2 22 is exposed in the contact hole 2 12, and the connection terminal 2 2 3 a of the TFT 2 2 3 It is exposed inside cut hole 2 13.
  • the contact hole 211 is for connection wiring between the pixel electrode 209 and the TFT 222, and the contact hole 213 is for the pixel electrode 210 and the TFT 222. Connection for wiring.
  • the alignment film 229 on the pixel electrode 209 has been removed, whereby the pixel electrode 209 partially covers the contact hole 211. It is in a state of protruding into 2 and exposed.
  • the resin film 202, the supporting member 205 and the three-dimensional wiring pad 24 la, 2442a are the supporting member 205 and the three-dimensional wiring pad 2411a, An extremely thin, positive-type resist adhesive layer was formed on the 24a and bonded.
  • the adhesive layer is shown integrally with the supporting member 205 and the three-dimensional wiring pads 2441a and 2442a.
  • contact holes 2 1, 2 and 2 were formed by reactive ion etching (RIE) using oxygen plasma, which is a method of dry etching. 13 was formed.
  • RIE reactive ion etching
  • the resin film, the positive resist, the alignment film, and the acrylic resin constituting the wrinkle reduction layer are etched by RIE, while the inorganic resin is made of ITO. Most of the pixel electrodes are hardly etched.
  • the resin film, the positive resist, and the like were etched at a depth of 1 ⁇ m per minute under the conditions of an oxygen flow rate of 15 SCCM and an electric power of 150 W.
  • conductive members 2 14 and 2 15 made of a water-soluble polycarbonate resin were applied with a spin coat, as shown in FIG. 26 (b).
  • the contact holes 2 12 and 2 13 are filled with the conductive members 2 14 and 2 15.
  • the conductive members other than the contact holes 212, 213 are exposed to the positive resist. It floats and peels off along with the resist 2 27, and as shown in Fig. 27, a structure in which the conductive members 2 14 and 2 15 are embedded only in the contact holes 21 2 and 21 3 was formed.
  • the pixel electrodes 209 and 210 exposed to the contact holes are in contact with the conductive members 2 14 and 2 15.
  • Embodiment 2-2-2-2-3 shows an example of a liquid crystal display element.
  • an aperture is provided in a gap between a substrate and a resin film or between resin films.
  • the sealing plate 11 is provided with three-dimensional wiring openings 11 a and 21 a at positions above the drain electrodes 3 d and 4 d of the TFT elements 3 and 4. Are formed. First pixel electrode 9, liquid crystal layer 21, support member 18, and sealing plate W
  • the support members 19 and 20 of the second display layer 7 and the third display layer 8 are, like the support member 18 of the first display layer 6, the first pixel electrode 9 and the By forming the negative resist hardened by exposure through the openings 9a, 5a, and 5b of the matrix 5, the first resist is accurately formed. 1 It is arranged at the same position as the support member 18 of the display layer 6.
  • the guest-host liquid crystal contained in the liquid crystal layers 21 to 23 of the display layers 6 to 8 includes cyan, yellow, and yellow so that an appropriate color balance is obtained. The concentration of the dichroic dye of — has been adjusted.
  • the supporting members 18 can be made as small as about a square, and 95% or more. It is possible to obtain the aperture ratio in each pixel. Since the liquid crystal layers 21 include a polymer network, the actual aperture ratio is slightly smaller than this. Next, a method for manufacturing the above liquid crystal display element will be described with reference to FIGS.
  • TFT elements 2 to 4 made of amorphous silicon are formed on a substrate 1 made of borosilicate glass.
  • an aluminum reflective film is formed by vacuum evaporation, and the pixel shape is formed by photolithography and etching.
  • a first pixel electrode 9 also serving as a reflective film and a drain electrode 2 d of the TFT element 2 is formed.
  • an opening 9a is also formed.
  • the area of the first pixel electrode 9 and the opening are formed.
  • a black matrix 5 having openings 5a and 5b is formed by mask exposure to the regions where the portions 5a and 5b are to be formed and development.
  • the support member 18 is formed by the following steps (3) to (5).
  • the release layer 2 is formed on the surface of the transfer substrate 27 made of an ultraviolet-transparent glass on which a predetermined mask 27a is formed.
  • the sealing plate 11 is formed.
  • the mask pattern 27 a is a drain electrode of the TFT elements 3 and 4. It is formed so as to block light at positions corresponding to 3d and 4d.
  • the release layer 26 is formed by spin-coating a 10% by weight aqueous solution of, for example, polyvinyl alcohol (hereinafter referred to as “PVA”) with a spin coat (rotational speed of 2000).
  • PVA polyvinyl alcohol
  • the formation of the support member 19 is performed in the same manner as the formation of the support member 18 in the first display layer 6 ((4) above), and the first pixel electrode 9 and the black matrix are formed. This is performed by irradiating ultraviolet rays from the substrate 1 side using the mask 5 as a mask. As a result, the supporting member 19 can be accurately positioned. It is formed at the same position as. That is, unlike the case where a mask is separately used, the position of the mask is not aligned, and the problem as shown in FIG. 81 can be surely prevented.
  • the negative resist forming the support member 19 is transmitted through the negative resist 18 by irradiating the negative resist with ultraviolet light having a wavelength that is largely absorbed, thereby facilitating the support member 19 having a certain height. Can be formed.
  • a negative type resist whose ultraviolet absorption wavelength characteristic changes before and after polymerization is used, and the support member 18 already polymerized has a high transmittance but the support member 19 is formed.
  • the transmittance of the negative resist before polymerization may be reduced by irradiating a low wavelength ultraviolet ray.
  • the first pixel electrode 9 and the substrate 1 on which the black matrix 5 is masked are formed.
  • the support member 20 is formed exactly at the same position as the support members 18 and 19 by the irradiation of the ultraviolet rays.
  • the negative resist for forming the support member 20 may have a different ultraviolet absorption (photosensitivity) wavelength characteristic from the support members 18 and 19, and the support members 18 and 19 may be used. It is preferable to irradiate ultraviolet light having a wavelength with high transmittance.
  • each of the display layers 6 to 8 is supported by back exposure through the opening 9 a, 5 a, 5 b of the first pixel electrode 9 and the black matrix 5.
  • the support members 18 can easily be made as small as 7 m square, and the aperture ratio can be increased and the contrast ratio can be increased. Moreover, there is no need to align the mask as in the case of using a separate mask.
  • the polymer precursor may be more efficiently polymerized, for example, by using those having different ultraviolet absorption (photosensitivity) wavelength characteristics from each other.
  • the substrate 1 is irradiated with ultraviolet rays (UV) of 100 mJ / cm 2 from the substrate 1 side. That is, the light-shielding film 35 is used as a mask, and only the portion of the positive resist 61 1 ′ where the light-shielding film 35 is not formed is exposed.
  • UV ultraviolet rays
  • a second display layer 32 4 and a third display layer 32 2 having substantially the same structure as the first display layer 32 3 are provided on the first display layer 32 3.
  • the second display layer 324 includes the second liquid crystal layer 327, the second pixel electrode 331, the second sealing plate 334, and the spacer (the second liquid crystal layer 327).
  • the third display layer 3 25 has a third liquid crystal layer 3 28, a third pixel electrode 3 32, and a third sealing layer.
  • a stop plate 33 5 and a spacer (third support member) 34 1 c are provided.
  • the first to third sealing plates 33 to 33 are made of a film-like polymer compound.
  • the first to third sealing plates 33 to 33 are made of a film-like polymer compound.
  • the film thicknesses of 33 to 33 are set to 1.0 / m.
  • Each of the spacers 3411a to 3441c is a quadrangular prism having a cross-sectional shape of a square having a side of about 10m and a height of 4zm.
  • the above-mentioned spacers 34 1 a to 34 1 c are regularly arranged at a pitch of 50 m in each of the first to third display layers 32 3 to 32 5. That is, due to such a shape and arrangement, the first to third liquid crystal layers 32 to 36 due to the first to third sealing plates 33 33 to 33 35 hanging down. The thickness unevenness of 328 is prevented, and an effective aperture ratio of about 95% is ensured. Further, a structure having excellent mechanical strength can be obtained.
  • the second liquid crystal layer 327 is formed in the same manner as the first liquid crystal layer 326. That is, first, a positive resist is applied on the first pixel electrode 330, and the resist is exposed from the side of the substrate 321, and a spacer is provided at the same position as the first liquid crystal layer 32. 1 b... and the nodes for three-dimensional wiring 3 4 2 ⁇ 3 4 2 are formed in a self-aligned manner.
  • the position of the opening 3442a * 3442a in the three-dimensional wiring pad 3442, 3442 ' is shielded from light and irradiated with ultraviolet rays.
  • the openings 3442a and 3442a are opened in the negative type resist, and the other portions are cured to form the third sealing plate 335.
  • the substrate 321 and the third sealing plate 335 are adhered to the periphery of the display area without the spacer 341, but a gap is formed in a part of the non-display area.
  • a liquid crystal injection port is provided by providing a single cell.
  • a film thickness of 50 was formed on the third sealing plate 33 5 by a sputtering method.
  • An aluminum film is formed to a thickness of O nm, and the third pixel electrode 3332 and the relay electrode 351 are formed by photolithography and etching. .
  • a guest-host liquid crystal in which a yellow dichroic dye is dissolved is injected into the positive chiral nematic liquid crystal from the above-mentioned injection port, and as shown in FIG. 3 A liquid crystal layer 3 2 8 is formed.
  • an inspection process for inspecting the display state of the display unit 3 is performed. That is, a voltage is applied to the connection terminals 354-356 using an inspection machine to drive the first to third liquid crystal layers 326 to 328.
  • the first to third liquid crystal layers 326 to 3288 are in cyan, magenta, or yellow, respectively, while they are transparent when the voltage is turned on.
  • the operation state of the first to third liquid crystal layers 326 to 328 can be inspected.
  • point defects and line defects appear on the display section 303. If such a defect is found, only the display section 303 is discarded.
  • the array substrate 301 and the display section 303 are pasted together.
  • Positioning is performed as long as the planar relative position between the array substrate 301 and the display section 303 is kept within a certain precision, and strict precision is not required.
  • the bonding is performed while applying a pressure of 0.2 atm and heating at 120 ° C.
  • the epoxy resin 372 in the anisotropic conductive adhesive 302 is deformed into an elliptical shape.
  • the gold plating 373 is brought into conduction by, for example, contacting the drive electrode 315 with the connection terminal 356.
  • the epoxy resin 372 since the epoxy resin 372 is deformed into an elliptical shape as described above, it has an insulating function in a direction perpendicular to the film thickness direction.
  • the epoxy resin 372 can be hardened. Therefore, the array substrate 301 and the display section 303 are connected while the continuity between the drive electrodes 315 to 317 and the connection terminals 354 to 356 is maintained. It is possible to paste it can.
  • the reflective liquid crystal display element according to the embodiment 41 manufactured as described above is driven by inputting an image signal or the like to the array substrate 301 side. It was confirmed that a bright color image was displayed. Further, in the above-mentioned liquid crystal display element, since the array substrate 301 and the display section having the first to third liquid crystal layers 326-328 are independent elements, display defects are not present in the liquid crystal layer and the like. Even if it is found, it is not necessary to dispose of even the array substrate 301 on which TFTs 31 to 31 are formed, so that the manufacturing cost can be reduced and the yield can be reduced. Can be improved.
  • the film thickness of the first to third sealing plates 33 33 to 335 is set to 1.0 ⁇ m, but the film thickness is not limited thereto. Without, 0.5 ⁇ ⁇ ! What is necessary is just within the range of ⁇ 10zm.
  • the display layer 389 is provided with a spacer 395, a sealing plate 384 and a liquid crystal layer 385.
  • the sealing plate 384 is made of a PET (Polyethilene Te 1 ephthalate) film having a thickness of l Atm. The PET film is thinned by stretching and has a birefringence of about 0.05 m.
  • the liquid crystal layer 85 is made of a chiral nematic liquid crystal to which a chiral agent is added so that the twist pitch becomes 32 zm. As a result, the liquid crystal molecules near the sealing plate 384 are horizontally aligned in the film stretching direction, and the liquid crystal layer 385 has a twisted nematic twisted by 45 degrees. It becomes a chip orientation. Note that the gap of the liquid crystal layer 385 is 4 zm.
  • the adhesive 393 is made of urethane resin having a film thickness of l ⁇ m.
  • the adhesive 393 is not limited to the urethane resin described above, and various conventionally known adhesives can be employed.
  • the reflective liquid crystal display element according to the present embodiment 412 differs from the reflective liquid crystal display element according to the first embodiment in that the liquid crystal layer 3 is provided between the common electrode 38 3 and the sealing plate 38 4. .. Are formed on the resin wiring substrate 387, and the pixel electrodes 386... Are not formed on the sealing plate 384. Therefore, in the reflective liquid crystal display element, it is not necessary to manufacture the display section 391 in accordance with the pattern shape of the pixel electrodes 386... On the drive substrate 392. Even if the display pattern is changed according to the condition, it can be easily manufactured simply by changing the pattern of forming the pixel electrodes 386 on the resin wiring substrate 389 7.
  • the substrate 410 is made of a rectangular glass having a diagonal dimension of 85 cm.
  • the liquid crystal layer 403 has a twisted nematic orientation in which a chiral nematic liquid crystal having a twist pitch of 50 ⁇ m is twisted 90 degrees.
  • the alignment film 402 is made of a polyimide resin.
  • the common electrode 329 is formed by a sputtering method or the like. Further, a polyimide resin is applied on the common electrode 329, and a rubbing process is performed in a predetermined direction to form an alignment film 402.
  • an adhesive 407 is formed on the sealing plate 384 and the pixel electrode 404 in the display portion 501. Subsequently, the display section 402 and the array substrates 502 a to 502 d fixed to the housing 412 are aligned, and heated while being pressed at a predetermined pressure. The adhesive 407 was cured.
  • the above alignment is performed as long as the planar relative position between the array substrates 502 a to 502 d and the display unit 501 is within a certain accuracy, and strict accuracy is required. It does not require a request.
  • a gap for enclosing liquid crystal is formed between the resin film and the substrate or between the resin films, and the liquid crystal is encapsulated in the gap to form a liquid crystal display element.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

