JPH1130781A - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示性能の向上と歩留まりの向上とを図るこ
とができる液晶表示素子およびその製造方法の提供を目
的としている。 【解決手段】 基板１０１と封止板１１３との間に液
晶が充填されて第１液晶層１１４を構成し、かつ上記基
板１０１と上記封止板１１３との間に存在するスペーサ
ー１０８により封止板１１３が支えられる構造の液晶表
示素子において、上記スペーサー１０８と、上記封止板
１１３とが同一組成の高分子から成るとともに両者が一
体的に形成されることによって上記第１液晶層１１４が
保持され、かつ上記封止板１１３の封止面と異なる面に
は透明電極１１５が形成され、さらに、この透明電極１
１５、上記スペーサー１０８、上記封止板１１３および
上記第１液晶層１１４によって第１表示層１１７が構成
されることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の製
造方法および液晶表示素子に関し、特に、１枚の基板上
に複数の液晶層を備えて、明るいフルカラー画像を表示
することのできる液晶表示素子およびその製造方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示素子に用いられるネマチ
ック液晶には、液晶分子の配向によって種々のモードの
ものがある。すなわち、最も普及しているのは、捻れネ
マチック液晶（以下、ＴＮ液晶と略す。）であるが、そ
の他にホメオトロピック（垂直）配向、またはホモジニ
アス（水平）配向の複屈折モードやゲストホストモード
の液晶等がある。

【０００３】ここで、ＴＮ液晶でカラー表示を行う場合
は、一般に、赤、緑、青の３色のマイクロカラーフィル
タを隣接する３つの画素上に設けて、加法混色により行
う。ところが、上記ＴＮ液晶においては、上記カラーフ
ィルタの透過率が低いことに加えて、一方の偏光を吸収
する偏光板を必要とするために、全体の透過率は１０％
以下になってしまう。また、上記複屈折モードの液晶に
おいても、偏光板を必要とするために、やはり光の透過
率が低下する。これらの結果、ＴＮ液晶や複屈折モード
の液晶で、外光を利用する反射型液晶表示素子を作製し
た場合には、色が認識しにくい程に暗くなるという課題
を有していた。

【０００４】そこで、特開昭61-238024 号公報、特開平
3-238424号公報等に示されるように、二色性色素を用い
たゲストホストモードの液晶を利用して、明るいカラー
表示を行うような技術が提案されている。このゲストホ
ストモードの液晶は、色の異なる二色性色素を用いた複
数枚の液晶パネルを重ねて、減法混色により多色表示を
行う方式であり、具体的には、それぞれ印加される電圧
に応じて青、緑、または赤の光だけを吸収する３枚の液
晶パネルを重ね、各液晶パネルがそれぞれの色の光を吸
収すれば黒色表示となり、一部の液晶パネルだけが各色
の光を吸収すれば着色表示となり、何れの液晶パネルも
吸収しなければ白色表示となるように構成されたもので
ある。

【０００５】しかしながら、このように複数のパネルを
重ねて液晶表示素子を作製した場合には、画素が細かく
なると、各パネルを構成するガラス基板の厚みが画素に
比べて相対的に大きくなるので、視差が大きくなり、斜
めから見たときに色ずれが生じるという問題がある。

【０００６】なお、上記ガラス基板に代えて、厚さの低
減が比較的容易なプラスチック基板を用いることによ
り、視差を低減することも考えられるが、フィルム状の
プラスチック基板でも、積層工程などの製造上の取り扱
いを考慮すると、少なくとも０．０５ｍｍ以上、通常は
０．１〜０．３ｍｍ程度の厚さが必要であり、複数のパ
ネルを重ねると、やはり視差の影響を解消することは困
難である。

【０００７】また、上記液晶パネルは、一般に、周囲に
シール樹脂を塗布したガラス基板を、スペーサを介して
貼り合わせた後、間に形成された空隙に液晶を注入する
ことによって製造され、手間が多くかかるために製造コ
ストが高くつくという問題点をも有していた。

【０００８】そこで、このような視差による色ずれを解
消するとともに、製造コストの低減を図るべく、特開平
6-337643号公報に示されるような液晶表示素子が提案さ
れている。

【０００９】この液晶表示素子は、図１３に示すよう
に、ポリマー２９８に液晶２９９をマイクロカプセル状
に閉じ込めることにより、液晶２９９を分散支持した状
態で固形化して液晶層２９５〜２９７を形成し、これら
の液晶層２９５〜２９７と駆動電極２９２〜２９４とを
１枚のガラス基板２９１上に積層して構成されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の液晶表示素子では、液晶をカプセル化することによ
り固定しているが、この場合、カプセルの壁は、容易に
破れない程度の膜厚（０．３〜０．５μｍ）が必要にな
る。このため、液晶のない部分の割合が例えば３０〜６
０％程度と多くなって、実効的な開口率が下がり、コン
トラストをあまり高くできないという課題を有してい
る。

【００１１】なお、本発明者らは、特願平6-286324号に
て、所定の形状にパターンニングされたレジスト上に絶
縁膜と透明電極とを形成した後、上記レジストを現像液
で除去することにより空隙を形成し、この空隙にゲスト
ホスト液晶を注入することにより、ガラス基板を挟まず
に３層の液晶を積層するような液晶表示素子を提案して
いるが、この液晶表示素子では、視差による色ずれを解
消するとともに開口率をある程度増大させることは容易
にできるものの、現像液に溶出したレジストが絶縁膜に
遮られて拡散しにくいため、現像液の侵入口が小さいと
レジストが均一に除去されずに歩留まりが悪くなるおそ
れがある一方、現像液の侵入口を大きくすると、開口率
を上記液晶をカプセル化するものより大幅に大きくする
ことは困難であるという課題があった。

【００１２】また、従来の液晶表示素子は、以下のよう
な表示性能の低下についての課題も有している。

【００１３】一般に、１対のガラス基板または封止膜の
間に液晶が満たされて液晶層が構成される液晶表示素子
では、上記液晶層の厚さを一定に保つために、スペーサ
ーが用いられる。このスペーサーとして透明ものを用い
た場合には、必ずスペーサーが輝点になり、黒いものを
用いた場合には、必ず黒点となって画面上に表示され
る。この場合、３層構造の液晶表示素子では、各層毎に
スペーサーが存在するため、画面に対するスペーサーの
占める割合が大きくなる。したがって、従来型の３層構
造の液晶表示素子では、スペーサーの影響が極めて大き
くなる。

【００１４】さらに、シアン、マゼンタ、およびイエロ
ーの３層のゲストホスト液晶層が積層されるとともに、
背面に反射膜が配置された反射型カラー液晶表示素子に
おいて、各色の吸光スペクトルを測定し、オン状態また
はオフ状態で白黒表示となるように、色素濃度と液晶層
の厚みとを設定して、液晶層を積重ねると、白も黒も、
やや色付いてしまい、とくに最も前面にある液晶層の色
味が強くなる。

【００１５】本発明は上記従来の課題を考慮してなされ
たものであって、明るく、高コントラストで、反射型に
も適用可能であるうえ、視差に起因する色ずれがなく、
しかも製造上の歩留まりが高く製造コストの安い液晶表
示素子およびその製造方法の提供を目的としている。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のうちで請求項１の発明は、基板と封止板と
の間に液晶が充填されて液晶層を構成し、且つ上記基板
と上記封止板との間に存在する支持部材により封止板が
支えられる構造の表示層を有する液晶表示素子におい
て、上記支持部材と上記封止板とが同一組成の高分子か
ら成ると共に両者が一体的に形成されることによって上
記液晶層が保持され、且つ上記封止板の封止面と異なる
面には電極が形成され、更にこの電極、上記支持部材、
上記封止板及び上記液晶層によって表示層が構成される
ことを特徴とする。

【００１７】このような構成であれば、支持部材で支え
られる封止板の厚みを極めて小さくすることが可能とな
る。したがって、液晶表示素子における液晶の占める割
合が多くなるので、実効的な開口率が上がり、コントラ
ストを高くすることができる。また、封止板の厚みが小
さいので、液晶表示素子を低電圧で駆動することが可能
となり、しかも、ガラス基板が不要となるので、視差の
ない明るい表示を実現できることになる。

【００１８】また、請求項２の発明は、請求項１の発明
において、封止板の厚みが０．５〜１０μｍであること
を特徴とする。

【００１９】このように規制するのは、封止板の厚みが
余り小さいと、透明電極の形成時に変形して、皺やクラ
ックが生じる。一方、封止板の厚みが余り大きいと本発
明の効果が十分に発揮されない。したがって、封止板の
厚みは、上記の範囲に規制するのが望ましい。

【００２０】尚、従来技術のプラスチック基板を貼り合
わせる方法では、プラスチック基板の製造の困難性及び
貼り合わせの作業性から考えて、１０μｍ以下の薄い基
板を扱うのは困難であり、実際に市販されているプラス
チック基板は５０μｍ以上である。

【００２１】また、請求項３の発明は、請求項１の発明
において、表示層が複数設けられ、且つ各表示層中の液
晶層には各々異なる色の二色性色素が含まれていること
を特徴とする。

【００２２】このような構成により、液晶表示素子のカ
ラー化を容易に達成できる。

【００２３】また、請求項４の発明は、請求項１の発明
において、液晶層が３層構造を成し、且つこれら３層の
液晶層のうち少なくとも基板に近い２層の液晶層が、上
記構造の表示層により保持されることを特徴とする。

【００２４】このような構成とするのは、基板に近い２
層の液晶層では立体配線が必要となるため、請求項１に
記載した表示層と同様の構造でないと本発明の効果が発
揮されないのに対して、最も外側にある液晶層では立体
配線が不要となるため、必ずしも請求項１に記載した表
示層と同様の構造でなくとも本発明の効果が発揮される
からである。

【００２５】また、請求項５の発明は、請求項４の発明
において、３層の液晶層には各々異なる色の二色性色素
が含まれており、且つその二色性色素がシアン、マゼン
タ、又はイエローであることを特徴とする。

【００２６】このような構成により、液晶表示素子のカ
ラー化が達成される。

【００２７】また、請求項６の発明は、請求項５の発明
において、基板の表面又は３層の液晶層のうち最も外方
に位置する液晶層に、反射膜が形成されていることを特
徴とする。

【００２８】このように、基板の表面又は３層の液晶層
のうち最も外方に位置する液晶層に反射膜が存在すれ
ば、明るいカラー表示をできる反射型の液晶表示素子と
なる。

【００２９】また、請求項７の発明は、請求項５の発明
において、各表示層中の支持部材の色が、前記各液晶層
に含まれる二色性色素と同色であることを特徴とする。

【００３０】このような構成であれば、スペーサの影響
を極めて小さくすることができるので、液晶表示素子の
表示性能を格段に向上させることができる。

【００３１】また、請求項８の発明は、請求項７の発明
において、支持部材が顔料を分散した感光性高分子樹脂
により作成されることを特徴とする。

【００３２】このような構成であれば、支持部材の色付
けを容易に行うことができる。

【００３３】また、請求項９の発明は、請求項６の発明
において、３層の液晶層の二色性色素の吸光度の割合
を、各々の液晶層の吸光度を掛け合わせたときに無彩色
になる場合の割合と比べて、素子表面側にある液晶層ほ
ど小さくなるように規制することを特徴とする。

【００３４】このような構成であれば、表面側にある液
晶層ほど色味が強くなるのを抑制することができるの
で、白黒表示における色づきを抑えることが可能とな
る。

【００３５】上記目的を達成するために、本発明のうち
で請求項１０の発明は、基板の一方の面に高分子前駆体
と液晶との混合溶液を塗布することにより、基板上に混
合溶液の膜を形成する膜形成工程と、前記高分子前駆体
を前記膜表面で重合させて封止板を作製する封止板作製
工程と、前記基板の所定の部位に紫外線露光を行うこと
により前記高分子前駆体を前記膜中で重合さて支持部材
を作製する支持部材作製工程と、前記封止板上に電極を
作製する電極作製工程と、を含むことを特徴とする。

【００３６】このような方法であれば、液晶を注入する
工程を別途設ける必要がない。したがって、液晶表示素
子の製造プロセスが簡素化し、しかも歩留りの向上が図
られるので、液晶表示素子の製造コストが飛躍的に低減
される。

【００３７】また、請求項１１の発明は、請求項１０の
発明において、基板上に出力端子を有する駆動素子が形
成され、前記膜形成工程で上記駆動素子上にも高分子前
駆体と液晶とから成る混合溶液の膜が形成される場合、
前記支持部材作製工程における紫外線露光時に、少なく
とも、上記駆動素子の出力端子の近傍を除く領域と、基
板上に設けられた画素上にまんべんなく配した点状また
は線状パターンに対応する領域とに、紫外線露光を行っ
て前記高分子前駆体を前記膜中で重合させることを特徴
とする。

【００３８】この方法により、高分子から構成され、且
つ基板から膜表面に達する柱または壁構造の支持部材を
容易に作製することができる。

【００３９】また、請求項１２の発明は、請求項１０の
発明において、封止板作製工程において、前記混合溶液
の膜の上に、当該混合溶液と相溶しない溶媒中に前記高
分子前駆体の重合を促進する物質を溶かした溶液を塗布
して、膜表面で高分子前駆体を重合させることを特徴と
する。

【００４０】このような方法であれば、高分子の膜から
成る封止板を容易に作製することができる。

【００４１】また、請求項１３の発明は、請求項１２の
発明において、基板上に、出力端子を有する駆動素子が
形成され、前記膜形成工程で上記駆動素子上にも高分子
前駆体と液晶とから成る混合溶液の膜が形成される場
合、前記混合溶液と相溶しない溶媒中に、紫外線露光に
より前記高分子前駆体の重合を促進させる物質を溶かし
た溶液を塗布した後、前記出力端子の近傍を除く領域に
紫外線露光を行って前記高分子前駆体を前記膜中で重合
させることにより、前記出力端子の近傍を除く領域の高
分子前駆体をほぼ全て重合させた後、膜表面の高分子前
駆体を重合させることを特徴とする。

【００４２】このような方法であれば、紫外線露光され
なかった部位（駆動素子の出力端子の近傍領域）には高
分子から成る膜が殆ど形成されることがない。したがっ
て、当該部位における高分子から成る膜を容易に除去す
ることができる。

【００４３】また、請求項１４の発明は、請求項１３の
発明において、膜表面の高分子前駆体を、前記出力端子
の近傍領域を除く領域に紫外線を照射して重合させるこ
とを特徴とする。

【００４４】このような方法であれば、駆動素子の出力
端子上には高分子から成る膜が全く形成されることがな
い。

【００４５】また、請求項１５の発明は、請求項１３の
発明において、膜表面の高分子前駆体を、偏光紫外線を
照射して重合させることを特徴とする。

【００４６】このような方法であれば、偏光方向に高分
子の重合度合いが異方性を持つので、高分子上の液晶を
配向させることができる。

【００４７】また、請求項１６の発明は、請求項１２の
発明において、高分子前駆体がアクリル分子から成り、
溶媒が純水を主成分とし、且つ重合を促進する物質がア
ミンから成ることを特徴とする。

【００４８】上記アミンは両親媒性があるので、液晶中
へ拡散することができる。したがって、上記の方法であ
れば、封止板の厚みを制御することが可能となる。

【００４９】さらに、上記の課題を解決するために、請
求項１７の発明は、支持部材を介して設けられた基板と
封止膜との間に液晶が封入された液晶表示素子の製造方
法において、上記基板上に上記支持部材を形成する工程
と、板状部材上に上記封止膜を形成する工程と、上記板
状部材上に形成された封止膜を上記基板上に形成された
支持部材に転写する転写工程と、上記基板と上記封止膜
との間に上記液晶を封入する封入工程とを有することを
特徴としている。

【００５０】また、請求項１８の発明は、支持部材を介
して設けられた基板と封止膜との間に液晶が封入された
液晶表示素子の製造方法において、板状部材上に上記封
止膜を形成する工程と、上記板状部材上に形成された封
止膜上に上記支持部材を形成する工程と、上記板状部材
上に形成された封止膜および上記支持部材を上記基板に
転写する転写工程と、上記基板と上記封止膜との間に上
記液晶を封入する封入工程とを有することを特徴として
いる。

【００５１】これらのように、板状部材上に形成された
封止膜を基板側に転写することによって、封止膜として
のフィルム状のプラスチック基板などを単独で取り扱っ
て積層などする場合に比べて、封止膜の取り扱いが格段
に容易になるので、封止膜を非常に薄いものにすること
ができ、液晶の駆動電圧を容易に低減することができ
る。また、液晶をマイクロカプセル状に閉じ込める壁な
どを設ける必要がないので、実効的な開口率を大きくし
て、コントラストを大幅に向上させることができる。

【００５２】請求項１９の発明は、請求項１７または請
求項１８の液晶表示素子の製造方法であって、さらに、
上記板状部材に封止膜を形成する工程に先立って、上記
板状部材の表面に離形処理を施す工程を有することを特
徴としている。

【００５３】これにより、転写工程において、封止膜に
作用する力を軽減できるので、封止膜に損傷を与えるこ
となく板状部材から封止膜を剥離させることが容易にで
きるので、転写工程を容易にすることができる。

【００５４】請求項２０または請求項２１の発明は、請
求項１７の液晶表示素子の製造方法であって、上記転写
工程において、上記基板上に形成された支持部材と、上
記転写される封止膜と、または上記基板と、上記転写さ
れる支持部材とを接着することを特徴としている。

【００５５】これにより、やはり封止膜を板状部材から
剥離させることが容易にできるので、転写工程を容易に
することができるうえ、液晶の厚さを一定に保ち、表示
の均一性を容易に向上させることができる。

【００５６】請求項２２の発明は、請求項２０の液晶表
示素子の製造方法であって、上記支持部材、および上記
封止膜が、エネルギ線の照射により重合性を有する材料
から成り、上記接着は、上記支持部材と上記封止膜とを
密着させた状態でエネルギ線を照射して重合させること
により行うことを特徴としている。

【００５７】これにより、簡単かつ確実に支持部材と封
止膜との接着を行うことができる。しかも、封止膜に開
口部を形成するなどのためにエネルギ線の照射工程が設
けられる場合には、これと同時に上記接着を行うことが
できるので、製造工程を簡素化することができる。

【００５８】請求項２３の発明は、請求項１７または請
求項１８の液晶表示素子の製造方法であって、上記転写
工程に先立って、上記基板における液晶封入領域の周辺
部に、上記基板と上記封止膜とを接着するシール剤層を
形成し、上記シール剤層によって囲まれた領域に上記液
晶を充填した後に、上記板状部材上に形成された封止
膜、または封止膜および支持部材を転写することによ
り、上記転写工程と上記封入工程とを同時に行うことを
特徴としている。

【００５９】これにより、別途液晶を封入する工程を設
ける必要がないので、製造工程を簡素化することができ
る。

【００６０】請求項２４の発明は、請求項１７の液晶表
示素子の製造方法であって、さらに、既に転写された上
記封止膜上に新たな支持部材を形成する工程と、板状部
材上に新たな封止膜を形成する工程と、上記板状部材上
に形成された新たな封止膜を、上記封止膜上に形成され
た新たな支持部材に転写する転写工程と、上記２つの封
止膜の間に液晶を封入する封入工程とをそれぞれ少なく
とも１回行うことにより、複数の液晶封入層を形成する
ことを特徴としている。

【００６１】また、請求項２５の発明は、請求項１８の
液晶表示素子の製造方法であって、さらに、板状部材上
に新たな封止膜を形成する工程と、上記板状部材上に形
成された新たな封止膜上に新たな支持部材を形成する工
程と、上記板状部材上に形成された新たな封止膜および
支持部材を、既に転写された上記封止膜に転写する転写
工程と、上記２つの封止膜の間に液晶を封入する封入工
程とをそれぞれ少なくとも１回行うことにより、複数の
液晶封入層を形成することを特徴としている。

【００６２】これらにより、非常に薄い封止膜を用いた
複数の液晶封入層を容易に積層することができるので、
各液晶封入層に対する視差を容易に低減することができ
る。

【００６３】請求項２６の発明は、請求項１７または請
求項１８の液晶表示素子の製造方法であって、上記封止
膜が感光性材料から成るとともに、さらに、上記封止膜
の露光および現像により、上記封止膜に、その封止膜を
通して導電させる電極用の開口部を形成する工程を有す
ることを特徴としている。

【００６４】これにより、例えば封止膜上に設けられた
画素電極と基板上に設けられた薄膜トランジスタとを接
続する電極を形成するための開口部を容易に形成するこ
とができる。しかも、支持部材と封止膜との接着などの
ためにエネルギ線の照射工程が設けられる場合には、こ
れと同時に上記開口部の形成を行うことができるので、
製造工程を簡素化することができる。

【００６５】請求項２７の発明は、請求項１７または請
求項１８の液晶表示素子の製造方法であって、上記転写
工程において、上記板状部材上に形成された上記封止膜
における所定の部分の転写を阻止することにより、上記
封止膜に、その封止膜を通して導電させる電極用の開口
部を形成することを特徴としている。

【００６６】これにより、封止膜の転写工程で同時に上
記開口部の形成を行うことができるので、製造工程を簡
素化することができる。

【００６７】請求項２８の発明は、請求項２７の液晶表
示素子の製造方法であって、さらに、上記板状部材に上
記封止膜を形成する工程に先立って、上記板状部材の表
面における封止膜を転写する部分だけに離形処理を施す
工程を有することを特徴としている。

【００６８】これにより、容易に所定の部分の転写を阻
止して上記開口部の形成を行うことができる。

【００６９】請求項２９の発明は、基板と封止膜との間
に液晶が封入された液晶表示素子の製造方法において、
上記基板上に気化性を有する固形膜を形成する工程と、
上記固形膜上に上記封止膜を形成する工程と、上記固形
膜を気化させて排出することにより、上記基板と上記封
止膜との間に空隙を形成する空隙形成工程と、上記空隙
に上記液晶を封入する工程とを有することを特徴として
いる。

【００７０】このように、固形膜上に封止膜を形成する
ことによって、封止膜としてのフィルム状のプラスチッ
ク基板を積層する場合などのように、封止膜を単独で取
り扱って積層する必要がないので、封止膜を非常に薄い
ものにすることができ、液晶の駆動電圧を容易に低減す
ることができる。また、液晶をマイクロカプセル状に閉
じ込める壁などを設ける必要がないので、実効的な開口
率を大きく保つことができる。

【００７１】請求項３０の発明は、請求項２９の液晶表
示素子の製造方法であって、上記固形膜は、加熱または
減圧の少なくとも何れか一方が行われた状態で気化性を
有する材料から成ることを特徴としている。

【００７２】これにより、常温や常圧での固形膜の取り
扱いが容易になるとともに、加熱や減圧を行うことによ
って、固形膜の気化および排出を速やかに行うことがで
きる。また、上記加熱をレーザービームなどの照射によ
って行う場合には、固形膜を部分的に気化させることな
どもできる。

【００７３】請求項３１の発明は、請求項２９または請
求項３０の液晶表示素子の製造方法であって、上記空隙
形成工程は、上記固形膜における所定の領域の部分を気
化させて排出することにより、上記基板と上記封止膜と
の間に上記空隙を形成するとともに、上記固形膜におけ
る残存した部分により、上記封止膜を支持する支持部材
を形成する工程であることを特徴としている。

【００７４】これにより、液晶を封入するための空隙の
形成と、封止膜を支持する支持部材の形成とを同時に行
うことができ、別途支持部材を形成する工程を設ける必
要がないので、製造工程を簡素化することができる。

【００７５】請求項３２の発明は、請求項３１の液晶表
示素子の製造方法であって、上記固形膜は、エネルギ線
の照射、またはエネルギ線の照射および加熱により気化
性を有する材料から成り、上記固形膜における所定の領
域の部分だけにエネルギ線の照射、またはエネルギ線の
照射および加熱をすることにより、上記所定の領域の固
形膜に気化性を持たせることを特徴としている。

【００７６】これにより、固形膜の形成などにおける固
形膜の取り扱いが容易になるとともに、所望の領域に精
密な空隙および支持部材を形成することが容易にでき
る。

【００７７】請求項３３の発明は、請求項３２の液晶表
示素子の製造方法であって、上記固形膜は、紫外線の照
射によりポリマーからモノマーに解重合するポジ型フォ
トレジストであることを特徴としている。

【００７８】これにより、固形膜に選択的に気化性を持
たせることが容易にできる。

【００７９】請求項３４の発明は、請求項３１の液晶表
示素子の製造方法であって、さらに、上記形成された支
持部材を安定化させる工程を有することを特徴としてい
る。

【００８０】これにより、支持部材の紫外線に対する耐
性を向上させて、液晶の厚さを一定に保つことが容易に
できる。

【００８１】請求項３５の発明は、請求項２９または請
求項３０の液晶表示素子の製造方法であって、さらに、
上記固形膜を形成する工程に先立って、上記基板上に上
記封止膜を支持する支持部材を形成する工程を有するこ
とを特徴としている。

【００８２】これにより、固形膜を選択的に残存させた
りする必要がないので、固形膜として、感光性などを有
するものに限らず、気化性を有する種々の材料を適用す
ることができる。