明 細 書 液晶表示素子お よびその製造方法 技 術 分 野
本発明は、 液晶表示素子およびその製造方法に関 し、 特に、 1 枚 の基板上に複数の液晶層を備えて、 反射型で も 明る いカ ラ一画像を 表示する こ とがで き る液晶表示素子およびその製造方法に関する も のであ る。 背 景 技 術
(第 1 の従来技術)
従来の液晶表示素子 と しては、 捻 じれネマチ ッ ク液晶 と偏光板 と を組み合わせる こ と に よ り 、 各画素ご と に透過する光を制御 して画 像を表示する ものが多 く 用い られている。 ま た、 カ ラー画像を表示 する液晶表示素子は、 さ ら に、 隣接する 3 つの画素ご と に対応させ て、 赤、 緑、 ま たは青の光を透過するマイ ク .口 カ ラ一フ ィ ル夕 を設 け、 加法混色に よ り 、 カ ラ一画像を表示 し得る よ う になつている 。
しか し、 こ の種の液晶表示素子では、 偏光板およびカ ラ一フ ィ ル 夕 に よ る光の吸収量が多いため、 液晶表示素子全体の光の透過率が 1 0 %以下程度にな り 、 明るい表示を行う こ とが困難である。 特に、 外光を利用する反射型の液晶表示素子を構成 した場合には、 色の認 識が困難にな るほど暗 く な り がちである。
これに対 して、 反射型で も 明る いカ ラ一画像を表示 し得る液晶表 示素子 と して、 特開昭 6 1 — 2 3 8 0 2 4号公報や、 特開平 3 — 2 3 8 4 2 4 号公報に示さ れる よ う に、 2 色性色素を用いて各色ご と の光の吸収、 透過を制御する ゲス ト ホス ト モ一 ド の液晶表示素子が 提案さ れてい る。 こ の液晶表示素子は、 それそれ互いに異なる色の 2 色性色素を含む液晶層を有する複数のパネルが重ね合わ されて構 成されている。 具体的には、 それそれシア ン、 マゼ ン 夕、 またはィ エ ロ ーの 2 色性色素を含む液晶が 1 対のガラ ス基板に挟まれて成る 3 枚の液晶パネルを重ね、すべての層で光を吸収 した場合に黒表示、 すべての層で光を透過させた場合に 白表示、 ま た、 一部の層だけが 光を吸収 した場合に着色表示が行われる よ う にな っ ている。 こ の種 のゲス ト ホス ト モー ド の液晶表示素子は、 カ ラ ーフ ィ ル夕 や偏向板 に よ っ て光が吸収さ れる こ とはないために、 明る く 鮮やかな色表示 がで き、 反射型液晶表示素子に も適 している。
しか しなが ら、 上記の よ う にそれぞれ 1 対のガラ ス基板を有する 複数のパネルを重ねて液晶表示素子を作製 した場合には、 画素が細 か く な る と、 各パネルを構成する ガラ ス基板の厚さ が画素に比べて 相対的に大き く な る のために、 視差の影響が大き く な り 、 表示画像 を斜めか ら見た と き に色ずれが生 じる とい う 課題があ る。
そ こ で、 こ の よ う な視差に よ る色ずれを解消すべ く 、 特開平 6 — 3 3 7 6 4 3 号公報に示さ れる よ う な、 いわゆる高分子分散型の液 晶表示素子が提案さ れている。 こ の高分子分散型の液晶表示素子で は、 図 7 9 に示すよ う に、 基板 1 2 9 1 上に、 レ ジス ト材料ま たは 高分子材料 1 2 9 8 中にゲス ト ホス ト液晶 1 2 9 9 を分散保持させ て固体化させた液晶層 1 2 9 5 〜 1 2 9 7 が積層さ れて構成されて い る。 ま た、 各液晶層 1 2 9 5 ~ 1 2 9 7 に対応さ せて、 1 枚の基 板 1 2 9 1 上に設け られた駆動素子に接続さ れる駆動電極 1 2 9 2 ~ 1 2 9 4 が形成さ れてい る。 こ の よ う に、 各液晶層 1 2 9 5 〜 1 2 9 7 間にガラ ス基板を必要 と しない構成と する こ と に よ り 、 視差 に よ る色ずれのないゲス ト ホス ト モ一 ド の液晶表示素子が得 ら れる。 しか し、 こ の よ う な高分子分散型の液晶表示素子は、 レ ジス ト 材 料ま た高分子材料 1 2 9 8 中にゲス ト ホス ト 液晶 1 2 9 9 を分散保 持する ために、 液晶層 1 2 9 5 〜 1 2 9 7 中における レ ジス ト 材料 ま たは高分子材料 1 2 9 8 の占める割合が多 く な る (ゲス ト ホス ト 液晶 1 2 9 9 の占める割合が小さ く な る。)。 そのために、 実質的な 開口率が小さ く な り 、 コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ と が困難であ る とい う課題を有 していた。
そ こ で、 本発明者 ら は、 先に特願平 9 — 1 2 7 0 5 7 号にて、 図 8 0 に示すよ う な液晶表示素子を提案 した。 こ の液晶表示素子は、 基板 1 1 0 1 上に、 フ ィ ルム状の封止板 1 1 1 3 〜 1 1 1 5 が支持 部材 (スぺ一サ) 1 1 0 8 ~ 1 1 1 0 に支持されて積層され、 基板 1 1 0 1 と封止板 1 1 1 3 との間、 および各封止板 1 1 1 3 〜 1 1 1 5 の間に、液晶 1 1 2 5 - 1 1 2 7 が封入さ れて構成されている。 こ の よ う に、 支持部材 1 1 0 8 〜 1 1 1 0 に支持された フ ィ ル ム状 の封止板 1 1 1 3 〜 1 1 1 5 を用い る こ と に よ り 、 ガラ ス基板を用 いる場合の よ う な視差に よ る色ずれを解消する こ と がで き、 しかも、 前記高分子分散型の液晶表示素子の よ う に液晶を保持する ための高 分子材料を必要 とせず、 封止板 1 1 1 3 ~ 1 1 1 5 間における液晶 1 1 2 5 - 1 1 2 7 の 占める割合が多いため、 実質的な開口率を大 き く して コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ とがで き る。
こ こ で、 上記の よ う な液晶表示素子の支持部材 1 1 0 8 〜 1 1 1 0 は、 例えば、 各層 ご と に、 基板 1 1 0 1 ま たは封止板 1 1 1 3 , 1 1 1 4 上に感光性樹脂を塗布 し、 支持部材 1 1 0 8 〜 1 1 1 0 を 形成する部分だけをマス ク露光に よ って重合、 硬化させた後、 他の 部分を現像 して除去する こ と に よ り 形成さ れる 。 上記の よ う に フ ィ ル ム状の封止板 1 1 1 3 ~ 1 1 1 5 を積層す る 構造の液晶表示素子では、 支持部材 1 1 0 8 ~ 1 1 1 0 が各層で正 確に同 じ位置に形成されていない と、 封止板 1 1 1 3 〜 1 1 1 5 が 確実に支持されない。 具体的には、 支持部材 1 1 0 8 ~ 1 1 1 0 の 位置合わせの精度が十分でな く 、 例えば図 8 1 ( a ) に示すよ う に 支持部材 1 1 0 8 , 1 1 0 9 の位置にずれが生 じた場合には、 封止 板 1 1 1 4 と基板 1 1 0 1 と を貼 り 合わせる際の圧力な どに よ って、 図 8 1 ( b ) に示すよ う に封止板 1 1 1 3 …が変形 した り 、 さ ら に ずれ量が大きい場合には、 図 8 1 ( c ) に示すよ う に第 2 表示層 1 1 2 2 の支持部材 1 1 0 9 が第 1 表示層 1 1 1 7 に食い込み、 第 1 表示層 1 1 1 7 や第 2 表示層 1 1 2 2 の構造が破壊される こ と に な る。 それゆえ、 前記の よ う にマス ク露光に よ って各層の支持部材 1 0 8 - 1 1 0 を形成する場合には、 マス ク の正確な位置合わせを行 う 必要がある。
ま た、 支持部材 1 1 0 8 …の部分は光の透過率が制御さ れない領 域になる ので、 開口率を大き く する ためには、 画素内で支持部材 1 1 0 8 - 1 1 1 0 の 占める 面積をで き る だけ小さ く する こ とが好 ま しいが、 そのためには、 上記マス ク の位置合わせ精度を一層高 く す る必要がある。 具体的には、 例えば支持部材 1 1 0 9 …を 7 m角 の大き さで形成する場合には、 支持部材 1 1 0 9 …の位置ずれが 3 m以上になる と、 前記の よ う な第 1 表示層 1 1 1 7 等の破壊を生 じる こ と にな る。 それゆえ、 上記位置ずれが 3 / m以下にな る よ う にマス ク の位置合わせを行 う 必要があ る 。
したがって、 精度の高いマス キ ン グ工程を設ける こ と に よ る製造 コ ス ト の増大を招 く 虞があ る と い う 課題を有 して いた。
(第 2 の従来技術) ま た、 本発明者等は、 図 7 9 の液晶表示素子の課題を解決 した液 晶表示素子を既に発明 し、 かかる発明につ き 出願 (特願平 9 — 1 2 7 0 5 7 号) をな している。 こ の特願平 9 一 1 2 7 0 5 7 号に係る 発明は、 本発明の基礎と な る発明であ り 、 基板 と封止膜の間に液晶 が充填された液晶層を構成 し、 支持部材で封止膜を支え る構成であ る。 こ の液晶表示素子では、 液晶層の う ち液晶の 占める割合を多 く する こ とがで き、 従来例に比べ実効的な開口率が高ま り 、 コ ン ト ラ ス ト 比を高める こ とがで きた。
しか しなが ら、 特願平 9 一 1 2 7 0 5 7 号に係る発明は、 従来例 の課題を解決する こ と はで き たけれども、 以下に述べる新たな課題 が生 じた。 そ こ で、 本発明者等は、 新たな課題を解決すべ く 、 特願 平 9 一 1 2 7 0 5 7 号に係る発明を基礎 して鋭意研究開発する こ と に よ り 本発明を完成する に至っ た。 よ って、 本発明は、 従来例の有 する課題を解決 し、 更に、 本発明の基礎とな る発明 (特願平 9 — 1 2 7 0 5 7 号に係る発明) の有する新たな課題を解決 した も のであ る 。
参考までに、 以下に、 本発明の基礎と な る発明の構成、 及びその 課題について説明する。 本発明の基礎と なる発明は、 封止膜を支持 部材上に形成する 方法 と して、 次の ( 1 ) 又は ( 2 ) の方法を特徴 と する も のである。
( 1 ) 板状部材の表面に封止膜を形成 し、 こ れを基板上に形成さ れ た支持部材に転写 したのち板部材を離型する 方法。
( 2 )支持部材を形成 した基板上に気化性を有する 固形膜を形成後、 固形膜上に封止膜を積層 し、 しかる のち に固形膜を気化させて基板 と封止膜の間に間隙を形成する 方法。
しか し ( 1 ) の方法では、 板状部材の表面か ら封止膜を離型 し封 止膜を転写する工程において、 離型が円滑に行われず、 封止膜が転 写さ れない場合が生 じて、 歩留ま り を低下させる原因にな っ た。 こ れは、 板状部材上の転写膜を板状部材か ら離型する際のはがす力 に 比べて、 支持部材 と転写膜と の接着力が局所的に小さ い場合、 転写 膜が支持部材上に転写されな く なる ために起こ る。 画素部分では、 開口率を高める ために、 支持部材の占める面積をで き る だけ小さ く するほう が望ま しい。 しか し、 支持部材の面積を小さ く する と、 支 持部材と転写膜の接着面積も 小さ く な る ため、 離型時に小さ な面積 に力が集中 し、 転写 · 離型がで きない場合があ っ た。
ま た ( 2 ) の方法では、 支持部材を形成 した基板上に固形膜を形 成する際に、 支持部材上も薄 く 固形膜が覆われる こ とがあ り 、 こ の 場合、 支持部材と封止膜との間に固形膜が挟まれる ために接着が行 われず、 封止膜が浮いて しま い、 歩留ま り を低下させる原因 と な つ た。
これ ら の例において も、 画素平面上で支持部材の 占める面積を大 き く すれば、 支持部材 と封止膜の接着が円滑に行われる 可能性があ る が、 画素平面上での支持部材の面積を大き く する と開口率が低 く な る ため、 液晶表示素子の明る さやコ ン ト ラ ス ト 比が悪 く な り 、 表 示品位を低下させて し ま う 。 そ こで、 画素中での支持部材の 占める 面積は、 画素面積に対 して 1 0 %以下 と する こ と が望ま しい。 こ の 場合、 封止膜は、 支持部材上の狭い面積で接着する のみであ り 、 そ れ以外の部分は宙に浮いた状態 と なる ため、 支持部材 と封止膜と の 間の接着が充分でない と、 前記のよ う に歩留ま り を低下させる原因 と な っ た。
以上の よ う に、 基板上の支持部材 と封止膜と を接着 し、 基板 と封 止膜 との間に間隙を形成する工程は、 支持部材上の狭い面積で封止 膜を接着 して貼 り 合わせる こ と が必要であ る ため、 接着に困難さ を 伴う ものであっ た。
よ って、 封止膜と して樹脂フ ィ ル ム を使用 し、 樹脂フ ィ ルムを支 持部材に直接に接着する こ と に よ り 、 上記本発明の基礎と なる発明 の課題を解決する こ と がで き る こ と を見いだ した。
なお、 樹脂フ ィ ルム を基板に貼 り 合わせる 方法 と して、 熱接合( ヒ — ト シ一ル) がある。 熱接合に よ る接着は、 いわゆる ラ ミ ネ一夕 を 使用 し、 重ね合わせた基板と樹脂フ ィ ルム と を少な く と も一方を加 熱 した ローラ 一の間に通過さ る こ と に よ り 、 樹脂フ ィ ルムの熱可塑 性に よ り 樹脂フ ィ ルム を基板上に貼 り 合わせ る も ので、 基板と樹脂 フ ィ ルムをす き ま な く 貼 り 合わせ る場合に有効な方法である。 こ の 方法を用いて支持部材 と封止膜と して の樹脂フ ィ ルム と を接着さ せ よ う と した場合、 樹脂フ ィ ルム ま たは支持部材に熱可塑性を持たせ る 必要がある。 と こ ろが、 樹脂フ ィ ルムが熱可塑性を発現する温度 に ロ ーラ一を加熱する と、 樹脂フ ィ ルムが軟化 して基板および支持 部材の形状に沿って変形 し、 支持部材上のみで樹脂フ ィ ル ム を接着 させる こ とがで きなかっ た。 一方、 支持部材が熱可塑性を有する 温 度に加熱 した場合、 軟化 した支持部材がラ ミ ネ一夕 に よ り 押 しつぶ された。 こ の よ う に、 樹脂フ ィ ル ム ま たは支持部材に熱可塑性を持 たせた場合には、 樹脂フ ィ ルム と基板 との間に液晶を封入する ため の間隙を形成で きなかっ た り 、 間隙が極端に狭 く な つ た り した。
(第 3 の従来技術)
液晶表示素子は、 薄型 · 軽量であ る為、 携帯型の情報端末用デ ィ ス プレ イ と して広範に用い られて い る。 液晶パネル 自体は 自 ら発光 しない受光型素子 (或いは非発光型素子) で あ る ので、 一般に液晶 表示素子は、 液晶パネ ルの背面に反射板を配置 し外部光の反射を利 用 して表示させる反射型液晶表示素子 と、 液晶パネルの背面にパ ッ ク ラ イ ト を配置 し、 該パ ッ ク ラ イ ト の光を投射 して表示させる透過 型液晶表示素子 と に分類で き る。
周知の よ う に液晶は数ボル ト の低電圧で駆動が可能であ り 、 又上 記反射型液晶表示素子の場合では、 バ ッ ク ラ イ ト を用いずに外部光 を利用 して表示させる為、 極めて低消費電力である。
通常の反射型液晶パネルで画像をカ ラ一表示する場合には、 赤、 緑、 青の 3色のマイ ク ロ カ ラーフ ィ ルタ ーを隣接する 3 つの画素上 に設けて、 加法混色に よ り 行 う 。 と こ ろが、 上記カ ラ一フ ィ ル夕 一 では光の透過率が低い こ と に加え、 偏光板を必要 と する。 これ ら の 結果、 外光を利用する反射型液晶表示素子を作製 した場合には、 明 る い色が表示で きない とい う課題を有 していた。
そ こ で、 偏光板やカ ラ一フ ィ ル夕 一を用いずに明る いカ ラー表示 をする為、 いわゆる減法混色の原理に基づいて、 シア ン、 マゼ ン夕、 黄色の 3 色のゲス ト ホス ト 液晶層を 3層積層する反射型カ ラー液晶 表示素子が本発明者 ら に よ っ て開示されている (例えば、 特願平 6 一 2 8 6 3 2 4号公報)。
以下に、 上記反射型カ ラ一液晶表示素子について説明する。
上記反射型カ ラ ー液晶表示素子は、 図 8 3 に示すよ う に、 下基板 1 3 0 1 と上基板 1 3 0 2 との間に、 それそれシア ン、 マゼ ン 夕 、 又はイ エロ一のゲス ト ホス ト 液晶が充填された 3 つの液晶層 1 3 0 3 〜 1 3 0 5 が設け られて構成さ れている。
上記下基板 1 3 0 1 上には、 薄膜 ト ラ ン ジス タ (以下、 T F T素 子 と称する ) 1 3 0 6 ~ 1 3 0 8 と、 反射膜を兼ねる第 1 画素電極 1 3 0 9 とが形成されてい る。 更に、 下基板 1 3 0 1 上には、 第 1 感光性ポ リ イ ミ ド 1 3 1 0 に よ り 支持された第 1 絶縁膜 1 3 1 1 が 設け られてい る 。 上記第 1 絶縁膜 1 3 1 1 上には、 第 2 画素電極 1 3 1 2及び第 2感光性ポ リ イ ミ ド 1 3 1 4 が設け ら れてい る。 該第 2 画素電極 1 3 1 2 は、 開口部 1 3 1 3 を介 して T F T素子 1 3 0 7 に接続されてい る 。
更に、 上記第 2感光性ポ リ イ ミ ド 1 3 1 4 に よ り 支持さ れた第 3 絶縁膜 1 3 1 5 が設け ら れて い る。上記第 3絶縁膜 1 3 1 5 上には、 第 3 画素電極 1 3 1 6及び第 3感光性ポ リ イ ミ ド 1 3 1 7 が設け ら れている。 該第 3 画素電極 1 3 1 6 は、 開口部 1 3 1 8 を介 して T F T素子 1 3 0 8 に接続されて い る。 上記第 3感光性ポ リ イ ミ ド 1 3 1 7 上には、 共通電極 1 3 1 9 が設け られてい る。 こ こ では、 第 1 液晶層 1 3 0 3 は基板上の第 1 画素電極 1 3 0 9 と第 2 画素電極 1 3 1 2 と に よ っ て電圧が印加され、 第 2液晶層 1 3 0 4 は第 2 画 素電極 1 3 1 2 と第 3 画素電極 1 3 1 6 と に よ って電圧が印加され、 第 3液晶層 1 3 0 5 は第 3 画素電極 1 3 1 6 と共通電極 1 3 1 9 と に よ って電圧が印加される 。
しか しなが ら、 上記従来の反射型カ ラ一液晶表示素子には、 以下 に示す点に関 して改善する余地を有 している。 即ち、 一般に T F T ア レイ 基板上に液晶層を順次積層する等、 工程が進行する に したが つて、 歩留ま り が低下する とい う 傾向がある。 よ っ て、 液晶層に欠 陥等が確認された場合には、 高価な T F Tア レ イ 基板ま で も が廃棄 さ れて しま う 為に、 コ ス ト 高を招来する。
又、 基板上 に形成さ れて い る 画素電極の形成パ タ ー ンが、 T N ( Twisted Nematic) や S T N ( Super Twisted Nematic) 等の単純 マ ト リ ク ス液晶の場合で も、 機種に応 じて変わ る ので、 画素電極の 形成パタ ーンが異な る よ う にエ ッ チ ング加工を行 う 必要がある。 従 つ て、 画素電極の形成工程が繁雑にな り 、 液晶パネルの製造費用 が 上昇する等、 製品コ ス ト の低減化を妨げてい る 。 特に、 プラ スチ ッ ク液晶パネルの場合には、 プラ スチ ッ ク基板自体が高価である う え に、 ガラ ス基板等に比べて耐熱性に劣 り 、 透明電極の形成や加工に 困難性が伴う ので、 一層のコ ス ト 高を招来 して い る 。 発 明 の 閧 示
一群の本発明は、 上記現状に鑑みなされた も のであ り 、 支持部材 を形成する際のマス ク の位置合わせ工程を必要 とせず、 製造コ ス ト の低減を図る こ とがで き る と と も に、 支持部材の 占める面積を小さ く して コ ン ト ラ ス ト 比を一層高 く する こ とが容易にで き る液晶表示 素子およびその製造方法の提供を 目的 と してい る 。
ま た、 本発明は、 明る く 、 高コ ン ト ラ ス ト 比で、 反射型液晶表示 素子に も適用可能であ る う え、 視差に起因する 色ずれがな く 、 しか も、 簡便な方法で、 且つ製造上の歩留ま り を向上する よ う に した液 晶表示素子及びその製造方法を提供する こ と を 目 的 と する 。
ま た本発明は、、 コ ンタ ク ト ホール形成工程を簡略化 し、 且つ電極 と導電部材と の確実な導通を得る こ とがで き る よ う に した液晶表示 素子を提供する こ と を 目 的 とする。
ま た、 本発明は、 樹脂フ ィ ルムに電極をスノ ッ 夕成膜 した こ と に よ る樹脂フ ィ ルムの しわの発生を緩和ま たは防止する こ とがで き る よ う に した液晶表示素子を提供する こ と を 目 的 と する 。
ま た本発明の 目 的は、 歩留ま り を向上させる と共に、 製造コ ス ト を低減化させた液晶表示素子、 及びその製造方法を提供する こ と を 目 的 とする。
上記の課題を解決する ために、 本発明の請求項 1 記載の発明は、 上面に画素電極及び該画素電極に接続さ れた駆動素子が形成されて いる基板と、 前記基板の上方に配置され、 上面に共通電極が形成さ れている樹脂フ ィ ルム と、 前記基板上に立設さ れ、 樹脂フ ィ ルム を 支持する多数の柱状支持部材 と、 前記多数の支持部材 と樹脂フ ィ ル ム間にそれぞれ介在 し、 樹脂フ ィ ルム と支持部材と を接着する接着 層 と、 前記基板と前記樹脂フ ィ ルム と の間に液晶が封入されて構成 される液晶層 と、 を有 し、 前記接着層は熱可塑性を有する材料か ら 成 り 、 接着層に熱可塑性を発現させて樹脂フ ィ ルム と支持部材 と の 接着状態を得る よ う に した こ と を特徴と する。
上記の如 く 、 基板 と樹脂フ ィ ルム と の間に間隙を設け、 こ の間隙 に液晶を封入 して液晶層を構成する よ う に したので、 液晶表示素子 における液晶の占める割合を高 く する こ とがで き、 実質的な開口率 が上が り 、 高いコ ン ト ラ ス ト 比 と 明るい表示を実現する こ とがで き る。
ま た、 接着層に熱可塑性を発現させて、 支持部材 と樹脂フ ィ ル ム と を接着 してい る ため、 樹脂フ ィ ルムが支持部材に沿っ て変形 し、 液晶を封入する ための間隙が狭 く な る とい う 事態を未然に防止す る こ とがで き、 基板 と樹脂フ ィ ル ム と が一定間隔に保持される 。 よ つ て、 液晶層の厚みが一定に保持され、 表示性能が向上する。
ま た、 請求項 2 記載の発明は、 上面に画素電極及び該画素電極に 接続された駆動素子が形成された透明な基板と、 こ の基板の上方 に 配置された複数の樹脂フ ィ ルムであ って、 最上位置の樹脂フ ィ ルム の上面には共通電極が形成され、 その他の樹脂フ ィ ルムの上面には 画素電極が形成されている、 その よ う な複数の樹脂フ ィ ルム と 、 基 板 と樹脂フ ィ ルム間並びに樹脂フ ィ ルム相互間にそれぞれ多数の柱 状支持部材が介在 して形成された各間隙内に液晶が封入されて構成 さ れた複数の液晶層 と を有 し、 前記基板の上面には前記各樹脂フ ィ ルム上の画素電極にそれぞれ対応 した駆動素子が備え られてお り 、 こ の樹脂フ ィ ルム上の画素電極に関連 して設け ら れた立体配線に よ り 前記樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と駆動素子 と が電気的に接続さ れ た構造の液晶表示素子であ って、 前記各支持部材 と樹脂フ ィ ルム間 には、 接着層が介在 してお り 、 前記接着層は熱可塑性を有する材料 か ら成 り 、 接着層に熱可塑性を発現させて樹脂フ イ ルム と支持部材 との接着状態を得てお り 、 基板 と樹脂フ ィ ルム間に存在する支持 部材と、 樹脂フ ィ ルム相互間に存在する 支持部材 とは、 基板に平行 な面に関 してほぼ同一位置に存在 して い る こ と を特徴とする。
請求項 1 記載の発明 と 同様な作用 を奏する、 樹脂フ ィ ルム を使用 した多層構造の液晶表示素子が構成される。 ま た、 支持部材が基板 と樹脂フ ィ ルム間に存在する 支持部材 と、 樹脂フ ィ ルム相互間に存 在する 支持部材とは、 基板に平行な面に関 してほぼ同一位置に存在 してい る こ とか ら 、 支持部材は基板に垂直方向に一直線状に配列 し てい る こ と にな る 。 こ れに よ り 、 各層の樹脂フ ィ ルム を確実に支持 する こ とがで き、 各層間での支持部材の位置ずれに起因 した支持部 材の変形や、 液晶層の破壊を防止で き る 。
ま た、 請求項 3 又は 4 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 記載の液晶 表示素子において、 前記樹脂フ ィ ルムは、 熱可塑性を有さない材料 ま たは接着層よ り も熱可塑性を発現する温度が高い熱可塑性を有す る材料であ り 、 前記支持部材は、 熱可塑性を有さ ない材料ま たは接 着層 よ り も熱可塑性を発現する温度が高い熱可塑性を有する材料ま たは接着処理の前に硬化処理される も のであ る こ と を特徴とする。 上記構成の樹脂フ ィ ル ム と 支持部材 と の組合わせに よ り 、 樹脂フ イ ルムや支持部材に変形が生 じ る こ と な く 、 樹脂フ ィ ルム と支持部 材 と が接着された液晶表示素子が構成さ れる。 ま た、 請求項 5 記載の発明は、 請求項 2 記載の液晶表示素子にお いて、 前記液晶層 と前記樹脂フ ィ ルム とは各 3 組積層され、 3 つの 液晶層を構成する液晶はそれそれ異な る色の 2 色性色素を含むゲス ト ホス ト 液晶であ る こ と を特徴 と する。
上記構成に よ り 、 フ ルカ ラ一表示が可能な液晶表示素子が構成さ れる。
ま た、 請求項 6 又は 7 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 に記載の液 晶表示素子において、 前記基板は透明基板であ り 、 前記支持部材ぉ よび前記接着層は、 基板表面の支持部材形成箇所に遮光膜を形成 し こ の遮光膜を フ ォ ト マス ク と して フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法に よ り 形成 さ れたポジ形フ ォ ト レ ジス ト であ る こ と を特徴と する。
こ の よ う に構成さ れている こ と に よ り 、 支持部材の位置精度が高 いので、 支持部材の 占める面積を小さ く して コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ とが容易にで き る。
ま た、 特に多層構造の場合、 各層間での支持部材の位置ずれが可 及的に低減する。
ま た、 請求項 8 又は 9 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 記載の液晶 表示素子において、 前記基板は透明基板であ り 、 前記支持部材お よ び前記接着層は、 基板表面の支持部材形成箇所以外の部分に遮光膜 を形成 しこ の遮光膜を フ ォ ト マス ク と して フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法に よ り 形成されたネガ形フ ォ ト レ ジス ト である こ と を特徴と する。 こ の構成において も、 上記請求項 6 又は 7 記載の発明 と 同様に 支 持部材の位置精度が向上する 。
ま た、 請求項 1 0 又は 1 1 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 記載の 液晶表示素子において、 前記多数の支持部材の う ち画素領域内にお いて存在する支持部材相互の間隔が、 1 5 〃 m ~ l 0 0 〃 mの範囲 内にあ る こ と を特徴と する 。
支持部材の相互の間隔を規制する のは、 支持部材の間隔が大きす ぎ る と、 支持部材 と支持部材の間で樹脂フ ィ ルム がた るみ、 基板 と 樹脂フ ィ ルム の間隔が一定に維持で きず、 色ム ラ やコ ン ト ラ ス ト 比 の低下の原因 となる か らであ る。
ま た、 支持部材の間隔が小さ す ぎ る と、 支持部材の本数が多す ぎ て開口率の低下を招 く か らであ る。
ま た、 請求項 1 2 又は 1 3 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 記載の 液晶表示素子において、 前記樹脂フ ィ ル ム の厚みが 0 . 5 m ~ l 0 /z mである こ と を特徴と する。
樹脂フ ィ ルムの厚みを規制する のは、 以下の理由 に よ る。 即ち、 樹脂フ ィ ルム の厚みの平均が 0 . 5 m よ り も 小さ い場合は、 樹脂 フ ィ ルム に しわが発生 し易いか ら である。 樹脂フ ィ ルムの厚みの平 均が 1 θ ί ΐηよ り も大きい場合は、 液晶層に印加さ れる電圧に比べ て樹脂フ ィ ルム での電圧降下が大き く な り 過ぎ る か らであ る 。
ま た、 請求項 1 4 又は 1 5 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 記載の 液晶表示素子において、 前記樹脂フ ィ ルム の比抵抗が 1 0 1 ° Ω - c m以下である こ と を特徴と する。
こ の よ う に、 樹脂フ ィ ルムの比抵抗を規定する のは、 次の理由 に よ る 。 即ち、 樹脂フ ィ ルム の比抵抗が 1 0 1 ° Ω . c mよ り も大き い場合には、 液晶層に印加される電圧に比べて樹脂フ イ ルムでの電 圧降下が大き く な り 過ぎ る か ら であ る。
ま た、 請求項 1 6 又は 1 7 記載の発明は、 請求項 2 又は請求項 5 に記載の液晶表示素子において、 前記複数の樹脂フ ィ ルムは、 光学 異方性を有する樹脂フ ィ ル ム で あ っ て、 かつ、 樹脂フ ィ ルム の遅相 軸が全て 同 じ方向 と な る よ う に配置さ れてい る こ と を特徴と する。 上記構成に よ り 、 樹脂フ ィ ルム の光学異方性に よ る 光の減衰を抑 え、 明る い表示を実現する こ とがで き る。
ま た、 請求項 1 8 又は 1 9 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 記載の 液晶表示素子において、 前記樹脂フ ィ ルム が通気性を有 し、 前記共 通電極は、 反射性を有する金属材料か ら成 り 、 外気中の酸素や水分 が樹脂フ ィ ルム を介 して素子内に侵入する の を防止する ための遮蔽 膜を兼ねている こ と を特徴とする。
上記構成に よ り 、 樹脂フ ィ ルム が通気性を有する場合に、 外気よ り 酸素や水分が液晶層内に浸入する こ と に起因する 表示性能の低下 を防止する こ とがで き る。
ま た、 請求項 2 0 又は 2 1 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 記載の 液晶表示素子において、 前記樹脂フ ィ ルム が通気性を有 し、 外気中 の酸素や水分が樹脂フ ィ ルム を介 して素子内に侵入する のを防止す る ための遮蔽膜が共通電極上に形成されている こ と を特徴とする。 こ の構成において も上記請求項 1 8 , 1 9 記載の発明 と 同様の作 用 · 効果を奏する 。
ま た、 請求項 2 2 又は 2 3 記載の発明は、 請求項 2 0 又は 2 1 記 載の液晶表示素子において、 前記共通電極は透明電極であ り 、 前記 遮蔽膜は反射特性を有する金属材料か ら成 り 反射板を兼ねている こ と を特徴とする。
別途、 反射板を設ける必要がな く 、 しかも酸素等の浸入に起因 し た表示性能の低下を防止する こ とがで き る。
ま た、 請求項 2 4 又は 2 5 記載の発明は、 請求項 1 又は 2 記載の 液晶表示素子において、 前記共通電極は透明電極であ り 、 こ の共通 電極上には表面に微細な多数の凹凸形状を有する透明な樹脂層が形 成さ れ、 こ の樹脂層上にはその表面形状に応 じた凹凸形状の反射膜 が形成されて い る こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 反射膜の光反射特性が拡散性 と な り 、 反射膜が 鏡面性の場合に比べて、 光源の映 り 込みな どに よ る表示性能の低下 を防 ぐ こ とがで き る。
ま た、 請求項 2 6 記載の発明は、 上面に画素電極及び該画素電極 に接続された駆動素子が形成さ れた基板 と、 前記基板の上方に配置 された樹脂フ ィ ルム と 、 前記基板上に立設され、 樹脂フ ィ ルム を 支 持する多数の柱状支持部材と、 前記多数の支持部材と樹脂フ ィ ル ム 間にそれそれ介在 し、 樹脂フ ィ ルム と支持部材 と を接着する接着層 と、 前記基板 と前記樹脂フ ィ ル ム と の間に液晶が封入されて構成さ れる液晶層 と、 を有 し、 前記接着層は、 熱可塑性を有する材料か ら 成 り 、 接着層に熱可塑性を発現させて樹脂フ ィ ルム と支持部材 と の 接着状態を得てお り 、 樹脂フ ィ ルム上面には、 表面に微細な多数の 凹凸形状を有する透明な樹脂層が形成され、 こ の樹脂層上にはその 表面形状に応 じた凹凸形状の反射膜が形成されてお り 、 こ の反射膜 が共通電極を兼ねている こ と を特徴する。
上記請求項 2 4 , 2 5 記載の発明の作用に加えて、 別途反射膜を 設ける必要がな く 、 薄型化が図れる と共に、 部品点数の低減が図れ る 。
ま た、 請求項 2 7 記載の発明は、 上面に画素電極及び該画素電極 に接続された駆動素子が形成さ れた基板と、 こ の基板の上方に配置 さ れた複数の樹脂フ ィ ルムであ って、 最上位置の樹脂フ ィ ルム以外 の他の樹脂フ ィ ルムの上面には画素電極が形成されている、 その よ う な複数の樹脂フ ィ ルム と、 基板 と樹脂フ ィ ルム間並びに樹脂フ ィ ルム相互間にそれそれ多数の柱状支持部材が介在 して形成された各 間隙内に液晶が封入さ れて構成された複数の液晶層 と を有 し、 前記 基板の上面には前記各樹脂フ ィ ルム上の画素電極にそれそれ対応 し た駆動素子が備え ら れてお り 、 こ の樹脂フ ィ ルム上の画素電極に関 連 して設け られた立体配線に よ り 前記樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と 駆動素子 とが電気的に接続さ れた構造の液晶表示素子であって、 前 記各支持部材と樹脂フ ィ ルム間には、 接着層が介在 してお り 、 前記 接着層は、 熱可塑性を有する材料か ら成 り 、 接着層に熱可塑性を発 現させて樹脂フ ィ ルム と支持部材 と の接着状態を得てお り 、 基板 と 樹脂フ ィ ルム間に存在する支持部材 と、 樹脂フ ィ ルム相互間に存在 する支持部材 とは、 基板に平行な面に関 してほぼ同一位置に存在 し てお り 、 前記最上位置の樹脂フ ィ ルム上面には、 表面に微細な多数 の凹凸形状を有する透明な樹脂層が形成され、 こ の樹脂層上にはそ の表面形状に応 じた凹凸形状の反射膜が形成されてお り 、 こ の反射 膜が共通電極を兼ねている こ と を特徴する 。
上記請求項 2 4, 2 5 記載の発明の作用に加えて、 別途反射膜を 設ける必要がな く 、 薄型化が図れる と共に、 部品点数の低減が図れ る 。
ま た、 請求項 2 8 記載の発明は、 液晶表示素子の製造方法であ つ て、 画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形成された透 明な基板上に多数の柱状支持部材を形成する 支持部材形成工程 と、 前記各支持部材上に接着層を形成する接着層形成工程 と、 前記接着 層を介 して樹脂フ ィ ルム を支持部材上に重ね、 こ の状態で加熱す る こ と に よ り 、 基板 と樹脂フ ィ ルム と の間に間隙を保ち なが ら前記支 持部材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる樹脂フ ィ ルム貼合わせ 工程 と、 前記樹脂フ ィ ルム の上面に共通電極を形成する共通電極形 成工程 と、 前記基板と前記樹脂フ ィ ルム と の間に液晶を封入する液 晶封入工程と、 を含むこ と を特徴と する 。 上記構成に よ り 、 極めて薄い樹脂フ ィ ル ム を支持部材上に容易に 接着する こ とがで き る。 ま た、 基板 と樹脂フ ィ ルム と の間隙に液晶 を封入 して液晶層を構成する よ う に したので、 液晶表示素子におけ る液晶の占める割合を高 く する こ と がで き、 実質的な開口率が上が り 、 高い コ ン ト ラ ス ト 比 と明る い表示を実現 した液晶表示素子を製 造する こ とがで き る。
ま た、 封止膜と して樹脂フ ィ ルム を使用 し、 こ の樹脂フ ィ ル ム を 支持部材に接着層を介 して接着する よ う に したので、 本発明の基礎 と な る発明において、 問題と なるおそれのあ る製造上の歩留ま り の 低下を未然に防止する する こ とが可能とな る。
ま た、 請求項 2 9 記載の発明は、 液晶表示素子の製造方法であ つ て、 画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形成された透 明な基板上に多数の支持部材を形成する支持部材形成工程 と、 前記 各支持部材上に接着層を形成する接着層形成工程 と、 前記接着層を 介 して樹脂フ ィ ル ム を支持部材上に重ね、 こ の状態で加熱する こ と に よ り 、 基板 と樹脂フ ィ ルム と の間に間隙を保ちなが ら前記支持部 材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる樹脂フ ィ ルム貼合わせ工程 と、 前記樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する工程 と、 前記樹脂フ ィ ル ム 上に画素電極を形成する と と も に、 前記開口 を通 じて前記基板上の 対応する駆動素子 と前記樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と を電気的に接 続する工程 と、 基板上に液晶を封入する領域 と樹脂フ ィ ルム と を交 互に積層する積層工程であって、 基板上に貼 り 合わせた樹脂フ ィ ル ム上に支持部材を形成する工程と、 前記支持部材上に接着層を形成 する工程 と、 前記支持部材上に樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる工程 と 、 前記樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する工程と、 前記樹脂フ ィ ルム上 に画素電極を形成する と と も に、 前記開口 を通 じて前記基板上の対 応する駆動素子 と前記樹脂フ ィ ル ム上の画素電極 と を電気的に接続 する工程を、 少な く と も 1 回行な う こ と に よ り 、 液晶封入領域と樹 脂フ ィ ルム と を交互に積層する、 その よ う な積層工程 と、 上記積層 工程において最後に貼 り 合わ された樹脂フ ィ ルム上に更に支持部材 を形成 し、 こ の支持部材上に接着層を形成 して支持部材上に最上位 置の樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる工程 と、 前記最上位置の樹脂フ イ ルム上面に共通電極を形成する工程 と、 基板 と樹脂フ ィ ルム の間 の液晶封入領域、 及び樹脂フ ィ ルム相互間の液晶封入領域に、 液晶 を注入する工程 と、 を含むこ と を特徴とする。
上記請求項 2 8 記載の発明 と 同様な作用 を奏する 多層構造の液晶 表示素子を製造する こ と がで き る 。
ま た、 請求項 3 0 記載の発明は、 請求項 2 9 記載の液晶表示素子 の製造方法であ っ て、 前記開口 を形成する工程において、 リ アク テ イ ブイ オ ンエ ッ チ ン グに よ り 樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する こ と を 特徴と する。
上記構成に よ り 、 樹脂フ ィ ルム に確実に開口 を形成する こ とがで ぎ る。
ま た、 請求項 3 1 又は 3 2 記載の発明は、 請求項 2 8 又は請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記樹脂フ ィ ルム貼 合わせ工程が、 加熱 した ロ ーラ一に よ り 、 樹脂フ ィ ルム を押圧す る 工程を含むこ と を特徴 とする 。
上記構成に よ り 、 加熱 した ロ ーラ 一の使用に よ り 、 樹脂フ ィ ルム を支持部材上に短時間で しかも確実に貼 り 合わせる こ とがで き る。 ま た、 請求項 3 3 又は 3 4 記載の発明は、 請求項 3 2 記載の液晶 表示素子の製造方法であ っ て、 前記接着層が熱可塑性を発現する 温 度が、 前記樹脂フ ィ ルムが熱可塑性を発現する温度に比べて低 く な る よ う な材質に選ばれてお り 、 前記加熱ロ ーラ 一に よ り 、 接着層が 可塑性を発現する温度以上で且つ樹脂フ ィ ルムが可塑性を発現する 温度以下に加熱する こ と を特徴とする。
上記構成に よ り 、 加熱 した 口 一ラ ーに よ り 、 接着層が可塑化さ れ 、 支持部材上に樹脂フ ィ ルムが接着層を介 して接着さ れる。 こ の と き、 支持部材お よび樹脂フ ィ ル ムは可塑化 しないため、 樹脂フ ィ ル ムが支持部材に沿って変形 した り 、 支持部材が破壊 した り する こ と が防がれる。 よ って、 支持部材の高さ に相当 する 間隙を維持 しなが ら、 樹脂フ ィ ルム を支持部材上に容易に貼 り 合わせる こ とが可能 と な る。
ま た、 請求項 3 5 又は 3 6 記載の発明は、 請求項 3 2 記載の液晶 表示素子の製造方法であっ て、 前記加熱 した ロ ーラ 一の少な く と も 表面部は、 剛性を有する材料か ら成る こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 樹脂フ ィ ルムが支持部材が食い込んで樹脂フ ィ ルムが変形する こ とがな く 、 樹脂フ ィ ルム を平滑な状態で支持部材 上に接着させる こ と に よ り 、 液晶層の厚みを均一にする こ とがで き 、 表示のム ラ や欠陥を防 ぐ こ とがで き る。
ま た、 請求項 3 7 記載の発明は、 請求項 2 8 記載の液晶表示素子 の製造方法であ って、 支持部材形成工程が、 基板表面の支持部材形 成箇所に遮光膜を形成 し、 こ の遮光膜を覆っ て基板表面に第 1 のポ ジ形 レ ジス ト を塗布後、 基板裏面側か ら遮光膜を フ ォ ト マス ク と し て露光 したのち第 1 ポジ形レ ジス ト 1 を現像液で現像 し、 第 1 のポ ジ形 レ ジス ト を硬化 して、 基板上に支持部材を形成する工程であ り 、 前記接着層形成工程が、 支持部材を形成 した基板上に第 2 のポ ジ形 レ ジス ト を塗布後、 基板裏面側か ら遮光膜を フ ォ ト マス ク と し て露光 したのち第 2 のポジ形レ ジス ト を現像液で現像する こ と に よ り 、 支持部材上に接着層を形成する 工程であ る こ と を特徴と する 。 上記構成に よ り 、 支持部材 と接着層 と のマス ク位置合わせを必要 とせず、 支持部材上に接着層を容易に形成で き、 製造工程を簡素化 で き る。
ま た、 請求項 3 8 又は 3 9 記載の発明は、 請求項 2 8 又は請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 樹脂層形成工程お よ び樹脂フ ィ ルム貼合わせ工程が、 一方の表面に予め接着層が被覆さ れて い る樹脂フ ィ ルム を準備 し、 こ の樹脂フ ィ ルム を、 接着層が被 覆さ れている 面が支持部材に対向する よ う に して支持部材上に重ね 、 こ の状態で加熱する こ と に よ り 前記支持部材上に前記樹脂フ ィ ル ム を貼 り 合わせる工程である こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 支持部材上への接着層形成工程が必要でな く な り 、 製造工程を簡略化で き る。
ま た、 請求項 4 0 又は 4 1 記載の発明は、 請求項 2 8 又は請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記支持部材形成ェ 程において、 前記多数の支持部材の う ち画素領域内において存在す る 支持部材を、 幅が高さ 以上に形成する こ とを特徴と する。
上記構成に よ り 、 例えば、 樹脂フ ィ ルムを支持部材に貼 り 合わせ る ために、 支持部材に樹脂フ ィ ルム を重ねた状態で、 ラ ミ ネ一夕 を 通過させる と きの ロ ーラ 一の圧力に よ って支持部材が破壊される の を抑え る こ とがで き、 製造の歩留ま り を高める こ とがで き る。
ま た、 請求項 4 2 又は 4 3 記載の発明は、 請求項 2 8 又は請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であ っ て、 前記樹脂フ ィ ル ム の 厚みが 0 . 5 〃 m ~ 1 0 mであ る こ と を特徴と する 。
樹脂フ ィ ル ム の厚みを規制する のは、 以下の理由 に よ る。 即ち、 樹脂フ ィ ルムの厚みの平均が 0 . 5 // m よ り も 小さ い場合は、 樹脂 フ ィ ルム に しわが発生 し易いか ら であ る。 樹脂フ ィ ル ム の厚みの平 均が 1 θ Λί ΐηよ り も大きい場合は、 液晶層に印加される電圧に比べ て樹脂フ ィ ルムでの電圧降下が大き く な り 過ぎ る か らである。
ま た、 請求項 4 4 又は 4 5 記載の発明は、 請求項 2 8 又は請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記樹脂フ ィ ルム の 主成分がポ リ エステル樹脂であ る こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 樹脂フ ィ ル ム が必要な強度を有 し、 製造時にお いて、 樹脂フ ィ ルム に破断が起こ り に く く 、 製造の歩留ま り を向上 させる こ とがで き る。 ま た、 ポ リ エステル樹脂は透明であ り 、 可視 光波長域での光の減衰が小さ いため、 液晶表示素子 と して明る い表 示を実現で き る。
ま た、 請求項 4 6 記載の発明は、 請求項 2 8 記載の液晶表示素子 の製造方法であ って、 前記基板上の支持部材と樹脂フ イ ルム と を貼 り 合わせる工程中において、 基板と樹脂フ ィ ルム と の間隙と外部 と を通気させる ための通気口 を形成する こ と を特徴とする。
上記構成に よ り 、 加熱ま たは真空引 き を伴う 工程において、 通気 口 における通気に よ り 、 基板 と樹脂フ ィ ルム と の間隙の気体が膨張 する ために起こ る樹脂フ ィ ル ム の破断を防 ぐ こ とがで き、 歩留ま り の低下が抑え られる。
ま た、 請求項 4 7 記載の発明は、 請求項 2 9 記載の液晶表示素子 の製造方法であ って、 前記基板上の支持部材 と樹脂フ ィ ルム と を貼 り 合わせる工程中 において、 基板と樹脂フ ィ ルム との間隙と外部 と を通気させる ための通気口 を形成 し、 前記樹脂フ ィ ルム上の支持部 材と樹脂フ ィ ルム と を貼 り 合わせる 工程中において、 樹脂フ ィ ル ム 相互間の間隙と外部 と を通気させる ための通気口 を形成する こ と を 特徴 と する。 上記構成に よ り 、 加熱または真空引 き を伴 う 工程において、 通気 口 における通気に よ り 、 基板 と樹脂フ ィ ルム と の間隙、 ま たは樹脂 フ ィ ルム同士の間隙の気体が膨張する ために起こ る樹脂フ ィ ルム の 破断を防 ぐ こ とがで き、 歩留 ま り の低下が抑え ら れる 。
ま た、 請求項 4 8 記載の発明は、 請求項 4 6 記載の液晶表示素子 の製造方法であって、 基板上の表示部分の周辺で、 部分的に接着さ せない箇所を残 して基板と樹脂フ ィ ルム と を接着する こ と に よ り 、 接着させなかっ た箇所を通気口 と して設けた こ と を特徴とする。
上記構成に よ り 、 通気口 を容易に形成する こ とがで き、 製造工程 の簡素化が図れる。
ま た、 請求項 4 9 記載の発明は、 請求項 4 7 記載の液晶表示素子 の製造方法であって、 基板上の表示部分の周辺で、 部分的に接着さ せない箇所を残 して樹脂フ ィ ルム と樹脂フ ィ ルム と を接着する こ と に よ り 、 接着させなかっ た箇所を通気口 と して設けた こ と を特徴と する 。
上記構成に よ り 、 通気口 を容易に形成する こ とがで き、 製造工程 の簡素化が図れる。
ま た、 請求項 5 0 又は 5 1 記載の発明は、 請求項 4 8 又は請求項 4 9 記載の液晶表示素子の製造方法であっ て、 前記通気口内壁に、 表面張力を低下させる処理を施すこ と を特徴 と する。
上記構成に よ り 、 加熱ま たは真空引 きの工程 と溶液に浸漬する ェ 程 と を交互に実施する際に、 通気口の開口 と閉口 を繰 り 返す必要が ないため、 製造工程を簡素化で き る 。
ま た、 請求項 5 2 記載の発明は、 請求項 4 6 の液晶表示素子の製 造方法であっ て、 基板上の表示部分の周辺で基板 と樹脂フ ィ ルム と を接着 して、 基板と樹脂フ ィ ルム間の液晶封入領域を一旦密閉状態 と した後、 樹脂フ ィ ルムの表示部分以外の部分に貫通穴を形成 して 通気口 と した こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 通気口 を容易に形成する こ と がで き、 製造工程 の簡素化が図れる 。
ま た、 請求項 5 3 記載の発明は、 請求項 4 7 の液晶表示素子の製 造方法であ っ て、 基板上の表示部分の周辺で、 基板と樹脂フ ィ ルム 並び樹脂フ ィ ルム 同士を接着 して、 基板と樹脂フ ィ ルム間並びに樹 月旨フ ィ ルム相互間のそれそれの液晶封入領域を一旦密閉状態 と した 後、 樹脂フ ィ ルムの表示部分以外の部分に貫通穴を形成 して通気口 と した こ と を特徴 と する 。
上記構成に よ り 、 通気口 を容易に形成する こ と がで き、 製造工程 の簡素化が図れる 。
ま た、 請求項 5 4 又は 5 5 記載の発明は、 請求項 4 6 又は請求項 4 7 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記通気口 を塞 ぐ ェ 程を含む こ と を特徴 と する。
上記構成に よ り 、 溶液への浸漬を伴う 工程において、 前記通気口 を通 して溶液が浸入する のを防止する こ とがで き、 歩留 ま り を高め る こ とがで き る。
ま た、 請求項 5 6 記載の発明は、 液晶表示素子の製造方法であ つ て、 画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形成された透 明な基板上に多数の柱状支持部材を形成する支持部材形成工程と、 前記各支持部材上に接着層を形成する接着層形成工程 と、 前記接着 層を介 して樹脂フ ィ ルム を支持部材上に重ね、 こ の状態で加熱す る こ と に よ り 、 基板 と樹脂フ ィ ルム との間に間隙を保ち なが ら前記支 持部材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる貼合わせ工程 と、 前記 樹脂フ ィ ルム上面に、 フ ォ ト レ ジス ト を塗布 し、 マス ク露光及び現 像を行っ た後、 焼成する こ と に よ り 表面に微細な多数の凹凸形状を 有する樹脂層を形成する工程 と、 前記樹脂層上に共通電極を兼ねる 反射膜を成膜する工程 と、 前記基板と前記樹脂フ ィ ルム と の間に液 晶を封入する液晶封入工程 と、 を含む こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 拡散性を有する反射膜を液晶層上に容易に形成 する こ とがで き る。
ま た、 請求項 5 7 記載の発明は、 液晶表示素子の製造方法であ つ て、 画素電極及び該画素電極に接続さ れた駆動素子が形成された透 明な基板上に多数の柱状支持部材を形成する 支持部材形成工程 と、 前記各支持部材上に接着層を形成する接着層形成工程と、 前記接着 層を介 して樹脂フ ィ ルム を支持部材上に重ね、 こ の状態で加熱する こ と に よ り 、 基板と樹脂フ ィ ルム との間に間隙を保ちなが ら前記支 持部材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる貼合わせ工程と、 前記 樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する工程 と、 前記樹脂フ ィ ルム上に画素 電極を形成する と と も に、 前記開口 を通 じて前記基板上の対応す る 駆動素子 と前記樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と を電気的に接続する ェ 程 と、 基板上に液晶を封入する領域 と樹脂フ ィ ルム と を交互に積層 する積層工程であっ て、 基板上に貼 り 合わせた樹脂フ ィ ルム上に支 持部材を形成する工程 と、 前記支持部材上に接着層を形成する工程 と、 前記支持部材上に樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる工程と、 前記樹 脂フ ィ ルム に開口 を形成する工程 と、 前記樹脂フ ィ ルム上に画素電 極を形成する と と も に、 前記開口 を通 じて前記基板上の対応する駆 動素子 と前記樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と を電気的に接続する工程 を、 少な く と も 1 回行な う こ と に よ り 、 液晶封入領域と樹脂フ ィ ル ム と を交互に積層する、 その よ う な積層工程 と、 上記積層工程にお いて最後に貼 り 合わ さ れた樹脂フ ィ ルム上に更に支持部材を形成 し 、 こ の支持部材上に接着層を形成 して支持部材上に最上位置の樹脂 フ ィ ルムを貼 り 合わせる工程と、 前記最上位置の樹脂フ ィ ルム上面 に、 フ ォ ト レ ジス ト を塗布 し、 マス ク露光及び現像を行っ た後、 焼 成する こ と に よ り 表面に微細な多数の凹凸形状を有する樹脂層を形 成する工程と、 前記樹脂層上に共通電極を兼ねる反射膜を成膜する 工程 と、 基板と樹脂フ ィ ルム の間の液晶封入領域、 及び樹脂フ ィ ル ム相互間の液晶封入領域に、 液晶を注入する工程と、 を含むこ と を 特徴と する。
上記構成に よ り 、 拡散性を有する反射膜を液晶層上に容易に形成 す る こ とがで き る。
請求項 5 8 記載の発明は、 樹脂フ ィ ル ム構造体であ っ て、 電極が 形成された少な く と も 2 以上の樹脂フ ィ ルム を含む複数の樹脂フ ィ ルムが積層され、 樹脂フ ィ ルム間に液晶層が介在 した構造の液晶表 示素子において、 前記積層樹脂フ ィ ルム を全て貫通 して コ ンタ ク ト ホールが形成され、 予め定めた電極がそれぞれ少な く と も部分的に コ ン タ ク ト ホール内に突出 して露出 した状態 と な っ てお り 、 こ れ ら の露出部にコ ンタ ク ト ホール内周面に形成されてい る導電部材がそ れぞれ接触 して、 予め定めた電極同士が電気的に接続されている こ と を特徴とする。