【００８３】請求項３６の発明は、請求項２９ないし請
求項３５の液晶表示素子の製造方法であって、さらに、
既に形成された封止膜上に気化性を有する新たな固形膜
を形成する工程と、上記固形膜上に新たな封止膜を形成
する工程と、上記固形膜を気化させて排出することによ
り、上記２つの封止膜の間に空隙を形成する空隙形成工
程と、上記空隙に液晶を封入する工程とをそれぞれ少な
くとも１回行うことにより、複数の液晶封入層を形成す
ることを特徴としている。

【００８４】これにより、非常に薄い封止膜を用いた複
数の液晶封入層を容易に積層することができるので、各
液晶封入層に対する視差を容易に低減することができ
る。

【００８５】請求項３７の発明は、請求項２４、もしく
は請求項２５の液晶表示素子の製造方法、または請求項
３１もしくは請求項３５の液晶表示素子の製造方法につ
いての請求項３６の液晶表示素子の製造方法であって、
上記基板と上記封止膜との間、および上記各封止膜の間
に設けられる上記支持部材を、それぞれ同一の位置に配
置して形成することを特徴としている。

【００８６】これにより、積層された各液晶封入層にお
ける液晶の厚さを一定に保つことが容易にでき、表示の
均一性を向上させることができる。

【００８７】請求項３８の発明は、請求項３７の液晶表
示素子の製造方法であって、上記支持部材を、上記封止
膜に平行な断面の形状がほぼ長方形または長円形になる
ように形成するとともに、各封止膜を挟む支持部材にお
ける上記断面形状の長手方向が互いに異なるように配置
して形成することを特徴としている。

【００８８】これにより、支持部材の位置ずれに対する
許容度が大きくなるので、確実に各液晶の厚さを一定に
保つことができ、また、製造上の歩留まりを向上させ、
製造コストを低減することができる。

【００８９】請求項３９の発明は、請求項２４、もしく
は請求項２５の液晶表示素子の製造方法、または請求項
３１もしくは請求項３５の液晶表示素子の製造方法につ
いての請求項３６の液晶表示素子の製造方法であって、
上記支持部材を、画素領域の間に、複数の画素領域にわ
たる長さに形成するとともに、各封止膜を挟む支持部材
が、その長手方向が互いに異なるように配置して形成す
ることを特徴としている。

【００９０】これにより、積層された各液晶封入層にお
ける液晶の厚さを一定に保つことが容易にできるうえ、
画素領域を透過する光が支持部材によって遮られること
がないので、実効的な開口率を大きく保つことができる
とともに、支持部材の位置ずれに対する許容度が大きく
なるので、確実に各液晶の厚さを一定に保つことがで
き、また、製造上の歩留まりを向上させ、製造コストを
低減することができる。

【００９１】請求項４０の発明は、請求項２４、請求項
２５または請求項３６の液晶表示素子の製造方法であっ
て、上記液晶は、それぞれ互いに異なる色の２色性色素
を含むゲストホスト液晶であることを特徴としている。

【００９２】上記２色性色素としては、例えばシアン、
マゼンタ、またはイエローの減法混色の３原色の二色性
色素を用いることができ、偏光板やカラーフィルタを用
いることなく明るいカラー表示が可能で、しかも、視差
に起因する色ずれ等を解消した液晶表示素子を容易に製
造することができる。

【００９３】請求項４１の発明は、請求項１７ないし請
求項４０の液晶表示素子の製造方法であって、さらに、
上記液晶を透過した光を反射する反射膜を形成する工程
を有することを特徴としている。

【００９４】これにより、外光によっても明るいカラー
表示が可能で、しかも、視差に起因する色ずれ等を解消
した液晶表示素子等を容易に製造することができる。

【００９５】請求項４２の発明は、基板と、上記基板に
設けられた支持部材と、板状部材上に形成され、上記支
持部材に転写されて成る封止膜と、上記基板と封止膜と
の間に封入された液晶とを備えたことを特徴としてい
る。

【００９６】これにより、非常に薄い封止膜を用いて液
晶の駆動電圧を低減するとともに、実効的な開口率が大
きく高コントラストな液晶表示素子を得ることができ
る。

【００９７】請求項４３の発明は、基板と封止膜との間
に液晶が封入されて成る液晶表示素子であって、上記封
止膜が、上記基板上に形成された固形膜上に形成された
ものであるとともに、上記液晶が、上記固形膜を気化さ
せて排出することにより形成された空隙に封入されたも
のであることを特徴としている。

【００９８】これにより、やはり、非常に薄い封止膜を
用いて液晶の駆動電圧を低減するとともに、実効的な開
口率が大きく高コントラストな液晶表示素子を得ること
ができる。

【００９９】

【発明の実施の形態】

（実施の形態１）本発明の実施の形態を図１〜図４に基
づいて、以下に説明する。尚、図１は本発明の液晶表示
素子の平面図、図２は図１のＡ−Ａ線矢視断面図、図３
は本発明の液晶表示素子の製造工程を示す断面図、図４
は本発明の３層構造の液晶表示素子の断面図である。

【０１００】図１及び図２に示すように、ホウケイ酸ガ
ラスからなる基板１０１上には、ａ−Ｓｉ（アモルファ
スシリコン）から成る薄膜トランジスター（以下ＴＦＴ
素子と呼ぶ) １０２、１０３、１０４が形成されてい
る。ＴＦＴ素子１０３、１０４は、各々本体部１０３
ａ、１０４ａとドレイン端子（出力端子）１０３ｂ、１
０４ｂとを有している。また、ＴＦＴ素子１０２は、ア
ルミからなり反射電極１０２ｄを兼ねるドレイン端子を
有している。この反射電極１０２ｄ上には第１液晶層１
１４が形成されており、この第１液晶層１１４は、カイ
ラル剤を微量入れてねじれピッチを４．３μｍに調整し
たフッ素系のネマチック液晶（Δｎが０．０６５）にシ
アン色の二色性色素を２重量％の割合で溶解させたゲス
トホスト液晶から構成される。上記第１液晶層１１４上
には封止板１１３（厚み：約１μｍ）が設けられてお
り、この封止板１１３によって前記第１液晶層１１４の
液晶が封止されることになる。また、上記封止板１１３
は、後述のスペーサー１０８…、仕切り壁１０９、及び
立体配線用パッド１０７…と同一組成の高分子（具体的
には、アクリル高分子）から成り、またこれらと一体的
に形成されている。

【０１０１】上記ＴＦＴ素子１０３、１０４の本体部１
０３ａ、１０４ａの全表面上及びドレイン端子１０３
ｂ、１０４ｂの一部表面上には立体配線用パッド１０７
…が形成されている。これら立体配線用パッド１０７…
間には立体配線用の開口部１１０、１１１（直径：４μ
ｍ）が形成されており、この開口部１１０、１１１の底
部には、上記ＴＦＴ素子１０３、１０４のドレイン端子
１０３ｂ、１０４ｂの一部が露出する構成である。ま
た、前記基板１０１上には画素を取り囲む仕切り壁１０
９が形成されており、上記画素内には、２０μｍピッチ
でまんべんなく柱状のスペーサー１０８…（直径：３μ
ｍ）が形成されている。これらスペーサー１０８…、上
記立体配線用パッド１０７…、及び上記仕切り壁１０９
により、前記封止板１１３の支持部材１１９が構成され
る。更に、封止板１１３、立体配線用パッド１０７…、
及び開口部１１０、１１１上には、透明電極１１５、１
１６が形成されており、この透明電極１１５、上記第１
液晶層１１４、上記支持部材１１９、及び上記封止板１
１３により、第１表示層１１７が構成される。

【０１０２】また、図４に示すように、上記第１表示層
１１７上には、第１表示層１１７と略同一構造の第２表
示層１２２及び第３表示層１２３が設けられている。上
記第２表示層１２２と第１表示層１１７との相違点は、
第２液晶層１２６中の二色性色素をマゼンタに設定した
こと、及びＴＦＴ素子１０４上の立体配線用パッド１０
７と透明電極１１６との表面に、立体配線用パッド１２
１を設けていることであり、上記第３表示層１２３と第
１表示層１１７との相違点は、第３液晶層１２７中の二
色性色素をイエローに設定したこと、及び立体配線用パ
ッドを形成しないことである。

【０１０３】ここで、本実施の形態では封止板１１３の
厚みを１μｍとしたが、どのような範囲であれば液晶表
示素子の性能を向上させることができるかについて、第
１表示層１１７を例にとって以下に考察する。

【０１０４】封止板１１３が薄いほど第１液晶層１１４
に印加される電圧が増すので、ＴＦＴ素子の駆動電圧を
下げることができる。したがって、この点からは封止板
１１３をなるべく薄くするのが望ましい。しかし、封止
板１１３が薄過ぎると、透明電極１１５を形成するとき
に変形し、皺やクラックが生じる。具体的には、透明電
極１１５の成膜を常温で行った場合でも、封止板１１３
の厚みが約０．５μｍ未満では皺が生じることが確認さ
れた。したがって、封止板１１３の厚みは、０．５μｍ
以上に規制するのが望ましい。

【０１０５】一方、封止板１１３の厚みが大きいと、ス
ペーサー１０８…の密度を低くすることができるが、第
１液晶層１１４に印加される電圧が下がり、しかも立体
配線用の開口部１１０、１１１の直径が大きくなって開
口率（画素電極の占める割合）が下がってしまうという
問題が生じる。ここで、ＴＦＴ素子１０２、１０３、１
０４の耐電圧性から１０Ｖ以上の駆動電圧を印加するの
は困難であり、しかも液晶のＯＮ電圧が５Ｖは必要であ
ることを勘案すると、第１液晶層１１４に印加される電
圧はＴＦＴ素子１０２、１０３、１０４の駆動電圧の１
／２以上は必要となる。この場合、高分子から成る封止
板１１３の誘電率は、液晶の誘電率と略同程度であるの
で、封止板１１３の厚みは、第１液晶層１１４の厚み以
下にしないと、ＴＦＴ素子１０２、１０３、１０４の駆
動電圧の１／２以上の電圧を液晶に印加することができ
ない。また、第１液晶層１１４の厚みは、応答速度の観
点から１０μｍ以下とするのが良い。これらのことか
ら、封止板１１３の厚みは１０μｍ以下に規制するする
のが望ましい。尚、この場合、画素ピッチが１００μｍ
程度と細かい場合でも、開口率の低下は数パーセント以
下となり影響は小さいことを確認した。

【０１０６】以上のことから、封止板１１３の厚みは、
０．５〜１０μｍに規制するのが望ましい。

【０１０７】ここで、上記構造の液晶表示素子の製造方
法を、以下に示す。

【０１０８】初めに、図３（ａ）に示すように、ホウケ
イ酸ガラスからなる基板１０１上に、ａ−Ｓｉから成る
ＴＦＴ素子１０２、１０３、１０４を形成した。次に、
図３（ｂ）に示すように、上記基板１０１上に、カイラ
ル剤を微量入れてねじれピッチを４．３μｍに調整した
フッ素系のネマチック液晶（Δｎが０．０６５）にシア
ン色の二色性色素を２重量％溶解させたゲストホスト液
晶と、住友スリーエム株式会社製の感光性アクリル樹脂
（高分子前駆体）とを２：１の割合で相溶させた混合溶
液を、ロールコーターにより塗布し、混合溶液の膜１０
５（厚み：４．０μｍ）を形成した。上記感光性アクリ
ル樹脂は透明であり、また紫外線、熱、および触媒によ
り硬化する。

【０１０９】次いで、図３（ｃ）に示すように、混合溶
液の膜１０５が形成された基板を、チッソ雰囲気中にお
いて、ステッパーによりマスク１０６を介して紫外線露
光を行い、露光部の混合溶液の膜中のアクリル樹脂を重
合させた。この重合工程において、立体配線用パッド１
０７…、この立体配線用パッド１０７…間にある開口部
１１０、１１１、仕切り壁１０９、及びスペーサー１０
８が形成された。尚、重合工程における重合部分は図１
において点状のハッチで示している。また、重合工程に
おいて、紫外線によりアクリル樹脂を重合をさせると、
混合溶液中のアクリル樹脂が拡散により液中を移動す
る。したがって、上記立体配線用パッド１０７…に囲ま
れたドレイン端子１０３ｂ、１０４ｂ上の混合溶液中の
アクリル樹脂は重合で消費され、しかも立体配線用パッ
ド１０７により樹脂の供給が阻害される（即ち、矢符Ｂ
方向に樹脂は移動しない）。したがって、開口部１１
０、１１１中の混合溶液はネマチック液晶相となってい
る。

【０１１０】次に、図３（ｄ）に示すように、前記アク
リル樹脂のアミン系活性化剤を純水とイソプロピルアル
コールの容積比１０：１の混合溶媒に５重量％溶解させ
た溶液を作製した後、この溶液を混合溶液の膜１０５上
にスポイドで静かに垂らして、膜１１２を形成した。こ
の状態で１８０秒放置すると、混合溶液の表面でアクリ
ル樹脂が重合し、図３（ｅ）に示すように、アクリル高
分子膜から成る封止板１１３が形成された。この封止板
１１３は、膜中で重合させた前記スペーサー１０８、前
記仕切り壁１０９、及び前記立体配線用パッド１０７と
同一組成であり且つ一体的に形成されている。