上記の如 く 、 積層樹脂フ ィ ルム を全て貫通 してコ ン タ ク ト ホール を形成する よ う に したので、 積層された樹脂フ ィ ルム上のいずれの 電極同士であ って も接続する こ とが可能と な る。 ま た、 露出部分に 導電部材が接触する構成に よ り 、 電極と導電部材 と の接触面積が大 と な る。 そのため、 電極と導電部材 との確実な導通を得る こ とがで き る 。 こ の結果、 電気的接続状態に関 して信頼性の向上 した液晶表 示素子が得 られる。 ま た請求項 5 9 記載の発明は、 請求項 5 8 記載の液晶表示素子に おいて、 樹脂フ ィ ルムは少な く と も第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の樹 脂フ ィ ルム を有 し、 第 2 の樹脂フ ィ ルムのコ ン タ ク ト ホールの径が 前記第 2 の樹脂フ ィ ルムに隣接する第 1 の樹脂フ ィ ルムのコ ン 夕 ク ト ホールの径よ り も大き く 形成されてお り 、 前記第 1 の樹脂フ ィ ル ム上の電極がコ ン タ ク ト ホール内に突出 して露出 して いる こ と を特 徴とする。
上記構成に よ り 、 コ ンタ ク ト ホール内周面が階段状 と な り 、 第 1 の樹脂フ ィ ルム上の電極が段差面を構成する こ と にな る。 従っ て、 電極と導電部材 とが確実に導通する こ と にな る。
ま た請求項 6 0 記載の発明は、 電極が形成された樹脂フ ィ ルム が 複数積層され、 樹脂フ ィ ルム間に液晶層が介在 した構造の液晶表示 素子において、 前記積層樹脂フ ィ ルム全て貫通する コ ン タ ク ト ホ一 ルが複数形成さ れ、 こ のコ ンタ ク ト ホール内周面に形成されてい る 導電部材を介 して前記複数の電極の う ち予め定めた電極同士が電気 的に接続されてい る こ と を特徴と する。
上記の如 く 、 コ ンタ ク ト ホール毎に電極同士を接続する こ と に よ り 、 所望の複数組の電極同士の接続が可能とな る。 従って、 複雑な 立体配線構造を必要 と する場合に、 特に本発明は効果的である 。
ま た請求項 6 1 記載の発明は、 請求項 6 0 記載の液晶表示素子に おいて、 前記予め定めた電極はコ ンタ ク ト ホール内に露出 した状態 と な ってお り 、 こ の露出部に導電部材が接続されて い る こ と を特徴 と する。
上記の如 く 、 露出部分に導電部材が接触する構成に よ り 、 電極 と 導電部材との接触面積が大 と な る。 そのため、 電極 と導電部材と の 確実な導通を得る こ とがで き る。 ま た請求項 6 2 記載の発明は、 請求項 6 1 記載の液晶表示素子に おいて、 前記予め定めた電極はコ ンタ ク ト ホール内に突出 して露出 している こ と を特徴する。
上記の如 く 、 電極がコ ンタ ク ト ホール内に突出 して露出する こ と に よ り 、 電極と導電部材と の接触面積がよ り 一層大と なる。 そのた め、 電極と導電部材との よ り 確実な導通を得る こ とがで き る。
ま た請求項 6 3 記載の発明は、 少な く と も第 1 お よび第 2 の駆動 素子が形成さ れた基板 と、 少な く と も、 第 1 の電極が形成された第 1 の樹脂フ ィ ルム と、 こ の第 1 の樹脂フ ィ ルム に積層される第 2 の 電極が形成された第 2 の樹脂フ ィ ル ム と を、 有 し、 基板 と樹脂フ ィ ルム間並びに樹脂フ ィ ルム 同士間に液晶層が介在 した構造の液晶表 示素子において、 少な く と も、 基板 と第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の 樹脂フ ィ ルム とが積層された状態で、 第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の 樹脂フ ィ ルム を少な く と も貫通する第 1 のコ ンタ ク ト ホール と、 第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の樹脂フ ィ ルム を少な く と も貫通する第 1 のコ ン タ ク ト ホール と は異な る第 2 のコ ン タ ク ト ホールが少な く と も形成され、 第 1 の コ ンタ ク ト ホール内周面に形成されている第 1 の導電部材を介 して第 1 の駆動素子 と第 1 の電極が電気的に接続さ れ、 第 2 のコ ンタ ク ト ホ一ル内周面に形成されてい る第 2 の導電部 材を介 して第 2 の駆動素子 と第 2 の電極が電気的に接続されてい る こ と を特徴とする。
上記の如 く 、 駆動素子 と電極 とが電気的に接続する こ と によ り 、 例えば電極への印加電圧を駆動素子に よ り 制御する こ とが可能と な る。
ま た請求項 6 4 記載の発明は、 請求項 6 3 載の液晶表示素子にお いて、 前記第 1 および第 2 の電極はコ ン タ ク 卜 ホール内に露出 した 状態 と な っ てお り 、 こ の露出部に導電部材が接続さ れている こ と を 特徴と する。
上記構成に よ り 、 第 1 および第 2 の電極 と導電部材とが確実に導 通する。
ま た請求項 6 5 記載の発明は、 請求項 6 4 記載の液晶表示素子に おいて、 前記第 1 および第 2 の電極はコ ンタ ク ト ホール内に突出 し て露出 してい る こ と を特徴する。
上記の如 く 、 第 1 お よび第 2 の電極がコ ンタ ク ト ホール内に突出 して露出する こ と に よ り 、 第 1 および第 2 の電極 と導電部材 と の接 触面積がよ り 一層大 と な る。 そのため、 第 1 および第 2 の電極 と導 電部材 と の よ り 確実な導通を得る こ とがで き る。
ま た請求項 6 6 記載の発明は、 請求項 6 5 記載の液晶表示素子に おいて、 第 2 の樹脂フ ィ ルム のコ ン夕 ク ト ホールの径が第 1 の樹脂 フ ィ ルムのコ ンタ ク ト ホールの径ょ り も大き く 形成さ れている こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 コ ンタ ク ト ホール内周面が階段状 と な り 、 第 1 の樹脂フ ィ ルム上の電極が段差面を構成する こ と にな る。 従って、 電極 と導電部材 とが確実に導通する こ と にな る。
ま た請求項 6 7 記載の発明は、 液晶表示素子であ って、 画素電極 および該画素電極に接続された画素スィ ツ チ ン グ素子が形成された 基板 と、 こ の基板上に積層状に配置された複数の樹脂フ ィ ルムであ つ て、 最上位置の樹脂フ ィ ルム上に共通電極が形成され、 その他の 樹脂フ ィ ルム上に画素電極が形成さ れている、 その よ う な複数の樹 脂フ ィ ルム と 、 基板と樹脂フ ィ ルム間並びに樹脂フ ィ ルム相互間に それぞれ配置された液晶層 と、 を有 し、 前記基板上には、 更に前記 樹脂フ ィ ルム上の各画素電極にそれそれ対応 した複数の駆動素子が 備え られてお り 、 基板 と樹脂フ ィ ル ム間並びに樹脂フ ィ ル ム相互間 には立体配線用パ ッ ド がそれぞれ配置され、 全ての立体配線用パ ッ ド及び全ての樹脂フ ィ ルム を全て貫通 して前記各画素電極にそれそ れ対応 した複数のコ ン タ ク ト ホールが形成されてお り 、 各コ ン タ ク ト ホール毎に、 コ ンタ ク ト ホール内周面に形成されている導電部材 を介 して このコ ンタ ク ト ホールに関連する画素電極 と、 こ の画素電 極に対応する駆動素子 とが電気的に接続されてい る こ と を特徴と す る。
上記構成に よ り 、 基板上の駆動素子に よ り 、 各画素電極への印加 電圧を制御する こ と が可能と な り 、 樹脂フ ィ ルム を用いた多層構造 の液晶表示素子が得 られる。
ま た請求項 6 8 記載の発明は、 請求項 6 7 記載の液晶表示素子に おいて、 各コ ンタ ク ト ホール毎に、 前記画素電極がコ ンタ ク ト ホー ル内に露出 した状態 と な ってお り 、 こ の露出部に導電部材が接続さ れてい る こ と を特徴 と する。
上記の如 く 、 画素電極の露出部分に導電部材が接触する構成に よ り 、 電極と導電部材 と の接触面積が大 とな る。 そのため、 電極 と 導 電部材 との確実な導通を得る こ とがで き る。 こ の結果、 電気的接続 状態に関 して信頼性の向上 した多層構造の液晶表示素子が得 ら れる。
ま た請求項 6 9 記載の発明は、 請求項 6 8 記載の液晶表示素子に おいて、 各コ ン タ ク ト ホール毎に、 前記画素電極がコ ンタ ク ト ホ一 ル内に突出 して露出 して いる こ と を特徴とする。
上記の如 く 、 画素電極がコ ン タ ク ト ホール内に突出 して露出す る こ と に よ り 、画素電極 と導電部材 と の接触面積がよ り 一層大とな る。 そのため、 画素電極 と導電部材 との よ り 確実な導通を得る こ とがで ぎ る。 ま た請求項 7 0 記載の発明は、 請求項 6 9 記載の液晶表示素子 に おいて、 上側樹脂フ ィ ルム の コ ン タ ク ト ホールの径が下側樹脂フ ィ ルムのコ ンタ ク ト ホールの径ょ り も大き く 形成されてい る こ と を特 徴と する。
上記構成に よ り 、 コ ンタ ク ト ホール内周面が階段状 と な り 、 下側 樹脂フ ィ ルム上の電極が段差面を構成する こ と にな る 。 従って、 画 素電極 と導電部材とが確実に導通する こ と にな る。
ま た請求項 7 1, 7 2, 7 3 , 7 4 記載の発明は、 液晶表示素子 において、 前記電極が ド ラ イ エ ッ チ ングに対 して耐性を有する材料 か ら成 り 、 前記コ ンタ ク ト ホールが ド ラ イ エ ッチ ング処理に よ り 形 成さ れた ものである こ と を特徴 と する。
上記構成に よ り 、 ド ラ イ エ ッ チ ングに よ り コ ン タ ク ト ホール内に 突出 して露出 した状態が得 られる。
ま た請求項 7 5 記載の発明は、液晶表示素子の製造方法であって、 電極が形成さ れた複数の樹脂フ ィ ルム を積層する樹脂フ ィ ルム積層 工程 と、 積層樹脂フ ィ ルム を全て貫通する コ ンタ ク ト ホールを複数 形成する コ ンタ ク ト ホール形成工程 と、 前記複数のコ ンタ ク ト ホ一 ル内に導電部材を充填 して、 導電部材を介 して前記複数の電極の う ち予め定めた電極同士を電気的に接続する 導電処理工程 と、 を有す る こ と を特徴とする。
上記構成に よ り 、 コ ン タ ク ト ホール形成工程を 1 回行う だけで複 数組の所望電極同士を導通させる こ とがで き る。 従って、 従来例 に 比べて コ ンタ ク ト ホール形成工程の簡略化を図る こ と がで き る。
ま た請求項 7 6 記載の発明は、液晶表示素子の製造方法であって、 少な く と も第 1 および第 2 の駆動素子が形成された基板上に、 第 1 の電極が形成された第 1 の樹脂フ ィ ル ム と、 第 2 の電極が形成さ れ た第 2 の樹脂フ ィ ルム と を こ の順序で積層する樹脂フ ィ ルム積層ェ 程 と、 第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の樹脂フ ィ ルム を少な く と も貫通 する第 1 のコ ン タ ク ト ホールを形成する と共に、 第 1 の樹脂フ ィ ル ム と第 2 の樹脂フ ィ ルム を少な く と も貫通する第 1 のコ ンタ ク ト ホ —ル とは異な る第 2 のコ ンタ ク ト ホールを形成する コ ンタ ク ト ホ一 ル形成工程 と、 前記第 1 のコ ンタ ク ト ホール内に第 1 の導電部材を 充填する と共に、 前記第 2 のコ ンタ ク ト ホール内に第 2 の導電部材 を充填 し、 第 1 の導電部材を介 して前記第 1 の駆動素子を前記第 1 の電極に電気的に接続する と共に、 第 2 の導電部材を介 して前記第 2 の駆動素子を前記第 2 の電極に電気的に接続する 導電処理工程 と、 を有する こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 コ ンタ ク ト ホール形成工程を 1 回行 う だけで複 数組の所望電極と駆動素子を導通させる こ とがで き る。 従っ て、 従 来例に比べて コ ン タ ク ト ホール形成工程の簡略化を図る こ とがで き る。
ま た請求項 7 7 記載の発明は、液晶表示素子の製造方法であって、 ド ラ イ エ ッチ ン グに対 して耐性を有する材料か ら成る電極が形成さ れた複数の樹脂フ ィ ルム を積層 し、 こ の積層樹脂フ ィ ルム にコ ン 夕 ク ト ホールを形成 し、 こ のコ ンタ ク ト ホールを介 して前記複数の電 極の う ち予め定めた電極同士を電気的に接続する よ う に した樹脂フ ィ ルム構造体の製造方法であ っ て、 前記予め定めた電極に関 して の み、 樹脂フ ィ ルム上に電極を形成 した後、 コ ン タ ク ト ホールが形成 さ れる電極部分を樹脂フ ィ ルムか ら除去 し、 且つその除去範囲が下 側電極の除去範囲よ り も大き く な る よ う に除去する工程と、 ド ラ イ エ ッ チ ングに よ り コ ンタ ク ト ホールを形成する工程 と、 を含む こ と を特徴と する。 電極は ド ラ イ エ ッ チ ングに耐性を有 し、 樹脂フ ィ ルムは耐性を 有 さ ない。 従っ て、 ド ラ イ エ ッ チ ン グに よ り 、 樹脂フ ィ ルムは除去さ れるが、 電極は除去さ れない。 しかも、 コ ン タ ク ト ホール形成位置 において、 予め定めた電極に関 してのみ、 下側電極除去範囲よ り も 大きい範囲で除去さ れている。 こ れに よ り 、 コ ンタ ク ト ホールが開 け られた と き、 予め定めた電極のみがコ ンタ ク ト ホール内に突出 し て露出 した状態と な る 。 従っ て、 予め定めた電極と導電部材と の確 実な導通状態が得 ら れる こ と にな り 、 予め定めた電極同士の電気的 接続に関する信頼性が向上する。
ま た請求項 7 8 記載の発明は、 液晶表示素子であっ て、 樹脂フ ィ ルム と、 前記樹脂フ ィ ルム上に設け られスパ ッ 夕 に対する耐衝撃性 を有する しわ緩和層 と、 スパ ッ タ 方法に よ り 前記 しわ緩和層上に成 膜された無機材料か ら成る電極 と、 を有する こ と を特徴 と する 。 上記構成に よ り 、 樹脂フ ィ ルム に I T O な ど無機材料の電極を ス ノ ッ 夕成膜 した際に発生する しわを防止で き る。
ま た請求項 7 9 記載の発明は、 請求項 7 8 記載の液晶表示素子に おいて、 前記樹脂フ ィ ルムの厚みが 1 0 mよ り も 小さ い こ と を特 徴とする。
上記の如 く 樹脂フ ィ ルム の厚みを規制する のは以下の理由に よ る 。 即ち、 厚みが 1 0 〃 m よ り も 小さ い場合には、 スパ ッ 夕 に対する 耐 衝撃性が極めて小さ く 、 しわ緩和層を設けない と、 しわの発生が顕 著に生 じる か ら であ る。
ま た請求項 8 0 記載の発明は、 請求項 7 8 記載の液晶表示素子に おいて、 前記緩和層が、 シ リ カ粒子を含む有機樹脂又はア ク リ ル系 樹脂か ら成る こ と を特徴とする。
上記の如 く 、 シ リ カ粒子を含む有機樹脂又はァク リ ル系樹脂は、 スパ ッ 夕 に対する耐衝撃性が大きいので、 確実に しわを防止する こ とがで き る。
ま た請求項 8 1 記載の発明は、 請求項 7 8 記載の液晶表示素子に おいて、 前記樹脂フ ィ ルムが、 基板 と の間にスぺ一サを介在 して 間 隙を保ちなが ら設け ら れてお り 、 前記間隙に液晶が充填されてい る こ と を特徴と する。
上記構成に よ り 、 しわのない樹脂フ ィ ルム を備えた液晶表示素子 が構成される。 こ の結果、 樹脂フ ィ ルム の しわに起因 した不要な散 乱が生 じず、 表示特性の向上を図る こ とがで き る。
請求項 8 2 記載の発明は、 透明な材料か ら成 り 、 反射膜が形成さ れた基板と、 上記基板の反射膜が形成された側に対向 して設け ら れ た封止板と、 上記基板 と封止板 と の間に設け ら れた液晶層 と を有す る液晶表示素子であ って、 上記反射膜に開口部が形成される と と も に、 上記基板と上記封止板と の間における、 上記反射膜の開口部が 形成されている位置に、 感光性樹脂が上記開口部を介 して露光さ れ る こ と に よ り 形成さ れた、 上記封止板を支持する 支持部材が設け ら れている こ と を特徴と してい る。
こ の よ う に構成されてい る こ と に よ り 、 支持部材の位置精度が高 いので、 支持部材の 占める面積を小さ く して コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ とが容易にで き る。
請求項 8 3 の発明は、 請求項 8 2 の液晶表示素子であ って、 上記 感光性樹脂は、 ネガ型 レ ジス ト であ る こ と を特徴と してい る。
これに よ り 、 上記の よ う に感光性樹脂が上記開口部を介 して露光 さ れる こ と に よ り 形成された支持部材を容易に得る こ とがで き る 。 請求項 8 4 の発明は、 請求項 8 3 の液晶表示素子であって、 上記 液晶層は、 高分子 と、 上記高分子中 に分散 して保持さ れた液晶 と を 含む こ と を特徴と している。
これに よ り 、 封止板が液晶層中の高分子に よ っ て支持部材に確実 に固定さ れた液晶表示素子を得る こ とがで き る 。
ま た請求項 8 5 の発明は、 請求項 8 2 の液晶表示素子であ っ て、 上記感光性樹脂は、 上記液晶層を形成する ための液晶 と感光性の高 分子前駆体と を含む混合溶液中の上記高分子前駆体であ る こ と を特 徴と している。
こ れに よ り 、 液晶層が、 混合溶液の露光に よ る 支持部材の形成に 消費さ れて残っ た液晶に よ って形成される ので、 実質的な開口率が 大き く 、 コ ン ト ラ ス ト 比の一層高い液晶表示素子を得る こ とがで き る。
請求項 8 6 の発明は、 請求項 8 2 の液晶表示素子であ って、 上記 液晶層 と封止板と が、 複数組重ねて設け ら れ、 各封止板の間におけ る、 上記反射膜の開口部が形成されている位置に、 感光性樹脂が上 記開口部を介 して露光される こ と に よ り 形成された、 各封止板を支 持する 支持部材が設け られてい る こ と を特徴と して いる。 こ れに よ り 、 カ ラ一画像を表示可能な液晶表示素子を構成する こ とがで き る。
請求項 8 7 の発明は、 請求項 8 6 の液晶表示素子であって、 上記 液晶層 と封止板とが 3 組設け られ、 各液晶層は、 それそれ、 シア ン、 マゼ ン 夕、 ま たはイ エロ一の う ち互いに異な る色の 2 色性色素 と液 晶 と を含むゲス ト ホス ト 液晶を含むこ と を特徴と している。
こ れに よ り 、 フ ルカ ラー画像を表示可能な液晶表示素子を構成す る こ とがで き る。
請求項 8 8 の発明は、 上記基板上に、 上記開口部を有する反射膜 を形成する工程 と、 上記反射膜が形成された基板上に感光性樹脂層 を形成する工程 と、 上記感光性樹脂層を、 上記基板側か ら上記反射 膜の開口部を介 して露光 し、 硬化させる工程と、 上記感光性樹脂層 における、 上記反射膜の遮蔽に よ り 露光されなかっ た部分を現像に よ り 除去 して、 上記支持部材を形成する工程 と、 上記支持部材に上 記封止板を密着させる工程 と、 上記基板と封止板との間に液晶を封 入 して上記液晶層を形成する工程 と を有する こ と を特徴と している。
これに よ り 、 支持部材は、 確実に開口部の位置に形成され、 支持 部材の位置精度を高 く する こ と が容易にで き る ので、 支持部材の位 置ずれに よ る液晶層の破壊等を生 じる こ とな く 支持部材の 占める 面 積を小さ く して、 コ ン ト ラ ス ト 比の高い液晶表示素子を製造する こ とがで き る。 しかも、 別途マス ク を用いる場合の よ う にマス ク の位 置合わせをする必要がないので、 製造コス ト の低減を図る こ と も で ぎ る 。
請求項 8 9 の発明は、 請求項 8 8 の液晶表示素子の製造方法であ つて、 上記感光性樹脂層は、 ネ ガ型 レ ジス ト か ら形成されている こ と を特徴と してい る。
これに よ り 、 支持部材の形成に一般的な材料を適用する こ とがで き る ので、 支持部材を容易、 かつ、 安価な製造コ ス ト で製造する こ とがで き る。
請求項 9 0 の発明は、 請求項 8 8 の液晶表示素子の製造方法であ つ て、 上記液晶層を形成する工程は、 上記基板と封止板との間に、 液晶 と感光性の高分子前駆体と を含む混合溶液を封入する工程 と、 上記混合溶液を上記封止板側か ら露光 し、 上記混合溶液中の高分子 前駆体を硬化させる こ と に よ り 、 高分子 と、 上記高分子中に分散 し て保持さ れた液晶 と を含む上記液晶層を形成する と と も に、 上記封 止板を上記基板に固定する工程 と を含むこ と を特徴と してい る。 これに よ り 、 露光に よ って硬化 した高分子に よ って、 基板と封止 板と を容易、 かつ、 確実に固定する こ とがで き る。
また請求項 9 1 の発明は、 請求項 8 8 の液晶表示素子の製造方法 であって、 上記支持部材に上記封止板を密着させる工程は、 上記支 持部材、 ま たは上記封止板の少な く と も何れか一方に接着剤を塗布 する工程と、 上記封止板を上記基板に固定する接着工程と、 を含む こ と を特徴とする。
また、 請求項 9 2 の発明は、 請求項 9 1 の液晶表示素子の製造方 法であって、 上記接着工程は、 上記支持部材、 ま たは上記封止板の 少な く と も何れか一方に接着剤を塗布する工程を含むこ と を特徴と している。
これら に よ り 、 液晶 と感光性の高分子前駆体と を含む混合溶液を 用いな く て も、 基板と封止板と を容易、 かつ、 確実に固定する こ と がで きる ので、 液晶層における液晶の 占める割合を大き く して、 実 質的な開口率を大き く し、 一層コ ン ト ラス ト 比の高い液晶表示素子 を製造する こ とがで き る。
請求項 9 3 の発明は、 請求項 8 8 の液晶表示素子の製造方法であ つて、 上記封止板上に新たな感光性樹脂層を形成する工程と、 上記 新たな感光性樹脂層を、 上記基板側か ら上記反射膜の開口部および 既に形成された支持部材を介 して露光 し、 硬化させる工程と、 上記 新たな感光性樹脂層におけ る、 上記反射膜の遮蔽に よ り 露光されな かっ た部分を現像に よ り 除去 して、 新たな支持部材を形成する工程 と、 上記新たな支持部材に新たな封止板を密着させる工程と、 上記 既に形成された封止板と上記新たな封止板との間に、 液晶を封入 し て新たな液晶層を形成する工程 と をそれそれ少な く と も 1 回行 う こ と に よ り 、 複数の液晶層を形成する こ と を特徴と している。 これに よ り 、 カ ラ 一画像を表示可能な液晶表示素子を製造する こ とがで き る。
請求項 9 4 の発明は、 基板上に、 上記開口部を有する反射膜を形 成する工程と、 上記基板上における上記反射膜の開口部が形成さ れ た以外の所定の領域に補助支持部材を形成する工程 と、 上記補助支 持部材に上記封止板を密着させる工程 と、 上記基板 と封止板との間 に、 液晶と感光性の高分子前駆体と を含む混合溶液を封入する工程 と、 上記混合溶液を上記基板側か ら上記反射膜の開口部を介 して露 光 し、 上記混合液中の高分子前駆体を上記反射膜の開口部に対応す る位置に析出および硬化させて上記支持部材を形成する と と も に、 残っ た混合液中の液晶に よ り 上記液晶層を形成する工程 と、 を有す る こ と を特徴と している。
これに よ り 、 支持部材は、 確実に開口部の位置に形成され、 支持 部材の位置精度を高 く する こ とが容易にで き る ので、 支持部材の位 置ずれに よ る液晶層の破壊等を生 じる こ とな く 支持部材の 占める面 積を小さ く で き る う え、 液晶層が、 混合溶液の露光に よ る支持部材 の形成に消費されて残っ た液晶に よ って形成さ れる ので、 実質的な 開口率を大き く で き、 コ ン ト ラ ス ト 比の一層高い液晶表示素子を製 造する こ とがで き る。 しかも、 別途マス ク を用い る場合の よ う にマ ス ク の位置合わせをする必要がないので、 製造コ ス ト の低減を図る こ と もで き る。
請求項 9 5 の発明は、 請求項 9 4 の液晶表示素子の製造方法であ つて、 上記補助支持部材を形成する工程は、 上記反射膜が形成され た基板上にネガ型 レ ジス ト層を形成する工程と、 上記ネガ型 レ ジス ト 層を、 上記基板と反対側か ら所定のマス クパタ ー ン を介 して露光 し、 硬化させる工程 と、 上記ネガ型 レ ジス ト 層における、 上記マス クパターンの遮蔽に よ り 露光されなかっ た部分を現像に よ り 除去す る工程 と を有する こ と を特徴と している。
これによ り 、 補助支持部材の形成に一般的な材料を適用する こ と がで き るので、 補助支持部材を容易、 かつ、 安価な製造コス ト で製 造する こ とがで き る。
請求項 9 6 の発明は、 請求項 9 4 の液晶表示素子の製造方法であ つて、 既に形成された封止板上における既に形成された補助支持部 材に対応する位置に新たな補助支持部材を形成する工程と、 上記新 たな補助支持部材に新たな封止板を密着させる工程と、 上記既に形 成された封止板と新たな封止板 と の間に、 液晶 と感光性の高分子前 駆体と を含む新たな混合溶液を封入する工程と、 上記新たな混合溶 液を上記基板側か ら上記反射膜の開口部および既に形成された支持 部材を介 して露光 し、 上記新たな混合液中の高分子前駆体を上記反 射膜の開口部に対応する位置に析出および硬化させて新たな支持部 材を形成する と と も に、 残っ た混合液中の液晶に よ り 新たな液晶層 を形成する工程 と をそれそれ少な く と も 1 回行う こ と に よ り 、 複数 の液晶層を形成する こ と を特徴と している。 ,
これによ り 、 カ ラ一画像を表示可能な液晶表示素子を製造する こ とがで き る。
請求項 9 7 の発明は、 基板上に、 上記開口部を有する反射膜を形 成する工程と、 上記反射膜が形成さ れた基板上に感光性樹脂層を形 成する工程と、 上記基板側か ら、 第 1 のマス キ ング部材に よ っ て、 上記反射膜の開口部の う ちの一部の第 1 の開口部が露出する よ う に 他の第 2 の開口部を覆い、 上記感光性樹脂層を、 上記基板側か ら 上 記反射膜の第 1 の開口部を介 して露光 し、 硬化させる工程 と、 上記 感光性樹脂層における、 上記反射膜およびマス キ ング部材の遮蔽に よ り 露光されなかっ た部分を現像に よ り 除去 して、 上記支持部材の う ちの一部の第 1 の支持部材を形成する工程 と、 上記第 1 の支持部 材に上記封止板を密着させる工程 と、 上記基板と封止板との間に、 液晶 と感光性の高分子前駆体と を含む混合溶液を封入する工程と、 上記基板側か ら、 第 2 のマス キ ング部材に よ って、 上記反射膜の第 1 の開口部を覆い、 上記混合溶液を、 上記基板側か ら上記反射膜の 第 2 の開口部を介 して露光 し、 上記混合液中の高分子前駆体を上記 反射膜の第 2 の開口部に対応する位置に析出および硬化させて上記 支持部材の う ちの他の第 2 の支持部材を形成する と と も に、 残っ た 混合液中の液晶に よ り 上記液晶層を形成する工程 と を有する こ と を 特徴と している。
これに よ り 、 基板 1 と封止板、 および各封止板の間隙が、 第 1 の 支持部材によ り 均一に保たれ、 液晶表示素子の表示色のバラ ンス を 一定に保たれる と と も に、 液晶層が、 混合溶液の露光に よ る支持部 材の形成に消費されて残っ た液晶に よ って形成さ れる ので、 実質的 な開口率が大き く 、 コ ン ト ラ ス ト 比の一層高い液晶表示素子を製造 する こ とがで き る。
請求項 9 8 の発明は、 請求項 9 7 の液晶表示素子の製造方法であ つて、 封止板上に新たな感光性樹脂層を形成する工程 と、 上記基板 側か ら、 上記第 1 のマス キ ング部材に よ って、 上記反射膜の第 2 の 開口部を覆い、 上記新たな感光性樹脂層を、 上記基板側か ら上記反 射膜の第 1 の開口部および既に形成された第 1 の支持部材を介 して 露光 し、 硬化させる工程 と、 上記新たな感光性樹脂層における、 上 記反射膜およびマスキ ング部材の遮蔽に よ り 露光されなかっ た部分 を現像に よ り 除去 して、 新たな第 1 の支持部材を形成する工程と、 上記新たな第 1 の支持部材に新たな封止板を密着させる工程と、 上 記既に形成された封止板と新たな封止板との間に、 液晶と感光性の 高分子前駆体と を含む新たな混合溶液を封入する工程と、 上記基板 側か ら、 上記第 2 のマス キ ング部材に よ って、 上記反射膜の第 1 の 開口部を覆い、 上記新たな混合溶液を、 上記基板側か ら上記反射膜 の第 2 の開口部および既に形成された第 2 の支持部材を介 して露光 し、 上記新たな混合液中の高分子前駆体を上記反射膜の第 2 の開口 部に対応する位置に析出および硬化させて新たな第 2 の支持部材を 形成する と と も に、 残っ た混合液中の液晶に よ り 新たな液晶層を形 成する工程 と をそれそれ少な く と も 1 回行う こ と に よ り 、 複数の液 晶層を形成する こ と を特徴と している。
これに よ り 、 カ ラ一画像を表示可能な液晶表示素子を製造する こ とがで き る。
請求項 9 9 の発明は、 透明な材料か ら成る基板と、 上記基板に対 向 して設け られた封止板と、 上記基板と封止板 との間に設け られた 液晶層 と を有する液晶表示素子であって、 上記基板における所定の 領域に遮光膜が形成される と と も に、 上記基板 と上記封止板 と の間 における上記遮光膜が形成されている位置に、 感光性樹脂におけ る 上記遮光膜の形成されていない部分が露光される こ と に よ り 形成さ れた、 上記封止板を支持する支持部材が設け られている こ と を特徴 と してレヽ る。
こ の よ う に構成されている こ と に よ り 、 支持部材の位置精度が高 いので、 支持部材の占める面積を小さ く して コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ と が容易にで き る。
請求項 1 0 0 の発明は、 請求項 9 9 の液晶表示素子であっ て、 上 記感光性樹脂は、 ポジ型 レ ジス ト である こ と を特徴 と している 。
ま た、 請求項 1 0 1 の発明は、 請求項 9 9 の液晶表示素子であ つ て、 上記遮光膜は、 黒色の レ ジス ト か ら形成されている こ と を特徴 と している。
これによ り 、 上記の よ う に感光性樹脂における遮光膜の形成さ れ ていない部分が露光さ れる こ と に よ り 形成さ れた支持部材を容易に 得る こ とがで き る。
請求項 1 0 2 の発明は、 請求項 9 9 の液晶表示素子であって、 上 記液晶層は、 高分子 と、 上記高分子中に分散 して保持された液晶 と を含むこ と を特徴と している。
こ れに よ り 、 封止板が液晶層中の高分子に よ っ て支持部材に確実 に固定された液晶表示素子を得る こ とがで き る。
請求項 1 0 3 の発明は、 請求項 9 9 の液晶表示素子であって、 上 記液晶層 と封止板とが、 複数組重ねて設け られ、 各封止板の間にお ける、 上記遮光膜が形成されている位置に、 感光性樹脂が上記遮光 膜の形成されていない領域を介 して露光される こ と によ り 形成さ れ た、 各封止板を支持す る支持部材が設け られている こ と を特徴と し ている。
これに よ り 、 カ ラ 一画像を表示可能な液晶表示素子を構成する こ とがで き る。
請求項 1 0 4 の発明は、 基板上における所定の領域に遮光膜を形 成する工程と、 上記遮光膜が形成された基板上に感光性樹脂層を形 成する工程と、 上記遮光膜が形成されていない部分の上記感光性樹 脂層を、 上記基板側か ら露光する工程と、 上記感光性樹脂層におけ る上記露光された部分を現像に よ り 除去 して、 上記遮光膜が形成さ れている位置に上記支持部材を形成する工程 と、 上記支持部材に上 記封止板を密着させる工程 と、 上記基板と封止板 との間に液晶を封 入 して上記液晶層を形成する工程 と を有する こ と を特徴と してい る。 こ れに よ り 、 支持部材は、 確実に開口部の位置に形成され、 支持 部材の位置精度を高 く する こ とが容易にで き るので、 支持部材の位 置ずれに よ る液晶層の破壊等を生 じる こ とな く 支持部材の占める 面 積を小さ く して、 コ ン ト ラ ス ト 比の高い液晶表示素子を製造する こ とがで き る。 しかも、 別途マス ク を用いる場合の よ う にマス ク の位 置合わせをする必要がないので、 製造コ ス ト の低減を図る こ と も で き る。
請求項 1 0 5 の発明は、 請求項 1 0 4 の液晶表示素子の製造方法 であって、 上記感光性樹脂層は、 ポジ型 レ ジス ト か ら形成されて レ、 る こ と を特徴と してい る。
これによ り 、 支持部材の形成に一般的な材料を適用する こ とがで き る ので、 支持部材を容易、 かつ、 安価な製造コ ス ト で製造する こ とがで き る。
請求項 1 0 6 の発明は、 請求項 1 0 4 の液晶表示素子の製造方法 であ って、 上記液晶層を形成する工程は、 上記基板 と封止板と の間 に、 液晶 と感光性の高分子前駆体と を含む混合溶液を封入する工程 と、 上記混合溶液を上記封止板側か ら露光 し、 上記混合溶液中の高 分子前駆体を硬化させる こ と に よ り 、 高分子 と、 上記高分子中に分 散 して保持された液晶 と を含む上記液晶層を形成する と と も に、 上 記封止板を上記基板に固定する工程 と を含むこ と を特徴と してい る。
こ れに よ り 、 露光に よ って硬化 した高分子に よ って、 基板と封止 板 と を容易、 かつ、 確実に固定する こ とがで き る。
請求項 1 0 7 の発明は、 請求項 1 0 4 の液晶表示素子の製造方法 であ って、 封止板上に新たな感光性樹脂層を形成する工程と、 上記 遮光膜が形成されていない部分の上記新たな感光性樹脂層を、 上記 基板側か ら露光する工程と、 上記新たな感光性樹脂層における上記 露光された部分を現像に よ り 除去 して、 上記遮光膜が形成されて い る位置に新たな支持部材を形成する工程と、 上記新たな支持部材に 新たな封止板を密着させる工程と、 上記既に形成された封止板と上 記新たな封止板 と の間に、 液晶を封入 して新たな液晶層を形成する 工程と をそれそれ少な く と も 1 回行う こ と に よ り 、 複数の液晶層を 形成する こ と を特徴と している。
これに よ り 、 カ ラ一画像を表示可能な液晶表示素子を製造する こ とがで き る。
ま た、 請求項 1 0 8 記載の発明は、 共通電極が内側面に設け ら れ た基板と上記共通電極上に設け られた支持部材に よ り 支持された封 止板 との間に、 液晶が充填されて液晶層が形成され、 かつ上記封止 板の上記液晶層に臨む面 と反対側の面に画素電極が設け られて構成 される表示層 と、 上記液晶層を駆動する為の非線形素子、 及び該非 線形素子に電気的に接続され、 かつ上記画素電極に液晶層を駆動さ せる為の駆動電圧を出力する 出力電極が設け ら れる と共に上記基板 に対向する よ う に配置されたア レイ 基板と、 電気的に接続する機能 を有 し、 かつ固定接続する機能を有する接続手段と を備え、 上記接 続手段に よ り 、 上記画素電極と駆動電極とが電気的に接続され、 か つ上記表示層 と ア レ イ 基板とが固定接続されてい る こ と を特徴と す る。
上記によれば、 従来の液晶表示素子のよ う に、 非線形素子を有す る ア レ イ 基板上に液晶層を形成する構成とは本質的に異な り 、 液晶 層を備えた表示層 と、 非線形素子を有する ア レ イ 基板 と を接続手段 に よ り 固定接続 した構成であ る。 よ って、 表示層 と ア レ イ 基板と は 個々 に独立 した構成である為、 例えば液晶層等に表示欠陥が見出 さ れて も、 非線形素子が形成されたア レイ 基板まで も廃棄する必要が ない。 こ の結果、 歩留ま り を向上させた液晶表示素子を低コス ト に て提供する こ とがで き る。
又、 上記の構成に よれば、 表示層に於ける画素電極と、 非線形素 子に接続された駆動電極と を、 接続手段に よ り 電気的に接続 して い る。 従って、 上記画素電極と駆動電極との平面的相対位置が、 接続 手段に よ り 接続で き る範囲内であればよいので、 位置合わせの精度 要求を緩和する こ とがで き る。 尚、 上記接続手段に よ り ア レ イ 基板 と表示層 と を固定接続する とは、 例えば接着や、 熱に よ る溶着、 圧 着等を意味 している。
ま た請求項 1 0 9 記載の発明は、 請求項 1 0 8 に記載の液晶表示 素子に於いて、 上記接続手段は異方性導電接着材である こ と を特徴 と する。
上記構成のよ う に、 接続手段に異方性導電接着材を用いる こ と に よ り 、 表示層における画素電極と、 ア レイ 基板における駆動電極 と を電気的に接着させる と共に、膜厚方向にのみ導電性を有する ので、 上記異方導電性接着材同士の短絡を防止する こ とがで き る。
ま た、 請求項 1 1 0 記載の発明は、 基板と封止板との間に液晶が 充填されて液晶層を構成 し、 且つ上記基板と上記封止板との間に存 在する支持部材に よ り 封止板が支え られる構造の表示層 と、 上記液 晶層に電界を印加 して該液晶層を調光駆動する為の非線形素子が設 け られる と共に上記基板に対向する よ う に配置されたア レ イ 基板と を備えた液晶表示素子であっ て、 上記表示層は、 上記基板の内側面 に設け られた共通電極 と、 該共通電極上に形成された第 1 支持部材 に よ り 支持され、 且つ上記共通電極に臨む面 と反対側の面に第 1 画 素電極が設け られた第 1 封止板 との間に、 液晶が充填されて第 1 液 晶層が形成され、 上記第 1 封止板 と、 該第 1 封止板上に形成された 第 2 支持部材に よ り 支持され、 且つ上記第 1 画素電極に臨む面 と反 対側の面に第 2 画素電極が設け られた第 2 封止板との間に、 液晶が 充填されて第 2 液晶層が形成され、 かつ上記第 2 液晶層を少な く と も 1 層以上含んだ構成を有 し、 上記ア レ イ 基板は、 上記第 1 画素電 極に第 1 液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力する第 1 駆動電極、 及び該第 1 駆動電極に電気的に接続された第 1 非線形素子 と、 上記 第 2 画素電極に第 2 液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力する 少 な く と も 1 つ以上の第 2 駆動電極、 及び該第 2 駆動電極に電気的に 接続された少な く と も 1 つ以上の第 2 非線形素子 とが設け られた構 成を有 し、 更に、 電気的に接続する機能を有 し、 かつ固定接続する 機能を有する第 1 及び第 2 接続手段を備え、 上記第 1 接続端子と第 1 駆動電極とは、 上記第 1 接続手段を介 して電気的に接続され、 上 記第 2 接続端子 と第 2 駆動電極 とは、 上記第 2 接続手段を介 して電 気的に接続され、 かつ上記第 1 及び第 2 接続手段に よ り 上記表示層 と ア レ イ 基板とが固定接続されてい る こ と を特徴と する。
上記構成にする こ と に よ り 、 液晶表示素子の表示画面にカ ラ一表 示を させる こ とがで き る。 尚、 上記第 1 及び第 2 接続手段に よ り ァ レ イ 基板と表示層 と を固定接続する とは、 例えば接着や、 熱に よ る 溶着、 圧着等を意味 している。
ま た請求項 1 1 1 記載の発明は、 基板と封止板との間に液晶が充 填されて液晶層を構成 し、 且つ上記基板と上記封止板との間に存在 する支持部材に よ り 封止板が支え ら れる構造の表示層 と、 上記基板 に対向する ア レ イ 基板上に、 上記液晶層に電界を印加 して該液晶層 を調光駆動する為の非線形素子が設け ら れた構造のァ レ イ 基板と を 備え た液晶表示素子であ って、 上記表示層は、 上記基板の内側面に 設け ら れた共通電極と、 該基板上に形成された第 1 支持部材に よ り 支持され、 且つ上記共通電極に臨む面と反対側の面に第 1 画素電極 が設け られた第 1 封止板との間に、 液晶が充填されて第 1 液晶層が 形成され、 上記第 1 封止板と、 該第 1 封止板上に形成さ れた第 2 支 持部材に よ り 支持され、 且つ上記第 1 画素電極に臨む面 と反対側の 面に第 2 画素電極が設け ら れた第 2 封止板との間に、 液晶が充填さ れて第 2 液晶層が形成され、 上記第 2 封止板と、 該第 2 封止板上に 形成された第 3 支持部材に よ り 支持され、 且つ上記第 2 画素電極に 臨む面 と反対側の面に第 3 画素電極が設け られた第 3 封止板 との間 に、 液晶が充填さ れて第 3 液晶層が形成され、 上記第 1 画素電極は 第 1 接続端子に電気的に接続され、 上記第 2 画素電極は第 2 接続端 子に電気的に接続され、 上記第 3 画素電極が第 3 接続端子に電気的 に接続された構成を有 し、 上記ア レ イ 基板は、 上記ア レ イ 基板上に、 上記第 1 画素電極に第 1 液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力す る第 1 駆動電極、 及び該第 1 駆動電極に電気的に接続さ れた第 1 非 線形素子が設け ら れ、 上記第 2 画素電極に第 2 液晶層を駆動させる 為の駆動電圧を出力する第 2 駆動電極、 及び該第 2 駆動電極に電気 的に接続された第 2 非線形素子が設け られ、 上記第 3 画素電極に第 3 液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力する第 3 駆動電極、 及び 該第 3 駆動電極に電気的に接続された第 3 非線形素子が設け られた 構成を有 し、 更に、 電気的に接続する機能を有 し、 かつ固定接続す る機能を有する第 1 〜第 3 接続手段を備え、 上記第 1 接続端子 と第 1 駆動電極とは、 上記第 1 接続手段を介 して電気的に接続され、 上 記第 2 接続端子 と第 2 駆動電極とは、 上記第 2 接続手段を介 して電 気的に接続され、 上記第 3 接続端子 と第 3 駆動電極 とは、 上記第 3 接続手段を介 して電気的に接続され、 かつ上記第 1 〜第 3 接続手段 に よ り 上記表示層 と ア レ イ 基板 とが固定接続さ れてい る こ と を特徴 とする。
ま た請求項 1 1 2 記載の発明は、 請求項 1 1 1 に記載の液晶表示 素子に於いて、 上記第 1 〜第 3 液晶層には、 シア ン、 マゼ ン夕 又は イ エロ一の う ち互いに異な る色の二色性色素 と液晶 と を含むゲス ト ホス ト液晶が含まれている こ と を特徴とする。
上記構成にする こ と に よ り 、 液晶表示素子の表示画面にカ ラ一表 示を させる こ とが容易に達成で き る。 尚、 上記第 1 〜第 3 接続手段 に よ り ア レイ 基板と表示層 と を固定接続する とは、 例えば接着や、 熱に よ る溶着、 圧着等を意味 してい る。
ま た請求項 1 1 3 記載の発明は、 共通電極が内側面に設け られた 基板と上記共通電極上に設け られた支持部材に よ り 支持された封止 板との間に、 液晶が充填される こ と に よ り 液晶層が形成されて構成 される表示層 と、 上記液晶層を駆動する為の駆動回路、 及び該駆動 回路に電気的に接続され、 かつ所定の間隔で配置された複数の画素 電極を備える と共に、 上記基板に対向する よ う に配置されたア レ イ 基板と を備え、 上記表示層 と ア レ イ 基板とが、 接続手段に よ り 接続 されている こ と を特徴とする。
上記の構成に よれば、ア レ イ 基板上に画素電極が形成されてお り 、 かつ表示層側に共通電極及び液晶層が形成されている ので、 用途に 応 じて表示パターンが異なる場合で も、 画素電極の形成パタ ーン を 変更する だけで簡便に達成で き る。 即ち、 上記表示層は、 用途に応 じて種々の異なる表示パター ン を有する様々なア レ イ 基板に も対応 させる こ とがで き、 汎用性に優れている。 更に、 上記のよ う に、 表 示層が他の表示パターンに対応で き る こ とで、 コ ス ト の低減も図れ る 。
又、 上記の構成に よれば、 表示層 と駆動基板 と を接着する際に、 それ ら の平面的相対位置は任意で よ く 、 従っ て位置合わせを不必要 と し、 容易に実装が可能である。
請求項 1 1 4 記載の発明は、 請求項 1 1 3 に記載の液晶表示素子 に於いて、 上記封止板は、 膜厚が 0 . 5 m以上、 1 0 〃 m以下の 範囲内にある高分子樹脂か らなる こ と を特徴と する。
上記の構成の よ う に、 封止板の膜厚を 0 . 5 / m以上 とする こ と に よ り 、 液晶層に凹凸が生 じる こ と を防き、 該液晶層のギャ ッ プが 均一 と なる よ う にで き る。 一方、 封止板の膜厚を l O in以下 と す る こ と に よ り 、 封止板の封止面 とは反対側に画素電極を設ける必要 がな く 、 低電圧にて液晶層を駆動させる こ とがで き る。
ま た請求項 1 1 5 記載の発明は、 請求項 1 1 3 記載の液晶表示素 子に於いて、 上記基板、 及びア レ イ 基板は高分子樹脂か ら なる こ と を特徴とする。
ま た請求項 1 1 6 記載の発明は、 請求項 1 1 4 記載の液晶表示素 子に於いて、 上記基板、 及びア レイ 基板は高分子樹脂か ら なる こ と を特徴とする。
上記の構成と する こ と に よ り 、 薄型 · 軽量で橈みや曲げ等に強い 液晶表示素子を提供する こ とがで き る。
ま た請求項 1 1 7 記載の発明は、 共通電極が内側面に設け られた 基板と上記共通電極上に設け られた支持部材に よ り 支持された封止 板との間に、 液晶が充填されて液晶層が形成され、 かつ上記封止板 における上記支持部材に よ り 支持さ れる面 と反対側の面に一定間隔 で複数の画素電極が設け られて構成される表示層 と、 上記液晶層を 駆動する複数の非線形素子をそれぞれ備えた複数のア レ イ 基板と を 備え、 上記複数の画素電極 と複数の非線形素子 とが電気的に接続さ れる よ う に、 上記表示層 とア レ イ 基板 とが接続手段に よ り 接続され ている こ と を特徴と する。
従来のマルチ画面 L C D に於いては、 パネル間の継ぎ 目で画素電 極の ピ ッチが不均一 と なる こ と に よ り 、 該継ぎ 目 が表示画面上で視 認されていた。 しか しなが ら、 上記構成のよ う に、 封止板のア レ イ 基板に臨む面に、一定間隔で複数の画素電極が設け られているので、 ア レ イ 基板間の継ぎ 目 が表示画面上に現出する こ とはない。よ って、 パネル間の継き 目 が目 立たないマルチ画面の液晶表示素子を提供す る こ とがで き る。
ま た請求項 1 1 8 記載の発明は、 請求項 1 1 7 に記載の液晶表示 素子に於いて、 上記複数のア レ イ 基板は同一平面内に配置され、 か つ、 上記表示層 と複数のア レ イ 基板とは、 上記接続手段に よ り 上記 複数の画素電極と複数の非線形素子 と をそれそれ対応 して電気的に 接続される よ う な範囲内で対向 している こ と を特徴と する。
上記の構成に よれば、 パネル間の継ぎ 目 を 目立たせない為に、 複 数のア レ イ 基板を精密に配置 して、 表示層 と該複数のア レ イ 基板 と を貼 り 合わせた構成と する必要がない。 即ち、 表示層 とア レ イ 基板 との平面的相対位置は、 画素電極と非線形素子 と を電気的に接続で き る範囲内であればよいので、 よ って位置合わせの精度要求を緩和 する こ とがで き る。
更に、 上記と 同様の理由か らパネル間の継ぎ 目 を 目立たせない為 に、 画素ピ ッチを粗 く する必要がな く 、 これに よ り 高精細の画像を 表示で き る マルチ画面液晶表示素子を提供で き る。
ま た請求項 1 1 9 記載の発明は、 請求項 1 1 7 記載の発明に於い て、 上記基板 と共通電極との間に光学カ ラ一フ ィ ルタ 一層が設け ら れている こ と を特徴とする。
ま た請求項 1 2 0 記載の発明は、 請求項 1 1 8 記載の発明に於い て、 上記基板 と共通電極との間に光学カ ラ 一フ ィ ルタ一層が設け ら れている こ と を特徴とする。
上記の構成に よれば、 液晶表示素子の表示画面にカ ラ ー表示を さ せる こ とが容易に達成で き る。
ま た請求項 1 2 1 記載の発明は、 基板と封止板との間に液晶層が 配置されて構成される表示層 と、 液晶層を駆動する ための駆動素子 を備えたア レイ 基板 と を有する液晶表示素子の製造方法であって、 表示層を形成する表示層形成工程であって、 基板の内側面に共通電 極を形成する第 1 ステ ッ プと、 共通電極上に上記支持部材を形成す る第 2 ステ ッ プと、 上記支持部材に支持される よ う に、 上記封止板 を形成する第 3 ステ ッ プと、 上記基板と上記封止板と の間に、 上記 液晶を封入 して液晶層を形成する第 4 ステ ッ プと、 上記封止板の上 記液晶層に臨む面 と反対側の面に、 画素電極を形成する第 5 ステ ッ プと、 を含む表示層形成工程と、 上記ア レ イ 基板上に、 上記液晶層 を駆動する為の駆動素子及び駆動電極を形成 してア レ イ 基板を形成 する ア レ イ 基板形成工程 と、 上記画素電極と駆動電極 と を接続手段 に よ り 電気的に接続す る接続工程 と、 を有する こ と を特徴とする。 上記の方法に よれば、 液晶層等に表示欠陥が見出されて も非線形 素子等が形成されたア レ イ 基板ま で も廃棄する 必要がない。よ って、 製造コ ス ト を低減させる と共に、 歩留ま り を向上させる こ とがで き る 。
又、 第 7 ステ ッ プは、 画素電極 と駆動電極とが接続手段を介 して 電気的に接続する よ う に、 上記基板 とア レイ 基板と を貼 り 合わせれ ばよい。 従って、 画素電極と駆動電極 との平面的相対位置が、 接続 手段に よ り 接続で き る範囲内であればよ く 、 こ れに よ り 位置合わせ の精度要求を緩和する こ とがで き る 。 ま た請求項 1 2 2 記載の発明は、 請求項 1 2 1 記載の液晶表示素 子の製造方法において、 上記画素電極上に、 他の支持部材を形成す る ステ ッ プと、 上記他の支持部材に支持される よ う に他の封止板を 形成するステ ッ プと、 上記封止板と他の封止板 と の間に、 他の液晶 を封入 して他の液晶層を形成する ステ ッ プと、 上記他の封止板にお ける上記他の液晶層に臨む面 と反対側の面に、 他の画素電極を形成 する ステ ッ プと をそれそれ少な く と も 1 回行 う こ と に よ り 、 複数の 液晶層を形成する こ と を特徴とする 。
上記の方法に よ り 、 非常に薄い封止板を用いた複数の液晶層を容 易に積層する こ とがで き、 表示画面にカ ラ 一表示を させる こ とが可 能な液晶表示素子の製造方法を提供する こ とがで き る。
ま た請求項 1 2 3 記載の発明は、 上記基板の内側面に、 共通電極 を形成する第 1 ステ ッ プと、 上記共通電極上に、 上記支持部材を形 成する第 2 ステ ッ プと、 上記支持部材に支持される よ う に、 上記封 止板を形成する第 3 ステ ッ プと、 上記基板と上記封止板との間に、 上記液晶を封入 して液晶層を形成する第 4 ステ ッ プと、 上記封止 板の上記液晶層に臨む面と反対側の面に、 画素電極を形成する第 5 ステ ッ プと、 上記共通電極及び画素電極に電圧を印加する こ と に よ り 、 表示状態を検査する第 6 ステ ッ プと、 上記ア レ イ 基板上に、 上 記液晶層を駆動する為の非線形素子及び駆動電極を形成する第 7 ス テ ツ ブと、 上記第 6 ステ ッ プの検査結果に基づいて、 表示状態が良 好な表示層に関 してのみ、 上記画素電極 と駆動電極 と を接続手段に よ り 電気的に接続する第 8 ステ ッ プと を有する こ と を特徴と する。 上記の方法に よれば、 表示層 とア レ イ 基板と を接続手段で接続す る 前に、 表示層の表示状態を検査する ので、 欠陥が確認されて も従 来の よ う に非線形素子等が設け ら れたア レ イ 基板まで廃棄する 必要 がない。 よ って、 液晶表示素子を製造する際におけ る、 コ ス ト の低 減を図る こ とがで き、 かつ歩留ま り を向上させて製造する こ とがで き る。
ま た請求項 1 2 4 記載の発明は、 基板の表面に、 共通電極を形成 する第 1 ステ ッ プと、 上記共通電極上に、 上記支持部材を形成す る 第 2 ステ ッ プと、 上記支持部材に支持される よ う に上記封止板を形 成する第 3 ステ ッ プと、 上記基板と封止板との間に上記液晶を封入 する液晶層を形成する第 4 ステ ッ プと、 上記ア レ イ 基板上に、 上記 共通電極と対向する よ う に画素電極を形成する第 5 ステ ッ プと、 上 記ア レイ 基板上に、 上記液晶層を駆動させる為の駆動回路を形成す る第 6 ステ ッ プと、 上記基板 と ア レ イ 基板と を接着材に よ り 接着す る第 7 ステ ッ プと を含むこ と を特徴とする。
上記の方法に よれば、ア レイ 基板上に画素電極が形成されてお り 、 かつ表示層側に共通電極及び液晶層が形成されてい る ので、 該表示 層を駆動基板における駆動電極のパター ン形状に則 して製造する 必 要がない。 よ って、 上記表示層は、 用途に応 じて種々 の異なる表示 パターンを有する ア レ イ 基板に も対応させて用いる こ とがで き、 製 造コ ス ト の低減が図れる。 しかも、 表示層 と他方の基板と を接着す る際に、 それ ら の平面的相対位置は任意でよ く 、 従っ て位置合わせ を不必要と し、 容易に実装が可能である。
ま た請求項 1 2 5 記載の発明は、 液晶表示素子の製造方法であ つ て、 上記基板上に、 共通電極を形成する第 1 ステ ッ プと、 上記共通 電極上に、 上記支持部材を形成する第 2 ステ ッ プと、 上記支持部材 に支持される よ う に上記封止板を形成する第 3 ステ ッ プと、 上記封 止板における上記支持部材に よ り 支持される面 と反対側の面に、 複 数の画素電極を互いに一定の間隔 と な る よ う に形成する第 4 ステ ツ プと、 上記基板と封止板との間に、 上記液晶を封入 して液晶層を形 成する第 5 ステ ッ プと、 上記ア レ イ 基板上に、 上記液晶層を駆動す る為の複数の非線形素子を形成する第 6 ステ ッ プと、 上記ア レイ 基 板を、 少な く と も 2 つ以上に割断する第 7 ステ ッ プと、 上記複数の 画素電極と上記複数の非線形素子 と を、 接続手段にて、 それそれ対 応する よ う に電気的に接続する第 8 ステ ッ プと を有する こ と を特徴 とする。
上記の方法に よれば、 従来の液晶表示素子の よ う に表示層側に画 素電極を形成する場合と異な り 、 表示層における封止板の封止面 と 反対側に一定間隔で複数の画素電極を形成する。 よ って、 パネル間 の継ぎ 目 を 目立たせない為に、 割断時の設定寸法に対する分断実寸 法の精差が小さ く なる よ う に精密に配置する 必要がない。 即ち、 表 示層 と ア レイ 基板との平面的相対位置が画素電極と非線形素子と を 電気的に接続で き る範囲内であればよ く 、 こ れに よ り 位置合わせの 精度要求を緩和する こ とがで き る。 更に、 上記継ぎ 目 を 目立たせな い為に、 画素ピ ッ チを粗 く する必要がな く 、 こ れに よ り 高精細の画 像を表示で き る。 よ って、 パネル間の継ぎ 目が 目立たないマルチ画 面の液晶表示素子の製造方法を提供する こ とがで き る。
本発明のさ ら に他の 目 的、 特徴、 及び優れた点は、 以下に示す記 載に よ って充分わかる であろ う 。 又、 本発明の利点は、 添付図面を 参照 した次の説明で明 白 にな る であ ろ う 。 図 面 の 簡 単 な 説 明