【０１１１】尚、活性化剤の溶媒として、混合溶液と相
溶しない純水を主としたことにより、２種類の溶液が分
離している状態が保持される。したがって、活性化剤は
膜の表面から供給されるので、表面から重合が進む。ま
た、イソプロピルアルコールを水に少し混ぜたのは、濡
れ性の改善の為であるが、溶媒は混合溶液と容易に相溶
しない溶媒であれば、純水に限定されることはない。

【０１１２】更に、上記重合工程において、開口部１１
０、１１１の表面にも極薄い被膜が形成されたが、純水
で洗浄すると被膜は壊れた。したがって、図３（ｆ）に
示すように、開口部１１０、１１１内にあるドレイン端
子１０３ｂ、１０４ｂ上に膜が残ることはない。一方、
混合溶液中のアクリル樹脂は封止板１１３の形成時に消
費されているので、封止板１１３と反射電極１０２ｄと
の間にはほぼ完全にゲストホスト液晶のみが存在する。
したがって、封止板１１３と反射電極１０２ｄとの間に
は、水平配向でねじれネマチック配向した第１液晶層１
１４が形成される。尚、配向方向は揃っていないが、第
１液晶層１１４の厚みが３μｍなので、約２５０度ねじ
れていると考えられ、また濃いシアン色が観察された。

【０１１３】しかる後、基板を１０５℃で乾燥後、スパ
ッタリング法により酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からな
る膜を、基板１０１を１２０℃に加熱した状態で形成
し、更にフォトリソグラフィ技術と塩化第２鉄によるエ
ッチング技術とでパターニングし、図１の２点鎖線で示
す透明電極１１５を作製した。この透明電極１１５は、
前記反射電極１０２ｄと対向する第２の画素電極とな
り、開口部１１０を介してＴＦＴ素子１０３のドレイン
端子１０３ｂに接続されている。尚、ＴＦＴ素子１０２
とＴＦＴ素子１０３の出力電位差に液晶は応答し、電圧
印加に伴い色が薄くなるのが確認された。

【０１１４】以上の工程を繰り返すことにより、シア
ン、マゼンタ、イエローの３色の二色性色素を含む３層
の液晶層を、電極と高分子膜の間に挟んで積層した。こ
のようにして作製した本発明の液晶表示素子の断面図を
図４に示す。

【０１１５】具体的には、第２液晶層１２６中の二色性
色素をマゼンタ色に設定し、且つシアン色の第１液晶層
１１４に形成されたＴＦＴ素子１０４のドレイン上の立
体配線用パッド１０７と透明電極１１６との上に、立体
配線用パッド１２１を設けること以外は、第１液晶層１
１４の作製と同じ工程で、マゼンタのゲストホスト液晶
を含むマゼンタ色の第２液晶層１２６を形成し、更に透
明電極１２５を設けた。二色性色素をイエローにしたゲ
ストホスト液晶を含む第３液晶層１２７についても同じ
工程で形成した。但し、第３液晶層１２７の形成時に
は、ＩＴＯからなる共通電極１２４とＴＦＴ素子１０４
につながる透明電極１２５との間で電圧を印加するの
で、立体配線は不要となる。したがって、第３液晶層１
２７については、ガラスの対向基板を用いた通常の工程
で形成することも可能である。

【０１１６】尚、これらの液晶層１１４、１２６、１２
７を各トランジスタで駆動した結果、視差のない明るい
反射カラー液晶表示がなされることを確認した。

【０１１７】以上のように、本発明の液晶表示素子は、
基板上に液晶と高分子前駆体を含む混合溶液を塗布して
から紫外線照射および活性化剤を用いた重合を実施し、
その上に電極を形成することにより作製されるので、従
来に比べて簡単な工程で作製でき、且つ対向ガラス基板
を用いることなく液晶層を基板上に形成し、基板と封止
板との間に液晶を封止することが可能になった。

【０１１８】また、所定の部分に紫外線露光を行って膜
中で高分子前駆体を重合させる工程により形成されるス
ペーサーは、表面の封止板を１．０μｍと薄くしたの
で、この封止板及び対向電極を支えるために設けた。但
し、スペーサーのピッチが２０μｍであり、また直径が
３μｍなので、画素電極上に液晶が存在する割合（実効
的な開口率）は約９８％となる。したがって、従来のカ
プセルで液晶を保持する方法に比べて実効的な開口率が
格段に高くなる。また、スペーサーのピッチは５０μｍ
以上にすると封止板が変形するので、スペーサーのピッ
チは５０μｍ以下とするのが望ましい。

【０１１９】本実施の形態では、立体配線を形成する開
口部上に被膜ができないようにするため、先に膜中のア
クリル樹脂を重合させたが、膜表面を先に重合させてか
ら、所定の部分を露光して膜中の重合を行ってもよい。
但し、この場合には、立体配線の開口部上に厚い被膜が
形成されるので、後で除去する工程が必要となる。

【０１２０】また、混合溶液の膜表面で重合を行うため
に、本実施の形態ではアミン系の活性化剤を用いたが、
混合溶液に非相溶な溶媒に溶ける物質であれば上記と同
様の作用が発揮される。但し、アミンのように両親媒性
がある方が液晶中へ拡散して被膜の厚みを制御できるの
で、両親媒性のある物質を使用するのが望ましい。

【０１２１】更に、膜表面での重合を行う方法として、
表面に沿って熱風を流す方法や、活性化剤などの重合促
進剤をガス化して基板表面をガスに晒すような方法で行
っても良い。また、重合を促進する物質としては前記活
性化剤に限定するものではなく、重合開始剤や、反応に
必要で反応生成物となるモノマーなどを用いてもよい。

【０１２２】加えて、本実施の形態では、活性化剤の溶
液を塗布して放置することにより表面を重合させたが、
このような方法に限定するものではなく、例えば図３
（ｅ）に示す状態で、重合開始剤などの反応促進物質を
混合溶液上に塗布し、紫外線を基板全体または、開口部
以外の部分に照射して重合させても、表面から重合させ
ることができる。この際、偏光させた紫外線を照射すれ
ば、偏光方向に高分子の重合度合いが異方性を持つこと
になるので、高分子上の液晶を配向させることができ
る。本実施の形態の場合は、アモルファス状態でねじれ
配向していたが、このようにして配向させることで、コ
ントラスト比を少し上げることができる。

【０１２３】また、本実施の形態では反射膜を基板上に
設けたが、このような構造に限定するものではなく、例
えば基板上の電極を透明電極とし、且つ液晶層の最も外
側表面に反射膜を形成するような構造であっても良い。

【０１２４】ところで、上記本発明の液晶表示素子にお
いては、各色の二色性色素の濃度は、シアン色を２％と
し、その他の色の色素濃度は、電圧印加時に黒が最も無
彩色に近づくように、濃度を調整した。具体的には、ま
ず、各色のゲストホスト液晶が充填されたセル（セルギ
ャップ：３μｍ）を作成し、各々の分光吸収スペクトル
を測定したデータを基に、吸光度が濃度に比例すること
を考慮して、各吸収スペクトルを足し合わせて３層を重
ねた場合の色座標を計算した。この結果、最も無彩色に
近い濃度バランスとなるのは、理論上、マゼンタが３．
０％、イエローが２．４％の割合で添加されているとき
である。しかし、実際に３層重ねたセルでは、上にある
液晶層の色味が強くなり、上記の例では、上からイエロ
ー、マゼンタ、シアンの順に存在しているので、黄緑色
っぽく見えた。そこで、イエローとマゼンタの濃度を上
記の値から０．０４％の倍数で減らしたパネル１６種を
作成すると、最も無彩色に近いのはイエローが２．２８
％、マゼンタが２．９６％の割合で添加されている場合
であった。即ち、基準となった濃度から、イエローが５
％、マゼンタが１．３％減らしたことになる。また、液
晶層の順番を変えて上記と同様の実験を行ったところ、
やはり表面側にある液晶層の色素濃度ほど基準濃度から
減らした方が無彩色に近くなることが確認できた。した
がって、液晶表示素子の表示性能を向上させるには、上
記のような調整を行うことが望ましい。尚、白の場合
は、色づきはやや目立ちにくいが、やはり同様に表面に
ある液晶層の色に色づくので、白を基準に濃度を調整す
る場合も同様の吸光度バランスとすることが望ましい。

【０１２５】（実施の形態２）実施の形態１で作成した
シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の各々
の二色性色素を含む液晶層を３層積み重ねた本発明の液
晶表示素子は、透明なアクリル樹脂によりスペーサーを
形成したが、電圧を印加しない黒表示のときに、スペー
サーが輝点として少し目立った。そこで、液晶と混ぜる
アクリル樹脂に各液晶層の二色性色素の色と同じ色の顔
料を分散したものを用いて、実施の形態１と同じ製造方
法でＣＭＹ３色の３層の液晶層を積み重ねた。

【０１２６】その結果、黒表示時の輝点がなくなってい
ることを確認した。また、白表示のときには、若干ＣＭ
Ｙの各色のスペーサーが見えるが、目立ちにくくなって
いることを確認した。更に、その他の色のときには、印
加電圧が小さくて吸収の大きい液晶層のスペーサーはほ
とんど見えなくなっていることを確認した。例えば、緑
色を表示するときには、マゼンタの液晶層は吸収が小さ
く、シアンとイエローの液晶層は吸収が大きいので、マ
ゼンタ色のスペーサーのみが見えて、その他のスペーサ
ーは見えなくなっていた。

【０１２７】尚、黒表示のときの輝点を減らすために、
従来の透過型液晶などでは、黒スペーサーを使うことが
あるが、このように黒スペーサーを用いた場合には、ス
ペーサーが常に黒点になる。これに対し、上記の如く色
スペーサーを用いれば、目立つスペーサーの数は平均す
るとかなり減少する。このことは、ガラス基板のパネル
を３枚重ねる構造の液晶表示素子であっても、スペーサ
ーの色を二色性色素の色と一致させておけば、同様の効
果があることは勿論である。

【０１２８】また、カラーフィルターを用いる加法混色
の場合は、場所によりスペーサーの色を変えるという困
難なプロセスが必要であるため、上記の如く色スペーサ
ーを用いるという技術は適用が困難であるが、積層型の
液晶パネルの場合は上記の如く適用が容易であり、しか
も、スペーサーの総数が多いので得られる効果が極めて
大きい。

【０１２９】（実施の形態３）まず、本発明の実施の形
態３の製造方法により製造される液晶表示素子の構造を
説明する。

【０１３０】図５は、液晶表示素子の１画素あたりの構
成を示す断面正面図である。

【０１３１】図６は、液晶表示素子の１画素あたりの構
成を示す断面平面図である。

【０１３２】図７は、液晶表示素子の全体の構成を示す
断面平面図である。

【０１３３】なお、この液晶表示素子は、例えば対角線
寸法が５ｃｍ、画素ピッチが０．３ｍｍに形成されてい
るが、各図においては、必要に応じて拡大、縮小、およ
び模式化して描いている。

【０１３４】この液晶表示素子は、図５に示すように、
ガラス基板２１１に、それぞれシアン、マゼンタ、また
はイエローのゲストホスト液晶２３１・２４１・２５１
が充填された３つの液晶層２３０・２４０・２５０が設
けられて構成されている。

【０１３５】上記ガラス基板２１１には、図６に示すよ
うに、例えばアルミニウムから成るソースライン２１２
〜２１４、ゲートライン２１５、反射膜を兼ねる画素電
極２３２、および中継電極２１６・２１７が形成されて
いる。ガラス基板２１１には、さらに、これらのソース
ライン２１２…等に接続されたＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）２１８〜２２０、および図７に示すように、画像表
示領域２２６の周辺部に配置され、ソースライン２１２
…、およびゲートライン２１５に駆動電圧を印加する駆
動回路２２７・２２８が設けられている。

【０１３６】また、上記液晶層２３０に充填されるゲス
トホスト液晶２３１…としては、例えばそれぞれゲスト
としてのシアン、マゼンタ、またはイエローの減法混色
の３原色の二色性色素を、ホストとしてのフッ素系ｐ型
ネマチック液晶に溶かした混合物に、さらに、ねじれピ
ッチが４．３μｍになるようにカイラル剤を添加したカ
イラルネマチック液晶が用いられる。これらのゲストホ
スト液晶２３１…は、アモルファス状態で約２５０°ね
じれた水平配向を示しており、電圧が印加されていない
状態では赤、緑、または青の光が吸収されることにより
ゲストの色が表示される一方、電圧が印加されている状
態では光の吸収量が減少して透明に近くなり、白色が表
示されるようになっている。

【０１３７】前記液晶層２３０は、より詳しくは、上記
ガラス基板２１１と、支持部材２３３によって支持され
た封止膜２３７との間の空隙２３１’に、シアンのゲス
トホスト液晶２３１が封入されて構成されている。上記
支持部材２３３の高さ、すなわちゲストホスト液晶２３
１の厚さは３μｍに設定される一方、封止膜２３７の厚
さは１μｍに設定されている。

【０１３８】上記支持部材２３３は、画素電極２３２上
に設けられた点状スペーサ２３４、主として各画素電極
２３２の間に設けられた線状スペーサ２３５、およびＴ
ＦＴ２１９・２２０上に設けられた立体配線パッド２３
６から成っている。

【０１３９】より詳しくは、点状スペーサ２３４は、６
×３μｍの長方形の横断面形状に形成され、画素電極２
３２上に３０μｍのピッチで規則的に配置されている。
すなわち、このような形状および配置により、封止膜２
３７の垂れ下がりによるゲストホスト液晶２３１の厚さ
むらが防止されるとともに、９８％程度の実効開口率が
確保されるようになっている。なお、この点状スペーサ
２３４の面積密度（大きさ、および配置ピッチ）は、上
記のものに限らず、封止膜２３７の材質および厚さに応
じて、液晶層２３０…の積層および実効開口率の確保が
可能なように設定すればよい。

【０１４０】一方、線状スペーサ２３５は、幅が３０μ
ｍに形成され、ソースライン２１２〜２１４に添って配
置されるとともに、図７に示すように、画像表示領域２
２６における駆動回路２２７側の縁部に添って配置され
ることにより、ゲストホスト液晶２３１の充填領域にお
ける駆動回路２２７側が閉じられる一方、反対側にゲス
トホスト液晶２３１の注入用の開口部２３８が形成さ
れ、ゲストホスト液晶２３１の注入後に樹脂２３９によ
って封止されている。

【０１４１】また、封止膜２３７および立体配線パッド
２３６には、内面に中継電極２２１・２２２が形成され
た、平均直径または中央部の直径が６μｍのテーパー状
の開口部２３６ａ・２３６ｂが設けられている。

【０１４２】封止膜２３７上には、透明なＩＴＯ（酸化
インジウム錫）膜から成る画素電極２４２が形成されて
いる。この画素電極２４２は、上記中継電極２２１、お
よびガラス基板２１１上の中継電極２１６を介してＴＦ
Ｔ２１９に接続され、液晶層２３０・２４０に兼用され
るようになっている。すなわち、液晶層２４０に対して
画素電極として用いられるとともに、液晶層２３０に対
しては対向電極として用いられるようになっている。

【０１４３】液晶層２４０・２５０は、上記液晶層２３
０と同様に、点状スペーサ２４４・２５４、線状スペー
サ２４５・２５５、および立体配線パッド２４６・２５
６から成る支持部材２４３・２５３を介して封止膜２４
７・２５７が支持され、封止膜２３７と封止膜２４７と
の間の空隙２４１’、および封止膜２４７と封止膜２５
７との間の空隙２５１’に、それぞれマゼンタ、または
イエローのゲストホスト液晶２４１・２５１が封入され
て構成されている。

【０１４４】ただし、これらの液晶層２４０・２５０
は、以下の点が、前記液晶層２３０と異なっている。

【０１４５】点状スペーサ２４４は、横断面形状におけ
る長辺方向が、液晶層２３０・２５０の点状スペーサ２
３４・２５４に対して直交する方向に形成されることに
より、各点状スペーサ２３４…の位置ずれに対する許容
度が大きくなるようになっている。

【０１４６】線状スペーサ２４５は、ゲートライン２１
５に添って、すなわち液晶層２３０・２５０の線状スペ
ーサ２３５・２５５に対して直交する方向に配置される
とともに、画像表示領域２２６における駆動回路２２８
側の縁部に添って配置されることにより、ゲストホスト
液晶２４１の充填領域における駆動回路２２７側が閉じ
られる一方、反対側にゲストホスト液晶２４１の注入用
の開口部２４８が形成され、ゲストホスト液晶２４１の
注入後に樹脂２４９によって封止されている。すなわ
ち、上記のように配置されることにより、点状スペーサ
２４４と同様に位置ずれに対する許容度が大きくなるよ
うになっている。

【０１４７】立体配線パッド２４６は、封止膜２３７お
よび立体配線パッド２３６の開口部２３６ｂを塞ぐとと
もに、封止膜２４７および立体配線パッド２４６には、
平均直径または中央部の直径が１４μｍの開口部２４６
ａが設けられ、その内面に中継電極２２３が形成されて
いる。上記開口部２４６ａは、立体配線パッド２３６の
開口部２３６ａよりも大きく形成されることにより、中
継電極２２２と中継電極２２３とが、開口部２３６ａ・
２４６ａ間の平坦部で確実に接続されるようになってい
る。

【０１４８】立体配線パッド２５６は、封止膜２４７お
よび立体配線パッド２４６の開口部２４６ａを塞ぐ一
方、開口部は設けられていない。

【０１４９】封止膜２４７上に形成された画素電極２５
２は、上記中継電極２２３、中継電極２２２、およびガ
ラス基板２１１上の中継電極２１７を介して、ＴＦＴ２
２０に接続されている。すなわち、前記画素電極２４２
および画素電極２５２が中継電極２２１等を介してＴＦ
Ｔ２１９・２２０に接続されるようにすることにより、
各ＴＦＴ２１９…を同一のガラス基板２１１に形成する
だけでよいので、製造コストの低減を図ることができ
る。

【０１５０】封止膜２５７上には、各画素に共通な共通
対向電極２２４、およびアクリル樹脂２２５ａ中にシリ
カから成る微粒子２２５ｂが分散された保護膜２２５が
形成されている。

【０１５１】次に、上記液晶表示素子の製造方法につい
て説明する。

【０１５２】（１）図８（ａ）に示すように、厚さ０．
３ｍｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）から成
る板部材２６１に、立体配線パッド２３６の開口部２３
６ａ・２３６ｂに対応する部分に、クロムから成る遮光
膜２６２・２６３を形成した後、離形剤２６４として、
住友スリー・エム（株）製のフッ素樹脂（ＲＦ２００
０）をスピナーにより約０．３μｍの厚さに塗布し、乾
燥する。

【０１５３】（２）図８（ｂ）に示すように、冨士薬品
（株）製のアクリル系のネガレジストＦＶＲをスピナー
により１．０μｍの厚さに塗布した後、８０℃で溶媒を
揮発させて乾燥し、封止膜２３７を形成する。

【０１５４】（３）一方、図８（ｃ）に示すように、あ
らかじめＴＦＴ２１８〜２２０、および画素電極２３２
等が形成されたガラス基板２１１上に、上記封止膜２３
７と同じＦＶＲから成る高さ３μｍの支持部材２３３を
フォトリソグラフィにより形成する。

【０１５５】（４）前記板部材２６１上の封止膜２３
７、およびガラス基板２１１上の支持部材２３３に、そ
れぞれ、Ｏ₂ アッシャーにより１分間の酸素プラズマ処
理を施すことにより、両者の接着性を向上させる。

【０１５６】（５）図８（ｄ）に示すように、封止膜２
３７と支持部材２３３とを圧力をかけて密着させた状態
で、コンタクト露光機により板部材２６１側から紫外線
を照射し、それぞれ重合させて、硬化させるとともに互
いに接着した後、オーブンにより１５０℃で１時間加熱
して、さらに硬化させる。ただし、封止膜２３７におけ
る板部材２６１上の遮光膜２６２・２６３に対応する部
分は、紫外線が遮光されるために重合されず、硬化しな
い状態に保たれる。

【０１５７】（６）開口部２３８から、図８（ｅ）に示
すように、ガラス基板２１１と封止膜２３７との間の空
隙２３１’に、シアンのゲストホスト液晶２３１を真空
注入により注入し、開口部２３８を樹脂２３９で封口す
る。なお、このゲストホスト液晶２３１の注入は、以下
に延べる封止膜２３７の転写後や画素電極２４２の形成
後に行うようにしたり、封止膜２４７・２５７の転写後
にゲストホスト液晶２４１・２５１の注入と伴に行うよ
うにしたりしてもよい。

【０１５８】（７）図８（ｆ）に示すように、板部材２
６１を端部からゆっくり剥がして封止膜２３７を基板側
に転写した後、ネガレジストの現像液に浸して封止膜２
３７における前記紫外線が遮光された部分に開口部２３
６ｂ・開口部２３６ａを形成する。

【０１５９】（８）図８（ｇ）に示すように、スパッタ
法により、基板温度１００℃で、封止膜２３７上にＩＴ
Ｏ膜を成膜し、フォトリソグラフィおよびエッチングに
より、画素電極２４２、および中継電極２２１・２２２
を形成する。

【０１６０】以上のようにして、液晶層２３０が形成さ
れる。

【０１６１】（９）上記（１）〜（８）と同様の工程を
２回繰り返すことにより、液晶層２４０・２５０を形成
する。

【０１６２】ここで、（３）のフォトリソグラフィの工
程においては、それぞれ遮光パターンの異なるフォトマ
スクを用いることにより、前記のような形状および配置
の支持部材２４３・２５３が形成される。

【０１６３】（１０）共通対向電極２２４上に、粒径約
３μｍのシリカの微粒子２２５ｂを１％分散させたアク
リル樹脂２２５ａをスクリーン印刷により２０μｍの厚
さに塗布して保護膜２２５を形成し、共通対向電極２２
４の傷つきや、水分が共通対向電極２２４および封止膜
２５７を透過することによるゲストホスト液晶２５１等
の劣化を防止するとともに、散乱性を増大させて視野角
を拡大させる。すなわち、ゲストホスト液晶２５１は封
止膜２５７により封止されるため、従来のようにガラス
等の対向基板を設けなくてもよく、液晶表示素子の軽量
化や薄型化を容易に図ることができる。

【０１６４】上記のようにして作成した液晶表示素子に
よる表示は、以下のようにして行われる。

【０１６５】画素電極２５２には、共通対向電極２２４
の電位を基準にして、液晶層２５０に対する画像信号に
応じた電圧Ｖ３を印加し、画素電極２４２には、画素電
極２５２の電位を基準にして、液晶層２４０に対する画
像信号に応じた電圧Ｖ２を印加し、画素電極２３２に
は、画素電極２４２の電位を基準にして、液晶層２３０
に対する画像信号に応じた電圧Ｖ１を印加する。

【０１６６】すなわち、共通対向電極２２４の電位を基
準とすれば、各画素電極２５２・２４２・２３２に、Ｖ
３、Ｖ３＋Ｖ２、およびＶ３＋Ｖ２＋Ｖ１の電圧を印加
することにより、各ゲストホスト液晶２３１…に独立し
た電圧を印加することができる。

【０１６７】また、ゲストホスト液晶２３１…の劣化防
止のために交流駆動を行う場合には、Ｖ１〜Ｖ３を正と
して、（±Ｖ３）、（±Ｖ３）＋（±Ｖ２）、および
（±Ｖ３）＋（±Ｖ２）＋（±Ｖ１）の電圧を印加すれ
ばよい。

【０１６８】さらに、印加電圧の絶対値を小さくして駆
動回路２２７等の出力電圧を低く抑えるためには、互い
に隣り合う液晶層２３０…で印加電圧の極性を反転させ
て、（±Ｖ３）、（±Ｖ３）−（±Ｖ２）、および（±
Ｖ３）−（±Ｖ２）＋（±Ｖ１）の電圧を印加すればよ
い。

【０１６９】なお、上記のように画素電極２４２…を各
液晶層２３０…で兼用せずに、各封止膜２３７…上に対
向電極と画素電極とを絶縁膜を介して設けた場合には、
それぞれの対向電極と画素電極との間にＶ１、Ｖ２、お
よびＶ３の電圧を印加するだけでよい。

【０１７０】ここで、カラー画像表示は減法混色により
行われるので、画像信号がＲＧＢ（赤、緑、青）の画像
データで与えられる場合には、補数演算を行ってＣＭＹ
（シアン、マゼンタ、イエロー）の画像データに変換
し、これに応じた電圧を印加すればよい。具体的には、
例えば８色表示の場合、与えられたＲＧＢデータが
（１，０，０）であれば、その補数（０，１，１）に応
じた電圧を印加すればよい。

【０１７１】このようにして、Ｖ１〜Ｖ３として０〜５
ボルトの電圧を印加することにより、反射率が４３％、
コントラストが１２と、明るく、かつ高コントラスト
で、しかも視差による色ずれがないうえ、明るさおよび
コントラストの均一性が高いフルカラーの画像を表示す
ることができた。