図 1 は実施の形態 1 一 1 に係る液晶表示素子の中央部の一画素 部分の断面図である。
図 2 は実施の形態 1 一 1 に係る液晶表示素子の中央部の一画素 部分の平面図であ る。
図 3 は実施の形態 1 一 1 に係る液晶表示素子の全体構成図であ る。
図 4 は図 1 の一部拡大断面図である。
図 5 は図 1 の一部拡大断面図である。
図 6 は実施の形態 1 一 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説明 図である。
図 7 は実施の形態 1 一 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説明 図であ る。
図 8 は実施の形態 1 — 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説明 図であ る。
図 9 は実施の形態 1 一 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説明 図である。
図 1 0 は実施の形態 1 一 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図であ る。
図 1 1 は実施の形態 1 一 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図であ る。
図 1 2 は実施の形態 1 一 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 1 3 は実施の形態 1 一 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 1 4 は通気口 1 3 4付近の断面図である。
図 1 5 は通気口 1 3 4 に施さ れた表面張力低下処理に よ る溶液 の浸入防止の状態を示す図であ る。
図 1 6 は通気口 1 3 5 付近の断面図である 。
図 1 7 は通気口 1 3 6 付近の断面図であ る 。 図 1 8 は実施の形態 1 一 5 に係る液晶表示素子の中央部の一画 素部分の断面図である。
図 1 9 はマス ク 1 5 3 の部分平面図である。
図 2 0 は樹脂層 1 5 0 の表面変化を示す図である。
図 2 1 は実施の形態 2 — 1 に係る液晶表示素子の要部断面図で ある。
図 2 2 は図 2 1 の矢視 X — X断面図である 。
図 2 3 は樹脂フ ィ ルムにおいて しわの発生状態を示す図であ る。 図 2 4 は実施の形態 2 — 1 に係る液晶表示素子の製造工程を示 す模式図である。
図 2 5 は実施の形態 2 — 1 に係る液晶表示素子の製造工程を示 す模式図である 。
図 2 6 は実施の形態 2 — 1 に係る液晶表示素子の製造工程を示 す模式図である。
図 2 7 は実施の形態 2 — 1 に係る液晶表示素子の製造工程を示 す模式図であ る。
図 2 8 は実施の形態 2 - 2 に係る液晶表示素子の要部断面図で あ る。
図 2 9 は実施の形態 2 — 3 に係る液晶表示素子の製造工程を示 す模式図である。
図 3 0 は実施の形態 2 — 3 に係る液晶表示素子の製造工程を示 す模式図である。
図 3 1 は実施の形態 2 — 4 に係る樹脂フ ィ ル ム構造体の製造ェ 程を示す模式図である。
図 3 2 は実施の形態 2 — 5 に係る樹脂フ ィ ルム構造体の製造ェ 程を示す模式図である。 図 3 3 は実施の形態 2 — 6 に係る樹脂フ ィ ルム構造体の断面図 である。
図 3 4 は実施の形態 3 — 1 の液晶表示素子の 1 画素あた り の構 成を示す部分平面図である。
図 3 5 は図 3 4 の A — A矢視断面図であ る。
図 3 6 は実施の形態 3 - 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 3 7 は実施の形態 3 ― 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 3 8 は実施の形態 3 — 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 3 9 は実施の形態 3 — 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 4 0 は実施の形態 3 — 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 4 1 は実施の形態 3 — 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 4 2 は実施の形態 3 — 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 4 3 は実施の形態 3 — 1 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 4 4 は実施の形態 3 — 2 の液晶表示素子の 1 画素あた り の構 成を示す部分平面図である。
図 4 5 は図 4 4 の B — B矢視断面図であ る 。
図 4 6 は実施の形態 3 — 2 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。 図 4 7 は実施の形態 3 — 2 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図であ る。
図 4 8 は実施の形態 3 - 2 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 4 9 は実施の形態 3 — 2 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 5 0 は実施の形態 3 — 2 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 5 1 は実施の形態 3 - 3 の液晶表示素子の 1 画素あた り の構 成を示す部分断面図であ る。
図 5 2 は実施の形態 3 — 3 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図であ る。
図 5 3 は実施の形態 3 ― 3 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 5 4 は実施の形態 3 — 3 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図であ る。
図 5 5 は実施の形態 3 — 3 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 5 6 は実施の形態 3 — 3 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図であ る。
図 5 7 は実施の形態 3 - 3 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 5 8 は実施の形態 3 — 4 の液晶表示素子の 1 画素あた り の構 成を示す部分平面図であ る。
図 5 9 は図 5 8 の C 一 C矢視断面図であ る 。
図 6 0 は実施の形態 3 — 4 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 6 1 は実施の形態 3 — 4 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図であ る。
図 6 2 は実施の形態 3 — 4 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 6 3 は実施の形態 3 — 4 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 6 4 は実施の形態 3 - 4 の液晶表示素子の製造工程を示す説 明図である。
図 6 5 は本発明の実施の形態 4 一 1 に係る液晶表示素子の概略 を示す断面模式図であ る。
図 6 6 は上記液晶表示素子に於ける T F Tの概略を示す平面図 である。
図 6 7 は上記液晶表示素子に於ける表示部の概略を示す断面模 式図である。
図 6 8 は上記液晶表示素子の要部の概略を示す断面模式図であ る。
図 6 9 は上記液晶表示素子に於ける表示部の概略を示す断面平 面図である。
図 7 0 は上記液晶表示素子に於ける異方性導電接着材の概略を 示す断面模式図であ る。
図 7 1 は上記実施の形態 4 一 1 に係る液晶表示素子の製造工程 を示す説明図であ る。
図 7 2 は上記実施の形態 4 一 1 に係る液晶表示素子の製造工程 を示す説明図である。
図 7 3 は上記実施の形態 4 一 1 に係る液晶表示素子の製造工程 を示す説明図であ る。
図 7 4 は上記実施の形態 4 一 1 に係る液晶表示素子の製造工程 を示す説明図である。
図 7 5 は本発明の実施の形態 4 - 2 に係る液晶表示素子の概略 を示す断面模式図である。
図 7 6 は上記実施の形態 4 - 2 に係る液晶表示素子の製造工程 を示す説明図である。
図 7 7 は本発明の実施の形態 4 - 3 に係る液晶表示素子の概略 を示す断面模式図であ る。
図 7 8 は上記液晶表示素子に於ける ア レ イ 基板の概略を示す平 面図である。
図 7 9 は従来の液晶表示素子の構成を示す断面図である。
図 8 0 は従来の他の液晶表示素子の構成を示す断面図である。 図 8 1 は支持部材の位置ずれに よ って生 じる不具合の例を示す 説明図である。
図 8 2 は支持部材の ピ ッ チの条件を示す説明図である。
図 8 3 は従来の液晶表示素子の概略を示す断面模式図である。 発明を実施する ための最良の形態
[第 1 の形態 ]
以下、 本発明の第 1 の形態について図面に基づいて説明する。 この第 1 の形態では、封止板 と して市販の樹脂フ ィ ルムを使用 し、 こ の樹脂フ ィ ルム を支持部材上に貼 り 合わせる こ と を特徴と する も のである。 これに よ り 、 支持部材上に樹脂フ ィ ルム を確実に固定す る こ とが可能とな る。 (実施の形態 1 一 1 )
本発明の実施の形態 1 一 1 を図 1 〜図 1 3 に基づいて以下説明す る。 図 1 は本発明の液晶表示素子の中央部の一画素部分の断面図、 図 2 は本発明の液晶表示素子の中央部の一画素部分の平面図、 図 3 は本発明の液晶表示素子の全体構成図、 図 4及び図 5 は図 1 の一部 拡大断面図、 図 6 〜図 1 3 は液晶表示素子の製造工程を説明する た めの図である。 なお、 図 1 は図 2 の矢視 A— A断面図であ る。 ま た 、 図 1 〜図 1 3 は、 液晶表示素子全体の構成要素を全て示すも ので はな く 、 省略部分があ る。 ま た図面は模式的に表さ れた も のであ り 、 縮尺や各部の数量な ど、 実際 とは異な る部分があ る 。
こ の液晶表示素子は、 図 1 に示すよ う に、 基板 1 0 1 に、 それそ れシア ン、 マゼ ン夕、 イ エロ一のゲス ト ホス ト 液晶 1 2 1 , 1 2 2 , 1 2 3 が充填された 3 つの液晶層 1 0 6 , 1 0 7 , 1 0 8 が設け られて構成されている。 上記基板 1 0 1 は、 ホ ウケィ 酸ガラ スか ら な り 、 こ の基板 1 0 1 上には、 駆動素子 と してのアモルフ ァ ス シ リ コ ンか ら成る薄膜 ト ラ ン ジス タ (以下、 T F T素子 と称する ) 1 0 2、 1 0 3、 1 0 4が形成さ れている。 また、 基板 1 0 1 上には、 図 3 に示すよ う に、 画素表示領域 1 4 5 内にマ ト リ ッ ク ス状に配置 された第 1 画素電極 M l と、 複数のソース ラ イ ン S L と、 複数のゲ — ト ラ イ ン G L と、 画素表示領域 1 4 5 の周辺部 1 4 6 に配置さ れ ソース ラ イ ン S Lに駆動電圧を印加する駆軌回路 1 8 0 と、 画素表 示領域 1 4 5 の周辺部 1 4 6 に配置されゲー ト ラ イ ン G Lに駆動電 圧を印加する駆動回路 1 8 1 とが、 それそれ設け ら れている。
これ ら T F T素子 1 0 2、 1 0 3、 1 0 4の う ち T F T素子 1 0 3、 1 0 4 には、 イ ン ジ ウム錫酸化物 ( I T O ) の透明導電膜か ら な る ド レ イ ン端子 1 0 3 a、 1 0 4 aが設け ら れてい る。 一方、 T F T素子 1 0 2 の ド レ イ ン端子 1 0 2 aは、 透明導電膜か ら な る第 1 画素電極 M l と電気的に接続 している。 基板 1 0 1 上の画素部分 には、 1 辺が 5 ; ιηの正方形の遮光膜 1 0 5 が点在 している。 こ れ らの遮光膜 1 0 5 間の ピ ッ チは、 に設定されている。 さ ら に遮光膜 1 0 5上に、 図 4 に も明 ら かに示すよ う に、 支持部材 1 1 8 が形成されている。 ま た、 図 5 に も明 ら かに示すよ う に、 T F T 素子 1 0 3、 1 0 4上に遮光膜 1 0 5が形成されてお り 、 さ ら に遮 光膜 1 0 5上に立体配線用パ ッ ド 1 4 0 が形成されている。 立体配 線用パ ッ ド 1 4 0 は、 支持部材 と しての機能も兼ねている。 こ こ で 、 遮光膜 1 0 5 は黒のカーボン粒子を含む レ ジス ト か ら なる。 ま た 支持部材 1 1 8、 及び立体配線用パ ッ ド 1 4 0 は、 高さ でポ ジ形レ ジス ト か ら な る。 各支持部材 1 1 8及び立体配線用パ ッ ド 1 4 0上には、 ポジ形レ ジス ト か ら な る接着層 1 3 1 が形成され、 こ れに よ り 支持部材 1 1 8及び立体配線用パ ッ ド 1 4 0上に樹脂フ ィ ルム 1 1 1 が接着 している。 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 はポ リ エステル樹 脂の 1 種である ポ リ エチ レ ンテ レ フ 夕 レー ト ( P E T ) を主成分 と する厚み 1 . 2 At mの樹脂フ ィ ルムであ る。 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 は 支持部材 1 1 8 に よ り 支持され、 基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 の間に液晶を封入する ための 5 mの均一な間隙を形成 している。 基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ル ム 1 1 1 の間隙には、 フ ッ素系のネマチ ッ ク液晶の中にシア ンの 2色性色素を溶解させたゲス ト ホス ト 液晶 1 2 1 が封入されて第 1 液晶層 1 0 6 を形成 してい る。
T F T素子 1 0 3 、 1 0 4の ド レ イ ン端子 1 0 3 a、 1 0 4 aの 上方では、 立体配線用パ ッ ド 1 4 0 および樹脂フ ィ ルム 1 1 1 に開 口 1 2 4、 1 2 5 が設け ら れてい る。 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 上の画素 部分には I T Oの透明導電膜か ら成る第 2 画素電極 M 2 が形成さ れ ている。 こ の第 2 画素電極 M 2端部は、 図 5 に明 ら かに示すよ う に 、 前記開口 1 2 4 を通 じて T F T素子 1 0 3 の ド レ イ ン端子 1 0 3 a まで延在 してお り 、 第 2 画素電極 M 2 と T F T素子の端子 1 0 3 a とが電気的に導通 している。 こ の よ う に開口 1 2 4 を通 じて樹脂 フ ィ ルム 1 1 1 上の第 2画素電極 M 2 と基板 1 0 1 上の T F T素子 1 0 3 の端子 1 0 3 a と を導通させる こ と に よ り 、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 上の第 2 画素電極 M 2 の電位を基板 1 0 1 上の T F T素子 1 0 3 で制御で き る。
第 1 液晶層 1 0 6 の上方には、 第 2液晶層 1 0 7 、 第 3液晶層 1 0 8、 樹脂フ ィ ルム 1 1 2、 1 1 3 が交互に積層さ れ、 これに よ り 、 基板 1 0 1 上に 3層の液晶層 1 0 6 , 1 0 7 , 1 0 8 と 3枚の樹 脂フ ィ ルム 1 1 1 , 1 1 2 , 1 1 3 が交互に積層された構造とな つ ている。 そ して、 第 2液晶層 1 0 7及び第 3液晶層 1 0 8は、 第 1 液晶層 1 0 6 と基本的には同様な構成であ り 、 第 2液晶層 1 0 7 に 関連 して、 支持部材 1 1 9、 立体配線用パ ッ ド 1 4 1 及び接着層 1 3 2 が設け られ、 第 3液晶層 1 0 8 に関連 して、 支持部材 1 2 0、 立体配線用パ ッ ド 1 4 2及び接着層 1 3 3 が設け ら れている。 支持 部材 1 1 9 、 支持部材 1 2 0、 及び支持部材 1 1 8 は、 同一の材質 で、 且つ同一形状である。 ま た、 支持部材 1 1 9及び支持部材 1 2 0 は、 支持部材 1 1 8 の延長線上に位置 している。 これに よ り 、 本 発明者等が先に出願 した特願平 1 0 — 7 0 0 6 9号に記載 してい る よ う に、 支持部材が樹脂フ ィ ルム を確実に支持する こ と が可能と な り 、 支持部材の位置ずれに起因 した支持部材の変形や、 液晶層の破 壊等が防止されている。
ま た、 前記立体配線用ノ ッ ド 1 4 1 は、 立体配線用ノ ッ ド 1 4 0 の直上に配置されてお り 、 立体配線用パ ッ ド 1 4 2 は、 立体配線用 9 ノ ヅ ド 1 4 1 の直上に配置されている。 ま た、 樹脂フ ィ ルム 1 1 2 、 1 1 3 は、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 と 同様の材質、 及び同様の厚みの ものが用い られている。
また、 前記第 2液晶層 1 0 7 を構成する液晶 1 2 2 は、 2色性色 素の色がマゼ ン タ であ る ゲス ト ホス ト液晶であ り 、 第 3液晶層 1 0 8 を構成する液晶 1 2 3 は、 2色性色素の色が黄色であ る ゲス ト ホ ス ト液晶であ り 、 その他の点に関 しては、 第 1 及び第 2液晶層 1 0 7 , 1 0 8共に、 第 1 液晶層 1 0 6 と 同様である。
T F T素子 1 0 4 の ド レ イ ン端子 1 0 4 aの上方に設け られた立 体配線用パ ッ ド 1 4 1 および樹脂フ ィ ルム 1 1 2 には開口 1 2 5 が 設け られている。 ま た、 樹脂フ ィ ル ム 1 1 2上の画素部分には、 透 明導電膜か ら成る第 3 画素電極 M 3 が形成されている。 こ の第 3 画 素電極 M 3 は、 図 5 に明 らかに示すよ う に、 前記開口 1 2 5 を通 じ て T F T素子 1 0 4の ド レ イ ン端子 1 0 4 a とが電気的に導通 して いる。 こ のよ う な構成に よ り 、 前述 した第 2画素電極 M 2 と 同様に 、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 上の第 3 画素電極 M 3 の電位を基板 1 0 1 上 の T F T素子 1 0 4で制御で き る。
第 3液晶層 1 0 8 の上方の樹脂フ ィ ルム 1 1 3上には、 反射膜を 兼ねる共通電極 1 1 6 が設け られている。 共通電極 1 1 6 はアル ミ ニゥムか らな る。 共通電極 1 1 6上には、 液晶層を外圧等か ら保護 する ための保護膜 1 1 7 が形成されている。 保護膜 1 7 はアク リ ル 樹脂である。 なお、 各液晶層の液晶 1 2 1 、 1 2 2、 1 2 3 は、 色 のバラ ンス を考慮 して シア ン、 マゼ ン夕、 黄色の二色性色素の濃度 をそれそれで適切に調節 した も のを封入 している。
ま た、 本実施の形態は、 画素部分での開口率 (画素全体の面積に 対する支持部材の部分を除 く 画素の面積) は 9 7 %以上 と高 く 、 明 る い表示を実現 してい る。
本発明の液晶表示素子の動作について説明する。 本発明の液晶表 示素子は、 反射型カ ラ一液晶であ り 、 ノ、' ッ ク ラ イ ト を有せず、 外光 を反射させてカ ラ一表示を得る ものであ る。 基板 1 0 1 の液晶層 と 反対側か ら入射 した光は、 液晶層 1 0 6、 1 0 7 、 1 0 8 の順に液 晶層中を通過 し、 反射膜を兼ねる共通電極 1 1 6 で反射されて、 液 晶層 1 0 8、 1 0 7、 1 0 6 の順に再度通過 し、 基板 1 0 1 の液晶 層 と反対側か ら見てい る観測者に表示を示す。 こ こ で、 各液晶層 1 0 6 、 1 0 7、 1 0 8 には前述の よ う に シア ン、 マゼ ン夕、 黄色の 2色性色素を含むゲス ト ホス ト 液晶が封入されてお り 、 各液晶層 を 挟む画素電極間に電圧が印加さ れない場合には入射光の う ち各色の 吸収波長域の光が吸収され、 電圧が印加された場合には光が透過す る。 こ の よ う に して各液晶層に印加する電圧を制御する こ と に よ り 、 光の吸収、 透過を制御 し、 フルカ ラ一表示を得る こ とがで き る。 次に、 本実施の形態におけ る液晶表示素子の具体的な駆動方法を 以下に説明する。 第 3 画素電極 M 3 には、 共通電極 1 1 6 の電位を 基準に して、 第 3液晶層 1 0 8 に対する 画像信号に応 じた電圧 V 3 を印加 し、 第 2画素電極 M 2 には、 第 3 画素電極 M 3 の電位を基準 に して、 第 2液晶層 1 0 7 に対する画像信号に応 じた電圧 V 2 を印 加 し、 第 1 画素電極 M l には、 第 2 画素電極 M 2 の電位を基準に し て、 第 1 液晶層 1 0 6 に対する 画像信号に応 じた電圧 V 1 を印加す る。 即ち、 共通電極 1 1 6 の電位を基準 と すれば、 各画素電極 M 3 ~ M 1 に、 V 3 、 V 3 + V 2 、 及び V 3 + V 2 + V 1 の電圧を印加 する。 これに よ り 、 各ゲス ト ホス ト 液晶 1 2 3 , 2 2 , 2 1 に独立 した電圧を印加する こ とがで き る。
ま た、 ゲス ト ホス ト 液晶 1 2 3 , 1 2 2 , 1 2 1 の劣化防止のた めに交流駆動を行う 場合には、 V 1 ~ V 3 を正 と して、 (土 V 3 )、 ( ±V 3 ) + (土 V 2 )、 および (土 V 3 ) + ( 士 V 2 ) + ( 士 V I ) の電圧を印加すればよい。 さ ら に、 印加電圧の絶対値を小さ く して 駆動回路等の出力電圧を低 く 抑え る ためには、 互いに隣 り 合う 第 3 〜第 1液晶層 1 0 8 , 7 , 6 で印加電圧の極性を反転させて、 ( 土 V 3 )、 (土 V 3 ) — (土 V 2 )、 および (土 V 3 ) - ( 土 V 2 ) + ( 土 V I ) の電圧を印加すればよい。
なお、 カ ラ一画像表示は減法混色によ り 行われる ので、 画像信号 が R G B (赤、 緑、 青) の画像データ で与え ら れる場合には、 補数 演算を行って C M Y ( シア ン、 マゼ ン夕、 イ エロ 一) の画像データ に変換 し、 こ れに応 じた電圧を印加すればよい。 具体的には、 例え ば 8色表示の場合、 与え られた R G Bデータ が ( 1 , 0 , 0 ) であ れぱ、 その補数 ( 0 , 1 , 1 ) に応 じた電圧を印加すればよい。
ま た、 本発明の液晶表示素子においては、 前述 した よ う に、 樹脂 フ ィ ルムおよび立体配線用ノ ッ ド に開口を形成 し、 こ の開口 を通 じ て樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と基板上の T F T素子の端子 と を導通 させた。 こ の よ う にする こ とで、 各画素電極に印加する電圧を基板 1 0 1 上の T F T素子に よ り 制御で き る ため、 各液晶層間に T F T 素子を有する ガラ ス基板を挟む必要がな く 、 視差のない明る い反射 型カ ラ一液晶表示素子を実現する こ とがで き る 。 尚、 本実施の形態 では、 画素ス イ ッ チ ング素子 と して、 T F T素子を用いたけれども 、 本発明はこ れに限定される も のではな く 、 薄膜ダイ オー ド等を用 いて も よ い。
なお、 実施の形態 1 では、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 , 1 1 2 , 1 1 3 の厚みを、 それそれ 1 . 2 〃 mと した。 樹脂フ ィ ル ム の厚みは、 薄 いほう が、 樹脂フ ィ ルム での電圧降下が小さ く 印加電圧を抑える こ とがで き る ため、 望ま しい。 しか し、 樹脂フ ィ ルムの厚みが 0 . 5 mよ り 小さ い と樹脂フ ィ ルムが しわにな り やす く 、 また破れやす く なるな ど取 り 扱いが難 し く な り 、 歩留ま り が悪 く なる。 そ こ で、 樹脂フ ィ ルムは 0 . 5 / m以上 と する のが適当であ る。 ま た、 樹脂 フ ィ ルムの厚みが 1 0 m よ り 大き く なる と、 液晶層に印加される 電圧に比べ樹脂フ ィ ルムでの電圧降下が 2 倍を超え る ため、 液晶層 を動作させる のに必要な電圧が非常に大き く なる。 そ こで、 樹脂フ イ ルムは少な く と も 1 0 〃 m以下 と する のが望ま しい。 以上の よ う に樹脂フ ィ ルムの厚みは 0 . 5 ~ 1 0 / mの範囲で設定するのがよ い o
ま た、 樹脂フ ィ ルムの比抵抗を小さ く する こ と に よ り 、 樹脂フ ィ ルムでの電圧降下を小さ く する こ とがで き る ため、 望ま しい。 液晶 は、 配向方向に よ って比誘電率が異な り 、 一般的な誘電異方性が正 の液晶では、 電極間に電圧を印加する と分子が電極に垂直に配向 し 、 比誘電率が高 く な る。 特に、 動作電圧が小さい液晶材料では、 比 誘電率が £ 丄 = 4 程度に対 し、 e / / = l 1 程度 と な り 、 こ の差が大 き く なる傾向にあ る。 樹脂フ ィ ルム を構成する ポ リ エステル樹脂の 比誘電率は、 およ そ 3 である ため、 電圧印加に よ り 液晶の比誘電率 が高 く なる と、 液晶に比べて誘電率が小さい樹脂フ ィ ルム に多 く の 電圧が分圧され、 液晶に印加される電圧が小さ く な る とい う 課題が 生 じるおそれがあ る。 そ こで、 樹脂フ ィ ルムの比抵抗を小さ く する と、 特に電圧印加時における樹脂フ イ ルムでの電圧降下を小さ く す る こ とがで き る。 樹脂フ ィ ルムの素材であるポ リ エステル樹脂は、 通常 1 0 1 4 か ら 1 0 1 6 の比抵抗を有 している。 比抵抗を低下さ せた場合、 比抵抗が 1 0 1 2 程度までは樹脂フ ィ ルムの分圧比の変 化はわずかであ り 、 比抵抗を小さ く する こ と に よ る効果が小さ いが 、 およそ 1 0 1 。 よ り 小さい範囲においては、 樹脂フ ィ ルムの分圧 比が小さ く な る。 そ して比抵抗を 1 0 1 。 以下 と する こ と によ り 、 樹脂フ ィ ルムの厚みが 0 . 5 ~ 1 0 z mの場合に、 樹脂フ ィ ルムで の電圧降下を電極間に印加する電圧のおよそ半分以下にする こ とが で き る。 こ の よ う な こ とか ら、 樹脂フ ィ ルム の比抵抗は 1 0 1 。 以 下が好適である。
樹脂フ ィ ルムの比抵抗を小さ く する 方法 と しては、 た と えば酸化 ジルコ ニ ウ ムや、 有機導電体な ど導電性をわずかに高める物質を樹 脂フ ィ ルム中に混入ま たは ドーピ ン グすればよい。
ま た実施の形態 1 では、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 , 1 1 2, 1 1 3 の 材質をポ リ エステル樹脂の一種であ る P E T (ポ リ エチ レ ンテ レ フ 夕 レー ト ) とする こ と に よ り 、 前記の よ う に樹脂フ ィ ルムの厚みを 0 . 5 ~ 1 O z mと した場合でも、 樹脂フ ィ ルム に必要な強度を付 与する こ とがで きる。 後述の貼 り 合わせの工程において、 ラ ミ ネ一 夕 を通過させた際に 口 一ラーの圧力 に よ る破断が起こ り に く く 、 製 造の歩留ま り を向上させる こ とがで き る。 ま た、 P E Tは後述の貼 り 合わせの工程における加熱の温度 ( 1 5 0 °C ) では、 可塑化が起 こ り に く い。 こ のため、 従来技術の よ う に樹脂フ ィ ルムが支持部材 に沿って変形 し、 液晶を封入する ための間隙が狭 く なる こ とがな く 、 平滑に樹脂フ ィ ルム を接着で き る。 ま た、 ポ リ エス テル樹脂は透 明であ り 、 可視光波長域での光の減衰が小さ いため、 液晶表示素子 と して明る い表示を実現する こ とがで き る。 ポ リ エステル樹脂には 、 実施の形態 1 で使用 した P E T以外に も、 ポ リ エチ レ ンナ フ タ レ — ト ( P E N ) な どの種類があ り 、 こ れ ら を使用 して も よい。
ま た実施の形態 1 では、 画素部分に断面が四角形の支持部材を分 布させて設けている。 画素範囲の中で支持部材の占める面積は、 小 さ いほど液晶表示素子の開口率が高ま り 、 明る い表示を実現する こ とがで き る。 したがって、 表示の面では支持部材の幅、 すなわち、 支持部材の四角形状の一辺の長さはで き るだけ小さ く 、 ま た支持部 材と隣の支持部材との間隔はで き る だけ長 く する ほう が望ま しい。 しか し、 支持部材の幅が小さ い と、 後述の よ う に基板上に樹脂フ ィ ルムを貼 り 合わせる工程で、 支持部材が押 しつぶされて破壊される ため、 各液晶層の間隙が小さ く なつて液晶が注入で きな く な り 、 製 造の歩留ま り を低下させる原因 と なる。 支持部材のポジ形レ ジス ト を充分に硬化させた場合には、 支持部材の幅を支持部材の高さ よ り も大き く する こ と に よ り 、 前述のよ う な支持部材の破壊を回避する こ とがで き る。 実施の形態 1 では、 支持部材の高さ を 5 m と して い る ため、 支持部材の幅を 以上 とする こ とで、 支持部材が破 壊されず、 歩留ま り の低下を抑え る こ とがで き る。
ま た、 実施の形態 1 では画素部分の範囲内に存在する支持部材の 間隔を 2 5 〃 m (支持部材の一辺 5 〃 m、 3 0 〃 m ピ ッ チ) と した 。 こ こ で、 支持部材の間隔が大きい と、 支持部材と支持部材の間で 樹脂フ ィ ルム がた るみ、 基板 と樹脂フ ィ ルム、 ま たは樹脂フ ィ ル ム どう しの間隔を維持で きず、 色ムラゃコ ン ト ラ ス ト 比低下の原因 と なる。 そ こで、 支持部材と支持部材との間隔を 1 0 以下 と す る こ と に よ り 、 樹脂フ ィ ルムのたるみが小さ く 、 基板と樹脂フ ィ ル ムの間隙を保つ こ とがで き る。 こ う する こ と に よ り 、 液晶層の厚み が保たれ、 色ムラや、 ギャ ッ プ不足に よ る コ ン ト ラ ス ト 比の低下を 防止する こ とがで き る。
ま た、 実施の形態 1 では樹脂フ ィ ルム 1 1 1 〜 1 1 3 の光学異方 性の方向、 すなわち樹脂フ ィ ルムの遅相軸の方向をすベて一致させ て い る 。 樹脂フ ィ ルム の光学異方性は、 各樹脂フ ィ ルム の遅相軸、 すなわち樹脂フ ィ ルム を製造する際の延伸方向に沿って現れる ため 、 基板上に積層 した複数の樹脂フ ィ ルムの遅相軸の方向を異な ら せ た場合、 光が樹脂フ ィ ルムで吸収され液晶表示素子の明る さが低下 する場合があ っ た。 そ こ で、 樹脂フ ィ ルムの遅相軸の方向をすベて 同 じにする こ と に よ り 、 樹脂フ ィ ルム の光学異方性に起因する光の 減衰がな く 明る い表示を実現する こ と がで き る。
次に上記液晶表示素子の製造方法について図 6 〜図 1 3 を用いて 説明する。 なお、 以下の工程は、 ポジ型 レ ジス ト な どの感光性材料 が感光 しない長波長の光で照明された部屋 (イ エ ロ一ルーム) で行
( 1 ) まず、 図 6 ( a ) に示すよ う に、 T F T素子 1 0 2、 1 0 3 、 1 0 4 を形成 した基板 1 0 1 上に I T Oの透明導電膜をスパ ッ 夕成膜 したのち、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一およびエ ッチ ングに よ り 、 T F T素子 1 0 3、 1 0 4の ド レ イ ン端子 1 0 3 a、 1 0 4 aお よ び第 1 画素電極 M l をパ夕 一ニ ングする。 同時に、 前記透明導電膜 に よ り 画素周辺のソース線およびゲ一 ト 線を形成する。
次に、 遮光膜 1 0 5 を形成する工程を実施 した。 力一ポンを含ん だネガ形レ ジス ト を基板 1 0 1 上に塗布 し、 支持部材 1 1 8および 立体配線用パ ヅ ド 1 4 0 を設ける箇所のみに前記レ ジス ト が残る よ う にマス ク露光お よび現像を行い、 図 6 ( b ) の よ う に遮光膜 1 0 5 を形成する。 なお、 遮光膜 1 0 5 と しては、 アル ミ ニウ ムな どの 金属薄膜を成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一およびェ ヅ チ ングに よ り 形成 して も よい。
( 2 ) 次に、 支持部材 1 1 8 を形成する工程を実施する。 ま ず、 遮光膜 1 0 5 を形成 した基板 1 0 1 上に第 1 のポジ形 レ ジス ト をス ピ ンコー ト に よ り 塗布 し、 プ リ べ一ク する。 次に基板 1 0 1 側か ら 紫外線を露光する こ と に よ り 、 遮光膜 1 0 5 を フ ォ ト マス ク と して 、 支持部材 1 1 8および立体配線用パ ッ ド 1 4 0 を形成する箇所以 外を露光する。 露光後、 ポジ形レ ジス ト の現像液で現像 し、 ポス ト ベ一クで硬化する こ と に よ り 、 図 7 ( a ) に示すよ う に遮光膜 1 0 5上に支持部材 1 1 8、 立体配線用パ ッ ド 1 4 0 を形成する こ とが で き る。
( 3 ) 次に、 支持部材 1 1 8上に接着層を形成する工程を実施す る。 図 7 ( a ) の よ う に支持部材 1 1 8 を形成 した基板 1 0 1 上に 接着層 1 3 1 とな る第 2 のポジ形レ ジス ト をス ピ ン コ ー ト によ り 塗 布 し、 プ リ べ一ク する。 次に ( 2 ) の工程 と 同様に基板 1 0 1 側か ら遮光膜 1 0 5 を フ ォ ト マス ク と して紫外線を露光 し、 第 2 のポ ジ 形レ ジス ト の現像液で現像する こ と に よ り 、 図 7 ( b ) の よ う に支 持部材 1 1 8、 立体配線用パ ッ ド 1 4 0上に約 1 z mの接着層 1 3 1 を形成する。 ( 2 )、 ( 3 ) の工程のよ う に、 基板 1 0 1 上の遮光膜 1 0 5 を フ ォ ト マス ク と して基板の背面か ら露光する こ と に よ り 、 支持部材 1 1 8、 立体配線用パ ッ ド 1 4 0上にのみ容易に接着層 1 3 1 を形成で き る。 こ こで、 通常のマス ク露光の工程に よ り 、 支持 部材上にのみ接着層を形成する場合には、 基板上の支持部材と接着 層の フ ォ ト マス ク の位置合わせの工程が必要 と な る が、 平面形状の 一辺が本発明の よ う に小さい支持部材の上では数 / mの位置ずれで 支持部材上の接着面積が小さ く な る ため、 マス ク位置合わせに極め て高い精度が必要 と な り 、 位置ずれに よ る歩留 ま り 低下の原因 と な つ た。 ( 3 )の工程の よ う に遮光膜を フ ォ ト マス ク と した基板の背面 か ら の露光に よ り 、 こ のよ う な不具合がな く 、 精度よ く かつ容易に 支持部材 1 1 8上に接着層 1 3 1 を形成する こ とがで き る。
ま た、 接着層 1 3 1 に使用する第 2 のポジ形 レ ジス ト は、 現像後 の加熱工程 (ポス ト べ一ク の工程) で、 熱可塑性を発現 したのち に 硬化する性質を有する材料を使用する。 本例では、 接着層 1 3 1 ( 接着層 1 3 2, 1 3 3 も 同様) の熱可塑性を発現するポス ト べ一ク の温度が、 支持部材 1 1 8 (支持部材 1 1 9 , 1 2 0 も 同様) お よ び樹脂フ ィ ルム 1 1 1 (樹脂フ ィ ルム 1 1 2 , 1 1 3 も 同様) が熱 可塑性を発現する温度よ り も低い 1 5 0 °Cの材料を使用する。 ま た 、 支持部材 1 1 8 (支持部材 1 1 9 , 1 2 0 も 同様) はすでに硬化 してお り 、 再度の加熱時には熱可塑性を発現 しない。 こ の よ う にす る こ とで、 後述の貼 り 合わせの工程で、 接着層 1 3 1 , 1 3 2 , 1 3 3 のみに熱可塑性を発現させて支持部材 1 1 8, 1 9 , 2 0 と樹 脂フ ィ ルム 1 1 1 , 1 1 2, 1 1 3 を接着で き る と と も に、 従来技 術の項で説明 した よ う に樹脂フ ィ ルムがたわんで基板の間隙が狭 く な る とい う課題を改善で き、 支持部材 1 1 8, 1 1 9 , 1 2 0上に 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 , 1 1 2, 1 1 3 を平滑に貼 り 合わせる こ と が で き る。
なお、 本発明における樹脂フ ィ ルムおよび支持部材は、 上記の例 に限定される も のではない。 即ち、 樹脂フ ィ ルムは、 熱可塑性を有 さない材料ま たは接着層よ り も熱可塑性を発現する温度が高い熱可 塑性を有する材料のいずれかであればよい。 ま た、 支持部材は、 熱 可塑性を有さ ない材料ま たは接着層よ り も熱可塑性を発現する温度 が高い熱可塑性を有する材料ま たは接着処理の前に硬化処理される も ののいずれかであればよい。 こ のよ う な樹脂フ ィ ルム と支持部材 の組み合わせで、 且つ接着層が熱可塑性を有する こ と に よ り 、 樹脂 フ ィ ルムが支持部材に沿って変形 した り 支持部材が破壊 した り する こ と な く 、 支持部材と樹脂フ ィ ルム と を接着させる こ とが可能 と な る。 また、 通常の液晶表示素子はギヤ ッ プか ら液晶が流出するのを防 ぐ ために、 表示部分周辺に シール材を塗布 し、 ギャ ッ プを封止する こ とが行われる。 本発明では、 シール材を塗布する代わ り に、 ( 3 ) の接着層 1 3 1 を形成する工程において、 図 1 2のよ う に、 支持部 材 1 1 8 の上だけでな く 、 支持部材 1 1 8 が設け られていない表示 領域周辺部 1 4 6 (図 1 2 の破線 4 4の外側) の基板 1 0 1 上に も 接着層 1 3 1 を形成する。 こ う する こ とで、 後の貼 り 合わせの工程 で、 表示領域周辺部 1 4 6 において基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を隙間な く 接着させる こ と がで き る 。 表示領域周辺部 1 4 6 の接 着層 1 3 1 は、 ( 3 ) の工程の露光の際に、 表示領域周辺部 1 4 6 を 遮光する フ ォ ト マス ク を基板側に配置する こ と によ り 、 現像後に表 示領域周辺部 1 4 6 の接着層 1 3 1 が取 り 除かれずに残る。 こ のェ 程に よ り 、 シール材の塗布な ど封止のための別の工程が不必要 と な る ため、 工程を簡略化で き る 。
こ こ で、 表示領域周辺部 1 4 6 の全周に接着層 1 3 1 を形成する と、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を貼 り 合わせた後の加熱ま たは真空引 き を 伴う 工程で、 基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 の間隙に密閉された 空気が膨張 して樹脂フ ィ ルム 1 1 1 が破裂 した り 、 支持部材 1 1 8 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 との接着がはがれて しま う とい う課題が発生 するおそれがある。 そ こで、 間隙中の空気を外部と通気させる ため の通気口 を設ける こ とが必要であ る。 実施の形態 1 では通気ロ を設 ける ために、 ( 3 ) の接着層を形成する工程において、 表示領域周辺 部 1 4 6 の う ち一部を遮光せず、 他を遮光する フ ォ ト マス ク を用い て露光する こ とに よ り 、 表示領域周辺部 1 4 6 に接着層 1 3 1 を形 成 しない部分 1 3 4 , (図 1 2 , 図 1 4参照) を設けた。 後の貼 り 合 わせ工程では、 こ の部分 1 3 4 ' は基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 が接着されないため、 通気口 1 3 4 と する こ とがで き る。 なお、 通気口 1 3 4は、 図 1 2 に示すよ う に、 外部に開口 した第 1 通路 1 3 4 a と、 第 1 通路 1 3 4 aに連通 し且つ第 1 通路 1 3 4 a よ り も 通路断面が大きい第 2通路 1 3 4 b とか ら構成されている 。 この よ う にする と、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 の破裂な どの課題が未然に防止で き る と と も に、 通気口 1 3 4 を形成する工程が、 接着層 1 3 1 を形 成する工程に含まれる ため、 余分な工程が不必要であ り 、 容易に通 気口 1 3 4 を形成する こ とがで き る。
( 4 ) 次に、 支持部材 1 1 8 を形成 した基板 1 0 1 上に樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を貼 り 合わせる工程を実施す る。 こ の様子を図 8 に示す 。 図 8 の よ う に基板 1 0 1 上の支持部材 1 1 8、 接着層 1 3 1 を形 成 した側に、 P E Tを主成分 とする樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を重ね合わ せ、 ラ ミ ネ一夕 の ロ ーラ一 1 2 6 、 1 2 7 の間を通過させる。 こ の と き ラ ミ ネ一夕 の 口一ラー 1 2 6、 1 2 7 の う ち少な く と も一方、 望ま し く は樹脂フ ィ ルム に接する ロ ーラ一 1 2 6 の表面を、 接着層 1 3 1 が熱可塑性を発現する 1 5 0 °Cに設定する。 ロ ーラ 一は、 基 板 1 0 1 に均一に 1 O M P aの押力が加わ る よ う に、 ロ ーラ一 1 2 6、 1 2 7 どう しを挟み、 ローラーを周速度 1 0 m m/秒の速さ で 回転させる。 こ のよ う に、 支持部材 1 1 8、 接着層 1 3 1 を設けた 基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ルム 1 .1 1 と を重ね合わせて、 ラ ミ ネ一夕 の ロ ーラ一 1 2 6、 1 2 7 間を通過させる こ と に よ り 接着層 1 3 1 が 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 と熱接合 し、 支持部材 1 1 8 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 とが接着する。 こ の と きの 口一ラ ーの温度では支持部材 1 1 8 お よび樹脂フ ィ ルム 1 1 1 は可塑化 しないため、 樹脂フ ィ ルムが支 持部材に沿って変形 した り 支持部材が破壊 した り する こ とがな く 、 図 9 ( a ) のよ う に、 支持部材 1 1 8 の高さ に相当する 間隙を維持 しなが ら樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を容易に貼 り 合わせる こ とがで き る 。 次に樹脂フ ィ ル ム 1 1 1 を貼 り 合わせた基板 1 0 1 を焼成して接着 層 1 3 1 を硬化させ、 支持部材 1 1 8 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 と を強 固に接着させる。 焼成温度は、 少な く と も接着層 1 3 1 が硬化する 温度よ り も高い必要があ るが、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 がわずかな熱収 縮を起こ す温度 と する こ とで、 支持部材と支持部材との間の樹脂フ イ ルム のた るみを小さ く して、 樹脂フ ィ ルム を よ り 平坦な状態に貼 り 合わせる こ とがで き る。 本実施の形態で用いた 1 . 2 ^1の厚み の P E Tの樹脂フ ィ ルムの場合には、 2 0 0 °C〜 2 2 0 °Cが好適な 焼成温度である。
以上の工程に よ り 、 基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 の間隙を保 つ たま ま支持部材 1 1 8 上で樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を強固に接着させ る こ とがで き、 製造の歩留ま り を高める こ とがで き る。 ま た、 従来 例のよ う に樹脂フ ィ ルム を離型する工程や固形膜を気化させる工程 が不必要 とな り 、 従来に比べ簡便かつ容易に樹脂フ ィ ルム を貼 り 合 わせる こ とがで き る 。
こ こ で、 ( 4 ) の貼 り 合わせの工程では、 ラ ミ ネ一夕 の ローラ一 1 2 6 、 1 2 7 の間に基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を通過させる ため、 こ の と き に樹脂フ ィ ルムが折 り 重な っ た り しわが寄る と、 樹 脂フ ィ ルム 1 1 1 が基板 1 0 1 上に平滑に接着で きず、 表示のム ラ や欠陥の原因 と な る と い う課題が生 じた。 特に本発明は樹脂フ ィ ル ム 1 1 1 が薄いために しわが寄 り やす く 、 歩留ま り を低下させる原 因 となっ た。 そ こ で、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を図 8 の矢印 B の方向に 均一に引っ張っ て しわ を伸ば しなが ら ローラ一 1 2 6 、 1 2 7 間を 通過させる。 こ う する こ とで、 樹脂フ ィ ル ム 1 1 1 を平滑な状態 と して基板上 1 0 1 に貼 り 合わせる こ とがで き る 。 ま た、 ラ ミ ネ一夕 の ロ ーラーは弾性を有する材質 (ゴムな ど) が 一般的であるが、 本発明の工程で、 樹脂フ ィ ルム側の ローラ一 1 2 6 と して弾性を有する材料を使用 した場合には、 ( 4 )の工程で基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を重ねて通過させた と きに、 口一ラー 1 2 6 の押圧に よ り 支持部材 1 1 8 がロ ーラ一 1 2 6 に食い込み、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 が基板 1 0 1 側に塑性変形 してたわみ、 間隙が 維持されない とい う課題が生 じるおそれがあ る。 そ こで、 口一ラー 1 2 6 を、 押圧時の食い込みが樹脂フ ィ ルムの弾性変形よ り 小さ く なる よ う な硬度を有する剛体、 た と えば、 ス テ ン レ ススチールな ど で構成する こ と に よ り 、 支持部材 1 1 8 が食い込んで樹脂フ ィ ル ム が変形する こ とがな く 、 樹脂フ ィ ルムが平滑な状態で支持部材上に 接着 し、 液晶を封入する間隙の厚みを均一にする こ とがで きる。
ま た、 ( 4 )の工程で表示領域周辺部 1 4 6 で接着層 1 3 1 を形成 しなかっ た箇所は、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を貼 り 合わせる こ と に よ り 、 図 1 2 の よ う に通気口 1 3 4 が設け られる。 こ れに よ り 、 前述の よ う に加熱ま たは真空引 き を伴う 工程における樹脂フ ィ ルムの破裂 な どの不具合は未然に防止で き る 。 しか し、 樹脂フ ィ ルム上の支持 部材形成の際に基板を レ ジス ト 現像液に浸漬する工程や、 樹脂フ ィ ルム上の透明導電膜をパ夕一ニ ン グする ためにエ ッチ ング液に浸漬 する工程において、 通気口か ら溶液が間隙内に浸入する とい う新た な課題が発生するおそれがある。 通気口 1 3 4 か ら間隙に溶液が浸 入する と、 間隙がご く 狭いために、 浸入 した溶液を排除する こ とが 困難 と なっ た り 、 溶液中の成分が間隙内に残留する な ど して、 液晶 が間隙に注入で きな く な る原因 と な っ た。
( 5 ) これを解決する方法 と して、 通気口 1 3 4 の第 1 通路 1 3
4 a付近の基板 1 0 1 と樹脂フ ィ ル ム 1 1 1 との間隙の表面張力 を 低下させる工程を実施 した。 表面張力を低下させる処理 と しては、 通気口 1 3 4の第 1 通路 1 3 4 a付近の基板 1 0 1 ま たは樹脂フ ィ ルム 1 1 1 の表面に フ ッ素系コー ト 剤 1 9 0 (図 1 4参照) を被覆 する。 表面処理を しない場合には、 P E T表面での水の接触角は約 7 0度であ り 水な どの溶液が間隙に浸入する が、 前記処理に よ っ て 接触角を 9 0度以上 とする こ とで、 図 1 5 の よ う に間隙に溶液が浸 入せず、 こ の課題の発生を未然に防止で き る。 ま た、 こ の方法に よ れば、 加熱ま たは真空引 きの工程 と溶液に浸漬する工程と を繰 り 返 す際に、 通気口の開口 と閉口 を繰 り 返す必要がないため、 製造工程 を簡素化で き る。
( 6 ) 次に、 基板 1 0 1 上に貼 り 合わせた樹脂フ ィ ルム 1 1 1 に 、 開口 1 2 4 , 1 2 5 を形成する工程を実施 した。 開口 1 2 4 , 1 2 5 は、 前述のよ う に樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と基板上の T F T 素子の ド レイ ン端子 と を電気的に接続する ための開口である。 図 9 ( a ) に示す樹脂フ ィ ルム 1 1 1 の外側に、 第 3 のポジ形 レ ジス ト 1 2 8 をス ピ ンコー ト に よ り 塗布 し、 プ リ べ一ク した。 次に、 開 口 1 2 4 , 1 2 5 を形成する部分にのみ光を照射する フ ォ ト マス ク を 用いてマス ク露光 し、 現像液で現像する こ と に よ り 、 図 9 ( b ) の よ う に前記レ ジス ト 膜 1 2 8 の う ち開口 1 2 4、 1 2 5 を形成する 部分を除去 し、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 上に 3 z mの レ ジス ト膜 1 2 8 を形成 した。 次に、 リ アクテ ィ ブイ オ ンエ ッチ ング ( R I E ) に よ り 開口 を形成する部分の樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を除去 し、 図 1 0 ( a ) の よ う に、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 に開口 1 2 4、 1 2 5 を形成 した 。 R I Eは酸素イ オ ンを一方向に加速 して樹脂フ ィ ル ム表面に衝突 させる こ とに よ り 樹脂フ ィ ルムの樹脂分子を分解 . 気化させてエ ツ チ ン グする も のであ り 、 P E Tを主成分 とする樹脂フ ィ ルム 1 1 1 は、 R I Eに よ り 0 . 3 〃 m /分の速さで分解、 除去される。 一方 、 前記レ ジス ト膜 1 2 8 の主成分はア ク リ ル樹脂であ り 、 前記樹脂 フ ィ ルム同様 0 . 3 / m /分の速さで分解、 除去される。 こ の例で は、 5分間の R I E処理に よ り 、 開口 1 2 4、 1 2 5 の部分の樹脂 フ ィ ルム 1 1 1 を除去する一方、 前記レ ジス ト膜 1 2 8 は 1 . 5 mの厚みが除去さ れずに残 り 、 開口 1 2 4、 1 2 5 以外の部分では 、 前記レ ジス ト膜 1 2 8 が樹脂フ ィ ルム 1 1 1 を保護 した。 こ の後 、 前記レ ジス ト膜 1 2 8 を剥離 して、 図 1 0 ( b ) の よ う に樹脂フ イ ルム 1 1 1 に開口 1 2 4、 1 2 5 を形成 した。 この よ う に リ ア ク テ ィ ブイ オ ンエ ッ チ ングに よ っ て開口 を形成する こ とがで き、 P E T等有機溶剤や酸に対 して耐性のあ る樹脂フ ィ ルムに開口 を形成す る こ とがで き る。
なお、 樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する方法は、 リ ア ク テ ィ ブィ ォ ンエ ッチング以外に、 プラ ズマ灰化装置 (プラ ズマア ッ シ ャ ー) な どを用いて も よい。
( 7 ) 次に、 樹脂フ ィ ル ム 1 1 1 上に画素電極を形成する工程を 実施する。 こ の様子を図 1 1 ( a ) に示す。 第 2 画素電極 M 2 は透 明導電膜である I T Oを スノ ッ タ製膜 し、 約 0 . l mの厚み と す る。 この と き、 樹脂フ イ ノレム 1 1 1 に設けた開口 1 2 4、 1 2 5 に も I T Oが製膜さ れ、 基板 1 0 1 上の T F T素子 1 0 3 、 1 0 4 の ド レ イ ン端子 1 0 3 a、 1 0 4 a と樹脂フ ィ ルム 1 1 1 上の第 2 画 素電極 M 2 を電気的に接続する こ とがで き る。 次に、 画素部分お よ び開口の部分を レ ジス ト で覆い、 それ以外の I T Oをエ ッ チ ングに よ り 除去 したのち レ ジス ト を剥離 して第 2 画素電極 M 2 の形状に I T Oをパターニ ン グする。 こ れに よ り 、 第 2 画素電極 M 2 の電位を 基板 1 0 1 上の T F T素子 1 0 3 で制御する こ とが可能 と な る。 ( 8 ) 次に、 第 2液晶層 1 0 7 を形成する。 第 2液晶層 1 0 7 を 形成する工程は、 前記 ( 2 ) 〜 ( 7 ) の工程を繰 り 返 して形成する 。 ま ず、 ( 2 ) の工程に よ り 、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 上に支持部材 1 1 9 を形成 したのち、 ( 3 )の工程で支持部材 1 1 9 上に接着層 1 3 2 を形成する。 ( 2 ) ( 3 ) と 同様に、 ( 1 ) の工程で形成 した遮光膜 1 0 5 を フ ォ ト マス ク と して、 基板 1 0 1 側か ら露光する こ と に よ り 、 第 1 液晶層 1 0 6 の支持部材 1 1 8、 接着層 1 3 1 と 同 じ位置に 第 2液晶層 1 0 7 の支持部材 1 1 9 、 接着層 1 3 2 を容易に形成で き る。 次に ( 4 ) の工程に よ り 支持部材 1 1 9 と樹脂フ ィ ルム 1 1 2 と を貼 り 合わせて、 樹脂フ イ ル ム 1 1 1 と樹脂フ ィ ルム 1 1 2 の 間に液晶を封入する ための間隙を形成する。 こ の と き、 樹脂フ ィ ル ム 1 1 2の遅相軸の方向は樹脂フ ィ ルム 1 1 1 の遅相軸 と同 じにな る よ う にする。 さ ら に、 ( 5 ) の工程で第 2液晶層 1 0 7 の間隙に通 じる通気口 1 3 5 (図 1 3、 図 1 6参照) の第 1 通路 1 3 5 a付近 の表面張力を低 く する処理を施す。 なお、 通気口 1 3 5 は、 図 1 3 に示すよ う に、 通気口 1 3 4 と 同様な構成であ り 、 外部に開口 した 第 1 通路 1 3 5 a と、 第 1 通路 1 3 5 aに連通 し且つ第 1 通路 1 3 5 a よ り も通路断面が大きい第 2通路 1 3 5 b とか ら構成されて い る。