【０１７２】なお、上記実施の形態３においては、ゲス
トホスト液晶２３１…、および封止膜２３７…の厚さ
は、それぞれ３μｍおよび１μｍに設定したが、これに
限らず、例えば以下のように設定すればよい。

【０１７３】封止膜２３７…は、薄すぎると、ＩＴＯの
画素電極２４２…を形成する際などに変形して、しわや
クラックが生じやすくなるため、封止膜２３７…として
上記のような材料を用いる場合には、０．５μｍ程度以
上にすることが好ましい。ただし、他の材料を用いる場
合には、その物性に応じて、これよりも薄くすることも
可能である。

【０１７４】一方、封止膜２３７…は、厚くとも、立体
配線パッド２４６の大きさに関連する開口率、および印
加する駆動電圧の観点から、以下のように設定すること
が好ましい。

【０１７５】すなわち、液晶層２３０における封止膜２
３７および立体配線パッド２３６の開口部２３６ａ・２
３６ｂは、その内面に中継電極２２１・２２２を確実に
形成するために、その形状をテーパー状にするととも
に、平均直径または中央部の直径を立体配線パッド２３
６の高さ＋封止膜２３７の厚さ程度以上に設定すること
が好ましく、また、液晶層２４０における封止膜２４７
および立体配線パッド２４６の開口部２４６ａにおいて
は、その２倍程度の直径に設定することが好ましい。と
ころが、この直径が大きいほど、立体配線パッド２３６
が大きくなり、実効開口率が減少するため、表示画素ピ
ッチが１００〜３００μｍ程度とすると、上記直径は３
０〜５０μｍ程度以下にすることが好ましい。それゆ
え、立体配線パッド２３６の高さ（すなわちゲストホス
ト液晶２３１…の厚さ）＋封止膜２３７の厚さの合計
は、２０μｍ程度以下に設定することが好ましい。

【０１７６】また、駆動電圧の印加は、ゲストホスト液
晶２３１…および封止膜２３７…の両者を挟む画素電極
２３２…に対して行われるため、封止膜２３７の方がゲ
ストホスト液晶２３１よりも厚いと、実際にゲストホス
ト液晶２３１に作用する電圧は、印加する駆動電圧の１
／２以下になり、好ましくない。それゆえ、封止膜２３
７…の厚さは、ゲストホスト液晶２３１の厚さと同程度
以下に設定することが好ましい。

【０１７７】したがって、結局、封止膜２３７…の厚さ
は、１０μｍ以下程度に設定することが好ましく、ま
た、実施の形態３のようにゲストホスト液晶２３１…の
厚さが３μｍに設定されている場合には、３μｍ程度以
下に設定することが好ましい。

【０１７８】また、上記実施の形態３においては、封止
膜２３７…としてネガレジストを用いる例を示したが、
これに限らず、ポジレジストを用いてもよいし、さら
に、透明な材料であれば、例えば無機の誘電体膜等を板
部材２６１上に蒸着し、これをガラス基板２１１側に転
写して接着剤により支持部材２３３…に接着するように
してもよい。この場合、開口部２３６ｂ…の形成は、支
持部材２３３…への接着の前、または後に、フォトリソ
グラフィおよびエッチングなどによって形成すればよ
い。

【０１７９】また、封止膜２３７が板部材２６１から剥
がれやすくするために、離形剤２６４としてのフッ素樹
脂を用いた例を示したが、例えばシランカプラーのよう
な単分子膜で板部材２６１に表面処理を施すようにして
もよく、また、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）など、
水等に容易に溶ける膜を塗っておき、封止膜２３７を剥
がす際に水等に浸けて、ＰＶＡなどを溶かすようにして
もよい。

【０１８０】さらに、板部材２６１から封止膜２３７を
剥がすのではなく、板部材２６１を溶液に溶解させて除
去するようにしてもよい。すなわち、板部材２６１とし
て、例えば（株）林原製のプルランを用い、封止膜２３
７と支持部材２３３とを接着した後（図８（ｄ））やゲ
ストホスト液晶２３１を注入した後（図８（ｅ））に、
パネル全体を純水中に浸すと、数分以内に板部材２６１
が溶解して封止膜２３７だけが残ることにより、封止膜
２３７のガラス基板２１１側への転写が行われる。この
場合には、離形処理や剥離処理が不要になるうえ、封止
膜２３７と支持部材２３３との接着力が弱くても、均一
な転写を容易に行うことができる。

【０１８１】また、封止膜２３７…の開口部２３６ｂ…
は、遮光膜２６２・２６３によって紫外線を遮光して重
合を阻止した後、現像することにより形成する例を示し
たが、板部材２６１における開口部２３６ｂ…に対応す
る部分に離形剤２６４を塗布しないようにしたりして、
この部分の封止膜２３７…がガラス基板２１１側に転写
されないようにしてもよい。

【０１８２】すなわち、より具体的には、離形剤２６４
を用いる場合には、一旦、離形剤２６４を板部材２６１
に塗布した後に、開口部２３６ｂ…に対応する部分の離
形剤２６４をフォトリソグラフィなどにより除去するよ
うにしたり、また、単分子膜で板部材２６１に表面処理
を施す場合には、あらかじめ板部材２６１における開口
部２３６ｂ…に対応する部分にレジストを形成し、単分
子膜で表面処理をした後に上記レジストを除去してか
ら、封止膜２３７…を塗布するようにすれば、封止膜２
３７…を基板側に転写する際に、封止膜２３７…の開口
部２３６ｂ…に対応する部分が板部材２６１に付着した
まま転写されないので、上記のような現像処理を行うこ
となく開口部２３６ｂ…を形成することができる。

【０１８３】また、ネガレジストから成る封止膜２３７
と支持部材２３３との接着は、これらを圧力をかけて密
着させた状態で重合させることにより行う例を示した
が、別の材料から成る接着樹脂等を薄く塗布して接着す
るようにしてもよく、特に、紫外線硬化型の接着剤を溶
剤で薄めて、０．１〜０．３μｍ程度に薄くスピンコー
トし、紫外線照射を行うのが、接着性も高く有効であっ
た。なお、接着剤を用いた場合はもちろん、本実施の形
態３のように同種の材料を重合、接着した場合でも、厳
密に分析すれば、封止膜と支持部材の間には、分子量や
組成などの異なる接着層が形成されている。

【０１８４】また、上記のように封止膜２３７…を貼り
合わせた後にゲストホスト液晶２３１…を注入するもの
に限らず、封止膜２３７…を貼り合わせる際にゲストホ
スト液晶２３１…を封入するようにしてもよい。

【０１８５】すなわち、例えば図９に示すように、ゲス
トホスト液晶２３１…が容易に移動し得るようにするた
め、支持部材２３３…として点状スペーサ２３４…およ
び立体配線パッド２３６…だけを設け、紫外線硬化性の
シール樹脂２６５を画像表示領域２２６の周辺部に印刷
等によって塗布してから、空隙２３１’…の容積に相当
する量のゲストホスト液晶２３１…をディスペンサーで
精密に秤量して滴下し、封止膜２３７…が形成された板
部材２６１を真空中で貼り合わせるとともに、板部材２
６１をプレスしてシール樹脂２６５をつぶした後、大気
圧に戻してから、シール樹脂２６５に紫外線を照射して
硬化させることにより封止膜２３７…を接着し、板部材
２６１を剥がせばよい。

【０１８６】この場合、封入されたゲストホスト液晶２
３１…は若干の減圧状態になり、点状スペーサ２３４…
等と封止膜２３７…とが、ほぼ密着状態になるため、前
述のように線状スペーサ２３５…等と封止膜２３７とが
紫外線の照射等によって接着されていなくても、封止膜
２３７…を破損することなく板部材２６１から剥がして
転写することが比較的容易にでき、特に、前記のように
ＰＶＡを水に溶かして離形する場合などには、いっそう
容易に転写することができる。

【０１８７】また、支持部材２３３…は、ガラス基板２
１１側に形成する例を示したが、封止膜２３７…ととも
に板部材２６１側に形成した後に、ガラス基板２１１側
に転写するようにしてもよい。

【０１８８】また、上記封止膜２５７、共通対向電極２
２４、および保護膜２２５に代えて、以下に説明する実
施の形態４と同様に、共通対向電極２２４が形成された
ガラス基板２７１を設けるようにしてもよい。

【０１８９】（実施の形態４）まず、本発明の実施の形
態４の製造方法により製造される液晶表示素子の構造を
説明する。

【０１９０】図１０は、液晶表示素子の１画素あたりの
構成を示す断面正面図である。

【０１９１】図１１は、液晶表示素子の全体の構成を示
す断面平面図である。

【０１９２】なお、前記実施の形態３の液晶表示素子と
同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を
付して詳細な説明を省略する。

【０１９３】この液晶表示素子には、図１０に示すよう
に、実施の形態３の封止膜２５７、共通対向電極２２
４、および保護膜２２５に代えて、共通対向電極２２４
が形成されたガラス基板２７１が設けられている。ま
た、液晶層２５０の支持部材２５３においては、点状ス
ペーサ２５４と立体配線パッド２５６とだけが設けられ
る一方、図１１に示すように、画像表示領域２２６の周
辺部で、液晶層２４０の封止膜２４７と上記ガラス基板
２７１とがシール樹脂２７２によって接着され、ゲスト
ホスト液晶２５１が封入されている。

【０１９４】また、この液晶表示素子の製造過程では、
後述するように排出口２７３ａ・２７４ａ（図１１）が
形成された固形膜除去部２７３・２７４が設けられてい
る。

【０１９５】次に、上記液晶表示素子の製造方法につい
て説明する。

【０１９６】この実施の形態４に係る液晶表示素子の製
造方法は、本発明者らが特願平6-286324にて提案した製
造方法と同様に、ガラス基板２１１上に固形膜２３３’
…と封止膜２３７…とを積層した後、上記固形膜２３
３’…を除去して空隙２３１’…を形成し、この空隙２
３１’…にゲストホスト液晶２３１…を充填するもので
あるが、上記固形膜２３３’…を現像によって除去する
のではなく、気化させることにより除去する点が異な
る。

【０１９７】（１）まず、図１２（ａ）に示すように、
あらかじめＴＦＴ２１８〜２２０、および画素電極２３
２等が形成されたガラス基板２１１上に、ポリフタルア
ルデヒド（ＰＰＡ）にオニウム塩であるトリフェニルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモン（Ｐｈ₃ Ｓ^+-Ｓ
ｂＦ₆ ）を１重量％加えてシクロヘキサノンに溶解させ
たポジレジストを塗布し、８０℃で溶媒を揮発させて乾
燥させ、厚さ３μｍの固形膜２３３’を形成する。

【０１９８】その上に日本合成ゴム（株）製のアクリル
系のポジレジスト（例えばＪＳＲ−１２６）を１．０μ
ｍの厚さに塗布し、８５℃で乾燥させて、封止膜２３７
を形成する。なお、この封止膜２３７の厚さは、上記の
ものに限らないが、前記実施の形態３で説明したよう
に、１０μｍ以下に設定することが好ましく、さらに望
ましくは０．５〜３μｍに設定するのがよい。

【０１９９】上記固形膜２３３’を構成するポリフタル
アルデヒドは、例えばHiroshi Itoand Reinhold Schwal
m,J.Electrochem.Soc.,Vol.136,No1,pp.241-245,1989に
示されるように、ｏ−フタルアルデヒドを重合させたも
ので、下記（化１）の構造を有している。このポリフタ
ルアルデヒドは、波長が２５４ｎｍ、強度が５ｍＪ／ｃ
ｍ² の紫外線を照射し、１００℃に加熱すると、解重合
して、モノマーであるフタルアルデヒドになる性質を有
している。

【化１】

【０２００】また、封止膜２３７を構成するアクリル系
のポジレジストは、強度が１００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線
のｉ線を照射することにより、ようやく現像液に溶ける
ようになる性質を有している。

【０２０１】（２）図１２（ｂ）に示すように、封止膜
２３７および立体配線パッド２３６の開口部２３６ａ・
２３６ｂ、並びに固形膜除去部２７３の排出口２７３ａ
に対応する部分を除いて遮光膜２８１ａが形成されたフ
ォトマスク２８１を介して、超高圧水銀ランプにより、
強度が１００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線のｉ線を照射する。

【０２０２】（３）固形膜２３３’および封止膜２３７
における、上記紫外線が照射された部分を現像液に溶解
し、図１２（ｃ）に示すように、開口部２３６ａ・２３
６ｂを形成するとともに、幅が１００μｍの排出口２７
３ａ（図１１）を形成する。なお、この排出口２７３ａ
は、画像表示領域２２６の周辺に複数形成するようにし
て、後述する固形膜２３３’の除去がより速やかにでき
るようにしてもよい。

【０２０３】（４）図１２（ｄ）に示すように、支持部
材２３３（点状スペーサ２３４、線状スペーサ２３５、
および立体配線パッド２３６）に対応する部分に遮光膜
２８２ａが形成されたフォトマスク２８２を介して、固
形膜２３３’における、支持部材２３３となる部分以外
の部分、すなわちゲストホスト液晶２３１が充填される
空隙２３１’を形成する部分に、波長が２５４ｎｍ、強
度が５ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射する。これにより、
紫外線が照射された部分の固形膜２３３’は解重合して
モノマー化し、液状になる。なお、この場合、封止膜２
３７は、上記のような強度の低い紫外線の照射に対して
は安定であるため特に変化せず、固形膜２３３’だけを
選択的に解重合させることが容易にできる。

【０２０４】（５）真空乾燥機中で、８０℃に加熱する
とともに０．４気圧に減圧すると、固形膜２３３’にお
ける上記モノマー化した部分は気化し、１分弱で、固形
膜除去部２７３の排出口２７３ａから排出される。そこ
で、図１２（ｅ）に示すように、固形膜２３３’におけ
る気化した部分が、ゲストホスト液晶２３１の封入され
る空隙２３１’となる一方、固形膜２３３’における残
った部分によって、封止膜２３７を支持する支持部材２
３３が形成される。

【０２０５】ここで、上記モノマー化した部分の固形膜
２３３’は、通常のフォトリソグラフィが行われるよう
な開放された空間に置かれている場合には、オニウム塩
濃度にもよるが、一般に、常温から１００℃程度の温度
で、常圧下で比較的速やかに気化するのに対し、上記の
ように封止膜２３７に覆われている場合には、常圧で
は、気化するのに例えば１時間程度かかる。そこで、上
記のように減圧処理を行うことにより、１分弱で完全に
気化させることができる。

【０２０６】（６）支持部材２３３、および封止膜２３
７を１８０℃で１時間加熱処理し、さらに重合させて、
より高分子化させる。

【０２０７】（７）図１２（ｆ）に示すように、スパッ
タ法により、基板温度１００℃で、封止膜２３７上にＩ
ＴＯ膜を成膜し、フォトリソグラフィおよびエッチング
によって、画素電極２４２、中継電極２２１・２２２を
形成する。なお、この画素電極２４２等の形成は、前記
開口部２３６ａ・２３６ｂの形成後であれば、固形膜２
３３’の除去などよりも前に行ってもよい。

【０２０８】（８）上記（１）〜（７）と同様の工程を
繰り返すことにより、図１２（ｇ）に示すように、空隙
２４１’を有する液晶層２４０を形成する。

【０２０９】ここで、（２）および（４）の露光工程に
おいて、遮光パターンの異なるフォトマスクを用いるこ
とにより、前述のように支持部材２４３および封止膜２
４７が形成されるとともに、封止膜２４７に排出口２７
４ａ（図１１）が形成される。

【０２１０】（９）さらに（１）〜（６）と同様の工程
を繰り返すことにより、液晶層２５０の支持部材２５３
である点状スペーサ２５４と、立体配線パッド２５６だ
けを形成する。

【０２１１】（１０）画像表示領域２２６の周辺部に、
印刷等によってシール樹脂２７２を塗布し、共通対向電
極２２４が形成されたガラス基板２７１を貼り合わせ、
開口部２７５を有する空隙２５１’が設けられた液晶層
２５０を形成する。

【０２１２】（１１）固形膜除去部２７３をスクライブ
して割断し、断面部における空隙２３１’の開口部２７
３ｂから、実施の形態３と同様のシアンのゲストホスト
液晶２３１を真空注入により注入した後、開口部２７３
ｂを樹脂２３９で封口する。

【０２１３】（１２）同様に、固形膜除去部２７４をス
クライブして割断し、断面部における空隙２４１’の開
口部２７４ｂから、マゼンタのゲストホスト液晶２４１
を真空注入により注入した後、開口部２７４ｂを樹脂２
４９で封口する。

【０２１４】（１３）開口部２７５から、イエローのゲ
ストホスト液晶２５１を真空注入により注入した後、開
口部２７５を樹脂２５９で封口する。

【０２１５】このようにして作成された液晶表示素子
に、実施の形態３と同様の電圧を印加することにより、
反射率が４０％、コントラストが１２と、明るく、かつ
高コントラストで、しかも視差による色ずれがないう
え、明るさおよびコントラストの均一性が高いフルカラ
ーの画像を表示することができた。

【０２１６】ただし、上記のようにポリフタルアルデヒ
ド（ＰＰＡ）のポジレジストにオニウム塩を用いた場合
には、若干保持率が低下してフリッカーが見られたが、
実用上差し支えはない程度であった。

【０２１７】なお、上記実施の形態４においては、固形
膜２３３’として、化学増幅レジストの１種である、オ
ニウム塩を添加したＰＰＡを用いたが、これに限るもの
ではない。

【０２１８】すなわち、上記ＰＰＡは、極めて高感度
で、紫外線照射によりポリマーからモノマーに解重合
し、開放された空間では、常温、常圧でも容易に気化
し、微細パターンの形成も容易なので本発明に適してい
る材料の１つであるが、これに限らず、紫外線や電子
線、Ｘ線などのエネルギ線の照射や、加熱、減圧、ま
た、加熱を伴うエネルギ線照射などの処理によって分解
や昇華などする気化しやすい材料で、かつ、その上に封
止膜２３７を容易に塗布等できる固形物であれば、種々
のものが適用できる。

【０２１９】具体的には、上記ＰＰＡの他に、ＰＰＡの
塩素や臭素置換体も、前述のHiroshi Ito and Reinhold
Schwalm,J.Electrochem.Soc.,Vol.136,No1,pp.241-24
5,1989に記載されているように、紫外線照射によってモ
ノマーに分解し、１００℃に加熱することにより気化す
る性質を有し、また、ポリカーボネートや、ポリメタク
リル酸なども、同様の性質があるため、適用が可能であ
る。

【０２２０】また、支持部材２３３…は、上記のように
レジストを硬化させて形成したものに限らず、あらかじ
め安定な材料で形成するようにしてもよい。この場合に
は、固形膜２３３’…として、紫外線の照射等によって
気化性を持つように変化するものに限らず、例えば樟脳
などの昇華性物質なども適用することができる。

【０２２１】また、封止膜２３７…は、上記のように紫
外線を照射した後に現像によって開口部２３６ａ…を形
成するものに限らず、例えばフォトリソグラフィおよび
エッチングなどによって開口部２３６ａ…を形成し得る
ものであればよい。ただし、固形膜２３３’を気化させ
るための紫外線照射や加熱などの処理によっては、液化
や気化などの変化を生じない材料であることは必要であ
る。

【０２２２】また、上記共通対向電極２２４が形成され
たガラス基板２７１に代えて、実施の形態３と同様に、
封止膜２５７、共通対向電極２２４、および保護膜２２
５を設けるようにしてもよい。

【０２２３】また、上記各実施の形態では、３層の液晶
層２３０・２４０・２５０を積層する例を示したが、２
層や４層以上でも同様の効果は得られ、また、１層設け
るだけでも装置の薄型化や製造工程の簡素化などの効果
は得られる。

【０２２４】また、ＴＦＴ２１８…を備えたアクティブ
マトリクスの液晶表示素子について説明したが、パッシ
ブマトリクスの液晶表示素子に適用することも可能であ
る。

【０２２５】また、液晶材料としては、上記のようにゲ
ストホスト液晶に限らず、種々のものが適用可能であ
る。

【０２２６】また、反射型の液晶表示素子は高い光の透
過率が必要とされるので特に意義が大きいが、これに限
らず、透過型（バックライト型）の液晶表示素子にも適
用可能である。

【０２２７】

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。

【０２２８】すなわち、支持部材と封止膜とが同一組成
の高分子から成るとともに、両者を一体的に形成するこ
とにより、または封止膜を転写や、気化性を有する固形
膜上に積層することによって形成することにより、封止
膜を非常に薄いものにすることができるので、明るい表
示が可能なうえ、視差に起因する色ずれがなく、しか
も、液晶表示素子における液晶の占める割合が多くなっ
て実効的な開口率が上がるので、コントラストを高くで
き、さらに、簡単なプロセスで製造でき、しかも歩留ま
りの向上を図ることができるので、製造コストを飛躍的
に低減できる。

【０２２９】したがって、表示性能が飛躍的に向上した
液晶表示素子を安価に作製することができるといった優
れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施の形態１の液晶表示素子の平面図であ
る。

【図２】 同、図１の液晶表示素子のＡ−Ａ矢視断面図
である。

【図３】 同、図１の液晶表示素子の製造工程を示す断
面図である。

【図４】 同、本発明の３層構造の液晶表示素子の断面
図である。

【図５】実施の形態３の液晶表示素子の１画素あたりの
構成を示す断面正面図である。

【図６】同、液晶表示素子の１画素あたりの構成を示す
断面平面図である。

【図７】同、液晶表示素子の全体の構成を示す断面平面
図である。

【図８】同、液晶表示素子の製造工程を示す説明図であ
る。

【図９】液晶表示素子の他の例を示す断面平面図であ
る。

【図１０】実施の形態４の液晶表示素子の１画素あたり
の構成を示す断面正面図である。

【図１１】同、液晶表示素子の全体の構成を示す断面平
面図である。

【図１２】同、液晶表示素子の製造工程を示す説明図で
ある。

【図１３】従来の液晶表示素子の構成を示す断面正面図
である。

【符号の説明】

１０１ 基板 １０２〜１０４ ＴＦＴ素子 １０２ｄ 反射電極 １０５ 混合溶液の膜 １０７ 立体配線用パッド １０８ スペーサー １０９ 仕切り壁 １１０・１１１ 開口部 １１３ 封止板 １１４ 第１液晶層 １１５・１１６ 透明電極 １１７ 第１表示層 １１９ 支持部材 １２１ 立体配線用パッド １２２ 第２表示層 １２３ 第３表示層 １２４ 共通電極 １２５ 透明電極 １２６ 第２液晶層 １２７ 第３液晶層 ２１１ ガラス基板 ２２４ 共通対向電極 ２２５ 保護膜 ２３０・２４０・２５０ 液晶層 ２３１・２４１・２５１ ゲストホスト液晶 ２３１’・２４１’・２５１’ 空隙 ２３２・２４２・２５２ 画素電極 ２３３・２４３・２５３ 支持部材 ２３３’ 固形膜 ２３４・２４４・２５４ 点状スペーサ ２３５・２４５・２５５ 線状スペーサ ２３６・２４６・２５６ 立体配線パッド ２３６ａ・２３６ｂ・２４６ａ 開口部 ２３７・２４７・２５７ 封止膜 ２３８・２４８・２５８ 開口部 ２６１ 板部材 ２６２・２６３ 遮光膜 ２６４ 離形剤 ２６５ シール樹脂 ２７１ ガラス基板 ２７２ シール樹脂 ２７３ 固形膜除去部 ２７３ａ・２７４ａ 排出口 ２７３ｂ・２７４ｂ 開口部 ２７４ 固形膜除去部 ２７５ 開口部 ２８１・２８２ フォトマスク ２８１ａ・２８２ａ 遮光膜