次に、 ( 6 ) の工程で、 基板上の T F T素子 1 0 4 の ド レ イ ン端子 1 0 4 aの上方の樹脂フ ィ ルム 1 1 2 に開口 1 2 5 を形成 したの ち 、 ( 7 ) の工程で、 第 3 画素電極 M 3 を形成 し、 第 3 画素電極 M 3 を ド レ イ ン端子 1 0 4 a と導通させる。 こ のよ う に して、 図 1 1 ( b ) の よ う に、 第 2液晶層 1 0 7 を構成する ための間隙、 樹脂フ ィ ル ム 1 1 2、 第 3 画素電極 M 3 を形成 した。
( 9 ) 次に、 第 3液晶層 1 0 8 を形成する。 第 3液晶層 1 0 8 を 形成する工程は、 前記 ( 2 ) 〜 ( 5 ) の工程を繰 り 返 して形成する o ま ず、 ( 2 ) ( 3 ) の工程に よ り 、 樹脂フ ィ ルム 1 1 2上の第 2液 晶層の支持部材 1 1 9 と 同 じ位置に、 支持部材 1 2 0、 接着層 1 3 3 を設けた。 次に ( 4 ) の工程に よ り 支持部材 1 2 0 と樹脂フ ィ ル ム 1 1 3 と を貼 り 合わせて、 樹脂フ ィ ルム 1 1 2、 1 1 3 の間に液 晶を封入する間隙を形成する。 樹脂フ ィ ルム 1 1 3 の遅相軸の方向 は、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 、 1 1 2 と 同 じ方向 と する 。 次に ( 5 ) の 工程で第 3液晶層 1 0 8 の間隙に通 じる通気口 1 3 6 (図 1 3 、 図 1 7参照) の第 1 通路 1 3 6 a付近の表面張力を低 く する処理を施 す。 なお、 通気口 1 3 6 は、 図 1 3 に示すよ う に、 通気口 1 3 4 と 同様な構成であ り 、 外部に開口 した第 1 通路 1 3 6 a と、 第 1 通路 3 6 aに連通 し且つ第 1 通路 3 6 aよ り も通路断面が大きい第 2 通 路 1 3 6 b と か ら構成されている。 ま た、 前記通気口 1 3 4〜 1 3 6 の位置は、 図 1 3 に示すよ う に、 それぞれ異なる位置に形成する o
( 1 0 ) 次に、 樹脂フ ィ ルム 1 1 3上に共通電極 1 1 6 を形成す る工程を実施する。 共通電極は、 反射板を兼ねる も のであ り アル ミ ニゥ ム蒸着に よ り 0 . l 〃 mの厚みに成膜する。
( 1 1 ) さ ら に共通電極 1 1 6 を形成 した樹脂フ ィ ルム 1 1 3 の 上にアク リ ル樹脂か ら なる保護膜 1 7 を形成する工程を実施する。
( 1 2 ) 次に、 液晶を真空注入する工程を実施する。 ま ず、 基板 1 0 1 および樹脂フ ィ ルム 1 1 1 、 1 1 2、 1 1 3 を図 1 3 の C一 Cの線で割断する こ と に よ り 、 表面張力を高めた部分である第 1 通 路 1 3 4 a、 1 3 5 a、 1 3 6 aを取 り 除き、 第 2 通路 1 3 4 b、 1 3 5 b , 1 3 6 bを液晶の注入口 と して機能させる 。 次に、 上記 基板上に樹脂フ ィ ルムが積層された構造体を、 シ ア ン、 マゼ ンタ 、 黄色の各色の 2 色性色素を溶解 したゲス ト ホス ト 液晶を入れた 3 個 の液晶溜めと共に、 真空注入機中に入れる。 そ して、 真空引 き した のち各液晶層の第 2 通路 1 3 4 b 、 1 3 5 b , 1 3 6 b を各液晶溜 めの液晶液面に接触させる こ と に よ り 、 3 層の液晶層の間隙に各色 に対応 したゲス ト ホス ト 液晶を真空注入する。 各間隙にすべて液晶 が注入された後、 基板を真空注入機か ら取 り 出 し、 3 つの第 2 通路 1 3 4 b , 1 3 5 b , 1 3 6 b を紫外線硬化樹脂を用いて封止する 。 以上に よ り 、 第 1 〜第 3 液晶層 1 0 6 ~ 1 0 8 の間隙に液晶 1 2 1 〜 1 2 3 を封入する こ と がで き る 。
以上の工程に よ り 、 図 1 に示す液晶表示素子を製造する こ とがで き る。 これに よ り 、 極めて薄い樹脂フ ィ ルム を支持部材上に容易に 接着で き、 基板上 と樹脂フ ィ ルム の間隙に液晶を封入 して液晶表示 素子を形成する こ と に よ り 、 液晶の 占める割合を高 く して実質的な 開口率を高め、 高いコ ン ト ラ ス ト 比 と明るい表示を実現する こ と が で きた。 ま た、 樹脂フ ィ ルム の厚みも 小さ いので、 液晶表示素子を 低電圧で駆動する こ とがで き、 しかも ガラ ス基板が不要 とな るので 、 視差のない明るい表示を実現する こ とがで きた。 なお、 実施の形 態 1 では支持部材、 接着層 と してポジ形の フ ォ ト レ ジス ト を用いた が、 ネガ形レ ジス ト を用いて支持部材、 接着層を形成 して も よい。 こ の場合、 基板と支持部材の間に遮光膜を設ける代わ り に、 支持部 材を設けない部分に反射膜が設け、 これをマス ク と して支持部材、 接着層を形成する。 ま た、 基板上に反射膜を形成する ため、 最上層 の樹脂フ ィ ルム上の共通電極 と しては、 透明導電膜を形成する も の と する。
(実施の形態 1 一 2 )
実施の形態 1 一 1 では、 接着層は支持部材の上にのみ形成する接 着層形成工程を実施 したが、 接着層形成工程と して 、 樹脂フ ィ ル ム にあ らか じめ接着層を被覆する工程を実施する こ と に よ り 、 これを 接着層 と して用いる こ と もで き る。 こ の場合、 樹脂フ ィ ルムの製造 時に接着層を形成で き、 支持部材上への接着層形成工程も必要ない ので、 製造工程を簡略化で き る。 貼 り 合わせの工程においては、 樹 脂フ ィ ルムの う ち接着層を設けた面を基板上の支持部材と接する側 と して基板と樹脂フ ィ ルム と を貼 り 合わせる 。 なお、 接着層は樹脂 フ ィ ルム の両面に設けて も よい。
樹脂フ ィ ルム上の接着層は、 ポ リ エステル樹脂か ら な る樹脂フ ィ ルムの上に、 ポ リ エステル樹脂よ り も低い温度で熱可塑性を有する ポ リ エチ レ ン樹脂、 ポウ レ タ ン樹脂な どを主成分 と する樹脂を薄 く 塗膜 して形成する。 こ こ で、 接着層の厚みは樹脂フ ィ ルムの厚みに 対 し、 5 分の 1 〜 1 0 分の 1 の厚み と した。 こ の よ う に接着層の厚 みを薄 く する こ と に よ り 、 接着層での電圧降下を抑え る こ とがで き る o
こ のよ う に薄い接着層を形成する 方法は次の通 り である。 数 // m 程度の厚みの樹脂フ ィ ルムは、 延伸に よ り 薄膜化する が、 延伸前に 接着層をなす樹脂を樹脂フ ィ ルム に塗布 し、 その後延伸する。 こ の よ う にする こ とで、 延伸前の樹脂フ ィ ルム と接着層の厚み と 同 じ割 合で樹脂フ ィ ルムおよび接着層が薄膜化さ れる ため、 非常に薄 く 、 均一な接着層を形成で き る。
(実施の形態 1 一 3 )
ま た、 実施の形態 1 一 1 では、 表示部分の周辺に樹脂フ ィ ルム と 基板 との間隙の気体と外と を通気させる ために通気口 1 3 4 ~ 1 3 6 を設け、 通気口の第 1 通路 1 3 4 a 〜 1 3 6 a付近の表面張力 を 高める こ と に よ り 通気口か ら の溶液の浸入のおそれを未然に防止 し た。 このよ う な方法ではな く 、 表示部分の周辺を封止 し、 通気口 を 閉口する こ とで も、 溶液の浸入を防 ぐ こ と も で き る。 この場合、 加 熱や真空引 き を伴う 工程においては、 間隙の気体が膨張 し樹脂フ ィ ルムが破断する場合がある ため、 こ の工程の前に、 封止 した表示部 分の一部を貫通させて通気口 を設ける。 加熱や真空引 きを伴う工程 ののち、 溶液に浸漬する工程の前には、 こ の通気口 を閉口する。 通 気口 を設ける箇所は、 表示部分の周辺の画素以外の部分 と し、 通気 口は レーザ一光を用いて直径 5 0 ; mの穴を樹脂フ ィ ルムに開けて 形成する。 通気口の閉口は、 2 0 0 °C程度に加熱 したコテ先を通気 口に押さ えつけ、 樹脂フ ィ ルム の熱接合に よ り 閉口する。
なお、 3 層の液晶層を形成する ためには、 通気口の開口、 閉口の 工程を複数回繰 り 返す必要がある ため、 1 回ずつ形成する場所を変 えて通気口 を設けた。 こ の よ う にする こ とで、 実施の形態 1 と 同様 に液晶表示素子を形成する こ とがで き る。 ま た、 通気口の閉口方法 と して、 粘着性を有する テープを用いて も よい。 こ の場合、 通気口 の閉口、 開口の工程を繰 り 返すごと にテープの着脱を行う こ と に よ り 、 実施の形態 1 と同様の効果を得る こ とがで き る。 なお、 閉口す る ためのテープは、 基板を浸漬する溶液に対 して耐性を有する も の を用い、 ま た粘着性が比較的小さいも のが好適であ る。
(実施の形態 1 — 4 )
ま た実施の形態 1 一 1 、 1 — 3 では、 通気口 を設ける こ と に よ り 、 間隙の気体と外 と を通気させた。 こ のよ う な方法ではな く 、 実施 の形態 4 では、 樹脂フ ィ ルム 1 1 1 〜 1 1 3 と して通気性を有する も のを用いた。 こ れに よ り 、 加熱や真空引 き を伴う 工程において も 樹脂フ ィ ルム を通 して間隙の空気が出入 り する ため、 通気性を有 し ない場合に発生する気体の膨張によ る樹脂フ ィ ルムの破断な どの不 具合を未然に防止する こ とがで き、 ま た溶液に浸漬する工程におい ては、 溶液の間隙への浸入を防 ぐ こ とがで き る。 したがって、 実施 の形態 1 、 3 のよ う に通気口 を設ける工程を省略する こ とがで き る 。 また、 通気性の樹脂フ ィ ルム の使用 と、 実施の形態 1 一 1 、 1 一 3 の通気口の形成との両方の対策を施すこ とで、 間隙の空気の通気 がよ り 円滑に行われ、 樹脂フ ィ ルムの破れな どを防止する効果が大 き く なる。 なお、 通気性、 透湿性を有する樹脂フ ィ ルムを用いた場 合、 液晶表示素子を製造後、 樹脂フ ィ ルム を通 じて空気中の酸素ま たは水分がギヤ ッ プ内に入 り 、 液晶の保持率を低下させて表示性能 が悪 く なる場合がある 。 こ こ で実施の形態 1 一 1 の よ う に、 最上層 の樹脂フ ィ ルム の上に共通電極 と してアル ミ ニ ウ ム を蒸着すれば、 共通電極が遮蔽膜と な っ て酸素ま たは水分の浸入を防 ぐ こ とがで き 、 別途遮蔽膜を設ける必要がな く 工程が簡略化で き る。 なお、 樹脂 フ ィ ルムが液晶表示素子の表面に露出する箇所がある場合には、 表 示性能の低下を防 ぐ ために通気性を有さ ず且つ透湿性を有さない遮 蔽膜を最上位置の樹脂フ ィ ルム 1 1 3 上に形成する必要がある。
(実施の形態 1 一 5 )
ま た実施の形態 1 一 1 では、 最上位置の樹脂フ ィ ルム 1 1 3 上に 共通電極を兼ねた反射膜 1 1 6 を形成する こ と に よ り 反射板を形成 した。 この方法では、 平坦な樹脂フ ィ ルム上に反射膜を形成する た め、 光の反射特性が鏡面性を有する もの となる。 反射膜が鏡面性を 有する場合、 光源が反射膜に映 り 込んで表示が見づ ら く 、 映 り 込み のない角度か ら表示素子を見た と き には、 表示が暗い と い う課題を 有 している。 こ のため、 反射膜の表面に微細な凹凸形状を設ける こ と に よ り 反射特性を拡散性と した反射膜を有する液晶表示素子が、 従来提案されている (特開平 4 一 2 4 3 2 2 6 )。 こ の方法は、 基板 上に微細な凹凸形状を有する樹脂層を設け、 樹脂層上に反射膜を形 成する こ とで、 拡散性を持たせた も のである。 こ こで、 本発明の実 施の形態 1 一 1 の構成において、 従来技術 と 同様に基板上に凹凸形 状を有する反射膜を設けた場合、 ( 1 )基板上の凹凸のため反射膜と 樹脂フ ィ ルム との間隙を一定に保つこ とがで きない、 ( 2 )支持部材 と接着層を形成する ために背面露光を実施する際、 反射膜に よ っ て 光が遮光される ため、 実施の形態 1 の よ う にポジ形フ ォ ト レ ジス ト を用いて支持部材 と接着層を 同 じ位置に設ける こ とがで きない、 と い う新たな課題が生 じるおそれがあ る 。
そ こ で、 本発明の実施の形態 1 一 5 は、 図 1 8 の よ う に、 積層さ れた液晶層の う ち最も外側の液晶層上、 すなわち最上位置の樹脂フ イ ルム 1 1 3 の上に、 表面に微細な多数の凹凸形状を有する樹脂層 1 5 0 を設け、 樹脂層 1 5 0 上に反射膜 1 5 1 を形成 した。 こ こ で 、 前記樹脂層 1 5 0 は、 透明なポジ形フ ォ ト レ ジス ト を用い、 反射 膜 1 5 1 は、 アル ミ ニ ウ ム蒸着に よ り 成膜 した。 こ の構成に よ り 、 液晶層上に拡散性を有する反射膜を形成する こ とがで き、 表示を見 やす く する と と も に、 上記の課題を解決する こ とがで きた。 本発明 は、 凹凸形状を有する反射膜の樹脂層側の面を反射面 と して用いる こ と が従来技術と相違 し、 樹脂層での光の吸収が大きい と、 表示が 暗 く なる。 こ のため、 前述の よ う に樹脂層 1 5 0 は透明な材料であ る必要がある。
ま た、 本実施の形態 1 一 5 では、 反射膜が共通電極を兼ねる構成 と したが、 電極間に電圧を印加する際、 樹脂層で電圧降下 し、 液晶 層に加わる電圧が低 く なる。 これを回避する ため、 樹脂フ ィ ルム 1 1 3 と樹脂層 1 5 0 との間に透明な共通電極を設ける構成と して も よい。 なお、 この場合には、 共通電極で光が吸収されて表示の明る さがやや暗 く な る場合がある。
次に、 本実施の形態の製造工程について、 実施の形態 1 一 1 と重 複する部分は省略 し、 異な る部分のみ説明する。 実施の形態 1 の製 造方法の工程の説明で示 した項目の う ち、 ( 1 ) 〜 ( 9 ) までを同様 に実施 し、 ( 1 0 )の反射膜を形成する工程のみを次の よ う に変更す る。 樹脂フ ィ ルム 1 1 3 上にポジ型の フ ォ ト レ ジス ト を l 〃 mの厚 みに塗布する 。 次に、 図 1 9 に示すよ う に多数の微小な円形穴 1 5 2 を有する フ ォ ト マス ク 1 5 3 を用いて、 マス ク露光および現像を 行い、 パ夕一ニ ングを実施する。 その後、 レ ジス ト を透明化させ る ため全面露光を実施する。 次に、 基板を 2 0 0 °Cのオーブン 中で焼 成する。 フ ォ ト レ ジス ト と しては、 焼成時に熱垂れを起こ す材料を 用い る こ と に よ り 、 樹脂層表面の凸部が図 2 0 の実線 1 5 4 か ら仮 想線 1 5 5 の よ う に丸 く 変形 し、 微小な凹凸面が形成される。 次に 、 樹脂層の表面に、 アル ミ ニ ウ ム蒸着に よ り 0 . l // mの反射膜 1 5 1 を形成する。 次に、 実施の形態 1 — 1 の製造工程の ( 1 2 ) と 同様の工程で、 液晶の注入を実施 し、 図 1 8 の液晶表示素子を完成 した。 なお、 実施の形態 1 と 同様に ( 1 1 ) の工程を実施 し、 反射 膜上に保護膜を形成 して も よい。
以上のよ う に して、 液晶層上に拡散性を有する反射膜を形成する こ とがで き、 表示を見やす く する こ とがで き る。 以上のよ う に第 1 の形態によれば、 樹脂フ ィ ルム と基板との間、 ま たは樹脂フ ィ ルム どう しの間に液晶を封入する ための間隙を形成 し、 間隙に液晶を封入 して液晶表示素子を形成する こ と に よ り 、 液 晶層を積層する こ と に よ る視差に起因 した色ずれがな く 、 明る く 、 高コ ン ト ラ ス ト 比の液晶表示素子を実現する こ とがで き る。 Wo 99/47969 ま た、 封止膜と して樹脂フ ィ ルム を使用 し、 こ の樹脂フ ィ ルム を 支持部材に接着層を介 して接着する よ う に したので、 製造工程を簡 素化 し、 製造の歩留ま り を高める こ とがで き る。
[第 2 の形態]
上記第 1 の形態では、 樹脂フ ィ ルム を積層 し、 各樹脂フ ィ ルム上 の電極と基板上の駆動素子の接続端 と を接続する ために、 各樹脂フ イ ルムを積層する ご と に コ ンタ ク ト ホールを形成する工程を必要 と する ものである。 すなわち、 基板上に 3 層の液晶層を積層 した液晶 表示素子では、 コ ン夕 ク ト ホ一ルの形成の工程を 2 回実施する必要 がある。 従って、 コ ンタ ク ト ホール形成工程数が多い。 そ こで、 本 第 2 の形態では、 かかる点を改善 し、 コ ンタ ク ト ホール形成工程の 簡素化を実現で き る よ う に した こ と を特徴と する ものである。
以下、 具体的な構成を実施の形態に基づ き説明する。
(実施の形態 2 — 1 )
図 2 1 は実施の形態 2 — 1 に係る液晶表示素子の要部断面図であ り 、 図 2 2 はその平面図であ る。 なお、 図 2 2 は図 2 3 の矢視 Y — Y断面図であ り 、 図 2 2 は図 2 1 の矢視 X — . X平面図であ り 、 図 2 1 及び図 2 2 では液晶表示素子の中央の一画素部分を示 している。 実施の形態 1 は、 本発明を カ ラ一液晶表示素子に適用 した例を示 す。 こ の液晶表示素子は、 1 枚の基板に複数の樹脂フ ィ ルム を積層 し、 基板と樹脂フ ィ ルム の間、 並びに樹脂フ ィ ルム相互間の各間隙 に、 それそれ色が異な る二色性色素を含むゲス ト ホス ト液晶を封入 して構成されている。
以下、 図 2 1 及び図 2 2 を参照 して液晶表示素子の具体的構成に ついて説明する。
基板 2 0 1 上に樹脂フ ィ ルム 2 0 2 、 2 0 3 、 2 0 4 が支持部材 2 0 5 、 2 0 6 、 2 0 7 を介 して積層されてお り 、 基板 2 0 1 と樹 脂フ ィ ルム 2 0 2 間、樹脂フ ィ ルム 2 0 2 と樹脂フ ィ ルム 2 0 3 間、 及び樹脂フ ィ ルム 2 0 3 と樹脂フ ィ ルム 2 0 4間に液晶を封入する ための 5 a mの間隙 A, B , Cが形成され、 それそれの間隙 A , B , Cにシア ン、 マゼ ン夕、 黄色の二色性色素を含有する ゲス ト ホス ト 液晶 2 2 4、 2 2 5、 2 2 6 が充填されている。 樹脂フ ィ ルム 2 0 2、 2 0 3、 2 0 4は、 ポ リ エチ レ ンテ レ フ タ レ一 ト ( P E T ) を 主成分とする厚さ 1 mの フ ィ ルムである。 なお、 樹脂フ ィ ルムの 主成分が P E T以外の も のを用いる こ と も可能であ る。
前記支持部材 2 0 5、 2 0 6、 2 0 7 は、 ポジ形 レ ジス ト か ら成 り 、 軸直角断面が正方形 (本実施の形態では一辺 1 0 z m ) の角柱 状である。 こ の支持部材 2 0 5、 2 0 6、 2 0 7 は画素部分全体に 所定の ピ ッチで分布 した状態で配置され、 前記間隙 A , B , Cを保 持 している。
前記基板 2 0 1 は例えばガラ スか ら成る透明基板である。 こ の基 板 2 0 1 上には、 所定形状にパターニ ングさ れた画素電極 2 0 8及 び駆動素子 と しての T F T 2 2 1 , 2 2 2 , 2 2 3 が形成されてい る。 ま た、 前記樹脂フ ィ ルム 2 0 2 , 2 0 3 、 2 0 4上には しわ緩 和層 2 1 8 , 2 1 9 , 2 2 0 が設け られている。 しわ緩和層 2 1 8 , 2 1 9上には、 所定形状にパタ一ニ ングされた画素電極 2 0 9 , 2 1 0 が形成されてお り 、 しわ緩和層 2 0上には共通電極 2 1 1 が形 成されている。 画素電極 2 0 8 , 2 0 9 , 2 1 0 上には、 液晶 2 2 4、 2 2 5、 2 2 6 を配向させる ためのポ リ イ ミ ド か らな る配向膜 2 2 8 , 2 2 9 , 2 3 0が形成されている。
前記間隙 A , B , Cには、 1 画素について 2 つの立体配線用パ ッ ド列 2 4 1 , 2 4 2 が設け られている。 立体配線用パ ヅ ド列 2 4 1 Wo 99/ は、 基板 2 0 1 に対 して垂直な方向に関 してほぼ同一位置に立設さ れた 3 つの立体配線用パ ッ ド 2 4 1 a, 2 4 1 b , 2 4 1 cか ら構 成されてお り 、 ま た、 立体配線用パ ッ ド列 2 4 2 は、 基板 2 0 1 に 対 して垂直な方向に関 してほぼ同一位置に立設された 3 つの立体配 線用ノ ソ ド 2 4 2 a , 2 4 2 b , 2 4 2 c か ら構成されている。 立 体配線用ノ、。 ヅ ド 2 4 1 a , 2 4 1 b , 2 4 1 c ; 2 4 2 a , 2 4 2 b, 2 4 2 c は、 軸直角断面が正方形の角柱状である。 こ の立体配 線用ノ ッ ド 2 4 1 a , 2 4 1 b , 2 4 1 c ; 2 4 2 a, 2 4 2 b , 2 4 2 cは、 支持部材 2 0 5、 2 0 6、 2 0 7 と 同様にポジ形レ ジ ス ト か ら成る。 これ ら の立体配線用ノ1? ッ ド 2 4 1 a, 2 4 1 b , 2 4 1 c及び樹脂フ ィ ルム 2 0 2 , 2 0 3、 2 0 4 を貫通 して コ ン 夕 ク ト ホール 2 1 2 が形成されてお り 、 立体配線用パ ッ ド 2 4 2 a , 2 4 2 b , 2 4 2 c及び樹脂フ ィ ルム 2 0 2 , 2 0 3、 2 0 4 を貫 通 して コ ンタ ク ト ホール 2 1 3 が形成されている。 そ して、 T F T 2 2 2 の接続端 2 2 2 aがコ ンタ ク ト ホール 2 1 2 内で露出 した状 態 となつてお り 、 T F T 2 2 3 の接続端 2 2 3 aがコ ンタ ク ト ホ一 ル 2 1 3 内で露出 した状態と なっている。 このコ ンタ ク ト ホール 2 1 2 は、 画素電極 2 0 9 と T F T 2 2 2 との接続配線用であ り 、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 3 は、 画素電極 2 1 0 と T F T 2 2 3 との接続 配線用である。 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 内では前記画素電極 2 0 9 上の配向膜 2 2 9 が除去されてお り 、 これに よ り 画素電極 2 0 9 が 部分的にコ ンタ ク ト ホール 2 1 2 内に突出 して露出 した状態とな つ ている。 そ して、 前記接続端 2 2 2 a及び画素電極 2 0 9 の各露出 部に導電部材 2 1 4 が接触 して T F T 2 2 2 と画素電極 2 0 9 と が 電気的に接続されている。 ま た、 同様にコ ンタ ク ト ホール 2 1 3 内 では前記画素電極 2 1 0上の配向膜 2 3 0 が除去されてお り 、 こ れ に よ り 画素電極 2 1 0 が部分的に コ ンタ ク ト ホール 2 1 3 内に突出 して露出 した状態とな っている。 そ して、 前記接続端 2 2 3 a及び 画素電極 2 1 0 の各露出部に導電部材 2 1 5 が接触 して T F T 2 2 3 と画素電極 2 1 0 とが電気的に接続されている。 なお、 T F T 2 2 1 の接続端は画素電極 2 0 8 と基板 2 0 1 上で導通 している。 こ の よ う な構成に よ り 、 共通電極 2 1 1 を含めて上下に配置された画 素電極 2 0 8 , 2 0 9 , 2 1 0 に関する 立体配線が形成され、 T F T 2 2 1 、 2 2 2、 2 2 3 の導通/遮断に よ って、 画素電極 2 0 8 , 2 0 9 間、 画素電極 2 0 9 , 2 1 0 間、 画素電極 2 1 0 と共通電極 2 1 1 間の電圧が制御されフ ルカ ラー表示が行われる。
こ こ で、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 , 2 1 3 内での接続構造が本発 明の主たる特徴である こ とか ら、 当該接続構造を以下に詳細に説明 する。
先ずコ ンタ ク ト ホール 2 1 2 に関 して説明する と、 樹脂フ ィ ルム 2 0 2 のコ ンタ ク ト ホール 2 1 2 に臨む内周面がコ ンタ ク ト ホール 2 1 2 の内周面か ら径方向内方側に張 り 出 してお り 、 こ の樹脂フ ィ ルム 2 0 2 よ り も上側樹脂フ ィ ルム 2 0 2、 2 0 3、 2 0 4はそ の コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 に臨む内周面がコ ン タ ク ト ホール 2 1 2 の 内周面 と面一 とな つている。 しかも、 前記樹脂フ ィ ルム 2 0 2 の張 り 出 し部分には、 画素電極 2 0 9 が形成されて い る。 こ の よ う な構 成に よ り 、 画素電極 2 0 9 がコ ン タ ク ト ホール 2 1 2 内において露 出 した状態となっている。 尚、 こ の よ う な画素電極 2 0 9 の露出状 態を得る具体的な方法 と しては、 後述する よ う に画素電極を酸素プ ラ ズマな どの ド ラ イ エ ッ チ ングに耐性のあ る無機材料 ( I T O ) で 構成 して、 ド ラ イ エ ッ チ ングに よ る コ ンタ ク ト ホール形成の際に、 エ ッチ ングされやすい材質か ら成る樹脂フ ィ ル ム と画素電極とのェ ツチ ングの進行度の違いを利用 して画素電極を露出させてい る。 こ の よ う にコ ンタ ク ト ホール 2 1 2 内にいて画素電極 2 0 9 が露 出 している こ と に よ り 、 導電部材 2 1 4 と画素電極 2 0 9 とが面状 に接する こ と に な り 、 画素電極 2 0 9 と導電部材 2 1 4 との確実な 導通状態が得 られる。 こ の結果、 画素電極 2 0 9 と T F T 2 2 2 の 接続端 2 2 2 a と の導通状態の信頼性が向上する。
コ ンタ ク ト ホール 2 1 3 に関 して も、 コ ン タ ク ト ホ一ル 2 1 2 と 同様に、 樹脂フ ィ ルム 2 0 3 および樹脂フ ィ ルム 2 0 3 上の画素電 極 2 1 0 がコ ンタ ク ト ホール 2 1 3 に張 り 出 して画素電極 2 1 0 が コ ンタ ク ト ホール 2 1 3 に露出 し、 導電部材 2 1 5 と接 している 。 こ の よ う な構成に よ り 、 画素電極 2 1 0 と導電部材 2 1 5 との確実 な導通状態が得 られ、 画素電極 2 1 0 と接続端 2 2 3 a との導通状 態の信頼性が向上する。
次いで、本実施の形態における他の特徴であ る しわ緩和層 2 1 8 、 2 1 9 、 2 2 0 について説明する 。 こ の しわ緩和層 2 1 8 、 2 1 9 、 2 2 0 は、 スノ ッ タ に対 して耐性を有する材料、 例えばア ク リ ル系 樹脂か ら成る塗布膜であ り 、 0 . 2 / mの厚みを有する。 そ して、 電極形成に際 しては、 ァク リ ル系樹脂の しわ緩和層を樹脂フ ィ ルム 上に設けた後、 しわ緩和層上に無機材料層であ る I T O のスパ ッ 夕 に よ り 電極を成膜 してい る。
こ こ で、 本発明者 らは、 1 0 〃 m以下の厚みの樹脂フ ィ ルム上に 無機材料である I T O な どを直接スパ ッ タ成膜 した場合、 スパ ッ タ の衝撃に よ り 樹脂フ ィ ルム に しわが寄る とい う課題を見出 した。 こ の様子を図 2 3 に示す。 図 2 3 は、 図 2 1 の液晶表示素子において、 基板 2 0 1 上に画素電極 2 0 9 を形成する までの工程を実施 した と きの一画素の平面図であ り 、 概ね図 2 2 に対応する 図である 。 なお、 図 2 3 には、 ゲー ト 線、 ソース線な どは省略 している 。 図 2 3 に示 すよ う に、 樹脂フ ィ ルム 2 0 2 には、 5 0 〃 mピ ッ チで設けた画素 部分の柱状の支持部材 2 0 5 の間を縫う よ う に画素全体に しわ 2 5 0 が寄 り 、 樹脂フ ィ ル ム表面で光が散乱する結果とな っ た。 そ こ で、 しわ緩和層 2 1 8、 2 1 9、 2 2 0 を設ける こ とで しわを緩和ま た は防止 し、 図 2 2、 図 2 4 ( b ) の よ う に、 樹脂フ ィ ルム を平滑に 維持する こ とがで きた。 本実施の形態では、 しわ緩和層 と しては、 ァク リ ル系樹脂を用いたが、 ァク リ ル系樹脂に代えて シ リ カ粒子を 含む有機樹脂を用いて も 同様の効果を得る こ とがで き る。
なお、 実施の形態 2 — 1 では、 透明電極であ る I T Oを樹脂フ ィ ルム上に成膜する場合を示 したが、 他の無機材料 (例えば酸化イ ン ジゥム亜鉛) を樹脂フ ィ ルム上に成膜 した場合に も、 しわ緩和層を 設ける こ とで樹脂フ ィ ルム の しわを緩和、 ま たは防止する こ とがで き る。
ま た、 樹脂フ ィ ルム に しわが発生する とい う 課題は、 本実施の形 態のよ う に基板と樹脂フ ィ ルムの間に間隙を形成 しスぺ一ザで支持 した場合に限 られる も のではな く 、 基板上に密着 して樹脂フ ィ ル ム を設けた場合に も、 樹脂フ ィ ルムがおよそ 1 O z m以下の厚さ の と き には、 樹脂フ ィ ルム に直接無機材料を成膜 した と き に しわが発生 した。 この場合で も 同様に しわ緩和層を設ける こ とで しわを緩和 ま たは防止する こ とがで き る。
次に、 上記構成の液晶表示素子の製造工程を、 図 2 4〜図 2 7 を 参照 しながら説明する 。 図 2 4〜図 2 7 は製造工程を図 2 1 と 同 じ 断面において模式的に示 した も のであ る。
ま ず、 T F T 2 2 1 、 2 2 2、 2 2 3 を有する基板 2 0 1 上に、 配向膜 2 2 8 を形成 し、 こ の上にポジ形レ ジス ト に よ って支持部材 2 0 5及び孔 2 1 2 a、 2 1 3 a (コ ン タ ク ト ホール 2 1 2 , 2 1 3 の一部分をなす部分に相当する ) を有する 立体配線用パ ッ ド 2 4 1 a , 2 4 2 aを形成 し、 ラ ミ ネ一夕 を用いて樹脂フ ィ ルム 2 0 2 を支持部材 2 0 5及び立体配線用パ ッ ド 2 4 1 a , 2 4 2 a上に貼 り 合わせて図 4 ( a ) の構造を形成 した。 樹脂フ ィ ルム 2 0 2 と、 支持部材 2 0 5及び立体配線用パ ッ ド 2 4 l a , 2 4 2 a とは、 支 持部材 2 0 5及び立体配線用パ ッ ド 2 4 1 a , 2 4 2 a上に ご く 薄 く ポジ形レ ジス ト の接着層を形成 して接着させた。 図 2 4 ( a ) で は接着層を支持部材 2 0 5及び立体配線用パ ッ ド 2 4 1 a , 2 4 2 a と一体と して示 した。
次に、 図 2 4 ( b ) のよ う に樹脂フ ィ ルム 2 0 2上にア ク リ ル樹 脂をス ピ ンコー ト に よ り 0 . 2 〃 mの厚みで塗布 したのち硬化させ て、 しわ緩和層 2 1 8 を形成 し、 こ の上に I T Oを 0 . 1 3 mの 厚みにスパ ッ タ成膜 した。 こ の よ う に しわ緩和層を設ける こ とで、 I T O成膜に よ って樹脂フ ィ ルム に しわが寄る こ と を防 ぐ こ とがで き る。 I T Oは、 成膜後フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ の方法及びよ う化水素 酸を用いたエ ッ チ ングに よ り 、 画素形状にパタ ーニ ング し、 画素電 極 2 0 9 を形成 した。 こ の と き、 コ ン タ ク ト ホール 2 1 2 を形成す る部分は図 2 4 ( b ) および図 2 2 に示すよ う に、 孔 2 1 2 aに比 ベて小さい径の孔 1 2 b に相当する範囲の I T Oを除去 し、 その周 囲を残すよ う にパ夕一ニ ングを実施 した。 ま た、 孔 2 1 3 aの周辺 では画素電極 2 0 9 を除去 した。
次に、 以上の工程を繰 り 返 して配向膜 2 9 、 支持部材 2 0 6及び 立体配線用ノ ソ ド 2 4 1 b, 2 4 2 b を形成 した後、 樹脂フ ィ ル ム 2 0 3 を貼 り 合わせ、 しわ緩和層 2 1 9 、 画素電極 2 1 0 を成膜 し た。 こ こ で、 画素電極 2 1 0 の う ち コ ン タ ク ト ホール 2 1 3 を形成 する部分と しては、 図 2 5 ( a ) の よ う に孔 2 1 3 aに比べて小さ ぃ径 2 1 3 b に相当する範囲の I T Oを除去 し、 その周囲を残すよ う にパ夕一ニ ングを実施 した。 ま た、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 の周 辺では I T Oを取 り 除いて画素電極 2 1 0 を形成 した。 さ ら に、 同 様の工程を繰 り 返 し、 樹脂フ ィ ルムが基板上に 3層積層された図 2 5 ( a ) の構造を形成 した。 尚、 共通電極 2 1 1 も 画素電極 2 0 9 と 同様に I T Oをスノ"? ッ タ成膜 し、 コ ンタ ク ト ホ一ル 2 1 2 、 2 1 3 の周辺では と も に電極を除去する よ う にパ夕 一ニ ングを実施 した。 次に、 図 2 5 ( b ) に示すよ う に、 ポジ形レ ジス ト 2 2 7 を 6 z mの厚みで塗布 し、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 、 2 1 3 の部分のみの レ ジス ト を除去する よ う にマス ク露光および現像を実施 した。
次に、 ド ラ イ エ ッチ ングの一手法であ る酸素プラ ズマに よ る リ ア ク テ ィ ブイ オ ンエ ッチ ング ( R I E ) に よ り 、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 、 2 1 3 を形成 した。 こ こ で、 樹脂フ ィ ルム、 ポジ形レ ジス ト 、 配向膜および しわ緩和層を構成する ァク リ ル樹脂は、 R I E に よ り エ ッチ ン グされる 一方、 無機材料の I T Oか ら な る 画素電極はほ と ん どエ ッ チ ングされない。 本実施の形態では、 酸素流量 1 5 S C C M、 電力 1 5 0 Wの条件で、 樹脂フ ィ ルム、 ポジ形レ ジス ト 等を 1 分間に 1 〃 mの深さでエ ッチ ングさせた。 図 2 5 ( b ) のポジ形 レ ジス ト 2 2 7側か らエ ッ チ ングを進める と、 ポジ形レ ジス ト 2 2 7 の表面 と、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 、 2 1 3 においてのみエ ツ チ ン グが進み、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 、 2 1 3 内では、 しわ緩和層 2 0、 樹脂フ ィ ルム 2 0 4が除去され、 次いで配向膜 2 3 0、 しわ緩 和層 2 1 9、 樹脂フ ィ ルム 2 0 3 が除去される 。 こ の と き、 コ ン タ ク ト ホール 2 1 3 においては、 配向膜 2 3 0 が除去さ れた後、 画素 電極 2 1 0 をノ 夕一ニ ン グに よ り 除去 した孔 2 1 3 bの内側部分の みの しわ緩和層、 樹脂フ ィ ルム除去される。 コ ンタ ク ト ホール 2 1 3 内に張 り 出 した画素電極 2 1 0 の部分では、 画素電極がエ ツ チ ン グされないため、 画素電極 2 1 0 およびその下の樹脂フ ィ ルム 2 0 3 が残留 し、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 3 に画素電極 2 1 0 を露出させ る こ とがで きた。 次いで、 配向膜 2 2 9、 しわ緩和層 2 1 8、 樹脂 フ ィ ルム 2 0 2 が除去される。 こ の と き、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 3 では、 配向膜 2 2 9 、 しわ緩和層 2 1 8及び樹脂フ ィ ルム 2 0 2 の 除去部分は、 孔 2 1 3 b内側の直下に位置する部分のみであ る。 一方、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 では、 配向膜 2 2 9 が除去された 後、 画素電極 2 0 9 をパタ ーニ ングに よ り 除去 した孔 2 1 2 bの内 側部分のみの樹脂フ ィ ルムが除去され、 画素電極 2 0 9 のコ ン タ ク ト ホール 2 1 2 に張 り 出 した部分では樹脂フ ィ ルム 2 0 2 が残留 し て、 画素電極 2 0 9 がコ ン タ ク ト ホール 2 1 2 に露出 した。 さ ら に、 T F Tの接続端 2 2 2 a , 2 2 3 a上の配向膜 2 2 8 が除去され、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 、 2 1 3 内に接続端 2 2 2 a, 2 2 3 aが 露出 した。
以上の よ う に R I E を 5分間実施する こ と に よ り 、 図 2 6 ( a ) のよ う に、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 、 2 1 3 内で、 画素電極 2 0 9 、 2 1 0及び接続端 2 2 2 a、 2 2 3 aが露出 した。 ま た、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 , 2 1 3 以外の部分はポジ形レ ジス ト 2 2 7 に よ り 保護さ れた。
次に、 水溶性の力一ボ ン樹脂か ら な る導電部材 2 1 4、 2 1 5 を ス ピ ン コー ト で塗布 し、 図 2 6 ( b ) と した。 こ れに よ り 、 コ ン タ ク ト ホール 2 1 2、 2 1 3 内に導電部材 2 1 4 , 2 1 5 が充填さ れ る。 次に、 ポジ形 レ ジス ト 2 2 7 を剥離液で除去する こ と に よ り 、 コ ン タ ク ト ホール 2 1 2、 2 1 3 以外の部分の導電部材がポジ形 レ ジス ト 2 2 7 と と も に浮揚 して剥離 し、 図 2 7 の よ う に、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2、 2 1 3 のみに導電部材 2 1 4、 2 1 5 を埋め込ん だ構造が形成された。 こ う して、 コ ン タ ク ト ホール 2 1 2、 2 1 3 では、 コ ンタ ク ト ホールに露出 した画素電極 2 0 9 、 2 1 0が導電 部材 2 1 4 , 2 1 5 に接 して、 接続端 2 2 2 a , 2 2 3 a と確実に 導通させる こ とがで きた。 これに よ り 、 基板上の T F T 2 2 2、 2 2 3 に よ り 画素電極 2 0 9、 2 1 0への印加電圧を確実に制御する こ とが可能 となる。
以上の工程によ り 、 コ ンタ ク ト ホールでの電気的な接続を確実に しつつ、コ ンタ ク ト ホールの形成工程を 1 回に短縮す る こ とがで き、 コ ンタ ク ト ホール形成工程の簡素化を実現する こ とがで きた。
尚、 参考までに述べる と、 樹脂フ ィ ルム を複数層積層 したのち に コ ンタ ク ト ホ一ルを形成すれば、 コ ンタ ク ト ホールを形成する回数 を 1 回 とする こ とがで き、 工程を簡素化で き る こ とは容易に想像で き る。 しか しなが ら、 液晶を配向させる ための配向膜を電極上に形 成 した場合、 単に電極を形成 した樹脂フ ィ ルム を積層 し、 積層後に コ ンタ ク ト ホールを形成する と、 樹脂フ ィ ルム上の電極が、 コ ン タ ク ト ホールの断面のみで しかコ ンタ ク ト ホールに露出 しない。 電極 と して I T Oを用いた場合、 光学的な特性か ら厚みを 0 . 1 〜 0 . 2 〃 m程度にする こ と が多い こ と か ら、 コ ンタ ク ト ホール形成後、 電極を接続する ためにコ ンタ ク ト ホールに導電部材を設けた際、 電 極が 0 . 1 〜 0 . 2 ; mの厚みの断面のみで しか導電部材に接 しな いため、 確実な導通が望めないおそれがある 。 こ の点に関 して、 本 発明のよ う に、 画素電極をコ ンタ ク ト ホール内に突出 して露出させ る構成に よ り 、 画素電極と導電部材との接触面積が大とな る ため、 画素電極と導電部材との確実な導通状態が得 られる 。 なお、 本実施の形態では、 画素電極上を配向膜で被服 した構成で あっ たけれども、 配向膜の よ う な樹脂の層を被覆 しない構成の場合 において も、 コ ンタ ク ト ホール内に画素電極を露出させる こ とがで き、 上記と 同様の効果を得る こ とがで き る。
(実施の形態 2 — 2 )
図 2 8 は実施の形態 2 - 2 に係る液晶表示素子の要部断面図であ る。 本実施の形態 2 は、 コ ン タ ク ト ホール 2 1 2, 2 1 3 の内周面 を段差状に形成 して、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 内に画素電極 2 0 9 を露出させ、 且つコ ン タ ク ト ホール 2 1 3 内に画素電極 2 1 0 を露 出させる よ う に した こ と を特徴する。 具体的に説明すれば、 立体配 線用ノ ヅ ド 2 4 1 b, 2 4 1 c の孔 2 1 2 b , 2 1 2 c の径を、 立 体配線用パ ッ ド 2 4 1 a の孔 2 1 2 a の径よ り も大き く し、 立体配 線用ノ ヅ ド 2 4 2 c の孔 2 1 3 c の径を、 立体配線用ノ、 ' ヅ ド 2 4 2 a , 2 4 2 b の孔 2 1 3 a , 2 1 3 b の径よ り も大き く する こ とで、 階段状のコ ンタ ク ト ホール 2 1 2 、 2 1 3 を形成する こ とがで き る。 こ のよ う な構成に よ って、 上記実施の形態 2 — 1 のよ う に樹脂フ ィ ルムおよび画素電極をひさ し状に張 り 出させる こ と な く 電極を露出 させる こ とがで き、 実施の形態 2 — 1 と 同様にコ ンタ ク ト ホールを 一括形成する こ とがで き る と共に、 画素電極 と導電部材と を接触面 積を大き く して確実な導通状態を得る こ とがで き る 。
(実施の形態 2 — 3 )
実施の形態 2 — 1 では、 樹脂フ ィ ルム にコ ンタ ク ト ホールを形成 する方法と してポジ形レ ジス ト のパタ ーニ ング と R I E に よ る ド ラ ィ エ ッチ ングの方法を用いたが、 本実施の形態に係る 方法は、 レ 一 ザ一に よ って樹脂フ ィ ルム をスポ ヅ ト状に除去 し、 コ ンタ ク ト ホ一 ルを形成 した も のである。 以下、 図 2 9 を参照 して本実施の形態に 係る コ ンタ ク ト ホール形成方法について説明する。
先ず、 図 2 9 ( a ) のよ う に、 実施の形態 2 — 1 と 同様の工程で 1 枚の基板 2 0 1 上に 3層の樹脂フ ィ ルム 2 0 2、 2 0 3、 2 0 4、 画素電極 2 0 8、 2 0 9、 2 1 0 、 共通電極 2 1 1 をスぺ一サ及び 立体配線用ノ ソ ド 2 4 1 a, 2 4 1 b , 2 4 1 c ; 2 4 2 a , 2 4 2 b , 2 4 2 c を介 して積層する 。 次に、 図 2 9 ( b ) の よ う に、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 , 2 1 3 を形成する部分にスポ ッ ト状に レ —ザ一を照射 し、 コ ン タ ク ト ホール 2 1 2、 2 1 3 をあける。 こ の と き、 レーザ一に よ って樹脂フ ィ ルム を除去する孔 2 1 2 d、 2 1 3 dの径を、 立体配線用パ ッ ド部分の孔 2 1 2 a、 2 1 3 aの径ょ り も小さ く する こ と に よ り 、 実施の形態 1 と 同様に、 コ ン タ ク ト ホ —ルの内側に樹脂フ ィ ルム 2 0 2、 2 0 3 と電極 2 0 9、 2 1 0 を 張 り 出させる こ とがで き る。 ただ し、 こ のま までは電極 2 0 9 、 2 1 0上に配向膜 2 2 9 、 2 3 0 が被覆された ま まであ り 、 電極が露 出 していない。 そ こで、 コ ン タ ク ト ホール形成後、 図 3 0 ( a ) の よ う に、 導電部材 2 1 4 , 2 1 5 を充填する前に、 配向膜 2 9 、 3 0 を溶解させ得る溶液でコ ン タ ク ト ホール 2 1 2、 2 1 3 内を洗浄 し、 電極 2 0 9 、 2 1 0 を露出させた。 次いで、 図 3 0 ( b ) の よ う に、 コ ンタ ク ト ホール 2 1 2 、 2 1 3 に導電部材 2 1 4、 2 1 5 を充填させる と、 樹脂フ ィ ル ム上の電極と導電部材を導通させる こ とがで きた。 なお、 こ の方法では、 レーザ一に よ って樹脂フ ィ ルム 上の電極と樹脂フ ィ ルム と に 同時にコ ンタ ク ト ホールを形成で き る ため、 樹脂フ ィ ルム上の電極をパタ ーニ ングする際に、 コ ンタ ク ト ホールの部分の電極を取 り 除 く 必要はない。
(実施の形態 2 — 4 )
実施の形態 2 — 1 では、 基板と樹脂フ ィ ルム ま たは樹脂フ ィ ル ム 同士の間にスぺ一サを設け、 この間隙に液晶を封止 して液晶表示素 子を構成 したが、 このよ う な間隙を設けず、 樹脂フ ィ ルムを単に積 層 した場合について も 同様に、 1 回のコ ン タ ク ト ホールの形成工程 に よ って、 上下に配置された画素電極の立体配線を実施する こ とが で き る。 更に、 上記実施の形態 1 では、 樹脂フ ィ ルム と してあ ら か じめフ ィ ルム状に成形された フ ィ ルム を用いたが、 こ の よ う な構成 ではな く 、 基板上に樹脂材料を塗布する な どの方法で フ ィ ルム状に して用いて も よい。 こ の よ う な例を実施の形態 2 — 4 に示す。
図 3 1 は実施の形態 2 — 4 に係る樹脂フ ィ ルム構造体の製造工程 を示すものであ る 。 こ の樹脂フ ィ ルム構造体は、 例えば多層回路基 板である。 先ず、 電極 2 3 5 を形成 した基板 2 3 1 上に樹脂フ ィ ル ム 2 3 2 をス ピ ンコー ト に よ り 塗布 して形成する。 こ の樹脂フ ィ ル ム 2 3 2 は、 実施の形態 1 で用いた しわ緩和層 と 同 じ材質のァク リ ル樹脂を用いた。 こ の上に I T O か ら な る電極 2 3 6 を形成 し、 コ ンタ ク ト ホール 2 3 9 を形成する部分 2 3 9 a を取 り 除 く よ う にノ タ ーニ ングする。 さ ら に樹脂フ ィ ルム 2 3 2 、 2 3 3 、 2 3 4 をス ピ ン コー ト に よ り 塗布 して積層 し、 図 3 1 ( a ) の構造を形成する。 こ の よ う に複数の樹脂フ ィ ルム を積層後、 図 3 1 ( b ) の よ う に、 ポジ形 レ ジス ト 2 4 0 を塗布 し、 コ ン タ ク ト ホールを形成する部分 2 3 9 をマス ク露光、 現像に よ り 除去する。 次に、 ド ラ イ ェ ヅチ ン グに よ り コ ンタ ク ト ホールの部分を除去する と、 図 3 1 ( c ) の よ う に電極がコ ンタ ク ト ホールで露出する。 実施の形態 2 — 1 と 同様 の方法によ って導電部材 2 3 8 を コ ン タ ク ト ホール 2 3 9 に充填す る と図 3 1 ( d ) のよ う に導電部材 2 3 8 で電極 2 3 5 と電極 2 3 6 を接続する こ とがで き、立体的な配線を可能 と する こ とがで き る。
(実施の形態 2 — 5 ) 図 3 2 は実施の形態 2 — 5 に係る樹脂フ ィ ルム構造体の製造工程 を示すものである。 本実施の形態 2 — 5 では、 異な る層の樹脂フ ィ ルム上の電極同士を接続する こ と を特徴とする。 即ち、 基本的には 実施の形態 4 と 同様である が、 樹脂フ ィ ルム 2 3 2 と樹脂フ ィ ルム 2 3 3 のそれそれの上に形成 した電極 2 3 6、 2 3 7 を導電部材 2 3 8 で接続 している と こ ろが異なる。 このよ う に層の異なる電極 ど う しを接続する場合には、 図 3 2 ( a ) の よ う に、 コ ンタ ク ト ホ一 ルを形成する部分において電極 2 3 6、 2 3 7 を除去する部分 2 3 9 a、 2 3 9 b を上下の電極で変化させ、 電極 2 3 6 よ り も電極 2 3 7 のほう が除去する範囲が広 く な る よ う に、 すなわち、 上にい く ほど大きな範囲を除去する よ う に してお く 。こ の よ う にする こ とで、 図 3 2 ( b ) のよ う にポジ形 レ ジス ト 2 4 0 を形成 し、 図 3 2 ( c ) の よ う に ド ラ イ ェ ヅ チ ングに よ り コ ンタ ク ト ホ一ルを形成する と、 電極 2 3 6、 2 3 7 がコ ンタ ク ト ホ一ル 2 3 9 で露出 し、図 3 2 ( d ) の よ う にコ ン タ ク ト ホール 2 3 9 に導電部材 2 3 8 を充填させる こ とで、 電極 2 3 6 と電極 2 3 7 を導電部材 2 3 8 で導通させる こ と がで き る。 こ う して、 電極 2 3 6、 2 3 7 をと も に コ ン タ ク ト ホー ルで露出させる こ と がで き、 電極同士の導通を確実に行 う こ とがで さ る。
(実施の形態 2 — 6 )
図 3 3 は実施の形態 2 - 6 に係る樹脂フ ィ ルム構造体の断面図で あ る。 上記実施の形態 2 — 4 , 2 — 5 では電極同士を接続する も の であ っ たけれども、 本実施の形態 2 — 6 では、 基板 2 3 1 上に形成 さ れている駆動素子 2 4 5 , 2 4 6 と電極 2 3 6 , 2 3 7 を電気的 に接続する こ と を特徴とする。 具体的な製造方法は、 上記実施の形 態 2 — 4, 2 — 5 と基本的には同様の方法で 2 つのコ ンタ ク ト ホ一 ル 2 4 7, 2 4 8 を形成 して、 コ ンタ ク ト ホール 2 4 7, 2 4 8 内 で電極 2 3 6, 2 3 7 を部分的に露出 させ、 こ の電極 2 3 6 , 2 3 7 の露出部分 と駆動素子 2 4 5, 2 4 6 の接続端 2 4 5 a , 2 4 6 a と を導電部材 2 4 9 , 2 5 0 を介 して電気的に接続すればよい。
(その他の事項)
上記実施の形態 2 — 1〜 2 — 6 では、 コ ン 夕 ク ト ホールにおけ る 導通には導電部材であ る カーボン塗料を用いたが、 他の導電部材を 用いて も よい。 例えば、 無電極メ ツ キな ど金属膜をコ ンタ ク ト ホー ル表面に形成する こ と に よ っ て、 電極の接続を行って も よい。 こ の 場合、 コ ンタ ク ト ホールを形成後、 金属膜を形成 したのちに、 樹脂 フ ィ ルム を保護 したポジ形 レ ジス ト を剥離する こ と に よ って コ ン 夕 ク ト ホ一ル以外の部分の金属膜を除去 して、 上記実施の形態 2 — 1 と 同様の効果を得る こ と がで き る。
ま た、 実施の形態 2 - 1 - 2 ― 3 では液晶表示素子における例を 示 したが、 例えば、 基板 と樹脂フ ィ ルム間並びに樹脂フ ィ ルム相互 間の間隙にエ レ ク ト 口ル ミ ネ ッ セ ンス等の電圧印加に よ り 発光する 発光体を介装する こ と に よ り 、 電気的接続状態に関 して信頼性の向 上 した多層構造の表示素子が得 ら れる。
ま た、 実施の形態 2 - 4 - 2 - 6 の よ う に、 表示素子以外の用途、 例えば、 樹脂フ ィ ルム を用いた回路基板において、 上下層間の立体 配線を実施する際な どに も、 本発明を用いる こ とがで き る。
以上のよ う に第 2 の形態に よれば、 樹脂フ ィ ルム を積層 して形成 した樹脂フ ィ ルム構造体において、 樹脂フ ィ ルム間の電極の接続を 1 回のコ ンタ ク ト ホール形成工程で実施する こ とがで き、 コ ンタ ク ト ホールでの導通を確実に行 う こ とがで き る。
ま た、 第 2 の形態に よれば、 樹脂フ ィ ルム上に透明電極であ る I T Oな ど無機材料を形成 した場合に、 樹脂フ ィ ルム に しわが寄る こ と を防ぎ、 平滑な表面を維持する こ と が可能 と な り 、 表示デバイ ス と しての性質を損な う こ とがない。
[第 3 の形態 ]
(実施の形態 3 — 1 )
本発明の実施の形態 3 - 1 に係る液晶表示素子について、 図 3 4 ない し図 4 3 に基づいて説明する。 図 3 4は液晶表示素子の 1 画素 あた り の構成を示す部分平面図であ り 、 図 3 5 は図 3 4の A— A矢 視断面図であ り 、 図 3 6〜図 4 3 は、 液晶表示素子の製造工程を示 す説明図であ る。
なお、 上記および以下の各図においては、 便宜上、 縮尺や各部の 寸法を必要に応 じて拡大、 縮小、 および模式化 して描いている。 ま た、 構成の理解の妨げになる部材は省略 して描いている。
まず、 液晶表示素子の構造を図 3 4および図 3 5 に基づいて説明 する。
図 3 4および図 3 5 に示すよ う に、 ホ ウケィ 酸ガラ スか ら成る基 板 1 上には、 薄膜 ト ラ ンジス タ (以下 「 T F T素子」 と称する。) 2 ~ 4が形成さ れている。 上記 T F T素子 2 ~ 4は、 アモル フ ァ ス シ リ コ ンか ら成る半導体層 2 a〜 4 a と、 ゲー ト 電極 2 b〜 4 b と、 ソース電極 2 c〜 4 c と、 ド レ イ ン電極 2 d〜 4 d と を有 している。 上記 T F T素子 2 の ド レイ ン電極 2 dは、 基板 1 における画素に対 応する領域に形成された第 1 画素電極 9 の一部に よ り 構成されてい る。
上記第 1 画素電極 9 は、 アル ミ ニ ウ ムか ら成 り 、 反射膜を兼ねる よ う にな つている。 第 1 画素電極 9 の周囲には、 ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 が設け ら れている。 こ のブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 は、 黒色の力一 ポン粒子を含む レ ジス ト か ら形成され、 第 1 画素電極 9 以外の領域 に入射 した光を吸収する こ と に よ り 、 コ ン ト ラ ス ト 比を高める よ う になっている。 第 1 画素電極 9 およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 には、 7 〃 m角の正方形の開口部 5 a , 9 aが、 3 ピ ッ チで等間隔 に形成されてい る。 ま た、 ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 には、 さ ら に、 T F T素子 3 , 4の ド レ イ ン電極 3 d, 4 dおよびその近傍の部分に も、 開口部 5 bが形成されてい る (図 3 4 においては、 ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 が形成されている領域を点描で示す。)。
基板 1 における上記第 1 画素電極 9およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 の開口部 9 a , 5 a , 5 bの位置には、 これ ら の開口部 9 a , 5 a , 5 b を介 した露光に よ り 硬化 したネガ型 レ ジス ト か ら成る、 断面形 状が 7 〃 m角で高さ が 4 〃 mのスぺ一ザ と しての支持部材 1 8 が設 け られている。 支持部材 1 8 の上方には、 こ の支持部材 1 8 に よ つ て支持され、 基板 1 との間隔が 4 mに保たれた封止板 1 1 が設け られている。 基板 1 と封止板 1 1 と の間には、 液晶層 2 1 が設け ら れている。 こ の液晶層 2 1 は、 アク リ ルポ リ マーの高分子ネ ッ ト ヮ —ク 中に、 フ ッ素系のネマチ ッ ク液晶に シアンの 2色性色素を溶解 させたゲス ト ホス ト液晶が保持された、 いわゆる高分子分散型液晶 である。 ただ し、 液晶層 2 1 は封止板 1 1 に よ って封止されてい る ため、 上記液晶層 2 1 中のネ ッ ト ワーク高分子の量は封止板 1 1 を 固定 し得る程度であればよい。 それゆえ、 図 7 9 に示すよ う な液晶 表示素子に比べて、 液晶の占める割合が大き く 、 実質的な開口率が 大きいので、 高いコ ン ト ラ ス ト 比が得 られる。 上記封止板 1 1 お よ び液晶層 2 1 には、 T F T素子 3, 4の ド レ イ ン電極 3 d , 4 dの 上方位置に、 立体配線用の開口部 1 1 a , 2 1 aが形成されてい る 。 上記第 1 画素電極 9 、 液晶層 2 1 、 支持部材 1 8、 および封止板 W
1 1 によ り 、 第 1 表示層 6 が構成される。 第 1 表示層 6 の上方には、 第 2表示層 7 、 および第 3 表示層 8が積層されてい る。 これ ら の第 2表示層 7および第 3 表示層 8 は、 それそれ、 第 1 表示層 6 と 同様 に、 第 2 画素電極 1 4 と、 液晶層 2 2 と、 支持部材 1 9 と、 封止板 1 2 と、 または第 3 画素電極 1 5 と、 液晶層 2 3 と、 支持部材 2 0 と、 封止板 1 3 とか ら構成されている。
ただ し、 第 2表示層 7 は、 液晶層 2 2 のゲス ト ホス ト液晶に、 シ ア ンに代えてマゼ ンタ の 2色性色素が用い ら れる点が主 と して異な る。 また、 封止板 1 1 の上面の画素に対応する領域に形成される第 2 画素電極 1 4は、 アル ミ ニウ ム に代えて、 イ ン ジ ウム · 錫酸化物 (以下 「 I τ ο」 と称する。) か ら成る透明導電膜によ り 構成されて いる。 この第 2画素電極 1 4は、 前記封止板 1 1 および液晶層 2 1 の開口部 1 1 a , 2 l aを介 して、 T F T素子 3 の ド レ イ ン電極 3 dに接続されている。 さ ら に、 封止板 1 2および液晶層 2 2 には、 T F T素子 4の ド レ イ ン電極 4 dの上方位置だけに、 立体配線用の 開口部 1 2 a, 2 2 aが形成さ れている。
一方、 第 3表示層 8 は、 液晶層 2 3 にイ ェロ ーの 2色性色素が用 い られる と と も に、 第 3 画素電極 1 5 は、 第 2 画素電極 1 4 と 同 じ 透明導電膜によ り 構成され、 封止板 1 2、 液晶層 2 2、 封止板 1 1 および液晶層 2 1 の開口部 1 2 a, 2 2 a , 1 1 a , 2 1 aを介 し て、 T F T素子 4の ド レ イ ン電極 4 dに接続されている。 また、 封 止板 1 3 および液晶層 2 3 には、 開口部は形成されていない。
こ こで、 上記第 2表示層 7 、 お よび第 3表示層 8 の支持部材 1 9 , 2 0 は、 第 1 表示層 6 の支持部材 1 8 と 同様に、 第 1 画素電極 9 お よびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 の開口部 9 a , 5 a , 5 b を介 した露光 に よ って硬化 したネ ガ型 レ ジス ト で形成する こ と に よ り 、 正確に第 1 表示層 6 の支持部材 1 8 と 同 じ位置に配置されている。 ま た、 各 表示層 6〜 8 の液晶層 2 1 〜 2 3 に含まれる ゲス ト ホス ト 液晶は、 適切な色バラ ンス にな る よ う に、 シア ン、 マゼ ン 夕、 およびイ エ ロ —の 2 色性色素の濃度が調整されてい る。
第 3 表示層 8 の上方、 すなわち封止板 1 3 の上面には、 透明導電 膜か ら成 り 、 各画素に共通の共通電極 1 6 が設け られている。 ま た、 共通電極 1 6 の上面には、 液晶表示素子を外圧等か ら保護する ため に、 透明な樹脂か ら成る保護膜 1 7 が形成されてい る。
上記の よ う に構成された液晶表示素子は、 T F T 素子 2〜 4 を介 して第 1 〜第 3 画素電極 9 , 1 4, 1 5 に印加される電圧が制御さ れる こ と に よ り 、 第 1 画素電極 9 と第 2 画素電極 1 4 との間、 第 2 画素電極 1 4 と第 3 画素電極 1 5 との間、 および第 3 画素電極 1 5 と共通電極 1 6 との間の電圧、 すなわち各液晶層 2 1 〜 2 3 に印加 される電圧が変化 し、 これに応 じて、 各表示層 6〜 8 で吸収される 各色の光の量が変化する。 そ こで、 保護膜 1 7 側か ら入射 した光(外 光) は、 第 3 , 第 2 , 第 1 表示層 8 , 7 , 6 の順に通過 した後、 第 1 画素電極 9 で反射され、 次に第 1 , 第 2 , 第 3 表示層 6 , 7 , 8 の順に通過する間に、 上記印加電圧に応 じて各色の光が吸収され、 減法混色によ り カ ラ 一表示が行われる。
こ こで、 上記液晶表示素子における支持部材 1 8 …の大き さ と ピ ツ チ、 および開口率について説明する。
液晶表示素子の開口率は、 表示画面の面積に対する画素の面積の 比 (表示画面内の画素の開口率) と、 画素の面積に対する、 画素内 で支持部材 1 8 …が占める部分を除 く 領域の面積の比 (画素内の開 口率) との積にな る。 上記表示画面内の画素の開口率は、 T F T素 子 2 …や、 そのソース、 ゲ一 ト ラ イ ン等の占める 面積に よ っ て定ま るので、 全体の開口率を大き く する ためには、 上記画素内の開口率 を大き く する 必要がある。 すなわち、 支持部材 1 8 …の ピ ッ チを大 き く する ほど、 ま た、 支持部材 1 8 …を小さ く するほど、 開口率を 大き く で き、 コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ とがで き る。
しか し、 支持部材 1 8 …の ピ ッ チが、 例えば 5 0 z m以上な どで あ る と、 図 8 2 に示すよ う に、 隣 り 合う 支持部材 1 8 …間で封止板 1 1 が垂れる よ う に変形 し、基板 1 と封止板 1 1 との間のギャ ッ プ、 すなわち液晶層 2 1 等の厚さ を一定に保つ こ とが困難にな る。 それ ゆえ、 液晶層 2 1 の厚さ を一定に保っためには、 支持部材 1 8 …を 高い密度で形成する こ とが好ま し く 、 例えば上記の よ う に支持部材 1 8 …の ピ ッ チを 3 Ο mに設定する こ と に よ り 、 液晶層 2 1 の厚 さ を一定に保ちつつ、 高い開口率を得る こ とがで き る。
ま た、 も し、 支持部材 1 8 …の位置精度が低い場合には、 前記図 8 1 に示 した よ う な不具合を防止する ためには、 支持部材 1 8 …の サイ ズを大き く する必要があ る が、 例えば 1 0 / m角 と する と、 画 素内で支持部材 1 8 …の占める 面積が 1 割以上 と な り 、 画素内の開 口率が小さ く な つて、 コ ン ト ラ ス ト 比が低下する。 こ れに対 して、 本実施の形態 3 — 1 においては、 各表示層 6 〜 8 の支持部材 1 8 〜 2 0 が、 上記の よ う に第 1 画素電極 9 およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 の開口部 9 a , 5 a , 5 b を介 した露光によ り 硬化 したネ ガ型 レ ジ ス ト に よ って形成される こ と に よ り 、 各支持部材 1 8 ~ 2 0 が正確 に同 じ位置に配置される ので、 上記の よ う な不具合を生 じる こ と な く 、支持部材 1 8 …を 角程度 と小さ く する こ とがで き、 9 5 % 以上の画素内の開口率を得る こ と がで き る。 なお、 液晶層 2 1 …に は高分子ネ ッ ト ワーク が含まれてい る ために、 実質的な開口率は こ れよ り も多少小さ く なる。 次に、 上記液晶表示素子の製造方法を図 3 6 ない し図 4 3 に基づ いて説明する。
なお、 以下の製造工程は、 不必要な感光を防止する ために、 主 と して、 ネガ型 レ ジス ト な どの感光性材料が感光 しない長波長の光で 照明された部屋 (イ エロ一ルーム) で行う 。
( 1 ) まず、 図 3 6 ( a ) に示すよ う に、 ホ ウケィ 酸ガラスか ら な る基板 1 上にアモルフ ァス シ リ コ ンか ら成る T F T素子 2〜 4 を 形成する。 次に、 アル ミ ニ ウ ムの反射膜を真空蒸着に よ り 成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一およびエ ッ チ ングに よ り 画素の形状にノ、'夕 一 ンニ ング して、 反射膜および T F T素子 2 の ド レ イ ン電極 2 d を兼 ねる第 1 画素電極 9 を形成する。 上記パターニ ングの際には、 開口 部 9 a も形成する。
( 2 ) 次に、 図 3 6 ( b ) に示すよ う に、 力一ポンを含むポジ型 レ ジス ト を l 〃 mの厚さ に塗布 した後、 第 1 画素電極 9 の領域と開 口部 5 a, 5 bを形成する領域とへのマス ク露光、 および現像に よ り 、 開口部 5 a , 5 b を有する ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 を形成する。 次に、 以下の ( 3 ) 〜 ( 5 ) の工程に よ り 支持部材 1 8 を形成す る。
( 3 ) 図 3 7 ( c ) に示すよ う に、 上記の よ う に第 1 画素電極 9 およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 が形成された基板 1 上に、 支持部材 1
8 を形成する ためのネガ型 レ ジス ト 1 8 , をス ピンコー ト に よ り 塗 布 (回転数 6 0 0 r p mで、 3 0秒間) した後、 プ リ べ一ク (ホ ヅ ト プレー ト 上で、 8 0 °Cで、 3 分間) する。
( 4 ) 図 3 7 ( d ) に示すよ う に、 基板 1 側か ら 1 0 0 m J / c m 2 の紫外線 ( U V ) を照射する 。 こ れに よ り 、 第 1 画素電極 9、 お よびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 をマス ク と して、 開口部 9 a , 5 a , 5 bの部分のネガ型 レ ジス ト 1 8 , だけが露光さ れる。 すなわち、 支持部材 1 8 を形成する部分だけを露光する背面露光 (セ ル フ ァ ラ イ ンメ ン ト ) が行われ、 ネガ型 レ ジス ト 1 8 ' が重合硬化する。
( 5 ) ネガ型 レ ジス ト 1 8 , を現像液で現像 した後、 焼成 ( 1 2 0 °Cで、 1 時間) する こ とに よ り 、 図 3 8 ( e ) に示すよ う に、 閧 口部 9 a, 5 a , 5 bの部分に高さ 4 〃 mの支持部材 1 8が形成さ れる。
( 6 ) 図 3 8 ( f ) に示すよ う に、 所定のマス クノ 夕一ン 2 7 a が形成された紫外線透過性ガラ スか ら成る転写基材 2 7 の表面に、 離型層 2 6 を形成 した後、 封止板 1 1 を形成する 。 (図 3 8 ( f ) で は、 封止板 1 1 が形成された側を下方に向けて描かれている。) 上記マス クパターン 2 7 aは、 T F T素子 3 , 4の ド レイ ン電極 3 d , 4 dに対応する位置で光を遮光する よ う に形成されている 。 上記離型層 2 6 の形成は、 具体的には、 例えばポ リ ビニルアルコ 一 ル (以下 「 P V A」 と称する。) の 1 0重量%水溶液をス ピ ン コ ー ト (回転数 2 0 0 0 r p mで、 3 0秒間) に よ り 塗布 し、 1 1 0 °Cの ホ ッ ト プレー ト 上で 2分間乾燥させる こ と に よ り 行われる。 ま た、 封止板 1 1 は、 離型層 2 6上に、 ネガ型 レ ジス ト をス ピ ンコー ト (回 転数 2 0 0 0 r p mで、 3 0秒間) に よ り 塗布 し、 プ リ べ一ク を行 う こ と に よ り 形成される。
( 7 ) 次に、 図 3 9 ( g ) に示すよ う に、 上記転写基材 2 7 と前 記基板 1 と を、 封止板 1 1 と支持部材 1 8 とが密着する よ う に貼 り 合わせる。 その際、 転写基材 2 7 のマス クパタ ー ン 2 7 aのマス ク 位置 と、 T F T素子 3, 4の ド レ イ ン電極 3 d , 4 d とが対応する よ う に位置合わせを行う 。 こ の貼 り 合わせに よ り 、 基板 1 と封止板 1 1 との間に 4 〃 mのギャ ッ プが形成される。 ( 8 ) フ ッ素系のネマチ ッ ク液晶中に シア ンの二色性色素を含む ゲス ト ホス ト液晶 と、 光重合開始剤を 3重量%含有させた高分子前 駆体と を、 ゲス ト ホス ト 液晶を 8 0重量%、 高分子前駆体を 2 0 重 量%の比率で混合 して混合溶液 2 1 , を調製する。 この混合溶液 2 1 , を、 図 3 9 ( h ) に示すよ う に、 基板 1 と封止板 1 1 と の間の ギャ ッ プに注入 し、 転写基材 2 7側か ら、 5 0 0 m J / c m2 の紫 外線 ( U V ) を照射する。
この紫外線の照射に よ り 、 転写基材 2 7 のマス クパタ ー ン 2 7 a で遮光された T F T素子 3, 4の ド レイ ン電極 3 d, 4 d以外の部 分では、 封止板 1 1 のネ ガ型 レ ジス ト が重合する と と も に、 ギヤ ッ プに注入 した混合溶液 2 1 ' 中の高分子前駆体が重合 して、 ゲス ト ホス ト 液晶が高分子ネ ッ ト ワーク に分散保持された高分子分散型液 晶の液晶層 2 1 が形成さ れる。 ま た、 封止板 1 1 は、 液晶層 2 1 を 構成する高分子ネ ッ ト ワーク に よ り 、 基板 1 上に固定される。
( 9 ) 図 4 0 ( i ) に示すよ う に、 基板 1 を温水中 に浸漬する と、 離型層 2 6 が溶解 して、 封止板 1 1 が転写基材 2 7 か ら離型 し、 基 板 1 と転写された封止板 1 1 との間に液晶層 2 1 が封入された第 1 表示層 6が形成さ れる。
( 1 0 ) 封止板 1 1 をネガ型 レ ジス ト の現像液に よ り 現像する と、 図 4 0 ( j ) に示すよ う に、 前記 ( 8 ) の紫外線照射時に、 転写基 材 2 7 のマス クパタ ー ン 2 7 aに よ り 露光されなかっ た T F T素子 3, 4の ド レ イ ン電極 3 d , 4 dの上方の部分が除去され、 開口部 1 l aが形成される。 ま た、 液晶層 2 1 における T F T素子 3 , 4 の ド レイ ン電極 3 d、 4 dの上方の部分も、 紫外線が照射されなか つ たために、 高分子前駆体が重合せず、 高分子分散型液晶の形態が 形成さ ないので、 封止板 1 1 の現像液に よ り 容易に洗い流され、 開 口部 2 1 aが形成される。
( 1 1 ) 次に、 図 4 1 ( k ) に示すよ う に、 封止板 1 1 上に、 I T Oの透明導電膜をスパ ッ タ成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一および エ ッチ ングに よ り 画素の形状にパタ ーニ ング して、 第 2画素電極 1 4 を形成する。 この第 2画素電極 1 4は、 封止板 1 1 の開口部 1 1 a、 および支持部材 1 8の側壁に成膜さ れた透明導電膜によ り 、 T F T素子 3 の ド レ イ ン電極 3 d に接続され、 第 2 画素電極 1 4の電 圧が T F T素子 3 に よ って制御される よ う にな る。 こ こで、 支持部 材 1 8 の側壁への透明導電膜の成膜を容易にする ために、 ポス ト べ —ク に よ り 、 支持部材 1 8 にいわゆる熱だれをわずかに生 じさせ、 支持部材 1 8 をテ一パ状に形成する な ど して も よい。
( 1 2 ) 前記 ( 3 ) ~ ( 1 1 ) と 同様に して、 第 2表示層 7 を形 成する。 すなわち、 図 4 2 ( 1 ) に示すよ う に支持部材 1 9 を形成 した後、 図 4 2 ( m ) に示すよ う に液晶層 2 2、 封止板 1 2、 およ び第 3 画素電極 1 5 を形成する。 ただ し、 第 1 表示層 6 の形成工程 とは、 以下の点が異なる。 すなわち、 液晶層 2 2 に含まれる ゲス ト ホス ト液晶 と して、 シア ンの 2色性色素に代えてマゼ ン夕 の 2色性 色素を含有する ゲス ト ホス ト 液晶を用いる 。 ま た、 封止板 1 2 を形 成する ための転写基材のマス クパター ン と して、 T F T素子 4の ド レ イ ン電極 4 dの上方のみをマス ク するノ、'タ ー ン を使用する こ と に よ り 、 支持部材 1 9および液晶層 2 2 には開口部 1 2 a , 2 2 aだ けを形成する。
こ こで、 支持部材 1 9の形成は、 第 1 表示層 6 における支持部材 1 8の形成 (前記 ( 4 )) と 同 じ く 、 第 1 画素電極 9 、 お よびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 をマス ク と して、 基板 1 側か ら紫外線を照射する こ と に よ り 行う 。 こ れに よ り 、 支持部材 1 9 は、 正確に支持部材 1 8 と 同 じ位置に形成される。 すなわち、 別途マス ク を用い る場合の よ う にマス ク の位置合わせをする こ とな く 、 前記図 8 1 に示 した よ う な不具合を確実に防止する こ とがで きる。
なお、 上記の よ う な紫外線露光を行う場合、 紫外線は支持部材 1 8 を介 して照射される こ と になる。 このため、 支持部材 1 8 に よ る 紫外線の吸収に よ って、 支持部材 1 9 を形成するネ ガ型 レ ジス ト へ の照射量が不十分にな る と、 ネガ型 レ ジス ト が十分に重合せず、 支 持部材 1 9 の高さ が低 く なつ た り して、 液晶層 2 2 の厚さが一定に 保たれず、 液晶表示素子の色バラ ンスが く ずれる な どする こ とがあ る。 こ の よ う な場合には、 支持部材 1 9 を形成する ネ ガ型 レ ジス ト と して、 支持部材 1 8 とは紫外線の吸収 (感光) 波長特性が異な る も のを用い、 支持部材 1 8 は透過する が支持部材 1 9 を形成する ネ ガ型 レ ジス ト には多 く 吸収される波長の紫外線を照射する こ と に よ り 、 一定の高さ の支持部材 1 9 を容易に形成する こ と がで き る。 ま た、 ネ ガ型 レ ジス ト と して、 重合の前後で紫外線の吸収波長特性が 変化する も のを用い、既に重合 した支持部材 1 8 の透過率は高いが、 支持部材 1 9 を形成する ための重合前のネ ガ型 レ ジス ト の透過率は 低い波長の紫外線を照射する な ど して も よい。
( 1 3 ) さ ら に、 同様に、 図 4 3 ( n ) ( o ) に示すよ う に、 支持 部材 2 0 、 液晶層 2 3 、 および封止板 1 3 を形成する こ と に よ り 、 第 3 表示層 8 を形成する と と も に、 封止板 1 3 上に共通電極 1 6 を 形成する。 こ の場合には、 液晶層 2 3 に含まれる ゲス ト ホス ト 液晶 と して、 イ エロ一の 2 色性色素を含有する ゲス ト ホス ト 液晶を用い る 。 ま た、 封止板 1 2 を形成する ための転写基材にはマス ク パタ ー ン を形成せず、 封止板 1 3 の全面にわたって紫外線を照射 し、 封止 板 1 3 および液晶層 2 3 には開口部を形成 しない。 こ の第 3 表示層 8 において も、 上記第 2 表示層 7 の支持部材 1 9 と同様に、 第 1 画素電極 9 、 およびブラ ヅ ク マ ト リ ク ス 5 をマス ク と した基板 1 側か らの紫外線の照射に よ り 、 支持部材 2 0 は、 正確 に支持部材 1 8 , 1 9 と 同 じ位置に形成される。 なお、 支持部材 2 0 を形成するネガ型 レ ジス ト と して も、 支持部材 1 8, 1 9 とは紫 外線の吸収 (感光) 波長特性が異なる ものを用い、 支持部材 1 8 , 1 9 の透過率が高い波長の紫外線を照射する よ う にする こ とが好ま しい。
( 1 4 ) 共通電極 1 6 上に、 透明なア ク リ ル樹脂か らなる保護膜 1 7 を形成する こ と に よ り 、 図 3 4 および図 3 5 に示す液晶表示素 子が得 られる。
上記のよ う に、 第 1 画素電極 9 およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 の開 口部 9 a, 5 a , 5 b を介 した背面露光に よ って各表示層 6 ~ 8 の 支持部材 1 8〜 2 0 を形成する こ と に よ り 、 第 1 表示層 6 等の破壊 を引 き起こすよ う な支持部材 1 8〜 2 0 の位置ずれを生 じる こ と が ないので、 容易に支持部材 1 8 …を 7 m角 と小さ く する こ と がで き、 開口率を大き く して コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ とがで き る 。 しかも、 別途マス ク を用いる場合の よ う にマス クの位置合わせをす る必要もない。
なお、 上記の例では、 支持部材 1 8 …は、 断面形状が正方形で、 均等な距離に配置さ れている例を示 したが、 こ れに限 らず、 種々 の 形状や配置に形成する場合で も 同様の効果が得 られる。 ま た、 全て の支持部材 1 8 …を 同 じ断面形状に形成する ものに限 らず、 例えば 第 1 画素電極 9 の領域に形成される支持部材 1 8 …だけを画素以外 の領域に形成される支持部材 1 8 …よ り も 小さい断面形状にする な ど して も よい。 W ま た、 上記の例では、 基板 1 と封止板 1 1 と の間、 および各封止 板 1 1 ~ 1 3 の間に、 いわゆる高分子分散型の液晶層 2 1 ~ 2 3 を 設けた例を示 したが、 こ れに代えて、 高分子ネ ッ ト ワーク を含ま な い液晶を用いる よ う に して も よい。 すなわち、 液晶は、 封止板 1 1 …に よ って封止する こ とがで き る ので、 必ず し も高分子ネ ッ ト ヮ一 ク を含むものを用いる必要はない。 これに よ り 、 表示層 6 〜 8 にお ける液晶の占める割合が大き く な る ので、 一層コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ とがで き る。
ただ し、 こ の場合には、 封止板 1 1 …が、 上記の よ う に高分子ネ ヅ ト ワーク に よ って基板 1 上に固定されないので、 接着な どによ つ て固定する必要がある。
そのためには、 例えば、 封止板 1 1 …、 ま たは支持部材 1 8 …に 接着剤を塗布 して貼 り 合わせる こ と に よ り 接着すればよい。 具体的 には、 例えば接着剤 と して熱硬化性のエポキシ樹脂を用い、 これを 支持部材 1 8 …の上端に塗布 してか ら封止板 1 1 … と貼 り 合わせた 後、 オーブン中で加熱 し、 エポキシ樹脂を硬化させて接着させれば よい。 なお、 接着剤 と しては、 2 液性の反応性接着剤等、 他のも の を用いて も よい。
ま た、 支持部材 1 8 …、 ま たは封止板 1 1 …を構成する材料と し て可塑性を有する ものを使用 し、 支持部材 1 8 … と封止板… と を密 着させる と と も に加圧ま たは加温する こ と に よ り 、 支持部材 1 8 ··· ま たは封止板 1 1 …を可塑化させて溶着させ、 支持部材 1 8 … と封 止板 1 1 … と を一体化する よ う に して も よい。 具体的には、 封止板 1 1 …を構成する レ ジス ト と して熱可塑性を有する も のを使用 し、 支持部材 1 8 … と封止板 1 1 … と を貼 り 合わせた後、 圧力をかけな が ら オーブン中で加熱する こ と に よ って、 可塑化 した封止板 1 1 … 9 /47 を支持部材 1 8 …に溶着させればよい。
また、 上記の例では、 各表示層 6 〜 8 を形成する ご と に液晶層 2 1 〜 2 3 を形成する例を示 したが、 高分子ネ ッ ト ワーク を含ま ない 液晶を用いる場合には、 まず、 支持部材 1 . 8 ~ 2 0 および封止板 1 1 〜 1 3 を形成 した後に、 各ギャ ッ プに液晶層 2 1 〜 2 3 を形成す る よ う に して も よい。 ま た、 高分子ネ ッ ト ワーク を含む液晶を用い る場合で も、 同様に して製造する こ とは可能であ る が、 高分子ネ ッ ト ワーク を容易に形成する ためには、 前記支持部材 1 8 …について 説明 した よ う に、 感光波長特性が互いに異な る高分子前駆体を用い る こ とが好ま しい。
ま た、 上記の よ う に、 封止板 1 1 …を転写基材 2 7 上に形成 して か ら転写する 方法に代えて、 支持部材 1 8 …を形成 した後に、 昇華 性を有する材料、例えば樟脳を支持部材 1 8 … と 同 じ高さ に塗布 し、 その上に封止板 1 1 を形成する よ う に して も よい。 すなわち、 樟脳 を塗布 した上には、 フ ィ ルム状の薄い封止板 1 1 …で も容易に形成 する こ とがで き る と と も に、 樟脳は昇華性を有 している ので、 封止 板 1 1 …が形成された後に、 昇華させて除去する こ と に よ り 、 容易 に基板 1 と封止板 1 1 等の間にギャ ッ プを形成する こ とがで き る 。 ま た、 昇華性を有する材料に代えて、 紫外線の照射や加熱に よ り 気 化性を有する材料、 例えばポ リ フ タルアルデヒ ド ( P P A ) にォニ ゥム塩である ト リ フ エニルスルホニゥム へキサフ ルォ ロ ア ンチモ ン ( P h 3 S +- S b F 6 ) を 1 重量%加えて シ ク ロ へキサノ ン に溶 解させたポジ レ ジス ト な どを用いて も よい。
(実施の形態 3 — 2 )
本発明の実施の形態 3 — 2 に係る液晶表示素子について、 図 4 4 〜図 5 0 に基づいて説明する。 図 4 4 は液晶表示素子の 1 画素あた り の構成を示す部分平面図で あ り 、 図 4 5 は図 4 4 の B — B 矢視断面図であ り 、 図 4 6 〜図 5 0 は液晶表示素子の製造工程を示す説明図である。
なお、 本実施の形態 2 において、 前記実施の形態 1 と 同様の構成 要素については、 同一の番号を付 して説明を省略する。
本実施の形態 2 の液晶表示素子は、 開口部を有する第 1 画素電極 を形成 し、 こ の開口部を介 した紫外線の照射に よ り 支持部材を形成 する点で、 前記実施の形態 1 の液晶表示素子 と類似 しているが、 主 と して、 以下の点が異な る。 すなわち、 実施の形態 1 では、 紫外線 の照射に よ って基板 1 等の上に支持部材 1 8 …を形成 した後に、 封 止板 1 1 …を貼 り 合わせて液晶層 2 1 …を形成 したのに対 し、 実施 の形態 2 では、 封止板 1 1 …を貼 り 合わせてか ら液晶 と高分子前駆 体との混合溶液 4 1 ' …を封入 した後に、 混合溶液 4 1 ' …に紫外 線を照射 して、 混合溶液 4 1 ' …中の高分子前駆体 (光重合性高分 子) を析出、 硬化させて支持部材 3 1 …を形成する と と も に、 液晶 層 4 1 …を形成する も のである 。 ま た、 こ の液晶層 4 1 …は、 実施 の形態 1 の液晶層 2 1 … と異な り 、 高分子ネ ッ ト ワーク を含ま ない ゲス ト ホス ト液晶に よ り 構成さ れる。
以下、 液晶表示素子の構造を図 4 4 および図 4 5 に基づいて説明 する。
この液晶表示素子の第 1 画素電極 9 およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 の開口部 9 a, 5 aが形成されて いる領域には、 実施の形態 1 の支 持部材 1 8〜 2 0 に代えて、 液晶 と混合された高分子前駆体が重合 硬化 して形成された 4 >a mの高さ の支持部材 3 1 〜 3 3 が設け ら れ ている。 ま た、 T F T素子 3 , 4 上およびその近傍の ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 上には、 実施の形態 1 の支持部材 1 8 … と 同様のネ ガ型 レ 99/479 ジス ト か ら形成された、 4 / mの高さ の補助支持部材と しての立体 配線用パ ッ ド 2 8 - 3 0 が設け られている (立体配線用パ ヅ ド 2 8 の形状を図 4 4 に太線で示す。)。
第 1 表示層 6 の立体配線用パ ッ ド 2 8 には、 T F T素子 3 , 4 の ド レイ ン電極 3 d , 4 dの上方位置に、 立体配線用の開口部 2 8 a が形成されている。 ま た、 第 2表示層 7 の立体配線用パ ッ ド 2 9 に は、 T F T素子 4の ド レイ ン電極 4 dの上方位置だけに、 立体配線 用の開口部 2 9 aが形成されてい る。 第 3 表示層 8 の立体配線用パ ッ ド 3 0 には、 開口部は形成されていない。
基板 1 と封止板 1 1 との間、および各封止板 1 1 〜 1 3 の間には、 それそれシア ン、 マゼ ン夕、 ま たはイ エ ロ一の 2色性色素を含むゲ ス ト ホス ト液晶が封止されて液晶層 4 1 - 4 3 が形成されている 。 すなわち、 実施の形態 1 のよ う な高分子分散型の液晶層 2 1 - 2 3 を用いる場合に比べて、 各表示層 6 ~ 8 における液晶の占める割合 が大きいので、 一層高いコ ン ト ラ ス ト 比を得る こ と がで き る。
次に、 上記液晶表示素子の製造方法を図 4 6 〜図 5 0 に基づいて 説明すするる。
( 1 ) まず、 実施の形態 1 の ( 1 ) と 同様に、 図 4 6 ( a ) に示 すよ う に、 ホウケィ 酸ガラスか ら な る基板 1 上に、 T F T素子 2 〜 4、 および開口部 9 aを有する第 1 画素電極 9 を形成する。
( 2 ) 実施の形態 1 の ( 2 ) と 同様に、 図 4 6 ( b ) に示すよ う に、 開口部 5 a , 5 bを有する ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 を形成する。 次に、 以下の ( 3 ) ( 4 ) の工程によ り ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5上に 立体配線用パ ッ ド 2 8 を形成する。
( 3 ) ま ず、 図 4 7 ( c ) に示すよ う に、 第 1 画素電極 9 および ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 が形成された基板 1 上に、 立体配線用パ ッ ド 2 8 を形成する ためのネガ型 レ ジス ト 2 8 ' をス ピ ンコー ト に よ り 塗布 (回転数 6 0 0 r p mで、 3 0秒間) し、 プ リ べ一ク (ホ ッ ト プレー ト 上で、 8 0 °Cで、 3 分間) した後、 マス クノ、°夕 一ン 2 5 a を有するマス ク基板 2 5 を重ねて紫外線 ( U V ) を照射 し、 露光す る。 上記マス クパタ ー ン 2 5 aは、 立体配線用パ ッ ド 2 8 を形成す る以外の部分、 および開口部 2 8 aの部分を遮光する よ う に形成さ れている。
( 4 ) 次に、 上記露光されたネガ型 レ ジス ト 2 8 , を現像液で現 像 し、 オーブン中で焼成 ( 1 5 0 °Cで、 1 時間) する こ と に よ り 、 図 1 4 ( d ) に示すよ う に、 T F T素子 3, 4上に立体配線用パ ッ ド 2 8 を形成する。 こ の立体配線用パ ッ ド 2 8 は、 高さ が 4 で、 平面形状が 2 0 / ιη χ 3 0 〃 πιの長方形状に形成される 。 また、 Τ F T素子 3 , 4の ド レ イ ン電極 3 d , 4 dの上方位置には、 1 0 m角の開口部 2 8 aが形成される。
( 5 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 6 ) と 同様に、 図 4 8 ( e ) に示す よ う に、 T F T素子 3 , 4 の ド レ イ ン電極 3 d , 4 d に対応する位 置をマス ク する マス クパター ン 2 7 aが形成された転写基材 2 7 の 表面に、 離型層 2 6 と封止板 1 1 と を形成する。
( 6 ) 図 4 8 ( f ) に示すよ う に、 上記転写基材 2 7 と前記基板 1 と を、 転写基材 2 7 のマス クノ 夕一ン 2 7 aのマス ク位置 と、 T F T素子 3, 4の ド レ イ ン電極 3 d , 4 d とが対応する よ う に位置 合わせ して、 封止板 1 1 と立体配線用パ ッ ド 2 8 とが密着する よ う に貼 り 合わせ、 基板 1 と封止板 1 1 との間に 4 mのギャ ッ プを形 成する。 次に、 シア ンの二色性色素を含むゲス ト ホス ト液晶 と、 高 分子前駆体と を、 ゲス ト ホス ト液晶を 9 5重量%、 高分子前駆体を 5重量%の比率で混合 した混合溶液 4 1 ' を調製 し、 基板 1 と封止 O 9 板 1 1 との間のギャ ッ プに注入する。
( 7 ) 図 4 9 ( g ) に示すよ う に、 基板 1 側か ら、 5 0 0 m J / c m2の紫外線 ( U V ) を照射する。 こ れに よ り 、 第 1 画素電極 9、 およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 をマス ク と して、 開口部 9 a , 5 aの 部分の混合溶液 4 1 ' だけが露光される。 すなわち、 支持部材 3 1 を形成する部分だけを露光する背面露光 (セルフ ァラ イ ンメ ン ト ) が行われる。 こ の紫外線の照射に よ り 、 基板 1 と封止板 1 1 との間 隙に注入された混合溶液 4 1 , 中の高分子前駆体が、 開口部 9 a , 5 aの上方で重合 し始める。 する と、 開口部 9 a , 5 aの上方付近 の部分で、 混合溶液 4 1 ' 中の高分子前駆体の濃度が低 く なる ため、 他の部分との濃度の不均一に よ る拡散に よ って高分子前駆体が凝縮 され、 開口部 9 a , 5 aの上方で高分子 と して 固ま って、 支持部材 3 1 が形成される。 ま た、 同時に、 基板 1 と封止板 1 1 等との間に、 高分子前駆体が支持部材 3 1 …の形成に消費されて残っ たゲス ト ホ ス ト液晶だけが封止された状態にな り 、 液晶層 4 1 が形成される。
こ こで、 混合溶液 4 1 ' が充填される領域の面積に対する、 支持 部材 3 1 …が占める面積の割合が 5 %と する と、 前述の よ う に混合 溶液 4 1 '中のゲス ト ホス ト液晶の比率を 9 5 %とする こ と によ り 、 混合溶液 4 1 ' 中の高分子前駆体が全て支持部材 3 1 を形成する た めに用い られ、 基板 1 と封止板 1 1 との間にゲス ト ホス ト液晶だけ が封止された状態にな る。
( 8 ) 転写基材 2 7側か ら、 1 0 0 m J / c m2の紫外線 ( U V ) を照射 してか ら、 実施の形態 3 — 1 の ( 9 ) と 同様に、 基板 1 を温 水中に浸潰 して、 封止板 1 1 を転写基材 2 7 か ら離型させた後、 封 止板 1 1 をネガ型 レ ジス ト の現像液に よ り 現像する と、 図 4 9 ( h ) に示すよ う に、 上記紫外線照射時に、 転写基材 2 7 のマス クパタ ー ン 2 7 a によ り 露光されなかっ た T F T素子 3 , 4 の ド レ イ ン電極 3 d , 4 dの上方の部分が除去され、 立体配線用の開口部 1 1 aが 形成される。
( 9 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 1 1 ) と 同様に、 図 5 0 ( i ) に示 すよ う に、 封止板 1 1 上に、 I T Oの透明導電膜をスパ ッ 夕成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一およびエ ッ チ ングに よ り 画素の形状にパタ ー ニ ング して、 第 2 画素電極 1 4 を形成する。 こ の第 2 画素電極 1 4 は、 封止板 1 1 お よび立体配線用パ ッ ド 2 8 の開口部 1 1 a, 2 8 aの側壁に成膜された透明導電膜に よ り 、 T F T素子 3 の ド レ イ ン 電極 3 d に接続され、 第 2画素電極 1 4の電圧が T F T素子 3 に よ つて制御される よ う になる。
( 1 0 ) 上記 ( 3 ) ~ ( 9 ) と 同様の工程を 2 回繰 り 返 して、 第 2 画素電極 1 4、 立体配線用パ ッ ド 2 9、 支持部材 3 2、 液晶層 4 2 、 および封止板 1 2 を有する第 2 表示層 7 と、 第 3 画素電極 1 5、 立体配線用パ ッ ド 3 0、 支持部材 3 3、 液晶層 4 3 、 および封止板 1 3 を有する第 3 表示層 8 と を形成する と と も に、 封止板 1 3 上に 共通電極 1 6 を形成する。 ま た、 共通電極 1 6 上に、 透明なァク リ ル樹脂か ら なる保護膜 1 7 を形成する こ と に よ り 、 図 4 4および図 4 5 に示す液晶表示素子が得 られる。 こ こで、 上記液晶層 4 2 , 4 3 は、 それそれマゼ ン夕、 ま たはイ ェローの 2色性色素が含まれる ゲス ト ホス ト液晶か ら構成される。 ま た、 封止板 1 2 お よび立体配 線用ノ ッ ド 2 9 には、 T F T素子 4 の ド レイ ン電極 4 dの上方だけ に開口部 1 2 a , 2 9 aが形成され、 封止板 1 3 および立体配線用 ノ ッ ド 3 0 には開口部は形成されない。
上記の よ う に、 実施の形態 3 — 1 と 同様に、 第 1 画素電極 9 お よ びブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 の開口部 5 a , 9 aを介 した背面露光に よ つ て各表示層 6 〜 8 の支持部材 3 1 〜 3 3 を形成する こ と に よ り 、 容易に支持部材 3 1 …を 7 〃 m角 と 小さ く して開口率を大き く で き る。
しかも、 実施の形態 1 においては、 高分子分散型の液晶層 2 1 … 中に含まれる液晶の重量比率が 8 0 %であっ たのに対 し、 ゲス ト ホ ス ト液晶 と高分子前駆体との混合溶液 4 1 ' 中の高分子前駆体は支 持部材 3 1 …の形成に消費され、 基板 1 と封止板 1 1 等 との間にゲ ス ト ホス ト液晶だけが封止された状態になる ので、 一層、 コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ とがで き る。
なお、 支持部材 3 1 ~ 3 3 を形成する際には、 上記の よ う に別途 マス ク を用いる場合の よ う なマス ク の位置合わせを する必要がな い のに対 し、 立体配線用ノ ッ ド 2 8 ~ 3 0 を形成する際には、 マス ク 基板 2 5 等をあ る程度、 位置合わせをする必要がある。 しか し、 立 体配線用 パ ヅ ド 2 8 - 3 0 は、 画素平面上で 2 0 / m X 3 0 〃 m と 比較的大きな形状に形成される ため、 多少形成位置がずれて も図 8 1 に示 した よ う な不具合を生 じる こ とはないため、 高精度な位置合 わせをする必要はない。
なお、 本実施の形態 3 — 2 において も、 実施の形態 3 — 1 で説明 したの と 同様に、 支持部材 3 1 〜 3 3 を形成する高分子前駆体中の 光重合開始剤 と して、 互いに紫外線の吸収 (感光) 波長特性が異な る ものを用いる な ど して、 高分子前駆体を よ り 効率よ く 重合させ得 る よ う に して も よい。
ま た、 上記の よ う に、 封止板 1 1 …を転写基材 2 7 上に形成 して か ら転写する 方法に代えて、 ゲス ト ホス ト液晶 と高分子前駆体と を 含む固形状ま たは高粘度の混合溶液を基板上に塗布 し、その表面に、 混合溶液中の高分子前駆体の重合を促進する物質、 例えばァ ク リ ル 樹脂のア ミ ン系活性化剤を純水 と ィ ソ プロ ピルアルコールの容積比 が 1 0 : 1 の混合溶媒に 5 重量%溶解させた溶液を接触させた り 、 紫外線を照射 した り して、 上記混合溶液の表面付近だけ重合させる こ と に よ って封止板を形成する よ う に して も よい。
(実施の形態 3 — 3 )
本発明の実施の形態 3 — 3 に係る液晶表示素子について、 図 5 1 ない し図 5 7 に基づいて説明する。
図 5 1 は、 液晶表示素子の 1 画素あた り の構成を示す部分断面図 である。
図 5 2 ない し図 5 7 は、 液晶表示素子の製造工程を示す説明図で ある。
なお、 本実施の形態 3 において、 前記実施の形態 1 ま たは実施の 形態 2 と 同様の構成要素については、 同一の番号を付 して説明を省 略する。
本実施の形態 3 — 3 の液晶表示素子には、 図 5 1 に示すよ う に、 実施の形態 3 ― 1 と 同様にネ ガ型 レ ジス 卜 が重合硬化 して形成さ れ た支持部材 1 8 〜 2 0 と、 実施の形態 2 と 同様に液晶 と混合された 高分子前駆体が重合硬化 して形成された支持部材 3 1 〜 3 3 とが、 交互に配置されて設け られている 。 なお、 こ れ ら の支持部材 1 8 〜 2 0 , 3 1 〜 3 3 が、 それぞれ第 1 画素電極 9 およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 の開口部 9 a , 5 a , 5 b を介 した紫外線の露光に よ り 形 成される点は、 実施の形態 3 - 1 ま たは実施の形態 3 — 2 と 同 じで ある。 ま た、 基板 1 と封止板 1 1 との間等の液晶層 4 1 …は、 実施 の形態 3 — 2 と 同様に、 高分子前駆体が支持部材 3 1 …の形成に消 費されて残っ たゲス ト ホス ト 液晶だけが封止さ れて構成されてい る 。 上記支持部材 3 1 〜 3 3 、 お よび液晶層 4 1 …以外の構成は、 実施 の形態 3 — 1 と 同様である。
次に、 上記液晶表示素子の製造方法を図 5 2 ない し図 5 7 に基づ いて説明する。
( 1 ) ま ず、 実施の形態 3 — 1 の ( 1 ) と 同様に、 図 5 2 ( a ) に示すよ う に、 ホウケィ 酸ガラ スか らなる基板 1 上に、 T F T素子
2〜 4、 および開口部 9 aを有する第 1 画素電極 9 を形成する。
( 2 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 2 ) と 同様に、 図 5 2 ( b ) に示す よ う に、 開口部 5 a , 5 b を有する ブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 を形成す る。
次に、 以下の ( 3 ) 〜 ( 5 ) の工程に よ り 、 実施の形態 3 — 1 の 約半数の支持部材 1 8 を形成する。
( 3 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 3 ) と 同様に、 図 5 3 ( c ) に示す よ う に、 基板 1 上に、 支持部材 1 8 を形成する ためのネガ型 レ ジス ト 1 8 , を塗布 し、 プ リ べーク する。
( 4 ) 図 5 3 ( d ) に示すよ う に、 第 1 画素電極 9 、 およびブラ ヅ ク マ ト リ ク ス 5 における開口部 9 a , 5 aの う ち、 開口部 9 a ", 5 a " を遮光する マス クパタ ーン 3 4 aが形成さ れたマス ク基板 3 4 を基板 1 の外側に配置 し、 基板 1 側か ら紫外線を照射 して、 開 口 部 9 a,, 5 a ', 5 bの部分のネガ型 レ ジス ト 1 8 , を重合硬化さ せる。
( 5 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 5 ) と 同様に、 ネ ガ型 レ ジス ト 1 8, を現像液で現像 し、 焼成 して、 図 5 4 ( e ) に示すよ う に、 開口部 9 a ', 5 a ', 5 bの部分に支持部材 1 8 を形成する。
( 6 ) 実施の形態 1 の ( 6 ) と 同様に、 図 5 4 ( f ) に示すよ う に、 T F T素子 3, 4の ド レ イ ン電極 3 d , 4 d に対応する位置を マス ク するマス クパターン 2 7 aが形成さ れた転写基材 2 7 の表面 に、 離型層 2 6 と封止板 1 1 と を形成する。
( 7 ) 実施の形態 3 — 2 の ( 6 ) と 同様に、 図 5 5 ( g ) に示す よ う に、 転写基材 2 7 と前記基板 1 と を、 封止板 1 1 と支持部材 1 8 とが密着する よ う に貼 り 合わせる と と も に、 シア ンの二色性色素 を含むゲス ト ホス ト液晶 と高分子前駆体との混合溶液 4 1 ' を基板 1 と封止板 1 1 との間のギャ ッ プに注入する。
( 8 ) 実施の形態 3 — 2 の ( 7 ) と 同様に、 図 5 5 ( h ) に示す よ う に、 基板 1 側か ら、 5 0 0 m J / c m2 の紫外線 ( U V ) を照 射 し、 第 1 画素電極 9 、 およびブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 における開口 部 9 a, 5 aの う ち、 上記 ( 4 ) ( 5 ) で支持部材 1 8 が形成されな かっ た開口部 9 a ", 5 a " の部分で、 混合溶液 4 1 , 中の高分子前 駆体を重合させて支持部材 3 1 を形成する と と も に、 液晶層 4 1 を 形成する。
こ こで、 混合溶液 4 1 ' における高分子前駆体の割合を、 混合溶 液 4 1 ' が充填される領域の面積 (先にネガ型 レ ジス ト の支持部材 1 8 を形成 した部分を除いた面積) に対する、 支持部材 3 1 が形成 される部分の面積の割合と 同 じにする こ と によ り 、 高分子前駆体が 全て支持部材 3 1 の形成に用い ら れ、基板 1 と封止板 1 1 との間に、 ゲス ト ホス ト液晶だけが封止された状態となる ので、 実施の形態 3 一 2 と 同様に実質的な開口率を大き く する こ とがで き る。
( 9 ) 実施の形態 3 — 2 の ( 8 ) と 同様に、 図 5 6 ( i ) に示す よ う に、 転写基材 2 7側か ら紫外線 ( U V ) を照射 してか ら、 基板 1 を温水中に浸漬 して、 封止板 1 1 を転写基材 2 7 か ら離型させた 後、 封止板 1 1 をネ ガ型 レ ジス ト の現像液によ り 現像 して、 図 5 7 ( j ) に示すよ う に、 立体配線用の開口部 1 1 aを形成する。
( 1 0 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 1 1 ) と 同様に、 図 5 7 ( k ) に 示すよ う に、 封止板 1 1 上に、 I T Oの透明導電膜をスパ ッ 夕成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一およびエ ッチ ングに よ り 画素の形状にパ ターニ ング して、 第 2画素電極 1 4 を形成する 。
( 1 1 ) 上記 ( 3 ) 〜 ( 1 0 ) と 同様の工程を 2 回繰 り 返 して、 第 2 画素電極 1 4、 支持部材 1 9 , 3 2 、 液晶層 4 2、 および封止 板 1 2 を有する第 2 表示層 7 と、 第 3 画素電極 1 5、 支持部材 2 0 , 3 3 、 液晶層 4 3、 および封止板 1 3 を有する第 3 表示層 8 と を形 成する と と も に、 封止板 1 3上に共通電極 1 6 を形成する。 ま た、 共通電極 1 6 上に、 透明なアク リ ル樹脂か ら な る保護膜 1 7 を形成 する こ と に よ り 、 図 5 1 に示す液晶表示素子が得 ら れる。
以上のよ う に、 実施の形態 3 — 1 と 同様に、 基板 1 と封止板 1 1 、 および各封止板 1 1 〜 1 3 の間隙を、 支持部材 1 8 〜 2 0 に よ り 均 一に保ち、液晶表示素子の表示色のバラ ンス を一定に保つ と と も に、 実施の形態 2 と 同様に、 実質的な開口率を増大させて コ ン ト ラ ス ト 比を一層高 く する こ とがで き る。
なお、 上記の よ う に、 ネガ型 レ ジス ト の支持部材 1 8〜 2 0 と、 高分子の支持部材 3 1 ~ 3 3 と を交互に配置 して形成する と、 基板 1 と封止板 1 1 等 と の間隔を一定に保つ と と も に、 高分子前駆体を 効率的に凝縮させる こ とが容易になる点で好ま しいが、 数の比お よ び配置は、 これに限定される も のではない。
(実施の形態 3 — 4 )
本発明の実施の形態 3 — 4 に係る液晶表示素子について、 図 5 8 ない し図 6 4 に基づいて説明する。 図 5 8は液晶表示素子の 1 画素 あた り の構成を示す部分平面図であ り 、 図 5 9 は図 5 8 の C一 C矢 視断面図であ り 、 図 6 0 〜図 6 4は液晶表示素子の製造工程を示す 説明図である。 なお、 本実施の形態 3 — 4 において、 前記実施の形態 3 — 1 〜実 施の形態 3 - 3 と 同様の構成要素については、 同一の番号を付 して 説明を省略する。
本実施の形態 3 — 4の液晶表示素子は、 主 と して、 支持部材 6 1 〜 6 3 が、 ネガ型 レ ジス ト に代えて、 ポジ型 レ ジス ト が重合硬化 し て形成されている点が、 上記実施の形態 1 ~ 3 と異な る。 このため、 基板 1 上には、 支持部材 6 1 …が形成される位置に、 遮光膜 3 5 が 設け られている。 ま た、 T F T素子 2〜 4 に代えて、 ド レ イ ン電極 8 2 d…が透明導電膜に よ っ て形成された T F T素子 8 2 〜 8 4 が 設け られている。
以下、 液晶表示素子の構造を図 5 8および図 5 9 に基づいて説明 する。
第 1 画素電極 3 6、 および T F T素子 8 2 ~ 8 4 の ド レ イ ン電極 8 2 d〜 8 4 dは、透明導電膜である I T Oに よ り 形成されている。 なお、 T F T素子 8 2 〜 8 4 における他のゲー ト 電極 8 2 b等につ いては、 前記 T F T素子 2等 と 同 じであ る。 ま た、 第 1 画素電極 3 6 、 およびその周辺における、 実施の形態 1 の第 1 画素電極 9等の 開口部 9 a , 5 a に対応する位置、 ぉょび丁 ? 丁素子 8 3 , 8 4上 と その近傍には、 遮光膜 3 5 が設け られている。 こ の遮光膜 3 5 に おける、 T F T素子 8 3 , 8 4の ド レ イ ン電極 8 3 d , 8 4 dの部 分には、 開口部 3 5 bが形成されている。 (図 5 8 においては、 遮光 膜 3 5 が形成されている領域を点描で示す。)
上記遮光膜 3 5 と しては、 力一ボン粒子を含む黒色の レ ジス ト 、 すなわち、 実施の形態 1 のブラ ッ ク マ ト リ ク ス 5 と 同 じも のが用い られている。 なお、 遮光膜 3 5 と しては、 例えば、 アル ミ ニウ ムな どの金属薄膜を成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一お よびエ ッ チ ングに よ り 形成 した も のな どを用いて も よ い。
上記遮光膜 3 5上には、 ポジ型 レ ジス ト が硬化 して成る支持部材 6 1 ~ 6 3および立体配線用パ ッ ド 7 1 〜 7 3 が設け られている 。 立体配線用ノ ッ ド 7 1 には、 丁 丁素子 8.3 , 8 4の ド レ イ ン電極 8 3 d , 8 4 dの上方位置に、 立体配線用の開口部 7 1 aが形成さ れている。 立体配線用パ ッ ド 7 2 には、 T F T素子 8 4の ド レイ ン 電極 8 4 dの上方位置だけに開口部 7 2 aが形成されている。
第 3表示層 8 の封止板 1 3 の上面には、 実施の形態 1 〜 3 のよ う な透明導電膜から成る共通電極 1 6 に代えて、 反射膜か ら成る共通 電極 3 9 が設け られてい る。 ま た、 共通電極 3 9 の上面には、 実施 の形態 1 〜 3 と 同様の保護膜 1 7 が形成されている。 ただ し、 こ の 保護膜 1 7 は必ず しも透明な も のでな く て も よい。
こ のよ う に構成された液晶表示素子では、 基板 1 側か ら入射 した 光 (外光) が、 基板 1 , 第 1 , 第 2 , 第 3表示層 6 , 7 , 8 の順に 通過 した後、 共通電極 3 9 で反射さ れ、 次に第 3 , 2 , 第 1 表示層 8 , 7 , 6、 基板 1 の顺に通過する こ と に よ り 、 表示が行われる 。 すなわち、 基板 1 側か ら、 表示画面を見る よう にな つ ている。
次に、 上記液晶表示素子の製造方法を図 6 0 〜図 6 3 に基づいて 説明する。