Claims (43)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と封止板との間に液晶が充填されて
   液晶層を構成し、且つ上記基板と上記封止板との間に存
   在する支持部材により封止板が支えられる構造の表示層
   を有する液晶表示素子において、 上記支持部材と上記封止板とが同一組成の高分子から成
   ると共に両者が一体的に形成されることによって上記液
   晶層が保持され、且つ上記封止板の封止面と異なる面に
   は電極が形成され、更にこの電極、上記支持部材、上記
   封止板及び上記液晶層によって表示層が構成されること
   を特徴とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】 上記封止板の厚みが０．５〜１０μｍで
   あることを特徴とする請求項１の液晶表示素子。
3. 【請求項３】 上記表示層が複数設けられ、且つ各表示
   層中の液晶層には各々異なる色の二色性色素が含まれて
   いることを特徴とする請求項１の液晶表示素子。
4. 【請求項４】 上記液晶層が３層構造を成し、且つこれ
   ら３層の液晶層のうち少なくとも基板に近い２層の液晶
   層が、上記構造の表示層により保持されることを特徴と
   する請求項１の液晶表示素子。
5. 【請求項５】 上記３層の液晶層には各々異なる色の二
   色性色素が含まれており、且つその二色性色素がシア
   ン、マゼンタ、又はイエローであることを特徴とする請
   求項４の液晶表示素子。
6. 【請求項６】 上記基板の表面又は３層の液晶層のうち
   最も外方に位置する液晶層に、反射膜が形成されている
   ことを特徴とする請求項５の液晶表示素子。
7. 【請求項７】 上記各表示層中の支持部材の色が、前記
   各液晶層に含まれる二色性色素と同色であることを特徴
   とする請求項５の液晶表示素子。
8. 【請求項８】 上記支持部材が顔料を分散した感光性高
   分子樹脂により作成されることを特徴とする請求項７の
   液晶表示素子。
9. 【請求項９】 ３層の液晶層の二色性色素の吸光度の割
   合を、各々の液晶層の吸光度を掛け合わせたときに無彩
   色になる場合の割合と比べて、素子表面側にある液晶層
   ほど小さくなるように規制することを特徴とする請求項
   ６の液晶表示素子。
10. 【請求項１０】 基板の一方の面に高分子前駆体と液晶
    との混合溶液を塗布することにより、基板上に混合溶液
    の膜を形成する膜形成工程と、 前記高分子前駆体を前記膜表面で重合させて封止板を作
    製する封止板作製工程と、 前記基板の所定の部位に紫外線露光を行うことにより前
    記高分子前駆体を前記膜中で重合さて支持部材を作製す
    る支持部材作製工程と、 前記封止板上に電極を作製する電極作製工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
11. 【請求項１１】 前記基板上に、出力端子を有する駆動
    素子が形成され、前記膜形成工程で上記駆動素子上にも
    高分子前駆体と液晶とから成る混合溶液の膜が形成され
    る場合、前記支持部材作製工程における紫外線露光時
    に、少なくとも、上記駆動素子の出力端子の近傍を除く
    領域と、基板上に設けられた画素上にまんべんなく配し
    た点状または線状パターンに対応する領域とに、紫外線
    露光を行って前記高分子前駆体を前記膜中で重合させる
    ことを特徴とする請求項１０の液晶表示素子の製造方
    法。
12. 【請求項１２】 前記封止板作製工程において、前記混
    合溶液の膜の上に、当該混合溶液と相溶しない溶媒中に
    前記高分子前駆体の重合を促進する物質を溶かした溶液
    を塗布して、膜表面で高分子前駆体を重合させることを
    特徴とする請求項１０の液晶表示素子の製造方法。
13. 【請求項１３】 前記基板上に、出力端子を有する駆動
    素子が形成され、前記膜形成工程で上記駆動素子上にも
    高分子前駆体と液晶とから成る混合溶液の膜が形成され
    る場合、前記混合溶液と相溶しない溶媒中に、紫外線露
    光により前記高分子前駆体の重合を促進させる物質を溶
    かした溶液を塗布した後、前記出力端子の近傍を除く領
    域に紫外線露光を行って前記高分子前駆体を前記膜中で
    重合させることにより、前記出力端子の近傍を除く領域
    の高分子前駆体をほぼ全て重合させた後、膜表面の高分
    子前駆体を重合させることを特徴とする請求項１２の液
    晶表示素子の製造方法。
14. 【請求項１４】 膜表面の高分子前駆体を、前記出力端
    子の近傍領域を除く領域に紫外線を照射して重合させる
    ことを特徴とする請求項１３の液晶表示素子の製造方
    法。
15. 【請求項１５】 膜表面の高分子前駆体を、偏光紫外線
    を照射して重合させることを特徴とする請求項１３の液
    晶表示素子の製造方法。
16. 【請求項１６】 高分子前駆体がアクリル分子から成
    り、溶媒が純水を主成分とし、且つ重合を促進する物質
    がアミンから成ることを特徴とする請求項１２の液晶表
    示素子の製造方法。
17. 【請求項１７】 支持部材を介して設けられた基板と封
    止膜との間に液晶が封入された液晶表示素子の製造方法
    において、 上記基板上に上記支持部材を形成する工程と、 板状部材上に上記封止膜を形成する工程と、 上記板状部材上に形成された封止膜を上記基板上に形成
    された支持部材に転写する転写工程と、 上記基板と上記封止膜との間に上記液晶を封入する封入
    工程とを有することを特徴とする液晶表示素子の製造方
    法。
18. 【請求項１８】 支持部材を介して設けられた基板と封
    止膜との間に液晶が封入された液晶表示素子の製造方法
    において、 板状部材上に上記封止膜を形成する工程と、 上記板状部材上に形成された封止膜上に上記支持部材を
    形成する工程と、 上記板状部材上に形成された封止膜および上記支持部材
    を上記基板に転写する転写工程と、 上記基板と上記封止膜との間に上記液晶を封入する封入
    工程とを有することを特徴とする液晶表示素子の製造方
    法。
19. 【請求項１９】 請求項１７または請求項１８の液晶表
    示素子の製造方法であって、さらに、上記板状部材に封
    止膜を形成する工程に先立って、上記板状部材の表面に
    離形処理を施す工程を有することを特徴とする液晶表示
    素子の製造方法。
20. 【請求項２０】 請求項１７の液晶表示素子の製造方法
    であって、上記転写工程において、上記基板上に形成さ
    れた支持部材と、上記転写される封止膜とを接着するこ
    とを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
21. 【請求項２１】 請求項１８の液晶表示素子の製造方法
    であって、上記転写工程において、上記基板と、上記転
    写される支持部材とを接着することを特徴とする液晶表
    示素子の製造方法。
22. 【請求項２２】 請求項２０の液晶表示素子の製造方法
    であって、上記支持部材、および上記封止膜が、エネル
    ギ線の照射により重合性を有する材料から成り、上記接
    着は、上記支持部材と上記封止膜とを密着させた状態で
    エネルギ線を照射して重合させることにより行うことを
    特徴とする液晶表示素子の製造方法。
23. 【請求項２３】 請求項１７または請求項１８の液晶表
    示素子の製造方法であって、上記転写工程に先立って、
    上記基板における液晶封入領域の周辺部に、上記基板と
    上記封止膜とを接着するシール剤層を形成し、上記シー
    ル剤層によって囲まれた領域に上記液晶を充填した後
    に、上記板状部材上に形成された封止膜、または封止膜
    および支持部材を転写することにより、上記転写工程と
    上記封入工程とを同時に行うことを特徴とする液晶表示
    素子の製造方法。
24. 【請求項２４】 請求項１７の液晶表示素子の製造方法
    であって、さらに、 既に転写された上記封止膜上に新たな支持部材を形成す
    る工程と、 板状部材上に新たな封止膜を形成する工程と、 上記板状部材上に形成された新たな封止膜を、上記封止
    膜上に形成された新たな支持部材に転写する転写工程
    と、 上記２つの封止膜の間に液晶を封入する封入工程とをそ
    れぞれ少なくとも１回行うことにより、複数の液晶封入
    層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方
    法。
25. 【請求項２５】 請求項１８の液晶表示素子の製造方法
    であって、さらに、板状部材上に新たな封止膜を形成す
    る工程と、 上記板状部材上に形成された新たな封止膜上に新たな支
    持部材を形成する工程と、 上記板状部材上に形成された新たな封止膜および支持部
    材を、既に転写された上記封止膜に転写する転写工程
    と、 上記２つの封止膜の間に液晶を封入する封入工程とをそ
    れぞれ少なくとも１回行うことにより、複数の液晶封入
    層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方
    法。
26. 【請求項２６】 請求項１７または請求項１８の液晶表
    示素子の製造方法であって、上記封止膜が感光性材料か
    ら成るとともに、さらに、上記封止膜の露光および現像
    により、上記封止膜に、その封止膜を通して導電させる
    電極用の開口部を形成する工程を有することを特徴とす
    る液晶表示素子の製造方法。
27. 【請求項２７】 請求項１７または請求項１８の液晶表
    示素子の製造方法であって、上記転写工程において、上
    記板状部材上に形成された上記封止膜における所定の部
    分の転写を阻止することにより、上記封止膜に、その封
    止膜を通して導電させる電極用の開口部を形成すること
    を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
28. 【請求項２８】 請求項２７の液晶表示素子の製造方法
    であって、さらに、上記板状部材に上記封止膜を形成す
    る工程に先立って、上記板状部材の表面における封止膜
    を転写する部分だけに離形処理を施す工程を有すること
    を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
29. 【請求項２９】 基板と封止膜との間に液晶が封入され
    た液晶表示素子の製造方法において、 上記基板上に気化性を有する固形膜を形成する工程と、 上記固形膜上に上記封止膜を形成する工程と、 上記固形膜を気化させて排出することにより、上記基板
    と上記封止膜との間に空隙を形成する空隙形成工程と、 上記空隙に上記液晶を封入する工程とを有することを特
    徴とする液晶表示素子の製造方法。
30. 【請求項３０】 請求項２９の液晶表示素子の製造方法
    であって、上記固形膜は、加熱または減圧の少なくとも
    何れか一方が行われた状態で気化性を有する材料から成
    ることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
31. 【請求項３１】 請求項２９または請求項３０の液晶表
    示素子の製造方法であって、上記空隙形成工程は、上記
    固形膜における所定の領域の部分を気化させて排出する
    ことにより、上記基板と上記封止膜との間に上記空隙を
    形成するとともに、上記固形膜における残存した部分に
    より、上記封止膜を支持する支持部材を形成する工程で
    あることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
32. 【請求項３２】 請求項３１の液晶表示素子の製造方法
    であって、上記固形膜は、エネルギ線の照射、またはエ
    ネルギ線の照射および加熱により気化性を有する材料か
    ら成り、上記固形膜における所定の領域の部分だけにエ
    ネルギ線の照射、またはエネルギ線の照射および加熱を
    することにより、上記所定の領域の固形膜に気化性を持
    たせることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
33. 【請求項３３】 請求項３２の液晶表示素子の製造方法
    であって、上記固形膜は、紫外線の照射によりポリマー
    からモノマーに解重合するポジ型フォトレジストである
    ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
34. 【請求項３４】 請求項３１の液晶表示素子の製造方法
    であって、さらに、上記形成された支持部材を安定化さ
    せる工程を有することを特徴とする液晶表示素子の製造
    方法。
35. 【請求項３５】 請求項２９または請求項３０の液晶表
    示素子の製造方法であって、さらに、上記固形膜を形成
    する工程に先立って、上記基板上に上記封止膜を支持す
    る支持部材を形成する工程を有することを特徴とする液
    晶表示素子の製造方法。
36. 【請求項３６】 請求項２９ないし請求項３５の液晶表
    示素子の製造方法であって、さらに、 既に形成された封止膜上に気化性を有する新たな固形膜
    を形成する工程と、 上記固形膜上に新たな封止膜を形成する工程と、 上記固形膜を気化させて排出することにより、上記２つ
    の封止膜の間に空隙を形成する空隙形成工程と、 上記空隙に液晶を封入する工程とをそれぞれ少なくとも
    １回行うことにより、複数の液晶封入層を形成すること
    を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
37. 【請求項３７】 請求項２４、もしくは請求項２５の液
    晶表示素子の製造方法、または請求項３１もしくは請求
    項３５の液晶表示素子の製造方法についての請求項３６
    の液晶表示素子の製造方法であって、上記基板と上記封
    止膜との間、および上記各封止膜の間に設けられる上記
    支持部材を、それぞれ同一の位置に配置して形成するこ
    とを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
38. 【請求項３８】 請求項３７の液晶表示素子の製造方法
    であって、上記支持部材を、上記封止膜に平行な断面の
    形状がほぼ長方形または長円形になるように形成すると
    ともに、各封止膜を挟む支持部材における上記断面形状
    の長手方向が互いに異なるように配置して形成すること
    を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
39. 【請求項３９】 請求項２４、もしくは請求項２５の液
    晶表示素子の製造方法、または請求項３１もしくは請求
    項３５の液晶表示素子の製造方法についての請求項３６
    の液晶表示素子の製造方法であって、上記支持部材を、
    画素領域の間に、複数の画素領域にわたる長さに形成す
    るとともに、各封止膜を挟む支持部材が、その長手方向
    が互いに異なるように配置して形成することを特徴とす
    る液晶表示素子の製造方法。
40. 【請求項４０】 請求項２４、請求項２５または請求項
    ３６の液晶表示素子の製造方法であって、上記液晶は、
    それぞれ互いに異なる色の２色性色素を含むゲストホス
    ト液晶であることを特徴とする液晶表示素子の製造方
    法。
41. 【請求項４１】 請求項１７ないし請求項４０の液晶表
    示素子の製造方法であって、さらに、上記液晶を透過し
    た光を反射する反射膜を形成する工程を有することを特
    徴とする液晶表示素子の製造方法。
42. 【請求項４２】 基板と、 上記基板に設けられた支持部材と、 板状部材上に形成され、上記支持部材に転写されて成る
    封止膜と、 上記基板と封止膜との間に封入された液晶とを備えたこ
    とを特徴とする液晶表示素子。
43. 【請求項４３】 基板と封止膜との間に液晶が封入され
    て成る液晶表示素子であって、 上記封止膜が、上記基板上に形成された固形膜上に形成
    されたものであるとともに、 上記液晶が、上記固形膜を気化させて排出することによ
    り形成された空隙に封入されたものであることを特徴と
    する液晶表示素子。