( 1 ) まず、 図 6 0 ( a ) に示すよ う に、 基板 1 上に、 T F T素 子 8 2〜 8 4の ド レイ ン電極 8 2 d〜 8 4 d以外の部分を形成 した 後、 I T Oの透明導電膜をスパ ッ 夕成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一 およびエ ッチ ングに よ り パタ ーニ ン グ して、 第 1 画素電極 3 6、 お よび T F T素子 8 3 , 8 4の ド レ イ ン電極 8 3 d , 8 4 d を形成す る。 上記第 1 画素電極 3 6 は、 実施の形態 3 — 1 に比較 して、 上記 の よ う に透明導電膜か ら成る点、 および開口部を有 しない点で異な り 、 T F T素子 8 2 の ド レ イ ン電極 8 2 dを兼ねる点は同 じである。
( 2 ) 次に、 遮光膜 3 5 を形成する。 すなわち、 基板 1 上に、 力 —ボン粒子を含む黒色の レ ジス ト を 0 . 5 Ai mの厚さ に塗布 し、 後 の工程で支持部材 6 1 〜 6 3 および立体配線用パ ッ ド 7 1 〜 7 3 を 設ける所定の箇所だけに レ ジス ト が残る よ う にマス ク露光および現 像を行い、 図 6 0 ( b ) に示すよ う に、 遮光膜 3 5 を形成する。 次に、 以下の ( 3 ) 〜 ( 5 ) の工程に よ り 、 支持部材 6 1 および 立体配線用パ ッ ド 7 1 を形成する 。
( 3 ) 上記の よ う に第 1 画素電極 3 6お よび遮光膜 3 5 が形成さ れた基板 1 上に、 図 6 1 ( c ) に示すよ う に、 支持部材 6 1 および 立体配線用パ ッ ド 7 1 を形成す る ためのポジ型 レ ジス ト 6 1 ' をス ピ ンコー ト に よ り 塗布 (回転数 6 0 0 r p mで、 3 0秒間) した後、 プ リ べ一ク (ホ ッ ト プレー ト 上で、 8 0 で、 3分間) する。
( 4 ) 図 6 1 ( d ) に示すよ う に、 基板 1 側か ら 1 0 0 m J / c m 2 の紫外線 ( U V ) を照射する 。 すなわち、 遮光膜 3 5 をマス ク と して、遮光膜 3 5 が形成さ れていない部分のポジ型 レ ジス ト 6 1 ' だけが露光される。
( 5 ) ポジ型 レ ジス ト 6 1 , を現像液で現像 した後、 焼成 ( 1 2 0 °Cで、 1 時間) する こ と に よ り 、 図 6 2 ( e ) に示すよ う に、 遮 光膜 3 5 上に、 支持部材 6 1 、 および立体配線用パ ッ ド 7 1 が形成 さ れる。 こ こで、 前記のよ う に T F T素子 8 3 , 8 4の ド レ イ ン電 極 8 3 d , 8 4 dは透明導電膜か ら形成されている ため、 立体配線 用ノ ヅ ド 7 1 における ド レイ ン電極 8 3 d , 8 4 dの上方位置には 開口部 7 1 aが形成される。 なお、 上記立体配線用パ ッ ド 7 1 は、 実施の形態 2 の立体配線用パ ッ ド 2 8 と 同様の形状を有 している が、 上記の よ う に、 背面露光に よ って支持部材 6 1 と 同一の工程で形成 される。
以下、 実施の形態 3 — 1 と 同様に して、 第 1 表示層 6 を形成する。 すなわち、
( 6 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 6 ) と 同様に、 図 6 2 ( f ) に示す よ う に 転写基材 2 7 の表面に、 離型層 2 6 と封止板 1 1 と を形成 する。
( 7 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 7 ) と 同様に、 図 6 3 ( g ) に示す よ 9 に 上記転写基材 2 7 と前記基板 1 と を、 貼 り 合わせる。
( 8 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 8 ) と 同様に、 図 6 3 ( h ) に示す よよ うう にに、 ゲス ト ホス ト 液晶 と高分子前駆体の混合溶液 2 1 ' を基板 1 と封止板 1 1 と の間のギャ ッ プに注入 し、 転写基材 2 7側か ら 、 5 0 0 m J / c m2 の紫外線 ( U V ) を照射 して、 高分子分散型液 晶の液晶層 2 1 を形成する。
( 9 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 9 ) と 同様に、 基板 1 を温水中に浸 漬 して、 封止板 1 1 を転写基材 2 7 か ら離型させた後、 封止板 1 1 をネ ガ型 レ ジス ト の現像液に よ り 現像 して、 図 6 4 ( i ) に示す よ う に、 開口部 1 1 a を形成する。
( 1 0 ) 実施の形態 3 — 1 の ( 1 1 ) と 同様に、 図 6 4 ( j ) に 示すよ う に、 封止板 1 1 上に、 I T Oの透明導電膜をスパ ッ 夕成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 一およびエ ッチ ングに よ り 画素の形状にパ タ ーニ ング して、 第 2 画素電極 1 4 を形成する。
( 1 1 ) 上記 ( 3 ) 〜 ( 1 0 ) と 同様の工程を 2 回繰 り 返 して、 第 2 画素電極 1 4、 立体配線用パ ッ ド 7 2、 支持部材 6 2 、 液晶層 2 2 、 および封止板 1 2 を有する第 2表示層 7 と、 第 3 画素電極 1 5 、 立体配線用パ ッ ド 7 3 、 支持部材 6 3、 液晶層 2 3 、 および封 止板 1 3 を有する第 3表示層 8 と を形成する。 ただ し、 第 3 表示層 8 の封止板 1 3 上には、 アル ミ ニ ウ ムを蒸着に よ って 2 0 0 0 オ ン グス ト ロ ーム の厚さ に成膜する こ と に よ り 、 反射膜を兼ねる共通電 極 3 9 を形成する。 ま た、 共通電極 3 9 に、 液晶表示素子を外圧等 か ら保護ための保護膜 1 7 を形成 して、 図 5 8 および図 5 9 に示す 液晶表示素子が得 られる。
上記のよ う に、 ポジ型 レ ジス ト を用い、 遮光膜 3 5 で遮光 した背 面露光によって各第 1 表示層 6 〜 8 の支持部材 6 1 〜 6 3 を形成す る こ と に よ り 、 実施の形態 1 の液晶表示素子 と 同様に、 第 1 表示層 6 等の破壊を引 き起こ すよ う な支持部材 6 1 〜 6 3 の位置ずれを生 じる こ とがないので、 マス ク の位置合わせをする こ とな く 、 容易に 支持部材 6 1 …を小さ く する こ と がで き、 開口率を大き く して コ ン ト ラ ス ト 比を高 く する こ とがで き る。
なお、 上記の例では、 反射型の液晶表示素子を構成する例を示 し たが、 共通電極 3 9 を透明導電膜に よ って形成する こ と に よ り 、 透 過型の液晶表示素子を構成する こ と もで き る 。
ま た、 上記の例では、 高分子分散型の液晶層 2 1 〜 2 3 を形成 し た例を示 したが、 実施の形態 3 — 1 で説明 したの と 同様に、 高分子 ネ ッ ト ワーク を含ま ない液晶を用いる よ う に して も よい。
ま た、 上記のよ う に、 封止板 1 1 …を転写基材 2 7 上に形成 して か ら転写する方法に代えて、 支持部材 1 8 …を形成 した後に、 紫外 線の照射や加熱に よ り 気化性を有する材料、 例えばポ リ フ 夕ルアル デヒ ド( P P A )にォニ ゥ ム塩であ る ト リ フ エニルスルホニゥ ム へ キサフルォ ロ ア ンチモ ン ( P h 3 S + - S b F 6 ) を 1 重量%加えて シ ク ロへキサノ ンに溶解させたポジ レ ジス ト な どを支持部材 1 8 ··- と 同 じ高さ に塗布 し、 その上に封止板 1 1 を形成する よ う に して も よい。 すなわち、 上記の よ う な材料を塗布 した上には、 フ ィ ルム状 の薄い封止板 1 1 …で も容易に形成する こ とがで き る と と も に、 紫 外線の照射等に よ り 気化性を有する よ う にな る ので、 封止板 1 1 ··· が形成された後に、 気化させて除去する こ と に よ り 、 容易に基板 1 と封止板 1 1 等の間にギャ ッ プを形成する こ とがで き る。
[第 4の形態 ]
(実施の形態 4 一 1 )
本発明の実施の形態 4 一 1 について、 図 6 5 ない し図 7 4 に基づ いて.説明すれば以下の通 り である。 但 し、 説明に不要な部分は省略 し、 又、 説明を容易にする為に拡大或いは縮小等 して図示 した部分 がある。 以上の こ と は以下の図面に対 して も 同様である。
図 6 5は本実施の形態 4 一 1 に係る液晶表示素子の概略を示す断 面図である。
上記液晶表示素子は、 図 6 5 に示すよ う に、 ア レ イ 基板 3 0 1 と、 表示部 3 0 3 と、 該ア レ イ 基板 3 0 1 と表示部 3 0 3 と を電気的に 接続する異方性導電接着材 (接続手段、 第 1 〜第 3接続手段) 3 0 2 a〜 3 0 2 c とが設け られて構成されている。
上記ア レイ 基板 1 は、 図 6 5 に示すよ う に、 ガラ ス基板 3 1 1 上 に、 非線形素子 と しての T F T (Thin Film Transistor: 薄膜 ト ラ ン ジス夕、 第 1 〜第 3非線形素子) 3 1 2 〜 3 1 4 と、 駆動電極 (第 1 〜第 3駆動電極) 3 1 5 〜 3 1 7 とが設け られて構成されている。 上記 T F T 3 1 2 - 3 1 4は、 図 6 6 に示すよ う に、 該 T F T 3 1 2 〜 3 1 4の ド レ イ ン側端子にそれそれ接続された該駆動電極 3 1 5 〜 3 1 7 に、 それそれ電気的に接続されている。 上記 T F T 3 1 2 〜 3 1 4の X方向における ピ ッチ Qは、 画素 ピ ッ チ P = 3 0 0 mに対 して、 1 0 0 m程度である 。 又、 Y方向における ピ ッ チ Rは、 3 0 0 〃 m程度である。 上記駆動電極 3 1 5 〜 3 1 7 は、 最 も 広 い 部分の幅 S が 8 0 〃 m 、 長 さ T が 2 5 O m で、 . I T O ( I nd i um T i n Ox i de : 酸化イ ン ジ ウ ム錫) 電極か ら な る。 更に、 上 記駆動電極 3 1 5 〜 3 1 7 は、 1 画素に於いて、 カ ラ 一フ ィ ルタ 一 における R G B画素のス ト ラ イ プ配列 と 同様の、 ス ト ライ プ状に配 置されている。
上記表示部 3 0 3 は、 図 6 7 に示すよ う に、 基板 3 2 1 と高分子 樹脂層 3 2 2 との間に、 それそれ異な る色のゲス ト ホス ト液晶が充 填された 3 つの液晶層を有する第 1 〜第 3 表示層 3 2 3 - 3 2 5 が 設け られて構成されている。
上記基板 3 2 1 は、 例えばガラ スか ら な り 、 該基板 3 2 1 上には 共通電極 3 2 9 が設け られている。 又、 上記基板 3 2 1 はガラス に 限定される ものではな く 、 プラ スチ ッ ク等の高分子樹脂であって も よい。 上記共通電極 3 2 9 は I T O電極か ら な り 、 表示領域の周辺 部に、 カーボン粉を含有 した樹脂か ら な る導電べ一ス ト (図示 しな い) を付けて、 ア レ イ 基板 3 0 1 のグラ ウ ン ド と接続されている。 上記第 1 表示層 3 2 3 は、 第 1 液晶層 3 2 6 、 第 1 画素電極 3 3 0 、 第 1 封止板 3 3 3 及びスぺ一サ (第 1 支持部材) 3 4 l a …が 設け られて構成されている。 よ り 詳 し く は、 共通電極 3 2 9 上に所 定の間隔でスぺ一サ 3 4 1 a …が配置され、 該スぺ一サ 3 4 1 a - 上には第 1 封止板 3 3 3 が設け られている。 更に、 該第 1 封止板 3 3 3 上には所定の形状にパタ ーニ ン グされた第 1 画素電極 3 3 0 が 形成されている。
又、 図 6 7 に示すよ う に、 上記第 1 表示層 3 2 3 上には、 該第 1 表示層 3 2 3 と略同一構造の第 2 表示層 3 2 4 及び第 3 表示層 3 2 5 が設け られている。 即ち、 上記第 2 表示層 3 2 4 には、 第 2 液晶 層 3 2 7 、 第 2 画素電極 3 3 1 、 第 2 封止板 3 3 4 及びスぺ一サ(第 2 支持部材) 3 4 1 b…が設け られて構成さ れている一方、 上記第 3表示層 3 2 5 には、 第 3液晶層 3 2 8、 第 3 画素電極 3 3 2、 第 3封止板 3 3 5及びスぺ一サ (第 3 支持部材) 3 4 1 c …が設け ら れて構成されている。
こ こ で、 上記第 1 〜第 3表示層 3 2 3〜 3 2 5 には、 立体配線用 ノ ッ ド 3 4 2 · 3 4 2 , が設け られている (図 6 8参照)。 上記立体 配線用パ ヅ ド 3 4 2 · 3 4 2 , には、 それそれ開口部 3 4 2 a . 3 4 2, aが設け られている。 更に、 第 2封止板 3 3 4及び第 3 封止 板 3 3 5 にはコ ンタ ク ト ホール 3 4 3 …が設け ら れ、 かつ高分子樹 脂層 3 2 2 にはコ ンタ ク ト ホール 3 4 4…が設け られている。 こ れ に よ り 、 例えば第 1 画素電極 3 3 0 は、 立体配線用パ ッ ド 3 4 2 に おける開口部 3 4 2 a及びコ ンタ ク ト ホール 3 4 3 . 3 4 4 に設け られた中継電極 3 5 1 を介 して、 接続端子 3 5 4 に電気的に接続さ れている。 一方、 第 2 画素電極 3 3 1 は、 立体配線用パ ヅ ド 3 4 2, における開口部 3 4 2, a及びコ ンタ ク ト ホール 3 4 3 · 3 4 4 に 設け られた中継電極 3 5 1 を介 して、 接続端子 3 5 5 に電気的に接 続されている。 更に、 第 3 画素電極 3 3 2 は.、 コ ンタ ク ト ホール 3 4 4 を介 して、 接続端子 3 5 6 に電気的に接続されている。
上記第 1 〜第 3液晶層 3 2 6 - 3 2 8 には、 ゲス ト ホス ト液晶が 充填されている。 よ り 詳 し く は、 上記ゲス ト ホス ト 液晶 と しては、 例えばそれそれゲス ト と してのシア ン、 マゼ ン夕 又はイ エロ 一 3原 色の二色性色素 と、 ね じれピ ッチが 7 / mにな る よ う なカイ ラル剤 と を、 ホス ト と してのポジ型ネマチ ッ ク液晶に溶か した混合物に添 加 したカイ ラ ルネマチ ッ ク液晶が用い られる。
上記第 1 · 第 2 画素電極 3 3 0 . 3 3 1 は、 図 6 9 に示すよ う に、 透明な I T O膜か ら成る。 又、 上記第 1 画素電極 3 3 0 は、 中維電 7 極 3 5 1 及び接続端子 3 5 4 を介 して T F T 3 1 4 に接続さ れ、 第 1 液晶層 3 2 6及び第 2液晶層 3 2 7 に兼用 される よ う になってい る。 即ち、 第 1 液晶層 3 2 6 に対 して画素電極と して用い られる と 共に、 第 2液晶層 3 2 7 に対 しては対向電極 と して用い られる よ う になっている。 同様に、 上記第 2 画素電極 3 3 1 も、 第 2液晶層 3
2 7 に対 して画素電極と して用い られる と と も に、 第 3液晶層 3 2 8 に対 しては対向電極と して用い られる よ う にな つている。 又、 第 3画素電極 3 3 2 は、 膜厚 5 0 O n mでアル ミ ニ ウ ムか ら な り 、 反 射膜と しての機能も有 している。
上記第 1 〜第 3 封止板 3 3 3 ~ 3 3 5 は、 フ ィ ルム状の高分子化 合物か らな る。 又、 本実施の形態に於いては、 該第 1 〜第 3 封止板
3 3 3〜 3 3 5 の膜厚は 1 . 0 / mに設定さ れている。
上記スぺ一サ 3 4 1 a ~ 3 4 1 cは、 横断面形状が一辺約 1 0 mの正方形か ら な る四角柱状で、 高さは 4 z mである。 又、 上記ス ぺ一サ 3 4 1 a ~ 3 4 1 c は、 各第 1 〜第 3表示層 3 2 3 〜 3 2 5 において 5 0 mの ピ ッ チで規則的に配置されている。 即ち、 こ の よ う な形状及び配置に よ り 、 第 1 〜第 3封止板 3 3 3 〜 3 3 5 の垂 れ下が り に よ る各第 1 〜第 3液晶層 3 2 6 〜 3 2 8の厚さむ ら が防 止される と共に、 9 5 %程度の実効開口率が確保される よ う にな つ ている。 更に、 機械的強度に も優れた構造 と する こ とがで き る。 尚、 上記スぺ一サ 3 4 1 a〜 3 4 1 c の面積密度 (大き さ、 および配置 ピ ッチ) は、 上記の も のに限 ら ず、 各第 1 〜第 3封止板 3 3 5 の材 質及び膜厚に応 じて、 各第 1 〜第 3液晶層 3 2 6 〜 3 2 8の積層及 び実効開口率の確保が可能な よ う に設定すればよい。
上記立体配線用パ ッ ド 3 4 2 · 3 4 2 , には、 横断面形状が一辺 約 3 0 〃 mの正方形か ら な る 四角柱状で、 高さ は 4 / mであ る。 又、 該立体配線用パ ッ ド 3 4 2 · 3 4 2 ' には、 立体配線用の開口部 3 4 2 a - 3 4 2 , a (直径 : 1 0 z m ) が設け られている。
上記接続端子 3 5 4〜 3 5 6 は、 前述の図 6 6 に示すよ う に、 幅 U = 5 0 〃 m、 長さ V = 1 5 0 〃 mの矩形状のアル ミ ニ ウ ムか ら な り 、 各接続端子間のピ ッチは 1 0 0 / mである。
上記異方性導電接着材 2は、 図 7 0 に示すよ う に、 金メ ッ キ 3 7 3 に よ り 被覆 した直径 5 〃 mの ビーズ 7 1 (アク リ ル樹脂製) に、 エポキシ樹脂 3 7 2 をコー ト した接着ビーズであ る。 上記異方性導 電接着材 3 0 2 は、 上記ア レ イ 基板 3 0 1 上に、 少な く と も ア レ イ 基板 3 0 1 と表示部 3 0 3 と を電気的に接続で き る程度の分布密度 となる よ う に散布されている。 よ り 詳 し く は、 異方性導電接着材 3 0 2 a ~ 3 0 2 cは、 ビーズ 3 7 1 を介 して駆動電極 3 1 5 〜 3 1 7 と接続端子 3 5 4〜 3 5 6 とがそれそれ導通状態と な る よ う に押 圧されている。 これに よ り 、 図 7 0 ( b ) に示すよ う に、 エポキシ 樹脂 7 2 は、 その形状が扁平状 と な る よ う に変形 している。 こ の結 果、 隣接する異方性導電接着材 3 0 2 との短絡を防止する こ とがで き る。
次に、 本実施の形態 1 に係る液晶表示素子の製造方法について説 明する。
先ず、 図 7 1 ( a ) に示すよ う に、 基板 3 2 1 上に、 酸化イ ン ジ ゥ ム錫か ら なる透明な共通電極 3 2 9 を形成する。 次いで、 スぺ一 サ 3 4 l a及び立体配線用ノ ソ ド 3 4 2 · 3 4 2 ' に対応する部分 に、 ク ロ ムか ら成る遮光膜 3 6 1 を形成 した後、 ポジ型 レ ジス ト (商 品名 : O F P R 8 0 0、 東京応化製) を、 例えばス ピナ一等に よ り 4 . 0 mの厚さ に塗布する。 更に、 基板 3 2 1 側か ら露光 して現 像する こ と に よ り 、 図 7 1 ( b ) に示すよ う に、 スぺ一サ 3 4 l a …及び立体配線用パ ッ ド 3 4 2 · 3 4 2 , を形成する。
次に、 スぺ一サ 3 4 1 a …及び立体配線用パ ッ ド 3 4 2 · 3 4 2 ' 上に、 厚さ 0 . の ウ レ タ ン樹脂か ら な る接着層を塗布 した、 厚さ 1 . 0 〃 mのフ ィ ルム状のネガ型レ ジス ト を ラ ミ ネー ト する 。 これに よ り 、 上記ネガ型 レ ジス ト をスぺ一サ 3 4 1 a …等に接着さ せ、 該ネガ型 レ ジス ト 側か ら紫外線を照射する。 これに よ り 、 上記 ネガ型 レ ジス ト を重合 して硬化させ、第 1 封止板 3 3 3 を形成する。 こ こ で、 スぺ一サ 3 4 l a のない表示領域の周辺部、 即ち非表示領 域は基板 3 2 1 と第 1 封止板 3 3 3 とが接着さ れている が、 該非表 示領域の一部にスぺ一サを設ける こ とで、 液晶の注入口が設け ら れ ている。
続いて、 スパ ッ 夕法に よ り 、 第 1 封止板 3 3 3 上に I T O膜を成 膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 及びエ ッチ ングに よ り 、 第 1 画素電極 3 3 0 を形成する。
次に、 ポジ型のカイ ラルネマチ ヅ ク液晶に シア ン色の二色性色素 を溶解させたゲス ト ホス ト液晶を、上記注入口 よ り 注入 して封口 し、 図 7 2 ( a ) に示すよ う に、 第 1 液晶層 3 2 .6 を形成する。
更に、 第 2 液晶層 3 2 7 を第 1 液晶層 3 2 6 と 同様の方法で形成 する。 即ち、 先ず第 1 画素電極 3 3 0 上にポジ型 レ ジス ト を塗布 し、 基板 3 2 1 側か ら露光 し、 第 1 液晶層 3 2 6 と 同 じ位置にスぺ一サ — 3 4 1 b …及び立体配線用ノ ヅ ド 3 4 2 · 3 4 2 , を 自 己整合的 に形成する。
続いて、 上記ス ぺーサ 3 4 1 b …及び立体配線用パ ッ ド 3 4 2 · 3 4 2 ' 上に、 接着層を塗布 した フ ィ ルム状のネガ型 レ ジス ト を ラ ミ ネ一 ト する。 更に、 図 7 2 ( b ) に示すよ う に、 通常のマス ク 露 光に よ り 、 立体配線用パ ッ ド 3 4 2 の中央部に直径 1 0 ミ ク ロ ンの 開口部 3 4 2 aの位置を遮光 して紫外線を照射 し、 現像に よ って、 フ ィ ルム レ ジス ト の膜に開口部 3 4 2 aを開口 し、 それ以外の部分 を硬化させて第 2封止板 3 3 4 を形成する。 こ こで、 スぺ一サ 3 4 1 b のない表示領域の周辺部では、 基板 3 2 1 と第 2封止板 3 3 4 とが接着されてい るが、 該非表示領域の一部にスぺ一サを設ける こ と に よ り 、 液晶の注入口が設け ら れている。
続いて、 スパ ヅ 夕法に よ り 、 第 2封止板 3 3 4上に I T O膜を成 膜 し、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 及びエ ッ チ ングに よ り 、 第 2画素電極 3 3 1 及び中継電極 3 5 1 を形成する。 更に、 ポジ型のカイ ラ ルネマ チ ッ ク液晶にマゼ ン夕色の二色性色素を溶解させたゲス ト ホス ト 液 晶を上記注入口 よ り 注入 し、 図 7 3 ( a ) に示すよ う に、 第 2液晶 層 3 2 7 を形成する。
更に、 第 3液晶層 3 2 8 を第 2液晶層 3 2 7 と 同様の方法で形成 する。 即ち、 先ず第 2 画素電極 3 3 1 上に、 スぺ一サ一 3 4 1 c - 及び立体配線用パ ッ ド 3 4 2 · 3 4 2 ' を 自 己整合的に形成する 。 更に、 該スぺ一サ 3 4 1 c …及び立体配線用ノ ソ ド 3 4 2 * 3 4 2 ' 上に、 接着層を塗布 した フ ィ ルム状のネガ型 レ ジス ト を ラ ミ ネー ト する。
更に、 通常のマス ク露光に よ り 、 立体配線用パ ッ ド 3 4 2 · 3 4 2 ' に於ける開口部 3 4 2 a * 3 4 2 ' aの位置を遮光 して紫外線 を照射 し、 ネガ型 レ ジス ト に開口部 3 4 2 a · 3 4 2 , aを開口 し、 それ以外の部分を硬化させて第 3封止板 3 3 5 を形成する。こ こ で、 スぺ一サ 3 4 1 のない表示領域の周辺部では、 基板 3 2 1 と第 3 封 止板 3 3 5 とが接着されて いる が、 該非表示領域の一部にスぺ一サ を設ける こ と に よ り 、 液晶の注入口が設け られている。
続いて、 スパ ッ タ法に よ り 、 第 3 封止板 3 3 5 上に、 膜厚が 5 0 O n mとなる よ う にアル ミ ニ ウム膜を成膜 し、 フ ォ 卜 リ ソ グラ フ ィ 及びエ ッチ ングに よ り 、 第 3 画素電極 3 3 2及び中継電極 3 5 1 を 形成する。 更に、 ポジ型のカイ ラルネマチ ッ ク液晶にイ エロ一色の 二色性色素を溶解させたゲス ト ホス ト 液晶を上記注入口 よ り 注入 し、 図 7 3 ( b ) に示すよ う に、 第 3液晶層 3 2 8 を形成する。
更に、 本実施の形態に於いては、 第 3封止板 3 3 5 上に、 膜厚が のネ ガ型 レ ジス ト (商品名 : F V R、 富士薬品製) を塗布す る。 続いて、 コ ンタ ク ト ホール 3 4 4 を形成する位置にマス ク を し て、 該ネガ型 レ ジス ト に光を照射 し硬化させる。 これに よ り 、 図 7 3 ( a ) に示すよ う に、 コ ンタ ク ト ホール 3 4 4 …を有する高分子 樹脂層 3 2 2 を形成する こ とがで き る。 又、 上記高分子樹脂層 3 2 2 は、 J I S試験に よ り 鉛筆硬度が 4 H程度の硬度を有する。 これ によ り 、 ア レ イ 基板 3 0 1 と表示部 3 0 3 と を、 異方性導電接着材 3 0 2 を介 して接着する際に、 該異方性導電接着材 3 0 2 が第 3 封 止板 3 3 5 にめ り 込む等 して凹凸が生 じる のを防 ぐ 。
続いて、 上記高分子樹脂層 3 2 2上に、 膜厚 5 0 0 n mのアル ミ 二ゥ ム膜をスパ ッ 夕法で成膜 し、 所定の形状 と な る よ う にパター ン ニ ングする。 こ れに よ り 、 図 7 4 ( b ) に示すよ う に、 接続端子 3 5 4〜 3 5 6 を形成する。
こ こで、表示部 3 の表示状態を検査する為の検査工程を実施する。 即ち、 検査機を用いて、 接続端子 3 5 4 - 3 5 6 に電圧を印加 し、 第 1 〜第 3液晶層 3 2 6 〜 3 2 8 を駆動させる。 こ れに よ り 、 第 1 〜第 3液晶層 3 2 6 〜 3 2 8は電圧 O F F時にはそれそれシア ン、 マゼ ン夕 又はイ エロ 一に呈色 した状態 とな る 一方、 電圧 O N時には 透明状態 とな って、 該第 1 〜第 3液晶層 3 2 6 〜 3 2 8 の動作状態 を検査する こ とがで き る。 こ こ で、 表示部 3 0 3 に点欠陥や線欠陥 等の不良が発見された場合、 該表示部 3 0 3 のみを廃棄する。 こ の よ う に、 ア レ イ 基板 3 0 1 と表示部 3 0 3 と を貼 り 合わせる前に検 査工程を行う ので、 表示部 3 0 3 に不良が発見されて も、 該表示部 3 0 3 と共にア レ イ 基板 3 0 1 等を廃棄する必要が無 く な り 、 その 結果コ ス ト の低減や歩留ま り の向上が可能とな る。
更に、 予め T F T 3 1 2 〜 3 1 4 、 及び該 T F T の ド レ イ ン端で ある駆動電極 3 1 5 〜 3 1 7 等が形成されたガラ ス基板 3 1 1 上に、 異方性導電接着材 3 0 2 …を散布する。 こ の際、 該異方性導電接着 材 3 0 2 は、 上記接続端子 3 5 4 〜 3 5 6 上に、 少な く と も 1 個以 上分布する よ う に、 散布量を適宜調節する のが望ま しい。
続いて、 接続端子 3 5 4 〜 3 5 6 と、 駆動電極 3 1 5 - 3 1 7 と を位置合わせ してか ら、 該ア レイ 基板 3 0 1 と表示部 3 0 3 と を貼 り 合わせる。 位置合わせは、 ア レイ 基板 3 0 1 と表示部 3 0 3 との 平面的相対位置が一定精度以内に収め られていればよ く 、 厳密な精 度が要求される も のではない。 又、 貼 り 合わせは、 0 . 2 気圧の荷 重がかかる よ う に プレ ス し、 かつ 1 2 0 °Cで加熱 しなが ら行う 。 こ のよ う に、 0 . 2 気圧の荷重を加え る こ と によ り 、 異方性導電接着 材 3 0 2 におけるエポキシ樹脂 3 7 2 を楕円形状に変形する。 こ の 結果、 金メ ッ キ 3 7 3 は、 例えば駆動電極 3 1 5 と接続端子 3 5 6 と に接 して導通状態にさせる。 それと共に、 上記 した よ う にェポキ シ樹脂 3 7 2 は楕円形状に変形する為、 膜厚方向 と直交する方向に 於いては絶縁機能を有する。
更に、 上記の よ う に 1 2 0 °Cで加熱する こ と に よ り 、 エポキシ樹 脂 3 7 2 を硬化させる こ とがで き る。 よ って、 駆動電極 3 1 5 〜 3 1 7 と接続端子 3 5 4 - 3 5 6 との導通状態がそれぞれ維持された 状態で、 ア レ イ 基板 3 0 1 と表示部 3 0 3 と を貼 り 合わせる こ と が で き る。
以上のよ う に して製造される本実施の形態 4 一 1 に係る反射型液 晶表示素子は、 ア レ イ 基板 3 0 1 側に画像信号等を入力 して駆動さ せた と こ ろ、 明る いカ ラ一画像が表示される こ とが確認された。 又、 上記液晶表示素子は、 ア レイ 基板 3 0 1 と、 第 1 〜第 3 液晶層 3 2 6 - 3 2 8 を有する表示部 とが独立 した素子であるので、 液晶層等 に表示欠陥が見出されて も T F T 3 1 2 〜 3 1 4 等が形成されたァ レイ 基板 3 0 1 まで も廃棄する必要がな く 、 よ って製造コ ス ト を低 減させる と共に、 歩留ま り を向上させる こ とがで き る。
尚、 本実施の形態 4 一 1 に於いては、 異方性導電接着材 2 と して、 金メ ッ キ したアク リ ル樹脂製の ビ一ズ 3 7 1 をエポキシ樹脂 3 7 2 で被膜 したも のを示 したが、 本発明はこれに限定される も のではな い。 即ち、 液晶表示素子の厚み方向に対 してのみ、 導電性を有する 接着材であればよい。 又、 該厚み方向に対 して異方性のない導電性 接着剤を用いて も、 該導電性接着材同士が導通する こ と に よ り 隣接 する画素と短絡する こ とがない よ う に、散布密度に充分留意すれば、 使用可能である。
又、 本実施の形態 4 — 1 に於いては、 非線形素子 と して T F T を 採用 した態様を示 したが、 その他に、 ダイ オー ド等の 2 端子素子を 用いて も よい。 又、 多層回路基板の よ う な、 樹脂基板に ド ラ イ バ一 I C を実装 した ものをア レ イ 基板の代わ り に用いて も よい。 上記の 場合でも、 製造コ ス ト が高い等付加価値の大きい ものであれば、 一 層コ ス ト の低減化を図る こ とがで き る。
更に、 本実施の形態に於いては、 第 3 画素電極 3 3 2 を反射膜 と して採用 したが、 本発明はこ の よ う な構造に限定される ものではな い。 例えば、 第 3 画素電極 3 3 2 を透明電極と し、 且つアル ミ ニ ゥ ム等か ら なる共通電極を反射膜と した構造であ って も よ く 、 又ガラ ス基板 3 1 1 或いは基板 3 2 1 の表面に形成された構造であって も よい。
更に、 本実施の形態に於いては、 第 1 〜第 3 封止板 3 3 3〜 3 3 5 の膜厚を 1 . 0 ;u mと したが、 該膜厚はこれに限定される もので はな く 、 0 . 5 〃 π!〜 1 0 z mの範囲内であればよい。
よ り 詳 し く は、 例えば第 1 封止板 3 3 3 の膜厚が薄いほど、 液晶 層 3 2 6 に印加される電圧の電圧値を小さ く で き る ので、 T F T 3 1 2〜 3 1 4の駆動電圧を低減させる こ とがで き る。 従って、 第 1 封止板 3 3 3 の膜厚は薄い方が望ま しい。 しか し、 第 1 封止板 3 3 3 が薄過ぎる と、 第 1 画素電極 3 3 0 を形成する際に変形 し、 皺や ク ラ ッ ク等が生 じる。 従って、 第 1 封止板 3 3 3 の厚みは、 0 . 5 〃 m以上である こ とが望ま しい。 一方、 第 1 封止板 3 3 3 の膜厚が 大きい と、 スぺ一サ 3 4 1 …の分布密度を低減させる こ とがで き る が、 第 1 液晶層 3 2 6 に印加される電圧が低下する と い う 問題が生 じ る。 よ って、 第 1 封止板 3 3 3 の厚みは 1 0 〃 m以下に規制する のが望ま しい。
(実施の形態 4 — 2 )
本発明の実施の形態 4 一 2 について、 図 7 5及び図 7 6 に基づい て説明すれば以下の通 り である。 尚、 前記実施の形態 4 一 1 の液晶 表示素子 と同様の構成要素については、 同一の符号を付 して詳細な 説明を省略する。
前記実施の形態 4 — 1 では、 3層の液晶層が順次積層された反射 型液晶表示素子について示 したが、本実施の形態 4 - 2 に於いては、 液晶層が単層の場合の液晶表示素子について説明する。
図 7 5 は実施の形態 4 一 2 に係る液晶表示素子の構成を示す断面 図である。
上記液晶表示素子は、 表示部 3 9 1 と駆動基板 3 9 2 と、 該表示 部 3 9 1 及び駆動電極 3 9 2 を接着する接着材 3 9 3 とが設け ら れ て構成されている。
上記駆動基板 3 9 2 は、 樹脂配線基板 3 8 7 における表示部 3 9 1 に臨む面に、 A 1等か ら な る画素電極 3 8 6 …が所定の ピ ッ チ と なる よ う に形成されている 一方、 外側には種々の L S I か ら構成さ れる周辺回路や ド ラ イ バ一回路 3 9 0等が実装された構成であ る 。 上記樹脂配線基板 3 8 7 は、 ガラ スエポキシ樹脂か ら な る 。 又、 上 記樹脂配線基板 3 8 7 内部には、 上記画素電極 3 8 6 … と ド ラ イ ノ、' —回路 3 9 0 と を電気的に接続する為のスル一ホール 3 8 8 が設け られてレ、る。
一方、 上記表示部 3 9 1 は、 プラ スチ ッ ク基板 3 8 1 上に、 表示 層 3 8 9 が設け られて構成されている。 又、 上記プラ スチ ッ ク フ ィ ルム基板 3 8 1 上には、 I T O膜か ら なる透明電極 3 8 3 が全面に 設け られている。 更に、 上記プラ スチ ッ ク基板 3 8 1 の外側には、 膜厚 1 0 0 / mのポ リ エチ レ ン ビニルアルコールか ら なる偏光板 3 8 2 が設け られている。
上記表示層 3 8 9 は、 スぺ一サ 3 9 5 —、 封止板 3 8 4及び液晶 層 3 8 5 が設け られて構成されている。 上記封止板 3 8 4は、 膜厚 l At mの P E T ( Polyethilene Te 1 ephthal ate ) フ ィ ルムか ら な る。 上記 P E T フ ィ ルムは延伸に よ って薄膜化されてお り 、 約 0 . 0 5 mの複屈折があ る。 上記液晶層 8 5 は、 ね じれピ ッチが 3 2 z m になる よ う にカイ ラ ル剤を添加 したカイ ラルネマチ ヅ ク液晶か ら な る。 これに よ り 、 封止板 3 8 4近傍の液晶分子は、 フ ィ ルム の延伸 方向に水平配向 し、 液晶層 3 8 5 では 4 5度捩 じれた ッイ ス ト ネ マ チ ッ ク配向 とな る。 尚、 上記液晶層 3 8 5 のギャ ッ プは 4 z mであ る。
上記接着材 3 9 3 は、 膜厚が l 〃 mの ウ レ タ ン樹脂か らなる。 こ こ で、 該接着材 3 9 3 と しては上記ウ レ タ ン樹脂に限定される も の ではな く 、 従来公知の種々の接着剤を採用する こ とがで き る。
次に、 本実施の形態に係る液晶表示素子の製造方法を説明する。 先ず、 ポ リ エチ レ ン ビニルアルコールか ら な る偏光板 3 8 2 を備 えたプラ スチ ッ ク フ ィ ルム基板 3 8 1 上の全面にわたって、 例えば スノ ッ タ法に よ り I T O膜か ら な る透明電極 3 8 3 を形成する。 次 いで、 前記実施の形態 4 一 1 と 同様に して、 スぺ一サ 3 9 5 …に対 応する部分に、 ク ロ ムか ら成る遮光膜 3 6 1 を形成 した後、 レ ジ ス ト膜を、 膜厚が 4 . 0 mと な る よ う に塗布する。 更に、 プラ ス チ ヅ ク フ ィ ルム基板 3 8 1 側か ら露光 して現像 し、 スぺ一サ 3 9 5 - を形成する。
次に、 P E Tか ら な る高分子樹脂材料を延伸に よ り 薄膜化 し、 膜 厚が 1 . O z mの P E T フ ィ ルム を予め製造 してお く 。 更に、 該 P E T フ ィ ルム上に、 厚さ 0 . 2 〃 mの ウ レ タ ン樹脂か らなる接着層 を塗布 し、 図 7 5 に示すロ ール 3 9 4 によ ってスぺ一サ 3 9 5 …上 に加熱プレス して ラ ミ ネー ト する。 こ れに よ り 、 上記 P E Tフ ィ ル ム をスぺーサ 3 9 5 …に接着させ、 封止板 3 8 4 を形成する。 こ こ で、 スぺ一サ 3 9 5 …が形成されていない表示領域の周辺部、 即ち 非表示領域はプラ スチ ッ ク フ ィ ルム基板 3 8 1 と封止板 3 8 4 と が 接着されているが、 該非表示領域の一部にスぺ一サ 3 9 5 を設ける こ とで、 液晶の注入口 を設けてお く 。
続いて、 ね じれピ ッ チが 3 のカイ ラ ルネマチ ッ ク液晶を上 記注入口 よ り 注入 し、 液晶層 3 8 5 を形成する。 次に、 上記封止板 3 8 4 の、 液晶層 3 8 5 が形成されていない側 に、 ウ レ タ ン樹脂か ら なる接着材 3 5 2 を塗布する。
一方、 樹脂配線基板 3 8 7 上には、 例えばスパ ッ タ法に よ り A 1 膜を成膜 し、 所定の形状となる よ う にパタ ー ンニ ング して画素電極 3 8 6 …を形成する。 更に、 該樹脂配線基板 3 8 7 の外側には、 ド ラ イ ハ'一回路 3 9 0 を実装する。
更に、 表示部 3 9 1 と駆動基板 3 9 2 と を、 加熱 した ロールにて 熱プレ ス して接着材 3 9 3 に よ り 接着する 。 こ れに よ り 、 本実施の 形態 4 - 2 に係る反射型液晶表示素子を製造する こ とがで きる。
以上の よ う に、本実施の形態 4 一 2 に係る反射型液晶表示素子は、 前記実施の形態 1 と異な り 、 共通電極 3 8 3 と封止板 3 8 4 との間 に液晶層 3 8 5 が形成され、 かつ樹脂配線基板 3 8 7 上に画素電極 3 8 6 …が形成されてお り 、 該封止板 3 8 4 上に画素電極等を形成 する ものではない。 よ って、 上記反射型液晶表示素子は、 表示部 3 9 1 を駆動基板 3 9 2 における画素電極 3 8 6 …のパタ ーン形状に 則 して製造する必要がな く 、 従っ て、 用途に応 じて表示パター ン を 異な らせる場合で も、 樹脂配線基板 3 8 7 側の画素電極 3 8 6 …の 形成パターン を変更する だけで簡便に製造で き る。
即ち、 上記表示層は、 用途に応 じて種々 の異な る表示パターン を 有する様々なア レ イ 基板に も対応させる こ とがで き る。 更に、 上記 の よ う に、 表示層が他の表示パター ンに対応で き る こ とで、 コ ス ト の低減も 図れる。
しかも、 表示部 3 9 1 と駆動基板 3 9 2 と を接着する際に、 それ ら の平面的相対位置は任意で よ く 、従って位置合わせを不必要 と し、 容易に実装が可能であ る。 更に、 表示部 3 9 1 は、 ガラ スエポキ シ 樹脂か ら なる樹脂配線基板 3 8 7 に密着 して形成されているので、 撓みや曲げ等に も強い。 これに よ り 、 非常に薄膜のプラ スチ ッ ク フ イ ルム基板を用いる こ とが可能と なる。 よ って、 基板に プラ スチ ッ ク フ ィ ルム基板を用いた プラ スチ ッ ク液晶を、 樹脂配線基板 3 8 7 と一体化 した、 極めて薄型軽量の反射型液晶表示素子を実現する こ とがで きる。 尚、 樹脂配線基板 3 8 7 上には、 前述の よ う に、 画像 を表示する等の機能を実現する為に必要な種々の周辺回路が実装さ れている。 よ っ て、 該樹脂配線基板 8 7 に、 画素電極 3 8 6 …ゃ ド ラ イ ハ'一回路 3 9 0 を実装する こ と 自体は、 コ ス ト 高を招来する も のではない。
尚、 本実施の形態に於いては、 封止板 3 8 4 の膜厚を 1 . O z m と したが、 該膜厚は これに限定される ものではな く 、 0 . 5 〃 m ~ 1 0 z mの範囲内であればよい。 よ り 詳 し く は、 例えば封止板 3 8 4 の膜厚が薄いほど、 液晶層 3 8 5 に印加される電圧の電圧値は大 き く な るので、 駆動電圧を低減させる こ とがで き る。 従って、 封止 板 8 4 の膜厚は薄い方が望ま しい。 しか し、 封止板 8 4 が薄過ぎ る と、 画素電極 3 8 6 を形成する際に変形 し、 皺やク ラ ッ ク等が生 じ る。 従って、 封止板 3 8 4 の厚みは、 0 . 5 u m以上である こ と が 望ま しい。
一方、 封止板 3 8 4 の膜厚が大きい と、 スぺ一サ 3 9 5 …の分布 密度を低減させる こ とがで き る が、 液晶層 3 8 5 に印加される電圧 が低下する とい う 問題が生 じる。 こ こで、 封止板 3 8 4 の膜厚は、 液晶層 3 8 5 のギャ ッ プと 同程度以下であれば封止板 3 8 4 の上に 画素電極を設けな く と も比較的低電圧で液晶層 3 8 5 を駆動で き る ので、 1 0 〃 m以下が好ま しい。
(実施の形態 4 一 3 )
本発明の実施の形態 4 — 3 について、 図 7 7 及び図 7 8 に基づい て説明すれば以下の通 り である。 尚、 前記実施の形態 4 — 1 、 又は 実施の形態 4一 2 に係る液晶表示素子 と 同様の構成要素については、 同一の符号を付 して詳細な説明を省略する。
本実施の形態 4一 3 に係る液晶表示素子は、 画素ピ ッチが 3 3 0 〃 mで、 画素数 6 0 0 X 8 0 0 X ト リ オ ( x 3 ) を有する複数の液 晶パネルを配列 して、 大画面ディ ス プレ イ を構成する マルチ画面 L C Dである。 よ り 詳 し く は、 上記液晶表示素子は、 図 7 7 に示すよ う に、 表示部 5 0 1 と、 ア レ イ 基板 5 0 2 と、 該表示部 5 0 1 及び ア レイ 基板 5 0 2 を接着する接着材 4 0 7 と が設け られて構成され ている。
上記接着材 4 0 7 は、透明なァ ク リ ル系の熱硬化型接着材であ り 、 無溶剤である。 又、 上記表示部 5 0 1 は、 図 7 7 ( a ) に示すよ う に、 基板 4 1 0 と封止板 3 8 4 との間に、 液晶層 4 0 3 が設け られ て構成されている。 上記封止板 3 8 4は、 スぺ一サ 4 0 9 に よ り 支 持されている。 又、 上記基板 4 1 0 の外側には、 偏光板 4 0 5 が設 け られている。 更に、 上記基板 4 1 0 の内側面にはカ ラ一フ ィ ルタ —層 4 0 1 が形成され、 該カ ラ 一フ ィ ルタ 一層 4 0 1 上には共通電 極 2 9 が形成されてい る。 更に、 該共通電極 2 9 上には配向膜 4 0 2 が形成されている。 又、 上記封止板 3 8 4上には、 矩形状の画素 電極 4 0 4…が、 例えば 1 1 0 〃 mの間隔でマ ト リ ク ス状に 1 2 0 0 X I 6 0 0 X 3 個設け られている。
上記基板 4 1 0 は、 対角線寸法が 8 5 c mの矩形状のガラ スか ら な る。 上記液晶層 4 0 3 は、 ね じれピ ッ チ 5 0 〃 mのカイ ラ ルネ マ チ ッ ク液晶が 9 0度ヅイ ス ト した捻れネマチ ッ ク配向 した構成であ る 。 上記配向膜 4 0 2 はポ リ イ ミ ド樹脂か ら な る。
上記スぺ一サ 4 0 9 は、 横断面形状が一辺約 1 0 〃 mの正方形か ら なる四角柱状で、 高さは 5 . 0 mであ る。 又、 上記スぺーサ 4 0 9 は、 共通電極 3 0 9上に 5 0 / mの ピ ッ チで規則的に配置さ れ ている。 この よ う な形状及び配置にする こ と に よ り 、 封止板 3 8 4 の垂れ下が り に よ る液晶層 4 0 3 の厚さむ ら が防止される と共に、 9 5 %程度の実効開口率が確保される よ う にな っている。 尚、 上記 スぺーサ 4 0 9 の面積密度 (大き さ及び配置 ピ ッ チ) は、 上記に限 定される も のではな く 、 封止板 3 8 4の材質及び膜厚に応 じて、 液 晶層 4 0 3 の積層及び実効開口率の確保が可能な よ う に設定すれば よい。
上記カ ラ一フ ィ ルタ 一層 4 0 1 は、 R ' G ' Bの各サブピク セ ル が、 例えば 1 1 0 mの ピ ッチでス ト ラ イ プ状に配列 した構成であ る。
上記ア レイ 基板 5 0 2 は、 4枚のア レ イ 基板 5 0 2 a〜 5 0 2 dか ら構成されている。 例えば、 上記ア レイ 基板 5 0 2 aは、 ガラ ス基 板 3 1 1 a上に、 半導体層がアモル フ ァ ス シ リ コ ンか ら なる T F T 3 1 2 …が複数個設け られた構成である。 該 T F T 3 1 2 …は 3 3 0 〃 mの ピ ッチでマ ト リ ク ス状に設け ら れている。 又、 上記 T F T 3 1 2 の ド レ イ ン電極 (図示 しない) 側には、 アル ミ ニ ウムか ら な る アル ミ 端子 4 0 8 …が設け られている。 該アル ミ 端子 4 0.8 の膜 厚方向における高さは、 5 O O n mである。 上記ア レ イ 基板 5 0 2 aの直交する 2辺における周縁部には、 駆動回路 4 1 3 を形成する 為の実装部 4 1 1 が設け られている。 尚、 ア レ イ 基板 5 0 2 b ~ 5 0 1 d について も、 ア レ イ 基板 5 0 2 a と略同一の構造である 。 次に、 本実施の形態 4 一 3 に係る液晶表示素子の製造方法につい て説明する。
先ず、 予めカ ラ 一フ ィ ル夕一層 4 0 1 が設け られた基板 4 1 0 上 に、 スパ ッ タ法等に よ り 共通電極 3 2 9 を形成する。 更に、 該共通 電極 3 2 9 上にポ リ ィ ミ ド樹脂を塗布 し、 所定の方向にラ ビ ン グ処 理を施 して配向膜 4 0 2 を形成する。
続いて、 前記実施の形態 2 と 同様に して、 スぺ一サ 4 0 9 に対応 する部分に、 ク ロ ムか ら成る遮光膜を形成 した後、 ポジ型 レ ジス ト を、 例えばス ピナ一等に よ り 5 . 0 〃 mの厚さ に塗布する。 更に、 基板 4 1 0 側か ら露光 して現像する こ と に よ り 、 スぺ一サ 4 0 9 - を形成する。
次に、 厚さ 0 . の ウ レ タ ン樹脂か ら な る接着層を塗布 した 厚さ 1 . の P E T フ ィ ルム を ラ ミ ネー ト して封止板 3 8 4 を 形成する。 こ こ で、 上記 P E T フ ィ ルムは予め延伸に よ って薄膜化 されている。 延伸方向は上記配向膜を形成する際にラ ビ ング処理す る ラ ビ ング方向に対 して直交する よ う に、 上記延伸が行われる。 こ れに よ り 、 該封止板 3 8 4 近傍の液晶分子は延伸方向 と平行な方向 に配向 し、 且つ配向膜 4 0 2 近傍の液晶分子はラ ビ ング方向 と平行 な方向に配向 し、 9 0 度ッイ ス ト した捻れネマチ ッ ク配向 とする こ とがで き る。 尚、 スぺ一サ 4 0 9 のない表示領域の周辺部では、 基 板 4 1 0 と封止板 3 8 4 と が接着されている が、 該非表示領域の一 部にスぺ一サ 4 0 9 を設ける こ と に よ り 、 液晶の注入口が設け ら れ てい る。
続いて、 上記封止板 3 8 4 上に I T O膜を成膜 し、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 及びエ ッ チ ングに よ り 、 画素電極 4 0 4 …を形成する。 更に、 上記注入口 よ り カイ ラ ルネマテ ィ ッ ク液晶を注入 し封口 して液晶層 4 0 3 を形成する。
次に、 ガラ ス基板上に、 従来公知の方法に よ り T F T 3 1 2 … を 形成する。 更に、 該 T F T 3 1 2 …の ド レ イ ン電極側に、 アル ミ 二 ゥ ムか ら なる アル ミ 端子 4 0 8 …を形成する 。 更に、 直交する 2 辺 には駆動回路を実装する為の実装部 4 1 1 …が設け られる よ う に、 該ガラ ス基板をス ク ラ イ バにて割断 し、 ア レ イ 基板 5 0 2 a 〜 5 0 2 d を形成する。 こ こで、 割断する際の設定寸法に対する、 実際の 割断実寸法では約 3 の誤差を生 じ、 ア レ イ 基板 5 0 2 aがァ レ イ 基板 5 0 2 b よ り もやや中央寄 り にズ レていた。 続いて、 図 7 8 に示すよ う に、 上記ア レ イ 基板 5 0 2 a 〜 5 0 2 d を、 実装部 4 1 1 …が外側に向 く よ う に筐体 4 1 2 で固定する 。
更に、 表示部 5 0 1 における封止板 3 8 4 及び画素電極 4 0 4 上 に、 接着材 4 0 7 を形成する。 続いて、 表示部 4 0 2 と、 筐体 4 1 2 に固定されたア レ イ 基板 5 0 2 a 〜 5 0 2 d と を位置合わせ し、 所定の圧力でプレ ス した状態で加熱 して、 上記接着材 4 0 7 を硬化 させた。 こ こで、 上記位置合わせは、 ア レ イ 基板 5 0 2 a ~ 5 0 2 d と表示部 5 0 1 との平面的相対位置が一定精度以内に収め られて いれば よ く 、 厳密な精度要求を必要 とする も のではない。
次に、 基板 4 1 0 の外側に偏光板 4 0 5 を形成 し、 ア レイ 基板 3 1 1 a ~ 3 1 1 d の外側に偏光板 4 0 6 を形成 した。 最後に、 ガラ ス基板 3 1 1 の外側にパ ッ ク ラ イ ト を設ける。 こ れに よ り 、 本実施 の形態 4 一 3 に係る透過型の液晶表示素子を得る こ とがで きた。 以上の よ う に、本実施の形態 4 一 3 に係る透過型液晶表示素子は、 前記実施の形態 4 一 1 の効果に加えて、 更にア レ イ 基板 5 0 2 a 〜 5 0 2 d 同士の継き 目が表示画面上に現れず、 大画面の連続的な画 像の表示が可能となる とい う 効果を有する。
よ り 詳 し く は、 従来のマルチ画面 L C D に於いては、 複数の液晶 パネルが配置されて形成されて いた。 こ の液晶パネルには、 表示領 域の周縁部に駆動回路を設け る為の実装部が設け られている。 よ つ て、 この よ う な液晶パネルを複数並べる と、 各液晶パネルの表示領 域間に間隔が空き、 液晶パネル間の継ぎ 目で画素電極同士の ピ ッ チ が不均一 となる 。 この結果、 表示画面上で画像が途切れ途切れにな り 、 継き 目が視認さ れた。 こ の継き 目 を 目 立たない よ う にする為、 従来では、 画素ピ ッチを粗 く した り 、 或いは隣接するパネルを並べ る際に、 割断時の設定寸法に対する分断実寸法の精差を小さ く な る よ う に精密に配置する等の工夫がなされていた。 と こ ろが、 液晶パ ネルの割断が機械的に行われてい る為、 継ぎ 目 が全 く 感 じ られな く な る ほど精密に配置する こ とは困難である と い う 問題が不可避的に 存在する。
しか しなが ら、 本実施の形態 4一 3 に係る透過型液晶表示素子に 於いては、 画素電極 4 0 4 …は、 表示部 5 0 1 に所定の画素ピ ッ チ となる よ う に配置されてお り 、 ア レ イ 基板 5 0 2 a ~ 5 0 2 d には 設け られていない。 従って、 画素電極 4 0 4 …の ピ ッチが不均一 と な る こ とがな く 、 こ の結果表示画面に表示される 画像が不連続と な る こ と を防止で き る。 しかも、 ア レ イ 基板 5 0 2 a ~ 5 0 2 d を 同 一平面内に配置する際に精密に位置合わせを行 う 必要がない。更に、 上記の よ う に画素ピ ッチを粗 く する必要性も ないので、 高精細であ る。 以上に よ り 、 本実施の形態に於いては、 従来のマルチ画面 L C D の よ う に表示画面上に継き 目が現れず、 大画面の連続的な画像を 表示が可能な液晶表示素子を提供する こ とがで き る 。
発明の詳細な説明の項においてなされた具体的な実施態様は、 あ く まで も、 本発明の技術内容を明確にする も のであ って、 その よ う な具体例にのみ限定 して狭義に解釈されるべき も のではな く 、 本発 明の精神と次に記載する特許請求事項 との範囲内で、 種々 に変更 し て実施する こ とがで き る も のである。 産業上の利用可能性
以上に説明 した よ う に、 本発明の構成に よれば、 本発明の各課題 を十分に達成する こ とがで き る。
即ち、 樹脂フ ィ ルム と基板との間、 ま たは樹脂フ ィ ルム どう しの 間に液晶を封入する ための間隙を形成 し、 間隙に液晶を封入 して液 晶表示素子を形成する こ と に よ り 、 液晶層を積層する こ と によ る視 差に起因 した色ずれがな く 、 明る く 、 高コ ン ト ラ ス ト 比の液晶表示 素子を実現する こ とがで き る。 ま た、 製造工程を簡素化 し、 製造の 歩留ま り を高める こ とがで き る。
ま た、 樹脂フ ィ ルム を積層 して形成 した液晶表示素子において、 樹脂フ ィ ルム間の電極の接続を 1 回のコ ン夕 ク ト ホール形成工程で 実施する こ とがで き、 コ ンタ ク ト ホールでの導通を確実に行う こ と がで きる。 さ ら に、 樹脂フ ィ ルム上に透明電極である I T O な ど無 機材料を形成 した場合に、 樹脂フ ィ ルム に しわが寄る こ と を防ぎ、 平滑な表面を維持する こ と が可能と な り 、 表示デバイ ス と しての性 質を損な う こ とがない。
ま た感光性樹脂層を反射膜に形成された開口部を介 して露光 し硬 化させ、 支持部材を形成する こ と に よ り 、 支持部材を形成する際の マス クの位置合わせ工程を必要 とせず、 製造コ ス ト の低減を図る こ とができる と と も に、 支持部材の占める面積を小さ く してコ ン ト ラ ス ト 比を一層高 く する こ とが容易にで き る。
ま た、 液晶層を備えた表示層 と、 非線形素子を有する ア レ イ 基板 と を導電性を有する接続手段で接続する構成と する こ と よ り 、 例え ぱ液晶層等に表示欠陥が見出されて も、 非線形素子が形成されたァ レ イ 基板まで も廃棄する必要がな く 、 こ の結果製造コ ス ト を低減さ せる と共に、 歩留ま り を向上させた フ ルカ ラ ー表示の液晶表示素子 を提供する こ とがで き る。 更に、 画素電極 と駆動電極 との平面的相 対位置が、上記接続手段に よ り 接続で き る範囲内であればよいので、 位置合わせの精度要求を緩和する こ とがで き る と い う効果を奏する( ま た、 画素電極及び駆動回路を備えた駆動基板と、 液晶層及び共 通電極を備えた表示層 と を接着材にて接着する構成とする こ と に よ り 、 該表示層を駆動基板における駆動電極のパタ ー ン形状に則 して 製造する必要がない。 よ って、 上記表示層は、 用途に応 じて種々の 異な る表示パター ンを有する ア レ イ 基板に も対応させて用いる こ と がで き る。 更に、 表示層 と駆動基板 と を接着する際に、 それ ら の平 面的相対位置は任意で よ く 、 従って位置合わせを不必要 と し、 容易 に実装が可能である。 更に、 薄型軽量で、 橈み等の変形に も耐性を 有する液晶表示素子、 及びその製造方法を提供で き る と い う効果を 奏する。
更に、 一定間隔で複数の画素電極を備えた表示層 と、 非線形素子 を有する複数のア レイ 基板と を接着材にて接着する構成とする こ と に よ り 、 ア レ イ 基板同士の継き 目が表示画面上に視認されるのを防 ぐ。 よ って、 パネル間の継ぎ 目 が目立たないマルチ画面の液晶表示 素子及びその製造方法を提供で き る と い う効果を奏する。

Claims

請 求 の 範 囲
( 1 ) 上面に画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形 成されている基板と、
前記基板の上方に配置され、上面に共通電極が形成されている樹 脂フ ィ ルム と、
前記基板上に立設され、 樹脂フ ィ ルム を支持する多数の柱状支持 部材と、
前記多数の支持部材と樹脂フ ィ ルム間にそれぞれ介在 し、 樹脂フ イ ルム と支持部材と を接着する接着層 と、
前記基板 と前記樹脂フ ィ ルム との間に液晶が封入さ れて構成され る液晶層 と、
を有 し、
前記接着層は熱可塑性を有する材料か ら成 り 、 接着層に熱可塑性 を発現させて樹脂フ ィ ルム と支持部材との接着状態を得る よ う に し た こ と を特徴と する液晶表示素子。
( 2 ) 上面に画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形 成された透明な基板と、 こ の基板の上方に配置された複数の樹脂フ イ ルムであ って、 最上位置の樹脂フ ィ ルム の上面には共通電極が形 成され、 その他の樹脂フ ィ ルム の上面には画素電極が形成されてい る、 その よ う な複数の樹脂フ ィ ルム と、 基板と樹脂フ ィ ルム間並び に樹脂フ ィ ルム相互間にそれそれ多数の柱状支持部材が介在 して形 成された各間隙内に液晶が封入されて構成された複数の液晶層 と を 有 し、 前記基板の上面には前記各樹脂フ ィ ルム上の画素電極にそれ ぞれ対応 した駆動素子が備え ら れてお り 、 こ の樹脂フ ィ ルム上の画 素電極に関連 して設け られた立体配線に よ り 前記樹脂フ ィ ルム上の 画素電極 と駆動素子 とが電気的に接続された構造の液晶表示素子で あって、
前記各支持部材 と樹脂フ ィ ルム間には、 接着層が介在 してお り 、 前記接着層は熱可塑性を有する材料か ら成 り 、 接着層に熱可塑性 を発現させて樹脂フ ィ ルム と支持部材 との接着状態を得てお り 、 基板と樹脂フ ィ ルム間に存在する 支持部材と、 樹脂フ ィ ルム相互 間に存在する支持部材 とは、 基板に平行な面に関 してほぼ同一位置 に存在 している こ と を特徴と する液晶表示素子。
( 3 ) 前記樹脂フ ィ ルムは、
熱可塑性を有さ ない材料ま たは接着層よ り も熱可塑性を発現す る 温度が高い熱可塑性を有する材料であ り 、
前記支持部材は、
熱可塑性を有さ ない材料ま たは接着層よ り も熱可塑性を発現する 温度が高い熱可塑性を有する材料ま たは接着処理の前に硬化処理さ れる も のである こ と を特徴と する請求項 1 記載の液晶表示素子。
( 4 ) 前記樹脂フ ィ ルムは、
熱可塑性を有さ ない材料ま たは接着層よ り も熱可塑性を発現する 温度が高い熱可塑性を有する材料であ り 、
前記支持部材は、
熱可塑性を有さ ない材料ま たは接着層よ り も熱可塑性を発現する 温度が高い熱可塑性を有する材料ま たは接着処理の前に硬化処理さ れる ものである こ と を特徴 と する請求項 2 記載の液晶表示素子。
( 5 ) 前記液晶層 と前記樹脂フ ィ ルム とは各 3 組積層され、 3 つ の液晶層を構成する液晶はそれそれ異な る色の 2 色性色素を含むゲ ス ト ホス ト液晶である こ と を特徴とする請求項 2 記載の液晶表示素 チ。
( 6 ) 前記基板は透明基板であ り 、
前記支持部材および前記接着層は、 基板表面の支持部材形成箇所 に遮光膜を形成 しこ の遮光膜を フ ォ ト マス ク と して フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法に よ り 形成されたポジ形フ ォ ト レ ジス ト であ る こ と を特徴と する請求項 1 記載の液晶表示素子。
( 7 ) 前記基板は透明基板であ り 、
前記支持部材および前記接着層は、 基板表面の支持部材形成箇所 に遮光膜を形成 しこの遮光膜を フ ォ ト マス ク と して フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法に よ り 形成されたポジ形フ ォ ト レ ジス ト であ る こ と を特徴と する請求項 2 記載の液晶表示素子。
( 8 ) 前記基板は透明基板であ り 、
前記支持部材および前記接着層は、 基板表面の支持部材形成箇所 以外の部分に遮光膜を形成 しこ の遮光膜を フ ォ ト マス ク と して フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法に よ り 形成されたネ ガ形フ ォ ト レ ジス ト である こ と を特徴とする請求項 1 記載の液晶表示素子。
( 9 ) 前記基板は透明基板であ り 、
前記支持部材および前記接着層は、 基板表面の支持部材形成筒所 以外の部分に遮光膜を形成 し こ の遮光膜を フ ォ ト マス ク と して フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法に よ り 形成されたネガ形フ ォ ト レ ジス ト である こ と を特徴とする請求項 2記載の液晶表示素子。
( 1 0 ) 前記多数の支持部材の う ち画素領域内において存在する 支持部材相互の間隔が、 1 5 〃 π!〜 1 0 0 / mの範囲内にある こ と を特徴とする請求項 1 記載の液晶表示素子。
( 1 1 ) 前記多数の支持部材の う ち画素領域内において存在する 支持部材相互の間隔が、 1 5 〃 m~ l 0 の範囲内にある こ と を特徴と する請求項 2記載の液晶表示素子。
( 1 2 ) 前記樹脂フ ィ ルム の厚みが 0 . 5 / 01〜 1 0 / 111であ る こ と を特徴と する請求項 1 記載の液晶表示素子。 ( 1 3 ) 前記樹脂フ ィ ルム の厚みが 0 . 5 z m〜 1 0 〃 mであ る こ と を特徴と する請求項 2記載の液晶表示素子。
( 1 4 ) 前記樹脂フ ィ ル ム の比抵抗が 1 0 1 。 Ω c m以下であ る こ と を特徴と する請求項 1 記載の液晶表示素子。
( 1 5 ) 前記樹脂フ ィ ルムの比抵抗が 1 0 1 ° Ω c m以下であ る こ と を特徴と する請求項 2記載の液晶表示素子。
( 1 6 ) 前記複数の樹脂フ ィ ルムは、 光学異方性を有する樹脂フ イ ルムであって、 かつ、 樹脂フ ィ ルムの遅相軸が全て 同 じ方向 と な る よ う に配置されている こ と を特徴とする請求項 2 記載の液晶表示 素子。
( 1 7 ) 前記複数の樹脂フ ィ ルムは、 光学異方性を有する樹脂フ イ ルムであって、 かつ、 樹脂フ ィ ル ム の遅相軸が全て同 じ方向 と な る よ う に配置されている こ と を特徴とする請求項 5 記載の液晶表示 素子。
( 1 8 ) 前記樹脂フ ィ ルム が通気性を有 し、
前記共通電極は、 反射性を有する金属材料か ら成 り 、 外気中の酸 素や水分が樹脂フ ィ ルム を介 して素子内に侵入する のを防止する た めの遮蔽膜を兼ねている こ と を特徴と する請求項 1 記載の液晶表示 素子。
( 1 9 ) 前記樹脂フ ィ ルム が通気性を有 し、
前記共通電極は、 反射性を有する金属材料か ら成 り 、 外気中の酸 素や水分が樹脂フ ィ ルム を介 して素子内に侵入する のを防止する た めの遮蔽膜を兼ねている こ と を特徴と する請求項 2 記載の液晶表示 素子。 ( 2 0 ) 前記樹脂フ ィ ルム が通気性を有 し、 外気中の酸素や水分 が樹脂フ ィ ルム を介 して素子内に侵入する のを防止する ための遮蔽 膜が共通電極上に形成されている こ と を特徴と する請求項 1 記載の 液晶表示素子。 ( 2 1 ) 前記樹脂フ ィ ル ム が通気性を有 し、 外気中の酸素や水分 が樹脂フ ィ ルム を介 して素子内に侵入する のを防止する ための遮蔽 膜が共通電極上に形成されている こ と を特徴とする請求項 2 記載の 液晶表示素子。
( 2 2 ) 前記共通電極は透明電極であ り 、 前記遮蔽膜は反射特性 を有する金属材料か ら成 り 反射板を兼ねている こ と を特徴とする請 求項 2 0 記載の液晶表示素子。
( 2 3 ) 前記共通電極は透明電極であ り 、 前記遮蔽膜は反射特性 を有する金属材料か ら成 り 反射板を兼ねている こ と を特徴とする 請 求項 2 1 記載の液晶表示素子。
( 2 4 ) 前記共通電極は透明電極であ り 、 こ の共通電極上には表 面に微細な多数の凹凸形状を有する透明な樹脂層が形成され、 こ の 樹脂層上にはその表面形状に応 じた凹凸形状の反射膜が形成されて いる こ と を特徴とする請求項 1 記載の液晶表示素子。
( 2 5 ) 前記共通電極は透明電極であ り 、 こ の共通電極上には表 面に微細な多数の凹凸形状を有する透明な樹脂層が形成され、 こ の 樹脂層上にはその表面形状に応 じた凹凸形状の反射膜が形成されて いる こ と を特徴と する請求項 2 記載の液晶表示素子。
( 2 6 ) 上面に画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が 形成された基板と、
前記基板の上方に配置された樹脂フ ィ ルム と、
前記基板上に立設され、 樹脂フ ィ ルム を支持する多数の柱状支持 部材 と、 前記多数の支持部材 と樹脂フ ィ ルム間にそれそれ介在 し、 樹脂フ イ ルム と支持部材と を接着する接着層 と、
前記基板と前記樹脂フ ィ ルム との間に液晶が封入されて構成さ れ る液晶層 と、
を有 し、
前記接着層は、 熱可塑性を有する材料か ら成 り 、 接着層に熱可塑 性を発現させて樹脂フ ィ ルム と支持部材との接着状態を得てお り 、 樹脂フ イ ルム上面には、 表面に微細な多数の凹凸形状を有する透 明な樹脂層が形成され、 こ の樹脂層上にはその表面形状に応 じた凹 凸形状の反射膜が形成されてお り 、 こ の反射膜が共通電極を兼ねて いる こ と を特徴する液晶表示素子。
( 2 7 ) 上面に画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が 形成された基板 と、 こ の基板の上方に配置された複数の樹脂フ ィ ル ムであっ て、 最上位置の樹脂フ ィ ルム以外の他の樹脂フ ィ ルム の上 面には画素電極が形成されている、 そのよ う な複数の樹脂フ ィ ルム と、 基板と樹脂フ ィ ルム間並びに樹脂フ ィ ルム相互間にそれそれ多 数の柱状支持部材が介在 して形成された各間隙内に液晶が封入され て構成された複数の液晶層 と を有 し、 前記基板の上面には前記各樹 脂フ ィ ルム上の画素電極にそれそれ対応 した駆動素子が備え られて お り 、 こ の樹脂フ ィ ルム上の画素電極に関連 して設け られた立体配 線によ り 前記樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と駆動素子 とが電気的に接 続された構造の液晶表示素子であ っ て、
前記各支持部材 と樹脂フ ィ ルム間には、 接着層が介在 してお り 、 前記接着層は、 熱可塑性を有する材料か ら成 り 、 接着層に熱可塑 性を発現させて樹脂フ ィ ル ム と支持部材との接着状態を得てお り 、 基板と樹脂フ ィ ルム間に存在する支持部材 と、 樹脂フ ィ ルム相互 間に存在する支持部材 とは、 基板に平行な面に関 してほぼ同一位置 に存在 してお り 、
前記最上位置の樹脂フ ィ ルム上面には、 表面に微細な多数の凹凸 形状を有する透明な樹脂層が形成され、 こ の樹脂層上にはその表面 形状に応 じた凹凸形状の反射膜が形成されてお り 、 こ の反射膜が共 通電極を兼ねている こ と を特徴する液晶表示素子。
( 2 8 ) 画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形成さ れた透明な基板上に多数の柱状支持部材を形成する支持部材形成ェ 程と、
前記各支持部材上に接着層を形成する接着層形成工程 と、 前記接着層を介 して樹脂フ ィ ルムを支持部材上に重ね、 こ の状態 で加熱する こ と によ り 、 基板 と樹脂フ ィ ルム との間に間隙を保ち な が ら前記支持部材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる樹脂フ ィ ル ム貼合わせ工程 と、
前記樹脂フ ィ ルム の上面に共通電極を形成する共通電極形成工程 と、
前記基板と前記樹脂フ ィ ルム と の間に液晶を封入する液晶封入ェ 程 と、
を含むこ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 2 9 ) 画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形成さ れた透明な基板上に多数の支持部材を形成する 支持部材形成工程 と 前記各支持部材上に接着層を形成する接着層形成工程 と、 前記接着層を介 して樹脂フ ィ ルム を支持部材上に重ね、 こ の状態 で加熱する こ と によ り 、 基板と樹脂フ ィ ルム と の間に間隙を保ち な が ら前記支持部材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる樹脂フ ィ ル ム貼合わせ工程と、
前記樹脂フ ィ ルム に開口を形成する工程と、
前記樹脂フ ィ ルム上に画素電極を形成する と と も に、 前記開口 を 通 じて前記基板上の対応する駆動素子 と前記樹脂フ ィ ルム上の画素 電極と を電気的に接続する工程 と、
基板上に液晶を封入する領域と樹脂フ ィ ルム と を交互に積層す る 積層工程であ って、 基板上に貼 り 合わせた樹脂フ ィ ルム上に支持部 材を形成する工程と、 前記支持部材上に接着層を形成する工程と、 前記支持部材上に樹脂フ ィ ルムを貼 り 合わせる工程と、 前記樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する工程と、 前記樹脂フ ィ ルム上に画素電極を 形成する と と も に、 前記開口を通 じて前記基板上の対応する駆動素 子 と前記樹脂フ ィ ルム上の画素電極 と を電気的に接続する工程を、 少な く と も 1 回行な う こ と に よ り 、 液晶封入領域と樹脂フ ィ ルム と を交互に積層する、 そのよ う な積層工程 と、
上記積層工程において最後に貼 り 合わされた樹脂フ ィ ルム上に更 に支持部材を形成 し、 こ の支持部材上に接着層を形成 して支持部材 上に最上位置の樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる工程と、
前記最上位置の樹脂フ ィ ルム上面に共通電極を形成する工程 と、 基板と樹脂フ ィ ルム の間の液晶封入領域、 及び樹脂フ ィ ルム相互間 の液晶封入領域に、 液晶を注入する工程 と、
を含むこ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法。
( 3 0 ) 請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記開口を形成する工程において、 リ アク テ ィ ブイ オ ンエ ッチ ン グ に よ り 樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する こ と を特徴と する液晶表示素 子の製造方法。 ( 3 1 ) 請求項 2 8 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記樹脂フ ィ ルム貼合わせ工程が、 加熱 した ローラ 一に よ り 、 樹 脂フ ィ ルムを押圧する工程を含むこ と を特徴と する液晶表示素子の 製造方法。 ( 3 2 ) 請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であ っ て、 前記樹脂フ ィ ルム貼合わせ工程が、 加熱 した ロ ーラ 一に よ り 、 樹 脂フ ィ ルム を押圧する工程を含むこ と を特徴とする液晶表示素子の 製造方法。 ( 3 3 ) 請求項 3 1 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記接着層が熱可塑性を発現する温度が、 前記樹脂フ ィ ルムが熱 可塑性を発現する温度に比べて低 く なる よ う な材質に選ばれてお り 、 前記加熱ロ ーラ一に よ り 、 接着層が可塑性を発現する温度以上で 且つ樹脂フ ィ ルムが可塑性を発現する温度以下に加熱する こ と を特 徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 3 4 ) 請求項 3 2 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記接着層が熱可塑性を発現する温度が、 前記樹脂フ ィ ル ム が熱 可塑性を発現する温度に比べて低 く な る よ う な材質に選ばれてお り 、 前記加熱ローラ 一に よ り 、 接着層が可塑性を発現する温度以上で 且つ樹脂フ ィ ルムが可塑性を発現する温度以下に加熱する こ と を特 徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 3 5 ) 請求項 3 1 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記加熱 した ローラ一の少な く と も表面部は、 剛性を有する材料 か ら成る こ とを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 3 6 ) 請求項 3 2 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記加熱 した ローラ一の少な く と も表面部は、 剛性を有する材料 か ら成る こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 3 7 ) 請求項 2 8 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 支持部材形成工程が、 基板表面の支持部材形成箇所に遮光膜を形 成 し、 こ の遮光膜を覆って基板表面に第 1 のポジ形レ ジス ト を塗布 後、 基板裏面側か ら遮光膜を フ ォ ト マス ク と して露光 したのち第 1 ポジ形レ ジス ト 1 を現像液で現像 し、 第 1 のポジ形レ ジス ト を硬化 して、 基板上に支持部材を形成する工程であ り 、
前記接着層形成工程が、 支持部材を形成 した基板上に第 2 のポジ 形レ ジス ト を塗布後、 基板裏面側か ら遮光膜を フ ォ ト マス ク と して 露光 したのち第 2 のポジ形レ ジス ト を現像液で現像する こ と に よ り 、 支持部材上に接着層を形成する工程であ る こ と を特徴とする液晶 表示素子の製造方法。
( 3 8 ) 請求項 2 8 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 樹脂層形成工程および樹脂フ ィ ルム貼合わせ工程が、 一方の表面 に予め接着層が被覆さ れている樹脂フ ィ ルムを準備 し、 この樹脂フ ィ ルム を、 接着層が被覆されて い る 面が支持部材に対向する よ う に して支持部材上に重ね、 こ の状態で加熱する こ と に よ り 前記支持部 材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる工程であ る こ と を特徴と す る液晶表示素子の製造方法。
( 3 9 ) 請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 樹脂層形成工程および樹脂フ ィ ルム貼合わせ工程が、 一方の表面 に予め接着層が被覆されている樹脂フ ィ ルム を準備 し、 こ の樹脂フ ィ ルムを、 接着層が被覆されている面が支持部材に対向する よ う に して支持部材上に重ね、 この状態で加熱する こ と に よ り 前記支持部 材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる工程であ る こ と を特徴と す る液晶表示素子の製造方法。
( 4 0 ) 請求項 2 8 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記支持部材形成工程において、 前記多数の支持部材の う ち画素 領域内において存在する支持部材を、 幅が高さ 以上に形成する こ と を特徴と する液晶表示素子製造方法。
( 4 1 ) 請求項 2 9 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記支持部材形成工程において、 前記多数の支持部材の う ち画素 領域内において存在する支持部材を、 幅が高さ以上に形成する こ と を特徴とする液晶表示素子製造方法。
( 4 2 ) 請求項 2 8 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記樹脂フ ィ ルムの厚みが 0 . 5 / m〜 l 0 mである こ と を特 徴とする液晶表示素子の製造方法。 ( 4 3 ) 請求項 2 9記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記樹脂フ ィ ルム の厚みが 0 . 5 ^ m〜 l 0 mである こ と を特 徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 4 4 ) 請求項 2 8記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記樹脂フ ィ ルム の主成分がポ リ エステル樹脂である こ と を特徴 とする液晶表示素子の製造方法。
( 4 5 ) 請求項 2 9記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記樹脂フ ィ ルム の主成分がポ リ エス テル樹脂である こ と を特徴 とする液晶表示素子の製造方法。
( 4 6 ) 請求項 2 8記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記基板上の支持部材と樹脂フ ィ ルム とを貼 り 合わせる工程中 に おいて、 基板 と樹脂フ ィ ルム との間隙と外部 と を通気させる ための 通気口を形成する こ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法。
( 4 7 ) 請求項 2 9記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記基板上の支持部材と樹脂フ ィ ルム と を貼 り 合わせる工程中 に おいて、 基板と樹脂フ ィ ルム と の間隙と外部 と を通気させる ための 通気口を形成 し、
前記樹脂フ ィ ルム上の支持部材と樹脂フ ィ ルム と を貼 り 合わせる 工程中において、 樹脂フ ィ ルム相互間の間隙と外部 とを通気させ る ための通気口 を形成する こ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法 ( 4 8 ) 請求項 4 6 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 基板上の表示部分の周辺で、 部分的に接着させない箇所を残 して 基板と樹脂フ ィ ルム と を接着する こ と に よ り 、 接着させなかっ た箇 所を通気口 と して設けた こ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法
( 4 9 ) 請求項 4 7 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 基板上の表示部分の周辺で、 部分的に接着させない箇所を残 して 樹脂フ ィ ルム と樹脂フ ィ ルム と を接着する こ と に よ り 、 接着させな かっ た箇所を通気口 と して設けた こ と を特徴と する液晶表示素子の 製造方法。
( 5 0 ) 請求項 4 8 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 前記通気口内壁に、 表面張力を低下させる処理を施すこ と を特徴 と する液晶表示素子の製造方法。
( 5 1 ) 請求項 4 9 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記通気口内壁に、 表面張力を低下させる処理を施すこ と を特徴 とする液晶表示素子の製造方法。
( 5 2 ) 請求項 4 6 の液晶表示素子の製造方法であって、 基板上の表示部分の周辺で基板と樹脂フ ィ ルム と を接着 して、 基 板と樹脂フ ィ ルム間の液晶封入領域を一旦密閉状態 と した後、 樹脂 フ ィ ルムの表示部分以外の部分に貫通穴を形成 して通気口 と した こ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法。 ( 5 3 ) 請求項 4 7 の液晶表示素子の製造方法であっ て、 基板上の表示部分の周辺で、 基板と樹脂フ ィ ルム並び樹脂フ ィ ル ム同士を接着 して、 基板と樹脂フ ィ ルム間並びに樹脂フ ィ ルム相互 間のそれそれの液晶封入領域を一旦密閉状態 と した後、 樹脂フ ィ ル ムの表示部分以外の部分に貫通穴を形成 して通気口 と した こ と を特 徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 5 4 ) 請求項 4 6 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記通気口 を塞 ぐ工程を含むこ と を特徴とする液晶表示素子の製 造方法。
( 5 5 ) 請求項 4 7 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 前記通気口 を塞 ぐ工程を含むこ と を特徴と する液晶表示素子の製 造方法。
( 5 6 ) 画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形成さ れた透明な基板上に多数の柱状支持部材を形成する 支持部材形成ェ 程 と、
前記各支持部材上に接着層を形成する接着層形成工程と、 前記接着層を介 して樹脂フ ィ ルム を支持部材上に重ね、 こ の状態 で加熱する こ と に よ り 、 基板と樹脂フ ィ ルム と の間に間隙を保ち な が ら前記支持部材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる貼合わせェ 程と、
前記樹脂フ ィ ルム上面に、 フ ォ ト レ ジ ス ト を塗布 し、 マス ク露光 及び現像を行っ た後、 焼成する こ と に よ り 表面に微細な多数の凹凸 形状を有する樹脂層を形成する工程と、 前記樹脂層上に共通電極を兼ねる反射膜を成膜する工程と、 前記基板と前記樹脂フ ィ ルム と の間に液晶を封入する液晶封入ェ 程と、
を含むこ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 5 7 ) 画素電極及び該画素電極に接続された駆動素子が形成さ れた透明な基板上に多数の柱状支持部材を形成する支持部材形成ェ 程と、
前記各支持部材上に接着層を形成する接着層形成工程と、 前記接着層を介 して樹脂フ ィ ルム を支持部材上に重ね、 こ の状態 で加熱する こ と に よ り 、 基板と樹脂フ ィ ルム との間に間隙を保ち な が ら前記支持部材上に前記樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる貼合わせェ 程と、
前記樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する工程と、
前記樹脂フ ィ ル ム上に画素電極を形成する と と も に、 前記開口 を 通 じて前記基板上の対応する駆動素子 と前記樹脂フ ィ ルム上の画素 電極 と を電気的に接続する工程 と、
基板上に液晶を封入する領域と樹脂フ ィ ルム と を交互に積層す る 積層工程であって、 基板上に貼 り 合わせた樹脂フ ィ ルム上に支持部 材を形成する工程 と、 前記支持部材上に接着層を形成する工程 と、 前記支持部材上に樹脂フ ィ ルム を貼 り 合わせる工程と、 前記樹脂フ ィ ルム に開口 を形成する工程と、 前記樹脂フ ィ ルム上に画素電極を 形成する と と も に、 前記開口 を通 じて前記基板上の対応する駆動素 子 と前記樹脂フ ィ ルム上の画素電極と を電気的に接続する工程を、 少な く と も 1 回行な う こ と に よ り 、 液晶封入領域と樹脂フ ィ ルム と を交互に積層する 、 その よ う な積層工程 と、 上記積層工程において最後に貼 り 合わされた樹脂フ ィ ルム上に更 に支持部材を形成 し、 こ の支持部材上に接着層を形成 して支持部材 上に最上位置の樹脂フ ィ ルムを貼 り 合わせる工程 と、
前記最上位置の樹脂フ ィ ルム上面に、 フ ォ ト レ ジ ス ト を塗布 し、 マス ク露光及び現像を行っ た後、 焼成する こ と に よ り 表面に微細な 多数の凹凸形状を有する樹脂層を形成する工程 と、
前記樹脂層上に共通電極を兼ねる反射膜を成膜する工程と、 基板 と樹脂フ ィ ルム の間の液晶封入領域、 及び樹脂フ ィ ルム相互 間の液晶封入領域に、 液晶を注入する工程と、
を含むこ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 5 8 ) 電極が形成された少な く と も 2 以上の樹脂フ ィ ルムを含 む複数の樹脂フ ィ ルムが積層され、 樹脂フ ィ ルム間に液晶層が介在 した構造の液晶表示素子において、
関積層樹脂フ ィ ルム を全て貫通 して コ ンタ ク ト ホールが形成され 予め定めた電極がそれそれ少な く と も部分的にコ ンタ ク ト ホール内 に突出 して露出 した状態と な ってお り 、 これ ら の露出部にコ ンタ ク ト ホール内周面に形成されている導電部材がそれそれ接触 して、 予 め定めた電極同士が電気的に接続されている こ と を特徴とする液晶 表示素子。
( 5 9 ) 樹脂フ ィ ルムは少な く と も第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の 樹脂フ ィ ルムを有 し、 第 2 の樹脂フ ィ ルムのコ ンタ ク ト ホールの径 が前記第 2 の樹脂フ ィ ルムに隣接する第 1 の樹脂フ ィ ルムのコ ンタ ク ト ホールの径よ り も大き く 形成さ れてお り 、 前記第 1 の樹脂フ ィ ルム上の電極がコ ンタ ク ト ホール内に突出 して露出 している こ と を 特徴とする請求項 5 8 記載の液晶表示素子。
( 6 0 ) 電極が形成された樹脂フ ィ ルムが複数積層され、 樹脂フ イ ルム間に液晶層が介在 した構造の液晶表示素子において、
前記積層樹脂フ ィ ルム全て貫通する コ ンタ ク ト ホールが複数形成 され、 こ のコ ンタ ク ト ホ一ル内周面に形成さ れている導電部材を介 して前記複数の電極の う ち予め定めた電極同士が電気的に接続さ れ ている こ と を特徴とする液晶表示素子。 ( 6 1 ) 前記予め定めた電極はコ ンタ ク ト ホール内に露出 した状 態 となつてお り 、 こ の露出部に導電部材が接続さ れている こ と を特 徴とする請求項 6 0 記載の液晶表示素子。
( 6 2 ) 前記予め定めた電極はコ ンタ ク ト ホ一ル内に突出 して露 出 している こ と を特徴する請求項 6 1 記載の液晶表示素子。
( 6 3 ) 少な く と も第 1 および第 2 の駆動素子が形成された基板 と、 少な く と も、 第 1 の電極が形成された第 1 の樹脂フ ィ ルム と、 こ の第 1 の樹脂フ ィ ルムに積層される第 2 の電極が形成された第 2 の樹脂フ ィ ルム と を、 有 し、 基板と樹脂フ ィ ルム並び樹脂フ ィ ルム 間に液晶層が介在 した構造の液晶表示素子において、
少な く と も、 基板と第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の樹脂フ ィ ルム と が積層さ れた状態で、 第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の樹脂フ ィ ルム を 少な く と も貫通する第 1 のコ ンタ ク ト ホール と、 第 1 の樹脂フ ィ ル ム と第 2 の樹脂フ ィ ルム を少な く と も貫通する第 1 のコ ンタ ク ト ホ 一ル とは異な る第 2 のコ ンタ ク ト ホールが少な く と も形成され、 第 1 のコ ンタ ク ト ホール内周面に形成されている第 1 の導電部材 を介 して第 1 の駆動素子 と第 1 の電極が電気的に接続され、 第 2 の コ ンタ ク ト ホール内周面に形成されている第 2 の導電部材を介 して 第 2 の駆動素子 と第 2 の電極が電気的に接続されている こ と を特徴 とする液晶表示素子。
( 6 4 ) 前記第 1 および第 2 の電極はコ ンタ ク ト ホール内に露出 した状態とな ってお り 、 こ の露出部に導電部材が接続されている こ と を特徴とする請求項 6 3 記載の液晶表示素子。
( 6 5 ) 前記第 1 および第 2 の電極はコ ンタ ク ト ホール内に突出 して露出 している こ と を特徴する請求項 6 4 記載の液晶表示素子。
( 6 6 ) 第 2 の樹脂フ ィ ルム のコ ンタ ク ト ホールの径が第 1 の樹 脂フ ィ ルムの コ ンタ ク ト ホールの径よ り も大き く 形成されて い る こ と を特徴とする請求項 6 5 記載の液晶表示素子。
( 6 7 ) 画素電極および該画素電極に接続された画素スィ ッチ ン グ素子が形成さ れた基板 と、 こ の基板上に積層状に配置された複数 の樹脂フ ィ ルムであっ て、 最上位置の樹脂フ ィ ルム上に共通電極が 形成され、 その他の樹脂フ ィ ルム上に画素電極が形成されている 、 その よ う な複数の樹脂フ ィ ルム と、
基板と樹脂フ ィ ルム間並びに樹脂フ ィ ルム相互間にそれそれ配置 された液晶層 と、 を有 し、
前記基板上には、 更に前記樹脂フ ィ ルム上の各画素電極にそれそ れ対応 した複数の駆動素子が備え られてお り 、 基板と樹脂フ ィ ル ム 間並びに樹脂フ ィ ルム相互間には立体配線用パ ッ ド がそれそれ配置 され、
全ての立体配線用パ ッ ド及び全ての樹脂フ ィ ルム を全て貫通 して 前記各画素電極にそれそれ対応 した複数のコ ンタ ク ト ホールが形成 されてお り 、 各コ ンタ ク ト ホール毎に、 コ ンタ ク ト ホール内周面に 形成されている導電部材を介 して このコ ンタ ク ト ホールに関連する 画素電極と、 こ の画素電極に対応する駆動素子 とが電気的に接続さ れている こ と を特徴と する液晶表示素子。 ( 6 8 ) 各コ ンタ ク ト ホール毎に、 前記画素電極がコ ンタ ク ト ホ
—ル内に露出 した状態 とな ってお り 、 こ の露出部に導電部材が接続 されている こ と を特徴とする請求項 6 7 記載の液晶表示素子。
( 6 9 ) 各コ ンタ ク ト ホール毎に、 前記画素電極がコ ンタ ク ト ホ —ル内に突出 して露出 してい る こ と を特徴とする請求項 6 8 記載の 液晶表示素子。
( 7 0 ) 上側樹脂フ ィ ルムのコ ンタ ク ト ホ一ルの径が下側樹脂フ イ ルムのコ ンタ ク ト ホールの径よ り も大き く 形成されている こ と を 特徴とする請求項 6 9 記載の液晶表示素子。
( 7 1 ) 前記電極が ド ラ イ エ ッチ ングに対 して耐性を有する材料 か ら成 り 、 前記コ ンタ ク ト ホールが ド ラ イ エ ッ チ ング処理に よ り 形 成されたも のである こ と を特徴と する請求項 5 8 記載の液晶表示素 子。 ( 7 2 ) 前記電極が ド ラ イ エ ッチ ングに対 して耐性を有する材料 か ら成 り 、 前記コ ンタ ク ト ホールが ド ラ イ エ ッ チ ン グ処理によ り 形 成された も のであ る こ と を特徴とする請求項 5 9 記載の液晶表示素 子。
( 7 3 ) 前記電極が ド ラ イ エ ッチ ングに対 して耐性を有する材料 か ら成 り 、 前記コ ン タ ク ト ホールが ド ラ イ エ ッ チ ング処理に よ り 形 成された も のである こ と を特徴とする請求項 6 5 記載の液晶表示素 子。
( 7 4 ) 前記電極が ド ラ イ エ ッチ ングに対 して耐性を有する材料 か ら成 り 、 前記コ ンタ ク ト ホールが ド ラ イ エ ッ チ ン グ処理に よ り 形 成された も のであ る こ と を特徴とする請求項 6 9 記載の液晶表示素 子。
( 7 5 ) 電極が形成された複数の樹脂フ ィ ル ム を積層する樹脂フ イ ルム積層工程 と、
積層樹脂フ ィ ルム を全て貫通する コ ンタ ク ト ホールを複数形成す る コ ンタ ク ト ホール形成工程と、
前記複数のコ ンタ ク ト ホール内に導電部材を充填 して、 導電部材 を介 して前記複数の電極の う ち予め定めた電極同士を電気的に接続 する導電処理工程 と、
を有する こ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法。
( 7 6 ) 少な く と も第 1 および第 2 の駆動素子が形成された基板 上に、 第 1 の電極が形成された第 1 の樹脂フ ィ ルム と、 第 2 の電極が形 成された第 2 の樹脂フ ィ ルム と を こ の順序で積層する樹脂フ ィ ル ム 積層工程と、
第 1 の樹脂フ ィ ルム と第 2 の樹脂フ ィ ルムを少な く と も貫通する 第 1 のコ ンタ ク ト ホールを形成する と共に、 第 1 の樹脂フ ィ ルム と 第 2 の樹脂フ ィ ルム を少な く と も貫通する第 1 の コ ンタ ク ト ホール とは異な る第 2 のコ ンタ ク ト ホ一ルを形成する コ ンタ ク ト ホール形 成工程と、
前記第 1 のコ ンタ ク ト ホール内に第 1 の導電部材を充填する と 共 に、 前記第 2 のコ ン タ ク ト ホール内に第 2 の導電部材を充填 し、 第 1 の導電部材を介 して前記第 1 の駆動素子を前記第 1 の電極に電気 的に接続する と共に、 第 2 の導電部材を介 して前記第 2 の駆動素子 を前記第 2 の電極に電気的に接続する導電処理工程 と、
を有する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 7 7 ) ド ラ イ エ ッチ ン グに対 して耐性を有する材料か ら成る 電 極が形成された複数の樹脂フ ィ ルム を積層 し.、 こ の積層樹脂フ ィ ル ムにコ ンタ ク ト ホ一ルを形成 し、 こ のコ ンタ ク ト ホ一ルを介 して前 記複数の電極の う ち予め定めた電極同士を電気的に接続する よ う に した樹脂フ ィ ルム構造体の製造方法であって、
前記予め定めた電極に関 して のみ、 樹脂フ ィ ルム上に電極を形成 した後、 コ ンタ ク ト ホールが形成される電極部分を樹脂フ ィ ルム か ら除去 し、 且つその除去範囲が下側電極の除去範囲よ り も大き く な る よ う に除去する工程と、
ド ラ イ エ ッチ ングに よ り コ ン夕 ク ト ホールを形成する工程と、 を含むこ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。 ( 7 8 ) 樹脂フ ィ ルム と、 前記樹脂フ ィ ルム上に設け られスパ ッ 夕 に対する耐衝撃性を有する しわ緩和層 と、 スパ ッ 夕 方法に よ り 前 記 しわ緩和層上に成膜された無機材料か ら成る電極と、 を有する こ と を特徴とする液晶表示素子。
( 7 9 ) 前記樹脂フ ィ ルムの厚みが 1 0 mよ り も 小さい こ と を 特徴と する請求項 7 8記載の液晶表示素子。 ( 8 0 ) 前記緩和層が、 シ リ カ粒子を含む有機樹脂又はアク リ ル 系樹脂か ら成る こ と を特徴とする請求項 7 8記載の液晶表示素子。
( 8 1 ) 前記樹脂フ ィ ルムが、 基板との間にスぺ一サを介在 して 間隙を保ちなが ら設け られてお り 、 前記間隙に液晶が充填されてい る こ と を特徴とする請求項 7 8記載の液晶表示素子。
( 8 2 ) 透明な材料か ら成 り 、 反射膜が形成さ れた基板と、 上記基板の反射膜が形成された側に対向 して設け られた封止板と 上記基板と封止板との間に設け られた液晶層 と を有する液晶表示 素子であ って、
上記反射膜に開口部が形成される と と も に、
上記基板と上記封止板との間における、 上記反射膜の開口部が形 成されている位置に、 感光性樹脂が上記開口部を介 して露光される こ と に よ り 形成さ れた、 上記封止板を支持する支持部材が設け ら れ ている こ と を特徴とする液晶表示素子。 ( 8 3 ) 請求項 8 2 記載の液晶表示素子であ っ て、
上記感光性樹脂は、 ネガ型 レ ジス ト である こ と を特徴とする液晶 表示素子。 ( 8 4 ) 請求項 8 3 記載の液晶表示素子であ っ て、
上記液晶層は、 高分子 と、 上記高分子中に分散 して保持された液 晶 と を含むこ と を特徴と する液晶表示素子。
( 8 5 ) 請求項 8 2 記載の液晶表示素子であ っ て、
上記感光性樹脂は、 上記液晶層を形成する ための液晶 と感光性の 高分子前駆体と を含む混合溶液中の上記高分子前駆体であ る こ と を 特徴とする液晶表示素子。
( 8 6 ) 請求項 8 2 記載の液晶表示素子であ っ て、
上記液晶層 と封止板 とが、 複数組重ねて設け ら れ、 各封止板の間 における、 上記反射膜の開口部が形成さ れている位置に、 感光性樹 脂が上記開口部を介 して露光される こ と に よ り 形成された、 各封止 板を支持する支持部材が設け ら れている こ と を特徴とする液晶表示 素子。
( 8 7 ) 請求項 8 6 記載の液晶表示素子であって、
上記液晶層 と封止板 とが 3 組設け られ、 各液晶層は、 それぞれ、 シア ン、 マゼ ンタ 、 ま たはイ エロ一の う ち互いに異な る色の 2 色性 色素 と液晶と を含むゲス ト ホス ト 液晶を含むこ と を特徴と する液晶 表示素子。 ( 8 8 ) 透明な基板上に、 開口部を有する反射膜を形成する工程 と、
上記反射膜が形成された基板上に感光性樹脂層を形成する工程 と 上記感光性樹脂層を、 上記基板側か ら上記反射膜の開口部を介 し て露光 し、 硬化させる工程 と、
上記感光性樹脂層における、 上記反射膜の遮蔽に よ り 露光されな かっ た部分を現像に よ り 除去 して、 支持部材を形成する工程 と、 上記支持部材に上記封止板を密着させる工程と、
上記基板と封止板 との間に液晶を封入 して上記液晶層を形成する 工程と
を有する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 8 9 ) 請求項 8 8 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 上記感光性樹脂層は、 ネガ型 レ ジス ト か ら形成さ れている こ と を 特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 9 0 ) 請求項 8 8 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 上 記液晶層を形成する工程は、
上記基板と封止板との間に、 液晶 と感光性の高分子前駆体と を含 む混合溶液を封入する工程 と、
上記混合溶液を上記封止板側か ら露光 し、 上記混合溶液中の高分 子前駆体を硬化させる こ と に よ り 、 高分子 と、 上記高分子中に分散 して保持された液晶 と を含む上記液晶層を形成する と と も に、 上記 封止板を上記基板に固定する工程 と
を含むこ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法。 ( 9 1 ) 請求項 8 8 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 上 記支持部材に上記封止板を密着させる工程は、
上記支持部材、 ま たは上記封止板の少な く と も何れか一方に接着 剤を塗布する工程と、
上記封止板を上記基板に固定する接着工程 と、
を含むこ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 9 2 ) 請求項 9 1 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 上記封止板ま たは支持部材の少な く と も何れか一方が、 加熱ま た は加圧の少な く と も何れか一方に よ り 可塑性を有する材料か ら成 り 上記接着工程は、 上記支持部材に上記封止板を密着させた状態で 加熱ま たは加圧の少な く と も何れか一方を行っ て、 上記封止板を上 記基板に固定する工程である こ と を特徴と する液晶表示素子の製造 方法。
( 9 3 ) 請求項 8 8 記載の液晶表示素子についての製造方法であ つて、
上記封止板上に新たな感光性樹脂層を形成する工程と、
上記新たな感光性樹脂層を、 上記基板側か ら上記反射膜の開口部 および既に形成された支持部材を介 して露光 し、硬化させる工程 と、 上記新たな感光性樹脂層における、 上記反射膜の遮蔽によ り 露光 されなかっ た部分を現像に よ り 除去 して、 新たな支持部材を形成す る工程と、
上記新たな支持部材に新たな封止板を密着させる工程と、 上記既に形成された封止板と上記新たな封止板 との間に、 液晶を 封入 して新たな液晶層を形成する工程 と をそれそれ少な く と も 1 回行 う こ とに よ り 、 複数の液晶層を形成 する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 9 4 ) 透明な基板上に、 開口部を有する反射膜を形成する工程 と、
上記基板上における上記反射膜の開口部が形成された以外の所定 の領域に補助支持部材を形成する工程と、
上記補助支持部材に上記封止板を密着させる工程 と、
上記基板と封止板 との間に、 液晶 と感光性の高分子前駆体と を含 む混合溶液を封入する工程と、
上記混合溶液を上記基板側か ら上記反射膜の開口部を介 して露光 し、 上記混合液中の高分子前駆体を上記反射膜の開口部に対応す る 位置に析出および硬化させて上記支持部材を形成する と と も に、 残 つ た混合液中の液晶に よ り 液晶層を形成する工程 と、
を有する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 9 5 ) 請求項 9 4記載の液晶表示素子の製造方法であって、 上 記補助支持部材を形成する工程は、
上記反射膜が形成された基板上にネガ型 レ ジス ト層を形成する ェ 程 と、
上記ネガ型 レ ジス ト層を、 上記基板と反対側か ら所定のマス クパ 夕 一ンを介 して露光 し、 硬化させる工程と、
上記ネガ型 レ ジス ト層における、 上記マス クパタ ー ンの遮蔽に よ り 露光されなかっ た部分を現像に よ り 除去する工程 と
を有する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。 ( 9 6 ) 請求項 9 4 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 既に形成された封止板上におけ る既に形成さ れた補助支持部材に 対応する位置に新たな補助支持部材を形成する工程と、
上記新たな補助支持部材に新たな封止板を密着させる工程 と、 上記既に形成された封止板と新たな封止板と の間に、 液晶 と感光 性の高分子前駆体と を含む新たな混合溶液を封入する工程 と、
上記新たな混合溶液を上記基板側か ら上記反射膜の開口部および 既に形成された支持部材を介 して露光 し、 上記新たな混合液中の高 分子前駆体を上記反射膜の開口部に対応する位置に析出および硬化 させて新たな支持部材を形成する と と も に、 残っ た混合液中の液晶 に よ り 新たな液晶層を形成する工程 と
をそれそれ少な く と も 1 回行う こ と に よ り 、 複数の液晶層を形成 する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。 ( 9 7 ) 基板上に、 上記開口部を有する反射膜を形成する工程 と、 上記反射膜が形成された基板上に感光性樹脂層を形成する工程 と 上記基板側か ら、 第 1 のマス キ ング部材に よ っ て、 上記反射膜の 開口部の う ちの一部の第 1 の開口部が露出する よ う に他の第 2 の開 口部を覆い、 上記感光性樹脂層を、 上記基板側か ら上記反射膜の第 1 の開口部を介 して露光 し、 硬化させる工程と、
上記感光性樹脂層における、 上記反射膜およびマスキング部材の 遮蔽に よ り 露光されなかっ た部分を現像に よ り 除去 して、 上記支持 部材の う ちの一部の第 1 の支持部材を形成する工程と、
上記第 1 の支持部材に上記封止板を密着させる工程と、
上記基板と封止板との間に、 液晶 と感光性の高分子前駆体と を含 む混合溶液を封入する工程 と、 上記基板側か ら、 第 2 のマス キ ング部材に よ って、 上記反射膜の 第 1 の開口部を覆い、 上記混合溶液を、 上記基板側か ら上記反射膜 の第 2 の開口部を介 して露光 し、 上記混合液中の高分子前駆体を上 記反射膜の第 2 の開口部に対応する位置に析出お よび硬化させて上 記支持部材の う ちの他の第 2 の支持部材を形成する と と も に、 残つ た混合液中の液晶に よ り 上記液晶層を形成する工程と
を有する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 9 8 ) 請求項 9 7 記載の液晶表示素子の製造方法であ って、 上記封止板上に新たな感光性樹脂層を形成する工程 と、
上記基板側か ら、 上記第 1 のマス キ ン グ部材に よ って、 上記反射 膜の第 2 の開口部を覆い、 上記新たな感光性樹脂層を、 上記基板側 か ら上記反射膜の第 1 の開口部および既に形成された第 1 の支持部 材を介 して露光 し、 硬化させる工程と、
上記新たな感光性樹脂層における、 上記反射膜およびマス キ ング 部材の遮蔽に よ り 露光されなかっ た部分を現像に よ り 除去 して、 新 たな第 1 の支持部材を形成する工程 と、
上記新たな第 1 の支持部材に新たな封止板を密着させる工程 と、 上記既に形成された封止板と新たな封止板 との間に、 液晶 と感光 性の高分子前駆体と を含む新たな混合溶液を封入する工程と、
上記基板側か ら、 上記第 2 のマス キ ン グ部材に よ って、 上記反射 膜の第 1 の開口部を覆い、 上記新たな混合溶液を、 上記基板側か ら 上記反射膜の第 2 の開口部および既に形成された第 2 の支持部材を 介 して露光 し、 上記新たな混合液中の高分子前駆体を上記反射膜の 第 2 の開口部に対応する位置に析出および硬化させて新たな第 2 の 支持部材を形成する と と も に、 残っ た混合液中の液晶に よ り 新た な 液晶層を形成する工程 と
をそれそれ少な く と も 1 回行う こ と に よ り 、 複数の液晶層を形成 する こ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法。 ( 9 9 ) 透明な材料か ら成る基板と、
上記基板に対向 して設け ら れた封止板と、
上記基板と封止板 と の間に設け られた液晶層 と を有する液晶表示 素子であって、
上記基板における所定の領域に遮光膜が形成される と と も に、 上記基板と上記封止板との間における上記遮光膜が形成されて い る位置に、 感光性樹脂における上記遮光膜の形成されていない部分 が露光される こ と に よ り 形成された、 上記封止板を支持する支持部 材が設け られている こ と を特徴とする液晶表示素子。 ( 1 0 0 ) 請求項 9 9 記載の液晶表示素子であ って、
上記感光性樹脂は、 ポジ型 レ ジス ト である こ と を特徴とする液晶 表示素子 o
( 1 0 1 ) 請求項 9 9 記載の液晶表示素子であって、
上記遮光膜は、 黒色の レ ジス ト か ら形成されている こ と を特徴 と する液晶表示素子。
( 1 0 2 ) 請求項 9 9 記載の液晶表示素子であって、
上記液晶層は、 高分子 と、 上記高分子中に分散 して保持された液 晶 と を含むこ と を特徴と する液晶表示素子。 ( 1 0 3 ) 請求項 9 9 記載の液晶表示素子であっ て、
上記液晶層 と封止板とが、 複数組重ねて設け られ、 各封止板の間 における、 上記遮光膜が形成さ れてい る位置に、 感光性樹脂が上記 遮光膜の形成されていない領域を介 して露光される こ と によ り 形成 された、 各封止板を支持する支持部材が設け られている こ と を特徴 とする液晶表示素子。
( 1 0 4 )基板上における所定の領域に遮光膜を形成する工程と、 上記遮光膜が形成された基板上に感光性樹脂層を形成する工程 と 上記遮光膜が形成されていない部分の上記感光性樹脂層を、 上記 基板側か ら露光する工程と、
上記感光性樹脂層における上記露光された部分を現像に よ り 除去 して、 上記遮光膜が形成されている位置に上記支持部材を形成する 工程と、
上記支持部材に封止板を密着させる工程と、
上記基板と封止板との間に液晶を封入 して上記液晶層を形成する 工程と
を有する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。 ( 1 0 5 )請求項 1 0 4 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 上記感光性樹脂層は、 ポジ型 レ ジス ト か ら形成されている こ と を 特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 1 0 6 )請求項 1 0 4 記載の液晶表示素子の製造方法であって、 上記液晶層を形成する工程は、
上記基板と封止板との間に、 液晶 と感光性の高分子前駆体と を含 む混合溶液を封入する工程と、
上記混合溶液を上記封止板側か ら露光 し、 上記混合溶液中の高分 子前駆体を硬化させる こ と に よ り 、 高分子 と、 上記高分子中に分散 して保持された液晶 と を含む上記液晶層を形成する と と も に、 上記 封止板を上記基板に固定する工程と
を含むこ と を特徴と する液晶表示素子の製造方法。
( 1 0 7 )請求項 1 0 4 記載の液晶表示素子の製造方法であ っ て、 上記封止板上に新たな感光性樹脂層を形成する工程 と、
上記遮光膜が形成されていない部分の上記新たな感光性樹脂層を、 上記基板側か ら露光する工程と、
上記新たな感光性樹脂層における上記露光された部分を現像に よ り 除去 して、 上記遮光膜が形成されている位置に新たな支持部材を 形成する工程と、
上記新たな支持部材に新たな封止板を密着させる工程 と、 上記既に形成さ れた封止板と上記新たな封止板と の間に、 液晶を 封入 して新たな液晶層を形成する工程 と
をそれそれ少な く と も 1 回行 う こ と に よ り 、 複数の液晶層を形成 する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 1 0 8 ) 共通電極が内側面に設け られた基板と上記共通電極上 に設け られた支持部材に よ り 支持された封止板 との間に、 液晶が充 填されて液晶層が形成され、 かつ上記封止板の上記液晶層に臨む面 と反対側の面に画素電極が設け られて構成される表示層 と、
上記液晶層を駆動する為の非線形素子、 及び該非線形素子に電気 的に接続され、 かつ上記画素電極に液晶層を駆動させる為の駆動電 圧を出力する 出力電極が設け られる と共に上記基板に対向する よ う に配置されたア レ イ 基板と、
電気的に接続する機能を有 し、 かつ固定接続する機能を有する接 続手段と を備え、
上記接続手段に よ り 、 上記画素電極と駆動電極とが電気的に接続 され、 かつ上記表示層 とア レ イ 基板とが固定接続されている こ と を 特徴とする液晶表示素子。
( 1 0 9 ) 上記接続手段は異方性導電接着材である こ と を特徴と する請求項 1 0 8 記載の液晶表示素子。
( 1 1 0 ) 基板 と封止板 と の間に液晶が充填されて液晶層を構成 し、 且つ上記基板 と上記封止板 と の間に存在する支持部材に よ り 封 止板が支え られる構造の表示層 と、
上記液晶層に電界を印加 して該液晶層を調光駆動する為の非線形 素子が設け られる と共に上記基板に対向する よ う に配置されたァ レ ィ 基板と を備えた液晶表示素子であ って、
上 表示層は、
上記基板の内側面に設け られた共通電極と、 該共通電極上に形成 された第 1 支持部材に よ り 支持され、 且つ上記共通電極に臨む面 と 反対側の面に第 1 画素電極が設け られた第 1 封止板との間に、 液晶 が充填されて第 1 液晶層が形成され、
上記第 1 封止板と、 該第 1 封止板上に形成された第 2 支持部材に よ り 支持され、 且つ上記第 1 画素電極に臨む面 と反対側の面に第 2 画素電極が設け ら れた第 2 封止板 との間に、 液晶が充填されて第 2 液晶層が形成され、 かつ上記第 2 液晶層を少な く と も 1 層以上含ん だ構成を有 し、
上記ア レイ 基板は、
上記第 1 画素電極に第 1 液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力 する第 1 駆動電極、 及び該第 1 駆動電極に電気的に接続された第 1 非線形素子 と、
上記第 2 画素電極に第 2 液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力 する少な く と も 1 つ以上の第 2 駆動電極、 及び該第 2 駆動電極に電 気的に接続された少な く と も 1 つ以上の第 2 非線形素子とが設け ら れた構成を有 し、
更に、 電気的に接続する機能を有 し、 かつ固定接続する機能を有 する第 1 及び第 2接続手段を備え、
上記第 1 接続端子 と第 1 駆動電極 とは、 上記第 1 接続手段を介 し て電気的に接続され、
上記第 2 接続端子と第 2 駆動電極 とは、 上記第 2 接続手段を介 し て電気的に接続され、
かつ上記第 1 及び第 2 接続手段に よ り 上記表示層 と ア レイ 基板 と が固定接続されている こ と を特徴とする液晶表示素子。
( 1 1 1 ) 基板と封止板 との間に液晶が充填されて液晶層を構成 し、 且つ上記基板と上記封止板との間に存在する支持部材に よ り 封 止板が支え られる構造の表示層 と、
上記基板に対向する ア レイ 基板上に、 上記液晶層に電界を印加 し て該液晶層を調光駆動する為の非線形素子が設け られた構造のァ レ ィ 基板と を備えた液晶表示素子であって、
上記表示層は、
上記基板の内側面に設け ら れた共通電極 と、 該基板上に形成され た第 1 支持部材に よ り 支持され、 且つ上記共通電極に臨む面 と反対 側の面に第 1 画素電極が設け られた第 1 封止板との間に、 液晶が充 填されて第 1 液晶層が形成され、
上記第 1 封止板と、 該第 1 封止板上に形成された第 2 支持部材に よ り 支持され、 且つ上記第 1 画素電極に臨む面 と反対側の面に第 2 画素電極が設け られた第 2 封止板との間に、 液晶が充填されて第 2 液晶層が形成され、
上記第 2 封止板 と、 該第 2 封止板上に形成された第 3 支持部材に よ り 支持され、 且つ上記第 2 画素電極に臨む面 と反対側の面に第 3 画素電極が設け られた第 3 封止板との間に、 液晶が充填されて第 3 液晶層が形成さ れ、
上記第 1 画素電極は第 1 接続端子に電気的に接続され、
上記第 2 画素電極は第 2 接続端子に電気的に接続され、
上記第 3 画素電極が第 3接続端子に電気的に接続された構成を有 し、
上記ア レイ 基板は、
上記第 1 画素電極に第 1 液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力 する第 1 駆動電極、 及び該第 1 駆動電極に電気的に接続された第 1 非線形素子が設け られ、
上記第 2 画素電極に第 2液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力 する第 2 駆動電極、 及び該第 2 駆動電極に電気的に接続された第 2 非線形素子が設け られ、
上記第 3 画素電極に第 3 液晶層を駆動させる為の駆動電圧を出力 する第 3 駆動電極、 及び該第 3 駆動電極に電気的に接続された第 3 非線形素子が設け られた構成を有 し、
更に、 電気的に接続する機能を有 し、 かつ固定接続する機能を有 する第 1 〜第 3 接続手段を備え、
上記第 1 接続端子 と第 1 駆動電極 とは、 上記第 1 接続手段を介 し て電気的に接続され、
上記第 2 接続端子 と第 2 駆動電極 とは、 上記第 2 接続手段を介 し て電気的に接続され、
上記第 3 接続端子 と第 3 駆動電極 とは、 上記第 3 接続手段を介 し て電気的に接続され、
かつ上記第 1 〜第 3 接続手段に よ り 上記表示層 とア レイ 基板と が 固定接続されている こ と を特徴と する液晶表示素子。
( 1 1 2 ) 上記第 1 〜第 3 液晶層には、 シア ン、 マゼンタ 又はィ エロ一の う ち互いに異なる色の二色性色素 と液晶 と を含むゲス ト ホ ス ト液晶が含まれている こ と を特徴と する請求項 1 1 1 に記載の液 晶表示素子。
( 1 1 3 ) 共通電極が内側面に設け られた基板と上記共通電極上 に設け られた支持部材に よ り 支持された封止板との間に、 液晶が充 填される こ と に よ り 液晶層が形成されて構成される表示層 と、 上記液晶層を駆動する為の駆動回路、 及び該駆動回路に電気的に 接続され、 かつ所定の間隔で配置された複数の画素電極を備え る と 共に、 上記基板に対向する よ う に配置されたア レ イ 基板と を備え、 上記表示層 とア レ イ 基板とが、 接続手段に よ り 接続されている こ と を特徴とする液晶表示素子。 ( 1 1 4 ) 上記封止板は、 膜厚が 0 . 5 〃 m以上、 1 0 〃 m以下 の範囲内にある高分子樹脂か ら な る こ と を特徴とする請求項 1 1 3 記載の液晶表示素子。
( 1 1 5 ) 上記基板、 及びア レ イ 基板は高分子樹脂か らなる こ と を特徴とする請求項 1 1 3 記載の液晶表示素子。
( 1 1 6 ) 上記基板、 及びア レ イ 基板は高分子樹脂か ら なる こ と を特徴とする請求項 1 1 4 記載の液晶表示素子。
( 1 1 7 ) 共通電極が内側面に設け られた基板 と上記共通電極上 に設け られた支持部材に よ り 支持された封止板との間に、 液晶が充 填されて液晶層が形成され、 かつ上記封止板における上記支持部材 に よ り 支持される面 と反対側の面に一定間隔で複数の画素電極が設 け られて構成される表示層 と、
上記液晶層を駆動する複数の非線形素子をそれそれ備えた複数の ア レイ 基板と を備え、
上記複数の画素電極 と複数の非線形素子 とが電気的に接続される よ う に、 上記表示層 とア レ イ 基板 とが接続手段に よ り 接続されてい る こ と を特徴とする液晶表示素子。
( 1 1 8 ) 上記複数のア レイ 基板は同一平面内に配置され、 かつ、 上記表示層 と複数のア レ イ 基板とは、 上記接続手段によ り 上記複数の画素電極と複数の非線形素子 とがそれぞれ対応 して電気 的に接続される よ う な範囲内で対向 している こ と を特徴とする請求 項 1 1 7 記載の液晶表示素子。
( 1 1 9 ) 上記基板と共通電極 と の間に光学カ ラ 一フ ィ ルタ 一層 が設け ら れている こ と を特徴と する請求項 1 1 7 記載の液晶表示素 子。
( 1 2 0 ) 上記基板と共通電極 との間に光学カ ラ一フ ィ ルタ一層 が設け られている こ と を特徴とする請求項 1 1 8 記載の液晶表示素 子。
( 1 2 1 ) 基板と封止板との間に液晶層が配置されて構成される 表示層 と、 液晶層を駆動する ための駆動素子を備えたア レイ 基板 と を有する液晶表示素子の製造方法であって、
表示層を形成する表示層形成工程であって、
基板の内側面に共通電極を形成する第 1 ステ ッ プと、
共通電極上に上記支持部材を形成する第 2 ステ ッ プと、
上記支持部材に支持される よ う に、 上記封止板を形成する第 3 ス テ ツ プと、
上記基板と上記封止板との間に、 上記液晶を封入 して液晶層を形 成する第 4 ステ ッ プと、
上記封止板の上記液晶層に臨む面 と反対側の面に、 画素電極を形 成する第 5 ステ ッ プと、
を含む表示層形成工程と、
上記ア レイ基板上に、 上記液晶層を駆動する為の駆動素子及び駆 動電極を形成 してア レ イ 基板を形成するア レ イ 基板形成工程 と、 上記画素電極と駆動電極と を接続手段に よ り 電気的に接続する接 を有する こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。 ( 1 2 2 ) 上記画素電極上に、 他の支持部材を形成する ステ ッ プ と、
上記他の支持部材に支持される よ う に他の封止板を形成するステ ヅ プと、
上記封止板と他の封止板との間に、 他の液晶を封入 して他の液晶 層を形成するステ ッ プと、
上記他の封止板における上記他の液晶層に臨む面 と反対側の面に 他の画素電極を形成する ステ ッ プと をそれそれ少な く と も 1 回行 う こ と に よ り 、 複数の液晶層を形成する こ と を特徴と する請求項 1 2 1 記載の液晶表示素子の製造方法。
( 1 2 3 ) 上記基板の内側面に、 共通電極を形成する第 1 ステ ツ プと、
上記共通電極上に、 上記支持部材を形成する第 2 ステ ッ プと、 上記支持部材に支持される よ う に、 上記封止板を形成する第 3 ス テ ツ プと、
上記基板と上記封止板との間に、 上記液晶.を封入 して液晶層を形 成する第 4 ステ ッ プと、
上記封止板の上記液晶層に臨む面 と反対側の面に、 画素電極を形 成する第 5 ステ ッ プと、
上記共通電極及び画素電極に電圧を印加する こ と に よ り 、 表示状 態を検査する第 6 ステ ッ プと、
上記ア レイ 基板上に、 上記液晶層を駆動する為の非線形素子及び 駆動電極を形成する第 7 ステ ッ プと、
上記第 6 ステ ッ プの検査結果に基づいて、 表示状態が良好な表示 層に関 してのみ、 上記画素電極 と駆動電極と を接続手段に よ り 電気 的に接続する第 8 ステ ッ プと を有する こ と を特徴とする液晶表示素 子の製造方法。
( 1 2 4 ) 基板の表面に、 共通電極を形成する第 1 ステ ッ プと、 上記共通電極上に、 上記支持部材を形成する第 2 ステ ッ プと、 上記支持部材に支持される よ う に上記封止板を形成する第 3 ステ ッ プと、
上記基板と封止板との間に上記液晶を封入する液晶層を形成する 第 4 ステ ッ プと、
上記ア レイ 基板上に、 上記共通電極 と対向する よ う に画素電極を 形成する第 5 ステ ッ プと、
上記ア レ イ 基板上に、 上記液晶層を駆動させる為の駆動回路を形 成する第 6 ステ ッ プと、
上記基板とア レ イ 基板と を接着材に よ り 接着する第 7 ステ ッ プ と を含むこ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
( 1 2 5 ) 液晶表示素子の製造方法であって、
上記基板上に、 共通電極を形成する第 1 ステ ッ プと、
上記共通電極上に、 上記支持部材を形成する第 2 ステ ッ プと、 上記支持部材に支持される よ う に上記封止板を形成する第 3 ス テ ッ プと、
上記封止板における上記支持部材に よ り 支持さ れる面 と反対側の 面に、 複数の画素電極を互いに一定の間隔 となる よ う に形成する 第 4 ステ ッ プと、
上記基板と封止板との間に、 上記液晶を封入 して液晶層を形成す る第 5 ステ ッ プと、 上記ア レ イ 基板上に、 上記液晶層を駆動する為の複数の非線形素 子を形成する第 6 ステ ッ プと、
上記ア レイ 基板を、 少な く と も 2 つ以上に割断する第 7 ステ ッ プ と、
上記複数の画素電極と上記複数の非線形素子 と を、接続手段にて、 それそれ対応する よ う に電気的に接続する第 8 ステ ッ プと を有す る こ と を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
PCT/JP1999/001432 1998-03-19 1999-03-19 Dispositif d'affichage a cristaux liquides et son procede de production WO1999047969A1 (fr)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/423,543 US6304309B1 (en) 1998-03-19 1999-03-19 Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
EP99909292A EP0990942A4 (en) 1998-03-19 1999-03-19 Liquid crystal display and method for the production thereof

Applications Claiming Priority (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10/70069 1998-03-19
JP07006998A JP3205536B2 (ja) 1998-03-19 1998-03-19 液晶表示素子およびその製造方法
JP10/138317 1998-05-20
JP13831798A JP3202192B2 (ja) 1998-05-20 1998-05-20 液晶表示装置、及びその製造方法
JP10/147449 1998-05-28
JP14744998 1998-05-28
JP11/69732 1999-03-16
JP11069732A JP3072514B2 (ja) 1998-05-28 1999-03-16 液晶表示素子およびその製造方法
JP11/71369 1999-03-17
JP7136999A JP3597073B2 (ja) 1999-03-17 1999-03-17 表示装置およびその製造方法

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US09/423,543 A-371-Of-International US6304309B1 (en) 1998-03-19 1999-03-19 Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US09/897,112 Division US6563557B2 (en) 1998-03-19 2001-07-03 Liquid crystal display device including a stack of plurality of resin film and method for fabricating the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO1999047969A1 true WO1999047969A1 (fr) 1999-09-23

Family

ID=27524201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP1999/001432 WO1999047969A1 (fr) 1998-03-19 1999-03-19 Dispositif d'affichage a cristaux liquides et son procede de production

Country Status (6)

Country Link
US (2) US6304309B1 (ja)
EP (1) EP0990942A4 (ja)
KR (1) KR20000071044A (ja)
CN (1) CN1263610A (ja)
TW (1) TW505805B (ja)
WO (1) WO1999047969A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573972B2 (en) 1999-12-14 2003-06-03 Nec Corporation LCD panel and method of fabricating same
CN110540782A (zh) * 2019-08-07 2019-12-06 北京圣润东方科技有限公司 一种智能调光膜的制备方法
CN114899298A (zh) * 2022-07-12 2022-08-12 诺视科技(苏州)有限公司 一种像素单元及其制作方法、微显示屏、分立器件
TWI811972B (zh) * 2021-04-23 2023-08-11 元太科技工業股份有限公司 可撓式顯示裝置

Families Citing this family (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6930818B1 (en) 2000-03-03 2005-08-16 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US6933098B2 (en) 2000-01-11 2005-08-23 Sipix Imaging Inc. Process for roll-to-roll manufacture of a display by synchronized photolithographic exposure on a substrate web
US6829078B2 (en) 2000-03-03 2004-12-07 Sipix Imaging Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US6831770B2 (en) 2000-03-03 2004-12-14 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US6947202B2 (en) 2000-03-03 2005-09-20 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display with sub relief structure for high contrast ratio and improved shear and/or compression resistance
US7715088B2 (en) 2000-03-03 2010-05-11 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display
US6885495B2 (en) 2000-03-03 2005-04-26 Sipix Imaging Inc. Electrophoretic display with in-plane switching
US6833943B2 (en) 2000-03-03 2004-12-21 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US6865012B2 (en) 2000-03-03 2005-03-08 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US20070237962A1 (en) 2000-03-03 2007-10-11 Rong-Chang Liang Semi-finished display panels
US7158282B2 (en) 2000-03-03 2007-01-02 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
EP1136874A1 (en) * 2000-03-22 2001-09-26 Hewlett-Packard Company, A Delaware Corporation Projection screen
US6461886B1 (en) * 2000-05-13 2002-10-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing a semiconductor device
AU6071501A (en) * 2000-06-08 2001-12-17 Showa Denko Kabushiki Kaisha Semiconductor light-emitting device
FR2817992B1 (fr) * 2000-12-12 2003-04-18 Philippe Charles Gab Guillemot Dispositif d'ecran video numerique
KR100678731B1 (ko) * 2000-12-30 2007-02-05 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시 패널의 배선 제조 방법
US8282762B2 (en) 2001-01-11 2012-10-09 Sipix Imaging, Inc. Transmissive or reflective liquid crystal display and process for its manufacture
US6795138B2 (en) 2001-01-11 2004-09-21 Sipix Imaging, Inc. Transmissive or reflective liquid crystal display and novel process for its manufacture
US6853486B2 (en) * 2001-03-22 2005-02-08 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Enhanced contrast projection screen
TW527529B (en) 2001-07-27 2003-04-11 Sipix Imaging Inc An improved electrophoretic display with color filters
TW539928B (en) 2001-08-20 2003-07-01 Sipix Imaging Inc An improved transflective electrophoretic display
JP2003068076A (ja) * 2001-08-27 2003-03-07 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置の電力制御方法及び半導体記憶装置
TWI308231B (en) 2001-08-28 2009-04-01 Sipix Imaging Inc Electrophoretic display
JP5181317B2 (ja) * 2001-08-31 2013-04-10 Nltテクノロジー株式会社 反射型液晶表示装置およびその製造方法
KR100839406B1 (ko) * 2001-12-26 2008-06-19 삼성에스디아이 주식회사 반사형 액정 디스플레이
KR100527088B1 (ko) * 2001-12-31 2005-11-09 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 플라스틱 기판을 이용한 액정표시장치
KR20030058726A (ko) * 2001-12-31 2003-07-07 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 평판표시소자의 기판 합착방법
US7378124B2 (en) * 2002-03-01 2008-05-27 John James Daniels Organic and inorganic light active devices and methods for making the same
US7446423B2 (en) * 2002-04-17 2008-11-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor device and method for assembling the same
KR100774421B1 (ko) * 2002-10-21 2007-11-08 캐논 가부시끼가이샤 전기영동표시소자의 제조방법
US7245417B2 (en) * 2002-10-21 2007-07-17 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing display device
TWI297089B (en) * 2002-11-25 2008-05-21 Sipix Imaging Inc A composition for the preparation of microcups used in a liquid crystal display, a liquid crystal display comprising two or more layers of microcup array and process for its manufacture
US8023071B2 (en) 2002-11-25 2011-09-20 Sipix Imaging, Inc. Transmissive or reflective liquid crystal display
US7265383B2 (en) * 2002-12-13 2007-09-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
CN100568321C (zh) * 2002-12-26 2009-12-09 株式会社半导体能源研究所 发光装置及电子设备
CN100504966C (zh) * 2002-12-27 2009-06-24 株式会社半导体能源研究所 显示装置
JP4430010B2 (ja) * 2003-01-24 2010-03-10 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
US7566902B2 (en) * 2003-05-16 2009-07-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device and electronic device
US7622863B2 (en) * 2003-06-30 2009-11-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device and electronic device including first and second light emitting elements
TWI258060B (en) * 2003-07-23 2006-07-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Method for making cavity of light guide plate
JP4154598B2 (ja) 2003-08-26 2008-09-24 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置の駆動法、液晶表示装置及び携帯型電子機器
JP4020060B2 (ja) * 2003-08-29 2007-12-12 株式会社豊田自動織機 有機電界発光素子
KR20050027487A (ko) * 2003-09-15 2005-03-21 삼성전자주식회사 기판 어셈블리, 기판 어셈블리의 제조 방법, 이를 이용한표시장치 및 이를 이용한 표시장치의 제조 방법
KR20050073673A (ko) * 2004-01-09 2005-07-18 삼성전자주식회사 밀봉부재 형성 방법 및 장치, 이를 이용한 표시장치 및이의 제조 방법
KR100715937B1 (ko) * 2004-02-10 2007-05-08 삼성전자주식회사 유연한 디스플레이 장치의 제조 방법
KR100975405B1 (ko) * 2004-09-13 2010-08-11 실크 디스플레이즈 플라스틱 기판용 스마트 복합재료
JP4947510B2 (ja) * 2004-12-24 2012-06-06 Nltテクノロジー株式会社 アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法
US7749577B2 (en) * 2005-05-26 2010-07-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company High strength multilayer laminates comprising twisted nematic liquid crystals
WO2006129986A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Ndis Corporation Full color lcd and manufacturing thereof
CN101223474B (zh) * 2005-07-08 2010-07-14 富士通株式会社 层叠型反射式液晶显示元件
WO2007131334A1 (en) * 2006-05-11 2007-11-22 Imaginum Inc. Multi-pixel light emitting module
KR20080001744A (ko) * 2006-06-30 2008-01-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 점착반송기판 및 이를 이용한 플렉서블 표시장치 제조방법
US7932972B2 (en) * 2006-10-02 2011-04-26 Lg Display Co., Ltd. Substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
US20080193731A1 (en) * 2007-02-12 2008-08-14 Eastman Kodak Company Optical device with self-supporting film assembly
US20080192352A1 (en) * 2007-02-12 2008-08-14 Eastman Kodak Company Optical diffuser film and light assembly
JP5267955B2 (ja) * 2010-01-27 2013-08-21 大日本印刷株式会社 電気泳動表示装置の製造方法
KR101009280B1 (ko) * 2010-07-07 2011-01-19 지엔이텍(주) 인쇄회로기판의 갭 서포터 및 그 제조방법
KR101696644B1 (ko) * 2010-09-15 2017-01-16 삼성전자주식회사 3차원 수직 배선을 이용한 rf 적층 모듈 및 이의 배치 방법
CN103650120A (zh) * 2011-07-11 2014-03-19 松下电器产业株式会社 膜结构体及其制造方法
KR102017203B1 (ko) * 2012-05-25 2019-10-22 삼성디스플레이 주식회사 액정 렌즈 및 이를 포함하는 표시 장치
KR102005914B1 (ko) * 2012-06-29 2019-08-01 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
JP6050728B2 (ja) * 2012-07-24 2016-12-21 株式会社ジャパンディスプレイ タッチセンサ付き液晶表示装置、及び電子機器
KR102023937B1 (ko) * 2012-12-21 2019-09-23 엘지디스플레이 주식회사 박막트랜지스터 어레이 기판 및 그의 제조방법
JP2015060780A (ja) * 2013-09-20 2015-03-30 株式会社東芝 表示装置の製造方法及び製造システム
CN104810394B (zh) * 2015-03-17 2019-04-02 深圳市华星光电技术有限公司 薄膜晶体管以及液晶显示器
US10824022B2 (en) * 2017-06-06 2020-11-03 Liqxtal Technology Inc. Liquid crystal lens and manufacturing method thereof
GB2568240B (en) * 2017-11-03 2023-01-25 Flexenable Ltd Method of producing liquid crystal devices comprising a polariser component between two lc cells
CN108152999A (zh) * 2018-01-02 2018-06-12 京东方科技集团股份有限公司 一种子像素结构、像素结构、显示面板、显示装置
CN108839352B (zh) * 2018-07-03 2023-10-03 华玻视讯(珠海)科技有限公司 用于保护显示玻璃屏ir孔的多级覆膜机
CN109445156A (zh) * 2018-12-24 2019-03-08 惠科股份有限公司 显示面板、显示装置及显示面板制造方法
CN109445143B (zh) * 2019-01-25 2019-05-07 南京中电熊猫平板显示科技有限公司 一种面板放置卡匣以及面板固定方法
JPWO2020235580A1 (ja) * 2019-05-23 2020-11-26
CN110596973B (zh) * 2019-09-26 2022-07-22 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板和显示装置
CN112698522A (zh) * 2019-10-23 2021-04-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
TWI800400B (zh) * 2022-06-07 2023-04-21 國立臺灣大學 一種浮空顯示光學元件及其顯示裝置

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0456920A (ja) * 1990-06-26 1992-02-24 Matsushita Electric Works Ltd 調光素子
JPH0534730A (ja) * 1991-07-29 1993-02-12 Ricoh Co Ltd 液晶表示装置
JPH0557831A (ja) * 1991-08-29 1993-03-09 Fujimori Kogyo Kk 光学用積層シートおよびその製造法
JPH06331970A (ja) * 1993-05-26 1994-12-02 Sanyo Electric Co Ltd 強誘電性液晶表示セル
JPH08248425A (ja) * 1995-02-06 1996-09-27 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 液晶表示装置及びその製造方法
JPH0990327A (ja) * 1995-09-26 1997-04-04 Sharp Corp 液晶表示素子及びその製造方法
JPH09160005A (ja) * 1995-12-08 1997-06-20 Seiko Epson Corp 液晶パネル及び電子機器
JPH09258256A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Toshiba Corp 表示装置
JPH1054996A (ja) * 1996-08-09 1998-02-24 Sharp Corp 積層型液晶表示素子およびこれに用いられるアクティブマトリクス基板の製造方法
JPH1062789A (ja) * 1996-08-23 1998-03-06 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JPH10213790A (ja) * 1996-07-10 1998-08-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子およびその製造方法
JPH10260427A (ja) * 1997-03-19 1998-09-29 Toshiba Corp 表示装置
JPH1130781A (ja) * 1997-03-31 1999-02-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子およびその製造方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53101296A (en) * 1977-02-16 1978-09-04 Seiko Epson Corp Display unit
JPS61238024A (ja) 1985-04-15 1986-10-23 Nifco Inc 液晶表示素子
JPH02114234A (ja) * 1988-10-25 1990-04-26 Seiko Epson Corp 液晶電気光学装置及びその製造方法
JPH03238424A (ja) 1990-02-15 1991-10-24 Ricoh Co Ltd 液晶表示装置
US5162183A (en) 1990-07-31 1992-11-10 Xerox Corporation Overcoat for imaging members
JP2698218B2 (ja) 1991-01-18 1998-01-19 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置及びその製造方法
US5724109A (en) * 1992-09-17 1998-03-03 Fujitsu Limited Liquid crystal display panel with electrodes or a passivation layer intermediate two liquid crystal layers
KR100243262B1 (ko) * 1992-12-26 2000-02-01 윤종용 액정표시소자의 제조방법
JP3270947B2 (ja) 1993-05-28 2002-04-02 富士通株式会社 液晶表示パネル
JP3208028B2 (ja) 1994-11-21 2001-09-10 松下電器産業株式会社 液晶表示素子およびその製造方法
JPH08313939A (ja) * 1995-03-15 1996-11-29 Toshiba Corp 液晶表示装置およびその駆動方法
US5790215A (en) * 1995-03-15 1998-08-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Liquid crystal display device
JPH08328031A (ja) 1995-06-02 1996-12-13 Sharp Corp フルカラー液晶表示装置およびその製造方法
JPH0926596A (ja) * 1995-07-13 1997-01-28 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JPH09127525A (ja) * 1995-11-06 1997-05-16 Sharp Corp 液晶表示素子およびその製造方法
JPH09258236A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Toshiba Corp 液晶表示装置及びその製造方法
US5986729A (en) * 1996-07-10 1999-11-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JPH1065789A (ja) 1996-08-20 1998-03-06 Nec Corp 公衆電話機
JPH10123984A (ja) 1996-10-16 1998-05-15 Denso Corp 積層型液晶パネル及びその製造方法
JPH10268338A (ja) * 1997-01-23 1998-10-09 Toshiba Corp 液晶表示装置およびその製造方法

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0456920A (ja) * 1990-06-26 1992-02-24 Matsushita Electric Works Ltd 調光素子
JPH0534730A (ja) * 1991-07-29 1993-02-12 Ricoh Co Ltd 液晶表示装置
JPH0557831A (ja) * 1991-08-29 1993-03-09 Fujimori Kogyo Kk 光学用積層シートおよびその製造法
JPH06331970A (ja) * 1993-05-26 1994-12-02 Sanyo Electric Co Ltd 強誘電性液晶表示セル
JPH08248425A (ja) * 1995-02-06 1996-09-27 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 液晶表示装置及びその製造方法
JPH0990327A (ja) * 1995-09-26 1997-04-04 Sharp Corp 液晶表示素子及びその製造方法
JPH09160005A (ja) * 1995-12-08 1997-06-20 Seiko Epson Corp 液晶パネル及び電子機器
JPH09258256A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Toshiba Corp 表示装置
JPH10213790A (ja) * 1996-07-10 1998-08-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子およびその製造方法
JPH1054996A (ja) * 1996-08-09 1998-02-24 Sharp Corp 積層型液晶表示素子およびこれに用いられるアクティブマトリクス基板の製造方法
JPH1062789A (ja) * 1996-08-23 1998-03-06 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JPH10260427A (ja) * 1997-03-19 1998-09-29 Toshiba Corp 表示装置
JPH1130781A (ja) * 1997-03-31 1999-02-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子およびその製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP0990942A4 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573972B2 (en) 1999-12-14 2003-06-03 Nec Corporation LCD panel and method of fabricating same
KR100395866B1 (ko) * 1999-12-14 2003-08-27 엔이씨 엘씨디 테크놀로지스, 엘티디. Lcd 패널 및 그 제조 방법
CN110540782A (zh) * 2019-08-07 2019-12-06 北京圣润东方科技有限公司 一种智能调光膜的制备方法
TWI811972B (zh) * 2021-04-23 2023-08-11 元太科技工業股份有限公司 可撓式顯示裝置
CN114899298A (zh) * 2022-07-12 2022-08-12 诺视科技(苏州)有限公司 一种像素单元及其制作方法、微显示屏、分立器件
CN114899298B (zh) * 2022-07-12 2022-10-25 诺视科技(苏州)有限公司 一种像素单元及其制作方法、微显示屏、分立器件

Also Published As

Publication number Publication date
US6304309B1 (en) 2001-10-16
EP0990942A4 (en) 2005-07-20
EP0990942A1 (en) 2000-04-05
US20020135720A1 (en) 2002-09-26
KR20000071044A (ko) 2000-11-25
US6563557B2 (en) 2003-05-13
TW505805B (en) 2002-10-11
CN1263610A (zh) 2000-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1999047969A1 (fr) Dispositif d&#39;affichage a cristaux liquides et son procede de production
US5986729A (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US8421962B2 (en) Color filter and method for manufacturing color filter
WO2011062009A1 (ja) 液晶パネルおよび液晶表示装置
CN102692777B (zh) 液晶显示装置
JP2011248072A (ja) 画像表示装置の製造方法
JP2007025690A (ja) 液晶表示装置の製造方法
Garner et al. Cholesteric liquid crystal display with flexible glass substrates
JP2004070069A (ja) 積層基板の製造方法・積層型液晶表示素子の製造方法
JPH08136951A (ja) 液晶パネル用基板とその製造方法
JP3067938B2 (ja) 液晶パネル用基板とその製造方法
JP3899806B2 (ja) 電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP3274631B2 (ja) 液晶表示素子およびその製造方法
JP2006038951A (ja) カラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板及び液晶表示装置
JP3202192B2 (ja) 液晶表示装置、及びその製造方法
JP3072514B2 (ja) 液晶表示素子およびその製造方法
JPH1068961A (ja) 液晶表示装置及びこの液晶表示装置の製造方法並びにこの液晶表示装置の駆動方法
JP2002049043A (ja) 積層型液晶表示装置及びその製造方法
JP3205536B2 (ja) 液晶表示素子およびその製造方法
JP3543076B2 (ja) ホログラム反射板を有する液晶表示装置の製造方法
JPH0943612A (ja) 液晶表示素子及びその製造方法及びそれを用いた液晶表示装置
JP2000171805A (ja) 液晶表示装置
JPH08334755A (ja) 液晶表示装置用電極基板の製造方法およびそれを用いた液晶表示装置
JP2001356352A (ja) 液晶表示素子およびその製造方法
JP3855652B2 (ja) 電気光学装置

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 99800320.4

Country of ref document: CN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1019997007312

Country of ref document: KR

AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): CN KR US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): DE FR GB

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 09423543

Country of ref document: US

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1999909292

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1999909292

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1019997007312

Country of ref document: KR

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: 1019997007312

Country of ref document: KR

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: 1999909292

Country of ref document: EP